KR102356860B1 - Polyimide film, cover window and display device comprsing the same - Google Patents

Polyimide film, cover window and display device comprsing the same Download PDF

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Abstract

본 발명은 폴리이미드 필름, 이를 포함하는 커버 윈도우 및 표시장치에 관한 것으로, 본 발명에 따른 폴리이미드 필름은 [화학식 1] 및 [화학식 2]로 표시되는 반복 단위들을 포함하며, 자외선 투과율이 10% 이하이다.The present invention relates to a polyimide film, a cover window and a display including the same, wherein the polyimide film according to the present invention includes repeating units represented by [Formula 1] and [Formula 2], and has a UV transmittance of 10% is below.

Description

폴리이미드 필름, 이를 포함하는 커버 윈도우 및 표시장치{POLYIMIDE FILM, COVER WINDOW AND DISPLAY DEVICE COMPRSING THE SAME}POLYIMIDE FILM, COVER WINDOW AND DISPLAY DEVICE COMPRSING THE SAME

본 발명은 폴리이미드 필름, 이를 포함하는 커버 윈도우 및 표시장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 자외선 투과율이 낮아 편광층을 일체로 형성하였을 때 편광 특성의 저하를 방지할 수 있도록 개발된 폴리이미드 필름, 이를 포함하는 커버 윈도우 및 표시장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a polyimide film, a cover window and a display device including the same, and more particularly, a polyimide film developed to prevent deterioration of polarization characteristics when a polarizing layer is integrally formed due to low ultraviolet transmittance. , to a cover window and a display device including the same.

액정표시장치(Liquid Crystal Display: LCD), 유기전계발광표시장치(Organic Light Emitting Display: OLED) 등과 같은 표시 장치의 표면에는 패널을 보호하기 위한 커버 윈도우(Cover Window)가 적용된다. 종래에는 상기 커버 윈도우의 재질로 평탄도, 내열성, 내화학성 및 수분이나 기체에 대한 배리어 성능이 우수하고, 선팽창계수가 작으며, 광 투과율이 높은 강화 유리가 주로 사용되었다.
A cover window for protecting a panel is applied to a surface of a display device such as a liquid crystal display (LCD) or an organic light emitting display (OLED). Conventionally, as a material of the cover window, tempered glass having excellent flatness, heat resistance, chemical resistance and barrier performance against moisture or gas, a small coefficient of linear expansion, and high light transmittance has been mainly used.

한편, 최근 곡면 디스플레이나 접이식 디스플레이와 같은 플렉서블 디스플레이들이 개발되고 있다. 이러한 플렉서블 디스플레이에 적용되기 위해서는 커버 윈도우 역시 유연성을 가지고 있어야 하나, 종래의 유리 재질의 커버 윈도우의 경우, 무겁고 깨지기 쉬울 뿐 아니라, 유연성이 떨어져 플렉서블 디스플레이에 적합하지 못하다.
Meanwhile, flexible displays such as curved displays or foldable displays have recently been developed. In order to be applied to such a flexible display, the cover window must also have flexibility, but in the case of a conventional glass cover window, it is not suitable for a flexible display because it is heavy and easy to break and has poor flexibility.

상기와 같은 문제점 때문에 최근에는 비교적 성형성이 자유로운 플라스틱 재질을 이용한 커버 윈도우들이 제안되고 있다. 플라스틱 재질을 이용한 커버 윈도우는 가볍고, 잘 깨지지 않으며, 다양한 디자인을 구현할 수 있다는 장점이 있다. 현재 커버 윈도우 기판용 플라스틱 재료로는 주로 투명성이 우수한 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리메틸메타크릴레이트 등이 사용되고 있다. 이들 재료들은 투명성이 우수하다는 장점이 있으나, 유리전이온도가 150℃ 이하로 내열 특성이 나쁘고, 내화학성 및 기계적 강도도 떨어져 적용이 제한되고 있으며, 이를 보완하기 위해 두꺼운 하드 코팅층 등을 형성하여야 하는데, 이 경우 성형 시에 하드 코팅층에 크랙이 발생하거나, 커버 윈도우 전체 두께가 두꺼워져 플렉서블 디스플레이에 적용하기 어렵다는 문제점이 있다.
Due to the above problems, recently, cover windows using a plastic material with relatively free formability have been proposed. A cover window made of a plastic material has the advantages of being light, not easily broken, and capable of implementing various designs. Currently, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polymethyl methacrylate, etc. having excellent transparency are mainly used as plastic materials for cover window substrates. These materials have the advantage of excellent transparency, but the glass transition temperature is below 150 ° C. In this case, there is a problem in that a crack occurs in the hard coating layer during molding, or the entire thickness of the cover window becomes thick, making it difficult to apply to a flexible display.

한편, 플렉서블 디스플레이 구현하기 위해서는 표시장치의 두께가 박형일 필요가 있다. 따라서, 최근에는 커버 윈도우에 편광판이나 터치 패널을 일체화하여 전체 디바이스의 두께를 줄이고자 하는 시도들이 있다. 그러나, 종래의 커버 윈도우로 사용되었던 플라스틱 재질들의 경우, 자외선 투과율이 높아 자외선에 의해 편광 기능을 수행하는 염료가 분해되어 편광도가 저하된다는 문제점이 있었다.
On the other hand, in order to implement a flexible display, the thickness of the display device needs to be thin. Accordingly, recently, attempts have been made to reduce the thickness of the entire device by integrating a polarizing plate or a touch panel into the cover window. However, in the case of the plastic materials used as the conventional cover window, there is a problem in that the UV transmittance is high, so that the dye performing the polarization function is decomposed by the UV light, so that the degree of polarization is lowered.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 유연성, 기계적 강도, 내열성 및 내화학성 등의 물성이 우수하며, 자외선 투과율이 낮은 신규한 조성의 폴리이미드 필름을 제공하고자 한다.The present invention is to solve the above problems, and to provide a polyimide film having a novel composition having excellent properties such as flexibility, mechanical strength, heat resistance and chemical resistance, and having low ultraviolet transmittance.

또한, 본 발명은 상기와 같은 폴리이미드 필름을 포함하는 커버 윈도우 및 표시 장치를 제공하고자 한다.
Another object of the present invention is to provide a cover window and a display device including the polyimide film as described above.

일 구현예에 따르면, 본 발명은 폴리이미드 필름을 제공하며, 본 발명에 따른 폴리이미드 필름은 하기 [화학식 1] 및 [화학식 2]로 표시되는 반복 단위들을 포함하며, 자외선 투과율이 10% 이하이다.According to one embodiment, the present invention provides a polyimide film, wherein the polyimide film according to the present invention includes repeating units represented by the following [Formula 1] and [Formula 2], and has an ultraviolet transmittance of 10% or less .

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112014126377128-pat00001
Figure 112014126377128-pat00001

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112014126377128-pat00002
Figure 112014126377128-pat00002

상기 [화학식 1] 및 [화학식 2]에서,In [Formula 1] and [Formula 2],

X1 및 X2는 각각 독립적으로 산 이무수물로부터 유도된 4가 유기기이고,X 1 and X 2 are each independently a tetravalent organic group derived from an acid dianhydride,

Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 디아민으로부터 유도된 2가 유기기이며,Y 1 and Y 2 are each independently a divalent organic group derived from diamine,

상기 X1, X2, Y1 및 Y2 중 적어도 하나 이상이 하기 [화학식 3]으로 표시되는 작용기들로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 작용기를 포함함.At least one of X 1 , X 2 , Y 1 and Y 2 includes at least one functional group selected from the group consisting of functional groups represented by the following [Formula 3].

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112014126377128-pat00003

Figure 112014126377128-pat00003

다른 구현예에 따르면, 본 발명은 커버 윈도우를 제공하며, 본 발명에 따른 커버 윈도우는 상기 [화학식 1] 및 [화학식 2]로 표시되는 반복 단위를 포함하며, 자외선 투과율이 10% 이하인 폴리이미드 필름과, 상기 폴리이미드 필름의 일측에 구비되는 편광층을 포함한다.
According to another embodiment, the present invention provides a cover window, wherein the cover window according to the present invention includes a repeating unit represented by [Formula 1] and [Formula 2], and a polyimide film having an ultraviolet transmittance of 10% or less and a polarizing layer provided on one side of the polyimide film.

또 다른 구현예에 따르면, 본 발명은 표시장치를 제공하며, 본 발명에 따른 표시장치는 표시 패널 및 상기 표시 패널 상에 배치되는 커버 윈도우를 포함하며, 이때, 상기 커버 윈도우는 상기 [화학식 1] 및 [화학식 2]로 표시되는 반복 단위를 포함하며, 자외선 투과율이 10% 이하인 폴리이미드 필름과 상기 폴리이미드 필름의 일측에 구비되는 편광층을 포함한다.
According to another embodiment, the present invention provides a display device, wherein the display device according to the present invention includes a display panel and a cover window disposed on the display panel, wherein the cover window includes the [Formula 1] and a repeating unit represented by Formula 2, a polyimide film having an ultraviolet transmittance of 10% or less, and a polarizing layer provided on one side of the polyimide film.

본 발명의 폴리이미드 필름은 투명성, 유연성, 내열성, 인장 강도 및 내화학특성이 우수하여 플렉서블 디스플레이 장치에 적합하며, 특히, 자외선 영역의 투과율이 낮아 필름 상에 편광층을 형성하였을 때, 자외선에 의한 편광층의 염료 분해가 최소화되어 우수한 편광 특성을 유지할 수 있도록 해준다.
The polyimide film of the present invention has excellent transparency, flexibility, heat resistance, tensile strength and chemical resistance, so it is suitable for a flexible display device. Decomposition of dyes in the polarizing layer is minimized to maintain excellent polarization properties.

또한, 본 발명의 커버 윈도우는 폴리이미드 필름의 상면 및/또는 하면에 편광층 및/또는 터치 패널 등을 일체로 형성함으로써, 박형의 표시장치를 구현할 수 있다.
In addition, the cover window of the present invention may implement a thin display device by integrally forming a polarizing layer and/or a touch panel on the upper and/or lower surfaces of the polyimide film.

도 1은 본 발명에 따른 커버 윈도우의 일 구현예를 보여주는 도면이다.
도 2는 본 발명에 따른 커버 윈도우의 다른 구현예를 보여주는 도면이다.
도 3은 본 발명에 따른 커버 윈도우의 또 다른 구현예를 보여주는 도면이다.
도 4는 본 발명에 따른 터치 센서의 일 구현예를 보여주는 도면이다.
도 5는 본 발명에 따른 표시 장치의 일 구현예를 보여주는 도면이다.
도 6은 본 발명에 따른 표시패널의 일 구현예를 보여주는 도면이다.
도 7은 본 발명에 따른 표시패널의 다른 구현예를 보여주는 도면이다.
1 is a view showing an embodiment of a cover window according to the present invention.
2 is a view showing another embodiment of a cover window according to the present invention.
3 is a view showing another embodiment of a cover window according to the present invention.
4 is a view showing an embodiment of a touch sensor according to the present invention.
5 is a diagram illustrating an exemplary embodiment of a display device according to the present invention.
6 is a view showing an embodiment of a display panel according to the present invention.
7 is a view showing another embodiment of a display panel according to the present invention.

이하, 도면을 참조하여 본 발명을 보다 자세히 설명하기로 한다. 다만, 하기 도면 및 구현예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위한 예시일 뿐, 본 발명이 하기 도면 및 구현예에 의해 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. However, the following drawings and embodiments are merely examples to allow the spirit of the present invention to be sufficiently conveyed to those skilled in the art, and the present invention is not limited by the following drawings and embodiments.

하기 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. The shapes, sizes, proportions, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings below are exemplary, and thus the present invention is not limited to the illustrated matters. Like reference numerals refer to like elements throughout. In addition, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known technology may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

본 명세서 상에서 언급한 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.When 'including', 'having', 'consisting', etc. mentioned in this specification are used, other parts may be added unless 'only' is used. When a component is expressed in the singular, cases including the plural are included unless otherwise explicitly stated.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the components, it is construed as including an error range even if there is no separate explicit description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, when the positional relationship of two parts is described as 'on', 'on', 'on', 'beside', etc., 'right' Alternatively, one or more other parts may be positioned between two parts unless 'directly' is used.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간 적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함한다.In the case of a description of a temporal relationship, for example, when the temporal relationship is described as 'after', 'following', 'after', 'before', etc., 'immediately' or 'directly' Unless ' is used, cases that are not continuous are included.

제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.Although the first, second, etc. are used to describe various elements, these elements are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. Accordingly, the first component mentioned below may be the second component within the spirit of the present invention.

본 발명의 여러 구현예들 각각의 특징적인 부분들은 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 구현예들은 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.
Characteristic parts of each of the various embodiments of the present invention can be partially or wholly combined or combined with each other, and technically various interlocking and driving are possible, and each embodiment may be implemented independently of each other or in a related relationship. It can also be done together.

먼저, 본 발명에 따른 폴리이미드 필름에 대해 설명한다. First, the polyimide film according to the present invention will be described.

