KR102358617B1 - High efficiency ict-type non-degradable odor gas treatment and carbon neutrality deodorizing system - Google Patents

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김석만
문남구
강성희
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Abstract

Provided is a non-degradable odor gas treatment and carbon neutrality deodorizing system. An embodiment of the present invention comprises: a first scrubber which firstly removes odor from odorous gas introduced from the outside; a second scrubber which is provided in an upper part of the first scrubber, and secondly removes the odor from the odorous gas introduced by passing through the first scrubber; and a third scrubber which is provided in an upper part of the second scrubber and thirdly removes the odor from the odorous gas introduced by passing through the second scrubber. Since a microbubble melting unit is provided in the first scrubber, the odor in the odorous gas introduced inside the first scrubber can be removed. Since a fog spraying unit for spraying water at a predetermined temperature or lower is provided in the third scrubber, the odor in the odorous gas introduced inside the third scrubber can be removed.

Description

고효율 ICT형 특수 구조 탈취기 개발로 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템{HIGH EFFICIENCY ICT-TYPE NON-DEGRADABLE ODOR GAS TREATMENT AND CARBON NEUTRALITY DEODORIZING SYSTEM}Development of high-efficiency ICT-type special structure deodorizer to treat incombustible odor gas and carbon neutralize deodorization system {HIGH EFFICIENCY ICT-TYPE NON-DEGRADABLE ODOR GAS TREATMENT AND CARBON NEUTRALITY DEODORIZING SYSTEM}

본 발명은 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 이산화탄소와 악취를 효과적으로 제거하도록 이루어진 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a non-decomposable malodor gas treatment and carbon neutralization deodorization system, and more particularly, to a non-decomposable malodor gas treatment and carbon neutralization deodorization system configured to effectively remove carbon dioxide and odors.

공공 하수분뇨처리장과 석유화학공장 및 정유공장 등에서는 고농도의 악취가스가 배출된다. 이러한 악취가스는 난분해성 가스로 별도의 처리과정없이 직접 배출될 경우, 대기 환경을 오염시킨다.A high concentration of odorous gas is emitted from public sewage waste treatment plants, petrochemical plants, and oil refineries. Such odor gas is a non-decomposable gas, and when directly discharged without a separate treatment process, it pollutes the air environment.

따라서, 소각 설비인 RTO, RCO, VCU 및 세정 흡수 설비인 약액 세정탑(Chemical Scrubber)을 통해 해당 악취가스를 정화시킨 상태에서 정화된 가스를 외부로 배출시키고 있다.Therefore, the purified gas is discharged to the outside while the odor gas is purified through RTO, RCO, VCU, which is an incineration facility, and a chemical scrubber, which is a cleaning absorption facility.

그러나 소각 설비인 RTO, RCO, VCU는 운전비 및 연료비가 고가이고, 가끔 역화(Back Fire)에 의한 폭발사고가 발생되는 문제가 있다. 이와 같은 폭발사고는 인명피해 및 재산피해를 발생시킬 수 있다.However, RTO, RCO, and VCU, which are incineration facilities, have high operating and fuel costs, and there is a problem that explosion accidents occur occasionally due to back fire. Such an explosion can cause personal injury and property damage.

그리고 세정 흡수 설비인 약액 세정탑은 고농도의 난용성 악취가스 처리에 한계가 있다. 이러한 약액 세정탑을 통해 악취가스를 처리하는 경우, 복수개의 약액 세정탑을 직렬로 배치한 상태에서 각각의 약액 세정탑으로 악취가스를 단계적으로 이동시켜, 악취가스를 정화시킨다. 그러나 이와 같은 종래의 약액 세정탑을 통해 악취가스를 정화시키는 경우, 악취가스의 악취 제거 효율이 떨어지고 VOC(휘발성유기화합물) 가스 및 THC(총탄화수소)는 난용성 가스라 처리하는데 문제가 있다.In addition, the chemical cleaning tower, which is a cleaning and absorption facility, has a limitation in processing high concentration of poorly soluble odor gas. When the odor gas is treated through the chemical cleaning tower, the odor gas is purged by moving the odor gas step by step to each chemical cleaning tower in a state in which a plurality of chemical cleaning towers are arranged in series. However, when purifying the odor gas through the conventional chemical cleaning tower, there is a problem in that the odor removal efficiency of the odor gas decreases and the VOC (volatile organic compound) gas and the THC (total hydrocarbon) gas are poorly soluble gases.

또한, 종래의 약액 세정탑은 복수개의 약액 세정탑을 직렬로 배치한 상태에서 악취가스를 정화처리하는 구조로, 복수개의 약액 세정탑을 직렬로 설치할 수 있는 공간이 필요하고 또한 설비 투자비가 가중되어야 설치가 가능하다. 이러한 종래의 약액 세정탑은 설치에 있어, 공간적 제약 및 투자비의 가중이 따른다.In addition, the conventional chemical cleaning tower has a structure that purifies odor gas in a state in which a plurality of chemical cleaning towers are arranged in series. Installation is possible. Such a conventional chemical cleaning tower is subject to space restrictions and weighting of investment costs in installation.

그리고 최근 지구 온난화로 인한 이상 기후 문제가 심각하다. 이러한 지구 온난화의 주범은 이산화탄소의 배출이다. 이에, 악취를 제거함과 동시에 이산화탄소도 함께 제거하도록 이루어진 탈취 시스템에 대한 다양한 연구 개발이 필요하다.In addition, the problem of abnormal climate caused by global warming is serious. The main culprit of such global warming is the emission of carbon dioxide. Accordingly, there is a need for various research and development on a deodorization system configured to remove odor and simultaneously remove carbon dioxide.

선행문헌 1 : 한국등록특허 제10-1362064호(2014.01.29)Prior Document 1: Korean Patent No. 10-1362064 (2014.01.29)

