KR102361287B1 - Touch screen panel and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 터치 스크린 패널 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 메탈 메쉬(120a)를 적용하여 전극(120)을 형성하며 상기 메탈 메쉬(120a)는 랜덤 메쉬 형태로 형성되는 터치 센서와 상기 터치 센서의 상부에 배치되며 표면에 반사 방지층(210)이 형성되는 커버 글라스(200)를 포함한다. 본 발명은 터치 센서의 전극을 랜덤 메쉬 구조의 메탈 메쉬로 구현하고 커버 글라스에 반사 방지층을 적용하여 레인보우 현상을 감소시킬 수 있는 이점이 있다.The present invention relates to a touch screen panel and a method of manufacturing the same, wherein an electrode 120 is formed by applying a metal mesh 120a, and the metal mesh 120a is a touch sensor formed in a random mesh shape and an upper portion of the touch sensor and a cover glass 200 on which an anti-reflection layer 210 is formed on the surface. The present invention has the advantage of reducing the rainbow phenomenon by implementing the electrode of the touch sensor as a metal mesh having a random mesh structure and applying an anti-reflection layer to the cover glass.

Description

터치 스크린 패널 및 이의 제조방법{TOUCH SCREEN PANEL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}Touch screen panel and manufacturing method thereof

본 발명은 터치 스크린 패널 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 레인보우 현상을 개선하는 터치 스크린 패널 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a touch screen panel and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a touch screen panel for improving a rainbow phenomenon and a method for manufacturing the same.

스마트폰, 패드, 네비게이션 등 전자기기의 종류가 다양해지면서 전자기기의 크기는 소형화하되 표시화면은 대면적화할 수 있는 다양한 기술들이 제안되고 있다. 그리고 최근에는 별도의 입력 도구 없이도 손쉽게 입력할 수 있는 터치스크린을 장착한 멀티미디어 기기들이 각광받고 있다. As the types of electronic devices such as smartphones, pads, and navigation are diversified, various technologies have been proposed that can reduce the size of electronic devices but increase the display screen area. And, recently, multimedia devices equipped with a touch screen that can easily input without a separate input tool are in the spotlight.

터치스크린은 동작방식에 따라 저항막 방식, 정전용량 방식, 초음파 방식, 적외선 센서 방식, 전자유도 방식 등으로 구별될 수 있다. 이러한 터치스크린은 디스플레이에 터치 스크린 패널(TSP, Touch screen panel)을 부착하여 제작한다. 그리고 터치 스크린 패널은 커버 글라스에 얇은 필름 형태의 터치 센서를 부착하여 제작한다.The touch screen may be classified into a resistive film type, a capacitive type, an ultrasonic type, an infrared sensor type, an electromagnetic induction type, etc. according to an operation method. Such a touch screen is manufactured by attaching a touch screen panel (TSP, touch screen panel) to a display. And the touch screen panel is manufactured by attaching a touch sensor in the form of a thin film to a cover glass.

터치스크린은 터치하면 커버 글라스를 통해 터치 센서에 신호가 전달된다. 터치 센서는 터치 신호를 받아 PC(소프트웨어)로 보내고 PC는 이 신호를 디지털로 전환하여 디스플레이에 전달하며, 디스플레이는 신호를 받아 해당 화면을 표시하게 된다.When the touch screen is touched, a signal is transmitted to the touch sensor through the cover glass. The touch sensor receives the touch signal and sends it to the PC (software), which converts this signal digitally and transmits it to the display, and the display receives the signal and displays the corresponding screen.

그런데, 터치스크린은 태양광 아래에서 입사되는 태양광의 헤이즈로 인하여 레인보우 현상이 발생하는 문제점이 있다. 레인보우 현상은 빛을 비추면 기름 띠 같은 무지개 형상이 보이는 것을 의미한다. 레인보우 현상은 시인성을 저하시키고 전자기기의 사용자에게 피로감을 준다.However, the touch screen has a problem in that a rainbow phenomenon occurs due to haze of sunlight incident under sunlight. The rainbow phenomenon means that when light shines on it, a rainbow shape like a strip of oil appears. The rainbow phenomenon reduces visibility and gives a feeling of fatigue to users of electronic devices.

본 발명의 목적은 레인보우 현상을 개선하고 우수한 시인성을 확보할 수 있도록 터치 센서의 전극에 메탈 메쉬를 적용하고 커버 글라스에 반사 방지층을 적용하는 터치 스크린 패널 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a touch screen panel and a manufacturing method thereof in which a metal mesh is applied to an electrode of a touch sensor and an anti-reflection layer is applied to a cover glass so as to improve the rainbow phenomenon and secure excellent visibility.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따르면, 본 발명은 메탈 메쉬를 적용하여 전극을 형성하며 상기 메탈 메쉬는 랜덤 메쉬 형태로 형성되는 터치 센서와 터치 센서의 상부에 배치되며, 표면에 반사 방지층이 형성되는 커버 글라스를 포함한다.According to a feature of the present invention for achieving the above object, the present invention forms an electrode by applying a metal mesh, and the metal mesh is disposed on top of the touch sensor and the touch sensor formed in the form of a random mesh, the surface and a cover glass on which an anti-reflection layer is formed.

메탈 메쉬는 비정형화된 복수의 금속 라인이 만나 복수의 다각형을 형성할 수 있다.The metal mesh may form a plurality of polygons by meeting a plurality of irregular metal lines.

전극이 아닌 비전극 영역에 상기 메탈 메쉬가 적용되고, 전극과 비전극 영역은 메탈 메쉬가 단선되어 구분될 수 있다.The metal mesh may be applied to the non-electrode area other than the electrode, and the electrode and the non-electrode area may be separated by disconnecting the metal mesh.

반사 방지층은 안티글래어층, 투과율층, 요철층 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The anti-reflection layer may include at least one of an anti-glare layer, a transmittance layer, and an uneven layer.

반사 방지층은 반사율이 12~25%일 수 있다.The anti-reflection layer may have a reflectance of 12 to 25%.

안티글래어층은 폴리머와 SiO2를 포함할 수 있다.The anti-glare layer may include a polymer and SiO 2 .

SiO2는 폴리머 전체 중량 대비 3~4 중량%를 포함할 수 있다.SiO 2 may include 3 to 4 wt% based on the total weight of the polymer.

폴리머는 아크릴(PMMA)일 수 있다.The polymer may be acrylic (PMMA).

메탈 메쉬를 적용하여 전극을 형성하며 메탈 메쉬가 랜덤 메쉬 형태로 형성되게 터치 센서를 제조하는 단계와 커버 글라스를 준비하고, 커버 글라스의 표면에 반사 방지층을 형성하는 단계와 반사 방지층이 형성된 커버 글라스를 상기 터치 센서의 상부에 부착하는 단계를 포함한다.Forming an electrode by applying a metal mesh, preparing a touch sensor so that the metal mesh is formed in a random mesh shape, preparing a cover glass, forming an anti-reflection layer on the surface of the cover glass, and a cover glass with an anti-reflection layer and attaching it to the top of the touch sensor.

터치 센서를 제조하는 단계는 투명기재를 준비하는 단계와 투명기재 상에 하드코팅층을 형성하는 단계와 하드코팅층 상에 전극층을 형성하는 단계와 전극층 상에 포토레지스트층을 적층하는 단계와 포토레지스트층 상에 메탈 메쉬에 대응되는 패턴구멍이 형성된 마스크를 배치하는 단계와 노광, 현상 및 식각하여 상기 패턴구멍에 해당하는 부분을 남기고 나머지 부분을 제거하는 단계와 전극층의 상부에 남은 포토 레지스트를 에칭하는 단계를 포함할 수 있다.The manufacturing of the touch sensor includes the steps of preparing a transparent substrate, forming a hard coating layer on the transparent substrate, forming an electrode layer on the hard coating layer, laminating a photoresist layer on the electrode layer, and on the photoresist layer Disposing a mask having a pattern hole corresponding to the metal mesh, exposing, developing and etching to leave a portion corresponding to the pattern hole and removing the remaining portion, and etching the photoresist remaining on the electrode layer may include

커버 글라스의 표면에 반사 방지층을 형성하는 단계는 커버 글라스의 표면에 스크린 프린팅, 스퍼터 및 e-Beam 코팅 중 하나의 방법으로 안티글래어층, 투과율층 중 적어도 하나를 형성하는 단계를 포함할 수 있다.The step of forming the antireflection layer on the surface of the cover glass may include forming at least one of an antiglare layer and a transmittance layer on the surface of the cover glass by one of screen printing, sputtering, and e-beam coating. .

커버 글라스의 표면에 반사 방지층을 형성하는 단계는 커버 글라스의 표면을 식각하여 요철층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.Forming the antireflection layer on the surface of the cover glass may include etching the surface of the cover glass to form an uneven layer.

본 발명은 랜덤 메쉬 형태의 메탈 메쉬를 적용하여 터치 센서의 전극을 구현하므로 금속 반사를 감소시켜 레인보우 현상을 감소시킬 수 있고 우수한 시인성을 확보할 수 있는 효과가 있다.Since the present invention implements the electrode of the touch sensor by applying a metal mesh in the form of a random mesh, it is possible to reduce the rainbow phenomenon by reducing metal reflection and to secure excellent visibility.

또한, 본 발명은 전극이 Cu와 CuOx의 2층 구조로 형성되므로 전도성이 좋으며 선폭이 얇은 미세패턴 형성이 가능하고 그에 따라 투과율이 높아지고 디스플레이 디바이스와 충돌이 회피되므로 아모레 현상을 회피하는 효과가 있다.In addition, in the present invention, since the electrode is formed in a two-layer structure of Cu and CuOx, it is possible to form a fine pattern with good conductivity and a thin line width, thereby increasing the transmittance and avoiding the collision with the display device.

