KR102229373B1 - Method for manufacturing flexible device, flexible device manufactured thereby, and junction device - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 측면은, 유연소자의 제조방법에 있어서, 기판 상에 소자의 전극영역을 정의하는 단계; 상기 소자의 전극영역이 정의된 기판 상에 금속막을 형성하는 단계; 상기 금속막의 일부를 제거하여 상기 전극영역에 대응하는 금속전극 패턴을 형성하는 단계; 상기 금속전극 패턴 상에 성장시키는 방법으로 소자를 형성하는 단계; 상기 금속전극 패턴 및 상기 소자 위에 고분자 용액을 도포하여 고분자막을 형성하는 단계; 및 상기 금속전극 패턴 및 상기 소자를 가지는 고분자막을 상기 기판으로부터 분리하는 단계를 포함하는, 유연소자의 제조방법을 제공한다.
본 발명에 따르면, 비교적 간단한 공정으로 다양한 소재를 사용하여 저가의 비용으로 유연소자를 제조할 수 있으며, 수명특성이 우수하고 기계적 변형에도 안정성이 유지되는 간단한 구조의 유연소자 및 접합소자를 제공할 수 있다.
An aspect of the present invention is a method of manufacturing a flexible device, comprising: defining an electrode region of the device on a substrate; Forming a metal film on the substrate on which the electrode region of the device is defined; Forming a metal electrode pattern corresponding to the electrode region by removing a portion of the metal film; Forming a device by growing it on the metal electrode pattern; Forming a polymer film by applying a polymer solution on the metal electrode pattern and the device; And separating the metal electrode pattern and the polymer film having the device from the substrate.
According to the present invention, it is possible to manufacture a flexible device at low cost by using various materials in a relatively simple process, and to provide a flexible device and a bonding device having a simple structure that has excellent life characteristics and maintains stability even in mechanical deformation. have.

Description

유연소자의 제조방법, 그에 의하여 제조된 유연소자 및 접합소자{METHOD FOR MANUFACTURING FLEXIBLE DEVICE, FLEXIBLE DEVICE MANUFACTURED THEREBY, AND JUNCTION DEVICE}Manufacturing method of flexible device, flexible device and bonding device manufactured thereby {METHOD FOR MANUFACTURING FLEXIBLE DEVICE, FLEXIBLE DEVICE MANUFACTURED THEREBY, AND JUNCTION DEVICE}

본 발명은 유연소자의 제조방법, 그에 의하여 제조된 유연소자 및 상기 유연소자간 접합에 의해 형성된 접합소자에 관한 것이다.
The present invention relates to a method of manufacturing a flexible device, a flexible device manufactured thereby, and a bonding device formed by bonding between the flexible devices.

유연소자는 딱딱한 기판에 형성된 소자와는 달리 반복적인 스트레스가 가해져도 소자의 특성을 유지하며, 쉽게 구부러지는 특성을 가지고 있어서, 플렉시블 디스플레이, 터치 스크린 등의 구부러지는 전자부품, 또는 자유 곡면 위에 부착 가능한 센서 등에 사용될 수 있다.
Unlike a device formed on a hard substrate, a flexible device maintains the characteristics of the device even when repeated stress is applied, and has a property of being bent easily, so it can be attached to a flexible electronic component such as a flexible display, a touch screen, or a free curved surface. It can be used for sensors and the like.

종래기술에 의하면, 이러한 유연소자는 일반적으로 기능성 세라믹/금속 소재 등을 유연한 고분자 소재와 혼합하여 유연한 필름 형태로 제조한 후, 전극 증착 등의 후속 공정을 통하여 만들어진다. 또는, 딱딱한 기판 혹은 특수하게 설계된 웨이퍼, 보다 상세하게는 SOI(silicon on insulator), GaN, GaAs 등으로 구성된 반도체용 웨이퍼 위에 반도체 공정을 사용하여 소자를 구현하고, 이를 식각 공정과 전사 공정을 통해 유연기판에 소자를 구현하기도 한다.
According to the prior art, such a flexible device is generally manufactured in the form of a flexible film by mixing a functional ceramic/metal material with a flexible polymer material, and then made through a subsequent process such as electrode deposition. Alternatively, a device is implemented using a semiconductor process on a hard substrate or a specially designed wafer, more specifically, a semiconductor wafer composed of SOI (silicon on insulator), GaN, GaAs, etc., and is flexible through an etching process and a transfer process. Devices are also implemented on the substrate.

이러한 종래기술을 이용하는 경우, 소자의 기능구현을 위한 금속전극 증착 및 패터닝 등의 후속 공정, 고가의 진공 공정, 식각 공정 등을 이용해야 한다. 전사 공정의 경우 유연소자 제조를 위해서는 희생층이 반드시 존재하여야 하기 때문에 식각 공정에 취약한 소재는 사용이 제한된다. 희생층과 소자간의 식각율이 뚜렷한 선택비를 가져야 한다는 점을 고려하여 볼 때 이러한 종래기술을 통한 유연소자 제작은 재료 선택에 있어 제약이 많다. 또한, 소자 간의 접합이 요구될 경우 복잡한 공정과 회로 설계가 요구되어 실제 적용상 한계가 있으며, 유연 기판에 전사된 후에는 접합이 사실상 불가능하다.
In the case of using such a conventional technique, a subsequent process such as metal electrode deposition and patterning, an expensive vacuum process, an etching process, etc. for implementing the function of the device should be used. In the case of the transfer process, since a sacrificial layer must be present in order to manufacture a flexible device, the use of materials that are vulnerable to the etching process is restricted. Considering that the etch rate between the sacrificial layer and the device should have a clear selectivity, fabrication of a flexible device through the prior art has many limitations in material selection. In addition, when bonding between devices is required, a complicated process and circuit design are required, so there is a limitation in practical application, and bonding is virtually impossible after transferring to a flexible substrate.

