KR102386231B1 - Molten glass stirring chamber - Google Patents

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Abstract

용융 유리를 수용하도록 구성된 교반 용기; 상기 교반 용기의 상부에 배치된 커버; 및 상기 커버를 관통하여 상기 용융 유리를 교반하도록 구성된 교반체를 포함하고, 상기 커버는 다공성 내열재 및 상기 다공성 내열재의 표면을 피복하는 무기 층을 포함하는 용융 유리 교반 챔버가 제공된다.a stirred vessel configured to contain the molten glass; a cover disposed on the top of the stirring vessel; and a stirring body configured to penetrate the cover and stir the molten glass, wherein the cover includes a porous heat resistant material and an inorganic layer covering a surface of the porous heat resistant material.

Description

용융 유리 교반 챔버 {Molten glass stirring chamber}Molten glass stirring chamber

본 발명은 용융 유리 교반 챔버에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 커버로부터 발생하는 불량을 감소시킬 수 있는 용융 유리 교반 챔버에 관한 것이다.The present invention relates to a molten glass stirring chamber, and more particularly, to a molten glass stirring chamber capable of reducing defects occurring from a cover.

평판 유리를 제조하는 설비는 용융 유리를 교반하는 교반 장치를 포함한다.Equipment for manufacturing flat glass includes a stirring device for stirring molten glass.

상기 교반 장치는 용융 유리를 수용하는 교반 용기 및 교반 용기를 덮는 커버(cover) 및 상기 교반 용기 내에 위치하는 교반익(stirring blade)를 구비한다. 시간이 지남에 따라 상기 커버의 내부에 배치된 백금계 열원은 대기 중의 산소와 반응하고 산화된 백금은 백금 콘덴세이트 형태로 유리 내에 혼입되어 유리 시트의 불량의 원인이 되기도 한다.The stirring device includes a stirring vessel containing molten glass, a cover covering the stirring vessel, and a stirring blade positioned in the stirring vessel. As time goes by, the platinum-based heat source disposed inside the cover reacts with oxygen in the atmosphere, and the oxidized platinum is incorporated into the glass in the form of platinum condensate, which may cause defects in the glass sheet.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 커버로부터 발생하는 불량이 감소된 용융 유리 교반 챔버를 제공하는 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is to provide a molten glass stirring chamber in which defects generated from the cover are reduced.

본 발명은 상기 기술적 과제를 이루기 위하여, 용융 유리를 수용하도록 구성된 교반 용기; 상기 교반 용기의 상부에 배치된 커버; 및 상기 커버를 관통하여 상기 용융 유리를 교반하도록 구성된 교반체를 포함하고, 상기 커버는 다공성인 커버 본체 및 상기 커버 본체의 표면을 피복하는 무기 층을 포함하는 용융 유리 교반 챔버를 제공한다.The present invention in order to achieve the above technical problem, a stirring vessel configured to accommodate a molten glass; a cover disposed on the top of the stirring vessel; and a stirring body configured to penetrate the cover to agitate the molten glass, wherein the cover includes a porous cover body and an inorganic layer covering a surface of the cover body.

일부 실시예들에 있어서, 상기 무기 층은 유리층일 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 유리층은 실리카(SiO2) 약 80 중량% 내지 약 90 중량%, 붕소 산화물(B2O3) 약 1 중량% 내지 약 3 중량%, 알루미나(Al2O3) 약 2 중량% 내지 약 5 중량%, 산화나트륨(Na2O) 약 1 중량% 내지 약 3 중량%, 산화칼륨(K2O) 약 2 중량% 내지 약 4 중량%, 산화아연(ZnO) 약 2 중량% 내지 약 6 중량%, 및 지르코니아(ZrO2) 약 0.1 중량% 내지 약 2 중량%를 포함할 수 있다.In some embodiments, the inorganic layer may be a glass layer. In some embodiments, the glass layer is silica (SiO 2 ) about 80 wt% to about 90 wt%, boron oxide (B 2 O 3 ) about 1 wt% to about 3 wt%, alumina (Al 2 O 3 ) ) about 2 wt% to about 5 wt%, sodium oxide (Na 2 O) about 1 wt% to about 3 wt%, potassium oxide (K 2 O) about 2 wt% to about 4 wt%, zinc oxide (ZnO) about 2 wt% to about 6 wt%, and about 0.1 wt% to about 2 wt% zirconia (ZrO 2 ).

일부 실시예들에 있어서, 상기 커버 본체는 리세스부 및 상기 리세스부 내에 배치되는 열원을 포함할 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 열원은 상기 리세스부 내에서 무기 충전재에 의하여 둘러싸여 유지될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 무기 층은 적어도 상기 커버 본체의 상부 표면 및 하부 표면, 그리고 상기 무기 충전재의 노출된 부분을 피복할 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 무기 충전재는 시멘트(cement)일 수 있다.In some embodiments, the cover body may include a recess and a heat source disposed in the recess. In some embodiments, the heat source may be kept surrounded by an inorganic filler in the recess. In some embodiments, the inorganic layer may cover at least an upper surface and a lower surface of the cover body, and an exposed portion of the inorganic filler. In some embodiments, the inorganic filler may be cement.

일부 실시예들에 있어서, 상기 커버는 상기 커버 본체의 적어도 상부 표면 및 하부 표면을 덮고 상기 무기 층 위에 제공되는 귀금속 클래딩층을 더 포함할 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 커버는 상기 귀금속 클래딩층의 상기 교반 용기 내부를 향하는 표면을 피복하는 내화 산화물층을 더 포함할 수 있다.In some embodiments, the cover may further include a noble metal cladding layer that covers at least an upper surface and a lower surface of the cover body and is provided on the inorganic layer. In some embodiments, the cover may further include a refractory oxide layer covering a surface of the noble metal cladding layer facing the inside of the stirring vessel.

상기 커버는 상기 교반체가 통과하는 중심홀을 갖고, 경계 영역을 따라 제 1 몸체 및 제 2 몸체로 분할되며, 상기 제 1 몸체에는 상기 경계 영역을 따라 수평 방향으로 돌출되는 시트부(sheet portion)가 제공될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 시트부는 제 2 몸체와 적어도 부분적으로 오버랩되도록 돌출될 수 있다. 상기 시트부는 상기 교반 용기의 내부를 향하는 상기 제 1 몸체의 하부에 제공될 수 있다.The cover has a center hole through which the stirring body passes, and is divided into a first body and a second body along a boundary area, and the first body has a sheet portion protruding in a horizontal direction along the boundary area. can be provided. In some embodiments, the seat part may protrude so as to at least partially overlap the second body. The seat portion may be provided at a lower portion of the first body facing the inside of the stirring vessel.

본 발명의 다른 태양은, 용융 유리를 수용하도록 구성된 교반 용기; 상기 교반 용기의 상부에 배치된 커버; 및 상기 커버를 관통하여 상기 용융 유리를 교반하도록 구성된 교반체를 포함하고, 상기 커버는, 상기 교반체가 통과하는 중심홀을 갖고 상기 중심홀을 지나며 연장되는 경계 영역을 따라 제 1 몸체 및 제 2 몸체로 분할된 다공성인 커버 본체를 갖고, 상기 제 1 몸체에는 상기 경계 영역을 따라 수평 방향으로 돌출되는 시트부(sheet portion)가 제공되는 것을 특징으로 하는 용융 유리 교반 챔버를 제공한다.Another aspect of the present invention includes a stirred vessel configured to contain molten glass; a cover disposed on the top of the stirring vessel; and a stirring body configured to penetrate the cover and agitate the molten glass, wherein the cover has a central hole through which the stirring body passes, and a first body and a second body along a boundary region extending through the central hole It has a porous cover body divided into, and provides a molten glass stirring chamber, characterized in that the first body is provided with a sheet portion protruding in the horizontal direction along the boundary region.

일부 실시예들에 있어서, 상기 시트부는 제 2 몸체와 적어도 부분적으로 오버랩되도록 돌출될 수 있다. In some embodiments, the seat part may protrude so as to at least partially overlap the second body.

일부 실시예들에 있어서, 상기 제 1 몸체와 상기 제 2 몸체는 각각 무기 층에 의하여 표면이 피복될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 제 1 몸체의 하부에는 귀금속 클래딩층이 더 제공되고, 상기 시트부는 상기 귀금속 클래딩층의 표면에 부착될 수 있다.In some embodiments, the surface of each of the first body and the second body may be coated with an inorganic layer. In some embodiments, a noble metal cladding layer may be further provided on a lower portion of the first body, and the sheet portion may be attached to a surface of the noble metal cladding layer.

본 발명의 또 다른 태양은, 용융 유리를 수용하도록 구성된 교반 용기;Another aspect of the present invention is a stirred vessel configured to contain molten glass;

상기 교반 용기의 상부에 배치된 커버; 및 상기 커버를 관통하여 상기 용융 유리를 교반하도록 구성된 교반체를 포함하고, 상기 커버는 적어도 하부 표면에 귀금속 클래딩층을 포함하고, 상기 귀금속 클래딩층의 상기 용융 유리를 향하는 방향의 표면은 CaO 약 3 중량%(wt%) 내지 약 5 wt%, SiO2 약 0.2 wt% 내지 약 1 wt%, Al2O3 약 약 0.2 wt% 내지 약 1 wt%, HfO2 약 0.5 wt% 내지 약 3.5 wt% 및 잔부 ZrO2를 포함하는 내화 산화물층으로 피복된 것을 특징으로 하는 용융 유리 교반 챔버를 제공한다.a cover disposed on the top of the stirring vessel; and a stirring body configured to agitate the molten glass through the cover, wherein the cover comprises a noble metal cladding layer on at least a lower surface, wherein a surface of the noble metal cladding layer in a direction toward the molten glass is CaO about 3 wt% (wt%) to about 5 wt%, SiO 2 about 0.2 wt% to about 1 wt%, Al 2 O 3 about 0.2 wt% to about 1 wt%, HfO 2 about 0.5 wt% to about 3.5 wt% and a molten glass stirring chamber coated with a refractory oxide layer containing the remainder ZrO 2 .

일부 실시예들에 있어서, 상기 내화 산화물층은 Fe2O3 약 0.01 wt% 내지 약 0.3 wt% 및 MgO 약 0.01 wt% 내지 약 0.9 wt%를 더 포함할 수 있다.In some embodiments, the refractory oxide layer may further include about 0.01 wt% to about 0.3 wt% of Fe 2 O 3 and about 0.01 wt% to about 0.9 wt% of MgO.

일부 실시예들에 있어서, 상기 내화 산화물층의 두께는 약 2 밀(mil) 내지 약 8 밀일 수 있다.In some embodiments, the thickness of the refractory oxide layer may be between about 2 mils and about 8 mils.

일부 실시예들에 있어서, 상기 커버는, 상기 교반체가 통과하는 중심홀을 갖고 상기 중심홀을 지나며 연장되는 경계 영역을 따라 제 1 몸체 및 제 2 몸체로 분할된 다공성인 커버 본체를 갖고, 상기 제 1 몸체와 상기 제 2 몸체는 각각 무기 층에 의하여 표면이 피복되고, 상기 제 1 몸체에는 상기 경계 영역을 따라 수평 방향으로 돌출되는 시트부(sheet portion)가 제공될 수 있다.In some embodiments, the cover has a central hole through which the stirring body passes, and has a porous cover body divided into a first body and a second body along a boundary region extending through the central hole, Each of the first body and the second body may have surfaces covered with an inorganic layer, and a sheet portion protruding in a horizontal direction along the boundary region may be provided on the first body.

