KR102380521B1 - Gas treating system and marine structure including the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 해양 구조물에 적용하기 위한 가스 처리 시스템에 있어서, 화가스 저장탱크에 저장된 액화가스를 수요처로 공급하는 액화가스 공급라인; 및 상기 수요처에서 배출되는 배기가스를 공급받아 하이드레이트 저해제를 생산하는 저해제 공급부를 포함하며, 상기 저해제 공급부는, 하이드레이트 저해제를 상기 액화가스 공급라인에 공급하는 것을 특징으로 한다.The present invention provides a gas processing system for application to an offshore structure, comprising: a liquefied gas supply line for supplying liquefied gas stored in a gas storage tank to a customer; and an inhibitor supply unit for producing a hydrate inhibitor by receiving the exhaust gas discharged from the demand, wherein the inhibitor supply unit supplies the hydrate inhibitor to the liquefied gas supply line.

Description

가스 처리 시스템 및 이를 포함하는 해양 구조물{Gas treating system and marine structure including the same}Gas treating system and marine structure including the same

본 발명은 가스 처리 시스템 및 이를 포함하는 해양 구조물에 관한 것이다.The present invention relates to a gas treatment system and an offshore structure comprising the same.

액화천연가스나 액화석유가스와 같은 액화가스의 생산 또는 처리를 위한 해양 구조물에서, 생산되는 액화가스나 액화가스 저장탱크에 저장된 액화가스 중에는 수분이 더 포함되어 있을 수 있다. 이러한 경우 생산 배관이나 액화가스의 처리를 위한 공급 배관 내부가 일정 온도 및 압력 조건에 도달하면 하이드레이트가 생성될 수 있고, 이는 상기 배관 내부의 막힘을 초래할 수 있다.In an offshore structure for the production or processing of liquefied gas such as liquefied natural gas or liquefied petroleum gas, the produced liquefied gas or liquefied gas stored in a liquefied gas storage tank may further contain moisture. In this case, when the inside of the production pipe or the supply pipe for the treatment of liquefied gas reaches a certain temperature and pressure condition, hydrate may be generated, which may cause clogging of the inside of the pipe.

하이드레이트의 생성을 근본적으로 억제하기 위한 수단으로 열역학적 억제제가 사용될 수 있으며, 일반적으로 메탄올이 널리 이용되고 있다. 따라서, 대부분의 해양 구조물에서는 해저 생산 배관 또는 가스 처리 배관의 막힘을 방지하기 위해 하이드레이트 형성 가능성이 높은 부분에 메탄올을 주입하고 있다.A thermodynamic inhibitor may be used as a means for fundamentally inhibiting the formation of hydrate, and methanol is generally used widely. Therefore, in most offshore structures, methanol is injected into a portion with a high possibility of hydrate formation in order to prevent clogging of the subsea production pipe or gas treatment pipe.

이러한 경우, 해양 구조물에서는 액화가스 생산 또는 처리 배관에 주입하기 위한 메탄올을 저장하는 저장탱크를 구비하여야 하며, 상기 저장탱크로부터 배관으로 주입하기 위한 시스템과 상기 저장탱크로의 메탄올 로딩 및 언로딩을 위한 별도 설비를 구비하여야 한다.In this case, the offshore structure should be provided with a storage tank for storing methanol for injection into the liquefied gas production or treatment pipe, a system for injecting from the storage tank into the pipe, and a system for loading and unloading methanol into the storage tank Separate equipment should be provided.

해양 구조물의 경우, 공간이 협소하여 메탄올 저장 및 공급 시스템의 규모가 증가함에 따라 배치 및 설치가 어려워지는데, 이는 해양 구조물의 원가와 직결되는 문제에 해당한다. 따라서, 해양 구조물에 적용하기 위한 가스 처리 시스템의 경우, 하이드레이트 저감 시스템의 효율 개선 방안뿐만 아니라 시스템의 간소화 방안도 주목 받고 있는 실정이다.In the case of an offshore structure, as the size of the methanol storage and supply system increases due to the narrow space, it becomes difficult to deploy and install, which is a problem directly related to the cost of the offshore structure. Therefore, in the case of a gas treatment system for application to offshore structures, not only a method for improving the efficiency of a hydrate reduction system but also a method for simplification of the system are attracting attention.

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하고자 창출된 것으로서, 본 발명의 목적은, 하이드레이트 저해제로 메탄올을 생산하여 사용할 수 있는 가스 처리 시스템 및 이를 포함하는 해양 구조물을 제공하기 위한 것이다.The present invention was created to solve the problems of the prior art as described above, and an object of the present invention is to provide a gas treatment system capable of producing and using methanol as a hydrate inhibitor and an offshore structure including the same.

본 발명의 일 측면에 따른 가스 처리 시스템은, 액화가스 저장탱크에 저장된 액화가스를 수요처로 공급하는 액화가스 공급라인, 및 상기 수요처에서 배출되는 배기가스를 공급받아 하이드레이트 저해제를 생산하는 저해제 공급부를 포함하며, 상기 저해제 공급부는, 하이드레이트 저해제를 상기 액화가스 공급라인에 공급하는 것을 특징으로 한다.A gas treatment system according to an aspect of the present invention includes a liquefied gas supply line for supplying a liquefied gas stored in a liquefied gas storage tank to a consumer, and an inhibitor supply unit for receiving the exhaust gas discharged from the demand and producing a hydrate inhibitor and the inhibitor supply unit supplies the hydrate inhibitor to the liquefied gas supply line.

구체적으로, 상기 가스 처리 시스템은, 상기 액화가스 공급라인 상에서 분기하여, 상기 액화가스 저장탱크로부터 상기 저해제 공급부로 액화가스를 전달하는 액화가스 분기라인을 더 포함하며, 상기 저해제 공급부는, 액화가스를 개질하여 하이드레이트 저해제를 생산할 수 있다.Specifically, the gas treatment system further includes a liquefied gas branch line branching on the liquefied gas supply line to transfer the liquefied gas from the liquefied gas storage tank to the inhibitor supply unit, wherein the inhibitor supply unit produces liquefied gas It can be modified to produce a hydrate inhibitor.

구체적으로, 상기 가스 처리 시스템은, 상기 저해제 공급부에서 생산되는 하이드레이트 저해제를 상기 액화가스 공급라인으로 전달하는 저해제 주입라인을 더 포함하며, 상기 액화가스 공급라인은, 상기 수요처로 공급되는 액화가스를 가열하는 히터를 구비하며, 상기 저해제 주입라인은, 상기 액화가스 공급라인에서 상기 액화가스 분기라인이 분기되는 지점과 상기 히터 사이에 연결될 수 있다.Specifically, the gas treatment system further includes an inhibitor injection line for transferring the hydrate inhibitor produced by the inhibitor supply unit to the liquefied gas supply line, wherein the liquefied gas supply line heats the liquefied gas supplied to the consumer. and a heater, wherein the inhibitor injection line may be connected between a branching point of the liquefied gas branch line in the liquefied gas supply line and the heater.

