KR102287602B1 - Phosphorus containing flame-retardant polymer and flame-retardant resin composition comprising the same - Google Patents

Phosphorus containing flame-retardant polymer and flame-retardant resin composition comprising the same Download PDF

Info

Publication number
KR102287602B1
KR102287602B1 KR1020170180890A KR20170180890A KR102287602B1 KR 102287602 B1 KR102287602 B1 KR 102287602B1 KR 1020170180890 A KR1020170180890 A KR 1020170180890A KR 20170180890 A KR20170180890 A KR 20170180890A KR 102287602 B1 KR102287602 B1 KR 102287602B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
formula
phosphorus
independently
retardant polymer
Prior art date
Application number
KR1020170180890A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20190002275A (en
Inventor
이민우
황광춘
Original Assignee
코오롱인더스트리 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 코오롱인더스트리 주식회사 filed Critical 코오롱인더스트리 주식회사
Publication of KR20190002275A publication Critical patent/KR20190002275A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102287602B1 publication Critical patent/KR102287602B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G79/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing atoms other than silicon, sulfur, nitrogen, oxygen, and carbon with or without the latter elements in the main chain of the macromolecule
    • C08G79/02Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing atoms other than silicon, sulfur, nitrogen, oxygen, and carbon with or without the latter elements in the main chain of the macromolecule a linkage containing phosphorus
    • C08G79/04Phosphorus linked to oxygen or to oxygen and carbon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G61/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G61/02Macromolecular compounds containing only carbon atoms in the main chain of the macromolecule, e.g. polyxylylenes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/26Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers and other compounds
    • C08G65/2639Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers and other compounds the other compounds containing elements other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L65/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L71/00Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2201/00Properties
    • C08L2201/22Halogen free composition

Abstract

본 발명은 인계 난연성 중합체 및 이를 포함하는 난연성 수지 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 분자구조 내 에스테르 구조의 카보닐기를 포함함으로써 난연성 및 유전 특성을 동시에 확보할 수 있어 전기전자 부품의 절연재료, 인쇄 회로 기판, 절연판 등의 각종 복합재료, 접착제, 코팅제, 도료 등에 폭넓게 적용할 수 있다.The present invention relates to a phosphorus-based flame-retardant polymer and a flame-retardant resin composition comprising the same, and more particularly, by including a carbonyl group having an ester structure in the molecular structure, flame retardancy and dielectric properties can be secured at the same time, so that an insulating material for electrical and electronic parts, printing It can be widely applied to various composite materials such as circuit boards and insulating plates, adhesives, coatings, and paints.

Description

인계 난연성 중합체 및 이를 포함하는 난연성 수지 조성물{PHOSPHORUS CONTAINING FLAME-RETARDANT POLYMER AND FLAME-RETARDANT RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME}Phosphorus-based flame-retardant polymer and flame-retardant resin composition comprising the same

본 발명은 인계 난연성 중합체 및 이를 포함하는 난연성 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a phosphorus-based flame retardant polymer and a flame retardant resin composition comprising the same.

컴퓨터, 반도체, 디스플레이, 통신 기기 등 다양한 전자 제품에는 특정한 전자 회로가 인쇄된 인쇄 회로 기판(printed circuit board; PCB)이 사용되고 있다. 기판 위에는 신호 전달을 위한 배선(signal lines), 배선 간의 단락 등을 방지하기 위한 절연막(insulating layers), 스위칭 소자(switching element) 등이 형성될 수 있다.A printed circuit board (PCB) on which a specific electronic circuit is printed is used in various electronic products such as computers, semiconductors, displays, and communication devices. Signal lines for signal transmission, insulating layers for preventing a short circuit between the wires, and a switching element may be formed on the substrate.

인쇄 회로 기판은 유리섬유(glass cloth)에 에폭시 수지를 함침시키고 반경화시킨 프리프레그를 회로가 형성된 내층 회로기판상에 적층하는 방식으로 형성될 수 있다. 또는 회로가 형성된 내층 회로 기판의 회로 패턴 상에 절연층을 교대로 적층하여 기판을 제조하는 빌드-업(build-up)공법으로 제조될 수 있다. 이때 빌드-업 공법은 비아 홀(via hole)을 형성하여 배선 밀도를 증가시키고, 레이저 가공 등에 의해 회로를 형성하기 때문에 인쇄 회로 기판의 고밀도화 및 박막화에 이점을 가진다.The printed circuit board may be formed by laminating a prepreg in which glass cloth is impregnated with an epoxy resin and semi-cured on an inner circuit board on which a circuit is formed. Alternatively, it may be manufactured by a build-up method in which the substrate is manufactured by alternately stacking insulating layers on the circuit pattern of the inner-layer circuit board on which the circuit is formed. In this case, the build-up method has an advantage in densification and thinning of the printed circuit board because it forms a via hole to increase the wiring density, and forms a circuit by laser processing or the like.

최근 전자 기기의 경박단소화 추세로 인쇄 회로 기판 또한 고집적화 및 고밀도화됨에 따라 전자 기기의 안정성 및 신뢰성을 위하여 인쇄 회로 기판의 전기적, 열적, 기계적 안정성이 중요한 요소가 되고 있다.As printed circuit boards are also highly integrated and dense due to the recent trend of light, thin, compact and miniaturized electronic devices, electrical, thermal, and mechanical stability of printed circuit boards is becoming an important factor for stability and reliability of electronic devices.

에폭시 수지는 우수한 전기적, 열적 특성을 나타내므로, 반도체 봉지재 또는 인쇄 회로 기판의 절연 재료로서 폭넓게 이용되고 있다.Since epoxy resins exhibit excellent electrical and thermal properties, they are widely used as semiconductor encapsulants or insulating materials for printed circuit boards.

인쇄 회로 기판에 있어서, 전자 기기의 소형화, 박막화, 고성능화의 흐름에 수반하여 배선 피치의 협소화에 의한 고밀도 배선의 구현이 요구되고 있다. 이를 위해 기존의 와이어 본딩 방식을 대신하여 땜납 볼에 의해 반도체 장치와 배선 기판을 접합시키는 플립 칩 접속 방식이 주로 이용되고 있다.BACKGROUND ART In printed circuit boards, the implementation of high-density wiring by narrowing the wiring pitch is required with the flow of miniaturization, thinning, and high performance of electronic devices. For this purpose, a flip-chip connection method in which a semiconductor device and a wiring board are joined by a solder ball is mainly used instead of the conventional wire bonding method.

플립 칩 접속 방식은 배선 기판과 반도체 장치 사이에 땜납 볼을 배치하고 전체를 가열함으로써 땜납을 리플로우시켜 접합하기 때문에 보다 내인화성이 높은 절연 재료가 요구되고 있다.In the flip-chip connection method, since solder balls are disposed between a wiring board and a semiconductor device and the solder is reflowed by heating the whole, and bonding is performed, an insulating material with higher flammability resistance is required.

이에 더해서, 전술한 바의 전자 기기의 고성능화 요구에 따라 전자 기기의 내부에서의 신호의 고속화 및 고주파화되는 경향을 나타내고 있다. 전기 신호의 전송 손실은 유전 손실 계수(dielectric dissipation factor; Df) 및 주파수와 비례한다. 따라서, 주파수가 높은 만큼 전송 손실은 커지고 신호의 감쇠를 불러 신호 전송의 신뢰성 저하가 생긴다. 또한, 전송 손실이 열로 변환되어 발열의 문제도 야기될 수 있다. 따라서, 기존의 절연 재료보다 유전율과 유전 손실 계수가 더욱 작은 절연 재료가 필요로 한다.In addition to this, in response to the demand for higher performance of electronic devices as described above, there is a tendency to increase the speed and high frequency of signals inside the electronic device. The transmission loss of an electrical signal is proportional to the dielectric dissipation factor (D f ) and frequency. Therefore, the higher the frequency, the greater the transmission loss, and the attenuation of the signal causes a decrease in the reliability of the signal transmission. In addition, the transmission loss is converted into heat, which may cause a problem of heat generation. Accordingly, there is a need for an insulating material having a smaller dielectric constant and dielectric loss factor than conventional insulating materials.

그러나, 종래 절연 재료로 많이 사용되는 에폭시 수지 조성물 및 그 경화물의 경우 고유의 특성으로 인하여 유전율과 유전 손실 계수를 낮추기가 용이하지 않다.However, it is not easy to lower the dielectric constant and the dielectric loss factor due to the inherent characteristics of the epoxy resin composition and its cured product, which are widely used as insulating materials in the prior art.

따라서, 에폭시 수지 조성물과 함께 사용되어 우수한 내인화성과 더불어 고속화, 고주파수화된 신호에 대해 낮은 유전 특성을 나타낼 수 있는 고분자 재료가 요구되고 있다.Therefore, there is a demand for a polymer material that can be used together with the epoxy resin composition to exhibit excellent flammability resistance and low dielectric properties for high-speed and high-frequency signals.

이와 관련하여 대한민국 등록특허 제10-1596992호는 함침성, 접착력, 난연성 및 다른 고분자와의 상용성이 우수한 비할로겐계 난연성 중합체 및 그 제조방법에 대해 개시하고 있다.In this regard, Korean Patent Registration No. 10-1596992 discloses a non-halogen flame retardant polymer having excellent impregnation, adhesion, flame retardancy and compatibility with other polymers and a method for manufacturing the same.

또한, 대한민국 공개특허 제2016-0018507호는 에폭시 수지 조성물에 사용되어 난연성, 내열성 및 유전 특성 등을 개선시키는 인 원자 함유 활성 에스테르 수지에 대해 개시하고 있다.In addition, Korean Patent Application Laid-Open No. 2016-0018507 discloses an active ester resin containing a phosphorus atom that is used in an epoxy resin composition to improve flame retardancy, heat resistance and dielectric properties.

이들 특허에서 제시하는 난연성 중합체 또는 활성 에스테르 수지의 경우 최종 경화물의 난연 특성을 어느 정도 개선하였으나, 그 효과가 충분치 않고, 특히 전자의 경우 유전 특성에 대해서는 전혀 고려하고 있지 않다. 따라서, 높은 난연성과 낮은 유전 특성을 동시에 확보할 수 있는 난연성 화합물에 대한 연구가 더욱 필요한 실정이다.In the case of the flame retardant polymer or active ester resin presented in these patents, the flame retardant properties of the final cured product are improved to some extent, but the effect is not sufficient, and in particular, in the former case, dielectric properties are not considered at all. Therefore, there is a need for further research on flame-retardant compounds capable of securing high flame retardancy and low dielectric properties at the same time.

대한민국 등록특허 제10-1596992호(2016.02.17), 비할로겐 난연성 중합체 및 이를 함유하는 난연성 중합체 조성물Republic of Korea Patent No. 10-1596992 (2016.02.17), non-halogen flame retardant polymer and flame retardant polymer composition containing the same 대한민국 공개특허 제2016-0018507호(2016.02.17), 인 원자 함유 활성 에스테르 수지, 에폭시 수지 조성물, 그 경화물, 프리프레그, 회로 기판, 및 빌드업 필름Korean Patent Laid-Open No. 2016-0018507 (2016.02.17), phosphorus atom-containing active ester resin, epoxy resin composition, cured product thereof, prepreg, circuit board, and build-up film

이에 본 발명자들은 상기한 문제점을 해결하고자 다각적으로 연구를 수행한 결과, 인계 난연성 중합체에 존재하는 하이드록시기를 에스테르 구조의 카보닐기로 치환하는 경우 난연성 및 유전 특성을 동시에 만족할 수 있음을 알아내어 본 발명을 완성하였다.Accordingly, the present inventors have conducted various studies to solve the above problems, and as a result, when the hydroxyl group present in the phosphorus-based flame-retardant polymer is substituted with a carbonyl group of an ester structure, it is found that flame retardancy and dielectric properties can be satisfied at the same time. was completed.

이에 본 발명의 목적은 높은 난연성 및 낮은 유전 특성을 갖는 인계 난연성 중합체를 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a phosphorus-based flame retardant polymer having high flame retardancy and low dielectric properties.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 하기 화학식 1 및 2로 표시되는 반복단위 중에서 1종 이상을 포함하며, 전체 반복단위 내의 R1 중 적어도 하나가 카보닐기인 인계 난연성 중합체를 제공한다:In order to achieve the above object, the present invention provides a phosphorus-based flame-retardant polymer comprising at least one of the repeating units represented by the following Chemical Formulas 1 and 2, wherein at least one of R 1 in the entire repeating unit is a carbonyl group:

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112017129754370-pat00001
Figure 112017129754370-pat00001

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112017129754370-pat00002
Figure 112017129754370-pat00002

(상기 화학식 1 및 2에서, R1 내지 R4, Ra, m 및 n은 명세서 내 설명한 바를 따른다.).(In Formulas 1 and 2, R 1 to R 4 , R a , m and n are as described in the specification).

상기 반복단위는 하기 화학식 3 내지 9로 표시되는 반복단위 중 선택되는 1종 이상일 수 있다:The repeating unit may be at least one selected from repeating units represented by the following Chemical Formulas 3 to 9:

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112017129754370-pat00003
Figure 112017129754370-pat00003

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112017129754370-pat00004
Figure 112017129754370-pat00004

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112017129754370-pat00005
Figure 112017129754370-pat00005

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112017129754370-pat00006
Figure 112017129754370-pat00006

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112017129754370-pat00007
Figure 112017129754370-pat00007

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112017129754370-pat00008
Figure 112017129754370-pat00008

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112017129754370-pat00009
Figure 112017129754370-pat00009

(상기 화학식 3 내지 9에서, R1 내지 R4, Ra 및 m은 명세서 내 설명한 바를 따른다.).(In Formulas 3 to 9, R 1 to R 4 , R a and m are as described in the specification).

상기 인계 난연성 중합체 내 전체 R1 중 카보닐기 비율이 20 내지 100 %일 수 있다. The ratio of carbonyl groups in the total R 1 in the phosphorus-based flame-retardant polymer may be 20 to 100%.

상기 인계 난연성 중합체는 중합체 총 중량을 기준으로 인 함량이 5.0 내지 9.0 중량%일 수 있다.The phosphorus-based flame retardant polymer may have a phosphorus content of 5.0 to 9.0 wt% based on the total weight of the polymer.

상기 인계 난연성 중합체는 1 ㎓에서 유전율(Dk)이 3.8 미만이며, 1 ㎓에서 유전 손실 계수(Df)가 0.015 이하일 수 있다.The phosphorus-based flame retardant polymer may have a dielectric constant (D k ) of less than 3.8 at 1 GHz, and a dielectric loss coefficient (D f ) of 0.015 or less at 1 GHz.

또한, 본 발명은 상기 인계 난연성 중합체를 포함하는 난연성 수지 조성물을 제공한다.In addition, the present invention provides a flame-retardant resin composition comprising the phosphorus-based flame-retardant polymer.

또한, 본 발명은 상기 난연성 수지 조성물을 포함하는 인쇄 회로 기판을 제공한다.In addition, the present invention provides a printed circuit board comprising the flame-retardant resin composition.