또한, 본 발명은 전극이 아닌 비전극 영역에도 메탈 메쉬를 적용하여 전극과 비전극 영역의 투과율 차이를 없애므로 시인성을 개선할 수 있는 효과가 있다, In addition, the present invention has the effect of improving visibility by applying a metal mesh to the non-electrode area, not the electrode, thereby eliminating the difference in transmittance between the electrode and the non-electrode area.

또한, 본 발명은 커버 글라스에 반사 방지층을 구비하여 반사광을 산란 또는 소멸시킴으로써 레인보우 현상을 감소시킬 수 있는 효과가 있다. In addition, the present invention has an effect of reducing the rainbow phenomenon by providing an anti-reflection layer on the cover glass to scatter or extinguish reflected light.

도 1은 본 발명의 실시예에 의한 터치 스크린 패널을 보인 개념도.
도 2는 본 발명의 실시예에 의한 터치 센서를 보인 개념도.
도 3은 도 2의 A 부분과 B 부분의 확대도.
도 4는 도 2의 메탈 메쉬를 확대하여 보인 도면.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 의한 터치 센서를 보인 개념도.
도 6은 도 5의 메탈 메쉬를 확대하여 보인 도면.
도 7은 본 발명의 실시예에 의한 터치 스크린 패널의 정면을 보인 구성도.
도 8은 본 발명의 실시예에 의한 투명기재에 형성한 전극을 보인 구성도.
도 9는 본 발명의 실시예에 의한 투명기재에 전극을 형성하는 과정을 설명하기 위한 과정도.
도 10은 도 4의 확대도의 SEM 사진.
도 11은 도 6의 확대도의 SEM 사진
도 12는 도 10의 금속 라인 폭을 더 확대하여 촬영한 SEM 사진
도 13 및 도 14는 비교예 1(a) 내지 비교예 3(c)과 본 발명의 실시예(d)를 태양광 아래에 두었을 때 레인보우 현상이 나타나는지를 비교하기 위한 도면.
도 15 내지 도 17은 본 발명의 실시예를 비교예들과 대비하여 투과율을 측정한 그래프.1 is a conceptual diagram showing a touch screen panel according to an embodiment of the present invention.
2 is a conceptual diagram illustrating a touch sensor according to an embodiment of the present invention.
3 is an enlarged view of a portion A and a portion B of FIG. 2 .
Figure 4 is an enlarged view of the metal mesh of Figure 2;
5 is a conceptual diagram illustrating a touch sensor according to another embodiment of the present invention.
Figure 6 is an enlarged view of the metal mesh of Figure 5;
7 is a block diagram showing the front of the touch screen panel according to the embodiment of the present invention.
8 is a configuration diagram showing an electrode formed on a transparent substrate according to an embodiment of the present invention.
9 is a process diagram for explaining a process of forming an electrode on a transparent substrate according to an embodiment of the present invention.
10 is an SEM photograph of an enlarged view of FIG.
11 is an SEM photograph of an enlarged view of FIG.
12 is an SEM photograph taken by further expanding the width of the metal line of FIG.
13 and 14 are diagrams for comparing whether a rainbow phenomenon appears when Comparative Examples 1 (a) to 3 (c) and Example (d) of the present invention are placed under sunlight.
15 to 17 are graphs in which transmittance is measured by comparing Examples of the present invention with Comparative Examples.

이하 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1에 도시된 바에 의하면, 본 발명의 터치 스크린 패널(20)은 디스플레이(10)의 상부에 배치되어 터치 스크린 기능을 수행한다. 디스플레이(10)는 디스플레이 패널(LCD), 아몰레드(AMOLED)를 포함한다. 터치 스크린 패널(20)은 터치 센서(100)와 터치 센서(100)의 상부에 배치되는 커버 글라스(Cover Glass)(200)를 포함한다.As shown in FIG. 1 , the touch screen panel 20 of the present invention is disposed on the display 10 to perform a touch screen function. The display 10 includes a display panel (LCD) and an AMOLED. The touch screen panel 20 includes a touch sensor 100 and a cover glass 200 disposed on the touch sensor 100 .

터치 센서(100)는 투명기재(110)에 메탈 메쉬(120a)를 형성하여 전극(120)을 구현함으로써 터치 감지가 가능하다. The touch sensor 100 can sense a touch by forming the metal mesh 120a on the transparent substrate 110 to implement the electrode 120 .

메탈 메쉬(Metal mesh)는 금속 소재를 격자무늬 또는 교차무늬로 배열하여 전극을 구성하는 방식이다. 메탈 메쉬(120a)를 적용한 전극(120)은 금속을 사용하기 때문에 전도성이 좋고, 투과율이 좋고, 구부릴 수 있기 때문에 플렉서블 디스플레이에 유용하며 ITO 보다 가격이 낮아 가격 경쟁력이 있고 터치 민감도가 뛰어나다.A metal mesh is a method of configuring an electrode by arranging a metal material in a grid pattern or a cross pattern. The electrode 120 to which the metal mesh 120a is applied has good conductivity, good transmittance, and can be bent, so it is useful for a flexible display.

전극(120)을 구현하는 메탈 메쉬(120a)는 랜덤 메쉬 형태로 형성한다.The metal mesh 120a implementing the electrode 120 is formed in a random mesh shape.

랜덤 메쉬는 전극(120)을 구현하는 메탈 메쉬(120a)의 금속 라인을 비정형화한 형태로 제작한 것으로, 전극(120)을 형성하는 금속 라인이 규칙적으로 나타날 때 발생할 수 있는 레인보우 현상(광학적 띠)을 방지하기 위한 것이다.The random mesh is manufactured in an atypical form of the metal line of the metal mesh 120a implementing the electrode 120 , and a rainbow phenomenon (optical band) that may occur when the metal line forming the electrode 120 appears regularly. ) to prevent

레인보우 현상은 입사되는 태양광 또는 외부광의 헤이즈(빛번짐)에 의해 발생할 수 있고, 터치 스크린 패널(20)이 디스플레이(10)와 결합했을 때 규칙적인 형태의 전극과 디스플레이(10)의 디바이스(컬러필터의 RGB 픽셀)와 겹치면서 충돌이 발생하여 나타날 수 있다.The rainbow phenomenon may be caused by haze (breathing) of incident sunlight or external light, and when the touch screen panel 20 is combined with the display 10, electrodes of a regular shape and the device (color) of the display 10 It may appear due to overlapping with the RGB pixels of the filter).

태양광 또는 외부광 아래에서 레인보우 현상이 발생하는 것을 방지하도록 터치 센서(100)는 랜덤 메쉬 형태의 메탈 메쉬(120a)를 적용하여 전극(120)을 구현한다. 또한, 메탈 메쉬(120a)는 최대한 선폭을 얇게 형성한다.To prevent a rainbow phenomenon from occurring under sunlight or external light, the touch sensor 100 implements the electrode 120 by applying the metal mesh 120a in the form of a random mesh. In addition, the metal mesh 120a is formed to have a line width as thin as possible.

전극(120)을 구현하는 메탈 메쉬(120a)를 랜덤 메쉬 형태로 형성하고 선폭을 얇게 하면 금속 반사를 감소시키는 효과와 더불어 디스플레이(10)의 디바이스와 전극의 선폭이 겹치는 것을 최대한으로 회피할 수 있어 레인보우 현상이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 선폭이 얇을수록 많은 양의 빛이 통과하므로 투과율이 높아지고 그 만큼 소비전력도 낮아진다.If the metal mesh 120a implementing the electrode 120 is formed in a random mesh shape and the line width is thinned, it is possible to avoid overlapping the line width of the device and the electrode of the display 10 to the maximum in addition to the effect of reducing metal reflection. It is possible to prevent the rainbow phenomenon from occurring. In addition, the thinner the line width, the greater the amount of light passing through, the higher the transmittance and the lower the power consumption.

전극(120)을 구현하는 메탈 메쉬(120a)는 두 금속 라인이 교차하여 격자 형태로 형성된다. 또한 메탈 메쉬(120a)는 금속 라인이 불규칙한 형태이다. The metal mesh 120a implementing the electrode 120 is formed in a grid shape by crossing two metal lines. In addition, the metal mesh 120a has an irregular metal line.

도 2에 도시된 바와 같이, 터치 센서(100)는 교차하는 두 전극(121,122)을 중첩하여 형성할 수 있다. 교차하는 두 전극은 복수의 제1 전극(121)과 복수의 제2 전극(122)을 포함한다. As shown in FIG. 2 , the touch sensor 100 may be formed by overlapping two intersecting electrodes 121 and 122 . The two intersecting electrodes include a plurality of first electrodes 121 and a plurality of second electrodes 122 .

제1 전극(121)은 제1 투명기재(111) 상에서 1방향으로 배열된다. 제2 전극(122)은 제2 투명기재(112) 상에서 1방향과 교차하는 2방향으로 배열된다. 제1 전극(121)이 형성된 제1 투명기재(111)를 제2 전극(122)이 형성된 제2 투명기재(112)와 중첩하면 제1 전극(121)과 제2 전극(122)이 교차하는 격자 구조를 갖는 터치 센서(100)가 된다. 1방향과 2방향은 x축과 y축 방향을 의미할 수 있다. 제1 전극(121)은 Rx 전극(수신 전극)으로 기능하고, 제2 전극(122)은 Tx 전극(송신 전극)으로 기능할 수 있다.The first electrodes 121 are arranged in one direction on the first transparent substrate 111 . The second electrode 122 is arranged in two directions intersecting the first direction on the second transparent substrate 112 . When the first transparent substrate 111 on which the first electrode 121 is formed is overlapped with the second transparent substrate 112 on which the second electrode 122 is formed, the first electrode 121 and the second electrode 122 intersect. It becomes the touch sensor 100 having a grid structure. The first direction and the second direction may mean an x-axis and a y-axis direction. The first electrode 121 may function as an Rx electrode (receiving electrode), and the second electrode 122 may function as a Tx electrode (transmission electrode).

