KR102360988B1 - Curable composition including quantum dot, resin layer using the same and display device - Google Patents

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KR102360988B1 KR1020190007077A KR20190007077A KR102360988B1 KR 102360988 B1 KR102360988 B1 KR 102360988B1 KR 1020190007077 A KR1020190007077 A KR 1020190007077A KR 20190007077 A KR20190007077 A KR 20190007077A KR 102360988 B1 KR102360988 B1 KR 102360988B1
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Abstract

(A) 양자점; (B) 바인더 수지; (C) 제1 중합성 화합물 및 제2 중합성 화합물을 포함하는 중합성 화합물; 및 (D) 용매를 포함하고, 상기 제1 중합성 화합물은 하기 화학식 1-2로 표시되고, 상기 제2 중합성 화합물은 하기 화학식 2로 표시되고, 상기 제1 중합성 화합물 및 제2 중합성 화합물은 5:1 내지 1:1의 중량비로 포함되는 경화성 조성물, 상기 경화성 조성물을 이용하여 제조된 수지막 및 상기 수지막을 포함하는 디스플레이 장치가 제공된다.
[화학식 1-2]

Figure 112021093927513-pat00041

[화학식 2]
Figure 112021093927513-pat00042

(상기 화학식에서, 각 치환기는 명세서에 정의된 바와 같다.)(A) quantum dots; (B) binder resin; (C) a polymerizable compound comprising a first polymerizable compound and a second polymerizable compound; and (D) a solvent, wherein the first polymerizable compound is represented by the following Chemical Formula 1-2, the second polymerizable compound is represented by the following Chemical Formula 2, and the first polymerizable compound and the second polymerizable compound A curable composition in which the compound is contained in a weight ratio of 5:1 to 1:1, a resin film prepared using the curable composition, and a display device including the resin film are provided.
[Formula 1-2]
Figure 112021093927513-pat00041

[Formula 2]
Figure 112021093927513-pat00042

(In the above formula, each substituent is as defined in the specification.)

Description

양자점 함유 경화성 조성물, 이를 이용한 수지막 및 디스플레이 장치 {CURABLE COMPOSITION INCLUDING QUANTUM DOT, RESIN LAYER USING THE SAME AND DISPLAY DEVICE}Curable composition containing quantum dots, resin film and display device using the same {CURABLE COMPOSITION INCLUDING QUANTUM DOT, RESIN LAYER USING THE SAME AND DISPLAY DEVICE}

본 기재는 양자점 함유 경화성 조성물, 이를 이용한 수지막 및 상기 수지막을 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것이다.The present disclosure relates to a curable composition containing quantum dots, a resin film using the same, and a display device including the resin film.

컬러필터는 액정표시장치, 카메라의 광학필터 등에 사용되는 것으로서, 3종 이상의 색상으로 착색된 미세한 영역을 고체촬영소자 또는 투명기판상에 코팅하여 제조된다. 이와 같은 착색박막은 통상 염색법, 인쇄법, 안료분산법, 잉크젯 방식 등에 의하여 형성될 수 있다.The color filter is used for liquid crystal display devices, optical filters of cameras, etc., and is manufactured by coating fine areas colored with three or more colors on a solid-state imaging device or a transparent substrate. Such a colored thin film may be generally formed by a dyeing method, a printing method, a pigment dispersion method, an inkjet method, and the like.

염색법은 기판상에 미리 젤라틴 등의 천연 감광성 수지, 아민변성 폴리비닐알코올, 아민변성 아크릴계 수지 등의 염색기재를 가진 화상을 형성시킨 후, 직접염료 등의 염료로 염색하여 착색박막을 형성하게 된다. 염색법의 경우, 일반적으로 사용되는 염료 및 수지 자체의 선명성과 분산성을 양호하나, 내광성, 내습성 및 내열성이 떨어지는 단점이 있다.In the dyeing method, an image with a dyeing base such as natural photosensitive resin such as gelatin, amine-modified polyvinyl alcohol, or amine-modified acrylic resin is formed on a substrate in advance, and then dyed with a dye such as a direct dye to form a colored thin film. In the case of the dyeing method, the clarity and dispersibility of commonly used dyes and resins themselves are good, but there are disadvantages in that light resistance, moisture resistance and heat resistance are inferior.

인쇄법은 열경화성 또는 광경화성 수지에 안료를 분산시킨 잉크를 사용하여 인쇄를 행한 후, 열 또는 광으로 경화시킴으로써 착색박막을 형성한다. 염색법의 경우, 타 방법에 비해 재료비를 절감할 수 있지만, 고도로 정밀하고 세밀한 화상 형성이 곤란하다는 단점이 있다.In the printing method, a colored thin film is formed by printing using an ink in which a pigment is dispersed in a thermosetting or photocurable resin, and then curing with heat or light. In the case of the dyeing method, the material cost can be reduced compared to other methods, but there is a disadvantage in that it is difficult to form a highly precise and detailed image.

안료분산법은 블랙 매트릭스가 제공된 투명한 기재 위에 착색제를 함유하는 광중합성 조성물을 코팅, 노광, 현상 및 열경화시키는 일련의 과정을 반복함으로써 착색박막을 형성하는 방법이다. 안료분산법은 내열성 및 내구성을 향상시킬 수 있고 필름의 두께를 균일하게 유지할 수 있다는 장점이 있다. 또한, 미세 패턴의 구현이 우수하고 제조방법이 비교적 용이하여 보편적으로 채용되고 있다. 예컨대, 대한민국 특허공개 제1992-7002502호, 대한민국 특허공개 제1994-0005617호, 대한민국 특허공개 제1995-0011163호, 대한민국 특허공개 제1995-7000359호 등에서는 안료분산법을 이용한 착색 감광성 수지 조성물의 제조방법이 제안되고 있다.The pigment dispersion method is a method of forming a colored thin film by repeating a series of processes of coating, exposing, developing, and thermally curing a photopolymerizable composition containing a colorant on a transparent substrate provided with a black matrix. The pigment dispersion method has advantages in that heat resistance and durability can be improved and the thickness of the film can be maintained uniformly. In addition, the implementation of the fine pattern is excellent and the manufacturing method is relatively easy, so it is universally employed. For example, in Korean Patent Publication No. 1992-7002502, Korean Patent Publication No. 1994-0005617, Korean Patent Publication No. 1995-0011163, Korean Patent Publication No. 1995-7000359, etc., the preparation of a colored photosensitive resin composition using a pigment dispersion method A method is being proposed.

그러나, 상기 방법은 화소를 형성하기 위하여 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)에 대하여 각각 코팅, 노광, 현상 및 경화하는 과정을 요구하여 제조 공정이 매우 길어지고 공정간 제어인자가 많아짐에 따라 수율 관리에 어려움이 있다.However, the method requires a process of coating, exposing, developing, and curing each of red (R), green (G) and blue (B) to form a pixel, so the manufacturing process is very long and the control factor between the processes is very long. As the number increases, it is difficult to manage the yield.

이러한 문제점을 극복하기 위해 최근에는 종래의 안료분산법을 대체하기 위한 여러 가지 새로운 공정방식이 사용되고 있는데, 대표적인 것이 잉크젯 프린팅 방식이다. 잉크젯 프린팅 방식에서는 유리기판 상에 블랙 매트릭스 등의 차광층을 형성하고 상기 화소 공간에 잉크를 주입하는 방식이다. 잉크젯 프린팅 방식은 컬러필터를 제조함에 있어서 별도의 코팅, 노광, 현상 등의 공정이 불필요하므로 공정에 필요한 재료를 절감할 수 있고 공정의 단순화를 가능하게 할 수 있다.In order to overcome this problem, various new process methods have been used to replace the conventional pigment dispersion method, and a representative one is the inkjet printing method. In the inkjet printing method, a light blocking layer such as a black matrix is formed on a glass substrate and ink is injected into the pixel space. In the inkjet printing method, since separate processes such as coating, exposure, and development are unnecessary in manufacturing the color filter, materials required for the process can be reduced and the process can be simplified.

상기와 같은 잉크젯 잉크를 사용하여 컬러필터를 제조하는 경우, 요구되는 색 특성을 확보하기 위해서는 2 종류 이상의 안료를 혼합하여 사용하는 것이 일반적이다. 특히, 적색 필터에 있어서는 주안료로 다이키토파이롤로파이롤계 적색 안료, 예를 들면 C.I. Pigment Red 254가 주로 채용된다. 또한, 조색 안료로는 안트라퀴논계 적색 안료, 예를 들면, C.I. Pigment Red 177을 첨가하거나, 또는 아이소인돌리논계 황색 안료, 예를 들면 C.I. Pigment Yellow 139를 첨가하는 것이 일반적이다. 경우에 따라서는 다른 황색 및 오렌지색의 안료, 예를 들면 C.I. Pigment Yellow 138, C.I Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Orange 38 등을 첨가할 수도 있다. 상기의 안료들은 색특성, 내광성 및 내열성이 우수한 특징이 있어, 컬러필터용 재료로서 흔히 사용되어 왔으나, 최근 LCD 컬러필터의 용도가 확대됨에 따라, 요구되는 물성 수준은 나날이 높아지고 있다. 따라서, 투과될 때의 명도 및 색순도 향상과 같은 색특성을 높이기 위해, 상기 안료들을 미립화 및 미세 분산화하는 연구가 진행되고 있으나, 사실상 이들 안료의 조합만으로는 컬러필터의 색특성 발현에 한계가 있다.When a color filter is manufactured using the inkjet ink as described above, it is common to use a mixture of two or more types of pigments in order to secure required color characteristics. In particular, in a red filter, a dicytopyrrolopyrrole-based red pigment, for example, C.I. Pigment Red 254 is mainly used. In addition, as a toning pigment, an anthraquinone-based red pigment, for example, C.I. Pigment Red 177 may be added, or an isoindolinone-based yellow pigment such as C.I. It is common to add Pigment Yellow 139. Optionally other yellow and orange pigments, for example C.I. Pigment Yellow 138, C.I Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Orange 38, etc. may be added. The above pigments have excellent color characteristics, light resistance and heat resistance, and have been commonly used as a material for color filters. However, as the use of LCD color filters has recently expanded, the level of required properties is increasing day by day. Therefore, in order to improve color characteristics such as brightness and color purity when transmitted, research on atomizing and finely dispersing the pigments is being conducted, but in fact, there is a limit to the expression of color characteristics of a color filter only with the combination of these pigments.

일 구현예는 열공정 시의 경화 수축율을 최소화하면서도, 휘도 저하를 방지할 수 있는 양자점 함유 경화성 조성물을 제공하기 위한 것이다.One embodiment is to provide a curable composition containing quantum dots that can prevent reduction in luminance while minimizing cure shrinkage during thermal processing.

다른 일 구현예는 상기 경화성 조성물을 이용하여 제조된 수지막을 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a resin film prepared using the curable composition.

또 다른 일 구현예는 상기 수지막을 포함하는 디스플레이 장치를 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a display device including the resin film.

일 구현예는 (A) 양자점; (B) 바인더 수지; (C) 제1 중합성 화합물 및 제2 중합성 화합물을 포함하는 중합성 화합물; 및 (D) 용매를 포함하고, 상기 제1 중합성 화합물은 하기 화학식 1-2로 표시되고, 상기 제2 중합성 화합물은 하기 화학식 2로 표시되고, 상기 제1 중합성 화합물 및 제2 중합성 화합물은 5:1 내지 1:1의 중량비로 포함되는 경화성 조성물을 제공한다. One embodiment is (A) quantum dots; (B) binder resin; (C) a polymerizable compound comprising a first polymerizable compound and a second polymerizable compound; and (D) a solvent, wherein the first polymerizable compound is represented by the following Chemical Formula 1-2, the second polymerizable compound is represented by the following Chemical Formula 2, and the first polymerizable compound and the second polymerizable compound The compound provides a curable composition included in a weight ratio of 5:1 to 1:1.

