KR102240406B1 - Micro lens array sheet, mold for fabricating the same, and method of fabricating the same - Google Patents

Micro lens array sheet, mold for fabricating the same, and method of fabricating the same Download PDF

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KR102240406B1 KR1020190071780A KR20190071780A KR102240406B1 KR 102240406 B1 KR102240406 B1 KR 102240406B1 KR 1020190071780 A KR1020190071780 A KR 1020190071780A KR 20190071780 A KR20190071780 A KR 20190071780A KR 102240406 B1 KR102240406 B1 KR 102240406B1
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Abstract

마이크로 렌즈 어레이 시트는 베이스 필름, 및 베이스 필름 상에 제공되는 마이크로 렌즈를 포함하되, 마이크로 렌즈는, 베이스 필름의 상면에 평행한 제1 방향 및 제2 방향을 각각 따르는 제1 단면 및 제2 단면을 갖고, 제1 단면 및 제2 단면은 마이크로 렌즈의 중심축을 지나고, 제1 단면의 형상 및 제2 단면의 형상은 서로 다르다.The micro lens array sheet includes a base film and a micro lens provided on the base film, wherein the micro lens has a first cross section and a second cross section respectively along a first direction and a second direction parallel to the top surface of the base film. The first cross section and the second cross section pass through the central axis of the microlens, and the shape of the first section and the shape of the second section are different from each other.

Description

마이크로 렌즈 어레이 시트, 이를 제조하기 위한 몰드, 및 이의 제조 방법{MICRO LENS ARRAY SHEET, MOLD FOR FABRICATING THE SAME, AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}A micro lens array sheet, a mold for manufacturing the same, and a manufacturing method thereof TECHNICAL FIELD [MICRO LENS ARRAY SHEET, MOLD FOR FABRICATING THE SAME, AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}

본 개시는 마이크로 렌즈 어레이 시트, 이를 제조하기 위한 몰드, 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present disclosure relates to a micro lens array sheet, a mold for manufacturing the same, and a method for manufacturing the same.

마이크로 렌즈 어레이 시트는 그레이 스케일 리소그래피 공정, MEMS 공정, 또는 기계 가공법에 의해 형성된다. 그레이 스케일 리소그래피 공정은 포토레지스트에 UV를 그레이 스케일로 조사하여, 3차원적 렌즈 형상을 구현하는 공정이다. MEMS 공정은 기판 상의 열가소성 중합체를 패터닝한 후, 이를 열적인 후처리를 하는 것이다. MEMS 공정에 의해 형성된 마이크로 렌즈는 단면이 구의 일부분이 된다. 기계 가공법은 기계적으로 마이크로 렌즈 어레이를 형성하는 것이다. MEMS 공정은 마이크로 렌즈의 단면이 원호가 아닌 경우에는 적용되기 어렵다. 그레이 스케일 리소그래피 공정에는 값비싼 전문 제조 장비가 필요하며, 기계 가공법은 많은 제조 비용 및 제조 시간이 요구되는 단점을 가진다.The microlens array sheet is formed by a gray scale lithography process, a MEMS process, or a machining method. The gray scale lithography process is a process of implementing a three-dimensional lens shape by irradiating a photoresist with UV in gray scale. The MEMS process involves patterning a thermoplastic polymer on a substrate, followed by thermal post-treatment. The microlens formed by the MEMS process has a cross section that becomes a part of a sphere. The machining method is to mechanically form a micro lens array. The MEMS process is difficult to apply when the cross section of the micro lens is not an arc. The gray scale lithography process requires expensive specialized manufacturing equipment, and the machining method has the disadvantage of requiring a large manufacturing cost and manufacturing time.

해결하고자 하는 과제는 평면적 관점에서 등방성을 가지나, 서로 다른 단면들은 비등방성을 갖는 마이크로 렌즈들을 포함하는 마이크로 렌즈 어레이 시트를 제공하는 것에 있다.The problem to be solved is to provide a microlens array sheet including microlenses having an isotropy in plan view, but different cross-sections having anisotropy.

해결하고자 하는 과제는 평면적 관점에서 등방성을 가지나, 서로 다른 단면들은 비등방성을 갖는 마스터 몰드 패턴들을 포함하는 마스터 몰드를 제공하는 것에 있다.The problem to be solved is to provide a master mold including master mold patterns having an isotropy in a plan view, but different cross sections having anisotropy.

해결하고자 하는 과제는 서로 다른 단면들이 비등방성을 갖는 마이크로 렌즈들을 포함하는 마이크로 렌즈 어레이 시트의 제조 방법을 제공하는 것에 있다.A problem to be solved is to provide a method of manufacturing a microlens array sheet including microlenses having anisotropy in different cross-sections.

다만, 해결하고자 하는 과제는 상기 개시에 한정되지 않는다.However, the problem to be solved is not limited to the above disclosure.

일 측면에 있어서, 베이스 필름; 및 상기 베이스 필름 상에 제공되는 마이크로 렌즈;를 포함하되, 상기 마이크로 렌즈는, 상기 베이스 필름의 상면에 평행한 제1 방향 및 제2 방향을 각각 따르는 제1 단면 및 제2 단면을 갖고, 상기 제1 단면 및 상기 제2 단면은 상기 마이크로 렌즈의 중심축을 지나고, 상기 제1 단면의 형상 및 상기 제2 단면의 형상은 서로 다른 마이크로 렌즈 어레이 시트가 제공될 수 있다.In one aspect, the base film; And a microlens provided on the base film, wherein the microlens has a first cross section and a second cross section respectively along a first direction and a second direction parallel to an upper surface of the base film, and the second A microlens array sheet may be provided in which the first cross-section and the second cross-section pass through a central axis of the microlens, and have different shapes of the first cross-section and the second cross-section.

평면적 관점에서, 상기 마이크로 렌즈의 상기 제1 방향을 따른 크기는 상기 마이크로 렌즈의 상기 제2 방향을 따른 크기와 동일할 수 있다.From a plan view, a size of the microlens along the first direction may be the same as a size of the microlens along the second direction.

상기 제1 방향 및 상기 제2 방향은 서로 직교할 수 있다.The first direction and the second direction may be orthogonal to each other.

서로 동일한 준위들에 배치된 상기 마이크로 렌즈의 상면의 두 지점들은 서로 다른 곡률들을 가질 수 있다.Two points on the upper surface of the microlens disposed at the same levels may have different curvatures.

상기 두 지점들은 각각 상기 제1 단면 및 상기 제2 단면 상에 제공될 수 있다.The two points may be provided on the first cross-section and the second cross-section, respectively.

상기 마이크로 렌즈는 복수로 제공되고, 상기 복수의 마이크로 렌즈들은 상기 베이스 필름의 상기 상면에 평행한 일 방향을 따라 서로 다른 크기들을 갖고, The plurality of micro lenses are provided, and the plurality of micro lenses have different sizes along one direction parallel to the top surface of the base film,

상기 복수의 마이크로 렌즈들의 상기 일 방향을 따른 크기들 중에서, 가장 작은 크기는 가장 큰 크기의 1/2 배 이상이고, 상기 복수의 마이크로 렌즈들 중, 서로 바로 인접한 한 쌍의 마이크로 렌즈들은 서로 접할 수 있다.Among the sizes of the plurality of microlenses along the one direction, the smallest size is at least 1/2 times the largest size, and among the plurality of microlenses, a pair of microlenses immediately adjacent to each other may contact each other. have.

일 측면에 있어서, 기판; 및 상기 기판 상에 제공되는 마스터 몰드 패턴들;을 포함하되, 상기 마스터 몰드 패턴들의 각각은: 내측부; 및 상기 내측부를 덮는 외측부;를 포함하고, 상기 마스터 몰드 패턴들의 각각은, 상기 기판의 상면에 평행한 제1 방향 및 제2 방향을 각각 따르는 제1 단면 및 제2 단면을 갖고, 상기 제1 단면 및 상기 제2 단면은 상기 마스터 몰드 패턴들의 상기 각각의 중심축을 지나고, 상기 제1 단면의 형상 및 상기 제2 단면의 형상은 서로 다른, 마이크로 렌즈 어레이 시트를 제조하기 위한 몰드가 제공될 수 있다. In one aspect, the substrate; And master mold patterns provided on the substrate, wherein each of the master mold patterns includes: an inner portion; And an outer portion covering the inner portion, wherein each of the master mold patterns has a first cross section and a second cross section respectively along a first direction and a second direction parallel to the upper surface of the substrate, and the first cross section And a mold for manufacturing a microlens array sheet, wherein the second cross-section passes through the respective central axes of the master mold patterns, and different shapes of the first cross-section and the second cross-section are different from each other.

상기 내측부의 상기 제1 방향을 따른 크기는 상기 내측부의 상기 제2 방향을 따른 크기와 다를 수 있다.A size of the inner part along the first direction may be different from a size of the inner part along the second direction.

상기 내측부는 경화성 수지를 포함하고, 상기 외측부는 가소성 수지를 포함할 수 있다.The inner portion may include a curable resin, and the outer portion may include a plastic resin.

상기 제1 단면 상의 상기 마이크로 렌즈들의 각각의 상면의 형상은 상기 제2 단면 상의 상기 마이크로 렌즈들의 각각의 상면의 형상과 다를 수 있다.The shape of the top surface of each of the microlenses on the first cross-section may be different from the shape of the top surface of each of the microlenses on the second cross-section.

상기 내측부의 상면은 요철 형상을 가질 수 있다.The upper surface of the inner portion may have an uneven shape.

상기 내측부는 상기 외측부의 일측에 편중되게 배치될 수 있다.The inner portion may be disposed to be lean on one side of the outer portion.

일 측면에 있어서, 리세스 영역들을 갖는 기판; 및 상기 리세스 영역들 상에 각각 제공되는 마스터 몰드 패턴들;을 포함하되, 상기 마스터 몰드 패턴들의 각각은, 상기 기판의 상면에 평행한 제1 방향 및 제2 방향을 각각 따르는 제1 단면 및 제2 단면을 갖고, 상기 제1 단면 및 상기 제2 단면은 상기 마스터 몰드 패턴들의 각각의 중심축을 지나고, 상기 제1 단면의 형상 및 상기 제2 단면의 형상은 서로 다른, 마이크로 렌즈 어레이 시트를 제조하기 위한 몰드가 제공될 수 있다.In one aspect, a substrate having recess regions; And master mold patterns provided on the recess regions, respectively, wherein each of the master mold patterns includes a first cross section and a first cross section respectively along a first direction and a second direction parallel to the upper surface of the substrate. Having 2 cross-sections, the first cross-section and the second cross-section pass through respective central axes of the master mold patterns, and the shapes of the first cross-section and the second cross-section are different from each other, A mold for can be provided.

상기 마스터 몰드 패턴들의 각각은 오목한 상면을 가질 수 있다.Each of the master mold patterns may have a concave upper surface.

상기 리세스 영역들의 각각의 상기 제1 방향을 따른 크기는 상기 리세스 영역들의 상기 각각의 상기 제2 방향을 따른 크기와 다를 수 있다.A size of each of the recess areas along the first direction may be different from a size of each of the recess areas along the second direction.

