KR102216868B1 - Polishing apparatus - Google Patents

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Abstract

연마장치에 관한 발명이 개시된다. 개시된 연마장치는, 연마공구의 출력단에 장착되는 회전플레이트부와, 회전플레이트부의 원주 방향에 대하여 이격 배치되는 복수 개의 연마블럭부와, 연마블럭부가 장착되고, 회전플레이트부에 결합되는 장착부와, 회전플레이트부에 설치되고, 연마블럭부를 장착부 측으로 탄성 지지하는 완충부를 포함하고, 연마블럭부가 장착되는 경우 회전플레이트부의 중심축에서 연마블럭부의 내측 단부까지의 거리는, 회전플레이트부의 중심축에서 연마블럭부를 덮는 장착부의 내측 단부까지의 거리보다 작게 형성되는 것을 특징으로 하는 연마장치.Disclosed is a polishing apparatus. The disclosed polishing apparatus includes a rotating plate unit mounted at an output end of a polishing tool, a plurality of polishing blocks spaced apart with respect to the circumferential direction of the rotating plate unit, a mounting unit in which the polishing block unit is mounted and coupled to the rotating plate unit, and rotating. It is installed on the plate part and includes a buffer part that elastically supports the polishing block part toward the mounting part, and when the polishing block part is mounted, the distance from the center axis of the rotating plate part to the inner end of the polishing block part is from the center axis of the rotating plate part to cover the polishing block part. Polishing apparatus, characterized in that formed smaller than the distance to the inner end of the mounting portion.

Description

연마장치{POLISHING APPARATUS}Polishing device {POLISHING APPARATUS}

본 발명은 연마장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 연마대상물의 평탄도에 대응할 수 있어 연마효율을 향상시키고, 연마블럭부의 교체가 용이한 연마장치에 관한 것이다.The present invention relates to a polishing apparatus, and more particularly, to a polishing apparatus capable of responding to the flatness of an object to be polished to improve polishing efficiency, and to facilitate replacement of a polishing block portion.

일반적으로 연마는 금속, 비철금속 또는 기타 다양한 종류의 소재를 갖는 결합부위나 가공부위 또는 성형 부위의 표면, 소재의 표면에서 돌출된 부위, 성형 및 가공시 발생하는 버(BURR)의 제거, 소재의 표면에 부착 또는 마감된 이물질 또는 마모(손상)된 도장 등을 제거하기 위하여 수행하는 것이다.In general, polishing is a combination of metal, non-ferrous metals, or other various types of materials, such as bonding, processing, or molding, protruding from the surface of the material, removal of burrs (BURR) generated during molding and processing, and the surface of the material. It is performed to remove foreign substances or worn (damaged) paints attached to or finished on.

이와 같은 표면 연마에 사용되는 도구가 연마장치이며, 연마장치는 이용자가 직접 들고 연마를 수행하도록 하는 핸드 타입과, 이용자가 보행하면서 연마를 수행하도록 하는 보행타입으로 구분된다.A tool used for polishing such a surface is a polishing apparatus, and the polishing apparatus is divided into a hand type that allows a user to carry out polishing directly and a walking type that allows the user to perform polishing while walking.

핸들 또는 보행 타입의 연마장치는 동력을 발생시키기 위한 연마공구와 연마공구에 장착되어 동력을 전달받아 회전되면서 연마 대상물과 연접되어 마찰을 일으켜 실질적인 연마를 수행하는 연마디스크 또는 연마드럼으로 구성된다.The steering wheel or walking type polishing apparatus is composed of a polishing tool for generating power and a polishing disk or a polishing drum that is mounted on the polishing tool and rotates by receiving power to generate friction and to perform actual polishing.

종래 연마장치에서 연마드럼은 연마공구에 위치 고정되어 장착되고, 개별 연마드럼의 교체를 위해서는 연마공구 전체의 해체가 요구되는 문제점이 있었다.In the conventional polishing apparatus, the polishing drum is mounted in a fixed position on the polishing tool, and there is a problem that the entire polishing tool is required to be dismantled in order to replace the individual polishing drum.

본 발명의 배경기술은 대한민국 공개실용신안공보 제20-2010-0000165호(2010.01.06 공개, 고안의 명칭: 다이아몬드 연마구)에 개시되어 있다.The background technology of the present invention is disclosed in Republic of Korea Utility Model Publication No. 20-2010-0000165 (published on January 6, 2010, designation name: diamond grinding tool).