본 발명의 일 측면은 제조공정을 단순화하여 비용을 줄일 수 있고, 재료 선택의 폭이 광범위하고, 별도의 접합공정을 요하지 않는 유연소자의 제조방법을 제시하고자 한다.An aspect of the present invention is to provide a method of manufacturing a flexible device that simplifies the manufacturing process to reduce cost, has a wide range of material selection, and does not require a separate bonding process.

본 발명의 다른 측면은 수명특성이 우수하고, 기계적 변형에도 영향을 받지 않는 유연소자 및 이를 이용한 접합소자를 제시하고자 한다.
Another aspect of the present invention is to provide a flexible device having excellent life characteristics and not affected by mechanical deformation, and a bonding device using the same.

그러나, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
However, the problem to be solved by the present invention is not limited to the problems mentioned above, and other problems that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 측면은, 유연소자의 제조방법에 있어서, 기판 상에 소자의 전극영역을 정의하는 단계; 상기 소자의 전극영역이 정의된 기판 상에 금속막을 형성하는 단계; 상기 금속막의 일부를 제거하여 상기 전극영역에 대응하는 금속전극 패턴을 형성하는 단계; 상기 금속전극 패턴 상에 성장시키는 방법으로 소자를 형성하는 단계; 상기 금속전극 패턴 및 상기 소자 위에 고분자 용액을 도포하여 고분자막을 형성하는 단계; 및 상기 금속전극 패턴 및 상기 소자를 가지는 고분자막을 상기 기판으로부터 분리하는 단계를 포함하는, 유연소자의 제조방법을 제공한다. In order to achieve the above object, an aspect of the present invention provides a method for manufacturing a flexible device, comprising: defining an electrode region of the device on a substrate; Forming a metal film on the substrate on which the electrode region of the device is defined; Forming a metal electrode pattern corresponding to the electrode region by removing a portion of the metal film; Forming a device by growing it on the metal electrode pattern; Forming a polymer film by applying a polymer solution on the metal electrode pattern and the device; And separating the metal electrode pattern and the polymer film having the device from the substrate.

본 발명의 다른 측면은, 상기 제조방법에 의하여 제조된 유연소자를 제공한다.Another aspect of the present invention provides a flexible device manufactured by the above manufacturing method.

본 발명의 또 다른 측면은, 상기 제조방법에 의하여 제조된 유연소자 간의 접합에 의하여 형성된 접합소자를 제공한다.
Another aspect of the present invention provides a bonding device formed by bonding between flexible devices manufactured by the above manufacturing method.

본 발명에 의하면, 비교적 간단한 공정으로 다양한 소재를 사용하여 저가의 비용으로 유연소자를 제조할 수 있으며, 수명특성이 우수하고 기계적 변형에도 안정성이 유지되는 간단한 구조의 유연소자 및 접합소자를 제공할 수 있다.
According to the present invention, it is possible to manufacture a flexible device at low cost by using a variety of materials in a relatively simple process, and to provide a flexible device and a bonding device having a simple structure that has excellent life characteristics and maintains stability even under mechanical deformation. have.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른, 유연소자의 제조공정도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른, 금속박막의 종류별 기판에 대한 결착력과 고분자막의 기계적 특성을 나타낸 도표이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른, 수직배향된 탄소나노튜브 기반 슈퍼커패시터의 구조를 나타낸 그림과 사진이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른, 유연한 슈퍼커패시터의 제조공정상의 일부분도 및 그 사진이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른, 수직배향된 탄소나노튜브 기반 슈퍼커패시터를 이용하여 제조된 유연한 슈퍼커패시터(a) 및 이의 전기화학적 특성을 나타내는 그래프(b~f)이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 의하여 제조된 유연소자의 구부리기(a), 접기(b), 잡아당기기(c), 둥글게 말기(d)에 관한 기계적 변형 실험 사진이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른, 저항(a), 인덕터(b), 커패시터(c) 제조를 위한 리소그래피용 마스크의 패턴이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 다양한 유연소자(a~c), 이들 유연소자의 접합공정 개념도(d), 및 접합 사진(e)이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른, 접합된 유연소자(a) 및 이의 전압-시간 관계 그래프(b), 접합된 회로 및 이들에 대한 전압-시간 관계 그래프(c, d)이다.
1 is a manufacturing process diagram of a flexible device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing a binding force to a substrate by type of a metal thin film and mechanical properties of a polymer film according to an embodiment of the present invention.
3 is a diagram and a photograph showing the structure of a vertically aligned carbon nanotube-based supercapacitor according to an embodiment of the present invention.
4 is a partial view and a photograph of a manufacturing process of a flexible supercapacitor according to an embodiment of the present invention.
5 is a graph (b to f) showing a flexible supercapacitor (a) manufactured using a vertically oriented carbon nanotube-based supercapacitor and electrochemical characteristics thereof according to an embodiment of the present invention.
6 is a photograph of a mechanical deformation experiment on bending (a), folding (b), pulling (c), and rolling (d) of a flexible device manufactured according to an embodiment of the present invention.
7 is a pattern of a lithographic mask for manufacturing a resistor (a), an inductor (b), and a capacitor (c) according to an embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a conceptual diagram (d) of a bonding process of various flexible devices (a to c) manufactured according to an embodiment of the present invention, and a bonding photograph (e) of these flexible devices.
9 is a bonded flexible device (a) and a voltage-time relationship graph (b) thereof, a bonded circuit, and voltage-time relationship graphs (c, d) thereof according to an embodiment of the present invention.