일 측면에 있어서, 마스터 몰드 상에 복제 몰드를 형성하는 것; 상기 복제 몰드를 상기 마스터 몰드로부터 분리하는 것; 상기 복제 몰드 상에 마이크로 렌즈 어레이 시트를 형성하는 것; 및 상기 마이크로 렌즈 어레이 시트를 상기 복제 몰드로부터 분리하는 것;을 포함하되, 상기 마스터 몰드를 형성하는 것은: 기판 상에 내측부들을 형성하는 것; 상기 내측부들 상에 예비 외측부들을 각각 형성하는 것; 및 상기 예비 외측부들에 리플로우 공정을 수행하여, 외측부들을 형성하는 것;을 포함하되, 상기 내측부들의 각각의 상기 기판의 상면에 평행한 제1 방향을 따른 크기와 상기 내측부들의 상기 각각의 상기 기판의 상기 상면에 평행한 제2 방향을 따른 크기가 서로 다른, 마이크로 렌즈 어레이 시트의 제조 방법이 제공될 수 있다.In one aspect, forming a replica mold on a master mold; Separating the replica mold from the master mold; Forming a micro lens array sheet on the replica mold; And separating the micro lens array sheet from the replica mold, wherein forming the master mold includes: forming inner portions on a substrate; Forming preliminary outer portions on the inner portions, respectively; And performing a reflow process on the preliminary outer portions to form outer portions; including, the size of each of the inner portions along a first direction parallel to the upper surface of the substrate and the respective substrates of the inner portions A method of manufacturing a microlens array sheet having different sizes along a second direction parallel to the upper surface of may be provided.

상기 복제 몰드를 형성하는 것은: 상기 마스터 몰드 상에 제1 경화성 수지막을 형성하는 것; 상기 제1 경화성 수지막을 경화시키는 것; 및 상기 마스터 몰드를 제거하는 것;을 포함할 수 있다.Forming the replica mold may include: forming a first curable resin film on the master mold; Curing the first curable resin film; And removing the master mold.

상기 마스터 몰드와 상기 복제 몰드 사이에 유기 박막을 코팅하는 것;을 더 포함하되, 상기 유기 박막은 네거티브 포토레지스트 또는 UV 수지를 포함할 수 있다.Coating an organic thin film between the master mold and the replica mold; further comprising, wherein the organic thin film may include a negative photoresist or a UV resin.

상기 마이크로 렌즈 어레이 시트를 형성하는 것은: 상기 복제 몰드 상에 제2 경화성 수지막을 형성하는 것; 및 상기 제2 경화성 수지막을 경화하는 것;을 포함할 수 있다.Forming the microlens array sheet may include: forming a second curable resin film on the replica mold; And curing the second curable resin film.

상기 마이크로 렌즈 어레이 시트를 형성하는 것은: 상기 제2 경화성 수지막 상에 베이스 필름을 형성하는 것을 더 포함할 수 있다.Forming the microlens array sheet may further include forming a base film on the second curable resin film.

본 개시는 다양한 형상을 갖는 마이크로 렌즈들을 포함하는 마이크로 렌즈 어레이 시트를 제공할 수 있다.The present disclosure may provide a micro lens array sheet including micro lenses having various shapes.

본 개시는 등방적인 평면 형상을 가지되, 이방적인 단면 형상을 갖는 마이크로 렌즈들을 포함하는 마이크로 렌즈 어레이 시트를 제공할 수 있다.The present disclosure may provide a microlens array sheet including microlenses having an isotropic planar shape, but an anisotropic cross-sectional shape.

본 개시는 다양한 형상을 갖는 마스터 몰드 패턴들을 포함하는 마스터 몰드를 제공할 수 있다. The present disclosure may provide a master mold including master mold patterns having various shapes.

본 개시는 등방적인 평면 형상을 가지되, 이방적인 단면 형상을 갖는 마스터 몰드 패턴들을 포함하는 마스터 몰드를 제공할 수 있다.The present disclosure may provide a master mold including master mold patterns having an isotropic planar shape, but an anisotropic cross-sectional shape.

본 개시는 다양한 형상을 갖는 마이크로 렌즈들을 포함하는 마이크로 렌즈 어레이 시트의 제조 방법을 제공할 수 있다.The present disclosure may provide a method of manufacturing a micro lens array sheet including micro lenses having various shapes.

본 개시는 등방적인 평면 형상을 가지되, 이방적인 단면 형상을 갖는 마이크로 렌즈들을 포함하는 마이크로 렌즈 어레이 시트의 제조 방법을 제공할 수 있다.The present disclosure may provide a method of manufacturing a microlens array sheet including microlenses having an isotropic planar shape, but an anisotropic cross-sectional shape.

다만, 발명의 효과는 상기 개시에 한정되지 않는다. However, the effect of the invention is not limited to the above disclosure.

도 1은 예시적인 실시예들에 따른 마스터 몰드의 평면도이다.
도 2a는 도 1의 A-A'선을 따른 단면도이다.
도 2b는 도 1의 B-B'선을 따른 단면도이다.
도 3은 예시적인 실시예에 따른 마스터 몰드를 제조하는 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 4a 및 5a는 도 3을 참조하여 설명되는 마스터 몰드를 제조하는 방법을 설명하기 위한 도 1의 A-A'선에 대응하는 단면도들이다.
도 4b 및 5b는 도 3을 참조하여 설명되는 마스터 몰드를 제조하는 방법을 설명하기 위한 도 1의 B-B'선에 대응하는 단면도들이다.
도 6은 예시적인 실시예들에 따른 마스터 몰드의 평면도이다.
도 7a는 도 6의 C-C'선을 따른 단면도이다.
도 7b는 도 6의 D-D'선을 따른 단면도이다.
도 8은 예시적인 실시예들에 따른 마스터 몰드의 평면도이다. 도 9a는 도 8의 E-E'선을 따른 단면도이다. 도 9b는 도 8의 F-F'선을 따른 단면도이다.
도 10은 예시적인 실시예들에 따른 마스터 몰드의 평면도이다.
도 11a는 도 10의 G-G'선을 따른 단면도이다.
도 11b는 도 10의 H-H'선을 따른 단면도이다.
도 12는 예시적인 실시예들에 따른 마스터 몰드의 평면도이다.
도 13a는 도 12의 I-I'선을 따른 단면도이다.
도 13b는 도 12의 J-J'선을 따른 단면도이다.
도 14는 예시적인 실시예에 따른 마스터 몰드를 제조하는 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 15a, 도 16a, 및 17a는 도 14를 참조하여 설명되는 마이크로 렌즈 어레이 시트를 제조하는 방법을 설명하기 위한 도 1의 A-A'선에 대응하는 단면도들이다.
도 15b, 도 16b, 및 17b는 도 14를 참조하여 설명되는 마이크로 렌즈 어레이 시트를 제조하는 방법을 설명하기 위한 도 1의 B-B'선에 대응하는 단면도들이다.
1 is a plan view of a master mold according to exemplary embodiments.
2A is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 1.
FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line B-B' of FIG. 1.
Fig. 3 is a flow chart illustrating a method of manufacturing a master mold according to an exemplary embodiment.
4A and 5A are cross-sectional views corresponding to line A-A' of FIG. 1 for explaining a method of manufacturing a master mold described with reference to FIG. 3.
4B and 5B are cross-sectional views corresponding to line B-B' of FIG. 1 for explaining a method of manufacturing a master mold described with reference to FIG. 3.
6 is a plan view of a master mold according to exemplary embodiments.
7A is a cross-sectional view taken along line C-C' of FIG. 6.
7B is a cross-sectional view taken along line D-D' of FIG. 6.
8 is a plan view of a master mold according to exemplary embodiments. 9A is a cross-sectional view taken along line E-E' of FIG. 8. 9B is a cross-sectional view taken along line F-F' of FIG. 8.
10 is a plan view of a master mold according to exemplary embodiments.
11A is a cross-sectional view taken along line G-G' of FIG. 10.
11B is a cross-sectional view taken along line H-H' of FIG. 10.
12 is a plan view of a master mold according to exemplary embodiments.
13A is a cross-sectional view taken along line II′ of FIG. 12.
13B is a cross-sectional view taken along line J-J' of FIG. 12.
Fig. 14 is a flow chart illustrating a method of manufacturing a master mold according to an exemplary embodiment.
15A, 16A, and 17A are cross-sectional views corresponding to line A-A' of FIG. 1 for explaining a method of manufacturing a microlens array sheet described with reference to FIG. 14.
15B, 16B, and 17B are cross-sectional views corresponding to line B-B' of FIG. 1 for explaining a method of manufacturing a microlens array sheet described with reference to FIG. 14.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 대해 상세히 설명하기로 한다. 이하의 도면들에서 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 지칭하며, 도면상에서 각 구성요소의 크기는 설명의 명료성과 편의상 과장되어 있을 수 있다. 한편, 이하에 설명되는 실시예는 단지 예시적인 것에 불과하며, 이러한 실시예들로부터 다양한 변형이 가능하다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following drawings, the same reference numerals refer to the same components, and the size of each component in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of description. Meanwhile, the embodiments described below are merely exemplary, and various modifications are possible from these embodiments.

이하에서, "상부" 나 "상"이라고 기재된 것은 접촉하여 바로 위에 있는 것뿐만 아니라 비접촉으로 위에 있는 것도 포함할 수 있다.Hereinafter, what is described as "top" or "top" may include not only those directly above by contact, but also those that are above non-contact.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In addition, when a part "includes" a certain component, it means that other components may be further included rather than excluding other components unless specifically stated to the contrary.

또한, 명세서에 기재된 "..부" 등의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미하며, 이는 하드웨어 또는 소프트웨어로 구현되거나 하드웨어와 소프트웨어의 결합으로 구현될 수 있다.In addition, terms such as ".. unit" described in the specification mean a unit that processes at least one function or operation, which may be implemented as hardware or software, or a combination of hardware and software.

도 1은 예시적인 실시예들에 따른 마스터 몰드의 평면도이다. 도 2a는 도 1의 A-A'선을 따른 단면도이다. 도 2b는 도 1의 B-B'선을 따른 단면도이다. 1 is a plan view of a master mold according to exemplary embodiments. 2A is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 1. FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line B-B' of FIG. 1.

도 1, 도 2a, 및 도 2b를 참조하면, 기판(100) 및 마스터 몰드 패턴들(200)을 포함하는 마스터 몰드(10)가 제공될 수 있다. 기판(100)은 유연할 수 있다. 예를 들어, 기판(100)은 에폭시(epoxy), 폴리우레탄(polyurethane), 아크릴(acryl), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate), 트리아세틸셀룰로오스(triacetyl celluose), 폴리에틸렌(polyethylene), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylene naphthalate), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리에테르술폰(polyether sulfone), 폴리아릴레이트(polyarylate), 사이클로올레핀 공중합체(cycloolefin copolymer), PDMS(polydimethylsiloxane), 폴리이미드(polyimide), 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.1, 2A, and 2B, a master mold 10 including a substrate 100 and master mold patterns 200 may be provided. The substrate 100 may be flexible. For example, the substrate 100 is epoxy, polyurethane, acrylic, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, polyethylene, polyethylene naphthalate ( polyethylene naphthalate), polycarbonate, polyether sulfone, polyarylate, cycloolefin copolymer, PDMS (polydimethylsiloxane), polyimide, or a combination thereof. Can include.