본 발명은 상기와 같은 문제점을 개선하기 위해 안출된 것으로, 사용자가 연마블럭부를 가압하여 연마장치에서 추출함으로 인해 연마블럭부의 교체성을 향상시킬 수 있는 연마장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been conceived to improve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a polishing apparatus capable of improving the replaceability of the polishing block portion by pressing the polishing block portion and extracting it from the polishing apparatus.

본 발명에 따른 연마장치는: 연마공구의 출력단에 장착되는 회전플레이트부; 상기 회전플레이트부의 원주 방향에 대하여 이격 배치되는 복수 개의 연마블럭부; 상기 연마블럭부가 장착되고, 상기 회전플레이트부에 결합되는 장착부; 및 상기 회전플레이트부에 설치되고, 상기 연마블럭부를 상기 장착부 측으로 탄성 지지하는 완충부;를 포함하고, 상기 연마블럭부가 장착되는 경우 상기 회전플레이트부의 중심축에서 상기 연마블럭부의 내측 단부까지의 거리는, 상기 회전플레이트부의 중심축에서 상기 연마블럭부를 덮는 상기 장착부의 내측 단부까지의 거리보다 작게 형성되는 것을 특징으로 한다.A polishing apparatus according to the present invention includes: a rotating plate unit mounted on an output end of a polishing tool; A plurality of polishing block portions spaced apart from the rotation plate portion in a circumferential direction; A mounting portion mounted on the polishing block portion and coupled to the rotating plate portion; And a buffer part installed on the rotating plate part and elastically supporting the polishing block part toward the mounting part, wherein when the polishing block part is mounted, a distance from the central axis of the rotating plate part to an inner end of the polishing block part, It is characterized in that it is formed smaller than the distance from the central axis of the rotation plate portion to the inner end of the mounting portion covering the polishing block portion.

또한, 상기 회전플레이트부의 저면에는 상기 연마블럭부가 안착되는 안착홈부가 형성되고, 상기 안착홈부의 저면은 상기 회전플레이트부의 중심 측으로 갈수록 상기 장착부와의 거리가 작아지도록 경사면으로 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, a seating groove portion in which the polishing block portion is seated is formed on a bottom surface of the rotating plate portion, and the lower surface of the seating groove portion is formed as an inclined surface so that the distance to the mounting portion decreases toward the center of the rotary plate portion.

또한, 상기 완충부는, 상기 연마블럭부와 접촉되며 상기 안착홈부 상에 배치되는 지지플레이트부; 상기 지지플레이트부와 상기 안착홈부 사이에 배치되며 상기 지지플레이트부 측으로 탄성 복원력을 가지는 탄성부재;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the buffer portion may include a support plate portion in contact with the polishing block portion and disposed on the seating groove portion; And an elastic member disposed between the support plate portion and the seating groove portion and having an elastic restoring force toward the support plate portion.

또한, 상기 탄성부재는 복수 개가 구비되고, 상기 탄성부재의 길이는 상기 회전플레이트부의 중심축으로부터 이격될수록 증가하는 것을 특징으로 한다.In addition, the elastic member is provided with a plurality, and the length of the elastic member is characterized in that it increases as spaced apart from the central axis of the rotation plate portion.

또한, 상기 회전플레이트부와 상기 장착부의 마주보는 각 면은 밀착되는 것을 특징으로 한다.In addition, each surface facing the rotating plate portion and the mounting portion is characterized in that in close contact.

또한, 상기 장착부에는 상기 회전플레이트부의 중심 측이 개구되는 복수 개의 장착홀부가 형성되고, 상기 장착홀부에 상기 연마블럭부가 슬라이딩 삽입되는 것을 특징으로 한다.In addition, the mounting portion is characterized in that a plurality of mounting hole portions in which the center side of the rotating plate portion is opened, and the polishing block portion is slidably inserted into the mounting hole.

또한, 상기 연마블럭부는, 상기 회전플레이트부와 상기 장착부 사이에 걸쳐지는 연마플랜지부; 및 상기 연마플랜지부와 결합되고, 상기 장착홀부를 통과하여 상기 장착부의 외측으로 돌출 형성되는 연마본체부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the polishing block portion may include a polishing flange portion spanning between the rotating plate portion and the mounting portion; And a polishing body portion coupled to the polishing flange portion and protruding outward from the mounting portion through the mounting hole portion.

