KR102304980B1 - Xenon and krypton collect apparatus for using in semiconductor manufacturing process, and collect filter unit for the xenon and krypton collect apparatus for using in semiconductor manufacturing process - Google Patents

Xenon and krypton collect apparatus for using in semiconductor manufacturing process, and collect filter unit for the xenon and krypton collect apparatus for using in semiconductor manufacturing process Download PDF

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Abstract

개시되는 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치가 회수 케이싱과, 개폐 도어와, 밀폐 부재를 포함함에 따라, 상기 밀폐 부재에 의해 상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어의 연결 부분이 밀폐된 상태가 되어, 외부 공기가 상기 회수 케이싱 내부로 임의 유입되지 아니하게 됨으로써, 산업 폐기물 내에 함유된 제논 및 크립톤의 순도 저하를 방지하면서 제논 및 크립톤이 회수될 수 있게 되는 장점이 있다.As the xenon and krypton recovery device used in the disclosed semiconductor manufacturing process includes a recovery casing, an opening/closing door, and a sealing member, the connection portion between the recovery casing and the opening/closing door is sealed by the sealing member. , there is an advantage that xenon and krypton can be recovered while preventing a decrease in the purity of the xenon and krypton contained in the industrial waste by preventing the outside air from being arbitrarily introduced into the recovery casing.

Description

반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치 및 상기 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛{Xenon and krypton collect apparatus for using in semiconductor manufacturing process, and collect filter unit for the xenon and krypton collect apparatus for using in semiconductor manufacturing process}BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention collect apparatus for using in semiconductor manufacturing process}

본 발명은 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치 및 상기 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛에 관한 것이다.The present invention relates to a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process and a recovery filter unit for a xenon and krypton recovery device used in the semiconductor manufacturing process.

반도체 제조 공정에는 많은 희귀 가스가 이용되는데, 그 희귀 가스에 포함되는 것이 제논 및 크립톤이다.Many rare gases are used in the semiconductor manufacturing process, including xenon and krypton.

이러한 반도체 제조 공정에 사용되는 희귀 가스의 회수에 관한 예로 제시될 수 있는 것이 아래 제시된 특허문헌의 그 것이다.It is that of the patent literature presented below that can be presented as an example regarding the recovery of the rare gas used in such a semiconductor manufacturing process.

상기 제논 및 크립톤과 같은 희귀 가스들은 그 양이 자연계 내에서 미량이기 때문에, 각종 산업 폐기물 중에 함유된 제논 및 크립톤의 회수가 요구되고 있고, 이러한 제논 및 크립톤의 회수를 위하여 이용되는 장치가 제논 및 크립톤 회수 장치이다.Since the amount of the rare gases such as xenon and krypton is very small in nature, the recovery of xenon and krypton contained in various industrial wastes is required. It is a recovery device.

종래에는, 제논 및 크립톤을 함유한 산업 폐기물을 회수 케이싱 내에 넣은 상태로 상기 회수 케이싱 내부를 진공 분위기로 형성한 다음, 그 산업 폐기물을 깨트려 그 산업 폐기물 내의 제논 및 크립톤이 상기 회수 케이싱에 연결된 회수 필터 유닛 내의 회수 필터에 걸려 회수되도록 한다.Conventionally, the industrial waste containing xenon and krypton is placed in the recovery casing, and the inside of the recovery casing is formed in a vacuum atmosphere, and then the industrial waste is broken to recover the xenon and krypton in the industrial waste connected to the recovery casing. It gets caught in the recovery filter in the filter unit and is recovered.

그러나, 종래의 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤의 회수 시스템에서는, 제논 및 크립톤을 포함하고 있는 산업 폐기물을 회수 케이싱 내에 넣거나 빼기 위해 회수 케이싱을 개폐시키는 개폐 도어와 회수 케이싱 사이가 제대로 밀폐되지 못하였고, 그에 따라 회수 케이싱 내부가 진공 분위기가 되었을 때 외부 공기가 회수 케이싱 내부로 임의 유입되어 오염됨으로써, 회수되는 제논 및 크립톤의 순도가 저하되는 문제가 있었다.However, in the recovery system of xenon and krypton used in the conventional semiconductor manufacturing process, the opening and closing door that opens and closes the recovery casing in order to put or take out industrial waste containing xenon and krypton into the recovery casing and the recovery casing cannot be properly sealed. As a result, when the inside of the recovery casing became a vacuum atmosphere, external air was randomly introduced into the recovery casing and contaminated, so there was a problem in that the purity of the recovered xenon and krypton was reduced.

또한, 종래의 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤의 회수 시스템에서는, 제논 및 크립톤과 같은 회수 대상체가 필터링되어 함유된 회수 필터가 내부에 구비된 회수 필터 유닛을 회수 케이싱에서 분리할 때, 외부 공기가 상기 회수 필터 유닛 내부로 임의 유입될 수 있고, 그에 따라 상기와 같이 회수되는 제논 및 크립톤이 오염되어, 그 순도가 저하되는 문제가 있었다.In addition, in the recovery system for xenon and krypton used in the conventional semiconductor manufacturing process, when the recovery filter unit having the recovery filter contained therein is filtered out from the recovery casing, outside air may be arbitrarily introduced into the recovery filter unit, and accordingly, the xenon and krypton recovered as described above are contaminated, and the purity thereof is reduced.

등록특허 제 10-0967537호, 등록일자: 2010.06.25., 발명의 명칭: 반도체 제조설비의 폐기가스 회수방법 및 시스템Registered Patent No. 10-0967537, Registration Date: 2010.06.25., Title of Invention: Waste gas recovery method and system for semiconductor manufacturing equipment

본 발명은 산업 폐기물 내에 함유된 제논 및 크립톤의 순도 저하를 방지하면서 제논 및 크립톤이 회수될 수 있는 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a device for recovering xenon and krypton used in a semiconductor manufacturing process in which xenon and krypton can be recovered while preventing a decrease in the purity of xenon and krypton contained in industrial waste.

본 발명의 다른 목적은 제논 및 크립톤과 같은 회수 대상체가 필터링되어 함유된 회수 필터가 내부에 구비된 회수 필터 유닛을 회수 케이싱에서 분리할 때 외부 공기가 회수 필터 유닛 내부로 임의 유입되는 현상이 방지될 수 있는 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to prevent random inflow of external air into the recovery filter unit when a recovery filter unit having a recovery filter therein is separated from a recovery casing after a recovery object such as xenon and krypton is filtered. It is to provide a recovery filter unit for a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process.

본 발명의 일 측면에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치는 반도체 제조 공정에 사용되는 제논과 크립톤 중 적어도 하나인 회수 대상체가 함유된 산업 폐기물에서 상기 회수 대상체를 회수시킬 수 있는 것으로서,
상기 회수 대상체가 함유된 상태의 상기 산업 폐기물이 내부에 수용되는 회수 케이싱; 상기 회수 케이싱 내부로 상기 산업 폐기물 인입을 위해 상기 회수 케이싱을 열고, 상기 회수 케이싱 내부에 상기 산업 폐기물이 인입된 상태에서 상기 회수 케이싱을 닫을 수 있는 개폐 도어; 상기 회수 케이싱 내부로 외부 공기의 임의 유입이 방지될 수 있도록, 상기 회수 케이싱과 상기 개폐 도어 사이를 밀폐시키는 밀폐 부재; 및 상기 회수 케이싱 내부를 미리 설정된 일정 압력 이하의 저압으로 형성시키는 케이싱 부압 펌프;를 포함하고,
상기 밀폐 부재는 상기 케이싱 부압 펌프와 연결되어, 상기 케이싱 부압 펌프에 의해 상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어와 상기 밀폐 부재 사이에 부압이 형성됨으로써, 상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어 표면에 상기 밀폐 부재가 흡착되면서 상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어 사이의 틈이 상기 밀폐 부재에 의해 밀폐되고,
상기 케이싱 부압 펌프에 의해 상기 밀폐 부재에 부압이 형성될 수 있도록, 상기 회수 케이싱 벽면 내부를 따라 상기 케이싱 부압 펌프와 상기 밀폐 부재를 연결시키는 부압 형성관이 형성되고,
상기 밀폐 부재는 상기 부압 형성관과 연결되는 연결 몸체와, 상기 연결 몸체와 연결되되 상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어의 각 표면으로부터 일정 간격 이격되도록 상기 회수 케이싱 내부에 배치되되 상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어의 연결 지점을 덮을 수 있는 일정 면적으로 형성되는 흡착 몸체와, 상기 연결 몸체 내부를 관통하여 상기 부압 형성관과 연통되는 부압 형성 연결관과, 상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어의 각 표면과 상기 흡착 몸체 사이 부분에 개방 형성되되 상기 부압 형성 연결관과 연통되는 부압 형성 노즐을 포함하고,
상기 케이싱 부압 펌프가 작동되면, 상기 부압 형성관, 상기 부압 형성 연결관 및 상기 부압 형성 노즐에 순차적으로 부압이 걸리고, 그에 따라 상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어와 상기 흡착 몸체 사이의 공기가 상기 부압 형성 노즐을 통해 유출됨으로써, 상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어의 각 표면에 상기 흡착 몸체가 흡착되어, 상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어의 연결 지점이 상기 밀폐 부재에 의해 밀폐될 수 있는 것을 특징으로 한다.The device for recovering xenon and krypton used in a semiconductor manufacturing process according to an aspect of the present invention is capable of recovering the recovery object from industrial waste containing the recovery object, which is at least one of xenon and krypton, used in the semiconductor manufacturing process,
a recovery casing in which the industrial waste in a state in which the recovery object is contained is accommodated therein; an opening/closing door capable of opening the recovery casing to introduce the industrial waste into the recovery casing and closing the recovery casing while the industrial waste is introduced into the recovery casing; a sealing member sealing between the recovery casing and the opening/closing door so as to prevent any inflow of external air into the recovery casing; and a casing negative pressure pump for forming the inside of the recovery casing at a low pressure below a preset predetermined pressure.
The sealing member is connected to the casing negative pressure pump, and a negative pressure is formed between the recovery casing and the opening/closing door and the sealing member by the casing negative pressure pump, so that the sealing member is adsorbed to the surface of the recovery casing and the opening/closing door. while the gap between the recovery casing and the opening and closing door is closed by the sealing member,
A negative pressure forming pipe connecting the casing negative pressure pump and the sealing member is formed along the inside of the recovery casing wall surface so that a negative pressure can be formed in the sealing member by the casing negative pressure pump,
The sealing member includes a connection body connected to the negative pressure forming tube, and is connected to the connection body and disposed inside the recovery casing to be spaced apart from each surface of the recovery casing and the opening/closing door by a predetermined distance, the recovery casing and the opening/closing door an adsorption body formed in a predetermined area to cover a connection point of A negative pressure forming nozzle which is formed openly between the parts and communicates with the negative pressure forming connection pipe,
When the casing negative pressure pump is operated, negative pressure is sequentially applied to the negative pressure forming tube, the negative pressure forming connection pipe, and the negative pressure forming nozzle, and accordingly, the air between the recovery casing and the opening/closing door and the adsorption body forms the negative pressure By flowing out through the nozzle, the adsorption body is adsorbed to each surface of the recovery casing and the opening/closing door, and the connection point of the recovery casing and the opening/closing door may be sealed by the sealing member.