본 명세서 전반에 걸쳐서, 층, 막, 영역, 기판 등의 부분이 다른 구성요소 "위에" 또는 "상에" 있다고 할 때, 이는 다른 구성요소 "바로 위에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 구성요소가 있는 경우도 포함하는 의미로 해석되어야 한다.
Throughout this specification, when a portion such as a layer, film, region, substrate, etc. is said to be "on" or "on" another component, it is not only when it is "directly over" another component, but also another component in the middle thereof. It should be construed to include the presence of elements.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 유연소자의 제조방법, 그에 의하여 제조된 유연소자 및 접합소자를 상세히 설명한다.
Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, a method for manufacturing a flexible device of the present invention, a flexible device and a bonding device manufactured thereby, will be described in detail so that those skilled in the art can easily implement the present invention.

본 발명은 고분자막을 이용하여 기판 위에 제조된 소자를 기판으로부터 분리하여 유연소자를 제조하는 기술에 관한 것이다. 도 1에서는 본 발명의 유연소자의 제조공정도의 일례를 나타내었다.
The present invention relates to a technology for manufacturing a flexible device by separating a device manufactured on a substrate from a substrate using a polymer film. 1 shows an example of a manufacturing process diagram of the flexible device of the present invention.

먼저, 기판을 준비하고 상기 기판 상에 금속전극 패턴을 형성한다. (도 1(a))First, a substrate is prepared and a metal electrode pattern is formed on the substrate. (Fig. 1(a))

상기 금속전극 패턴은 금속 전극층으로 기능할 수 있는 것으로서, 이에 제한되는 것은 아니나, Mo, Au, Cu, Cr, Pt, Ni, Ti, P로 이루어지는 군에서 선택되는 금속; 또는 B, Si, Ge. As, Sb, Te, Po로 이루어지는 군에서 선택되는 준금속과 상기 금속의 합금으로 이루어질 수 있다.The metal electrode pattern may function as a metal electrode layer, but is not limited thereto, but a metal selected from the group consisting of Mo, Au, Cu, Cr, Pt, Ni, Ti, and P; Or B, Si, Ge. It may be made of a metalloid selected from the group consisting of As, Sb, Te, and Po and an alloy of the metal.

상기 금속전극 패턴 형성을 위해서는 기판 위에 리소그래피를 통하여 소자의 전극영역을 형성하고, 라디오 주파 스퍼터링(radio frequency sputtering) 등의 스퍼터링법, 전자선 증착법, 이온빔 증착법, 펄스-레이저 증착법, 분자선 증착법, 화학기상증착법, 원자층 증착법 등의 방법을 통해 금속막을 형성할 수 있다.To form the metal electrode pattern, an electrode region of the device is formed on a substrate through lithography, and a sputtering method such as radio frequency sputtering, an electron beam deposition method, an ion beam deposition method, a pulse-laser deposition method, a molecular beam deposition method, a chemical vapor deposition method , A metal film may be formed through a method such as an atomic layer deposition method.

그리고 나서, 리프트-오프(lift-off) 공정 등을 통하여 상기 전극영역에 대응하는 금속전극 패턴을 형성시킬 수 있다. Then, a metal electrode pattern corresponding to the electrode region may be formed through a lift-off process or the like.

상기 기판으로는 무기물 기판 혹은 유기물 기판을 사용할 수 있다.As the substrate, an inorganic substrate or an organic substrate may be used.