[화학식 1-2][Formula 1-2]

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Figure 112019006689328-pat00002
Figure 112019006689328-pat00002

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112019006689328-pat00003
Figure 112019006689328-pat00003

상기 화학식 1-2 및 화학식 2에서,In Formula 1-2 and Formula 2,

R1은 하기 화학식 3으로 표시되고,R 1 is represented by the following formula (3),

R2는 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 2 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

L1 내지 L12는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,L 1 to L 12 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112019006689328-pat00004
Figure 112019006689328-pat00004

상기 화학식 3에서,In Formula 3,

R3은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이다.R 3 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group.

상기 제1 중합성 화합물 및 제2 중합성 화합물은 3:1 내지 1:1의 중량비로 포함될 수 있다.The first polymerizable compound and the second polymerizable compound may be included in a weight ratio of 3:1 to 1:1.

상기 양자점은 360 nm 내지 780nm의 광을 흡수해, 500nm 내지 700nm에서 형광을 방출하는 양자점일 수 있다.The quantum dot may be a quantum dot that absorbs light of 360 nm to 780 nm and emits fluorescence at 500 nm to 700 nm.

상기 양자점은 녹색 양자점 및 적색 양자점을 포함할 수 있다.The quantum dots may include green quantum dots and red quantum dots.

상기 양자점은 경화성 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.The quantum dots may be included in an amount of 1 wt% to 40 wt% based on the total amount of the curable composition.

상기 바인더 수지는 아크릴계 수지, 카도계 수지 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The binder resin may include an acrylic resin, a cardo-based resin, or a combination thereof.

상기 바인더 수지는 500 g/mol 내지 50,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가질 수 있다.The binder resin may have a weight average molecular weight of 500 g/mol to 50,000 g/mol.

상기 용매는 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 디프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 사이클로헥실 아세테이트, 에탄올, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌디글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디메틸아세트아미드, 2-부톡시에탄올, N-메틸피롤리딘, N-에틸피롤리딘, 프로필렌 카보네이트, γ-부티로락톤 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The solvent is propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, cyclohexyl acetate, ethanol, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene diglycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, dimethyl acetamide, 2-butoxyethanol , N-methylpyrrolidine, N-ethylpyrrolidine, propylene carbonate, γ-butyrolactone, or a combination thereof.

상기 경화성 조성물은 확산제를 더 포함할 수 있다.The curable composition may further include a diffusing agent.

상기 확산제는 상기 경화성 조성물 총량에 대해 0.1 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다.The dispersing agent may be included in an amount of 0.1 wt% to 20 wt% based on the total amount of the curable composition.

상기 확산제는 황산바륨, 탄산칼슘, 이산화티타늄, 지르코니아 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The dispersing agent may include barium sulfate, calcium carbonate, titanium dioxide, zirconia, or a combination thereof.

상기 경화성 조성물은 티올계 첨가제를 더 포함할 수 있다.The curable composition may further include a thiol-based additive.

상기 티올계 첨가제는 말단에 하기 화학식 4로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함할 수 있다.The thiol-based additive may include at least two or more functional groups represented by the following Chemical Formula 4 at the terminal thereof.

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112019006689328-pat00005
Figure 112019006689328-pat00005

상기 화학식 4에서,In Formula 4,

L13 및 L14는 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴렌기이다.L 13 and L 14 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkylene group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 arylene group, or a substituted or unsubstituted It is a C2 to C20 heteroarylene group.

상기 경화성 조성물은 상기 경화성 조성물 총량에 대해, 상기 양자점 1 중량% 내지 40 중량%, 상기 바인더 수지 1 중량% 내지 40 중량%, 상기 중합성 화합물 0.1 중량% 내지 20 중량% 및 상기 용매 잔부량을 포함할 수 있다.The curable composition includes 1 wt% to 40 wt% of the quantum dots, 1 wt% to 40 wt% of the binder resin, 0.1 wt% to 20 wt% of the polymerizable compound, and the remaining amount of the solvent with respect to the total amount of the curable composition can do.

상기 경화성 조성물은 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.The curable composition comprises malonic acid; 3-amino-1,2-propanediol; silane-based coupling agent; leveling agent; fluorine-based surfactants; Or it may further include a combination thereof.

다른 일 구현예는 상기 경화성 조성물을 이용하여 제조된 수지막을 제공한다.Another embodiment provides a resin film prepared using the curable composition.

또 다른 일 구현예는 상기 수지막을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.Another embodiment provides a display device including the resin film.

상기 디스플레이 장치는 컬러필터 및 액정층을 더 포함하고, 상기 액정층 일 측면에는 상기 컬러필터가 위치하고, 상기 액정층의 다른 일 측면에는 상기 수지막이 위치할 수 있다.The display device may further include a color filter and a liquid crystal layer, the color filter may be located on one side of the liquid crystal layer, and the resin film may be located on the other side of the liquid crystal layer.

기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.The specific details of other aspects of the invention are included in the detailed description below.

일 구현예에 따른 경화성 조성물은 특정 구조의 중합성 화합물은 특정 중량비로 혼합하여 사용함으로써, 종래와 동등 수준 이상의 휘도를 유지하면서 열공정 시의 경화 수축율을 최소화할 수 있어, 열경화 조성물의 경화층(수지막) 적층 시 계면탈락이나 크랙이 발생되는 문제를 해결할 수 있다. In the curable composition according to an embodiment, by mixing and using a polymerizable compound having a specific structure in a specific weight ratio, it is possible to minimize the curing shrinkage during the thermal process while maintaining the luminance equal to or higher than that of the prior art, so that the cured layer of the thermosetting composition (Resin film) It is possible to solve the problem of interfacial loss or cracks during lamination.

도 1은 일 구현예에 따른 경화성 조성물을 이용하여 제조된 수지막이 적용된 디스플레이 장치(LCD)를 나타낸 모식도이다.1 is a schematic diagram illustrating a display device (LCD) to which a resin film manufactured using a curable composition according to an embodiment is applied.

이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다.  다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, this is provided as an example, and the present invention is not limited thereto, and the present invention is only defined by the scope of the claims to be described later.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, "사이클로알케닐기"란 C3 내지 C20 사이클로알케닐기를 의미하고, "헤테로사이클로알케닐기"란 C3 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고, "아릴알킬기"란 C6 내지 C20 아릴알킬기를 의미하며, "알킬렌기"란 C1 내지 C20 알킬렌기를 의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고, "알킬아릴렌기"란 C6 내지 C20 알킬아릴렌기를 의미하고, "헤테로아릴렌기"란 C3 내지 C20 헤테로아릴렌기를 의미하고, "알콕실렌기"란 C1 내지 C20 알콕실렌기를 의미한다.Unless otherwise specified herein, "alkyl group" means a C1 to C20 alkyl group, "alkenyl group" means a C2 to C20 alkenyl group, "cycloalkenyl group" means a C3 to C20 cycloalkenyl group, , "heterocycloalkenyl group" means a C3 to C20 heterocycloalkenyl group, "aryl group" means a C6 to C20 aryl group, "arylalkyl group" means a C6 to C20 arylalkyl group, "alkylene group" means a C1 to C20 alkylene group, "arylene group" means a C6 to C20 arylene group, "alkylarylene group" means a C6 to C20 alkylarylene group, and "heteroarylene group" means a C3 to C20 hetero It means an arylene group, and "alkoxyylene group" means a C1 to C20 alkoxyylene group.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환"이란 적어도 하나의 수소 원자가 할로겐 원자(F, Cl, Br, I), 히드록시기, C1 내지 C20 알콕시기, 니트로기, 시아노기, 아민기, 이미노기, 아지도기, 아미디노기, 히드라지노기, 히드라조노기, 카르보닐기, 카르바밀기, 티올기, 에스테르기, 에테르기, 카르복실기 또는 그것의 염, 술폰산기 또는 그것의 염, 인산이나 그것의 염, C1 내지 C20 알킬기, C2 내지 C20 알케닐기, C2 내지 C20 알키닐기, C6 내지 C20 아릴기, C3 내지 C20 사이클로알킬기, C3 내지 C20 사이클로알케닐기, C3 내지 C20 사이클로알키닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, C3 내지 C20 헤테로아릴기 또는 이들의 조합의 치환기로 치환된 것을 의미한다.Unless otherwise specified herein, "substitution" means that at least one hydrogen atom is a halogen atom (F, Cl, Br, I), a hydroxy group, a C1 to C20 alkoxy group, a nitro group, a cyano group, an amine group, an imino group, Azido group, amidino group, hydrazino group, hydrazono group, carbonyl group, carbamyl group, thiol group, ester group, ether group, carboxyl group or a salt thereof, sulfonic acid group or a salt thereof, phosphoric acid or a salt thereof, C1 to C20 alkyl group, C2 to C20 alkenyl group, C2 to C20 alkynyl group, C6 to C20 aryl group, C3 to C20 cycloalkyl group, C3 to C20 cycloalkenyl group, C3 to C20 cycloalkynyl group, C2 to C20 heterocycloalkyl group, C2 to C20 heterocycloalkenyl group, C2 to C20 heterocycloalkynyl group, C3 to C20 heteroaryl group, or a combination thereof means substituted with a substituent.

또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "헤테로"란, 화학식 내에 N, O, S 및 P 중 적어도 하나의 헤테로 원자가 적어도 하나 포함된 것을 의미한다.In addition, unless otherwise specified in the present specification, "hetero" means that at least one hetero atom among N, O, S and P is included in the formula.

또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, "(메타)아크릴산"은 "아크릴산"과 "메타크릴산" 둘 다 가능함을 의미한다. In addition, unless otherwise specified herein, "(meth)acrylate" means that both "acrylate" and "methacrylate" are possible, and "(meth)acrylic acid" is "acrylic acid" and "methacrylic acid" “It means that both are possible.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다.Unless otherwise specified herein, "combination" means mixing or copolymerization.

본 명세서에서 카도계 수지란, 하기 화학식 5-1 내지 화학식 5-11로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 관능기가 수지 내 주골격(backbone)에 포함되는 수지를 의미한다.As used herein, the cardo-based resin refers to a resin in which one or more functional groups selected from the group consisting of the following Chemical Formulas 5-1 to 5-11 are included in the backbone of the resin.

본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한, 화학결합이 그려져야 하는 위치에 화학결합이 그려져있지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다.Unless otherwise defined in the chemical formulas in the present specification, when a chemical bond is not drawn at a position where a chemical bond is to be drawn, it means that a hydrogen atom is bonded to the position.

또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "*"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다.In addition, unless otherwise specified in the present specification, "*" means a moiety connected to the same or different atoms or chemical formulas.

일 구현예에 따른 경화성 조성물은 (A) 양자점; (B) 바인더 수지; (C) 제1 중합성 화합물 및 제2 중합성 화합물을 포함하는 중합성 화합물; 및 (D) 용매를 포함하고, 상기 제1 중합성 화합물은 하기 화학식 1-2로 표시되고, 상기 제2 중합성 화합물은 하기 화학식 2로 표시되고, 상기 제1 중합성 화합물 및 제2 중합성 화합물은 5:1 내지 1:1의 중량비로 포함된다. The curable composition according to an embodiment includes (A) quantum dots; (B) binder resin; (C) a polymerizable compound comprising a first polymerizable compound and a second polymerizable compound; and (D) a solvent, wherein the first polymerizable compound is represented by the following Chemical Formula 1-2, the second polymerizable compound is represented by the following Chemical Formula 2, and the first polymerizable compound and the second polymerizable compound The compound is included in a weight ratio of 5:1 to 1:1.

[화학식 1-2][Formula 1-2]

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Figure 112019006689328-pat00007
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[화학식 2][Formula 2]

Figure 112019006689328-pat00008
Figure 112019006689328-pat00008

상기 화학식 1-2 및 화학식 2에서,In Formula 1-2 and Formula 2,

R1은 하기 화학식 3으로 표시되고,R 1 is represented by the following formula (3),

R2는 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 2 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

L1 내지 L12는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,L 1 to L 12 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112019006689328-pat00009
Figure 112019006689328-pat00009

상기 화학식 3에서,In Formula 3,

R3은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이다.R 3 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group.