본 발명에 따른 인계 난연성 중합체는 반복단위 내 수산기 대신 에스테르 구조의 카보닐기를 일정 비율 이상으로 포함함으로써 최종 제조되는 경화물이 기존과 동등한 수준의 난연성을 나타내면서도 유전율 및 유전 손실 계수를 저감시킬 수 있다. 따라서, 본 발명의 인계 난연성 중합체는 고신뢰성, 우수한 난연성 및 저유전 특성이 요구되는 반도체 봉지재 또는 인쇄 회로 기판 등 각종 전기전자 부품에 적용이 가능하다.The phosphorus-based flame-retardant polymer according to the present invention includes a carbonyl group having an ester structure in a certain ratio or more instead of a hydroxyl group in the repeating unit, thereby reducing the dielectric constant and the dielectric loss factor while the cured product finally produced exhibits a flame retardancy equivalent to that of the existing one. . Therefore, the phosphorus-based flame retardant polymer of the present invention can be applied to various electrical and electronic components such as semiconductor encapsulants or printed circuit boards requiring high reliability, excellent flame retardancy and low dielectric properties.

도 1은 본 발명의 실시예 1 및 비교예 1에서 제조된 인계 난연성 중합체의 GPC 측정 결과를 나타내는 그래프이다.
도 2는 본 발명의 실시예 3 및 실시예 4에서 제조된 인계 난연성 중합체의 GPC 측정 결과를 나타내는 그래프이다.
도 3은 본 발명의 실시예 1 및 비교예 1에서 제조된 인계 난연성 중합체의 IR 측정 결과를 나타내는 그래프이다.
1 is a graph showing the GPC measurement results of the phosphorus-based flame-retardant polymer prepared in Example 1 and Comparative Example 1 of the present invention.
2 is a graph showing the GPC measurement results of the phosphorus-based flame-retardant polymer prepared in Examples 3 and 4 of the present invention.
3 is a graph showing the IR measurement results of the phosphorus-based flame-retardant polymer prepared in Example 1 and Comparative Example 1 of the present invention.

이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.The terms or words used in the present specification and claims should not be construed as being limited to their ordinary or dictionary meanings, and the inventor may properly define the concept of the term in order to best describe his invention. It should be interpreted as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention based on the principle that there is.

본 발명에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 발명에서, ‘포함하다’또는 ‘가지다’등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하여는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used in the present invention are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In the present invention, terms such as 'comprise' or 'have' designate the existence of features, numbers, steps, operations, components, parts, or a combination thereof described in the specification, but one or more other It is to be understood that this does not preclude the possibility of addition or presence of features or numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

본 발명에서 사용된 용어 “난연 특성”, “난연성” 또는 “내인화성”은 가연성과 불연성의 중간으로 연소하기 어려운 재료의 성질을 의미하며, 내인화성, 방염성(防炎性), 방연(防然性) 등과 동일한 의미를 가진다.As used in the present invention, the terms “flame-retardant property”, “flame retardancy” or “flammability resistance” refer to properties of a material that is difficult to combust between incombustibility and non-combustibility, and is flame-retardant, flame-retardant, and flame-retardant. sex) have the same meaning.

본 발명에 사용된 용어 “알킬기”는 1 내지 20개, 바람직하게는 1 내지 10개, 보다 바람직하게는 1 내지 8개의 탄소 원자의 선형 또는 분지형 포화 1가 탄화수소기를 의미한다. 상기 알킬기는 비치환된 것뿐 아니라 후술하는 일정한 치환기에 의해 더욱 치환된 것도 포괄하여 지칭할 수 있다. 상기 알킬기의 예로서 메틸기, 에틸기, 프로필기, 2-프로필기, n-부틸기, 이소-부틸기, t-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 도데실기, 플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 클로로메틸기, 디클로로메틸기, 트리클로로메틸기, 요오도메틸기, 브로모메틸기 등을 들 수 있다.As used herein, the term “alkyl group” means a linear or branched saturated monovalent hydrocarbon group of 1 to 20, preferably 1 to 10, more preferably 1 to 8 carbon atoms. The alkyl group may encompass not only unsubstituted ones but also those that are further substituted by certain substituents to be described later. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a 2-propyl group, an n-butyl group, an iso-butyl group, a t-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a dodecyl group, a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, A trifluoromethyl group, a chloromethyl group, a dichloromethyl group, a trichloromethyl group, an iodomethyl group, a bromomethyl group, etc. are mentioned.

본 발명에 사용된 용어 “알콕시기”는 다른 설명이 없는 한 산소 라디칼을 포함하는 탄소수 1 내지 20의 알킬기를 의미하며 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 알콕시기의 예로서 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, 펜톡시기, 헤톡시, 도덱시 등이 가능하고, 추가적으로 할로겐으로 치환될 경우 플루오로메톡시, 디플루오로메톡시, 트리플루오로메톡시, 클로로메톡시, 디클로로메톡시, 트리클로로메톡시, 요오도메톡시, 브로모메톡시 등을 들 수 있다.As used herein, the term “alkoxy group” refers to an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms including an oxygen radical, unless otherwise specified, and is not limited thereto. Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, a pentoxy group, a hetoxy group, a dodecy group, and the like. oxy, trifluoromethoxy, chloromethoxy, dichloromethoxy, trichloromethoxy, iodomethoxy, bromomethoxy and the like.

본 발명에 사용된 용어 “알케닐기”는 하나 이상의 탄소-탄소 이중 결합을 포함하는 2 내지 20, 바람직하게는 2 내지 10, 보다 바람직하게는 2 내지 6개의 탄소 원자의 선형 또는 분지형 1가 탄화수소기를 의미한다. 상기 알케닐기는 탄소-탄소 이중 결합을 포함하는 탄소 원자를 통해 또는 포화된 탄소 원자를 통해 결합될 수 있다. 상기 알케닐기는 비치환된 것뿐 아니라 후술하는 일정한 치환기에 의해 더욱 치환된 것도 포괄하여 지칭할 수 있다. 상기 알케닐기의 예로서 에테닐기, 1-프로페닐기, 2-프로페닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기, 펜테닐기, 5-헥세닐기, 도데세닐기 등을 들 수 있다.As used herein, the term “alkenyl group” refers to a linear or branched monovalent hydrocarbon of 2 to 20, preferably 2 to 10, more preferably 2 to 6 carbon atoms containing at least one carbon-carbon double bond. it means gear The alkenyl group may be bonded through a carbon atom comprising a carbon-carbon double bond or through a saturated carbon atom. The alkenyl group may include not only unsubstituted ones but also those that are further substituted by certain substituents to be described later. Examples of the alkenyl group include an ethenyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, pentenyl group, 5-hexenyl group, dodecenyl group, and the like.

본 발명에 사용된 용어 “알키닐기”는 하나 이상의 탄소-탄소 삼중 결합을 포함하는 2 내지 20, 바람직하게는 2 내지 10, 보다 바람직하게는 2 내지 6개의 탄소 원자의 선형 또는 분지형 1가 탄화수소기를 의미한다. 상기 알키닐기는 탄소-탄소 삼중 결합을 포함하는 탄소 원자를 통해 또는 포화된 탄소 원자를 통해 결합될 수 있다. 상기 알키닐기는 후술하는 일정한 치환기에 의해 더욱 치환된 것도 포괄하여 지칭할 수 있다. 예를 들어, 상기 알키닐기로는 에티닐기, 프로피닐기 등을 들 수 있다.As used herein, the term “alkynyl group” refers to a linear or branched monovalent hydrocarbon of 2 to 20, preferably 2 to 10, more preferably 2 to 6 carbon atoms containing at least one carbon-carbon triple bond. it means gear The alkynyl group may be bonded through a carbon atom comprising a carbon-carbon triple bond or through a saturated carbon atom. The alkynyl group may be referred to as encompassing those further substituted by certain substituents to be described later. For example, an ethynyl group, a propynyl group, etc. are mentioned as said alkynyl group.

본 발명에 사용된 용어 “사이클로알킬기”는 3 내지 20개, 바람직하게는 3 내지 12개의 고리 탄소의 포화 또는 불포화된 1가 모노사이클릭, 바이사이클릭 또는 트리사이클릭 비방향족 탄화수소기를 의미하며, 후술하는 일정한 치환기에 의해 더욱 치환된 것도 포괄하여 지칭할 수 있다. 예를 들어, 사이클로프로필기, 사이클로부틸기, 사이클로펜틸기, 사이클로펜테닐기, 사이클로헥실기, 사이클로헥세닐기, 사이클로헵틸기, 사이클로옥틸기, 데카하이드로나프탈레닐기, 아다만틸기, 노르보닐기(즉, 바이사이클로 [2,2,1] 헵트-5-에닐) 등을 들 수 있다.As used herein, the term “cycloalkyl group” means a saturated or unsaturated monovalent monocyclic, bicyclic or tricyclic non-aromatic hydrocarbon group of 3 to 20, preferably 3 to 12 ring carbons, It may also be referred to as encompassing those further substituted by certain substituents to be described later. For example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclopentenyl group, cyclohexyl group, cyclohexenyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, decahydronaphthalenyl group, adamantyl group, norbornyl group (ie, bicyclo [2,2,1] hept-5-enyl) and the like.

본 발명에 사용된 용어 “아릴기”는 6 내지 40개, 바람직하게는 6 내지 30개의 고리 원자를 가지는 1가 모노사이클릭, 바이사이클릭 또는 트리사이클릭 방향족 탄화수소기를 의미하며, 후술하는 일정한 치환기에 의해 더욱 치환된 것도 포괄하여 지칭할 수 있다. 상기 아릴기의 예로서 페닐기, 바이페닐기, 플루오렌기 등을 들 수 있다.As used herein, the term “aryl group” refers to a monovalent monocyclic, bicyclic or tricyclic aromatic hydrocarbon group having 6 to 40, preferably 6 to 30 ring atoms, and certain substituents described later It can also be referred to as encompassing those further substituted by . Examples of the aryl group include a phenyl group, a biphenyl group, and a fluorene group.

본 발명에 사용된 용어 “헤테로아릴기”는 5 내지 40개, 바람직하게는 5 내지 30개의 고리 원자를 가지며, 고리 내 적어도 하나 이상의 탄소가 탄소가 질소(N), 산소(O), 황(S), 또는 인(P)으로 치환된 것을 의미한다. 예를 들어 1개 내지 4개의 헤테로원자를 함유하는 모노사이클릭 또는 바이사이클릭 이상의 방향족 그룹을 의미한다. 모노사이클릭 헤테로아릴기의 예로는 티아졸일기, 옥사졸일기, 티오펜일기, 퓨란일기, 피롤일기, 이미다졸일기, 이소옥사졸일기, 피라졸일기, 트리아졸일기, 티아다이아졸일기, 테트라졸일기, 옥사다이아졸일기, 피리딘일기, 피리다진일기, 피리미딘일기, 피라진일기 및 이와 유사한 그룹이 가능하며, 이들로 제한되는 것은 아니다. 바이사이클릭 헤테로아릴기의 예로는 인돌릴기, 벤조티오펜일기, 벤조퓨란일기, 벤즈이미다졸일기, 벤즈옥사졸일기, 벤즈이속사졸일기, 벤즈티아졸일기, 벤즈티아다이아졸일기, 벤즈트리아졸일기, 퀴놀린일기, 이소퀴놀린일기, 퓨린일기, 퓨로피리딘일기 및 이와 유사한 그룹을 들 수 있으며, 이들로 제한되는 것은 아니다.As used herein, the term “heteroaryl group” has 5 to 40, preferably 5 to 30 ring atoms, and at least one carbon in the ring is nitrogen (N), oxygen (O), sulfur ( S), or phosphorus (P) means substituted. means a monocyclic or bicyclic or higher aromatic group containing, for example, 1 to 4 heteroatoms. Examples of the monocyclic heteroaryl group include a thiazolyl group, an oxazolyl group, a thiophenyl group, a furanyl group, a pyrrolyl group, an imidazolyl group, an isoxazolyl group, a pyrazolyl group, a triazolyl group, a thiadiazolyl group, tetra Zolyl group, oxadiazolyl group, pyridinyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group and similar groups are possible, but are not limited thereto. Examples of the bicyclic heteroaryl group include indolyl group, benzothiophenyl group, benzofuranyl group, benzimidazolyl group, benzoxazolyl group, benzisoxazolyl group, benzthiazolyl group, benzthiadiazolyl group, benztriazole diary, a quinolinyl group, an isoquinolinyl group, a purinyl group, a furopyridinyl group, and a group similar thereto, but is not limited thereto.

본 발명에 사용된 용어 “알킬렌기”는 1 내지 20개, 바람직하게는 1 내지 10개, 보다 바람직하게는 1 내지 6개의 탄소 원자의 선형 또는 분지형의 포화된 2가 탄화수소기를 의미한다. 상기 알킬렌기는 후술하는 일정한 치환기에 의해 더욱 치환된 것도 포괄하여 지칭할 수 있다. 상기 알킬렌기의 예로서 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기, 헥실렌기 등을 들 수 있다.As used herein, the term “alkylene group” means a linear or branched saturated divalent hydrocarbon group of 1 to 20, preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6 carbon atoms. The alkylene group may be referred to as encompassing those further substituted by certain substituents to be described later. Examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a hexylene group, and the like.

본 발명에 사용된 용어 “알케닐렌기”는 1 이상의 탄소-탄소 이중 결합을 포함하는 2 내지 20, 바람직하게는 2 내지 10개, 보다 바람직하게는 2 내지 6개의 탄소 원자의 선형 또는 분지형의 2가 탄화수소기를 의미한다. 상기 알케닐렌기는 탄소-탄소 이중 결합을 포함하는 탄소 원자 및/또는 포화된 탄소 원자를 통해 결합될 수 있으며, 후술하는 일정한 치환기에 의해 더욱 치환될 수 있다.As used herein, the term “alkenylene group” refers to a linear or branched group of 2 to 20, preferably 2 to 10, more preferably 2 to 6 carbon atoms containing at least one carbon-carbon double bond. It means a divalent hydrocarbon group. The alkenylene group may be bonded through a carbon atom including a carbon-carbon double bond and/or a saturated carbon atom, and may be further substituted by a specific substituent to be described later.

본 발명에 사용된 용어 “사이클로알킬렌기”는 3 내지 20개, 바람직하게는 3 내지 12개의 고리 탄소의 포화 또는 불포화된 2가 모노사이클릭, 바이사이클릭 또는 트리사이클릭 비방향족 탄화수소기를 의미하며, 후술하는 일정한 치환기에 의해 더욱 치환될 수 있다. 상기 사이클로알킬렌기의 예로서 사이클로프로필렌기, 사이클로부틸렌기 등을 들 수 있다.As used herein, the term “cycloalkylene group” means a saturated or unsaturated divalent monocyclic, bicyclic or tricyclic non-aromatic hydrocarbon group of 3 to 20, preferably 3 to 12 ring carbons, , may be further substituted by certain substituents to be described later. Examples of the cycloalkylene group include a cyclopropylene group and a cyclobutylene group.

본 발명에 사용된 용어 “아릴렌기”는 6 내지 40개, 바람직하게는 6 내지 30개의 고리 원자를 가지는 2가 모노사이클릭, 바이사이클릭 또는 트리사이클릭 방향족 탄화수소기를 의미하며, 후술하는 일정한 치환기에 의해 더욱 치환될 수 있다. 예를 들어, 상기 아릴렌기는 페닐렌, 비페닐렌, 나프틸렌, 안트라세닐렌 등이 있으나, 이들에 한정되지 않는다.As used herein, the term “arylene group” refers to a divalent monocyclic, bicyclic or tricyclic aromatic hydrocarbon group having 6 to 40, preferably 6 to 30 ring atoms, and a certain substituent group described later can be further substituted by For example, the arylene group includes, but is not limited to, phenylene, biphenylene, naphthylene, anthracenylene, and the like.

