KR102238983B1 - Device for removing dental plaque - Google Patents

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Abstract

본 발명은 칫솔 헤드와 상기 칫솔 헤드에 형성된 칫솔모를 포함하는 칫솔에 결합되어 치아 플라크를 제거하기 위한 장치에 있어서, 상기 칫솔 헤드와 결합되는 몸체부; 및 상기 몸체부의 양측에 각각 형성되어 상기 칫솔모의 양측에 배치되며, 상기 치아 플라크의 제거를 위한 전기장을 제공하는 한 쌍의 메인 전극부; 를 포함하는 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치에 관한 것이다.The present invention is an apparatus for removing tooth plaque by being coupled to a toothbrush including a toothbrush head and a bristles formed on the toothbrush head, comprising: a body portion coupled to the toothbrush head; And a pair of main electrode portions respectively formed on both sides of the body portion, disposed on both sides of the bristles, and providing an electric field for removing the tooth plaque. It relates to a toothbrush-coupled tooth plaque removal device comprising a.

Description

칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치{DEVICE FOR REMOVING DENTAL PLAQUE}Toothbrush-coupled tooth plaque removal device{DEVICE FOR REMOVING DENTAL PLAQUE}

본 발명은 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 칫솔에 결합되어 효과적으로 치아 플라크를 제거할 수 있는 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a toothbrush-coupled tooth plaque removal device, and more particularly, to a toothbrush-coupled tooth plaque removal device that can effectively remove tooth plaque by being coupled to a toothbrush.

바이오 필름이란, 박테리아가 군집을 이룰 경우에 박테리아가 스스로를 보호하기 위해 형성한 막을 의미한다. 또한, 바이오 필름이 타액과 치아와 잇몸 사이의 공간 내에 칼슘(Ca), 인(P) 등의 무기질이 침착되어 형성된 것을 플라크(Plaque)라고 한다. 플라크는 무균 상태의 얇은 막에 미생물, 치은 박리세포, 백혈구 및 음식물 등이 부착되면서 생성된다. 플라크가 생성된 구강 내에는 세균이 증식하며, 증식한 세균에 의하여 치아 조직에 심각한 염증이 발생될 수 있다. Biofilm refers to a film formed by bacteria to protect themselves when bacteria form a colony. In addition, a biofilm formed by depositing minerals such as calcium (Ca) and phosphorus (P) in the space between saliva and teeth and gums is called plaque. Plaque is produced by attaching microorganisms, gingival detachment cells, white blood cells, and food to a sterile thin film. Bacteria proliferate in the oral cavity where plaque is generated, and severe inflammation may occur in the tooth tissue by the proliferated bacteria.

이러한 플라크로 인해 치아 조직에 발생한 염증, 예를 들어 충치 등의 발생을 억제 및 예방하기 위하여, 플라크를 보다 효과적으로 제거할 수 있는 방법에 대한 개발이 요구되고 있다. In order to suppress and prevent the occurrence of inflammation in tooth tissues due to such plaques, for example, tooth decay, there is a need to develop a method that can more effectively remove plaques.

상술한 문제점을 해결하기 위해 안출된 본 발명의 목적은 기존 칫솔에 결합 가능한 구조를 통해 보다 효과적으로 치아 플라크를 제거할 수 있는 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치를 제공하기 위한 것이다.An object of the present invention conceived to solve the above-described problems is to provide a toothbrush-coupled tooth plaque removal device capable of more effectively removing tooth plaque through a structure that can be coupled to an existing toothbrush.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따르면, 본 발명은 칫솔 헤드와 상기 칫솔 헤드에 형성된 칫솔모를 포함하는 칫솔에 결합되어 치아 플라크를 제거하기 위한 장치로, 상기 칫솔 헤드와 결합되는 몸체부, 및 상기 몸체부의 양측에 각각 형성되어 상기 칫솔모의 양측에 배치되며, 상기 치아 플라크의 제거를 위한 전기장을 제공하는 한 쌍의 메인 전극부를 포함할 수 있다.According to the features of the present invention for achieving the object as described above, the present invention is a device for removing tooth plaque by being coupled to a toothbrush including a toothbrush head and a bristles formed on the toothbrush head, which is combined with the toothbrush head. It may include a body portion and a pair of main electrode portions respectively formed on both sides of the body portion and disposed on both sides of the bristles, and providing an electric field for removing the tooth plaque.

또한, 상기 메인 전극부는, 상기 몸체부로부터 상측으로 연장 형성된 적어도 하나의 메인 연장편 및 상기 메인 연장편의 내측면에 형성된 적어도 하나의 메인 전극을 포함할 수 있다.In addition, the main electrode portion may include at least one main extension piece extending upward from the body portion and at least one main electrode formed on an inner surface of the main extension piece.

또한, 상기 메인 전극은, 상기 메인 연장편으로부터 멀어질수록 폭이 감소하는 형상으로 형성될 수 있다.Further, the main electrode may be formed in a shape whose width decreases as the distance increases from the main extension piece.

또한, 상기 몸체부에 형성되어, 상기 칫솔모의 상측 또는 하측에 배치되는 서브 전극부를 더 포함할 수 있다.In addition, it may further include a sub-electrode portion formed on the body portion, disposed on the upper or lower side of the bristles.

또한, 상기 서브 전극부는, 상기 몸체부로부터 상측으로 연장 형성된 적어도 하나의 서브 연장편 및 상기 서브 연장편의 내측면에 형성된 적어도 하나의 서브 전극을 포함할 수 있다.In addition, the sub-electrode portion may include at least one sub-extension piece extending upward from the body portion and at least one sub-electrode formed on an inner surface of the sub-extension piece.

또한, 상기 메인 전극부와 상기 서브 전극부는, 상이한 높이로 설정될 수 있다.In addition, the main electrode portion and the sub electrode portion may be set to different heights.

또한, 상기 서브 전극부는, 상기 메인 전극부와 극성이 상이한 전압을 공급받을 수 있다.In addition, the sub electrode part may receive a voltage having a polarity different from that of the main electrode part.

또한, 상기 메인 전극부 및 상기 서브 전극부로 전압을 공급하기 위한 전원 공급부를 더 포함할 수 있다.In addition, a power supply unit for supplying a voltage to the main electrode unit and the sub electrode unit may be further included.

또한, 상기 메인 연장편은, 폴리이미드(polyimide)로 형성될 수 있다.In addition, the main extension piece may be formed of polyimide.

또한, 상기 몸체부는, 형상 기억 고분자(Shape Memory Polymer)로 형성될 수 있다.In addition, the body portion may be formed of a shape memory polymer.

이상 살펴본 바와 같은 본 발명에 따르면, 칫솔 헤드에 탈부착 가능한 구조를 가짐으로써, 기존 칫솔의 활용이 가능한 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치를 제공할 수 있다.According to the present invention as described above, by having a structure that can be attached to the toothbrush head, it is possible to provide a toothbrush-coupled tooth plaque removal device capable of utilizing an existing toothbrush.