상기 무기물 기판으로는 유리, 석영(Quartz), Al2O3, SiC, Si, GaAs, 또는 InP로 이루어지는 것일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 유기물 기판으로는 켑톤 호일, 폴리이미드(PI, Polyimide), 폴리에테르술폰(PES, polyethersulfone), 폴리아크릴레이트(PAR, polyacrylate), 폴리에테르 이미드(PEI, polyetherimide), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN, polyethylene naphthalate), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET, polyethylene terephthalate), 폴리페닐렌 설파이드(PPS, polyphenylene sulfide), 폴리아릴레이트(polyarylate), 폴리카보네이트(PC, polycarbonate), 셀룰로오스 트리 아세테이트(CTA, cellulose triacetate), 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(CAP, cellulose acetate propionate)로부터 선택되는 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 본 발명의 특성상 상기 무기물 기판 및 상기 유기물 기판은 단단한 소재로 이루어지는 것이 더욱 바람직하다.
The inorganic substrate may be made of glass, quartz, Al 2 O 3 , SiC, Si, GaAs, or InP, but is not limited thereto. As the organic substrate, Kepton foil, polyimide (PI), polyethersulfone (PES), polyacrylate (PAR, polyacrylate), polyether imide (PEI), polyethylene naphthalate (PEN, polyethylene naphthalate), polyethylene terephthalate (PET), polyphenylene sulfide (PPS), polyarylate, polycarbonate (PC), cellulose triacetate (CTA), It may be selected from cellulose acetate propionate (CAP, cellulose acetate propionate), but is not limited thereto. It is more preferable that the inorganic substrate and the organic substrate are made of a hard material due to the characteristics of the present invention.

이어서, 상기 금속전극 패턴 상에 소자를 형성한다. (도 1(b))Subsequently, a device is formed on the metal electrode pattern. (Fig. 1(b))

상기 소자는 상기 금속전극 패턴 상에 성장한 탄소, 금속, 또는 금속산화물로 이루어질 수 있다. The device may be made of carbon, metal, or metal oxide grown on the metal electrode pattern.

가령, 탄소로 이루어진 소자는 금속전극 패턴 상에 탄소나노튜브 형태로 성장한 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. For example, a device made of carbon may be grown in the form of a carbon nanotube on a metal electrode pattern, but is not limited thereto.

상기 금속으로 이루어진 소자는 Mn, Co, Ni, Ti, V, Cr, Fe, Cu, Zn, Ru, Al, Sn, Rt, 및 Ir으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 원소로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 상기 금속산화물로 이루어진 소자는 Mn, Co, Ni, Ti, V, Cr, Fe, Cu, Zn, Ru, Al, Sn, Rt, 및 Ir으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 원소의 산화물로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
The element made of the metal may be made of any one element selected from the group consisting of Mn, Co, Ni, Ti, V, Cr, Fe, Cu, Zn, Ru, Al, Sn, Rt, and Ir. It is not limited. In addition, the element made of the metal oxide is an oxide of any one element selected from the group consisting of Mn, Co, Ni, Ti, V, Cr, Fe, Cu, Zn, Ru, Al, Sn, Rt, and Ir. It may be made, but is not limited thereto.

상기 소자는 저항, 커패시터, 인덕터, 슈퍼 커패시터, 커넥터, 다이오드, 트랜지스터 등의 형태로 구현될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
The device may be implemented in the form of a resistor, a capacitor, an inductor, a super capacitor, a connector, a diode, or a transistor, but is not limited thereto.

상기 금속전극 패턴 상에 소자가 성장한 후, 상기 금속전극 패턴 및 상기 소자 위에 고분자 용액을 도포하고 건조하여 고분자막을 형성한다. (도 1(c))After the device is grown on the metal electrode pattern, a polymer solution is applied and dried on the metal electrode pattern and the device to form a polymer film. (Fig. 1(c))

상기 고분자 용액은 PVA(polyvinyl alcohol)계, PMMA(polymethyl methacrylate)계, PVP(polyvinyl pyrolidone)계, PEO(polyethylene oxide)계, PVC(polyvinyl chloride)계, PAA(polyacrylic acid)계, 및 PAM (Polyacrylamide)계, PDMS(Polydimethylsiloxane)계로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 고분자물질을 용매에 용해하여 제조될 수 있다.
The polymer solution is PVA (polyvinyl alcohol), PMMA (polymethyl methacrylate), PVP (polyvinyl pyrolidone), PEO (polyethylene oxide), PVC (polyvinyl chloride), PAA (polyacrylic acid), and PAM (polyacrylamide). )-Based, PDMS (Polydimethylsiloxane)-based can be prepared by dissolving at least one polymer material selected from the group consisting of a solvent.

상기 용매로는 예컨대, 에틸렌글리콜디알킬에테르, 프로필렌글리콜디알킬에테르, 폴리에틸렌글리콜디알킬에테르, 폴리프로필렌글리콜디알킬에테르 등의 사슬형 에테르류; 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜모노알킬에테르, 프로필렌글리콜모노알킬에테르, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리프로필렌글리콜모노알킬에테르 등의 알코올류; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 글리세린 등의 다가 알코올류; 아세토니트릴, 글루타로디니트릴, 메톡시아세토니트릴, 프로피오니트릴, 벤조니트릴 등의 니트릴 화합물; 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트 화합물; 3-메틸-2-옥사졸리디논 등의 헤테로사이클릭화합물; 디메틸 설폭사이드, 설포란 등의 극성물질; 물 또는 이들의 조합 등을 사용할 수 있다. 이들은 단독으로 사용할 수도 있고, 또는 복수 종을 조합해서 사용할 수도 있다. Examples of the solvent include chain ethers such as ethylene glycol dialkyl ether, propylene glycol dialkyl ether, polyethylene glycol dialkyl ether, and polypropylene glycol dialkyl ether; Alcohols such as methanol, ethanol, ethylene glycol monoalkyl ether, propylene glycol monoalkyl ether, polyethylene glycol monoalkyl ether, and polypropylene glycol monoalkyl ether; Polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and glycerin; Nitrile compounds such as acetonitrile, glutarodinitrile, methoxyacetonitrile, propionitrile, and benzonitrile; Carbonate compounds such as ethylene carbonate and propylene carbonate; Heterocyclic compounds such as 3-methyl-2-oxazolidinone; Polar substances such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; Water or a combination thereof or the like can be used. These may be used individually or may be used in combination of multiple types.