예컨대, 상기 제1 중합성 화합물 및 제2 중합성 화합물은 3:1 내지 1:1의 중량비, 예컨대 3:1 내지2:1의 중량비로 포함될 수 있다.For example, the first polymerizable compound and the second polymerizable compound may be included in a weight ratio of 3:1 to 1:1, for example, 3:1 to 2:1 by weight.

일 구현예는 최근 디스플레이 분야의 새로운 기술 트렌드로 자리잡고 있는 양자점을 포함하는 경화성 조성물, 예컨대 열경화성 조성물에 관한 것이다. 디스플레이에 적용되는 양자점 함유 경화성 조성물은 기존 경화성 조성물과 같이 바인더 수지, 착색제, 용매, 첨가제 등으로 구성되며, 색특성을 내기 위한 재료로 안료/염료 등의 착색제 대신 양자점을 사용하며, 추가로 광확산제 등을 더 포함할 수 있다.One embodiment relates to a curable composition including quantum dots, such as a thermosetting composition, which has recently been established as a new technological trend in the display field. The quantum dot-containing curable composition applied to the display consists of a binder resin, a colorant, a solvent, an additive, etc. like the existing curable composition, and uses quantum dots instead of colorants such as pigments/dyes as a material to produce color characteristics, and additionally light diffusion It may further include an agent and the like.

CdSe, InP 등으로 대표되는 양자점은 발광효율(Quantum Yield) 면에서 빠르게 발전하여 발광효율이 100%에 가까운 합성법들이 소개되고 있다. 현재 양자점 시트를 적용한 QD SUHDTV가 상품화된 것이 그 예이다. 다음 버전으로 양자점을 기존 LED TV의 컬러 레지스트층에 포함(안료, 염료 배제)시켜 컬러 레지스트층에서 필러링 방식이 아닌 자체 발광 버전으로의 QD TV가 개발되고 있다. 이 양자점 함유 수지 조성물을 적용한 TV 개발의 핵심은 상기 조성물 조성의 패터닝성과 열공정(프리베이킹)-노광-현상-수세-증착 및 열공정(포스트베이킹) 등의 공정에서 양자점의 광 효율을 잘 유지하느냐와 패턴성을 잘 구현하느냐가 제품개발의 key가 되고 있다.Quantum dots represented by CdSe, InP, etc. have rapidly developed in terms of luminous efficiency (Quantum Yield), and synthetic methods with luminous efficiency close to 100% have been introduced. An example is the commercialization of QD SUHDTV to which quantum dot sheets are applied. As the next version, QD TV is being developed as a self-emitting version rather than a filling method in the color resist layer by including quantum dots in the color resist layer of the existing LED TV (pigments and dyes are excluded). The core of TV development to which this quantum dot-containing resin composition is applied is maintaining the patterning properties of the composition and the light efficiency of quantum dots in processes such as thermal processing (pre-baking)-exposure-development-washing-deposition and thermal processing (post-baking). The key to product development is whether to do it or not to implement the pattern well.

그러나 양자점을 기존 LED TV의 컬러 레지스트층에 포함시켜 컬러 레지스트층에서 자체 발광하도록 하는 방식은 비용 측면에서 많이 불리하며, 열공정에서의 수축율을 최소화시키는 데 한계가 있어, 최근 들어 양자점 함유 수지막을 컬러 레지스트층에 포함시키지 않고, 별도의 층인 양자점 시트를 삽입한 후, 청색광(광원)을 상기 양자점 시트에 입사시켜, 이를 백색광으로 변환하는 방식에 대한 연구가 이루어지고 있다. 이 때, 청색광을 백색광으로 변환시켜야 하는 바, 양자점 시트는 녹색 양자점 및 적색 양자점을 모두 포함해야 한다.However, the method of including quantum dots in the color resist layer of the existing LED TV so that the color resist layer emits light is disadvantageous in terms of cost and there is a limit to minimizing the shrinkage rate in the thermal process. After inserting a quantum dot sheet as a separate layer without being included in the resist layer, a blue light (light source) is incident on the quantum dot sheet, and research is being conducted on a method of converting it into white light. At this time, since blue light should be converted into white light, the quantum dot sheet should include both green quantum dots and red quantum dots.

상기 청색광 변환에 핵심적인 기능을 하는 양자점은 소수성 리간드(Hydrophobic ligand)로 둘러싸여 있으며, 이런 소수성을 가지는 양자점이 친수성을 가지는 조성물(예컨대, 에폭시계 바인더 수지 함유 경화성 조성물 등)에 투입되는 경우, 분산성이 떨어지는 문제가 발생하고 있어, 이러한 분산성 문제를 해결하기 위해 양자점 표면의 리간드 치환 및 Passivation 연구가 많이 진행되고 있다. 그러나 양자점 함유 경화성 조성물을 이용한 패터닝 공정은 감도의 현저한 저하를 초래해, 패턴성이 확보가 어렵다는 문제가 있다. The quantum dots, which play a key function in converting blue light, are surrounded by a hydrophobic ligand, and when the quantum dots having such hydrophobic properties are added to a composition having hydrophilicity (eg, a curable composition containing an epoxy-based binder resin, etc.), dispersibility This falling problem is occurring, and in order to solve this dispersibility problem, a lot of research on ligand substitution and passivation on the surface of quantum dots is being conducted. However, the patterning process using the quantum dot-containing curable composition causes a significant decrease in sensitivity, and there is a problem in that it is difficult to ensure patternability.

또한, 양자점 함유 경화성 조성물의 경우 무기입자의 함량이 많아, 상대적으로 유기물의 함량이 낮기 때문에 공정성이 떨어진다. 이로 인해 현상성 저하 뿐만 아니라, 특히 포스트베이킹 공정 시 패턴의 melting 특성 저하로 순방향의 패턴모양을 형성하기가 매우 어렵다. In addition, in the case of the quantum dot-containing curable composition, the content of inorganic particles is large, and since the content of organic matter is relatively low, fairness is deteriorated. Due to this, it is very difficult to form a pattern shape in the forward direction, not only due to deterioration of developability, but also due to deterioration of the melting characteristic of the pattern during the post-baking process.

종래 알려진 포토 레지스트의 언더컷 개선은 카도계 수지처럼 녹는점이 낮은 바인더 수지를 조성물에 적용하여 현상 후 언더컷을 포스트베이킹하거나, 에폭시기를 바인더 수지에 도입하여 프리베이킹 공정에서 밀착력을 강화하는 방법으로 개선하였다. 그러나, 양자점 함유 경화성 조성물은 전술한 대로 무기물 함량이 높아 카도계 수지의 적용만으로 melting 특성이 나타나지 않아 언더컷을 개선하는데 한계가 있으며(양자점 함유 경화성 조성물은 무기물 함량이 높아 포스트베이킹 후에도 melting되지 않는 특성이 있음), 에폭시기가 도입된 바인더 수지는 잔사 특성이 크게 저하되는 문제가 있다. 또한 아크릴계 수지는 조성물 내 양자점의 효율을 저하시키는 하나의 원인이 되는 바, 종래 알려진 아크릴계 수지를 그대로 사용하기도 어렵다.The conventionally known undercut improvement of photoresist is improved by applying a binder resin with a low melting point such as cardo-based resin to the composition to post-baking the undercut after development, or by introducing an epoxy group into the binder resin to enhance adhesion in the pre-baking process. However, the curable composition containing quantum dots has a high mineral content as described above, so melting properties do not appear only by application of cardo-based resin, so there is a limitation in improving undercut (curable compositions containing quantum dots have a high mineral content, so they do not melt even after post-baking. ), the binder resin into which the epoxy group is introduced has a problem in that the residue properties are greatly reduced. In addition, since the acrylic resin is one cause of lowering the efficiency of the quantum dots in the composition, it is difficult to use the conventionally known acrylic resin as it is.

나아가, 종래 양자점 함유 경화성 조성물에 사용되는 바인더 수지인 아크릴계 수지나 에폭시계 바인더 수지는 열경화 공정 시 포스트베이킹 단계에서는 약 15% 내지 20%의 경화 수축율을 보이고, 포스트베이킹 후 추가의 열공정 단계에서는 약 5%의 경화 수축율을 보여, 수지막의 계면 탈락이 일어나는 문제가 있으며, 계면 탈락이 되지 않더라도 수지막 내 크랙이 발생되는 문제가 있다. 이러한 문제점은 에폭시계 바인더 수지의 경우 에폭시 경화 메커니즘 및 에폭시 구조에 의해 양자점의 양자효율 또는 분산성이 저하(전술한 것처럼, 양자점 표면은 소수성인 반면, 에폭시 구조에 의해 형성된 네트워크는 친수성을 가짐)되는데서 기인하며, 아크릴계 수지의 경우 양자점과의 상용성이 있어 양자점의 양자효율 저하 문제는 없으나, 경화 시 분자간 free volum이 너무 크다는데서 기인한다. Furthermore, the acrylic resin or epoxy-based binder resin, which is a binder resin used in the conventional quantum dot-containing curable composition, shows a cure shrinkage of about 15% to 20% in the post-baking step during the thermal curing process, and in an additional thermal process step after post-baking It shows a cure shrinkage of about 5%, so there is a problem in that the interface peeling off of the resin film occurs, and there is a problem in that cracks in the resin film occur even if the interface peeling off does not occur. In the case of an epoxy-based binder resin, quantum efficiency or dispersibility of quantum dots is lowered by an epoxy curing mechanism and an epoxy structure (as described above, the quantum dot surface is hydrophobic, whereas the network formed by the epoxy structure has hydrophilicity) In the case of acrylic resins, there is no problem of lowering quantum efficiency of quantum dots because of compatibility with quantum dots.

그러나 일 구현예에 따르면, 양자점 함유 경화성 조성물 내 중합성 화합물로 상기 화학식 1-2로 표시되는 제1 중합성 화합물과 상기 화학식 2로 표시되는 제2 중합성 화합물을 5:1 내지 1:1의 중량비, 예컨대 3:1 내지 1:1의 중량비, 예컨대 3:1 내지2:1의 중량비로 혼합하여 사용함으로써, 양자점의 양자효율이나 분산도에 부정적인 영향을 미치지 않아 휘도 저하를 방지하면서 동시에 열공정 시 경화 수축율을 최소화함으로써 수지막(경화막)의 막질을 우수하게 유지할 수 있다(즉, 수지막의 계면 탈락, 크랙 발생 등의 문제점을 해결할 수 있다). However, according to one embodiment, as a polymerizable compound in the quantum dot-containing curable composition, the first polymerizable compound represented by Formula 1-2 and the second polymerizable compound represented by Formula 2 are mixed in a ratio of 5:1 to 1:1. By using a mixture in a weight ratio, for example, 3:1 to 1:1, for example, 3:1 to 2:1, it does not negatively affect quantum efficiency or dispersion of quantum dots, thereby preventing luminance degradation and at the same time thermal process By minimizing the curing shrinkage during curing, it is possible to maintain excellent film quality of the resin film (cured film) (that is, problems such as interfacial separation of the resin film and cracks can be solved).

이하에서 각 성분에 대하여 구체적으로 설명한다.Hereinafter, each component will be described in detail.

(A) 양자점(A) Quantum dots

상기 양자점은 360nm 내지 780nm의 파장영역, 예컨대 400nm 내지 780nm의 파장영역의 광을 흡수하여, 500nm 내지 700nm의 파장영역, 예컨대 500nm 내지 580nm에서 형광을 방출하거나, 600nm 내지 680nm에서 형광을 방출할 수 있다. 즉, 상기 양자점은 500nm 내지 680nm에서 최대형광 발광파장(fluorescence λem)을 가질 수 있다.The quantum dots absorb light in a wavelength region of 360 nm to 780 nm, for example, 400 nm to 780 nm, and emit fluorescence in a wavelength region of 500 nm to 700 nm, such as 500 nm to 580 nm, or emit fluorescence in 600 nm to 680 nm. . That is, the quantum dots may have a maximum fluorescence emission wavelength (fluorescence λ em ) at 500 nm to 680 nm.