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본 발명의 일 측면에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛은 반도체 제조 공정에 사용되는 제논과 크립톤 중 적어도 하나인 회수 대상체가 함유된 산업 폐기물에서 상기 회수 대상체를 회수시킬 수 있는 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치에 적용되고, 상기 회수 대상체가 함유된 상태의 상기 산업 폐기물이 내부에 수용되는 회수 케이싱과 연결되는 것으로서,
상기 회수 케이싱과 회수 필터 연결관에 의해 연결되는 회수 필터 케이싱; 상기 회수 필터 케이싱 내에 배치되고, 상기 회수 케이싱으로부터 상기 회수 필터 연결관을 통해 유입된 상기 회수 대상체를 필터링하여 함유할 수 있는 회수 필터; 상기 회수 필터 연결관을 개폐시킬 수 있는 회수 필터용 도어; 상기 회수 필터 케이싱 상부에서 외력에 의해 승강될 수 있는 승강 손잡이; 및 상기 승강 손잡이와 상기 회수 필터용 도어를 연결하여, 상기 승강 손잡이의 승강에 따라 상기 회수 필터용 도어가 승강되도록 하는 연결관측 연결 부재;를 포함하고,
상기 승강 손잡이가 상승되면, 상기 연결관측 연결 부재에 의해 상기 회수 필터용 도어가 상승되면서 상기 회수 필터 연결관이 닫히게 되고,
상기 승강 손잡이가 하강되면, 상기 연결관측 연결 부재에 의해 상기 회수 필터용 도어가 하강되면서 상기 회수 필터 연결관이 열리게 되는 것을 특징으로 한다.The recovery filter unit for a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process according to an aspect of the present invention is capable of recovering the recovery object from industrial waste containing a recovery object that is at least one of xenon and krypton used in the semiconductor manufacturing process. It is applied to a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process that can
a recovery filter casing connected to the recovery casing by a recovery filter connecting pipe; a recovery filter disposed in the recovery filter casing and capable of filtering and containing the recovery object introduced from the recovery casing through the recovery filter connection pipe; a door for a recovery filter capable of opening and closing the recovery filter connection pipe; a lifting handle capable of being lifted by an external force from an upper portion of the recovery filter casing; and a connection tube connecting member that connects the lifting handle and the recovery filter door to raise and lower the recovery filter door according to the elevation of the lifting handle.
When the lifting handle is raised, the recovery filter connection pipe is closed while the recovery filter door is raised by the connection pipe-side connecting member,
When the lifting handle is lowered, the recovery filter connection pipe is opened while the recovery filter door is lowered by the connection pipe-side connecting member.

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본 발명의 일 측면에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치에 의하면, 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치가 회수 케이싱과, 개폐 도어와, 밀폐 부재를 포함함에 따라, 상기 밀폐 부재에 의해 상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어의 연결 부분이 밀폐된 상태가 되어, 외부 공기가 상기 회수 케이싱 내부로 임의 유입되지 아니하게 됨으로써, 산업 폐기물 내에 함유된 제논 및 크립톤의 순도 저하를 방지하면서 제논 및 크립톤이 회수될 수 있게 되는 효과가 있다.According to the xenon and krypton recovery device used in the semiconductor manufacturing process according to an aspect of the present invention, the xenon and krypton recovery device used in the semiconductor manufacturing process includes a recovery casing, an opening/closing door, and a sealing member, so that the sealing By the member, the connection part of the recovery casing and the opening/closing door is sealed, so that external air is not randomly introduced into the recovery casing, thereby preventing a decrease in the purity of xenon and krypton contained in industrial waste and xenon and krypton can be recovered.

본 발명의 일 측면에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛에 의하면, 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛이 회수 필터 케이싱과, 회수 필터와, 회수 필터용 도어를 포함함에 따라, 제논 및 크립톤과 같은 회수 대상체가 필터링되어 함유된 상기 회수 필터가 내부에 구비된 상기 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛을 상기 회수 케이싱에서 분리할 때 외부 공기가 상기 회수 필터 케이싱 내부로 임의 유입되는 현상이 방지될 수 있고, 그에 따라 그러한 외부 공기 임의 유입에 따라 회수되는 제논 및 크립톤이 오염되어 그 순도가 저하되는 현상이 방지될 수 있는 효과가 있다.According to the recovery filter unit for a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process according to an aspect of the present invention, the recovery filter unit for the xenon and krypton recovery device includes a recovery filter casing, a recovery filter, and a door for the recovery filter Accordingly, when the recovery filter unit for the xenon and krypton recovery device having the recovery filter contained therein is separated from the recovery casing, external air flows into the recovery filter casing. Random inflow can be prevented, and accordingly, there is an effect that can prevent xenon and krypton that are recovered according to such random inflow of external air from being contaminated and the purity thereof is reduced.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치에서 개폐 도어가 열린 모습을 보이는 도면.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치에서 개폐 도어가 닫힌 모습을 보이는 도면.
도 3은 도 1에 도시된 A부분에 대한 확대도.
도 4는 도 2에 도시된 B부분에 대한 확대도.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛이 적용된 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치를 보이는 도면.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛이 열린 모습을 보이는 도면.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛이 닫힌 모습을 보이는 도면.
도 8은 도 7에 도시된 C부분에 대한 확대도.1 is a view showing a state in which an opening/closing door is opened in a device for recovering xenon and krypton used in a semiconductor manufacturing process according to an embodiment of the present invention;
2 is a view showing a closed state of the opening and closing door in the xenon and krypton recovery device used in the semiconductor manufacturing process according to an embodiment of the present invention.
Figure 3 is an enlarged view of the portion A shown in Figure 1;
4 is an enlarged view of part B shown in FIG.
5 is a view showing a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process to which a recovery filter unit for a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process according to another embodiment of the present invention is applied.
6 is a view showing an open state of the recovery filter unit for a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process according to another embodiment of the present invention.
7 is a view showing a closed state of the recovery filter unit for a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process according to another embodiment of the present invention.
FIG. 8 is an enlarged view of part C shown in FIG. 7;

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치에 대하여 설명한다.Hereinafter, an apparatus for recovering xenon and krypton used in a semiconductor manufacturing process according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치에서 개폐 도어가 열린 모습을 보이는 도면이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치에서 개폐 도어가 닫힌 모습을 보이는 도면이고, 도 3은 도 1에 도시된 A부분에 대한 확대도이고, 도 4는 도 2에 도시된 B부분에 대한 확대도이다.1 is a view showing an open/closed door opened in a device for recovering xenon and krypton used in a semiconductor manufacturing process according to an embodiment of the present invention, and FIG. It is a view showing that the opening and closing door is closed in the xenon and krypton recovery device, FIG. 3 is an enlarged view of part A shown in FIG. 1 , and FIG. 4 is an enlarged view of part B shown in FIG. 2 .

도 1 내지 도 4를 함께 참조하면, 본 실시예에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치(100)는 반도체 제조 공정에 사용되는 제논과 크립톤 중 적어도 하나인 회수 대상체가 함유된 산업 폐기물(10)에서 상기 회수 대상체를 회수시킬 수 있는 것으로서, 회수 케이싱(110)과, 개폐 도어(120)와, 밀폐 부재(130)를 포함한다.1 to 4 together, the xenon and krypton recovery apparatus 100 used in the semiconductor manufacturing process according to the present embodiment includes an industrial waste containing at least one of xenon and krypton used in the semiconductor manufacturing process. In (10), the recovery object can be recovered, and includes a recovery casing 110 , an opening/closing door 120 , and a sealing member 130 .