제1 전극(121)과 제2 전극(122)은 랜덤 메쉬 형태의 메탈 메쉬(120a)로 구현된다. The first electrode 121 and the second electrode 122 are implemented as a metal mesh 120a in the form of a random mesh.

구체적으로, 도 3에 도시된 바와 같이, 제1 전극(121)과 제2 전극(122)을 형성하는 메탈 메쉬(120a)는 비정형화된 복수의 금속 라인으로 형성되고, 금속 라인들이 만나 다각형을 형성하는 구조로 된다. 도 3에서 굵은색의 사각 박스는 전극 부분(Tx,Rx)과 비전극 영역(dummy)을 구분하고 메탈 메쉬(120a)가 단선된 부분을 설명하기 위한 용도로 표시한 것이다. Specifically, as shown in FIG. 3 , the metal mesh 120a forming the first electrode 121 and the second electrode 122 is formed of a plurality of atypical metal lines, and the metal lines meet to form a polygon. to form a structure. In FIG. 3, a bold square box is indicated for the purpose of explaining the part where the electrode part (Tx, Rx) and the non-electrode region (dummy) are separated and the metal mesh 120a is disconnected.

비정형화된 복수의 금속 라인은 직선 형상, 굴곡진 형상, 물결진 형상 중 하나 또는 이들의 조합으로 이루어진 다양한 형상의 라인이 해당할 수 있다. 그에 따라 금속 라인들 간 각각의 간격은 불규칙한 간격을 형성할 수 있다. 금속 라인이 형성되는 방향은 투명기재의 일측 모서리에 대해 소정의 각도를 갖는 방향일 수 있다. 비정형화된 금속 라인은 금속 반사를 감소시켜 태양광 반사를 감소시키므로 레인보우 현상이 발생하는 것을 방지할 수 있다. The plurality of irregular metal lines may correspond to lines having various shapes including one of a straight shape, a curved shape, and a wavy shape, or a combination thereof. Accordingly, each gap between the metal lines may form an irregular gap. The direction in which the metal line is formed may be a direction having a predetermined angle with respect to one edge of the transparent substrate. The irregular metal line reduces the reflection of the metal, thereby reducing the reflection of sunlight, thereby preventing the rainbow phenomenon from occurring.

또한, 비정형화된 금속 라인은 투명기재(110)의 일측 모서리에 대해 소정의 각도를 갖는 방향으로 형성되므로 디스플레이(10)의 디바이스와 겹치는 것이 최대한 회피될 수 있다. In addition, since the atypical metal line is formed in a direction having a predetermined angle with respect to one edge of the transparent substrate 110 , overlapping with the device of the display 10 can be avoided as much as possible.

전극(120)과 전극(120) 사이의 전극이 아닌 비전극 영역(dummy)에도 메탈 메쉬(120a)가 적용되며, 전극(120)과 비전극 영역(dummy)은 메탈 메쉬(120a)가 단선되어 구분된다. 전극(120)을 형성하는 메탈 메쉬에는 신호선이 연결되고 비전극 영역의 메탈 메쉬에는 신호선이 연결되지 않는다.The metal mesh 120a is also applied to the non-electrode region (dummy) that is not the electrode between the electrode 120 and the electrode 120, and the metal mesh 120a is disconnected between the electrode 120 and the non-electrode region (dummy). are separated The signal line is connected to the metal mesh forming the electrode 120 , and the signal line is not connected to the metal mesh in the non-electrode region.

전극(120)만 메탈 메쉬(120a)로 형성하면 메탈 메쉬(120a)의 형태가 육안으로 보이기 때문에 시인성이 문제가 된다. 따라서 전극(120)과 비전극 영역(dummy)의 투과율 차이를 없애기 위해 비전극 영역(dummy)에도 메탈 메쉬를 적용하여 전극(120)과 비전극 영역(dummy)이 구분없이 보이도록 구현한다. 그리고 메탈 메쉬(120a)의 단선(끊어짐)을 활용하여 전극(120)이 비전극 영역(dummy)과 구분되어 동작되도록 한다.When only the electrode 120 is formed of the metal mesh 120a, since the shape of the metal mesh 120a is visible to the naked eye, visibility becomes a problem. Therefore, in order to eliminate the difference in transmittance between the electrode 120 and the non-electrode region (dummy), a metal mesh is also applied to the non-electrode region (dummy) so that the electrode 120 and the non-electrode region (dummy) can be seen without distinction. And, by utilizing the disconnection (break) of the metal mesh 120a, the electrode 120 is operated separately from the non-electrode region (dummy).

도 2의 A영역을 확대한 도 3을 보면, 제1 전극(121)은 x축 방향으로 설정 간격을 두고 메탈 메쉬(120a)가 단선되어 구현된다. 제1 전극(121)들 사이의 비전극 영역에도 메탈 메쉬가 적용된다. 제1 전극(121)과 비전극 영역(dummy)은 메탈 메쉬가 끊어져 있어 비전극 영역(dummy)을 터치하여도 신호가 활성화되지 않는다. 비전극 영역(dummy)은 제1 전극(121)과 연결되는 것을 방지하도록 길이 방향으로도 일정 구간마다 단선된다.Referring to FIG. 3 which is an enlarged view of region A of FIG. 2 , the first electrode 121 is implemented by disconnecting the metal mesh 120a at a set interval in the x-axis direction. A metal mesh is also applied to the non-electrode region between the first electrodes 121 . Since the metal mesh of the first electrode 121 and the non-electrode region (dummy) is cut, a signal is not activated even when the non-electrode region (dummy) is touched. The non-electrode region (dummy) is also disconnected at predetermined intervals in the longitudinal direction to prevent connection with the first electrode 121 .

도 2의 B영역을 확대한 도 3을 보면, 제2 전극(122)은 y축 방향으로 설정 간격을 두고 메탈 메쉬(120a)가 단선되어 구현된다. 제2 전극(122)들 사이의 비전극 영역(dummy)에도 메탈 메쉬(120a)가 적용된다. 제2 전극(122)을 형성하는 메탈 메쉬와 비전극 영역(dummy)의 메탈 메쉬는 끊어져 있어 비전극 영역(dummy)을 터치하여도 신호가 활성화되지 않는다. 비전극 영역(dummy)은 제2 전극(122)과 연결되는 것을 방지하도록 길이 방향으로 일정 구간마다 단선된다.Referring to FIG. 3 which is an enlarged view of region B of FIG. 2 , the second electrode 122 is implemented by disconnecting the metal mesh 120a at a set interval in the y-axis direction. The metal mesh 120a is also applied to the non-electrode region (dummy) between the second electrodes 122 . Since the metal mesh forming the second electrode 122 and the metal mesh of the non-electrode area (dummy) are cut off, even when the non-electrode area (dummy) is touched, a signal is not activated. The non-electrode region (dummy) is disconnected at regular intervals in the longitudinal direction to prevent it from being connected to the second electrode 122 .

도 4에 도시된 바와 같이, 전극(120)을 구현하는 메탈 메쉬(120a)는 4개의 금속 라인(120a-1,120a-2,120a-3,120a-4)이 만나 다각형을 형성하며, 다각형은 사각형 형상(격자 형상)일 수 있다. 하나의 전극에 복수 개의 사각형이 포함될 수 있으며, 사각형은 한 점에서 만나고 서로 연결되므로 터치 민감도가 우수하다. As shown in FIG. 4 , in the metal mesh 120a implementing the electrode 120 , four metal lines 120a-1, 120a-2, 120a-3, and 120a-4 meet to form a polygon, and the polygon has a rectangular shape. (lattice shape). A plurality of squares may be included in one electrode, and since the squares meet at a point and are connected to each other, the touch sensitivity is excellent.

다른 실시예로, 도 5에 도시된 바와 같이, 제1 전극(121)과 제2 전극(122)은 랜덤 메쉬 형태의 메탈 메쉬(120a')로 구현되고, 메탈 메쉬(120a')는 3개의 금속 라인이 만나 다각형을 형성할 수 있다. In another embodiment, as shown in FIG. 5 , the first electrode 121 and the second electrode 122 are implemented as a random mesh-shaped metal mesh 120a ′, and the metal mesh 120a ′ includes three Metal lines may meet to form a polygon.

다른 실시예는 전술한 일 실시예와 대비하여 메탈 메쉬(120a')의 형상에만 차이가 있다. 일 실시예의 메탈 메쉬(120a)는 4개의 금속 라인이 만나 사각형 형상의 메쉬 패턴을 형성하고, 다른 실시예의 메탈 메쉬(120a')는 3개의 금속 라인이 만나 오각형 또는 육각형 형상의 메쉬 패턴을 형성한다. Another embodiment differs only in the shape of the metal mesh 120a ′ compared to the above-described embodiment. The metal mesh 120a of one embodiment has four metal lines meeting to form a rectangular mesh pattern, and the metal mesh 120a ′ of another embodiment has three metal lines meeting to form a pentagonal or hexagonal mesh pattern. .