상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 기술적 과제는, 이산화탄소와 악취를 효과적으로 제거하도록 이루어진 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템을 제공하는 것이다.An object of the present invention for solving the above problems is to provide a system for treating a decomposable odor gas and neutralizing carbon to effectively remove carbon dioxide and odors.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 외부로부터 유입된 악취가스에 대해 1차로 악취를 제거하는 제1 스크러버; 상기 제1 스크러버의 상부에 마련되며, 상기 제1 스크러버를 경유하여 유입된 악취가스에 대해 2차로 악취를 제거하는 제2 스크러버; 및 상기 제2 스크러버의 상부에 마련되며, 상기 제2 스크러버를 경유하여 유입된 악취가스에 대해 3차로 악취를 제거하는 제3 스크러버를 포함하며, 상기 제1 스크러버에는 마이크로 버블 용해부가 구비되어, 상기 제1 스크러버 내부로 유입된 악취가스 내 악취를 제거하고, 상기 제3 스크러버에는 미리 정해진 온도 이하의 물을 분무하는 안개 분무부가 구비되어, 상기 제3 스크러버 내부로 유입된 악취가스 내 악취를 제거하는 것인 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템을 제공한다.In order to achieve the above technical object, an embodiment of the present invention provides a first scrubber for primarily removing malodorous gas introduced from the outside; a second scrubber provided on an upper portion of the first scrubber and configured to secondarily remove malodorous gas introduced through the first scrubber; and a third scrubber that is provided on the second scrubber and tertiarily removes malodor from the malodorous gas introduced through the second scrubber, wherein the first scrubber is provided with a microbubble dissolving unit, Removes odors in the malodorous gas introduced into the first scrubber, and the third scrubber is provided with a mist spraying unit for spraying water below a predetermined temperature to remove odors in the malodorous gas introduced into the third scrubber It provides a non-decomposable malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 제1 스크러버는, 외부로부터 악취가스가 유입되는 유입관이 구비되며, 내부에 수용 공간부가 형성된 제1 세정탑; 상기 제1 세정탑의 내측 하부에 구비되며, 상기 제1 세정탑의 하부에 수용된 물과 약액이 혼합된 제1 세정액으로 상기 유입관을 통해 유입된 악취가스를 용해시키는 마이크로 버블 용해부; 상기 제1 세정탑의 상부에 구비되며, 하부로 상기 제1 세정액을 분사하는 제1 분사 노즐; 상기 제1 분사 노즐과 마이크로 버블 용해부 사이에 배치되며, 상기 마이크로 버블 용해부를 경유한 악취가스와 상기 제1 분사 노즐로부터 분사되는 상기 제1 세정액과의 접촉 면적을 넓히도록 이루어진 제1 폴링부; 및 상기 제1 분사 노즐의 상부에 구비되며, 상기 제1 세정탑의 상단부로 이동된 악취가스를 상기 제2 스크러버로 균일하게 분배 공급하는 제1 가스 분배기 갓을 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the first scrubber includes: a first washing tower having an inlet pipe through which odor gas is introduced from the outside, and having a receiving space therein; a microbubble dissolving unit provided at an inner lower portion of the first washing tower and dissolving the malodorous gas introduced through the inlet pipe into a first washing solution in which water and a chemical liquid contained in the lower portion of the first washing tower are mixed; a first spray nozzle provided on an upper portion of the first cleaning tower and spraying the first cleaning liquid to a lower portion; a first palling unit disposed between the first spray nozzle and the microbubble dissolving unit and configured to increase a contact area between the odor gas passing through the microbubble dissolving unit and the first cleaning liquid sprayed from the first jetting nozzle; and a first gas distributor cap provided above the first spray nozzle and uniformly distributing and supplying the malodorous gas moved to the upper end of the first scrubber to the second scrubber.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 제1 스크러버는, 외부로부터 상기 유입관으로 악취가스를 공급하는 공급펌프; 상기 공급펌프와 유입관 사이에 구비되는 연결관; 상기 제1 세정탑의 일측 하단부에 연통되며, 공급수 제공부로부터 물을 공급받는 제1 리시버 탱크; 상기 제1 리시버 탱크로 제1 약액을 공급하는 제1 약액 탱크; 상기 제1 리시버 탱크 내 상기 제1 세정액의 PH 농도를 측정하는 제1 PH 센서; 일단은 상기 제1 리시버 탱크에 연결되고, 타단은 상기 제1 분사 노즐에 연결되어, 상기 제1 세정액을 상기 제1 분사 노즐로 공급하는 제1 순환 공급부; 및 상기 제1 순환 공급부 상에 구비되는 제1 순환펌프를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the first scrubber, a supply pump for supplying the odor gas from the outside to the inlet pipe; a connection pipe provided between the supply pump and the inlet pipe; a first receiver tank communicating with the lower end of one side of the first washing tower and receiving water from a supply water supply unit; a first chemical liquid tank for supplying a first chemical liquid to the first receiver tank; a first PH sensor for measuring the PH concentration of the first cleaning solution in the first receiver tank; a first circulation supply unit having one end connected to the first receiver tank and the other end connected to the first spray nozzle to supply the first cleaning solution to the first spray nozzle; and a first circulation pump provided on the first circulation supply unit.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 마이크로 버블 용해부는, 상기 제1 세정액이 수용되는 세정액 저장 공간을 마련하며, 하부에는 상기 유입관을 통해 유입된 악취가스를 상기 세정액 저장 공간으로 공급하는 복수개의 버블 발생홀이 형성된 버블 플레이트; 및 상기 버블 플레이트와 이격 배치되며, 상기 유입관으로 유입된 악취가스를 상기 버블 발생홀로 안내하는 가이드 플레이트를 포함하며, 상기 버블 플레이트와 가이드 플레이트는 테이퍼지게 형성되되, 상기 가이드 플레이트는 상기 버블 발생홀이 형성된 상기 버블 플레이트의 하부로 갈수록 상기 버블 플레이트와의 간격이 좁아지도록 테이퍼질 수 있다.In one embodiment of the present invention, the microbubble dissolving unit provides a cleaning liquid storage space in which the first cleaning liquid is accommodated, and a plurality of odor gases introduced through the inlet pipe are supplied to the cleaning liquid storage space at a lower portion of the microbubble dissolving unit. a bubble plate having a bubble generating hole; and a guide plate spaced apart from the bubble plate and guiding the odor gas introduced into the inlet pipe to the bubble generating hole, wherein the bubble plate and the guide plate are tapered, and the guide plate is the bubble generating hole The bubble plate may be tapered toward a lower portion of the formed bubble plate such that the gap with the bubble plate becomes narrower.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 제3 스크러버는, 제3 세정탑; 상기 제3 세정탑의 상부에 구비되며, 하부로 미리 정해진 온도 이하의 제3 세정액을 분무하는 안개 분무부; 상기 안개 분무부의 하부에 구비되며, 상기 안개 분무부로부터 분무되는 물과 악취가스의 접촉 면적을 넓히도록 이루어진 제3 폴링부; 상기 안개 분무부와 제3 폴링부 사이에 구비되며, 상기 제3 폴링부를 경유한 악취가스의 이동거리가 길어지도록 악취가스의 이동경로를 안내하며, 복수개의 타공이 형성된 가스충돌 분배부; 상기 안개 분무부의 상부에 구비되며, 상기 제3 세정탑의 상단부로 이동된 정화된 가스 중 액적을 제거하는 데미스터; 및 상기 데미스터의 상부에 구비되며, 상기 데미스터를 경유한 정화된 가스를 외부로 배출시키는 배출관을 포함하며, 상기 제3 세정액은 물일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the third scrubber, a third washing tower; a mist spraying unit provided in the upper portion of the third cleaning tower and spraying a third cleaning liquid below a predetermined temperature to the lower portion; a third polling part provided under the mist spraying part and configured to widen a contact area between water sprayed from the mist spraying part and the malodorous gas; a gas collision distribution unit provided between the mist spraying unit and the third palling unit and guiding the movement path of the odor gas so that the moving distance of the odor gas passing through the third palling unit is increased, and having a plurality of perforations; a demister provided on the top of the mist spraying unit to remove droplets in the purified gas moved to the upper end of the third washing tower; And it is provided on the upper portion of the demister, and includes a discharge pipe for discharging the purified gas passing through the demister to the outside, the third cleaning liquid may be water.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 제3 스크러버는, 공급수 제공부로부터 물을 공급받으며, 상기 안개 분무부로 공급되는 상기 제3 세정액이 수용되는 제3 리시버 탱크; 상기 제3 리시버 탱크 내 상기 제3 세정액의 PH 농도를 측정하는 제3 PH 센서; 및 일단은 상기 제3 리시버 탱크에 연결되고, 타단은 상기 안개 분무부에 연결되어, 상기 제3 세정액을 상기 안개 분무부로 공급하는 제3 순환 공급부; 상기 제3 순환 공급부 상에 구비되는 제3 순환펌프; 및 상기 제3 순환 공급부 상에 배치되며, 상기 안개 분무부로 공급되는 상기 제3 세정액을 미리 정해진 온도 이하로 유지시키는 칠러를 포함하며, 상기 칠러는 상기 제3 세정액이 5℃ 이하로 유지되도록 상기 제3 세정액의 온도를 제어할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the third scrubber includes: a third receiver tank receiving water from a supply water supply unit and accommodating the third cleaning liquid supplied to the mist spray unit; a third PH sensor for measuring the PH concentration of the third cleaning liquid in the third receiver tank; and a third circulation supply unit having one end connected to the third receiver tank and the other end connected to the mist atomizing unit to supply the third cleaning liquid to the mist atomizing unit; a third circulation pump provided on the third circulation supply unit; and a chiller disposed on the third circulation supply unit and configured to maintain the third cleaning liquid supplied to the mist spraying unit at a predetermined temperature or less, wherein the chiller is configured to maintain the third cleaning liquid at 5° C. or less. 3 The temperature of the cleaning liquid can be controlled.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 제1 스크러버에 구비된 연결관에는 인입 악취 센서가 구비되어 상기 연결관을 경유하는 악취가스의 악취 농도를 측정하도록 이루어지고, 상기 제3 스크러버에 구비된 배출관에는 인출 악취 센서가 구비되어 상기 배출관을 경유하는 정화된 가스의 악취 농도를 측정하도록 이루어지며, 상기 인입 악취 센서와 인출 악취 센서로부터 측정된 측정값을 제공받으며, 상기 제1 스크러버 내지 제3 스크러버에 구비된 각 펌프의 작동을 선택적으로 제어하는 통합 관리부를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the connection pipe provided in the first scrubber is provided with an intake odor sensor to measure the odor concentration of the odor gas passing through the connection pipe, and the discharge pipe provided in the third scrubber is provided with a withdrawal odor sensor to measure the odor concentration of the purified gas passing through the discharge pipe, and receives the measured values from the intake odor sensor and the withdrawal odor sensor, and to the first to third scrubbers It may include an integrated management unit for selectively controlling the operation of each provided pump.

상기에서 설명한 본 발명에 따른 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템의 효과를 설명하면 다음과 같다.The effect of the non-decomposable malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system according to the present invention described above will be described as follows.

본 발명에 따르면, 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템은 악취가스의 용해도를 높이도록 이루어진 마이크로 버블 용해부와, 미리 정해진 온도 이하로 물을 분무하여 악취를 제거하는 안개 분무부가 구비됨에 따라 악취가스의 악취는 물론 이산화탄소 제거도 효과적으로 이루어질 수 있다.According to the present invention, the non-decomposable malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system is provided with a microbubble dissolving unit configured to increase the solubility of the malodorous gas and a mist spraying unit to remove the odor by spraying water below a predetermined temperature. It is possible to effectively remove carbon dioxide as well as odor of gas.

이러한 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템은 복수개의 스크러버를 상부로 적층함에 따라 설치 공간을 최소화하고 고효율로 직렬 설치 투자비보다 약30% 절감할 수가 있다. This hard-to-decompose malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system minimizes the installation space by stacking a plurality of scrubbers on top, and can reduce the investment cost by about 30% compared to the serial installation investment with high efficiency.

본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.It should be understood that the effects of the present invention are not limited to the above-described effects, and include all effects that can be inferred from the configuration of the invention described in the detailed description or claims of the present invention.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템의 개략적인 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템을 나타낸 예시도이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 마이크로 버블 용해부를 나타낸 예시도이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 제1 가스 분배 갓을 나타낸 예시도이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 가스충돌 분배부를 나타낸 예시도이다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 악취가스의 이동흐름 나타낸 예시도이다.
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 제1 세정액의 이동흐름을 나타낸 예시도이다.
도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 제2 세정액의 이동흐름을 나타낸 예시도이다.
도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 제3 세정액의 이동흐름을 나타낸 예시도이다.
도 10은 본 발명의 일실시예에 따른 세정액의 드레인 과정을 나타낸 예시도이다.
1 is a schematic configuration diagram of a non-decomposable malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system according to an embodiment of the present invention.
2 is an exemplary view showing a system for treating a non-decomposable malodorous gas and carbon neutralizing deodorization according to an embodiment of the present invention.
3 is an exemplary view showing a microbubble dissolving unit according to an embodiment of the present invention.
4 is an exemplary view showing a first gas distribution shade according to an embodiment of the present invention.
5 is an exemplary view showing a gas collision distribution unit according to an embodiment of the present invention.
6 is an exemplary view showing the movement flow of malodorous gas according to an embodiment of the present invention.
7 is an exemplary view showing the movement flow of the first cleaning liquid according to an embodiment of the present invention.
8 is an exemplary view showing the movement flow of the second cleaning liquid according to an embodiment of the present invention.
9 is an exemplary view showing a movement flow of a third cleaning liquid according to an embodiment of the present invention.
10 is an exemplary view illustrating a draining process of a cleaning solution according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the present invention may be embodied in several different forms, and thus is not limited to the embodiments described herein. And in order to clearly explain the present invention in the drawings, parts irrelevant to the description are omitted, and similar reference numerals are attached to similar parts throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is "connected" with another part, this includes not only the case where it is "directly connected" but also the case where it is "indirectly connected" with another member interposed therebetween. . In addition, when a part "includes" a certain component, this means that other components may be further provided without excluding other components unless otherwise stated.

본 발명에서 상부와 하부는 대상부재의 위 또는 아래에 위치함을 의미하는 것으로, 반드시 중력방향을 기준으로 상부 또는 하부에 위치하는 것을 의미하는 것은 아니다.In the present invention, the upper and lower parts mean positioned above or below the target member, and do not necessarily mean positioned at the upper or lower part with respect to the direction of gravity.