또한, 본 발명에 따르면 전기장을 치아에 제공함으로써 플라크를 효과적으로 제거할 수 있는 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치를 제공할 수 있다.In addition, according to the present invention, it is possible to provide a toothbrush-coupled tooth plaque removal device capable of effectively removing plaque by providing an electric field to the teeth.

도 1은 일반적인 칫솔의 형태를 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 의한 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치를 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 의한 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치의 단면을 나타낸 도면이다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 다른 실시예에 의한 메인 전극부를 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 의한 메인 전극을 나타낸 도면이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 의한 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치를 나타낸 도면이다.
도 7은 도 6의 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치가 칫솔과 결합된 상태를 나타낸 상면도이다. 1 is a view showing the shape of a general toothbrush.
2 is a view showing a toothbrush-coupled tooth plaque removal apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a view showing a cross-section of a toothbrush-coupled tooth plaque removal apparatus according to an embodiment of the present invention.
4A and 4B are views showing a main electrode unit according to another embodiment of the present invention.
5 is a view showing a main electrode according to another embodiment of the present invention.
6 is a view showing a toothbrush-coupled tooth plaque removal apparatus according to another embodiment of the present invention.
7 is a top view showing a state in which the toothbrush-coupled tooth plaque removal device of FIG. 6 is coupled with a toothbrush.

이하에서는 본 발명과 관련된 실시예들을 도면에 예시하고 이를 상세한 설명을 통해 구체적으로 설명하고자 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Hereinafter, exemplary embodiments related to the present invention will be illustrated in the drawings and will be described in detail through detailed description. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in a variety of different forms, and it should be understood to include all changes, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. .

본 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. In describing the constituent elements of the present invention, terms such as first, second, A, B, (a), and (b) may be used. These terms are for distinguishing the constituent element from other constituent elements, and the nature, order, or order of the constituent element is not limited by the term.

이하, 본 발명의 실시예들과 관련된 도면들을 참고하여, 본 발명의 실시예에 의한 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치에 대해 설명하도록 한다.Hereinafter, a toothbrush-coupled tooth plaque removal apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings related to the embodiments of the present invention.

도 1은 일반적인 칫솔의 형태를 나타낸 도면이다. 1 is a view showing the shape of a general toothbrush.

도 1을 참조하면, 칫솔(1)은 길게 형성된 바(bar) 형태를 갖는 몸체(2), 몸체(2)의 일단에 형성된 칫솔 헤드(3), 칫솔 헤드(3)의 일면에 형성된 칫솔모(4) 등으로 구성된다. 이러한 칫솔(1)의 구성은 이미 공지되었는 바, 자세한 설명은 생략하도록 한다. Referring to FIG. 1, the toothbrush 1 has a body 2 having an elongated bar shape, a toothbrush head 3 formed at one end of the body 2, and a bristle formed on one side of the toothbrush head 3 ( 4) It consists of etc. The configuration of such a toothbrush 1 is already known, and a detailed description thereof will be omitted.

사용자는 이러한 칫솔(1)을 이용하여 치아의 청결을 유지하고 있다. 다만, 이러한 칫솔(1)의 사용만으로는 치아 플라크의 완전한 제거가 어렵다는 문제가 있었다. The user uses this toothbrush 1 to maintain the cleanliness of the teeth. However, there is a problem that it is difficult to completely remove tooth plaques only by using such a toothbrush (1).

이하에서는 상술한 문제점을 해결하기 위한 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치에 대하여 설명하도록 한다. Hereinafter, a toothbrush-coupled tooth plaque removal apparatus for solving the above-described problems will be described.

도 2는 본 발명의 실시예에 의한 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치를 나타낸 도면이고, 도 3은 본 발명의 실시예에 의한 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치의 단면을 나타낸 도면이다. 특히, 도 3에서는 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치(10)와 칫솔(1)이 결합된 모습을 도시하였다. 2 is a view showing a toothbrush-coupled tooth plaque removal device according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is a view showing a cross-section of a toothbrush-coupled tooth plaque removal device according to an embodiment of the present invention. In particular, in FIG. 3, a toothbrush-coupled tooth plaque removal device 10 and a toothbrush 1 are combined.

도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 의한 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치(10)는 칫솔(1)에 결합 가능한 구조를 가지며 치아 플라크의 제거를 위한 전기장을 제공할 수 있다. 2 and 3, the toothbrush-coupled tooth plaque removal apparatus 10 according to the embodiment of the present invention has a structure that can be coupled to the toothbrush 1 and can provide an electric field for removing tooth plaque.

이를 위하여, 본 발명의 실시예에 의한 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치(10)는 몸체부(100) 및 한 쌍의 메인 전극부(110, 120)를 포함할 수 있다. To this end, the toothbrush-coupled tooth plaque removal apparatus 10 according to an embodiment of the present invention may include a body portion 100 and a pair of main electrode portions 110 and 120.

몸체부(100)는 칫솔 헤드(3)와 결합 가능한 구조로 형성될 수 있다. 이러한 몸체부(100)의 구조를 통하여 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치(10)는 칫솔 헤드(3)와 결합될 수 있다. Body portion 100 may be formed in a structure that can be coupled with the toothbrush head (3). Through the structure of the body portion 100, the toothbrush-coupled tooth plaque removal device 10 may be coupled to the toothbrush head 3.

예를 들어, 칫솔 헤드(3)는 몸체부(100) 내부로 슬라이드 결합될 수 있다. 이를 위하여, 몸체부(100)는 몸체판(101), 및 몸체판(101)의 양측으로부터 각각 연장 형성되는 제1 측면 커버(102)와 제2 측면 커버(103)를 구비할 수 있다. For example, the toothbrush head 3 may be slide-coupled into the body portion 100. To this end, the body portion 100 may include a body plate 101 and a first side cover 102 and a second side cover 103 respectively extending from both sides of the body plate 101.

칫솔 헤드(3)가 몸체부(100) 내부에 결합된 경우, 몸체판(101)은 칫솔 헤드(3)의 후면에 인접 위치하며, 제1 측면 커버(102)와 제2 측면 커버(103)는 칫솔 헤드(3)의 양측면 및 칫솔모(4)와 인접하는 칫솔 헤드(3)의 상부면 일부를 커버할 수 있다. When the toothbrush head 3 is coupled to the inside of the body portion 100, the body plate 101 is located adjacent to the rear surface of the toothbrush head 3, and the first side cover 102 and the second side cover 103 May cover both sides of the toothbrush head 3 and a portion of the upper surface of the toothbrush head 3 adjacent to the bristles 4.

한편, 몸체부(100)는 칫솔(1)과의 착탈을 용이하게 구현하기 위하여 형상 기억 고분자(Shape Memory Polymer, SMP)로 형성될 수 있다. Meanwhile, the body portion 100 may be formed of a shape memory polymer (SMP) in order to easily attach and detach the toothbrush 1.