3개의 금속 라인이 만나 다각형의 메쉬 패턴을 형성하면 4개의 금속 라인이 만나 다각형의 메쉬 패턴을 형성하는 것 대비 금속 라인이 만나는 점에서의 선폭을 보다 얇게 구현할 수 있다.When three metal lines meet to form a polygonal mesh pattern, it is possible to implement a thinner line width at the point where metal lines meet than when four metal lines meet to form a polygonal mesh pattern.

도 6에 도시된 바와 같이, 3개의 금속 라인이 만나 다각형의 메탈 메쉬를 형성하면, 3개의 금속 라인(120a'-1,120a'-2,120a'-2)이 만나는 부분에서 금속 라인(120a'-1)과 금속 라인(120a'-2)이 만나는 부분의 각도가 둔각을 이룬다. As shown in FIG. 6 , when three metal lines meet to form a polygonal metal mesh, the metal line 120a'- 1) and a portion where the metal line 120a' - 2 meet forms an obtuse angle.

금속 라인(120a'-1)과 금속 라인(120a'-2)이 만나는 부분의 각도가 둔각을 이루면, 금속 라인(120a'-1,120a'-2,120a'-2)들이 만나는 부분의 식각이 보다 용이하여 금속 라인(120a'-1,120a'-2,120a'-2)들이 만나는 점에서의 선폭을 얇고 정밀하게 구현할 수 있다.When the angle of the portion where the metal line 120a'-1 and the metal line 120a'-2 meet is an obtuse angle, the etching of the portion where the metal lines 120a'-1, 120a'-2, 120a'-2 meet is better. It is easy to implement thin and precise line width at the point where the metal lines 120a'-1, 120a'-2, 120a'-2 meet.

도 4에 도시된 일 실시예의 경우, 금속 라인(120a-1)과 금속 라인(120a-2)이 만나는 부분의 각도가 대략 직각을 형성하므로 패턴 형성에는 다른 실시예에 비해 유리하나, 다른 실시예에 비해 정밀한 식각이 어려울 수 있다. 따라서 메탈 메쉬에서 금속 라인들이 만나는 점에서의 선폭은 다른 실시예가 더 정밀하게 구현할 수 있다.In the case of the embodiment shown in FIG. 4 , the angle of the portion where the metal line 120a-1 and the metal line 120a-2 meet forms an approximately right angle, which is advantageous compared to other embodiments for pattern formation. In comparison, precise etching may be difficult. Accordingly, the line width at the point where the metal lines meet in the metal mesh may be more precisely implemented in another embodiment.

도 4 및 도 6에 도시된 메탈 메쉬(120a)를 형성하는 금속 라인은 3㎛ 이하의 선폭을 가진다. 바람직하게는, 금속 라인은 2.6㎛이하의 선폭을 가진다. 메탈 메쉬(120a)는 금속 특성상 낮은 저항값의 장점이 있는 반면 빛이 거의 투과되지 못하는 단점이 있다. 그렇기 때문에 투명기재(110)에 메탈 메쉬의 금속 라인을 눈에 보이지 않을 만큼 수 ㎛로 매우 미세하게 형성하여 전극 필름 형태로 제작하면 시인성이 개선된다. 메탈 메쉬는 선폭이 얇을수록 투과율이 개선되어 시인성이 개선되다.The metal line forming the metal mesh 120a shown in FIGS. 4 and 6 has a line width of 3 μm or less. Preferably, the metal line has a line width of 2.6 mu m or less. The metal mesh 120a has an advantage of a low resistance value due to the nature of the metal, but has a disadvantage in that light is hardly transmitted. Therefore, when the metal line of the metal mesh is formed in the form of an electrode film on the transparent substrate 110 so fine that it is invisible to the naked eye, visibility is improved. As the line width of the metal mesh is thinner, transmittance is improved and visibility is improved.

제1 투명기재(111) 및 제2 투명기재(112)는 PET 필름, PEN 필름, PI 필름 중 어느 하나로 형성될 수 있다. PET 필름은 초고투명성을 가지며 가시광선을 효율적으로 투과시킴으로서 탁월한 시인성을 제공할 수 있다. PEN 필름과 PI필름은 PET 필름과 마찬가지로 초고투명성을 가지며 시인성이 우수하다.The first transparent substrate 111 and the second transparent substrate 112 may be formed of any one of a PET film, a PEN film, and a PI film. The PET film has ultra-high transparency and can provide excellent visibility by efficiently transmitting visible light. Like PET film, PEN film and PI film have ultra-high transparency and excellent visibility.

도 7에 도시된 바와 같이, 터치 센서(100)는 제1 전극(121)이 형성된 제1 투명기재(111)와 제2 전극(122)이 형성된 제2 투명기재(112)를 접착 필름(130)으로 합지하여 제작한다. 제1 전극(121)은 Rx 전극(수신 전극)으로 기능하고, 제2 전극(122)은 Tx 전극(송신 전극)으로 기능할 수 있다.As shown in FIG. 7 , the touch sensor 100 adheres the first transparent substrate 111 on which the first electrode 121 is formed and the second transparent substrate 112 on which the second electrode 122 is formed to the adhesive film 130 . ) and laminated. The first electrode 121 may function as an Rx electrode (receiving electrode), and the second electrode 122 may function as a Tx electrode (transmission electrode).

터치 스크린 패널(20)은 터치 센서(100)를 커버 글라스(200)와 접착 필름(140)으로 합지하여 제작하며, 디스플레이(10)의 상부에 부착한다. 접착 필름(130,140)은 광학용투명접착 필름(OCA)을 사용할 수 있다.The touch screen panel 20 is manufactured by laminating the touch sensor 100 with the cover glass 200 and the adhesive film 140 , and is attached to the upper portion of the display 10 . The adhesive films 130 and 140 may use an optically transparent adhesive film (OCA).

제1 전극(121)과 제2 전극(122)이 중첩되어 격자 형태의 터치 센서(100)를 형성하며, 제1 전극(121)과 제2 전극(122)은 랜덤 메쉬 구조의 메탈 메쉬로 형성된다. 제1 전극(121)들 사이의 비전극 영역과 제2 전극(122)들 사이의 비전극 영역은 랜덤 메쉬 구조의 메탈 메쉬로 형성되나 제1 전극(121) 및 제2 전극(122) 각각과는 단선된다. The first electrode 121 and the second electrode 122 are overlapped to form the touch sensor 100 in the form of a grid, and the first electrode 121 and the second electrode 122 are formed of a metal mesh having a random mesh structure. do. The non-electrode region between the first electrodes 121 and the non-electrode region between the second electrodes 122 is formed of a metal mesh having a random mesh structure, but is formed of the first electrode 121 and the second electrode 122, respectively. is disconnected

제1 전극(121)과 제2 전극(122)을 포함하는 메탈 메쉬 형태의 전극(120)은 Cu, CuOx, Cu-CuOx 중 선택된 1종 이상으로 형성된다. 예를 들어, 도 8에 도시된 바와 같이, 메탈 메쉬 전극(120)은 Cu층(b), CuO층(c)의 2층 구조로 형성될 수 있다. 2층 구조는 전극(120)과 투명기재의 부착성을 높이고 선폭을 미세하고 균일하게 형성하기 위한 것이다.The electrode 120 in the form of a metal mesh including the first electrode 121 and the second electrode 122 is formed of at least one selected from Cu, CuOx, and Cu-CuOx. For example, as shown in FIG. 8 , the metal mesh electrode 120 may have a two-layer structure of a Cu layer (b) and a CuO layer (c). The two-layer structure is to increase the adhesion between the electrode 120 and the transparent substrate and to form a fine and uniform line width.

투명기재(110)와 전극(120)의 사이에 하드코팅층(a)이 형성된다. 하드코팅층(a)은 투명기재(110) 상에 하드코팅액을 코팅하여 형성할 수 있다. A hard coating layer (a) is formed between the transparent substrate 110 and the electrode 120 . The hard coating layer (a) may be formed by coating a hard coating solution on the transparent substrate 110 .

하드코팅층(a)은 투명기재(110)의 오염을 방지하고 스크래치 발생이 어렵도록 투명기재(110)를 고경도로 만든다. 또한 하드코팅층(a)은 투명기재(110)의 표면상에 전극(120)이 잘 부착되게 하고 빛 간섭무늬 발생이 적으며 시인성을 향상시킨다. 하드코팅층(a)은 아크릴 폴리 우레탄으로 형성될 수 있다. 이 외에도 하드코팅층은 폴리에스테르계 수지, 폴리우레탄계 수지 등으로 형성될 수도 있다.The hard coating layer (a) prevents contamination of the transparent substrate 110 and makes the transparent substrate 110 high in hardness so that it is difficult to generate scratches. In addition, the hard coating layer (a) allows the electrode 120 to be well attached to the surface of the transparent substrate 110, the occurrence of light interference fringes is small, and the visibility is improved. The hard coating layer (a) may be formed of acrylic polyurethane. In addition, the hard coating layer may be formed of a polyester-based resin, a polyurethane-based resin, or the like.

하드코팅층(a)은 투명기재(110)의 표면을 거칠게 하지 않아도 높은 밀착성을 발현한다.The hard coating layer (a) expresses high adhesion even without roughening the surface of the transparent substrate 110 .

본 발명의 일 실시예 및 다른 실시예는 메탈 메쉬(120a)가 비정형화된 랜덤 메쉬 형태이므로, 도 4 및 도 6에 도시된 바와 같이, 금속 라인 사이의 간격이 불규칙한 간격을 형성한다.In one embodiment and another embodiment of the present invention, since the metal mesh 120a is in the form of an atypical random mesh, as shown in FIGS. 4 and 6 , the intervals between the metal lines form irregular intervals.