본 발명의 실시예들에 따른 용융 유리 교반 챔버는 커버로부터 발생하는 불량을 감소시키는 효과가 있다.The molten glass stirring chamber according to embodiments of the present invention has an effect of reducing defects occurring from the cover.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유리 제조 장치를 나타낸 개념도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 용융 유리 교반 챔버를 나타낸 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 제 1 몸체를 나타낸 사시도이다.
도 4는 도 3의 IV-VI' 선을 따라 절개한 단면을 나타낸다.
도 5는 도 4의 V-V' 선을 따라 절개한 단면에 대하여 커버 본체와 무기 층 사이의 계면을 정의하는 방법을 개념적으로 나타낸 그래프이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 제 1 몸체를 나타낸 측단면도이다.
도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 실시예들에 따라 제 1 몸체를 제조하기 위한 방법을 순서에 따라 나타낸 측단면도들이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 제 1 몸체를 나타낸 측단면도이다.
도 9a 및 도 9b는 본 발명의 일 실시예에 따라 제 1 몸체의 표면에 내화 산화물층을 형성하는 방법을 나타낸 사시도들이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 커버의 제 1 몸체를 나타낸다.
도 11a 및 도 11b는 본 발명의 다른 실시예들에 따른 커버의 제 1 몸체를 나타낸 단면도들이다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 무기 층의 성능을 시험하기 위한 헬륨 가스 누출 테스트 장치를 나타낸 개념도이다.
도 13은 실시예 1과 비교예 1에 대하여 각각 헬륨 가스 리크 실험을 수행한 결과를 나타낸 그래프이다.
도 14a 및 도 14b는 실시예 2, 실시예 3, 비교예 2, 및 비교예 3에 대하여 처짐(sagging) 비교 실험을 수행하는 샘플들을 나타낸 분해 사시도들이다.
도 15는 실시예 2, 실시예 3, 비교예 2, 및 비교예 3에 대하여 처짐 비교 실험을 수행한 결과를 나타낸 그래프이다.
1 is a conceptual diagram showing a glass manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view showing a molten glass stirring chamber according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective view showing a first body according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-VI' of FIG. 3 .
FIG. 5 is a graph conceptually illustrating a method of defining an interface between a cover body and an inorganic layer with respect to a cross-section taken along line VV' of FIG. 4 .
6 is a side cross-sectional view showing a first body according to another embodiment of the present invention.
7A to 7C are side cross-sectional views sequentially illustrating a method for manufacturing a first body according to embodiments of the present invention.
8 is a side cross-sectional view showing a first body according to another embodiment of the present invention.
9A and 9B are perspective views illustrating a method of forming a refractory oxide layer on a surface of a first body according to an embodiment of the present invention.
10 shows a first body of a cover according to an embodiment of the present invention.
11A and 11B are cross-sectional views illustrating a first body of a cover according to other embodiments of the present invention.
12 is a conceptual diagram illustrating a helium gas leak test apparatus for testing the performance of an inorganic layer according to an embodiment of the present invention.
13 is a graph showing the results of performing a helium gas leak test for Example 1 and Comparative Example 1, respectively.
14A and 14B are exploded perspective views illustrating samples subjected to a sagging comparison experiment with respect to Example 2, Example 3, Comparative Example 2, and Comparative Example 3;
15 is a graph showing the results of performing a sagging comparison experiment with respect to Example 2, Example 3, Comparative Example 2, and Comparative Example 3.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명 개념의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명 개념의 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명 개념의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 발명 개념의 실시예들은 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명 개념을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것으로 해석되는 것이 바람직하다. 동일한 부호는 시종 동일한 요소를 의미한다. 나아가, 도면에서의 다양한 요소와 영역은 개략적으로 그려진 것이다. 따라서, 본 발명 개념은 첨부한 도면에 그려진 상대적인 크기나 간격에 의해 제한되어지지 않는다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention concept will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the embodiments of the inventive concept may be modified in various other forms, and the scope of the inventive concept should not be construed as being limited by the embodiments described below. The embodiments of the inventive concept are preferably interpreted as being provided in order to more completely explain the inventive concept to those of ordinary skill in the art. The same symbols refer to the same elements from time to time. Furthermore, various elements and regions in the drawings are schematically drawn. Accordingly, the inventive concept is not limited by the relative size or spacing drawn in the accompanying drawings.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는 데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명 개념의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제 1 구성 요소는 제 2 구성 요소로 명명될 수 있고, 반대로 제 2 구성 요소는 제 1 구성 요소로 명명될 수 있다.Terms such as first, second, etc. may be used to describe various elements, but the elements are not limited by the terms. The above terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the inventive concept, a first component may be referred to as a second component, and conversely, the second component may be referred to as a first component.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예들을 설명하기 위해 사용된 것으로서, 본 발명 개념을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함한다" 또는 "갖는다" 등의 표현은 명세서에 기재된 특징, 개수, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 개수, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used in the present application are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the inventive concept. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, expressions such as "comprises" or "have" are intended to designate that a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification is present, but one or more other features or It should be understood that the existence or addition of numbers, operations, components, parts or combinations thereof is not precluded in advance.

달리 정의되지 않는 한, 여기에 사용되는 모든 용어들은 기술 용어와 과학 용어를 포함하여 본 발명 개념이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 공통적으로 이해하고 있는 바와 동일한 의미를 지닌다. 또한, 통상적으로 사용되는, 사전에 정의된 바와 같은 용어들은 관련되는 기술의 맥락에서 이들이 의미하는 바와 일관되는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하며, 여기에 명시적으로 정의하지 않는 한 과도하게 형식적인 의미로 해석되어서는 아니 될 것임은 이해될 것이다.Unless defined otherwise, all terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the inventive concept belongs, including technical and scientific terms. In addition, commonly used terms as defined in the dictionary should be construed as having a meaning consistent with their meaning in the context of the relevant technology, and unless explicitly defined herein, in an overly formal sense. It will be understood that they shall not be construed.

어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정한 공정 순서는 설명되는 순서와 다르게 수행될 수도 있다. 예를 들어, 연속하여 설명되는 두 공정이 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 설명되는 순서와 반대의 순서로 수행될 수도 있다.In cases where certain embodiments may be implemented otherwise, a specific process sequence may be performed different from the described sequence. For example, two processes described in succession may be performed substantially simultaneously, or may be performed in an order opposite to the described order.

첨부 도면에 있어서, 예를 들면, 제조 기술 및/또는 공차에 따라, 도시된 형상의 변형들이 예상될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시예들은 본 명세서에 도시된 영역의 특정 형상에 제한된 것으로 해석되어서는 아니 되며, 예를 들면 제조 과정에서 초래되는 형상의 변화를 포함하여야 한다. 여기에 사용되는 모든 용어 "및/또는"은 언급된 구성 요소들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.In the accompanying drawings, variations of the illustrated shapes can be expected, for example depending on manufacturing technology and/or tolerances. Accordingly, the embodiments of the present invention should not be construed as limited to the specific shape of the region shown in the present specification, but should include, for example, changes in shape resulting from the manufacturing process. As used herein, all terms “and/or” include each and every combination of one or more of the recited elements.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유리 제조 장치(1)를 나타낸 개념도이다.1 is a conceptual diagram showing a glass manufacturing apparatus 1 according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 유리 제조 장치(1)는 용융 용기(100), 청징 용기(200), 용융 유리 교반 챔버(molten glass stirring chamber, 300), 전달 용기(500), 및 성형 장치(700)을 포함할 수 있다. 다른 실시예들에서 비록 상기 유리 제조 장치(1)는 유리봉, 유리 튜브, 유리 용기 및 유리 밀봉체와 같은 다양한 다른 유리 제품들을 제조할 수 있지만, 일부 실시예들에 따르면, 유리 제조 장치(1)는 시트 타입의 유리를 제조할 수 있다.Referring to FIG. 1 , the glass manufacturing apparatus 1 according to an embodiment of the present invention includes a melting vessel 100 , a clarification vessel 200 , a molten glass stirring chamber 300 , and a delivery vessel 500 . ), and a molding device 700 . Although in other embodiments the glass making apparatus 1 is capable of manufacturing various other glass articles such as glass rods, glass tubes, glass containers and glass seals, according to some embodiments, the glass making apparatus 1 ) can manufacture sheet-type glass.

용융 용기(100), 청징 용기(200), 용융 유리 교반 챔버(300), 전달 용기(500), 및 성형 장치(700)은 직렬로 위치되는 유리 제조 공정 스테이션들로서, 유리 제품의 제조를 위한 소정의 공정들이 수행되는 공간일 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 제조를 위한 공정들은 하향 인발 또는 슬롯 인발 융합 성형 공정일 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 상기 유리 제조 장치(1)에 의하여 수행되는 제조를 위한 공정들은 (이중융합 공정을 포함하는) 슬롯-인발 융합 성형 공정, 플로트 유리 성형 공정, 또는 롤링 공정일 수 있다.Melting vessel 100 , clarification vessel 200 , molten glass stirring chamber 300 , transfer vessel 500 , and forming apparatus 700 are glass making process stations located in series, which are predetermined for the manufacture of glass articles. It may be a space in which the processes of According to some embodiments, the processes for manufacturing may be a down draw or slot draw fusion molding process. According to some embodiments, the manufacturing processes performed by the glass manufacturing apparatus 1 may be a slot-draw fusion molding process (including a double fusion process), a float glass forming process, or a rolling process.

일부 실시예들에 따르면, 용융 용기(100), 청징 용기(200), 용융 유리 교반 챔버(300), 전달 용기(500), 및 성형 장치(700)은 백금 또는 백금-로듐, 백금-이리듐 및 그들의 조합들과 같은 백금을 함유하는 금속들을 포함할 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 용융 용기(100), 청징 용기(200), 용융 유리 교반 챔버(300), 전달 용기(500), 및 성형 장치(700)은 팔라듐, 레늄, 루테늄 및 오스뮴, 또는 그들의 합금들과 같은 다른 금속들을 포함할 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 성형 장치(700)은 세라믹 재료 또는 유리-세라믹 재료를 포함할 수 있다.According to some embodiments, the melting vessel 100 , the clarification vessel 200 , the molten glass stirring chamber 300 , the transfer vessel 500 , and the forming apparatus 700 are platinum or platinum-rhodium, platinum-iridium and metals containing platinum, such as combinations thereof. According to some embodiments, the melting vessel 100 , the clarification vessel 200 , the molten glass stirring chamber 300 , the transfer vessel 500 , and the forming apparatus 700 are palladium, rhenium, ruthenium and osmium, or their It may include other metals such as alloys. According to some embodiments, the forming apparatus 700 may include a ceramic material or a glass-ceramic material.