본 발명자들은 유연성, 기계적 강도, 내열성 및 내화학성 등의 물성이 우수하며, 자외선 투과율이 낮은 커버 윈도우용 필름을 개발하기 위해 연구를 거듭한 결과, 반복 단위 내에 2개의 사이클로헥실기를 갖는 신규한 구조의 폴리이미드 필름을 개발하기에 이르렀다. 현재까지 알려진 투명 폴리이미드의 경우, 가시광선 투과율이 증가하는 것에 비례하여 자외선 투과율도 증가하여 가시광선 투과율과 자외선 투과율이 모두 높게 나타나는 것이 일반적이었다. 그러나, 본 발명의 폴리이미드 필름은 가시광선 투과율이 85% 이상으로 높으면서도 자외선 투과율은 10% 이하인 특성을 갖는다.
As a result of repeated research to develop a film for a cover window that has excellent properties such as flexibility, mechanical strength, heat resistance and chemical resistance, and has low UV transmittance, the present inventors have a novel structure having two cyclohexyl groups in the repeating unit. of polyimide film. In the case of the transparent polyimide known so far, it was common that the visible light transmittance increased in proportion to the increase in the visible light transmittance, so that both the visible light transmittance and the ultraviolet transmittance were high. However, the polyimide film of the present invention has a characteristic that the visible light transmittance is as high as 85% or more and the ultraviolet transmittance is 10% or less.

보다 구체적으로는, 본 발명의 폴리이미드 필름은 하기 [화학식 1] 및 [화학식 2]로 표시되는 반복 단위를 포함한다.More specifically, the polyimide film of the present invention includes repeating units represented by the following [Formula 1] and [Formula 2].

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112014126377128-pat00004
Figure 112014126377128-pat00004

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112014126377128-pat00005
Figure 112014126377128-pat00005

상기 [화학식 1] 및 [화학식 2]에서, X1 및 X2는 각각 독립적으로 산 이무수물로부터 유도된 4가 유기기로, 보다 구체적으로는, 적어도 하나 이상의 방향족 고리, 적어도 하나 이상의 지환족 고리, 지방족 사슬 및 이들의 조합을 포함하는 4가 유기기일 수 있다.
In the [Formula 1] and [Formula 2], X 1 and X 2 are each independently a tetravalent organic group derived from an acid dianhydride, more specifically, at least one aromatic ring, at least one alicyclic ring, tetravalent organic groups including aliphatic chains and combinations thereof.

또한, 상기 Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 디아민으로부터 유도된 2가 유기기이며, 보다 구체적으로는, 적어도 하나 이상의 방향족 고리, 적어도 하나 이상의 지환족 고리, 지방족 사슬 및 이들의 조합을 포함하는 4가 유기기일 수 있다.
In addition, Y 1 and Y 2 are each independently a divalent organic group derived from diamine, and more specifically, 4 including at least one aromatic ring, at least one alicyclic ring, an aliphatic chain, and combinations thereof may be an organic group.

한편, 본 발명의 폴리이미드 필름은, 상기 X1, X2, Y1 및 Y2 중 적어도 하나 이상이 하기 [화학식 3]으로 표시되는 작용기들로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 작용기를 포함하는 것을 그 특징으로 한다. 본 발명자들의 연구에 따르면, 하기 [화학식 3]의 작용기들처럼, 2개의 사이클로헥실기가 결합된 구조가 폴리이미드 또는 폴리아믹산 구조 내에 포함될 경우, 자외선 영역의 광은 흡수하고, 가시광선 영역의 광은 투과시키는 선택적 광 투과성이 나타나는 것으로 밝혀졌다. 보다 구체적으로는, 본 발명의 폴리이미드 필름은 자외선, 예를 들면, 365nm 파장에서의 광 투과율이 10% 이하, 바람직하게는 5%이다.
Meanwhile, in the polyimide film of the present invention , at least one of X 1 , X 2 , Y 1 and Y 2 includes at least one functional group selected from the group consisting of functional groups represented by the following [Formula 3] characterized by it. According to the research of the present inventors, when the structure in which two cyclohexyl groups are bonded is included in the polyimide or polyamic acid structure, like the functional groups of the following [Formula 3], the light in the ultraviolet region is absorbed, and the light in the visible region is It has been found to exhibit selective light transmittance that transmits silver. More specifically, the polyimide film of the present invention has a light transmittance of 10% or less, preferably 5% in ultraviolet rays, for example, at a wavelength of 365 nm.

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112014126377128-pat00006

Figure 112014126377128-pat00006

한편, 본 발명의 폴리이미드 필름은 상기 [화학식 3]으로 표시되는 작용기를 포함하는 반복 단위를 5몰% 내지 10몰%로 포함하는 것이 바람직하다. 상기 [화학식 3]으로 표시되는 작용기를 포함하는 반복 단위의 함량이 5몰% 미만인 경우에는 황색도가 높아져 투명성이 저하될 수 있으며, 10몰%를 초과하는 경우에는 자외선 투과율이 높아질 수 있기 때문이다.
On the other hand, the polyimide film of the present invention preferably contains 5 mol% to 10 mol% of the repeating unit including the functional group represented by the above [Formula 3]. When the content of the repeating unit including the functional group represented by the above [Formula 3] is less than 5 mol%, the yellowness may increase and transparency may decrease, and if it exceeds 10 mol%, the ultraviolet transmittance may be increased. .

상기와 같은 본 발명의 폴리이미드 필름은 산 이무수물과 디아민을 반응시켜 제조된 폴리이미드 수지를 제막하여 형성될 수 있다. 이때, 상기 산 이무수물 및/또는 디아민으로 구조가 상이한 2종 이상의 화합물들을 혼합하여 사용할 수 있으며, 이 경우, 반응물로 사용되는 산 이무수물들 및 디아민들 중 적어도 하나 이상의 화합물이 상기 [화학식 3]으로 표시되는 작용기를 포함한다.
The polyimide film of the present invention as described above may be formed by forming a film of a polyimide resin prepared by reacting an acid dianhydride with a diamine. At this time, the acid dianhydride and/or diamine may be used by mixing two or more compounds having different structures. The functional groups indicated are included.

예를 들면, 상기 [화학식 3]으로 표시되는 작용기를 포함하는 산 이무수물은 하기 [화학식 4]로 표시되는 화합물일 수 있다. 이 경우, 상기 [화학식 1] 및 [화학식 2]에서, X1 및/또는 X2는 하기 [화학식 4]로 표시되는 산 이무수물로부터 유도된 4가기일 수 있다.
For example, the acid dianhydride including a functional group represented by the [Formula 3] may be a compound represented by the following [Formula 4]. In this case, in [Formula 1] and [Formula 2], X 1 and/or X 2 may be a tetravalent group derived from an acid dianhydride represented by the following [Formula 4].

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112014126377128-pat00007
Figure 112014126377128-pat00007

상기 [화학식 4]에서, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 -O-, -S-, SO2- -SO-, -C(=O)- 또는 -CO2- 이고, 상기 Q1은 하기 [화학식 3]으로 표시되는 작용기들로 이루어진 군으로부터 선택되는 작용기이다.In [Formula 4], R 1 and R 2 are each independently -O-, -S-, SO2- -SO-, -C(=O)-, or -CO 2 -, and Q 1 is It is a functional group selected from the group consisting of functional groups represented by [Formula 3].

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112014126377128-pat00008

Figure 112014126377128-pat00008

또한, 상기 [화학식 3]으로 표시되는 작용기를 포함하는 디아민은, 예를 들면, 하기 [화학식 5]로 표시되는 화합물일 수 있으며, 이 경우, [화학식 1] 및 [화학식 2]에서, 상기 Y1 및/또는 Y2는, 하기 [화학식 5]로 표시되는 디아민으로부터 유도된 2가기일 수 있다. In addition, the diamine including a functional group represented by the [Formula 3] may be, for example, a compound represented by the following [Formula 5], in this case, in [Formula 1] and [Formula 2], the Y 1 and/or Y 2 may be a divalent group derived from a diamine represented by the following [Formula 5].

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112014126377128-pat00009
Figure 112014126377128-pat00009

이때, 상기 [화학식 5]에서, 상기 R3 및 R4는 각각 독립적으로 -O-, -S-, SO2- -SO-, -C(=O)- 또는 -CO2- 이고, 상기 Q2는 하기 [화학식 3]으로 표시되는 작용기들로 이루어진 군으로부터 선택되는 작용기일 수 있다. In this case, in [Formula 5], R 3 and R 4 are each independently -O-, -S-, SO2- -SO-, -C(=O)- or -CO 2 -, and the Q 2 may be a functional group selected from the group consisting of functional groups represented by the following [Formula 3].

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112014126377128-pat00010

Figure 112014126377128-pat00010

한편, 본 발명의 폴리이미드 필름에는, 상기 [화학식 3]의 작용기를 포함하지 않는 반복단위들, 즉, 상기 [화학식 3]의 작용기를 포함하지 않는 산 이무수물 및 디아민을 반응시켜 형성되는 반복단위들이 더 포함될 수 있다.
On the other hand, in the polyimide film of the present invention, repeating units that do not include the functional group of [Formula 3], that is, a repeating unit formed by reacting an acid dianhydride not containing the functional group of [Formula 3] and diamine more may be included.

이때, 상기 [화학식 3]의 작용기를 포함하는 않는 산 이무수물로는, 예를 들면, 방향족 산 이무수물이 사용될 수 있으며, 보다 구체적으로는, 피로멜리틱산 이무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 2,3,3',4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 나프탈렌-2,3,6,7-테트라카르복실산 이무수물, 나프탈렌-1,2,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 나프탈렌-1,2,4,5-테트라카르복실산 이무수물, 나프탈렌-1,4,5,8-테트라카르복실산 이무수물, 나프탈렌-1,2,6,7-테트라카르복실산 이무수물, 4,8-디메틸-1,2,3,5,6,7-헥사히드로나프탈렌-1,2,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 4,8-디메틸-1,2,3,5,6,7-헥사히드로나프탈렌-2,3,6,7-테트라카르복실산 이무수물, 2,6-디클로로나프탈렌-1,4,5,8-테트라카르복실산 이무수물, 2,7-디클로로나프탈렌-1,4,5,8-테트라카르복실산 이무수물, 2,3,6,7-테트라클로로나프탈렌-1,4,5,8-테트라카르복실산 이무수물, 1,4,5,8-테트라클로로나프탈렌-2,3,6,7-테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 2,3,3',4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 3,3",4,4"-p-터페닐테트라카르복실산 이무수물, 2,2",3,3"-p-터페닐테트라카르복실산 이무수물, 2,3,3",4"-p-터페닐테트라카르복실산 이무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)-프로판 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)-프로판 이무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)에테르 이무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 이무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)술폰 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)술폰 이무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 페릴렌-2,3,8,9-테트라카르복실산 이무수물, 페릴렌-3,4,9,10-테트라카르복실산 이무수물, 페릴렌-4,5,10,11-테트라카르복실산 이무수물, 페릴렌-5,6,11,12-테트라카르복실산 이무수물, 페난트렌-1,2,7,8-테트라카르복실산 이무수물, 페난트렌-1,2,6,7-테트라카르복실산 이무수물, 페난트렌-1,2,9,10-테트라카르복실산 이무수물, 시클로펜탄-1,2,3,4-테트라카르복실산 이무수 물, 피라진-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 피롤리딘-2,3,4,5-테트라카르복실산 이무수물, 티오펜-2,3,4,5-테트라카르복실산 이무수물, 4,4'-옥시디프탈산 이무수물 등을 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
In this case, as the acid dianhydride not containing a functional group of the above [Formula 3], for example, an aromatic acid dianhydride may be used, and more specifically, pyromellitic acid dianhydride, 3,3',4, 4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,3,3',4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, Naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride , naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,2,6,7-tetracarboxylic dianhydride, 4,8-dimethyl-1,2,3,5,6 ,7-hexahydronaphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 4,8-dimethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydronaphthalene-2,3,6, 7-tetracarboxylic dianhydride, 2,6-dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 2,7-dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,6,7-tetrachloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-tetrachloronaphthalene-2,3,6,7- Tetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ',4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3",4,4"-p-terphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2",3,3"-p-terphenyltetra Carboxylic dianhydride, 2,3,3",4"-p-terphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)-propane dianhydride, 2,2- Bis(3,4-dicarboxyphenyl)-propane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)ether dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(3,4-di Carboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)sulfone dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfone dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane Dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, perylene-2,3 ,8,9-tetracarboxylic dianhydride, perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic dianhydride, perylene-4,5,10,11-tetracarboxylic dianhydride, perylene -5,6,11,12-tetracarboxylic dianhydride, phenanthrene-1,2,7,8-tetracarboxylic dianhydride, phenanthrene-1,2,6,7-tetracarboxylic dianhydride Water, phenanthrene-1,2,9,10-tetracarboxylic dianhydride, cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride Water, pyrazine-2,3,5,6-tetracarboxylic Acid dianhydride, pyrrolidine-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride, thiophene-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic acid The dianhydride may be used alone or in combination of two or more, but is not limited thereto.