구체적으로, 상기 가스 처리 시스템은, 상기 저해제 공급부로 스팀을 공급하는 스팀공급부를 더 포함하며, 상기 저해제 공급부는, 액화가스를 스팀을 이용하여 개질할 수 있다.Specifically, the gas treatment system may further include a steam supply unit configured to supply steam to the inhibitor supply unit, and the inhibitor supply unit may reform liquefied gas using steam.

구체적으로, 상기 스팀공급부는, 상기 수요처에서 배출되는 배기가스의 폐열을 이용하여 스팀을 생산할 수 있다.Specifically, the steam supply unit may produce steam by using waste heat of exhaust gas discharged from the consumer.

구체적으로, 상기 가스 처리 시스템은 상기 수요처에서 발생하는 배기가스를 연돌로 전달하여 외부로 배출시키는 배기가스 배출라인, 및 상기 배기가스 배출라인으로부터 분기하여 상기 저해제 공급부로 배기가스를 전달하는 배기가스 공급라인을 더 포함하며, 상기 저해제 공급부는, 상기 배기가스 배출라인 및 상기 배기가스 공급라인 중 적어도 하나에 의해 열 에너지를 공급받아 액화가스를 개질할 수 있다.Specifically, the gas treatment system includes an exhaust gas exhaust line for discharging exhaust gas generated from the demand side to the stack and discharging to the outside, and an exhaust gas supply branching from the exhaust gas discharge line to deliver the exhaust gas to the inhibitor supply unit It further includes a line, wherein the inhibitor supply unit may receive thermal energy through at least one of the exhaust gas discharge line and the exhaust gas supply line to reform the liquefied gas.

본 발명의 일 측면에 따른 해양 구조물은, 상기 가스 처리 시스템을 포함하는 것을 특징으로 한다. An offshore structure according to an aspect of the present invention is characterized in that it includes the gas processing system.

본 발명에 따른 가스 처리 시스템 및 이를 포함하는 해양 구조물은, 액화가스 공급라인 중에 하이드레이트 저해제를 공급하여 공급 배관 내에서 하이드레이트가 생성되는 것을 방지할 수 있다.The gas treatment system and the marine structure including the same according to the present invention can prevent hydrates from being generated in the supply pipe by supplying a hydrate inhibitor in the liquefied gas supply line.

또한, 본 발명에 따른 가스 처리 시스템 및 이를 포함하는 해양 구조물은, 액화가스 및 수요처의 배기가스를 이용하여 하이드레이트 저해제를 생산할 수 있어 하이드레이트 저해제를 별도로 저장하기 위한 저장탱크를 생략할 수 있어 공간 배치상의 이점을 제공한다.In addition, the gas treatment system according to the present invention and an offshore structure including the same can produce a hydrate inhibitor using liquefied gas and exhaust gas from a customer. provides an advantage.

또한, 본 발명에 따른 가스 처리 시스템 및 이를 포함하는 해양 구조물은, 수요처의 배기가스 폐열을 하이드레이트 저해제 생산에 활용할 수 있어 하이드레이트 저해제 생산에 필요한 에너지를 저감할 수 있다.In addition, the gas treatment system according to the present invention and an offshore structure including the same can utilize waste heat of exhaust gas from a customer for production of a hydrate inhibitor, thereby reducing energy required for production of a hydrate inhibitor.

도 1은 종래 가스 처리 시스템의 개념도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 처리 시스템의 개념도이다.1 is a conceptual diagram of a conventional gas processing system.
2 is a conceptual diagram of a gas processing system according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되어지는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다.The objects, specific advantages and novel features of the present invention will become more apparent from the following detailed description and preferred embodiments taken in conjunction with the accompanying drawings. In the present specification, in adding reference numbers to the components of each drawing, it should be noted that only the same components are given the same number as possible even though they are indicated on different drawings. In addition, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known technology may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

이하에서, 고압(HP: High pressure), 저압(LP: Low pressure), 고온 및 저온은 상대적인 것으로서, 절대적인 수치를 나타내는 것은 아님을 알려둔다.Hereinafter, it should be noted that high pressure (HP), low pressure (LP: low pressure), high temperature and low temperature are relative and do not represent absolute values.

이하에서, 액화가스는 액화천연가스(LNG) 또는 액화석유가스(LPG), 에틸렌, 암모니아 등과 같이 일반적으로 액체 상태로 보관되는 모든 가스 연료를 포괄하는 의미로 사용될 수 있으며, 가열이나 가압에 의해 액체 상태가 아닌 경우 등도 편의상 액화가스로 표현할 수 있다. 이는 증발가스도 마찬가지로 적용될 수 있다. 또한 LNG는 편의상 액체 상태인 NG(Natural Gas) 뿐만 아니라 초임계 상태 등인 천연가스(NG)를 모두 포괄하는 의미로 사용될 수 있으며, 증발가스는 기체 상태의 증발가스뿐만 아니라 액화된 증발가스를 포함하는 의미로 사용될 수 있다.Hereinafter, liquefied gas may be used to encompass all gas fuels that are generally stored in a liquid state, such as liquefied natural gas (LNG) or liquefied petroleum gas (LPG), ethylene, ammonia, etc., and liquid by heating or pressurization. A case other than the state can also be expressed as liquefied gas for convenience. This can be applied to boil-off gas as well. In addition, for convenience, LNG can be used to encompass both NG (Natural Gas) in liquid state as well as natural gas (NG) in supercritical state. can be used for meaning.

이하에서, 해양 구조물은 화물을 운반하는 선박, 상선, 해양에서 천연 가스를 생산할 수 있는 선박, 가스 플랫폼과 해양 부유물을 모두 포괄하는 표현임을 알려둔다. 또한, 본 발명의 연료전지 시스템은 육상 플랜트에도 적용될 수 있다.Hereinafter, it is noted that the offshore structure is an expression encompassing all of a ship carrying cargo, a merchant ship, a ship capable of producing natural gas in the ocean, a gas platform, and an offshore float. In addition, the fuel cell system of the present invention can be applied to an onshore plant.

이하에서, 수요처는 해양 구조물에서 액화가스를 연소하여 소비하기 위한 것일 수 있다. 예를 들어, 수요처는 해양 구조물의 추진엔진, 발전엔진, 가스연소유닛(GCU) 등일 수 있다.Hereinafter, the demand may be for consumption by burning liquefied gas in offshore structures. For example, the demand may be a propulsion engine of an offshore structure, a power generation engine, a gas combustion unit (GCU), or the like.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

이하에서는 먼저 도 1을 참조하여 종래의 가스 처리 시스템을 설명한다.Hereinafter, a conventional gas processing system will be described with reference to FIG. 1 first.