용융 용기(100)는 저장 용기(10)로부터 배치 재료(11)를 공급받을 수 있다. 배치 재료(11)는 구동 장치(15)에 의해 동력을 전달받는 배치전달 장치(13)에 의해 용융 용기(100)에 도입된다. 선택 컨트롤러(selective controller)(17)는 구동 장치(15)를 동작시키도록 구성될 수 있다. 선택 컨트롤러(17)는 화살표(a1)로 도시된 바와 같이 용융 용기(100) 내에 원하는 양의 배치 재료(11)를 도입하도록 구동 장치(15)를 제어할 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 유리 레벨 프로브(glass level probe, 19)는 스탠드 파이프(standpipe, 21) 내의 용융 유리(MG) 레벨을 측정할 수 있다. 유리 레벨 프로브(19)는 측정된 용융 유리(MG)의 레벨에 대한 정보를 통신 라인(23)을 경유하여 선택적 컨트롤러(17)로 전송하도록 구성될 수 있다.The melting vessel 100 may be supplied with the batch material 11 from the storage vessel 10 . The batch material 11 is introduced into the melting vessel 100 by a batch transmission device 13 , which is powered by a drive device 15 . A selective controller 17 may be configured to operate the drive device 15 . The selection controller 17 may control the drive device 15 to introduce a desired amount of the batch material 11 into the melting vessel 100 as shown by arrow a1 . According to some embodiments, a glass level probe 19 may measure a molten glass MG level in a standpipe 21 . The glass level probe 19 may be configured to transmit information about the measured level of the molten glass MG to the optional controller 17 via the communication line 23 .

일부 실시예들에 따르면, 청징 용기(200)는 제1 도관(150)에 의해 용융 용기(100)에 연결될 수 있다. 제1 도관(150)은 내부에 용융 유리(MG)가 흐를 수 있는 통로를 제공해주며, 이는 후술하는 제2 및 제3 도관들(250, 350)에 대해서도 마찬가지이다. 제1 도관(150)은 전기 전도성을 갖고, 고온 조건에서도 이용 가능한 물질을 포함한다. 일부 실시예들에 따르면, 제1 내지 제3 도관들(150, 250, 350)은 백금 또는 백금-로듐, 백금-이리듐 및 이들의 조합과 같은 백금-함유 금속으로 구성될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 제1 내지 제3 도관들(150, 250, 350)는 몰리브덴, 팔라듐, 레늄, 탄탈륨, 티타늄, 텅스텐, 루테늄, 오스뮴, 지르코늄, 및 이들의 합금과 같은 내화 금속들 및/또는 이산화 지르코늄을 포함할 수도 있다.According to some embodiments, the clarification vessel 200 may be connected to the melting vessel 100 by a first conduit 150 . The first conduit 150 provides a passage through which the molten glass MG can flow therein, and the same applies to the second and third conduits 250 and 350 to be described later. The first conduit 150 includes a material that is electrically conductive and can be used even under high temperature conditions. According to some embodiments, the first through third conduits 150 , 250 , 350 may be made of platinum or a platinum-containing metal such as platinum-rhodium, platinum-iridium, and combinations thereof. According to some embodiments, the first through third conduits 150 , 250 , 350 may be formed of refractory metals such as molybdenum, palladium, rhenium, tantalum, titanium, tungsten, ruthenium, osmium, zirconium, and alloys thereof and / or zirconium dioxide.

일부 실시예들에 따르면, 청징 용기(200)는 정제 튜브의 역할을 할 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 청징 용기(200)는 용융 용기(100)의 하류에 위치할 수 있다. 청징 용기(200)는 용융 용기(100)에서 용융된 유리(MG)를 수용할 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 청징 용기(200)에서는 용융 유리(MG)에 포함된 블리스터(blister)(기상의 포함물들)를 제거하기 위한 고온의 공정이 수행될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 청징 용기(200)는 용융 유리(MG)를 가열함으로써, 용융 유리(MG)가 청징 용기(200)를 통과하는 동안 용융 유리(MG) 내의 블리스터를 제거할 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 용융 유리(MG)가 청징 용기(200) 내에서 가열될 때, 용융 유리(MG)에 포함된 청징제는 산화 환원 반응을 일으켜, 용융 유리(MG) 내의 산소 및 다른 기체들을 제거할 수 있다. 구체적으로, 용융 유리(MG) 내에 함유된 블리스터는 예를 들어 산소(O2), 이산화탄소(CO2), 및/또는 이산화황(SO2) 등을 포함할 수 있다. 청징제의 환원 반응에 의해, 블리스터는 산소와 결합하여 부피가 증가될 수 있다. 부피가 증가된 블리스터는 청징 용기(200) 내의 용융 유리(MG)의 자유 표면으로 부상된 후, 용융 유리(MG)의 표면을 통해 제거될 수 있다. 블리스터는 청징 용기(200)의 상부의 기상 공간을 통해 외부로 방출될 수 있다.According to some embodiments, the clarification vessel 200 may serve as a purification tube. According to some embodiments, the clarification vessel 200 may be located downstream of the melting vessel 100 . The clarification container 200 may accommodate the glass MG molten in the melting container 100 . According to some embodiments, a high-temperature process for removing blisters (gas phase inclusions) included in the molten glass MG may be performed in the clarification vessel 200 . According to some embodiments, the clarification vessel 200 may heat the molten glass MG to remove blisters in the molten glass MG while the molten glass MG passes through the clarification vessel 200 . . According to some embodiments, when the molten glass MG is heated in the clarification vessel 200 , the fining agent included in the molten glass MG causes a redox reaction to cause oxygen and other substances in the molten glass MG. gases can be removed. Specifically, the blister contained in the molten glass MG may include, for example, oxygen (O 2 ), carbon dioxide (CO 2 ), and/or sulfur dioxide (SO 2 ). By the reduction reaction of the clarifier, the blister can combine with oxygen to increase its volume. After the blister with increased volume floats to the free surface of the molten glass MG in the clarification vessel 200 , it may be removed through the surface of the molten glass MG. The blister may be discharged to the outside through the gaseous space of the upper portion of the clarification container (200).

일부 실시예들에 따르면, 교반 챔버와 같은 용융 유리 교반 챔버(300)가 청징 용기(200)의 하류에 위치된다. 용융 유리 교반 챔버(300) 내에서, 청징 용기(200)로부터 공급된 용융 유리(MG)에 대해 균질화 공정을 수행할 수 있다. 용융 유리 교반 챔버(300) 내에는 용융 유리 교반 챔버(300)에 대하여 상대적으로 회전하여 용융 유리(MG)를 유동시키고 이를 혼합하는 교반체(310)가 제공될 수 있다. 교반체(310)는 용융 유리(MG)가 상기 용융 유리 교반 챔버(300)를 벗어나기 전에 균일한 성분을 갖도록 용융 유리(MG)를 교반할 수 있다.According to some embodiments, a molten glass stir chamber 300 , such as a stir chamber, is located downstream of the clarification vessel 200 . In the molten glass stirring chamber 300 , a homogenization process may be performed on the molten glass MG supplied from the clarification vessel 200 . In the molten glass stirring chamber 300 , a stirring body 310 that rotates relative to the molten glass stirring chamber 300 to flow the molten glass MG and mix them may be provided. The stirring body 310 may stir the molten glass MG to have a uniform component before the molten glass MG leaves the molten glass stirring chamber 300 .

용융 유리 교반 챔버(300)의 하류 측에는 전달 용기(500)가 위치될 수 있다. 전달 용기(500)는 제3 도관(350)에 의해 용융 유리 교반 챔버(300)에 연결될 수 있다. 전달 용기(500)에는 출구 도관(600)이 연결될 수 있다. 용융 유리(MG)는 출구 도관(600)을 통해 성형 장치(700)의 유입구(650)에 전달될 수 있다. A delivery vessel 500 may be located downstream of the molten glass stirring chamber 300 . The delivery vessel 500 may be connected to the molten glass stirring chamber 300 by a third conduit 350 . An outlet conduit 600 may be connected to the delivery vessel 500 . The molten glass MG may be delivered to the inlet 650 of the forming apparatus 700 via an outlet conduit 600 .

성형 장치(700)는 전달 용기(500)로부터 용융 유리(MG)를 공급받을 수 있다. 다른 실시예들에서 상기 성형 장치는 상기 용융 유리를 봉, 튜브, 밀봉체 등과 같은 다른 형태들을 갖는 물제로 성형할 수 있지만 성형 장치(700)는 용융 유리(MG)를 시트(sheet) 형상의 유리 제품으로 성형할 수 있다. 예를 들어, 성형 장치(700)는 용융 유리(MG)를 연속적인 유리 리본으로 성형하기 위한 퓨전 인발 머신(fusion drawing machine)을 포함할 수 있다. 성형 장치(700)로 흘러간 용융 유리(MG)는 성형 장치(700)에서 오버플로우(overflow)되면서 유동할 수 있다. 오버플로우되는 용융 유리(MG)는, 에지 롤(750) 및 당김 롤(800, pulling rolls)과 같은 적합하게 배치된 롤의 조합 및 중력에 의해 아래로 인발되어 용융 유리 리본을 형성할 수 있다.The forming apparatus 700 may receive the molten glass MG from the delivery container 500 . In other embodiments, the forming apparatus may form the molten glass into a material having other shapes such as rods, tubes, seals, etc., but the forming apparatus 700 converts the molten glass MG into a sheet-shaped glass. It can be molded into products. For example, forming apparatus 700 may include a fusion drawing machine for forming molten glass MG into a continuous ribbon of glass. The molten glass MG flowing into the forming apparatus 700 may flow while overflowing in the forming apparatus 700 . The overflowing molten glass MG can be drawn down by gravity and a combination of suitably positioned rolls such as edge roll 750 and pulling rolls 800, and pulled down to form a molten glass ribbon.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 용융 유리 교반 챔버(300)를 나타낸 사시도이다.2 is a perspective view showing a molten glass stirring chamber 300 according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 상기 용융 유리 교반 챔버(300)는 용융 유리(MG)를 수용하도록 구성된 교반 용기(320), 상기 교반 용기(320)의 상부에 배치된 커버(330), 및 상기 커버(330)를 관통하여 상기 용융 유리(MG)를 교반하도록 구성된 교반체(310)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 2 , the molten glass stirring chamber 300 includes a stirring vessel 320 configured to receive molten glass MG, a cover 330 disposed on the top of the stirring vessel 320 , and the cover ( It may include a stirring body 310 configured to pass through 330 to stir the molten glass MG.

상기 교반 용기(320)는 제2 도관(250) 및 제3 도관(350)에 연결될 수 있다. 앞서 설명한 바와 같이 용융 유리(MG)는 제2 도관(250)을 통하여 상기 교반 용기(320) 내부로 도입되고, 제3 도관(350)을 통하여 상기 교반 용기(320)로부터 배출된다.The stirring vessel 320 may be connected to the second conduit 250 and the third conduit 350 . As described above, the molten glass MG is introduced into the stirring vessel 320 through the second conduit 250 , and is discharged from the stirring vessel 320 through the third conduit 350 .

상기 교반체(310)는 교반 로드(314)와 그에 부착된 복수의 블레이드들(312)을가질 수 있다.The stirring body 310 may have a stirring rod 314 and a plurality of blades 312 attached thereto.

상기 교반 용기(320)의 상부에는 상기 교반 용기(320)의 개구부를 덮는 커버(330)가 제공될 수 있다. 상기 커버(330)의 중앙에는 교반 로드(314)가 관통하는 중심홀(338)이 제공될 수 있다. 상기 커버(330)의 내부에는 열원(heat source)(332)이 제공될 수 있다.A cover 330 covering the opening of the stirring vessel 320 may be provided on the upper portion of the stirring vessel 320 . A center hole 338 through which the stirring rod 314 passes may be provided in the center of the cover 330 . A heat source 332 may be provided inside the cover 330 .