본 발명에 따른 연마장치는, 연마작업 시 연마블럭부에 가해지는 충격을 완충부에 의해 완화할 수 있어 연마대상물의 평탄도에 대응할 수 있고, 연마블럭부의 수명을 연장할 수 있는 효과가 있다.In the polishing apparatus according to the present invention, the shock applied to the polishing block during the polishing operation can be alleviated by the buffer unit, thus responding to the flatness of the object to be polished and extending the life of the polishing block.

또한, 연마블럭부가 장착되는 경우 회전플레이트부의 중심축에서 연마블럭부의 내측 단부까지의 거리가 회전플레이트부의 중심축에서 장착부의 내측 단부까지의 거리보다 작게 형성됨으로 인하여 사용자가 연마블럭부를 가압하여 연마블럭부를 안착홈부로부터 탈거할 수 있도록 한다.In addition, when the polishing block part is mounted, the distance from the center axis of the rotating plate part to the inner end of the polishing block part is formed smaller than the distance from the center axis of the rotating plate part to the inner end of the mounting part. The part can be removed from the seating groove.

또한, 안착홈부의 저면이 경사면을 형성함으로 인하여 사용자가 연마블럭부를 가압 시 절개구간을 통과하기 위해 소정 각도만큼 기울일 수 있는 공간이 확보되는 효과가 있다.In addition, since the bottom surface of the seating groove forms an inclined surface, there is an effect of securing a space in which the user can incline by a predetermined angle to pass the cut section when pressing the polishing block.

또한, 연마블럭부가 장착홀부에 슬라이딩 삽입됨으로 인하여 연마블럭부의 교체성을 향상시킬 수 있다. In addition, since the polishing block portion is slidingly inserted into the mounting hole, it is possible to improve the replaceability of the polishing block portion.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 연마장치를 도시한 분해사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 연마장치를 도시한 결합사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 연마장치를 도시한 저면도이다.
도 4는 도 3의 A-A 단면도이다.
도 5는 도 3의 B-B 단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 연마장치에서 연마블럭부의 장착상태를 도시한 사시도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 연마블럭부의 탈거상태를 도시한 단면도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 연마장치의 동작상태를 도시한 저면도이다. 1 is an exploded perspective view showing a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a combined perspective view showing a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a bottom view showing a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is an AA cross-sectional view of FIG. 3.
5 is a cross-sectional view taken along BB of FIG. 3.
6 is a perspective view showing a mounting state of a polishing block part in the polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
7 is a cross-sectional view showing a state in which a polishing block part is removed according to an embodiment of the present invention.
8 is a bottom view showing an operating state of the polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 연마장치의 일 실시예를 설명한다. 이 과정에서 도면에 도시된 선들의 두께나 구성요소의 크기 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시되어 있을 수 있다.Hereinafter, an embodiment of a polishing apparatus according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In this process, the thickness of the lines or the size of components shown in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of description.

또한, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.In addition, terms to be described later are terms defined in consideration of functions in the present invention and may vary according to the intention or custom of users or operators. Therefore, definitions of these terms should be made based on the contents throughout the present specification.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 연마장치를 도시한 분해사시도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 연마장치를 도시한 결합사시도이다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 연마장치를 도시한 저면도이다. 도 4는 도 3의 A-A 단면도이다. 도 5는 도 3의 B-B 단면도이다. 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 연마장치에서 연마블럭부의 장착상태를 도시한 사시도장착홀부다. 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 연마블럭부의 탈거상태를 도시한 단면도이다. 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 연마장치의 동작상태를 도시한 저면도이다. 1 is an exploded perspective view showing a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention. 2 is a combined perspective view showing a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention. 3 is a bottom view showing a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention. 4 is an A-A cross-sectional view of FIG. 3. 5 is a cross-sectional view taken along line B-B of FIG. 3. 6 is a perspective view showing a mounting state of a polishing block in a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, a mounting hole. 7 is a cross-sectional view showing a state in which a polishing block part is removed according to an embodiment of the present invention. 8 is a bottom view showing an operating state of the polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시예에 따른 연마장치(1)는 본 발명의 일 실시예에 따른 연마장치(1)는 회전플레이트부(100), 연마블럭부(200), 장착부(300), 완충부(400)를 포함한다. In the polishing apparatus 1 according to an embodiment of the present invention, the polishing apparatus 1 according to an embodiment of the present invention includes a rotating plate part 100, a polishing block part 200, a mounting part 300, a buffer part ( 400).