본 발명에 사용된 용어 “할로겐 원소”는 불소(F), 염소(Cl), 브롬(Br) 또는 요오드(I)이며, 본 발명에 사용된 용어 “할로”는 전술한 할로겐 원소로 치환된 기를 의미한다.The term “halogen element” used in the present invention is fluorine (F), chlorine (Cl), bromine (Br) or iodine (I), and the term “halo” used in the present invention refers to a group substituted with the aforementioned halogen element. it means.

본 발명에서 모든 화합물 또는 치환기는 특별한 언급이 없는 한 치환 또는 비치환된 것일 수 있다. 여기서, 치환된이란 수소 원자가 할로겐 원자, 하이드록시기, 카르복실기, 시아노기, 니트로기, 아미노기, 사이오기, 메틸사이오기, 알콕시기, 나이트릴기, 알데하이드기, 에폭시기, 에테르기, 에스테르기, 카르보닐기, 아세탈기, 케톤기, 알킬기, 퍼플루오로알킬기, 사이클로알킬기, 헤테로사이클로알킬기, 알릴기, 벤질기, 아릴기, 헤테로아릴기, 이들의 유도체 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나로 대체된 것을 의미한다.All compounds or substituents in the present invention may be substituted or unsubstituted unless otherwise specified. Here, substituted means that a hydrogen atom is a halogen atom, a hydroxyl group, a carboxyl group, a cyano group, a nitro group, an amino group, a thio group, a methyl thio group, an alkoxy group, a nitrile group, an aldehyde group, an epoxy group, an ether group, an ester group, a carbonyl group, Substituted with any one selected from the group consisting of acetal group, ketone group, alkyl group, perfluoroalkyl group, cycloalkyl group, heterocycloalkyl group, allyl group, benzyl group, aryl group, heteroaryl group, derivatives thereof, and combinations thereof means that

본 발명은 우수한 난연 및 유전 특성을 나타내는 인계 난연성 중합체를 제공한다.The present invention provides a phosphorus-based flame retardant polymer exhibiting excellent flame retardancy and dielectric properties.

최근 전자 및 통신 기기의 소형화 및 고성능화 추세에 따라 이들 제품에서의 신호 전달 속도가 빨라지고 있으며, 사용되는 신호의 주파수대는 ㎒에서 ㎓ 영역으로 이행해가고 있다. 그러나 이와 같이 신호의 주파수가 높아지는 경우 손실되는 신호의 양이 증가할 뿐만 아니라 노이즈가 증가하기 때문에 신호 전송의 신뢰성을 확보하기 어려우며, 전송 손실이 열로 변환되어 발열 문제가 발생할 수 있다. 그러나, 기존 인쇄 회로 기판의 절연 소재로 많이 사용되고 있는 에폭시 수지의 경우 높은 유전율과 유전 손실 계수를 갖기 때문에 미세화, 고집적화된 인쇄 회로 기판에 적용되기에는 한계가 있다. 따라서 전자 기기의 고속화 및 고주파수화와 더불어 할로겐계 난연제의 배제 등의 기술 흐름에 맞추어 낮은 유전 특성 및 우수한 난연 특성을 동시에 가지는 절연 재료가 필요하다.According to the recent trend of miniaturization and high performance of electronic and communication devices, the signal transmission speed of these products is increasing, and the frequency band of the signal used is moving from MHz to GHz. However, when the frequency of the signal increases as described above, it is difficult to secure the reliability of signal transmission because the amount of lost signal increases as well as noise increases, and the transmission loss is converted into heat, which may cause a heat problem. However, since epoxy resin, which is widely used as an insulating material for conventional printed circuit boards, has a high dielectric constant and dielectric loss coefficient, there is a limit to its application to miniaturized and highly integrated printed circuit boards. Accordingly, there is a need for an insulating material having both low dielectric properties and excellent flame retardant properties in line with technological trends such as the exclusion of halogen-based flame retardants as well as high-speed and high-frequency of electronic devices.

인쇄 회로 기판용 에폭시 수지 조성물을 경우 난연성을 높이기 위해 인계 난연성 중합체를 혼합 사용한다. 이에 본 발명에서는 상기 인계 난연성 중합체에 에스테르 구조의 카보닐기를 일정 비율 이상으로 도입함으로써 높은 난연성과 저유전 특성을 모두 확보한 인계 난연성 중합체를 제시한다.In the case of an epoxy resin composition for a printed circuit board, a phosphorus-based flame retardant polymer is mixed to increase flame retardancy. Accordingly, the present invention provides a phosphorus-based flame-retardant polymer having both high flame retardancy and low dielectric properties by introducing a carbonyl group having an ester structure into the phosphorus-based flame-retardant polymer in a certain ratio or more.

본 발명에 따른 인계 난연성 중합체는 하기 화학식 1 및 2로 표시되는 반복단위 중에서 1종 이상을 포함한다:The phosphorus-based flame-retardant polymer according to the present invention includes at least one type of repeating units represented by the following Chemical Formulas 1 and 2:

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112017129754370-pat00010
Figure 112017129754370-pat00010

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112017129754370-pat00011
Figure 112017129754370-pat00011

(상기 화학식 1 및 2에서,(In Formulas 1 and 2,

R1은 각각 독립적으로 수소,

Figure 112017129754370-pat00012
또는
Figure 112017129754370-pat00013
이고;R 1 is each independently hydrogen,
Figure 112017129754370-pat00012
or
Figure 112017129754370-pat00013
ego;

R2는 각각 독립적으로 C1∼C20의 알킬기 또는 C6~C20의 아릴기이며;R 2 is each independently a C1-C20 alkyl group or a C6-C20 aryl group;

R3은 각각 독립적으로 -CH2-A이며, 이때 A는 하이드록시기, C1∼C10의 알콕시기 또는

Figure 112017129754370-pat00014
이되, 상기 반복단위 내의 A 중 적어도 하나 이상은
Figure 112017129754370-pat00015
이고;R 3 is each independently —CH 2 —A, wherein A is a hydroxyl group, a C1-C10 alkoxy group, or
Figure 112017129754370-pat00014
However, A in the repeating unit at least one or more of
Figure 112017129754370-pat00015
ego;

R4는 각각 독립적으로 단순결합, -CH2- 또는 -CH2-O-CH2-이며,R 4 is each independently a simple bond, -CH 2 - or -CH 2 -O-CH 2 -,

R5는 C1∼C20의 알킬기, C2∼C20의 알케닐기, C2∼C20의 알키닐기, C3∼C20의 사이클로알킬기, C6∼C20의 아릴기 또는 C5∼C20의 헤테로아릴기이고;R 5 is a C1-C20 alkyl group, a C2-C20 alkenyl group, a C2-C20 alkynyl group, a C3-C20 cycloalkyl group, a C6-C20 aryl group, or a C5-C20 heteroaryl group;

R6은 C1∼C20의 알킬렌기, C2∼C20의 알케닐렌기, C3∼C20의 사이클로알킬렌기 또는 C6∼C20의 아릴렌기이며;R 6 is a C1-C20 alkylene group, a C2-C20 alkenylene group, a C3-C20 cycloalkylene group, or a C6-C20 arylene group;

R7은 카복실기(-C(=O)OH) 또는 할로포르밀기(-C(=O)X)이고, 이때 X는 할로겐 원소이고;R 7 is a carboxyl group (-C(=O)OH) or a haloformyl group (-C(=O)X), wherein X is a halogen element;

Ra는 단순결합 또는 C1∼C10의 알킬렌기, C6∼C20의 아릴렌기, C3∼C20의 사이클로알킬렌기, 설포닐기(-SO2-, sulfonyl group)기이며;R a is a simple bond or a C1-C10 alkylene group, a C6-C20 arylene group, a C3-C20 cycloalkylene group, or a sulfonyl group (-SO 2 -, sulfonyl group);

m은 각각 독립적으로 0 내지 2의 정수이고;each m is independently an integer from 0 to 2;

n은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이되, 상기 반복단위 내의 n 중 적어도 두개 이상은 1이다.).n is each independently an integer of 0 or 1, but at least two or more of n in the repeating unit is 1.).

본 발명에 있어서, 상기 화학식 1 및 2로 표시되는 반복단위는 에스테르화(esterification) 반응을 이용하여 반복단위 내 벤젠 고리에 위치하는 하이드록시기(hydroxyl group)의 수소 원자를 카보닐기(carbonyl group, C=O)로 치환함으로써 에폭시 수지와의 경화 반응시 생성되는 에폭시 내의 2차 알코올을 에스테르 구조의 카보닐기와 반응함으로써 최종 얻어지는 경화물의 유전율과 유전 손실 계수를 저하시켜 저유전 특성을 확보할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 반복단위를 포함하는 인계 난연성 중합체는 분자 구조 내 에스테르 구조를 포함하여 높은 난연성과 낮은 유전 특성을 동시에 확보할 수 있다.In the present invention, the repeating units represented by Chemical Formulas 1 and 2 are formed by converting a hydrogen atom of a hydroxyl group located on a benzene ring in the repeating unit to a carbonyl group using an esterification reaction. By substituting with C = O), the dielectric constant and dielectric loss coefficient of the cured product finally obtained by reacting the secondary alcohol in the epoxy generated during the curing reaction with the epoxy resin with the carbonyl group of the ester structure can be lowered to ensure low dielectric properties. . Therefore, the phosphorus-based flame-retardant polymer including the repeating unit according to the present invention can simultaneously secure high flame retardancy and low dielectric properties by including the ester structure in the molecular structure.

전술한 바와 같이 본 발명에 있어서, 상기 R1

Figure 112017129754370-pat00016
또는
Figure 112017129754370-pat00017
로 표시되는 카보닐기일 수 있다.As described above, in the present invention, R 1 is
Figure 112017129754370-pat00016
or
Figure 112017129754370-pat00017
It may be a carbonyl group represented by .

바람직하기로 상기 R5는 C1∼C10의 알킬기 또는 C6∼C20의 아릴기이며, R6은 C1∼C10의 알킬렌기 또는 C6∼C20의 아릴렌기이다.Preferably, R 5 is a C1-C10 alkyl group or a C6-C20 aryl group, and R 6 is a C1-C10 alkylene group or a C6-C20 arylene group.

상술한 바의 화학식으로 표시되는 카보닐기는 상기 화학식 1 및 2로 표시되는 각각의 반복단위 내 R1 중 적어도 하나 이상일 수 있다. 일례로, 상기 화학식 1의 경우 상기 화학식 1 내 모든 R1이 카보닐기인 경우, 상기 화학식 1의 R1 중 적어도 하나가 카보닐기인 경우 및 상기 화학식 1 내 모든 R1이 수소인 경우와 같이 본 발명에 따른 각각의 반복단위는 크게 3가지 형태를 가진다. 이러한 반복단위의 형태는 화학식 2에 대해서도 동일하게 적용되며, 3가지 형태의 반복단위를 가진다. 최종 얻어지는 본 발명의 인계 난연성 중합체에서 상술한 형태의 반복단위는 교대로, 블록 형태로 또는 불규칙하게 배열될 수 있으며, 반복단위 내 모든 R1이 카보닐기인 형태 및 반복단위 내 R1 중 적어도 하나가 카보닐기인 형태를 적어도 하나 포함한다. 바람직하기로, 상기 인계 난연성 중합체를 구성하는 전체 반복단위 내의 R1 중 적어도 하나가 카보닐기일 수 있다.The carbonyl group represented by Chemical Formulas as described above may be at least one of R 1 in each of the repeating units represented by Chemical Formulas 1 and 2 above. For example, in the case of Formula 1, when all R 1 in Formula 1 is a carbonyl group, when at least one of R 1 in Formula 1 is a carbonyl group, and when all R 1 in Formula 1 are hydrogen. Each repeating unit according to the invention has three main types. The form of such a repeating unit is equally applied to Chemical Formula 2, and has three types of repeating units. In the finally obtained phosphorus-based flame retardant polymer of the present invention, the repeating units of the above-described form may be alternately arranged in block form or irregularly, and at least one of a form in which all R 1 in the repeating unit is a carbonyl group and R 1 in the repeating unit. and at least one form in which is a carbonyl group. Preferably, at least one of R 1 in all repeating units constituting the phosphorus-based flame retardant polymer may be a carbonyl group.

또한, 상기 화학식 2에 있어서, 상기 n이 0인 경우 인접하는 다른 반복단위와의 결합이 존재하지 않는다.In addition, in Formula 2, when n is 0, there is no bond with other adjacent repeating units.

본 발명의 일 구현예에 있어서, 상기 반복단위는 하기 화학식 3 내지 9로 표시되는 반복단위 중 선택되는 1종 이상일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the repeating unit may be at least one selected from repeating units represented by the following Chemical Formulas 3 to 9.

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112017129754370-pat00018
Figure 112017129754370-pat00018

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112017129754370-pat00019
Figure 112017129754370-pat00019

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112017129754370-pat00020
Figure 112017129754370-pat00020

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112017129754370-pat00021
Figure 112017129754370-pat00021

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112017129754370-pat00022
Figure 112017129754370-pat00022

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112017129754370-pat00023
Figure 112017129754370-pat00023

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112017129754370-pat00024
Figure 112017129754370-pat00024

(상기 화학식 3 내지 9에서,(In Formulas 3 to 9,

R1은 각각 독립적으로 수소,

Figure 112017129754370-pat00025
또는
Figure 112017129754370-pat00026
이고;R 1 is each independently hydrogen,
Figure 112017129754370-pat00025
or
Figure 112017129754370-pat00026
ego;

R2는 각각 독립적으로 C1∼C20의 알킬기 또는 C6~C20의 아릴기이며;R 2 is each independently a C1-C20 alkyl group or a C6-C20 aryl group;

R3은 각각 독립적으로 -CH2-A이며, 이때 A는 하이드록시기, C1∼C10의 알콕시기 또는

Figure 112017129754370-pat00027
이되, 상기 반복단위 내의 A 중 적어도 하나 이상은
Figure 112017129754370-pat00028
이고;R 3 is each independently —CH 2 —A, wherein A is a hydroxyl group, a C1-C10 alkoxy group, or
Figure 112017129754370-pat00027
However, A in the repeating unit at least one or more of
Figure 112017129754370-pat00028
ego;

R4는 각각 독립적으로 단순결합, -CH2- 또는 -CH2-O-CH2-이되, 상기 R4가 모두 단순결합인 경우는 제외하고;R 4 is each independently a simple bond, -CH 2 - or -CH 2 -O-CH 2 -, except that R 4 is a simple bond;

R5는 C1∼C20의 알킬기, C2∼C20의 알케닐기, C2∼C20의 알키닐기, C3∼C20의 사이클로알킬기, C6∼C20의 아릴기 또는 C5∼C20의 헤테로아릴기이고;R 5 is a C1-C20 alkyl group, a C2-C20 alkenyl group, a C2-C20 alkynyl group, a C3-C20 cycloalkyl group, a C6-C20 aryl group, or a C5-C20 heteroaryl group;

R6은 C1∼C20의 알킬렌기, C2∼C20의 알케닐렌기, C3∼C20의 사이클로알킬렌기 또는 C6∼C20의 아릴렌기이며;R 6 is a C1-C20 alkylene group, a C2-C20 alkenylene group, a C3-C20 cycloalkylene group, or a C6-C20 arylene group;

R7은 카복실기(-C(=O)OH) 또는 할로포르밀기(-C(=O)X)이고, 이때 X는 할로겐 원소이며;R 7 is a carboxyl group (-C(=O)OH) or a haloformyl group (-C(=O)X), wherein X is a halogen element;

Ra는 단순결합 또는 C1∼C10의 알킬렌기, C6∼C20의 아릴렌기, C3∼C20의 사이클로알킬렌기, 설포닐기(-SO2-, sulfonyl group)기이며;R a is a simple bond or a C1-C10 alkylene group, a C6-C20 arylene group, a C3-C20 cycloalkylene group, or a sulfonyl group (-SO 2 -, sulfonyl group);

m은 각각 독립적으로 0 내지 2의 정수이다.).m is each independently an integer from 0 to 2.).