상기 커버(330)는 두 개의 몸체, 즉 제 1 몸체(330a)와 제 2 몸체(330b)를 포함할 수 있다. 상기 제 1 몸체(330a)와 상기 제 2 몸체(330b)는 상기 중심홀(338)을 통과하여 연장되는 경계 영역을 사이에 두고 서로 분리될 수 있다. 도 2에서는 커버(330)가 두 개의 몸체들로 분리되는 예를 도시하였지만 다른 실시예에서 커버(330)는 셋 이상의 몸체들로 분리될 수도 있다.The cover 330 may include two bodies, that is, a first body 330a and a second body 330b. The first body 330a and the second body 330b may be separated from each other with a boundary region extending through the central hole 338 therebetween. 2 shows an example in which the cover 330 is separated into two bodies, but in another embodiment, the cover 330 may be separated into three or more bodies.

상기 제 1 몸체(330a)와 제 2 몸체(330b)는 각각 커버 본체(334)와 상기 커버 본체(334) 내부에 매립된 열원(332)을 포함할 수 있다. The first body 330a and the second body 330b may include a cover body 334 and a heat source 332 embedded in the cover body 334, respectively.

상기 열원(332)은 백금 또는 백금 합금을 성분으로 하며, 전원을 인가하였을 때 열이 발생할 수 있다. 구체적으로 상기 열원(332)은 순수한 백금일 수도 있고, 백금의 합금일 수 있다. 상기 백금의 합금은 로듐(Rh), 이리듐(Ir), 루테늄(Ru), 팔라듐(Pd), 및 오스뮴(Os) 중의 1종 이상과 백금의 합금일 수 있다.The heat source 332 has platinum or a platinum alloy as a component, and heat may be generated when power is applied. Specifically, the heat source 332 may be pure platinum or an alloy of platinum. The platinum alloy may be an alloy of platinum with at least one of rhodium (Rh), iridium (Ir), ruthenium (Ru), palladium (Pd), and osmium (Os).

상기 커버 본체(334)는 내화성 물질로 이루어질 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 커버 본체(334)는 다공성(porous) 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들면, 상기 커버 본체(334)는 예컨대 크리스털라이트 HF339(BUCHER Emhart Glass로부터 입수 가능) 또는 AN485(Saint Gobain으로부터 입수 가능)와 같은 물질들이 사용될 수 있다.The cover body 334 may be made of a refractory material. In some embodiments, the cover body 334 may be made of a porous material. For example, the cover body 334 may be made of materials such as crystallite HF339 (available from BUCHER Emhart Glass) or AN485 (available from Saint Gobain).

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 제 1 몸체(330a)를 나타낸 사시도이고, 도 4는 도 3의 IV-IV' 선을 따라 절개한 단면을 나타낸다. 여기서는 제 1 몸체(330a)를 기준으로 설명하지만, 통상의 기술자는 제 2 몸체(330b)도 동일하게 응용될 수 있음을 이해할 것이다. 또한 통상의 기술자는 상기 커버(330)가 셋 이상의 몸체들로 분할될 수 있고, 그에 따른 추가적인 몸체들에도 이하의 논의가 동일하게 응용될 수 있음을 이해할 것이다.3 is a perspective view showing a first body 330a according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV' of FIG. 3 . Here, the first body (330a) will be described as a reference, but those skilled in the art will understand that the second body (330b) may be equally applied. Also, those skilled in the art will understand that the cover 330 may be divided into three or more bodies, and the following discussion may be equally applied to additional bodies accordingly.

도 3 및 도 4를 참조하면, 커버 본체(334)에는 열원(332)을 수용할 수 있는 리세스(334R)들이 형성될 수 있다. 상기 리세스(334R)들은 도 4의 시선 방향으로 연장될 수도 있고, 또는 상기 커버 본체(334)의 원주 방향이나 반지름 방향과 같은 다른 방향으로 연장될 수도 있다. 상기 리세스(334R) 내에는 열원(332)이 수용될 수 있다.Referring to FIGS. 3 and 4 , recesses 334R for accommodating the heat source 332 may be formed in the cover body 334 . The recesses 334R may extend in the viewing direction of FIG. 4 , or may extend in another direction such as a circumferential direction or a radial direction of the cover body 334 . A heat source 332 may be accommodated in the recess 334R.

상기 열원(332)은 상기 리세스(334R) 내에서 무기 충전재(334f)에 의하여 매립되고 보호될 수 있다. 상기 무기 충전재(334f)는, 예를 들면, 시멘트(cement)일 수 있다.The heat source 332 may be buried and protected by the inorganic filler 334f in the recess 334R. The inorganic filler 334f may be, for example, cement.

도 4에서 보는 바와 같이 상기 무기 충전재(334f)는 적어도 부분적으로 상기 커버 본체(334)로부터 노출될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 무기 충전재(334f)의 일 표면은 상기 커버 본체(334)의 일 표면과 동일 평면 상에 위치할 수 있다(coplanar). As shown in FIG. 4 , the inorganic filler 334f may be at least partially exposed from the cover body 334 . In some embodiments, one surface of the inorganic filler 334f may be coplanar with one surface of the cover body 334 .

상기 커버 본체(334)의 표면은 무기 층(336)에 의하여 피복될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 무기 층(336)은 세라믹 층일 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 무기 층(336)은 실리카를 주성분으로 하는 유리층일 수 있다. 예를 들면, 상기 무기 층(336)은 실리카(SiO2) 약 80 중량% 내지 약 90 중량%, 붕소 산화물(B2O3) 약 1 중량% 내지 약 3 중량%, 알루미나(Al2O3) 약 2 중량% 내지 약 5 중량%, 산화나트륨(Na2O) 약 1 중량% 내지 약 3 중량%, 산화칼륨(K2O) 약 2 중량% 내지 약 4 중량%, 산화아연(ZnO) 약 2 중량% 내지 약 6 중량%, 및 지르코니아(ZrO2) 약 0.1 중량% 내지 약 2 중량% 포함할 수 있다.The surface of the cover body 334 may be covered by the inorganic layer 336 . In some embodiments, the inorganic layer 336 may be a ceramic layer. In some embodiments, the inorganic layer 336 may be a glass layer containing silica as a main component. For example, the inorganic layer 336 may include about 80% to about 90% by weight of silica (SiO 2 ), about 1% to about 3% by weight of boron oxide (B 2 O 3 ), and about 3% by weight of alumina (Al 2 O 3 ) ) about 2 wt% to about 5 wt%, sodium oxide (Na 2 O) about 1 wt% to about 3 wt%, potassium oxide (K 2 O) about 2 wt% to about 4 wt%, zinc oxide (ZnO) About 2 wt% to about 6 wt%, and about 0.1 wt% to about 2 wt% of zirconia (ZrO 2 ) may be included.

일부 실시예들에 있어서, 상기 무기 층(336)은 상기 커버 본체(334)의 상부 표면을 피복할 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 무기 층(336)은 상기 커버 본체(334)의 하부 표면을 피복할 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 무기 층(336)은 상기 무기 충전재(334f)의 노출된 표면을 피복할 수 있다.In some embodiments, the inorganic layer 336 may cover the upper surface of the cover body 334 . In some embodiments, the inorganic layer 336 may cover a lower surface of the cover body 334 . In some embodiments, the inorganic layer 336 may cover the exposed surface of the inorganic filler 334f.

열원(332)에 포함된 백금은 고온에서 산소와 접촉하여 기상의 PtO2로 손실되고, 바람직하지 않은 위치에서, 예컨대 상기 교반 챔버(300) 내의 용융 유리(MG) 내부에 포함물로서 포함되어 콘덴세이트로서 퇴적될 수 있기 때문에 산소와의 접촉을 방지 또는 감소하는 것이 바람직하다. 상기 무기 층(336)을 제공함으로써 열원(332)에 포함된 백금이 산소와 접촉하는 것을 방지 또는 감소시킬 수 있다.Platinum contained in the heat source 332 is lost as PtO 2 in the gas phase in contact with oxygen at a high temperature, and is contained as an inclusion in the molten glass MG in the stirring chamber 300 at an undesirable location, for example, to form a condensate. It is desirable to prevent or reduce contact with oxygen because it can be deposited as a By providing the inorganic layer 336 , it is possible to prevent or reduce platinum contained in the heat source 332 from contacting oxygen.

상기 무기 층(336)의 두께는 약 1 mm 내지 약 5 mm일 수 있다. 만일 상기 무기 층(336)의 두께가 너무 두꺼우면 무기 층(336)의 박리로 인한 파티클 발생의 우려가 있고, 반대로 상기 무기 층(336)의 두께가 너무 얇으면 열원에 포함된 백금의 산화를 방지하는 효과가 미흡할 수 있다.The inorganic layer 336 may have a thickness of about 1 mm to about 5 mm. If the thickness of the inorganic layer 336 is too thick, there is a risk of generation of particles due to peeling of the inorganic layer 336. Conversely, if the thickness of the inorganic layer 336 is too thin, oxidation of platinum contained in the heat source is reduced. The prevention effect may be insufficient.

한편, 상기 커버 본체(334)가 다공성인 경우에는 커버 본체(334)와 무기 층(336) 사이의 계면이 모호할 수 있다. 다시 말해, 상기 무기 층(336)은 다공성의 커버 본체(334)와 접촉하는 영역에서 부분적으로 커버 본체(334)의 기공(pore) 내부로 침투할 수 있다.Meanwhile, when the cover body 334 is porous, the interface between the cover body 334 and the inorganic layer 336 may be ambiguous. In other words, the inorganic layer 336 may partially penetrate into the pores of the cover body 334 in a region in contact with the porous cover body 334 .

도 5는 도 4의 V-V' 선을 따라 절개한 단면에 대하여 커버 본체(334)와 무기 층(336) 사이의 계면을 정의하는 방법을 개념적으로 나타낸 그래프이다. 도 5에서 가로축은 도 4의 V-V' 선에 따른 위치를 나타내고 세로축은 무기 층(336)을 이루는 물질과 커버 본체(334)를 이루는 물질의 질량 분율(mass fraction)을 나타낸다. 도 5를 참조하면, 커버 본체(334)와 무기 층(336)이 서로 맞닿는 계면(IF)을 중심으로 커버 본체(334)와 무기 층(336)의 무게 분율이 점진적으로 변화하는 구간이 존재할 수 있다. 여기서 커버 본체(334)와 무기 층(336)의 무게 분율이 각각 대략 0.5가 되는 가상적인 계면을 커버 본체(334)와 무기 층(336) 사이의 계면으로 정의될 수 있다.FIG. 5 is a graph conceptually illustrating a method of defining an interface between the cover body 334 and the inorganic layer 336 with respect to a cross-section taken along the line V-V' of FIG. 4 . In FIG. 5 , the horizontal axis indicates a position along the line V-V′ of FIG. 4 , and the vertical axis indicates a mass fraction of a material forming the inorganic layer 336 and a material forming the cover body 334 . Referring to FIG. 5 , there may be a section in which the weight fraction of the cover body 334 and the inorganic layer 336 is gradually changed around the interface IF where the cover body 334 and the inorganic layer 336 come into contact with each other. there is. Here, an imaginary interface at which the weight fraction of the cover body 334 and the inorganic layer 336 is approximately 0.5 may be defined as the interface between the cover body 334 and the inorganic layer 336 .

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 제 1 몸체(330a')를 나타낸 측단면도이다. 도 6의 제 1 몸체(330a')는 도 4의 제 1 몸체(330a)에 비하여 무기 층(336a)이 하부 표면에만 형성된 점에서 차이가 있다. 따라서, 이하에서는 이러한 차이점을 중심으로 설명하고, 중복되는 설명은 생략한다.6 is a side cross-sectional view showing a first body (330a') according to another embodiment of the present invention. The first body 330a' of FIG. 6 is different from the first body 330a of FIG. 4 in that the inorganic layer 336a is formed only on the lower surface. Accordingly, the following description will focus on these differences, and overlapping descriptions will be omitted.