도 1을 참조하면, 종래의 가스 처리 시스템은 액화가스 저장탱크(10), 저해제 저장탱크(30), 수요처(100), 액화가스 공급라인(L1) 및 저해제 주입라인(L2)을 포함한다.Referring to FIG. 1 , the conventional gas treatment system includes a liquefied gas storage tank 10 , an inhibitor storage tank 30 , a consumer 100 , a liquefied gas supply line L1 and an inhibitor injection line L2 .

액화가스 저장탱크(10)는, 수요처(100)에 공급될 액화가스를 저장한다. 이때, 액화가스 저장탱크(10)는 액체상태의 액화가스를 보관할 수 있고, 압력 탱크 형태를 가질 수 있다. 액화가스 저장탱크(10)는 복수 개로 마련될 수 있으며, 복수 개 이상이 나란히 배치될 수 있다.The liquefied gas storage tank 10 stores the liquefied gas to be supplied to the consumer 100 . At this time, the liquefied gas storage tank 10 may store the liquefied gas in a liquid state, and may have a pressure tank shape. A plurality of liquefied gas storage tanks 10 may be provided, and a plurality of or more may be arranged side by side.

액화가스 저장탱크(10)에는 펌프(11)가 마련될 수 있으며, 펌프(11)를 통해 액화가스 저장탱크(10)에 저장된 액화가스를 빼낼 수 있다. 펌프(11)는 액화가스 저장탱크(10)의 내부에 저장된 액화가스에 잠기도록 구비되거나 또는 액화가스 저장탱크(10)의 외부에 구비될 수 있다.A pump 11 may be provided in the liquefied gas storage tank 10 , and the liquefied gas stored in the liquefied gas storage tank 10 may be withdrawn through the pump 11 . The pump 11 may be provided to be submerged in the liquefied gas stored in the liquefied gas storage tank 10 , or may be provided outside the liquefied gas storage tank 10 .

구체적으로, 펌프(11)는 액화가스 저장탱크(10)의 내부에 마련되어 액화가스에 잠기도록 구비되는 부스팅 펌프일 수 있으며, 액화가스 공급라인(L1)을 통해 액화가스를 수요처(100)로 공급할 수 있다.Specifically, the pump 11 may be a boosting pump provided inside the liquefied gas storage tank 10 to be immersed in the liquefied gas, and supply the liquefied gas to the consumer 100 through the liquefied gas supply line L1. can

액화가스 공급라인(L1)은 액화가스 저장탱크(10)로부터 공급되는 액화가스를 수요처(100)로 전달하며, 상기 수요처(100)에서 요구하는 조건에 맞게 액화가스를 처리하여 공급하기 위한 수단을 추가로 구비할 수 있다. The liquefied gas supply line (L1) delivers the liquefied gas supplied from the liquefied gas storage tank 10 to the consumer 100, and a means for processing and supplying the liquefied gas according to the conditions required by the consumer 100 may be additionally provided.

예를 들어, 수요처(100)는 선박의 엔진일 수 있으며, 그 종류에 따라 소정의 요구 압력 및 온도를 가질 수 있다. 액화가스 공급라인(L1)은 히터(20)를 구비하여 액화가스를 가열하여 수요처(100)로 공급할 수 있다. 액화가스 공급라인(L1) 상에서 액화가스의 흐름을 기준으로 히터(20)의 상하류에서 액화가스의 온도 및 압력 조건이 달라질 수 있다. 따라서, 히터(20)의 상류에서 저온의 액화가스가 유동하고, 그 압력 조건의 변동에 따라 액화가스 공급라인(L1) 내에 가스 하이드레이트가 형성될 수 있다.For example, the customer 100 may be an engine of a ship, and may have a predetermined required pressure and temperature according to the type thereof. The liquefied gas supply line L1 may include a heater 20 to heat the liquefied gas and supply it to the consumer 100 . The temperature and pressure conditions of the liquefied gas in the upstream and downstream of the heater 20 may vary based on the flow of the liquefied gas on the liquefied gas supply line L1. Therefore, low-temperature liquefied gas flows upstream of the heater 20, and gas hydrate may be formed in the liquefied gas supply line L1 according to a change in the pressure condition.

종래 가스 처리 시스템에서는 저해제 저장탱크(30)를 더 구비하여, 저해제 저장탱크(30)에 저장된 하이드레이트 저해제를 액화가스 공급라인(L1)에 공급하여 가스 하이드레이트의 생성을 억제한다.In the conventional gas treatment system, an inhibitor storage tank 30 is further provided, and the hydrate inhibitor stored in the inhibitor storage tank 30 is supplied to the liquefied gas supply line L1 to suppress the generation of gas hydrates.

저해제 저장탱크(30)는 하이드레이트 저해제로서 메탄올 및 MEG로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 저장할 수 있다. 저해제 저장탱크(30)에 저장된 저해제는 저해제 주입라인(L2)을 통해 액화가스 공급라인(L1)에 공급될 수 있다. 저해제 주입라인(L2)은 액화가스 공급라인(L1) 상에서 하이드레이트가 발생할 가능성이 높은 위치에 연결될 수 있다. 예를 들어, 저해제 주입라인(L2)은 액화가스 공급라인(L1) 상에서 히터(20)의 상류에 연결될 수 있다.The inhibitor storage tank 30 may store one or more selected from the group consisting of methanol and MEG as a hydrate inhibitor. The inhibitor stored in the inhibitor storage tank 30 may be supplied to the liquefied gas supply line L1 through the inhibitor injection line L2. The inhibitor injection line (L2) may be connected to a position where hydrate is likely to occur on the liquefied gas supply line (L1). For example, the inhibitor injection line L2 may be connected upstream of the heater 20 on the liquefied gas supply line L1.

이와 같이, 종래 가스 처리 시스템에서는 액화가스 공급라인(L1)을 통해 유동하는 액화가스에 저해제가 주입되어 하이드레이트의 생성이 억제될 수 있으며, 히터(20)를 통해 가열되어 수요처(100)로 공급될 수 있다. 수요처(100)는 공급받은 액화가스를 연소시킬 수 있으며, 연소 과정에서 발생하는 배기가스는 배기가스 배출라인(L3)을 통해 연돌(110)로 전달하여 외부(A)로 배출할 수 있다.As such, in the conventional gas treatment system, the inhibitor is injected into the liquefied gas flowing through the liquefied gas supply line L1 to suppress the generation of hydrate, and it is heated through the heater 20 to be supplied to the consumer 100 . can The consumer 100 may burn the supplied liquefied gas, and the exhaust gas generated in the combustion process may be delivered to the stack 110 through the exhaust gas discharge line L3 and discharged to the outside (A).