한편, 상기 [화학식 3]의 작용기를 포함하는 않는 디아민으로는, 예를 들면, 방향족 디아민이 사용될 수 있으며, 보다 구체적으로는, 4,6-디메틸-m-페닐렌디아민, 2,5-디메틸-p-페닐렌디아민, 2,4-디아미노메시틸렌, 4,4'-메틸렌디-o-톨루이딘, 4,4'-메틸렌디-2,6-크실리딘, 4,4'-메틸렌-2,6-디에틸아닐린, 2,4-톨루엔디아민, m-페닐렌디아민, p-페닐렌디아민, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 3,3'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에탄, 3,3'-디아미노디페닐에탄, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 3,3'-디아미노디페닐메탄, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 4,4'-디아미노디페닐술피드, 3,3'-디아미노디페닐술피드, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3-디아미노디페닐에테르, 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 벤지딘, 3,3'-디아미노비페닐, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디메톡시벤지딘, 4,4'-디아미노-p-터페닐, 3,3'-디아미노-p-터페닐, 비스(p-β-아미노-t-부틸페닐)에테르, 비스(p-β-메틸-δ-아미노펜틸)벤젠, p-비스(2-메틸-4-아미노펜틸)벤젠, p-비스(1,1-디메틸-5-아미노펜틸)벤젠, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,6-디아미노나프탈렌, 2,4-비스(β-아미노-t-부틸)톨루엔, 2,4-디아미노톨루엔, m-크실렌-2,5-디아민, p-크실렌-2,5-디아민, m-크실리렌디아민, p-크실리렌디아민, 2,6-디아미노피리딘, 2,5-디아미노피리딘, 2,5-디아미노-1,3,4-옥사디아졸, 피페라진 등을 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
On the other hand, as the diamine that does not include a functional group of the above [Formula 3], for example, an aromatic diamine may be used, and more specifically, 4,6-dimethyl-m-phenylenediamine, 2,5-dimethyl -p-phenylenediamine, 2,4-diaminomesitylene, 4,4'-methylenedi-o-toluidine, 4,4'-methylenedi-2,6-xylidine, 4,4'-methylene -2,6-diethylaniline, 2,4-toluenediamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylethane, 3,3'-diaminodiphenylethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 2,2-bis[ 4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 4,4'-diaminodiphenylsulfide, 3,3'-diaminodiphenylsulfide, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3, 3'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3-diaminodiphenyl ether, 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis( 4-aminophenoxy)benzene, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, benzidine, 3,3'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl , 3,3'-dimethoxybenzidine, 4,4'-diamino-p-terphenyl, 3,3'-diamino-p-terphenyl, bis(p-β-amino-t-butylphenyl)ether , bis(p-β-methyl-δ-aminopentyl)benzene, p-bis(2-methyl-4-aminopentyl)benzene, p-bis(1,1-dimethyl-5-aminopentyl)benzene, 1, 5-diaminonaphthalene, 2,6-diaminonaphthalene, 2,4-bis(β-amino-t-butyl)toluene, 2,4-diaminotoluene, m-xylene-2,5-diamine, p- Xylene-2,5-diamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 2,6-diaminopyridine, 2,5-diaminopyridine, 2,5-diamino-1,3,4 -Oxadiazole, piperazine, etc. may be used alone or in combination of two or more, but is not limited thereto.

상기와 같은 본 발명의 폴리이미드 필름은 자외선 투과율이 10% 이하로 자외선 차단 성능이 우수함과 동시에 고투명성을 갖는다. 구체적으로는, 본 발명의 폴리이미드 필름은 황색도(YI)가 4 이하이고, 가시광선 투과율이 85% 이상으로 높은 투명성을 갖는다. 이와 같은 특성은 본 발명의 폴리이미드 필름의 신규한 구조에 의해 나타나는 것으로, 종래의 투명 폴리이미드 필름에서는 나타나지 않았던 특성이다. 상기와 같은 본 발명의 폴리이미드 필름은 자외선 차단 성능이 우수하여, 이색성 염료를 사용하는 편광층을 일체로 형성하였을 때 자외선에 의한 편광층의 염료가 분해되는 것을 최소화함으로써 우수한 편광 특성을 유지할 수 있도록 해주며, 투명성이 우수하여 디스플레이 장치에 적용되기에 적합하다.
The polyimide film of the present invention as described above has excellent UV protection performance with UV transmittance of 10% or less and high transparency. Specifically, the polyimide film of the present invention has a yellowness (YI) of 4 or less and a visible light transmittance of 85% or more, and has high transparency. Such characteristics are exhibited by the novel structure of the polyimide film of the present invention, and are characteristics not exhibited in the conventional transparent polyimide film. The polyimide film of the present invention as described above has excellent UV blocking performance, and when a polarizing layer using a dichroic dye is integrally formed, excellent polarization properties can be maintained by minimizing the decomposition of the dye of the polarizing layer by UV rays. It has excellent transparency and is suitable for application to display devices.

또한, 본 발명의 폴리이미드 필름은 유리전이온도(Tg)가 290℃ 이상, 바람직하게는 290℃ 내지 500℃ 정도로 고내열 특성을 가지며, 폴리이미드의 특성상 우수한 유연성, 내화학성 및 기계적 강도를 갖는다.
In addition, the polyimide film of the present invention has a glass transition temperature (Tg) of 290 ° C. or higher, preferably about 290 ° C. to 500 ° C., has high heat resistance, and has excellent flexibility, chemical resistance and mechanical strength due to the characteristics of the polyimide.

다음으로, 본 발명의 커버 윈도우에 대해 설명한다.Next, the cover window of the present invention will be described.

도 1에는 본 발명의 커버 윈도우의 일 구현예가 도시되어 있다. 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 커버 윈도우(100)는 상기한 본 발명의 폴리이미드 필름(110) 및 편광층(120)을 포함한다.1 shows an embodiment of a cover window of the present invention. As shown in FIG. 1 , the cover window 100 of the present invention includes the polyimide film 110 and the polarizing layer 120 of the present invention described above.

이때, 상기 폴리이미드 필름(110)은, 상기한 바와 같이, 하기 [화학식 1] 및 [화학식 2]로 표시되는 반복 단위를 포함하여, 자외선 투과율이 10%이하이다.In this case, as described above, the polyimide film 110 includes repeating units represented by the following [Formula 1] and [Formula 2], and has an ultraviolet transmittance of 10% or less.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112014126377128-pat00011
Figure 112014126377128-pat00011

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112014126377128-pat00012
Figure 112014126377128-pat00012

상기 [화학식 1] 및 [화학식 2]에서, X1 및 X2는 각각 독립적으로 산 이무수물로부터 유도된 4가 유기기이고, Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 디아민으로부터 유도된 2가 유기기이며, 상기 X1, X2, Y1 및 Y2 중 적어도 하나 이상이 하기 [화학식 3]으로 표시되는 작용기들로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 작용기를 포함한다.
In [Formula 1] and [Formula 2], X 1 and X 2 are each independently a tetravalent organic group derived from an acid dianhydride, and Y 1 and Y 2 are each independently a divalent organic group derived from diamine. and at least one of X 1 , X 2 , Y 1 and Y 2 includes at least one functional group selected from the group consisting of functional groups represented by the following [Formula 3].

또한, 상기 폴리이미드 필름(110)은 상기 [화학식 3]으로 표시되는 작용기를 포함하는 반복 단위를 5몰% 내지 10몰%로 포함한다. 폴리이미드 필름의 구체적인 내용은 상술한 바와 동일하므로, 구체적인 설명은 생략한다.
In addition, the polyimide film 110 includes 5 mol% to 10 mol% of the repeating unit including the functional group represented by the [Formula 3]. Since the specific content of the polyimide film is the same as that described above, a detailed description thereof will be omitted.

다음으로, 상기 편광층(120)은 상기 폴리이미드 필름(110)의 일측에 구비되며, 이색성 염료를 일 방향으로 배향시켜 형성되는 코팅형 편광층이다. 상기 코팅형 편광층은 폴리이미드 필름의 일측에 배향막을 도포하고, 러빙 또는 광 조사를 통해 배향막에 배향성을 부여한 후, 상기 배향막 상에 이색성 염료를 도포하여 일정한 방향으로 배향시키는 방법으로 형성될 수 있다. 이때, 일정한 방향으로 배향된 이색성 염료가 특정 방향으로 진동하는 편광을 흡수함으로써 편광 성능을 구현하게 된다.
Next, the polarizing layer 120 is provided on one side of the polyimide film 110 and is a coating-type polarizing layer formed by orienting a dichroic dye in one direction. The coating-type polarizing layer may be formed by applying an alignment layer to one side of the polyimide film, imparting an alignment property to the alignment layer through rubbing or light irradiation, and then applying a dichroic dye on the alignment layer to align in a certain direction. have. In this case, the dichroic dye oriented in a certain direction absorbs polarized light vibrating in a specific direction to realize polarization performance.

보다 바람직하게는, 상기 편광층은 액정 및 유기 이색성 염료를 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 편광층은 폴리이미드 필름의 일측에 배향막을 도포하고, 러빙 또는 광 조사를 통해 배향막에 배향성을 부여한 후, 상기 배향막 상에 이색성 염료와 액정의 혼합물을 도포하여 일정한 방향으로 배향시키는 방법으로 형성될 수 있다. 배향막 상에 액정 및 유기 이색성 염료의 혼합물을 도포하면, 먼저 액정이 배향막에 의해 배향되고, 유기 이색성 염료가 액정을 따라 배향되면서 일정한 방향으로 배열되기 때문에 대면적 필름에 적용될 때, 이색성 염료의 배열을 보다 균일하게 형성할 수 있다는 장점이 있다.
More preferably, the polarizing layer may include a liquid crystal and an organic dichroic dye. In this case, the polarizing layer is formed by applying an alignment film to one side of the polyimide film, imparting an alignment property to the alignment film through rubbing or light irradiation, and then applying a mixture of a dichroic dye and liquid crystal on the alignment film to align it in a certain direction. method can be formed. When a mixture of liquid crystal and organic dichroic dye is applied on the alignment layer, the liquid crystal is first oriented by the alignment layer, and the organic dichroic dye is aligned along the liquid crystal and arranged in a certain direction, so when applied to a large area film, the dichroic dye It has the advantage of being able to form an arrangement more uniformly.

한편, 상기와 같은 코팅형 편광층은 제조 시에 연신 공정이 요구되지 않기 때문에 공정 시간 및 제조 비용이 절약되고, 액정 및 이색성 염료층이 자체적인 경도를 가지기 때문에 별도의 보호 필름이 필요하지 않아 박형으로 구현할 수 있다는 장점이 있다. 상기 본 발명의 편광층(120)의 두께는 10㎛ 내지 100㎛ 정도, 바람직하게는, 10㎛ 내지 50㎛ 정도일 수 있다.
On the other hand, since the coating-type polarizing layer as described above does not require a stretching process during manufacturing, process time and manufacturing cost are saved, and a separate protective film is not required because the liquid crystal and dichroic dye layers have their own hardness. It has the advantage that it can be implemented in a thin form. The thickness of the polarizing layer 120 of the present invention may be about 10 μm to 100 μm, preferably, about 10 μm to 50 μm.

한편, 도 1에는 상기 편광층(120)이 폴리이미드 필름(110) 상에 바로 형성된 것으로 도시되어 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 편광층(120)과 폴리이미드 필름(110) 사이에 하드 코팅층, 1/4 파장판, 보상필름과 같은 다른 층이나 필름이 개재될 수 있다.
Meanwhile, in FIG. 1 , the polarizing layer 120 is illustrated as being directly formed on the polyimide film 110 , but the present invention is not limited thereto, and a hard coating layer is disposed between the polarizing layer 120 and the polyimide film 110 . , other layers or films such as a quarter wave plate or a compensation film may be interposed.

한편, 도 2에는 본 발명의 커버 윈도우의 다른 구현예가 도시되어 있다. 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 커버 윈도우(100)는 상기 폴리이미드 필름(110)의 적어도 일면에 하드 코팅층(130)을 더 포함할 수 있다. 하드 코팅층(130)을 제외한 나머지 구성요소들은 상기에서 설명한 바와 동일하므로, 여기서는 하드 코팅층에 대해서만 설명하기로 한다.
Meanwhile, FIG. 2 shows another embodiment of the cover window of the present invention. As shown in FIG. 2 , the cover window 100 of the present invention may further include a hard coating layer 130 on at least one surface of the polyimide film 110 . Since the components other than the hard coating layer 130 are the same as described above, only the hard coating layer will be described herein.

상기 하드 코팅층(130)은 커버 윈도우(100)의 표면 경도를 향상시키기 위한 것으로, 폴리이미드 필름(110)의 일면 또는 양면에 형성된다. 도면에는 하드 코팅층(130)이 폴리이미드 필름(110)의 양면에 구비되는 것으로 도시되어 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 폴리이미드 필름의 일면에만 하드 코팅층이 형성되어도 무방하다. 또한, 도 2에는 하드 코팅층(130)이 1층으로 형성된 것으로 도시되어 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 하드 코팅층은 2층 이상의 다층 구조로 이루어질 수도 있다.
The hard coating layer 130 is for improving the surface hardness of the cover window 100 and is formed on one or both surfaces of the polyimide film 110 . Although the drawings show that the hard coating layer 130 is provided on both surfaces of the polyimide film 110 , the present invention is not limited thereto. That is, the hard coating layer may be formed only on one surface of the polyimide film. In addition, although it is illustrated in FIG. 2 that the hard coating layer 130 is formed in one layer, the present invention is not limited thereto, and the hard coating layer may have a multilayer structure of two or more layers.

한편, 상기 하드 코팅층의 재질은 특별히 한정되지 않으며, 당해 기술 분야에서 플라스틱 필름의 표면 경도를 향상시키기 위해 사용되는 다양한 재료들이 제한없이 사용될 수 있다. 상기 하드 코팅층(130)의 두께는, 예를 들면, 5㎛ 내지 100㎛ 정도, 바람직하게는, 6㎛ 내지 50㎛ 정도일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
On the other hand, the material of the hard coating layer is not particularly limited, and various materials used to improve the surface hardness of the plastic film in the art may be used without limitation. The thickness of the hard coating layer 130 may be, for example, about 5 μm to about 100 μm, preferably, about 6 μm to about 50 μm, but is not limited thereto.

도 3에는 본 발명의 커버 윈도우의 또 다른 구현예가 도시되어 있다. 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 커버 윈도우(100)는 상기 폴리이미드 필름(110)의 타측, 즉, 편광층(120)이 구비된 측의 반대측에 터치 패널(400)을 더 포함할 수 있다. 터치 패널을 제외한 나머지 구성요소들은 상기에서 설명한 바와 동일하므로, 여기서는 터치 패널에 대해서만 설명하기로 한다.
3 shows another embodiment of the cover window of the present invention. As shown in FIG. 3 , the cover window 100 of the present invention may further include a touch panel 400 on the other side of the polyimide film 110 , that is, on the opposite side of the side on which the polarization layer 120 is provided. can Since components other than the touch panel are the same as described above, only the touch panel will be described herein.

도 4에는 본 발명에 따른 터치 패널(400)의 일 구현예가 도시되어 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 터치 패널(400)은 광이 투과되는 표시영역(AA) 및 광이 투과되지 않는 비표시 영역(IA)으로 구분될 수 있다. 자세하게, 상기 표시 영역(AA)은 사용자의 터치 명령 입력이 가능한 영역을 의미하며, 상기 비표시 영역(IA)은 상기 표시 영역(AA)과 반대되는 개념으로서, 사용자의 터치가 이루어지는 경우에도 활성화되지 않아서 터치 명령 입력이 이루어지지 않는 영역을 의미한다.4 shows an embodiment of the touch panel 400 according to the present invention. As shown in FIG. 4 , the touch panel 400 may be divided into a display area AA through which light is transmitted and a non-display area IA through which light is not transmitted. In detail, the display area AA means an area in which a user's touch command input is possible, and the non-display area IA is a concept opposite to the display area AA, and is not activated even when a user touches it. Therefore, it means an area where touch command input is not performed.

상기 터치 패널(400)은 제 1 터치 기판(401)의 일면에 감지 전극(421) 및 배선(422)이 배치될 수 있다. 이때, 상기 제 1 터치 기판(401)은 별도의 기판일 수도 있고, 본 발명의 폴리이미드 필름(110)일 수도 있다. 박형 구현의 관점에서, 상기 제1터치 기판(401)은 상기 폴리이미드 필름(110)인 것이 바람직하며, 이 경우, 상기 터치 패널(400)의 감지 전극(421) 및 배선(422)은 폴리이미드 필름(110)의 일면에 구비되어 커버 윈도우(100)에 터치 패널(400)이 일체형으로 형성된다.In the touch panel 400 , a sensing electrode 421 and a wiring 422 may be disposed on one surface of the first touch substrate 401 . In this case, the first touch substrate 401 may be a separate substrate or the polyimide film 110 of the present invention. From the viewpoint of thin implementation, the first touch substrate 401 is preferably the polyimide film 110 . In this case, the sensing electrode 421 and the wiring 422 of the touch panel 400 are polyimide It is provided on one surface of the film 110 and the touch panel 400 is integrally formed on the cover window 100 .

상기 감지 전극(421)은 상기 표시 영역(AA) 상에 배치되고, 상기 배선(422)은 상기 비표시 영역(IA) 상에 배치될 수 있다. 도면에는 도시하지 않았으나, 상기 제 1 터치 기판(401)의 비표시 영역(IA)에는 인쇄층이 더 형성될 수 있다. 또한, 상기 인쇄층 상에 배선(422)이 형성될 수 있다.The sensing electrode 421 may be disposed on the display area AA, and the wiring 422 may be disposed on the non-display area IA. Although not shown in the drawings, a printed layer may be further formed in the non-display area IA of the first touch substrate 401 . Also, a wiring 422 may be formed on the printed layer.

상기 감지 전극(421)은 전도성 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 감지 전극(421)은 투명 전도성 물질, 금속, 나노와이어, 감광성 나노와이어 필름, 탄소나노튜브(CNT), 그래핀(graphene), 전도성 폴리머 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 포함할 수 있다. The sensing electrode 421 may include a conductive material. For example, the sensing electrode 421 may be selected from the group consisting of a transparent conductive material, a metal, a nanowire, a photosensitive nanowire film, a carbon nanotube (CNT), graphene, a conductive polymer, and combinations thereof. may include any one.

상기 감지 전극(421)은 제 1 감지 전극(411) 및 제 2 감지 전극(412)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 감지 전극(411) 및 상기 제 2 감지 전극(412)은 동일한 물질을 포함하거나 또는 서로 다른 물질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 1 감지 전극(411) 및 상기 제 2 감지 전극(412)은 제 1 터치 기판(401)의 동일한 일면 상에 배치될 수 있다.The sensing electrode 421 may include a first sensing electrode 411 and a second sensing electrode 412 . The first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 may include the same material or different materials. Also, the first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 may be disposed on the same surface of the first touch substrate 401 .

상기 제 1 감지 전극(411) 및 상기 제 2 감지 전극(412)이 제 1 터치 기판(401)의 동일한 일면 상에 배치되는 경우, 상기 제 1 감지 전극(411) 및 상기 제 2 감지 전극(412)이 서로 접하지 않게 형성되어야 한다. 이를 위해, 절연층과 브리지 전극이 더 배치될 수 있다. When the first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 are disposed on the same surface of the first touch substrate 401 , the first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 are ) should not be in contact with each other. To this end, an insulating layer and a bridge electrode may be further disposed.

자세하게는, 상기 제 1 감지 전극(411) 및 상기 제 2 감지 전극(412) 중 어느 하나의 감지 전극은 절연층 하부에 배치되고, 또 다른 하나는 상기 절연층 상에 형성된 상기 브리지 전극의 양단에 연결되어 전기적으로 연결될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 감지 전극(411)과 상기 제 2 감지 전극(412)은 브리지 전극과 절연층에 의해 서로 쇼트되어 단락되지 않고 각각 전기적으로 연결될 수 있다.In detail, one sensing electrode of the first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 is disposed under the insulating layer, and the other sensing electrode is disposed at both ends of the bridge electrode formed on the insulating layer. connected and may be electrically connected. Accordingly, the first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 may be electrically connected to each other without being short-circuited by the bridge electrode and the insulating layer.

상기 제 1 감지 전극(411) 및 상기 제 2 감지 전극(412)은 상기 표시 영역(AA) 상에 배치되어 터치를 감지하는 센서 역할을 할 수 있다. 자세하게. 상기 제 1 감지 전극(411)은 상기 표시 영역(AA) 상에서 일 방향으로 연장되며 배치될 수 있고, 상기 제 2 감지 전극(412)은 상기 일 방향과 다른 방향으로 연장하며 배치될 수 있다.The first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 may be disposed on the display area AA to serve as a sensor for sensing a touch. in details. The first sensing electrode 411 may be disposed to extend in one direction on the display area AA, and the second sensing electrode 412 may be disposed to extend in a direction different from the one direction.

상기 배선(420)은 제 1 배선(421) 및 제 2 배선(422)을 포함할 수 있다. 자세하게는, 상기 배선(420)은 상기 제 1 감지 전극(411)과 연결되는 상기 제 1 배선(421) 및 상기 제 2 감지 전극(412)과 연결되는 상기 제 2 배선(422)을 포함할 수 있다.The wiring 420 may include a first wiring 421 and a second wiring 422 . In detail, the wiring 420 may include the first wiring 421 connected to the first sensing electrode 411 and the second wiring 422 connected to the second sensing electrode 412 . have.

상기 제 1 배선(421) 및 상기 제 2 배선(422)은 인쇄회로기판(미도시)과 연결될 수 있다. 자세하게는, 상기 제 1 배선(421) 및 상기 제 2 배선(422)은 상기 제 1 감지 전극(411) 및 상기 제 2 감지 전극(412)으로부터 감지되는 터치신호를 구동칩(미도시)이 실장된 상기 인쇄회로기판(미도시)에 전달하여 터치 동작을 수행할 수 있다. 상기 인쇄회로기판(미도시)은 예를 들어, 플렉서블 인쇄회로기판(FPCB)일 수 있다.The first wiring 421 and the second wiring 422 may be connected to a printed circuit board (not shown). In detail, a driving chip (not shown) is mounted on the first wiring 421 and the second wiring 422 for a touch signal sensed from the first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 . A touch operation may be performed by transferring the information to the printed circuit board (not shown). The printed circuit board (not shown) may be, for example, a flexible printed circuit board (FPCB).

상기 제 1 배선(421) 및 상기 제 2 배선(422)은 전도성 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 제 1 배선(421) 및 상기 제 2 배선(422)은 은(Ag) 또는 구리(Cu) 등의 금속 물질을 포함할 수 있다.The first wiring 421 and the second wiring 422 may include a conductive material. For example, the first wiring 421 and the second wiring 422 may include a metal material such as silver (Ag) or copper (Cu).

도면 상에는 도시되지 않았으나, 상기 배선(420) 상에는 보호층(미도시)이 더 형성될 수 있다. 상기 보호층(미도시)은 상기 배선(420)을 보호할 수 있다. 구체적으로, 상기 보호층(미도시)은 상기 배선(420)이 산소에 노출되어 산화되거나 수분이 침투하여 신뢰성이 하락되는 것을 방지할 수 있다. Although not shown in the drawing, a protective layer (not shown) may be further formed on the wiring 420 . The protective layer (not shown) may protect the wiring 420 . Specifically, the protective layer (not shown) may prevent the wiring 420 from being oxidized by exposure to oxygen or from being deteriorated in reliability due to penetration of moisture.

다만, 본 발명에 따른 터치 패널의 구성은 도 4에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능하다.
However, the configuration of the touch panel according to the present invention is not limited to FIG. 4 , and various changes and modifications are possible without departing from the technical spirit of the present invention.

상기와 같은 본 발명의 커버 윈도우(100)은 전체 두께가 30㎛ 내지 500㎛ 정도로 종래의 커버 윈도우에 비해 박형으로 구현될 수 있어 플렉서블 디스플레이에 적용되기 적합하다. 또한, 자외선 투과율이 낮은 폴리이미드 필름을 사용하여 자외선에 의한 편광층의 염료가 분해되는 것을 최소화함으써 우수한 편광 성능을 구현할 수 있다. 또한, 상기 폴리이미드 필름을 터치 기판으로 사용할 경우, 표시장치의 두께를 한층 더 얇게 형성할 수 있다.
The cover window 100 of the present invention as described above has a total thickness of 30 μm to 500 μm, which can be implemented to be thinner than the conventional cover window, so it is suitable for being applied to a flexible display. In addition, excellent polarization performance can be realized by minimizing the decomposition of the dye of the polarizing layer by ultraviolet rays by using a polyimide film having a low ultraviolet transmittance. In addition, when the polyimide film is used as a touch substrate, the thickness of the display device may be further reduced.

다음으로, 본 발명의 표시장치에 대해서 설명한다. 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 표시장치는 표시 패널(300) 및 상기 표시 패널 상에 배치되는 본 발명의 커버 윈도우(100)를 포함한다. 한편, 상기 커버 윈도우는 상술한 바와 동일하므로, 여기서는 표시 패널(300)에 대해서만 설명하기로 한다.
Next, the display device of the present invention will be described. As shown in FIG. 5 , the display device of the present invention includes a display panel 300 and a cover window 100 of the present invention disposed on the display panel. Meanwhile, since the cover window is the same as described above, only the display panel 300 will be described herein.

상기 표시 패널(300)은 액정표시패널 또는 유기전계발광표시패널일 수 있다. The display panel 300 may be a liquid crystal display panel or an organic light emitting display panel.

도 6에는 상기 표시 패널(300)이 액정표시패널인 경우가 도시되어 있다. 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 액정표시패널(300)은 액정층(380)을 사이에 두고 제 1 기판(301)과 제 2 기판(302)이 합착되어 형성된다. 이때, 상기 하드 코팅층(100)은 상기 표시 패널(300)의 제 1 기판(301) 또는 제 2 기판(302)의 외부로 노출된 면에 코팅되어 형성될 수 있다.6 illustrates a case in which the display panel 300 is a liquid crystal display panel. As shown in FIG. 6 , the liquid crystal display panel 300 is formed by bonding a first substrate 301 and a second substrate 302 with a liquid crystal layer 380 interposed therebetween. In this case, the hard coating layer 100 may be formed by coating the surface exposed to the outside of the first substrate 301 or the second substrate 302 of the display panel 300 .

또한, 도면에는 도시하지 않았으나, 상기 액정표시패널(300) 하부에는 백라이트 유닛이 배치될 수 있다. In addition, although not shown in the drawings, a backlight unit may be disposed under the liquid crystal display panel 300 .