이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템의 개략적인 구성도이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템을 나타낸 예시도이며, 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 마이크로 버블 용해부를 나타낸 예시도이고, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 제1 가스 분배 갓을 나타낸 예시도이며, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 가스충돌 분배부를 나타낸 예시도이고, 도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 악취가스의 이동흐름 나타낸 예시도이며, 도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 제1 세정액의 이동흐름을 나타낸 예시도이고, 도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 제2 세정액의 이동흐름을 나타낸 예시도이며, 도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 제3 세정액의 이동흐름을 나타낸 예시도이고, 도 10은 본 발명의 일실시예에 따른 세정액의 드레인 과정을 나타낸 예시도이다.1 is a schematic configuration diagram of a non-decomposable malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a non-decomposable malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system according to an embodiment of the present invention 3 is an exemplary view showing a microbubble dissolving unit according to an embodiment of the present invention, FIG. 4 is an exemplary view showing a first gas distribution cap according to an embodiment of the present invention, FIG. 5 is It is an exemplary view showing a gas collision distribution unit according to an embodiment of the present invention, Fig. 6 is an exemplary view showing the movement flow of odor gas according to an embodiment of the present invention, and Fig. 7 is a second view according to an embodiment of the present invention 1 is an exemplary view showing the movement flow of the cleaning liquid, FIG. 8 is an exemplary diagram illustrating the movement flow of the second cleaning liquid according to an embodiment of the present invention, and FIG. 9 is the movement of the third cleaning liquid according to an embodiment of the present invention It is an exemplary view showing the flow, and FIG. 10 is an exemplary view showing a draining process of the cleaning solution according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 10에서 보는 바와 같이, 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템(5000)은 제1 스크러버(1000), 제2 스크러버(2000) 및 제3 스크러버(3000)를 포함할 수 있다. 이와 같이 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템(5000)은 약액과 물이 혼합된 세정액을 분사하여 악취를 제거하는 제1 스크러버(1000) 및 제2 스크러버(2000)와, 미리 정해진 온도 이하의 물을 분사하여 악취를 제거하는 제3 스크러버(3000)가 적층된 형태로 구비될 수 있다.1 to 10 , the hard-to-decompose malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system 5000 may include a first scrubber 1000 , a second scrubber 2000 , and a third scrubber 3000 . In this way, the hard-to-decompose malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system 5000 includes a first scrubber 1000 and a second scrubber 2000 that removes odors by spraying a cleaning liquid mixed with a chemical solution and water, and a temperature lower than a predetermined temperature. The third scrubber 3000 for removing odors by spraying water may be provided in a stacked form.

이와 같은 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템(5000)은 반드시 제1 스크러버(1000) 내지 제3 스크러버(3000)가 함께 구비되어야 하는 것은 아니다. 즉, 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템(5000)은 제1 스크러버(1000)와 제3 스크러버(3000)로만 이루어질 수도 있고, 제1 스크러버(1000)와 제3 스크러버(3000) 이외에 또 다른 스크러버가 추가적으로 더 구비될 수 있는 등 스크러버의 개수는 특정 개수로 한정되지 않는다.Such a difficult-to-decompose malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system 5000 does not necessarily include the first scrubber 1000 to the third scrubber 3000 together. That is, the hard-to-decompose malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system 5000 may consist only of the first scrubber 1000 and the third scrubber 3000, and in addition to the first scrubber 1000 and the third scrubber 3000, another The number of scrubbers, such as a scrubber may be additionally provided, is not limited to a specific number.

본 발명에 따른 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템(5000)은 제1 스크러버(1000) 내지 제3 스크러버(3000)가 함께 구비된 형태를 예로 설명하기로 한다.The non-decomposable malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system 5000 according to the present invention will be described as an example in which the first scrubber 1000 to the third scrubber 3000 are provided together.

여기서 제1 스크러버(1000)는 제1 세정탑(1100), 마이크로 버블 용해부(1200), 제1 분사 노즐(1300), 제1 폴링부(1400), 제1 가스 분배기 갓(1500), 공급펌프(1610), 연결관(1620), 제1 리시버 탱크(1630), 제1 PH 센서(1640), 제1 약액 탱크(1650), 제1 순환 공급부(1660) 및 제1 순환펌프(1670)를 포함할 수 있다.Here, the first scrubber 1000 includes a first cleaning tower 1100 , a microbubble dissolving unit 1200 , a first injection nozzle 1300 , a first polling unit 1400 , a first gas distributor cap 1500 , and supply Pump 1610 , connection pipe 1620 , first receiver tank 1630 , first PH sensor 1640 , first chemical liquid tank 1650 , first circulation supply unit 1660 and first circulation pump 1670 ) may include

여기서 제1 세정탑(1100)은 제1 스크러버(1000)의 외형을 이룬다.Here, the first washing tower 1100 forms the outer shape of the first scrubber 1000 .

이러한 제1 세정탑(1100)의 내부에는 수용 공간부(1101)가 형성되어 다양한 구성품은 수용 공간부(1101)에 배치될 수 있다.An accommodating space 1101 is formed inside the first washing tower 1100 , and various components may be disposed in the accommodating space 1101 .

그리고 제1 세정탑(1100)에는 정비홀(H)이 형성되어, 사용자는 세정탑 내부를 청소하거나 세정탑 내에 구비된 폴링을 교체하는 등 다양한 작업을 수행할 수 있다. 이와 같은 정비홀(H)은 후술될 제2 세정탑(2100) 및 제3 세정탑(3100)에도 형성될 수 있다.In addition, a maintenance hole H is formed in the first washing tower 1100, so that the user can perform various tasks such as cleaning the inside of the washing tower or replacing the pawling provided in the washing tower. Such a maintenance hole (H) may also be formed in the second cleaning tower 2100 and the third cleaning tower 3100 to be described later.

그리고 제1 세정탑(1100)의 하부 일측에는 유입관(1110)이 구비된다. 이러한 유입관(1110)은 연결관(1620)과 연결되어, 외부로부터 유입되는 악취가스는 연결관(1620)을 통해 유입관(1110)으로 공급될 수 있다. 여기서 연결관(1620)에는 공급펌프(1610)가 구비된다. 이러한 공급펌프(1610)는 외부에서 유입된 악취가스를 연결관(1620)을 통해 유입관(1110)으로 공급하게 된다.And an inlet pipe 1110 is provided on one lower side of the first washing tower 1100 . The inlet pipe 1110 is connected to the connecting pipe 1620 , and the odor gas introduced from the outside may be supplied to the inlet pipe 1110 through the connecting pipe 1620 . Here, the connection pipe 1620 is provided with a supply pump 1610 . The supply pump 1610 supplies the odor gas introduced from the outside to the inlet pipe 1110 through the connection pipe 1620 .

그리고 마이크로 버블 용해부(1200)는 제1 세정탑(1100)의 내측 하부에 구비된다.And the microbubble dissolving unit 1200 is provided in the lower inner side of the first washing tower (1100).

이러한 마이크로 버블 용해부(1200)는 유입관(1110)을 통해 유입되는 악취가스를 제1 세정탑(1100)의 하부에 수용된 물과 약액이 혼합된 제1 세정액으로 공급하여 제1 세정액 내에 악취가스가 효과적으로 용해되도록 한다. 이 과정에서 악취가스에 존재하는 악취 비롯한 이산화탄소의 제거가 효과적으로 이루어질 수 있다.The microbubble dissolving unit 1200 supplies the malodorous gas flowing in through the inlet pipe 1110 to the first cleaning liquid in which water and chemical liquid contained in the lower portion of the first cleaning tower 1100 are mixed, and the malodorous gas in the first cleaning liquid to dissolve effectively. In this process, the removal of carbon dioxide including odors present in the malodorous gas can be effectively achieved.

이와 같은 마이크로 버블 용해부(1200)는 버블 플레이트(1210)와 가이드 플레이트(1220)를 포함할 수 있다.Such a microbubble dissolving unit 1200 may include a bubble plate 1210 and a guide plate 1220 .

여기서 버블 플레이트(1210)는 제1 세정탑(1100)의 하부로 이동된 제1 세정액이 수용되는 세정액 저장 공간(1201)을 마련하도록 이루어진다.Here, the bubble plate 1210 is configured to provide a cleaning liquid storage space 1201 in which the first cleaning liquid moved to the lower portion of the first cleaning tower 1100 is accommodated.

그리고 버블 플레이트(1210)의 하부측에는 유입관(1110)을 통해 유입된 악취가스를 세정액 저장 공간(1201)으로 분사시키는 복수개의 버블 발생홀(1211)이 형성된다.In addition, a plurality of bubble generating holes 1211 for spraying the odor gas introduced through the inlet pipe 1110 into the cleaning solution storage space 1201 are formed on the lower side of the bubble plate 1210 .

이와 같은 버블 플레이트(1210)는 일정 이상의 압력으로 공급되는 악취가스를 버블 발생홀(1211)을 통해 세정액 저장 공간(1201)으로 공급하는 과정에서, 악취가스는 제1 세정액 내에 미세 버블 형태로 공급이 이루어진다. 이 과정에서 악취가스는 제1 세정액 내에 효과적으로 용해되며 악취 제거가 이루어질 수 있다.In the process of supplying the odor gas supplied at a predetermined pressure or more to the cleaning liquid storage space 1201 through the bubble generating hole 1211, the odor gas is supplied in the form of fine bubbles in the first cleaning liquid. is done In this process, the malodorous gas is effectively dissolved in the first cleaning liquid, and the malodor can be removed.

여기서 버블 플레이트(1210)에 형성된 버블 발생홀(1211)은 예를 들어 지름이 3mm로 이루어질 수도 있다. 이러한 버블 발생홀(1211)은 지름이 반드시 3mm로 한정되는 것은 아니며, 제1 세정액 내에서 미세 버블을 발생시키며 악취가스 내 존재하는 악취가 제1 세정액에 효과적으로 용해될 수만 있다면 어떠한 크기로라도 형성될 수 있음은 물론이다.Here, the bubble generating hole 1211 formed in the bubble plate 1210 may have a diameter of 3 mm, for example. The bubble generating hole 1211 is not necessarily limited to a diameter of 3 mm, and generates fine bubbles in the first cleaning solution, and may be formed in any size as long as the odor existing in the malodorous gas can be effectively dissolved in the first cleaning solution. of course there is

그리고 가이드 플레이트(1220)는 버블 플레이트(1210)와 이격 배치된다.In addition, the guide plate 1220 is spaced apart from the bubble plate 1210 .