상기 양자점은 각각 독립적으로 20nm 내지 100nm, 예컨대 20nm 내지 50nm의 반치폭(Full width at half maximum; FWHM)을 가질 수 있다. 상기 양자점이 상기 범위의 반치폭을 가질 경우, 색순도가 높음에 따라, 컬러필터 내 색재료로 사용 시 색재현율이 높아지는 효과가 있다.The quantum dots may each independently have a full width at half maximum (FWHM) of 20 nm to 100 nm, for example, 20 nm to 50 nm. When the quantum dot has a full width at half maximum in the above range, as the color purity is high, when used as a color material in a color filter, color gamut is increased.

상기 양자점은 각각 독립적으로 유기물이거나 무기물 또는 유기물과 무기물의 하이브리드(혼성물)일 수 있다.The quantum dots may each independently be an organic material or an inorganic material or a hybrid (hybrid material) of an organic material and an inorganic material.

상기 양자점은 각각 독립적으로 코어 및 상기 코어를 감싸는 쉘로 구성될 수 있으며, 상기 코어 및 쉘은 각각 독립적으로 II-IV족, III-V족 등으로 이루어진 코어, 코어/쉘, 코어/제1쉘/제2쉘, 합금, 합금/쉘 등의 구조를 가질 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.The quantum dots may each independently consist of a core and a shell surrounding the core, wherein the core and the shell are each independently made of a group II-IV, group III-V, etc., a core, a core/shell, a core/first shell/ It may have a structure such as a second shell, an alloy, an alloy/shell, and the like, but is not limited thereto.

예컨대, 상기 코어는 CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgTe, GaN, GaP, GaAs, InP, InAs 및 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 물질을 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 코어를 둘러싼 쉘은 CdSe, ZnSe, ZnS, ZnTe, CdTe, PbS, TiO, SrSe, HgSe 및 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 물질을 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. For example, the core may include at least one material selected from the group consisting of CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgTe, GaN, GaP, GaAs, InP, InAs, and alloys thereof. , but is not necessarily limited thereto. The shell surrounding the core may include at least one material selected from the group consisting of CdSe, ZnSe, ZnS, ZnTe, CdTe, PbS, TiO, SrSe, HgSe, and alloys thereof, but is not necessarily limited thereto.

일 구현예에서는, 최근 전 세계적으로 환경에 대한 관심이 크게 증가하고 유독성 물질에 대한 규제가 강화되고 있으므로, 카드뮴계 코어를 갖는 발광물질을 대신하여, 양자 효율(quantum yield)은 다소 낮지만 친환경적인 비카드뮴계 발광소재(InP/ZnS)를 사용하였으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.In one embodiment, since interest in the environment has recently increased significantly around the world and regulations on toxic substances are being strengthened, instead of a light emitting material having a cadmium-based core, quantum yield is somewhat low, but eco-friendly Although a non-cadmium-based light emitting material (InP/ZnS) was used, it is not necessarily limited thereto.

상기 양자점의 구조는 특별하게 한정되지 않으나, 상기 코어/쉘 구조의 양자점의 경우, 쉘을 포함한 전체 양자점 각각의 크기(평균 입경)는 1nm 내지 15nm, 예컨대 5nm 내지 15nm 일 수 있다. The structure of the quantum dot is not particularly limited, but in the case of the quantum dot having the core/shell structure, the size (average particle diameter) of each quantum dot including the shell may be 1 nm to 15 nm, for example 5 nm to 15 nm.

예컨대, 상기 양자점은 적색 양자점, 녹색 양자점 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 예컨대, 상기 양자점은 녹색 양자점 및 적색 양자점을 모두 포함할 수 있다. 이 때, 상기 녹색 양자점은 상기 적색 양자점보다 많은 함량으로 포함될 수 있다. 상기 적색 양자점은 10nm 내지 15nm의 평균 입경을 가질 수 있다. 상기 녹색 양자점은 5nm 내지 8nm의 평균 입경을 가질 수 있다.For example, the quantum dots may include red quantum dots, green quantum dots, or a combination thereof. For example, the quantum dots may include both green quantum dots and red quantum dots. In this case, the green quantum dot may be included in an amount greater than that of the red quantum dot. The red quantum dots may have an average particle diameter of 10 nm to 15 nm. The green quantum dots may have an average particle diameter of 5 nm to 8 nm.

한편, 상기 양자점의 분산안정성을 위해, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 분산제를 더 포함할 수도 있다. 상기 분산제는 양자점과 같은 광변환 물질이 경화성 조성물 내에서 균일하게 분산되도록 도와주며, 비이온성, 음이온성 또는 양이온성 분산제 모두를 사용할 수 있다. 구체적으로는 폴리알킬렌 글리콜 또는 이의 에스테르류, 폴리옥시 알킬렌, 다가 알코올 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올 알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산 에스테르, 술폰산 염, 카르복시산 에스테르, 카르복시산 염, 알킬 아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 사용할 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 상기 분산제는 양자점과 같은 광변환 물질의 고형분 대비 0.1 중량% 내지 100 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 20 중량%로 사용될 수 있다.On the other hand, for the dispersion stability of the quantum dots, the photosensitive resin composition according to an embodiment may further include a dispersing agent. The dispersing agent helps to uniformly disperse a light conversion material such as quantum dots in the curable composition, and any nonionic, anionic or cationic dispersant may be used. Specifically, polyalkylene glycol or esters thereof, polyoxyalkylene, polyhydric alcohol ester alkylene oxide adduct, alcohol alkylene oxide adduct, sulfonic acid ester, sulfonic acid salt, carboxylic acid ester, carboxylic acid salt, alkyl amide alkylene oxide Adducts, alkyl amines, etc. may be used, and these may be used alone or in combination of two or more. The dispersant may be used in an amount of 0.1 wt% to 100 wt%, such as 10 wt% to 20 wt%, based on the solid content of the light conversion material such as quantum dots.

예컨대, 상기 양자점은 일 구현예에 따른 경화성 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 40 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 상기 양자점이 상기 범위 내로 포함될 경우, 광변환률이 우수하며 패턴 특성과 현상 특성을 저해하지 않고, 우수한 공정성을 가질 수 있다.For example, the quantum dots may be included in an amount of 1 wt% to 40 wt%, such as 1 wt% to 20 wt%, based on the total amount of the curable composition according to an embodiment. When the quantum dots are included within the above range, the light conversion rate is excellent, the pattern characteristics and the development characteristics are not impaired, and excellent processability may be obtained.

(B) 바인더 수지(B) binder resin

상기 바인더 수지는 아크릴계 수지, 카도계 수지 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. The binder resin may include an acrylic resin, a cardo-based resin, or a combination thereof.

상기 아크릴계 수지는 제1 에틸렌성 불포화 단량체 및 이와 공중합 가능한 제2 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체로, 하나 이상의 아크릴계 반복단위를 포함하는 수지일 수 있다.The acrylic resin is a copolymer of a first ethylenically unsaturated monomer and a second ethylenically unsaturated monomer copolymerizable therewith, and may be a resin including one or more acrylic repeating units.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 하나 이상의 카르복시기를 함유하는 에틸렌성 불포화 단량체이며, 이의 구체적인 예로는 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산 또는 이들의 조합을 들 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer is an ethylenically unsaturated monomer containing at least one carboxyl group, and specific examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, or a combination thereof.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 상기 아크릴계 수지 총량에 대하여 5 중량% 내지 50 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer may be included in an amount of 5 wt% to 50 wt%, for example 10 wt% to 40 wt%, based on the total amount of the acrylic resin.

상기 제2 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 비닐벤질메틸에테르 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시 부틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 에스테르 화합물; 2-아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 아미노 알킬 에스테르 화합물; 초산비닐, 안식향산 비닐 등의 카르복시산 비닐 에스테르 화합물; 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 글리시딜 에스테르 화합물; (메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The second ethylenically unsaturated monomer may be an aromatic vinyl compound such as styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene or vinylbenzylmethyl ether; Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, unsaturated carboxylic acid ester compounds such as cyclohexyl (meth)acrylate and phenyl (meth)acrylate; unsaturated carboxylic acid amino alkyl ester compounds such as 2-aminoethyl (meth)acrylate and 2-dimethylaminoethyl (meth)acrylate; Carboxylic acid vinyl ester compounds, such as vinyl acetate and a vinyl benzoate; unsaturated carboxylic acid glycidyl ester compounds such as glycidyl (meth)acrylate; Vinyl cyanide compounds, such as (meth)acrylonitrile; unsaturated amide compounds such as (meth)acrylamide; and the like, and these may be used alone or in combination of two or more.

상기 아크릴계 수지의 구체적인 예로는 폴리벤질메타크릴레이트, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들을 단독 또는 2종 이상을 배합하여 사용할 수도 있다.  Specific examples of the acrylic resin include polybenzyl methacrylate, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate copolymer, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate/styrene copolymer, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate/2 -Hydroxyethyl methacrylate copolymer, (meth)acrylic acid / benzyl methacrylate / styrene / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, etc. may be mentioned, but are not limited thereto, and these may be used alone or in two or more types. may be used in combination.

상기 아크릴계 수지의 중량평균 분자량은 5,000 g/mol 내지 15,000g/mol 일 수 있다. 상기 아크릴계 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우, 기판과의 밀착성이 우수하고 물리적, 화학적 물성이 좋으며, 점도가 적절하다.The weight average molecular weight of the acrylic resin may be 5,000 g/mol to 15,000 g/mol. When the weight average molecular weight of the acrylic resin is within the above range, the adhesion to the substrate is excellent, the physical and chemical properties are good, and the viscosity is appropriate.

상기 아크릴계 수지의 산가는 80 mgKOH/g 내지 130 mgKOH/g 일 수 있다. 상기 아크릴계 수지의 산가가 상기 범위 내일 경우 픽셀 패턴의 해상도가 우수하다.The acrylic resin may have an acid value of 80 mgKOH/g to 130 mgKOH/g. When the acid value of the acrylic resin is within the above range, the resolution of the pixel pattern is excellent.

상기 카도계 수지는 하기 화학식 5로 표시되는 반복단위를 포함할 수 있다.The cardo-based resin may include a repeating unit represented by the following Chemical Formula 5.

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112019006689328-pat00010
Figure 112019006689328-pat00010

상기 화학식 5에서,In Formula 5,

R11 및 R12은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 (메타)아크릴로일옥시 알킬기이고,R 11 and R 12 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted (meth)acryloyloxy alkyl group,

R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, R 13 and R 14 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

Z1은 단일결합, O, CO, SO2, CR17R18, SiR19R20(여기서, R17 내지 R20은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기임) 또는 하기 화학식 5-1 내지 화학식 5-11로 표시되는 연결기 중 어느 하나이고,Z 1 is a single bond, O, CO, SO 2 , CR 17 R 18 , SiR 19 R 20 (wherein R 17 to R 20 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group) or Any one of the linking groups represented by Formulas 5-1 to 5-11,

[화학식 5-1][Formula 5-1]

Figure 112019006689328-pat00011
Figure 112019006689328-pat00011

[화학식 5-2][Formula 5-2]

Figure 112019006689328-pat00012
Figure 112019006689328-pat00012

[화학식 5-3][Formula 5-3]

Figure 112019006689328-pat00013
Figure 112019006689328-pat00013

[화학식 5-4][Formula 5-4]

Figure 112019006689328-pat00014
Figure 112019006689328-pat00014

[화학식 5-5][Formula 5-5]

Figure 112019006689328-pat00015
Figure 112019006689328-pat00015

(상기 화학식 5-5에서,(In Formula 5-5,

Ra는 수소 원자, 에틸기, C2H4Cl, C2H4OH, CH2CH=CH2 또는 페닐기이다.)R a is a hydrogen atom, an ethyl group, C 2 H 4 Cl, C 2 H 4 OH, CH 2 CH=CH 2 or a phenyl group.)