이하에서는 도 2를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 처리 시스템에 대해 자세히 설명한다.Hereinafter, a gas processing system according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 2 .

도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 처리 시스템(1)은 액화가스 저장탱크(10), 히터(20), 저해제 공급부(40), 수요처(100), 액화가스 공급라인(L1), 저해제 주입라인(L2) 및 배기가스 공급라인(L5) 등을 포함한다.Referring to FIG. 2 , the gas processing system 1 according to an embodiment of the present invention includes a liquefied gas storage tank 10 , a heater 20 , an inhibitor supply unit 40 , a consumer 100 , a liquefied gas supply line ( L1), an inhibitor injection line (L2), and an exhaust gas supply line (L5) and the like.

본 실시예의 각각의 라인에는 개도 조절이 가능한 밸브(도시하지 않음)들이 설치될 수 있으며, 각 밸브의 개도 조절에 따라 액화가스, 하이드레이트 저해제, 배기가스 및 액화가스와 저해제의 혼합물 등의 유체 흐름이 조절될 수 있다.Valves (not shown) capable of adjusting the opening degree may be installed in each line of this embodiment, and the flow of fluid such as liquefied gas, hydrate inhibitor, exhaust gas, and a mixture of liquefied gas and inhibitor according to the opening degree of each valve is adjusted. can be adjusted.

본 발명의 일 실시예에 따른 가스 처리 시스템(1)에서 액화가스 저장탱크(10), 펌프(11), 히터(20) 및 수요처(100)는 종래 가스 처리 시스템과 각각 동일할 수 있다.In the gas processing system 1 according to an embodiment of the present invention, the liquefied gas storage tank 10 , the pump 11 , the heater 20 , and the customer 100 may be the same as those of the conventional gas processing system, respectively.

이하에서는 본 실시예가 종래 가스 처리 시스템 대비 달라지는 점 위주로 설명하도록 하며, 설명을 생략한 부분은 앞선 내용으로 갈음한다.Hereinafter, the present embodiment will be mainly described on the points that are different from the conventional gas processing system, and the parts omitted from the description will be replaced with the previous content.

본 발명의 일 실시예에 따른 가스 처리 시스템(1)은 액화가스 공급라인(L1)을 통해 액화가스 저장탱크(10)에 저장된 액화가스를 수요처(100)로 공급할 수 있다.The gas processing system 1 according to an embodiment of the present invention may supply the liquefied gas stored in the liquefied gas storage tank 10 to the consumer 100 through the liquefied gas supply line L1 .

액화가스 공급라인(L1)은 수요처(100)로 공급되는 액화가스의 일부를 분기하여 후술할 저해제 공급부(40)로 공급하는 액화가스 분기라인(L4)을 구비할 수 있다. 액화가스 공급라인(L1)에서 액화가스 분기라인(L4)이 분기되어 나오는 분기점을 기준으로 분기점의 하류에 각 라인을 통해 유동하는 액화가스의 흐름을 조절하기 위한 밸브(도시하지 않음)가 마련될 수 있다. 액화가스 분기라인(L4)을 통해 저해제 공급부(40)로 공급되는 액화가스의 유량은 액화가스 공급라인(L1)을 통해 히터(20)로 공급되는 액화가스의 유량보다 적다.The liquefied gas supply line L1 may include a liquefied gas branch line L4 that branches a portion of the liquefied gas supplied to the consumer 100 and supplies it to the inhibitor supply unit 40 to be described later. A valve (not shown) for regulating the flow of liquefied gas flowing through each line downstream of the branch point based on the branch point at which the liquefied gas branch line L4 branches from the liquefied gas supply line L1 will be provided. can The flow rate of the liquefied gas supplied to the inhibitor supply unit 40 through the liquefied gas branch line (L4) is less than the flow rate of the liquefied gas supplied to the heater 20 through the liquefied gas supply line (L1).

저해제 공급부(40)는 수요처(100)에서 배출되는 배기가스를 공급받아 하이드레이트 저해제를 생산할 수 있으며, 생산된 하이드레이트 저해제를 액화가스 공급라인(L1)에 공급할 수 있다.The inhibitor supply unit 40 may produce a hydrate inhibitor by receiving the exhaust gas discharged from the consumer 100 , and may supply the produced hydrate inhibitor to the liquefied gas supply line L1 .

저해제 공급부(40)는 액화가스 분기라인(L4)을 통해 공급되는 액화가스를 임시로 저장할 수 있는 공간(도시하지 않음)을 제공하며, 공급받은 액화가스를 개질하기 위한 공간(도시하지 않음) 및 생성된 하이드레이트 저해제(도시하지 않음)를 임시로 저장할 수 있는 공간 중 적어도 하나를 구비할 수 있다.The inhibitor supply unit 40 provides a space (not shown) for temporarily storing the liquefied gas supplied through the liquefied gas branch line L4, and a space for reforming the supplied liquefied gas (not shown) and At least one of the spaces for temporarily storing the generated hydrate inhibitor (not shown) may be provided.

저해제 공급부(40)는 수요처(100)로부터 공급되는 배기가스를 이용하여, 액화가스 분기라인(L4)을 통해 공급되는 액화가스를 개질하여 하이드레이트 저해제를 생산할 수 있다.The inhibitor supply unit 40 may use the exhaust gas supplied from the consumer 100 to reform the liquefied gas supplied through the liquefied gas branch line L4 to produce a hydrate inhibitor.

예를 들어, 액화가스가 액화천연가스인 경우, 저해제 공급부(40)는 수요처(100)로부터 공급되는 배기가스 중의 이산화탄소를 이용하여 액화천연가스를 건식 개질하여 일산화탄소와 수소를 생성할 수 있으며, 일산화탄소와 수소를 반응시켜 메탄올을 생산할 수 있다.For example, when the liquefied gas is liquefied natural gas, the inhibitor supply unit 40 may dry reform the liquefied natural gas using carbon dioxide in the exhaust gas supplied from the consumer 100 to generate carbon monoxide and hydrogen, and carbon monoxide and hydrogen to produce methanol.

예를 들어, 액화가스가 액화석유가스인 경우, 저해제 공급부(40)는 액화석유가스를 크래킹하여 메탄 가스를 생성할 수 있으며, 수요처(100)로부터 공급되는 배기가스 중의 이산화탄소를 이용하여 메탄 가스를 건식 개질하여 일산화탄소와 수소를 생성할 수 있으며, 일산화탄소와 수소를 반응시켜 메탄올을 생산할 수 있다.For example, when the liquefied gas is liquefied petroleum gas, the inhibitor supply unit 40 may crack the liquefied petroleum gas to generate methane gas, and use carbon dioxide in the exhaust gas supplied from the consumer 100 to generate methane gas. Carbon monoxide and hydrogen can be produced by dry reforming, and methanol can be produced by reacting carbon monoxide with hydrogen.