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 회전플레이트부(100)는 연마공구(도면 미 도시)에 탈착되는 것으로서 연마공구의 출력단과 결합을 위한 공구홀부(101)가 형성된다. Referring to FIG. 1, the rotating plate part 100 according to an embodiment of the present invention is detachable from a polishing tool (not shown), and a tool hole part 101 for coupling with the output end of the polishing tool is formed.

회전플레이트부(100)는 디스크 형상으로 형성되며, 연마공구는 회전플레이트부(100)를 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전시킨다.The rotary plate portion 100 is formed in a disk shape, and the polishing tool rotates the rotary plate portion 100 in a clockwise or counterclockwise direction.

본 발명의 일 실시예에 따른 회전플레이트부(100)에는 안착홈부(110)가 형성된다. 안착홈부(110)는 회전플레이트부(100)의 저면에 형성되는 것으로, 연마블럭부(200), 구체적으로 연마플랜지부(210)가 안착된다.A seating groove 110 is formed in the rotating plate part 100 according to an embodiment of the present invention. The seating groove 110 is formed on the bottom surface of the rotating plate portion 100, and the polishing block portion 200, specifically, the polishing flange portion 210 is seated.

안착홈부(110)는 회전플레이트부(100)의 저면에서 내측(도 1 기준) 상측으로 홈부의 형상으로 형성되며, 연마블럭부(200)가 안착홈부(110) 상에 안착된다. The seating groove 110 is formed in the shape of a groove from the bottom surface of the rotating plate portion 100 to the upper side (refer to FIG. 1 ), and the polishing block portion 200 is seated on the seating groove 110.

이로 인하여 회전플레이트부(100)와 장착부(300)의 결합 시 안착홈부(110) 내 연마블럭부(200)가 배치되고, 회전플레이트부(100) 및 장착부(300)로부터 연마블럭부(200)가 이탈되는 것을 방지할 수 있다.Accordingly, when the rotation plate part 100 and the mounting part 300 are coupled, the polishing block part 200 in the seating groove 110 is disposed, and the polishing block part 200 from the rotation plate part 100 and the mounting part 300 Can be prevented from leaving.

도 1을 참조하면, 안착홈부(110)는 복수 개의 연마블럭부(200)에 대응되도록 복수 개가 구비된다. Referring to FIG. 1, a plurality of seating grooves 110 are provided to correspond to a plurality of polishing block portions 200.

도 5를 참조하면, 안착홈부(110)의 저면은 회전플레이트부(100)의 중심 측(도 5 기준 우측)으로 갈수록 장착부(300)와의 거리가 작아지도록 경사면으로 형성된다. Referring to FIG. 5, the bottom surface of the seating groove portion 110 is formed as an inclined surface so that the distance to the mounting portion 300 decreases toward the center side (right side of FIG. 5) of the rotation plate portion 100.

구체적으로 안착홈부(110)는 외측으로 갈수록 안착홈부(110)의 저면과 장착부(300)와의 거리가 커지도록 하향(도 5 기준 상향) 경사면을 이룬다.Specifically, the seating groove 110 forms a downwardly inclined (upward as in FIG. 5) slope so that the distance between the bottom surface of the seating groove 110 and the mounting portion 300 increases toward the outside.

이로 인하여 사용자가 연마블럭부(200)를 가압 시 연마블럭부(200)가 우하향(도 5 기준)으로 기울어지도록 안착홈부(110) 내 공간이 확보되고, 연마블럭부(200)를 편리하게 탈거할 수 있다.Accordingly, when the user presses the polishing block 200, the space in the mounting groove 110 is secured so that the polishing block 200 is inclined downward (refer to FIG. 5), and the polishing block 200 is conveniently removed. can do.

도 1, 도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 연마블럭부(200)는 회전플레이트부(100)의 원주 방향에 대하여 이격 배치되는 것으로, 복수 개가 구비된다.Referring to FIGS. 1 and 6, a plurality of polishing block portions 200 according to an exemplary embodiment of the present invention are disposed to be spaced apart with respect to the circumferential direction of the rotating plate portion 100, and are provided with a plurality.