금속 라인 사이의 불규칙한 간격은 디스플레이의 디바이스와 간섭을 방지하고 금속 반사를 감소시켜(반사 강도를 낮춰) 레인보우 현상을 방지한다. Irregular spacing between metal lines prevents interference with the display's device and reduces metallic reflections (lower reflection intensity) to prevent rainbows.

도 7에 도시된 바와 같이, 커버 글라스(200)는 터치 센서(100)의 상부에 접착 필름(140)을 매개로 부착될 수 있다. 커버 글라스(200)는 강화 유리 재질로 형성될 수 있다. 강화 유리는 충격이나 긁힘에 강하고 빛 투과율이 높아 한층 밝고 깨끗한 화면을 볼 수 있다.7 , the cover glass 200 may be attached to the upper portion of the touch sensor 100 via the adhesive film 140 . The cover glass 200 may be formed of a tempered glass material. Tempered glass is strong against impacts and scratches and has high light transmittance, so you can see a brighter and cleaner screen.

커버 글라스(200)는 표면에 반사 방지층(210)이 형성된다. 반사 방지층(210)은 3~5㎛의 두께로 형성한다. 반사 방지층(210)은 안티글래어층, 투과율층 및 요철층 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. The cover glass 200 has an anti-reflection layer 210 formed on its surface. The anti-reflection layer 210 is formed to a thickness of 3 to 5 μm. The anti-reflection layer 210 may include at least one of an anti-glare layer, a transmittance layer, and an uneven layer.

안티글래어층은 반사광을 산란시켜 레인보우 현상을 개선한다. 안티글래어층은 폴리머와 SiO2를 포함한다. SiO2는 폴리머 전체 중량 대비 3~4 중량%를 포함한다. 폴리머는 아크릴(PMMA)을 사용한다. SiO2는 폴리머 전체 중량 대비 3 중량% 미만으로 포함되면 반사광 산란 효과가 미비하고 4 중량%를 초과하면 헤이즈(haze)가 높아져 선명함이 저하된다.The antiglare layer scatters the reflected light to improve the rainbow phenomenon. The anti-glare layer includes a polymer and SiO 2 . SiO 2 contains 3 to 4 wt% based on the total weight of the polymer. The polymer is acrylic (PMMA). When SiO 2 is included in less than 3% by weight relative to the total weight of the polymer, the reflected light scattering effect is insignificant, and when it exceeds 4% by weight, haze is increased and clarity is deteriorated.

투과율층은 커버 글라스(200)에 낮은 투과율층(예: 굴절율 1.45 전후)과 높은 투과율층(예: 굴절율 1.95 전후)을 교대로 적층하여 반사를 소멸시킴으로써 레인보우 현상을 개선한다. 투과율층은 SiOx와 NbOx를 포함할 수 있다. 예로서, 투과율층은 SiOx와 NbOx의 2층 구조로 형성될 수 있다. The transmittance layer improves the rainbow phenomenon by alternately stacking a low transmittance layer (eg, around 1.45 refractive index) and a high transmittance layer (eg, around 1.95 refractive index) on the cover glass 200 to eliminate reflection. The transmittance layer may include SiOx and NbOx. For example, the transmittance layer may have a two-layer structure of SiOx and NbOx.

요철층은 빛을 산란시켜 정반사율을 감소시킴으로써 레인보우 현상을 개선한다. The uneven layer scatters light to reduce specular reflectance, thereby improving the rainbow phenomenon.

안티글래어층과 투과율층은 커버 글라스의 표면에 스크린 프린팅(Screen Printing), 스퍼터 및 e-Beam 코팅 중 어느 하나의 방법으로 형성할 수 있다. 요철층은 커버 글라스의 표면을 식각하여 형성할 수 있다. The anti-glare layer and the transmittance layer may be formed on the surface of the cover glass by any one of screen printing, sputtering, and e-beam coating. The uneven layer may be formed by etching the surface of the cover glass.

스크린 프린팅은 대면적에 폴리머 및 페이스트를 도포하는 것이 가능하므로 균일한 안티글래어층 또는 투과율층을 형성할 수 있다. 안티글래어층과 투과율층은 도포 후 UV로 경화할 수 있다. Screen printing makes it possible to apply polymers and pastes on a large area, so it is possible to form a uniform anti-glare layer or a transmittance layer. The antiglare layer and the transmittance layer can be cured with UV after application.

반사 방지층(210)은 터치 센서(100)의 전극에 적용할 수도 있으나, 터치 센서(100)의 전극에 적용하는 경우 투과율 감소가 커버 글라스에 적용하는 경우 대비 크고 레인보우 현상 개선 효과는 없다. 따라서 반사 방지층(210)은 터치 센서(100)에 적용하지 않고 커버 글라스(200)에 적용한다.The anti-reflection layer 210 may be applied to the electrode of the touch sensor 100 , but when applied to the electrode of the touch sensor 100 , the transmittance reduction is greater than when applied to the cover glass, and there is no effect of improving the rainbow phenomenon. Therefore, the anti-reflection layer 210 is applied to the cover glass 200 rather than to the touch sensor 100 .

상술한 바와 같이, 터치 스크린 패널은 터치 센서(100)에 랜덤 메쉬 형태의 메탈 메쉬를 적용하여 전극을 구현하므로 태양광 반사를 감소시키고 레인보우 현상이 발생하는 것을 방지한다.As described above, since the touch screen panel implements an electrode by applying a random mesh-type metal mesh to the touch sensor 100 , the reflection of sunlight is reduced and the rainbow phenomenon is prevented from occurring.

또한, 전극이 아닌 비전극 영역에도 메탈 메쉬를 적용하고 메탈 메쉬를 단선시켜 전극과 비전극 영역을 분리하므로, 전극(120)과 비전극 영역(dummy)이 구분없이 보이도록 구현하여 시인성을 향상시킨다.In addition, since the metal mesh is applied to the non-electrode area, not the electrode, and the metal mesh is disconnected to separate the electrode and the non-electrode area, the electrode 120 and the non-electrode area (dummy) can be seen without distinction to improve visibility. .

이와 더불어, 터치 스크린 패널은 커버 글라스(200)에 반사 방지층(210)을 형성하여 반사광을 산란시키거나 소멸시켜 레인보우 현상이 발생하는 것을 방지한다.In addition, the touch screen panel prevents the occurrence of a rainbow phenomenon by forming an anti-reflection layer 210 on the cover glass 200 to scatter or annihilate the reflected light.

한편, 도 7에 도시된 바와 같이, 터치 스크린 패널 제조방법은 메탈 메쉬를 적용하여 전극을 형성하며 메탈 메쉬(120a)가 랜덤 메쉬 형태로 형성되게 터치 센서(100)를 제조하는 단계와, 커버 글라스(200)의 표면에 반사 방지층(210)을 형성하는 단계와, 디스플레이(10)의 상부에 터치 센서(100)를 부착하고 터치 센서(100)의 상부에 반사 방지층(210)이 형성된 커버 글라스(200)를 부착하는 단계를 포함한다. On the other hand, as shown in FIG. 7 , the touch screen panel manufacturing method includes the steps of applying a metal mesh to form an electrode and manufacturing the touch sensor 100 so that the metal mesh 120a is formed in a random mesh shape, and a cover glass Forming an anti-reflection layer 210 on the surface of the 200, attaching the touch sensor 100 to the upper portion of the display 10, and a cover glass ( 200) is attached.

터치 센서를 제조하는 단계는, 제1 투명기재(110) 상에서 메탈 메쉬로 구현되는 제1 전극(121)을 형성하는 단계와, 제2 투명기재(110) 상에서 메탈 메쉬로 구현되며 제1 전극(121)과 교차하는 제2 전극(122)을 형성하는 단계를 포함한다. The manufacturing of the touch sensor includes: forming a first electrode 121 implemented as a metal mesh on the first transparent substrate 110; and forming a second electrode 122 that intersects with the 121).

제1 전극(121)과 제2 전극(122)은 각 투명기재(111,112) 상에 동일한 방법으로 형성되며, 메탈 메쉬(120a,120a')가 단선된(끊어진) 방향에 따라 각 투명기재(111,112) 상에 1방향과 2방향으로 형성된다. The first electrode 121 and the second electrode 122 are formed in the same manner on each of the transparent substrates 111 and 112, and the respective transparent substrates 111 and 112 according to the direction in which the metal meshes 120a and 120a' are disconnected (broken). ) is formed in one direction and two directions.

도 8에 도시된 바와 같이, 전극(120)은 각 투명기재(110) 상에 형성되며, 투명기재(110)와 전극(120) 사이에는 하드코팅층(a)이 구비된다. 전극(120)은 Cu, CuOx, Cu-CuOx 중 선택된 1종 이상을 포함하고 2층 이상이며, 하드코팅층(a)은 아크릴 폴리 우레탄으로 형성될 수 있다. As shown in FIG. 8 , the electrode 120 is formed on each transparent substrate 110 , and a hard coating layer (a) is provided between the transparent substrate 110 and the electrode 120 . The electrode 120 includes at least one selected from Cu, CuOx, and Cu-CuOx and has two or more layers, and the hard coating layer (a) may be formed of acrylic polyurethane.

각 투명기재(110)에 전극(120)을 형성하는 단계는 도 9의 (a)에 도시된 바와 같이, 투명기재(110) 상에 하드코팅층(a)을 형성하는 단계와 하드코팅층(a) 상에 전극층(b,c)을 형성하는 단계와 전극층(b,c) 상에 포토레지스트층(d)을 적층하는 단계를 포함한다. Forming the electrode 120 on each transparent substrate 110, as shown in Fig. 9 (a), the step of forming a hard coating layer (a) on the transparent substrate 110 and the hard coating layer (a) and forming an electrode layer (b, c) thereon and laminating a photoresist layer (d) on the electrode layer (b, c).

또한, 도 9의 (b)에 도시된 바와 같이, 포토레지스트층(d) 상에 패턴구멍(p)이 형성된 마스크(e)를 형성하는 단계를 포함하고, 도 9의 (c)에 도시된 바와 같이, 노광, 현상 및 식각하여 패턴구멍(p)에 해당하는 부분을 남기고 나머지 부분은 제거하는 단계를 포함한다. In addition, as shown in Figure 9 (b), including the step of forming a mask (e) in which a pattern hole (p) is formed on the photoresist layer (d), shown in Figure 9 (c) As shown, exposure, development, and etching are performed to leave a portion corresponding to the pattern hole p and remove the remaining portion.

또한, 도 9의 (d)에 도시된 바와 같이, 전극층(b,c)의 상부에 남은 포토레지스트층(d)을 에칭하는 단계를 포함한다. In addition, as shown in (d) of Figure 9, it includes the step of etching the remaining photoresist layer (d) on top of the electrode layers (b, c).

투명기재(110) 상에 하드코팅층(a)을 형성하는 단계에서, 투명기재(110)는 PET 필름을 사용할 수 있다. 하드코팅층(a)은 투명기재(110) 상에 아크릴 폴리 우레탄을 도포 또는 증착하여 형성할 수 있다. 하드코팅층(a)은 5㎛~15㎛ 두께 범위로 형성할 수 있다. In the step of forming the hard coating layer (a) on the transparent substrate 110, the transparent substrate 110 may use a PET film. The hard coating layer (a) may be formed by coating or depositing acrylic polyurethane on the transparent substrate 110 . The hard coating layer (a) may be formed in a thickness range of 5 μm to 15 μm.

하드코팅층(a) 상에 전극층(b,c)을 형성하는 단계에서, 전극층(b,c)은 Cu층(b)과 Cu층(b)의 상부에 적층되는 CuO층(c)을 포함한다. 하드코팅층(a) 상에 스퍼터링 방법에 의해 Cu층(b)을 형성하고, Cu층(b)의 상부에 스퍼터링 방법에 의해 CuO층(c)을 형성한다. Cu층(b)이 씨드(seed)층이 된다. Cu층(b)은 200~400㎛ 두께로 형성하고, CuO층은 5㎛ 두께로 형성할 수 있다. Cu층은 반사율이 약 50%이고 CuO층은 반사율이 약 15%이므로 Cu층의 상부에 CuO층을 형성하면 전도성을 확보하면서 반사율은 낮출 수 있다.In the step of forming the electrode layers (b, c) on the hard coating layer (a), the electrode layers (b, c) include a Cu layer (b) and a CuO layer (c) stacked on top of the Cu layer (b) . A Cu layer (b) is formed on the hard coating layer (a) by a sputtering method, and a CuO layer (c) is formed on the Cu layer (b) by a sputtering method. The Cu layer (b) becomes a seed layer. The Cu layer (b) may be formed to a thickness of 200 to 400 μm, and the CuO layer may be formed to a thickness of 5 μm. Since the Cu layer has a reflectance of about 50% and the CuO layer has a reflectance of about 15%, if the CuO layer is formed on the Cu layer, the reflectance can be lowered while securing the conductivity.

스퍼터링 방법에 의한 전극층을 형성하면 전극층(b,c)을 박막으로 형성하기 보다 용이하다.If the electrode layer is formed by the sputtering method, it is easier to form the electrode layers (b, c) as a thin film.

스퍼터링 방법은 롤 두 롤 스퍼터(roll to roll)에서 수행하며, 이온 빔 처리(Iin Beam treatment)를 적용하여 표면 개질 및 전극의 접착 강화 기능을 갖도록 한다. The sputtering method is performed in roll to roll sputtering, and ion beam treatment is applied to have a surface modification and adhesion strengthening function of the electrode.

전극층(b,c) 상에 포토레지스트층(d)을 적층하는 단계에서, 포토레지스트층(d)은 감광성 폴리머를 사용할 수 있다. 감광성 폴리머는 자외선에 경화반응이 일어난다. In the step of laminating the photoresist layer (d) on the electrode layers (b and c), the photoresist layer (d) may use a photosensitive polymer. The photosensitive polymer is cured by UV light.

전극층(b,c) 상에 포토레지스트층(d)을 적층하는 단계는 롤 투 롤(roll to roll) 시스템에서 코팅하는 방식을 이용할 수 있다. 예를 들어, 투명기재(110)의 전극층(b,c)에 액상의 포토 레지스트를 롤 투 롤 시스템에서 연속 공정으로 전기 방사하여 포토레지스트층(d)을 형성할 수 있다. 전기 방사는 균일한 포토레지스트층(d) 형성을 위한 것이다. 롤 투 롤 연속 공정은 1~2㎛의 포토 레지스트를 연속 코팅 가능하다. 포토레지스트층(d)은 3.5㎛의 두께로 형성될 수 있다.Laminating the photoresist layer (d) on the electrode layers (b, c) may use a coating method in a roll to roll (roll to roll) system. For example, the photoresist layer (d) may be formed by electrospinning a liquid photoresist on the electrode layers (b, c) of the transparent substrate 110 in a continuous process in a roll-to-roll system. Electrospinning is for forming a uniform photoresist layer (d). The roll-to-roll continuous process can continuously coat 1~2㎛ photoresist. The photoresist layer (d) may be formed to a thickness of 3.5 μm.

포토레지스트층(d) 상에 패턴구멍(p)이 형성된 마스크(e)를 배치하는 단계에서, 패턴구멍(p)은 메탈 메쉬 형성을 위한 것이다. 패턴구멍(p)은 메탈 메쉬 형성을 위해 기설계된 구멍이며 비정형화된 복수의 라인으로 형성된다. 패턴구멍(p)이 비정형화된 금속 라인에 대응된다. 패턴구멍(p)의 폭은 3㎛ 이하, 바람직하게는 2.6㎛ 이하이고 패턴구멍 간 간격은 11㎛ 이하일 수 있다. In the step of disposing the mask (e) in which the pattern hole (p) is formed on the photoresist layer (d), the pattern hole (p) is for forming a metal mesh. The pattern hole (p) is a hole previously designed for forming a metal mesh and is formed of a plurality of atypical lines. The pattern hole p corresponds to the irregular metal line. The width of the pattern holes p may be 3 μm or less, preferably 2.6 μm or less, and the interval between the pattern holes may be 11 μm or less.

구체적으로, 패턴구멍(p)은 복수의 라인구멍들이 한점에서 연결되어 다각형 형상을 형성한다. 라인구멍은 직선 형상, 굴곡진 형상, 물결진 형상 중 하나 또는 이들의 조합으로 이루어진 불규칙한 형상일 수 있다.Specifically, in the pattern hole (p), a plurality of line holes are connected at one point to form a polygonal shape. The line hole may have an irregular shape including one of a straight shape, a curved shape, and a wavy shape, or a combination thereof.

노광, 현상 및 식각하여 패턴구멍(p)에 해당하는 부분을 남기고 나머지 부분은 제거하는 단계에서, 메탈 메쉬로 형성되는 전극(120)의 이미지가 구현된다.In the step of exposing, developing, and etching to leave a portion corresponding to the pattern hole p and remove the remaining portion, an image of the electrode 120 formed of a metal mesh is implemented.

도 9의 (b)와 같이, 포토레지스트층(d)의 상부에 전극(120)을 형성하기 위한 패턴구멍(p)들이 형성된 마스크(e)를 배치하고, 노광기를 이용하여 자외선(UV)을 조사하면 포토레지스트층(d)은 자외선을 받은 부분에 경화반응이 일어난다. As shown in FIG. 9(b), a mask e having pattern holes p for forming the electrode 120 is disposed on the photoresist layer d, and ultraviolet rays (UV) are emitted using an exposure machine. When irradiated, the photoresist layer (d) undergoes a curing reaction on the portion exposed to ultraviolet rays.

현상은 포토레지스트층(d)에서 경화되지 않은 부분을 현상액으로 용해, 제거시키고 포토레지스트층(d)에서 경과된 부분을 남게 하여 투명기재(110)에 전극(120) 이미지를 형성하는 것이다. 현상액은 염화구리가 사용될 수 있다. 현상 후 현상액 제거를 위한 수세 과정이 수행된다. The development is to form an image of the electrode 120 on the transparent substrate 110 by dissolving and removing the uncured portion of the photoresist layer (d) with a developer and leaving the elapsed portion in the photoresist layer (d). As the developer, copper chloride may be used. After the development, a water washing process for removing the developer is performed.

식각은 포토레지스트층(d)이 제거된 부분과 대응되는 부분의 전극층(b,c)을 제거하는 것이다. 식각액은 염화제이철(FeCl2), 염화구리(CuCl2) 등이 사용될 수 있다. 염화제이철(FeCl2), 염화구리(CuCl2) 등은 식각이 빠르고 식각 후 잔사가 남지 않는다. 또한 Cu와 CuO는 식각성이 우수하여 씨드 잔유물이 남지 않으므로 미세 패턴 형성에 보다 용이하다. 도 9의 (c)와 같이, 노광, 현상, 식각하면 패턴구멍(p)에 해당하는 부분은 남고 나머지 부분은 제거된다. The etching is to remove the electrode layers (b, c) in the portion corresponding to the portion where the photoresist layer (d) is removed. As the etching solution, ferric chloride (FeCl 2 ), copper chloride (CuCl 2 ), etc. may be used. Ferric chloride (FeCl 2 ), copper chloride (CuCl 2 ), etc. are etched quickly and no residue is left after etching. In addition, since Cu and CuO have excellent etching properties, seed residues are not left, so it is easier to form a fine pattern. As shown in (c) of FIG. 9 , when exposed, developed, and etched, a portion corresponding to the pattern hole p remains and the remaining portion is removed.

전극층의 상부에 남은 포토레지스트층(d)을 에칭하는 단계는, 남은 포토레지스트층(d)을 제거하고 투명기재(110)에 전극(120)을 남기기 위한 것이다. 에칭은 포토 에칭액을 사용할 수 있다. 도 9의 (d)와 같이, 전극층(b,c)의 상부에 남은 포토레지스트층(d)을 에칭하면 Cu층, CuO로 이루어진 2층 구조의 전극이 노출된다. The step of etching the photoresist layer (d) remaining on the electrode layer is to remove the remaining photoresist layer (d) and leave the electrode 120 on the transparent substrate 110 . The etching may use a photo etchant. As shown in FIG. 9(d), when the photoresist layer (d) remaining on the electrode layers (b, c) is etched, the electrode having a two-layer structure made of a Cu layer and CuO is exposed.

전극(120)은 비정형화된 금속 라인 4개가 한 점에서 만나거나 3개가 한 점에서 만나 형성되는 다각형 형상의 메탈 메쉬(120,120a)로 이루어질 수 있다(도 3 및 도 6 참조). 전극이 아닌 비전극 영역에도 메탈 메쉬가 형성되며 전극과 비전극 영역의 메탈 메쉬는 설계과정에서 단선되게 설계하여 전극과 비전극 영역의 메탈 메쉬(120a)는 서로 연결되지 않는다.The electrode 120 may be formed of metal meshes 120 and 120a having a polygonal shape in which four irregular metal lines meet at one point or three metal lines meet at one point (see FIGS. 3 and 6 ). A metal mesh is formed in the non-electrode area other than the electrode, and the metal mesh in the electrode and the non-electrode area is designed to be disconnected during the design process, so that the metal mesh 120a in the electrode and the non-electrode area is not connected to each other.

상술한 방법으로 제1 투명기재(111) 상에 메탈 메쉬(120a,120a')로 구현되고 1방향으로 배열되는 제1 전극(121)을 형성하고, 제2 투명기재(112) 상에 메탈 메쉬(120a,120a')로 구현되고 1방향과 교차하는 2방향으로 배열되는 제2 전극(122)을 형성한 후, 제1 전극(121)과 제2 전극(122)이 교차되게 제1 투명기재(111)와 제2 투명기재(112)를 중첩하여 터치 센서(100)를 제작할 수 있다. The first electrode 121 embodied in the metal meshes 120a and 120a' and arranged in one direction is formed on the first transparent substrate 111 by the above-described method, and the metal mesh is formed on the second transparent substrate 112 . After forming the second electrode 122 embodied in (120a, 120a') and arranged in two directions intersecting one direction, the first transparent substrate so that the first electrode 121 and the second electrode 122 intersect The touch sensor 100 may be manufactured by overlapping the 111 and the second transparent substrate 112 .

커버 글라스(200)의 표면에 반사 방지층(210)을 형성하는 단계는 커버 글라스(200)의 표면에 스크린 프린팅, 스퍼터 및 e-Beam 코팅 중 하나의 방법으로 안티글래어층, 투과율층 중 적어도 하나를 형성할 수 있다. 또는 커버 글라스(200)의 표면을 식각하여 요철층을 형성할 수 있다.The step of forming the anti-reflection layer 210 on the surface of the cover glass 200 includes at least one of an anti-glare layer and a transmittance layer by one of screen printing, sputtering, and e-Beam coating on the surface of the cover glass 200 . can form. Alternatively, the surface of the cover glass 200 may be etched to form an uneven layer.

커버 글라스(200)에 반사 방지층(210)을 적용시 반사율은 0.5% 이하이고 헤이즈(Haze)는 약 2~3.5 범위이다. When the anti-reflection layer 210 is applied to the cover glass 200 , the reflectance is 0.5% or less and the haze is in the range of about 2 to 3.5.

도 10에는 도 4의 확대도의 SEM 사진이 도시되어 있고, 도 11에는 도 6의 확대도의 SEM 사진이 도시되어 있으며, 도 12에는 도 10의 금속 라인 폭을 더 확대하여 촬영한 SEM 사진이 도시되어 있다. FIG. 10 is an SEM photograph of an enlarged view of FIG. 4 , FIG. 11 is an SEM photograph of an enlarged view of FIG. 6 , and FIG. 12 is an SEM photograph taken with further enlargement of the metal line width of FIG. is shown.

도 10 및 도 11에 도시된 바에 의하면, 4개의 금속 라인이 만나 다각형 형상의 메탈 메쉬를 형성하는 것 대비 3개의 금속 라인이 만나 다각형 형상의 메탈 메쉬를 형성하면, 금속 라인들이 만나는 점에서의 식각이 보다 용이하고 패턴 정밀도가 향상된다. 즉, 3개의 금속 라인이 만나 다각형 형상의 메탈 메쉬를 형성하는 경우, 터치 민감도를 확보하면서 금속 라인들이 만나는 점에서의 선폭을 최대한 얇게 형성하여 시인성을 개선할 수 있다.As shown in FIGS. 10 and 11 , when three metal lines meet to form a polygonal metal mesh, compared to when four metal lines meet to form a polygonal metal mesh, etching at the point where the metal lines meet This is easier and the pattern precision is improved. That is, when three metal lines meet to form a polygonal metal mesh, the line width at the point where the metal lines meet can be made as thin as possible to improve visibility while securing touch sensitivity.

도 12에 도시된 바와 같이, 메탈 메쉬를 형성하는 금속 라인은 2.6㎛이하의 선폭을 가지도록 제작 가능함이 확인된다. 금속 라인의 얇은 선폭은 노광, 현상 및 식각을 이용함에 의해 구현 가능하고, 얇은 선폭 및 메탈 메쉬의 랜덤 패턴 설계는 모아레 현상과 레인보우 현상을 감소시켜 시인성을 향상시킨다.As shown in FIG. 12 , it is confirmed that the metal line forming the metal mesh can be manufactured to have a line width of 2.6 μm or less. The thin line width of the metal line can be realized by using exposure, development, and etching, and the thin line width and random pattern design of the metal mesh reduce moiré and rainbow phenomena to improve visibility.

상술한 본 발명이 레인보우 개선 효과가 있는지 비교예와 대비하여 실험하였다. Whether the present invention described above has a rainbow improvement effect was tested in comparison with the comparative example.

도 13에 도시된 바와 같이, 비교예 1(a), 비교예 2(b), 비교예 3(c) 및 실시예(d)의 4가지를 태양광 아래에 두고 레인보우 현상이 나타나는지 확인하였다.As shown in FIG. 13 , four types of Comparative Example 1 (a), Comparative Example 2 (b), Comparative Example 3 (c) and Example (d) were placed under sunlight to confirm whether a rainbow phenomenon appeared.

비교예 1은 터치 센서에 랜덤 메쉬를 적용하지 않고 커버 글라스에도 반사 방지층을 적용하지 않은 일반 터치 스크린 패널이다. 비교예 2는 터치 센서에 랜덤 메쉬를 적용하지 않고 커버 글라스에 반사 방지층을 적용한 터치 스크린 패널이다. 비교예 3은 터치 센서에 랜덤 메쉬를 적용하지 않고 반사 방지층을 적용하였으며 커버 글라스에는 반사 방지층을 적용하지 않은 터치 스크린 패널이다. 실시예는 터치 센서에 랜덤 메쉬를 적용하고 커버 글라스에 반사 방지층을 적용한 터치 스크린 패널이다. Comparative Example 1 is a general touch screen panel in which a random mesh is not applied to the touch sensor and an anti-reflection layer is not applied to the cover glass. Comparative Example 2 is a touch screen panel in which an anti-reflection layer is applied to a cover glass without applying a random mesh to the touch sensor. Comparative Example 3 is a touch screen panel in which an anti-reflection layer is applied without applying a random mesh to the touch sensor, and an anti-reflection layer is not applied to the cover glass. The embodiment is a touch screen panel in which a random mesh is applied to a touch sensor and an anti-reflection layer is applied to a cover glass.

'랜덤 메쉬를 적용하지 않고'의 의미는 메탈 메쉬를 적용하되 메탈 메쉬의 금속 라인이 직선이고 이 금속 라인이 서로 직교하여 규칙적인 격자 형태를 형성하는 형상임을 의미한다. '랜덤 메쉬를 적용하고'의 의미는 전극을 구현하는 메탈 메쉬의 금속 라인이 비정형화된 라인이며 이 금속 라인이 교차하여 불규칙한 격자 형태를 형성하거나 3개의 금속 라인이 한 점에서 만나 다각형 형상을 형성함을 의미한다.The meaning of 'without applying a random mesh' means that a metal mesh is applied, but the metal lines of the metal mesh are straight and the metal lines are orthogonal to each other to form a regular grid shape. The meaning of 'applying a random mesh' is that the metal line of the metal mesh that implements the electrode is an atypical line, and these metal lines intersect to form an irregular lattice shape, or three metal lines meet at one point to form a polygonal shape. means to

도 14에 도시된 바와 같이, 비교예 1 내지 비교예 3의 터치 스크린 패널은 레인보우 현상이 나타나고, 실시예의 터치 스크린 패널은 비교예에 비해 레인보우 현상이 감소됨이 확인된다.As shown in FIG. 14 , it is confirmed that the touch screen panel of Comparative Examples 1 to 3 exhibits a rainbow phenomenon, and the touch screen panel of the Example has a reduced rainbow phenomenon compared to the Comparative Example.