저해제 공급부(40)에서 생산된 하이드레이트 저해제는 저해제 주입라인(L2)을 통해 액화가스 공급라인(L1)으로 공급될 수 있다. 저해제 주입라인(L2)은 액화가스 공급라인(L1) 상에 마련되는 히터(20)의 상류 또는 하류에 연결될 수 있다. 바람직하게는, 저해제 주입라인(L2)은 액화가스 공급라인(L1) 상에 마련되는 히터(20)의 상류에서, 액화가스 공급라인(L1)으로부터 액화가스 분기라인(L4)이 분기되어 나오는 분기점과 상기 히터(20)의 사이에 연결되는 것일 수 있다.The hydrate inhibitor produced by the inhibitor supply unit 40 may be supplied to the liquefied gas supply line L1 through the inhibitor injection line L2. The inhibitor injection line L2 may be connected upstream or downstream of the heater 20 provided on the liquefied gas supply line L1. Preferably, the inhibitor injection line (L2) is upstream of the heater 20 provided on the liquefied gas supply line (L1), the liquefied gas branch line (L4) branching out from the liquefied gas supply line (L1) is a branch point and the heater 20 may be connected.

추가적으로, 액화가스 공급라인(L1)에는 액화가스 공급라인(L1)을 통해 유동하는 액화가스의 온도 및 압력에 대한 정보를 제공하는 센서(도시하지 않음)가 구비될 수 있으며, 저해제 주입라인(L2) 상에는 액화가스 공급라인(L1)으로 공급되는 저해제의 유량을 조절하기 위한 밸브(도시하지 않음)가 구비될 수 있다. 본 실시예에 따른 가스 처리 시스템은 상기 센서로부터 액화가스 공급라인(L1)을 통해 유동하는 액화가스의 온도 및 압력 정보를 실시간으로 수신하여, 미리 정해진 온도 및 압력 조건에 따라 상기 밸브의 개도를 조절하여 공급되는 저해제의 유량을 제어할 수 있다. 예를 들어, 액화가스의 온도가 미리 정해진 값 이하로 떨어지거나, 액화가스의 압력이 미리 정해진 값 이상으로 상승하는 경우 중 적어도 하나의 조건을 만족하게 되면 상기 밸브의 개도를 높일 수 있다.Additionally, the liquefied gas supply line (L1) may be provided with a sensor (not shown) that provides information on the temperature and pressure of the liquefied gas flowing through the liquefied gas supply line (L1), and the inhibitor injection line (L2) ) may be provided with a valve (not shown) for controlling the flow rate of the inhibitor supplied to the liquefied gas supply line (L1). The gas processing system according to this embodiment receives the temperature and pressure information of the liquefied gas flowing through the liquefied gas supply line L1 from the sensor in real time, and adjusts the opening degree of the valve according to predetermined temperature and pressure conditions It is possible to control the flow rate of the supplied inhibitor. For example, when at least one of the temperature of the liquefied gas falls below a predetermined value or the pressure of the liquefied gas rises above the predetermined value is satisfied, the opening degree of the valve may be increased.

이상과 같이 본 실시예는, 해양 구조물에 적용하기 위한 가스 처리 시스템(1)으로서, 수요처(100)로부터 배출되는 배기가스를 이용하여 수요처(100)로 공급되는 액화가스의 일부를 건식 개질하여 하이드레이트 저해제를 생산할 수 있으며, 생산된 저해제를 액화가스에 주입하여 액화가스 공급라인(L1)에서의 하이드레이트 생성을 방지하여 배관의 막힘을 예방할 수 있다. 또한, 가스 처리 시스템(1)에서 필요한 양의 하이드레이트 저해제를 생산하여 사용할 수 있어 저해제의 장기 저장을 위한 저장탱크를 생략할 수 있다.As described above, in this embodiment, as a gas treatment system 1 for application to offshore structures, a part of the liquefied gas supplied to the demand 100 is dry reformed using the exhaust gas discharged from the demand 100 to hydrate. The inhibitor can be produced, and the produced inhibitor is injected into the liquefied gas to prevent hydrate formation in the liquefied gas supply line (L1), thereby preventing clogging of the pipe. In addition, since it is possible to produce and use a required amount of a hydrate inhibitor in the gas treatment system 1 , a storage tank for long-term storage of the inhibitor can be omitted.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 가스 처리 시스템(1)은 액화가스 저장탱크(10), 히터(20), 저해제 공급부(40), 수요처(100), 스팀공급부(도시하지 않음), 액화가스 공급라인(L1), 저해제 주입라인(L2), 배기가스 배출라인(L3) 및 배기가스 공급라인(L5) 등을 포함한다.The gas treatment system 1 according to another embodiment of the present invention includes a liquefied gas storage tank 10 , a heater 20 , an inhibitor supply unit 40 , a consumer 100 , a steam supply unit (not shown), and liquefaction. It includes a gas supply line (L1), an inhibitor injection line (L2), an exhaust gas discharge line (L3), an exhaust gas supply line (L5), and the like.

본 발명의 일 실시예에 따른 가스 처리 시스템(1)에서 액화가스 저장탱크(10), 펌프(11), 히터(20), 저해제 공급부(40) 및 수요처(100)는 앞선 실시예에 따른 가스 처리 시스템(1)과 각각 동일할 수 있다.In the gas treatment system 1 according to an embodiment of the present invention, the liquefied gas storage tank 10 , the pump 11 , the heater 20 , the inhibitor supply unit 40 and the demander 100 are the gas according to the previous embodiment. Each may be identical to the processing system 1 .

이하에서는 본 실시예가 앞선 실시예에 따른 가스 처리 시스템(1) 대비 달라지는 점 위주로 설명하도록 하며, 설명을 생략한 부분은 앞선 내용으로 갈음한다.Hereinafter, the present embodiment will be mainly described in terms of differences compared to the gas processing system 1 according to the previous embodiment, and the omitted part will be replaced with the previous content.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 가스 처리 시스템(1)은 액화가스 공급라인(L1)을 통해 액화가스 저장탱크(10)에 저장된 액화가스를 수요처(100)로 공급할 수 있다.The gas processing system 1 according to another embodiment of the present invention may supply the liquefied gas stored in the liquefied gas storage tank 10 to the consumer 100 through the liquefied gas supply line L1 .