상기 회수 케이싱(110)은 상기 회수 대상체가 함유된 상태의 상기 산업 폐기물(10)이 내부에 수용되는 것이다.The recovery casing 110 is to accommodate the industrial waste 10 in a state in which the recovery object is contained therein.

상세히, 상기 회수 케이싱(110)은 직육면체 형태의 케이싱 몸체(111)와, 상기 케이싱 몸체(111) 상단에서 상기 밀폐 부재(130)가 접하도록 상기 케이싱 몸체(111) 내부로 돌출되는 케이싱측 돌출체(112)를 포함한다.In detail, the recovery casing 110 includes a rectangular parallelepiped casing body 111 and a casing-side protrusion protruding into the casing body 111 so that the sealing member 130 is in contact with the casing body 111 at the upper end of the casing body 111 . (112).

상기 케이싱 몸체(111)의 상단은 상기 산업 폐기물(10) 진출이 가능하도록 개방된 형태이고, 상기 케이싱 몸체(111) 내부 바닥면에 상기 회수 대상체가 함유된 산업 폐기물(10)이 놓인다.The upper end of the casing body 111 is opened to allow the industrial waste 10 to advance, and the industrial waste 10 containing the object to be recovered is placed on the inner bottom surface of the casing body 111 .

상기 개폐 도어(120)는 상기 회수 케이싱(110) 내부로 상기 산업 폐기물(10) 인입을 위해 상기 회수 케이싱(110)을 열고, 상기 회수 케이싱(110) 내부에 상기 산업 폐기물(10)이 인입된 상태에서 상기 회수 케이싱(110)을 닫을 수 있는 것이다.The opening and closing door 120 opens the recovery casing 110 to introduce the industrial waste 10 into the recovery casing 110 , and the industrial waste 10 is introduced into the recovery casing 110 . It is possible to close the recovery casing 110 in this state.

상세히, 상기 개폐 도어(120)는 상기 회수 케이싱(110)의 개방된 상단을 덮을 수 있도록 일정 면적으로 넓은 플레이트 형태로 형성되고 회전축(103)에 의해 상기 회수 케이싱(110)에 회전 가능하게 연결되는 도어 몸체(121)와, 상기 도어 몸체(121)의 저면에서 상기 밀폐 부재(130)가 접하도록 상기 도어 몸체(121)의 하방으로 돌출되는 도어측 돌출체(122)를 포함한다.In detail, the opening/closing door 120 is formed in the form of a wide plate with a predetermined area to cover the open top of the recovery casing 110 and is rotatably connected to the recovery casing 110 by the rotation shaft 103 . The door body 121 includes a door body 121 and a door-side protrusion 122 protruding downward from the door body 121 so that the sealing member 130 comes into contact with the lower surface of the door body 121 .

상기 케이싱측 돌출체(112)와 상기 도어측 돌출체(122)는 상기 밀폐 부재(130)의 상하에 근접되거나 접하게 된다.The casing-side protrusion 112 and the door-side protrusion 122 are adjacent to or in contact with the upper and lower portions of the sealing member 130 .

도면 번호 102는 상기 회수 케이싱(110) 내부의 압력을 감지하는 압력 감지 센서이고, 도면 번호 104는 상기 케이싱 몸체(111)와 상기 도어 몸체(121)에서 각각 연장되는 플랜지들을 집어서 상기 회수 케이싱(110)과 상기 개폐 도어(120)를 외부에서 클램핑해주는 클램프이다.Reference numeral 102 denotes a pressure sensor for detecting the pressure inside the recovery casing 110, and reference numeral 104 denotes the recovery casing by picking up flanges extending from the casing body 111 and the door body 121, respectively 110) and a clamp for clamping the opening and closing door 120 from the outside.

상기 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치(100)는 상기 회수 케이싱(110) 내부를 미리 설정된 일정 압력 이하의 저압(진공 분위기)으로 형성시키는 케이싱 부압 펌프(101)를 더 포함한다.The xenon and krypton recovery device 100 used in the semiconductor manufacturing process further includes a casing negative pressure pump 101 for forming the inside of the recovery casing 110 at a low pressure (vacuum atmosphere) below a preset predetermined pressure.

도면 번호 114는 상기 케이싱 몸체(111)를 관통하여 상기 케이싱 부압 펌프(101)와 상기 케이싱 몸체(111) 내부를 연통시키는 펌프 케이싱 연통관이다.Reference numeral 114 denotes a pump casing communicating pipe passing through the casing body 111 to communicate the casing negative pressure pump 101 and the inside of the casing body 111 .

상기 밀폐 부재(130)는 상기 회수 케이싱(110) 내부로 외부 공기의 임의 유입이 방지될 수 있도록, 상기 회수 케이싱(110)과 상기 개폐 도어(120) 사이를 밀폐시키는 것이다.The sealing member 130 seals between the recovery casing 110 and the opening/closing door 120 to prevent any inflow of external air into the recovery casing 110 .

상기 밀폐 부재(130)는 상기 케이싱 부압 펌프(101)와 연결되어, 상기 케이싱 부압 펌프(101)에 의해 상기 회수 케이싱(110) 및 상기 개폐 도어(120)와 상기 밀폐 부재(130) 사이에 부압이 형성됨으로써, 상기 회수 케이싱(110) 및 상기 개폐 도어(120) 표면에 상기 밀폐 부재(130)가 흡착되면서 상기 회수 케이싱(110) 및 상기 개폐 도어(120) 사이의 틈이 상기 밀폐 부재(130)에 의해 밀폐된다.The sealing member 130 is connected to the casing negative pressure pump 101 , and a negative pressure is applied between the recovery casing 110 and the opening/closing door 120 and the sealing member 130 by the casing negative pressure pump 101 . As this is formed, as the sealing member 130 is adsorbed to the surfaces of the recovery casing 110 and the opening/closing door 120 , a gap between the recovery casing 110 and the opening/closing door 120 is formed by the sealing member 130 . ) is closed by

상기 케이싱 부압 펌프(101)에 의해 상기 밀폐 부재(130)에 부압이 형성될 수 있도록, 상기 케이싱 몸체(111) 벽면 내부를 따라 상기 케이싱 부압 펌프(101)와 상기 밀폐 부재(130)를 연결시키는 부압 형성관(113)이 형성된다.Connecting the casing negative pressure pump 101 and the sealing member 130 along the inner wall surface of the casing body 111 so that a negative pressure can be formed in the sealing member 130 by the casing negative pressure pump 101 A negative pressure forming tube 113 is formed.

상기 부압 형성관(113)은 상기 펌프 케이싱 연통관(114)과 연통되되, 상기 부압 형성관(113)과 상기 펌프 케이싱 연통관(114)에는 펌프 조절 밸브(115)가 설치되고, 상기 펌프 조절 밸브(115)에 의해 상기 부압 형성관(113)과 상기 펌프 케이싱 연통관(114) 중 어느 하나가 선택적으로 열릴 수 있게 된다.The negative pressure forming pipe 113 communicates with the pump casing communication pipe 114, and a pump control valve 115 is installed in the negative pressure forming pipe 113 and the pump casing communication pipe 114, and the pump control valve ( 115), any one of the negative pressure forming pipe 113 and the pump casing communication pipe 114 can be selectively opened.

상기 밀폐 부재(130)는 상기 부압 형성관(113)과 연결되는 연결 몸체(131)와, 상기 연결 몸체(131)와 연결되되 상기 회수 케이싱(110) 및 상기 개폐 도어(120)의 각 표면으로부터 일정 간격 이격되도록 상기 회수 케이싱(110) 내부에 배치되되 상기 회수 케이싱(110) 및 상기 개폐 도어(120)의 연결 지점을 덮을 수 있는 일정 면적으로 형성되는 흡착 몸체(132)와, 상기 연결 몸체(131) 내부를 관통하여 상기 부압 형성관(113)과 연통되는 부압 형성 연결관(133)과, 상기 회수 케이싱(110) 및 상기 개폐 도어(120)의 각 표면과 상기 흡착 몸체(132) 사이 부분에 개방 형성되되 상기 부압 형성 연결관(133)과 연통되는 부압 형성 노즐(134)을 포함한다.The sealing member 130 includes a connection body 131 connected to the negative pressure forming tube 113 , and a connection body 131 connected to the recovery casing 110 and each surface of the opening and closing door 120 . An adsorption body 132 disposed inside the recovery casing 110 to be spaced apart by a predetermined interval and formed in a predetermined area to cover the connection point of the recovery casing 110 and the opening/closing door 120, and the connection body ( 131) A portion between the negative pressure forming connector 133 passing through the interior and communicating with the negative pressure forming tube 113, and each surface of the recovery casing 110 and the opening/closing door 120 and the adsorption body 132 and a negative pressure forming nozzle 134 which is formed to be open and communicates with the negative pressure forming connection pipe 133 .

