KR102237004B1 - Optical film for improving contrast ratio, polarizing plate comprising the same and liquid crystal display apparatus comprising the same - Google Patents

Optical film for improving contrast ratio, polarizing plate comprising the same and liquid crystal display apparatus comprising the same Download PDF

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Abstract

보호층 및 상기 보호층 상에 형성된 패턴층을 포함하고, 상기 패턴층은 일면에 양각의 광학 패턴 및 상기 양각의 광학 패턴과 바로 이웃하는 상기 양각의 광학 패턴 사이에 평탄부를 구비하는 패턴부를 구비하고, 상기 광학 패턴은 밑각(θ)이 55° 내지 90°이고, 상기 패턴부는 식 1을 만족하고, 상기 패턴층과 직접적으로 대향하는 갭 필 층을 더 포함하고, 상기 갭 필 층은 매트릭스 및 상기 매트릭스에 포함된 제1입자를 포함하고, 상기 매트릭스와 상기 제1입자의 굴절률 차이의 절대값은 0 내지 0.03이고, 상기 패턴층과 상기 갭필층의 굴절률 차이는 0.06 이상인 것인 명암비 개선 광학 필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 액정표시장치가 제공된다.A protective layer and a pattern layer formed on the protective layer, wherein the pattern layer includes a pattern portion having a relief optical pattern on one surface and a flat portion between the relief optical pattern and the relief optical pattern immediately adjacent thereto, , The optical pattern has a base angle (θ) of 55° to 90°, the pattern part satisfies Equation 1, and further includes a gap fill layer directly facing the pattern layer, and the gap fill layer includes a matrix and the Contrast ratio improving optical film comprising first particles included in a matrix, the absolute value of the difference in refractive index between the matrix and the first particle is 0 to 0.03, and the difference in refractive index between the pattern layer and the gap fill layer is 0.06 or more, A polarizing plate including the same and a liquid crystal display including the same are provided.

Description

명암비 개선 광학 필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 액정표시장치{OPTICAL FILM FOR IMPROVING CONTRAST RATIO, POLARIZING PLATE COMPRISING THE SAME AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY APPARATUS COMPRISING THE SAME}Optical film for improving contrast ratio, polarizing plate including the same, and liquid crystal display device including the same {OPTICAL FILM FOR IMPROVING CONTRAST RATIO, POLARIZING PLATE COMPRISING THE SAME AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY APPARATUS COMPRISING THE SAME}

본 발명은 명암비 개선 광학 필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 액정표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to an optical film for improving contrast ratio, a polarizing plate including the same, and a liquid crystal display device including the same.

액정표시장치는 백라이트 유닛에서 나온 광이 두 장의 편광판을 통해 출사됨으로써 작동된다. 따라서 액정표시장치의 화면 중 정면에서의 색감은 좋으나 액정표시장치의 화면 중 측면은 정면 대비 색감, 명암비 및 시야각이 떨어질 수 있다.The liquid crystal display is operated by emitting light from a backlight unit through two polarizing plates. Accordingly, the color sense from the front of the screen of the liquid crystal display device is good, but the color sense, contrast ratio, and viewing angle of the side of the screen of the liquid crystal display device may be lower than the front.

측면에서의 색감, 명암비 및 시야각을 높이기 위해, 액정 패널 또는 액정 구조의 변경을 통해 개선하고자 시도되고 있다. 그러나 액정 패널의 변형을 통한 개선으로는 한계가 있으며, 공정이 복잡하다. 액정표시장치가 대형화가 될수록, VA 방식의 경우, 시야각이 좁은 단점이 부각되고 있으며, 이를 해결하기 위해 내부 확산을 갖는 패턴 구조를 삽입하게 되면, 시야각을 넓혀 시인성이 개선되는 효과를 갖는다.In order to increase the color sense, contrast ratio, and viewing angle from the side, attempts have been made to improve the liquid crystal panel or the liquid crystal structure. However, there is a limit to improvement through deformation of the liquid crystal panel, and the process is complicated. As the LCD device becomes larger, the disadvantage of the VA system has a narrow viewing angle. In order to solve this problem, if a pattern structure having internal diffusion is inserted, the viewing angle is widened and visibility is improved.

시인측 편광판에 명암비 개선 광학 필름을 포함시켜 시야각을 개선할 수 있다. 또한, 편광판에 명암비 개선 광학 필름을 적층하고 명암비 개선 광학 필름 위에 표면 요철을 갖는 방현 필름(Anti Glare Film)을 적층함으로써 외부 광에 대한 방현 효과를 얻을 수 있다. 종래 방현 필름은 필름을 형성하는 매트릭스 및 매트릭스에 분산된 방현 입자 예를 들면 비드로 구성되어 있으며, 매트릭스와 방현 입자 간의 굴절률을 이용해서 내부 헤이즈와 외부 헤이즈를 조절하고, 내부광 또는 외부광의 확산 및 산란을 구현할 수 있다. The viewing angle can be improved by including an optical film for improving contrast ratio in the viewing side polarizing plate. In addition, by laminating an optical film for improving contrast ratio on a polarizing plate and an anti-glare film having surface irregularities on the optical film for improving contrast ratio, it is possible to obtain an anti-glare effect for external light. Conventional anti-glare films consist of a matrix forming a film and anti-glare particles, such as beads, dispersed in the matrix, and control internal and external haze by using the refractive index between the matrix and the anti-glare particles, and diffusion of internal or external light and Scattering can be implemented.

그런데, 명암비 개선 광학 필름 상에 방현 필름을 적층할 경우 명암비 개선 광학 필름에 의한 시인성 개선 효과가 방현 필름을 통과하면서 추가로 내부 확산이 일어나 감소될 수 있다. 또한, 방현 필름을 위한 보호층(기재층)과 명암비 개선 광학 필름을 위한 보호층(기재층)으로 기재층 총 2매가 포함됨으로써 편광판을 두껍게 할 수 있다.However, when the anti-glare film is laminated on the optical film for improving the contrast ratio, the effect of improving visibility due to the optical film for improving the contrast ratio may be reduced by additional internal diffusion while passing through the anti-glare film. In addition, the polarizing plate can be thickened by including a total of two base layers as a protective layer (substrate layer) for an anti-glare film and a protective layer (substrate layer) for an optical film with improved contrast ratio.

본 발명의 배경기술은 일본공개특허 제2006-251659호에 개시되어 있다.Background art of the present invention is disclosed in Japanese Laid-Open Patent No. 2006-251659.

본 발명의 목적은 패턴층과 갭 필 층으로 인한 정면 및 측면 시인성 개선 효과를 유지하면서 입자에 의한 외광 산란 효과도 얻을 수 있는 명암비 개선 광학 필름을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide an optical film with improved contrast ratio capable of obtaining an effect of scattering external light by particles while maintaining an effect of improving front and side visibility due to a pattern layer and a gap fill layer.

본 발명의 다른 목적은 패턴층과 방현 입자를 포함하더라도 모아레가 발생하지 않는 명암비 개선 광학 필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an optical film with improved contrast ratio in which moire does not occur even if a pattern layer and anti-glare particles are included.

본 발명의 또 다른 목적은 박형화할 수 있는 명암비 개선 광학 필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an optical film with improved contrast ratio that can be thinned.

본 발명의 명암비 개선 광학 필름은 보호층 및 상기 보호층 상에 형성된 패턴층을 포함하고, 상기 패턴층은 일면에 양각의 광학 패턴 및 상기 양각의 광학 패턴과 바로 이웃하는 상기 양각의 광학 패턴 사이에 평탄부를 구비하는 패턴부를 구비하고, 상기 광학 패턴은 밑각(θ)이 55° 내지 90°이고, 상기 패턴부는 하기 식 1을 만족하고,The optical film for improving contrast ratio of the present invention includes a protective layer and a pattern layer formed on the protective layer, and the pattern layer is between the embossed optical pattern on one side and the embossed optical pattern immediately adjacent to the embossed optical pattern. A pattern portion having a flat portion is provided, and the optical pattern has a base angle (θ) of 55° to 90°, and the pattern portion satisfies Equation 1 below,

<식 1><Equation 1>

1 < P/W ≤ 101 <P/W ≤ 10

(상기 식 1에서, P는 패턴부의 주기(단위:㎛),(In Equation 1, P is the period of the pattern part (unit: μm),

W는 광학 패턴의 최대 폭(단위:㎛)),W is the maximum width of the optical pattern (unit: μm)),

상기 패턴층의 일면과 직접적으로 접하는 갭 필(gap fill) 층을 더 포함하고, Further comprising a gap fill layer in direct contact with one surface of the pattern layer,

상기 갭 필 층은 매트릭스 및 상기 매트릭스에 포함된 제1입자를 포함하고, 상기 매트릭스와 상기 제1입자의 굴절률의 굴절률 차이의 절대값은 0 내지 0.03이고, 상기 패턴층과 상기 갭 필 층의 굴절률 차이는 0.06 이상이 될 수 있다.The gap fill layer includes a matrix and a first particle included in the matrix, the absolute value of the difference in refractive index between the matrix and the refractive index of the first particle is 0 to 0.03, and the refractive index of the pattern layer and the gap fill layer The difference can be more than 0.06.

본 발명의 편광판은 편광필름 및 상기 편광필름 상에 형성된 본 발명의 명암비 개선 광학 필름을 포함할 수 있다.The polarizing plate of the present invention may include a polarizing film and an optical film for improving contrast ratio of the present invention formed on the polarizing film.

본 발명의 액정표시장치는 본 발명의 편광판을 포함할 수 있다.The liquid crystal display device of the present invention may include the polarizing plate of the present invention.

본 발명은 패턴층과 갭 필 층으로 인한 정면 및 측면 시인성 개선 효과를 유지하면서 입자에 의한 외광 산란 효과도 얻을 수 있는 명암비 개선 광학 필름을 제공하였다.The present invention provides an optical film with improved contrast ratio capable of obtaining an effect of scattering external light by particles while maintaining the effect of improving front and side visibility due to the pattern layer and the gap fill layer.

본 발명은 패턴층과 방현 입자를 포함하더라도 모아레가 발생하지 않는 명암비 개선 광학 필름을 제공하였다.The present invention provides an optical film with improved contrast ratio in which moire does not occur even if the pattern layer and anti-glare particles are included.

본 발명은 박형화할 수 있는 명암비 개선 광학 필름을 제공하였다.The present invention provides an optical film with improved contrast ratio that can be thinned.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 명암비 개선 광학 필름의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 편광판의 단면도이다.
1 is a cross-sectional view of an optical film for improving contrast ratio according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a polarizing plate according to an embodiment of the present invention.

첨부한 도면을 참고하여 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다.With reference to the accompanying drawings, embodiments will be described in detail so that those of ordinary skill in the art may easily implement the present invention. The present invention may be implemented in various different forms and is not limited to the embodiments described herein. In the drawings, parts irrelevant to the description are omitted in order to clearly describe the present invention, and the same reference numerals are assigned to the same or similar components throughout the specification.

본 명세서에서 "상부"와 "하부"는 도면을 기준으로 정의한 것으로서, 시 관점에 따라 "상부"가 "하부"로 "하부"가 "상부"로 변경될 수 있고, "위(on)" 또는 "상(on)"으로 지칭되는 것은 바로 위뿐만 아니라 중간에 다른 구조를 개재한 경우도 포함할 수 있다. 반면, "직접 위(directly on)", "바로 위" 또는 "직접적으로 형성" 또는 "직접적으로 접하여 형성"으로 지칭되는 것은 중간에 다른 구조를 개재하지 않은 것을 의미한다.In the present specification, "upper part" and "lower part" are defined based on the drawings, and "upper part" may be changed to "lower part" and "lower part" may be changed to "upper part" according to the viewpoint of the view, and "on" or What is referred to as “on” may include a case where other structures are interposed not only above but also in the middle. On the other hand, to be referred to as "directly on", "directly on", or "directly formed" or "directly formed in contact" means that no other structure is interposed therebetween.

본 명세서에서 "수평 방향", "수직 방향"은 각각 직사각형의 액정표시장치 화면의 장방향과 단방향을 의미한다. 본 명세서에서 "정면", "측면"은 수평 방향을 기준으로, 구면 좌표계(spherical coordinate system)에 의한 (φ, θ)에 의할 때, 정면은 (0°, 0°)이고, 좌측 끝 지점을 (180°, 90°), 우측 끝 지점을 (0°, 90°)라고 할 때, 측면은 (0°, 60°)을 의미한다.In the present specification, “horizontal direction” and “vertical direction” refer to the longitudinal direction and the unidirectional direction of a rectangular LCD screen, respectively. In the present specification, "front" and "side" refer to the horizontal direction, when (φ, θ) by the spherical coordinate system, the front is (0°, 0°), and the left end point When is (180°, 90°) and the right end point is (0°, 90°), the side means (0°, 60°).

본 명세서에서 "정상부(top part)"는 양각의 광학 패턴 중 가장 높은 부분을 의미한다.In the present specification, the "top part" means the highest part of the embossed optical pattern.

본 명세서에서 "종횡비(aspect ratio)"는 광학 패턴의 최대 폭에 대한 최대 높이의 비(최대 높이/최대 폭)를 의미한다.In the present specification, "aspect ratio" means a ratio of the maximum height to the maximum width of the optical pattern (maximum height/maximum width).

본 명세서에서 "주기"는 이웃하는 광학 패턴 간의 거리, 예를 들면 하나의 광학 패턴의 최대폭과 상기 광학 패턴과 바로 이웃하는 하나의 평탄부의 폭의 합을 의미한다.In the present specification, "period" means a distance between adjacent optical patterns, for example, the sum of the maximum width of one optical pattern and the width of one flat portion immediately adjacent to the optical pattern.