한편, 상기 제 1 기판(301)의 일면에는 게이트 배선과 데이터 배선이 게이트 절연막(352)을 사이에 두고 서로 수직하게 교차하도록 배치되어 화소 영역을 정의한다. 상기 화소 영역에는 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor, TFT)가 구비되며, 상기 박막 트랜지스터는 각 화소 영역에 마련된 화소 전극(357)과 절연층(356)에 형성된 콘택홀을 통해 접속된다. 즉, 상기 제 1 기판(301)은 박막트랜지스터 기판이라고 할 수 있다.Meanwhile, on one surface of the first substrate 301 , a gate line and a data line are disposed to cross each other perpendicularly with a gate insulating layer 352 interposed therebetween to define a pixel area. A thin film transistor (TFT) is provided in the pixel region, and the thin film transistor is connected to the pixel electrode 357 provided in each pixel region through a contact hole formed in the insulating layer 356 . That is, the first substrate 301 may be referred to as a thin film transistor substrate.

상기 박막 트랜지스터(TFT)는 게이트 전극(351), 게이트 절연막(352), 반도체층(353), 소스 전극(354) 및 드레인 전극(355)으로 이루어진다. 또한, 도면에는 상기 박막 트랜지스터의 게이트 전극(351)이 반도체층(353)의 아래에 배치되는 보텀 게이트(Bottom gate) 구조가 도시되어 있으나, 이러한 구조로 한정되는 것은 아니며, 게이트 전극(351)이 반도체층(353)의 위에 배치되는 탑(Top) 게이트 구조로 형성될 수도 있다. 또한, 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 박막 트랜지스터의 구성 등은 다양한 변경 및 수정이 가능하다.The thin film transistor TFT includes a gate electrode 351 , a gate insulating layer 352 , a semiconductor layer 353 , a source electrode 354 , and a drain electrode 355 . In addition, although the drawing shows a bottom gate structure in which the gate electrode 351 of the thin film transistor is disposed under the semiconductor layer 353, it is not limited to this structure, and the gate electrode 351 is It may be formed as a top gate structure disposed on the semiconductor layer 353 . In addition, various changes and modifications are possible to the configuration of the thin film transistor without departing from the technical spirit of the present invention.

또한, 상기 액정표시패널(300)의 상기 제 2 기판(302)의 일면에는 제 1 기판(301)의 박막 트랜지스터(TFT)등이 배치되는 비표시 영역을 가리면서 화소 영역을 두르는 격자 형상의 블랙매트릭스(371)가 형성된다. 또한, 이들 격자 내부에는 각 화소 영역에 대응되게 순차적으로 반복 배열되는 R(red), G(green), B(blue) 컬러필터층(372) 및 이들 모두를 덮는 투명한 공통 전극(373)이 포함된다. 즉, 상기 제 2 기판(302)은 컬러필터 기판일 수 있다. In addition, on one surface of the second substrate 302 of the liquid crystal display panel 300 , a black grid-shaped black enclosing a pixel area while covering a non-display area in which a thin film transistor (TFT) of the first substrate 301 is disposed. A matrix 371 is formed. In addition, R (red), G (green), and B (blue) color filter layers 372 that are sequentially and repeatedly arranged to correspond to each pixel area are included in the grid, and a transparent common electrode 373 covering all of them is included. . That is, the second substrate 302 may be a color filter substrate.

상기 액정층(380)과 화소 전극(357) 사이 및 상기 액정층(380)과 공통 전극(373) 사이에는 각각 제 1 배향막(358) 및 제 2 배향막(374)이 개재된다. 상기 제 1 배향막(358) 및 제 2 배향막(374)은 액정분자의 초기배열상태와 배향 방향을 균일하게 정렬할 수 있다.A first alignment layer 358 and a second alignment layer 374 are interposed between the liquid crystal layer 380 and the pixel electrode 357 and between the liquid crystal layer 380 and the common electrode 373 , respectively. The first alignment layer 358 and the second alignment layer 374 may uniformly align the initial alignment state and alignment direction of the liquid crystal molecules.

다만, 도면은 본 발명에 따른 액정표시패널을 간소화하여 도시한 것으로, 이에 한정되지 않는다. 예를 들면, 도면 상에는 하나의 박막 트랜지스터로 표현하였으나, 동작의 특성의 따라 상기 박막 트랜지스터는 하나 이상의 박막 트랜지스터 조합으로 구성될 수 있다. However, the drawings are simplified illustrations of the liquid crystal display panel according to the present invention, and the present invention is not limited thereto. For example, although one thin film transistor is represented in the drawing, the thin film transistor may be composed of a combination of one or more thin film transistors depending on the characteristics of operation.

또한, 액정분자의 배열을 조절하는 방식은 TN(Twisted Nematic) 모드, VA(Vertical Alignment) 모드 외에도 IPS(In Plane Switching) 모드 또는 FFS(Fringe Field Switching) 모드 등으로 다양하게 적용할 수 있다. 이에 따라 도면 상에는 화소 전극(357)이 제 1 기판(301)에 형성되고, 공통 전극(373)은 제 2 기판(302)에 형성되는 구성을 도시하였으나, 화소 전극(357)과 공통 전극(373)의 구성도 변경 및 수정될 수 있다. IPS(In Plane Switching) 모드 또는 FFS(Fringe Field Switching) 모드일 경우, 상기 화소 전극(357)과 공통 전극(373)은 상기 제 1 기판(301)에 형성될 수 있다.In addition, the method for controlling the arrangement of liquid crystal molecules can be variously applied to a twisted nematic (TN) mode and a vertical alignment (VA) mode, as well as an IPS (In Plane Switching) mode or FFS (Fringe Field Switching) mode. Accordingly, although the pixel electrode 357 is formed on the first substrate 301 and the common electrode 373 is formed on the second substrate 302 in the drawing, the pixel electrode 357 and the common electrode 373 are illustrated. ) may be changed or modified. In an In Plane Switching (IPS) mode or a Fringe Field Switching (FFS) mode, the pixel electrode 357 and the common electrode 373 may be formed on the first substrate 301 .

또한, 상기 액정표시패널(300)은 박막 트랜지스터, 컬러필터층 및 블랙매트릭스가 제 1 기판(301)에 형성되고, 제 2 기판(302)이 액정층을 사이에 두고 상기 제 1 기판(301)과 합착되는 COT(color filter on transistor)구조의 액정표시패널일 수도 있다. 즉, 상기 제 1 기판(301) 상에 박막 트랜지스터를 형성하고, 상기 박막 트랜지스터 상에 보호막을 형성하고, 상기 보호막 상에 컬러필터층을 형성할 수 있다. 또한, 상기 제 1 기판(301)에는 상기 박막 트랜지스터와 접촉하는 화소 전극을 형성한다. 이때, 개구율을 향상하고 마스크 공정을 단순화하기 위해 블랙매트릭스를 생략하고, 공통 전극이 블랙매트릭스의 역할을 겸하도록 형성할 수도 있다.In addition, in the liquid crystal display panel 300 , a thin film transistor, a color filter layer, and a black matrix are formed on a first substrate 301 , and a second substrate 302 is formed on the first substrate 301 with the liquid crystal layer interposed therebetween. It may be a liquid crystal display panel having a color filter on transistor (COT) structure to be bonded. That is, a thin film transistor may be formed on the first substrate 301 , a protective film may be formed on the thin film transistor, and a color filter layer may be formed on the protective film. In addition, a pixel electrode in contact with the thin film transistor is formed on the first substrate 301 . In this case, in order to improve the aperture ratio and simplify the mask process, the black matrix may be omitted, and the common electrode may also serve as the black matrix.

즉, 액정표시패널(300)은 도면의 표현에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능하다.
That is, the liquid crystal display panel 300 is not limited to the representation of the drawings, and various changes and modifications are possible without departing from the technical spirit of the present invention.

한편, 도 7에는 상기 표시패널(300)이 유기전계발광표시패널인 경우가 도시되어 있다. 도 7을 참조하여 상기 표시 패널(300)이 유기전계발광표시패널인 경우를 설명하면 다음과 같다. Meanwhile, FIG. 7 shows a case in which the display panel 300 is an organic light emitting display panel. A case in which the display panel 300 is an organic light emitting display panel will be described with reference to FIG. 7 .

도 7에 도시된 바와 같이, 상기 유기전계발광표시패널(300)은 박막 트랜지스터(TFT)와 상기 박막 트랜지스터(TFT)와 전기적으로 연결된 유기발광소자(OL)가 형성된 제 1 기판(301)과 상기 유기발광소자(OL)를 보호하기 위한 제 2 기판(302)을 포함한다. 이때, 본 발명의 하드 코팅층(100)은 상기 표시 패널(300)의 제 1 기판(301) 또는 제 2 기판(302)의 외부로 노출된 면에 코팅되어 형성될 수 있다. As shown in FIG. 7 , the organic light emitting display panel 300 includes a first substrate 301 on which a thin film transistor (TFT) and an organic light emitting device (OL) electrically connected to the thin film transistor (TFT) are formed; and a second substrate 302 for protecting the organic light emitting diode OL. In this case, the hard coating layer 100 of the present invention may be formed by coating the surface exposed to the outside of the first substrate 301 or the second substrate 302 of the display panel 300 .

상기 제 1 기판(301)과 상기 제 2 기판(302) 사이에는 봉지층(324)이 형성될 수 있다. 도면 상에는 상기 봉지층(324)을 단일층으로 도시하였으나, 상기 봉지층(324)은 보호층 및 접착층 등 다수의 층으로 구성될 수 있다. An encapsulation layer 324 may be formed between the first substrate 301 and the second substrate 302 . Although the drawing shows the encapsulation layer 324 as a single layer, the encapsulation layer 324 may be composed of a plurality of layers, such as a protective layer and an adhesive layer.

상기 유기전계발광표시패널(300)의 제 1 기판(301) 상의 일면에는 박막 트랜지스터(TFT)가 형성된다. 상기 박막 트랜지스터(TFT)는 반도체층(311), 게이트 전극(313), 소스 전극(315) 및 드레인 전극(316)을 포함하여 형성된다. A thin film transistor (TFT) is formed on one surface of the first substrate 301 of the organic light emitting display panel 300 . The thin film transistor TFT is formed to include a semiconductor layer 311 , a gate electrode 313 , a source electrode 315 , and a drain electrode 316 .

상기 반도체층(311)은 소스영역(311a), 채널영역(311b) 및 드레인영역(311c)을 포함하며, 상기 반도체층(311) 상에 게이트 절연막(312)이 형성되고, 상기 게이트 절연막(312) 상에 게이트 배선과 상기 게이트 배선으로부터 분기된 게이트 전극(313)이 형성된다. 상기 게이트 배선과 게이트 전극(313) 상에 층간 절연막(314)이 형성된다. The semiconductor layer 311 includes a source region 311a, a channel region 311b, and a drain region 311c, a gate insulating layer 312 is formed on the semiconductor layer 311, and the gate insulating layer 312 ), a gate line and a gate electrode 313 branched from the gate line are formed. An interlayer insulating layer 314 is formed on the gate wiring and the gate electrode 313 .

상기 층간 절연막(314)을 사이에 두고 게이트 배선과 교차하여 화소 영역을 정의하는 데이터 배선과 상기 데이터 배선으로부터 분기된 소스 전극(315) 및 상기 소스 전극(315)으로부터 일정간격 이격하여 드레인 전극(316)이 형성된다. 이때, 상기 소스 전극(315)과 드레인 전극(316)은 상기 게이트 전극(313) 상에 형성된 층간 절연막(314)과 게이트 절연막(312)을 관통하여 형성된 콘택홀을 통해 상기 반도체층(311)의 소스영역(311a)과 드레인영역(311c)과 접촉한다. A data line defining a pixel area by crossing the gate line with the interlayer insulating layer 314 interposed therebetween, a source electrode 315 branched from the data line, and a drain electrode 316 spaced apart from the source electrode 315 by a predetermined distance ) is formed. In this case, the source electrode 315 and the drain electrode 316 are connected to the semiconductor layer 311 through a contact hole formed through the interlayer insulating layer 314 and the gate insulating layer 312 formed on the gate electrode 313 . They contact the source region 311a and the drain region 311c.

상기 소스 전극(315) 및 드레인 전극(316) 상에는 보호막(317)이 형성되고, 상기 보호막(317)에는 상기 드레인 전극(316)을 노출하는 콘택홀이 형성된다. 상기 노출된 드레인 전극(316)은 상기 보호막(317) 상에 형성된 연결전극(318)과 전기적으로 연결된다. 또한, 상기 박막 트랜지스터(TFT)를 포함하는 제 1 기판(301) 전면에 평탄화막(319)이 형성되고, 상기 평탄화막(319)에는 상기 연결전극(318)이 노출되는 콘택홀이 형성된다. A passivation layer 317 is formed on the source electrode 315 and the drain electrode 316 , and a contact hole exposing the drain electrode 316 is formed in the passivation layer 317 . The exposed drain electrode 316 is electrically connected to the connection electrode 318 formed on the passivation layer 317 . In addition, a planarization layer 319 is formed on the entire surface of the first substrate 301 including the thin film transistor (TFT), and a contact hole through which the connection electrode 318 is exposed is formed in the planarization layer 319 .

상기 평탄화막(319)에 형성된 콘택홀을 통해 박막 트랜지스터(TFT)와 전기적으로 연결되는 유기발광소자(OL)가 형성된다. 상기 유기발광소자(OL)는 하부 전극(320), 유기발광층(322) 및 상부 전극(323)으로 이루어진다. An organic light emitting diode OL electrically connected to the thin film transistor TFT is formed through the contact hole formed in the planarization layer 319 . The organic light emitting device OL includes a lower electrode 320 , an organic light emitting layer 322 , and an upper electrode 323 .

보다 자세하게는, 상기 노출된 연결전극(318) 상에 유기발광소자(OL)의 하부 전극(320)이 형성된다. 도면 상에는 유기발광소자(OL)의 하부 전극(320)과 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(316)이 연결전극(318)을 통해 연결되도록 도시되어 있으나, 연결전극(318)이 생략되고, 유기발광소자(OL)의 하부 전극(320)과 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(116)이 콘택홀이 형성된 평탄화막(319)을 통해 직접 접촉하여 형성될 수도 있다.In more detail, the lower electrode 320 of the organic light emitting device OL is formed on the exposed connection electrode 318 . Although the drawing shows that the lower electrode 320 of the organic light emitting diode OL and the drain electrode 316 of the thin film transistor TFT are connected through the connection electrode 318, the connection electrode 318 is omitted, and the organic The lower electrode 320 of the light emitting device OL and the drain electrode 116 of the thin film transistor TFT may be formed in direct contact with each other through the planarization layer 319 in which the contact hole is formed.

상기 하부 전극(320) 상에는 화소 영역 단위로 상기 하부 전극(320)을 노출하는 뱅크(bank) 패턴(321)이 형성된다. 상기 노출된 하부 전극(320) 상에는 유기발광층(322)이 형성된다. 상기 유기발광층(322)은 발광물질로 이루어진 단일층으로 구성되거나, 또는 발광 효율을 높이기 위해 정공주입층(hole injection layer), 정공수송층(hole transporting layer), 발광층(emitting material layer), 전자수송층(electron transporting layer), 및 전자주입층(electron injection layer)의 다중층으로 구성될 수 있다. A bank pattern 321 exposing the lower electrode 320 is formed on the lower electrode 320 in units of pixel areas. An organic light emitting layer 322 is formed on the exposed lower electrode 320 . The organic light emitting layer 322 is composed of a single layer made of a light emitting material, or a hole injection layer, a hole transporting layer, a light emitting layer, an electron transporting layer ( It may be composed of multiple layers of an electron transporting layer, and an electron injection layer.

상기 유기발광층(322) 상에 상부 전극(323)이 형성된다. 상기 하부 전극(320)이 애노드(anode)인 경우, 상기 상부 전극(323)은 캐소드(cathode)이며, 상기 하부 전극(320)이 캐소드(cathode)인 경우, 상기 상부 전극은 애노드(anode)이다. An upper electrode 323 is formed on the organic light emitting layer 322 . When the lower electrode 320 is an anode, the upper electrode 323 is a cathode, and when the lower electrode 320 is a cathode, the upper electrode is an anode .

상기 박막 트랜지스터(TFT) 및 상기 유기발광소자(OL)가 형성된 제 1 기판(301) 상에는 밀봉부가 형성된다. 예를 들면, 상기 상부 전극(323) 상에는 표시소자들을 보호하는 봉지층(324)이 형성된다. 상기 봉지층(324)은 다수의 층으로 형성될 수도 있으며, 제 2 기판(302)과 합착될 수 있다. 상기 제 2 기판(302)은 인캡슐레이션을 위한 봉지 기판일 수 있다. 다만, 상기 제 1 기판(301) 상에 배치되는 밀봉부는 상기 봉지층(324) 및 상기 제 2 기판(302)에 한정되지 않으며, 산소 또는 수분 등의 유입을 막기 위해 일반적으로 알려진 다양한 형태의 밀봉부가 적용될 수 있다.An encapsulation portion is formed on the first substrate 301 on which the thin film transistor TFT and the organic light emitting device OL are formed. For example, an encapsulation layer 324 for protecting display devices is formed on the upper electrode 323 . The encapsulation layer 324 may be formed of a plurality of layers, and may be bonded to the second substrate 302 . The second substrate 302 may be an encapsulation substrate for encapsulation. However, the sealing portion disposed on the first substrate 301 is not limited to the encapsulation layer 324 and the second substrate 302 , and various types of sealing are generally known to prevent the inflow of oxygen or moisture. Additional may apply.

또한, 본 발명에 따른 표시 장치의 구성은 도면에 한정되지 않고, 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능하다.
In addition, the configuration of the display device according to the present invention is not limited to the drawings, and various changes and modifications may be made without departing from the technical spirit of the present invention.

이하, 구체적인 실시예를 통해 본 발명을 보다 자세히 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail through specific examples.

<실시예 1><Example 1>

교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서 N, N-디메틸아세타아미드(DMAc) 512g을 채운 후, 반응기의 온도를 25℃로 유지한 상태에서 4,4'-디아미노디페닐에테르(4,4'-OxyDiAniline, ODA) 18.0g(0.09mol)과 [화학식 6]으로 표시되는 화합물 3.8g(0.01mol)을 완전히 용해시킨 다음, 2,3,3',4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA) 29.4g(0.1mol)을 투입하였다. 그런 다음, 발열온도가 80℃를 넘어가지 않도록 충분히 냉각시킨 후, 온도가 안정화된 이후에 60℃ 상태에서 3시간 동안 교반하여 고형분 농도 10Wt%에서 용액 점도가 50 poise인 폴리아믹산 용액을 얻었다.In a 1L reactor equipped with a stirrer, nitrogen injection device, dropping funnel, temperature controller and cooler, 512 g of N,N-dimethylacetamide (DMAc) was filled while passing nitrogen, and the temperature of the reactor was maintained at 25°C. After completely dissolving 18.0 g (0.09 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether (4,4'-OxyDiAniline, ODA) and 3.8 g (0.01 mol) of the compound represented by [Formula 6], 2,3 29.4 g (0.1 mol) of ,3',4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) was added. Then, after cooling sufficiently so that the exothermic temperature does not exceed 80° C., the mixture was stirred at 60° C. for 3 hours after the temperature was stabilized to obtain a polyamic acid solution having a solution viscosity of 50 poise at a solid concentration of 10 Wt%.

반응이 종료된 후 수득된 폴리아믹산 용액을 유리판에서 Doctor blade를 이용하여 두께 500㎛~1000㎛로 캐스팅한 후 진공오븐에서 40℃에서 1시간, 60℃에서 2시간 건조하여 Self standing film을 얻은 후 고온 퍼니스 오븐에서 5℃/min의 승온 속도로 80℃에서 3시간, 100℃에서 1시간, 200℃에서 1시간, 300℃에서 30분 가열하여 두께 30㎛인 폴리이미드 필름 A을 얻었다. After completion of the reaction, the obtained polyamic acid solution was cast on a glass plate to a thickness of 500 μm to 1000 μm using a doctor blade, and then dried in a vacuum oven at 40° C. for 1 hour and at 60° C. for 2 hours to obtain a self-standing film. A polyimide film A having a thickness of 30 μm was obtained by heating in a high-temperature furnace oven at a temperature increase rate of 5° C./min at 80° C. for 3 hours, at 100° C. for 1 hour, at 200° C. for 1 hour, and at 300° C. for 30 minutes.

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112014126377128-pat00013

Figure 112014126377128-pat00013

<실시예 2><Example 2>

교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서 N, N-디메틸아세타아미드(DMAc) 503g을 채운 후, 반응기의 온도를 25℃로 유지한 상태에서 4,4'-디아미노디페닐에테르(4,4'-OxyDiAniline, ODA) 19.0g(0.095mol)과 [화학식 6]으로 표시되는 화합물 1.9g(0.005mol)을 완전히 용해시킨 다음, 2,3,3',4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA) 29.4g(0.1mol)을 투입하였다. 그런 다음, 발열온도가 80℃를 넘어가지 않도록 충분히 냉각시킨 후, 온도가 안정화된 이후에 60℃ 상태에서 3시간 동안 교반하여 고형분 농도 10Wt%에서 용액 점도가 50 poise인 폴리아믹산 용액을 얻었다.In a 1L reactor equipped with a stirrer, nitrogen injection device, dropping funnel, temperature controller and cooler, 503 g of N,N-dimethylacetamide (DMAc) was filled while passing nitrogen, and the temperature of the reactor was maintained at 25°C. After completely dissolving 19.0 g (0.095 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether (4,4'-OxyDiAniline, ODA) and 1.9 g (0.005 mol) of the compound represented by [Formula 6], 2,3 29.4 g (0.1 mol) of ,3',4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) was added. Then, after cooling sufficiently so that the exothermic temperature does not exceed 80 ° C., after the temperature is stabilized, the mixture is stirred at 60 ° C. for 3 hours to obtain a polyamic acid solution having a solution viscosity of 50 poise at a solid content concentration of 10 Wt%.

반응이 종료된 후 수득된 폴리아믹산 용액을 이용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 필름을 제막하여 두께 30㎛인 폴리이미드 필름 B를 얻었다.
After the reaction was completed, a film was formed in the same manner as in Example 1 using the obtained polyamic acid solution to obtain a polyimide film B having a thickness of 30 µm.

<실시예 3><Example 3>

교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서 N,N-디메틸아세타아미드(DMAc) 514g을 채운 후, 반응기의 온도를 25℃로 유지한 상태에서 4,4'-디아미노디페닐에테르(4,4'-OxyDiAniline, ODA) 20.0g(0.1mol) 을 완전히 용해시킨 다음, 2,3,3',4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA) 26.5g(0.09mol)과 [화학식 7]로 표시 되는 화합물 4.9g(0.01mol)을 투입하였다. 그런 다음, 발열온도가 80℃를 넘어가지 않도록 충분히 냉각시키고, 60℃에서 3시간동안 교반하여 고형분 농도 10Wt%에서 용액점도 50poise인 폴리아믹산 용액을 얻었다.A 1L reactor equipped with a stirrer, nitrogen injection device, dropping funnel, temperature controller and cooler was filled with 514 g of N,N-dimethylacetamide (DMAc) while passing nitrogen, and the temperature of the reactor was maintained at 25°C. After completely dissolving 20.0 g (0.1 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether (4,4'-OxyDiAniline, ODA), 2,3,3',4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) 26.5 g (0.09 mol) and 4.9 g (0.01 mol) of the compound represented by [Formula 7] were added. Then, it was sufficiently cooled so that the exothermic temperature did not exceed 80° C., and stirred at 60° C. for 3 hours to obtain a polyamic acid solution having a solution viscosity of 50 poise at a solid concentration of 10 Wt%.

반응이 종료된 후 수득된 폴리아믹산 용액을 이용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 필름을 제막하여 두께 30㎛인 폴리이미드 필름 C를 얻었다.After the reaction was completed, a film was formed in the same manner as in Example 1 using the obtained polyamic acid solution to obtain a polyimide film C having a thickness of 30 µm.

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112014126377128-pat00014

Figure 112014126377128-pat00014

<실시예 4><Example 4>

교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서 N,N-디메틸아세타아미드(DMAc) 504g을 채운 후, 반응기의 온도를 25℃로 유지한 상태에서 4,4'-디아미노디페닐에테르(4,4'-OxyDiAniline, ODA) 20.0g(0.1mol) 을 완전히 용해시킨 다음, 2,3,3',4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA) 27.9g(0.095mol)과 [화학식 7]로 표시 되는 화합물 2.5g(0.005mol)을 투입하였다. 그런 다음, 발열온도가 80℃를 넘어가지 않도록 충분히 냉각시키고, 60℃에서 3시간동안 교반하여 고형분 농도 10Wt%에서 용액점도 50poise인 폴리아믹산 용액을 얻었다.In a 1L reactor equipped with a stirrer, nitrogen injection device, dropping funnel, temperature controller and cooler, 504 g of N,N-dimethylacetamide (DMAc) was filled while passing nitrogen, and the temperature of the reactor was maintained at 25°C. After completely dissolving 20.0 g (0.1 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether (4,4'-OxyDiAniline, ODA), 2,3,3',4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) 27.9 g (0.095 mol) and 2.5 g (0.005 mol) of the compound represented by [Formula 7] were added. Then, it was sufficiently cooled so that the exothermic temperature did not exceed 80° C., and stirred at 60° C. for 3 hours to obtain a polyamic acid solution having a solution viscosity of 50 poise at a solid concentration of 10 Wt%.

반응이 종료된 후 수득된 폴리아믹산 용액을 이용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 필름을 제막하여 두께 30㎛인 폴리이미드 필름 D를 얻었다.
After the reaction was completed, a film was formed in the same manner as in Example 1 using the obtained polyamic acid solution to obtain a polyimide film D having a thickness of 30 μm.