상기 용매에 고분자를 넣어서 겔형의 고체상을 형성할 수도 있다.
The polymer may be added to the solvent to form a gel-like solid phase.

또한, 상기 고분자 용액에 산(acid)을 더 첨가할 수 있다.In addition, an acid may be further added to the polymer solution.

상기 산(acid)으로는 인산을 예시할 수 있다. 또 이 인산에는 오르토인산 및 축합인산의 양쪽이 포함된다. 상기 산(acid)의 첨가량을 조절함으로써 고분자막의 영률(Young's modulus)를 조절하여 고분자막의 늘어나는 정도를 제어할 수 있다.Phosphoric acid may be exemplified as the acid. Moreover, both orthophosphoric acid and condensed phosphoric acid are contained in this phosphoric acid. By adjusting the amount of the acid added, the Young's modulus of the polymer film can be adjusted to control the degree of stretching of the polymer film.

상기 고분자막의 영률(Young's modulus)은 1 MPa 내지 500 MPa인 것이 바람직한데, 이 경우, 고분자막과 금속전극 패턴 사이의 접착력을 금속전극 패턴과 기판 사이의 접착력보다 우세하게 유지할 수 있기 때문이다.It is preferable that the Young's modulus of the polymer film is 1 MPa to 500 MPa, because in this case, the adhesion between the polymer film and the metal electrode pattern can be maintained superior to the adhesion between the metal electrode pattern and the substrate.

이를 위하여 상기 고분자 용액에 포함되는 상기 산(acid)의 질량은 상기 고분자의 질량보다 작거나 동일하도록 조절하는 것이 바람직하다. 다만, 고분자의 종류 및 산의 종류에 따라 이러한 혼합비율은 다소 조정될 수도 있다.
To this end, the mass of the acid contained in the polymer solution is preferably adjusted to be less than or equal to the mass of the polymer. However, this mixing ratio may be somewhat adjusted depending on the type of polymer and the type of acid.

또한, 상기 고분자 용액은 이온 전도체 또는 이온성 액체(Ionic Liquid)를 더 포함할 수도 있다. 이들의 예로는 H3PO4, LiCl, Li2SO4, Na2SO4, H2SO4, KOH, NH4SCN, H3BO3 등을 들 수 있다.In addition, the polymer solution may further include an ion conductor or an ionic liquid. Examples of these include H 3 PO 4 , LiCl, Li 2 SO 4 , Na 2 SO 4 , H 2 SO 4 , KOH, NH 4 SCN, H 3 BO 3 and the like.

이들이 포함된 상기 고분자막는 유기소자에서 겔 전해질 기능을 할 수도 있다. 겔 전해질은 액체 전해질의 누수와 폭발 특성, 고체 전해질의 낮은 이온 전도도의 결점을 보완할 수 있는 대안이 될 수 있다.
The polymer membrane containing these may function as a gel electrolyte in an organic device. The gel electrolyte can be an alternative that can compensate for the deficiencies of the leakage and explosive properties of the liquid electrolyte and the low ionic conductivity of the solid electrolyte.

고분자막이 형성되면, 상기 금속전극 패턴 및 상기 소자를 가지는 고분자막을 상기 기판으로부터 분리한다. (도 1(d))When the polymer film is formed, the metal electrode pattern and the polymer film having the device are separated from the substrate. (Fig. 1(d))

상기 고분자막은 앞서 제조공정에서 특성제어가 된 상태이므로 금속전극 패턴과의 높은 접착력을 가지고 있어서, 금속전극 패턴 및 소자와 함께 기판으로부터 쉽게 탈착이 가능하다.The polymer film has a high adhesive strength with the metal electrode pattern since the property was previously controlled in the manufacturing process, so that it can be easily detached from the substrate together with the metal electrode pattern and the device.

본 발명에서는 상기의 제조방법에 의하여 제조된 유연소자를 제공하며, 이와 함께 상기 유연소자 간의 접합에 의하여 형성된 접합소자를 제공한다.In the present invention, a flexible device manufactured by the above manufacturing method is provided, and a bonding device formed by bonding between the flexible devices is provided.

이때, 전극끼리 바로 접합할 수도 있기 때문에 전극 상호간을 연결하기 위한 별도의 전선(electric wire)이 필수적 구성요소로 작용하지 않는다. 상기 고분자막은 유연소자 또는 접합소자에 있어서, 기지로서의 역할, 세퍼레이터 기능 및 전해질 기능을 동시에 수행할 수도 있게 되어 소자의 구성을 한층 간단하게 구현할 수 있으며, 소형화가 가능하다.
At this time, since the electrodes can be directly bonded together, a separate electric wire for connecting the electrodes does not act as an essential component. In a flexible device or a junction device, the polymer membrane may simultaneously perform a role as a base, a separator function, and an electrolyte function, thereby simplifying the configuration of the device and miniaturization.