이와 같은 가이드 플레이트(1220)는 버블 플레이트(1210)와 함께 유입관(1110)을 통해 유입된 악취가스의 이동공간인 가스 이동공간(1202)을 마련하게 된다. 즉, 이러한 가이드 플레이트(1220)와 버블 플레이트(1210)는 이중관 형태를 이루게 된다.The guide plate 1220 provides a gas movement space 1202 that is a movement space of the odor gas introduced through the inlet pipe 1110 together with the bubble plate 1210 . That is, the guide plate 1220 and the bubble plate 1210 form a double tube shape.

여기서 가이드 플레이트(1220)와 버블 플레이트(1210)는 하부로 갈수록 지름이 작아지는 테이퍼 형태로 이루어질 수 있다.Here, the guide plate 1220 and the bubble plate 1210 may be formed in a tapered shape whose diameter decreases toward the bottom.

이러한 가이드 플레이트(1220)와 버블 플레이트(1210)의 테이퍼 각은 서로 다르게 형성될 수 있다. 여기서 가이드 플레이트(1220)의 테이퍼 각은 버블 플레이트(1210)의 테이퍼 각보다 각도가 더 크게 형성될 수 있다.The taper angles of the guide plate 1220 and the bubble plate 1210 may be different from each other. Here, the taper angle of the guide plate 1220 may be formed to be greater than the taper angle of the bubble plate 1210 .

다시 말해서, 가이드 플레이트(1220)는 버블 발생홀(1211)이 형성된 버블 플레이트(1210)의 하부로 갈수록 버블 플레이트(1210)와의 간격이 좁아지도록 테이퍼 각이 형성될 수 있다. 이는, 가스 이동공간(1202)으로 안내된 악취가스가 버블 발생홀(1211)을 통해 제1 세정액의 내부로 분사됨에 있어, 더욱 높은 압력으로 악취가스가 분사되도록 하기 위함이다. 이를 통해 제1 세정액으로 분사되는 악취가스는 미세 버블이 더욱 효과적으로 발생되어, 제1 세정액으로 투입되는 악취가스의 용해도는 더욱 높아질 수 있다.In other words, the guide plate 1220 may have a tapered angle such that the gap with the bubble plate 1210 becomes narrower toward the lower portion of the bubble plate 1210 in which the bubble generating hole 1211 is formed. This is so that the malodorous gas guided to the gas movement space 1202 is injected into the first cleaning liquid through the bubble generating hole 1211, so that the malodorous gas is injected at a higher pressure. Through this, fine bubbles are more effectively generated in the malodorous gas injected into the first cleaning liquid, so that the solubility of the malodorous gas injected into the first cleaning liquid may be further increased.

그리고 제1 폴링부(1400)는 제1 세정탑(1100) 내에 구비되되, 마이크로 버블 용해부(1200)의 상부에 구비된다.And the first palling unit 1400 is provided in the first washing tower 1100, it is provided on the top of the microbubble dissolving unit (1200).

이러한 제1 폴링부(1400)는 낱개 형태의 폴링(pall-ring)이 복수개로 충진된 형태를 이룬다. 여기서 폴링은 일반적인 구성이므로 구체적인 내용 설명은 생략하기로 한다.The first pawl part 1400 has a form in which a plurality of individual pall-rings are filled. Here, since polling is a general configuration, a detailed description thereof will be omitted.

이와 같은 제1 폴링부(1400)는 제1 분사 노즐(1300)과 마이크로 버블 용해부(1200) 사이에 구비되어, 마이크로 버블 용해부(1200)를 경유하여 상부로 이동되는 악취가스에 대해 악취를 제거하게 된다.Such a first polling unit 1400 is provided between the first spray nozzle 1300 and the microbubble dissolving unit 1200, and removes odors from the odor gas moving upward through the microbubble dissolving unit 1200. will be removed

이러한 제1 폴링부(1400)는 제1 분사 노즐(1300)로부터 분사되는 제1 세정액과 악취가스의 접촉면적을 넓힘으로써, 악취가스의 악취제거가 효과적으로 이루어지도록 한다.The first falling part 1400 expands the contact area between the first cleaning liquid sprayed from the first spray nozzle 1300 and the malodorous gas, so that the malodorous gas is effectively removed.

이와 같이, 제1 폴링부(1400)에서 악취가스가 용해된 제1 세정액은 하부로 낙하하여 세정액 저장 공간(1201)으로 떨어지게 된다.As such, the first cleaning liquid in which the odor gas is dissolved in the first falling part 1400 falls to the lower portion and falls into the cleaning liquid storage space 1201 .

그리고 제1 폴링부(1400)와 제1 분사 노즐(1300)를 경유하여 상부로 이동되는 악취가스는 제1 세정탑(1100)의 상단부에 구비된 제1 가스 분배기 갓(1500)을 통해 제2 스크러버(2000) 내로 공급될 수 있다.And the malodorous gas moved upward through the first falling part 1400 and the first injection nozzle 1300 is the second through the first gas distributor cap 1500 provided at the upper end of the first washing tower 1100 . It may be supplied into the scrubber 2000 .

여기서 제1 가스 분배기 갓(1500)은 제2 스크러버(2000) 내로 악취가스를 공급함에 있어, 제2 세정탑(2100)을 수평선상으로 자른 횡단면을 기준으로 제2 세정탑(2100) 내에 균일하게 악취가스가 분배되도록 악취가스를 공급한다. 이는, 제2 스크러버(2000)에서 악취가스에 포함된 악취를 제거함에 있어, 악취제거가 효과적으로 이루어지도록 하기 위함이다.Here, when the first gas distributor cap 1500 supplies the odor gas into the second scrubber 2000, the second cleaning tower 2100 is uniformly in the second cleaning tower 2100 based on the horizontal cross-section cut. The malodorous gas is supplied so that the malodorous gas is distributed. This is to effectively remove the odor when the second scrubber 2000 removes the odor included in the malodorous gas.

이와 같은 제1 가스 분배기 갓(1500)은 상부가 삿갓 모양을 이루어 제2 분사 노즐(2300)로부터 낙하하는 제2 세정액은 제2 세정탑(2100)의 하부에 배치된 제1 가스 분배기 갓(1500)의 내부로 유입되는 것이 방지될 수 있다. 즉, 제1 가스 분배기 갓(1500)은 제2 세정탑(2100) 내로 악취가스를 균일하게 분배함과 동시에, 제2 분사 노즐(2300)로부터 낙하하는 제2 세정액이 제1 가스 분배기 갓(1500) 내부로 유입되는 것을 방지하도록 이루어진다.Such a first gas distributor cap 1500 has a hat-shaped upper portion and the second cleaning liquid falling from the second spray nozzle 2300 is disposed under the second cleaning tower 2100 in the first gas distributor lamp 1500 . ) can be prevented from entering the interior. That is, the first gas distributor cap 1500 uniformly distributes the odor gas into the second cleaning tower 2100 , and at the same time, the second cleaning liquid falling from the second injection nozzle 2300 is transferred to the first gas distributor cap 1500 . ) to prevent inflow into the interior.

한편, 제1 분사 노즐(1300)은 제1 세정탑(1100)의 상부에 구비된다. 이러한 제1 분사 노즐(1300)은 제1 폴링부(1400)의 상측에 마련되어, 제1 폴링부(1400)로 제1 세정액을 분사하도록 이루어진다.On the other hand, the first spray nozzle 1300 is provided in the upper portion of the first washing tower (1100). The first spray nozzle 1300 is provided on the upper side of the first falling part 1400 to spray the first cleaning liquid to the first falling part 1400 .

여기서 제1 분사 노즐(1300)로부터 분사되는 제1 세정액은 물과 약액이 혼합된 세정액일 수 있다.Here, the first cleaning liquid sprayed from the first spray nozzle 1300 may be a cleaning liquid in which water and a chemical liquid are mixed.

이와 같이, 제1 분사 노즐(1300)로 공급되는 제1 세정액은 제1 순환 공급부(1660)를 통해 공급받을 수 있다. 이러한 제1 순환 공급부(1660)의 일단부는 제1 리시버 탱크(1630)에 연결되고, 타단부는 제1 분사 노즐(1300)에 연결되어, 제1 리시버 탱크(1630)로부터 공급되는 제1 세정액은 제1 분사 노즐(1300)로 공급될 수 있다.As such, the first cleaning liquid supplied to the first spray nozzle 1300 may be supplied through the first circulation supply unit 1660 . One end of the first circulation supply unit 1660 is connected to the first receiver tank 1630, the other end is connected to the first injection nozzle 1300, and the first cleaning liquid supplied from the first receiver tank 1630 is It may be supplied to the first spray nozzle 1300 .

여기서 제1 리시버 탱크(1630)는 제1 세정탑(1100)의 일측 하단부에 연통되도록 이루어진다. 이와 같은 제1 세정탑(1100)의 하단부는 제1 리시버 탱크(1630)와 같은 역할을 수행하도록 이루어진다.Here, the first receiver tank 1630 is made to communicate with the lower end of one side of the first washing tower 1100 . The lower end of the first washing tower 1100 is configured to perform the same role as the first receiver tank 1630 .

그리고 제1 약액 탱크(1650)는 제1 리시버 탱크(1630)로 제1 약액을 공급하도록 이루어지고, 공급수 제공부(W)는 제1 리시버 탱크(1630)로 물을 공급하도록 이루어진다.And the first chemical solution tank 1650 is configured to supply the first chemical solution to the first receiver tank (1630), the supply water supply unit (W) is configured to supply water to the first receiver tank (1630).

그리고 제1 PH 센서(1640)는 제1 리시버 탱크(1630) 내 제1 세정액의 PH 농도를 측정하도록 이루어진다.And the first PH sensor 1640 is configured to measure the PH concentration of the first cleaning liquid in the first receiver tank (1630).

여기서 제1 약액 탱크(1650) 및 공급수 제공부(W)는 제1 PH 센서(1640)로부터 측정된 제1 세정액의 PH 농도값에 따라 제1 리시버 탱크(1630)로 공급되는 제1 약액 및 물의 공급량을 선택적으로 조절하게 된다.Here, the first chemical solution tank 1650 and the supply water supply unit W are the first chemical solution supplied to the first receiver tank 1630 according to the PH concentration value of the first cleaning solution measured from the first PH sensor 1640 and The amount of water supplied is selectively controlled.

다시 말해서, 사용자가 기 설정한 PH 농도값을 기준으로 현재 제1 리시버 탱크(1630) 내에서 측정된 PH 농도값에 따라 제1 약액의 공급량 및 물의 공급량은 선택적으로 조절될 수 있다.In other words, the supply amount of the first chemical solution and the supply amount of water may be selectively adjusted according to the PH concentration value currently measured in the first receiver tank 1630 based on the PH concentration value set by the user.

이와 같이, 제1 리시버 탱크(1630)에서 PH 농도값이 조절된 제1 세정액은 제1 순환 공급부(1660) 상에 마련된 제1 순환펌프(1670)에 의해 제1 분사 노즐(1300)로 공급될 수 있다.As such, the first cleaning liquid whose PH concentration is adjusted in the first receiver tank 1630 is supplied to the first injection nozzle 1300 by the first circulation pump 1670 provided on the first circulation supply unit 1660 . can

한편, 제2 스크러버(2000)는 제1 스크러버(1000)의 상부에 구비된다.Meanwhile, the second scrubber 2000 is provided above the first scrubber 1000 .

이러한 제2 스크러버(2000)는 제1 스크러버(1000)에서 1차로 악취 제거가 이루어진 악취가스에 대해 2차로 악취를 제거하게 된다.The second scrubber 2000 secondarily removes the malodorous gas from which the first scrubber 1000 removes the malodor.

이와 같은 제2 스크러버(2000)는 제1 스크러버(1000)와 같이, 제2 분사 노즐(2300)로부터 분사되는 제2 세정액을 통해 악취를 제거하도록 이루어진다. 여기서 제1 세정액과 제2 세정액은 예를 들어 약액의 종류 및 PH 농도를 서로 다르게 하여 악취가스 내 악취를 제거할 수도 있다.Like the first scrubber 1000 , the second scrubber 2000 is configured to remove odors through the second cleaning liquid sprayed from the second spray nozzle 2300 . Here, the first cleaning liquid and the second cleaning liquid may remove odors in the malodorous gas by, for example, different types of chemical liquids and different PH concentrations.

이러한 제2 스크러버(2000)는 제1 스크러버(1000)에 구비된 마이크로 버블 용해부(1200)의 구성만 구비되지 않을 뿐, 전체적인 구성은 동일하게 이루어질 수 있다.This second scrubber 2000 is not only provided with the configuration of the microbubble dissolving unit 1200 provided in the first scrubber 1000, but the overall configuration may be the same.

이와 같은 제2 스크러버(2000)는 제2 세정탑(2100), 제2 분사 노즐(2300), 제2 폴링부(2400), 제2 가스 분배기 갓(2500), 제2 리시버 탱크(2630), 제2 PH 센서(2640), 제2 약액 탱크(2650), 제2 순환 공급부(2660) 및 제2 순환펌프(2670)를 포함할 수 있다. 이러한 제2 스크러버(2000)에 구비된 각 구성은 앞서 설명된 제1 스크러버(1000)에 구비된 각 구성과 동일한 역할을 수행하는 바, 구체적인 내용 설명은 생략하기로 한다.Such a second scrubber 2000 includes a second cleaning tower 2100, a second injection nozzle 2300, a second polling unit 2400, a second gas distributor cap 2500, a second receiver tank 2630, It may include a second PH sensor 2640 , a second chemical liquid tank 2650 , a second circulation supply unit 2660 , and a second circulation pump 2670 . Each component provided in the second scrubber 2000 performs the same role as each component provided in the first scrubber 1000 described above, and detailed description thereof will be omitted.

한편, 제3 스크러버(3000)는 제2 스크러버(2000)의 상부에 구비된다.Meanwhile, the third scrubber 3000 is provided above the second scrubber 2000 .

이러한 제3 스크러버(3000)는 제2 스크러버(2000)에서 2차로 악취 제거가 이루어진 악취가스에 대해 3차로 악취를 제거하게 된다.The third scrubber 3000 tertiarily removes malodor from the malodorous gas from which the second scrubber 2000 has secondarily removed malodor.

이와 같은 제3 스크러버(3000)는 제3 세정탑(3100), 가스충돌 분배부(3200), 안개 분무부(3300), 제3 폴링부(3400), 데미스터(3510), 칠러(3620), 제3 리시버 탱크(3630), 제3 PH 센서(3640), 제3 순환 공급부(3660) 및 제3 순환펌프(3670)를 포함할 수 있다.Such a third scrubber 3000 is a third cleaning tower 3100, a gas collision distribution unit 3200, a mist spray unit 3300, a third polling unit 3400, a demister 3510, a chiller 3620) , a third receiver tank 3630 , a third PH sensor 3640 , a third circulation supply unit 3660 , and a third circulation pump 3670 .

여기서 제3 세정탑(3100)은 제3 스크러버(3000)의 외형을 이룬다.Here, the third washing tower 3100 forms the external shape of the third scrubber 3000 .

이러한 제3 세정탑(3100)의 하부에는 제2 가스 분배기 갓(2500)이 구비되어, 제2 가스 분배기 갓(2500)으로부터 배출되는 악취가스는 제3 세정탑(3100) 내부로 공급될 수 있다.A second gas distributor cap 2500 is provided at the lower portion of the third cleaning tower 3100 , and the malodorous gas discharged from the second gas distributor lamp 2500 may be supplied into the third cleaning tower 3100 . .

그리고 제2 가스 분배기 갓(2500)의 상부에는 제3 폴링부(3400)가 구비된다.In addition, a third polling part 3400 is provided on the second gas distributor shade 2500 .

이러한 제3 폴링부(3400)는 제2 가스 분배기 갓(2500)을 통해 제3 세정탑(3100) 내로 유입된 악취가스와 안개 분무부(3300)로부터 분무되는 제3 세정액의 접촉면적을 넓힘으로써, 악취가스의 악취제거가 효과적으로 이루어지도록 한다. 이때, 안개 분무부(3300)로 분무되는 제3 세정액은 물일 수 있다.This third polling part 3400 is by widening the contact area of the odor gas introduced into the third cleaning tower 3100 through the second gas distributor cap 2500 and the third cleaning liquid sprayed from the mist spraying part 3300. , to effectively remove odors from odorous gases. In this case, the third cleaning liquid sprayed to the mist spray unit 3300 may be water.

그리고 가스충돌 분배부(3200)는 제3 폴링부(3400)의 상부에 구비된다. 이러한 가스충돌 분배부(3200)는 안개 분무부(3300)와 제3 폴링부(3400) 사이에 배치된다.And the gas collision distribution unit 3200 is provided above the third polling unit 3400 . The gas collision distribution unit 3200 is disposed between the mist spray unit 3300 and the third polling unit 3400 .

이와 같은 가스충돌 분배부(3200)는 제3 폴링부(3400)를 경유하여 상부로 이동되는 악취가스의 이동경로를 안내하게 된다. 여기서 가스충돌 분배부(3200)는 제3 세정탑(3100)의 상부로 이동되는 악취가스의 이동거리를 늘림으로써, 악취가스와 제3 세정액과의 접촉시간을 늘려 악취가스의 악취제거가 효과적으로 이루어지도록 한다.Such a gas collision distribution unit 3200 guides the movement path of the odor gas moving upward via the third polling unit 3400 . Here, the gas collision distribution unit 3200 increases the moving distance of the malodorous gas moved to the upper portion of the third cleaning tower 3100, thereby increasing the contact time between the malodorous gas and the third cleaning liquid to effectively remove the malodorous gas. let it go

이러한 가스충돌 분배부(3200)는 제3 세정탑(3100)의 상부로 이격 배치되어, 악취가스의 이동경로가 사행(meandering)으로 이동되도록 형성될 수 있다. 따라서, 상부로 이동되는 악취가스의 이동거리는 늘어나게 된다.The gas collision distribution unit 3200 may be disposed to be spaced apart from the upper portion of the third cleaning tower 3100 so that the movement path of the odor gas moves in a meandering manner. Accordingly, the moving distance of the odor gas moving upward is increased.

이와 같은 가스충돌 분배부(3200)에는 복수개의 타공(3201)이 형성될 수 있다. 이에, 안개 분무부(3300)로부터 분무되는 제3 세정액은 타공(3201)을 통해 제3 세정탑(3100)의 하부로 이동될 수도 있다.A plurality of perforations 3201 may be formed in such a gas collision distribution unit 3200 . Accordingly, the third cleaning liquid sprayed from the mist spraying unit 3300 may be moved to the lower portion of the third cleaning tower 3100 through the perforation 3201 .

한편, 안개 분무부(3300)는 제3 세정탑(3100)의 상부에 구비된다. 이러한 안개 분무부(3300)는 가스충돌 분배부(3200)의 상측에 마련되어, 가스충돌 분배부(3200)로 제3 세정액을 분무하도록 이루어진다.On the other hand, the mist spraying unit 3300 is provided at the upper portion of the third washing tower (3100). The mist spraying unit 3300 is provided on the upper side of the gas collision distribution unit 3200 to spray the third cleaning liquid to the gas collision distribution unit 3200 .

이러한 안개 분무부(3300)로 공급되는 제3 세정액은 제3 순환 공급부(3660)를 통해 공급받을 수 있다. 이러한 제3 순환 공급부(3660)의 일단부는 제3 리시버 탱크(3630)에 연결되고, 타단부는 안개 분무부(3300)에 연결되어, 제3 리시버 탱크(3630)로부터 공급되는 제3 세정액은 안개 분무부(3300)로 공급될 수 있다.The third cleaning liquid supplied to the mist spray unit 3300 may be supplied through the third circulation supply unit 3660 . One end of this third circulation supply unit 3660 is connected to the third receiver tank 3630 , and the other end is connected to the mist spray unit 3300 , and the third cleaning liquid supplied from the third receiver tank 3630 is fogged. It may be supplied to the spray unit 3300 .

여기서 안개 분무부(3300)로부터 하부로 낙하하여 제3 세정탑(3100)의 하부에 수용되는 제3 세정액은 제3 리시버 탱크(3630)로 안내될 수 있다. 이와 같이, 제3 순환 공급부(3660)는 제3 세정탑(3100)에서 세정 작업이 이루어진 세정액을 순환시키도록 이루어진다.Here, the third cleaning liquid falling downward from the mist spray unit 3300 and accommodated in the lower portion of the third cleaning tower 3100 may be guided to the third receiver tank 3630 . In this way, the third circulation supply unit 3660 circulates the cleaning liquid that has been cleaned in the third cleaning tower 3100 .

여기서 제3 리시버 탱크(3630)에는 드레인(D)이 마련되어, 일정 이상 사용된 제3 세정액은 외부로 배출될 수 있다. 이와 같은 드레인(D)은 제1 리시버 탱크(1630), 제2 리시버 탱크(2630)에도 구비되어 일정 이상 사용된 세정액은 외부로 배출시킬 수 있다.Here, a drain D is provided in the third receiver tank 3630 , and the third cleaning solution used for a certain amount or more may be discharged to the outside. Such a drain D is also provided in the first receiver tank 1630 and the second receiver tank 2630 so that the cleaning solution used for a certain amount or more can be discharged to the outside.

이러한 제3 리시버 탱크(3630)는 공급수 제공부(W)로부터 물을 공급받는다.The third receiver tank 3630 is supplied with water from the supply water supply unit (W).

그리고 제3 PH 센서(3640)는 제3 리시버 탱크(3630) 내 제3 세정액의 PH 농도를 측정한다. 여기서 공급수 제공부(W)는 제3 PH 센서(3640)로부터 측정된 PH 농도값에 따라 제3 리시버 탱크(3630)로 공급되는 물의 공급량을 선택적으로 조절할 수 있다.And the third PH sensor 3640 measures the PH concentration of the third cleaning liquid in the third receiver tank 3630 . Here, the supply water supply unit W may selectively adjust the supply amount of water supplied to the third receiver tank 3630 according to the PH concentration value measured by the third PH sensor 3640 .

이와 같이, 제3 리시버 탱크(3630)에서 PH 농도값이 조절된 제3 세정액은 제3 순환 공급부(3660) 상에 마련된 제3 순환펌프(3670)에 의해 안개 분무부(3300)로 공급될 수 있다.In this way, the third cleaning liquid whose PH concentration is adjusted in the third receiver tank 3630 may be supplied to the mist spray unit 3300 by the third circulation pump 3670 provided on the third circulation supply unit 3660 . have.

이러한 제3 순환 공급부(3660) 상에는 칠러(3620)가 구비될 수 있다. 이와 같은 칠러(3620)는 제3 순환 공급부(3660)를 순환하는 제3 세정액의 온도를 미리 정해진 온도로 유지시키도록 이루어진다. 이때, 칠러(3620)는 예를 들어 제3 세정액의 온도를 5℃ 이하로 조절하여 낮은 온도의 제3 세정액을 안개 분무부(3300)로 공급할 수도 있다.A chiller 3620 may be provided on the third circulation supply unit 3660 . The chiller 3620 is configured to maintain the temperature of the third cleaning liquid circulating in the third circulation supply unit 3660 at a predetermined temperature. In this case, the chiller 3620 may supply the third cleaning liquid at a low temperature to the mist spray unit 3300 by, for example, adjusting the temperature of the third cleaning liquid to 5° C. or less.

이와 같이, 안개 분무부(3300)는 낮은 온도를 이루는 제3 세정액의 분무를 통해 제3 세정액에 용해되는 악취가스의 용해도를 높일 수 있다. 따라서, 제3 세정탑 내에 존재하는 악취가스의 악취 및 이산화탄소 제거는 효과적으로 이루어질 수 있다.As such, the mist spraying unit 3300 may increase the solubility of the odor gas dissolved in the third cleaning liquid by spraying the third cleaning liquid having a low temperature. Accordingly, the malodor and carbon dioxide removal of the malodorous gas existing in the third washing tower can be effectively performed.

앞서 언급된 제1 분사 노즐(1300)과 제2 분사 노즐(2300)을 통해 분사되는 세정액은 상온 상태로 분사되는 것으로, 안개 분무부(3300)로부터 분무되는 제3 세정액과는 온도에 차이가 있다.The cleaning liquid sprayed through the aforementioned first spray nozzle 1300 and the second spray nozzle 2300 is sprayed at room temperature, and there is a difference in temperature from the third cleaning liquid sprayed from the mist spray unit 3300. .

이와 같이, 제3 스크러버(3000)를 통해 정화가 이루어진 가스는 안개 분무부(3300)의 상부에 구비된 데미스터(3510)를 경유한 후, 배출관(3520)을 통해 외부로 배출될 수 있다.In this way, the gas purified through the third scrubber 3000 may be discharged to the outside through the discharge pipe 3520 after passing through the demister 3510 provided on the top of the mist spray unit 3300 .

여기서 데미스터(3510)는 안개 분무부(3300)의 상부에 구비되며, 제3 세정탑(3100)의 상단부로 이동된 정화된 가스 중 액적을 제거하도록 이루어진다.Here, the demister 3510 is provided on the top of the mist spray unit 3300 , and is configured to remove droplets of the purified gas moved to the upper end of the third washing tower 3100 .

그리고 배출관(3520)은 데미스터(3510)의 상부에 구비되며, 데미스터(3510)를 경유한 정화된 가스를 외부로 배출시킨다.And the discharge pipe 3520 is provided on the upper part of the demister 3510, and discharges the purified gas passing through the demister 3510 to the outside.

한편, 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템(5000)은 통합 관리부(4000)를 더 포함할 수 있다.On the other hand, the non-decomposable malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system 5000 may further include an integrated management unit (4000).

이러한 통합 관리부(4000)는 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템(5000)을 전체적으로 관리하도록 이루어진다.This integrated management unit 4000 is made to manage the overall deodorization system 5000 for the treatment of non-decomposable malodorous gas and carbon neutralization.

이와 같은 통합 관리부(4000)는 제1 스크러버(1000)에 구비된 인입 악취 센서(1621)와 제3 스크러버(3000)에 구비된 인출 악취 센서(3521)로부터 측정된 악취 농도 측정값을 제공받으며, 인입 악취 센서(1621)와 인출 악취 센서(3521)로부터 제공된 악취 측정값을 기초로 제1 스크러버(1000) 내지 제3 스크러버(3000)의 작동을 제어하게 된다.The integrated management unit 4000 receives the odor concentration measurement value measured from the intake odor sensor 1621 provided in the first scrubber 1000 and the withdrawal odor sensor 3521 provided in the third scrubber 3000, The operation of the first scrubber 1000 to the third scrubber 3000 is controlled based on the odor measurement values provided from the incoming malodor sensor 1621 and the outgoing malodor sensor 3521 .

여기서 인입 악취 센서(1621)는 외부로부터 제1 스크러버(1000)로 악취가스가 유입되는 연결관(1620)에 구비될 수 있다. 이와 같은 인입 악취 센서(1621)는 외부로부터 유입되는 악취가스의 악취 농도를 측정하게 된다.Here, the intake odor sensor 1621 may be provided in the connection pipe 1620 through which the odor gas flows into the first scrubber 1000 from the outside. The intake malodor sensor 1621 measures the malodor concentration of the malodorous gas introduced from the outside.

그리고 인출 악취 센서(3521)는 제3 스크러버(3000)를 통해 정화가 이루어져 외부로 배출되는 배출관(3520)에 구비될 수 있다. 이와 같은 인출 악취 센서(3521)는 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템(5000)을 통해 정화된 가스의 악취 농도를 측정하도록 이루어진다.In addition, the withdrawal odor sensor 3521 may be provided in the discharge pipe 3520 through which purification is performed through the third scrubber 3000 and discharged to the outside. The withdrawal odor sensor 3521 is configured to measure the odor concentration of the gas purified through the non-decomposable malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system 5000 .

이러한 인입 악취 센서(1621)와 인출 악취 센서(3521)로부터 측정된 악취 농도값은 통합 관리부(4000)로 제공될 수 있다. 이와 같이, 통합 관리부(4000)는 인입 악취 센서(1621)와 인출 악취 센서(3521)로부터 측정된 악취 농도값을 기초로 제1 스크러버(1000) 내지 제3 스크러버(3000)의 작동을 제어하게 된다. 여기서 통합 관리부(4000)에는 악취 센서와 같이, 제1 스크러버(1000)에는 인입 이산화탄소 센서(미도시)가 구비되고, 제3 스크러버(3000)에는 인출 이산화탄소 센서(미도시)가 구비되어, 배출되는 이산화탄소의 농도를 측정하도록 이루어질 수도 있다.The malodor concentration values measured by the incoming malodor sensor 1621 and the outgoing malodor sensor 3521 may be provided to the integrated management unit 4000 . As such, the integrated management unit 4000 controls the operations of the first scrubber 1000 to the third scrubber 3000 based on the malodor concentration values measured from the incoming malodor sensor 1621 and the outgoing malodor sensor 3521. . Here, like the odor sensor, the integrated management unit 4000 is provided with an incoming carbon dioxide sensor (not shown), and the third scrubber 3000 is provided with an outgoing carbon dioxide sensor (not shown). It may be adapted to measure the concentration of carbon dioxide.

예를 들어, 통합 관리부(4000)는 외부로부터 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템(5000)으로 유입된 악취가스의 악취 및 이산화탄소의 제거가 효과적으로 이루어지지 않는다고 판단되는 경우, 유입관(1110) 내로 유입되는 악취가스의 압력 조절을 통해 마이크로 버블 용해부(1200)에서의 악취가스의 용해도를 조절할 수도 있다. 또는, 제1 리시버 탱크(1630) 내지 제3 리시버 탱크(3630)로 공급되는 약액의 공급량 및 물의 공급량을 조절하여 악취가스의 악취 및 이산화탄소의 제거 효율을 높일 수도 있다. 또는, 순환 공급부를 순환하는 세정액의 공급량 조절을 통해 악취가스의 악취 및 이산화탄소의 제거 효율을 높일 수도 있다.For example, when the integrated management unit 4000 determines that the odor and carbon dioxide of the malodorous gas introduced into the non-decomposable malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system 5000 from the outside is not effectively removed, the inlet pipe 1110 The solubility of the malodorous gas in the microbubble dissolving unit 1200 may be adjusted by adjusting the pressure of the malodorous gas introduced into the gas. Alternatively, the removal efficiency of malodorous gas and carbon dioxide may be increased by adjusting the supply amount of the chemical solution and the supply amount of water supplied to the first receiver tank 1630 to the third receiver tank 3630 . Alternatively, the removal efficiency of the malodorous gas and carbon dioxide may be increased by adjusting the supply amount of the cleaning liquid circulating through the circulation supply unit.

이와 같이, 통합 관리부(4000)는 제1 스크러버(1000) 내지 제3 스크러버(3000)에 구비되는 다양한 펌프의 작동을 선택적으로 제어함으로써, 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템(5000)으로 유입된 악취가스의 악취제거 효율을 조절할 수 있다.In this way, the integrated management unit 4000 selectively controls the operation of various pumps provided in the first scrubber 1000 to the third scrubber 3000, thereby introducing a non-decomposable malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system 5000 . It is possible to control the odor removal efficiency of the odor gas.

이러한 통합 관리부(4000)는 사용자 단말기(100)와 통신 가능하도록 이루어질 수 있다. 따라서, 사용자는 통합 관리부(4000)를 통해 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템(5000)의 작동 상태 정보를 실시간으로 제공받을 수도 있다.The integrated management unit 4000 may be configured to be able to communicate with the user terminal 100 . Accordingly, the user may be provided with operation state information of the hard-to-decompose malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system 5000 through the integrated management unit 4000 in real time.

여기서 통합 관리부(4000)와 통신 가능하도록 이루어진 사용자 단말기(100)는 예를 들어, 문자입력이 가능한 입력 장치와 화면상에 표시 가능한 출력장치가 구비된 장치라면 어떠한 장치라도 상관없다.Here, the user terminal 100 configured to be able to communicate with the integrated management unit 4000 may be any device as long as it is provided with an input device capable of inputting text and an output device capable of displaying on the screen, for example.

이러한 사용자 단말기(100)는 예로 휴대폰, 스마트폰, PDA(Personal Digital Assistant), PMP(Portable Multimedia Player), 태블릿 PC 등과 같이 터치 스크린 패널이 구비된 모든 종류의 핸드헬드(Handheld) 기반의 무선 통신 장치일 수도 있고, 데스크탑 PC, 태블릿 PC, 랩탑 PC, 셋탑 박스를 포함하는 IPTV 등과 같이 애플리케이션을 설치하고 실행할 수 있는 기반이 마련된 장치일 수도 있다.The user terminal 100 is, for example, a mobile phone, a smart phone, a personal digital assistant (PDA), a portable multimedia player (PMP), any kind of handheld-based wireless communication device equipped with a touch screen panel, such as a tablet PC. It may also be a desktop PC, a tablet PC, a laptop PC, an IPTV including a set-top box, etc. may be a device with a foundation for installing and running applications.

이와 같은 사용자 단말기(100)는 통합 관리부(4000)에 접속 가능한 전용 프로그램이 설치된 사용자 단말기(100)에 한해서 접속 가능하도록 이루어진다.Such a user terminal 100 is configured to be accessible only to the user terminal 100 in which a dedicated program accessible to the integrated management unit 4000 is installed.

그리고 사용자 단말기(100)를 이용하여 통합 관리부(4000)에 접속하는 경우, 미리 지정된 고유의 아이디(ID)와 패스워드(PW)를 부여받은 사용자만이 통합 관리부(4000)에 접속 가능하도록 이루어진다. 이는, 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템(5000)의 사용 및 관리상 보안을 위함이다.And, when accessing the integrated management unit 4000 using the user terminal 100 , only a user who has been given a unique ID and password PW designated in advance can access the integrated management unit 4000 . This is for the security of use and management of the non-decomposable malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system 5000 .

이러한 사용자 단말기(100)를 비롯한 통합 관리부(4000)는 인터넷망, 인트라넷망, 이동통신망 및 위성 통신망 등 다양한 유무선 통신 기술을 이용하여 인터넷 프로토콜로 데이터의 송수신이 가능하도록 이루어진다.The integrated management unit 4000 including the user terminal 100 uses various wired and wireless communication technologies such as the Internet network, an intranet network, a mobile communication network, and a satellite communication network to enable transmission and reception of data using an Internet protocol.

여기서 통신망은 LAN(Local Area Network), WAN(Wide Area Network) 등의 폐쇄형 네트워크, 인터넷(Internet)과 같은 개방형 네트워크뿐만 아니라, CDMA(Code Division Multiple Access), WCDMA(Wideband Code Division Multiple Access), GSM(Global System for Mobile Communications), LTE(Long Term Evolution), EPC(Evolved Packet Core) 등의 네트워크와 향후 구현될 차세대 네트워크 및 컴퓨팅 네트워크를 통칭하는 개념일 수 있다.Here, the communication network is a closed network such as a local area network (LAN) and a wide area network (WAN), and an open network such as the Internet, as well as CDMA (Code Division Multiple Access), WCDMA (Wideband Code Division Multiple Access), Networks such as Global System for Mobile Communications (GSM), Long Term Evolution (LTE), and Evolved Packet Core (EPC), and a next-generation network and computing network to be implemented in the future may be collectively a concept.

이와 같이, 사용자는 사용자 단말기(100)를 통해 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템(5000)의 작업 상태를 모니터링할 수 있다. 따라서, 혹시 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템(5000)이 비정상적으로 작동하는 경우, 사용자는 원격에서 통합 관리부(4000)를 통해 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템(5000)의 작동을 간편하게 제어할 수도 있다.In this way, the user can monitor the working state of the hard-to-decompose malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system 5000 through the user terminal 100 . Therefore, if the non-decomposable malodor gas treatment and carbon neutralization deodorization system 5000 operates abnormally, the user remotely controls the operation of the non-decomposable malodor gas treatment and carbon neutralization deodorization system 5000 through the integrated management unit 4000 It can also be easily controlled.

다만, 이는 본 발명의 바람직한 일실시예에 불과할 뿐, 본 발명의 권리 범위가 이러한 실시예의 기재 범위에 의하여 제한되는 것은 아니다.However, this is only a preferred embodiment of the present invention, and the scope of the present invention is not limited by the scope of the present invention.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The above description of the present invention is for illustration, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can understand that it can be easily modified into other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. will be. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive. For example, each component described as a single type may be implemented in a dispersed form, and likewise components described as distributed may be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is indicated by the following claims, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention.

100: 사용자 단말기
1000: 제1 스크러버
1100: 제1 세정탑
1101: 수용 공간부
1110: 유입관
1200: 마이크로 버블 용해부
1201: 세정액 저장 공간
1202: 가스 이동공간
1210: 버블 플레이트
1211: 버블 발생홀
1220: 가이드 플레이트
1300: 제1 분사 노즐
1400: 제1 폴링부
1500: 제1 가스 분배기 갓
1610: 공급펌프
1620: 연결관
1621: 인입 악취 센서
1630: 제1 리시버 탱크
1640: 제1 PH 센서
1650: 제1 약액 탱크
1660: 제1 순환 공급부
1670: 제1 순환펌프
2000: 제2 스크러버
2100: 제2 세정탑
2300: 제2 분사 노즐
2400: 제2 폴링부
2500: 제2 가스 분배기 갓
2630: 제2 리시버 탱크
2640: 제2 PH 센서
2650: 제2 약액 탱크
2660: 제2 순환 공급부
2670: 제2 순환펌프
3000: 제3 스크러버
3100: 제3 세정탑
3200: 가스충돌 분배부
3201: 타공
3300: 안개 분무부
3400: 제3 폴링부
3510: 데미스터
3520: 배출관
3521: 인출 악취 센서
3620: 칠러
3630: 제3 리시버 탱크
3640: 제3 PH 센서
3660: 제3 순환 공급부
3670: 제3 순환펌프
4000: 통합 관리부
5000: 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템
100: user terminal
1000: first scrubber
1100: first washing tower
1101: receiving space unit
1110: inlet pipe
1200: micro bubble dissolving unit
1201: cleaning solution storage space
1202: gas movement space
1210: bubble plate
1211: bubble generation hole
1220: guide plate
1300: first spray nozzle
1400: first polling unit
1500: first gas distributor shade
1610: supply pump
1620: connector
1621: incoming odor sensor
1630: first receiver tank
1640: first PH sensor
1650: first chemical liquid tank
1660: first circulation supply unit
1670: first circulation pump
2000: second scrubber
2100: second washing tower
2300: second spray nozzle
2400: second polling unit
2500: second gas distributor shade
2630: second receiver tank
2640: second PH sensor
2650: second chemical liquid tank
2660: second circulation supply unit
2670: second circulation pump
3000: third scrubber
3100: third washing tower
3200: gas collision distribution unit
3201: perforation
3300: mist spray unit
3400: third polling unit
3510: Demister
3520: exhaust pipe
3521: withdrawal odor sensor
3620: chiller
3630: third receiver tank
3640: third PH sensor
3660: third circulation supply unit
3670: third circulation pump
4000: integrated management
5000: Incombustible odor gas treatment and carbon neutralization deodorization system

Claims (7)

외부로부터 유입된 악취가스에 대해 1차로 악취를 제거하는 제1 스크러버;
상기 제1 스크러버의 상부에 마련되며, 상기 제1 스크러버를 경유하여 유입된 악취가스에 대해 2차로 악취를 제거하는 제2 스크러버; 및
상기 제2 스크러버의 상부에 마련되며, 상기 제2 스크러버를 경유하여 유입된 악취가스에 대해 3차로 악취를 제거하는 제3 스크러버를 포함하며,
상기 제1 스크러버에는 마이크로 버블 용해부가 구비되어, 상기 제1 스크러버 내부로 유입된 악취가스 내 악취를 제거하고,
상기 제3 스크러버에는 미리 정해진 온도 이하의 물을 분무하는 안개 분무부가 구비되어, 상기 제3 스크러버 내부로 유입된 악취가스 내 악취를 제거하고,
상기 제1 스크러버는, 외부로부터 악취가스가 유입되는 유입관이 구비되며, 내부에 수용 공간부가 형성된 제1 세정탑; 및 상기 제1 세정탑의 내측 하부에 구비되며, 상기 제1 세정탑의 하부에 수용된 물과 약액이 혼합된 제1 세정액으로 상기 유입관을 통해 유입된 악취가스를 용해시키는 마이크로 버블 용해부를 가지되,
상기 마이크로 버블 용해부는, 상기 제1 세정액이 수용되는 세정액 저장 공간을 마련하며, 하부에는 상기 유입관을 통해 유입된 악취가스를 상기 세정액 저장 공간으로 공급하는 복수개의 버블 발생홀이 형성된 버블 플레이트; 및 상기 버블 플레이트와 이격 배치되며, 상기 유입관으로 유입된 악취가스를 상기 버블 발생홀로 안내하는 가이드 플레이트를 포함하며, 상기 버블 플레이트와 가이드 플레이트는 테이퍼지게 형성되되, 상기 가이드 플레이트는 상기 버블 발생홀이 형성된 상기 버블 플레이트의 하부로 갈수록 상기 버블 플레이트와의 간격이 좁아지도록 테이퍼진 것인 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템.
a first scrubber that primarily removes odors from the odor gas introduced from the outside;
a second scrubber provided on an upper portion of the first scrubber and configured to secondarily remove malodorous gas introduced through the first scrubber; and
a third scrubber provided above the second scrubber and tertiarily removing malodorous gas introduced through the second scrubber;
The first scrubber is provided with a microbubble dissolving unit to remove odors in the malodorous gas introduced into the first scrubber,
The third scrubber is provided with a mist spraying unit for spraying water below a predetermined temperature to remove odors in the malodorous gas introduced into the third scrubber,
The first scrubber may include: a first washing tower having an inlet pipe through which odor gas flows from the outside and having an accommodation space formed therein; and a microbubble dissolving unit provided at the lower inner side of the first washing tower and dissolving the malodorous gas introduced through the inlet pipe as a first washing solution in which water and a chemical liquid contained in the lower part of the first washing tower are mixed. ,
The microbubble dissolving unit may include: a bubble plate having a cleaning liquid storage space in which the first cleaning liquid is accommodated, and having a plurality of bubble generating holes provided at a lower portion of the microbubble dissolving unit for supplying the odor gas introduced through the inlet pipe to the cleaning liquid storage space; and a guide plate spaced apart from the bubble plate and guiding the odor gas introduced into the inlet pipe to the bubble generating hole, wherein the bubble plate and the guide plate are tapered, and the guide plate is the bubble generating hole The non-decomposable malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system that is tapered so that the gap with the bubble plate becomes narrower toward the lower portion of the formed bubble plate.
제1항에 있어서,
상기 제1 스크러버는,
상기 제1 세정탑의 상부에 구비되며, 하부로 상기 제1 세정액을 분사하는 제1 분사 노즐;
상기 제1 분사 노즐과 마이크로 버블 용해부 사이에 배치되며, 상기 마이크로 버블 용해부를 경유한 악취가스와 상기 제1 분사 노즐로부터 분사되는 상기 제1 세정액과의 접촉 면적을 넓히도록 이루어진 제1 폴링부; 및
상기 제1 분사 노즐의 상부에 구비되며, 상기 제1 세정탑의 상단부로 이동된 악취가스를 상기 제2 스크러버로 균일하게 분배 공급하는 제1 가스 분배기 갓을 포함하는 것을 특징으로 하는 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템.
According to claim 1,
The first scrubber,
a first spray nozzle provided on an upper portion of the first cleaning tower and spraying the first cleaning liquid to a lower portion;
a first palling unit disposed between the first spray nozzle and the microbubble dissolving unit and configured to increase a contact area between the odor gas passing through the microbubble dissolving unit and the first cleaning liquid sprayed from the first jetting nozzle; and
It is provided above the first injection nozzle and is characterized in that it comprises a first gas distributor cap for uniformly distributing and supplying the malodorous gas moved to the upper end of the first scrubber to the second scrubber. Treatment and carbon neutralization deodorization system.
제2항에 있어서,
상기 제1 스크러버는,
외부로부터 상기 유입관으로 악취가스를 공급하는 공급펌프;
상기 공급펌프와 유입관 사이에 구비되는 연결관;
상기 제1 세정탑의 일측 하단부에 연통되며, 공급수 제공부로부터 물을 공급받는 제1 리시버 탱크;
상기 제1 리시버 탱크로 제1 약액을 공급하는 제1 약액 탱크;
상기 제1 리시버 탱크 내 상기 제1 세정액의 PH 농도를 측정하는 제1 PH 센서;
일단은 상기 제1 리시버 탱크에 연결되고, 타단은 상기 제1 분사 노즐에 연결되어, 상기 제1 세정액을 상기 제1 분사 노즐로 공급하는 제1 순환 공급부; 및
상기 제1 순환 공급부 상에 구비되는 제1 순환펌프를 포함하는 것을 특징으로 하는 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템.
3. The method of claim 2,
The first scrubber,
a supply pump for supplying malodorous gas from the outside to the inlet pipe;
a connection pipe provided between the supply pump and the inlet pipe;
a first receiver tank communicating with the lower end of one side of the first washing tower and receiving water from a supply water supply unit;
a first chemical liquid tank supplying a first chemical liquid to the first receiver tank;
a first PH sensor for measuring the PH concentration of the first cleaning solution in the first receiver tank;
a first circulation supply unit having one end connected to the first receiver tank and the other end connected to the first spray nozzle to supply the first cleaning solution to the first spray nozzle; and
Hard-to-decompose malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system, characterized in that it comprises a first circulation pump provided on the first circulation supply unit.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제3 스크러버는,
제3 세정탑;
상기 제3 세정탑의 상부에 구비되며, 하부로 미리 정해진 온도 이하의 제3 세정액을 분무하는 안개 분무부;
상기 안개 분무부의 하부에 구비되며, 상기 안개 분무부로부터 분무되는 물과 악취가스의 접촉 면적을 넓히도록 이루어진 제3 폴링부;
상기 안개 분무부와 제3 폴링부 사이에 구비되며, 상기 제3 폴링부를 경유한 악취가스의 이동거리가 길어지도록 악취가스의 이동경로를 안내하며, 복수개의 타공이 형성된 가스충돌 분배부;
상기 안개 분무부의 상부에 구비되며, 상기 제3 세정탑의 상단부로 이동된 정화된 가스 중 액적을 제거하는 데미스터; 및
상기 데미스터의 상부에 구비되며, 상기 데미스터를 경유한 정화된 가스를 외부로 배출시키는 배출관을 포함하며, 상기 제3 세정액은 물인 것을 특징으로 하는 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템.
According to claim 1,
The third scrubber,
a third washing tower;
a mist spraying unit provided in the upper portion of the third cleaning tower and spraying a third cleaning liquid below a predetermined temperature to the lower portion;
a third polling part provided under the mist spraying part and configured to widen a contact area between water sprayed from the mist spraying part and the malodorous gas;
a gas collision distribution unit provided between the mist spraying unit and the third palling unit, guiding a movement path of the odor gas so that the moving distance of the odor gas passing through the third palling unit is increased, and having a plurality of perforations;
a demister provided on the top of the mist spray unit to remove droplets in the purified gas moved to the upper end of the third washing tower; and
It is provided on the upper portion of the demister, and includes a discharge pipe for discharging the purified gas passing through the demister to the outside, and the third cleaning liquid is water.
제5항에 있어서,
상기 제3 스크러버는,
공급수 제공부로부터 물을 공급받으며, 상기 안개 분무부로 공급되는 상기 제3 세정액이 수용되는 제3 리시버 탱크;
상기 제3 리시버 탱크 내 상기 제3 세정액의 PH 농도를 측정하는 제3 PH 센서; 및
일단은 상기 제3 리시버 탱크에 연결되고, 타단은 상기 안개 분무부에 연결되어, 상기 제3 세정액을 상기 안개 분무부로 공급하는 제3 순환 공급부;
상기 제3 순환 공급부 상에 구비되는 제3 순환펌프; 및
상기 제3 순환 공급부 상에 배치되며, 상기 안개 분무부로 공급되는 상기 제3 세정액을 미리 정해진 온도 이하로 유지시키는 칠러를 포함하며,
상기 칠러는 상기 제3 세정액이 5℃ 이하로 유지되도록 상기 제3 세정액의 온도를 제어하는 것을 특징으로 하는 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템.
6. The method of claim 5,
The third scrubber,
a third receiver tank receiving water from the supply water supply unit and accommodating the third cleaning liquid supplied to the mist spray unit;
a third PH sensor for measuring the PH concentration of the third cleaning liquid in the third receiver tank; and
a third circulation supply unit having one end connected to the third receiver tank and the other end connected to the mist atomizing unit to supply the third cleaning liquid to the mist atomizing unit;
a third circulation pump provided on the third circulation supply unit; and
and a chiller disposed on the third circulation supply unit and maintaining the third cleaning liquid supplied to the mist spray unit below a predetermined temperature,
The chiller is a hard-to-decompose malodorous gas treatment and carbon neutralization deodorization system, characterized in that the temperature of the third cleaning liquid is controlled so that the third cleaning liquid is maintained at 5° C. or less.
제1항에 있어서,
상기 제1 스크러버에 구비된 연결관에는 인입 악취 센서가 구비되어 상기 연결관을 경유하는 악취가스의 악취 농도를 측정하도록 이루어지고,
상기 제3 스크러버에 구비된 배출관에는 인출 악취 센서가 구비되어 상기 배출관을 경유하는 정화된 가스의 악취 농도를 측정하도록 이루어지며,
상기 인입 악취 센서와 인출 악취 센서로부터 측정된 측정값을 제공받으며, 상기 제1 스크러버 내지 제3 스크러버에 구비된 각 펌프의 작동을 선택적으로 제어하는 통합 관리부를 포함하는 것을 특징으로 하는 난분해성 악취가스 처리 및 탄소 중립화 탈취 시스템.
According to claim 1,
The connecting pipe provided in the first scrubber is provided with an incoming malodor sensor to measure the malodor concentration of the malodorous gas passing through the connecting pipe,
A withdrawal odor sensor is provided in the discharge pipe provided in the third scrubber to measure the odor concentration of the purified gas passing through the discharge pipe,
Relatively decomposable malodorous gas, comprising an integrated management unit receiving measurement values measured from the intake odor sensor and the withdrawal odor sensor, and selectively controlling the operation of each pump provided in the first to third scrubbers Treatment and carbon neutralization deodorization system.
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