도 6을 참조하면, 무기 층(336a)이 상기 커버 본체(334)의 전체 표면에 걸쳐서 형성되지 않는다. 일부 실시예들에 있어서, 무기 층(336a)은 열원(332)이 제공된 쪽의 표면만을 코팅하도록 제공될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 무기 층(336a)은 무기 충전재(334f)의 노출된 표면을 피복할 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 무기 층(336a)은 무기 충전재(334f)의 노출된 표면과 실질적으로 동일 평면 상에 있는 커버 본체(334)의 표면을 피복할 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 무기 층(336a)은 무기 충전재(334f)의 노출된 표면과 실질적으로 동일 평면 상에 있지 않는 커버 본체(334)의 표면은 피복하지 않을 수 있다.Referring to FIG. 6 , the inorganic layer 336a is not formed over the entire surface of the cover body 334 . In some embodiments, the inorganic layer 336a may be provided to coat only the surface on which the heat source 332 is provided. In some embodiments, inorganic layer 336a may cover the exposed surface of inorganic filler 334f. In some embodiments, inorganic layer 336a may cover a surface of cover body 334 that is substantially coplanar with an exposed surface of inorganic filler 334f. In some embodiments, the inorganic layer 336a may not cover a surface of the cover body 334 that is not substantially coplanar with the exposed surface of the inorganic filler 334f.

열원(332) 내에서 백금을 산화시키는 산소의 최단 경로가 주로 무기 충전재(334f)가 위치하는 쪽의 표면이기 때문에 무기 층(336a)을 한 쪽 표면에만(즉, 리세스(334R)가 형성된 쪽의 표면에만) 형성하여도 도 4에와 같은 Pt의 산화 및 손실을 방지하는 효과를 유사하게 얻을 수 있다. 나아가, 도 6의 실시예의 제 1 몸체(330a')는 사용되는 무기 층(336a)의 양이 더 적기 때문에 비교예 4의 실시예에 비하여 비교적 경제적으로 유리하고 제조가 용이하다. 또한 상기 제 1 몸체(330a')는 도 4의 제 1 몸체(330a)에 비하여 (무기 층(336)의 양이 더 적으므로) 하중이 더 가벼워 조업 온도에서의 사용에 따른 처짐(sagging) 현상이 덜 일어날 수 있다. Since the shortest path of oxygen oxidizing platinum in the heat source 332 is mainly the surface on the side where the inorganic filler 334f is located, the inorganic layer 336a is formed on only one surface (that is, the side where the recess 334R is formed). Even if it is formed only on the surface of ), the effect of preventing oxidation and loss of Pt as shown in FIG. 4 can be obtained similarly. Furthermore, the first body 330a ′ of the embodiment of FIG. 6 is relatively economically advantageous and easy to manufacture compared to the embodiment of Comparative Example 4 because the amount of the inorganic layer 336a used is smaller. In addition, the first body 330a' has a lighter load (because the amount of the inorganic layer 336 is smaller) than the first body 330a of FIG. This could happen less.

도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 실시예들에 따라 제 1 몸체(330a, 330a')를 제조하기 위한 방법을 순서에 따라 나타낸 측단면도들이다. 7A to 7C are side cross-sectional views sequentially illustrating a method for manufacturing the first body (330a, 330a') according to embodiments of the present invention.

도 7a를 참조하면, 커버 본체(334)의 하부 표면에 리세스(334R)들을 형성한다. 상기 리세스(334R)들은 내부에 열원(332)(도 7b 참조)이 수용될 수 있을 정도의 크기를 가질 수 있다.Referring to FIG. 7A , recesses 334R are formed in the lower surface of the cover body 334 . The recesses 334R may have a size sufficient to accommodate the heat source 332 (see FIG. 7B ) therein.

도 7b를 참조하면, 상기 리세스(334R) 내에 열원(332)을 배치하고, 리세스(334R)의 내부 표면과 열원(332) 사이의 공간을 무기 충전재(334f)로 매립할 수 있다. 상기 무기 충전재(334f)의 물질은 위에서 상세하게 설명하였으므로 여기서는 구체적인 설명을 생략한다.Referring to FIG. 7B , a heat source 332 may be disposed in the recess 334R, and a space between the inner surface of the recess 334R and the heat source 332 may be filled with an inorganic filler 334f. Since the material of the inorganic filler 334f has been described in detail above, a detailed description thereof will be omitted.

도 7c를 참조하면, 커버 본체(334)와 무기 충전재(334f)의 표면에 무기 세라믹 물질층(336p)을 형성한다. 상기 무기 세라믹 물질층(336p)은, 예컨대 무기 세라믹 물질을 분산매에 분산시킨 슬러리층일 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 무기 세라믹 물질층(336p)은, 실리카(SiO2) 약 80 중량% 내지 약 90 중량%, 붕소 산화물(B2O3) 약 1 중량% 내지 약 3 중량%, 알루미나(Al2O3) 약 2 중량% 내지 약 5 중량%, 산화나트륨(Na2O) 약 1 중량% 내지 약 3 중량%, 산화칼륨(K2O) 약 2 중량% 내지 약 4 중량%, 산화아연(ZnO) 약 2 중량% 내지 약 6 중량%, 및 지르코니아(ZrO2) 약 0.1 중량% 내지 약 2 중량%를 포함하는 고상 분말을 물과 같은 분산매와 대략 1:2 내지 2:1의 중량비율로 혼합한 것일 수 있다.Referring to FIG. 7C , an inorganic ceramic material layer 336p is formed on the surface of the cover body 334 and the inorganic filler 334f. The inorganic ceramic material layer 336p may be, for example, a slurry layer in which an inorganic ceramic material is dispersed in a dispersion medium. In some embodiments, the inorganic ceramic material layer 336p, silica (SiO 2 ) about 80 wt% to about 90 wt%, boron oxide (B 2 O 3 ) about 1 wt% to about 3 wt%, About 2% to about 5% by weight of alumina (Al 2 O 3 ), about 1% to about 3% by weight of sodium oxide (Na 2 O), about 2% to about 4% by weight of potassium oxide (K 2 O) , from about 2% to about 6% by weight of zinc oxide (ZnO), and from about 0.1% to about 2% by weight of zirconia (ZrO 2 ) with a dispersion medium such as water from approximately 1:2 to 2:1 It may be mixed in a weight ratio of

상기 무기 세라믹 물질층(336p)은 브러싱(brushing), 스프레이(spraying), 딥(dip) 코팅, 스핀 코팅 등의 방법을 이용하여 형성될 수 있으며 이들에 한정되는 것은 아니다.The inorganic ceramic material layer 336p may be formed using a method such as brushing, spraying, dip coating, or spin coating, but is not limited thereto.

이어서 상기 무기 세라믹 물질층(336p)을 약 800℃ 내지 약 2000℃의 온도에서 약 10초 내지 약 60분 동안 어닐링을 수행하면 무기 층(336a)이 형성되고 도 4에 도시된 제 1 몸체(330a)를 얻을 수 있다.Subsequently, when the inorganic ceramic material layer 336p is annealed at a temperature of about 800° C. to about 2000° C. for about 10 seconds to about 60 minutes, the inorganic layer 336a is formed and the first body 330a shown in FIG. ) can be obtained.

도 6에 도시된 제 1 몸체(330a')는 도 7c에서 무기 세라믹 물질층(336p)을 하부 표면에만 형성하는 점을 제외하면 도 7a 내지 도 7c를 참조하여 설명한 방법들과 동일한 방법으로 제조될 수 있다.The first body 330a ′ shown in FIG. 6 may be manufactured in the same manner as the methods described with reference to FIGS. 7A to 7C , except that the inorganic ceramic material layer 336p is formed only on the lower surface in FIG. 7C . can

도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 제 1 몸체(330a")를 나타낸 측단면도이다. 도 8의 제 1 몸체(330a")는 도 4의 제 1 몸체(330a)에 비하여 귀금속 클래딩층(333)과 상기 귀금속 클래딩층(333)의 일측 표면에 내화 산화물층(337)을 더 포함하는 점에서 차이가 있다. 따라서, 이하에서는 이러한 차이점을 중심으로 설명하고, 중복되는 설명은 생략한다.8 is a side cross-sectional view showing a first body 330a" according to another embodiment of the present invention. The first body 330a" of FIG. 8 has a noble metal cladding layer compared to the first body 330a of FIG. There is a difference from 333 in that a refractory oxide layer 337 is further included on one surface of the noble metal cladding layer 333 . Accordingly, the following description will focus on these differences, and overlapping descriptions will be omitted.

상기 귀금속 클래딩층(333)은 적어도 상기 제 1 몸체(330a")의 상부 표면(333US) 또는 하부 표면(333LS)에 형성될 수 있다. 상기 귀금속은 백금(Pt), 금(Au), 루테늄(Ru), 로듐(Rh), 팔라듐(Pd), 은(Ag), 오스뮴(Os), 이리듐(Ir), 구리(Cu), 및 레늄(Re)과 같이 산화 및 부식에 내용을 갖는 금속으로서 정의된다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 귀금속 클래딩층(333)은 상기 커버 본체(334)의 상부 표면 및 하부 표면 상에 각각 형성될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 귀금속 클래딩층(333)은 중심홀(338)의 내측 표면(도 8의 측벽(SW) 부분에 대응) 상에도 형성될 수 있다.The noble metal cladding layer 333 may be formed on at least the upper surface 333US or the lower surface 333LS of the first body 330a". The noble metal is platinum (Pt), gold (Au), or ruthenium ( Defined as a metal that has resistance to oxidation and corrosion, such as Ru), rhodium (Rh), palladium (Pd), silver (Ag), osmium (Os), iridium (Ir), copper (Cu), and rhenium (Re). In some embodiments, the noble metal cladding layer 333 may be respectively formed on an upper surface and a lower surface of the cover body 334. In some embodiments, the noble metal cladding layer 333 ) may also be formed on the inner surface of the central hole 338 (corresponding to the sidewall SW portion of FIG. 8 ).

상기 귀금속 클래딩층(333)은, 예컨대 백금 또는 백금의 합금을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 백금의 합금은, 예를 들면, 로듐(Rh), 이리듐(Ir), 루테늄(Ru), 팔라듐(Pd), 및 오스뮴(Os) 중의 1종 이상과 백금의 합금일 수 있다.The noble metal cladding layer 333 may include, for example, platinum or a platinum alloy. For example, the platinum alloy may be an alloy of platinum with one or more of rhodium (Rh), iridium (Ir), ruthenium (Ru), palladium (Pd), and osmium (Os). .

상기 귀금속 클래딩층(333)의 하부 표면(333S) 상에 내화 산화물층(337)이 제공될 수 있다. 상기 내화 산화물층(337)은 고도로 내화성인 산화 물질로 이루어진다. 상기 하부 표면(333LS)은 상기 교반 용기(320)를 향하는 쪽의 표면일 수 있다. 상기 내화 산화물층(337)은 고온에 노출되는 백금 또는 백금 합금의 면적을 피복하여 감소시킴으로써 백금의 산화환원(redox) 반응과 그에 따른 반응 생성물들이 상기 커버 및 교반 용기의 내 표면 위에서 콘덴세이션되고, 상기 반응 생성물들이 용융 유리(MG) 내부로 혼입될 가능성을 감소시킬 수 있다. 그에 의하여 백금의 콘덴세이션에 의한 제품 불량을 감소시킬 수 있다.A refractory oxide layer 337 may be provided on the lower surface 333S of the noble metal cladding layer 333 . The refractory oxide layer 337 is made of a highly refractory oxide material. The lower surface 333LS may be a surface facing the stirring vessel 320 . The refractory oxide layer 337 covers and reduces the area of platinum or platinum alloy exposed to high temperature so that the redox reaction of platinum and the reaction products thereof are condensed on the inner surface of the cover and the stirring vessel and , it is possible to reduce the possibility that the reaction products are incorporated into the molten glass (MG). Thereby, it is possible to reduce product defects due to platinum condensation.