상기 밀폐 부재(130)는 실리콘 고무 등 탄성을 가진 물질로 이루어져서, 상기 회수 케이싱(110) 및 상기 개폐 도어(120)의 각 표면에 탄력있게 흡착될 수 있다.The sealing member 130 may be made of a material having elasticity, such as silicone rubber, and may be elastically adsorbed to each surface of the recovery casing 110 and the opening/closing door 120 .

상기 흡착 몸체(132)는 상기 연결 몸체(131)에 비해 상대적으로 넓은 면적으로 형성된다. 바람직하게는, 상기 흡착 몸체(132)는 상기 회수 케이싱(110) 및 상기 개폐 도어(120)의 연결 지점, 즉 상기 케이싱측 돌출체(112)와 상기 도어측 돌출체(122)를 함께 일정 면적 덮을 수 있는 면적으로 형성되고, 상기 연결 몸체(131)에서 외측으로 갈수록 점차 상기 케이싱측 돌출체(112)와 상기 도어측 돌출체(122)를 향해 하향되는 형태, 예를 들어 전체적으로 버섯 형태로 형성될 수 있다.The adsorption body 132 is formed to have a relatively large area compared to the connection body 131 . Preferably, the adsorption body 132 includes a connection point between the recovery casing 110 and the opening/closing door 120, that is, the casing-side protrusion 112 and the door-side protrusion 122 together with a predetermined area. It is formed in an area that can be covered, and gradually descends toward the casing-side protrusion 112 and the door-side protrusion 122 as it goes outward from the connection body 131 , for example, it is formed in a mushroom shape as a whole. can be

상기 케이싱 부압 펌프(101)가 작동되면, 상기 부압 형성관(113), 상기 부압 형성 연결관(133) 및 상기 부압 형성 노즐(134)에 순차적으로 부압(negative pressure)이 걸리고, 그에 따라 상기 회수 케이싱(110) 및 상기 개폐 도어(120)와 상기 흡착 몸체(132) 사이의 공기가 상기 부압 형성 노즐(134)을 통해 유출됨으로써, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 회수 케이싱(110) 및 상기 개폐 도어(120)의 각 표면에 상기 흡착 몸체(132)가 흡착되어, 상기 회수 케이싱(110) 및 상기 개폐 도어(120)의 연결 지점이 상기 밀폐 부재(130)에 의해 밀폐될 수 있게 된다.When the casing negative pressure pump 101 is operated, negative pressure is sequentially applied to the negative pressure forming pipe 113 , the negative pressure forming connecting pipe 133 , and the negative pressure forming nozzle 134 , and thus the recovery As the air between the casing 110 and the opening/closing door 120 and the adsorption body 132 flows out through the negative pressure forming nozzle 134, as shown in FIG. 4, the recovery casing 110 and the The adsorption body 132 is adsorbed to each surface of the opening/closing door 120 , so that the connection point between the recovery casing 110 and the opening/closing door 120 can be sealed by the sealing member 130 .

한편, 상기 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치(100)는 상기 회수 케이싱(110)에 근접 배치되는 회수 필터 유닛(140)과, 상기 회수 필터 유닛(140) 내부를 미리 설정된 일정 압력 이하의 저압(진공 분위기)로 형성시켜 주는 필터 부압 펌프(143)를 더 포함한다.On the other hand, the xenon and krypton recovery device 100 used in the semiconductor manufacturing process includes the recovery filter unit 140 disposed close to the recovery casing 110 and the inside of the recovery filter unit 140 at a predetermined pressure or less. It further includes a filter negative pressure pump 143 to form a low pressure (vacuum atmosphere) of.

상기 회수 필터 유닛(140)은 외부에 대하여 밀폐되고, 그 내부에 상기 회수 대상체가 필터링되어 함유될 수 있는 회수 필터(150)가 구비된 것이다.The recovery filter unit 140 is sealed to the outside, and a recovery filter 150 in which the recovery object can be filtered and contained is provided.

도면 번호 141은 상기 회수 케이싱(110)과 상기 회수 필터 유닛(140)을 서로 연통시키는 회수 필터 연결관이고, 도면 번호 142는 상기 회수 필터 연결관(141)을 개폐시키는 회수 필터 개폐 밸브이다.Reference numeral 141 denotes a recovery filter connection pipe for communicating the recovery casing 110 and the recovery filter unit 140 with each other, and reference numeral 142 denotes a recovery filter opening/closing valve for opening and closing the recovery filter connection pipe 141 .

이하에서는 도면을 참조하여 본 실시예에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치(100)의 작동에 대하여 설명한다.Hereinafter, the operation of the xenon and krypton recovery apparatus 100 used in the semiconductor manufacturing process according to the present embodiment will be described with reference to the drawings.

먼저, 상기 개폐 도어(120)가 열린 상태에서 작업자에 의해 상기 회수 케이싱(110) 내부에 상기 회수 대상체가 함유된 상기 산업 폐기물(10)이 수용된다.First, in the state in which the opening/closing door 120 is opened, the industrial waste 10 containing the object to be recovered is accommodated in the recovery casing 110 by an operator.

그런 다음, 상기 개폐 도어(120)가 작업자에 의해 닫히고, 상기 클램프(104)가 설치된다.Then, the opening/closing door 120 is closed by the operator, and the clamp 104 is installed.

그런 다음, 상기 펌프 조절 밸브(115)가 상기 펌프 케이싱 연통관(114)에서 상기 회수 케이싱(110) 내부 쪽은 닫고 상기 부압 형성관(113)은 연 상태에서, 상기 케이싱 부압 펌프(101)가 작동된다. 그러면, 상기 부압 형성 노즐(134)을 통해 상기 회수 케이싱(110) 및 상기 개폐 도어(120)의 각 표면과 상기 흡착 몸체(132) 사이 부분의 공기가 유출되고, 그에 따라 상기 회수 케이싱(110) 및 상기 개폐 도어(120)의 각 표면과 상기 흡착 몸체(132) 사이에 부압이 형성되면서, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 회수 케이싱(110) 및 상기 개폐 도어(120)의 각 표면에 상기 흡착 몸체(132)가 흡착되어, 상기 회수 케이싱(110) 및 상기 개폐 도어(120)의 연결 부분이 상기 밀폐 부재(130)에 의해 밀폐된다. 이러한 밀폐 과정에서, 상기 회수 필터 연결관(141)은 상기 회수 필터 개폐 밸브(142)에 의해 닫힌 상태를 유지한다.Then, when the pump control valve 115 closes the inside of the recovery casing 110 in the pump casing communicating pipe 114 and the negative pressure forming pipe 113 is open, the casing negative pressure pump 101 operates do. Then, the air from the portion between each surface of the recovery casing 110 and the opening/closing door 120 and the adsorption body 132 flows out through the negative pressure forming nozzle 134, and accordingly, the recovery casing 110 And as a negative pressure is formed between each surface of the opening and closing door 120 and the adsorption body 132, as shown in FIG. 4, the recovery casing 110 and each surface of the opening and closing door 120 The adsorption body 132 is adsorbed, and the connection portion between the recovery casing 110 and the opening/closing door 120 is sealed by the sealing member 130 . During this sealing process, the recovery filter connecting pipe 141 is maintained in a closed state by the recovery filter opening/closing valve 142 .

이러한 밀폐 상태에서, 상기 펌프 조절 밸브(115)가 상기 펌프 케이싱 연통관(114)에서 상기 회수 케이싱(110) 내부 쪽을 열고 상기 부압 형성관(113)은 닫게 되면, 상기 회수 케이싱(110) 내부가 진공 분위기가 되고, 이 상태에서 상기 회수 케이싱(110) 내부에 배치된 상기 산업 폐기물(10)이 별도 도구(미도시) 등에 의해 깨어지면서 상기 산업 폐기물(10) 내부의 상기 회수 대상체가 상기 회수 케이싱(110) 내부로 퍼지게 된다.In this sealed state, when the pump control valve 115 opens the inside of the recovery casing 110 in the pump casing communication pipe 114 and the negative pressure forming pipe 113 closes, the inside of the recovery casing 110 is It becomes a vacuum atmosphere, and in this state, the industrial waste 10 disposed inside the recovery casing 110 is broken by a separate tool (not shown), and the object to be recovered inside the industrial waste 10 is the recovery casing (110) spreads inside.

이 때, 상기 밀폐 부재(130)에 의해 상기 회수 케이싱(110) 및 상기 개폐 도어(120)의 연결 부분이 밀폐된 상태이므로, 외부 공기가 상기 회수 케이싱(110) 내부로 임의 유입되지 아니한다.At this time, since the connection portion between the recovery casing 110 and the opening/closing door 120 is sealed by the sealing member 130 , external air is not arbitrarily introduced into the recovery casing 110 .

이러한 상태에서, 상기 필터 부압 펌프(143)가 작동되어 상기 회수 필터 유닛(140) 내부가 진공 분위기로 됨과 함께, 상기 회수 필터 연결관(141)이 상기 회수 필터 개폐 밸브(142)에 의해 열리게 되면, 상기 회수 케이싱(110) 내부에 퍼져있던 상기 회수 대상체가 상기 회수 필터 유닛(140) 내부로 유입되어, 상기 회수 필터(150)에 필터링되면서 함유됨으로써, 상기 회수 대상체가 회수될 수 있게 된다.In this state, when the filter negative pressure pump 143 is operated to create a vacuum atmosphere inside the recovery filter unit 140 and the recovery filter connection pipe 141 is opened by the recovery filter on-off valve 142 , , the collection object spread inside the collection casing 110 is introduced into the collection filter unit 140 , and is contained while being filtered in the collection filter 150 , so that the collection object can be recovered.

상기와 같이, 상기 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치(100)가 상기 회수 케이싱(110)과, 상기 개폐 도어(120)와, 상기 밀폐 부재(130)를 포함함에 따라, 상기 밀폐 부재(130)에 의해 상기 회수 케이싱(110) 및 상기 개폐 도어(120)의 연결 부분이 밀폐된 상태가 되어, 외부 공기가 상기 회수 케이싱(110) 내부로 임의 유입되지 아니하게 됨으로써, 상기 산업 폐기물(10) 내에 함유된 제논 및 크립톤의 순도 저하를 방지하면서 제논 및 크립톤이 회수될 수 있게 된다.As described above, as the xenon and krypton recovery apparatus 100 used in the semiconductor manufacturing process includes the recovery casing 110 , the opening/closing door 120 , and the sealing member 130 , the sealing member By 130, the connection part of the recovery casing 110 and the opening/closing door 120 is sealed, so that external air is not arbitrarily introduced into the recovery casing 110, so that the industrial waste ( 10) It is possible to recover the xenon and krypton while preventing the deterioration of the purity of the xenon and krypton contained within.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치 및 상기 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛에 대하여 설명한다.Hereinafter, a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process and a recovery filter unit for a xenon and krypton recovery device used in the semiconductor manufacturing process according to another embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛이 적용된 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치를 보이는 도면이고, 도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛이 열린 모습을 보이는 도면이고, 도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛이 닫힌 모습을 보이는 도면이고, 도 8은 도 7에 도시된 C부분에 대한 확대도이다.5 is a view showing a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process to which a recovery filter unit for a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process is applied according to another embodiment of the present invention, and FIG. A view showing an open state of a recovery filter unit for a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process according to another embodiment, and FIG. 7 is a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process according to another embodiment of the present invention. It is a view showing a closed state of the water recovery filter unit, and FIG. 8 is an enlarged view of part C shown in FIG.

도 5 내지 도 8을 함께 참조하면, 본 실시예에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치(200)는 반도체 제조 공정에 사용되는 제논과 크립톤 중 적어도 하나인 회수 대상체가 함유된 산업 폐기물(10)에서 상기 회수 대상체를 회수시킬 수 있는 것으로서, 회수 케이싱(210)과, 개폐 도어(220)와, 밀폐 부재(230)와, 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛(240)을 포함한다.5 to 8 , the xenon and krypton recovery apparatus 200 used in the semiconductor manufacturing process according to the present embodiment includes an industrial waste containing at least one of xenon and krypton used in the semiconductor manufacturing process. In (10), the recovery object can be recovered, and includes a recovery casing 210, an opening/closing door 220, a sealing member 230, and a recovery filter unit 240 for a xenon and krypton recovery device. .

상기 회수 케이싱(210)은 상기 회수 대상체가 함유된 상태의 상기 산업 폐기물(10)이 내부에 수용되는 것으로, 상기 회수 케이싱(210)은 직육면체 형태의 케이싱 몸체(211)를 포함한다.The recovery casing 210 accommodates the industrial waste 10 in a state in which the object to be recovered is contained, and the recovery casing 210 includes a casing body 211 in the form of a rectangular parallelepiped.

상기 케이싱 몸체(211) 내부 바닥면에 상기 회수 대상체가 함유된 산업 폐기물(10)이 놓인다.Industrial waste 10 containing the object to be recovered is placed on the inner bottom surface of the casing body 211 .

도면 번호 202는 상기 회수 케이싱(210) 내부의 압력을 감지하는 압력 감지 센서이다.Reference numeral 202 denotes a pressure sensor for detecting the pressure inside the recovery casing 210 .

상기 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치(200)는 상기 회수 케이싱(210) 내부를 미리 설정된 일정 압력 이하의 저압(진공 분위기)으로 형성시키는 케이싱 부압 펌프(201)를 더 포함한다.The xenon and krypton recovery device 200 used in the semiconductor manufacturing process further includes a casing negative pressure pump 201 for forming the inside of the recovery casing 210 at a low pressure (vacuum atmosphere) below a preset predetermined pressure.

도면 번호 214는 상기 케이싱 몸체(211)를 관통하여 상기 케이싱 부압 펌프(201)와 상기 케이싱 몸체(211) 내부를 연통시키는 펌프 케이싱 연통관이고, 도면 번호 215는 상기 펌프 케이싱 연통관(214)을 개폐시킬 수 있는 펌프 조절 밸브이다.Reference numeral 214 denotes a pump casing communication pipe that passes through the casing body 211 to communicate the casing negative pressure pump 201 and the inside of the casing body 211, and reference numeral 215 denotes the pump casing communication pipe 214 to open and close. It is a pump control valve.

도면 번호 206은 상기 회수 케이싱(210)과 상기 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛(240)을 서로 연통시키는 회수 필터 연결관이고, 도면 번호 207는 상기 회수 필터 연결관(206)을 개폐시키는 회수 필터 개폐 밸브이다.Reference numeral 206 denotes a recovery filter connection pipe for communicating the recovery casing 210 and the recovery filter unit 240 for the xenon and krypton recovery device with each other, and reference numeral 207 denotes a recovery for opening and closing the recovery filter connection pipe 206 It is a filter on/off valve.

한편, 상기 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치(200)는 상기 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛(240) 내부를 미리 설정된 일정 압력 이하의 저압(진공 분위기)로 형성시켜 주는 필터 부압 펌프(205)를 더 포함한다.On the other hand, the xenon and krypton recovery device 200 used in the semiconductor manufacturing process is a filter negative pressure that forms the inside of the recovery filter unit 240 for the xenon and krypton recovery device at a low pressure (vacuum atmosphere) below a predetermined pressure or less. A pump 205 is further included.

본 실시예에 따른 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛(240)은 상기 회수 케이싱(210)에 근접 배치되는 형태로 상기 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치(200)에 적용되고, 상기 회수 케이싱(210)과 연결되는 것으로서, 회수 필터 케이싱(241)과, 회수 필터(250)와, 회수 필터용 도어(270)를 포함한다.The recovery filter unit 240 for the xenon and krypton recovery device according to this embodiment is disposed close to the recovery casing 210 and is applied to the xenon and krypton recovery device 200 used in the semiconductor manufacturing process, and the It is connected to the recovery casing 210 and includes a recovery filter casing 241 , a recovery filter 250 , and a door 270 for a recovery filter.

상기 회수 필터 케이싱(241)은 상기 회수 케이싱(210)과 상기 회수 필터 연결관(206)에 의해 연결되는 것이다.The recovery filter casing 241 is connected to the recovery casing 210 by the recovery filter connecting pipe 206 .

상기 회수 필터(250)는 상기 회수 필터 케이싱(241) 내에 배치되고, 상기 회수 케이싱(210)으로부터 상기 회수 필터 연결관(206)을 통해 유입된 상기 회수 대상체를 필터링하여 함유할 수 있는 것이다.The recovery filter 250 is disposed in the recovery filter casing 241 , and may filter and contain the recovery object introduced from the recovery casing 210 through the recovery filter connection pipe 206 .

상기 회수 필터용 도어(270)는 상기 회수 필터 연결관(206), 상세히는 상기 회수 필터 연결관(206)과 상기 회수 필터 케이싱(241) 내부를 연통시키는 회수 필터 연결홀(242)을 개폐시킬 수 있는 것이다.The recovery filter door 270 opens and closes the recovery filter connection pipe 206, specifically, the recovery filter connection hole 242 that communicates the inside of the recovery filter connection pipe 206 and the recovery filter casing 241. it can be

한편, 상기 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛(240)은 승강 손잡이(260)와, 연결관측 연결 부재(280)를 더 포함한다.Meanwhile, the recovery filter unit 240 for a xenon and krypton recovery device used in the semiconductor manufacturing process further includes a lifting handle 260 and a connecting member 280 for connection.

상기 승강 손잡이(260)는 상기 회수 필터 케이싱(241) 상부에서 작업자가 손으로 잡고 가하는 외력에 의해 승강될 수 있는 것이다.The lifting handle 260 may be raised and lowered by an external force applied by a worker holding the upper portion of the recovery filter casing 241 by hand.

상기 연결관측 연결 부재(280)는 상기 승강 손잡이(260)와 상기 회수 필터용 도어(270)를 연결하여, 상기 승강 손잡이(260)의 승강에 따라 상기 회수 필터용 도어(270)가 승강되도록 하는 것으로, 와이어가 그 예로 제시될 수 있다.The connection pipe-side connecting member 280 connects the lifting handle 260 and the recovery filter door 270 so that the recovery filter door 270 is raised and lowered according to the elevation of the lifting handle 260 . As such, a wire may be presented as an example.

상기 회수 필터 케이싱(241) 벽체 내에서 상기 회수 필터 연결홀(242)과 상기 승강 손잡이(260)까지의 부분에는 회수 필터측 연통홀(244)이 형성되고, 상기 회수 필터측 연통홀(244)을 통해 상기 연결관측 연결 부재(280)가 상기 회수 필터용 도어(270)와 상기 승강 손잡이(260)가 연동되도록 연결한다.A recovery filter-side communication hole 244 is formed in the wall of the recovery filter casing 241 from the recovery filter connection hole 242 to the lifting handle 260, and the recovery filter-side communication hole 244 is formed. The connection pipe connecting member 280 is connected so that the recovery filter door 270 and the lifting handle 260 are interlocked through the .

상기 회수 필터측 연통홀(244)은 상기 회수 필터 연결홀(242)의 하측으로 일정 깊이까지 함몰되도록 형성되어, 상기 회수 필터용 도어(270)가 승강될 수 있는 공간을 제공한다.The recovery filter-side communication hole 244 is formed to be recessed to a predetermined depth below the recovery filter connection hole 242 to provide a space in which the recovery filter door 270 can be lifted.

도면 번호 271은 상기 회수 필터용 도어(270) 외측을 따라 설치되어 상기 회수 필터측 연통홀(244) 내벽과 밀접되는 밀폐링으로, 오 링이 그 예로 제시될 수 있다.Reference numeral 271 denotes a sealing ring that is installed along the outside of the recovery filter door 270 and is in close contact with the inner wall of the recovery filter-side communication hole 244, and an O-ring may be exemplified.

상기 승강 손잡이(260)가 상승되면, 상기 연결관측 연결 부재(280)에 의해 상기 회수 필터용 도어(270)가 상승되면서 상기 회수 필터 연결관(242)이 닫히게 되고, 상기 승강 손잡이(260)가 하강되면, 상기 연결관측 연결 부재(280)에 의해 상기 회수 필터용 도어(270)가 하강되면서 상기 회수 필터 연결관(242)이 열리게 된다.When the lifting handle 260 is raised, the recovery filter connection pipe 242 is closed while the recovery filter door 270 is raised by the connection pipe-side connecting member 280 , and the lifting handle 260 is opened. When descending, the recovery filter connection pipe 242 is opened while the recovery filter door 270 is lowered by the connection pipe-side connecting member 280 .

한편, 상기 필터 부압 펌프(205)와 상기 회수 필터 유닛(240) 내부는 필터 부압 연결홀(243)을 통해 연통되고, 상기 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛(240)은 필터 부압 연결 개폐용 도어(275)와, 필터 부압 연결측 연결 부재(285)를 포함한다.On the other hand, the filter negative pressure pump 205 and the inside of the recovery filter unit 240 communicate through the filter negative pressure connection hole 243, the recovery filter unit 240 for the xenon and krypton recovery device used in the semiconductor manufacturing process. Silver includes a filter negative pressure connection door 275 for opening and closing, and a filter negative pressure connection side connection member 285 .

상기 필터 부압 연결 개폐용 도어(275)는 상기 필터 부압 연결홀(243)을 개폐시킬 수 있는 것이다.The filter negative pressure connection door 275 may open and close the filter negative pressure connection hole 243 .

상기 필터 부압 연결측 연결 부재(285)는 상기 승강 손잡이(260)와 상기 필터 부압 연결 개폐용 도어(275)를 연결하여, 상기 승강 손잡이(260)의 승강에 따라 상기 필터 부압 연결 개폐용 도어(275)가 승강되도록 하는 것으로, 와이어가 그 예로 제시될 수 있다.The filter negative pressure connection side connecting member 285 connects the lifting handle 260 and the filter negative pressure connection door 275 to open and close the filter negative pressure connection door 275 according to the lifting of the lifting handle 260 ( 275) is raised and lowered, and a wire may be presented as an example.

상기 회수 필터 케이싱(241) 벽체 내에서 상기 필터 부압 연결홀(243)과 상기 승강 손잡이(260)까지의 부분에는 필터 부압측 연통홀(245)이 형성되고, 상기 필터 부압측 연통홀(245)을 통해 상기 필터 부압 연결측 연결 부재(285)가 상기 필터 부압 연결 개폐용 도어(275)와 상기 승강 손잡이(260)가 연동되도록 연결한다.A filter negative pressure side communication hole 245 is formed in the wall of the recovery filter casing 241 from the filter negative pressure connection hole 243 to the lifting handle 260, and the filter negative pressure side communication hole 245 is formed. The filter negative pressure connection side connecting member 285 connects the filter negative pressure connection door 275 and the lifting handle 260 to be interlocked through the .

상기 필터 부압측 연통홀(245)은 상기 필터 부압 연결홀(243)의 하측으로 일정 깊이까지 함몰되도록 형성되어, 상기 필터 부압 연결 개폐용 도어(275)가 승강될 수 있는 공간을 제공한다.The filter negative pressure side communication hole 245 is formed to be recessed to a predetermined depth below the filter negative pressure connection hole 243 to provide a space for the filter negative pressure connection opening/closing door 275 to be lifted.

도면 번호 276은 상기 필터 부압 연결 개폐용 도어(275) 외측을 따라 설치되어 상기 필터 부압측 연통홀(245) 내벽과 밀접되는 밀폐링으로, 오 링이 그 예로 제시될 수 있다.Reference numeral 276 denotes a sealing ring installed along the outside of the filter negative pressure connection opening/closing door 275 to be in close contact with the inner wall of the filter negative pressure side communication hole 245, and an O-ring may be presented as an example.

상기 승강 손잡이(260)가 상승되면, 상기 필터 부압 연결측 연결 부재(285)에 의해 상기 필터 부압 연결 개폐용 도어(275)가 상승되면서 상기 필터 부압 연결홀(243)이 닫히게 되고, 상기 승강 손잡이(260)가 하강되면, 상기 필터 부압 연결측 연결 부재(285)에 의해 상기 필터 부압 연결 개폐용 도어(275)가 하강되면서 상기 필터 부압 연결홀(243)이 열리게 된다.When the lifting handle 260 is lifted, the filter negative pressure connection opening/closing door 275 is raised by the filter negative pressure connection side connection member 285 and the filter negative pressure connection hole 243 is closed, and the lifting handle When 260 is lowered, the filter negative pressure connection hole 243 is opened as the filter negative pressure connection opening/closing door 275 is lowered by the filter negative pressure connection side connection member 285 .

상기 승강 손잡이(260)가 하강되면, 상기 회수 필터용 도어(270)와 상기 필터 부압 연결 개폐용 도어(275)는 각각 자중에 의해 하강될 수 있다.When the lifting handle 260 is lowered, the recovery filter door 270 and the filter negative pressure connection opening/closing door 275 may be lowered by their own weight, respectively.

상기 승강 손잡이(260)는 그 상부는 작업자가 손으로 잡을 수 있고 그 하부는 상기 회수 필터 케이싱(241)에 삽입되는 승강 몸체(261)와, 상기 승강 몸체(261)의 하부에서 서로 마주보도록 일정 길이로 돌출되는 한 쌍의 걸림 돌기(262, 163)을 포함한다.The lifting handle 260 has an upper portion that can be held by an operator, and a lower portion of the lifting body 261 inserted into the recovery filter casing 241 and a lower portion of the lifting body 261 are set to face each other. It includes a pair of locking protrusions 262 and 163 protruding in length.

상기 회수 필터 케이싱(241)의 상부에는 상기 승강 몸체(261)와 상기 각 걸림 돌기(262, 163)가 승강될 수 있는 승강홀(247, 148)이 형성되고, 상기 승강홀(247, 148)의 각 상단은 상기 각 걸림 돌기(262, 163)가 걸려 상기 승강 손잡이(260)의 상승 범위를 제한하는 걸림턱이 된다.Lifting holes 247 and 148 through which the lifting body 261 and each of the locking protrusions 262 and 163 can be lifted are formed in the upper portion of the recovery filter casing 241, and the lifting holes 247 and 148 are formed. Each of the upper ends of the locking projections 262 and 163 are hooked to become a locking jaw limiting the range of the lifting handle 260 .

상기와 같이 형성되면, 상기 승강 손잡이(260)가 작업자에 의해 들려지더라도, 상기 걸림 돌기(262, 163)가 상기 걸림턱에 걸림으로써, 상기 승강 손잡이(260)가 상기 회수 필터 케이싱(241)으로부터 임의 이탈되지 아니할 수 있다.When formed as described above, even when the lifting handle 260 is lifted by an operator, the locking protrusions 262 and 163 are caught on the locking jaw, so that the lifting handle 260 is moved to the recovery filter casing 241 . may not voluntarily depart from it.

도면 번호 246은 상기 회수 필터측 연통홀(244)과 상기 필터 부압측 연통홀(245) 내에 각각 서로 이격되도록 복수 개 설치되어, 상기 연결관측 연결 부재(280)과 상기 필터 부압 연결측 연결 부재(285)가 매끄럽게 이동되도록 하는 도르래 형태의 풀리이다.A plurality of reference numerals 246 are installed so as to be spaced apart from each other in the recovery filter side communication hole 244 and the filter negative pressure side communication hole 245, and the connection pipe side connection member 280 and the filter negative pressure side connection member ( 285) is a pulley-type pulley that allows smooth movement.

이하에서는 도면을 참조하여 본 실시예에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛(240)을 포함하는 상기 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치(200)의 작동에 대하여 설명한다.Hereinafter, with reference to the drawings, the xenon and krypton recovery device used in the semiconductor manufacturing process including the recovery filter unit 240 for the xenon and krypton recovery device for the xenon and krypton recovery device used in the semiconductor manufacturing process according to the present embodiment The operation of (200) will be described.