연마블럭부(200)는 회전플레이트부(100)의 하면(도 1 기준)에 돌출되게 구비되어 연마면(221)이 연마대상물(도면 미 도시)와 연접된다. 연마블럭부(200)의 연마면(221)에는 연마입자가 구비되고, 연마입자는 다이아몬드팁 등이 융착되어 형성될 수 있다.The polishing block part 200 is provided to protrude from the lower surface of the rotating plate part 100 (refer to FIG. 1) so that the polishing surface 221 is connected to the polishing object (not shown). Abrasive particles are provided on the polishing surface 221 of the polishing block part 200, and the abrasive particles may be formed by fusion bonding a diamond tip or the like.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 연마블럭부(200)는 연마플랜지부(210), 연마본체부(220)를 포함한다. 연마플랜지부(210)는 회전플레이트부(100)와 뒤에 설명할 장착부(300) 사이에 걸쳐지는 것으로, 지지플레이트부(410)와 접촉된다. Referring to FIG. 1, a polishing block part 200 according to an embodiment of the present invention includes a polishing flange part 210 and a polishing body part 220. The polishing flange portion 210 is spanned between the rotating plate portion 100 and the mounting portion 300 to be described later, and is in contact with the support plate portion 410.

연마플랜지부(210)는 연마본체부(220)의 양측에 결합되는 것으로, 연마본체부(220)는 뒤에 설명할 장착홀부(301)를 통해 회전플레이트부(100)에 이격되는 방향으로 외측으로 돌출되고, 연마본체부(220)의 양 측에 결합되는 연마플랜지부(210)는 안착홈부(110) 내에서 지지플레이트부(410)에 안착되며, 장착부(300)에 걸쳐진다.The polishing flange part 210 is coupled to both sides of the polishing body part 220, and the polishing body part 220 is moved outward in a direction separated from the rotating plate part 100 through a mounting hole part 301 to be described later. The polishing flange portion 210 which protrudes and is coupled to both sides of the polishing body portion 220 is seated on the support plate portion 410 in the seating groove portion 110 and spans the mounting portion 300.

이로 인하여 연마블럭부(200)가 회전플레이트부(100), 장착부(300)로부터 이탈되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.Accordingly, there is an effect of preventing the polishing block portion 200 from being separated from the rotating plate portion 100 and the mounting portion 300.

도 1, 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 연마본체부(220)는 연마플랜지부(210)에 결합되는 것으로, 뒤에 설명할 결합홀부를 통과하여 장착부(300)의 외측(도 1 기준 하측)으로 돌출 형성된다.1 and 2, the polishing body 220 according to an embodiment of the present invention is coupled to the polishing flange 210, and passes through a coupling hole to be described later to the outside of the mounting part 300 ( It is formed to protrude to the lower side of Fig.

연마본체부(220)는 상측(도 1 기준)이 개방되는 'ㄷ'자 단면 형상을 가져 중앙부에 칩배출부(223)가 형성된다. 연마블럭부(200)는 일측면의 높이가 높게 형성되어 연마대상물과 접하는 연마면(221)이 경사지게 형성될 수 있다.The polishing main body 220 has a'C' cross-sectional shape in which the upper side (based on FIG. 1) is opened, and a chip discharge portion 223 is formed in the center thereof. The polishing block part 200 may have a height of one side thereof so that the polishing surface 221 in contact with the polishing object may be formed to be inclined.

회전플레이트부(100)의 회전 방향 측이 낮고, 회전 반대 방향 측이 높게 형성되어 회전플레이트부(100)의 회전 시 연마면(221)이 연마대상물에 고르게 접촉될 수 있어 연마 효율을 향상시키는 효과가 있다.The rotational direction side of the rotation plate part 100 is low and the rotational direction side is high, so that when the rotational plate part 100 is rotated, the polishing surface 221 can evenly contact the object to be polished, thereby improving polishing efficiency. There is.

도 1, 도 2, 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 장착부(300)는 연마블럭부(200)가 장착되는 것으로, 회전플레이트부(100)에 결합된다. 장착부(300)는 링 형상으로 형성된다.1, 2, and 4, the mounting unit 300 according to an embodiment of the present invention is a polishing block unit 200 is mounted, and is coupled to the rotating plate unit 100. The mounting part 300 is formed in a ring shape.

회전플레이트부(100)와 장착부(300)에는 상호 일치되는 체결홀부(103, 303)가 형성되고, 체결홀부(103, 303)를 통해 체결부재(50)가 결합되어 회전플레이트부(100)에 장착부(300)를 고정한다.The rotating plate part 100 and the mounting part 300 are formed with fastening holes 103 and 303 that match each other, and the fastening member 50 is coupled through the fastening holes 103 and 303 to the rotating plate part 100. Fix the mounting part 300.

이로 인하여 장착부(300)와 회전플레이트부(100) 사이에 장착되는 연마블럭부(200)가 회전플레이트부(100), 장착부(300)로부터 이탈하는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.Accordingly, there is an effect of preventing the grinding block portion 200 mounted between the mounting portion 300 and the rotating plate portion 100 from being separated from the rotating plate portion 100 and the mounting portion 300.

도 1, 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 장착부(300)는 연마블럭부(200), 구체적으로 연마플랜지부(210)를 사이에 두고 회전플레이트부(100)와 마주보며 결합된다. 1 and 3, the mounting part 300 according to an embodiment of the present invention faces the rotating plate part 100 with the polishing block part 200, specifically the polishing flange part 210 therebetween. Are combined.

도 3을 참조하면, 연마블럭부(200)가 장착부(300), 구체적으로 장착홀부(301)에 장착되고 장착부(300)가 회전플레이트부(100)에 결합되는 경우, 회전플레이트부(100)의 중심축에서 연마블럭부(200)의 내측 단부까지의 거리는 회전플레이트부(100)의 중심축에서 연마블럭부(200)를 덮는 장착부(300)의 내측 단부까지의 거리보다 작게 형성된다.Referring to FIG. 3, when the polishing block part 200 is mounted on the mounting part 300, specifically the mounting hole part 301, and the mounting part 300 is coupled to the rotating plate part 100, the rotating plate part 100 The distance from the central axis of the polishing block part 200 to the inner end of the polishing block part 200 is smaller than the distance from the center axis of the rotating plate part 100 to the inner end of the mounting part 300 covering the polishing block part 200.

이로 인하여 연마플랜지부(210)는 내측 단부로부터 절개구간(t)만큼 외측(도 1 기준 하측)에 노출된다. Accordingly, the polishing flange portion 210 is exposed from the inner end to the outer side (lower side of FIG. 1) by the cut section t.

도 7을 참조하면, 사용자는 연마블럭부(200)의 교체가 필요한 경우, 연마블럭부(200)를 회전플레이트부(100) 측(도 7 기준 상측)으로 가압하고, 절개구간(t)만큼 형성되는 틈새를 통해 연마블럭부(200)가 안착홈부(110)로부터 탈거되도록 한다.Referring to FIG. 7, when the user needs to replace the polishing block part 200, the user presses the polishing block part 200 toward the rotating plate part 100 (upper side as in FIG. 7), and The polishing block portion 200 is removed from the seating groove portion 110 through the formed gap.

이로 인하여 체결부재(50)를 해제하여 회전플레이트부(100)와 장착부(300)를 분리 해체하지 않고도, 단순한 동작만으로 연마블럭부(200)를 탈거하여 교체할 수 있는 효과가 있다. Accordingly, without releasing the fastening member 50 to separate and disassemble the rotating plate part 100 and the mounting part 300, there is an effect that the polishing block part 200 can be removed and replaced with only a simple operation.

구체적으로 절개구간(t)으로 인하여 회전플레이트부(100)의 중심축을 기준으로 장착부(300)에 장착되는 연마블럭부(200)의 내측 단부를 연결하는 원의 직경보다, 연마블럭부(200)를 덮는 장착부(300)의 내측 단부를 연결하는 원의 직경이 크게 형성된다. Specifically, the diameter of the circle connecting the inner end of the polishing block part 200 mounted on the mounting part 300 with respect to the central axis of the rotating plate part 100 due to the cutting section t is greater than the diameter of the circle connecting the inner end of the polishing block part 200. The diameter of the circle connecting the inner end of the mounting portion 300 covering the is formed large.