[화학식 5-6][Formula 5-6]

Figure 112019006689328-pat00016
Figure 112019006689328-pat00016

[화학식 5-7][Formula 5-7]

Figure 112019006689328-pat00017
Figure 112019006689328-pat00017

[화학식 5-8][Formula 5-8]

Figure 112019006689328-pat00018
Figure 112019006689328-pat00018

[화학식 5-9][Formula 5-9]

Figure 112019006689328-pat00019
Figure 112019006689328-pat00019

[화학식 5-10][Formula 5-10]

Figure 112019006689328-pat00020
Figure 112019006689328-pat00020

[화학식 5-11][Formula 5-11]

Figure 112019006689328-pat00021
Figure 112019006689328-pat00021

Z2는 산무수물 잔기이고,Z 2 is an acid anhydride residue,

t1 및 t2는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이다.t1 and t2 are each independently an integer of 0 to 4.

상기 카도계 수지의 중량평균 분자량은 500 g/mol 내지 50,000 g/mol, 예컨대 1,000 g/mol 내지 30,000 g/mol 일 수 있다. 상기 카도계 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우 감광성 유기막 제조 시 잔사 없이 패턴 형성이 잘되며, 현상 시 막두께의 손실이 없고, 양호한 패턴을 얻을 수 있다.The weight average molecular weight of the cardo-based resin may be 500 g/mol to 50,000 g/mol, for example, 1,000 g/mol to 30,000 g/mol. When the weight average molecular weight of the cardo-based resin is within the above range, a pattern can be formed without a residue when the photosensitive organic film is manufactured, there is no loss of film thickness during development, and a good pattern can be obtained.

상기 카도계 수지는 양 말단 중 적어도 하나에 하기 화학식 6으로 표시되는 관능기를 포함할 수 있다.The cardo-based resin may include a functional group represented by the following Chemical Formula 6 at at least one of both terminals.

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112019006689328-pat00022
Figure 112019006689328-pat00022

상기 화학식 6에서,In Formula 6,

Z3은 하기 화학식 6-1 내지 화학식 6-7로 표시될 수 있다.Z 3 may be represented by the following Chemical Formulas 6-1 to 6-7.

[화학식 6-1][Formula 6-1]

Figure 112019006689328-pat00023
Figure 112019006689328-pat00023

(상기 화학식 6-1에서, Rb 및 Rc는 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 에스테르기 또는 에테르기이다.)(In Formula 6-1, R b and R c are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, an ester group, or an ether group.)

[화학식 6-2][Formula 6-2]

Figure 112019006689328-pat00024
Figure 112019006689328-pat00024

[화학식 6-3][Formula 6-3]

Figure 112019006689328-pat00025
Figure 112019006689328-pat00025

[화학식 6-4][Formula 6-4]

Figure 112019006689328-pat00026
Figure 112019006689328-pat00026

[화학식 6-5][Formula 6-5]

Figure 112019006689328-pat00027
Figure 112019006689328-pat00027

(상기 화학식 6-5에서, Rd는 O, S, NH, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, C1 내지 C20 알킬아민기 또는 C2 내지 C20 알케닐아민기이다.)(In Formula 6-5, R d is O, S, NH, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, C1 to C20 alkylamine group, or C2 to C20 alkenylamine group.)

[화학식 6-6][Formula 6-6]

Figure 112019006689328-pat00028
Figure 112019006689328-pat00028

[화학식 6-7][Formula 6-7]

Figure 112019006689328-pat00029
Figure 112019006689328-pat00029

상기 카도계 수지는 예컨대, 9,9-비스(4-옥시라닐메톡시페닐)플루오렌 등의 플루오렌 함유 화합물; 벤젠테트라카르복실산 디무수물, 나프탈렌테트라카르복실산 디무수물, 비페닐테트라카르복실산 디무수물, 벤조페논테트라카르복실산 디무수물, 피로멜리틱 디무수물, 사이클로부탄테트라카르복실산 디무수물, 페릴렌테트라카르복실산 디무수물, 테트라히드로푸란테트라카르복실산 디무수물, 테트라하이드로프탈산 무수물 등의 무수물 화합물; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜 등의 글리콜 화합물; 메탄올, 에탄올, 프로판올, n-부탄올, 사이클로헥산올, 벤질알코올 등의 알코올 화합물; 프로필렌글리콜 메틸에틸아세테이트, N-메틸피롤리돈 등의 용매류 화합물; 트리페닐포스핀 등의 인 화합물; 및 테트라메틸암모늄 클로라이드, 테트라에틸암모늄 브로마이드, 벤질디에틸아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 벤질트리에틸암모늄 클로라이드 등의 아민 또는 암모늄염 화합물 중에서 둘 이상을 혼합하여 제조할 수 있다.The cardo-based resin may include, for example, a fluorene-containing compound such as 9,9-bis(4-oxiranylmethoxyphenyl)fluorene; Benzenetetracarboxylic acid dianhydride, naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride, biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, benzophenonetetracarboxylic acid dianhydride, pyromellitic dianhydride, cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, phenol anhydride compounds such as rylenetetracarboxylic acid dianhydride, tetrahydrofurantetracarboxylic acid dianhydride, and tetrahydrophthalic anhydride; glycol compounds such as ethylene glycol, propylene glycol, and polyethylene glycol; alcohol compounds such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol, cyclohexanol, and benzyl alcohol; solvent compounds such as propylene glycol methylethyl acetate and N-methylpyrrolidone; phosphorus compounds such as triphenylphosphine; and amine or ammonium salt compounds such as tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, benzyldiethylamine, triethylamine, tributylamine, and benzyltriethylammonium chloride.

상기 바인더 수지가 카도계 수지를 포함할 경우, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물의 현상성이 우수하고, 광경화 시 감도가 좋아 미세 패턴 형성성이 우수하다.When the binder resin includes a cardo-based resin, the developability of the photosensitive resin composition including the binder resin is excellent, and the sensitivity during photocuring is good, so that it is excellent in fine pattern formation.

상기 바인더 수지는 티올기를 포함할 수 있다. The binder resin may include a thiol group.

상기 바인더 수지는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 40 중량%, 예컨대 3 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함되는 경우 우수한 감도, 현상성, 해상도 및 패턴의 직진성을 얻을 수 있다.The binder resin may be included in an amount of 1 wt% to 40 wt%, for example 3 wt% to 20 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the binder resin is included within the above range, excellent sensitivity, developability, resolution, and straightness of the pattern can be obtained.

(C) 중합성 화합물(C) polymerizable compound

일 구현예에 따른 경화성 조성물은 중합성 화합물을 포함하며, 상기 중합성 화합물은 서로 다른구조를 가지는 제1 중합성 화합물 및 제2 중합성 화합물을 포함하며, 상기 제1 중합성 화합물은 상기 화학식 1-2로 표시되고, 상기 제2 중합성 화합물은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 제1 중합성 화합물 및 제2 중합성 화합물은 5:1 내지 1:1의 중량비로 포함될 수 있다.The curable composition according to an embodiment includes a polymerizable compound, the polymerizable compound includes a first polymerizable compound and a second polymerizable compound having different structures, and the first polymerizable compound is in Formula 1 -2, the second polymerizable compound may be represented by Formula 2, and the first polymerizable compound and the second polymerizable compound may be included in a weight ratio of 5:1 to 1:1.

예컨대, 상기 제1 중합성 화합물 및 제2 중합성 화합물은 3:1 내지 1:1, 예컨대 3:1 내지 2:1의 중량비로 포함될 수 있다.For example, the first polymerizable compound and the second polymerizable compound may be included in a weight ratio of 3:1 to 1:1, such as 3:1 to 2:1.

한편, 일 구현예에 따른 경화성 조성물은 종래의 경화성 조성물에 일반적으로 사용되는 모노머 또는 올리고머를 더 포함할 수도 있다.Meanwhile, the curable composition according to the exemplary embodiment may further include a monomer or oligomer generally used in a conventional curable composition.

상기 중합성 화합물은 보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다.The polymerizable compound may be used after treatment with an acid anhydride in order to provide better developability.

상기 중합성 화합물은 경화성 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 상기 중합성 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 경화가 충분히 일어나 신뢰성이 우수하며, 패턴의 내열성, 내광성, 내화학성, 해상도 및 밀착성 또한 우수하다.The polymerizable compound may be included in an amount of 0.1 wt% to 20 wt%, such as 1 wt% to 10 wt%, based on the total amount of the curable composition. When the polymerizable compound is included within the above range, curing occurs sufficiently in the pattern forming process, and reliability is excellent, and heat resistance, light resistance, chemical resistance, resolution and adhesion of the pattern are also excellent.

(D) 용매(D) solvent

일 구현예에 따른 경화성 조성물은 용매로 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 에틸렌 글리콜 메틸에테르, 에틸렌 글리콜 에틸에테르, 프로필렌 글리콜 메틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 디에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 셀로솔브 아세테이트류; 메틸에틸 카르비톨, 디에틸 카르비톨, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산 에틸, 초산-n-부틸, 초산 이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 메틸 락테이트, 에틸 락테이트 등의 락트산 알킬 에스테르류; 메틸 히드록시아세테이트, 에틸 히드록시아세테이트, 부틸 히드록시아세테이트 등의 히드록시아세트산 알킬 에스테르류; 메톡시메틸 아세테이트, 메톡시에틸 아세테이트, 메톡시부틸 아세테이트, 에톡시메틸 아세테이트, 에톡시에틸 아세테이트 등의 아세트산 알콕시알킬 에스테르류; 메틸 3-히드록시프로피오네이트, 에틸 3-히드록시프로피오네이트 등의 3-히드록시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 메틸 3-에톡시프로피오네이트 등의 3-알콕시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-히드록시프로피오네이트, 에틸 2-히드록시프로피오네이트, 프로필 2-히드록시프로피오네이트 등의 2-히드록시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-메톡시프로피오네이트, 에틸 2-메톡시프로피오네이트, 에틸 2-에톡시프로피오네이트, 메틸 2-에톡시프로피오네이트 등의 2-알콕시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-히드록시-2-메틸프로피오네이트, 에틸 2-히드록시-2-메틸프로피오네이트 등의 2-히드록시-2-메틸프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-메톡시-2-메틸프로피오네이트, 에틸 2-에톡시-2-메틸프로피오네이트 등의 2-알콕시-2-메틸프로피온산 알킬 에스테르류; 2-히드록시에틸 프로피오네이트, 2-히드록시-2-메틸에틸 프로피오네이트, 히드록시에틸 아세테이트, 메틸 2-히드록시-3-메틸부타노에이트 등의 에스테르류; 또는 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류의 화합물이 있으며, 또한 N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐리드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산 벤질, 안식향산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레인산 디에틸, γ부티로락톤, 에틸렌 카보네이트, 프로필렌 카보네이트, 페닐 셀로솔브 아세테이트, 사이클로헥실 아세테이트 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The curable composition according to an embodiment may include, as a solvent, alcohols such as methanol and ethanol; glycol ethers such as ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, and propylene glycol methyl ether; cellosolve acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, and diethyl cellosolve acetate; carbitols such as methylethyl carbitol, diethyl carbitol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether; propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, methyl-n-propyl ketone, methyl-n-butyl ketone, methyl-n-amyl ketone, and 2-heptanone ; saturated aliphatic monocarboxylic acid alkyl esters such as ethyl acetate, -n-butyl acetate, and isobutyl acetate; lactic acid alkyl esters such as methyl lactate and ethyl lactate; hydroxyacetic acid alkyl esters such as methyl hydroxyacetate, ethyl hydroxyacetate, and butyl hydroxyacetate; acetic acid alkoxyalkyl esters such as methoxymethyl acetate, methoxyethyl acetate, methoxybutyl acetate, ethoxymethyl acetate, and ethoxyethyl acetate; 3-hydroxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-hydroxypropionate and ethyl 3-hydroxypropionate; 3-alkoxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, and methyl 3-ethoxypropionate; 2-hydroxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate and propyl 2-hydroxypropionate; 2-alkoxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate and methyl 2-ethoxypropionate; 2-hydroxy-2-methylpropionic acid alkyl esters such as methyl 2-hydroxy-2-methylpropionate and ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate; 2-alkoxy-2-methylpropionic acid alkyl esters such as methyl 2-methoxy-2-methylpropionate and ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate; esters such as 2-hydroxyethyl propionate, 2-hydroxy-2-methylethyl propionate, hydroxyethyl acetate, and methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate; or ketonic acid esters such as ethyl pyruvate, and also N-methylformamide, N,N-dimethylformamide, N-methylformanilide, N-methylacetamide, and N,N-dimethylacetamide. , N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetylacetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, benzoic acid Ethyl, diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, phenyl cellosolve acetate, cyclohexyl acetate, etc. may be used, but are not limited thereto.

예컨대, 상기 용매는 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌디글리콜메틸에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 에틸렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 2-히드록시 프로피온산 에틸 등의 에스테르류; 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 에탄올 등의 알코올류, 사이클로헥실 아세테이트 또는 이들의 조합을 사용하는 것이 바람직하다.For example, the solvent may include glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether and ethylenediglycol methylethyl ether; ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate; esters such as ethyl 2-hydroxypropionate; carbitols such as diethylene glycol monomethyl ether; propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate; It is preferable to use alcohols such as ethanol, cyclohexyl acetate, or a combination thereof.

예컨대, 상기 용매는 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 디프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 사이클로헥실 아세테이트, 에탄올, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌디글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디메틸아세트아미드, 2-부톡시에탄올, N-메틸피롤리딘, N-에틸피롤리딘, 프로필렌 카보네이트, γ-부티로락톤 또는 이들의 조합을 포함하는 극성 용매일 수 있다.For example, the solvent is propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, cyclohexyl acetate, ethanol, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene diglycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, dimethyl acetamide, 2-part The polar solvent may include oxyethanol, N-methylpyrrolidine, N-ethylpyrrolidine, propylene carbonate, γ-butyrolactone, or a combination thereof.

상기 용매는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부량으로 포함될 수 있으며, 예컨대 20 중량% 내지 80 중량%, 예컨대 35 중량% 내지 80 중량%로 포함될 수 있다. 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 경화성 조성물이 적절한 점도를 가짐에 따라 스핀 코팅 및 슬릿을 이용한 대면적 코팅 시 우수한 코팅성을 가질 수 있다. The solvent may be included in a balance based on the total amount of the photosensitive resin composition, for example, 20 wt% to 80 wt%, for example 35 wt% to 80 wt%. When the solvent is included within the above range, since the curable composition has an appropriate viscosity, it may have excellent coatability during spin coating and large-area coating using a slit.

확산제 (또는 확산제 분산액)Diffuser (or Diffuser Dispersion)

일 구현예에 따른 경화성 조성물은 확산제를 더 포함할 수 있다.The curable composition according to an embodiment may further include a diffusing agent.

예컨대, 상기 확산제는 황산바륨(BaSO4), 탄산칼슘(CaCO3), 이산화티타늄(TiO2), 지르코니아(ZrO2) 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.For example, the diffusing agent may include barium sulfate (BaSO 4 ), calcium carbonate (CaCO 3 ), titanium dioxide (TiO 2 ), zirconia (ZrO 2 ), or a combination thereof.

상기 확산제는 전술한 양자점에 흡수되지 않은 광을 반사시키고, 상기 반사된 광을 양자점이 다시 흡수할 수 있도록 한다. 즉, 상기 확산제는 양자점에 흡수되는 광의 양을 증가시켜, 경화성 조성물의 광변환 효율을 증가시킬 수 있다.The diffusing agent reflects light not absorbed by the quantum dots, and enables the quantum dots to absorb the reflected light again. That is, the diffusing agent may increase the amount of light absorbed by the quantum dots, thereby increasing the light conversion efficiency of the curable composition.

상기 확산제는 평균 입경(D50)이 150nm 내지 250nm 일 수 있으며, 구체적으로는 180nm 내지 230nm일 수 있다. 상기 확산제의 평균 입경이 상기 범위 내일 경우, 보다 우수한 광확산 효과를 가질 수 있으며, 광변환 효율을 증가시킬 수 있다.The diffusing agent may have an average particle diameter (D 50 ) of 150 nm to 250 nm, specifically 180 nm to 230 nm. When the average particle diameter of the diffusing agent is within the above range, a more excellent light diffusion effect may be obtained, and light conversion efficiency may be increased.

상기 확산제는 상기 경화성 조성물 총량에 대해 고형분 기준으로 0.1 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 0.1 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 상기 확산제가 상기 경화성 조성물 총량에 대해 0.1 중량% 미만으로 포함될 경우, 확산제를 사용함에 따른 광변환 효율 향상 효과를 기대하기가 어렵고, 20 중량%를 초과하여 포함할 경우에는 패턴특성이 저하될 우려가 있다The dispersing agent may be included in an amount of 0.1 wt% to 20 wt%, for example, 0.1 wt% to 5 wt%, based on the solid content, based on the total amount of the curable composition. When the diffusing agent is included in an amount of less than 0.1% by weight based on the total amount of the curable composition, it is difficult to expect an effect of improving the light conversion efficiency by using the diffusing agent, and when it is included in an amount exceeding 20% by weight, the pattern characteristics may be deteriorated there is

기타 첨가제other additives

상기 양자점의 안정성 및 분산성 향상을 위해, 일 구현예에 따른 경화성 조성물은 티올(thiol)계 첨가제를 더 포함할 수 있다.In order to improve the stability and dispersibility of the quantum dots, the curable composition according to an embodiment may further include a thiol-based additive.

상기 티올계 첨가제는 상기 양자점의 쉘 표면에 치환되어, 용매에 대한 양자점의 분산 안정성을 향상시켜, 양자점을 안정화시킬 수 있다.The thiol-based additive may be substituted on the shell surface of the quantum dots to improve the dispersion stability of the quantum dots to a solvent, thereby stabilizing the quantum dots.

상기 티올계 첨가제는 그 구조에 따라 말단에 2개 내지 10개, 예컨대 2개 내지 4개의 티올기(-SH)를 가질 수 있다. The thiol-based additive may have 2 to 10, for example, 2 to 4 thiol groups (-SH) at the terminal depending on the structure thereof.

예컨대, 상기 티올계 첨가제는 말단에 하기 화학식 4로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함할 수 있다.For example, the thiol-based additive may include at least two or more functional groups represented by the following Chemical Formula 4 at the terminal thereof.

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112019006689328-pat00030
Figure 112019006689328-pat00030

상기 화학식 4에서,In Formula 4,

L13 및 L14는 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴렌기이다.L 13 and L 14 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkylene group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 arylene group, or a substituted or unsubstituted It is a C2 to C20 heteroarylene group.

예컨대, 상기 티올계 첨가제의 구체적인 예로는 하기 화학식 4a로 표시되는 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)(pentaerythritol tetrakis(3-mercaptopropionate)),하기 화학식 4b로 표시되는 트리메틸올프로판 트리스(3-머캅토프로피오네이트)(trimethylolpropane tris(3-mercaptopropionate)), 하기 화학식 4c로 표시되는 펜타에리트리톨 테트라키스(머캅토아세테이트)Pentaerythritol tetrakis(mercaptoacetate), 하기 화학식 4d로 표시되는 트리메틸올프로판 트리스(2-머캅토아세테이트)(trimethylolpropane tris(2-mercaptoacetate)), 하기 화학식 4e로 표시되는 글리콜 디-3-머캅토프로피오네이트(Glycol di-3-mercaptopropionate) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 들 수 있다.For example, specific examples of the thiol-based additive include pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate) represented by the following Chemical Formula 4a, and trimethylolpropane tris represented by the following Chemical Formula 4b. (3-mercaptopropionate) (trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate)), pentaerythritol tetrakis (mercapto acetate) represented by the following formula 4c Pentaerythritol tetrakis (mercaptoacetate), trimethylolpropane represented by the following formula 4d From the group consisting of tris (2-mercaptoacetate) (trimethylolpropane tris (2-mercaptoacetate)), glycol di-3-mercaptopropionate (Glycol di-3-mercaptopropionate) represented by the following formula 4e, and combinations thereof Any one selected can be mentioned.

[화학식 4a][Formula 4a]

Figure 112019006689328-pat00031
Figure 112019006689328-pat00031

[화학식 4b][Formula 4b]

Figure 112019006689328-pat00032
Figure 112019006689328-pat00032

[화학식 4c][Formula 4c]

Figure 112019006689328-pat00033
Figure 112019006689328-pat00033

[화학식 4d][Formula 4d]

Figure 112019006689328-pat00034
Figure 112019006689328-pat00034

[화학식 4e][Formula 4e]

Figure 112019006689328-pat00035
Figure 112019006689328-pat00035

상기 티올계 첨가제는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 0.1 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 예컨대, 상기 티올계 첨가제는 감광성 수지 조성물을 구성하는 고형분 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 0.5 중량% 내지 8 중량%로 포함될 수 있다. 티올계 첨가제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 양자점 등의 광변환 물질의 안정성을 향상시킬 수 있으며, 성분 내 티올기가 수지 또는 단량체의 아크릴기와 반응하여 공유결합을 형성함으로써 양자점과 같은 광변환 물질의 내열성 향상 효과도 가질 수 있다.The thiol-based additive may be included in an amount of 0.1 wt% to 10 wt%, such as 0.1 wt% to 5 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition. For example, the thiol-based additive may be included in an amount of 0.1 wt% to 10 wt%, for example 0.5 wt% to 8 wt%, based on the total amount of solids constituting the photosensitive resin composition. When the thiol-based additive is included within the above range, the stability of the light conversion material such as quantum dots can be improved, and the thiol group in the component reacts with the acrylic group of the resin or monomer to form a covalent bond, thereby improving the heat resistance of the light conversion material such as quantum dots may have an effect.

일 구현예에 따른 경화성 조성물은 하이드로퀴논계 화합물, 카테콜계 화합물 또는 이들의 조합을 포함하는 중합 억제제를 더 포함할 수 있다. 일 구현예에 따른 경화성 조성물이 상기 하이드로퀴논계 화합물, 카테콜계 화합물 또는 이들의 조합을 더 포함함에 따라, 경화성 조성물을 인쇄(코팅) 후, 노광하는 동안 상온 가교를 방지할 수 있다.The curable composition according to an embodiment may further include a polymerization inhibitor including a hydroquinone-based compound, a catechol-based compound, or a combination thereof. As the curable composition according to an embodiment further includes the hydroquinone-based compound, the catechol-based compound, or a combination thereof, it is possible to prevent crosslinking at room temperature during exposure after printing (coating) the curable composition.

예컨대, 상기 하이드로퀴논계 화합물, 카테콜계 화합물 또는 이들의 조합은 하이드로퀴논, 메틸 하이드로퀴논, 메톡시하이드로퀴논, t-부틸 하이드로퀴논, 2,5-디-t-부틸 하이드로퀴논, 2,5-비스(1,1-디메틸부틸) 하이드로퀴논, 2,5-비스(1,1,3,3-테트라메틸부틸) 하이드로퀴논, 카테콜, t-부틸 카테콜, 4-메톡시페놀, 피로가롤, 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀, 2-나프톨, 트리스(N-하이드록시-N-니트로소페닐아미나토-O,O')알루미늄(Tris(N-hydroxy-N-nitrosophenylaminato-O,O')aluminium) 또는 이들의 조합을 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the hydroquinone-based compound, catechol-based compound, or a combination thereof is hydroquinone, methyl hydroquinone, methoxyhydroquinone, t-butyl hydroquinone, 2,5-di- t -butyl hydroquinone, 2,5- Bis(1,1-dimethylbutyl) hydroquinone, 2,5-bis(1,1,3,3-tetramethylbutyl) hydroquinone, catechol, t-butyl catechol, 4-methoxyphenol, pyroga Rol, 2,6-di- t -butyl-4-methylphenol, 2-naphthol, tris(N-hydroxy-N-nitrosophenylaminato-O,O')aluminum (Tris(N-hydroxy-N) -nitrosophenylaminato-O,O')aluminium) or a combination thereof, but is not necessarily limited thereto.