먼저, 상기 회수 케이싱(210) 내부에 상기 회수 대상체가 함유된 상기 산업 폐기물(10)이 수용된 밀폐 상태에서, 상기 케이싱 부압 펌프(201)가 작동되면, 상기 회수 케이싱(210) 내부가 진공 분위기가 되고, 이 상태에서 상기 회수 케이싱(210) 내부에 배치된 상기 산업 폐기물(10)이 별도 도구(미도시) 등에 의해 깨어지면서 상기 산업 폐기물(10) 내부의 상기 회수 대상체가 상기 회수 케이싱(210) 내부로 퍼지게 된다.First, in the closed state in which the industrial waste 10 containing the object to be recovered is accommodated in the recovery casing 210, when the casing negative pressure pump 201 is operated, the inside of the recovery casing 210 is a vacuum atmosphere. In this state, the industrial waste 10 disposed inside the recovery casing 210 is broken by a separate tool (not shown), and the object to be recovered inside the industrial waste 10 is the recovery casing 210 . spreads inside.

이 때, 상기 회수 필터 연결관(206)은 상기 회수 필터 개폐 밸브(207)에 의해 닫힌 상태이다.At this time, the recovery filter connecting pipe 206 is closed by the recovery filter opening/closing valve 207 .

이러한 상태에서, 상기 필터 부압 펌프(205)가 작동되어 상기 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛(240) 내부가 진공 분위기로 됨과 함께, 상기 회수 필터 연결관(206)이 상기 회수 필터 개폐 밸브(207)에 의해 열리게 되면, 상기 회수 케이싱(210) 내부에 퍼져있던 상기 회수 대상체가 상기 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛(240) 내부로 유입되어, 상기 회수 필터(250)에 필터링되면서 함유됨으로써, 상기 회수 대상체가 회수될 수 있게 된다.In this state, the filter negative pressure pump 205 is operated so that the inside of the recovery filter unit 240 for the xenon and krypton recovery device becomes a vacuum atmosphere, and the recovery filter connection pipe 206 closes the recovery filter opening/closing valve ( 207), the recovery object spread inside the recovery casing 210 flows into the recovery filter unit 240 for the xenon and krypton recovery device, and is contained while being filtered in the recovery filter 250. , the recovery object can be recovered.

이 때, 상기 회수 필터용 도어(270)와 상기 필터 부압 연결 개폐용 도어(275)는 하강된 상태이고, 그에 따라 상기 회수 필터 연결홀(242)과 상기 필터 부압 연결홀(243)은 열린 상태이다.At this time, the recovery filter door 270 and the filter negative pressure connection door 275 are in a lowered state, and accordingly, the recovery filter connection hole 242 and the filter negative pressure connection hole 243 are open. am.

그런 다음, 작업자가 상기 승강 손잡이(260)를 잡고 들어올리면, 상기 걸림 돌기(262, 163)가 상기 걸림턱에 걸릴 때까지 상기 회수 필터 케이싱(241)은 상승되지 아니하고 상기 승강 손잡이(260)만 상승되고, 그에 따라 상기 연결관측 연결 부재(280)와 상기 필터 부압 연결측 연결 부재(285)가 당겨지면서, 상기 회수 필터용 도어(270)와 상기 필터 부압 연결 개폐용 도어(275)가 상승됨으로써, 상기 회수 필터 연결홀(242)과 상기 필터 부압 연결홀(243)이 닫히게 된다.Then, when the operator grabs the lifting handle 260 and lifts it, the recovery filter casing 241 does not rise until the locking protrusions 262 and 163 are caught on the locking jaw, but only the lifting handle 260. As the connection tube side connection member 280 and the filter negative pressure connection side connection member 285 are pulled up, the recovery filter door 270 and the filter negative pressure connection door 275 are raised. , the recovery filter connection hole 242 and the filter negative pressure connection hole 243 are closed.

그런 다음, 상기 걸림 돌기(262, 163)가 상기 걸림턱에 걸리면, 상기 승강 손잡이(260)와 상기 회수 필터 케이싱(241)의 상대 승강 운동은 중지되고, 작업자에 의해 상기 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛(240) 전체가 들려질 수 있게 되고, 별도 공간에서 상기 회수 필터(250)에 함유된 상기 회수 대상체가 정제될 수 있게 된다.Then, when the locking protrusions 262 and 163 are caught on the locking jaw, the relative lifting and lowering movements of the lifting handle 260 and the recovery filter casing 241 are stopped, and a worker for the xenon and krypton recovery device The entire recovery filter unit 240 can be lifted, and the recovery object contained in the recovery filter 250 can be purified in a separate space.

상기와 같이, 상기 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛(240)이 상기 회수 필터 케이싱(241)과, 상기 회수 필터(250)와, 상기 회수 필터용 도어(270)를 포함함에 따라, 제논 및 크립톤과 같은 회수 대상체가 필터링되어 함유된 상기 회수 필터(250)가 내부에 구비된 상기 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛(240)을 상기 회수 케이싱(210)에서 분리할 때 외부 공기가 상기 회수 필터 케이싱(241) 내부로 임의 유입되는 현상이 방지될 수 있고, 그에 따라 그러한 외부 공기 임의 유입에 따라 회수되는 제논 및 크립톤이 오염되어 그 순도가 저하되는 현상이 방지될 수 있다.As described above, as the recovery filter unit 240 for the xenon and krypton recovery device includes the recovery filter casing 241 , the recovery filter 250 and the recovery filter door 270 , the xenon and When the recovery filter unit 240 for the xenon and krypton recovery device in which the recovery filter 250 containing a recovery object such as krypton is filtered is separated from the recovery casing 210, the outside air is recovered The phenomenon of arbitrary inflow into the filter casing 241 can be prevented, and accordingly, the phenomenon that xenon and krypton recovered according to the arbitrary inflow of external air are contaminated and the purity thereof is reduced can be prevented.

상기에서 본 발명은 특정한 실시예에 관하여 도시되고 설명되었지만, 당업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 알 수 있을 것이다. 그렇지만 이러한 수정 및 변형 구조들은 모두 본 발명의 권리범위 내에 포함되는 것임을 분명하게 밝혀두고자 한다.In the above, the present invention has been shown and described with respect to specific embodiments, but those of ordinary skill in the art can variously modify the present invention within the scope without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the claims below. and can be changed. However, it is intended to clearly state that all such modifications and variations are included within the scope of the present invention.

본 발명의 일 측면에 따른 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치에 의하면, 산업 폐기물 내에 함유된 제논 및 크립톤의 순도 저하를 방지하면서 제논 및 크립톤이 회수될 수 있으므로, 그 산업상 이용가능성이 높다고 하겠다.According to the device for recovering xenon and krypton used in a semiconductor manufacturing process according to an aspect of the present invention, since xenon and krypton can be recovered while preventing a decrease in the purity of xenon and krypton contained in industrial waste, the industrial applicability thereof is increased I'd say high

100 : 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치
110 : 회수 케이싱
120 : 개폐 도어
130 : 밀폐 부재100: Xenon and krypton recovery device used in semiconductor manufacturing process
110: recovery casing
120: open and close door
130: sealing member

Claims (11)