이로 인하여 연마블럭부(200)를 회전플레이트부(100) 측, 구체적으로 안착홈부(110)의 저면 측(도 7 기준 상측)으로 가압하여 소정 각도로 기울이면, 회전플레이트부(100)의 중심 측을 향해 연마블럭부(200)를 탈거할 수 있다. Accordingly, when the polishing block part 200 is pressed toward the rotation plate part 100, specifically toward the bottom side of the seating groove part 110 (upper side based on FIG. 7) and tilted at a predetermined angle, the center of the rotation plate part 100 The polishing block part 200 may be removed toward the side.

이에 더하여 체결부재(50)를 풀어 회전플레이트부(100)와 장착부(300)를 분리하지 않아도 사용자가 연마블럭부(200)를 가압하는 단순한 행위를 통해 연마블럭부(200)를 탈착할 수 있어 연마블럭부(200)의 교체성이 향상되는 효과가 있다.In addition to this, the user can remove the polishing block 200 through a simple act of pressing the polishing block 200 without separating the rotating plate part 100 and the mounting part 300 by loosening the fastening member 50. There is an effect of improving the replaceability of the polishing block part 200.

도 1을 참조하면, 장착부(300)에는 중심 방향이 개구되는 복수 개의 장착홀부(301)가 형성된다. 이로 인하여 장착홀부(301)에 연마블럭부(200)가 장착부(300)의 중심에서 외측으로 슬라이딩 삽입될 수 있다.Referring to FIG. 1, the mounting part 300 is formed with a plurality of mounting hole parts 301 in which the center direction is opened. Accordingly, the polishing block portion 200 may be slidably inserted from the center of the mounting portion 300 to the outside in the mounting hole portion 301.

장착홀부(301)는 장착부(300)의 내경을 따라 복수 개가 구비되어 등 간격으로 형성된다. 구체적으로 장착홀부(301)를 통해 연마블럭부(200)의 연마면(221)이 돌출되어 노출되도록 장착부(300) 상에 절개되어 형성된다.A plurality of mounting hole portions 301 are provided along the inner diameter of the mounting portion 300 and are formed at equal intervals. Specifically, the polishing surface 221 of the polishing block part 200 is formed by being cut on the mounting part 300 so that the polishing surface 221 of the polishing block part 200 is exposed through the mounting hole part 301.

도 1, 도 6을 참조하면, 연마블럭부(200), 구체적으로 연마플랜지부(210)가 장착홀부(301)에 형성되는 개구 부위를 통해 슬라이딩 삽입되어 고정된다. Referring to FIGS. 1 and 6, the polishing block part 200, specifically, the polishing flange part 210 is slidingly inserted and fixed through an opening formed in the mounting hole part 301.

이로 인하여 연마블럭부(200)의 슬라이딩 삽입에 의해 연마본체부(220)의 양측에 결합되는 연마플랜지부(210)가 장착홀부(301)의 내측면(도 1 기준 상면)에 걸리게 되어 고정된다.Due to this, by sliding insertion of the polishing block part 200, the polishing flange parts 210 that are coupled to both sides of the polishing body part 220 are caught and fixed on the inner surface of the mounting hole part 301 (the upper surface of Fig. 1). .

이에 더하여 연마작업 시 연마블럭부(200)는 원심력에 의해 외측으로 힘이 작용하기 때문에 장착홀부(301)의 개구 부위를 통해 이탈되지 않는다.In addition, during the polishing operation, the polishing block portion 200 is not separated through the opening portion of the mounting hole portion 301 because a force is applied to the outside by centrifugal force.

본 발명의 일 실시예에 따른 완충부(400)는 회전플레이트부(100)에 설치되는 것으로 연마블럭부(200)를 장착부(300) 측(도 1 기준 하측)으로 탄성 지지한다. 완충부(400)는 지지플레이트부(410), 탄성부재(420), 스토퍼부(430)를 포함한다.The buffer unit 400 according to an exemplary embodiment of the present invention is installed on the rotating plate unit 100 and elastically supports the polishing block unit 200 toward the mounting unit 300 (lower side of FIG. 1 ). The buffer part 400 includes a support plate part 410, an elastic member 420, and a stopper part 430.

도 1, 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 지지플레이트부(410)는 연마블럭부(200), 구체적으로 연마플랜지부(210)와 접촉되는 것으로, 안착홈부(110) 상에 형성된다.1 and 4, the support plate part 410 according to an embodiment of the present invention is in contact with the polishing block part 200, specifically, the polishing flange part 210, and is formed on the seating groove part 110. Is formed in

탄성부재(420)는 지지플레이트부(410)와 안착홈부(110) 사이에 배치되는 것으로, 지지플레이트부(410) 측으로 탄성 복원력을 가진다. 탄성부재(420)는 코일 스프링 방식으로 형성될 수 있다. The elastic member 420 is disposed between the support plate portion 410 and the seating groove portion 110 and has an elastic restoring force toward the support plate portion 410. The elastic member 420 may be formed in a coil spring method.