액화가스 공급라인(L1)은 수요처(100)로 공급되는 액화가스의 일부를 분기하여 저해제 공급부(40)로 공급하는 액화가스 분기라인(L4)을 구비할 수 있다.The liquefied gas supply line (L1) may include a liquefied gas branch line (L4) for supplying the inhibitor supply unit 40 by branching a portion of the liquefied gas supplied to the consumer 100 .

저해제 공급부(40)는 수요처(100)에서 배출되는 배기가스 및 가스 처리 시스템(1)에서 생산되는 스팀을 공급받아 하이드레이트 저해제를 생산할 수 있으며, 생산된 하이드레이트 저해제를 액화가스 공급라인(L1)에 공급할 수 있다.The inhibitor supply unit 40 can produce a hydrate inhibitor by receiving the exhaust gas discharged from the consumer 100 and steam produced in the gas treatment system 1, and supply the produced hydrate inhibitor to the liquefied gas supply line (L1). can

저해제 공급부(40)는 수요처(100)로부터 공급되는 배기가스 및 가스 처리 시스템(1)에서 생산되는 스팀을 이용하여, 액화가스 분기라인(L4)을 통해 공급되는 액화가스를 개질하여 하이드레이트 저해제를 생산할 수 있다.The inhibitor supply unit 40 reforms the liquefied gas supplied through the liquefied gas branch line (L4) using the exhaust gas supplied from the consumer 100 and the steam produced in the gas treatment system 1 to produce a hydrate inhibitor. can

예를 들어, 액화가스가 액화천연가스인 경우, 저해제 공급부(40)는 수요처(100)로부터 공급되는 배기가스 중의 이산화탄소를 이용하여 액화천연가스를 건식 개질하여 일산화탄소와 수소를 생성할 수 있으며, 가스 처리 시스템(1)으로부터 공급되는 스팀을 이용하여 개질되지 않은 잔여 액화천연가스를 습식 개질하여 일산화탄소와 수소를 생성할 수 있다. 이후, 저해제 공급부(40)는 일산화탄소와 수소를 반응시켜 메탄올을 생산할 수 있다.For example, when the liquefied gas is liquefied natural gas, the inhibitor supply unit 40 may dry-reform the liquefied natural gas using carbon dioxide in the exhaust gas supplied from the consumer 100 to generate carbon monoxide and hydrogen, and the gas Carbon monoxide and hydrogen may be produced by wet reforming the residual liquefied natural gas that has not been reformed using steam supplied from the processing system 1 . Thereafter, the inhibitor supply unit 40 may produce methanol by reacting carbon monoxide with hydrogen.

예를 들어, 액화가스가 액화석유가스인 경우, 저해제 공급부(40)는 액화석유가스를 크래킹하여 메탄 가스를 생성할 수 있으며, 수요처(100)로부터 공급되는 배기가스 중의 이산화탄소를 이용하여 메탄 가스를 건식 개질하여 일산화탄소와 수소를 생성할 수 있으며, 가스 처리 시스템(1)으로부터 공급되는 스팀을 이용하여 개질되지 않은 잔여 메탄 가스를 습식 개질하여 일산화탄소와 수소를 생성할 수 있다. 이후, 저해제 공급부(40)는 일산화탄소와 수소를 반응시켜 메탄올을 생산할 수 있다.For example, when the liquefied gas is liquefied petroleum gas, the inhibitor supply unit 40 may crack the liquefied petroleum gas to generate methane gas, and use carbon dioxide in the exhaust gas supplied from the consumer 100 to generate methane gas. Carbon monoxide and hydrogen may be produced by dry reforming, and carbon monoxide and hydrogen may be produced by wet reforming the residual unreformed methane gas using steam supplied from the gas treatment system 1 . Thereafter, the inhibitor supply unit 40 may produce methanol by reacting carbon monoxide with hydrogen.

또는, 저해제 공급부(40)는 수요처(100)로부터 공급되는 배기가스 중의 이산화탄소를 이용하여 저해제 공급부(40)로 공급되는 액화가스의 적어도 일부를 건식 개질하며, 가스 처리 시스템(1)으로부터 공급되는 스팀을 이용하여 저해제 공급부(40)로 공급되는 액화가스의 나머지 일부를 습식 개질하는 공정을 동시에 수행할 수 있다.Alternatively, the inhibitor supply unit 40 dry-reforms at least a portion of the liquefied gas supplied to the inhibitor supply unit 40 by using carbon dioxide in the exhaust gas supplied from the customer 100, and steam supplied from the gas treatment system 1 . A process of wet reforming the remaining part of the liquefied gas supplied to the inhibitor supply unit 40 by using can be simultaneously performed.

저해제 공급부(40)에서 생산된 하이드레이트 저해제는 저해제 주입라인(L2)을 통해 액화가스 공급라인(L1)으로 공급될 수 있다. 저해제 주입라인(L2)은 액화가스 공급라인(L1) 상에 마련되는 히터(20)의 상류 또는 하류에 연결될 수 있다. 바람직하게는, 저해제 주입라인(L2)은 액화가스 공급라인(L1) 상에 마련되는 히터(20)의 상류에서, 액화가스 공급라인(L1)으로부터 액화가스 분기라인(L4)이 분기되어 나오는 분기점과 상기 히터(20)의 사이에 연결되는 것일 수 있다.The hydrate inhibitor produced by the inhibitor supply unit 40 may be supplied to the liquefied gas supply line L1 through the inhibitor injection line L2. The inhibitor injection line L2 may be connected upstream or downstream of the heater 20 provided on the liquefied gas supply line L1. Preferably, the inhibitor injection line (L2) is upstream of the heater 20 provided on the liquefied gas supply line (L1), the liquefied gas branch line (L4) branching out from the liquefied gas supply line (L1) is a branch point and the heater 20 may be connected.

스팀공급부(도시하지 않음)는 가스 처리 시스템(1)에서 소비하기 위한 스팀을 생산한다. 스팀공급부는 보일러 또는 이코노마이저일 수 있으나, 바람직하게는 상기 스팀공급부는 수요처(100)에서 배출되는 배기가스의 폐열을 이용하여 스팀을 생산하는 이코노마이저일 수 있다.A steam supply unit (not shown) produces steam for consumption in the gas treatment system 1 . The steam supply unit may be a boiler or an economizer, but preferably, the steam supply unit may be an economizer that produces steam using waste heat of exhaust gas discharged from the consumer 100 .

스팀공급부는 수요처(100)에서 배출되는 배기가스와 청수 또는 해수를 열교환시켜 스팀을 생산할 수 있으며, 생산한 스팀을 저해제 공급부(40)로 공급할 수 있다.The steam supply unit may produce steam by exchanging the exhaust gas discharged from the consumer 100 with fresh water or seawater, and may supply the produced steam to the inhibitor supply unit 40 .