형상 기억 고분자란 특정 조건에서 어떤 물체를 일정한 모양을 가지도록 만들어 놓으면, 그 이후 조건 변화에 의해 모양이 달라졌다 하더라도 그 물체를 처음과 동일한 조건(예를 들어, 온도 등)으로 만들어 주면 다시 원래의 모양으로 되돌아가는 성질을 가진 고분자이다. Shape-memory polymers are made to have a certain shape under certain conditions, and even if the shape changes due to a change in conditions after that, if the object is made under the same conditions as the first (for example, temperature, etc.), the original It is a polymer that has the property of returning to shape.

예를 들어, 제1 온도 범위에서 몸체부(100)의 형태를 칫솔 헤드(3)가 착탈되기 쉬운 구조로 설정하고, 제2 온도 범위에서 몸체부(100)의 형태를 칫솔 헤드(3)에 공고히 결합 및 고정되는 구조로 설정할 수 있다. For example, the shape of the body portion 100 in the first temperature range is set to a structure in which the toothbrush head 3 is easily detachable, and the shape of the body portion 100 in the second temperature range is set to the toothbrush head 3 It can be set in a structure that is firmly coupled and fixed.

제2 온도 범위는 실온으로 설정될 수 있으며, 일례로 1℃~40℃로 설정될 수 있다. 또한, 제1 온도 범위는 제2 온도 범위보다 높은 고온으로 설정될 수 있으며, 일례로 60℃~80℃로 설정될 수 있다. 다만, 제1 온도 범위와 제2 온도 범위는 이에 제한되지 않으며, 서로 구분될 수 있도록 서로 다른 온도 범위를 가지면 족하다. The second temperature range may be set to room temperature, and for example, may be set to 1°C to 40°C. In addition, the first temperature range may be set to a higher temperature than the second temperature range, for example, may be set to 60 ℃ ~ 80 ℃. However, the first temperature range and the second temperature range are not limited thereto, and it is sufficient to have different temperature ranges so that they can be distinguished from each other.

즉, 몸체부(100)는 제1 온도 범위에서 제1 측면 커버(102)와 제2 측면 커버(103)가 벌어지도록 형태가 변형되어, 칫솔 헤드(3)가 몸체부(100)로부터 용이하게 착탈되도록 할 수 있다. That is, the body portion 100 is deformed so that the first side cover 102 and the second side cover 103 are opened in the first temperature range, so that the toothbrush head 3 is easily accessible from the body portion 100. It can be detached.

또한, 몸체부(100)에 칫솔 헤드(3)가 삽입된 이후, 몸체부(100)는 제2 온도 범위에서 원래 형태로 원복되어 칫솔 헤드(3)에 밀착될 수 있다. 이에 따라, 칫솔 헤드(3)는 흔들리지 않도록 몸체부(100)와 상호 결합될 수 있다. In addition, after the toothbrush head 3 is inserted into the body portion 100, the body portion 100 may be restored to its original shape in the second temperature range to be in close contact with the toothbrush head 3. Accordingly, the toothbrush head 3 may be mutually coupled with the body portion 100 so as not to shake.

형상 기억 고분자로는 폴리노보넨, 트랜스 폴리이소프렌, 스티렌-부타디엔 공중합체, 폴리우레탄, 아크릴계 가교체 등이 사용될 수 있으며, 그 외에도 poly(lactic acid)(PLA), poly(glycolic acid)(PGA), poly(lactic-coglycolic acid)(PLGA), poly(ε-caprolactone)(PCL), 및 shape-memory polyurethane(SMPU) 등 다양한 공지 물질이 사용될 수 있다. As the shape memory polymer, polynorbornene, trans polyisoprene, styrene-butadiene copolymer, polyurethane, acrylic crosslinked material, etc. can be used. In addition, poly(lactic acid) (PLA), poly(glycolic acid) (PGA) , poly(lactic-coglycolic acid) (PLGA), poly(ε-caprolactone) (PCL), and shape-memory polyurethane (SMPU), and various known materials may be used.

한 쌍의 메인 전극부(110, 120)는 몸체부(100)의 양측에 각각 형성되어, 결합된 칫솔(1)의 칫솔모(4) 양측에 배치될 수 있다. A pair of main electrode portions 110 and 120 may be formed on both sides of the body portion 100, respectively, and may be disposed on both sides of the bristles 4 of the combined toothbrush 1.

예를 들어, 제1 메인 전극부(110)는 칫솔모(4)가 배치된 영역 기준 좌측에 배치될 수 있으며, 제2 메인 전극부(120) 칫솔모(4)가 배치된 영역 기준 우측에 배치될 수 있다. 이에 따라, 제1 메인 전극부(110)와 제2 메인 전극부(120)는 칫솔모(4)를 사이에 두고 서로 마주보는 형태로 배치될 수 있다. For example, the first main electrode unit 110 may be disposed on the left side of the area where the bristles 4 are disposed, and the second main electrode unit 120 may be disposed on the right side of the area where the bristles 4 are disposed. I can. Accordingly, the first main electrode unit 110 and the second main electrode unit 120 may be disposed to face each other with the bristles 4 interposed therebetween.

메인 전극부(110, 120)는 전원 공급부(200)에 의해 공급되는 전압을 기초로 전기장을 형성함으로써, 해당 사용자는 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치(10)가 설치된 칫솔(1)을 사용하여 치아 플라크를 용이하게 제거할 수 있다. The main electrode units 110 and 120 form an electric field based on the voltage supplied by the power supply unit 200, so that the user can use the toothbrush 1 with the toothbrush-coupled tooth plaque removal device 10 installed. Plaque can be easily removed.

즉, 사용자는 기존과 같이 칫솔(1)을 이용하여 양치 등을 수행하고, 그 동안 메인 전극부(110, 120)는 치아로 전기장을 제공함으로써 치아 플라크의 구조를 약화시킬 수 있다. That is, the user performs brushing or the like using the toothbrush 1 as in the past, while the main electrode units 110 and 120 provide an electric field to the teeth, thereby weakening the structure of the tooth plaque.

메인 전극부(110, 120)는 각각 몸체부(100)로부터 상측으로 연장 형성된 적어도 하나의 메인 연장편(111, 121)과 상기 메인 연장편(111, 121)의 내측면에 형성된 적어도 하나의 메인 전극(112, 122)을 포함할 수 있다. Each of the main electrode portions 110 and 120 includes at least one main extension piece 111 and 121 extending upward from the body portion 100 and at least one main portion formed on the inner surface of the main extension piece 111 and 121, respectively. It may include electrodes 112 and 122.

예를 들어, 제1 메인 전극부(110)는 몸체부(100)의 제1 측면 커버(102)로부터 상측으로 연장 형성되는 제1 메인 연장편(111) 및 상기 제1 메인 연장편(111)의 내측면에 형성되는 제1 메인 전극(112)을 포함할 수 있다. For example, the first main electrode part 110 has a first main extension piece 111 extending upward from the first side cover 102 of the body part 100 and the first main extension piece 111 It may include a first main electrode 112 formed on the inner surface of the.

또한, 제2 메인 전극부(120)는 몸체부(100)의 제2 측면 커버(103)로부터 상측으로 연장 형성되는 제2 메인 연장편(121) 및 상기 제2 메인 연장편(121)의 내측면에 형성되는 제2 메인 전극(122)을 포함할 수 있다. In addition, the second main electrode part 120 extends upward from the second side cover 103 of the body part 100 to the inside of the second main extension piece 121 and the second main extension piece 121. It may include a second main electrode 122 formed on the side surface.

메인 전극부(110, 120)는 칫솔모(4)와의 간섭 현상을 최소화하기 위하여, 칫솔모(4)의 높이(h2)에 비하여 낮은 높이(h1)로 설정될 수 있다. 즉, 메인 전극부(110, 120)의 길이가 칫솔모(4) 보다 짧게 설정될 수 있으며, 이에 따라 메인 전극부(110, 120)의 말단부의 높이(h1)가 칫솔모(4)의 말단부의 높이(h2)에 비해 낮게 구현될 수 있다. The main electrode units 110 and 120 may be set to a height h1 lower than the height h2 of the bristles 4 in order to minimize interference with the bristles 4. That is, the length of the main electrode portions 110 and 120 may be set to be shorter than that of the bristles 4, and accordingly, the height h1 of the distal end of the main electrode portions 110 and 120 is the height of the distal end of the bristle 4 It can be implemented lower than (h2).

제1 메인 연장편(111)과 제2 메인 연장편(121)은 부드러운 연성 재질을 가질 수 있다. 일례로, 제1 메인 연장편(111)과 제2 메인 연장편(121)은 폴리이미드(polyimide; PI)로 형성될 수 있다. 다만, 제1 메인 연장편(111)과 제2 메인 연장편(121)의 재질은 이에 한정되지 않으며, 다양한 재질로 변경될 수 있다. The first main extension piece 111 and the second main extension piece 121 may have a soft soft material. For example, the first main extension piece 111 and the second main extension piece 121 may be formed of polyimide (PI). However, the material of the first main extension piece 111 and the second main extension piece 121 is not limited thereto, and may be changed to various materials.

제1 메인 전극(112)과 제2 메인 전극(122)은 도전성 물질로 형성될 수 있으며, 전원 공급부(200)와 전기적으로 연결되어 전원 공급부(200)에 의해 공급되는 전압을 기초로 전기장을 형성할 수 있다. The first main electrode 112 and the second main electrode 122 may be formed of a conductive material, and are electrically connected to the power supply unit 200 to form an electric field based on the voltage supplied by the power supply unit 200. can do.

이때, 제1 메인 전극(112)과 제2 메인 전극(122)은 동일하거나 상이한 극성으로 설정될 수 있다. 일례로, 제1 메인 전극(112)이 양전극으로 설정되는 경우 제2 메인 전극(122)은 음전극으로 설정될 수 있다. 또한, 제1 메인 전극(112)과 제2 메인 전극(122)은 모두 양전극으로 설정될 수도 있다. In this case, the first main electrode 112 and the second main electrode 122 may be set to have the same or different polarities. For example, when the first main electrode 112 is set as a positive electrode, the second main electrode 122 may be set as a negative electrode. In addition, both the first main electrode 112 and the second main electrode 122 may be set as positive electrodes.

제1 메인 전극(112)과 제2 메인 전극(122)은 스퍼터링, 전기 도금과 같은 박막 증착 기술로 제작될 수 있으며, 도전성 페이스트를 이용한 코팅 방식 등과 같은 다양한 전극 형성 방법이 채용될 수 있다. The first main electrode 112 and the second main electrode 122 may be manufactured by a thin film deposition technique such as sputtering or electroplating, and various electrode formation methods such as a coating method using a conductive paste may be employed.

일례로, 제1 메인 전극(112)과 제2 메인 전극(122)은 금, 은, 텅스텐, 그래핀 및 그 조합 중 하나 즉, 전기 전도성이 높은 금속물질로 구성될 수 있으나, 이에 제한되지는 않는다. 또한, 제1 메인 전극(112)과 제2 메인 전극(122)의 두께는 100nm 이상으로 설정될 수 있으며, 일례로 100nm~250nm의 두께로 설정될 수 있다. As an example, the first main electrode 112 and the second main electrode 122 may be made of gold, silver, tungsten, graphene, or a combination thereof, that is, a metal material having high electrical conductivity, but is not limited thereto. Does not. Further, the thickness of the first main electrode 112 and the second main electrode 122 may be set to 100 nm or more, and for example, may be set to a thickness of 100 nm to 250 nm.

제1 메인 전극(112)과 제2 메인 전극(122) 상에는 별도의 절연층(미도시)이 추가될 수 있다. 일례로, 절연층은 Al2O3, SiO2 및 Si3N4 중 적어도 하나로 구성될 수 있다. 또한 절연층의 두께는 50nm 이상으로 설정될 수 있으며, 일례로 50nm~150nm의 두께로 설정될 수 있다. A separate insulating layer (not shown) may be added on the first main electrode 112 and the second main electrode 122. For example, the insulating layer may be composed of at least one of Al 2 O 3 , SiO 2 and Si 3 N 4. In addition, the thickness of the insulating layer may be set to 50nm or more, for example, may be set to a thickness of 50nm ~ 150nm.

전원 공급부(200)는 집적회로를 포함하는 칩의 형태로 몸체부(100)에 배치될 수 있다. 일례로, 도 3에 도시된 바와 같이 전원 공급부(200)는 몸체부(100)의 내부(예를 들어, 몸체판(101)의 내부)에 내장될 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않으며, 전원 공급부(200)는 몸체부(100)의 표면 등 다양한 위치로 변형 설계될 수 있다. The power supply unit 200 may be disposed on the body portion 100 in the form of a chip including an integrated circuit. For example, as shown in FIG. 3, the power supply unit 200 may be embedded in the body portion 100 (eg, the inside of the body plate 101 ). However, the present invention is not limited thereto, and the power supply unit 200 may be designed to be modified in various positions such as the surface of the body unit 100.

도 4a 및 도 4b는 본 발명의 다른 실시예에 의한 메인 전극부를 나타낸 도면이고, 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 의한 메인 전극을 나타낸 도면이다. 4A and 4B are views showing a main electrode according to another embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a view showing a main electrode according to another embodiment of the present invention.

도 4a를 참조하면, 제1 메인 전극부(110)는 하나의 제1 메인 연장편(111)과 다수의 제1 메인 전극(112)을 포함하여 구성될 수 있다. Referring to FIG. 4A, the first main electrode unit 110 may include one first main extension part 111 and a plurality of first main electrodes 112.

앞서 설명한 도 2에서는 제1 메인 전극(112)이 길게 연장된 바(bar) 형태로 제1 메인 연장편(111)에 1개 설치되는 것을 예시적으로 도시하였으나, 제1 메인 전극(112)은 다수개가 설치될 수 있다. In FIG. 2 described above, it is illustratively illustrated that one first main electrode 112 is installed on the first main extension part 111 in the form of an elongated bar, but the first main electrode 112 is Multiple can be installed.

제1 메인 전극(112)을 다수개 배치하는 구조는 다양하게 변형될 수 있으며, 이러한 설치 구조를 통해 전기장을 치아로 보다 효율적으로 제공할 수 있다. A structure in which a plurality of first main electrodes 112 are disposed may be variously modified, and an electric field may be more efficiently provided to the teeth through such an installation structure.

또한, 도 4b를 참조하면, 제1 메인 전극부(110)는 다수의 제1 메인 연장편(111)을 포함하여 구성될 수 있다. Further, referring to FIG. 4B, the first main electrode unit 110 may be configured to include a plurality of first main extension pieces 111.

앞서 설명한 도 2에서는 하나의 제1 메인 연장편(111)이 설치되는 것을 예시적으로 도시하였으나, 제1 메인 연장편(111)은 다수개가 설치될 수 있다. In FIG. 2 described above, it is exemplarily illustrated that one first main extension piece 111 is installed, but a plurality of first main extension pieces 111 may be installed.

제1 메인 연장편(111) 각각에는 하나 또는 복수의 제1 메인 전극(112)이 설치될 수 있다. One or a plurality of first main electrodes 112 may be installed on each of the first main extension pieces 111.

제1 메인 연장편(111)을 얇은 폭으로 다수개 형성하는 경우, 사용 시 이물감을 최소화할 수 있다는 장점이 있다. In the case of forming a plurality of first main extension pieces 111 with a thin width, there is an advantage of minimizing foreign body sensation during use.

도 4a 및 도 4b에서는 예시적으로 제1 메인 전극부(110)에 대하여 도시하였으나, 제2 메인 전극부(120) 역시 상술한 제1 메인 전극부(110)와 같은 형태로 변형 실시될 수 있다. 4A and 4B illustrate the first main electrode unit 110 as an example, the second main electrode unit 120 may also be modified in the same shape as the first main electrode unit 110 described above. .

한편, 도 5를 참조하면 제1 메인 전극(112)은 전기장을 사용자의 치아쪽으로 효율적으로 제공하기 위한 구조를 가질 수 있다. Meanwhile, referring to FIG. 5, the first main electrode 112 may have a structure for efficiently providing an electric field toward a user's teeth.

이를 위하여, 제1 메인 전극(112)은 제1 메인 연장편(111)으로부터 멀어질수록 폭이 감소하는 형상으로 형성될 수 있다. 일례로 제1 메인 전극(112)은 도 5에 도시된 바와 같이 전하가 모서리쪽으로 집중되기 위한 삼각형의 단면 구조를 가질 수 있다. To this end, the first main electrode 112 may be formed in a shape whose width decreases as it moves away from the first main extension piece 111. For example, as shown in FIG. 5, the first main electrode 112 may have a triangular cross-sectional structure in which electric charges are concentrated toward an edge.

또한, 제2 메인 전극(122) 역시 제1 메인 전극(112)과 같은 형태로 형성될 수 있다. 즉, 제2 메인 전극(122)은 제2 메인 연장편(121)으로부터 멀어질수록 폭이 감소하는 형상으로 형성될 수 있다.In addition, the second main electrode 122 may also be formed in the same shape as the first main electrode 112. That is, the second main electrode 122 may be formed in a shape whose width decreases as the distance increases from the second main extension piece 121.

별도로 도시하지는 않았으나, 다수의 메인 전극(112, 122)이 각 메인 연장편(111, 121)에 형성된 경우 일부의 메인 전극(112, 122)만이 상술한 구조(메인 연장편(111, 121)으로부터 멀어질수록 폭이 감소하는 구조)를 가질 수 있다.Although not shown separately, when a plurality of main electrodes 112 and 122 are formed on each of the main extension pieces 111 and 121, only some of the main electrodes 112 and 122 have the above-described structure (from the main extension pieces 111 and 121). It can have a structure in which the width decreases as the distance increases.

예를 들어, 도 4a 또는 도 4b를 참조하면 제1 메인 연장편(111)에서 가장 위쪽 라인에 위치한 제1 메인 전극(112)이 상술한 구조(메인 연장편(111, 121)으로부터 멀어질수록 폭이 감소하는 구조)로 형성되고, 그 외 제1 메인 전극(112)은 일반 구조(예를 들어, 바(Bar) 형태 등)으로 형성될 수 있다. For example, referring to FIG. 4A or 4B, the first main electrode 112 located on the uppermost line of the first main extension piece 111 is the above-described structure (the further away from the main extension pieces 111, 121, the A structure having a reduced width), and the first main electrode 112 may be formed in a general structure (eg, a bar shape).

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 의한 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치를 나타낸 도면이고, 도 7은 도 6의 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치가 칫솔과 결합된 상태를 나타낸 상면도이다. 6 is a view showing a toothbrush-coupled tooth plaque removal apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a top view showing a state in which the toothbrush-coupled tooth plaque removal apparatus of FIG. 6 is coupled with a toothbrush.

도 6 및 도 7을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 의한 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치(10)는 몸체부(100)에 형성된 적어도 하나의 서브 전극부(130, 140)를 더 포함할 수 있다. 6 and 7, the toothbrush-coupled tooth plaque removal apparatus 10 according to another embodiment of the present invention further includes at least one sub-electrode part 130 and 140 formed on the body part 100. I can.

예를 들어, 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치(10)와 칫솔(1)이 결합된 상태를 기준으로 서브 전극부(130, 140)는 칫솔모(4)의 상측 및/또는 하측에 배치될 수 있다. For example, the sub-electrode parts 130 and 140 may be disposed on the upper side and/or the lower side of the bristle 4 based on the toothbrush-coupled tooth plaque removal device 10 and the toothbrush 1 being combined. .

제1 서브 전극부(130)는 칫솔모(4)가 배치된 영역 기준 상측에 배치될 수 있으며, 제2 서브 전극부(140)는 칫솔모(4)가 배치된 영역 기준 하측에 배치될 수 있다. 이에 따라, 제1 서브 전극부(130)와 제2 서브 전극부(140)는 칫솔모(4)를 사이에 두고 서로 마주보는 형태로 배치될 수 있다. The first sub-electrode unit 130 may be disposed above the area where the bristles 4 are disposed, and the second sub-electrode unit 140 may be disposed below the area where the bristles 4 are disposed. Accordingly, the first sub-electrode unit 130 and the second sub-electrode unit 140 may be disposed to face each other with the bristles 4 interposed therebetween.

서브 전극부(130, 140)는 전원 공급부(200)에 의해 공급되는 전압을 기초로 전기장을 추가 형성함으로써, 메인 전극부(110, 120)만이 설치된 경우에 비하여 개선된 플라크 제거 효과를 가질 수 있다. The sub-electrode units 130 and 140 may have an improved plaque removal effect compared to the case where only the main electrode units 110 and 120 are installed by additionally forming an electric field based on the voltage supplied by the power supply unit 200. .

서브 전극부(130, 140)는 각각 몸체부(100)로부터 상측으로 연장 형성된 적어도 하나의 서브 연장편(131, 141)과 상기 서브 연장편(131, 141)의 내측면에 형성된 적어도 하나의 서브 전극(132, 142)을 포함할 수 있다. Each of the sub-electrode parts 130 and 140 includes at least one sub extension piece 131 and 141 extending upward from the body 100 and at least one sub extension piece formed on the inner surface of the sub extension piece 131 and 141. It may include electrodes 132 and 142.

또한, 서브 전극부(130, 140)의 배치에 따라 몸체부(100)의 형태도 변화될 수 있다. 일례로, 몸체부(100)는 서브 전극부(130, 140)를 지지하기 위한 별도의 지지부(105, 106)를 추가 구비할 수 있다. In addition, the shape of the body portion 100 may be changed according to the arrangement of the sub-electrode portions 130 and 140. For example, the body portion 100 may additionally include separate support portions 105 and 106 for supporting the sub-electrode portions 130 and 140.

예를 들어, 제1 지지부(105)는 칫솔모(4)의 상측에 위치하도록 설계될 수 있으며, 일례로 제1 측면 커버(102)의 상측부와 제2 측면 커버(103)의 상측부 사이에 형성될 수 있다. 또한, 제2 지지부(106)는 칫솔모(4)의 하측에 위치하도록 설계될 수 있으며, 일례로 제1 측면 커버(102)의 하측부와 제2 측면 커버(103)의 하측부 사이에 형성될 수 있다.For example, the first support 105 may be designed to be located on the upper side of the bristles 4, for example, between the upper side of the first side cover 102 and the upper side of the second side cover 103 Can be formed. In addition, the second support 106 may be designed to be located under the bristles 4, for example, to be formed between the lower side of the first side cover 102 and the lower side of the second side cover 103 I can.

제1 서브 전극부(130)는 몸체부(100)의 제1 지지부(105)로부터 상측으로 연장 형성되는 제1 서브 연장편(131) 및 상기 제1 서브 연장편(131)의 내측면에 형성되는 제1 서브 전극(132)을 포함할 수 있다. The first sub-electrode part 130 is formed on the inner side of the first sub-extended piece 131 and the first sub-extended piece 131 extending upward from the first support part 105 of the body part 100 The first sub-electrode 132 may be included.

또한, 제2 서브 전극부(140)는 몸체부(100)의 제2 지지부(106)로부터 상측으로 연장 형성되는 제2 서브 연장편(141) 및 상기 제2 서브 연장편(141)의 내측면에 형성되는 제2 서브 전극(142)을 포함할 수 있다. In addition, the second sub-electrode part 140 extends upwardly from the second support part 106 of the body part 100 and an inner surface of the second sub-extended part 141 It may include a second sub-electrode 142 formed in the.

서브 전극부(130, 140)는 칫솔모(4)와의 간섭 현상을 최소화하기 위하여, 칫솔모(4)의 높이(h2)에 비하여 낮은 높이(h3)로 설정될 수 있다. 즉, 서브 전극부(130, 140)의 길이가 칫솔모(4) 보다 짧게 설정될 수 있으며, 이에 따라 서브 전극부(130, 140)의 말단부의 높이(h3)가 칫솔모(4)의 말단부의 높이(h2)에 비해 낮게 구현될 수 있다. The sub-electrode parts 130 and 140 may be set to a height h3 lower than the height h2 of the bristles 4 in order to minimize interference with the bristles 4. That is, the length of the sub-electrode parts 130 and 140 may be set to be shorter than that of the bristles 4, and accordingly, the height h3 of the distal end of the sub-electrode parts 130 and 140 is the height of the distal end of the bristles 4 It can be implemented lower than (h2).

또한, 서브 전극부(130, 140)의 높이(h3)는 메인 전극부(110, 120)의 높이(h1)와 상이하게 설정될 수 있다. 즉, 서브 전극부(130, 140)의 길이가 메인 전극부(110, 120)와 상이하게 설정될 수 있으며, 이에 따라 서브 전극부(130, 140)의 말단부의 높이(h3)와 메인 전극부(110, 120)의 말단부의 높이(h1)가 상이하게 설정될 수 있다. Also, the height h3 of the sub electrode parts 130 and 140 may be set differently from the height h1 of the main electrode parts 110 and 120. That is, the length of the sub-electrode parts 130 and 140 may be set differently from the main electrode parts 110 and 120, and accordingly, the height h3 of the distal ends of the sub-electrode parts 130 and 140 and the main electrode part The height h1 of the distal ends of (110, 120) may be set differently.

이는 메인 전극부(110, 120)와 서브 전극부(130, 140)가 극성이 상이한 전압을 공급받는 경우, 전기장의 형태를 변화시켜 플라크 제거 효과를 증폭시키기 위한 것이다. This is to amplify the plaque removal effect by changing the shape of the electric field when the main electrode units 110 and 120 and the sub electrode units 130 and 140 are supplied with voltages having different polarities.

일례로, 도 6에 도시된 바와 같이 서브 전극부(130, 140)의 높이(h3)는 메인 전극부(110, 120)의 높이(h1)보다 낮게 설정될 수 있으며, 그 반대로 서브 전극부(130, 140)의 높이(h3)가 메인 전극부(110, 120)의 높이(h1)보다 높게 설정될 수도 있다. For example, as shown in FIG. 6, the height h3 of the sub-electrode parts 130 and 140 may be set lower than the height h1 of the main electrode parts 110 and 120, and vice versa, the sub-electrode part ( The height h3 of 130 and 140 may be set higher than the height h1 of the main electrode parts 110 and 120.

메인 전극부(110, 120)와 서브 전극부(130, 140)가 모두 동일한 극성으로 설정되는 경우, 메인 전극부(110, 120)의 높이(h1)와 서브 전극부(130, 140)의 높이(h3)는 동일하게 설정될 수 있다. When both the main electrode units 110 and 120 and the sub electrode units 130 and 140 are set to have the same polarity, the height h1 of the main electrode units 110 and 120 and the height of the sub electrode units 130 and 140 (h3) may be set equally.

제1 서브 전극(132)과 제2 서브 전극(142)은 스퍼터링, 전기 도금과 같은 박막 증착 기술로 제작될 수 있으며, 도전성 페이스트를 이용한 코팅 방식 등과 같은 다양한 전극 형성 방법이 채용될 수 있다. The first sub-electrode 132 and the second sub-electrode 142 may be manufactured by a thin film deposition technique such as sputtering or electroplating, and various electrode formation methods such as a coating method using a conductive paste may be employed.

제1 서브 전극(132)과 제2 서브 전극(142)은 도전성 물질로 형성될 수 있으며, 전원 공급부(200)와 전기적으로 연결되어 전원 공급부(200)에 의해 공급되는 전압을 기초로 전기장을 형성할 수 있다. The first sub-electrode 132 and the second sub-electrode 142 may be formed of a conductive material, and are electrically connected to the power supply 200 to form an electric field based on the voltage supplied by the power supply 200 can do.

일례로, 제1 서브 전극(132)과 제2 서브 전극(142)은 금, 은, 텅스텐, 그래핀 및 그 조합 중 하나 즉, 전기 전도성이 높은 금속물질로 구성될 수 있으나, 이에 제한되지는 않는다. 또한, 제1 서브 전극(132)과 제2 서브 전극(142)의 두께는 100nm 이상으로 설정될 수 있으며, 일례로 100nm~250nm의 두께로 설정될 수 있다. As an example, the first sub-electrode 132 and the second sub-electrode 142 may be formed of gold, silver, tungsten, graphene, or a combination thereof, that is, a metal material having high electrical conductivity, but is not limited thereto. Does not. In addition, the thickness of the first sub-electrode 132 and the second sub-electrode 142 may be set to 100 nm or more, and for example, may be set to a thickness of 100 nm to 250 nm.

제1 서브 전극(132)과 제2 서브 전극(142) 상에는 별도의 절연층(미도시)이 추가될 수 있다. 일례로, 절연층은 Al2O3, SiO2 및 Si3N4 중 적어도 하나로 구성될 수 있다. 또한 절연층의 두께는 50nm 이상으로 설정될 수 있으며, 일례로 50nm~150nm의 두께로 설정될 수 있다. A separate insulating layer (not shown) may be added on the first sub-electrode 132 and the second sub-electrode 142. For example, the insulating layer may be composed of at least one of Al 2 O 3 , SiO 2 and Si 3 N 4. In addition, the thickness of the insulating layer may be set to 50nm or more, for example, may be set to a thickness of 50nm ~ 150nm.

별도로 도시하지는 않았으나, 서브 전극부(130, 140) 역시 도 4a 및 도 4b와 관련하여 설명한 메인 전극부(110, 120)와 같은 형태로 변형 실시될 수 있다.Although not shown separately, the sub-electrode parts 130 and 140 may also be modified in the same shape as the main electrode parts 110 and 120 described with reference to FIGS. 4A and 4B.

즉, 서브 전극부(130, 140)는 하나의 서브 연장편(131, 141)과 상기 서브 연장편(131, 141)에 형성된 다수의 서브 전극(132, 142)을 포함하여 구성되거나, 다수의 서브 연장편(131, 141)과 상기 각 서브 연장편(131, 141)에 형성된 적어도 하나의 서브 전극(132, 142)를 포함하여 구성될 수 있다. That is, the sub-electrode parts 130 and 140 include one sub-extension piece 131 and 141 and a plurality of sub-electrodes 132 and 142 formed on the sub-extension pieces 131 and 141, or It may be configured to include the sub extension pieces 131 and 141 and at least one sub electrode 132 and 142 formed on each of the sub extension pieces 131 and 141.

서브 연장편(131, 141)은 부드러운 연성 재질을 가질 수 있다. 일례로, 서브 연장편(131, 141)은 폴리이미드(polyimide; PI)로 형성될 수 있다. 다만, 서브 연장편(131, 141)의 재질은 이에 한정되지 않으며, 다양한 재질로 변경될 수 있다. The sub extension pieces 131 and 141 may have a soft soft material. For example, the sub extension pieces 131 and 141 may be formed of polyimide (PI). However, the material of the sub extension pieces 131 and 141 is not limited thereto, and may be changed to various materials.

도 6 및 도 7에서는 칫솔모(4)의 상측에 배치된 제1 서브 전극부(130)와 칫솔모(4)의 하측에 배치된 제2 서브 전극부(140)가 함께 설치된 경우를 도시하였으나, 필요에 따라 그 중 하나만 설치될 수 있다. 6 and 7 show the case where the first sub-electrode unit 130 disposed on the upper side of the bristles 4 and the second sub-electrode unit 140 disposed on the lower side of the bristle 4 are installed together. Only one of them can be installed.

한편, 전원 공급부(200)는 필요에 따라 DC 전압 또는 AC 전압을 제1 메인 전극(112), 제2 메인 전극(122), 제1 서브 전극(132), 제2 서브 전극(142)에 공급할 수 있다. 또한, 전원 공급부(200)는 필요에 따라 제1 메인 전극(112), 제2 메인 전극(122), 제1 서브 전극(132), 제2 서브 전극(142) 중 일부만을 구동할 수도 있다.Meanwhile, the power supply unit 200 may supply a DC voltage or an AC voltage to the first main electrode 112, the second main electrode 122, the first sub electrode 132, and the second sub electrode 142 as necessary. I can. In addition, the power supply unit 200 may drive only some of the first main electrode 112, the second main electrode 122, the first sub electrode 132, and the second sub electrode 142 as necessary.

예를 들어, 전원 공급부(200)는 10MHz의 주파수로 0.25V의 AC 전압을 인가시키도록 구성될 수 있다. 즉, 전원 공급부(200)는 0.1MHz 내지 100MHz의 주파수로 0.25V 내지 0.82V의 진폭을 갖는 AC 전압을 인가시키도록 구성될 수 있다. 전원 공급부(200)가 0.1MHz 내지 100MHz의 주파수로 AC 전압을 인가시키도록 구성됨으로써, 다양한 RF 신호를 사용할 수 있다. 이 때, 전원 공급부(200)가 10MHz의 주파수로 AC 전압을 인가시키도록 구성된 경우, 플라크 제거 효과는 극대화될 수 있다. 전원 공급부(200)는 AC 전압 또는 DC 전압과 AC 전압을 함께 인가함으로써 DC 전압만을 인가시키는 경우와 비교하여 신체의 감전 위험과 신체에 유발할 수 있는 통증을 줄여줄 수 있다.For example, the power supply 200 may be configured to apply an AC voltage of 0.25V at a frequency of 10MHz. That is, the power supply unit 200 may be configured to apply an AC voltage having an amplitude of 0.25V to 0.82V at a frequency of 0.1MHz to 100MHz. Since the power supply unit 200 is configured to apply an AC voltage at a frequency of 0.1 MHz to 100 MHz, various RF signals can be used. In this case, when the power supply unit 200 is configured to apply an AC voltage at a frequency of 10 MHz, the plaque removal effect can be maximized. The power supply unit 200 may reduce the risk of electric shock to the body and pain that may cause the body as compared to the case of applying only the DC voltage by applying AC voltage or DC voltage and AC voltage together.

또한, 전원 공급부(200)는 제1 메인 전극(112), 제2 메인 전극(122), 제1 서브 전극(132), 제2 서브 전극(142)에 AC 전압과 DC 전압을 함께 인가시키도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 전원 공급부(200)는 0.82V 이하의 DC 전압과 0.1MHz 내지 100MHz의 주파수로 0.25V 내지 0.82V의 AC 전압을 중첩하여 함께 인가시키도록 구성될 수 있다. 전원 공급부(200)가 각 전극(112, 122, 132, 142)에 일정 시간 동안 AC 전압과 DC 전압을 함께 인가시키는 경우, 플라크의 제거 효과가 증폭될 수 있다.In addition, the power supply unit 200 applies an AC voltage and a DC voltage to the first main electrode 112, the second main electrode 122, the first sub-electrode 132, and the second sub-electrode 142 together. Can be configured. For example, the power supply unit 200 may be configured to apply a DC voltage of 0.82V or less and an AC voltage of 0.25V to 0.82V at a frequency of 0.1MHz to 100MHz by overlapping them. When the power supply unit 200 applies an AC voltage and a DC voltage to each of the electrodes 112, 122, 132, and 142 together for a predetermined period of time, the plaque removal effect may be amplified.

또한, 전원 공급부(200)는 DC 전압 인가, AC 전압 인가 또는 AC 전압과 DC 전압의 중첩 인가를 통해 치아에 제공되는 에너지 총량을 1nJ 내지 10nJ로 제어하도록 구성될 수 있다. 전원 공급부(200)가 인가하는 전압에 따른 에너지 총량에 따라 제거될 수 있는 플라크의 총량이 변할 수 있다. 구체적으로, 에너지 총량에 비례하여 제거될 수 있는 플라크의 총량은 증가한다. 구체적인 서로 다른 에너지 총량에서의 제거되는 플라크의 총량의 변화는 선행특허 제10-1834665호를 참조하도록 한다. In addition, the power supply unit 200 may be configured to control the total amount of energy provided to the teeth to 1nJ to 10nJ through DC voltage application, AC voltage application, or overlapping application of AC voltage and DC voltage. The total amount of plaque that can be removed may vary according to the total amount of energy according to the voltage applied by the power supply unit 200. Specifically, the total amount of plaque that can be removed increases in proportion to the total amount of energy. For specific changes in the total amount of plaques removed in different total amounts of energy, refer to Prior Patent No. 10-1834665.

전원 공급부(200)는 별도의 배터리(미도시)를 포함할 수 있다. 이러한 배터리는 다양한 충전 방식을 통해 충전될 수 있다. 예를 들어, 배터리는 무선 충전 방식 또는 유선 충전 방식을 통해 충전될 수 있다. 다른 실시예에서, 배터리는 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치(10)로부터 분리되어 별도 충전 장치를 통해 충전되거나, 교체가 가능한 형태로 설계될 수 있다. The power supply unit 200 may include a separate battery (not shown). These batteries can be charged through various charging methods. For example, the battery may be charged through a wireless charging method or a wired charging method. In another embodiment, the battery may be separated from the toothbrush-coupled tooth plaque removal device 10 and charged through a separate charging device, or may be designed in a form that can be replaced.

본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이지 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구의 범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구의 범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains will appreciate that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not limiting. The scope of the present invention is indicated by the scope of the claims to be described later rather than the detailed description, and all changes or modified forms derived from the meaning and scope of the claims and the concept of equivalents thereof are included in the scope of the present invention. It must be interpreted.

10: 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치
100: 몸체부 110: 제1 메인 전극부
111: 제1 메인 연장편 112: 제1 메인 전극
120: 제2 메인 전극부 121: 제2 메인 연장편
122: 제2 메인 전극 130: 제1 서브 전극부
131: 제1 서브 연장편 132: 제1 서브 전극
140: 제2 서브 전극부 141: 제2 서브 연장편
142: 제2 서브 전극 200: 전원 공급부10: toothbrush-coupled tooth plaque removal device
100: body portion 110: first main electrode portion
111: first main extension piece 112: first main electrode
120: second main electrode part 121: second main extension piece
122: second main electrode 130: first sub-electrode
131: first sub extension piece 132: first sub electrode
140: second sub electrode part 141: second sub extension piece
142: second sub electrode 200: power supply

Claims (10)

칫솔 헤드와 상기 칫솔 헤드에 형성된 칫솔모를 포함하는 칫솔에 결합되어 치아 플라크를 제거하기 위한 장치에 있어서,
상기 칫솔 헤드와 결합되는 몸체부;
상기 몸체부의 우측 및 좌측에 각각 형성되어 상기 칫솔모의 우측 및 좌측에 배치되며, 상기 치아 플라크의 제거를 위한 전기장을 제공하는 한 쌍의 메인 전극부; 및
상기 몸체부의 상측 및 하측에 각각 형성되어 상기 칫솔모의 상측 및 하측에 배치되며, 상기 치아 플라크의 제거를 위한 전기장을 제공하는 한 쌍의 서브 전극부; 를 포함하며,
상기 서브 전극부는 상기 메인 전극부와 극성이 상이한 전압을 공급받고,
상기 메인 전극부와 상기 서브 전극부는, 상이한 높이를 갖는 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치.In the device for removing tooth plaque by being coupled to a toothbrush comprising a toothbrush head and a bristles formed on the toothbrush head,
A body portion coupled to the toothbrush head;
A pair of main electrode portions respectively formed on the right and left sides of the body portion, disposed on the right and left sides of the bristles, and providing an electric field for removing the tooth plaque; And
A pair of sub-electrode portions respectively formed on the upper and lower sides of the body portion and disposed on the upper and lower sides of the bristles, and providing an electric field for removing the tooth plaque; Including,
The sub-electrode part is supplied with a voltage having a polarity different from that of the main electrode part,
The main electrode part and the sub-electrode part, toothbrush-coupled tooth plaque removal device having different heights. 제1항에 있어서,
상기 메인 전극부는,
상기 몸체부로부터 상측으로 연장 형성된 적어도 하나의 메인 연장편; 및
상기 메인 연장편의 내측면에 형성된 적어도 하나의 메인 전극; 을 포함하는 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치.The method of claim 1,
The main electrode part,
At least one main extension piece extending upward from the body portion; And
At least one main electrode formed on the inner surface of the main extension piece; Toothbrush-coupled tooth plaque removal device comprising a. 제2항에 있어서,
상기 메인 전극은,
상기 메인 연장편으로부터 멀어질수록 폭이 감소하는 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치.The method of claim 2,
The main electrode,
Toothbrush-coupled tooth plaque removal device, characterized in that formed in a shape in which the width decreases as the distance from the main extension piece increases. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 서브 전극부는,
상기 몸체부로부터 상측으로 연장 형성된 적어도 하나의 서브 연장편; 및
상기 서브 연장편의 내측면에 형성된 적어도 하나의 서브 전극; 을 포함하는 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치.The method of claim 1,
The sub electrode part,
At least one sub extension piece extending upward from the body portion; And
At least one sub-electrode formed on an inner surface of the sub-extended piece; Toothbrush-coupled tooth plaque removal device comprising a. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 메인 전극부 및 상기 서브 전극부로 전압을 공급하기 위한 전원 공급부; 를 더 포함하는 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치.The method of claim 1,
A power supply unit for supplying voltage to the main electrode unit and the sub electrode unit; Toothbrush-coupled tooth plaque removal device comprising a further. 제2항에 있어서,
상기 메인 연장편은,
폴리이미드(polyimide)로 형성된 것을 특징으로 하는 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치.The method of claim 2,
The main extension piece,
Toothbrush-coupled tooth plaque removal device, characterized in that formed of polyimide. 제1항에 있어서,
상기 몸체부는,
형상 기억 고분자(Shape Memory Polymer)로 형성된 것을 특징으로 하는 칫솔 결합형 치아 플라크 제거 장치.The method of claim 1,
The body part,
Toothbrush-coupled tooth plaque removal device, characterized in that formed of a shape memory polymer (Shape Memory Polymer).
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