상기 하이드로퀴논계 화합물, 카테콜계 화합물 또는 이들의 조합은 분산액의 형태로 사용될 수 있으며, 상기 분산액 형태의 중합 억제제는 경화성 조성물 총량에 대하여 0.001 중량% 내지 1 중량%, 예컨대 0.01 중량% 내지 0.1 중량%로 포함될 수 있다. 안정제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 상온 경시 문제를 해결함과 동시에, 감도 저하 및 표면 박리 현상을 방지할 수 있다.The hydroquinone-based compound, the catechol-based compound, or a combination thereof may be used in the form of a dispersion, and the polymerization inhibitor in the dispersion form is 0.001 wt% to 1 wt%, such as 0.01 wt% to 0.1 wt%, based on the total amount of the curable composition can be included as When the stabilizer is included within the above range, it is possible to solve the problem of aging at room temperature and, at the same time, to prevent a decrease in sensitivity and a surface peeling phenomenon.

일 구현예에 따른 경화성 조성물은 상기 티올계 첨가제, 중합 억제제 외에 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.The curable composition according to an embodiment may include malonic acid in addition to the thiol-based additive and polymerization inhibitor; 3-amino-1,2-propanediol; silane-based coupling agent; leveling agent; fluorine-based surfactants; Or it may further include a combination thereof.

예컨대, 경화성 조성물은 기판과의 밀착성 등을 개선하기 위해 비닐기, 카르복실기, 메타크릴옥시기, 이소시아네이트기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 갖는 실란계 커플링제를 더 포함할 수 있다.For example, the curable composition may further include a silane-based coupling agent having a reactive substituent such as a vinyl group, a carboxyl group, a methacryloxy group, an isocyanate group, and an epoxy group in order to improve adhesion to the substrate.

상기 실란계 커플링제의 예로는, 트리메톡시실릴 벤조산, γ메타크릴 옥시프로필 트리메톡시실란, 비닐 트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, γ이소시아네이트 프로필 트리에톡시실란, γ글리시독시 프로필 트리메톡시실란, β에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. Examples of the silane coupling agent include trimethoxysilyl benzoic acid, γ methacryl oxypropyl trimethoxysilane, vinyl triacetoxysilane, vinyl trimethoxysilane, γ isocyanate propyl triethoxysilane, γ glycidoxy propyl and trimethoxysilane and β-epoxycyclohexyl)ethyl trimethoxysilane, and these may be used alone or in combination of two or more.

상기 실란계 커플링제는 상기 경화성 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 실란계 커플링제가 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다. The silane-based coupling agent may be included in an amount of 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the curable composition. When the silane-based coupling agent is included within the above range, adhesion and storage properties are excellent.

또한 상기 경화성 조성물은 필요에 따라 코팅성 향상 및 결점 생성 방지 효과를 위해 계면 활성제, 예컨대 불소계 계면활성제를 더 포함할 수 있다. In addition, if necessary, the curable composition may further include a surfactant, such as a fluorine-based surfactant, to improve coating properties and prevent formation of defects.

상기 불소계 계면활성제로는, BM Chemie社의 BM-1000®, BM-1100® 등; 다이 닛폰 잉키 가가꾸 고교(주)社의 메카 팩 F 142D®, 동 F 172®, 동 F 173®, 동 F 183® 등; 스미토모 스리엠(주)社의 프로라드 FC-135®, 동 FC-170C®, 동 FC-430®, 동 FC-431® 등; 아사히 그라스(주)社의 사프론 S-112®, 동 S-113®, 동 S-131®, 동 S-141®, 동 S-145® 등; 도레이 실리콘(주)社의 SH-28PA®, 동-190®, 동-193®, SZ-6032®, SF-8428® 등; DIC(주)社의 F-482, F-484, F-478, F-554 등의 명칭으로 시판되고 있는 불소계 계면활성제를 사용할 수 있다.As the fluorine-based surfactant, BM-1000 ® of BM Chemie, BM-1100 ® , etc.; Mecha Pack F 142D ® , F 172 ® , F 173 ® , F 183 ® and the like of Dai Nippon Inky Chemical High School Co., Ltd.; Sumitomo 3M Co., Ltd.'s Prorad FC-135 ® , copper FC-170C ® , copper FC-430 ® , copper FC-431 ® , etc.; Saffron S-112 ® , Copper S-113 ® , S-131 ® , S-141 ® , S-145 ® from Asahi Grass Co., Ltd., etc.; SH-28PA ® , Copper-190 ® , Copper-193 ® , SZ-6032 ® , SF-8428 ® , etc. of Toray Silicone Co., Ltd.; F-482, F-484, F-478, F-554 commercially available fluorine-based surfactants of DIC Co., Ltd. may be used.

상기 불소계 계면활성제는 상기 경화성 조성물 100 중량부에 대하여 0.001 중량부 내지 5 중량부로 사용될 수 있다. 상기 불소계 계면활성제가 상기 범위 내로 포함될 경우 코팅 균일성이 확보되고, 얼룩이 발생하지 않으며, 유리 기판에 대한 습윤성(wetting)이 우수하다.The fluorine-based surfactant may be used in an amount of 0.001 parts by weight to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the curable composition. When the fluorine-based surfactant is included within the above range, coating uniformity is secured, stains do not occur, and wettability to a glass substrate is excellent.

또한 상기 경화성 조성물은 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 산화방지제, 안정제 등의 기타 첨가제가 일정량 더 첨가될 수도 있다.In addition, a certain amount of other additives such as antioxidants and stabilizers may be further added to the curable composition within a range that does not impair physical properties.

다른 일 구현예는 전술한 경화성 조성물을 이용하여 제조된 수지막을 제공한다. Another embodiment provides a resin film prepared using the above-described curable composition.

상기 수지막의 제조 방법은 전술한 경화성 조성물을 기판 위에 잉크젯 분사 방법으로 도포하여 패턴을 형성하는 단계(S1); 및 상기 패턴을 경화하는 단계(S2)를 포함한다.The manufacturing method of the resin film includes the steps of forming a pattern by applying the above-described curable composition to a substrate by an inkjet spraying method (S1); and curing the pattern (S2).

(S1) 패턴을 형성하는 단계(S1) forming a pattern

상기 경화성 조성물은 잉크젯 분산 방식으로 0.5 내지 10 ㎛의 두께로 기판 위에 도포하는 것이 바람직하다. 상기 잉크젯 분사는 단일 컬러만 분사하여 필요한 색의 수에 따라 반복적으로 분사함으로써 패턴을 형성할 수 있으며, 공정을 줄이기 위하여 필요한 색의 수를 동시에 분사하는 방식으로 패턴을 형성할 수도 있다.The curable composition is preferably applied on the substrate in a thickness of 0.5 to 10 μm by an inkjet dispersion method. In the inkjet jetting, a pattern may be formed by jetting only a single color and repeatedly jetting according to the required number of colors, or a pattern may be formed by simultaneously jetting the required number of colors in order to reduce the process.

(S2) 경화하는 단계(S2) curing step

상기 수득된 패턴을 경화시켜 경화 수지막을 얻을 수 있다. 이때 경화시키는 방법으로는 열경화 공정이 바람직하다. 상기 열경화 공정은 약 100℃ 이상의 온도로 약 3분 간 가열하여 경화성 조성물 내 용매를 먼저 제거한 후, 이어서 160℃내지 300℃의 온도로 가열하여 경화시키는 공정일 수 있으며, 조금 더 바람직하게는 180℃ 내지 250℃의 온도로 약 30분 간 가열하여 경화시키는 공정일 수 있다.A cured resin film can be obtained by curing the obtained pattern. At this time, as a method of hardening, a thermosetting process is preferable. The thermosetting process may be a process of heating at a temperature of about 100° C. or higher for about 3 minutes to first remove the solvent in the curable composition, and then curing it by heating at a temperature of 160° C. to 300° C., more preferably 180 It may be a process of curing by heating at a temperature of ℃ to 250 ℃ for about 30 minutes.

또 다른 일 구현예는 상기 수지막을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.Another embodiment provides a display device including the resin film.

상기 디스플레이 장치는 컬러필터 및 액정층을 더 포함하고, 상기 액정층 일 측면에는 상기 컬러필터가 위치하고, 상기 액정층의 다른 일 측면에는 상기 수지막이 위치할 수 있다.The display device may further include a color filter and a liquid crystal layer, the color filter may be positioned on one side of the liquid crystal layer, and the resin film may be positioned on the other side of the liquid crystal layer.

도 1을 참고하면, 상기 디스플레이 장치는 액정층(3)을 기준으로 컬럼스페이서에 의해 컬러필터가 존재하는 컬러 레지스트층(6, 7, 8)과 일 구현예에 따른 경화성 조성물을 이용하여 제조된 수지막(2)이 대향하여 위치한다. 컬러 레지스트층(6, 7, 8) 및 액정층(3) 사이에 오버코팅층(4)이 더 존재할 수 있고, 컬러 레지스트층(6, 7, 8) 및 오버코팅층(4) 일면에는 글래스(5)가 존재할 수 있다. 글래스(5)는 액정층(3)과 대향하는 방향에 위치할 수 있다. 그리고 상기 수지막 일면에는 실리카 증착층(미도시)이 존재할 수 있으며, 상기 실리카 증착층은 광원(Blue LED)으로부터 도광판(1)을 통해 청색광을 흡수한다. 도 1에 따른 디스플레이 장치는 양자점(9, 10)을 함유하는 층(수지막)(2)이 컬러 레지스트층(6, 7, 8)과 별도의 층으로 구성되기 때문에, 양자점의 양자효율 저하를 방지할 수 있다. 또한, 상기 도광판(1)은 PMMA 도광판이 아닌, 유리 도광판일 수 있다. 유리 도광판(1)을 PMMA 도광판 대신 사용함으로써 패널의 두께를 얇게할 수 있어, 휘도 개선 효과를 기대할 수 있다. Referring to FIG. 1 , the display device is manufactured using color resist layers 6 , 7 , 8 , in which a color filter is present by a column spacer based on a liquid crystal layer 3 , and a curable composition according to an embodiment. The resin films 2 are positioned to face each other. An overcoat layer 4 may further exist between the color resist layers 6 , 7 , 8 and the liquid crystal layer 3 , and a glass 5 on one surface of the color resist layers 6 , 7 , 8 and the overcoat layer 4 . ) may exist. The glass 5 may be positioned in a direction opposite to the liquid crystal layer 3 . In addition, a silica deposition layer (not shown) may be present on one surface of the resin film, and the silica deposition layer absorbs blue light from a light source (Blue LED) through the light guide plate 1 . In the display device according to FIG. 1, since the layer (resin film) 2 containing the quantum dots 9 and 10 is configured as a separate layer from the color resist layers 6, 7, 8, the quantum efficiency of the quantum dots is reduced. can be prevented Also, the light guide plate 1 may be a glass light guide plate, not a PMMA light guide plate. By using the glass light guide plate 1 instead of the PMMA light guide plate, the thickness of the panel can be reduced, so that the luminance improvement effect can be expected.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다. 다만, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. However, the following examples are only preferred examples of the present invention, and the present invention is not limited by the following examples.

(경화성 조성물 제조)(Preparation of curable composition)

실시예 1 내지 실시예 5 및 비교예 1 내지 비교예 5Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5

하기 언급된 구성성분들을 이용하여 하기 표 1에 나타낸 조성으로 각 실시예 1 내지 실시예 5 및 비교예 1 내지 비교예 5에 따른 경화성 조성물을 제조하였다.Curable compositions according to Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5 were prepared with the compositions shown in Table 1 by using the components mentioned below.

(A) 양자점(A) Quantum dots

(A-1) InP/ZnS 양자점 (fluorescence λem=635nm, FWHM=40nm, Red QD, 한솔케미칼)(A-1) InP/ZnS quantum dots (fluorescence λ em =635nm, FWHM=40nm, Red QD, Hansol Chemical)

(A-2) InP/ZnS 양자점 (fluorescence λem=538nm, FWHM=40nm, Green QD, 한솔케미칼)(A-2) InP/ZnS quantum dots (fluorescence λ em =538nm, FWHM=40nm, Green QD, Hansol Chemical)

(B) 바인더 수지(B) binder resin

카도계 수지 (TB04, 타코마社) Cardo-based resin (TB04, Tacoma)

(C) 중합성 화합물(C) polymerizable compound

(C-1) V1000 (Osaka Organic Chemical Industry Ltd.)(C-1) V1000 (Osaka Organic Chemical Industry Ltd.)