본 발명의 유연소자 또는 접합소자는 반복적인 스트레스가 가해져도 소자의 특성을 유지하며, 유연한 에너지 저장소자, 유연한 차세대 디스플레이와 같은 다양한 전자소자 등에 응용이 가능하다.
The flexible device or junction device of the present invention maintains the characteristics of the device even when a repetitive stress is applied, and can be applied to various electronic devices such as a flexible energy storage device and a flexible next-generation display.

이하, 실시예를 통해 본 발명을 상세히 설명한다. 다만, 하기 실시예는 본 발명을 보다 상세히 설명하기 위한 예일 뿐, 본 발명의 권리범위를 제한하지는 않는다.
Hereinafter, the present invention will be described in detail through examples. However, the following examples are only examples for explaining the present invention in more detail, and do not limit the scope of the present invention.

[[ 실시예Example ]]

1. One. 유연소자의Flexible element 제조 및 특성 평가 Manufacturing and characterization evaluation

먼저, SiO2 기판 위에 리소그래피를 통하여 소자의 전극영역을 형성하고, 라디오 주파 스퍼터링 (radio frequency sputtering), 전자선 증착기 (e-beam evaporator) 등의 증착장비를 이용하여 금속막을 형성하였다. 아세톤 욕조(bath)를 이용한 리프트-오프 (lift-off) 공정을 통하여 금속막의 일부를 제거함으로써 금속 전극 패턴을 형성시키고, 탄소나노튜브 성장을 위한 촉매영역을 리소그래피와 리프트-오프 공정을 사용하여 형성시켰다. 화학기상 증착법 (chemical vapor deposition, CVD)을 통하여 수직배향된 탄소나노튜브를 성장시켰다. First, an electrode region of the device was formed on the SiO 2 substrate through lithography, and a metal film was formed using deposition equipment such as radio frequency sputtering and e-beam evaporator. A metal electrode pattern is formed by removing a part of the metal film through a lift-off process using an acetone bath, and a catalyst region for carbon nanotube growth is formed using lithography and lift-off processes. Made it. Vertically oriented carbon nanotubes were grown through chemical vapor deposition (CVD).

고분자막 형성을 위한 용액제조를 위해서 1g의 폴리비닐알콜 (polyvinyl alcohol)을 10g의 물과 혼합하여 60~90℃ 중탕에서 3-12 시간 교반하여 용해하고, 용해된 폴리비닐알콜 용액에 0~1 g의 인산 (phosphoric acid)을 첨가하여 추가로 3~12 시간 교반하였다. To prepare a solution for forming a polymer film, mix 1 g of polyvinyl alcohol with 10 g of water and dissolve by stirring in a 60-90°C bath for 3-12 hours, and 0-1 g in the dissolved polyvinyl alcohol solution. Phosphoric acid (phosphoric acid) was added and the mixture was stirred for an additional 3 to 12 hours.

이 용액을 위에서 준비된 기판 위에 도포한 후, 상온 또는 40~60℃의 오븐에서 건조한 후, 건조된 고분자막을 기판으로부터 기계적으로 떼어내어 최종적으로 탄소나노튜브 기반 소자를 포함하는 유연소자를 제조하였다.
After this solution was applied on the substrate prepared above, dried in an oven at room temperature or 40 to 60° C., the dried polymer film was mechanically removed from the substrate, and finally, a flexible device including a carbon nanotube-based device was manufactured.

금속전극막과 기판간의 접착력 및 금속전극막과 고분자막간의 접착력 평가를 위한 기계적 특성 평가를 실시하였다 (도 2). Cu, Mo, Au를 SiO2 기판 위에 증착한 후, 각각의 금속막의 SiO2 기판에 대한 접착력을 평가하여 도 2의 왼쪽 y 축에 나타내었다. 폴리비닐알콜과 인산의 질량비를 1:0 내지 1:1으로 조절하여 고분자막의 기계적 특성을 제어하고 이를 평가하여 도 2의 x 축에 나타내었다. 최종적으로 SiO2 기판 위에 각각의 금속막을 형성하고, 폴리비닐알콜과 인산의 비가 조절된 용액을 그 위에 도포한 후 건조하고, 고분자막-금속막의 SiO2 기판에 대한 접착력을 평가하여 도 2의 오른쪽 y축에 나타내었다. Au의 경우 SiO2에 대한 낮은 접착력을 가져 고분자막의 기계적 특성과 상관없이 기판으로부터 쉽게 탈착되었고, Mo의 경우 Au보다 높은 접착력을 가지나 기판으로부터 쉽게 탈착되었다. Cu의 경우 높은 접착력을 가져 높은 영률(Young's modulus)를 갖는 고분자막 형성시에만 기판으로부터 탈착되는 것을 관찰하였다. 이는 고분자막의 기계적 특성 제어를 통하여 이들 금속 박막 위에 형성된 소자를 떼어내어 유연소자로 만들 수 있다는 것을 의미한다.
Mechanical properties were evaluated for evaluating the adhesion between the metal electrode film and the substrate and the adhesion between the metal electrode film and the polymer film (FIG. 2). After depositing Cu, Mo, and Au on the SiO 2 substrate, the adhesion of each metal film to the SiO 2 substrate was evaluated and shown on the left y-axis of FIG. 2. The mass ratio of polyvinyl alcohol and phosphoric acid was adjusted from 1:0 to 1:1 to control the mechanical properties of the polymer membrane and evaluated and shown in the x-axis of FIG. 2. Finally, each metal film was formed on the SiO 2 substrate, a solution in which the ratio of polyvinyl alcohol and phosphoric acid was adjusted was applied and dried, and the adhesion of the polymer film-metal film to the SiO 2 substrate was evaluated. Shown on the axis. Au has low adhesion to SiO 2 , so it is easily detached from the substrate regardless of the mechanical properties of the polymer film, and Mo has higher adhesion than Au, but is easily detached from the substrate. In the case of Cu, it was observed that it was detached from the substrate only when a polymer film having a high Young's modulus was formed due to high adhesion. This means that by controlling the mechanical properties of the polymer film, the device formed on the metal thin film can be removed and made into a flexible device.

2. 슈퍼커패시터의 제조 및 특성 평가2. Supercapacitor manufacturing and characteristic evaluation

수직 배향된 탄소 나노튜브를 성장시키고, 인산이 포함된 폴리비닐알콜 용액을 겔 전해질로 이용하여 슈퍼커패시터를 제조하였다 (도 3 및 도 4). 순환전압전류법 (Cyclic voltammetry, CV)을 통하여 기판 위에 제조된 슈퍼커패시터의 전기화학적 특성평가를 실시하였다. 제조된 슈퍼커패시터의 특성은 기판으로부터 소자를 분리한 후에도 그 특성이 유지되는 것을 관찰하였다. (도 5) 수명특성 또한 2,000회의 충방전시에도 안정한 특성을 나타내었다 (도 5(c)). 도 6과 같은 여러 가지 기계적인 변형에도 유연한 슈퍼커패시터의 특성변화가 없음을 확인할 수 있었다 (도 5). 예를 들면, 10,000 회의 굽힘 변형(도 5(e))이나 50%의 변형의 스트레칭(도 5(f)) 시에도 특성의 저하가 일어나지 않았다.
Vertically oriented carbon nanotubes were grown, and a supercapacitor was manufactured using a polyvinyl alcohol solution containing phosphoric acid as a gel electrolyte (FIGS. 3 and 4). The electrochemical characteristics of the supercapacitors manufactured on the substrate were evaluated through cyclic voltammetry (CV). It was observed that the characteristics of the manufactured supercapacitor were maintained even after separating the device from the substrate. (FIG. 5) Life characteristics also exhibited stable characteristics even when charging and discharging 2,000 times (FIG. 5(c)). It was confirmed that there was no change in characteristics of the flexible supercapacitor even with various mechanical deformations as shown in FIG. 6 (FIG. 5 ). For example, even at the time of 10,000 bending deformations (Fig. 5(e)) or stretching of 50% deformation (Fig. 5(f)), no deterioration in properties occurred.

3. 접합 소자의 제조 및 특성 평가3. Fabrication of junction elements and evaluation of characteristics

저항, 인덕터, 커패시터를 제조하기 위한 여러 가지 패턴 (도 7)을 준비하고, 수직배향된 탄소 나노튜브를 이들 패턴에 맞게 성장시키고, 인산이 포함된 폴리비닐알콜 용액을 이용하여 이들 소자를 제조하고 기판으로부터 분리시켜 최종적으로 유연한 저항, 인덕터, 커패시터를 제조하였다. 도 8에서와 같이 제조된 소자들을 정렬시킨 후, 고분자 막의 접착력만을 이용하여 이들 소자들을 서로 접합하여 저항, 인덕터, 커패시터가 전기적으로 연결된 회로를 구현하였다. 또한, 도 9에서와 같이 5 개의 유연한 슈퍼캐패시터를 서로 직렬연결하고, 이를 태양전지로 충전한 후, 발광소자를 구동시켰으며, 제조된 유연한 저항, 커패시터, 커넥터 (electrical connector)를 서로 접합하여 RC회로를 형성시켜 고역 통과 필터 (high pass filter) 및 저역 통과 필터 (low pass filter)를 제조하였다. 이렇게 형성된 소자들은 접합시에도 정상적인 회로 거동을 보였으며, 비틀림 (twisting)과 같은 기계적 변형에도 영향을 받지 않았다.
Prepare various patterns (FIG. 7) for manufacturing resistors, inductors, and capacitors, grow vertically oriented carbon nanotubes according to these patterns, and manufacture these devices using a polyvinyl alcohol solution containing phosphoric acid. After separating from the substrate, flexible resistors, inductors, and capacitors were finally manufactured. After aligning the devices manufactured as shown in FIG. 8, by bonding these devices to each other using only the adhesive force of the polymer film, a circuit in which a resistor, an inductor, and a capacitor are electrically connected was implemented. In addition, as shown in Fig. 9, five flexible supercapacitors were connected in series with each other, charged with a solar cell, and then a light emitting device was driven, and the manufactured flexible resistors, capacitors, and electrical connectors were joined together to form RC A circuit was formed to prepare a high pass filter and a low pass filter. The devices thus formed showed normal circuit behavior even during bonding, and were not affected by mechanical deformation such as twisting.

4. 결과 검토4. Review the results

유연 소자의 제조를 위한 기존의 식각 공정을 사용하지 않아 재료의 선택폭이 넓어졌으며, 공정상의 편이성이 증대되었다. 또한 기존의 증착 공정으로는 접근하기 어려운 소자 간 접합이 가능하게 됨에 따라 유연 복합소자의 제조가 가능하게 되었다.
Since the conventional etching process for manufacturing the flexible device was not used, the choice of materials was widened, and the convenience in the process was increased. In addition, as bonding between devices, which is difficult to access with the existing deposition process, is possible, it has become possible to manufacture a flexible composite device.

Claims (9)

유연소자의 제조방법에 있어서,
기판 상에 소자의 전극영역을 정의하는 단계;
상기 소자의 전극영역이 정의된 기판 상에 금속막을 형성하는 단계;
상기 금속막의 일부를 제거하여 상기 전극영역에 대응하는 금속전극 패턴을 형성하는 단계;
상기 금속전극 패턴 상에 성장시키는 방법으로 소자를 형성하는 단계;
상기 금속전극 패턴 및 상기 소자 위에 고분자 용액을 도포하여 고분자막을 형성하는 단계; 및
상기 금속전극 패턴 및 상기 소자를 가지는 고분자막을 상기 기판으로부터 분리하는 단계를 포함하는, 유연소자의 제조방법.
In the method of manufacturing a flexible device,
Defining an electrode region of the device on the substrate;
Forming a metal film on the substrate on which the electrode region of the device is defined;
Forming a metal electrode pattern corresponding to the electrode region by removing a portion of the metal film;
Forming a device by growing it on the metal electrode pattern;
Forming a polymer film by applying a polymer solution on the metal electrode pattern and the device; And
And separating the metal electrode pattern and the polymer film having the device from the substrate.
제 1항에 있어서,
상기 금속막은 Mo, Au, Cu, Cr, Pt, Ni, Ti, P로 이루어지는 군에서 선택되는 금속; 또는 B, Si, Ge. As, Sb, Te, Po로 이루어지는 군에서 선택되는 준금속과 상기 금속의 합금으로 이루어진 것인, 유연소자의 제조방법.
The method of claim 1,
The metal film is a metal selected from the group consisting of Mo, Au, Cu, Cr, Pt, Ni, Ti, and P; Or B, Si, Ge. As, Sb, Te, Po, a metalloid selected from the group consisting of and consisting of an alloy of the metal, a method of manufacturing a flexible device.
제 1항에 있어서,
상기 소자는 상기 금속전극 패턴 상에 성장한 탄소, 금속, 또는 금속산화물로 이루어진 것인, 유연소자의 제조방법.
The method of claim 1,
The device is made of carbon, metal, or metal oxide grown on the metal electrode pattern, the method of manufacturing a flexible device.
제 1항에 있어서,
상기 고분자 용액은 고분자를 포함하며, 상기 고분자는 PVA(polyvinyl alcohol)계, PMMA(polymethyl methacrylate)계, PVP(polyvinyl pyrolidone)계, PEO(polyethylene oxide)계, PVC(polyvinyl chloride)계, PAA(polyacrylic acid)계, PAM (Polyacrylamide)계, 및 PDMS(Polydimethylsiloxane)계로 이루어진 군에서 선택되는 1종인 것인, 유연소자의 제조방법.
The method of claim 1,
The polymer solution contains a polymer, and the polymer is a polyvinyl alcohol (PVA) system, a polymethyl methacrylate (PMMA) system, a polyvinyl pyrolidone (PVP) system, a polyethylene oxide (PEO) system, a polyvinyl chloride (PVC) system, and a polyacrylic (PAA) system. acid), PAM (Polyacrylamide), and PDMS (Polydimethylsiloxane) is one selected from the group consisting of, a method of manufacturing a flexible device.
제 4항에 있어서,
상기 고분자 용액은 산(acid)을 더 포함하는 것인, 유연소자의 제조방법.
The method of claim 4,
The polymer solution further comprises an acid (acid), the method of manufacturing a flexible device.
제 4항에 있어서,
상기 고분자 용액은 이온 전도체 또는 이온성 액체(Ionic Liquid)를 더 포함하는 것인, 유연소자의 제조방법.
The method of claim 4,
The polymer solution further comprises an ion conductor or an ionic liquid.
제5항에 있어서,
상기 고분자막과 상기 금속전극 패턴 사이의 접착력이 상기 금속전극 패턴과 상기 기판 사이의 접착력보다 우세하게 되도록 상기 산의 첨가량을 조절하여, 상기 고분자막의 영률(Young's modulus)은 1 MPa 내지 500 MPa인 것인, 유연소자의 제조방법.
The method of claim 5,
By adjusting the amount of acid added so that the adhesion between the polymer film and the metal electrode pattern is superior to the adhesion between the metal electrode pattern and the substrate, the Young's modulus of the polymer film is 1 MPa to 500 MPa. , Manufacturing method of a flexible device.
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