상기 내화 산화물층(337)의 두께는 약 1 mil (=0.001 인치) 내지 약 10 mil 일 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 내화 산화물층(337)의 두께는 약 2 mil (=0.001 인치) 내지 약 8 mil 일 수 있다. The thickness of the refractory oxide layer 337 may range from about 1 mil (=0.001 inch) to about 10 mils. In some embodiments, the thickness of the refractory oxide layer 337 may be from about 2 mils (=0.001 inches) to about 8 mils.

상기 내화 산화물층(337)이 형성되는 상기 귀금속 클래딩층(333)의 하부 표면(333LS)은 조면화되어(roughened) 있을 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 귀금속 클래딩층(333)의 하부 표면(333LS)의 조도(roughness) Ra는 BS EN ISO 4287:2000 표준으로 측정하였을 때 약 0.1 ㎛ 내지 약 50 ㎛일 수 있다. 여기서 Ra는 산술 평균 조도이며, 이는 조도 프로파일의 산술 평균에서 벗어난 정도를 나타낸다. 상기 조도 Ra가 너무 크면 상기 내화 산화물층(337)이 형성된 후의 평탄도가 미흡할 수 있다. 상기 조도 Ra가 너무 작으면 내화 산화물층(337)과 귀금속 클래딩층(333) 사이의 부착력이 미흡할 수 있다.The lower surface 333LS of the noble metal cladding layer 333 on which the refractory oxide layer 337 is formed may be roughened. In some embodiments, the roughness Ra of the lower surface 333LS of the noble metal cladding layer 333 may be about 0.1 μm to about 50 μm as measured by the BS EN ISO 4287:2000 standard. where Ra is the arithmetic mean roughness, which indicates the degree of deviation from the arithmetic mean of the roughness profile. When the roughness Ra is too large, the flatness after the refractory oxide layer 337 is formed may be insufficient. When the roughness Ra is too small, the adhesion between the refractory oxide layer 337 and the noble metal cladding layer 333 may be insufficient.

도 9a 및 도 9b는 본 발명의 일 실시예에 따라 제 1 몸체(330a)의 표면에 내화 산화물층(337)을 형성하는 방법을 나타낸 사시도들이다.9A and 9B are perspective views illustrating a method of forming a refractory oxide layer 337 on the surface of the first body 330a according to an embodiment of the present invention.

도 9a를 참조하면, 상기 제 1 몸체(330a)의 외표면은 무기 층(336)으로 피복되어 있을 수 있다. 상기 제 1 몸체(330a)의 상부 표면 및 하부 표면에 귀금속 클래딩층(333)이 제공될 수 있다. 또 상기 제 1 몸체(330a)의 측벽(SW)에도 적어도 부분적으로 금속 클래딩층(333)이 제공될 수 있다.Referring to FIG. 9A , the outer surface of the first body 330a may be coated with an inorganic layer 336 . A noble metal cladding layer 333 may be provided on an upper surface and a lower surface of the first body 330a. Also, a metal cladding layer 333 may be provided at least partially on the sidewall SW of the first body 330a.

이어서 상기 귀금속 클래딩층(333)의 하부 표면(333S)은 조면화될 수 있다. 도 9a에서는 이해의 편의를 위해 상기 하부 표면(333S)이 위를 향하도록 제 1 몸체(330a)를 뒤집은 모습을 도시하였다. 상기 조면화는, 예를 들면 샌드 블래스팅과 같은 방법에 의하여 수행될 수 있으나 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다. 그 결과 조면화된 하부 표면(333SB)을 얻을 수 있다.Subsequently, the lower surface 333S of the noble metal cladding layer 333 may be roughened. 9A illustrates a state in which the first body 330a is turned over so that the lower surface 333S faces upward for convenience of understanding. The roughening may be performed, for example, by a method such as sand blasting, but the present invention is not limited thereto. As a result, a roughened lower surface 333SB can be obtained.

도 9b를 참조하면, 조면화된 상기 하부 표면(333SB) 상에 내화 산화물층(337)을 형성한다.Referring to FIG. 9B , a refractory oxide layer 337 is formed on the roughened lower surface 333SB.

내화 산화물층(337)은 지르코니아(ZrO2)를 주성분으로 하는 물질층일 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 내화 산화물층(337)은 산화칼슘(CaO) 약 3 중량%(wt%) 내지 약 5 wt%, 실리카(SiO2) 약 0.2 wt% 내지 약 1 wt%, 알루미나(Al2O3) 약 약 0.2 wt% 내지 약 1 wt%, 하프늄 산화물(HfO2) 약 0.5 wt% 내지 약 3.5 wt%, 및 잔부 지르코니아(ZrO2) 및 불가피한 불순물을 포함할 수 있다. 상기 내화 산화물층(337)은 산화철(Fe2O3) 약 0.01 wt% 내지 약 0.3 wt% 및 산화마그네슘(MgO) 약 0.01 wt% 내지 약 0.9 wt%를 더 포함할 수 있다.The refractory oxide layer 337 may be a material layer containing zirconia (ZrO 2 ) as a main component. In some embodiments, the refractory oxide layer 337 includes about 3 wt% (wt%) to about 5 wt% of calcium oxide (CaO), about 0.2 wt% to about 1 wt% of silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ) about 0.2 wt % to about 1 wt %, hafnium oxide (HfO 2 ) about 0.5 wt % to about 3.5 wt %, and the balance zirconia (ZrO 2 ) and unavoidable impurities. The refractory oxide layer 337 may further include about 0.01 wt% to about 0.3 wt% of iron oxide (Fe 2 O 3 ) and about 0.01 wt% to about 0.9 wt% of magnesium oxide (MgO).

일부 실시예들에 있어서, 상기 내화 산화물층(337)은 하프늄 산화물(HfO2) 약 1 중량%(wt%) 내지 약 2wt%, 산화칼슘(CaO) 약 2.5 wt% 내지 약 4.5 wt%, 실리카(SiO2) 약 0.2 wt% 내지 약 1.0 wt%, 알루미나(Al2O3) 약 0.3 wt% 내지 약 1.2 wt%, 산화철(Fe2O3) 약 0.01 wt% 내지 약 0.2 wt%, 타이타니아(TiO2) 약 0.05 wt% 내지 약 0.2 wt%, 산화마그네슘(MgO) 약 0.01 wt% 내지 약 0.1 wt%, 잔부 지르코니아(ZrO2) 및 불가피한 불순물을 포함할 수 있다.In some embodiments, the refractory oxide layer 337 comprises about 1 wt% (wt%) to about 2 wt% of hafnium oxide (HfO 2 ), about 2.5 wt% to about 4.5 wt% of calcium oxide (CaO), silica (SiO 2 ) about 0.2 wt % to about 1.0 wt %, alumina (Al 2 O 3 ) about 0.3 wt % to about 1.2 wt %, iron oxide (Fe 2 O 3 ) about 0.01 wt % to about 0.2 wt %, titania ( TiO 2 ) about 0.05 wt% to about 0.2 wt%, about 0.01 wt% to about 0.1 wt% of magnesium oxide (MgO), the balance zirconia (ZrO 2 ) and unavoidable impurities.

일부 실시예들에 있어서, 상기 내화 산화물층(337)은 원료 분말을 플라스마로 용융시킨 후 이를 스프레이함으로써 형성될 수 있다. 도 9b에는 상기 내화 산화물층(337)이 하부 표면(333SB) 상에 형성됨을 나타내기 위하여 일부 하부 표면(333SB)를 노출시킨 모습을 도시하였다. 그러나, 다른 실시예들에 있어서 내화 산화물층(337)은 조면화된 하부 표면(333SB)의 전체 표면 상에 형성될 수 있다.In some embodiments, the refractory oxide layer 337 may be formed by melting raw material powder with plasma and then spraying it. 9B illustrates a state in which a portion of the lower surface 333SB is exposed to indicate that the refractory oxide layer 337 is formed on the lower surface 333SB. However, in other embodiments, the refractory oxide layer 337 may be formed on the entire surface of the roughened lower surface 333SB.

도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 커버의 제 1 몸체(331a)를 나타낸다. 상기 제 1 몸체(331a)는 제 2 몸체(331b)와 함께 커버(330)를 구성할 수 있다.10 shows a first body 331a of a cover according to an embodiment of the present invention. The first body 331a may constitute the cover 330 together with the second body 331b.

도 10을 참조하면, 내화 산화물층(337)의 하부에는 제 1 몸체(331a)와 제 2 몸체(331b) 사이의 경계 영역(BD)을 따라 돌출되어 연장되는 시트부(sheet portion)(339)가 제공될 수 있다.Referring to FIG. 10 , the lower portion of the refractory oxide layer 337 includes a sheet portion 339 protruding and extending along the boundary region BD between the first body 331a and the second body 331b. may be provided.

상기 시트부(339)는 제 1 몸체(331a)의 하부 표면에 부착되었지만, 돌출된 부분이 적어도 부분적으로 제 2 몸체(331b)와 오버랩될 수 있다. 바꾸어 말하면 상기 시트부(339)는 중심홀(338) 부분을 제외하면 상기 경계 영역(BD)을 실질적으로 전부 가릴 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 시트부(339)가 상기 제 1 몸체(331a)를 벗어나 상기 제 2 몸체(331b)를 향하여 돌출된 폭(G1)은 상기 제 1 몸체(331a)와 제 2 몸체(331b) 사이의 간격(G2)보다 더 클 수 있다.The seat portion 339 is attached to the lower surface of the first body 331a, but the protruding portion may at least partially overlap the second body 331b. In other words, the seat portion 339 may cover substantially all of the boundary area BD except for a portion of the central hole 338 . In some embodiments, the width G1 of the seat portion 339 protruding from the first body 331a toward the second body 331b is the first body 331a and the second body 331b. It may be greater than the interval G2 between 331b.

상기 시트부(339)는 금속 또는 무기 내화물로 이루어질 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 시트부(339)는 백금 또는 백금의 합금과 같은 금속일 수 있다. 다른 일부 실시예들에 있어서, 상기 시트부(339)는 실리카계, 지르코니아계, 알루미나계 무기 내화물을 포함할 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 시트부(339)는 백금과 로듐의 합금일 수 있다.The sheet part 339 may be made of a metal or an inorganic refractory material. In some embodiments, the sheet portion 339 may be made of a metal such as platinum or an alloy of platinum. In some other embodiments, the sheet part 339 may include a silica-based, zirconia-based, or alumina-based inorganic refractory material. In some embodiments, the sheet part 339 may be an alloy of platinum and rhodium.

도 11a 및 도 11b는 본 발명의 다른 실시예들에 따른 커버의 제 1 몸체(331a', 331a")를 나타낸 단면도들이다.11A and 11B are cross-sectional views illustrating first bodies 331a' and 331a″ of a cover according to other embodiments of the present invention.