마스터 몰드 패턴들(200)은 기판(100) 상에 제공될 수 있다. 마스터 몰드 패턴들(200)은 기판(100)의 상면(100u)에 평행한 제1 방향(DR1) 및 제1 방향(DR1)에 교차하는 제2 방향(DR2)으로 배열될 수 있다. 예를 들어, 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2)은 서로 직교할 수 있다. 마스터 몰드 패턴들(200)이 일정한 간격으로 배열된 것으로 도시되었으나, 이는 예시적인 것이다. 다른 예시적인 실시예들에서, 마스터 몰드 패턴들(200)은 서로 다른 간격들로 배열될 수 있다. 일 예에서, 마스터 몰드 패턴들(200)은 서로 실질적으로 동일한 형상 및 실질적으로 동일한 크기를 가질 수 있다. 다른 예에서, 마스터 몰드 패턴들(200)은 기판(100)의 상면에 평행한 일 방향을 따라 서로 다른 크기들을 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 일 방향은 제1 방향(DR1) 또는 제2 방향(DR2)일 수 있다. 예를 들어, 마스터 몰드 패턴들(200)의 일 방향을 따른 크기들 중에서, 가장 작은 크기는 가장 큰 크기의 약 1/2 배 이상일 수 있다.The master mold patterns 200 may be provided on the substrate 100. The master mold patterns 200 may be arranged in a first direction DR1 parallel to the upper surface 100u of the substrate 100 and a second direction DR2 crossing the first direction DR1. For example, the first direction DR1 and the second direction DR2 may be orthogonal to each other. Although it is shown that the master mold patterns 200 are arranged at regular intervals, this is exemplary. In other exemplary embodiments, the master mold patterns 200 may be arranged at different intervals. In one example, the master mold patterns 200 may have substantially the same shape and substantially the same size as each other. In another example, the master mold patterns 200 may have different sizes along one direction parallel to the upper surface of the substrate 100. For example, the one direction may be a first direction DR1 or a second direction DR2. For example, among the sizes along one direction of the master mold patterns 200, the smallest size may be about 1/2 times or more of the largest size.

이하에서, 마스터 몰드 패턴들(200)의 각각은 마스터 몰드 패턴(200)으로 지칭된다. 마스터 몰드 패턴(200)의 바닥면은 제1 및 제2 방향들(DR1, DR2)에 대해 등방성을 가질 수 있다. 마스터 몰드 패턴(200)의 바닥면은 기판(100)의 상면(100u)에 접할 수 있다. 마스터 몰드 패턴(200)의 바닥면이 제1 및 제2 방향들(DR1, DR2)에 대해 등방성을 갖는 것은 마스터 몰드 패턴(200)의 바닥면의 제1 및 제2 방향들(DR1, DR2)에 대한 크기들이 실질적으로 동일한 것일 수 있다. 예를 들어, 마스터 몰드 패턴(200)의 바닥면은 정사각형일 수 있다. 마스터 몰드 패턴(200)의 바닥면은 마스터 몰드 패턴(200)의 평면적 형상과 실질적으로 동일할 수 있다. 이하에서, 평면적 형상은 기판(100)의 상면(100u)에 수직한 제3 방향(DR3)과 반대 방향으로 바라볼 때의 형상일 수 있다. 마스터 몰드 패턴(200)의 평면적 형상은 제1 및 제2 방향들(DR1, DR2)에 대해 등방성을 가질 수 있다. Hereinafter, each of the master mold patterns 200 is referred to as a master mold pattern 200. The bottom surface of the master mold pattern 200 may have isotropic properties with respect to the first and second directions DR1 and DR2. The bottom surface of the master mold pattern 200 may contact the upper surface 100u of the substrate 100. The bottom surface of the master mold pattern 200 is isotropic with respect to the first and second directions DR1 and DR2 is the first and second directions DR1 and DR2 of the bottom surface of the master mold pattern 200. The sizes for may be substantially the same. For example, the bottom surface of the master mold pattern 200 may be square. The bottom surface of the master mold pattern 200 may be substantially the same as the planar shape of the master mold pattern 200. Hereinafter, the planar shape may be a shape when viewed in a direction opposite to the third direction DR3 perpendicular to the upper surface 100u of the substrate 100. The planar shape of the master mold pattern 200 may have isotropic properties with respect to the first and second directions DR1 and DR2.

마스터 몰드 패턴(200)의 중심축(CX1)(이하, 제1 중심축(CX1))을 지나되, 제3 방향(DR3)에 평행한 마스터 몰드 패턴(200)의 단면들의 형상들은 이방성을 가질 수 있다. 예를 들어, 제1 중심축(CX1)을 지나고, 제3 방향(DR3)에 평행한 마스터 몰드 패턴(200)의 단면들의 형상들은 제1 및 제2 방향들(DR1, DR2)에 대해 이방성을 가질 수 있다. 제1 중심축(CX1)은 평면적 관점에서 마스터 몰드 패턴(200)의 중심을 지나되, 기판(100)의 상면(100u)에 수직한 제3 방향(DR3)을 따르는 축일 수 있다. 이하에서, 평면적 관점은 제3 방향(DR3)의 반대 방향의 관점일 수 있다. 제1 중심축(CX1)을 지나고 제1 방향(DR1) 및 제3 방향(DR3)에 평행한 마스터 몰드 패턴(200)의 단면(이하, 제1 단면)과, 제1 중심축(CX1)을 지나고 제2 방향(DR2) 및 제3 방향(DR3)에 평행한 마스터 몰드 패턴(200)의 단면(이하, 제2 단면은 서로 다른 형상들을 가질 수 있다. 마스터 몰드 패턴(200)의 상면(220u)의 형상은 제1 및 제2 방향들(DR1, DR2)에 대해 이방성을 가질 수 있다. 마스터 몰드 패턴(200)의 상면(220u)의 형상이 제1 및 제2 방향들(DR1, DR2)에 대해 이방성을 갖는 것은 마스터 몰드 패턴(200)의 상면(220u)이 상기 제1 및 제2 단면들 상에서 서로 다른 형상들을 갖는 것일 수 있다. 마스터 몰드 패턴(200)의 상면(220u)의 곡률은 제1 및 제2 방향들(DR1, DR2)에 대해 이방성을 가질 수 있다. 예를 들어, 일 고도각을 갖되 제1 단면의 상면(220u) 상에 배치된 한 점의 곡률과 상기 일 고도각을 갖되 제2 단면의 상면(220u) 상에 배치된 다른 한 점의 곡률은 서로 다를 수 있다. 상기 일 고도각은 마스터 몰드 패턴(200)의 바닥면을 기준으로 측정될 수 있다. 마스터 몰드 패턴(200)은 내측부(210) 및 외측부(220)를 포함할 수 있다. 내측부(210)는 외측부(220)와 기판(100) 사이에 개재될 수 있다. 내측부(210)는 사각 기둥 형상을 가질 수 있다. 내측부(210)는 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2)을 따라 서로 다른 크기들을 가질 수 있다. 예를 들어, 내측부(210)의 제1 방향(DR1)을 따른 크기는 내측부(210)의 제2 방향(DR2)을 따른 크기보다 작을 수 있다. 내측부(210)의 중심축(CX2)(이하, 제2 중심축(CX2)은 제1 중심축(CX1)에 정렬될 수 있다. 제2 중심축(CX2)은 평면적 관점에서 내측부(210)의 중심을 지나되, 제3 방향(DR3)을 따르는 축일 수 있다. 내측부(210)는 경화성 수지 포함할 수 있다. 경화성 수지는 열 경화성 수지 또는 광 경화성 수지일 수 있다. 예를 들어, 내측부(210)는 네거티브 포토레지스트(Negative Photoresist)를 포함할 수 있다. The shapes of the cross-sections of the master mold pattern 200 that pass through the central axis CX 1 (hereinafter, the first central axis CX 1 ) of the master mold pattern 200 and are parallel to the third direction DR3 are anisotropic. Can have. For example, the shapes of cross-sections of the master mold pattern 200 that pass through the first central axis CX 1 and are parallel to the third direction DR3 are anisotropic with respect to the first and second directions DR1 and DR2. Can have. The first central axis CX 1 may be an axis that passes through the center of the master mold pattern 200 in a plan view and follows a third direction DR3 perpendicular to the upper surface 100u of the substrate 100. Hereinafter, the plan view may be a view in a direction opposite to the third direction DR3. A cross section (hereinafter, referred to as a first cross section) of the master mold pattern 200 passing through the first central axis CX 1 and parallel to the first direction DR1 and the third direction DR3, and the first central axis CX 1 ) And parallel to the second direction DR2 and the third direction DR3 (hereinafter, the second cross-section may have different shapes. The upper surface of the master mold pattern 200 ). The shape of 220u may have anisotropy with respect to the first and second directions DR1 and DR2. The shape of the upper surface 220u of the master mold pattern 200 is in the first and second directions DR1, The anisotropy with respect to DR2) may be that the top surface 220u of the master mold pattern 200 has different shapes on the first and second cross-sections. The curvature may have anisotropy with respect to the first and second directions DR1 and DR2. For example, the curvature of a point disposed on the upper surface 220u of the first cross section and the one having an elevation angle The elevation angle may have an elevation angle, but the curvature of another point disposed on the upper surface 220u of the second cross section may be different from each other. The mold pattern 200 may include an inner portion 210 and an outer portion 220. The inner portion 210 may be interposed between the outer portion 220 and the substrate 100. The inner portion 210 has a square column shape. The inner part 210 may have different sizes along the first direction DR1 and the second direction DR2. For example, the inner part 210 may have different sizes along the first direction DR1 of the inner part 210. The size may be smaller than the size of the inner part 210 along the second direction DR2. The central axis CX 2 (hereinafter, the second central axis CX 2 ) of the inner part 210 is the first central axis CX 1) may be arranged on a second central axis (CX 2) is in a two-dimensional point of view being through the center of the inner portion 210, it is possible according to the three-way holiday (DR3). inside part 210 May include a curable resin. The curable resin may be a thermosetting resin or a photocurable resin. For example, the inner part 210 may include a negative photoresist.

외측부(220)는 내측부(210) 상에 제공될 수 있다. 외측부(220)는 내측부(210)의 상면 및 측면들을 덮을 수 있다. 외측부(220)는 볼록한 형상을 가질 수 있다. 외측부(220)의 봉우리는 내측부(210)에 제3 방향을 따라 중첩할 수 있다. 외측부(220)의 중심축(CX3)(이하, 제3 중심축(CX3))은 제2 중심축(CX2)에 실질적으로 정렬될 수 있다. 제3 중심축(CX3)은 평면적 관점에서 외측부(220)의 중심을 지나되, 제3 방향(DR3)을 따르는 축일 수 있다. The outer part 220 may be provided on the inner part 210. The outer portion 220 may cover the upper surface and side surfaces of the inner portion 210. The outer part 220 may have a convex shape. Peaks of the outer portion 220 may overlap the inner portion 210 along the third direction. The central axis (CX 3) (hereinafter, the third central axis (CX 3)) in the outer region 220 can be substantially aligned with the second central axis (CX 2). The third central axis CX 3 may pass through the center of the outer portion 220 in a plan view, but may be an axis along the third direction DR3.

외측부(220)의 형상은 제1 및 제2 방향들(DR1, DR2)에 대해 이방성을 가질 수 있다. 외측부(220)의 형상이 제1 및 제2 방향들(DR1, DR2)에 대해 이방성을 갖는 것은 외측부(220)의 제1 및 제2 방향들(DR1, DR2)에 따른 단면들이 서로 다른 형상들을 갖는 것일 수 있다. 상기 단면들은 제3 중심축(CX3)을 지날 수 있다.The shape of the outer part 220 may have anisotropy with respect to the first and second directions DR1 and DR2. The outer part 220 has anisotropy with respect to the first and second directions DR1 and DR2. The outer part 220 has different cross-sections along the first and second directions DR1 and DR2. It can be something to have. The cross sections may pass through the third central axis CX 3.