실시예의 반사율을 측정한 결과 반사율이 11%이고 채널저항은 1kΩ at 20inch였으며, 투과율은 90%로 측정되었다. 참고로 동일한 조건에서 ITO 전극은 채널저항이 15kΩ이므로 채널저항에서도 실시예가 우수하다. As a result of measuring the reflectance of the example, the reflectance was 11%, the channel resistance was 1 kΩ at 20 inch, and the transmittance was measured to be 90%. For reference, since the channel resistance of the ITO electrode is 15 kΩ under the same conditions, the embodiment is excellent also in the channel resistance.

실시예는 터치 센서의 전극을 랜덤 메쉬(비정형 메탈 메쉬)로 구현하고 커버 글라스에 반사 방지층을 적용하여 레인보우 현상을 개선한 것이다. The embodiment improves the rainbow phenomenon by implementing the electrode of the touch sensor as a random mesh (atypical metal mesh) and applying an anti-reflection layer to the cover glass.

터치 스크린 패널은 디스플레이에 탑재되기 때문에 광학적 문제들에 대한 해결이 필수이다. 위 실험 결과로부터, 전극을 구현하는 메탈 메쉬를 랜덤 메쉬 형태로 형성하고 커버 글라스에 반사 방지층을 적용하여 레인보우 현상을 개선함을 확인할 수 있다. Since the touch screen panel is mounted on the display, it is essential to solve the optical problems. From the above experimental results, it can be confirmed that the rainbow phenomenon is improved by forming the metal mesh implementing the electrode in the form of a random mesh and applying an anti-reflection layer to the cover glass.

도 15 내지 도 17은 본 발명의 실시예를 비교예들과 대비하여 투과율을 측정한 것이다. 15 to 17 show transmittance measurements of Examples of the present invention compared to Comparative Examples.

도 15에 도시된 바에 의하면, 550nm에서 터치 센서에 반사 방지층을 형성한 경우 투과율이 80.4%이고, 커버 글라스에 반사 방지층을 형성한 경우 투과율이 86.6%로 측정되었다.As shown in FIG. 15 , when the antireflection layer was formed on the touch sensor at 550 nm, the transmittance was 80.4%, and when the antireflection layer was formed on the cover glass, the transmittance was measured to be 86.6%.

도 16에 도시된 바에 의하면, 반사 방지층을 형성하지 않은 일반 커버 글라스의 투과율은 91.6%이고, 반사 방지층을 형성한 커버 글라스의 투과율은 90.6%이고, 반사 코팅층을 형성하지 않은 터치 센서의 투과율은 90.5%이고, 반사 코팅층을 형성한 터치 센서의 투과율은 89.0%로 측정되었다. As shown in FIG. 16 , the transmittance of the general cover glass without the antireflection layer is 91.6%, the transmittance of the cover glass with the antireflection layer is 90.6%, and the transmittance of the touch sensor without the reflection coating layer is 90.5 %, and the transmittance of the touch sensor on which the reflective coating layer was formed was measured to be 89.0%.

도 17에 도시된 바에 의하면, 반사 방지층을 형성하지 않은 터치 센서에 반사 방지층을 형성하지 않은 일반 커버 글라스를 탑재하여 형성한 터치 스크린 패널의 투과율은 82.5%이고, 반사 방지층을 터치 센서에만 형성한 터치 스크린 패널의 투과율은 79.5%이며, 반사 방지층을 커버 글라스에만 형성한 터치 스크린 패널의 투과율은 81.9%로 측정되었다. As shown in FIG. 17 , the transmittance of the touch screen panel formed by mounting a general cover glass that does not form an anti-reflection layer on a touch sensor that does not form an anti-reflection layer is 82.5%, and a touch in which an anti-reflection layer is formed only on the touch sensor The transmittance of the screen panel was 79.5%, and the transmittance of the touch screen panel in which the antireflection layer was formed only on the cover glass was measured to be 81.9%.

도 16 및 도 17에 도시된 그래프로부터, 반사 방지층을 커버 글라스에 적용하는 것이 반사 방지층을 터치 센서에 적용하는 것 대비 투과율 감소가 적음이 확인된다. From the graphs shown in FIGS. 16 and 17 , it is confirmed that applying the anti-reflection layer to the cover glass reduces transmittance less than applying the anti-reflection layer to the touch sensor.

위 실험 결과를 통해, 터치 센서에 랜덤 메쉬 형태의 메탈 메쉬 전극을 적용하고 커버 글라스에 반사 방지층을 적용하여 모아레 현상을 회피하고 레인보우 현상을 감소시킬 수 있음을 확인할 수 있다.Through the above experimental results, it can be confirmed that the moiré phenomenon can be avoided and the rainbow phenomenon can be reduced by applying a random mesh-type metal mesh electrode to the touch sensor and applying an anti-reflection layer to the cover glass.

본 발명은 도면과 명세서에 최적의 실시예들이 개시되었다. 여기서, 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미 한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 발명은 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면, 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 권리범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention is disclosed in the drawings and in the specification with preferred embodiments. Here, although specific terms have been used, they are only used for the purpose of describing the present invention, and are not used to limit the meaning or the scope of the present invention described in the claims. Therefore, it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments of the present invention are possible therefrom. Accordingly, the true technical scope of the present invention should be defined by the technical spirit of the appended claims.

10: 디스플레이 20: 터치 스크린 패널
100: 터치 센서 110: 투명기재
111: 제1 투명기재 112: 제2 투명기재
120: 전극 120a: 메쉬 패턴
121: 제1 전극 122: 제2 전극
130, 140: 접착필름 200: 커버 글라스
210: 반사 방지층
a: 하드코팅층 b: Cu층
c: CuO 층 d: 포토레지스트층
e: 마스크 p: 패턴구멍10: display 20: touch screen panel
100: touch sensor 110: transparent material
111: first transparent substrate 112: second transparent substrate
120: electrode 120a: mesh pattern
121: first electrode 122: second electrode
130, 140: adhesive film 200: cover glass
210: anti-reflection layer
a: hard coating layer b: Cu layer
c: CuO layer d: photoresist layer
e: mask p: pattern hole

Claims (12)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 메탈 메쉬를 적용하여 전극을 형성하며 상기 메탈 메쉬는 비정형화된 3개의 금속 라인이 교차점에서 만나 이루어지는 다각형의 랜덤 메쉬 패턴으로 형성되고, 상기 랜덤 메쉬 패턴은 투명기재 상에 형성된 터치 센서를 제조하는 단계;
커버 글라스를 준비하고, 상기 커버 글라스의 표면에 반사 방지층을 형성하는 단계; 및
상기 반사 방지층이 형성된 커버 글라스를 상기 터치 센서의 상부에 부착하는 단계를 포함하고,
상기 반사 방지층은 SiOx와 NbOx의 2층 구조로 형성된 투과율층으로, 레인보우 현상을 방지하기 위한 것이며,
상기 터치 센서를 제조하는 단계는,
투명기재를 준비하는 단계;
상기 투명기재 상에 하드코팅액을 코팅하여 하드코팅층을 형성하는 단계;
상기 하드코팅층 상에 전극층을 형성하는 단계;
상기 전극층 상에 포토레지스트층을 적층하는 단계;
상기 포토레지스트층 상에 상기 메탈 메쉬에 대응되는 패턴구멍이 형성된 마스크를 배치하는 단계;
노광, 현상 및 식각하여 상기 하드코팅층, 상기 전극층 및 상기 포토레지스트층에서 상기 패턴구멍에 대응되는 부분을 남기고 나머지 부분을 제거하는 단계; 및
상기 전극층의 상부에 남은 상기 포토레지스트층을 제거하는 단계;
를 포함하는 터치 스크린 패널 제조방법.Forming an electrode by applying a metal mesh, wherein the metal mesh is formed in a polygonal random mesh pattern formed by meeting three atypical metal lines at an intersection, wherein the random mesh pattern is formed on a transparent substrate ;
preparing a cover glass and forming an anti-reflection layer on a surface of the cover glass; and
and attaching the cover glass on which the anti-reflection layer is formed on the touch sensor,
The anti-reflection layer is a transmittance layer formed of a two-layer structure of SiO x and NbO x to prevent a rainbow phenomenon,
The manufacturing of the touch sensor comprises:
preparing a transparent substrate;
forming a hard coating layer by coating a hard coating solution on the transparent substrate;
forming an electrode layer on the hard coating layer;
laminating a photoresist layer on the electrode layer;
disposing a mask having pattern holes corresponding to the metal mesh on the photoresist layer;
exposing, developing, and etching the hard coating layer, the electrode layer, and the photoresist layer, leaving a portion corresponding to the pattern hole and removing the remaining portion; and
removing the photoresist layer remaining on the electrode layer;
A touch screen panel manufacturing method comprising a. 삭제delete 제9 항에 있어서,
상기 커버 글라스의 표면에 반사 방지층을 형성하는 단계는,
상기 커버 글라스의 표면에 스크린 프린팅, 스퍼터 및 e-Beam 코팅 중 하나의 방법으로 상기 투과율층을 형성하는 터치 스크린 패널 제조방법.10. The method of claim 9,
The step of forming an anti-reflection layer on the surface of the cover glass,
A touch screen panel manufacturing method for forming the transmittance layer on the surface of the cover glass by one of screen printing, sputtering, and e-Beam coating. 삭제delete
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