도 11a를 참조하면, 상기 시트부(339)는 무기 층(336)의 표면 위에 직접 부착될 수 있다. 도 11a의 제 1 몸체(331a')는 도 10의 실시예에서 내화 산화물층(337) 및 귀금속 클래딩층(333)이 생략된 것과 동일할 수 있다.Referring to FIG. 11A , the sheet part 339 may be directly attached to the surface of the inorganic layer 336 . The first body 331a ′ of FIG. 11A may be the same as that in the embodiment of FIG. 10 , in which the refractory oxide layer 337 and the noble metal cladding layer 333 are omitted.

도 11b를 참조하면, 상기 시트부(339)는 귀금속 클래딩층(333)의 표면 위에 직접 부착될 수 있다. 도 11b의 제 1 몸체(331a")는 도 10의 실시예에서 내화 산화물층(337)이 생략된 것과 동일할 수 있다.Referring to FIG. 11B , the sheet part 339 may be directly attached to the surface of the noble metal cladding layer 333 . The first body 331a″ of FIG. 11B may be the same as that in which the refractory oxide layer 337 is omitted in the embodiment of FIG. 10 .

이하, 구체적인 실시예 및 비교예를 가지고 본 발명의 구성 및 효과를 보다 상세히 설명하지만, 이들 실시예는 단지 본 발명을 보다 명확하게 이해시키기 위한 것일 뿐 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다.Hereinafter, the configuration and effect of the present invention will be described in more detail with reference to specific examples and comparative examples, but these examples are only for clearer understanding of the present invention and are not intended to limit the scope of the present invention.

도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 무기 층의 성능을 시험하기 위한 헬륨 가스 누출 테스트 장치를 나타낸 개념도이다.12 is a conceptual diagram illustrating a helium gas leak test apparatus for testing the performance of an inorganic layer according to an embodiment of the present invention.

도 12를 참조하면, 상기 한 쪽에 개방부(54)가 구비된 챔버(51)의 상기 개방부(54)에 샘플(SA)을 고정시킨다. 상기 샘플(SA)과 상기 챔버(51) 사이에 리크가 발생하지 않도록 하고, 출구 밸브(53)를 닫은 상태에서 입구 밸브(52)를 열어 소정 압력으로 헬륨(He) 가스를 공급한다.Referring to FIG. 12 , the sample SA is fixed to the opening 54 of the chamber 51 having the opening 54 on one side. To prevent leakage between the sample SA and the chamber 51 , the inlet valve 52 is opened while the outlet valve 53 is closed to supply helium (He) gas at a predetermined pressure.

만일 상기 샘플(SA)을 통하여 기체가 통과할 수 있는 경로가 더 많으면 헬륨 센서(43)를 통해 감지되는 헬륨의 리크 양이 더 많을 것이다. 반대로 상기 샘플(SA)을 통하여 기체가 통과할 수 있는 경로가 더 적으면 헬륨 센서(43)를 통해 감지되는 헬륨의 리크 양도 더 적을 것이다.If there are more paths through which the gas can pass through the sample SA, the amount of helium leak detected through the helium sensor 43 will be larger. Conversely, if the path through which the gas can pass through the sample SA is smaller, the amount of helium leakage detected through the helium sensor 43 will be smaller.

다공질의 AN485 (Saint Gobain 사로부터 입수 가능함) 샘플 상에 실리카(SiO2) 85.05, 붕소 산화물(B2O3) 2.25 중량%, 알루미나(Al2O3) 3.25 중량%, 산화나트륨(Na2O) 1.7 중량%, 산화칼륨(K2O) 2.5 중량%, 산화아연(ZnO) 4.1 중량%, 및 지르코니아(ZrO2) 1.15 중량% 포함하는 무기 층을 약 3 mm 두께로 형성하였다.Silica (SiO 2 ) 85.05, boron oxide (B 2 O 3 ) 2.25 wt %, alumina (Al 2 O 3 ) 3.25 wt %, sodium oxide (Na 2 O) on a porous AN485 (available from Saint Gobain company) sample ) 1.7 wt %, potassium oxide (K 2 O) 2.5 wt %, zinc oxide (ZnO) 4.1 wt %, and zirconia (ZrO 2 ) 1.15 wt % An inorganic layer containing 1.15 wt % was formed to a thickness of about 3 mm.

무기 층을 갖는 상기 샘플(실시예 1)과 무기 층을 형성하지 않은 샘플(비교예 1)을 챔버의 개방부에 각각 고정한 후 헬륨 가스 리크 실험을 수행하였다.The sample having the inorganic layer (Example 1) and the sample without the inorganic layer (Comparative Example 1) were respectively fixed to the opening of the chamber, and then a helium gas leak test was performed.

그 결과 도 13에 도시한 바와 같이 무기 층을 형성하면 무기 층을 형성하지 않은 경우에 비하여 기체의 리크가 1/4 미만으로 감소하는 것을 알 수 있었다. 따라서 무기 층은 열원에 포함된 백금이 산화되는 것을 방지할 수 있음을 알 수 있다.As a result, as shown in FIG. 13 , when the inorganic layer was formed, it was found that the gas leak was reduced to less than 1/4 compared to the case where the inorganic layer was not formed. Therefore, it can be seen that the inorganic layer can prevent the platinum contained in the heat source from being oxidized.

도 14a 및 도 14b는 실시예 2, 실시예 3, 비교예 2, 및 비교예 3에 대하여 처짐(sagging) 비교 실험을 수행하는 샘플들을 나타낸 분해 사시도들이다.14A and 14B are exploded perspective views illustrating samples subjected to a sagging comparison experiment with respect to Example 2, Example 3, Comparative Example 2, and Comparative Example 3;

바(bar) 형태의 바디 샘플(61) 표면에 길이 방향으로 리세스(61r)를 형성하고 상기 리세스(61r) 내에 열원(미도시) 및 무기 충전재(63)를 형성한 후 그 위에 무기 세라믹층(67)을 형성하였다(실시예 2). 리세스(65r)의 연장 방향을 길이 방향에 수직인 방향으로 바꾼 점을 제외하면 실시예 2와 동일하게 제조하였다(실시예 3). 비교를 위하여 무기 세라믹층(67)을 형성하지 않은 것을 제외하고는 각각 실시예 2 및 실시예 3의 샘플과 동일한 비교예 2 및 비교예 3의 샘플들을 제조하였다.A recess 61r is formed on the surface of the body sample 61 in the form of a bar in the longitudinal direction, a heat source (not shown) and an inorganic filler 63 are formed in the recess 61r, and then inorganic ceramic is formed thereon. Layer 67 was formed (Example 2). It was manufactured in the same manner as in Example 2 except that the extending direction of the recess 65r was changed to a direction perpendicular to the longitudinal direction (Example 3). For comparison, samples of Comparative Examples 2 and 3 were prepared, which were identical to the samples of Examples 2 and 3, respectively, except that the inorganic ceramic layer 67 was not formed.

이들을 소정 간격으로 이격 배치된 두 지지대(69)에 걸쳐 지지한 후 1500℃에서 3일 동안 방치하였다. 그 후 두 지지대(69) 사이의 중심에서의 처짐(sagging) 길이를 측정하여 도 15와 같은 결과를 얻었다. 상기 처짐 길이는 상기 중심에서의 최초 높이와 1500℃에서 3일 동안 방치한 후의 높이의 차이이다.After supporting them over two supports 69 spaced apart from each other at a predetermined interval, they were left at 1500° C. for 3 days. Thereafter, the sagging length at the center between the two supports 69 was measured to obtain a result as shown in FIG. 15 . The sagging length is the difference between the initial height at the center and the height after standing at 1500° C. for 3 days.

도 15를 참조하면, 리세스의 연장 방향과 무관하게 무기 세라믹층(67)이 상기 샘플들의 처짐을 감소시키는 데도 기여하는 것을 알 수 있었다. 실시예 2의 처짐 길이는 비교예 2의 처짐 길이의 3분의 1 미만이다. 실시예 3의 처짐 길이는 비교예 3의 처짐 길이의 대략 절반이다.Referring to FIG. 15 , it can be seen that the inorganic ceramic layer 67 also contributes to reducing the sag of the samples regardless of the extending direction of the recess. The sag length of Example 2 is less than 1/3 of the sag length of Comparative Example 2. The sag length of Example 3 is approximately half the sag length of Comparative Example 3.

이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명의 실시예들에 대해 상세히 기술되었지만, 본 발명이 속하는 기술 분야에 있어서 통상의 지식을 가진 사람이라면, 첨부된 청구 범위에 정의된 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 본 발명을 여러 가지로 변형하여 실시할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 앞으로의 실시예들의 변경은 본 발명의 기술을 벗어날 수 없을 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in detail as described above, those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains, without departing from the spirit and scope of the present invention as defined in the appended claims The present invention may be practiced with various modifications. Accordingly, modifications of future embodiments of the present invention will not depart from the teachings of the present invention.

1: 유리 제조 장치 10: 저장 용기
100: 용융 용기 150, 250, 350: 도관
200: 청징 용기 300: 용융 유리 교반 챔버
310: 교반체 314: 교반 로드
312: 블레이드 320: 교반 용기
330: 커버 330a, 331a, 331a', 331a": 제 1 몸체
330b, 331b: 제 2 몸체 332: 열원
333: 귀금속 클래딩층 334: 커버 본체
334f: 무기 충전재 334R: 리세스
336: 무기 층 337: 내화 산화물층
338: 중심홀 339: 시트부
500: 전달 용기 600: 출구 도관
650: 유입구 700: 성형 장치
1: glass making apparatus 10: storage container
100: melting vessel 150, 250, 350: conduit
200: clarification vessel 300: molten glass stirring chamber
310: stirring body 314: stirring rod
312: blade 320: stirring vessel
330: covers 330a, 331a, 331a', 331a": first body
330b, 331b: second body 332: heat source
333: precious metal cladding layer 334: cover body
334f: inorganic filler material 334R: recess
336: inorganic layer 337: refractory oxide layer
338: central hole 339: seat portion
500: delivery vessel 600: outlet conduit
650: inlet 700: forming device

Claims (20)