<실시예 5><Example 5>

교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서 N,N-디메틸아세타아미드(DMAc) 513g을 채운 후, 반응기의 온도를 25℃로 유지한 상태에서 4,4'-디아미노디페닐에테르(4,4'-OxyDiAniline, ODA) 19.0g(0.095mol)과 상기 [화학식 6]으로 표시되는 화합물 1.9g(0.005mol) 을 완전히 용해시키고, 여기에 2,3,3',4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA) 27.9g(0.095mol)과 [화학식 7]로 표시 되는 화합물 2.5g(0.005mol)을 투입하였다. 그런 다음, 발열온도가 80℃를 넘어가지 않도록 충분히 냉각시킨 후 60℃에서 3시간동안 교반하여 고형분 농도 10Wt%에서 용액점도 50poise인 폴리아믹산 용액을 얻었다.A 1L reactor equipped with a stirrer, nitrogen injection device, dropping funnel, temperature controller and cooler was filled with 513 g of N,N-dimethylacetamide (DMAc) while passing nitrogen, and the temperature of the reactor was maintained at 25°C. 19.0 g (0.095 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether (4,4'-OxyDiAniline, ODA) and 1.9 g (0.005 mol) of the compound represented by the above [Formula 6] were completely dissolved, and 2 27.9 g (0.095 mol) of ,3,3',4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) and 2.5 g (0.005 mol) of the compound represented by [Formula 7] were added. Then, after cooling sufficiently so that the exothermic temperature does not exceed 80° C., the mixture was stirred at 60° C. for 3 hours to obtain a polyamic acid solution having a solution viscosity of 50 poise at a solid concentration of 10 Wt%.

반응이 종료된 후 수득된 폴리아믹산 용액을 이용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 필름을 제막하여 두께 30㎛인 폴리이미드 필름 E를 얻었다.
After the reaction was completed, a film was formed in the same manner as in Example 1 using the obtained polyamic acid solution to obtain a polyimide film E having a thickness of 30 µm.

<비교예 1><Comparative Example 1>

교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서 N,N-디메틸아세타아미드(DMAc) 494g을 채운 후, 반응기의 온도를 25℃로 유지한 상태에서 4,4'-디아미노디페닐에테르(4,4'-OxyDiAniline, ODA) 20.0g(0.1mol)을 완전히 용해시킨 다음, 여기에 2,3,3',4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA) 29.4g(0.1mol)을 투입하였다. 그런 다음, 발열온도가 80℃를 넘어가지 않도록 충분히 냉각시킨 후 60℃에서 3시간동안 교반하여 고형분 농도 10Wt%에서 용액점도 50poise인 폴리아믹산 용액을 얻었다.A 1L reactor equipped with a stirrer, nitrogen injection device, dropping funnel, temperature controller and cooler was filled with 494 g of N,N-dimethylacetamide (DMAc) while passing nitrogen, and the temperature of the reactor was maintained at 25°C. 20.0 g (0.1 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether (4,4'-OxyDiAniline, ODA) was completely dissolved, and then 2,3,3',4'-biphenyltetracarboxylic acid 29.4 g (0.1 mol) of dianhydride (BPDA) was added. Then, after cooling sufficiently so that the exothermic temperature does not exceed 80° C., the mixture was stirred at 60° C. for 3 hours to obtain a polyamic acid solution having a solution viscosity of 50 poise at a solid concentration of 10 Wt%.

반응이 종료된 후 수득된 폴리아믹산 용액을 이용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 필름을 제막하여 두께 30㎛인 폴리이미드 필름 F를 얻었다.
After the reaction was completed, a film was formed in the same manner as in Example 1 using the obtained polyamic acid solution to obtain a polyimide film F having a thickness of 30 μm.

<비교예 2><Comparative Example 2>

교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서 N, N-디메틸아세타아미드(DMAc) 584g을 채운 후, 반응기의 온도를 25℃로 유지한 상태에서 4,4'-디아미노디페닐에테르(4,4'-OxyDiAniline, ODA) 10.0g(0.05mol)과 상기 [화학식 6]으로 표시되는 화합물 19.0g(0.05mol)을 완전히 용해시킨 다음, 2,3,3',4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA) 29.4g(0.1mol)을 투입하였다. 그런 다음, 발열온도가 80℃를 넘어가지 않도록 충분히 냉각시킨 후, 온도가 안정화된 이후에 60℃ 상태에서 3시간 동안 교반하여 고형분 농도 10Wt%에서 용액 점도가 50 poise인 폴리아믹산 용액을 얻었다.A 1L reactor equipped with a stirrer, nitrogen injection device, dropping funnel, temperature controller and cooler was filled with 584 g of N,N-dimethylacetamide (DMAc) while passing nitrogen, and the temperature of the reactor was maintained at 25°C. After completely dissolving 10.0 g (0.05 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether (4,4'-OxyDiAniline, ODA) and 19.0 g (0.05 mol) of the compound represented by the above [Formula 6], 2, 29.4 g (0.1 mol) of 3,3',4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) was added. Then, after cooling sufficiently so that the exothermic temperature does not exceed 80° C., the mixture was stirred at 60° C. for 3 hours after the temperature was stabilized to obtain a polyamic acid solution having a solution viscosity of 50 poise at a solid concentration of 10 Wt%.

반응이 종료된 후 수득된 폴리아믹산 용액을 이용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 필름을 제막하여 두께 30㎛인 폴리이미드 필름 G를 얻었다.
After the reaction was completed, a film was formed in the same manner as in Example 1 using the obtained polyamic acid solution to obtain a polyimide film G having a thickness of 30 μm.

<비교예 3><Comparative Example 3>

교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서 N,N-디메틸아세타아미드(DMAc) 602g을 채운 후, 반응기의 온도를 25℃로 유지한 상태에서 4,4'-디아미노디페닐에테르(4,4'-OxyDiAniline, ODA) 20.0g(0.1mol) 을 완전히 용해시킨 다음, 2,3,3',4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA) 14.7g(0.05mol)과 [화학식 7]로 표시 되는 화합물 24.6g(0.05mol)을 투입하였다. 그런 다음, 발열온도가 80℃를 넘어가지 않도록 충분히 냉각시키고, 60℃에서 3시간동안 교반하여 고형분 농도 10Wt%에서 용액점도 50poise인 폴리아믹산 용액을 얻었다.A 1L reactor equipped with a stirrer, nitrogen injection device, dropping funnel, temperature controller and cooler was filled with 602 g of N,N-dimethylacetamide (DMAc) while passing nitrogen, and the temperature of the reactor was maintained at 25°C. After completely dissolving 20.0 g (0.1 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether (4,4'-OxyDiAniline, ODA), 2,3,3',4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) 14.7 g (0.05 mol) and 24.6 g (0.05 mol) of the compound represented by [Formula 7] were added. Then, it was sufficiently cooled so that the exothermic temperature did not exceed 80° C., and stirred at 60° C. for 3 hours to obtain a polyamic acid solution having a solution viscosity of 50 poise at a solid concentration of 10 Wt%.

반응이 종료된 후 수득된 폴리아믹산 용액을 이용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 필름을 제막하여 두께 30㎛인 폴리이미드 필름 H를 얻었다.
After the reaction was completed, a film was formed in the same manner as in Example 1 using the obtained polyamic acid solution to obtain a polyimide film H having a thickness of 30 μm.

<실험예><Experimental example>

상기 실시예 1 ~ 5 및 비교예 1 ~ 3에 의해 얻어진 폴리이미드 필름 A ~ H의 유리전이온도, 황색도 및 광 투과율을 측정하였다. 측정 결과는 하기 [표 1]에 기재하였으며, 측정 방법은 다음과 같다.
The glass transition temperature, yellowness, and light transmittance of the polyimide films A to H obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 were measured. The measurement results are described in [Table 1] below, and the measurement method is as follows.

(1) 유리전이온도(Tg): DMA Q800V7.5 Build 127 장치를 이용하여 DMA 방법(IPC-TM-650 2.4.24.4)에 따라 30~350℃의 온도 프로파일, 5℃/분의 가열속도에서 측정하였다.(1) Glass transition temperature (Tg): Using the DMA Q800V7.5 Build 127 device, according to the DMA method (IPC-TM-650 2.4.24.4), at a temperature profile of 30~350℃, at a heating rate of 5℃/min. measured.

(2) 광 투과율 : UV 분광계(Varian사, Cary100)를 이용하여 365nm 파장에서의 투과율(자외선 투과율) 및 550nm 파장에서의 투과율(가시광선 투과율)을 측정하였다.(2) Light transmittance: The transmittance at a wavelength of 365 nm (ultraviolet light transmittance) and transmittance at a wavelength of 550 nm (visible light transmittance) were measured using a UV spectrometer (Varian, Cary100).

(3) 황색도(YI) : ASTM E313규격으로 황색도를 측정하였다.
(3) Yellowness (YI): The yellowness was measured according to ASTM E313 standard.

구분division 필름film Tg(℃)Tg(℃) YI(%)YI (%) 자외선 투과율(%)UV transmittance (%) 가시광선 투과율(%)Visible light transmittance (%) 실시예 1Example 1 AA 290290 2.62.6 4.64.6 89.189.1 실시예 2Example 2 BB 305305 3.13.1 6.76.7 88.988.9 실시예 3Example 3 CC 300300 2.52.5 5.65.6 89.289.2 실시예 4Example 4 DD 310310 3.03.0 7.17.1 88.988.9 실시예 5Example 5 EE 310310 3.33.3 6.66.6 88.788.7 비교예 1Comparative Example 1 FF 350350 6.86.8 1One 84.184.1 비교예 2Comparative Example 2 GG 270270 2.02.0 31.531.5 89.989.9 비교예 3Comparative Example 3 HH 280280 1.91.9 36.436.4 89.789.7

상기 [표 1]을 통해, 실시예 1 ~ 5에 의해 제조된 폴리이미드 필름 A~E의 경우, 내열성 및 투명성이 우수하고, 자외선 투과율이 10% 이하임을 알 수 있다. 이에 반해, 비교예 1의 폴리이미드 필름 F는 황색도가 높고, 가시광선 투과율이 낮아 디스플레이용으로 적합하지 않았으며, 비교예 2 및 3의 폴리이미드 필름 G, H의 경우, 내열성과 자외선 차단 특성이 떨어짐을 알 수 있다.
From Table 1, it can be seen that, in the case of the polyimide films A to E prepared in Examples 1 to 5, heat resistance and transparency were excellent, and the UV transmittance was 10% or less. In contrast, the polyimide film F of Comparative Example 1 had high yellowness and low visible light transmittance, so it was not suitable for display. In the case of the polyimide films G and H of Comparative Examples 2 and 3, heat resistance and UV blocking properties It can be seen that this drop

100 : 커버 윈도우
110 : 폴리이미드 필름
120 : 편광층
130 : 하드 코팅층
300 : 표시패널
400 : 터치패널
100: cover window
110: polyimide film
120: polarizing layer
130: hard coating layer
300: display panel
400: touch panel

Claims (16)

하기 [화학식 1] 및 [화학식 2]로 표시되는 반복 단위를 포함하고, 자외선 투과율이 10% 이하인 폴리이미드 필름.
[화학식 1]
Figure 112021083469838-pat00015

[화학식 2]
Figure 112021083469838-pat00016

상기 [화학식 1] 및 [화학식 2]에서,
X1 및 X2는 각각 독립적으로 산 이무수물로부터 유도된 4가 유기기이고,
Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 디아민으로부터 유도된 2가 유기기이고,
상기 X1 및 X2 중 적어도 하나 이상이 하기 [화학식 4]로 표시되는 산 이무수물로부터 유도된 4가 유기기이거나,
상기 Y1 및 Y2 중 적어도 하나 이상이 하기 [화학식 5]로 표시되는 디아민으로부터 유도된 2가 유기기이고,
[화학식 4]
Figure 112021083469838-pat00035

[화학식 5]
Figure 112021083469838-pat00036

상기 [화학식 4]에서, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 -O-, -S-, SO2- -SO-, -C(=O)- 또는 -CO2- 이고, 상기 Q1은 하기 [화학식 3]으로 표시되는 작용기들로 이루어진 군으로부터 선택되는 작용기이며,
상기 [화학식 5]에서, 상기 R3 및 R4는 각각 독립적으로 -O-, -S-, SO2- -SO-, -C(=O)- 또는 -CO2- 이고, 상기 Q2는 하기 [화학식 3]으로 표시되는 작용기들로 이루어진 군으로부터 선택되는 작용기임.
[화학식 3]
Figure 112021083469838-pat00017

A polyimide film comprising a repeating unit represented by the following [Formula 1] and [Formula 2], and having an ultraviolet transmittance of 10% or less.
[Formula 1]
Figure 112021083469838-pat00015

[Formula 2]
Figure 112021083469838-pat00016

In [Formula 1] and [Formula 2],
X 1 and X 2 are each independently a tetravalent organic group derived from an acid dianhydride,
Y 1 and Y 2 are each independently a divalent organic group derived from diamine,
At least one of X 1 and X 2 is a tetravalent organic group derived from an acid dianhydride represented by the following [Formula 4],
At least one of Y 1 and Y 2 is a divalent organic group derived from a diamine represented by the following [Formula 5],
[Formula 4]
Figure 112021083469838-pat00035

[Formula 5]
Figure 112021083469838-pat00036

In [Formula 4], R 1 and R 2 are each independently -O-, -S-, SO 2 - -SO-, -C(=O)- or -CO 2 -, and Q 1 is It is a functional group selected from the group consisting of functional groups represented by the following [Formula 3],
In [Formula 5], R 3 and R 4 are each independently -O-, -S-, SO 2 - -SO-, -C(=O)- or -CO 2 -, and Q 2 is It is a functional group selected from the group consisting of functional groups represented by the following [Formula 3].
[Formula 3]
Figure 112021083469838-pat00017