외측부(220)의 상면(220u)은 마스터 몰드 패턴(200)의 상면(220u)과 동일할 수 있다. 따라서, 외측부(220)의 상면(220u)의 형상은 제1 및 제2 방향들(DR1, DR2)에 대해 이방성을 가질 수 있다. 외측부(220)의 상면(220u)의 곡률은 제1 및 제2 방향들(DR1, DR2)에 대해 이방성을 가질 수 있다. The upper surface 220u of the outer part 220 may be the same as the upper surface 220u of the master mold pattern 200. Accordingly, the shape of the upper surface 220u of the outer portion 220 may have anisotropy with respect to the first and second directions DR1 and DR2. The curvature of the upper surface 220u of the outer part 220 may have anisotropy with respect to the first and second directions DR1 and DR2.

외측부(220)는 가소성 수지를 포함할 수 있다. 가소성 수지는 예를 들어, 열 가소성 수지 또는 광 가소성 수지일 수 있다. 예를 들어, 외측부(220)는 포지티브 포토레지스트(Positive Photoresist)를 포함할 수 있다. The outer part 220 may include a plastic resin. The plastic resin may be, for example, a thermoplastic resin or a photoplastic resin. For example, the outer part 220 may include a positive photoresist.

내측부를 포함하지 않는 마스터 몰드 패턴의 형상, 상면의 형상, 및 상면의 곡률은 등방성을 가질 수 있다. 본 개시의 마스터 몰드 패턴(200)은 평면적 형상에 대해선 등방성을 가지나, 단면의 형상, 상면의 형상, 및 상면의 곡률에 대해 이방성을 가질 수 있다. 이에 따라, 다양한 형상을 갖는 마스터 몰드 패턴들(200)을 포함하는 마스터 몰드(10)가 제공될 수 있다.The shape of the master mold pattern not including the inner portion, the shape of the upper surface, and the curvature of the upper surface may have isotropic properties. The master mold pattern 200 of the present disclosure may have isotropy with respect to a planar shape, but may have anisotropy with respect to a shape of a cross section, a shape of an upper surface, and a curvature of an upper surface. Accordingly, a master mold 10 including master mold patterns 200 having various shapes may be provided.

도 3은 예시적인 실시예에 따른 마스터 몰드를 제조하는 방법을 설명하기 위한 순서도이다. 도 4a 및 5a는 도 3을 참조하여 설명되는 마스터 몰드를 제조하는 방법을 설명하기 위한 도 1의 A-A'선에 대응하는 단면도들이다. 도 4b 및 5b는 도 3을 참조하여 설명되는 마스터 몰드를 제조하는 방법을 설명하기 위한 도 1의 B-B'선에 대응하는 단면도들이다. Fig. 3 is a flow chart illustrating a method of manufacturing a master mold according to an exemplary embodiment. 4A and 5A are cross-sectional views corresponding to line A-A' of FIG. 1 for explaining a method of manufacturing a master mold described with reference to FIG. 3. 4B and 5B are cross-sectional views corresponding to line B-B' of FIG. 1 for explaining a method of manufacturing a master mold described with reference to FIG. 3.

도 3, 도 4a, 및 도 4b를 참조하면, 기판(100) 상에 내측부들(210)이 형성될 수 있다.(S110) 내측부들(210)을 형성하는 것은 기판(100) 상에 경화성 수지막(미도시)을 형성하는 것 및 상기 경화성 수지막을 패터닝하는 것을 포함할 수 있다. 경화성 수지막은 코팅 공정 또는 증착 공정에 의해 기판 상에 형성될 수 있다. 경화성 수지막은 예를 들어, 열 경화성 수지 또는 광 경화성 수지를 포함할 수 있다. 예를 들어, 경화성 수지막은 네거티브 포토레지스트를 포함할 수 있다. 3, 4A, and 4B, inner portions 210 may be formed on the substrate 100. (S110) Forming the inner portions 210 is a curable resin on the substrate 100 It may include forming a film (not shown) and patterning the curable resin film. The curable resin film may be formed on the substrate by a coating process or a vapor deposition process. The curable resin film may contain, for example, a thermosetting resin or a photocurable resin. For example, the curable resin film may include a negative photoresist.

경화성 수지막을 패터닝하는 것은, 경화성 수지막 상에 식각 마스크(미도시)를 형성하는 것 및 상기 식각 마스크를 이용하여 상기 경화성 수지막을 식각하는 것을 포함할 수 있다. 상기 식각 공정은 기판(100)의 상면이 노출될 때까지 수행될 수 있다. 식각 마스크는 식각 공정 동안 또는 식각 공정 후 제거될 수 있다.Patterning the curable resin layer may include forming an etching mask (not shown) on the curable resin layer and etching the curable resin layer using the etching mask. The etching process may be performed until the upper surface of the substrate 100 is exposed. The etching mask may be removed during or after the etching process.

내측부들(210)의 각각은 기판(100)의 상면(100u)에 평행한 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2)을 따라 서로 다른 크기들을 갖도록 형성될 수 있다. 예를 들어, 내측부들(210)의 각각의 제1 방향(DR1)을 따른 크기는 내측부들(210)의 각각의 제2 방향(DR2)을 따른 크기보다 작을 수 있다.Each of the inner portions 210 may be formed to have different sizes along the first direction DR1 and the second direction DR2 parallel to the upper surface 100u of the substrate 100. For example, a size of the inner portions 210 along each of the first direction DR1 may be smaller than a size of the inner portions 210 along each of the second direction DR2.

도 3, 도 5a, 및 도 5b를 참조하면, 내측부들(210) 상에 각각 예비 외측부들(222)이 형성될 수 있다.(S120) 예비 외측부들(222)을 형성하는 것은 내측부들(210) 상에 가소성 수지막(미도시)을 형성하는 것 및 상기 가소성 수지막을 패터닝하는 것을 포함할 수 있다. 가소성 수지막은 기판(100) 상에 형성되어, 내측부들(210)을 덮을 수 있다. 이에 따라, 내측부들(210)은 가소성 수지막과 기판(100) 사이에 개재될 수 있다. 가소성 수지막은 코팅 공정 또는 증착 공정에 의해 기판 상에 형성될 수 있다. 가소성 수지막은 예를 들어, 열 가소성 수지 또는 광 가소성 수지를 포함할 수 있다. 예를 들어, 가소성 수지막은 포지티브 포토레지스트를 포함할 수 있다.3, 5A, and 5B, preliminary outer portions 222 may be formed on the inner portions 210, respectively. (S120) Forming the preliminary outer portions 222 may include inner portions 210 ) May include forming a plastic resin film (not shown) on and patterning the plastic resin film. The plastic resin film may be formed on the substrate 100 to cover the inner portions 210. Accordingly, the inner portions 210 may be interposed between the plastic resin film and the substrate 100. The plastic resin film may be formed on the substrate by a coating process or a deposition process. The plastic resin film may contain, for example, a thermoplastic resin or a photoplastic resin. For example, the plastic resin film may include a positive photoresist.

가소성 수지막을 패터닝하는 것은, 가소성 수지막 상에 식각 마스크(미도시)를 형성하는 것 및 상기 식각 마스크를 이용하여 상기 가소성 수지막을 식각하는 것을 포함할 수 있다. 상기 식각 공정은 기판(100)의 상면이 노출될 때까지 수행될 수 있다. 식각 마스크는 식각 공정 동안 또는 식각 공정 후 제거될 수 있다. Patterning the plastic resin layer may include forming an etching mask (not shown) on the plastic resin layer and etching the plastic resin layer using the etching mask. The etching process may be performed until the upper surface of the substrate 100 is exposed. The etching mask may be removed during or after the etching process.

예비 외측부들(222)은 내측부들(210)을 각각 덮을 수 있다. 예비 외측부들(222)의 각각의 단면의 형상은 제1 및 2 방향들(DR1, DR2)에 대해 등방성을 가질 수 있다. 즉, 예비 외측부들(222)의 제1 방향(DR1)을 따른 단면들은 예비 외측부들(222)의 제2 방향(DR2)을 따른 단면들은 실질적으로 동일한 형상들을 가질 수 있다.The preliminary outer portions 222 may cover the inner portions 210, respectively. The shape of each cross section of the preliminary outer portions 222 may have isotropic properties in the first and second directions DR1 and DR2. That is, cross-sections of the preliminary outer portions 222 along the first direction DR1 may have substantially the same shape as cross-sections of the preliminary outer portions 222 along the second direction DR2.

도 3, 도 2a, 및 도 2b를 참조하면, 예비 외측부들(222)에 리플로우 공정이 수행될 수 있다.(S130) 리플로우 공정은 예를 들어, 예비 외측부들(222)을 열처리하는 것을 포함할 수 있다. 열처리 공정에 의해 예비 외측부들(222)은 유리화 상태(Glassy State)를 가질 수 있다. 내측부들(210)은 상기 열처리 공정 시 경화될 수 있다. 이에 따라, 내측부들(210)의 형상들은 유지될 수 있다. 유리화 상태를 갖는 예비 외측부들(222)은 표면 에너지가 최소화되는 형상으로 변형될 수 있다. 표면 에너지를 최소화하는 예비 외측부들(222)의 형상은 내측부들(210)에 의해 결정될 수 있다. 3, 2A, and 2B, a reflow process may be performed on the preliminary outer portions 222. (S130) The reflow process includes, for example, heat treatment of the preliminary outer portions 222. Can include. The preliminary outer portions 222 may have a glassy state by a heat treatment process. The inner portions 210 may be cured during the heat treatment process. Accordingly, the shapes of the inner portions 210 may be maintained. The preliminary outer portions 222 having a vitrified state may be transformed into a shape in which surface energy is minimized. The shape of the preliminary outer portions 222 that minimizes surface energy may be determined by the inner portions 210.

예비 외측부들(222)은 경화되어, 외측부들(220)을 생성할 수 있다. 예를 들어, 예비 외측부들(222)을 경화하는 것은 예비 외측부들(222)을 냉각하는 것일 수 있다. 외측부(220)는 도 2a 및 도 2b를 참조하여 설명된 외측부(220)와 실질적으로 동일할 수 있다. The preliminary outer portions 222 may be cured to generate the outer portions 220. For example, curing the preliminary outer portions 222 may be cooling the preliminary outer portions 222. The outer portion 220 may be substantially the same as the outer portion 220 described with reference to FIGS. 2A and 2B.

본 개시는 내측부들(210)을 이용하여 단면의 형상, 상면의 형상, 및 상면의 곡률에 대해 이방성을 갖는 마스터 몰드 패턴들을 포함하는 마스터 몰드제조하는 방법을 제공할 수 있다.The present disclosure may provide a method of manufacturing a master mold including master mold patterns having anisotropy with respect to a shape of a cross section, a shape of an upper surface, and a curvature of the upper surface using the inner portions 210.

도 6은 예시적인 실시예들에 따른 마스터 몰드의 평면도이다. 도 7a는 도 6의 C-C'선을 따른 단면도이다. 도 7b는 도 6의 D-D'선을 따른 단면도이다. 설명의 간결함을 위해, 도 1, 도 2a, 및 도 2b를 참조하여 설명된 것과 실질적으로 동일한 내용은 설명되지 않을 수 있다. 이하에선, 도 1, 도 2a, 및 도 2b를 참조하여 설명된 마스터 몰드(10)와의 차이점이 중점적으로 설명된다. 6 is a plan view of a master mold according to exemplary embodiments. 7A is a cross-sectional view taken along line C-C' of FIG. 6. 7B is a cross-sectional view taken along line D-D' of FIG. 6. For the sake of brevity, contents substantially the same as those described with reference to FIGS. 1, 2A, and 2B may not be described. In the following, differences from the master mold 10 described with reference to FIGS. 1, 2A, and 2B will be mainly described.

도 6, 도 7a, 및 도 7b를 참조하면, 기판(100) 및 마스터 몰드 패턴들(200)을 포함하는 마스터 몰드(11)가 제공될 수 있다. 마스터 몰드 패턴들(200)의 각각은 내측부(212) 및 외측부(220)를 포함할 수 있다. 도 1, 도 2a, 및 도 2b를 참조하여 설명된 내측부(210)와 달리, 내측부(212)의 상면(212u)은 요철 구조를 가질 수 있다. 외측부(220)의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률은 내측부(212)의 상면(212u)의 형상에 의해 조절될 수 있다. 내측부(212)의 상면(212u)이 요철 구조를 갖는 경우(도 7a 및 도 7b 참조)의 외측부(220)의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률은 각각 내측부(210)의 상면이 평평한 경우(도 1, 도 2a, 및 도 2b 참조)의 외측부(220)의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률과 다를 수 있다. 6, 7A, and 7B, a master mold 11 including a substrate 100 and master mold patterns 200 may be provided. Each of the master mold patterns 200 may include an inner portion 212 and an outer portion 220. Unlike the inner portion 210 described with reference to FIGS. 1, 2A, and 2B, the upper surface 212u of the inner portion 212 may have an uneven structure. The shape of the cross section of the outer part 220, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u may be adjusted by the shape of the upper surface 212u of the inner part 212. When the upper surface 212u of the inner part 212 has an uneven structure (refer to FIGS. 7A and 7B), the shape of the cross section of the outer part 220, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u are respectively the inner part When the top surface of 210 is flat (see FIGS. 1, 2A, and 2B), the shape of the cross section of the outer portion 220, the shape of the top surface 220u, and the curvature of the top surface 220u may be different.

마스터 몰드 패턴(200)의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률은 내측부(212)의 상면(212u)의 형상에 의해 조절될 수 있다. 내측부(212)의 상면(212u)이 요철 구조를 갖는 경우(도 7a 및 도 7b 참조)의 마스터 몰드 패턴(200)의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률은 각각 내측부(210)의 상면이 평평한 경우(도 1, 도 2a, 및 도 2b 참조)의 마스터 몰드 패턴(200)의 단면의 형상, 상면의 형상, 및 상면의 곡률과 서로 다를 수 있다. 평면적 관점에서, 마스터 몰드 패턴(200)의 형상은 제1 및 제2 방향들(DR1, DR2)에 대해 등방성을 가질 수 있다.The shape of the cross section of the master mold pattern 200, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u may be adjusted by the shape of the upper surface 212u of the inner portion 212. The shape of the cross section of the master mold pattern 200, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u when the upper surface 212u of the inner portion 212 has an uneven structure (see FIGS. 7A and 7B) When the upper surface of each inner part 210 is flat (refer to FIGS. 1, 2A, and 2B), the shape of the cross section of the master mold pattern 200, the shape of the upper surface, and the curvature of the upper surface may be different from each other. From a plan view, the shape of the master mold pattern 200 may have isotropic properties with respect to the first and second directions DR1 and DR2.

본 개시의 내측부(212)의 상면(212u)의 형상이 조절되어, 외측부(220) 및 마스터 몰드 패턴(200)의 각각의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률을 제어할 수 있다. The shape of the upper surface 212u of the inner part 212 of the present disclosure is adjusted, so that the shape of each cross-section of the outer part 220 and the master mold pattern 200, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u Can be controlled.

도 8은 예시적인 실시예들에 따른 마스터 몰드의 평면도이다. 도 9a는 도 8의 E-E'선을 따른 단면도이다. 도 9b는 도 8의 F-F'선을 따른 단면도이다. 설명의 간결함을 위해, 도 1, 도 2a, 및 도 2b를 참조하여 설명된 것과 실질적으로 동일한 내용은 설명되지 않을 수 있다. 이하에선, 도 1, 도 2a, 및 도 2b를 참조하여 설명된 마스터 몰드(10)와의 차이점이 중점적으로 설명된다.8 is a plan view of a master mold according to exemplary embodiments. 9A is a cross-sectional view taken along line E-E' of FIG. 8. 9B is a cross-sectional view taken along line F-F' of FIG. 8. For the sake of brevity, contents substantially the same as those described with reference to FIGS. 1, 2A, and 2B may not be described. In the following, differences from the master mold 10 described with reference to FIGS. 1, 2A, and 2B will be mainly described.

도 8, 도 9a, 및 도 9b를 참조하면, 기판(100) 및 마스터 몰드 패턴들(200)을 포함하는 마스터 몰드(12)가 제공될 수 있다. 마스터 몰드 패턴들(200)의 각각은 내측부(214) 및 외측부(220)를 포함할 수 있다. 도 1, 도 2a, 및 도 2b를 참조하여 설명된 내측부(210)와 달리, 내측부(214)는 오각 기둥 형상을 가질 수 있다. 외측부(220)의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률은 내측부(214)의 형상에 의해 조절될 수 있다. 내측부(214)가 오각 기둥인 경우(도 8, 도 9a, 및 9b 참조)의 외측부(220)의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률은 내측부(214)가 사각 기둥인 경우(도 1, 도 2a, 및 도 2b 참조)의 외측부(220)의 단면의 형상, 상면의 형상, 및 상면의 곡률과 다를 수 있다. 8, 9A, and 9B, a master mold 12 including a substrate 100 and master mold patterns 200 may be provided. Each of the master mold patterns 200 may include an inner portion 214 and an outer portion 220. Unlike the inner portion 210 described with reference to FIGS. 1, 2A, and 2B, the inner portion 214 may have a pentagonal column shape. The shape of the cross section of the outer portion 220, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u may be adjusted by the shape of the inner portion 214. When the inner part 214 is a pentagonal column (refer to FIGS. 8, 9A, and 9B), the shape of the outer part 220, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u are the inner part 214 is a square column In the case of (see FIGS. 1, 2A, and 2B), the shape of the cross section of the outer portion 220, the shape of the upper surface, and the curvature of the upper surface may be different.

마스터 몰드 패턴(200)의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률은 내측부(214)의 형상에 의해 조절될 수 있다. 내측부(214)가 오각 기둥인 경우(도 8, 도 9a, 및 9b 참조)의 마스터 몰드 패턴(200)의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률은 내측부(210)가 사각 기둥인 경우(도 1, 도 2a, 및 도 2b 참조)의 마스터 몰드 패턴(200)의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률과 다를 수 있다. 평면적 관점에서, 마스터 몰드 패턴(200)의 형상은 제1 및 제2 방향들(DR1, DR2)에 대해 등방성을 가질 수 있다.The shape of the cross section of the master mold pattern 200, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u may be adjusted by the shape of the inner portion 214. When the inner part 214 is a pentagonal column (refer to FIGS. 8, 9A, and 9B), the shape of the cross section of the master mold pattern 200, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u are determined by the inner part 210 ) May be different from the shape of the cross section of the master mold pattern 200, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u in the case of a square pillar (refer to FIGS. 1, 2A, and 2B). From a plan view, the shape of the master mold pattern 200 may have isotropic properties with respect to the first and second directions DR1 and DR2.

본 개시의 내측부(214)의 형상이 조절되어, 외측부(220) 및 마스터 몰드 패턴(200)의 각각의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률을 제어할 수 있다. The shape of the inner portion 214 of the present disclosure is adjusted, so that the shape of each cross-section of the outer portion 220 and the master mold pattern 200, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u can be controlled. .

도 10은 예시적인 실시예들에 따른 마스터 몰드의 평면도이다. 도 11a는 도 10의 G-G'선을 따른 단면도이다. 도 11b는 도 10의 H-H'선을 따른 단면도이다. 설명의 간결함을 위해, 도 1, 도 2a, 및 도 2b를 참조하여 설명된 것과 실질적으로 동일한 내용은 설명되지 않을 수 있다. 이하에선, 도 1, 도 2a, 및 도 2b를 참조하여 설명된 마스터 몰드(10)와의 차이점이 중점적으로 설명된다. 10 is a plan view of a master mold according to exemplary embodiments. 11A is a cross-sectional view taken along line G-G' of FIG. 10. 11B is a cross-sectional view taken along line H-H' of FIG. 10. For the sake of brevity, contents substantially the same as those described with reference to FIGS. 1, 2A, and 2B may not be described. In the following, differences from the master mold 10 described with reference to FIGS. 1, 2A, and 2B will be mainly described.

도 10, 도 11a, 및 도 11b를 참조하면, 기판(100) 및 마스터 몰드 패턴들(200)을 포함하는 마스터 몰드(13)가 제공될 수 있다. 마스터 몰드 패턴들(200)의 각각은 내측부(216) 및 외측부(220)를 포함할 수 있다. 도 1, 도 2a, 및 도 2b를 참조하여 설명된 내측부(210)와 달리, 내측부(216)는 외측부(220)에 대해 편향되게 배치될 수 있다. 평면적 관점에서, 내측부(216)는 외측부(220)의 일 측에 더 인접하게 배치될 수 있다. 제2 중심축(CX2)은 제1 중심축(CX1) 및 제3 중심축(CX3)으로부터 이격될 수 있다. 10, 11A, and 11B, a master mold 13 including a substrate 100 and master mold patterns 200 may be provided. Each of the master mold patterns 200 may include an inner portion 216 and an outer portion 220. Unlike the inner portion 210 described with reference to FIGS. 1, 2A, and 2B, the inner portion 216 may be disposed to be deflected with respect to the outer portion 220. In a plan view, the inner portion 216 may be disposed closer to one side of the outer portion 220. The second central axis CX 2 may be spaced apart from the first central axis CX 1 and the third central axis CX 3.

외측부(220)의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률은 내측부(216)의 위치에 의해 조절될 수 있다. 외측부(220)의 봉우리는 내측부(216)와 제3 방향(DR3)을 따라 중첩할 수 있다. 외측부(220)의 봉우리는 외측부(220)에 대해 편향되게 배치될 수 있다. 평면적 관점에서, 외측부(220)의 봉우리는 외측부(220)의 일 측에 더 인접하게 배치될 수 있다. 내측부(216)가 외측부(220)에 대해 편향되게 배치된 경우(도 9a 및 9b 참조)의 외측부(220)의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률은 내측부(210)가 외측부(220)의 중심부에 배치된 경우(도 1, 도 2a, 및 도 2b 참조)의 외측부(220)의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률과 다를 수 있다. The shape of the cross-section of the outer portion 220, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u may be adjusted by the position of the inner portion 216. Peaks of the outer portion 220 may overlap the inner portion 216 along the third direction DR3. The peaks of the outer portion 220 may be disposed to be deflected with respect to the outer portion 220. In a plan view, the peak of the outer portion 220 may be disposed closer to one side of the outer portion 220. When the inner portion 216 is disposed to be deflected with respect to the outer portion 220 (see FIGS. 9A and 9B), the shape of the cross section of the outer portion 220, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u are determined by the inner portion ( 210) is disposed in the center of the outer portion 220 (see FIGS. 1, 2A, and 2B), the shape of the cross section of the outer portion 220, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u can be different.

마스터 몰드 패턴(200)의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률은 내측부(216)의 위치에 의해 조절될 수 있다. 내측부(216)가 외측부(220)에 대해 편향되게 배치된 경우(도 9a 및 9b 참조)의 마스터 몰드 패턴(200)의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률은 내측부(210)가 외측부(220)의 중심부에 배치된 경우(도 1, 도 2a, 및 도 2b 참조)의 마스터 몰드 패턴(200)의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률과 다를 수 있다. 평면적 관점에서, 마스터 몰드 패턴(200)의 형상은 서로 다른 방향들에 대해 등방성을 가질 수 있다.The shape of the cross section of the master mold pattern 200, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u may be adjusted by the position of the inner portion 216. The shape of the cross section of the master mold pattern 200, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u when the inner portion 216 is disposed to be deflected with respect to the outer portion 220 (see FIGS. 9A and 9B) The shape of the cross section of the master mold pattern 200, the shape of the upper surface 220u, and the upper surface 220u when the inner part 210 is disposed in the center of the outer part 220 (see FIGS. 1, 2A, and 2B) ) Can be different from the curvature. From a plan view, the shape of the master mold pattern 200 may have isotropic properties in different directions.

본 개시의 내측부(216)의 위치가 조절되어, 외측부(220) 및 마스터 몰드 패턴(200)의 각각의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률을 제어할 수 있다.The position of the inner part 216 of the present disclosure is adjusted, so that the shape of each cross section of the outer part 220 and the master mold pattern 200, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u can be controlled. .

도 12는 예시적인 실시예들에 따른 마스터 몰드의 평면도이다. 도 13a는 도 12의 I-I'선을 따른 단면도이다. 도 13b는 도 12의 J-J'선을 따른 단면도이다. 설명의 간결함을 위해, 도 1, 도 2a, 및 도 2b를 참조하여 설명된 것과 실질적으로 동일한 내용은 설명되지 않을 수 있다. 이하에선, 도 1, 도 2a, 및 도 2b를 참조하여 설명된 마스터 몰드(10)와의 차이점이 중점적으로 설명된다. 12 is a plan view of a master mold according to exemplary embodiments. 13A is a cross-sectional view taken along line II′ of FIG. 12. 13B is a cross-sectional view taken along line J-J' of FIG. 12. For the sake of brevity, contents substantially the same as those described with reference to FIGS. 1, 2A, and 2B may not be described. In the following, differences from the master mold 10 described with reference to FIGS. 1, 2A, and 2B will be mainly described.

도 12, 도 13a, 및 도 13b를 참조하면, 기판(100),마스터 몰드 패턴들(200), 및 갭필부(230)를 포함하는 마스터 몰드(14)가 제공될 수 있다. 도 1, 도 2a, 및 도 2b에 도시된 것과 달리, 기판(100)은 리세스 영역들(RR)을 포함할 수 있다. 리세스 영역들(RR)은 기판(100)의 상면(100u)에 평행한 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2)을 따라 배열될 수 있다. 리세스 영역들(RR)은 마스터 몰드 패턴들(200)과 각각 중첩할 수 있다. 다시 말해, 마스터 몰드 패턴들(200)은 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2)을 따라 배열될 수 있다. 서로 바로 인접한 마스터 몰드 패턴들(200)은 제1 방향(DR1) 또는 제2 방향(DR2)을 따라 서로 이격될 수 있다. 리세스 영역들(RR)의 각각은 제1 및 제2 방향들(DR1, DR2)을 따라 서로 다른 크기들을 가질 수 있다. 예를 들어, 리세스 영역들(RR)의 각각의 제1 방향(DR1)을 따른 크기는 리세스 영역들(RR)의 각각의 제2 방향(DR2)을 따른 크기보다 작을 수 있다. 12, 13A, and 13B, a master mold 14 including a substrate 100, master mold patterns 200, and a gap fill part 230 may be provided. 1, 2A, and 2B, the substrate 100 may include recess regions RR. The recess regions RR may be arranged along a first direction DR1 and a second direction DR2 parallel to the upper surface 100u of the substrate 100. The recess regions RR may overlap the master mold patterns 200, respectively. In other words, the master mold patterns 200 may be arranged along the first direction DR1 and the second direction DR2. The master mold patterns 200 immediately adjacent to each other may be spaced apart from each other along the first direction DR1 or the second direction DR2. Each of the recess regions RR may have different sizes along the first and second directions DR1 and DR2. For example, a size of the recess areas RR along each of the first direction DR1 may be smaller than a size of the recess areas RR along each of the second direction DR2.

도 1, 도 2a, 및 도 2b에 도시된 것과 달리, 마스터 몰드 패턴들(200)의 각각은 내측부를 포함하지 않을 수 있다. 마스터 몰드 패턴들(200)의 각각은 외측부(220)를 포함할 수 있다. 외측부(220)는 리세스 영역(RR)을 채울 수 있다. 외측부(220)의 상면(220u)은 오목한 형상을 가질 수 있다. 외측부(220)의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률은 리세스 영역(RR)에 의해 조절될 수 있다. 리세스 영역(RR)은 제1 및 제2 방향들(DR1, DR2)을 따라 서로 다른 크기들을 가지므로, 외측부(220)의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률은 서로 다른 방향들에 대해 이방성을 가질 수 있다. 예를 들어, 제1 방향(DR1)을 따른 외측부(220)의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률은 제2 방향(DR2)을 따른 외측부(220)의 단면의 형상, 상면(220u)의 형상, 및 상면(220u)의 곡률과 다를 수 있다. 본 실시예에서, 평면적 관점에서, 외측부(220)의 형상은 제1 및 제2 방향들(DR1, DR2)에 대해 등방성을 가질 수 있다. 1, 2A, and 2B, each of the master mold patterns 200 may not include an inner portion. Each of the master mold patterns 200 may include an outer portion 220. The outer part 220 may fill the recess area RR. The upper surface 220u of the outer portion 220 may have a concave shape. The shape of the cross section of the outer portion 220, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u may be adjusted by the recess region RR. Since the recess region RR has different sizes along the first and second directions DR1 and DR2, the shape of the cross section of the outer portion 220, the shape of the upper surface 220u, and the shape of the upper surface 220u Curvature can have anisotropy for different directions. For example, the shape of the cross-section of the outer portion 220 along the first direction DR1, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u are the cross-section of the outer portion 220 along the second direction DR2 It may be different from the shape of the upper surface 220u, the shape of the upper surface 220u, and the curvature of the upper surface 220u. In this embodiment, from a plan view, the shape of the outer portion 220 may have isotropic properties with respect to the first and second directions DR1 and DR2.

갭필부(230)는 마스터 몰드 패턴들(200) 사이에 제공될 수 있다. 갭필부(230)는 마스터 몰드 패턴들(200) 사이의 영역을 채울 수 있다. 갭필부(230)의 상면(230u)은 마스터 몰드 패턴들(200)의 상면들(220u)과 공면을 이룰 수 있다. 갭필부(230)의 상면(230u)이 기판(100)의 상면(100u)에 평행한 것으로 도시되었으나, 이는 예시적인 것이다. 다른 예에서, 갭필부(230)의 상면(230u)은 곡면일 수 있다. The gap fill part 230 may be provided between the master mold patterns 200. The gap fill part 230 may fill an area between the master mold patterns 200. The upper surface 230u of the gap fill part 230 may be coplanar with the upper surfaces 220u of the master mold patterns 200. Although the upper surface 230u of the gap fill part 230 is shown to be parallel to the upper surface 100u of the substrate 100, this is exemplary. In another example, the upper surface 230u of the gap fill part 230 may be a curved surface.

본 개시의 리세스 영역(RR)의 형상이 조절되어, 외측부(220) 및 마스터 몰드 패턴(200)의 각각의 형상, 상면의 형상, 및 상면의 곡률을 제어할 수 있다.The shape of the recess region RR of the present disclosure is adjusted, so that each shape of the outer portion 220 and the master mold pattern 200, the shape of the upper surface, and the curvature of the upper surface may be controlled.

도 14는 예시적인 실시예에 따른 마이크로 렌즈 어레이 시트를 제조하는 방법을 설명하기 위한 순서도이다. 도 15a, 도 16a, 및 17a는 도 14를 참조하여 설명되는 마이크로 렌즈 어레이 시트를 제조하는 방법을 설명하기 위한 도 1의 A-A'선에 대응하는 단면도들이다. 도 15b, 도 16b, 및 17b는 도 14를 참조하여 설명되는 마이크로 렌즈 어레이 시트를 제조하는 방법을 설명하기 위한 도 1의 B-B'선에 대응하는 단면도들이다. 설명의 간결함을 위해, 도 3 내지 도 5b를 참조하여 설명된 것과 실질적으로 동일한 내용은 설명되지 않을 수 있다.Fig. 14 is a flow chart illustrating a method of manufacturing a micro lens array sheet according to an exemplary embodiment. 15A, 16A, and 17A are cross-sectional views corresponding to line A-A' of FIG. 1 for explaining a method of manufacturing a microlens array sheet described with reference to FIG. 14. 15B, 16B, and 17B are cross-sectional views corresponding to line B-B' of FIG. 1 for explaining a method of manufacturing a microlens array sheet described with reference to FIG. 14. For the sake of brevity, contents substantially the same as those described with reference to FIGS. 3 to 5B may not be described.

도 14, 도 15a, 및 도 15b를 참조하면, 마스터 몰드(20) 상에 유기 박막(300) 및 복제 몰드(400)가 형성될 수 있다.(S210) 마스터 몰드(20)는 도 1 내지 도 2b를 참조하여 설명된 마스터 몰드(10)일 수 있다. 마스터 몰드(20)는 도 3 내지 도 5b를 참조하여 설명된 마스터 몰드(10)의 제조 공정과 실질적으로 동일한 공정에 의해 형성될 수 있다. 다만, 마스터 몰드(20)는 도 1 내지 도 2b를 참조하여 설명된 마스터 몰드(10)로 한정되지 않는다. 다른 예에서, 마스터 몰드(20)는 앞서 설명한 마스터 몰드들(11, 12, 13, 14) 중 어느 하나일 수 있다. 14, 15A, and 15B, an organic thin film 300 and a replica mold 400 may be formed on the master mold 20 (S210). The master mold 20 is illustrated in FIGS. 1 to 15. It may be the master mold 10 described with reference to 2b. The master mold 20 may be formed by substantially the same process as the manufacturing process of the master mold 10 described with reference to FIGS. 3 to 5B. However, the master mold 20 is not limited to the master mold 10 described with reference to FIGS. 1 to 2B. In another example, the master mold 20 may be any one of the master molds 11, 12, 13, and 14 described above.

유기 박막(300)은 마스터 몰드(20) 상에 코팅 또는 증착될 수 있다. 예를 들어, 유기 박막(300)은 스프레이 코팅(Spray Coating) 공정에 의해 형성될 수 있다. 유기 박막(300)은 마스터 몰드(20)를 컨포멀하게 덮을 수 있다. 유기 박막(300)은 마스터 몰드 패턴들(200) 사이의 영역을 채울 수 있다. 예를 들어, 유기 박막(300)은 네거티브 포토레지스트 또는 UV 수지를 포함할 수 있다. 다만, 유기 박막(300)은 선택적으로 형성될 수 있다. 다른 예에서, 유기 박막(300)은 형성되지 않을 수 있다. 즉, 다른 예에서, 마스터 몰드(20) 상에 복제 몰드(400)가 바로 형성될 수 있다.The organic thin film 300 may be coated or deposited on the master mold 20. For example, the organic thin film 300 may be formed by a spray coating process. The organic thin film 300 may conformally cover the master mold 20. The organic thin film 300 may fill a region between the master mold patterns 200. For example, the organic thin film 300 may include a negative photoresist or UV resin. However, the organic thin film 300 may be selectively formed. In another example, the organic thin film 300 may not be formed. That is, in another example, the replica mold 400 may be directly formed on the master mold 20.

복제 몰드(400)는 유기 박막(300) 상에 코팅 또는 증착된 후, 경화되어 형성될 수 있다. 복제 몰드(400)는 경화성 수지를 포함할 수 있다. 예를 들어, 경화성 수지는 열 경화성 수지 또는 광 경화성 수지를 포함할 수 있다. 예를 들어, 복제 몰드(400)는 PDMS(polydimethylsiloxane) 또는 UV 수지를 포함할 수 있다.The replica mold 400 may be coated or deposited on the organic thin film 300 and then cured to be formed. The replica mold 400 may include a curable resin. For example, the curable resin may include a thermosetting resin or a photocurable resin. For example, the replica mold 400 may include polydimethylsiloxane (PDMS) or UV resin.

도 14, 도 16a, 및 도 16b를 참조하면, 복제 몰드(400)가 마스터 몰드(20)로부터 분리될 수 있다. 예를 들어, 복제 몰드(400)는 화학적 방법 또는 기계적 방법을 통해 마스터 몰드(20)로부터 분리될 수 있다.14, 16A, and 16B, the replica mold 400 may be separated from the master mold 20. For example, the replica mold 400 may be separated from the master mold 20 through a chemical method or a mechanical method.

분리된 복제 몰드(400) 상에 마이크로 렌즈 어레이 시트(30)가 형성될 수 있다.(S220) 마이크로 렌즈 어레이 시트(30)는 베이스 필름(600) 및 베이스 필름(600)과 복제 몰드(400) 사이에 형성되는 렌즈 필름(500)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 마이크로 렌즈 어레이 시트(30)는 복제 몰드(400) 상에 렌즈 필름(500) 및 베이스 필름(600)을 제공한 후, 렌즈 필름(500)을 경화하는 공정에 의해 형성될 수 있다. 렌즈 필름(500)은 경화성 수지를 포함할 수 있다. 예를 들어, 경화성 수지는 열 경화성 수지 또는 광 경화성 수지를 포함할 수 있다.베이스 필름(600)은 유연할 수 있다. 예를 들어, 베이스 필름(600)은 에폭시(epoxy), 폴리우레탄(polyurethane), 아크릴(acryl), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate), 트리아세틸셀룰로오스(triacetyl celluose), 폴리에틸렌(polyethylene), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylene naphthalate), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리에테르술폰(polyether sulfone), 폴리아릴레이트(polyarylate), 사이클로올레핀 공중합체(cycloolefin copolymer), PDMS(polydimethylsiloxane), 폴리이미드(polyimide), 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The microlens array sheet 30 may be formed on the separated replica mold 400. (S220) The microlens array sheet 30 includes a base film 600, a base film 600, and a replica mold 400. It may include a lens film 500 formed therebetween. For example, the micro lens array sheet 30 may be formed by a process of curing the lens film 500 after providing the lens film 500 and the base film 600 on the replica mold 400. . The lens film 500 may include a curable resin. For example, the curable resin may include a thermosetting resin or a photocurable resin. The base film 600 may be flexible. For example, the base film 600 is epoxy, polyurethane, acrylic, polyethylene terephthalate, triacetyl celluose, polyethylene, polyethylene naphthalate (polyethylene naphthalate), polycarbonate, polyether sulfone, polyarylate, cycloolefin copolymer, PDMS (polydimethylsiloxane), polyimide, or combinations thereof It may include.

도 14, 도 17a, 및 도 17b를 참조하면, 마이크로 렌즈 어레이 시트(30)가 복제 몰드(400)로부터 분리될 수 있다.(S230) 예를 들어, 마이크로 렌즈 어레이 시트(30)는 화학적 방법 또는 기계적 방법을 통해 복제 몰드(400)로부터 분리될 수 있다. 14, 17A, and 17B, the microlens array sheet 30 may be separated from the replica mold 400 (S230). For example, the microlens array sheet 30 is a chemical method or It can be separated from the replica mold 400 through a mechanical method.

렌즈 필름(500)은 복제 몰드(400)의 상면(400u)에 대응하는 형상을 갖는 마이크로 렌즈들(510)을 포함할 수 있다. 마스터 몰드 패턴들(200)과 마찬가지로, 마이크로 렌즈들(510)의 각각의 평면적 형상은 등방성을 가지나, 단면의 형상, 상면의 형상, 및 상면의 곡률은 이방성을 가질 수 있다. 예를 들어, 평면적 관점에서, 상기 마이크로 렌즈들(510)의 각각의 제1 방향(DR1)을 따른 크기는 제2 방향(DR2)을 따른 크기와 실질적으로 동일할 수 있다. 상기 제1 방향(DR1) 및 상기 제2 방향(DR2)은 베이스 필름(600)의 상면에 평행할 수 있다. 예를 들어, 서로 동일한 준위들에 배치된 상기 마이크로 렌즈들(510)의 각각의 상면의 두 지점들은 서로 다른 곡률들을 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 마이크로 렌즈들(510)의 각각의 중심축을 지나는 제1 단면 및 제2 단면은 서로 다른 형상들을 가질 수 있다. 상기 제1 및 제2 단면들은 각각 제1 및 제2 방향들(DR1, DR2)에 평행할 수 있다.The lens film 500 may include micro lenses 510 having a shape corresponding to the top surface 400u of the replica mold 400. Like the master mold patterns 200, each of the microlenses 510 has an isotropic planar shape, but the shape of the cross-section, the shape of the upper surface, and the curvature of the upper surface may have anisotropy. For example, from a plan view, the size of the microlenses 510 along the first direction DR1 may be substantially the same as the size along the second direction DR2. The first direction DR1 and the second direction DR2 may be parallel to an upper surface of the base film 600. For example, two points on the upper surface of each of the microlenses 510 disposed at the same levels may have different curvatures. For example, a first cross section and a second cross section passing through each central axis of the micro lenses 510 may have different shapes. The first and second cross-sections may be parallel to the first and second directions DR1 and DR2, respectively.

일 예에서, 마이크로 렌즈들(510)은 서로 실질적으로 동일한 형상 및 실질적으로 동일한 크기를 가질 수 있다. 다른 예에서, 마이크로 렌즈들(510)은 베이스 필름(600)의 상면에 평행한 일 방향을 따라 서로 다른 크기들을 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 일 방향은 제1 방향(DR1) 또는 제2 방향(DR2)일 수 있다. 예를 들어, 마이크로 렌즈들(510)의 일 방향을 따른 크기들 중에서, 가장 작은 크기는 가장 큰 크기의 약 1/2 배 이상일 수 있다. 마이크로 렌즈들(510)이 상기 일 방향을 따라 서로 다른 크기들을 갖는 경우, 모아레 현상 및 간섭 효과가 감소할 수 있다. 서로 바로 인접한 한 쌍의 마이크로 렌즈들(510)은 서로 접할 수 있다.In one example, the micro lenses 510 may have substantially the same shape and substantially the same size as each other. In another example, the micro lenses 510 may have different sizes along one direction parallel to the top surface of the base film 600. For example, the one direction may be a first direction DR1 or a second direction DR2. For example, among the sizes of the microlenses 510 along one direction, the smallest size may be about 1/2 times or more of the largest size. When the microlenses 510 have different sizes along the one direction, a moire phenomenon and an interference effect may be reduced. A pair of micro lenses 510 immediately adjacent to each other may contact each other.

본 개시의 마스터 몰드 패턴(200)은 평면적 형상은 등방성을 가지나, 단면의 형상, 상면의 형상, 및 상면의 곡률에 대해 이방성을 가질 수 있다. 마스터 몰드 패턴들(200)의 각각의 단면의 형상, 상면의 형상, 및 상면의 곡률에 대한 이방성은 내측부(210)에 의해 조절될 수 있다. 마이크로 렌즈들(510)의 형상은 마스터 몰드(10, 11, 12, 13, 14)에 의해 결정될 수 있다. 본 개시는 내측부(210)에 의해 이방성이 조절되는 마이크로 렌즈들(510)을 포함하는 마이크로 렌즈 어레이 시트(30)를 제공할 수 있다.The master mold pattern 200 of the present disclosure has an isotropic planar shape, but may have anisotropy with respect to the shape of the cross-section, the shape of the upper surface, and the curvature of the upper surface. The shape of each cross section of the master mold patterns 200, the shape of the upper surface, and the anisotropy of the curvature of the upper surface may be controlled by the inner part 210. The shapes of the micro lenses 510 may be determined by the master molds 10, 11, 12, 13, and 14. The present disclosure may provide a micro lens array sheet 30 including micro lenses 510 whose anisotropy is controlled by the inner part 210.

본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 대한 이상의 설명은 본 발명의 기술적 사상의 설명을 위한 예시를 제공한다. 따라서 본 발명의 기술적 사상은 이상의 실시예들에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 상기 실시예들을 조합하여 실시하는 등 여러 가지 많은 수정 및 변경이 가능함은 명백하다.The above description of the embodiments of the technical idea of the present invention provides an example for explaining the technical idea of the present invention. Therefore, the technical idea of the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications and changes such as a combination of the above embodiments by a person skilled in the art within the technical scope of the present invention It is clear that this is possible.

10, 11, 12, 13, 14: 마스터 몰드 100: 기판
200: 마스터 몰드 패턴 210, 212, 214, 216: 내측부
220: 외측부 222: 예비 외측부
RR: 리세스 영역 300: 유기 박막
400: 복제 몰드 500: 렌즈 필름
510: 마이크로 렌즈 600: 베이스 필름
30: 마이크로 렌즈 어레이 시트
10, 11, 12, 13, 14: master mold 100: substrate
200: master mold pattern 210, 212, 214, 216: inner part
220: outer portion 222: spare outer portion
RR: recess region 300: organic thin film
400: replica mold 500: lens film
510: micro lens 600: base film
30: micro lens array sheet

Claims (20)

베이스 필름; 및
상기 베이스 필름 상에 제공되는 복수의 마이크로 렌즈들;을 포함하되,상기 복수의 마이크로 렌즈들의 각각은, 상기 베이스 필름의 상면에 평행한 제1 방향 및 제2 방향을 각각 따르는 제1 단면 및 제2 단면을 갖고,
상기 제1 단면 및 상기 제2 단면은 상기 복수의 마이크로 렌즈들의 각각의 중심축을 지나고,
상기 제1 단면의 형상 및 상기 제2 단면의 형상은 서로 다르며,
평면적 관점에서, 상기 복수의 마이크로 렌즈들의 상기 각각의 상기 제1 방향을 따른 크기는 상기 제2 방향을 따른 크기와 동일하고,
상기 복수의 마이크로 렌즈들은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향을 따라 배열되는 마이크로 렌즈 어레이 시트.
Base film; And
Including a plurality of microlenses provided on the base film, each of the plurality of microlenses, a first cross section and a second cross section respectively along a first direction and a second direction parallel to the top surface of the base film Have a cross section,
The first cross section and the second cross section pass through respective central axes of the plurality of micro lenses,
The shape of the first cross section and the shape of the second cross section are different from each other,
In a plan view, a size of each of the plurality of micro lenses along the first direction is the same as a size along the second direction,
The plurality of micro lenses are arranged along the first direction and the second direction of the micro lens array sheet.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
평면적 관점에서, 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향은 서로 직교하는 마이크로 렌즈 어레이 시트.
The method of claim 1,
In a plan view, the first direction and the second direction are orthogonal to each other.
제 1 항에 있어서,
서로 동일한 준위들에 배치된 상기 마이크로 렌즈들의 상기 각각의 상면의 두 지점들은 서로 다른 곡률들을 갖는 마이크로 렌즈 어레이 시트.
The method of claim 1,
Two points on the upper surface of each of the microlenses disposed at the same levels with each other have different curvatures.
제 4 항에 있어서,
상기 두 지점들은 각각 상기 제1 단면 및 상기 제2 단면 상에 제공되는 마이크로 렌즈 어레이 시트.
The method of claim 4,
The two points are provided on the first end face and the second end face, respectively.
제 1 항에 있어서,
상기 복수의 마이크로 렌즈들은 상기 베이스 필름의 상기 상면에 평행한 일 방향을 따라 서로 다른 크기들을 갖고,
상기 복수의 마이크로 렌즈들의 상기 일 방향을 따른 크기들 중에서, 가장 작은 크기는 가장 큰 크기의 1/2 배 이상이고,
상기 복수의 마이크로 렌즈들 중, 서로 바로 인접한 한 쌍의 마이크로 렌즈들은 서로 접하는 마이크로 렌즈 어레이 시트.
The method of claim 1,
The plurality of micro lenses have different sizes along one direction parallel to the top surface of the base film,
Among the sizes along the one direction of the plurality of micro lenses, the smallest size is at least 1/2 times the largest size,
Of the plurality of microlenses, a pair of microlenses immediately adjacent to each other contact each other.
기판; 및
상기 기판 상에 제공되는 마스터 몰드 패턴들;을 포함하되,
상기 마스터 몰드 패턴들의 각각은:
내측부; 및
상기 내측부를 덮는 외측부;를 포함하고,
상기 마스터 몰드 패턴들의 상기 각각은, 상기 기판의 상면에 평행한 제1 방향 및 제2 방향을 각각 따르는 제1 단면 및 제2 단면을 갖고,
상기 제1 단면 및 상기 제2 단면은 상기 마스터 몰드 패턴들의 상기 각각의 중심축을 지나고,
상기 제1 단면의 형상 및 상기 제2 단면의 형상은 서로 다르며,
평면적 관점에서, 상기 마스터 몰드 패턴들의 상기 각각의 상기 제1 방향을 따른 크기는 상기 제2 방향을 따른 크기와 동일한, 마이크로 렌즈 어레이 시트를 제조하기 위한 몰드.
Board; And
Including; master mold patterns provided on the substrate,
Each of the master mold patterns is:
Inner part; And
Includes; an outer portion covering the inner portion,
Each of the master mold patterns has a first cross section and a second cross section respectively along a first direction and a second direction parallel to the upper surface of the substrate,
The first cross section and the second cross section pass through the respective central axes of the master mold patterns,
The shape of the first cross section and the shape of the second cross section are different from each other,
In a plan view, a size of each of the master mold patterns along the first direction is the same as a size along the second direction.
제 7 항에 있어서,
상기 내측부의 상기 제1 방향을 따른 크기는 상기 내측부의 상기 제2 방향을 따른 크기와 다른, 마이크로 렌즈 어레이 시트를 제조하기 위한 몰드.
The method of claim 7,
A mold for manufacturing a microlens array sheet, wherein a size of the inner portion along the first direction is different from a size of the inner portion along the second direction.
제 7 항에 있어서,
상기 내측부는 경화성 수지를 포함하고,
상기 외측부는 가소성 수지를 포함하는, 마이크로 렌즈 어레이 시트를 제조하기 위한 몰드.
The method of claim 7,
The inner part contains a curable resin,
The outer portion includes a plastic resin, a mold for manufacturing a micro lens array sheet.
제 7 항에 있어서,
상기 제1 단면 상의 상기 마이크로 렌즈들의 상기 각각의 상면의 형상은 상기 제2 단면 상의 상기 마이크로 렌즈들의 상기 각각의 상면의 형상과 다른, 마이크로 렌즈 어레이 시트를 제조하기 위한 몰드.
The method of claim 7,
A mold for manufacturing a microlens array sheet, wherein the shape of the top surface of each of the microlenses on the first cross-section is different from the shape of the top surface of each of the microlenses on the second cross-section.
제 7 항에 있어서,
상기 내측부의 상면은 요철 형상을 갖는, 마이크로 렌즈 어레이 시트를 제조하기 위한 몰드.
The method of claim 7,
The upper surface of the inner portion has an uneven shape, a mold for manufacturing a micro lens array sheet.
제 7 항에 있어서,
상기 내측부는 상기 외측부의 일측에 편중되게 배치되는, 마이크로 렌즈 어레이 시트를 제조하기 위한 몰드.
The method of claim 7,
A mold for manufacturing a micro lens array sheet, wherein the inner portion is disposed to be lean on one side of the outer portion.
리세스 영역들을 갖는 기판; 및
상기 리세스 영역들 상에 각각 제공되는 마스터 몰드 패턴들;을 포함하되,
상기 리세스 영역들은 상기 기판의 상면이 함몰된 영역들이고,
상기 마스터 몰드 패턴들의 각각은, 상기 기판의 상기 상면에 평행한 제1 방향 및 제2 방향을 각각 따르는 제1 단면 및 제2 단면을 갖고,
상기 제1 단면 및 상기 제2 단면은 상기 마스터 몰드 패턴들의 상기 각각의 중심축을 지나고,
상기 제1 단면의 형상 및 상기 제2 단면의 형상은 서로 다르며,
평면적 관점에서, 상기 마스터 몰드 패턴들의 상기 각각의 상기 제1 방향을 따른 크기는 상기 제2 방향을 따른 크기와 동일한, 마이크로 렌즈 어레이 시트를 제조하기 위한 몰드.
A substrate having recess regions; And
Including; master mold patterns provided on each of the recess regions,
The recess regions are regions in which the upper surface of the substrate is recessed,
Each of the master mold patterns has a first cross section and a second cross section respectively along a first direction and a second direction parallel to the upper surface of the substrate,
The first cross section and the second cross section pass through the respective central axes of the master mold patterns,
The shape of the first cross section and the shape of the second cross section are different from each other,
In a plan view, a size of each of the master mold patterns along the first direction is the same as a size along the second direction.
제 13 항에 있어서,
상기 마스터 몰드 패턴들의 상기 각각은 오목한 상면을 갖는, 마이크로 렌즈 어레이 시트를 제조하기 위한 몰드.
The method of claim 13,
Each of the master mold patterns has a concave upper surface, a mold for manufacturing a micro lens array sheet.
제 13 항에 있어서,
상기 리세스 영역들의 각각의 상기 제1 방향을 따른 크기는 상기 리세스 영역들의 상기 각각의 상기 제2 방향을 따른 크기와 다른, 마이크로 렌즈 어레이 시트를 제조하기 위한 몰드.
The method of claim 13,
A mold for manufacturing a microlens array sheet, wherein a size of each of the recess regions along the first direction is different from a size of each of the recess regions along the second direction.
마스터 몰드를 형성하는 것;
마스터 몰드 상에 복제 몰드를 형성하는 것;
상기 복제 몰드를 상기 마스터 몰드로부터 분리하는 것;
상기 복제 몰드 상에 마이크로 렌즈 어레이 시트를 형성하는 것; 및
상기 마이크로 렌즈 어레이 시트를 상기 복제 몰드로부터 분리하는 것;을 포함하되,
상기 마스터 몰드를 형성하는 것은:
기판 상에 내측부들을 형성하는 것;
상기 내측부들 상에 예비 외측부들을 각각 형성하는 것; 및
상기 예비 외측부들에 리플로우 공정을 수행하여, 외측부들을 형성하는 것;을 포함하되,
상기 내측부들의 각각의 상기 기판의 상면에 평행한 제1 방향을 따른 크기와 상기 내측부들의 상기 각각의 상기 기판의 상기 상면에 평행한 제2 방향을 따른 크기가 서로 다르고,
평면적 관점에서, 상기 외측부들의 각각의 상기 제1 방향을 따른 크기는 상기 제2 방향을 따른 크기와 동일한, 마이크로 렌즈 어레이 시트의 제조 방법.
Forming a master mold;
Forming a replica mold on the master mold;
Separating the replica mold from the master mold;
Forming a micro lens array sheet on the replica mold; And
Including; separating the micro lens array sheet from the replica mold;
Forming the master mold:
Forming inner portions on the substrate;
Forming preliminary outer portions on the inner portions, respectively; And
Including; performing a reflow process on the preliminary outer portions to form outer portions;
A size of each of the inner portions along a first direction parallel to the top surface of the substrate and a size of the inner portions along a second direction parallel to the top surface of each of the substrates are different from each other,
In a plan view, a size of each of the outer portions along the first direction is the same as a size along the second direction.
제 16 항에 있어서,
상기 복제 몰드를 형성하는 것은:
상기 마스터 몰드 상에 제1 경화성 수지막을 형성하는 것;
상기 제1 경화성 수지막을 경화시키는 것; 및
상기 마스터 몰드를 제거하는 것;을 포함하는, 마이크로 렌즈 어레이 시트의 제조 방법.
The method of claim 16,
Forming the replica mold is:
Forming a first curable resin film on the master mold;
Curing the first curable resin film; And
Removing the master mold; containing, a method of manufacturing a micro lens array sheet.
제 16 항에 있어서,
상기 마스터 몰드와 상기 복제 몰드 사이에 유기 박막을 코팅하는 것;을 더 포함하되,
상기 유기 박막은 네거티브 포토레지스트 또는 UV 수지를 포함하는, 마이크로 렌즈 어레이 시트의 제조 방법.
The method of claim 16,
Coating an organic thin film between the master mold and the replica mold; further comprising,
The organic thin film comprises a negative photoresist or UV resin, a method of manufacturing a micro lens array sheet.
제 16 항에 있어서,
상기 마이크로 렌즈 어레이 시트를 형성하는 것은:
상기 복제 몰드 상에 제2 경화성 수지막을 형성하는 것; 및
상기 제2 경화성 수지막을 경화하는 것;을 포함하는, 마이크로 렌즈 어레이 시트의 제조 방법.
The method of claim 16,
Forming the micro lens array sheet is:
Forming a second curable resin film on the replica mold; And
Curing the second curable resin film; containing, a method of manufacturing a micro lens array sheet.
제 19 항에 있어서,
상기 마이크로 렌즈 어레이 시트를 형성하는 것은:
상기 제2 경화성 수지막 상에 베이스 필름을 형성하는 것을 더 포함하는, 마이크로 렌즈 어레이 시트의 제조 방법.
The method of claim 19,
Forming the micro lens array sheet is:
A method of manufacturing a microlens array sheet, further comprising forming a base film on the second curable resin film.
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