본 명세서에서 "면방향 위상차(Re)"는 파장 550nm에서의 값이고, 하기 식 A로 표시된다:In the present specification, the "plane direction retardation (Re)" is a value at a wavelength of 550 nm, and is represented by the following formula A:

<식 A><Equation A>

Re = (nx - ny) x dRe = (nx-ny) x d

(상기 식 A에서, nx, ny는 파장 550nm에서 각각 해당 보호층 또는 기재층의 지상축 방향, 진상축 방향의 굴절률이고, d는 해당 보호층 또는 기재층의 두께(단위:nm)이다).(In Equation A, nx and ny are the refractive indexes in the slow axis direction and the fast axis direction of the protective layer or substrate layer, respectively, at a wavelength of 550 nm, and d is the thickness (unit: nm) of the protective layer or substrate layer).

본 명세서에서 "(메트)아크릴"은 아크릴 및/또는 메타아크릴을 의미한다.In the present specification, "(meth)acrylic" means acrylic and/or methacrylic.

이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 명암비 개선 광학 필름을 도 1을 참고하여 설명한다. 도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 명암비 개선 광학 필름의 단면도이다.Hereinafter, an optical film for improving contrast ratio according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 1. 1 is a cross-sectional view of an optical film for improving contrast ratio according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 명암비 개선 광학 필름(10)은 보호층(100) 및 보호층(100) 상에 형성된 패턴층(210)을 포함하고, 패턴층(210)의 일면과 직접적으로 대향하는 갭 필(gap fill) 층(220)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, the optical film 10 for improving contrast ratio includes a protective layer 100 and a pattern layer 210 formed on the protective layer 100, and a gap directly facing one surface of the pattern layer 210 A gap fill layer 220 may be included.

보호층Protective layer

보호층(100)은 패턴층(210)의 일면 즉 광입사면에 형성되어, 패턴층(210)을 지지할 수 있다. 일 구체예에서, 보호층은 패턴층에 직접적으로 형성되어, 명암비 개선 광학 필름을 박형화시킬 수 있다. 상기 "직접적으로 형성"은 보호층과 패턴층 사이에 임의의 점착층, 접착층, 또는 점접착층이 개재되지 않음을 의미한다. 그러나, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.The protective layer 100 may be formed on one surface of the pattern layer 210, that is, the light incident surface, and may support the pattern layer 210. In one embodiment, the protective layer is formed directly on the pattern layer, it is possible to thin the optical film to improve the contrast ratio. The "directly formed" means that no adhesive layer, adhesive layer, or adhesive adhesive layer is interposed between the protective layer and the pattern layer. However, the present invention is not limited thereto.

보호층(100)은 광학적으로 투명할 수 있고, 광 입사면 및 광 입사면과 대향하는 광 출사면을 포함할 수 있다. 보호층(100)의 광 출사면에 패턴층(210)이 형성되어 있다. 보호층(100)은 가시광선 영역에서 전광선 투과율이 90% 이상 예를 들면 90% 내지 100%가 될 수 있다. 상기 범위에서 입사광에 영향을 주지 않고 패턴층으로 투과시킬 수 있다.The protective layer 100 may be optically transparent, and may include a light incident surface and a light exit surface opposite to the light incident surface. The pattern layer 210 is formed on the light exit surface of the protective layer 100. The protective layer 100 may have a total light transmittance of 90% or more in the visible light region, for example, 90% to 100%. In the above range, the incident light can be transmitted through the pattern layer without affecting it.

보호층(100)은 보호 필름 타입 또는 보호 코팅층 타입일 수 있다.The protective layer 100 may be a protective film type or a protective coating layer type.

보호층이 보호 필름 타입일 경우 광학적으로 투명한 수지 필름을 포함할 수 있다. 보호 필름은 수지를 용융 및 압출하여 형성될 수 있다. 필요할 경우에는 연신 공정을 더 추가할 수도 있다. 상기 수지는 트리아세틸셀룰로스(TAC) 등을 포함하는 셀룰로스 에스테르계 수지, 비정성 환상 폴리올레핀(COP) 등을 포함하는 고리형 폴리올레핀계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 등을 포함하는 폴리에스테르계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리술폰계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 비환형-폴리올레핀계 수지, 폴리메틸메타아크릴레이트 수지 등을 포함하는 폴리아크릴레이트계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지 중 하나 이상을 포함할 수 있다.When the protective layer is a protective film type, it may include an optically transparent resin film. The protective film may be formed by melting and extruding a resin. If necessary, an additional stretching process may be added. The resin includes a cellulose ester resin including triacetylcellulose (TAC), a cyclic polyolefin resin including amorphous cyclic polyolefin (COP), a polycarbonate resin, polyethylene terephthalate (PET), etc. Polyacrylate resins including polyester resins, polyethersulfone resins, polysulfone resins, polyamide resins, polyimide resins, acyclic-polyolefin resins, polymethylmethacrylate resins, etc. It may include at least one of a vinyl alcohol-based resin, a polyvinyl chloride-based resin, and a polyvinylidene chloride-based resin.

보호 필름은 무 연신 필름일 수도 있으나, 상기 수지를 소정의 방법으로 연신시켜 소정 범위의 위상차를 갖는 위상차 필름 또는 등방성 광학 필름이 될 수 있다. 일 구체예에서, 보호 필름은 Re가 60nm 이하 구체적으로 0nm 내지 60nm 더 구체적으로 40nm 내지 60nm의 등방성 광학필름이 될 수도 있다. 상기 범위에서 시야각을 보상하여 화상 품질을 좋게 할 수 있다. 상기 "등방성 광학필름"은 nx, ny, nz가 실질적으로 동일한 필름을 의미하며, 상기 "실질적으로 동일한"은 완전히 동일한 경우뿐만 아니라 약간의 오차를 포함하는 경우를 모두 포함한다. 다른 구체예에서, 보호 필름은 Re가 60nm 이상인 위상차 필름일 수 있다. 예를 들면, 보호 필름은 Re가 60nm 내지 350nm가 될 수 있다. 예를 들면, 보호 필름은 Re가 8,000 nm 이상, 구체적으로 10,000nm 이상, 더 구체적으로 10,000nm 초과, 더 구체적으로 10,100nm 내지 30,000nm, 10,100nm 내지 15,000nm 가 될 수 있다. 상기 범위에서, 무지개 얼룩이 시인되지 않게 할 수 있고, 명암비 개선층를 통해 확산된 광의 확산 효과가 더 커질 수 있다.The protective film may be a non-stretched film, but may be a retardation film or an isotropic optical film having a retardation in a predetermined range by stretching the resin by a predetermined method. In one embodiment, the protective film may be an isotropic optical film having Re of 60 nm or less, specifically 0 nm to 60 nm, and more specifically 40 nm to 60 nm. By compensating the viewing angle in the above range, the image quality can be improved. The "isotropic optical film" refers to a film in which nx, ny, and nz are substantially the same, and the "substantially identical" includes all cases including a slight error as well as completely identical cases. In another embodiment, the protective film may be a retardation film having Re of 60 nm or more. For example, the protective film may have a Re of 60 nm to 350 nm. For example, the protective film may have a Re of 8,000 nm or more, specifically 10,000 nm or more, more specifically 10,000 nm or more, more specifically 10,100 nm to 30,000 nm, and 10,100 nm to 15,000 nm. In the above range, it is possible to prevent a rainbow stain from being visually recognized, and a diffusion effect of light diffused through the contrast ratio improving layer may be increased.

보호 코팅층은 활성 에너지선 경화성 화합물과 중합 개시제를 포함하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물로 형성될 수 있다. 활성 에너지선 경화성 화합물은 양이온 중합성 경화성 화합물, 라디칼 중합성의 경화성 화합물, 우레탄 수지, 실리콘계 수지 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 양이온 중합성 경화성 화합물은 분자 내에 적어도 하나의 에폭시기를 갖는 에폭시계 화합물, 분자 내에 적어도 하나의 옥세탄 고리를 갖는 옥세탄계 화합물이 될 수 있다. 에폭시계 화합물은 수소화 에폭시계 화합물, 사슬형 지방족 에폭시계 화합물, 고리형 지방족 에폭시계 화합물, 방향족 에폭시계 화합물 중 하나 이상이 될 수 있다.The protective coating layer may be formed of an active energy ray-curable resin composition containing an active energy ray-curable compound and a polymerization initiator. The active energy ray-curable compound may include at least one of a cationic polymerizable curable compound, a radical polymerizable curable compound, a urethane resin, and a silicone-based resin. The cationic polymerizable curable compound may be an epoxy compound having at least one epoxy group in the molecule, or an oxetane compound having at least one oxetane ring in the molecule. The epoxy compound may be at least one of a hydrogenated epoxy compound, a chain aliphatic epoxy compound, a cyclic aliphatic epoxy compound, and an aromatic epoxy compound.

라디칼 중합성의 경화성 화합물은 분자 내에 적어도 하나의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머, 관능기 함유 화합물을 2종 이상 반응시켜 얻을 수 있고 분자 내에 적어도 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴레이트 올리고머를 들 수 있다. (메트)아크릴레이트 모노머로는 분자 내에 1개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 단관능(메트)아크릴레이트 모노머, 분자 내에 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 2관능(메트)아크릴레이트 모노머, 및 분자 내에 3개 이상의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 다관능(메트)아크릴레이트 모노머가 될 수 있다. (메트)아크릴레이트 올리고머는 우레탄(메트)아크릴레이트 올리고머, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트 올리고머, 에폭시(메트)아크릴레이트 올리고머 등이 될 수 있다. 중합 개시제는 활성 에너지선 경화성 화합물을 경화시킬 수 있다. 중합 개시제는 광양이온 개시제, 광증감제 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 광양이온 개시제, 광증감제는 당업자에게 통상적으로 알려진 것을 사용할 수 있다. The radically polymerizable curable compound can be obtained by reacting two or more types of a (meth)acrylate monomer having at least one (meth)acryloyloxy group in a molecule, and a compound containing a functional group, and at least two (meth)acryloyl oxides in the molecule. (Meth)acrylate oligomers having a time period are mentioned. As the (meth)acrylate monomer, a monofunctional (meth)acrylate monomer having one (meth)acryloyloxy group in the molecule, and a bifunctional (meth)acrylate having two (meth)acryloyloxy groups in the molecule. It may be a monomer, and a polyfunctional (meth)acrylate monomer having three or more (meth)acryloyloxy groups in the molecule. The (meth)acrylate oligomer may be a urethane (meth)acrylate oligomer, a polyester (meth)acrylate oligomer, an epoxy (meth)acrylate oligomer, or the like. The polymerization initiator can cure the active energy ray-curable compound. The polymerization initiator may include at least one of a photocationic initiator and a photosensitizer. The photocationic initiator and photosensitizer may be those commonly known to those skilled in the art.

바람직하게는, 보호층(100)은 표면 처리되지 않은 비-표면 처리된 보호 필름 타입 또는 보호 코팅층 타입일 수 있다. 하기에서 상술되겠지만, 명암비 개선 광학 필름은 갭 필 층이 방현 효과를 나타내므로 보호층에 표면 처리를 할 필요가 없고 따라서 명암비 개선 광학 필름의 제조 공정을 간소화할 수 있고 표면 처리로 인한 명암비 개선 광학 필름의 광학적 기능에 영향을 주지 않을 수 있다.Preferably, the protective layer 100 may be a non-surface-treated protective film type or a protective coating layer type that is not surface-treated. As will be described in detail below, the optical film with improved contrast ratio does not require surface treatment on the protective layer since the gap fill layer exhibits an anti-glare effect, thus simplifying the manufacturing process of the optical film with improved contrast ratio and improving the contrast ratio due to the surface treatment. May not affect the optical function of the device.

보호층(100)은 굴절률이 1.4 내지 1.7, 바람직하게는 1.45 내지 1.65가 될 수 있다. The protective layer 100 may have a refractive index of 1.4 to 1.7, preferably 1.45 to 1.65.

보호층(100)의 두께는 10㎛ 내지 200㎛, 구체적으로, 20㎛ 내지 200㎛, 보호 필름 타입의 경우 20㎛ 내지 250㎛ 바람직하게는 30㎛ 내지 200㎛, 보호코팅층 타입의 경우 5㎛ 내지 50㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서 편광판에 사용될 수 있다. The thickness of the protective layer 100 is from 10 μm to 200 μm, specifically, from 20 μm to 200 μm, in the case of the protective film type, from 20 μm to 250 μm, preferably from 30 μm to 200 μm, and in the case of the protective coating layer type, from 5 μm It can be 50 μm. It can be used for a polarizing plate in the above range.

보호층(100)은 도 1에서와 같이 단일층이거나 2개 이상의 보호 필름 또는 보호 코팅층의 복층 구조일 수도 있다.As shown in FIG. 1, the protective layer 100 may be a single layer or a multilayer structure of two or more protective films or protective coating layers.

패턴층Pattern layer

패턴층(210)은 보호층(100)의 광 출사면에 형성되어, 보호층(210)으로부터 출사되는 광을 출사시킬 수 있다. 패턴층(210)은 패턴층(210)의 일면에 양각의 광학 패턴(211) 및 양각의 광학 패턴(211)과 바로 이웃하는 양각의 광학 패턴(211) 사이에 평탄부(212)를 구비하는 패턴부를 구비하는 층일 수 있다. 패턴층(210)은 일면에 갭 필 층(220)과 직접적으로 접하는 상기 패턴부를 구비한다.The pattern layer 210 may be formed on the light exit surface of the protective layer 100 to emit light emitted from the protective layer 210. The pattern layer 210 includes an embossed optical pattern 211 on one surface of the pattern layer 210 and a flat portion 212 between the embossed optical pattern 211 and the embossed optical pattern 211 immediately adjacent thereto. It may be a layer having a pattern part. The pattern layer 210 includes the pattern portion directly in contact with the gap fill layer 220 on one surface.

광학 패턴(211)은 정상부에 제1면(214)이 형성되고 제1면(214)과 연결되는 하나 이상의 경사면(213)으로 구성되는 광학 패턴일 수 있다. 패턴부는 하기 식 1을 만족하고, 광학 패턴(211)은 밑각(θ)이 55° 내지 90°가 될 수 있다. 밑각(θ)은 광학 패턴(211)의 경사면(213)과 광학 패턴(211)의 최대폭(W)의 선과 이루는 각이 55° 내지 90°를 의미한다. 이때 경사면(213)은 광학 패턴(211)의 평탄부(212)에 바로 연결되는 경사면을 의미한다. 상기 범위에서, 정면 명암비와 측면 명암비를 동시에 개선시킬 수 있고, 정면 명암비와 측면 명암비의 차이를 감소시킬 수 있으며, 동일 측면 시야각, 동일 정면 시야각에서 명암비를 높일 수 있다: 구체적으로, 밑각(θ)은 70° 내지 90°, P/W(W에 대한 P의 비)는 1.2 내지 8이 될 수 있다:The optical pattern 211 may be an optical pattern including one or more inclined surfaces 213 having a first surface 214 formed on the top and connected to the first surface 214. The pattern portion satisfies Equation 1 below, and the optical pattern 211 may have a base angle θ of 55° to 90°. The base angle θ refers to an angle between 55° and 90° between the inclined surface 213 of the optical pattern 211 and the line of the maximum width W of the optical pattern 211. In this case, the inclined surface 213 means an inclined surface directly connected to the flat portion 212 of the optical pattern 211. Within the above range, it is possible to improve the front contrast ratio and the side contrast ratio at the same time, reduce the difference between the front contrast ratio and the side contrast ratio, and increase the contrast ratio at the same side viewing angle and the same front viewing angle: Specifically, the base angle (θ) Is 70° to 90°, P/W (ratio of P to W) may be 1.2 to 8:

<식 1><Equation 1>

1 < P/W ≤ 101 <P/W ≤ 10

(상기 식 1에서, P는 패턴부의 주기(단위:㎛),(In Equation 1, P is the period of the pattern part (unit: μm),

W는 광학 패턴의 최대 폭(단위:㎛)).W is the maximum width of the optical pattern (unit: μm)).

도 1은 광학 패턴의 양쪽 밑각(θ)이 동일한 경우를 나타내었으나, 밑각이 상술 55° 내지 90°에 포함된다면 밑각(θ)이 서로 다른 광학 패턴도 본 발명의 범위에 포함될 수 있다.1 illustrates a case where both base angles θ of the optical pattern are the same, but if the base angles are included in the above 55° to 90°, optical patterns having different base angles θ may be included in the scope of the present invention.

광학 패턴(211)은 정상부에 제1면(214)이 형성되고 제1면(214)과 연결되는 하나 이상의 경사면(213)으로 구성되는 양각의 광학 패턴일 수 있다. 도 1은 광학 패턴(211)은 이웃하는 2개의 경사면(213)이 제1면(214)에 의해 연결되는 사다리꼴 광학 패턴을 나타낸 것이나, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니며, 광학 패턴은 단면이 사다리꼴인 광학 패턴 이외에 직사각형 또는 정사각형의 광학 패턴일 수 있다.The optical pattern 211 may be an embossed optical pattern including one or more inclined surfaces 213 having a first surface 214 formed on the top and connected to the first surface 214. 1 illustrates a trapezoidal optical pattern in which two adjacent inclined surfaces 213 are connected by a first surface 214 in the optical pattern 211, but the present invention is not limited thereto, and the optical pattern has a trapezoidal cross section. In addition to the phosphorus optical pattern, it may be a rectangular or square optical pattern.

제1면(214)은 정상부에 형성되어, 광학표시장치에서 패턴층(210)에 도달한 광이 제1면(214)에 의해 더 확산되게 함으로써 시야각과 휘도를 높일 수 있다. 따라서, 광 확산 효과를 높여 휘도 손실을 최소화할 수 있다. 제1면(214)은 평탄한 면으로서 명암비 개선 광학 필름의 제조 공정을 용이하게 할 수도 있다. 그러나, 제1면(214)은 미세 요철이 형성되거나 곡면이 될 수도 있다. 제1면이 곡면으로 형성될 경우에는 렌티큘러 렌즈 패턴이 형성될 수 있다. 도 1은 정상부(제1면)에 하나의 평면이 형성되고 경사면이 평면으로서, 단면이 사다리꼴 형태(예:단면이 삼각형인 프리즘의 상부가 절단된 형태, cut-prism 형태)인 패턴을 나타낸 것이다. 그러나, 양각의 광학 패턴이 정상부에 제1면이 형성되고 경사면이 곡면인 양각 패턴(예:렌티큘러 렌즈 패턴의 상부가 절단된 형태인 cut-lenticular lens인 명암비 개선층, 또는 마이크로렌즈 패턴의 상부가 절단된 형태인 cut-micro lens)인 경우도 본 발명의 범위에 포함될 수 있다. 또한, 단면이 직사각형 또는 정사각형 등의 N 각형(N은 3 내지 20의 정수)인 패턴도 포함할 수 있다.The first surface 214 is formed on the top, so that the light reaching the pattern layer 210 in the optical display device is further diffused by the first surface 214 to increase the viewing angle and brightness. Therefore, it is possible to minimize the luminance loss by increasing the light diffusion effect. The first surface 214 is a flat surface and may facilitate the manufacturing process of the optical film with improved contrast ratio. However, the first surface 214 may have fine irregularities or may be curved. When the first surface is formed as a curved surface, a lenticular lens pattern may be formed. 1 shows a pattern in which one plane is formed on the top (first side) and the inclined plane is a plane, and the cross-section is a trapezoidal shape (eg, a shape in which the upper part of a prism having a triangular cross-section is cut, cut-prism type). . However, the first surface is formed on the top of the embossed optical pattern and the embossed pattern in which the inclined surface is curved (e.g., a cut-lenticular lens in which the upper part of the lenticular lens pattern is cut, or the upper part of the microlens pattern is A cut-micro lens in a cut form may also be included in the scope of the present invention. In addition, a pattern having an N-shape (N is an integer of 3 to 20) such as a rectangle or a square may be included in the cross section.

제1면(214)은 평탄부(212), 패턴층(210)의 최저면 중 하나 이상과 평행하게 형성될 수 있다. 도 1은 광학 패턴(211)의 제1면(214), 평탄부(212), 패턴층(210)의 최저면이 서로 평행한 경우를 나타낸 것이다.The first surface 214 may be formed parallel to at least one of the flat portion 212 and the lowest surface of the pattern layer 210. 1 shows a case where the first surface 214 of the optical pattern 211, the flat portion 212, and the lowest surface of the pattern layer 210 are parallel to each other.

제1면(214)은 폭(A)이 0.5㎛ 내지 30㎛, 구체적으로 1㎛ 내지 15㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 광학표시장치에 사용될 수 있고, 명암비 개선 효과를 기대할 수 있다.The first surface 214 may have a width A of 0.5 μm to 30 μm, specifically 1 μm to 15 μm. In the above range, it can be used for an optical display device, and an effect of improving the contrast ratio can be expected.

광학 패턴(211)은 종횡비(H1/W)가 0.1 내지 10, 구체적으로 0.1 내지 7.0, 보다 구체적으로 0.1 내지 5.0이 될 수 있다. 상기 범위에서, 광학표시장치에서 측면에서의 명암비와 시야각을 개선할 수 있다.The optical pattern 211 may have an aspect ratio (H1/W) of 0.1 to 10, specifically 0.1 to 7.0, and more specifically 0.1 to 5.0. Within the above range, it is possible to improve the contrast ratio and viewing angle from the side of the optical display device.

광학 패턴(211)의 최대 높이(H1)는 0㎛ 초과 20㎛ 이하, 구체적으로 0㎛ 초과 15㎛ 이하, 보다 더 구체적으로 0㎛ 초과 10㎛ 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서, 명암비 개선, 시야각 개선, 및 휘도 향상을 나타내고 모아레 등이 나타나지 않을 수 있다.The maximum height H1 of the optical pattern 211 may be more than 0 μm and less than 20 μm, specifically more than 0 μm and less than 15 μm, and more specifically more than 0 μm and less than 10 μm. In the above range, the contrast ratio is improved, the viewing angle is improved, and the luminance is improved, and moire or the like may not appear.

광학 패턴(211)의 최대 폭(W)은 0㎛ 초과 20㎛ 이하, 구체적으로 0㎛ 초과 15㎛ 이하, 보다 더 구체적으로 0㎛ 초과 10㎛ 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서, 명암비 개선, 시야각 개선, 및 휘도 향상을 나타내고 모아레 등이 나타나지 않을 수 있다.The maximum width W of the optical pattern 211 may be more than 0 µm and less than 20 µm, specifically more than 0 µm and less than 15 µm, and more specifically more than 0 µm and less than 10 µm. In the above range, the contrast ratio is improved, the viewing angle is improved, and the luminance is improved, and moire or the like may not appear.

도 1은 이웃하는 광학 패턴들이 밑각, 제1면의 폭, 최대 높이, 최대 폭이 각각 동일한 광학 패턴이 형성된 패턴부를 나타낸 것이다. 그러나, 이웃하는 광학 패턴들이 밑각, 제1면의 폭, 최대 높이, 최대폭이 각각 서로 다를 수도 있다.1 illustrates a pattern portion in which an optical pattern in which adjacent optical patterns have the same base angle, the width of the first surface, the maximum height, and the maximum width, respectively, is formed. However, neighboring optical patterns may have different base angles, widths of the first surface, maximum heights, and maximum widths.

평탄부(212)는 패턴층(210)을 통과한 광을 갭 필 층(220)으로 출사시킴으로써 정면 휘도를 높일 수 있다.The flat portion 212 may increase front luminance by emitting light that has passed through the pattern layer 210 to the gap fill layer 220.

평탄부(212)의 폭(L)에 대한 광학 패턴(211)의 최대폭(W)의 비율(W/L)은 0 초과 9 이하, 구체적으로는 0.1 내지 3, 더 구체적으로는 0.15 내지 2일 수 있다. 상기 범위에서, 정면 명암비와 측면 명암비의 차이를 감소시킬 수 있으며, 동일 측면 시야각, 동일 정면 시야각에서 명암비를 높일 수 있다. 평탄부(212)의 폭(L)은 1㎛ 내지 50㎛, 구체적으로 1㎛ 내지 20㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 정면 휘도를 상승시켜 주는 효과가 있을 수 있다.The ratio (W/L) of the maximum width (W) of the optical pattern 211 to the width (L) of the flat portion 212 is greater than 0 and 9 or less, specifically 0.1 to 3, more specifically 0.15 to 2 days I can. In the above range, the difference between the front contrast ratio and the side contrast ratio can be reduced, and the contrast ratio can be increased at the same side viewing angle and the same front viewing angle. The width L of the flat portion 212 may be 1 μm to 50 μm, specifically 1 μm to 20 μm. In the above range, there may be an effect of increasing the front luminance.

하나의 광학 패턴(211)의 최대 폭(W)과 바로 이웃하는 평탄부(212)는 하나의 주기(P)를 형성한다. 주기(P)는 1㎛ 내지 50㎛, 구체적으로 1㎛ 내지 40㎛일 수 있다. 상기 범위 내에서 명암비 개선 효과가 있으면서 모아레를 방지할 수 있다. The flat portion 212 immediately adjacent to the maximum width W of one optical pattern 211 forms one period P. The period P may be 1 μm to 50 μm, specifically 1 μm to 40 μm. Within the above range, it is possible to prevent moiré while having an effect of improving the contrast ratio.

도 1은 이웃하는 주기, 최대 폭이 각각 서로 동일한 패턴부를 나타낸 것이나, 주기, 최대 폭은 각각 서로 다를 수도 있다.1 shows pattern portions having the same adjacent period and maximum width, respectively, but the period and maximum width may be different from each other.

도 1에서 명시되지 않았지만, 도 1은 광학 패턴이 광학 패턴의 길이 방향으로 스트라이프(stripe) 형의 연장된 형태로 형성된 것을 나타낸 것이나, 광학 패턴은 도트 형태로 형성될 수도 있다. 상기 "도트"는 충진 패턴과 광학 패턴의 조합이 분산되어 있는 것을 의미한다. 바람직하게는, 광학 패턴은 스트라이프형으로 연장 형성되어 좌우 시야각 확대 효과를 낼 수 있다.Although not specified in FIG. 1, FIG. 1 shows that the optical pattern is formed in a stripe-shaped extended shape in the length direction of the optical pattern, but the optical pattern may be formed in a dot shape. The "dot" means that the combination of the filling pattern and the optical pattern is dispersed. Preferably, the optical pattern is formed to extend in a stripe shape, so that the left and right viewing angles can be enlarged.

패턴층(210)과 갭필층(220)의 굴절률 차이는 0.06 이상 바람직하게는 0.08 내지 0.3, 더 바람직하게는 0.08 내지 0.2, 0.08 내지 0.15일 때 다른 정면 CR 감소 대비 광 확산 효과가 우수할 수 있다. When the difference in refractive index between the pattern layer 210 and the gap fill layer 220 is 0.06 or more, preferably 0.08 to 0.3, more preferably 0.08 to 0.2, and 0.08 to 0.15, the light diffusion effect may be excellent compared to other frontal CR reduction. .

패턴층(210)은 굴절률이 1.52 이상, 바람직하게는 1.55 내지 1.70, 더 바람직하게는 1.60 내지 1.70이 될 수 있다. 상기와 같이 굴절률이 높을수록 갭필층과 굴절률 차이를 높이고 광 확산 효과를 극대화 할 수 있다.The pattern layer 210 may have a refractive index of 1.52 or more, preferably 1.55 to 1.70, more preferably 1.60 to 1.70. As described above, the higher the refractive index, the higher the difference between the gap-fill layer and the refractive index, and the light diffusion effect can be maximized.

패턴층(210)은 상기 굴절률을 제공할 수 있는 열경화형 수지, 광경화형 수지 중 하나 이상을 포함하는 패턴층용 조성물로 형성될 수 있다. The pattern layer 210 may be formed of a composition for a pattern layer including at least one of a thermosetting resin and a photocurable resin capable of providing the refractive index.

예를 들면, 패턴층(210)은 방향족기를 갖는 수지, 방향족기를 갖지 않는 수지(비-방향족기 수지) 중 하나 이상으로 형성될 수 있다. 방향족기를 갖는 수지는 예를 들면 플루오렌 또는 나프탈렌을 갖는 수지를 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.For example, the pattern layer 210 may be formed of at least one of a resin having an aromatic group and a resin not having an aromatic group (non-aromatic resin). The resin having an aromatic group may include, for example, a resin having fluorene or naphthalene, but is not limited thereto.

패턴층(210)은 상기 굴절률을 제공할 수 있는 열경화성 모노머, 광경화성 모노머 중 하나 이상을 포함하는 패턴층용 조성물로 형성될 수 있다. 예를 들면, 패턴층용 조성물은 2관능 이상의 (메트)아크릴계 모노머를 포함할 수 있다. The pattern layer 210 may be formed of a composition for a pattern layer including at least one of a thermosetting monomer and a photocurable monomer capable of providing the refractive index. For example, the composition for a pattern layer may contain a bifunctional or higher (meth)acrylic monomer.

구체적으로, (메트)아크릴계 모노머는 에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 부탄디올 디(메트)아크릴레이트, 헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸 디메탄올 디(메트)아크릴레이트, 노난디올 디(메트)아크릴레이트, 에톡시화헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 프로폭시화헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트, 에톡시화네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 히드록시피발린산네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트 등의 디(메트)아크릴레이트 등의 2관능 (메트)아크릴계; 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 에톡시화트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 프로폭시화트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 트리스2-히드록시에틸이소시아누레이트 트리(메트)아크릴레이트, 글리세린 트리(메트)아크릴레이트 등의 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트 등의 3관능의 (메트)아크릴계; 펜타에리스리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 테트라(메트)아크릴레이트 등의 4관능 (메트)아크릴계; 디펜타에리스리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 펜타(메트)아크릴레이트 등의 5관능 (메트)아크릴계; 디펜타에리스리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 헥사(메트)아크릴레이트 등의 6관능 (메트)아크릴계 중 하나 이상을 포함할 수 있다.Specifically, (meth)acrylic monomers are ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, butanediol di(meth)acrylate, hexanediol di(meth)acrylate, tricyclodecane dimethanol Di(meth)acrylate, nonanediol di(meth)acrylate, ethoxylated hexanediol di(meth)acrylate, propoxylated hexanediol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene Glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di(meth)acrylate, Bifunctional (meth)acrylic systems such as di(meth)acrylates such as tripropylene glycol di(meth)acrylate and hydroxypivalate neopentyl glycol di(meth)acrylate; Trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri(meth)acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri(meth)acrylate, tris2-hydroxyethylisocyanurate tri(meth)acrylic Tri(meth)acrylate, such as tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tri(meth)acrylate, etc. Functional (meth)acrylic; Tetrafunctional (meth)acrylic systems such as pentaerythritol tetra(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, and dipentaerythritol tetra(meth)acrylate; 5-functional (meth)acrylic systems, such as dipentaerythritol penta(meth)acrylate and ditrimethylolpropane penta(meth)acrylate; Dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, ditrimethylolpropane hexa(meth)acrylate, and the like.

패턴층은 상기 굴절률을 제공할 수 있는, 열경화형 수지, 광경화형 수지 중 하나 이상 및 열경화성 모노머, 광경화성 모노머 중 하나 이상을 포함하는 패턴층용 조성물로 형성될 수 있다. 열경화형 수지, 광경화형 수지 중 하나 이상 및 열경화성 모노머, 광경화성 모노머 중 하나 이상은 패턴층의 매트릭스를 형성할 수 있다.The pattern layer may be formed of a composition for a pattern layer including at least one of a thermosetting resin and a photocurable resin, and at least one of a thermosetting monomer and a photocurable monomer that can provide the refractive index. At least one of a thermosetting resin and a photocurable resin, and at least one of a thermosetting monomer and a photocurable monomer may form a matrix of the pattern layer.

패턴층은 고굴절의 무기 입자 예를 들면 지르코늄 산화물(지르코니아), 티타늄 산화물(티타니아) 중 하나 이상을 포함하는 패턴층용 조성물로 형성될 수 있다. 고굴절률의 무기 입자를 포함하는 패턴층용 조성물은 방향족기를 갖는 수지를 포함하지 않더라도 패턴층의 굴절률을 높일 수 있고, 패턴층의 내광 신뢰성을 높일 수 있다. 방향족기를 갖는 수지는 외부광 자외선에 장기간 노출시 황변되어 내광 신뢰성을 저하시킬 수 있다. 고굴절의 무기 입자는 패턴층 중 10중량% 내지 80중량%, 바람직하게는 20중량% 내지 80중량%, 20 중량% 내지 75중량%, 더 바람직하게는 30 중량% 내지 70중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 패턴층의 굴절률을 높일 수 있고, 내광 신뢰성을 높일 수 있다. The pattern layer may be formed of a composition for a pattern layer including one or more of high refractive inorganic particles, for example, zirconium oxide (zirconia) and titanium oxide (titania). The composition for a pattern layer including the inorganic particles having a high refractive index can increase the refractive index of the pattern layer and increase the light resistance reliability of the pattern layer even if it does not contain a resin having an aromatic group. A resin having an aromatic group may be yellowed when exposed to external ultraviolet rays for a long period of time, thereby reducing light resistance reliability. The high refractive inorganic particles may be included in 10% to 80% by weight, preferably 20% to 80% by weight, 20% to 75% by weight, more preferably 30% to 70% by weight in the pattern layer. . In the above range, it is possible to increase the refractive index of the pattern layer and increase the light resistance reliability.

고굴절률의 무기 입자는 패턴층의 매트릭스 대비 굴절률이 높은 입자로서, 굴절률이 1.8 이상, 바람직하게는 2.0 이상, 2.0 내지 3.0이 될 수 있다. 상기 범위에서, 패턴층의 굴절률 확보가 용이할 수 있다. 무기 입자는 표면 처리되지 않은 입자를 포함할 수도 있으나, 표면 처리됨으로써 다른 성분과의 상용성을 좋게 할 수 있다. 표면 처리는 무기 입자의 전체 표면적 중 5% 내지 50%가 될 수 있다. 바람직하게는, 패턴층은 지르코니아를 포함할 수 있고, 갭 필 층 대비 굴절률 조절이 용이하여 시인성 개선 효과를 좋게 할 수 있다. The high refractive index inorganic particles are particles having a high refractive index compared to the matrix of the pattern layer, and may have a refractive index of 1.8 or more, preferably 2.0 or more, and 2.0 to 3.0. Within the above range, it may be easy to secure the refractive index of the pattern layer. The inorganic particles may include particles that are not surface-treated, but by surface treatment, compatibility with other components may be improved. The surface treatment may be 5% to 50% of the total surface area of the inorganic particles. Preferably, the pattern layer may include zirconia, and it is easy to adjust the refractive index compared to the gap fill layer, so that the effect of improving visibility may be improved.

고굴절률의 무기 입자의 평균입경(D50)은 1nm 내지 80nm, 바람직하게는 5nm 내지 50nm 가 될 수 있다. 상기 평균입경(D50)은 당업자에게 알려진 통상의 방법으로 측정할 수 있다. 상기 범위에서, 빛의 산란이 발생하지 않으며 고굴절률층의 굴절율을 높이는 효과가 있을 수 있다.The average particle diameter (D50) of the high refractive index inorganic particles may be 1 nm to 80 nm, preferably 5 nm to 50 nm. The average particle diameter (D50) can be measured by a conventional method known to those skilled in the art. In the above range, light scattering does not occur, and there may be an effect of increasing the refractive index of the high refractive index layer.

패턴층용 조성물은 조성물을 경화시켜 패턴층 형성을 용이하게 하는 광개시제, 열개시제 중 하나 이상을 더 포함할 수 있다. 예를 들면, 인계, 트리아진계, 아세토페논계, 벤조페논계, 티오크산톤계, 벤조인계, 옥심계, 페닐케톤계 중 하나 이상을 포함할 수 있다. The composition for a pattern layer may further include at least one of a photoinitiator and a thermal initiator to facilitate formation of the pattern layer by curing the composition. For example, it may include at least one of phosphorus-based, triazine-based, acetophenone-based, benzophenone-based, thioxanthone-based, benzoin-based, oxime-based, and phenylketone-based.

패턴층용 조성물은 이형제, 소포제, 레벨링제, 산화방지제, 자외선 흡수제, 광 안정제 등 통상의 첨가제를 더 포함할 수 있다. 패턴층용 조성물은 용매를 포함하지 않는 무 용제 타입이 될 수 있으나 용매를 더 포함하여 패턴층 형성을 용이하게 할 수 있다. 용매는 통상의 용매를 사용할 수 있다.The composition for the pattern layer may further include conventional additives such as a release agent, a defoaming agent, a leveling agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer. The composition for the pattern layer may be a solvent-free type that does not contain a solvent, but may further include a solvent to facilitate formation of the pattern layer. As the solvent, a conventional solvent can be used.

갭 필 층Gap fill layer

갭 필 층(220)은 패턴층(210)의 일면과 직접적으로 형성되며, 패턴층(210)의 광 출사면에 형성되어 있다. 갭 필 층(220)은 패턴층(210)의 광출사면으로부터 입사된 광을 확산시킴으로써 광 확산 효과를 크게 할 수 있다.The gap fill layer 220 is formed directly with one surface of the pattern layer 210 and is formed on the light exit surface of the pattern layer 210. The gap fill layer 220 may increase the light diffusion effect by diffusing light incident from the light exit surface of the pattern layer 210.

갭 필 층(220)은 패턴층(210)의 광학 패턴(211) 및 이웃하는 광학 패턴(211) 사이의 갭의 적어도 일부를 충진시켜, 명암비 개선층(200)을 평탄화시키는 평탄화층일 수 있다. The gap fill layer 220 may be a planarization layer for flattening the contrast ratio improving layer 200 by filling at least a part of a gap between the optical pattern 211 of the pattern layer 210 and the adjacent optical pattern 211.

일 구체예에서, 갭 필 층(220)은 패턴층(210)의 광학 패턴(211) 및 이웃하는 광학 패턴(211) 사이의 갭을 완전히 충진시킬 수 있다. In one embodiment, the gap fill layer 220 may completely fill a gap between the optical pattern 211 of the pattern layer 210 and the adjacent optical pattern 211.

일 구체예에서, 갭 필 층(220)의 두께는 광학 패턴(211)의 최대 높이보다 커서 패턴층(210)의 광학 패턴(211) 및 이웃하는 광학 패턴(211) 사이의 갭을 완전히 충진하고 광학 패턴(211)의 정상부를 완전히 덮을 수 있다.In one embodiment, the thickness of the gap fill layer 220 is greater than the maximum height of the optical pattern 211 and completely fills the gap between the optical pattern 211 of the pattern layer 210 and the neighboring optical pattern 211 The top portion of the optical pattern 211 may be completely covered.

패턴층(210)의 굴절률은 갭 필 층(220)의 굴절률보다 높다. 패턴층(210)과 갭 필 층(220)로 구성되는 명암비 개선층(200)은 패턴층(210)의 광입사면으로부터 입사된 광을 확산시켜 출사시킴으로써 측면 명암비를 개선시킬 수 있고, 측면 명암비를 높이더라도 정면 명암비의 감소를 최소화하고, 정면 명암비와 측면 명암비의 차이를 감소시킬 수 있으며, 동일 측면 시야각, 동일 정면 시야각에서 명암비를 높일 수 있다.The refractive index of the pattern layer 210 is higher than that of the gap fill layer 220. The contrast ratio improving layer 200 composed of the pattern layer 210 and the gap fill layer 220 can improve the side contrast ratio by diffusing and emitting light incident from the light incident surface of the pattern layer 210, and the side contrast ratio. Even if is increased, the reduction of the front contrast ratio can be minimized, the difference between the front contrast ratio and the side contrast ratio can be reduced, and the contrast ratio can be increased at the same side viewing angle and the same front viewing angle.

갭 필 층(220)은 굴절률이 0 초과 1.53 이하, 구체적으로 1.43 내지 1.525 가 될 수 있다. 상기 범위에서, 패턴층과의 굴절률 차이를 크게하여 시인성 효과가 우수할 수 있다.The gap fill layer 220 may have a refractive index greater than 0 and 1.53 or less, specifically 1.43 to 1.525. In the above range, the difference in refractive index with the pattern layer may be increased, so that the visibility effect may be excellent.

갭 필 층(220)은 매트릭스 및 상기 매트릭스에 포함된 제1입자(230)를 포함할 수 있다. 제1입자(230) 중 적어도 일부는 갭 필 층(220) 표면에 노출되어 표면 요철을 형성하고, 매트릭스 대비 굴절률이 동일할 수 있다. 이를 통해, 패턴층(210)을 통과한 광이 제1입자에 의해 산란되지 않게 함으로써 시인성 개선 효과에 영향을 주지 않고, 표면에 노출된 제1입자에 의해 표면 요철에 의한 방현 효과, 모아레 억제 효과도 제공할 수 있다. 제1입자(230)들 중 일부는 갭 필 층(220) 표면에 노출될 뿐만 아니라 제1입자들 중 나머지는 광학 패턴 사이에 분산될 수 있다. The gap fill layer 220 may include a matrix and first particles 230 included in the matrix. At least some of the first particles 230 may be exposed on the surface of the gap fill layer 220 to form surface irregularities, and may have the same refractive index compared to the matrix. Through this, the light passing through the pattern layer 210 is not scattered by the first particles, so that the effect of improving visibility is not affected, and the anti-glare effect due to surface irregularities and the moire suppression effect by the first particles exposed to the surface Can also provide. Some of the first particles 230 may be exposed on the surface of the gap fill layer 220 and the rest of the first particles may be dispersed between the optical patterns.

제1입자들이 광학 패턴 사이에 분산되더라도 제1입자는 매트릭스 대비 굴절률 차이의 절대값 0 내지 0.03 범위에서는 내부 헤이즈가 최소가 되어 시인성 개선 효과에 영향을 주지 않게 된다.Even if the first particles are dispersed between the optical patterns, the internal haze of the first particles is minimized in the range of 0 to 0.03 of the absolute value of the difference in refractive index compared to the matrix, so that the effect of improving visibility is not affected.

제1입자(230)는 갭 필 층(220) 중 1중량% 내지 50중량%, 바람직하게는 2중량% 내지 40중량%, 더 바람직하게는 2중량% 내지 30중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 외부 요철을 형성하여 외광 산란 효과가 있을 수 있다.The first particles 230 may be included in 1% to 50% by weight, preferably 2% to 40% by weight, and more preferably 2% to 30% by weight of the gap fill layer 220. In the above range, external unevenness may be formed to have an effect of scattering external light.

일 구체예에서, 갭 필 층에 포함된 제1입자 직경의 1% 이상 20% 미만이 갭 필 층 표면 즉 갭 필 층의 최상부면에 노출 될 수도 있고, 제1입자 위로 갭 필 레진이 있어서 요철을 발생할 수 도 있다. 상기 범위에서, 패턴층으로부터 출사되는 광의 명암비 개선 효과를 유지하면서 방현 효과를 낼 수 있다.In one embodiment, 1% or more and less than 20% of the diameter of the first particles included in the gap fill layer may be exposed on the surface of the gap fill layer, that is, the uppermost surface of the gap fill layer. It can also occur. In the above range, the anti-glare effect can be achieved while maintaining the effect of improving the contrast ratio of light emitted from the pattern layer.

일 구체예에서, 패턴층(210)의 정상부인 제1면(214)과 갭 필 층(220)의 최상부면 간의 최대 거리('살 두께'라고도 함)는 0㎛ 초과 15㎛ 이하, 바람직하게는 5㎛ 내지 10㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 패턴층의 정상부로부터 나오는 광의 시인성 개선 효과에 영향을 주지 않고 방현 효과를 충분히 낼 수 있다. 종래 방현 필름을 명암비 개선 광학 필름에 적층하는 경우 패턴층으로부터 출사되는 광은 방현 필름을 구성하는 필름을 경유하여 방현 입자에 도달할 수 밖에 없다. 본 발명에서는 상술 살 두께에 갭 필 층 중 매트릭스와 제1입자의 굴절률 차이의 절대값을 0 내지 0.03으로 함으로써 측면 시인성 개선 효과도 내면서 외부 요철에 의해 방현 효과도 낼 수 있도록 하였다.In one embodiment, the maximum distance (also referred to as'skin thickness') between the first surface 214 that is the top of the pattern layer 210 and the top surface of the gap fill layer 220 is more than 0 µm and 15 µm or less, preferably May be 5㎛ to 10㎛. Within the above range, the anti-glare effect can be sufficiently exhibited without affecting the effect of improving the visibility of light emitted from the top of the pattern layer. When a conventional anti-glare film is laminated on an optical film with improved contrast, light emitted from the pattern layer has no choice but to reach the anti-glare particles through the film constituting the anti-glare film. In the present invention, by setting the absolute value of the difference in refractive index between the matrix and the first particle in the gap fill layer to 0 to 0.03 in the thickness of the above-described flesh, the side visibility is improved and the anti-glare effect can be achieved by external irregularities.

제1입자(230)는 매트릭스로부터 입사된 광을 산란시켜 방현 효과를 내는 입자를 포함할 수 있다. 제1입자는 구형 또는 무정형의 입자를 포함할 수 있고, 바람직하게는 구형의 입자를 포함할 수 있다. 이를 통해, 갭 필 층 표면에서 광을 균일하게 산란시킴으로써 외관을 좋게 할 수 있다. The first particles 230 may include particles that generate an anti-glare effect by scattering light incident from the matrix. The first particles may include spherical or amorphous particles, and preferably include spherical particles. Through this, the appearance can be improved by uniformly scattering light on the surface of the gap fill layer.

제1입자는 평균 입경(D50)이 0㎛ 초과 20㎛ 이하, 바람직하게는 2㎛ 내지 15㎛, 더 바람직하게는 2㎛ 내지 10㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 갭 필 층에 포함될 수 있고, 방현 효과를 낼 수 있다.The first particles may have an average particle diameter (D50) of more than 0 µm to 20 µm or less, preferably 2 µm to 15 µm, and more preferably 2 µm to 10 µm. In the above range, it may be included in the gap fill layer, and an anti-glare effect may be achieved.

제1입자의 평균 입경은 양각의 광학 패턴의 정상부인 제1면의 폭 또는 양각의 광학 패턴의 최대폭 또는 평탄부의 최대 폭보다 작을 수 있다. 이러한 경우, 방현 효과가 나올 수 있고 모아레가 발생하지 않을 수 있다.The average particle diameter of the first particles may be smaller than the width of the first surface, which is the top portion of the embossed optical pattern, or the maximum width of the embossed optical pattern or the maximum width of the flat portion. In this case, an anti-glare effect may be produced and moiré may not occur.

제1입자(230)는 매트릭스 대비 굴절률 차이의 절대값이 0 내지 0.03인 굴절률을 갖는 입자이며, 이에 따른 하부의 시인성 효과를 유지할 수 있다. 패턴층으로부터 입사된 광에 대해 방현 효과를 낼 수 있다. 일 구체예에서 제1입자는 매트릭스 대비 굴절률이 동일하거나 낮을 수 있다.The first particles 230 are particles having a refractive index in which the absolute value of the difference in refractive index compared to the matrix is 0 to 0.03, and accordingly, the visibility effect of the lower portion can be maintained. An anti-glare effect can be exerted on the light incident from the pattern layer. In one embodiment, the first particles may have the same or lower refractive index compared to the matrix.

제1입자는 통상의 방현 입자로서 유기 입자, 무기 입자, 유-무기 하이브리드 입자 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 유기 입자는 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리스티렌, 또는 폴리메틸메타아크릴레이트와 스티렌의 공중합체로 형성될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 무기 입자는 실리카, 티타니아, 지르코니아, 알루미나 등을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 바람직하게는, 유기 입자, 더 바람직하게는 폴리메틸메타아크릴레이트 입자를 사용함으로써 매트릭스와의 상용성을 좋게 할 수 있다.The first particles are conventional anti-glare particles and may include at least one of organic particles, inorganic particles, and organic-inorganic hybrid particles. The organic particles may be formed of polymethyl methacrylate, polystyrene, or a copolymer of polymethyl methacrylate and styrene, but are not limited thereto. The inorganic particles may include silica, titania, zirconia, alumina, and the like, but are not limited thereto. Preferably, the compatibility with the matrix can be improved by using organic particles, more preferably polymethyl methacrylate particles.

제1 입자는 굴절률이 0 초과 1.53 이하, 구체적으로 1.43 내지 1.53, 1.43 내지 1.525 가 될 수 있다.The first particles may have a refractive index of more than 0 and 1.53 or less, specifically 1.43 to 1.53, and 1.43 to 1.525.

매트릭스는 갭 필 층을 지지하고, 갭 필 층 표면에 제1입자가 노출되도록 지지할 수 있다. 매트릭스는 제1입자 대비 굴절률 차이의 절대값 0 내지 0.03을 확보할 수 있는 갭 필 층용 조성물로 형성될 수 있다. 매트릭스는 굴절률이 0 초과 1.53 이하, 구체적으로 1.43 내지 1.53, 1.43 내지 1.525 가 될 수 있다.The matrix may support the gap fill layer and support the first particles to be exposed on the surface of the gap fill layer. The matrix may be formed of a composition for a gap fill layer capable of securing an absolute value of 0 to 0.03 of the difference in refractive index compared to the first particle. The matrix may have a refractive index of more than 0 and 1.53 or less, specifically 1.43 to 1.53, and 1.43 to 1.525.

갭 필 층용 조성물은 광경화형 화합물, (메트)아크릴계 모노머, 개시제, 제1입자를 포함할 수 있다.The composition for the gap fill layer may include a photocurable compound, a (meth)acrylic monomer, an initiator, and first particles.

광경화형 화합물은 UV 경화성기 예를 들면 (메트)아크릴레이트기 또는 에폭시기를 갖는 화합물(올리고머, 수지 중 1종 이상)을 포함할 수 있다. 광경화형 화합물은 2관능 이상의 다관능 (메트)아크릴계 올리고머, 이로부터 형성된 수지 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 광경화형 화합물은 다가 알코올과 (메트)아크릴산의 에스테르와 같은 다관능의 (메트)아크릴레이트, 또는 다가 알코올, 이소시아네이트계 화합물, (메트)아크릴산의 히드록시 에스테르로부터 합성되는 다관능의 우레탄 (메트)아크릴레이트 중 하나 이상을 포함할 수 있다. (메트)아크릴게 모노머는 상기 패턴층용 조성물에서 상술된 (메트)아크릴계 모노머 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 개시제는 상기 패턴층용 조성물에서 상술된 개시제 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 제1입자는 상기에서 상술된 바와 같다.The photocurable compound may include a compound (at least one of oligomers and resins) having a UV curable group, such as a (meth)acrylate group or an epoxy group. The photocurable compound may include at least one of a bifunctional or more polyfunctional (meth)acrylic oligomer, and a resin formed therefrom. The photocurable compound is a polyfunctional (meth)acrylate such as an ester of a polyhydric alcohol and (meth)acrylic acid, or a polyfunctional urethane (meth) synthesized from a polyhydric alcohol, an isocyanate compound, or a hydroxy ester of (meth)acrylic acid. It may include one or more of acrylates. The (meth)acrylic monomer may include one or more of the (meth)acrylic monomers described above in the composition for the pattern layer. The initiator may include at least one of the initiators described above in the composition for the pattern layer. The first particles are as described above.

갭 필 층용 조성물은 분산제, 소포제, 레벨링제, 슬립제, 산화방지제, 자외선 흡수제, 광 안정제, 내지문성제 등 통상의 첨가제를 더 포함할 수 있다. The composition for the gap fill layer may further include conventional additives such as a dispersant, a defoaming agent, a leveling agent, a slip agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, and an anti-fingerprint agent.

예를 들면, 레벨링제로 UV 반응성 실리콘 첨가제(예:UV3500) 등을 사용할 수 있다. 예를 들면, 분산제로서 고분자량의 block copolymer의 탈응집형 분산제(예: Disperbyk-2163) 등을 사용할 수 있다. 예를 들면 내지문성제로 UV 경화성 불소계 아크릴계 화합물(예: KY 1203) 등을 사용할 수 있다.For example, a UV reactive silicone additive (eg, UV3500) may be used as a leveling agent. For example, as a dispersant, a high molecular weight block copolymer deagglomeration dispersant (eg, Disperbyk-2163) can be used. For example, a UV-curable fluorine-based acrylic compound (eg, KY 1203) may be used as the anti-fingerprint agent.

갭 필 층용 조성물은 용매를 포함하지 않는 무 용제 타입이 될 수 있으나 용매를 더 포함하여 갭 필 층 형성을 용이하게 할 수 있다. 용매는 통상의 용매를 사용할 수 있는데, 예를 들면, 프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 메틸이소부틸케톤 중 하나 이상을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.The composition for the gap-fill layer may be a solvent-free type that does not contain a solvent, but may further include a solvent to facilitate formation of the gap-fill layer. The solvent may be a conventional solvent, for example, but may include at least one of propylene glycol monomethyl ether acetate and methyl isobutyl ketone, but is not limited thereto.

갭 필 층용 조성물은 제1입자(230) 대비 굴절률이 높은 제2입자를 더 포함할 수 있다. 이를 통해, 갭 필 층용 조성물의 경화시 매트릭스와 제1입자 간의 굴절률 차이의 절대값 0 초과 0.03 이하를 확보할 수 있다. The composition for the gap fill layer may further include second particles having a higher refractive index than the first particles 230. Through this, when the composition for the gap fill layer is cured, the absolute value of the difference in refractive index between the matrix and the first particle may be greater than 0 and 0.03 or less.

제2입자는 굴절률이 1.8 이상, 바람직하게는 2.0 이상, 2.0 내지 3.0이 될 수 있다. 상기 범위에서, 갭 필 층의 굴절률 확보가 용이할 수 있다.The second particle may have a refractive index of 1.8 or more, preferably 2.0 or more, and 2.0 to 3.0. Within the above range, it may be easy to secure the refractive index of the gap fill layer.

제2입자는 상기 패턴층에서 상술하였던 고굴절률의 무기 입자와 실질적으로 동일한 입자를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 제2입자는 지르코니아를 포함할 수 있다. 제2입자의 평균입경(D50)은 5nm 내지 80nm가 될 수 있다. 상기 평균입경(D50)은 당업자에게 알려진 통상의 방법으로 측정할 수 있다. 상기 범위에서, 고굴절 층의 굴절율을 높이는 효과가 있을 수 있다.The second particles may include particles substantially the same as those of the inorganic particles having a high refractive index described above in the pattern layer. Preferably, the second particle may include zirconia. The average particle diameter (D50) of the second particles may be 5 nm to 80 nm. The average particle diameter (D50) can be measured by a conventional method known to those skilled in the art. In the above range, there may be an effect of increasing the refractive index of the high refractive layer.

제2입자는 갭 필 층용 조성물 또는 갭 필 층 중 10중량% 내지 80중량%, 바람직하게는 10중량% 내지 75중량%, 15중량% 내지 70중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 분산성을 유지하면서 층의 경도를 유지하는 효과가 있을 수 있다.The second particles may be included in a composition for a gap fill layer or a gap fill layer in an amount of 10 wt% to 80 wt%, preferably 10 wt% to 75 wt%, and 15 wt% to 70 wt%. In the above range, there may be an effect of maintaining the hardness of the layer while maintaining the dispersibility.

갭 필 층(220)의 최대 두께는 0㎛ 초과 30㎛ 이하, 예를 들면 0㎛ 초과 20㎛ 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서, 컬(curl)과 같은 휨 발생을 막을 수 있다.The maximum thickness of the gap fill layer 220 may be greater than 0 µm and less than 30 µm, for example, greater than 0 µm and less than 20 µm. In the above range, it is possible to prevent the occurrence of warpage such as curl.

명암비 개선층(200) 중 제1입자(230)은 1중량% 내지 50중량%, 바람직하게는 2중량% 내지 40중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 명암비 개선 효과를 유지하면서 방현 효과도 낼 수 있다.The first particles 230 of the contrast ratio improving layer 200 may be included in an amount of 1% to 50% by weight, preferably 2% to 40% by weight. In the above range, the anti-glare effect can be achieved while maintaining the effect of improving the contrast ratio.

명암비 개선 광학 필름(10)의 헤이즈는 0% 이상 35% 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서 광학표시장치에 사용될 수 있다.The haze of the optical film 10 for improving contrast ratio may be 0% or more and 35% or less. In the above range, it can be used for an optical display device.

이하, 도 2를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 편광판을 설명한다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 편광판의 단면도이다.Hereinafter, a polarizing plate according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 2. 2 is a cross-sectional view of a polarizing plate according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 편광판(20)은 편광필름(300), 명암비 개선 광학 필름을 포함하고, 명암비 개선 광학 필름은 본 발명의 일 실시예에 따른 명암비 개선 광학 필름을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 2, the polarizing plate 20 includes a polarizing film 300 and an optical film for improving contrast ratio, and the optical film for improving contrast ratio may include an optical film for improving contrast ratio according to an embodiment of the present invention.

명암비 개선 광학 필름은 편광필름(300)의 광출사면에 형성될 수 있다. 명암비 개선 광학 필름은 편광필름(300)을 투과한 편광을 확산시켜 정면 명암비, 측면 명암비를 개선하고, 시야각을 개선시킬 수 있다. The optical film for improving contrast ratio may be formed on the light exit surface of the polarizing film 300. The contrast ratio improvement optical film may improve a front contrast ratio and a side contrast ratio by diffusing polarized light transmitted through the polarizing film 300 and improve a viewing angle.

편광필름(300)은 액정패널로부터 입사된 광을 편광시켜 명암비 개선층(200)로 투과시킬 수 있다. 편광필름(300)은 명암비 개선층(200)의 광입사면에 형성되어 있다.The polarizing film 300 may polarize light incident from the liquid crystal panel and transmit it to the contrast ratio improving layer 200. The polarizing film 300 is formed on the light incident surface of the contrast ratio improving layer 200.

편광필름(300)은 편광자를 포함할 수 있다. 구체적으로, 편광자는 폴리비닐알콜계 필름을 1축 연신하여 제조되는 폴리비닐알콜계 편광자, 또는 폴리비닐알콜계 필름을 탈수하여 제조되는 폴리엔계 편광자를 포함할 수 있다. 편광자는 두께가 5㎛ 내지 40㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 광학표시장치에 사용될 수 있다.The polarizing film 300 may include a polarizer. Specifically, the polarizer may include a polyvinyl alcohol-based polarizer manufactured by uniaxially stretching a polyvinyl alcohol-based film, or a polyene-based polarizer manufactured by dehydrating a polyvinyl alcohol-based film. The polarizer may have a thickness of 5 μm to 40 μm. In the above range, it can be used for an optical display device.

편광필름(300)은 편광자 및 편광자의 일면 즉 편광자의 광입사면에 형성된 보호층을 포함할 수 있다. 보호층은 편광자를 보호하여 편광판의 신뢰성을 높이고 편광판의 기계적 강도를 높일 수 있다. 보호층은 광학적으로 투명한, 보호 필름 또는 보호 코팅층 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 보호층은 상기에서 상술한 바와 같다.The polarizing film 300 may include a polarizer and a protective layer formed on one surface of the polarizer, that is, a light incident surface of the polarizer. The protective layer protects the polarizer, thereby increasing the reliability of the polarizing plate and increasing the mechanical strength of the polarizing plate. The protective layer may include one or more of optically transparent, protective film or protective coating layer. The protective layer is as described above.

편광판은 통상의 방법으로 형성될 수 있다. 예를 들면, 상술한 방법으로 명암비 개선 광학 필름을 제조하고, 명암비 개선 광학 필름 중 제1수지층을 매개로 편광필름을 접착시켜 제조될 수 있다. 제1수지층은 편광필름에 대한 점착력이 우수하다. The polarizing plate may be formed by a conventional method. For example, it may be prepared by preparing an optical film for improving contrast ratio by the above-described method, and bonding a polarizing film through a first resin layer among the optical films for improving contrast ratio. The first resin layer has excellent adhesion to the polarizing film.

본 발명의 액정표시장치는 본 발명의 편광판을 포함할 수 있다. 일 구체예에서, 액정패널에 대해 시인측 편광판으로 포함할 수 있다. 상기 "시인측 편광판"은 액정패널에 대해 화면쪽 즉 광원쪽에 대향하여 배치되는 것이다.The liquid crystal display device of the present invention may include the polarizing plate of the present invention. In one embodiment, the liquid crystal panel may be included as a polarizing plate on the viewing side. The "view-side polarizing plate" is disposed to face the screen side, that is, the light source side with respect to the liquid crystal panel.

일 구체예에서, 액정표시장치는 백라이트 유닛, 제1편광판, 액정패널, 제2편광판이 순차적으로 적층되고, 제2편광판은 본 발명의 편광판을 포함할 수 있다. 액정패널은 VA(vertical alignment) 모드, IPS 모드, PVA(patterned vertical alignment) 모드 또는 S-PVA(super-patterned vertical alignment) 모드를 채용할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 다른 구체예에서, 액정패널에 대해 광원측 편광판으로 포함할 수 있다. 상기 "광원측 편광판"은 액정패널에 대해 광원쪽에 배치되는 것이다. 또 다른 구체예에서, 액정패널에 대해 시인측 편광판과 광원측 편광판 모두 본 발명의 편광판을 포함할 수 있다. In one embodiment, in the liquid crystal display, a backlight unit, a first polarizing plate, a liquid crystal panel, and a second polarizing plate are sequentially stacked, and the second polarizing plate may include the polarizing plate of the present invention. The liquid crystal panel may employ a vertical alignment (VA) mode, an IPS mode, a patterned vertical alignment (PVA) mode, or a super-patterned vertical alignment (S-PVA) mode, but is not limited thereto. In another embodiment, the liquid crystal panel may be included as a light source side polarizing plate. The "light source side polarizing plate" is disposed on the light source side with respect to the liquid crystal panel. In another embodiment, both the viewing side polarizing plate and the light source side polarizing plate of the liquid crystal panel may include the polarizing plate of the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되지는 않는다.Hereinafter, the configuration and operation of the present invention will be described in more detail through preferred embodiments of the present invention. However, the following examples are for aiding understanding of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the following examples.

제조예Manufacturing example 1: One: 패턴층용For pattern layer 조성물 제조 Composition preparation

지르코니아 함유 무용제 조액 HR-10-1(일본 촉매사, 지르코니아의 평균입경(D50):11nm, 고굴절률 화합물로 벤질아크릴레이트에 지르코니아가 80중량%로 분산됨, 굴절률 1.67) 73중량부, 트리메틸프로판트리아크릴레이트 22중량부를 혼합하고, 개시제 TPO LG(IGC 사) 4.5중량부, 이형제 BYK 3500 0.5중량부를 혼합하여 패턴층용 조성물을 제조하였다. 패턴층용 조성물의 굴절률은 1.60이었다. 패턴층용 조성물 중 고형분 기준으로 지르코니아는 51 중량%로 포함되어 있다.Non-solvent crude solution containing zirconia HR-10-1 (Japan Catalytic Co., Ltd., average particle diameter of zirconia (D50): 11 nm, zirconia is 80% by weight dispersed in benzyl acrylate as a high refractive index compound, refractive index 1.67) 73 parts by weight, trimethylpropane 22 parts by weight of triacrylate were mixed, 4.5 parts by weight of initiator TPO LG (IGC), and 0.5 parts by weight of release agent BYK 3500 were mixed to prepare a composition for a pattern layer. The refractive index of the composition for pattern layers was 1.60. In the composition for the pattern layer, zirconia is contained in 51% by weight based on solid content.

제조예Manufacturing example 2 : 갭 필 층용 조성물 제조 2: Preparation of composition for gap fill layer

광경화형 화합물로 UP111(ENTIS사, 고형분 70중량%, 용매는 PEME(프로필렌글리콜 메틸 에테르)) 23중량부, SR833S(Sartomer사) 8.4중량부, HDDA(ENTIS사) 8중량부, PGME(프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트) 46중량부, MIBK(메틸이소부틸케톤) 12중량부를 혼합하고 교반하였다. 교반이 완료된 후 개시제 Omnirad 184(IGC사) 1.15중량부, UV 반응성 실리콘 첨가제 UV3500 0.03중량부, 분산제 Disperbyk-2163 (BYK사) 0.07중량부, 내지문성제 KY1203 (Shin Etsu사) 0.05중량부를 넣고 교반하여 조액을 제조하였다.As a photocurable compound, UP111 (ENTIS, 70% by weight solid content, solvent: PEME (propylene glycol methyl ether)) 23 parts by weight, SR833S (Sartomer) 8.4 parts, HDDA (ENTIS) 8 parts by weight, PGME (propylene glycol) Monomethyl ether acetate) 46 parts by weight and MIBK (methyl isobutyl ketone) 12 parts by weight were mixed and stirred. After the stirring was completed, 1.15 parts by weight of the initiator Omnirad 184 (IGC), 0.03 parts by weight of UV reactive silicone additive UV3500, 0.07 parts by weight of dispersant Disperbyk-2163 (BYK), and 0.05 parts by weight of anti-fingerprint KY1203 (Shin Etsu) were added and stirred. A crude liquid was prepared.

상기 조액에 유기 입자로 MSX-105(굴절률: 1.495, 폴리메틸메타아크릴레이트 입자, 평균입경(D50): 5.41㎛, 단분산 입자, 세키수이사)를 혼합하여 갭 필 층용 조성물을 제조하였다. 갭 필 층용 조성물의 고형분 기준 유기 입자는 6중량%로 포함되어 있다.MSX-105 (refractive index: 1.495, polymethyl methacrylate particles, average particle diameter (D50): 5.41 μm, monodisperse particles, Sekisui Co., Ltd.) was mixed with the crude liquid as organic particles to prepare a composition for a gap fill layer. The organic particles based on the solid content of the composition for a gap-fill layer are contained in an amount of 6% by weight.

제조예Manufacturing example 3 : 갭 필 층용 조성물 제조 3: Preparation of composition for gap fill layer

제조예 2와 동일한 방법으로 조액을 제조하였다. A crude liquid was prepared in the same manner as in Preparation Example 2.

제조한 조액에 유기 입자로 MBX-2H(굴절률: 1.495, 폴리메틸메타아크릴레이트 입자, 평균입경(D50): 2.7㎛, 중분산 입자, 세키수이사)를 혼합하여 갭 필 층용 조성물을 제조하였다. 갭 필 층용 조성물의 고형분 기준 유기 입자는 6중량%로 포함되어 있다.MBX-2H (refractive index: 1.495, polymethyl methacrylate particles, average particle diameter (D50): 2.7 μm, medium-dispersion particles, Sekisui Co.) was mixed with the prepared crude liquid as organic particles to prepare a composition for a gap fill layer. The organic particles based on the solid content of the composition for a gap-fill layer are contained in an amount of 6% by weight.

제조예Manufacturing example 4 : 갭 필 층용 조성물 제조 4: Preparation of composition for gap fill layer

광경화형 화합물로 UP111(ENTIS사, 고형분 70중량%, 용매는 PEME) 24중량부, 지르코니아 함유 무용제 조액 HR-10-1(일본 촉매사, 지르코니아의 평균입경(D50):11nm) 17중량부, PGME 46중량부, MIBK 12중량부를 혼합하고 교반하였다. 교반이 완료된 후 개시제 Omnirad 184(IGC사) 1.15중량부, UV 반응성 실리콘 첨가제 UV3500 0.03중량부, 분산제 Disperbyk-2163(BYK사) 0.07중량부, 내지문성제 KY1203 (Shin Etsu사) 0.05중량부를 넣고 교반하여 조액을 제조하였다.As a photocurable compound, UP111 (ENTIS, 70% by weight of solid content, solvent is PEME) 24 parts by weight, zirconia-containing solvent-free crude solution HR-10-1 (Japan Catalytic Company, average particle diameter of zirconia (D50): 11 nm) 17 parts by weight, 46 parts by weight of PGME and 12 parts by weight of MIBK were mixed and stirred. After the stirring was completed, 1.15 parts by weight of the initiator Omnirad 184 (IGC), 0.03 parts by weight of UV reactive silicone additive UV3500, 0.07 parts by weight of dispersant Disperbyk-2163 (BYK), and 0.05 parts by weight of anti-fingerprint KY1203 (Shin Etsu) were added and stirred. A crude liquid was prepared.

상기 조액에 유기 입자로 MSX-105(굴절률: 1.495, 폴리메틸메타아크릴레이트 입자, 평균입경(D50): 5.41㎛, 단분산 입자, 세키수이사)를 혼합하여 갭 필 층용 조성물을 제조하였다. 갭 필 층용 조성물의 고형분 기준 유기 입자는 6중량%로 포함되어 있다.MSX-105 (refractive index: 1.495, polymethyl methacrylate particles, average particle diameter (D50): 5.41 μm, monodisperse particles, Sekisui Co., Ltd.) was mixed with the crude liquid as organic particles to prepare a composition for a gap fill layer. The organic particles based on the solid content of the composition for a gap-fill layer are contained in an amount of 6% by weight.

제조예Manufacturing example 5: 갭 필 층용 조성물 제조 5: Preparation of the composition for the gap fill layer

제조예 2와 동일한 방법으로 조액을 제조하였다. A crude liquid was prepared in the same manner as in Preparation Example 2.

제조한 조액에 유기 입자로 SMX-5R(굴절률: 1.555, 폴리스티렌-폴리메틸메타아크릴레이트 공중합체 입자, 평균입경(D50): 5㎛, 다분산 입자, 세키수이사)를 혼합하여 갭 필 층용 조성물을 제조하였다. 갭 필 층용 조성물의 고형분 기준 유기 입자는 6중량%로 포함되어 있다.A composition for a gap fill layer by mixing SMX-5R (refractive index: 1.555, polystyrene-polymethylmethacrylate copolymer particles, average particle diameter (D50): 5 μm, polydisperse particles, Sekisui Co., Ltd.) as organic particles in the prepared crude liquid Was prepared. The organic particles based on the solid content of the composition for a gap-fill layer are contained in an amount of 6% by weight.

제조예Manufacturing example 6: 갭 6: gap 필층용For fill layer 조성물 제조 Composition preparation

제조예 2와 동일한 방법으로 조액을 제조하였다. A crude liquid was prepared in the same manner as in Preparation Example 2.

제조한 조액에 유기 입자로 SBX-4(굴절률:1.595, 폴리스티렌 입자, 평균입경(D50): 4㎛, 다분산 입자, 세키수이사)를 혼합하여 갭 필 층용 조성물을 제조하였다. 갭 필 층용 조성물의 고형분 기준 유기 입자는 6중량%로 포함되어 있다.SBX-4 (refractive index: 1.595, polystyrene particles, average particle diameter (D50): 4 μm, polydisperse particles, Sekisui Co., Ltd.) as organic particles was mixed with the prepared crude liquid to prepare a composition for a gap fill layer. The organic particles based on the solid content of the composition for a gap-fill layer are contained in an amount of 6% by weight.

제조예Manufacturing example 7: 갭 7: gap 필층용For fill layer 조성물 제조 Composition preparation

제조예 2와 동일한 방법으로 조액을 제조하였다. 입자를 포함시키지 않았다.A crude liquid was prepared in the same manner as in Preparation Example 2. No particles were included.

제조예Manufacturing example 8: 갭 8: gap 필층용For fill layer 조성물 제조 Composition preparation

광경화형 화합물로 UP111(ENTIS사, 고형분 70중량%, 용매는 PEME) 38.5중량부, 지르코니아 함유 무용제 조액 HR-10-1(일본 촉매사, 지르코니아의 평균입경(D50):11nm, 고굴절률 화합물로 벤질아크릴레이트에 지르코니아가 80중량%로 분산됨) 6.5중량부, PGME 42중량부, MIBK 12중량부를 혼합하고 교반하였다. 교반이 완료된 후 개시제 Omnirad 184(IGC사) 1.15중량부, UV 반응성 실리콘 첨가제 UV3500 0.03중량부, 분산제 Disperbyk-2163(BYK사) 0.07중량부, 내지문성제 KY1203 (Shin Etsu사) 0.05중량부를 넣고 교반하여 조액을 제조하였다.As a photocurable compound, UP111 (ENTIS, 70% by weight of solid content, solvent: PEME) 38.5 parts by weight, zirconia-containing solvent-free crude solution HR-10-1 (Japan Catalytic Company, zirconia average particle diameter (D50): 11 nm, high refractive index compound) Zirconia is dispersed at 80% by weight in benzyl acrylate) 6.5 parts by weight, 42 parts by weight of PGME, and 12 parts by weight of MIBK were mixed and stirred. After the stirring was completed, 1.15 parts by weight of the initiator Omnirad 184 (IGC), 0.03 parts by weight of UV reactive silicone additive UV3500, 0.07 parts by weight of dispersant Disperbyk-2163 (BYK), and 0.05 parts by weight of anti-fingerprint KY1203 (Shin Etsu) were added and stirred. A crude liquid was prepared.

상기 조액에 유기 입자로 MXS-105(굴절률: 1.495, 폴리메틸메타아크릴레이트 입자, 평균입경(D50): 5.41㎛, 단분산 입자, 세키수이사)를 혼합하여 갭 필 층용 조성물을 제조하였다. 갭 필 층용 조성물의 고형분 기준 유기 입자는 6중량%, 지르코니아는 16중량%로 포함되어 있다.MXS-105 (refractive index: 1.495, polymethyl methacrylate particles, average particle diameter (D50): 5.41 μm, monodisperse particles, Sekisui Co., Ltd.) as organic particles was mixed with the crude liquid to prepare a composition for a gap fill layer. The composition for a gap-fill layer contains 6% by weight of organic particles and 16% by weight of zirconia based on the solid content.

제조예Manufacturing example 9 : 9: 패턴층용For pattern layer 조성물 제조 Composition preparation

지르코니아 함유 무용제 조액 HR-10-1(일본 촉매사, 지르코니아의 평균입경(D50):11nm, 고굴절률 화합물로 벤질 아크릴레이트에 지르코니아가80중량%로 분산되어 있음, 굴절률 1.67) 40 중량부, 트리메틸프로판트리아크릴레이트 60 중량부를 혼합하고, 개시제 TPO LG(IGC 사) 4.5중량부, 이형제 BYK 3500 0.5중량부를 혼합하여 패턴층용 조성물을 제조하였다. 패턴층용 조성물의 굴절률은 1.55이었다. 패턴층용 조성물 중 고형분 기준으로 지르코니아는 28중량%로 포함되어 있다. Non-solvent crude solution containing zirconia HR-10-1 (Japan Catalytic Company, an average particle diameter of zirconia (D50): 11 nm, 80% by weight of zirconia is dispersed in benzyl acrylate as a high refractive index compound, refractive index 1.67) 40 parts by weight, trimethyl 60 parts by weight of propane triacrylate was mixed, 4.5 parts by weight of the initiator TPO LG (IGC), and 0.5 parts by weight of the release agent BYK 3500 were mixed to prepare a composition for a pattern layer. The refractive index of the composition for pattern layers was 1.55. In the composition for the pattern layer, zirconia is contained in an amount of 28% by weight based on solid content.

실시예Example 1 One

보호층으로 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(SKC사, 두께:40㎛)의 일면에 제조예 1의 패턴층용 조성물을 코팅하여 코팅층을 제조하였다. 양각의 프리즘 패턴과 평탄부가 형성된 광학 필름을 이용해서 상기 코팅층에 패턴과 평탄부를 인가하고 경화시켜 패턴층을 형성하였다. A coating layer was prepared by coating the composition for a pattern layer of Preparation Example 1 on one side of a polyethylene terephthalate film (SKC, thickness: 40 μm) as a protective layer. A pattern layer was formed by applying and curing the pattern and the flat portion to the coating layer using the optical film in which the embossed prism pattern and the flat portion were formed.

상기 제조한 패턴층 상에 제조예 2의 갭 필 층용 조성물을 #18로 도포하고 80℃에서 2분 동안 건조시키고 광경화시켜 명암비 개선 광학 필름을 제조하였다. 제조한 명암비 개선 광학 필름 중 광학 패턴, 평탄부의 구체적인 사양을 하기 표 1에 나타내었다. The composition for a gap fill layer of Preparation Example 2 was applied on the pattern layer prepared above with #18, dried at 80° C. for 2 minutes, and photocured to prepare an optical film for improving contrast ratio. Specific specifications of the optical pattern and the flat portion of the prepared optical film for improving contrast ratio are shown in Table 1 below.

폴리비닐알콜 필름을 60℃에서 3배 연신하고 요오드를 흡착시킨 후 40℃의 붕산 수용액에서 2.5배 연신하여 편광자를 제조하였다. 상기 명암비 개선 광학 필름 중 보호층의 다른 일면에 편광자를 접착제로 접착시켜 편광판을 제조하였다. The polyvinyl alcohol film was stretched three times at 60° C., adsorbed iodine, and then stretched 2.5 times in a boric acid aqueous solution at 40° C. to prepare a polarizer. A polarizing plate was manufactured by adhering a polarizer to the other surface of the protective layer among the optical films for improving contrast ratio with an adhesive.

실시예Example 2 2

실시예 1에서, 제조예 2의 갭 필 층용 조성물 대신에 제조예 3의 갭 필 층용 조성물을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 명암비 개선 광학 필름과 편광판을 제조하였다.In Example 1, a contrast ratio improved optical film and a polarizing plate were manufactured in the same manner, except that the composition for a gap fill layer of Preparation Example 3 was used instead of the composition for a gap fill layer of Preparation Example 2.

실시예Example 3 3

실시예 1에서, 제조예 2의 갭 필 층용 조성물 대신에 제조예 8의 갭 필 층용 조성물을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 명암비 개선 광학 필름과 편광판을 제조하였다.In Example 1, a contrast ratio improved optical film and a polarizing plate were manufactured in the same manner, except that the composition for a gap fill layer of Preparation Example 8 was used instead of the composition for a gap fill layer of Preparation Example 2.

비교예Comparative example 1 내지 1 to 비교예Comparative example 4 4

실시예 1에서, 제조예 2의 갭 필 층용 조성물 대신에 하기 표 2의 갭 필 층용 조성물을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 명암비 개선 광학 필름과 편광판을 제조하였다.In Example 1, a contrast ratio improved optical film and a polarizing plate were manufactured in the same manner, except that the composition for a gap fill layer of Table 2 was used instead of the composition for a gap fill layer of Preparation Example 2.

비교예Comparative example 5 5

실시예 3에서, 제조예 1의 패턴층 조성물 대신 제조예 9의 패턴층 조성물을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 명암비 개선 광학 필름과 편광판을 제조하였다In Example 3, a contrast ratio improved optical film and a polarizing plate were prepared in the same manner, except that the pattern layer composition of Preparation Example 9 was used instead of the pattern layer composition of Preparation Example 1.

참조예Reference example 1 One

실시예 1과 동일한 방법으로 편광자를 제조하였다. 편광자의 일면에 보호층으로 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(SKC사, 두께:40㎛)을 접착제로 접착시켜 편광판을 제조하였다.A polarizer was manufactured in the same manner as in Example 1. A polarizing plate was manufactured by adhering a polyethylene terephthalate film (SKC, thickness: 40 μm) as a protective layer on one side of the polarizer with an adhesive.

광학패턴 형상Optical pattern shape 광학패턴 최대 높이(H1)
(㎛)
Optical pattern height (H1)
(㎛)
광학패턴 최대 폭(W)
(㎛)
Optical pattern maximum width (W)
(㎛)
광학패턴 제1면의 폭(A)
(㎛)
Width of the first surface of the optical pattern (A)
(㎛)
광학패턴의 밑각
(°)
Base angle of optical pattern
(°)
평탄부의 폭(L)
(㎛)
Width of flat part (L)
(㎛)
살 두께
(㎛)
Flesh thickness
(㎛)
Cut-prism
(사다리꼴, 양각)
Cut-prism
(Trapezoid, embossed)
88 88 88 8686 1010 99

실시예와 비교예의 명암비 개선 광학 필름, 편광판에 대해 하기 물성을 평가하고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The following physical properties were evaluated for the optical films and polarizing plates for improving the contrast ratio of Examples and Comparative Examples, and the results are shown in Table 2 below.

명암비 개선 광학 필름의 헤이즈와 전광선 투과율( 단위:% ): 헤이즈와 투과율은 Nippon Denshok사NDH 2000로 측정하였다. NDH2000은 400에서 700nm의 파장범위에서 DF(확산 투과광). PT(평행투과광), TT(전투과광), Haze를 측정한다. Haze and total light transmittance ( unit:% ) of the improved contrast ratio optical film : The haze and transmittance were measured with NTH 2000 manufactured by Nippon Denshok. NDH2000 is DF (Diffuse Transmitted Light) in the wavelength range of 400 to 700 nm. Measure PT (parallel transmitted light), TT (total transmitted light), and Haze.

DF : 램프에서 광이 샘플을 통과하여 확산되어 투과되는 빛의 합DF: The sum of the light transmitted from the lamp by diffusing it through the sample.

PT : 램프에서 광이 샘플을 통과하여 직진하여 투과되는 빛의 합PT: The sum of the light transmitted from the lamp by passing through the sample and going straight.

TT : 확산투과광과 평행투과광의 합TT: Sum of diffused and parallel transmitted light

Haze : 샘플을 투과하여 나타나는 흐림도의 정도Haze: The degree of haze that appears through the sample.

Haze(%)=DF(확산광)/TT(전투과광)x100Haze(%)=DF(Diffuse light)/TT(Total transmitted light)x100

측면 명암비(Side contrast ratio ( 단위:%unit:% )와 시야각() And viewing angle ( 단위:°Unit:° ):):

실시예와 비교예의 편광판에 대해 측면 명암비, 1/2 시야각(상하, 좌우)을 평가하고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다. 측면 명암비, 1/2 시야각은 하기의 방법으로 액정표시장치용 모듈을 제조하고 평가하였다. For the polarizing plates of Examples and Comparative Examples, the side contrast ratio and 1/2 viewing angle (up and down, left and right) were evaluated, and the results are shown in Table 2 below. The side contrast ratio and 1/2 viewing angle were evaluated by manufacturing a module for a liquid crystal display device by the following method.

제1편광판의 제조Manufacturing of the first polarizing plate

폴리비닐알콜 필름을 60℃에서 3배 연신하고 요오드를 흡착시킨 후 40℃의 붕산 수용액에서 2.5배 연신하여 제1편광자를 제조하였다. 제1편광자의 양면에 기재층으로 트리아세틸셀룰로스 필름(두께 80㎛)을 편광판용 접착제(Z-200, Nippon Goshei사)로 접착시켜 제1편광판을 제조하였다.The polyvinyl alcohol film was stretched three times at 60° C., adsorbed iodine, and then stretched 2.5 times in an aqueous boric acid solution at 40° C. to prepare a first polarizer. A first polarizing plate was manufactured by adhering a triacetylcellulose film (thickness 80 μm) as a base layer on both sides of the first polarizer with an adhesive for a polarizing plate (Z-200, Nippon Goshei).

액정표시장치용 모듈의 제조Manufacturing of module for liquid crystal display device

상기 제조한 제1편광판, 액정패널(PVA 모드), 상기 실시예와 비교예에서 제조한 편광판을 순차적으로 조립하여 액정표시장치용 모듈을 제조하였다. 실시예와 비교예에서 제조한 편광판을 시인측 편광판으로 조립하였으며, 갭 필 층이 시인측으로 최외곽에 배치되도록 하였다.The first polarizing plate, the liquid crystal panel (PVA mode), and the polarizing plates manufactured in Examples and Comparative Examples were sequentially assembled to prepare a module for a liquid crystal display device. The polarizing plates prepared in Examples and Comparative Examples were assembled as a viewing side polarizing plate, and a gap fill layer was disposed at the outermost side toward the viewing side.

LED 광원, 도광판, 액정표시장치용 모듈을 조립하여 1변 에지형 LED 광원을 포함하는 액정표시장치(실시예 및 비교예의 액정표시장치용 모듈의 구성을 제외하고Samsung LED TV(UN32H5500)와 동일 구성)를 제조하였다.A liquid crystal display device including a one-side edge type LED light source by assembling an LED light source, a light guide plate, and a liquid crystal display module (same configuration as Samsung LED TV (UN32H5500) except for the configuration of the liquid crystal display module of Examples and Comparative Examples) ) Was prepared.

EZCONTRAST X88RC(EZXL-176R-F422A4, ELDIM사)를 이용하여 구면 좌표계 측면(0°, 60°)에 대하여 백색 모드(white mode), 흑색 모드(black mode) 각각에서 휘도값을 측정하였다. 측면 명암비는 구면 좌표계 (0°, 60°)에서 흑색 모드의 휘도값에 대한 백색 모드의 휘도값의 비로 계산하였다. 1/2 시야각은 백색 모드에서 정면 휘도의 1/2이 나타나는 각도로 하였다.Using EZCONTRAST X88RC (EZXL-176R-F422A4, ELDIM), luminance values were measured in each of the white mode and the black mode for the side surfaces of the spherical coordinate system (0°, 60°). The side contrast ratio was calculated as the ratio of the luminance value of the white mode to the luminance value of the black mode in the spherical coordinate system (0°, 60°). The 1/2 viewing angle was taken as the angle at which 1/2 of the front luminance appeared in the white mode.

외광 산란 효과: 외광 산란은 60° 반사 광택도를 JIS Z8741, ISO 2813에 따라 BYK Gardner를 사용하여 측정하여 평가하였다. 60° 반사 광택도가 최대 90미만인 경우 외광 산란 효과가 "있음", 그렇지 않은 경우 "없음"으로 평가하였다. External light scattering effect : The external light scattering was evaluated by measuring 60° reflection gloss using BYK Gardner according to JIS Z8741 and ISO 2813. If the 60° reflection gloss is less than 90, the external light scattering effect was evaluated as "yes", and if not, it was evaluated as "no".

참조예Reference example 실시예Example 비교예Comparative example 1One 1One 22 33 1One 22 33 44 55 갭 필 층 조성Composition of Gap Fill Layer -- 제조예 2Manufacturing Example 2 제조예 3Manufacturing Example 3 제조예
8
Manufacturing example
8
제조예 4Manufacturing Example 4 제조예 5Manufacturing Example 5 제조예 6Manufacturing Example 6 제조예 7Manufacturing Example 7 제조예
8
Manufacturing example
8
패턴층 조성Pattern layer composition -- 제조예 1Manufacturing Example 1 제조예 1Manufacturing Example 1 제조예 1Manufacturing Example 1 제조예 1Manufacturing Example 1 제조예 1Manufacturing Example 1 제조예 1Manufacturing Example 1 제조예 1Manufacturing Example 1 제조예 9Manufacturing Example 9 굴절률Refractive index 제1입자First particle -- 1.4951.495 1.4951.495 1.4951.495 1.4951.495 1.5551.555 1.5951.595 -- 1.4951.495 매트릭스matrix -- 1.4951.495 1.4951.495 1.5251.525 1.5551.555 1.4951.495 1.4951.495 1.4951.495 1.5251.525 패턴층Pattern layer -- 1.601.60 1.601.60 1.601.60 1.601.60 1.601.60 1.601.60 1.601.60 1.551.55 보호층Protective layer -- 1.651.65 1.651.65 1.651.65 1.651.65 1.651.65 1.651.65 1.651.65 1.651.65 굴절률 차이 1Refractive index difference 1 -- 0.000.00 0.000.00 0.030.03 0.060.06 0.060.06 0.1000.100 -- 0.030.03 굴절률 차이 2Refractive index difference 2 -- 0.1050.105 0.1050.105 0.080.08 0.0450.045 0.1050.105 0.1050.105 0.1050.105 0.030.03 헤이즈Haze 00 33.533.5 34.834.8 34.9534.95 35.2435.24 42.142.1 56.456.4 3030 33.733.7 전광선 투과율Total light transmittance 90.590.5 90.9490.94 91.191.1 91.5491.54 90.8690.86 91.6391.63 91.4591.45 90.590.5 90.5790.57 측면 명암비Side contrast ratio 100100 134134 135135 124124 115115 117117 123123 134134 112112 1/2
시야각
1/2
Viewing angle
좌-우Right and left 62.462.4 69.869.8 70.170.1 68.668.6 64.264.2 65.265.2 63.263.2 69.869.8 63.463.4
상-하Top-bottom 58.358.3 57.757.7 57.257.2 57.657.6 58.458.4 58.658.6 59.359.3 57.357.3 58.358.3 외광 산란 효과External light scattering effect 없음none 있음has exist 있음has exist 있음has exist 있음has exist 있음has exist 있음has exist 없음none 있음has exist

*굴절률 차이 1: 갭 필 층 중 매트릭스 굴절률과 제1입자의 굴절률 차이의 절대값*Refractive index difference 1: The absolute value of the difference between the refractive index of the matrix and the refractive index of the first particle in the gap fill layer

*굴절률 차이 2: 패턴층 굴절률 - 갭 필 층의 굴절률*Refractive index difference 2: Refractive index of the pattern layer-Refractive index of the gap fill layer

상기 표 2에서와 같이, 본 발명의 편광판은 정면 시인성과 측면 시인성 개선 효과가 우수하고 측면 명암비가 우수하며 입자에 의한 외광 산란 효과도 얻을 수 있다.As shown in Table 2, the polarizing plate of the present invention has excellent front visibility and side visibility improvement effect, excellent side contrast ratio, and external light scattering effect by particles.

반면에, 매트릭스와 제1입자 간의 굴절률 차이의 절대값이 본 발명의 범위를 벗어나고 패턴층과 갭필층의 굴절률 차이가 0.06 미만인 비교예 1, 매트릭스와 제1입자 간의 굴절률 차이의 절대값이 본 발명의 범위를 벗어나는 비교예 2, 비교예 3은 외광 산란 효과는 있으나 정면 시인성과 측면 시인성 개선 효과가 미약하고 측면 명암비도 좋지 않았다. On the other hand, Comparative Example 1 in which the absolute value of the difference in refractive index between the matrix and the first particle is out of the scope of the present invention and the difference in the refractive index between the pattern layer and the gap fill layer is less than 0.06, the absolute value of the difference in refractive index between the matrix and the first particle is the present invention. Comparative Examples 2 and 3 outside the range of had an external light scattering effect, but the effect of improving front visibility and side visibility was weak, and the side contrast ratio was not good.

입자를 포함하지 않는 비교예 4는 외광 산란 효과가 없어서 외광 산란 효과를 얻기 위해 추가적으로 필름을 적층할 필요가 있어서 본 발명의 효과를 얻을 수 없었다. Comparative Example 4 containing no particles had no external light scattering effect, and it was necessary to additionally laminate a film to obtain the external light scattering effect, and thus the effect of the present invention could not be obtained.

매트릭스와 제1입자 간의 굴절률 차이의 절대값이 본 발명의 범위를 만족하지만 패턴층과 갭필층의 굴절률 차이가 본 발명의 범위를 벗어나는 비교예 5는 측면 명암비가 좋지 않았고 1/2 좌우 시야각이 좋지 않았다.The absolute value of the difference in refractive index between the matrix and the first particle satisfies the scope of the present invention, but Comparative Example 5 in which the difference in refractive index between the pattern layer and the gap-fill layer is out of the scope of the present invention had a poor side contrast ratio and a good 1/2 left and right viewing angle. Did.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다. Simple modifications or changes of the present invention can be easily implemented by those of ordinary skill in the art, and all such modifications or changes can be considered to be included in the scope of the present invention.

Claims (14)

보호층 및 상기 보호층 상에 형성된 패턴층을 포함하고,
상기 패턴층은 일면에 양각의 광학 패턴 및 상기 양각의 광학 패턴과 바로 이웃하는 상기 양각의 광학 패턴 사이에 평탄부를 구비하는 패턴부를 구비하고, 상기 광학 패턴은 밑각(θ)이 55° 내지 90°이고, 상기 패턴부는 하기 식 1을 만족하고,
<식 1>
1 < P/W ≤ 10
(상기 식 1에서, P는 패턴부의 주기(단위:㎛),
W는 광학 패턴의 최대 폭(단위:㎛)),
상기 패턴층의 일면과 직접적으로 접하는 갭 필(gap fill) 층을 더 포함하고,
상기 갭 필 층은 매트릭스 및 상기 매트릭스에 포함된 제1입자들을 포함하고,
상기 매트릭스와 상기 제1입자의 굴절률 차이의 절대값은 0 내지 0.03이고,
상기 패턴층과 상기 갭 필 층의 굴절률 차이는 0.06 이상이고, 상기 패턴층의 굴절률은 상기 갭 필 층의 굴절률보다 높은 것인, 명암비 개선 광학 필름.
Including a protective layer and a pattern layer formed on the protective layer,
The pattern layer includes a pattern portion having a relief optical pattern on one surface and a flat portion between the relief optical pattern and the adjacent relief optical pattern, and the optical pattern has a base angle θ of 55° to 90° And, the pattern part satisfies the following formula 1,
<Equation 1>
1 <P/W ≤ 10
(In Equation 1, P is the period of the pattern part (unit: μm),
W is the maximum width of the optical pattern (unit: μm)),
Further comprising a gap fill layer in direct contact with one surface of the pattern layer,
The gap fill layer includes a matrix and first particles included in the matrix,
The absolute value of the difference in refractive index between the matrix and the first particle is 0 to 0.03,
The refractive index difference between the pattern layer and the gap fill layer is 0.06 or more, and the refractive index of the pattern layer is higher than that of the gap fill layer.
제1항에 있어서, 상기 갭 필 층은 상기 제1입자의 직경의 1% 이상 20% 미만의 높이의 요철을 포함하는, 명암비 개선 광학 필름.
The optical film of claim 1, wherein the gap fill layer includes irregularities having a height of 1% or more and less than 20% of the diameter of the first particle.
제1항에 있어서, 상기 패턴층의 정상부인 제1면과 상기 갭 필 층의 최상부면 간의 최대 거리는 0㎛ 초과 15㎛ 이하인 것인, 명암비 개선 광학 필름.
The optical film of claim 1, wherein a maximum distance between the first surface that is the top of the pattern layer and the top surface of the gap fill layer is more than 0 μm and 15 μm or less.
제1항에 있어서, 상기 제1입자의 평균 입경은 상기 양각의 광학 패턴의 정상부인 제1면의 폭보다 작은 것인, 명암비 개선 광학 필름.
The optical film of claim 1, wherein the average particle diameter of the first particles is smaller than the width of the first surface that is the top of the embossed optical pattern.
제1항에 있어서, 상기 제1입자는 상기 갭 필 층 중 1중량% 내지 50중량%로 포함되는 것인, 명암비 개선 광학 필름.
The optical film of claim 1, wherein the first particles are contained in an amount of 1% to 50% by weight of the gap fill layer.
제1항에 있어서, 상기 제1입자는 방현 입자를 포함하는 것인, 명암비 개선 광학 필름.
The optical film of claim 1, wherein the first particles include anti-glare particles.
제1항에 있어서, 상기 평탄부(212)의 폭(L)에 대한 상기 양각의 광학 패턴의 최대폭(W)의 비율(W/L)은 0.1 내지 3인 것인, 명암비 개선 광학 필름.
The optical film according to claim 1, wherein the ratio (W/L) of the maximum width (W) of the embossed optical pattern to the width (L) of the flat portion (212) is 0.1 to 3.
제1항에 있어서, 상기 제1입자는 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리메틸메타아크릴레이트와 스티렌의 공중합체 중 하나 이상으로 형성된 것인, 명암비 개선 광학 필름.
The optical film of claim 1, wherein the first particles are formed of at least one of polymethyl methacrylate, polystyrene, and a copolymer of polymethyl methacrylate and styrene.
제1항에 있어서, 상기 패턴층은 방향족기가 없는 수지, 상기 패턴층의 매트릭스 대비 굴절률이 높은 무기 입자를 포함하는 패턴층용 조성물로 형성되는 것인, 명암비 개선 광학 필름.
The optical film of claim 1, wherein the pattern layer is formed of a resin without an aromatic group and a composition for a pattern layer comprising inorganic particles having a high refractive index compared to the matrix of the pattern layer.
제1항에 있어서, 상기 양각의 광학 패턴은 단면이 사다리꼴, 직사각형 또는 정사각형인 광학 패턴을 포함하는 것인, 명암비 개선 광학 필름.
The optical film of claim 1, wherein the embossed optical pattern includes an optical pattern having a trapezoidal shape, a rectangle shape, or a square shape in cross section.
삭제delete 제1항에 있어서, 상기 갭 필 층은 상기 제1 입자보다 굴절률이 높은 제2입자를 더 포함하는 것인, 명암비 개선 광학 필름.
The optical film of claim 1, wherein the gap fill layer further includes second particles having a higher refractive index than the first particles.
편광필름; 및 상기 편광필름의 광출사면에 형성된 명암비 개선 광학 필름을 포함하고, 상기 명암비 개선 광학 필름은 제1항 내지 제10항, 제12항 중 어느 한 항의 명암비 개선 광학 필름을 포함하는 것인, 편광판.
Polarizing film; And a contrast ratio improving optical film formed on the light exit surface of the polarizing film, wherein the contrast ratio improving optical film comprises the contrast ratio improving optical film of any one of claims 1 to 10 and 12. .
제13항의 편광판을 포함하는 액정표시장치.
A liquid crystal display device comprising the polarizing plate of claim 13.
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