가스 처리 시스템(1)은 수요처(100)에서 액화가스를 연소시킴에 따라 발생하는 배기가스를 배출하기 위한 연돌(110)을 포함할 수 있다. 수요처(100)에서 배출되는 배기가스는 배기가스 배출라인(L3)을 통해 연돌(110)을 거쳐 가스 처리 시스템(1)의 외부(A)로 배출될 수 있다.The gas treatment system 1 may include a stack 110 for discharging exhaust gas generated by burning liquefied gas in the demand 100 . Exhaust gas discharged from the consumer 100 may be discharged to the outside (A) of the gas treatment system 1 through the stack 110 through the exhaust gas discharge line (L3).

배기가스 배출라인(L3)은 외부(A)로 배출되는 배기가스의 일부를 분기하여 저해제 공급부(40)로 공급하는 배기가스 공급라인(L5)을 구비할 수 있다. 배기가스 배출라인(L3)에서 배기가스 공급라인(L5)이 분기되어 나오는 분기점을 기준으로 분기점의 하류에 각 라인을 통해 유동하는 배기가스의 흐름을 조절하기 위한 밸브(도시하지 않음)가 마련될 수 있다.The exhaust gas discharge line (L3) may include an exhaust gas supply line (L5) which branches a part of the exhaust gas discharged to the outside (A) and supplies it to the inhibitor supply unit (40). A valve (not shown) for regulating the flow of exhaust gas flowing through each line downstream of the branch point based on the branch point where the exhaust gas supply line L5 branches from the exhaust gas discharge line L3 is provided. can

저해제 공급부(40)는 배기가스 공급라인(L5)으로부터 배기가스를 공급받아 배기가스 중의 이산화탄소를 이용하여 하이드레이트 저해제를 생산할 수 있다. 하이드레이트 저해제의 생산을 위한 액화가스의 개질 공정은 흡열 반응이며, 저해제 공급부(40)는 저해제 공급부(40)로 공급되는 액화가스의 유량에 따라 추가적인 열 에너지를 필요로 할 수 있다. 저해제 공급부(40)는 배기가스 공급라인(L5)을 통해 공급되는 배기가스로부터 액화가스 개질에 필요한 열 에너지 전부를 공급받을 수 있으나, 추가적인 열 에너지를 필요로 할 수 있다. 이러한 경우, 저해제 공급부(40)는 배기가스 배출라인(L3) 및 배기가스 공급라인(L5) 중 적어도 하나에 의해 열 에너지를 공급받아 액화가스를 개질할 수 있다. 예를 들어, 배기가스 배출라인(L3)은 배기가스의 일부를 배기가스 공급라인(L5)을 통해 분기시킨 뒤, 외부(A)로 배출하기 전에 저해제 공급부(40)와 열교환이 가능하도록 배치되어 저해제 공급부(40)에 열 에너지를 공급할 수 있다. 예를 들어, 저해제 공급부(40)로 공급되는 액화가스의 유량이 적거나 없는 경우, 배기가스 공급라인(L5)을 유동하는 배기가스의 유량은 줄이지 않은 상태로 저해제 공급부(40)에 공급한 뒤 저해제 공급부(40)로부터 배출되도록 하여 저해제 공급부(40)를 예열시킬 수 있다.The inhibitor supply unit 40 may receive exhaust gas from the exhaust gas supply line L5 and use carbon dioxide in the exhaust gas to produce a hydrate inhibitor. The reforming process of the liquefied gas for the production of the hydrate inhibitor is an endothermic reaction, and the inhibitor supply unit 40 may require additional thermal energy according to the flow rate of the liquefied gas supplied to the inhibitor supply unit 40 . The inhibitor supply unit 40 may receive all of the thermal energy required for reforming the liquefied gas from the exhaust gas supplied through the exhaust gas supply line L5, but may require additional thermal energy. In this case, the inhibitor supply unit 40 may receive thermal energy through at least one of the exhaust gas discharge line L3 and the exhaust gas supply line L5 to reform the liquefied gas. For example, the exhaust gas discharge line L3 branches a part of the exhaust gas through the exhaust gas supply line L5, and is disposed to allow heat exchange with the inhibitor supply unit 40 before discharging to the outside (A). Thermal energy may be supplied to the inhibitor supply unit 40 . For example, when the flow rate of the liquefied gas supplied to the inhibitor supply unit 40 is small or absent, the flow rate of the exhaust gas flowing through the exhaust gas supply line L5 is not reduced after being supplied to the inhibitor supply unit 40 . The inhibitor supply unit 40 may be preheated to be discharged from the inhibitor supply unit 40 .

추가적으로, 액화가스 공급라인(L1)에는 액화가스 공급라인(L1)을 통해 유동하는 액화가스의 온도 및 압력에 대한 정보를 제공하는 센서(도시하지 않음)가 구비될 수 있다. 본 실시예에 따른 가스 처리 시스템은 상기 센서로부터 액화가스 공급라인(L1)을 통해 유동하는 액화가스의 온도 및 압력 정보를 실시간으로 수신하여, 미리 정해진 온도 및 압력 조건에 따라 배기가스 배출라인(L3) 및 배기가스 공급라인(L5)의 밸브의 개도를 조절하여 공급되는 배기가스의 유량을 제어할 수 있다. 예를 들어, 액화가스의 온도가 미리 정해진 값 이하로 떨어지거나, 액화가스의 압력이 미리 정해진 값 이상으로 상승하는 경우 중 적어도 하나의 조건을 만족하게 되면 상기 밸브의 개도를 높일 수 있다.Additionally, the liquefied gas supply line (L1) may be provided with a sensor (not shown) that provides information on the temperature and pressure of the liquefied gas flowing through the liquefied gas supply line (L1). The gas treatment system according to this embodiment receives the temperature and pressure information of the liquefied gas flowing through the liquefied gas supply line L1 from the sensor in real time, and according to the predetermined temperature and pressure conditions, the exhaust gas discharge line L3 ) and by adjusting the opening degree of the valve of the exhaust gas supply line (L5), it is possible to control the flow rate of the supplied exhaust gas. For example, when at least one of the temperature of the liquefied gas falls below a predetermined value or the pressure of the liquefied gas rises above the predetermined value is satisfied, the opening degree of the valve may be increased.

이상과 같이 본 실시예는, 해양 구조물에 적용하기 위한 가스 처리 시스템(1)으로서, 수요처(100)로부터 배출되는 배기가스 및 가스 처리 시스템(1)에서 폐열 활용을 통해 생산할 수 있는 스팀을 이용하여 수요처(100)로 공급되는 액화가스의 일부를 건식 및 습식 개질하여 하이드레이트 저해제를 생산할 수 있으며, 생산된 저해제를 액화가스에 주입하여 액화가스 공급라인(L1)에서의 하이드레이트 생성을 방지하여 배관의 막힘을 예방할 수 있다. 또한, 가스 처리 시스템(1)에서 필요한 양의 하이드레이트 저해제를 생산하여 사용할 수 있어 저해제의 장기 저장을 위한 저장탱크를 생략할 수 있다.As described above, this embodiment is a gas treatment system 1 for application to offshore structures, using the exhaust gas discharged from the consumer 100 and steam that can be produced through the utilization of waste heat in the gas treatment system 1 . A hydrate inhibitor can be produced by dry and wet reforming of a part of the liquefied gas supplied to the consumer 100, and the produced inhibitor is injected into the liquefied gas to prevent hydrate formation in the liquefied gas supply line (L1) and clogging of the pipe can prevent In addition, since it is possible to produce and use a required amount of a hydrate inhibitor in the gas treatment system 1 , a storage tank for long-term storage of the inhibitor can be omitted.

본 발명은 상기에서 설명한 실시예로 한정되지 않으며, 상기 실시예들의 조합 또는 상기 실시예 중 적어도 어느 하나와 공지 기술의 조합을 또 다른 실시예로서 포함할 수 있음은 물론이다.It goes without saying that the present invention is not limited to the embodiments described above, and a combination of the embodiments or a combination of at least one of the embodiments and a known technology may be included as another embodiment.

이상에서는 본 발명의 실시예들을 중심으로 본 발명을 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시 예의 본질적인 기술내용을 벗어나지 않는 범위에서 실시예에 예시되지 않은 여러 가지의 조합 또는 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 실시예들로부터 용이하게 도출가능한 변형과 응용에 관계된 기술내용들은 본 발명에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.In the above, the present invention has been described focusing on the embodiments of the present invention, but this is only an example and does not limit the present invention. It will be appreciated that various combinations or modifications and applications not illustrated in the embodiments are possible within the scope. Accordingly, descriptions related to modifications and applications that can be easily derived from the embodiments of the present invention should be interpreted as being included in the present invention.

1: 가스 처리 시스템
10: 액화가스 저장탱크 11: 펌프
20: 히터 30: 저해제 저장탱크
40: 저해제 공급부 100: 수요처
110: 연돌 A: 외부
L1: 액화가스 공급라인 L2: 저해제 주입라인
L3: 배기가스 배출라인 L4: 액화가스 분기라인
L5: 배기가스 공급라인1: gas processing system
10: liquefied gas storage tank 11: pump
20: heater 30: inhibitor storage tank
40: inhibitor supply unit 100: demand source
110: stack A: outside
L1: Liquefied gas supply line L2: Inhibitor injection line
L3: exhaust gas discharge line L4: liquefied gas branch line
L5: exhaust gas supply line

Claims (6)

액화가스 저장탱크에 저장된 액화가스를 수요처로 공급하는 액화가스 공급라인;
상기 수요처에서 배출되는 배기가스를 공급받아 하이드레이트 저해제를 생산하는 저해제 공급부; 및
상기 액화가스 공급라인 상에서 분기하여, 상기 액화가스 저장탱크로부터 상기 저해제 공급부로 액화가스를 전달하는 액화가스 분기라인을 포함하며,
상기 저해제 공급부는,
하이드레이트 저해제를 상기 액화가스 공급라인에 공급하고,
액화가스를 개질하여 하이드레이트 저해제를 생산하는 것을 특징으로 하는 가스 처리 시스템.A liquefied gas supply line for supplying the liquefied gas stored in the liquefied gas storage tank to a consumer;
Inhibitor supply unit for producing a hydrate inhibitor by receiving the exhaust gas discharged from the demand; and
Branching on the liquefied gas supply line, it includes a liquefied gas branch line for transferring liquefied gas from the liquefied gas storage tank to the inhibitor supply unit,
The inhibitor supply unit,
Supplying a hydrate inhibitor to the liquefied gas supply line,
A gas treatment system, characterized in that by reforming the liquefied gas to produce a hydrate inhibitor. 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 저해제 공급부에서 생산되는 하이드레이트 저해제를 상기 액화가스 공급라인으로 전달하는 저해제 주입라인을 더 포함하며,
상기 액화가스 공급라인은,
상기 수요처로 공급되는 액화가스를 가열하는 히터를 구비하며,
상기 저해제 주입라인은,
상기 액화가스 공급라인에서 상기 액화가스 분기라인이 분기되는 지점과 상기 히터 사이에 연결되는 것을 특징으로 하는 가스 처리 시스템.The method of claim 1,
Further comprising an inhibitor injection line for delivering the hydrate inhibitor produced by the inhibitor supply unit to the liquefied gas supply line,
The liquefied gas supply line is
and a heater for heating the liquefied gas supplied to the consumer;
The inhibitor injection line,
Gas processing system, characterized in that connected between the branch point of the liquefied gas branch line in the liquefied gas supply line and the heater. 제 1 항에 있어서,
상기 저해제 공급부로 스팀을 공급하는 스팀공급부를 더 포함하며,
상기 저해제 공급부는,
액화가스를 스팀을 이용하여 개질하는 것을 특징으로 하는 가스 처리 시스템.The method of claim 1,
Further comprising a steam supply unit for supplying steam to the inhibitor supply unit,
The inhibitor supply unit,
A gas processing system characterized in that the liquefied gas is reformed using steam. 제 4 항에 있어서,
상기 스팀공급부는,
상기 수요처에서 배출되는 배기가스의 폐열을 이용하여 스팀을 생산하는 것을 특징으로 하는 가스 처리 시스템.5. The method of claim 4,
The steam supply unit,
A gas treatment system, characterized in that the steam is produced by using the waste heat of the exhaust gas discharged from the customer. 제 1 항에 있어서,
상기 수요처에서 발생하는 배기가스를 연돌로 전달하여 외부로 배출시키는 배기가스 배출라인; 및
상기 배기가스 배출라인으로부터 분기하여 상기 저해제 공급부로 배기가스를 전달하는 배기가스 공급라인을 더 포함하며,
상기 저해제 공급부는,
상기 배기가스 배출라인 및 상기 배기가스 공급라인 중 적어도 하나에 의해 열 에너지를 공급받아 액화가스를 개질하는 것을 특징으로 하는 가스 처리 시스템.The method of claim 1,
an exhaust gas discharge line for delivering the exhaust gas generated from the demand side to the stack and discharging it to the outside; and
Further comprising an exhaust gas supply line branching from the exhaust gas discharge line to deliver the exhaust gas to the inhibitor supply unit,
The inhibitor supply unit,
The gas treatment system according to claim 1, wherein the liquefied gas is reformed by receiving thermal energy through at least one of the exhaust gas discharge line and the exhaust gas supply line.
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