반도체 제조 공정에 사용되는 제논과 크립톤 중 적어도 하나인 회수 대상체가 함유된 산업 폐기물에서 상기 회수 대상체를 회수시킬 수 있는 것으로서,
상기 회수 대상체가 함유된 상태의 상기 산업 폐기물이 내부에 수용되는 회수 케이싱;
상기 회수 케이싱 내부로 상기 산업 폐기물 인입을 위해 상기 회수 케이싱을 열고, 상기 회수 케이싱 내부에 상기 산업 폐기물이 인입된 상태에서 상기 회수 케이싱을 닫을 수 있는 개폐 도어;
상기 회수 케이싱 내부로 외부 공기의 임의 유입이 방지될 수 있도록, 상기 회수 케이싱과 상기 개폐 도어 사이를 밀폐시키는 밀폐 부재; 및
상기 회수 케이싱 내부를 미리 설정된 일정 압력 이하의 저압으로 형성시키는 케이싱 부압 펌프;를 포함하고,
상기 밀폐 부재는 상기 케이싱 부압 펌프와 연결되어, 상기 케이싱 부압 펌프에 의해 상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어와 상기 밀폐 부재 사이에 부압이 형성됨으로써, 상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어 표면에 상기 밀폐 부재가 흡착되면서 상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어 사이의 틈이 상기 밀폐 부재에 의해 밀폐되고,
상기 케이싱 부압 펌프에 의해 상기 밀폐 부재에 부압이 형성될 수 있도록, 상기 회수 케이싱 벽면 내부를 따라 상기 케이싱 부압 펌프와 상기 밀폐 부재를 연결시키는 부압 형성관이 형성되고,
상기 밀폐 부재는
상기 부압 형성관과 연결되는 연결 몸체와,
상기 연결 몸체와 연결되되 상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어의 각 표면으로부터 일정 간격 이격되도록 상기 회수 케이싱 내부에 배치되되 상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어의 연결 지점을 덮을 수 있는 일정 면적으로 형성되는 흡착 몸체와,
상기 연결 몸체 내부를 관통하여 상기 부압 형성관과 연통되는 부압 형성 연결관과,
상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어의 각 표면과 상기 흡착 몸체 사이 부분에 개방 형성되되 상기 부압 형성 연결관과 연통되는 부압 형성 노즐을 포함하고,
상기 케이싱 부압 펌프가 작동되면, 상기 부압 형성관, 상기 부압 형성 연결관 및 상기 부압 형성 노즐에 순차적으로 부압이 걸리고, 그에 따라 상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어와 상기 흡착 몸체 사이의 공기가 상기 부압 형성 노즐을 통해 유출됨으로써, 상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어의 각 표면에 상기 흡착 몸체가 흡착되어, 상기 회수 케이싱 및 상기 개폐 도어의 연결 지점이 상기 밀폐 부재에 의해 밀폐될 수 있는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치.As a recoverable object that can be recovered from industrial waste containing a recovery object that is at least one of xenon and krypton used in a semiconductor manufacturing process,
a recovery casing in which the industrial waste in a state in which the recovery object is contained is accommodated therein;
an opening/closing door capable of opening the recovery casing to introduce the industrial waste into the recovery casing and closing the recovery casing while the industrial waste is introduced into the recovery casing;
a sealing member sealing between the recovery casing and the opening/closing door so as to prevent any inflow of external air into the recovery casing; and
and a casing negative pressure pump for forming the inside of the recovery casing at a low pressure below a preset pressure.
The sealing member is connected to the casing negative pressure pump, and a negative pressure is formed between the recovery casing and the opening/closing door and the sealing member by the casing negative pressure pump, so that the sealing member is adsorbed to the surface of the recovery casing and the opening/closing door. while the gap between the recovery casing and the opening and closing door is closed by the sealing member,
A negative pressure forming pipe connecting the casing negative pressure pump and the sealing member is formed along the inside of the recovery casing wall surface so that a negative pressure can be formed in the sealing member by the casing negative pressure pump,
The sealing member is
a connecting body connected to the negative pressure forming tube;
An adsorption body connected to the connection body and disposed inside the recovery casing so as to be spaced apart from each surface of the recovery casing and the opening/closing door by a predetermined distance and formed in a predetermined area capable of covering the connection point of the recovery casing and the opening/closing door; ,
a negative pressure forming connecting pipe passing through the inside of the connecting body and communicating with the negative pressure forming pipe;
and a negative pressure forming nozzle which is openly formed at a portion between each surface of the recovery casing and the opening and closing door and the adsorption body and is in communication with the negative pressure forming connection pipe,
When the casing negative pressure pump is operated, negative pressure is sequentially applied to the negative pressure forming tube, the negative pressure forming connection pipe, and the negative pressure forming nozzle, and accordingly, the air between the recovery casing and the opening/closing door and the adsorption body forms the negative pressure By flowing out through the nozzle, the adsorption body is adsorbed to each surface of the recovery casing and the opening/closing door, so that the connection point of the recovery casing and the opening/closing door can be sealed by the sealing member. Xenon and Krypton recovery units used in the process. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 반도체 제조 공정에 사용되는 제논과 크립톤 중 적어도 하나인 회수 대상체가 함유된 산업 폐기물에서 상기 회수 대상체를 회수시킬 수 있는 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치에 적용되고, 상기 회수 대상체가 함유된 상태의 상기 산업 폐기물이 내부에 수용되는 회수 케이싱과 연결되는 것으로서,
상기 회수 케이싱과 회수 필터 연결관에 의해 연결되는 회수 필터 케이싱;
상기 회수 필터 케이싱 내에 배치되고, 상기 회수 케이싱으로부터 상기 회수 필터 연결관을 통해 유입된 상기 회수 대상체를 필터링하여 함유할 수 있는 회수 필터;
상기 회수 필터 연결관을 개폐시킬 수 있는 회수 필터용 도어;
상기 회수 필터 케이싱 상부에서 외력에 의해 승강될 수 있는 승강 손잡이; 및
상기 승강 손잡이와 상기 회수 필터용 도어를 연결하여, 상기 승강 손잡이의 승강에 따라 상기 회수 필터용 도어가 승강되도록 하는 연결관측 연결 부재;를 포함하고,
상기 승강 손잡이가 상승되면, 상기 연결관측 연결 부재에 의해 상기 회수 필터용 도어가 상승되면서 상기 회수 필터 연결관이 닫히게 되고,
상기 승강 손잡이가 하강되면, 상기 연결관측 연결 부재에 의해 상기 회수 필터용 도어가 하강되면서 상기 회수 필터 연결관이 열리게 되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛.It is applied to a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process that can recover the recovery object from industrial waste containing the recovery object, which is at least one of xenon and krypton used in the semiconductor manufacturing process, and contains the recovery object As connected with a recovery casing that the industrial waste in the state is accommodated therein,
a recovery filter casing connected to the recovery casing by a recovery filter connecting pipe;
a recovery filter disposed in the recovery filter casing and capable of filtering and containing the recovery object introduced from the recovery casing through the recovery filter connection pipe;
a door for a recovery filter capable of opening and closing the recovery filter connection pipe;
a lifting handle capable of being lifted by an external force from an upper portion of the recovery filter casing; and
a connecting member for connecting the lifting handle and the door for the recovery filter, so that the door for the recovery filter is raised and lowered according to the elevation of the lifting handle; and
When the lifting handle is raised, the recovery filter connection pipe is closed while the recovery filter door is raised by the connection pipe-side connecting member,
The recovery filter unit for a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process, wherein when the lifting handle is lowered, the recovery filter door is lowered by the connection pipe-side connecting member and the recovery filter connection pipe is opened. 삭제delete 제 5 항에 있어서,
상기 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치는
상기 회수 필터 유닛 내부를 미리 설정된 일정 압력 이하의 저압로 형성시켜 주는 필터 부압 펌프를 포함하고,
상기 필터 부압 펌프와 상기 회수 필터 유닛 내부는 필터 부압 연결홀을 통해 연통되고,
상기 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛은
상기 필터 부압 연결홀을 개폐시킬 수 있는 필터 부압 연결 개폐용 도어;를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛.6. The method of claim 5,
The xenon and krypton recovery device used in the semiconductor manufacturing process is
and a filter negative pressure pump for forming the inside of the recovery filter unit to a low pressure below a predetermined pressure,
The filter negative pressure pump and the inside of the recovery filter unit communicate through a filter negative pressure connection hole,
The recovery filter unit for the xenon and krypton recovery device used in the semiconductor manufacturing process is
A recovery filter unit for a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process, comprising: a door for opening and closing a filter negative pressure connection opening and closing the filter negative pressure connection hole. 제 7 항에 있어서,
상기 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛은
상기 승강 손잡이와 상기 필터 부압 연결 개폐용 도어를 연결하여, 상기 승강 손잡이의 승강에 따라 상기 필터 부압 연결 개폐용 도어가 승강되도록 하는 필터 부압 연결측 연결 부재;를 포함하고,
상기 승강 손잡이가 상승되면, 상기 필터 부압 연결측 연결 부재에 의해 상기 필터 부압 연결 개폐용 도어가 상승되면서 상기 필터 부압 연결홀이 닫히게 되고,
상기 승강 손잡이가 하강되면, 상기 필터 부압 연결측 연결 부재에 의해 상기 필터 부압 연결 개폐용 도어가 하강되면서 상기 필터 부압 연결홀이 열리게 되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛.8. The method of claim 7,
The recovery filter unit for the xenon and krypton recovery device used in the semiconductor manufacturing process is
a filter negative pressure connection side connecting member connecting the lifting handle and the filter negative pressure connection opening/closing door to raise and lowering the filter negative pressure connection opening and closing door according to the elevation of the lifting handle; and
When the lifting handle is raised, the filter negative pressure connection hole is closed while the filter negative pressure connection opening/closing door is raised by the filter negative pressure connection side connection member,
When the lifting handle is lowered, the filter negative pressure connection hole is opened as the filter negative pressure connection opening/closing door is lowered by the filter negative pressure connection side connection member. return filter unit. 제 8 항에 있어서,
상기 연결관측 연결 부재와 상기 필터 부압 연결측 연결 부재는 와이어인 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛.9. The method of claim 8,
The recovery filter unit for a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process, characterized in that the connection tube-side connection member and the filter negative pressure connection-side connection member are wires. 제 9 항에 있어서,
상기 승강 손잡이가 하강되면, 상기 회수 필터용 도어와 상기 필터 부압 연결 개폐용 도어는 각각 자중에 의해 하강되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛.10. The method of claim 9,
The recovery filter unit for a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process, characterized in that when the lifting handle is lowered, the recovery filter door and the filter negative pressure connection opening/closing door are each lowered by their own weight. 제 10 항에 있어서,
상기 승강 손잡이에서는 걸림 돌기가 돌출되고,
상기 회수 필터 케이싱에는 상기 걸림 돌기가 걸려 상기 승강 손잡이의 상승 범위를 제한하는 걸림턱이 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정에 사용되는 제논 및 크립톤 회수 장치용 회수 필터 유닛.11. The method of claim 10,
A locking projection protrudes from the lifting handle,
The recovery filter unit for a xenon and krypton recovery device used in a semiconductor manufacturing process, characterized in that the recovery filter casing is hooked with the locking protrusion, and a locking jaw is formed to limit the lifting range of the lifting handle.
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