용융 유리를 수용하도록 구성된 교반 용기;
상기 교반 용기의 상부에 배치된 커버; 및
상기 커버를 관통하여 상기 용융 유리를 교반하도록 구성된 교반체;
를 포함하고,
상기 커버는 다공성인 커버 본체 및 상기 커버 본체의 표면을 피복하는 무기 층을 포함하고,
상기 무기층은 실리카(SiO2) 80 중량% 내지 90 중량%, 붕소 산화물(B2O3) 1 중량% 내지 3 중량%, 알루미나(Al2O3) 2 중량% 내지 5 중량%, 산화나트륨(Na2O) 1 중량% 내지 3 중량%, 산화칼륨(K2O) 2 중량% 내지 4 중량%, 산화아연(ZnO) 2 중량% 내지 6 중량%, 및 지르코니아(ZrO2) 0.1 중량% 내지 2 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 용융 유리 교반 챔버.
a stirred vessel configured to contain the molten glass;
a cover disposed on the top of the stirring vessel; and
a stirring body configured to agitate the molten glass through the cover;
including,
The cover comprises a porous cover body and an inorganic layer covering the surface of the cover body,
The inorganic layer is silica (SiO 2 ) 80 wt% to 90 wt%, boron oxide (B 2 O 3 ) 1 wt% to 3 wt%, alumina (Al 2 O 3 ) 2 wt% to 5 wt%, sodium oxide (Na 2 O) 1 wt% to 3 wt%, potassium oxide (K 2 O) 2 wt% to 4 wt%, zinc oxide (ZnO) 2 wt% to 6 wt%, and zirconia (ZrO 2 ) 0.1 wt% to 2% by weight of the molten glass stirring chamber.
삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 커버 본체는 리세스부 및 상기 리세스부 내에 배치되는 열원을 포함하는 것을 특징으로 하는 용융 유리 교반 챔버.
The method of claim 1,
The molten glass stirring chamber, characterized in that the cover body comprises a recess and a heat source disposed in the recess.
제 4 항에 있어서,
상기 열원은 상기 리세스부 내에서 무기 충전재에 의하여 둘러싸여 유지되는 것을 특징으로 하는 용융 유리 교반 챔버.
5. The method of claim 4,
The molten glass stirring chamber, characterized in that the heat source is surrounded and maintained by the inorganic filler in the recess.
제 5 항에 있어서,
상기 무기 층은 적어도 상기 커버 본체의 상부 표면 및 하부 표면, 그리고 상기 무기 충전재의 노출된 부분을 피복하는 것을 특징으로 하는 용융 유리 교반 챔버.
6. The method of claim 5,
and the inorganic layer covers at least the upper and lower surfaces of the cover body and the exposed portion of the inorganic filler.
제 6 항에 있어서,
상기 무기 충전재는 시멘트인 것을 특징으로 하는 용융 유리 교반 챔버.
7. The method of claim 6,
The molten glass stirring chamber, characterized in that the inorganic filler is cement.
제 1 항 및 제 4 항 내지 제 7 항 중의 어느 한 항에 있어서,
상기 커버는 상기 커버 본체의 적어도 상부 표면 및 하부 표면을 덮고 상기 무기 층 위에 제공되는 귀금속 클래딩층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 용융 유리 교반 챔버.
8. The method according to any one of claims 1 and 4 to 7,
and the cover further comprises a noble metal cladding layer provided over the inorganic layer and covering at least an upper surface and a lower surface of the cover body.
제 8 항에 있어서,
상기 커버는 상기 귀금속 클래딩층의 상기 교반 용기 내부를 향하는 표면을 피복하는 내화 산화물층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 용융 유리 교반 챔버.
9. The method of claim 8,
and the cover further comprises a refractory oxide layer covering the inner-facing surface of the stirring vessel of the noble metal cladding layer.
제 1 항 및 제 4 항 내지 제 7 항 중의 어느 한 항에 있어서,
상기 커버는 상기 교반체가 통과하는 중심홀을 갖고, 경계 영역을 따라 제 1 몸체 및 제 2 몸체로 분할되며,
상기 제 1 몸체에는 상기 경계 영역을 따라 수평 방향으로 돌출되는 시트부(sheet portion)가 제공되는 것을 특징으로 하는 용융 유리 교반 챔버.
8. The method according to any one of claims 1 and 4 to 7,
The cover has a center hole through which the stirring body passes, and is divided into a first body and a second body along a boundary area,
The molten glass stirring chamber, characterized in that the first body is provided with a sheet portion protruding in the horizontal direction along the boundary region.
제 10 항에 있어서,
상기 시트부는 제 2 몸체와 적어도 부분적으로 오버랩되도록 돌출되는 것을 특징으로 하는 용융 유리 교반 챔버.
11. The method of claim 10,
The molten glass stirring chamber, characterized in that the seat portion protrudes so as to at least partially overlap the second body.
제 11 항에 있어서,
상기 시트부는 상기 교반 용기의 내부를 향하는 상기 제 1 몸체의 하부에 제공되는 것을 특징으로 하는 용융 유리 교반 챔버.
12. The method of claim 11,
The sheet portion is a molten glass stirring chamber, characterized in that provided in the lower portion of the first body facing the inside of the stirring vessel.
용융 유리를 수용하도록 구성된 교반 용기;
상기 교반 용기의 상부에 배치된 커버; 및
상기 커버를 관통하여 상기 용융 유리를 교반하도록 구성된 교반체;
를 포함하고,
상기 커버는, 상기 교반체가 통과하는 중심홀을 갖고 상기 중심홀을 지나며 연장되는 경계 영역을 따라 제 1 몸체 및 제 2 몸체로 분할된 다공성인 커버 본체를 갖고,
상기 제 1 몸체에는 상기 경계 영역을 따라 수평 방향으로 돌출되는 시트부(sheet portion)가 제공되고,
상기 제 1 몸체와 상기 제 2 몸체는 각각 무기 층에 의하여 표면이 피복되고,
상기 무기층은 실리카(SiO2) 80 중량% 내지 90 중량%, 붕소 산화물(B2O3) 1 중량% 내지 3 중량%, 알루미나(Al2O3) 2 중량% 내지 5 중량%, 산화나트륨(Na2O) 1 중량% 내지 3 중량%, 산화칼륨(K2O) 2 중량% 내지 4 중량%, 산화아연(ZnO) 2 중량% 내지 6 중량%, 및 지르코니아(ZrO2) 0.1 중량% 내지 2 중량%를 포함하는 유리층을 포함하는 것을 특징으로 하는 용융 유리 교반 챔버.
a stirred vessel configured to contain the molten glass;
a cover disposed on the top of the stirring vessel; and
a stirring body configured to agitate the molten glass through the cover;
including,
The cover has a central hole through which the stirring body passes and has a porous cover body divided into a first body and a second body along a boundary region extending through the central hole,
The first body is provided with a sheet portion protruding in the horizontal direction along the boundary region,
The first body and the second body are each covered with an inorganic layer,
The inorganic layer is silica (SiO 2 ) 80 wt% to 90 wt%, boron oxide (B 2 O 3 ) 1 wt% to 3 wt%, alumina (Al 2 O 3 ) 2 wt% to 5 wt%, sodium oxide (Na 2 O) 1 wt% to 3 wt%, potassium oxide (K 2 O) 2 wt% to 4 wt%, zinc oxide (ZnO) 2 wt% to 6 wt%, and zirconia (ZrO 2 ) 0.1 wt% Molten glass stirring chamber, characterized in that it comprises a glass layer comprising to 2% by weight.
제 13 항에 있어서,
상기 시트부는 제 2 몸체와 적어도 부분적으로 오버랩되도록 돌출되는 것을 특징으로 하는 용융 유리 교반 챔버.
14. The method of claim 13,
The molten glass stirring chamber, characterized in that the seat portion protrudes so as to at least partially overlap the second body.
삭제delete 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서,
상기 제 1 몸체의 하부에는 귀금속 클래딩층이 더 제공되고,
상기 시트부는 상기 귀금속 클래딩층의 표면에 부착된 것을 특징으로 하는 용융 유리 교반 챔버.
15. The method according to claim 13 or 14,
The lower portion of the first body is further provided with a noble metal cladding layer,
The molten glass stirring chamber, characterized in that the sheet portion is attached to the surface of the noble metal cladding layer.
용융 유리를 수용하도록 구성된 교반 용기;
상기 교반 용기의 상부에 배치된 커버; 및
상기 커버를 관통하여 상기 용융 유리를 교반하도록 구성된 교반체;
를 포함하고,
상기 커버는 적어도 하부 표면에 귀금속 클래딩층을 포함하고,
상기 귀금속 클래딩층의 상기 용융 유리를 향하는 방향의 표면은 CaO 3 중량%(wt%) 내지 5 wt%, SiO2 0.2 wt% 내지 1 wt%, Al2O3 0.2 wt% 내지 1 wt%, HfO2 0.5 wt% 내지 3.5 wt% 및 잔부 ZrO2를 포함하는 내화 산화물층으로 피복된 것을 특징으로 하는 용융 유리 교반 챔버.
a stirred vessel configured to contain the molten glass;
a cover disposed on the top of the stirring vessel; and
a stirring body configured to agitate the molten glass through the cover;
including,
the cover comprises a noble metal cladding layer on at least its lower surface;
The surface of the noble metal cladding layer in the direction toward the molten glass is CaO 3 wt% (wt%) to 5 wt%, SiO 2 0.2 wt% to 1 wt%, Al 2 O 3 0.2 wt% to 1 wt%, HfO 2 Molten glass stirring chamber, characterized in that it is coated with a refractory oxide layer comprising 0.5 wt% to 3.5 wt% and the balance ZrO 2 .
제 17 항에 있어서,
상기 내화 산화물층은 Fe2O3 0.01 wt% 내지 0.3 wt% 및 MgO 0.01 wt% 내지 0.9 wt%를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 용융 유리 교반 챔버.
18. The method of claim 17,
The refractory oxide layer further comprises 0.01 wt% to 0.3 wt% of Fe 2 O 3 and 0.01 wt% to 0.9 wt% of MgO.
제 17 항 또는 제 18 항에 있어서,
상기 내화 산화물층의 두께는 2 밀(mil) 내지 8 밀인 것을 특징으로 하는 용융 유리 교반 챔버.
19. The method according to claim 17 or 18,
The molten glass stirring chamber, characterized in that the thickness of the refractory oxide layer is 2 mils to 8 mils.
제 17 항에 있어서,
상기 커버는, 상기 교반체가 통과하는 중심홀을 갖고 상기 중심홀을 지나며 연장되는 경계 영역을 따라 제 1 몸체 및 제 2 몸체로 분할된 다공성인 커버 본체를 갖고,
상기 제 1 몸체와 상기 제 2 몸체는 각각 무기 층에 의하여 표면이 피복되고, 상기 제 1 몸체에는 상기 경계 영역을 따라 수평 방향으로 돌출되는 시트부(sheet portion)가 제공된 것을 특징으로 하는 용융 유리 교반 챔버.
18. The method of claim 17,
The cover has a central hole through which the stirring body passes and has a porous cover body divided into a first body and a second body along a boundary region extending through the central hole,
The first body and the second body are each covered with an inorganic layer, and the first body is provided with a sheet portion protruding in the horizontal direction along the boundary region. chamber.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080282734A1 (en) * 2007-05-18 2008-11-20 Uwe Kolberg Apparatus and method for the production of high-melting glass materials or glass ceramic materials

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE50112202D1 (en) * 2000-11-30 2007-04-26 Schott Ag COATED PRECIOUS METAL PART IN GLASS MANUFACTURE
US20100080078A1 (en) * 2008-09-29 2010-04-01 Martin Herbert Goller Method and apparatus for homogenizing a glass melt
US20100126225A1 (en) * 2008-11-25 2010-05-27 Josh Ding Method for homogenizing a glass melt
DE102009000785B4 (en) * 2009-02-11 2015-04-02 Schott Ag Method and device for producing glass
TWI471280B (en) * 2009-11-30 2015-02-01 Corning Inc Method and apparatus for reducing condensate related defects in a glass manufacturing process
US8650910B2 (en) * 2010-08-23 2014-02-18 Corning Incorporated Apparatus for homogenizing a glass melt
JP2014009137A (en) * 2012-06-29 2014-01-20 Avanstrate Inc Glass substrate manufacturing method, and glass substrate manufacturing device
US9062772B2 (en) * 2012-10-29 2015-06-23 Corning Incorporated Stir chambers for stirring molten glass and high-temperature sealing articles for the same
CN203382635U (en) * 2013-07-02 2014-01-08 郑州旭飞光电科技有限公司 Heat-insulation device for glass channel stirring barrel

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080282734A1 (en) * 2007-05-18 2008-11-20 Uwe Kolberg Apparatus and method for the production of high-melting glass materials or glass ceramic materials

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