(C-2) DPCA-120 (NIKKA FINE TECHNO. CO., LTD.)(C-2) DPCA-120 (NIKKA FINE TECHNO. CO., LTD.)

(C-3) M240 (Miwon Specialty Chemical Co.,Ltd.)(C-3) M240 (Miwon Specialty Chemical Co., Ltd.)

(C-4) M360 (Miwon Specialty Chemical Co.,Ltd.)(C-4) M360 (Miwon Specialty Chemical Co., Ltd.)

(C-5) 디펜타에리트리톨헥사메타크릴레이트(DPHA, NIKKA FINE TECHNO. CO., LTD.)(C-5) dipentaerythritol hexamethacrylate (DPHA, NIKKA FINE TECHNO. CO., LTD.)

(D) 용매(D) solvent

프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트(PGMEA, Daicel Chemical社) Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA, Daicel Chemical)

(E) 확산제(E) diffusion agent

이산화티탄 분산액 (TiO2 고형분 20 중량%, 평균입경: 200nm, 디토테크놀로지㈜)Titanium dioxide dispersion (TiO 2 solid content 20% by weight, average particle diameter: 200nm, Dito Technology Co., Ltd.)

(F) 기타 첨가제(F) other additives

불소계 계면활성제 (F-554, DIC社)Fluorine surfactant (F-554, DIC)

(단위: 중량%)(Unit: % by weight) 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 실시예 5Example 5 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 비교예 4Comparative Example 4 비교예 5Comparative Example 5 (A) 양자점(A) Quantum dots (A-1)(A-1) 1.21.2 1.21.2 1.21.2 1.21.2 1.21.2 1.21.2 1.21.2 1.21.2 1.21.2 1.21.2 (A-2)(A-2) 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 (B) 바인더 수지(B) binder resin 1515 1515 1515 1515 1515 1515 1515 1515 1515 1515 (C) 중합성 화합물(C) polymerizable compound (C-1)(C-1) 55 -- -- -- 44 -- -- -- -- -- (C-2)(C-2) -- 55 44 33 -- -- -- -- 5.25.2 2.52.5 (C-3)(C-3) -- -- -- -- -- -- 55 -- -- -- (C-4)(C-4) -- -- -- -- -- -- -- 55 -- -- (C-5)(C-5) 1One 1One 22 33 22 66 1One 1One 0.80.8 3.53.5 (D) 용매(D) solvent 75.575.5 75.575.5 75.575.5 75.575.5 75.575.5 75.575.5 75.575.5 75.575.5 75.575.5 75.575.5 (E) 확산제(E) diffusion agent 1.51.5 1.51.5 1.51.5 1.51.5 1.51.5 1.51.5 1.51.5 1.51.5 1.51.5 1.51.5 (F) 기타 첨가제(F) other additives 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5

평가: 조성물의 경화 수축율 및 휘도 평가Evaluation: Evaluation of curing shrinkage and luminance of the composition

실시예 1 내지 실시예 5 및 비교예 1 내지 비교예 5에서 제조된 경화성 조성물을 각각 15ml씩 취해, 유리 기판 위에 스핀 코팅기(Mikasa社, Opticoat MS-A150)를 사용하여 약 10 ㎛ 두께로 코팅한 후, 열판(hot-plate)을 이용하여 100℃에서 3분 동안 프리베이킹(PRB)을 하고, 이어서 포스트베이킹을 2단계(POB I, POB II)로 나누어 진행(180℃, N2, 30분)한 후, 각 단계별 두께를 두께 측정기(Tencor)로 측정해 수축율을 계산하였다. 또한, POB I 후에 447nm BLU 상에서 CAS spectrometer를 이용하여 휘도를 측정하였다. 구체적으로 수축율은 PRB 후와 POB-I 후 각각의 단막 두께를 측정하여, 수축하는 비율을 확인한 값이다. 상기 측정 결과를 하기 표 2에 나타내었다. 15 ml of each of the curable compositions prepared in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5 were taken and coated on a glass substrate to a thickness of about 10 μm using a spin coater (Mikasa, Opticoat MS-A150). Afterwards, pre-baking (PRB) was performed at 100° C. for 3 minutes using a hot-plate, followed by post-baking divided into two steps (POB I, POB II) (180° C., N 2 , 30 minutes) ), the thickness of each step was measured with a thickness measuring instrument (Tencor) to calculate the shrinkage rate. In addition, the luminance was measured using a CAS spectrometer on a 447 nm BLU after POB I. Specifically, the shrinkage ratio is a value confirming the shrinkage ratio by measuring the thickness of each single film after PRB and after POB-I. The measurement results are shown in Table 2 below.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 실시예 5Example 5 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 비교예 4Comparative Example 4 비교예 5Comparative Example 5 수축율 (%)Shrinkage (%) 5.35.3 5.15.1 4.84.8 4.94.9 5.25.2 13.413.4 6.36.3 6.56.5 5.75.7 5.95.9 휘도 (%)Luminance (%) 9797 9898 9898 9898 9898 9797 9898 9898 9797 9797

상기 표 2에서 보는 바와 같이, 실시예 1 내지 실시예 5의 경우, 비교예 1 내지 비교예 5와 비교하여 동등 수준 이상의 휘도를 가지면서, 경화 수축율이 낮음을 확인할 수 있다. 특히, 실시예 3 및 실시예 4의 경우 휘도가 우수하면서 동시에 경화 수축율 또한 가장 낮음을 확인할 수 있다. As shown in Table 2, in the case of Examples 1 to 5, it can be confirmed that compared to Comparative Examples 1 to 5, while having a luminance equal to or higher than that of Comparative Examples 5, the cure shrinkage rate is low. In particular, in the case of Examples 3 and 4, it can be seen that the luminance is excellent and the cure shrinkage rate is also the lowest.

본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.  그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.The present invention is not limited to the above embodiments, but can be manufactured in various different forms, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can take other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. It will be understood that it can be implemented as Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive.

1 도광판
2 일 구현예에 따른 수지막
3 액정층
4 오버코팅층
5 글래스
6 청색 컬러레지스트
7 녹색 컬러레지스트
8 적색 컬러레지스트
9 녹색 양자점
10 적색 양자점
1 light guide plate
Resin film according to the second embodiment
3 liquid crystal layer
4 overcoat layer
5 glass
6 blue color resist
7 green color resist
8 red color resist
9 green quantum dots
10 red quantum dots

Claims (15)

(A) 양자점;
(B) 카도계 수지를 포함하는 바인더 수지;
(C) 제1 중합성 화합물 및 제2 중합성 화합물을 포함하는 중합성 화합물; 및
(D) 용매
를 포함하고,
상기 제1 중합성 화합물은 하기 화학식 1-2로 표시되고,
상기 제2 중합성 화합물은 하기 화학식 2로 표시되고,
상기 제1 중합성 화합물 및 제2 중합성 화합물은 3:1 내지 1:1의 중량비로 포함되는 경화성 조성물:
[화학식 1-2]
Figure 112022003685404-pat00037

[화학식 2]
Figure 112022003685404-pat00038

상기 화학식 1-2 및 화학식 2에서,
R1은 하기 화학식 3으로 표시되고,
R2는 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
L1 내지 L12는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,
[화학식 3]
Figure 112022003685404-pat00039

상기 화학식 3에서,
R3은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이다.
(A) quantum dots;
(B) a binder resin comprising a cardo-based resin;
(C) a polymerizable compound comprising a first polymerizable compound and a second polymerizable compound; and
(D) solvent
including,
The first polymerizable compound is represented by the following formula 1-2,
The second polymerizable compound is represented by the following formula (2),
A curable composition comprising the first polymerizable compound and the second polymerizable compound in a weight ratio of 3:1 to 1:1:
[Formula 1-2]
Figure 112022003685404-pat00037

[Formula 2]
Figure 112022003685404-pat00038

In Formula 1-2 and Formula 2,
R 1 is represented by the following formula (3),
R 2 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
L 1 to L 12 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
[Formula 3]
Figure 112022003685404-pat00039

In Formula 3,
R 3 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 바인더 수지는 500 g/mol 내지 50,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가지는 경화성 조성물.
According to claim 1,
The binder resin is a curable composition having a weight average molecular weight of 500 g / mol to 50,000 g / mol.
제1항에 있어서,
상기 양자점은 360 nm 내지 780nm의 광을 흡수해, 500nm 내지 700nm에서 형광을 방출하는 양자점인 경화성 조성물.
According to claim 1,
The quantum dot absorbs light of 360 nm to 780 nm, and the curable composition is a quantum dot that emits fluorescence at 500 nm to 700 nm.
제1항에 있어서,
상기 양자점은 녹색 양자점 및 적색 양자점을 포함하는 경화성 조성물.
According to claim 1,
The quantum dot is a curable composition comprising a green quantum dot and a red quantum dot.
제1항에 있어서,
상기 용매는 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 디프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 사이클로헥실 아세테이트, 에탄올, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌디글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디메틸아세트아미드, 2-부톡시에탄올, N-메틸피롤리딘, N-에틸피롤리딘, 프로필렌 카보네이트, γ-부티로락톤 또는 이들의 조합을 포함하는 경화성 조성물.
According to claim 1,
The solvent is propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, cyclohexyl acetate, ethanol, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene diglycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, dimethyl acetamide, 2-butoxyethanol , N-methylpyrrolidine, N-ethylpyrrolidine, propylene carbonate, γ-butyrolactone, or a combination thereof.
제1항에 있어서,
상기 경화성 조성물은 확산제를 더 포함하는 경화성 조성물.
According to claim 1,
The curable composition further comprises a diffusing agent.
제8항에 있어서,
상기 확산제는 상기 경화성 조성물 총량에 대해 0.1 중량% 내지 20 중량%로 포함되는 경화성 조성물.
9. The method of claim 8,
The curable composition comprising the dispersing agent in an amount of 0.1 wt% to 20 wt% based on the total amount of the curable composition.
제8항에 있어서,
상기 확산제는 황산바륨, 탄산칼슘, 이산화티타늄, 지르코니아 또는 이들의 조합을 포함하는 경화성 조성물.
9. The method of claim 8,
The dispersing agent is a curable composition comprising barium sulfate, calcium carbonate, titanium dioxide, zirconia, or a combination thereof.
제1항에 있어서,
상기 경화성 조성물은 티올계 첨가제를 더 포함하는 경화성 조성물.
According to claim 1,
The curable composition further comprises a thiol-based additive.
제1항에 있어서,
상기 경화성 조성물은 상기 경화성 조성물 총량에 대해, 상기 양자점 1 중량% 내지 40 중량%, 상기 바인더 수지 1 중량% 내지 40 중량%, 상기 중합성 화합물 0.1 중량% 내지 20 중량% 및 상기 용매 잔부량을 포함하는 경화성 조성물.
According to claim 1,
The curable composition includes 1 wt% to 40 wt% of the quantum dots, 1 wt% to 40 wt% of the binder resin, 0.1 wt% to 20 wt% of the polymerizable compound, and the remaining amount of the solvent with respect to the total amount of the curable composition A curable composition.
제1항에 있어서,
상기 경화성 조성물은 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 또는 이들의 조합을 더 포함하는 경화성 조성물.
According to claim 1,
The curable composition comprises malonic acid; 3-amino-1,2-propanediol; silane-based coupling agent; leveling agent; fluorine-based surfactants; Or a curable composition further comprising a combination thereof.
제1항 및 제4항 내지 제13항 중 어느 한 항의 경화성 조성물을 이용하여 제조된 수지막.
A resin film prepared by using the curable composition of any one of claims 1 and 4 to 13.
제14항의 수지막을 포함하는 디스플레이 장치. A display device comprising the resin film of claim 14 .
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AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant