KR102229886B1 - Method for regenerating retainer ring and retainer ring regenerated by the same, retainer ring regenerating mold - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은, 리테이너링 재생방법 및 그 방법에 따라 재생된 리테이너링, 그리고 리테이너링 재생용 금형에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는, 어떤 종류의 접착제도 사용하지 않고 마모된 부분만을 보강하여 재생할 수 있음은 물론 반복 재생이 가능하며, 이로 인해 원가절감에 이바지할 수 있는, 리테이너링 재생방법 및 그 방법에 따라 재생된 리테이너링, 그리고 리테이너링 재생용 금형에 관한 것이다.The present invention relates to a retainer ring regeneration method, a retainer ring regenerated according to the method, and a mold for regenerating retaining rings, and more specifically, it is possible to reinforce and reinforce only a worn part without using any kind of adhesive. Of course, it is possible to regenerate repeatedly, thereby contributing to cost reduction, a retaining regeneration method, a retaining ring regenerated according to the method, and a mold for retaining regeneration.
반도체 제조공정 중에는 웨이퍼(wafer) 표면 평탄화를 위해 슬러리를 이용하여 웨이퍼를 물리, 화학적으로 연마하는 연마공정이 있다.Among the semiconductor manufacturing processes, there is a polishing process in which a wafer is physically and chemically polished using a slurry to planarize the wafer surface.
이러한 연마공정의 수행 시 웨이터가 이탈되지 않아야 하는데, 이처럼 웨이퍼가 이탈되지 않도록 가둬두는 역할을 리테이너링(retainer ring)이 담당한다. 리테이너링은 수지 재질(PEEK, PPS)로 제작되며, 도넛 모양의 링(ring) 구조를 이룬다.When performing such a polishing process, the waiter must not be separated, and the retainer ring plays the role of confining the wafer so that it does not come off. The retaining ring is made of resin material (PEEK, PPS) and forms a donut-shaped ring structure.
한편, 웨이퍼에 대한 연마공정을 진행할 때, 웨이퍼를 지지하는 리테이너링 역시, 함께 마모되므로 보통 150시간 사용한 후에 교체하는 것이 일반적이다.On the other hand, when the wafer is polished, the retaining ring supporting the wafer is also worn together, so it is common to replace it after 150 hours of use.
예컨대, 도 1을 참조하면, 리테이너링(1)의 이빨 깊이(T)가 대략 1mm 이하게 되면 교체한다.For example, referring to FIG. 1, when the tooth depth T of the
리테이너링(1)은 고가의 소모품이고, 사용되는 수량이 많다는 점을 고려해볼 때, 원가절감의 필요성이 강하게 요구되는 실정이다.In view of the fact that the
따라서, 마모된 리테이너링(1)은 그대로 폐기하지 않고 재생해서 사용하는 것이 바람직한데, 현존하는 리테이너링 재생방법이 그리 효과적이지 않아 그 재생 한도가 2회 이하로 제한될 수밖에 없는 단점이 있다. 2회가 지난 이후에는 불가피하게 리테이너링 신품을 사용해야 한다. 신품의 경우, 리테이너링(1)의 함몰부 깊이(T)는 대략 3mm이다.Therefore, it is desirable to recycle and use the worn
또한, 현존하는 리테이너링 재생방법은 효과적이지 않을뿐더러 방법적인 한계가 두드러지기 때문에 재생비용이 신품 제작과 비슷하여 원가 절감효과가 그리 크지 않다. 실제, 신품과 재생품의 가격 차이가 없다면 굳이 재생품을 사용할 필요가 없기 때문이다.In addition, since the existing retaining regeneration method is not effective and has significant method limitations, the regeneration cost is similar to that of the new product, and the cost reduction effect is not so great. In fact, if there is no price difference between new and remanufactured products, there is no need to use remanufactured products.
한편, 마모된 리테이너링(1)을 재생하기 위한 가장 이상적인 방법은 마모된 부분만을 보강하여 두께를 올리는 방법이다. 이처럼 마모된 부분만을 보강하여 두께를 올리려면 접착제를 이용한 본딩하는 방법을 고려해볼 수 있다.On the other hand, the most ideal method for regenerating the worn
하지만, 접착제를 사용할 경우, 면대면 접착 시 접착된 부분이 외부 충격에 떨어질 위험성이 높으며, 리테이너링(1)을 이루는 수지 재질(PEEK, PPS)의 특성상 그 본딩 강도를 유지하기 어렵다.However, in the case of using an adhesive, there is a high risk that the bonded portion falls due to external impact when bonding face-to-face, and it is difficult to maintain the bonding strength due to the characteristics of the resin materials (PEEK, PPS) forming the
그뿐만 아니라 접착제를 사용할 경우, 접착제 성분이 반도체 제조공정 상 오염을 유발할 수 있어 위험성이 있는데, 그렇다고 해서 완벽히 안전한 재질의 접착제를 찾고 검증하기가 실질적으로 어렵다는 점을 두루 고려해볼 때, 이러한 방식에서 탈피한 신개념의 리테이너링 재생방법에 관한 기술 개발이 요구된다.In addition, when using an adhesive, there is a risk that the adhesive component may cause contamination in the semiconductor manufacturing process.However, considering the fact that it is practically difficult to find and verify an adhesive of a completely safe material, it is avoided from this method. There is a need to develop a technology for a new concept of retaining regeneration method.
본 발명의 목적은, 어떤 종류의 접착제도 사용하지 않고 마모된 부분만을 보강하여 재생할 수 있음은 물론 반복 재생이 가능하며, 이로 인해 원가절감에 이바지할 수 있는, 리테이너링 재생방법 및 그 방법에 따라 재생된 리테이너링, 그리고 리테이너링 재생용 금형을 제공하는 것이다.An object of the present invention is that it is possible to reinforce and regenerate only a worn part without using any kind of adhesive, as well as to be able to regenerate repeatedly, thereby contributing to cost reduction, according to a retaining regeneration method and method thereof. It is to provide molds for recycled retainer ring and retainer ring recycle.
상기 목적은, 고압 탈이온수(DIW, Deionized water)를 이용해서 재생 대상의 리테이너링(retainer ring)을 세척(Washing)하는 리테이너링 세척단계; 세척된 상기 리테이너링을 브러싱(brushing)에서 상기 리테이너링의 이빨 표면에 잔존 가능한 이물질을 제거하는 리테이너링 브러싱단계; 상기 리테이너링의 이빨 표면을 소정 두께로 절삭하는 리테이너링 이빨 표면 절삭단계; 상기 리테이너링의 이빨과 일대일로 형합하는 리테이너링 재생용 금형에 상기 리테이너링을 로딩한 후, 상기 리테이너링과 같은 수지 재질을 주입 사출해서 상기 리테이너링의 이빨에 일정 두께의 이빨 접합부위가 생성되게 하는 금형을 이용한 사출단계; 및 수지 재질의 사출로 형성된 이빨 접합부위를 다듬질 가공한 후에 표면 연마해서 상기 이빨 접합부위에 대한 두께의 정밀가공을 진행하는 접합부위 두께 정밀 가공단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 리테이너링 재생방법에 의해 달성된다.The object is a retaining washing step of washing a retainer ring to be regenerated using high-pressure deionized water (DIW); A retaining brushing step of removing foreign substances that may remain on the tooth surface of the retaining ring by brushing the washed retaining ring; A retaining ring tooth surface cutting step of cutting the tooth surface of the retaining ring to a predetermined thickness; After loading the retaining ring into a mold for regenerating the retaining ring that is one-to-one with the teeth of the retaining ring, a resin material such as the retaining ring is injected and injected to create a tooth joint of a certain thickness on the teeth of the retaining ring. Injection step using a mold; And Achieved by the retaining regeneration method, characterized in that it comprises a step of precision machining of the thickness of the tooth joint by polishing the surface after finishing the tooth joint portion formed by injection of resin material. do.
상기 목적은, 고압 탈이온수(DIW, Deionized water)를 이용해서 재생 대상의 리테이너링(retainer ring)을 세척(Washing)하는 리테이너링 세척단계; 세척된 상기 리테이너링을 브러싱(brushing)에서 상기 리테이너링의 이빨 표면에 잔존 가능한 이물질을 제거하는 리테이너링 브러싱단계; 상기 리테이너링의 이빨 부분을 완전히 제거하는 리테이너링 이빨 제거단계; 소정의 리테이너링 재생용 금형에 상기 리테이너링을 로딩한 후, 상기 리테이너링과 같은 수지 재질을 주입 사출해서 상기 리테이너링에 일정 두께의 접합부위가 생성되게 하는 금형을 이용한 사출단계; 상기 접합부위에 이빨 형상을 가공하는 이빨 형상 가공단계; 및 상기 이빨 형상이 가공된 접합부위를 다듬질 가공한 후에 표면 연마해서 상기 접합부위에 대한 두께의 정밀가공을 진행하는 접합부위 두께 정밀 가공단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 리테이너링 재생방법에 의해서도 달성된다.The object is a retaining washing step of washing a retainer ring to be regenerated using high-pressure deionized water (DIW); A retaining brushing step of removing foreign substances that may remain on the tooth surface of the retaining ring by brushing the washed retainer ring; A retaining ring tooth removal step of completely removing the tooth portion of the retaining ring; After loading the retaining ring into a mold for recycling a predetermined retaining ring, an injection step using a mold for injecting and injecting a resin material such as the retaining ring to create a joint portion having a predetermined thickness in the retaining ring; A tooth shape processing step of processing a tooth shape on the joint portion; And it is achieved by the retaining ring regeneration method, characterized in that it comprises a step of precision machining of the thickness of the bonded portion by polishing the surface after finishing the bonded portion of which the tooth shape is processed.
상기 리테이너링 세척단계의 수행 전에 해당 리테이너링에 대한 재생 가능 여부를 검사하는 리테이너링 재생 가능 여부 검사단계를 더 포함할 수 있다.It may further include a checking step of whether the retaining ring is reproducible or not, of checking whether the retaining ring is reproducible or not before performing the retaining ring washing step.
상기 목적은, 리테이너링이 로딩되는 로딩부와, 상기 로딩부에 돌출 형성되되 상기 리테이너링의 정위치를 결정하는 위치 결정핀을 구비하는 하부 금형; 및 상기 하부 금형에 로딩된 재생 대상의 리테이너링을 사이에 두고 상기 하부 금형에 결합하되 일단부에 상기 리테이너링과 같은 수지 재질을 주입하는 수지 주입구가 형성되는 상부 금형을 포함하는 것을 특징으로 하는 리테이너링 재생용 금형에 의해서도 달성된다.The object includes: a lower mold having a loading portion into which a retainer ring is loaded, and a positioning pin protruding from the loading portion and determining a correct position of the retaining ring; And an upper mold coupled to the lower mold with a retaining ring loaded on the lower mold interposed therebetween, and having a resin injection hole for injecting a resin material such as the retaining ring into one end thereof. It is also achieved by means of a mold for ring regeneration.
상기 상부 금형에는 상기 리테이너링의 이빨과 일대일로 형합하는 복수의 이빨 형합홈부가 형성되되 상기 수지 주입구는 상기 이빨 형합홈부마다 형성되며, 상기 리테이너링이 상기 상부 금형에 접촉되지 않도록 상기 이빨 형합홈부의 외벽체가 상기 하부 금형에 밀착될 수 있다.In the upper mold, a plurality of tooth fitting grooves for one-to-one molding with the teeth of the retaining ring are formed, and the resin injection hole is formed for each of the tooth fitting grooves, and the tooth fitting groove portion so that the retaining ring does not contact the upper mold. The outer wall may be in close contact with the lower mold.
본 발명에 따르면, 어떤 종류의 접착제도 사용하지 않고 마모된 부분만을 보강하여 재생할 수 있음은 물론 반복 재생이 가능하며, 이로 인해 원가절감에 이바지할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, it is possible to reinforce and regenerate only a worn part without using any kind of adhesive, as well as repetitive regeneration, thereby contributing to cost reduction.
도 1은 종래 리테이너링의 교체주기를 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 리테이너링 재생방법에 따라 재생된 리테이너링을 웨이퍼 연마공정에 적용한 상태의 도면이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 리테이너링 재생방법의 순서도이다.
도 4는 도 3의 재생방법에 적용될 리테이너링의 사시도이다.
도 5는 리테이너링 재생용 금형의 분해도이다.
도 6은 상부 금형의 배면 사시도이다.
도 7은 리테이너링을 포함한 도 5의 조립도이다.
도 8은 도 7의 모델링 이미지이다.
도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 리테이너링 재생방법의 순서도이다.1 is a view for explaining a replacement cycle of a conventional retainer ring.
2 is a diagram illustrating a state in which a retaining ring regenerated according to the retaining ring regeneration method according to the first embodiment of the present invention is applied to a wafer polishing process.
3 is a flowchart of a retaining regeneration method according to the first embodiment of the present invention.
4 is a perspective view of a retaining ring to be applied to the regeneration method of FIG. 3.
5 is an exploded view of a mold for recycling retaining rings.
6 is a rear perspective view of an upper mold.
7 is an assembly view of FIG. 5 including a retainer ring.
8 is a modeling image of FIG. 7.
9 is a flowchart of a retaining regeneration method according to a second embodiment of the present invention.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 쉽게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those of ordinary skill in the art may easily implement the present invention.
그러나 본 발명에 관한 설명은 구조적이나 기능적 설명을 위한 실시예에 불과하므로 본 발명의 권리범위는 본문에 설명된 실시예에 의하여 제한되는 것으로 해석되어서는 아니 된다.However, since the description of the present invention is merely an embodiment for structural or functional description, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the embodiments described in the text.
예컨대, 실시예는 다양한 변경이 가능하고 여러 가지 형태를 가질 수 있어서 본 발명의 권리범위는 기술적 사상을 실현할 수 있는 균등물들을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.For example, since the embodiments can be modified in various ways and have various forms, the scope of the present invention should be understood to include equivalents capable of realizing the technical idea.
또한, 본 발명에서 제시된 목적 또는 효과는 특정 실시예가 이를 전부 포함하여야 한다거나 그러한 효과만을 포함하여야 한다는 의미는 아니므로 본 발명의 권리범위는 이에 의하여 제한되는 것으로 이해되어서는 아니 될 것이다.In addition, since the object or effect presented in the present invention does not mean that a specific embodiment should include all or only such effects, the scope of the present invention should not be understood as being limited thereto.
본 명세서에서, 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하여지도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 그리고 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.In the present specification, the present embodiment is provided to complete the disclosure of the present invention, and to completely inform the scope of the present invention to those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains. And the invention is only defined by the scope of the claims.
따라서 몇몇 실시예에서, 잘 알려진 구성 요소, 잘 알려진 동작 및 잘 알려진 기술들은 본 발명이 모호하게 해석되는 것을 피하려고 구체적으로 설명되지 않는다.Accordingly, in some embodiments, well-known components, well-known operations, and well-known techniques have not been described in detail in order to avoid obscuring interpretation of the present invention.
한편, 본 발명에서 서술되는 용어의 의미는 사전적 의미에 제한되지 않으며, 다음과 같이 이해되어야 할 것이다.Meanwhile, the meaning of the terms described in the present invention is not limited to the dictionary meaning, and should be understood as follows.
어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "연결되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성 요소에 직접 연결될 수도 있지만, 중간에 다른 구성 요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "직접 연결되어" 있다고 언급된 때에는 중간에 다른 구성 요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 한편, 구성 요소 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.When a component is referred to as being "connected" to another component, it should be understood that it may be directly connected to the other component, but another component may exist in the middle. On the other hand, when it is mentioned that a component is "directly connected" to another component, it should be understood that there is no other component in the middle. On the other hand, other expressions describing the relationship between constituent elements, that is, "between" and "directly between" or "neighboring to" and "directly neighboring to" should be interpreted as well.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이며, 하나 또는 그 이상의 다른 특징이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.Singular expressions are to be understood as including plural expressions unless the context clearly indicates otherwise, and terms such as "comprises" or "have" refer to specified features, numbers, steps, actions, components, parts, or these. It is to be understood that it is intended to designate that a combination exists and does not preclude the presence or addition of one or more other features, numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof.
여기서 사용되는 모든 용어는 다르게 정의되지 않는 한, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 같은 의미가 있다.All terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the field to which the present invention belongs, unless otherwise defined.
일반적으로 사용되는 사전에 정의된 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 것으로 해석되어야 하며, 본 발명에서 명백하게 정의하지 않는 한 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미를 지니는 것으로 해석될 수 없다.Terms defined in a commonly used dictionary should be interpreted as having the meaning of the related technology in context, and cannot be interpreted as having an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in the present invention.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 실시예의 설명 중 같은 구성에 대해서는 같은 참조부호를 부여하도록 하며, 때에 따라 같은 참조부호에 대한 설명은 생략하도록 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the description of the embodiments, the same reference numerals are assigned to the same components, and descriptions of the same reference numerals are omitted in some cases.
(제1 실시예)(Example 1)
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 리테이너링 재생방법에 따라 재생된 리테이너링을 웨이퍼 연마공정에 적용한 상태의 도면, 도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 리테이너링 재생방법의 순서도, 도 4는 도 3의 재생방법에 적용될 리테이너링의 사시도, 도 5는 리테이너링 재생용 금형의 분해도, 도 6은 상부 금형의 배면 사시도, 도 7은 리테이너링을 포함한 도 5의 조립도, 그리고, 도 8은 도 7의 모델링 이미지이다.FIG. 2 is a diagram illustrating a state in which a retaining ring regenerated according to a retaining ring regeneration method according to a first embodiment of the present invention is applied to a wafer polishing process, and FIG. 3 is a flowchart of a retaining ring regeneration method according to the first embodiment of the present invention. , FIG. 4 is a perspective view of a retaining ring to be applied to the regeneration method of FIG. 3, FIG. 5 is an exploded view of a retaining ring regeneration mold, FIG. 6 is a rear perspective view of an upper mold, and FIG. 7 is an assembly view of FIG. 5 including a retaining ring, and , FIG. 8 is a modeling image of FIG. 7.
이들 도면을 참조하면, 본 실시예에 따른 리테이너링 재생방법에 의하면, 어떤 종류의 접착제도 사용하지 않고 마모된 부분만을 보강하여 재생할 수 있음은 물론 반복 재생이 가능하며, 이로 인해 원가절감에 이바지할 수 있다.Referring to these drawings, according to the retaining regeneration method according to the present embodiment, it is possible to reinforce and regenerate only the worn parts without using any kind of adhesive, as well as repetitive regeneration, which will contribute to cost reduction. I can.
이러한 방법으로 재생된 리테이너링(100, retainer ring)은 도 2처럼 웨이퍼 연마공정 시 사용할 수 있다.The
리테이너링(100)은 도 4에 도시된 것처럼 수지 재질(PEEK, PPS)로 제작되며, 도넛 모양의 링(ring) 구조를 이룬다. 둘레면에 복수의 이빨(110)이 형성된다. 도 4에는 편의상 일부에만 이빨(110)을 도시했는데, 이러한 이빨(110)은 리테이너링(100)의 둘레면 모두에 등간격으로 형성된다.The
앞서도 기술한 것처럼 리테이너링(100)의 이빨(110)들 사이의 홈(111) 깊이가 일정 이하로 떨어지면 교체하지만, 본 실시예의 경우, 아래의 재생방법으로 재생하여 사용한다.As previously described, if the depth of the
재생이 완료된 리테이너링(100)은 도 2처럼 웨이퍼가 이탈되지 않도록 가둬두는 역할을 담당한다. 즉 웨이퍼가 개재된 리테이너링(100)이 연마 패드(101) 상에 배치된다. 웨이퍼 위로 멤브레인(102)이 배치되어 웨이퍼를 연마한다.The retaining
한편, 이러한 구조의 리테이너링(100)에서 점선으로 표시된 재생라인(L)까지가 재생된 부분이다. 즉 이빨 접합부위(110a)가 재생라인(L)까지 이빨(110)에 접합되어 형성된다.On the other hand, from the retaining
이때, 이빨 접합부위(110a)를 포함한 이빨(110)의 전체 두께는 적어도 3mm 정도인 것이 바람직하다.At this time, it is preferable that the total thickness of the
부연 설명하면, 웨이퍼의 두께가 통상적으로 약 0.725mm이므로 연마공정 진행 시 웨이퍼의 가장자리가 리테이너링(100) 벽면에 밀리면서 회전하게 되는데 웨이퍼 가장자리가 닿지 않게 하려면 재생을 포함한 이빨(110)의 전체 두께를 적어도 3mm 정도로 하는 것이 바람직하다.To further explain, since the thickness of the wafer is usually about 0.725mm, the edge of the wafer rotates while being pushed against the wall of the retaining
한편, 본 실시예에 따른 리테이너링 재생방법은 리테이너링 재생 가능 여부 검사단계(S11), 리테이너링 세척단계(S12), 리테이너링 브러싱단계(S13), 리테이너링 이빨 표면 절삭단계(S14), 금형을 이용한 사출단계(S15) 및 접합부위 두께 정밀 가공단계(S16)를 포함하며, 이들 단계를 거쳐 리테이너링(100)을 재생할 수 있다.On the other hand, the retaining ring regeneration method according to the present embodiment includes a retaining regeneration step (S11), a retaining cleaning step (S12), a retaining brushing step (S13), a retaining tooth surface cutting step (S14), and a mold. It includes an injection step (S15) and a precision processing step (S16) of the joint thickness using, and through these steps, the retaining
특히, 본 실시예의 경우, 어떤 종류의 접착제도 사용하지 않고 마모된 이빨(110) 부분만을 보강하여 재생하는 방법이다. 즉 마모된 이빨(110)을 제거하지 않고 마모된 부분만을 덧대는 방식으로 재생한다.In particular, in the case of the present embodiment, it is a method of reinforcing and reinforcing only the
리테이너링 재생 가능 여부 검사단계(S11)는 해당 리테이너링(100)에 대한 재생 가능 여부를 검사하는 공정이다. 외관검사 등이 진행될 수 있다.The checking whether the retaining ring can be reproduced (S11) is a process of checking whether the retaining
리테이너링 세척단계(S12)는 고압 탈이온수(DIW, Deionized water)를 이용해서 재생 대상의 리테이너링(100)을 세척(Washing)하는 공정이다. 고압 탈이온수(DIW)를 이용하기 때문에 이물질이 제거될 수 있다.The retaining cleaning step (S12) is a process of washing the retaining
리테이너링 브러싱단계(S13)는 세척된 리테이너링(100)을 브러싱(brushing)에서 리테이너링(100)의 이빨 표면에 잔존 가능한 이물질을 제거하는 공정이다.The retaining brushing step (S13) is a process of removing foreign substances that may remain on the tooth surface of the retaining
한편, 리테이너링 이빨 표면 절삭단계(S14)는 리테이너링(100)의 이빨(110) 표면을 소정 두께로 절삭하는 공정이다. 앞서 기술한 것처럼 본 실시예에서는 이빨(110)을 완전히 제거하지 않고 살려 재생한다.On the other hand, the retaining tooth surface cutting step (S14) is a process of cutting the surface of the
재생 대상의 리테이너링(100)은 2mm 이하의 마모가 되는데, 리테이너링 이빨 표면 절삭단계(S14)에서 재생을 위해 예컨대, 추가로 1mm를 더 잘라낸다. 물론, 이의 수치는 하나의 예일 뿐이며, 이의 수치에 본 발명의 권리범위가 제한되지 않는다.The retaining
금형을 이용한 사출단계(S15)는 리테이너링(100)의 이빨(110)과 일대일로 형합하는 리테이너링 재생용 금형(120)에 리테이너링(100)을 로딩한 후, 리테이너링(100)과 같은 수지 재질을 주입 사출해서 리테이너링(100)의 이빨(110)에 일정 두께의 이빨 접합부위(110a)가 생성되게 하는 공정이다.In the injection step (S15) using a mold, the retaining
이러한 공정을 위해 리테이너링 재생용 금형(120)이 사용된다. 리테이너링 재생용 금형(120)은 하부 금형(130)과 상부 금형(140)을 포함할 수 있다.For this process, a retainer
하부 금형(130)은 리테이너링(100)이 로딩되는 로딩부(131)와, 로딩부(131)에 돌출 형성되되 리테이너링(100)의 정위치를 결정하는 위치 결정핀(132)을 포함한다.The
하부 금형(130)의 로딩부(131)에 복수 개의 위치 결정핀(132)이 마련되고, 이 위치 결정핀(132)에 리테이너링(100)이 로딩되기 때문에 리테이너링(100)에 대한 정밀 재생 작업이 진행될 수 있다.Since a plurality of positioning pins 132 are provided in the
상부 금형(140)은 도 7 및 도 8처럼 하부 금형(130)에 로딩된 재생 대상의 리테이너링(100)을 사이에 두고 하부 금형(130)에 결합하되 일단부에 리테이너링(100)과 같은 수지 재질을 주입하는 수지 주입구(141)가 형성된다.The
상부 금형(140)에는 리테이너링(100)의 이빨(110)과 일대일로 형합하는 복수의 이빨 형합홈부(142)가 형성된다.The
따라서, 리테이너링(100)을 하부 금형(130)의 로딩부(131)에 로딩시킨 후, 상부 금형(140)을 뒤집어 하부 금형(130)에 조립하면 상부 금형(140)의 이빨 형합홈부(142)들이 리테이너링(100)의 이빨(110)과 일대일로 형합할 수 있다.Therefore, after loading the retaining
이때, 리테이너링(100)이 상부 금형(140)에 접촉되지 않도록 이빨 형합홈부(142)의 외벽체(143)가 하부 금형(130)에 밀착된다.At this time, the
수지 주입구(141)는 이빨 형합홈부(142)마다 형성되므로 도 7 및 도 8과 같이 준비한 상태에서 수지 주입구(141)로 리테이너링(100)과 같은 수지 재질(PEEK, PPS)을 주입 사출하면 리테이너링(100)의 원래 이빨(110)에 일정 두께의 이빨 접합부위(110a)가 생성될 수 있다. 특히, 이러한 작업은 접착제 없이 진행되는 것이어서 효율이 좋다.Since the
접합부위 두께 정밀 가공단계(S16)는 수지 재질의 사출로 형성된 이빨 접합부위(110a)를 다듬질 가공한 후에 표면 연마해서 이빨 접합부위(110a)에 대한 두께의 정밀가공을 진행하는 공정이다. 이 공정을 완료함으로써 비로소 리테이너링(100)이 재생 완료될 수 있다.The precision machining step of the joint thickness (S16) is a process of performing a precision processing of the thickness of the tooth
재생 두께는 표면 연마작업이 끝났을 경우, 총 3mm 이상이 된다. 재생 두께를 3mm 이상으로 하는 이유는 재생된 이빨(110)의 경계면이 웨이퍼에 영향을 주지 않기 위해서이다. 물론, 이의 수치는 하나의 예일 뿐이며, 이의 수치에 본 발명의 권리범위가 제한되지 않는다.When the surface grinding work is finished, the regeneration thickness is 3mm or more in total. The reason why the regenerated thickness is 3mm or more is that the boundary surface of the regenerated
이하, 본 실시예에 따른 리테이너링 재생방법에 대해 설명한다.Hereinafter, a retaining regeneration method according to the present embodiment will be described.
우선, 해당 리테이너링(100)에 대한 재생 가능 여부를 검사하는 공정이다. 외관검사 등이 진행될 수 있다.First, it is a process of checking whether the retaining
다음, 고압 탈이온수(DIW, Deionized water)를 이용해서 재생 대상의 리테이너링(100)을 세척(Washing)한 후, 이어 리테이너링(100)을 브러싱(brushing)한다. 이로써, 리테이너링(100)의 이빨 표면에 잔존 가능한 이물질이 제거된다.Next, after washing the retaining
다음, 리테이너링(100)의 이빨(110) 표면을 소정 두께로 절삭하는 공정이다. 앞서 기술한 것처럼 본 실시예에서는 이빨(110)을 완전히 제거하지 않고 살려 재생한다. 재생 대상의 리테이너링(100)은 2mm 이하의 마모가 되는데, 이 단계에서 재생을 위해 예컨대, 추가로 1mm를 더 잘라낸다.Next, it is a process of cutting the surface of the
다음, 리테이너링(100)의 이빨(110)과 일대일로 형합하는 리테이너링 재생용 금형(120)에 리테이너링(100)을 로딩한 후, 리테이너링(100)과 같은 수지 재질을 주입 사출해서 리테이너링(100)의 이빨(110)에 일정 두께의 이빨 접합부위(110a)가 생성되게 한다.Next, after loading the retaining
그런 다음, 수지 재질의 사출로 형성된 이빨 접합부위(110a)를 다듬질 가공한 후에 표면 연마해서 이빨 접합부위(110a)에 대한 두께의 정밀가공을 진행함으로써 비로소 리테이너링(100)이 재생 완료될 수 있다.Then, the retaining
이상 설명한 바와 같은 구조를 기반으로 작용을 하는 본 실시예에 따르면, 어떤 종류의 접착제도 사용하지 않고 마모된 부분만을 보강하여 재생할 수 있음은 물론 반복 재생이 가능하며, 이로 인해 원가절감에 이바지할 수 있게 된다.According to this embodiment, which acts based on the structure as described above, it is possible to reinforce only the worn part without using any kind of adhesive and to regenerate it, as well as to be able to regenerate it repeatedly, thereby contributing to cost reduction. There will be.
(제2 실시예)(Example 2)
도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 리테이너링 재생방법의 순서도이다.9 is a flowchart of a retaining regeneration method according to a second embodiment of the present invention.
이 도면을 참조하면, 본 실시예의 경우에도 어떤 종류의 접착제도 사용하지 않고 마모된 이빨(110)을 재생하는 방법이나, 본 실시예의 경우, 마모된 이빨(110)을 완전히 제거하고, 제거된 자리에 일정 두께의 접합부위를 만든 후, 추후에 이빨(110)을 다시 가공하는 방식을 취한다.Referring to this drawing, even in the case of this embodiment, a method of regenerating the
이하, 본 실시예에 따른 리테이너링 재생방법에 대해 설명한다.Hereinafter, a retaining regeneration method according to the present embodiment will be described.
우선, 대상체의 리테이너링(100)에 대한 재생 가능 여부를 검사한다(S21). 검사는 외관검사를 비롯해서 다양할 수 있다.First, it is checked whether the object's
다음, 고압 탈이온수(DIW, Deionized water)를 이용해서 재생 대상의 리테이너링(100)을 세척(Washing)하는 한편(S22), 리테이너링(100)을 브러싱(brushing)에서 리테이너링(100)의 이빨(110) 표면에 잔존 가능한 이물질을 제거한다(S23).Next, while washing the retaining
다음, 리테이너링(100)의 이빨(110) 부분을 완전히 제거한다(S24). 이 단계를 거치면 이빨(110)이 있던 자리가 평평해진다.Next, the portion of the
다음, 소정의 리테이너링 재생용 금형(미도시)에 리테이너링(100)을 로딩한 후, 리테이너링(100)과 같은 수지 재질(PEEK, PPS)을 주입 사출해서 리테이너링(100)에 일정 두께의 접합부위가 생성되게 한다(S25). 이때 사용되는 리테이너링 재생용 금형(미도시)은 도 6에서 모든 이빨 형합홈부(142a)가 분리되지 않고 일체로 연결된 형태를 취한다. 수지 주입구(141)는 한두 개 형성될 수 있다.Next, after loading the retaining
다음, 밀링 가공기 등을 이용해서 접합부위에 이빨(110) 형상을 가공한다(S26).Next, the shape of the
그런 다음, 이빨(110) 형상이 가공된 접합부위를 다듬질 가공한 후에 표면 연마해서 접합부위에 대한 두께의 정밀가공을 진행함으로써(S27), 저비용으로 고품질의 리테이너링(100)을 재생할 수 있다.Then, after finishing the joint portion with the shape of the
본 실시예가 적용되더라도 어떤 종류의 접착제도 사용하지 않고 마모된 부분만을 보강하여 재생할 수 있음은 물론 반복 재생이 가능하며, 이로 인해 원가절감에 이바지할 수 있다Even if the present embodiment is applied, it is possible to reinforce only the worn part without using any kind of adhesive and to regenerate it, as well as to be able to regenerate it repeatedly, thereby contributing to cost reduction.
이처럼 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 청구범위에 속한다고 하여야 할 것이다.As described above, the present invention is not limited to the described embodiments, and it is obvious to those of ordinary skill in the art that various modifications and variations can be made without departing from the spirit and scope of the present invention. Therefore, it should be said that such modifications or variations belong to the claims of the present invention.
100 : 리테이너링 110 : 이빨
110a : 이빨 접합부위 111 : 홈
120 : 리테이너링 재생용 금형 130 : 하부 금형
131 : 로딩부 132 : 위치 결정핀
140 : 상부 금형 141 : 수지 주입구
142 : 이빨 형합홈부 143 : 외벽체100: retaining ring 110: teeth
110a: tooth junction 111: groove
120: mold for recycling retaining ring 130: lower mold
131: loading part 132: positioning pin
140: upper mold 141: resin injection port
142: tooth fitting groove 143: outer wall
Claims (5)
세척된 상기 리테이너링을 브러싱(brushing)에서 상기 리테이너링의 이빨 표면에 잔존 가능한 이물질을 제거하는 리테이너링 브러싱단계;
상기 리테이너링의 이빨 표면을 소정 두께로 절삭하는 리테이너링 이빨 표면 절삭단계;
상기 리테이너링의 이빨과 일대일로 형합하는 리테이너링 재생용 금형에 상기 리테이너링을 로딩한 후, 상기 리테이너링과 같은 수지 재질을 주입 사출해서 상기 리테이너링의 이빨에 일정 두께의 이빨 접합부위가 생성되게 하는 금형을 이용한 사출단계; 및
수지 재질의 사출로 형성된 이빨 접합부위를 다듬질 가공한 후에 표면 연마해서 상기 이빨 접합부위에 대한 두께의 정밀가공을 진행하는 접합부위 두께 정밀 가공단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 리테이너링 재생방법.
A retaining ring washing step of washing a retainer ring to be regenerated using high-pressure deionized water (DIW);
A retaining brushing step of removing foreign substances that may remain on the tooth surface of the retaining ring by brushing the washed retaining ring;
A retaining ring tooth surface cutting step of cutting the tooth surface of the retaining ring to a predetermined thickness;
After loading the retaining ring into a mold for regenerating the retaining ring that is one-to-one with the teeth of the retaining ring, a resin material such as the retaining ring is injected and injected to create a tooth joint of a certain thickness on the teeth of the retaining ring. Injection step using a mold; And
Retaining a retaining ring regeneration method comprising the step of performing precision processing of the thickness of the tooth joint portion by polishing the surface after finishing the tooth joint portion formed by injection of a resin material.
세척된 상기 리테이너링을 브러싱(brushing)에서 상기 리테이너링의 이빨 표면에 잔존 가능한 이물질을 제거하는 리테이너링 브러싱단계;
상기 리테이너링의 이빨 부분을 완전히 제거하는 리테이너링 이빨 제거단계;
소정의 리테이너링 재생용 금형에 상기 리테이너링을 로딩한 후, 상기 리테이너링과 같은 수지 재질을 주입 사출해서 상기 리테이너링에 일정 두께의 접합부위가 생성되게 하는 금형을 이용한 사출단계;
상기 접합부위에 이빨 형상을 가공하는 이빨 형상 가공단계; 및
상기 이빨 형상이 가공된 접합부위를 다듬질 가공한 후에 표면 연마해서 상기 접합부위에 대한 두께의 정밀가공을 진행하는 접합부위 두께 정밀 가공단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 리테이너링 재생방법.
A retaining ring washing step of washing a retainer ring to be regenerated using high-pressure deionized water (DIW);
A retaining brushing step of removing foreign substances that may remain on the tooth surface of the retaining ring by brushing the washed retaining ring;
A retaining ring tooth removal step of completely removing the tooth portion of the retaining ring;
After loading the retaining ring into a mold for recycling a predetermined retaining ring, an injection step using a mold for injecting and injecting a resin material such as the retaining ring to create a joint portion having a predetermined thickness in the retaining ring;
A tooth shape processing step of processing a tooth shape on the joint portion; And
And a precision machining step of a joint portion thickness precision processing step of performing precision processing of the thickness of the joint portion by polishing the surface after finishing the joint portion having the tooth shape processed.
상기 리테이너링 세척단계의 수행 전에 해당 리테이너링에 대한 재생 가능 여부를 검사하는 리테이너링 재생 가능 여부 검사단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 리테이너링 재생방법.
The method according to claim 1 or 2,
And a retaining ring regeneration check step of checking whether a corresponding retaining ring can be regenerated before the retaining ring washing step is performed.
상기 하부 금형에 로딩된 재생 대상의 리테이너링을 사이에 두고 상기 하부 금형에 결합하되 일단부에 상기 리테이너링과 같은 수지 재질을 주입하는 수지 주입구가 형성되는 상부 금형;을 포함하되,
상기 상부 금형에는 상기 리테이너링의 이빨과 일대일로 형합하는 복수의 이빨 형합홈부가 형성되되 상기 수지 주입구는 상기 이빨 형합홈부마다 형성되며,
상기 리테이너링이 상기 상부 금형에 접촉되지 않도록 상기 이빨 형합홈부의 외벽체가 상기 하부 금형에 밀착되는 것을 특징으로 하는 리테이너링 재생용 금형.
A lower mold having a loading portion on which the retaining ring is loaded, and a positioning pin protruding from the loading portion and determining a correct position of the retaining ring; And
Including; an upper mold coupled to the lower mold with a retaining ring loaded in the lower mold interposed therebetween, and having a resin injection hole for injecting a resin material such as the retaining ring into one end portion thereof;
In the upper mold, a plurality of tooth fitting grooves for one-to-one molding with the teeth of the retaining ring are formed, wherein the resin injection hole is formed for each of the tooth fitting grooves,
The retaining ring regeneration mold, characterized in that the outer wall of the tooth fitting groove is in close contact with the lower mold so that the retaining ring does not contact the upper mold.
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20080028392A (en) * | 2008-03-11 | 2008-03-31 | 시너스(주) | Retainer ring structure for chemical-mechanical polishing machine and manufacturing method thereof |
KR20120137490A (en) | 2010-02-25 | 2012-12-21 | 콸콤 인코포레이티드 | Methods and apparatus for applying tactile pressure sensors |
KR101224539B1 (en) * | 2011-09-30 | 2013-01-21 | 한상효 | Retainer ring for polishing wafer |
KR101392401B1 (en) * | 2012-11-30 | 2014-05-07 | 이화다이아몬드공업 주식회사 | Wafer retaininer ring with a function of pad conditioner and method for producing the same |
KR20180009537A (en) * | 2016-07-19 | 2018-01-29 | 최환혁 | Retainer ring recycle method using friction welding |
-
2019
- 2019-12-26 KR KR1020190174745A patent/KR102229886B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20080028392A (en) * | 2008-03-11 | 2008-03-31 | 시너스(주) | Retainer ring structure for chemical-mechanical polishing machine and manufacturing method thereof |
KR20120137490A (en) | 2010-02-25 | 2012-12-21 | 콸콤 인코포레이티드 | Methods and apparatus for applying tactile pressure sensors |
KR101224539B1 (en) * | 2011-09-30 | 2013-01-21 | 한상효 | Retainer ring for polishing wafer |
KR101392401B1 (en) * | 2012-11-30 | 2014-05-07 | 이화다이아몬드공업 주식회사 | Wafer retaininer ring with a function of pad conditioner and method for producing the same |
KR20180009537A (en) * | 2016-07-19 | 2018-01-29 | 최환혁 | Retainer ring recycle method using friction welding |
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