제1항에 있어서,
상기 폴리이미드 필름은 상기 [화학식 3]으로 표시되는 작용기를 포함하는 반복 단위를 5몰% 내지 10몰%로 포함하는 것인 폴리이미드 필름.
The method of claim 1,
The polyimide film is a polyimide film comprising 5 mol% to 10 mol% of the repeating unit including the functional group represented by the [Formula 3].
제1항에 있어서,
상기 X1 및 X2 중 적어도 하나 이상이 상기 [화학식 4]로 표시되는 산 이무수물로부터 유도된 4가 유기기이고,
상기 Y1 및 Y2 중 적어도 하나 이상이 상기 [화학식 5]로 표시되는 디아민으로부터 유도된 2가 유기기인 폴리이미드 필름.
The method of claim 1,
At least one of X 1 and X 2 is a tetravalent organic group derived from the acid dianhydride represented by [Formula 4],
The polyimide film wherein at least one of Y 1 and Y 2 is a divalent organic group derived from the diamine represented by the above [Formula 5].
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 폴리이미드 필름은 가시광선 투과율이 85% 이상인 폴리이미드 필름.
The method of claim 1,
The polyimide film is a polyimide film having a visible light transmittance of 85% or more.
제1항에 있어서,
상기 폴리이미드 필름은 황색도(YI)가 4이하인 폴리이미드 필름.
The method of claim 1,
The polyimide film is a polyimide film having a yellowness (YI) of 4 or less.
제1항에 있어서,
상기 폴리이미드 필름은 유리전이온도가 290℃ 이상인 폴리이미드 필름.
According to claim 1,
The polyimide film is a polyimide film having a glass transition temperature of 290°C or higher.
하기 [화학식 1] 및 [화학식 2]로 표시되는 반복 단위를 포함하고, 자외선 투과율이 10% 이하인 폴리이미드 필름; 및
상기 폴리이미드 필름의 일측에 구비되는 편광층을 포함하는 커버 윈도우.
[화학식 1]
Figure 112021083469838-pat00022

[화학식 2]
Figure 112021083469838-pat00023

상기 [화학식 1] 및 [화학식 2]에서,
X1 및 X2는 각각 독립적으로 산 이무수물로부터 유도된 4가 유기기이고,
Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 디아민으로부터 유도된 2가 유기기이고,
상기 X1 및 X2 중 적어도 하나 이상이 하기 [화학식 4]로 표시되는 산 이무수물로부터 유도된 4가 유기기이거나,
상기 Y1 및 Y2 중 적어도 하나 이상이 하기 [화학식 5]로 표시되는 디아민으로부터 유도된 2가 유기기이고,
[화학식 4]
Figure 112021083469838-pat00037

[화학식 5]
Figure 112021083469838-pat00038

상기 [화학식 4]에서, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 -O-, -S-, SO2- -SO-, -C(=O)- 또는 -CO2- 이고, 상기 Q1은 하기 [화학식 3]으로 표시되는 작용기들로 이루어진 군으로부터 선택되는 작용기이며,
상기 [화학식 5]에서, 상기 R3 및 R4는 각각 독립적으로 -O-, -S-, SO2- -SO-, -C(=O)- 또는 -CO2- 이고, 상기 Q2는 하기 [화학식 3]으로 표시되는 작용기들로 이루어진 군으로부터 선택되는 작용기임.
[화학식 3]
Figure 112021083469838-pat00024

A polyimide film comprising a repeating unit represented by the following [Formula 1] and [Formula 2] and having an ultraviolet transmittance of 10% or less; and
A cover window including a polarizing layer provided on one side of the polyimide film.
[Formula 1]
Figure 112021083469838-pat00022

[Formula 2]
Figure 112021083469838-pat00023

In [Formula 1] and [Formula 2],
X 1 and X 2 are each independently a tetravalent organic group derived from an acid dianhydride,
Y 1 and Y 2 are each independently a divalent organic group derived from diamine,
At least one of X 1 and X 2 is a tetravalent organic group derived from an acid dianhydride represented by the following [Formula 4],
At least one of Y 1 and Y 2 is a divalent organic group derived from a diamine represented by the following [Formula 5],
[Formula 4]
Figure 112021083469838-pat00037

[Formula 5]
Figure 112021083469838-pat00038

In [Formula 4], R 1 and R 2 are each independently -O-, -S-, SO 2 - -SO-, -C(=O)- or -CO 2 -, and Q 1 is It is a functional group selected from the group consisting of functional groups represented by the following [Formula 3],
In [Formula 5], R 3 and R 4 are each independently -O-, -S-, SO 2 - -SO-, -C(=O)- or -CO 2 -, and Q 2 is It is a functional group selected from the group consisting of functional groups represented by the following [Formula 3].
[Formula 3]
Figure 112021083469838-pat00024

제8항에 있어서,
상기 편광층은 액정 및 유기 이색성 염료를 포함하는 것인 커버 윈도우.
9. The method of claim 8,
The polarizing layer is a cover window comprising a liquid crystal and an organic dichroic dye.
제9항에 있어서,
상기 폴리이미드 필름의 적어도 일면에 하드 코팅층을 더 포함하는 커버 윈도우.
10. The method of claim 9,
A cover window further comprising a hard coating layer on at least one surface of the polyimide film.
제8항에 있어서,
상기 커버 윈도우는 상기 폴리이미드 필름의 타측에 터치 패널을 더 포함하는 커버 윈도우.
9. The method of claim 8,
The cover window further includes a touch panel on the other side of the polyimide film.
제11항에 있어서,
상기 터치 패널은 감지 전극 및 배선을 포함하며,
상기 감지 전극과 배선이 상기 폴리이미드 필름의 일면에 구비되는 것인 커버 윈도우.
12. The method of claim 11,
The touch panel includes a sensing electrode and a wiring,
The cover window in which the sensing electrode and the wiring are provided on one surface of the polyimide film.
제8항에 있어서,
상기 커버 윈도우는 전체 두께가 30㎛ 내지 500㎛인 커버 윈도우.
9. The method of claim 8,
The cover window has an overall thickness of 30 μm to 500 μm.
제8항에 있어서,
상기 편광층은 그 두께가 10㎛ 내지 100㎛인 커버 윈도우.
9. The method of claim 8,
The polarizing layer is a cover window having a thickness of 10 μm to 100 μm.
표시 패널; 및
상기 표시 패널 상에 배치되는 커버 윈도우를 포함하며,
상기 커버 윈도우는 하기 [화학식 1] 및 [화학식 2]로 표시되는 반복 단위를 포함하고, 자외선 투과율이 10% 이하인 폴리이미드 필름 및 상기 폴리이미드 필름의 일측에 구비되는 편광층을 포함하는 것인 표시장치.
[화학식 1]
Figure 112021083469838-pat00025

[화학식 2]
Figure 112021083469838-pat00026

상기 [화학식 1] 및 [화학식 2]에서,
X1 및 X2는 각각 독립적으로 산 이무수물로부터 유도된 4가 유기기이고,
Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 디아민으로부터 유도된 2가 유기기이고,
상기 X1 및 X2 중 적어도 하나 이상이 하기 [화학식 4]로 표시되는 산 이무수물로부터 유도된 4가 유기기이거나,
상기 Y1 및 Y2 중 적어도 하나 이상이 하기 [화학식 5]로 표시되는 디아민으로부터 유도된 2가 유기기이고,
[화학식 4]
Figure 112021083469838-pat00039

[화학식 5]
Figure 112021083469838-pat00040

상기 [화학식 4]에서, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 -O-, -S-, SO2- -SO-, -C(=O)- 또는 -CO2- 이고, 상기 Q1은 하기 [화학식 3]으로 표시되는 작용기들로 이루어진 군으로부터 선택되는 작용기이며,
상기 [화학식 5]에서, 상기 R3 및 R4는 각각 독립적으로 -O-, -S-, SO2- -SO-, -C(=O)- 또는 -CO2- 이고, 상기 Q2는 하기 [화학식 3]으로 표시되는 작용기들로 이루어진 군으로부터 선택되는 작용기임.
[화학식 3]
Figure 112021083469838-pat00027

display panel; and
a cover window disposed on the display panel;
The cover window includes a repeating unit represented by the following [Formula 1] and [Formula 2], and a polyimide film having an ultraviolet transmittance of 10% or less and a polarizing layer provided on one side of the polyimide film. Device.
[Formula 1]
Figure 112021083469838-pat00025

[Formula 2]
Figure 112021083469838-pat00026

In [Formula 1] and [Formula 2],
X 1 and X 2 are each independently a tetravalent organic group derived from an acid dianhydride,
Y 1 and Y 2 are each independently a divalent organic group derived from diamine,
At least one of X 1 and X 2 is a tetravalent organic group derived from an acid dianhydride represented by the following [Formula 4],
At least one of Y 1 and Y 2 is a divalent organic group derived from a diamine represented by the following [Formula 5],
[Formula 4]
Figure 112021083469838-pat00039

[Formula 5]
Figure 112021083469838-pat00040

In [Formula 4], R 1 and R 2 are each independently -O-, -S-, SO 2 - -SO-, -C(=O)- or -CO 2 -, and Q 1 is It is a functional group selected from the group consisting of functional groups represented by the following [Formula 3],
In [Formula 5], R 3 and R 4 are each independently -O-, -S-, SO 2 - -SO-, -C(=O)- or -CO 2 -, and Q 2 is It is a functional group selected from the group consisting of functional groups represented by the following [Formula 3].
[Formula 3]
Figure 112021083469838-pat00027

하기 [화학식 1] 및 [화학식 2]로 표시되는 반복 단위를 포함하고, 자외선 투과율이 10% 이하인 폴리이미드 필름.
[화학식 1]
Figure 112021083469838-pat00041

[화학식 2]
Figure 112021083469838-pat00042

상기 [화학식 1] 및 [화학식 2]에서,
X1 및 X2는 각각 독립적으로 산 이무수물로부터 유도된 4가 유기기이고,
Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 디아민으로부터 유도된 2가 유기기이며,
상기 Y1 및 Y2 중 적어도 하나 이상이 하기 [화학식 3]으로 표시되는 작용기들로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 작용기를 포함함.
[화학식 3]
Figure 112021083469838-pat00043

A polyimide film comprising a repeating unit represented by the following [Formula 1] and [Formula 2], and having an ultraviolet transmittance of 10% or less.
[Formula 1]
Figure 112021083469838-pat00041

[Formula 2]
Figure 112021083469838-pat00042

In [Formula 1] and [Formula 2],
X 1 and X 2 are each independently a tetravalent organic group derived from an acid dianhydride,
Y 1 and Y 2 are each independently a divalent organic group derived from diamine,
At least one of Y 1 and Y 2 includes at least one functional group selected from the group consisting of functional groups represented by the following [Formula 3].
[Formula 3]
Figure 112021083469838-pat00043

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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102623019B1 (en) * 2016-10-13 2024-01-10 엘지이노텍 주식회사 Cover window and display device comprising the same
KR101959046B1 (en) 2016-11-17 2019-03-18 주식회사 엘지화학 Polyimide-based block copolymer film
KR102067225B1 (en) 2016-12-15 2020-01-16 주식회사 엘지화학 Polyimide-based block copolymers and polyimide-based film comprising the same
KR101992007B1 (en) * 2016-12-27 2019-06-21 삼성에스디아이 주식회사 Polyester protective film for polarzing plate, polarizing plate comprising the same and liquid crystal display apparatus comprising the same
WO2018147605A1 (en) * 2017-02-08 2018-08-16 에스케이씨 주식회사 Polyimide film and method for producing same
KR20180097025A (en) 2017-02-22 2018-08-30 삼성전자주식회사 Poly(amide-imide)copolymer and method of manufacturing the same and poly(amide-imide)copolymer film and window for display device and display device
KR102057065B1 (en) * 2017-02-23 2019-12-18 동우 화인켐 주식회사 Optical stack structure integrated with polarizer and touch sensor and display device including the same
KR102139525B1 (en) 2017-05-19 2020-07-30 동우 화인켐 주식회사 Hard coating film and image display device using the same
KR102315000B1 (en) * 2017-08-23 2021-10-20 동우 화인켐 주식회사 Hard coating film and image display device using the same
KR101906393B1 (en) * 2017-11-03 2018-10-11 에스케이씨코오롱피아이 주식회사 Ultra Thin Black Polyimide Film and Method Preparing The Same
JP2020140190A (en) 2019-02-22 2020-09-03 住友化学株式会社 Laminate and image display device
WO2020170697A1 (en) * 2019-02-22 2020-08-27 住友化学株式会社 Laminate and image display device
KR102210414B1 (en) * 2019-06-28 2021-02-02 에스케이씨 주식회사 Polyimide film, preparation method thereof, and cover window and display device comprising same
KR102147278B1 (en) 2019-07-05 2020-08-24 에스케이이노베이션 주식회사 Polyimide based film and film for cover window and display device comprising the same

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070149758A1 (en) * 2003-12-26 2007-06-28 Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Aromatic polyamic acid and polyimide
KR20060075232A (en) * 2004-12-28 2006-07-04 제일모직주식회사 Polyimide-polyamic acid copolymer for liquid crystal alignment film
KR20110010009A (en) * 2009-07-23 2011-01-31 코오롱인더스트리 주식회사 Manufacturing method of polyimide, polyimide manufactured by thereof and film manufactured using said polyimide
KR101387737B1 (en) * 2011-12-14 2014-04-21 제일모직주식회사 Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film manufactured using the same, and liquid crystal display device including the liquid crystal alignment film

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