바람직하기로, 상기 R2는 각각 독립적으로 C1∼C10의 선형 또는 분지형의 알킬기일 수 있다.Preferably, the R 2 may each independently be a C1-C10 linear or branched alkyl group.

또한, 바람직하기로, 상기 R3은 각각 독립적으로 -CH2-A이며, 이때 A는 각각 독립적으로 C1∼C5의 알콕시기 또는

Figure 112017129754370-pat00029
일 수 있다.Also, preferably, each of R 3 is independently —CH 2 —A, wherein A is each independently a C1-C5 alkoxy group or
Figure 112017129754370-pat00029
can be

또한, 바람직하기로, 상기 R4는 각각 독립적으로 -CH2- 또는 -CH2-O-CH2-이며, 상기 화학식으로 표시되는 반복단위 내에서 상기 R4는 -CH2-와 -CH2-O-CH2-를 모두 포함할 수 있다.Also, preferably, each of R 4 is independently -CH 2 - or -CH 2 -O-CH 2 -, and in the repeating unit represented by the above formula, R 4 is -CH 2 - and -CH 2 -O-CH 2 - may include both.

본 발명의 인계 난연성 중합체는 중합체 내 총 반복단위수를 기준으로 상기 화학식으로 표시되는 반복단위를 50 내지 100 %, 바람직하게는 75 내지 100%로 포함할 수 있다.The phosphorus-based flame-retardant polymer of the present invention may include 50 to 100%, preferably 75 to 100%, of the repeating unit represented by the above formula based on the total number of repeating units in the polymer.

본 발명의 다른 일 구현예에 있어서, 상기 인계 난연성 중합체는 하기 화학식 10 내지 16으로 표시되는 화합물 중 어느 하나일 수 있다:In another embodiment of the present invention, the phosphorus-based flame retardant polymer may be any one of compounds represented by the following Chemical Formulas 10 to 16:

[화학식 10][Formula 10]

Figure 112017129754370-pat00030
Figure 112017129754370-pat00030

[화학식 11][Formula 11]

Figure 112017129754370-pat00031
Figure 112017129754370-pat00031

[화학식 12][Formula 12]

Figure 112017129754370-pat00032
Figure 112017129754370-pat00032

[화학식 13][Formula 13]

Figure 112017129754370-pat00033
Figure 112017129754370-pat00033

[화학식 14][Formula 14]

Figure 112017129754370-pat00034
Figure 112017129754370-pat00034

[화학식 15][Formula 15]

Figure 112017129754370-pat00035
Figure 112017129754370-pat00035

[화학식 16][Formula 16]

Figure 112017129754370-pat00036
Figure 112017129754370-pat00036

(상기 화학식 10 내지 16에서,(In Formulas 10 to 16,

R1은 각각 독립적으로 수소,

Figure 112017129754370-pat00037
또는
Figure 112017129754370-pat00038
이고;R 1 is each independently hydrogen,
Figure 112017129754370-pat00037
or
Figure 112017129754370-pat00038
ego;

R3은 각각 독립적으로 -CH2-A이며, 이때 A는 하이드록시기, C1∼C10의 알콕시기 또는

Figure 112017129754370-pat00039
이되, 상기 반복단위 내의 A 중 적어도 하나 이상은
Figure 112017129754370-pat00040
이고;R 3 is each independently —CH 2 —A, wherein A is a hydroxyl group, a C1-C10 alkoxy group, or
Figure 112017129754370-pat00039
However, A in the repeating unit at least one or more of
Figure 112017129754370-pat00040
ego;

R4는 각각 독립적으로 단순결합, -CH2- 또는 -CH2-O-CH2-이되, 상기 R4가 모두 단순결합인 경우는 제외하고;R 4 is each independently a simple bond, -CH 2 - or -CH 2 -O-CH 2 -, except that R 4 is a simple bond;

R5는 C1∼C20의 알킬기, C2∼C20의 알케닐기, C2∼C20의 알키닐기, C3∼C20의 사이클로알킬기, C6∼C20의 아릴기 또는 C5∼C20의 헤테로아릴기이고;R 5 is a C1-C20 alkyl group, a C2-C20 alkenyl group, a C2-C20 alkynyl group, a C3-C20 cycloalkyl group, a C6-C20 aryl group, or a C5-C20 heteroaryl group;

R6은 C1∼C20의 알킬렌기, C2∼C20의 알케닐렌기, C3∼C20의 사이클로알킬렌기 또는 C6∼C20의 아릴렌기이며;R 6 is a C1-C20 alkylene group, a C2-C20 alkenylene group, a C3-C20 cycloalkylene group, or a C6-C20 arylene group;

R7은 카복실기(-C(=O)OH) 또는 할로포르밀기(-C(=O)X)이고, 이때 X는 할로겐 원소이며;R 7 is a carboxyl group (-C(=O)OH) or a haloformyl group (-C(=O)X), wherein X is a halogen element;

R' 및 R"은 서로 같거나 다르며, 각각 독립적으로 수소, C1∼C10의 알킬기, C3∼C20의 사이클로알킬기 또는 C6∼C20의 아릴기이고;R′ and R″ are the same as or different from each other and are each independently hydrogen, a C1-C10 alkyl group, a C3-C20 cycloalkyl group, or a C6-C20 aryl group;

A1 내지 A14는 서로 같거나 다르며, 각각 독립적으로 하이드록시기, C1∼C10의 알콕시기 또는

Figure 112017129754370-pat00041
이며;A 1 to A 14 are the same as or different from each other, and each independently a hydroxyl group, a C1-C10 alkoxy group, or
Figure 112017129754370-pat00041
is;

m은 각각 독립적으로 0 내지 2의 정수이고;each m is independently an integer from 0 to 2;

p 내지 z는 0 내지 4의 유리수이다.).p to z are rational numbers from 0 to 4.).

바람직하기로, 상기 화학식 10 내지 16에서, 상기 R1은 상술한 바와 같으며, 본 발명의 인계 난연성 중합체에서 반복단위 내 전체 R1 중 카보닐기인 비율은 20 내지 100 %인, 바람직하게는 50 내지 100 %, 보다 바람직하게는 70 내지 100%일 수 있다. 상기 카보닐기의 비율이 전술한 범위 내인 경우 충분한 유전 특성 개선 효과를 얻을 수 있다. 이때 상기 인계 난연성 중합체 내 모든 R1이 상술한 카보닐기로 치환되는 것은 아니며 중합체 내 전체 R1 중 적어도 하나는 수소일 수도 있다.Preferably, in Formulas 10 to 16, R 1 is the same as described above, and in the phosphorus-based flame retardant polymer of the present invention, the proportion of carbonyl groups among the total R 1 in the repeating unit is 20 to 100%, preferably 50 to 100%, more preferably from 70 to 100%. When the ratio of the carbonyl group is within the above-described range, a sufficient effect of improving dielectric properties may be obtained. At this time, not all R 1 in the phosphorus-based flame retardant polymer is substituted with the above-described carbonyl group, and at least one of all R 1 in the polymer may be hydrogen.

전술한 바와 같이, 상기 R3은 바람직하기로, 각각 독립적으로 -CH2-A이며, 이때 A는 각각 독립적으로 C1∼C5의 알콕시기 또는

Figure 112017129754370-pat00042
일 수 있다.As described above, R 3 is preferably, each independently -CH 2 -A, wherein A is each independently a C1-C5 alkoxy group or
Figure 112017129754370-pat00042
can be

또한, 바람직하기로, 상기 R4는 각각 독립적으로 -CH2- 또는 -CH2-O-CH2-이며, 상기 화학식 10 내지 16으로 표시된 각각의 화합물 내에서 -CH2-와 -CH2-O-CH2-가 혼재되어 있을 수 있다.Also, preferably, each of R 4 is independently —CH 2 — or —CH 2 —O—CH 2 —, and in each compound represented by Formulas 10 to 16, —CH 2 — and —CH 2 — O-CH 2 - may be mixed.

또한, 바람직하기로, 상기 R′및 R″은 서로 같거나 다르며, 각각 독립적으로 수소, C1∼C5의 알킬기, C3∼C12의 사이클로알킬기 또는 C6∼C12의 아릴기일 수 있다. 보다 바람직하기로는 상기 R′및 R″은 서로 같거나 다르며, 각각 독립적으로 메틸기, 에틸기, 프로필기, 사이클로헥실기, 페닐기 또는 메틸페닐기일 수 있다.Also, preferably, R′ and R″ are the same as or different from each other, and each independently may be hydrogen, a C1 to C5 alkyl group, a C3 to C12 cycloalkyl group, or a C6 to C12 aryl group. More preferably, R′ and R″ are the same as or different from each other, and each independently may be a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, or a methylphenyl group.

또한, 바람직하기로, 상기 A1 내지 A8은 서로 같거나 다르며, 각각 독립적으로 C1∼C5의 알콕시기 또는

Figure 112017129754370-pat00043
일 수 있다.Also, preferably, the A 1 to A 8 are the same as or different from each other, and each independently a C1-C5 alkoxy group or
Figure 112017129754370-pat00043
can be

또한, 바람직하기로, p 내지 z는 1 내지 4의 유리수이다.Also preferably, p to z are rational numbers from 1 to 4.

상기 화학식 12에 있어서, 상기 R4가 모두 -CH2-인 경우 상기 R3인 -CH2-A에서 A는 각각 독립적으로 하이드록시기 또는 C1∼C10의 알콕시기일 수 있다.In Formula 12, when all of R 4 are -CH 2 -, A in -CH 2 -A, which is R 3 , may each independently be a hydroxy group or a C1-C10 alkoxy group.

상기한 화학식으로 표시되는 본 발명의 인계 난연성 중합체는 하이드록시기 대신 카보닐기를 포함함으로써 에스테르 구조가 도입되어 저유전 특성을 나타낼 수 있다. 또한, 본 발명의 인계 난연성 중합체는 인 원자를 포함하는 방향족 고리를 반드시 포함함으로써 난연성 향상을 도모한다.The phosphorus-based flame-retardant polymer of the present invention represented by the above formula may exhibit a low dielectric property by including a carbonyl group instead of a hydroxyl group, thereby introducing an ester structure. In addition, the phosphorus-based flame-retardant polymer of the present invention is intended to improve flame retardancy by necessarily including an aromatic ring containing a phosphorus atom.

상기 인계 난연성 중합체는 중합체 총 중량을 기준으로 인 함량이 5.0 내지 9.0 중량%, 바람직하게 는 7 내지 8.5 중량%일 수 있다. 상기 인 함량이 상기 범위 미만인 경우 난연 효과가 미비하여 수지 배합시 투입량이 증가하며, 이와 반대로 상기 범위를 초과하는 경우 화학구조상 변성이 불가능하다는 문제점이 있다.The phosphorus-based flame retardant polymer may have a phosphorus content of 5.0 to 9.0 wt%, preferably 7 to 8.5 wt%, based on the total weight of the polymer. When the phosphorus content is less than the above range, the flame retardant effect is insufficient and the input amount is increased when the resin is mixed.

본 발명에 따른 인계 난연성 중합체는 중량평균분자량(Mw)이 1000 내지 2000 g/mol, 바람직하게는 1,000 내지 1,600 g/mol일 수 있다. 상기 인계 난연성 중합체의 중량평균분자량이 상기 범위 미만인 경우 유전 특성의 개선 효과를 얻을 수 없으며, 이와 반대로 상기 범위를 초과하는 경우 용매에 잘 용해지되 않는 문제가 있다. 또한, 본 발명의 인계 난연성 중합체는 유리전이온도(Tg)가 150 내지 170 ℃ 범위일 수 있다.The phosphorus-based flame retardant polymer according to the present invention may have a weight average molecular weight (M w ) of 1000 to 2000 g/mol, preferably 1,000 to 1,600 g/mol. When the weight average molecular weight of the phosphorus-based flame-retardant polymer is less than the above range, the effect of improving dielectric properties cannot be obtained. In addition, the phosphorus-based flame retardant polymer of the present invention may have a glass transition temperature (T g ) in the range of 150 to 170 ℃.

본 발명에 따른 인계 난연성 중합체는 1 ㎓에서 유전율(Dk)이 3.8 미만, 바람직하게는 2.7 내지 3.5일 수 있다. 또한, 상기 인계 난연성 중합체는 1 ㎓에서 유전 손실 계수(Df)가 0.015 이하, 바람직하게는 0.0050 내지 0.010일 수 있다.The phosphorus-based flame-retardant polymer according to the present invention may have a dielectric constant (D k ) of less than 3.8 at 1 GHz, preferably 2.7 to 3.5. In addition, the phosphorus-based flame retardant polymer may have a dielectric loss coefficient (D f ) of 0.015 or less at 1 GHz, preferably 0.0050 to 0.010.

또한, 본 발명은 전술한 인계 난연성 중합체의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention provides a method for preparing the above-described phosphorus-based flame retardant polymer.

일례로, 본 발명에 따른 인계 난연성 중합체는 촉매 존재 하에 하기 화학식 15로 표시되는 중합체와 화학식 16 또는 17로 표시되는 화합물을 반응시켜 화학식 11로 표시되는 중합체를 제조할 수 있다:For example, the phosphorus-based flame-retardant polymer according to the present invention may be prepared by reacting a polymer represented by the following Chemical Formula 15 with a compound represented by Chemical Formula 16 or 17 in the presence of a catalyst to prepare a polymer represented by Chemical Formula 11:

[화학식 11][Formula 11]

Figure 112017129754370-pat00044
Figure 112017129754370-pat00044

[화학식 17][Formula 17]

Figure 112017129754370-pat00045
Figure 112017129754370-pat00045

[화학식 18][Formula 18]

Figure 112017129754370-pat00046
Figure 112017129754370-pat00046

[화학식 19][Formula 19]

Figure 112017129754370-pat00047
Figure 112017129754370-pat00047

(상기 화학식 11 및 17 내지 19에서,(In Formulas 11 and 17 to 19,

R1, R3, R4 내지 R7, A3, A4, m 및 s는 상기 언급한 바를 따르며;R 1 , R 3 , R 4 to R 7 , A 3 , A 4 , m and s are as mentioned above;

R8은 수소 또는 할로겐 원소이다.)R 8 is hydrogen or a halogen element.)

본 발명에 따른 상기 인계 난연성 중합체의 제조방법에 있어서, 출발물질인 화학식 17로 표시되는 중합체는 공지의 여러 방법을 통해 이루어질 있으며, 본 발명에서는 특별히 한정하지 않는다.In the method for producing the phosphorus-based flame-retardant polymer according to the present invention, the polymer represented by Chemical Formula 17 as a starting material may be formed through various known methods, and the present invention is not particularly limited.

일례로, 상기 화학식 17로 표시되는 중합체는 비스페놀 A, 비스페놀 F 등의 비스페놀 구조를 포함하는 단량체와 알데하이드 화합물을 중합 반응시킨 후, 여기서 얻어진 중간 생성물을 포스핀(phosphine) 구조를 가지는 유기 인 화합물과 차례로 반응시킴으로써 제조될 수 있다. 이때 최종 제조되는 인계 난연성 중합체가 알킬 페놀 구조인 경우 출발물질은 알킬 페놀 구조를 포함하는 단량체일 수 있으며, 예를 들어 파라-tert-부틸페놀(PTBP) 및 파라-tert-옥틸페놀(PTOP) 등일 수 있다.For example, the polymer represented by Formula 17 is obtained by polymerizing a monomer containing a bisphenol structure such as bisphenol A and bisphenol F with an aldehyde compound, and then reacting the intermediate product obtained therewith with an organophosphorus compound having a phosphine structure and It can be prepared by sequentially reacting. In this case, when the phosphorus-based flame retardant polymer finally prepared has an alkyl phenol structure, the starting material may be a monomer including an alkyl phenol structure, for example, para-tert-butylphenol (PTBP) and para-tert-octylphenol (PTOP). can

이때 상기 알데하이드 화합물로는 비스페놀 구조를 포함하는 단량체와의 반응을 통해 각각의 단량체 말단을 메티올기로 치환시킬 수 있는 화합물이면 제한 없이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 포름알데하이드, 아세트알데하이드, 알킬 알데하이드, 벤즈 알데하이드, 알킬 치환 알데하이드, 하이드록시 벤즈 알데하이드, 나프토 알데하이드 및 글루타르 알데하이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있고, 바람직하게는 포름알데하이드를 사용할 수 있다.In this case, the aldehyde compound may be used without limitation as long as it is a compound capable of substituting a methylol group at the end of each monomer through reaction with a monomer having a bisphenol structure, preferably formaldehyde, acetaldehyde, alkyl aldehyde, benz At least one selected from the group consisting of aldehydes, alkyl-substituted aldehydes, hydroxy benzaldehyde, naphthoaldehyde and glutaraldehyde may be used, and formaldehyde may be preferably used.

상기 알데하이드 화합물과의 반응에 있어서, 반응성을 높이기 위해 촉매 존재 하에 반응을 진행할 수 있으며, 상기 촉매는 예를 들어, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 수산화마그네슘, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산칼슘 등의 알칼리 촉매일 수 있다.In the reaction with the aldehyde compound, the reaction may be carried out in the presence of a catalyst to increase reactivity, and the catalyst is, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, magnesium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, etc. It may be an alkali catalyst.

또한, 상기 알데하이드 화합물과의 반응으로부터 얻어진 말단이 메티올기로 치환된 중간 생성물은 자가중합이 쉽게 일어나는 불안정한 물질이기 때문에 유기 인 화합물과의 반응 이전에 알코올과 반응시킴으로써 메티올기의 자가중합을 억제할 수 있다. 이때 사용가능한 알코올은 메탄올, 에탄올, 부탄올, 프로판올, 글리콜, 2-메톡시 에탄올, 에테르 및 페놀로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상일 수 있으며, 바람직하게는 부탄올을 사용하는 것이 물성 향상에 매우 유리하다.In addition, since the intermediate product obtained by the reaction with the aldehyde compound having a terminal substituted with a methyl group is an unstable substance that easily undergoes self-polymerization, it can inhibit the self-polymerization of the methyl group by reacting it with an alcohol prior to the reaction with the organophosphorus compound. there is. In this case, the usable alcohol may be any one or more selected from the group consisting of methanol, ethanol, butanol, propanol, glycol, 2-methoxy ethanol, ether and phenol, preferably butanol is very advantageous for improving physical properties. do.

상기 유기 인 화합물은 난연성을 부여하기 위한 것으로, 예를 들어 페닐포스핀, 디페닐 포스페이트, 디에틸 포스페이트, 디메틸포스파이트, 페닐포스핀산, 페닐포스폰산, 디메틸포스핀산 및 9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥시드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있고 바람직하게는 9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥시드일 수 있다.The organophosphorus compound is for imparting flame retardancy, for example, phenylphosphine, diphenyl phosphate, diethyl phosphate, dimethyl phosphite, phenylphosphinic acid, phenylphosphonic acid, dimethylphosphinic acid and 9,10-dihydro- At least one selected from the group consisting of 9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide may be used, and preferably 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10- It may be an oxide.

전술한 바를 통해 얻어진 상기 화학식 17의 중합체는 촉매 존재 하에 상기 화학식 18 또는 19로 표시되는 화합물과 반응시킨다.The polymer of Formula 17 obtained through the above is reacted with the compound represented by Formula 18 or 19 in the presence of a catalyst.

상기 촉매는 상기 화학식 17의 중합체 내 상기 화학식 18 또는 19로부터 유래되는 카보닐기의 도입을 반응이 보다 용이하게 진행될 수 있도록 반응성을 향상시키는 역할을 한다.The catalyst serves to improve reactivity so that the introduction of the carbonyl group derived from Chemical Formula 18 or 19 into the polymer of Chemical Formula 17 can proceed more easily.

상기 촉매로는 아민계 화합물이 사용될 수 있으며, 일례로, 메틸 디에탄올 아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 디메틸 벤질아민, 트리페닐아민, 트리시클로헥실 아민, 피리딘, 퀴놀린 및 1,8-디아자비시클로(5.4.0)운데스-7-엔으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는 트리에틸아민, 트리부틸아민 및 피리딘으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.An amine-based compound may be used as the catalyst, for example, methyl diethanol amine, triethylamine, tributylamine, dimethyl benzylamine, triphenylamine, tricyclohexyl amine, pyridine, quinoline and 1,8-dia It may include at least one selected from the group consisting of zabicyclo(5.4.0)undec-7-ene. Preferably, it may include at least one selected from the group consisting of triethylamine, tributylamine, and pyridine.

상기 촉매는 화학식 17의 중합체 100 중량%를 기준으로 0.1 내지 0.5 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 0.2 중량%로 사용될 수 있다. 만약 상기 촉매가 전술한 범위 미만으로 사용되는 경우 반응성 향상 효과를 얻을 수 없으며, 이와 반대로 상기 범위를 초과하는 경우 부반응을 일으키는 문제가 발생할 수 있다.The catalyst may be used in an amount of 0.1 to 0.5% by weight, preferably 0.1 to 0.2% by weight, based on 100% by weight of the polymer of Formula 17. If the catalyst is used in less than the above range, the effect of improving the reactivity cannot be obtained.

상기 화학식 18 또는 19로 표시되는 화합물은 상기 화학식 17의 중합체 내 카보닐기를 도입하기 위한 것으로, 카보닐기를 포함하는 화합물이면 제한없이 사용될 수 있다.The compound represented by Formula 18 or 19 is for introducing a carbonyl group into the polymer of Formula 17, and any compound containing a carbonyl group may be used without limitation.

바람직하기로 상기 화학식 18 또는 19에서 상기 R5 내지 R7은 앞서 설명한 바와 동일하며, 상기 R8은 R7이 카복실기인 경우 수소이며, R7이 할로포르밀기인 경우 동일한 할로겐 원소일 수 있다.Preferably, in Formulas 18 or 19, R 5 to R 7 may be the same as described above, R 8 may be hydrogen when R 7 is a carboxyl group, and may be the same halogen element when R 7 is a haloformyl group.

예를 들어, 상기 화학식 18 또는 19로 표시되는 화합물은 하기 그림에 나타낸 바와 같이 벤조일 클로라이드(benzoyl chloride), 이소프탈로일 디클로라이드(isophthaloyl dichloride), 테레프탈로일 디클로라이드(terephthaloyl dichloride), 벤조산(benzoic acid), 이소프탈산(isophthalic acid), 테레프탈산(terephthalic acid) 등이 있으며, 바람직하기로 벤조일 클로라이드를 사용한다:For example, the compound represented by Formula 18 or 19 is benzoyl chloride, isophthaloyl dichloride, terephthaloyl dichloride, benzoic acid, as shown in the figure below. acid), isophthalic acid, terephthalic acid, etc., preferably benzoyl chloride:

Figure 112017129754370-pat00048
Figure 112017129754370-pat00048

상기 화학식 18 또는 19의 화합물은 화학식 13의 중합체 100 중량%를 기준으로 0.01 내지 0.5 중량%, 바람직하게는 0.04 내지 0.3 중량%로 사용될 수 있다. 만약 상기 화학식 18 또는 19의 화합물이 상기 범위 미만으로 사용되는 경우 유리전이온도 변화에 미미한 문제가 있으며, 이와 반대로 상기 범위를 초과하는 경우 용해도가 낮아지는 문제가 발생할 수 있다.The compound of Formula 18 or 19 may be used in an amount of 0.01 to 0.5% by weight, preferably 0.04 to 0.3% by weight, based on 100% by weight of the polymer of Formula 13. If the compound of Formula 18 or 19 is used below the above range, there is a slight problem in the change in the glass transition temperature.

또한, 본 발명은 상기 인계 난연성 중합체를 포함하는 난연성 수지 조성물을 제공한다.In addition, the present invention provides a flame-retardant resin composition comprising the phosphorus-based flame-retardant polymer.

일례로, 상기 난연성 수지 조성물은 에폭시 수지, 에폭시 경화제, 경화 촉진제 및 비할로겐 난연제를 포함하며, 특히 본 발명에서는 상기 비할로겐 난연제로 인계 난연성 중합체를 포함함으로써 우수한 난연 특성과 저유전 특성을 확보할 수 있다.As an example, the flame-retardant resin composition includes an epoxy resin, an epoxy curing agent, a curing accelerator and a non-halogen flame retardant. In particular, in the present invention, excellent flame retardant properties and low dielectric properties can be secured by including a phosphorus-based flame retardant polymer as the non-halogen flame retardant. there is.

기존의 인계 난연성 중합체를 포함하는 난연성 수지 조성물과는 달리, 본 발명의 난연성 수지 조성물은 전술한 화학식으로 표시되는 인계 난연성 중합체를 포함함으로써 기존의 인계 난연성 중합체와 동등 이상 수준의 난연 특성을 가지면서도 유전율 및 유전 손실 계수를 낮춤으로써 최종 얻어지는 경화물의 유전 특성을 보다 저감시킬 수 있다.Unlike the flame-retardant resin composition including the existing phosphorus-based flame-retardant polymer, the flame-retardant resin composition of the present invention includes the phosphorus-based flame-retardant polymer represented by the above-described chemical formula, thereby having flame retardant properties equivalent to or higher than that of the existing phosphorus-based flame-retardant polymer, while having a dielectric constant And by lowering the dielectric loss coefficient, it is possible to further reduce the dielectric properties of the finally obtained cured product.

상기 에폭시 수지는 본 발명에서 특별히 한정하지 않으며, 당 업계에서 사용되는 것을 제한 없이 사용할 수 있다. 상기 에폭시 수지의 비제한적인 예로는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 안트라센 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 테트라메틸 비페닐형 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 F 노볼락형 에폭시 수지, 디시클로 펜타디엔형 에폭시 수지, 다관능 페놀형 에폭시 수지, 비페닐 노볼락형 에폭시 수지, 나프톨 노볼락형 에폭시 수지, 나프톨 페놀 공축 노볼락형 에폭시 수지, 나프톨 코레졸 공축 노볼락형 에폭시 수지, 방향족 탄화수소 포름알데히드 수지 변성 페놀 수지형 에폭시 수지, 트리페닐 메탄형 에폭시 수지, 테트라 페닐에탄형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔 페놀 부가 반응형 에폭시 수지, 페놀 아랄킬형 에폭시 수지 및 나프톨 아라킬형 에폭시 수지 등이 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용될 수 있다.The epoxy resin is not particularly limited in the present invention, and those used in the art may be used without limitation. Non-limiting examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, anthracene epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, tetramethyl biphenyl type epoxy resin, Alicyclic epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, bisphenol F novolak type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, polyfunctional phenol type epoxy resin, Biphenyl novolak type epoxy resin, naphthol novolak type epoxy resin, naphthol phenol coaxial novolak type epoxy resin, naphthol choresol coaxial novolak type epoxy resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenol resin type epoxy resin, triphenyl methane type There are epoxy resins, tetraphenylethane type epoxy resins, dicyclopentadiene phenol addition reaction type epoxy resins, phenol aralkyl type epoxy resins, and naphthol aralkyl type epoxy resins, and these may be used alone or in combination of two or more types.

상기 에폭시 경화제는 에폭시 수지와 경화반응이 진행될 수 있는 것으로서 당 업계에 알려진 통상적인 경화제라면 특별한 제한 없이 사용할 수 있다. 예를 들어, 아민 경화제, 산무수물 경화제, 이소시아눌산 경화제, 페놀계 경화제 등을 사용할 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The epoxy curing agent can be used without any particular limitation as long as it is a conventional curing agent known in the art as a curing reaction with the epoxy resin can proceed. For example, an amine curing agent, an acid anhydride curing agent, an isocyanuric acid curing agent, a phenol-based curing agent, etc. may be used, and these may be used alone or in combination of two or more.

상기 아민 경화제로는 디시안디아미드, 디에틸렌트리아민, 테트라에틸렌트리아민, 테트라에틸렌펜타아민, 이소프로필디아민, 비스(아미노메틸)시클로헨산, 1,4-부탄디올 비스(3-아미노프로필)에테르, 자일렌디아민, 1,4-페닐렌디아민 등을 사용할 수 있다.The amine curing agent includes dicyandiamide, diethylenetriamine, tetraethylenetriamine, tetraethylenepentaamine, isopropyldiamine, bis(aminomethyl)cyclohenic acid, 1,4-butanediol bis(3-aminopropyl)ether, xylenediamine, 1,4-phenylenediamine, or the like can be used.

산무수물 경화제로는 무수프탈산, 무수말레산, 무수트리멜리트산, 무수피로멜리트산, 헥사히드로무수프탈산, 테트라히드로무수프탈산, 무수메틸나딕산, 무수나딕산, 무수글루탈산, 무수디메틸글루탈산, 무수디에틸글루탈산, 무수숙신산, 메틸헥사히드로무수프탈산, 메틸테트라히드로무수프탈산 등을 사용할 수 있다.Acid anhydride curing agents include phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, nadic anhydride, glutaric anhydride, dimethyl glutaric anhydride, Diethyl glutaric anhydride, succinic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, and the like can be used.

이소시아눌산 경화제로는, 1,3,5-트리스(1-카르복시메틸)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(2-카르복시에틸)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(3-카르복시프로필)이소시아누레이트, 1,3-비스(2-카르복시에틸)이소시아누레이트 등을 들 수 있다.As the isocyanuric acid curing agent, 1,3,5-tris(1-carboxymethyl)isocyanurate, 1,3,5-tris(2-carboxyethyl)isocyanurate, 1,3,5-tris (3-carboxypropyl) isocyanurate, 1, 3-bis (2-carboxyethyl) isocyanurate, etc. are mentioned.

페놀계 경화제로는 페놀, 크레졸, 레졸신, 카테콜, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 페닐페놀, 아미노페놀 등의 페놀류 및/또는 α-나프톨, β-나프톨, 디히드록시나프탈렌 등의 나프톨류와 포름알데히드, 벤즈알데히드, 살리실알데히드 등의 알데히드기를 갖는 화합물을 산성 촉매 하에서 축합 또는 공축합시켜 얻어지는 노볼락형 페놀수지; 페놀류 및/또는 나프톨류와 디메톡시파라크실렌 또는 비스(메톡시)비페닐로부터 합성되는 페놀?아랄킬 수지; 비페닐렌형 페놀·아랄킬 수지, 나프톨·아랄킬 수지 등의 아랄킬형 페놀수지; 페놀류 및/또는 나프톨류와 디시클로펜타디엔과의 공중합에 의해 합성되는 디시클로펜타디엔형 페놀 노볼락 수지, 디시클로펜타디엔형 나프톨 노볼락 수지 등의 디시클로펜타디엔형 페놀 수지; 트리페닐메탄형 페놀 수지; 테르펜 변성 페놀 수지; 파라크실렌 및/또는 메타크실렌 변성 페놀 수지; 멜라민 변성 페놀 수지; 또는 시클로펜타디엔 변성 페놀 수지를 사용할 수 있다.Phenolic curing agents include phenols such as phenol, cresol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, phenylphenol and aminophenol, and/or naphthols such as α-naphthol, β-naphthol, dihydroxynaphthalene and form a novolak-type phenol resin obtained by condensing or co-condensing a compound having an aldehyde group such as aldehyde, benzaldehyde, and salicylaldehyde under an acidic catalyst; phenol/aralkyl resin synthesized from phenols and/or naphthols and dimethoxyparaxylene or bis(methoxy)biphenyl; aralkyl-type phenol resins such as biphenylene-type phenol/aralkyl resins and naphthol/aralkyl resins; dicyclopentadiene type phenol resins such as dicyclopentadiene type phenol novolac resin and dicyclopentadiene type naphthol novolak resin synthesized by copolymerization of phenols and/or naphthols with dicyclopentadiene; triphenylmethane type phenol resin; terpene-modified phenolic resin; para-xylene and/or meta-xylene-modified phenolic resins; melamine-modified phenolic resin; Alternatively, a cyclopentadiene-modified phenol resin may be used.

이 밖에도, 이소시아네이트계, 머캅탄계, 멜라민 등 기타 에폭시 경화제가 사용될 수 있다.In addition, other epoxy curing agents such as isocyanate-based, mercaptan-based, and melamine may be used.

상기 경화 촉진제는 에폭시 수지와 경화제의 반응을 촉진하는 물질로서, 예를 들어, 이미다졸계 경화 촉진제, 아민계 경화촉진제, 금속계 경화촉진제 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.The curing accelerator is a material that promotes the reaction between the epoxy resin and the curing agent, and for example, an imidazole-based curing accelerator, an amine-based curing accelerator, and a metal-based curing accelerator, but is not limited thereto.

사용 가능한 이미다졸계 경화촉진제의 비제한적인 예를 들면, 이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-데실이미다졸, 2-헥틸이미다졸, 2-이소프로필이미다졸, 2-운데실 이미다졸, 2-헵탄데실 이미다졸, 2-에틸-4-메틸 이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸 이미다졸, 1-벤질-2-메틸 이미다졸, 1-벤질-2-페닐 이미다졸, 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-운데실이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-운데실-이미다졸 트리멜리테이트, 1-시아노에틸-2-페닐 이미다졸 트리멜리테이트, 2,4-디아미노-6-(2′-메틸이미다졸-(1′)-에틸-s-트리아진, 2-페실-4,5-디하이드록시메틸이미다졸, 2-페실-4-메틸-5-하이드록시메틸이미다졸, 2-페실-4-벤질-5-하이드록시메틸이미다졸, 4,4′-메틸렌-비스-(2-에틸-5-메틸이미다졸), 2-아미노에틸-2-메틸 이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐-4,5-디(시아노에톡시 메틸)이미다졸, 1-도데실-2-메틸-3-벤질이미다졸리늄클로라이드, 이미다졸 함유 폴리아미드, 또는 이들의 혼합물 등이 있다. 그 외, 제 3급 아민, 유기금속화합물, 유기인화합물, 붕소화합물 등을 추가로 사용할 수 있다.Non-limiting examples of imidazole-based curing accelerators that can be used include imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-decylimidazole, 2-hexylimidazole, 2-isopropyl Imidazole, 2-undecyl imidazole, 2-heptanedecyl imidazole, 2-ethyl-4-methyl imidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methyl imidazole, 1-benzyl-2 -Methyl imidazole, 1-benzyl-2-phenyl imidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl -2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecyl-imidazole trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenyl imidazole trimellitate, 2,4-diamino-6-(2'-methylimidazole-(1')-ethyl-s-triazine, 2-pecyl-4,5-dihydroxymethylimidazole; 2-Pesyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-pecyl-4-benzyl-5-hydroxymethylimidazole, 4,4'-methylene-bis-(2-ethyl-5- methylimidazole), 2-aminoethyl-2-methyl imidazole, 1-cyanoethyl-2-phenyl-4,5-di(cyanoethoxymethyl)imidazole, 1-dodecyl-2-methyl -3-benzylimidazolinium chloride, imidazole-containing polyamide, mixtures thereof, etc. In addition, tertiary amines, organometallic compounds, organophosphorus compounds, boron compounds, etc. may be additionally used.

아민계 경화촉진제의 비제한적인 예를 들면, 트리에틸아민, 트리부틸아민 등의 트리알킬아민; 4-디메틸아미노피리딘, 벤질디메틸아민, 2,4,6-트리스(디메틸아미노메틸)페놀, 1,8-디아자비사이클로(5,4,0)-운데셀(DBU) 등의 아민 화합물, 또는 이들의 1종 이상 혼합물 등이 있다.Non-limiting examples of the amine-based curing accelerator include trialkylamines such as triethylamine and tributylamine; amine compounds such as 4-dimethylaminopyridine, benzyldimethylamine, 2,4,6-tris(dimethylaminomethyl)phenol, 1,8-diazabicyclo(5,4,0)-undecel (DBU), or and mixtures of one or more thereof.

금속계 경화촉진제로는 코발트, 구리, 아연, 철, 니켈, 망간, 주석 등의 유기 금속 착체 또는 유기 금속염을 들 수 있다. 상기 유기 금속 착체의 예로는, 코발트(Ⅱ) 아세틸아세토네이트, 코발트(Ⅲ) 아세틸아세토네이트 등의 유기 코발트 착체, 구리(Ⅱ) 아세틸아세토네이트 등의 유기 구리 착체, 아연(Ⅱ) 아세틸아세토네이트 등의 유기 아연 착체, 철(Ⅲ) 아세틸아세토네이트 등의 유기 철 착체, 니켈(Ⅱ) 아세틸아세토네이트 등의 유기 니켈 착체, 망간(Ⅱ) 아세틸아세토네이트 등의 유기 망간 착체 등을 들 수 있는데, 이에 한정되지는 않는다. 상기 유기 금속염의 예로는, 옥틸산아연, 옥틸산주석, 나프텐산아연, 나프텐산코발트, 스테아르산주석, 스테아르산아연 등을 들 수 있는데, 이에 한정되지는 않는다. 상기와 같은 금속계 경화 촉진제는 1종 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Examples of the metal-based curing accelerator include organometallic complexes or organometallic salts such as cobalt, copper, zinc, iron, nickel, manganese, and tin. Examples of the organometallic complex include organocobalt complexes such as cobalt(II) acetylacetonate and cobalt(III) acetylacetonate, organocopper complexes such as copper(II) acetylacetonate, zinc(II) acetylacetonate, and the like. an organic zinc complex, an organic iron complex such as iron (III) acetylacetonate, an organic nickel complex such as nickel (II) acetylacetonate, and an organic manganese complex such as manganese (II) acetylacetonate. not limited Examples of the organometallic salt include, but are not limited to, zinc octylate, tin octylate, zinc naphthenate, cobalt naphthenate, tin stearate, and zinc stearate. The metal-based curing accelerator as described above may be used alone or in combination of two or more.

본 발명에 따른 난연성 수지 조성물은 에폭시 수지 100 중량부에 대하여 상기 에폭시 경화제는 30 내지 70 중량부, 상기 경화촉진제는 0.1 내지 1 중량부 및 상기 인계 난연성 중합체는 10 내지 150 중량부로 포함하는 것이 바람직하다. 만일, 상기 인계 난연성 중합체를 에폭시 수지 100 중량부에 대하여 10 중량부 미만으로 포함할 경우, 전체 배합 중 인 함량이 부족하여 난연성을 확보할 수 없는 문제가 있고, 150 중량부를 초과하는 경우 반응성이 저하되고 타 수지와의 용해성이 낮아지는 문제가 있다. The flame retardant resin composition according to the present invention preferably contains 30 to 70 parts by weight of the epoxy curing agent, 0.1 to 1 parts by weight of the curing accelerator, and 10 to 150 parts by weight of the phosphorus-based flame retardant polymer based on 100 parts by weight of the epoxy resin. . If the phosphorus-based flame-retardant polymer is included in an amount of less than 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin, there is a problem that flame retardancy cannot be ensured due to insufficient phosphorus content in the entire formulation, and when it exceeds 150 parts by weight, the reactivity is lowered There is a problem in that solubility with other resins is lowered.

본 발명에 따른 인계 난연성 중합체를 포함하는 난연성 수지 조성물은 폴리카보네이트, 아크릴로니트릴 부타디엔 스티렌(acrylonitrile butadiene styrene; ABS), 내충격성 폴리스티렌(High Impact Polystyrene; HIPS) 등 엔지니어링 플라스틱의 첨가제로서 우수한 난연, 내열 특성 및 물리, 화학적 물성을 가지며, 에폭시 레진, 시아네이트 레진 및 아크릴레이트 레진의 원료 및 에폭시 레진의 경화제로서 사용될 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 난연성 수지 조성물은 에폭시 몰딩재(Epoxy Molding Compound; EMC)와 같은 고신뢰성 전기 전자 부품의 절연재료, 할로겐 프리 화합물로써 우수한 난연성 및 열적 안정성을 요구하는 인쇄회로기판(PCB), 절연판 등 각종 복합재료, 접착제, 코팅제, 도료 등에 폭넓게 적용될 수 있다.The flame retardant resin composition comprising the phosphorus-based flame retardant polymer according to the present invention is excellent as an additive of engineering plastics such as polycarbonate, acrylonitrile butadiene styrene (ABS), and high impact polystyrene (HIPS). It has properties and physical and chemical properties, and can be used as a raw material for epoxy resins, cyanate resins and acrylate resins, and as a curing agent for epoxy resins. Therefore, the flame-retardant resin composition according to the present invention is a high-reliability insulating material for electric and electronic components such as an epoxy molding compound (EMC), a halogen-free compound, and a printed circuit board (PCB) requiring excellent flame retardancy and thermal stability; It can be widely applied to various composite materials such as insulating plates, adhesives, coatings, and paints.

이하, 본 발명의 효과에 대한 이해를 돕기 위하여 실시예, 비교예 및 실험예를 기재한다. 다만, 하기 기재는 본 발명의 내용 및 효과에 관한 일 예에 해당할 뿐, 본 발명의 권리 범위 및 효과가 이에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, Examples, Comparative Examples, and Experimental Examples are described to help understanding of the effects of the present invention. However, the following description is only an example of the content and effect of the present invention, and the scope and effect of the present invention are not limited thereto.

실시예Example 1 및 1 and 비교예comparative example 1: 인계 난연성 중합체의 제조 1: Preparation of phosphorus-based flame retardant polymer

[실시예 1][Example 1]

비스(4-하이드록시페닐)메탄(bis(4-hydroxyphenyl)methane) 800 g, 포름알데하이드 수용액(40%) 1580.7 g, 수산화나트륨 50% 수용액 31.98 g 및 부탄올 650 g을 반응기에 투입한 다음, 가열하여 80 ℃에서 교반하면서 반응시켰다. 이어서, 부탄올 650 g을 투입한 다음, 140 ℃에서 32 시간 동안 생성되는 물을 빼주면서 알코올 첨가반응을 수행하였다. 반응완료 후, 물 250 g 및 카르보닐 디아민(carbonyl diamine) 60 g(2mol)을 반응기에 투입하여 미반응 포름알데하이드를 제거 및 수세하였다. 미반응 포름알데하이드가 제거된 윗 층의 수지층을 분액하여 추가로 물 100 g 씩 2번 수세를 더 진행하였다. 상기 수지층에 3,4,5,6-dibenzo-1,2-oxaphosphane-2-oxice 540 g(2.5mol)를 투입하여 반응혼합물에 존재하는 부탄올과 물을 제거하면서 170℃에서 12시간 반응시켰다. 반응종료 후, 감압 탈기하여 고형의 중합체 A를 수득하였다.800 g of bis(4-hydroxyphenyl)methane, 1580.7 g of an aqueous formaldehyde solution (40%), 31.98 g of a 50% aqueous solution of sodium hydroxide and 650 g of butanol were put into the reactor, and then heated and reacted with stirring at 80 °C. Then, 650 g of butanol was added, and an alcohol addition reaction was performed while draining the water generated at 140° C. for 32 hours. After completion of the reaction, 250 g of water and 60 g (2 mol) of carbonyl diamine were added to the reactor to remove unreacted formaldehyde and washed with water. The resin layer of the upper layer from which unreacted formaldehyde was removed was separated and washed with water two times with an additional 100 g of water. 540 g (2.5 mol) of 3,4,5,6-dibenzo-1,2-oxaphosphane-2-oxice was added to the resin layer, and the reaction mixture was reacted at 170° C. for 12 hours while removing butanol and water present in the reaction mixture. . After completion of the reaction, it was degassed under reduced pressure to obtain a solid polymer A.

수득된 중합체 A 500 중량부에 대하여 트리에틸아민 1.2 중량부, 벤조일 클로라이드 1.2 중량부, 클로로포름 0.65 중량부를 투입한 다음, 가열하여 80 ℃에서 4 시간 교반하면서 반응시켰다.Based on 500 parts by weight of the obtained polymer A, 1.2 parts by weight of triethylamine, 1.2 parts by weight of benzoyl chloride, and 0.65 parts by weight of chloroform were added, followed by heating and reacting at 80° C. for 4 hours with stirring.

상기 반응 완료 후, 물 250 g을 반응기에 투입하여 반응 후 생성되는 염을 제거하였다. 상기 수세 과정 완료 후, 감압 탈기하여 고형의 인계 난연성 중합체를 590 g 수득하였다. 용제 혼합방법으로 1-메틸-2-프로판올을 이용하여 고형분의 인계 난연성 중합체 65% 포함하는 액상 형태의 수지를 수득하였다.After completion of the reaction, 250 g of water was added to the reactor to remove the salt produced after the reaction. After completion of the water washing process, 590 g of a solid phosphorus-based flame retardant polymer was obtained by degassing under reduced pressure. A liquid resin containing 65% of a solid phosphorus-based flame retardant polymer was obtained by using 1-methyl-2-propanol as a solvent mixing method.

[실시예 2][Example 2]

벤조일 클로라이드를 0.96 중량부를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.It was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.96 parts by weight of benzoyl chloride was used.

[실시예 3] [Example 3]

파라-tert-옥틸페놀(PTOP) 800 g, 포름알데하이드 수용액(40%) 728.16 g, 수산화나트륨 50% 수용액 96 g 및 부탄올 431.07 g을 반응기에 투입한 다음, 가열하여 80 ℃에서 교반하면서 반응시켰다. 이어서, 부탄올 431.07 g을 투입한 다음, 140 ℃에서 32 시간 동안 생성되는 물을 빼주면서 알코올 첨가반응을 수행하였다. 반응완료 후, 물 250 g 및 카르보닐 디아민(carbonyl diamine) 60 g(2mol)을 반응기에 투입하여 미반응 포름알데하이드를 제거 및 수세하였다. 미반응 포름알데하이드가 제거된 윗 층의 수지층을 분액하여 추가로 물 100 g 씩 2번 수세를 더 진행하였다. 상기 수지층에 3,4,5,6-dibenzo-1,2-oxaphosphane-2-oxice 540 g(2.5mol)를 투입하여 반응혼합물에 존재하는 부탄올과 물을 제거하면서 170℃에서 12시간 반응시켰다. 반응종료 후, 감압 탈기하여 고형의 중합체 B를 수득하였다.800 g of para-tert-octylphenol (PTOP), 728.16 g of an aqueous formaldehyde solution (40%), 96 g of a 50% aqueous solution of sodium hydroxide and 431.07 g of butanol were put into a reactor, and then heated and reacted with stirring at 80°C. Then, 431.07 g of butanol was added, and then, an alcohol addition reaction was performed while draining the water produced at 140° C. for 32 hours. After completion of the reaction, 250 g of water and 60 g (2 mol) of carbonyl diamine were added to the reactor to remove unreacted formaldehyde and washed with water. The resin layer of the upper layer from which unreacted formaldehyde was removed was separated and washed with water two times with an additional 100 g of water. 540 g (2.5 mol) of 3,4,5,6-dibenzo-1,2-oxaphosphane-2-oxice was added to the resin layer, and the reaction mixture was reacted at 170° C. for 12 hours while removing butanol and water present in the reaction mixture. . After completion of the reaction, solid polymer B was obtained by degassing under reduced pressure.

중합체 A 대신 중합체 B 300 중량부를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.It was prepared in the same manner as in Example 1, except that 300 parts by weight of Polymer B was used instead of Polymer A.

[실시예 4] [Example 4]

파라-tert-부틸페놀(PTBP) 400 g, 파라-tert-옥틸페놀(PTOP) 400 g, 포름알데하이드 수용액(40%) 864.08 g, 수산화나트륨 50% 수용액 96 g 및 부탄올 511.53 g을 반응기에 투입한 다음, 가열하여 80 ℃에서 교반하면서 반응시켰다. 이어서, 부탄올 511.53 g을 투입한 다음, 140 ℃에서 32 시간 동안 생성되는 물을 빼주면서 알코올 첨가반응을 수행하였다. 반응완료 후, 물 250g 및 카르보닐 디아민(carbonyl diamine) 60g(2mol)을 반응기에 투입하여 미반응 포름알데하이드를 제거 및 수세하였다. 미반응 포름알데하이드가 제거된 윗 층의 수지층을 분액하여 추가로 물 100g 씩 2번 수세를 더 진행하였다. 상기 수지층에 3,4,5,6-dibenzo-1,2-oxaphosphane-2-oxice 540g(2.5mol)를 투입하여 반응혼합물에 존재하는 부탄올과 물을 제거하면서 170℃에서 12시간 반응시켰다. 반응종료 후, 감압 탈기하여 고형의 중합체 C를 수득하였다.Para-tert-butylphenol (PTBP) 400 g, para-tert-octylphenol (PTOP) 400 g, formaldehyde aqueous solution (40%) 864.08 g, sodium hydroxide 50% aqueous solution 96 g, and butanol 511.53 g were put into the reactor. Then, it was heated and reacted with stirring at 80 °C. Then, 511.53 g of butanol was added, and then an alcohol addition reaction was performed at 140° C. for 32 hours while draining the water produced. After completion of the reaction, 250 g of water and 60 g (2 mol) of carbonyl diamine were added to the reactor to remove unreacted formaldehyde and washed with water. The resin layer of the upper layer from which unreacted formaldehyde was removed was separated and washed with water twice more with 100 g of water. 540 g (2.5 mol) of 3,4,5,6-dibenzo-1,2-oxaphosphane-2-oxice was added to the resin layer and reacted at 170° C. for 12 hours while removing butanol and water present in the reaction mixture. After completion of the reaction, solid polymer C was obtained by degassing under reduced pressure.

중합체 A 대신 중합체 C를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.It was prepared in the same manner as in Example 1, except that Polymer C was used instead of Polymer A.

[비교예 1][Comparative Example 1]

중합체 A를 사용하였다.Polymer A was used.

실험예Experimental example 1: 물성 평가 1: Physical property evaluation

상기 실시예 및 비교예에서 제조한 인계 난연성 중합체의 물성을 측정한 다음 그 결과를 하기 표 1 및 도 1 내지 3에 나타내었다. 물성 평가 방법은 다음과 같다.The physical properties of the phosphorus-based flame-retardant polymers prepared in Examples and Comparative Examples were measured, and the results are shown in Table 1 and FIGS. 1 to 3 below. The property evaluation method is as follows.

(1) 중량평균분자량 측정(1) Measurement of weight average molecular weight

실시예 및 비교예에서 제조된 인계 난연성 중합체를 Tetra Hydro Furan(THF)에 4000ppm 농도로 용해시키고, 겔침투크로마트그래피(Gel Permeation Chromatoraphy, GPC(0~100,000g/mol)를 사용하여 중량평균분자량을 측정하였다.The phosphorus-based flame retardant polymer prepared in Examples and Comparative Examples was dissolved in Tetra Hydro Furan (THF) at a concentration of 4000 ppm, and a weight average molecular weight using Gel Permeation Chromatography (GPC (0 to 100,000 g/mol)) was measured.

(2) FT-IR(Fourier Transform-Infrared Spectrometer) 측정(2) FT-IR (Fourier Transform-Infrared Spectrometer) measurement

실시예 1 및 비교예 1 에서 제조된 인계 난연성 중합체를 FT-IR 측정 기기(Perkin Elmer, Spectrum 100)를 이용해 측정하였다.The phosphorus-based flame-retardant polymer prepared in Example 1 and Comparative Example 1 was measured using an FT-IR measuring instrument (Perkin Elmer, Spectrum 100).

(3) 인 함량 측정 (3) Measurement of phosphorus content

실시예 및 비교예에서 제조된 인계 난연성 중합체의 인 함량을 ICP 장치와 하기 수학식 1을 통해 측정하였다:The phosphorus content of the phosphorus-based flame-retardant polymers prepared in Examples and Comparative Examples was measured using an ICP device and Equation 1 below:

[수학식 1][Equation 1]

인 함량(중량%) = (W1 x P1) / W2 Phosphorus content (% by weight) = (W 1 x P 1 ) / W 2

(상기 수학식 1에서,(In Equation 1 above,

W1은 비교예 1의 중량(g)이고,W 1 is the weight (g) of Comparative Example 1,

W2은 측정 대상 시료의 중량(g)이고,W 2 is the weight (g) of the sample to be measured,

P1은 비교예 1의 인 함량(중량%)이다.)P 1 is the phosphorus content (% by weight) of Comparative Example 1.)

(4) 점도 측정(4) Viscosity measurement

실시예 및 비교예에서 제조된 인계 난연성 중합체 Rheometer(TA Instruments AR2000)를 사용하여 점도를 측정하였다.Viscosity was measured using the phosphorus-based flame retardant polymer Rheometer (TA Instruments AR2000) prepared in Examples and Comparative Examples.

(5) DSC(Differential Scanning Calorimeters; 시차주사열량계) 측정(5) Differential Scanning Calorimeters (DSC) measurement

실시예 및 비교예에서 제조된 인계 난연성 중합체 50 g, 페놀 노볼락 에폭시 수지(KEP-1138, 코오롱인더스트리(주)사 제품) 100 g, 경화촉진제로 2-Ethyl-4-methyl imidazole(2E4MZ)를 고형 에폭시 대비 0.14phr, 잔부로 용매 1-메톡시-2-프로판올을 배합하여 바니쉬를 제작하였다. 이렇게 제조된 바니쉬에 글라스 섬유를 함침을 하여 상온에서 1시간 자연건조시킨 다음, 155℃ 오븐에서 5분 동안 건조시켜 프리프레그(prepreg)를 제조하였다. 이렇게 제조된 프리프레그를 8겹을 앞뒤에 동박을 적층하고, 195 ℃에서 40kgf/cm2 압력하에서 120 분간 프레싱하여 제조하였다. 이렇게 얻어진 동박 적층판을 TA Instruments DSC Q2000을 이용하여 30~250℃에서 분당 20℃의 승온 속도로 측정하였다.50 g of the phosphorus-based flame retardant polymer prepared in Examples and Comparative Examples, 100 g of phenol novolac epoxy resin (KEP-1138, manufactured by Kolon Industries Co., Ltd.), 2-Ethyl-4-methyl imidazole (2E4MZ) as a curing accelerator A varnish was prepared by mixing 0.14 phr of solid epoxy with the remainder, 1-methoxy-2-propanol as a solvent. The varnish thus prepared was impregnated with glass fibers, dried naturally at room temperature for 1 hour, and then dried in an oven at 155° C. for 5 minutes to prepare a prepreg. The prepreg thus prepared was prepared by laminating copper foil on the front and back of 8 layers, and pressing at 195° C. under 40 kgf/cm 2 pressure for 120 minutes. The copper clad laminate thus obtained was measured at a temperature increase rate of 20°C per minute at 30-250°C using a TA Instruments DSC Q2000.

(6) 유전 특성 측정(6) Measurement of dielectric properties

상기 (5)에서 제조된 동박 적층판의 유전 특성을 SPDR(split post dielectric resonance) 방법으로, 25℃ 및 50%RH 의 조건에서, Agiletn E5071B ENA장치를 이용하여 1 GHz에서의 유전율 및 유전손실계수를 측정하였다.The dielectric properties of the copper clad laminate prepared in (5) were measured using a split post dielectric resonance (SPDR) method, and the dielectric constant and dielectric loss factor at 1 GHz were measured using an Agiletn E5071B ENA device at 25°C and 50%RH. measured.

(7) 난연성 측정(7) flame retardancy measurement

UL-94 방법에 의해 측정하였다.It was measured by the UL-94 method.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 비교예 1Comparative Example 1 중량평균분자량(g/mol)Weight average molecular weight (g/mol) 15701570 12001200 665665 663663 12801280 인 함량(중량%)Phosphorus content (wt%) 8.08.0 7.47.4 8.08.0 8.08.0 8.88.8 점도(cps, 25℃)Viscosity (cps, 25℃) 11001100 850850 10001000 950950 12701270 유리전이온도(℃)Glass transition temperature (℃) 158158 164164 154154 157157 171171 유전 특성dielectric properties 유전율permittivity 3.123.12 3.783.78 3.363.36 3.123.12 3.803.80 유전 손실 계수dielectric loss factor 0.00760.0076 0.01500.0150 0.0200.020 0.01500.0150 0.01600.0160 난연성flame retardant V-0V-0 V-0V-0 V-0V-0 V-0V-0 V-0V-0

상기 표 1에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 인계 난연성 중합체는 비교예 1의 인계 난연성 중합체과 동등 수준의 난연성을 가짐과 동시에 비교예 1보다 낮은 유전율 및 유전 손실 계수를 나타냄으로써 저유전 특성을 가짐을 확인할 수 있다.As shown in Table 1, the phosphorus-based flame-retardant polymer according to the present invention has a flame retardancy equivalent to that of the phosphorus-based flame-retardant polymer of Comparative Example 1, and at the same time exhibits a lower dielectric constant and dielectric loss coefficient than Comparative Example 1, thereby having low dielectric properties. can be checked

구체적으로, 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 실시예 1의 인계 난연성 중합체의 경우 비교예 1과 비교하여 3,247 ㎝-1 에 존재하던 수산기 피크가 감소하였으며, 1,700 ㎝-1에 존재하는 카보닐기의 C=O 피크를 가진다. 이러한 결과로부터 실시예 1의 인계 난연성 중합체는 분자 구조 내 수산기가 카보닐기를 포함하는 작용기로 치환되었음이 확인되며, 이에 따라 유전 특성이 개선됨을 알 수 있다.Specifically, referring to FIG. 3 , in the case of the phosphorus-based flame-retardant polymer of Example 1 according to the present invention, the hydroxyl group peak present at 3,247 cm -1 was reduced compared to Comparative Example 1, and the carbonyl group present at 1,700 cm -1 has a C=O peak of From these results, it was confirmed that, in the phosphorus-based flame retardant polymer of Example 1, the hydroxyl group in the molecular structure was substituted with a functional group including a carbonyl group, and thus, the dielectric properties were improved.

Claims (9)

하기 화학식 1 및 2로 표시되는 반복단위 중에서 1종 이상을 포함하며, 전체 반복단위 내의 R1 중 적어도 하나는 카보닐기이고,
전체 반복단위 내의 전체 R1 중 상기 카보닐기의 비율은 20 내지 100%인 인계 난연성 중합체:
[화학식 1]
Figure 112021027251385-pat00049

[화학식 2]
Figure 112021027251385-pat00050

(상기 화학식 1 및 2에서,
R1은 각각 독립적으로 수소,
Figure 112021027251385-pat00051
또는
Figure 112021027251385-pat00052
이고;
R2는 각각 독립적으로 C1∼C20의 알킬기 또는 C6~C20의 아릴기이며;
R3은 각각 독립적으로 -CH2-A이며, 이때 A는 하이드록시기, C1∼C10의 알콕시기 또는
Figure 112021027251385-pat00053
이되, 상기 반복단위 내의 A 중 적어도 하나 이상은
Figure 112021027251385-pat00054
이고;
R4는 각각 독립적으로 단순결합, -CH2- 또는 -CH2-O-CH2-이며,
R5는 C1∼C20의 알킬기, C2∼C20의 알케닐기, C2∼C20의 알키닐기, C3∼C20의 사이클로알킬기, C6∼C20의 아릴기 또는 C5∼C20의 헤테로아릴기이고;
R6은 C1∼C20의 알킬렌기, C2∼C20의 알케닐렌기, C3∼C20의 사이클로알킬렌기 또는 C6∼C20의 아릴렌기이며;
R7은 카복실기(-C(=O)OH) 또는 할로포르밀기(-C(=O)X)이고, 이때 X는 할로겐 원소이고;
Ra는 단순결합 또는 C1∼C10의 알킬렌기, C6∼C20의 아릴렌기, C3∼C20의 사이클로알킬렌기, 설포닐기(-SO2-, sulfonyl group)기이며;
m은 각각 독립적으로 1 내지 2의 정수이고;
n은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이되, 상기 반복단위 내의 n 중 적어도 두개 이상은 1이다.).
It includes one or more of the repeating units represented by the following Chemical Formulas 1 and 2, wherein at least one of R 1 in the entire repeating unit is a carbonyl group,
A phosphorus-based flame-retardant polymer in which the ratio of the carbonyl group in the total R 1 in the entire repeating unit is 20 to 100%:
[Formula 1]
Figure 112021027251385-pat00049

[Formula 2]
Figure 112021027251385-pat00050

(In Formulas 1 and 2,
R 1 is each independently hydrogen,
Figure 112021027251385-pat00051
or
Figure 112021027251385-pat00052
ego;
R 2 is each independently a C1-C20 alkyl group or a C6-C20 aryl group;
R 3 is each independently —CH 2 —A, wherein A is a hydroxyl group, a C1-C10 alkoxy group, or
Figure 112021027251385-pat00053
However, A in the repeating unit at least one or more of
Figure 112021027251385-pat00054
ego;
R 4 is each independently a simple bond, -CH 2 - or -CH 2 -O-CH 2 -,
R 5 is a C1-C20 alkyl group, a C2-C20 alkenyl group, a C2-C20 alkynyl group, a C3-C20 cycloalkyl group, a C6-C20 aryl group, or a C5-C20 heteroaryl group;
R 6 is a C1-C20 alkylene group, a C2-C20 alkenylene group, a C3-C20 cycloalkylene group, or a C6-C20 arylene group;
R 7 is a carboxyl group (-C(=O)OH) or a haloformyl group (-C(=O)X), wherein X is a halogen element;
R a is a simple bond or a C1-C10 alkylene group, a C6-C20 arylene group, a C3-C20 cycloalkylene group, or a sulfonyl group (-SO 2 -, sulfonyl group);
each m is independently an integer from 1 to 2;
n is each independently an integer of 0 or 1, but at least two or more of n in the repeating unit is 1.).
제1항에 있어서,
상기 반복단위는 하기 화학식 3 내지 9로 표시되는 반복단위 중 선택되는 1종 이상인, 인계 난연성 중합체:
[화학식 3]
Figure 112021027251385-pat00055

[화학식 4]
Figure 112021027251385-pat00056

[화학식 5]
Figure 112021027251385-pat00057

[화학식 6]
Figure 112021027251385-pat00058

[화학식 7]
Figure 112021027251385-pat00059

[화학식 8]
Figure 112021027251385-pat00060

[화학식 9]
Figure 112021027251385-pat00061

(상기 화학식 3 내지 9에서,
R1은 각각 독립적으로 수소,
Figure 112021027251385-pat00062
또는
Figure 112021027251385-pat00063
이고;
R2는 각각 독립적으로 C1∼C20의 알킬기 또는 C6~C20의 아릴기이며;
R3은 각각 독립적으로 -CH2-A이며, 이때 A는 하이드록시기, C1∼C10의 알콕시기 또는
Figure 112021027251385-pat00064
이되, 상기 반복단위 내의 A 중 적어도 하나 이상은
Figure 112021027251385-pat00065
이고;
R4는 각각 독립적으로 단순결합, -CH2- 또는 -CH2-O-CH2-이되, 상기 R4가 모두 단순결합인 경우는 제외하고;
R5는 C1∼C20의 알킬기, C2∼C20의 알케닐기, C2∼C20의 알키닐기, C3∼C20의 사이클로알킬기, C6∼C20의 아릴기 또는 C5∼C20의 헤테로아릴기이고;
R6은 C1∼C20의 알킬렌기, C2∼C20의 알케닐렌기, C3∼C20의 사이클로알킬렌기 또는 C6∼C20의 아릴렌기이며;
R7은 카복실기(-C(=O)OH) 또는 할로포르밀기(-C(=O)X)이고, 이때 X는 할로겐 원소이며;
Ra는 단순결합 또는 C1∼C10의 알킬렌기, C6∼C20의 아릴렌기, C3∼C20의 사이클로알킬렌기, 설포닐기(-SO2-, sulfonyl group)기이며;
m은 각각 독립적으로 1 내지 2의 정수이다.).
According to claim 1,
The repeating unit is at least one selected from repeating units represented by the following Chemical Formulas 3 to 9, a phosphorus-based flame retardant polymer:
[Formula 3]
Figure 112021027251385-pat00055

[Formula 4]
Figure 112021027251385-pat00056

[Formula 5]
Figure 112021027251385-pat00057

[Formula 6]
Figure 112021027251385-pat00058

[Formula 7]
Figure 112021027251385-pat00059

[Formula 8]
Figure 112021027251385-pat00060

[Formula 9]
Figure 112021027251385-pat00061

(In Formulas 3 to 9,
R 1 is each independently hydrogen,
Figure 112021027251385-pat00062
or
Figure 112021027251385-pat00063
ego;
R 2 is each independently a C1-C20 alkyl group or a C6-C20 aryl group;
R 3 is each independently —CH 2 —A, wherein A is a hydroxyl group, a C1-C10 alkoxy group, or
Figure 112021027251385-pat00064
However, A in the repeating unit at least one or more of
Figure 112021027251385-pat00065
ego;
R 4 is each independently a simple bond, -CH 2 - or -CH 2 -O-CH 2 -, except that R 4 is a simple bond;
R 5 is a C1-C20 alkyl group, a C2-C20 alkenyl group, a C2-C20 alkynyl group, a C3-C20 cycloalkyl group, a C6-C20 aryl group, or a C5-C20 heteroaryl group;
R 6 is a C1-C20 alkylene group, a C2-C20 alkenylene group, a C3-C20 cycloalkylene group, or a C6-C20 arylene group;
R 7 is a carboxyl group (-C(=O)OH) or a haloformyl group (-C(=O)X), wherein X is a halogen element;
R a is a simple bond or a C1-C10 alkylene group, a C6-C20 arylene group, a C3-C20 cycloalkylene group, or a sulfonyl group (-SO 2 -, sulfonyl group);
m is each independently an integer of 1 to 2.).
제1항에 있어서,
상기 인계 난연성 중합체는 하기 화학식 10 내지 16으로 표시되는 화합물 중 어느 하나인, 인계 난연성 중합체:
[화학식 10]
Figure 112021027251385-pat00066

[화학식 11]
Figure 112021027251385-pat00067

[화학식 12]
Figure 112021027251385-pat00068

[화학식 13]
Figure 112021027251385-pat00069

[화학식 14]
Figure 112021027251385-pat00070

[화학식 15]
Figure 112021027251385-pat00071

[화학식 16]
Figure 112021027251385-pat00072

(상기 화학식 10 내지 16에서,
R1은 각각 독립적으로 수소,
Figure 112021027251385-pat00073
또는
Figure 112021027251385-pat00074
이고;
R3은 각각 독립적으로 -CH2-A이며, 이때 A는 하이드록시기, C1∼C10의 알콕시기 또는
Figure 112021027251385-pat00075
이되, 상기 반복단위 내의 A 중 적어도 하나 이상은
Figure 112021027251385-pat00076
이고;
R4는 각각 독립적으로 단순결합, -CH2- 또는 -CH2-O-CH2-이되, 상기 R4가 모두 단순결합인 경우는 제외하고;
R5는 C1∼C20의 알킬기, C2∼C20의 알케닐기, C2∼C20의 알키닐기, C3∼C20의 사이클로알킬기, C6∼C20의 아릴기 또는 C5∼C20의 헤테로아릴기이고;
R6은 C1∼C20의 알킬렌기, C2∼C20의 알케닐렌기, C3∼C20의 사이클로알킬렌기 또는 C6∼C20의 아릴렌기이며;
R7은 카복실기(-C(=O)OH) 또는 할로포르밀기(-C(=O)X)이고, 이때 X는 할로겐 원소이며;
R′및 R″은 서로 같거나 다르며, 각각 독립적으로 수소, C1∼C10의 알킬기, C3∼C20의 사이클로알킬기 또는 C6∼C20의 아릴기이고;
A1 내지 A14는 서로 같거나 다르며, 각각 독립적으로 하이드록시기, C1∼C10의 알콕시기 또는
Figure 112021027251385-pat00077
이며;
m은 각각 독립적으로 1 내지 2의 정수이고;
p 내지 z는 0 내지 4의 유리수이다.).
According to claim 1,
The phosphorus-based flame-retardant polymer is any one of the compounds represented by the following formulas 10 to 16, phosphorus-based flame-retardant polymer:
[Formula 10]
Figure 112021027251385-pat00066

[Formula 11]
Figure 112021027251385-pat00067

[Formula 12]
Figure 112021027251385-pat00068

[Formula 13]
Figure 112021027251385-pat00069

[Formula 14]
Figure 112021027251385-pat00070

[Formula 15]
Figure 112021027251385-pat00071

[Formula 16]
Figure 112021027251385-pat00072

(In Formulas 10 to 16,
R 1 is each independently hydrogen,
Figure 112021027251385-pat00073
or
Figure 112021027251385-pat00074
ego;
R 3 is each independently —CH 2 —A, wherein A is a hydroxyl group, a C1-C10 alkoxy group, or
Figure 112021027251385-pat00075
However, A in the repeating unit at least one or more of
Figure 112021027251385-pat00076
ego;
R 4 is each independently a simple bond, -CH 2 - or -CH 2 -O-CH 2 -, except that R 4 is a simple bond;
R 5 is a C1-C20 alkyl group, a C2-C20 alkenyl group, a C2-C20 alkynyl group, a C3-C20 cycloalkyl group, a C6-C20 aryl group, or a C5-C20 heteroaryl group;
R 6 is a C1-C20 alkylene group, a C2-C20 alkenylene group, a C3-C20 cycloalkylene group, or a C6-C20 arylene group;
R 7 is a carboxyl group (-C(=O)OH) or a haloformyl group (-C(=O)X), wherein X is a halogen element;
R′ and R″ are the same as or different from each other, and each independently represents hydrogen, a C1 to C10 alkyl group, a C3 to C20 cycloalkyl group, or a C6 to C20 aryl group;
A 1 to A 14 are the same as or different from each other, and each independently a hydroxyl group, a C1-C10 alkoxy group, or
Figure 112021027251385-pat00077
is;
each m is independently an integer from 1 to 2;
p to z are rational numbers from 0 to 4.).
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 인계 난연성 중합체는 중합체 총 중량을 기준으로 인 함량이 5.0 내지 9.0 중량%인, 인계 난연성 중합체.
According to claim 1,
The phosphorus-based flame-retardant polymer has a phosphorus content of 5.0 to 9.0% by weight based on the total weight of the polymer.
제1항에 있어서,
상기 인계 난연성 중합체는 1 ㎓에서 유전율(Dk)이 3.8 미만인, 인계 난연성 중합체.
According to claim 1,
The phosphorus-based flame-retardant polymer has a dielectric constant (D k ) of less than 3.8 at 1 GHz, a phosphorus-based flame-retardant polymer.
제1항에 있어서,
상기 인계 난연성 중합체는 1 ㎓에서 유전 손실 계수(Df)가 0.015 이하인, 인계 난연성 중합체.
According to claim 1,
The phosphorus-based flame-retardant polymer has a dielectric loss coefficient (D f ) of 0.015 or less at 1 GHz, a phosphorus-based flame-retardant polymer.
제1항 내지 제3항 및 제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 인계 난연성 중합체를 포함하는, 난연성 수지 조성물.A flame retardant resin composition comprising the phosphorus-based flame retardant polymer according to any one of claims 1 to 3 and 5 to 7. 제8항에 따른 난연성 수지 조성물을 이용하여 제조된 인쇄 회로 기판.A printed circuit board manufactured using the flame-retardant resin composition according to claim 8.
KR1020170180890A 2017-06-29 2017-12-27 Phosphorus containing flame-retardant polymer and flame-retardant resin composition comprising the same KR102287602B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20170082582 2017-06-29
KR1020170082582 2017-06-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190002275A KR20190002275A (en) 2019-01-08
KR102287602B1 true KR102287602B1 (en) 2021-08-10

Family

ID=65021308

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170180890A KR102287602B1 (en) 2017-06-29 2017-12-27 Phosphorus containing flame-retardant polymer and flame-retardant resin composition comprising the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102287602B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102299720B1 (en) * 2019-08-14 2021-09-07 경기대학교 산학협력단 Flame Retardants and fabricating method of the same

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100835782B1 (en) 2007-06-26 2008-06-09 주식회사 두산 Resine composition for printed circuit board and composite substrate and copper laminates using the same
JP2016094603A (en) 2014-11-11 2016-05-26 江蘇雅克科技股▲ふん▼有限公司 Low dielectric phosphorus-containing polyester compound and preparation method therefor

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103221442B (en) * 2011-05-27 2014-04-16 Dic株式会社 Active ester resin, method for producing same, thermosetting resin composition, cured product thereof, semiconductor sealing material, prepreg, circuit board, and build-p film
KR101596992B1 (en) 2012-06-26 2016-02-23 코오롱인더스트리 주식회사 Non Halogen Flame Retardant Polymer and Composition Containing the Same
KR101598244B1 (en) * 2012-06-26 2016-02-26 코오롱인더스트리 주식회사 Non Halogen Flame Retardant Polymer and Composition Containing the Same
KR20140006140A (en) * 2012-06-26 2014-01-16 코오롱인더스트리 주식회사 Non halogen flame retardant polymer and composition containing the same
KR102046767B1 (en) 2013-06-10 2019-11-20 디아이씨 가부시끼가이샤 Active ester resin containing phosphorus atom, epoxy resin composition and cured product thereof, prepreg, circuit board, and build-up film

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100835782B1 (en) 2007-06-26 2008-06-09 주식회사 두산 Resine composition for printed circuit board and composite substrate and copper laminates using the same
JP2016094603A (en) 2014-11-11 2016-05-26 江蘇雅克科技股▲ふん▼有限公司 Low dielectric phosphorus-containing polyester compound and preparation method therefor

Also Published As

Publication number Publication date
KR20190002275A (en) 2019-01-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001335676A (en) Flame-retardant epoxy resin composition, molded article thereof, and electronic parts
KR102603395B1 (en) Phosphorus-containing phenolic compound, phosphorus-containing epoxy resin, curable resin composition or epoxy resin composition, and cured product thereof
KR20120106982A (en) Phosphorus-atom-containing oligomers, process for producing same, curable resin composition, cured product thereof, and printed wiring board
JP6956570B2 (en) Phosphorus-containing epoxy resin, its manufacturing method, epoxy resin composition and its cured product
KR102642644B1 (en) Oxazine resin composition and cured product thereof
KR102376061B1 (en) Epoxy resin mixture, epoxy resin composition, cured product and semiconductor device
EP2368930B1 (en) Novel low dielectric resin varnish composition for laminates and the preparation thereof
TWI623562B (en) Epoxy resin composition and cured product thereof
JP5168547B2 (en) Epoxy resin composition, semiconductor sealing material, and semiconductor device
WO2021166669A1 (en) Active ester resin, epoxy resin composition, cured product thereof, prepreg, laminated board, and build-up film
KR102287602B1 (en) Phosphorus containing flame-retardant polymer and flame-retardant resin composition comprising the same
JP7254972B2 (en) End-capped phosphorus-containing resin with unsaturated group, method for producing the same, and resin composition containing phosphorus-containing resin end-capped with unsaturated group
CN114685759A (en) Polyhydroxy resin, epoxy resin composition, and cured product thereof
JP2018168074A (en) Organic phosphorus compound, curable resin composition containing organic phosphorus compound, and cured product thereof, and method for producing organic phosphorus compound
KR20180062984A (en) Substituted allyl ether resins, methallyl ether resins, epoxy resins, epoxy resin compositions, and cured products thereof
TW202012484A (en) Epoxy resin composition, prepreg, laminate, and printed wiring substrate
KR102342168B1 (en) Non Halogen Flame Retardant Copolymer, The Method of Manufacturing the Same and Composition Comprising the Same
KR102342169B1 (en) Non Halogen Flame Retardant Copolymer, The Method of Manufacturing the Same and Composition Comprising the Same
KR101598244B1 (en) Non Halogen Flame Retardant Polymer and Composition Containing the Same
KR101799365B1 (en) Epoxy resin, method for manufacturing the same, intermediate, epoxy resin composition and cured product
JP5668987B2 (en) Curable resin composition, cured product thereof, phenol resin, epoxy resin, and semiconductor sealing material
JP7026591B2 (en) Oxazine resin composition and its cured product
TW202208486A (en) Epoxy resin composition and cured product thereof
TW202200662A (en) Phenol resin, epoxy resin, methods for producing these, epoxy resin composition and cured product thereof
KR20140006140A (en) Non halogen flame retardant polymer and composition containing the same

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant