KR102326006B1 - 연산 장치 및 이를 이용한 계측 데이터에 대한 특징 추출 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
[선행기술문헌]
[특허문헌]
(특허문헌) KR10-2019-0043468
도 2는 일 실시 예에 따른 n차원 텐서(Tensor)인 계측 데이터를 나타내는 도면이다.
도 3은 일 실시 예에 따른 타겟 데이터에 기초하여 계측 데이터에 대한 연산을 수행하는 것을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 일 실시 예에 따른 계측 데이터에 최대 풀링 레이어를 적용하여 제1 프로파일을 추출하는 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 일 실시 예에 따른 계측 데이터에 최소 풀링 레이어를 적용하여 제2 프로파일을 추출하는 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 일 실시 예에 따른 계측 데이터, 제1 프로파일 및 제2 프로파일을 도시한 도면이다.
도 7은 일 실시 예에 따른 제1 프로파일 및 제2 프로파일과 제3 프로파일 간의 관계를 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 일 실시 예에 따른 제3 프로파일을 이용하여 공정 과정에서 발생한 이상 감지를 시각적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 9는 일 실시 예에 따른 2차원 텐서 구조를 갖는 계측 데이터에 대한 프로파일을 추출을 설명하기 위한 도면이다.
도 10은 일 실시 예에 따른 계측 데이터에 대한 특징 추출하는 연산 장치의 기능 블록도이다.
Claims (20)
- 연산 장치를 이용한 계측 데이터에 대한 특징 추출 방법으로서,
공정 과정에서 획득되는 계측 데이터를 확인하는 단계;
상기 계측 데이터와 관련된 타겟 데이터를 확인하는 단계;
상기 타겟 데이터에 기초하여 상기 계측 데이터에 대한 연산을 수행하는 단계;
상기 연산된 계측 데이터에 최대 풀링 레이어(max pooling layer)를 적용하여 복수의 제1 값들을 추출하는 단계;
상기 연산된 계측 데이터에 최소 풀링 레이어(min pooling layer)를 적용하여 복수의 제2 값들을 추출하는 단계; 및
상기 복수의 제1 값들과 상기 복수의 제2 값들을 이용하여 상기 계측 데이터의 특징과 관련된 복수의 제3 값들을 추출하는 단계를 포함하는,
특징 추출 방법.
- 제1항에 있어서,
상기 복수의 제3 값들을 추출하는 단계는,
상기 복수의 제1 값들과 상기 복수의 제2 값들 간의 절대값 비교에 기초하여 추출하는 단계를 포함하는,
특징 추출 방법.
- 제2항에 있어서,
상기 복수의 제3 값들을 추출하는 단계는,
상기 복수의 제1 값들과 상기 복수의 제2 값들 간의 절대값이 큰 값을 선택함으로써 추출하는 단계를 포함하는,
특징 추출 방법.
- 제1항에 있어서,
상기 복수의 제3 값들과 기 설정된 허용 오차 범위를 비교하는 단계;
상기 비교 결과에 기초하여 상기 공정 과정에서 획득된 상기 계측 데이터에 대한 이상 여부를 확인하는 단계를 더 포함하는,
특징 추출 방법.
- 제4항에 있어서,
상기 이상 여부를 확인하는 단계는,
상기 복수의 제3 값들 중에서 상기 기 설정된 허용 오차 범위 내에 포함되지 않는 값이 있는 경우, 상기 기 설정된 허용 오차 범위 내에 포함되지 않는 계측 데이터를 확인하여 관련 정보를 제공하는 단계를 포함하는,
특징 추출 방법.
- 제1항에 있어서,
상기 복수의 제1 값들은,
기 설정된 파라미터를 이용한 상기 최대 풀링 레이어에 기초하여 결정된 상기 연산된 계측 데이터에 대한 복수의 극대값을 포함하는 것을 특징으로 하는,
특징 추출 방법.
- 제6항에 있어서,
상기 파라미터는,
커널(kernel) 사이즈, 스트라이드(stride) 및 풀링 수 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는,
특징 추출 방법.
- 제6항에 있어서,
상기 파라미터는,
상기 공정 과정에 따라 기 설정되는 것을 특징으로 하는,
특징 추출 방법.
- 제1항에 있어서,
상기 계측 데이터는,
n차원(n은 1 이상 정수) 텐서(Tensor)인 것을 특징으로 하는,
특징 추출 방법.
- 제1항에 있어서,
상기 연산을 수행하는 단계는,
상기 계측 데이터와 상기 타겟 데이터 간의 뺄셈 연산을 수행하는 단계를 포함하는,
특징 추출 방법.
- 제1항에 있어서,
상기 복수의 제2 값들은,
기 설정된 파라미터를 이용한 상기 최소 풀링 레이어에 기초하여 결정된 상기 연산된 계측 데이터에 대한 복수의 극소값을 포함하는 것을 특징으로 하는,
특징 추출 방법.
- 제11항에 있어서,
상기 파라미터는,
커널(kernel) 사이즈, 스트라이드(stride) 및 풀링 수 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는,
특징 추출 방법.
- 제11항에 있어서,
상기 파라미터는,
상기 공정 과정에 따라 기 설정되는 것을 특징으로 하는,
특징 추출 방법.
- 제6항에 있어서,
상기 복수의 제1 값들을 연결하여 제1 프로파일을 생성하는 단계를 더 포함하는,
특징 추출 방법.
- 제11항에 있어서,
상기 복수의 제2 값들을 연결하여 제2 프로파일을 생성하는 단계를 더 포함하는,
특징 추출 방법.
- 제3항에 있어서,
상기 추출된 복수의 제3 값들을 연결하여 제3 프로파일을 생성하는 단계를 더 포함하는,
특징 추출 방법.
- 제16항에 있어서,
상기 제3 프로파일은 n 차원의 데이터로 이루어지며, 여기서 n은 1 이상의 정수인,
특징 추출 방법.
- 제7항에 있어서,
상기 커널 사이즈는 상기 스트라이드 보다 크거나 같고,
상기 스트라이드 및 상기 풀링 수에 기초하여 상기 복수의 제1 값들의 개수가 조절되는 것을 특징으로 하는,
특징 추출 방법.
- 제1항의 방법을 컴퓨터에서 실행시키기 위한 프로그램을 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 비일시적 기록매체.
- 계측 데이터에 대한 특징 추출하는 연산 장치로서,
컴퓨터에서 읽을 수 있는 명령어를 저장하는 메모리; 및
프로세서를 포함하고,
상기 메모리와 연결된 상기 프로세서는,
공정 과정에서 획득되는 상기 계측 데이터를 확인하고,
상기 계측 데이터와 관련된 타겟 데이터를 확인하고,
상기 타겟 데이터에 기초하여 상기 계측 데이터에 대한 연산을 수행하고,
상기 연산된 계측 데이터에 최대 풀링 레이어(max pooling layer)를 적용하여 복수의 제1 값들을 추출하고,
상기 연산된 계측 데이터에 최소 풀링 레이어(min pooling layer)를 적용하여 복수의 제2 값들을 추출하고,
상기 복수의 제1 값들과 상기 복수의 제2 값들을 이용하여 상기 계측 데이터의 특징과 관련된 복수의 제3 값들을 추출하는,
연산 장치.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020210062133A KR102326006B1 (ko) | 2021-05-13 | 2021-05-13 | 연산 장치 및 이를 이용한 계측 데이터에 대한 특징 추출 방법 |
US18/248,043 US20230384770A1 (en) | 2021-05-13 | 2022-02-24 | Calculation device and method for extracting feature of measurement data by using same |
PCT/KR2022/095040 WO2022240269A1 (ko) | 2021-05-13 | 2022-02-24 | 연산 장치 및 이를 이용한 계측 데이터에 대한 특징 추출 방법 |
CN202280007119.4A CN117280288A (zh) | 2021-05-13 | 2022-02-24 | 计算装置和通过使用计算装置提取测量数据的特征的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020210062133A KR102326006B1 (ko) | 2021-05-13 | 2021-05-13 | 연산 장치 및 이를 이용한 계측 데이터에 대한 특징 추출 방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR102326006B1 true KR102326006B1 (ko) | 2021-11-15 |
Family
ID=78502833
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020210062133A Active KR102326006B1 (ko) | 2021-05-13 | 2021-05-13 | 연산 장치 및 이를 이용한 계측 데이터에 대한 특징 추출 방법 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230384770A1 (ko) |
KR (1) | KR102326006B1 (ko) |
CN (1) | CN117280288A (ko) |
WO (1) | WO2022240269A1 (ko) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2021-05-13 KR KR1020210062133A patent/KR102326006B1/ko active Active
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CN117280288A (zh) | 2023-12-22 |
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WO2022240269A1 (ko) | 2022-11-17 |
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PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20210513 |
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PA0201 | Request for examination | ||
PA0302 | Request for accelerated examination |
Patent event date: 20210513 Patent event code: PA03022R01D Comment text: Request for Accelerated Examination |
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PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20210726 Patent event code: PE09021S01D |
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E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20211028 |
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GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
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|
PR1002 | Payment of registration fee |
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PG1601 | Publication of registration | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
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