탄성부재(420)가 안착홈부(110) 상에 설치되어 지지플레이트부(410) 측으로 탄성 복원력을 가짐으로 인해 지지플레이트부(410)를 장착부(300) 측(도 4 기준 하측)으로 가압하고, 연마블럭부(200)가 장착부(300)에 밀착될 수 있도록 한다.Since the elastic member 420 is installed on the seating groove 110 and has an elastic restoring force toward the support plate part 410, the support plate part 410 is pressed toward the mounting part 300 (lower side based on FIG. 4), The polishing block part 200 is in close contact with the mounting part 300.

도 4를 참조하면, 안착홈부(110)와 지지플레이트부(410)의 마주하는 각 면에는 탄성부재(420)가 안착되도록 복수 개의 수용홈부(111, 411)가 형성된다. 수용홈부(111, 411)는 안착홈부(110)와 지지플레이트부(410)의 모서리 부위에 형성된다. 탄성부재(420)는 복수 개가 구비된다. Referring to FIG. 4, a plurality of receiving grooves 111 and 411 are formed on each surface facing the seating groove 110 and the support plate 410 so that the elastic member 420 is seated therein. The receiving grooves 111 and 411 are formed at the corners of the seating groove 110 and the support plate 410. A plurality of elastic members 420 are provided.

구체적으로 안착홈부(110)의 저면은 회전플레이트부(100)의 중심 측으로 갈수록 장착부(300)와의 거리가 작아지도록 경사면이 형성되므로 탄성부재(420)의 길이가 회전플레이트부(100)의 중심축으로부터 이격될수록 증가함으로 인하여 지지플레이트부(410)가 장착부(300)와 수평을 이루도록 지지플레이트부(410)를 탄성 지지할 수 있는 효과가 있다.Specifically, the bottom surface of the seating groove 110 is formed so that the distance from the mounting portion 300 decreases toward the center of the rotating plate portion 100, so that the length of the elastic member 420 is the central axis of the rotating plate portion 100 As it increases as spaced apart from, there is an effect of being able to elastically support the support plate part 410 so that the support plate part 410 is horizontal with the mounting part 300.

도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 스토퍼부(430)는 지지플레이트부(410)를 관통하는 것으로 회전플레이트부(100), 구체적으로 안착홈부(110)에 결합된다. Referring to FIG. 4, the stopper part 430 according to an embodiment of the present invention passes through the support plate part 410 and is coupled to the rotating plate part 100, specifically the seating groove 110.

스토퍼부(430)는 안착홈부(110)에 나사 체결되어 위치를 조절할 수 있고, 스토퍼부(430)가 안착홈부(110)에 고정 결합됨으로 인하여 지지플레이트부(410)가 안착홈부(110)로부터 이탈하는 것을 방지할 수 있다.The stopper part 430 is screwed into the seating groove 110 to adjust the position, and the support plate part 410 is fixedly coupled to the seating groove 110 so that the support plate part 410 is removed from the seating groove 110. It can prevent churn.

이에 더하여 사용자가 연마블럭부(200), 지지플레이트부(410)를 가압하여 연마블럭부(200)를 절개구간(t)을 통해 탈거하는 경우 지지플레이트부(410)가 함께 이탈되는 것을 방지한다.In addition, when the user presses the polishing block part 200 and the support plate part 410 to remove the polishing block part 200 through the cut section t, the support plate part 410 is prevented from being separated together. .

이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 연마장치(1)의 작동원리 및 효과를 설명한다.Hereinafter, the operating principle and effect of the polishing apparatus 1 according to an embodiment of the present invention will be described.

도 1을 참조하면, 회전플레이트부(100)의 안착홈부(110)의 저면에 형성되는 수용홈부(111)에 탄성부재(420)를 수용시키고, 지지플레이트부(410)를 안착홈부(110)에 안착시킨 후 스토퍼부(430)로 고정시킨다.Referring to FIG. 1, the elastic member 420 is accommodated in the receiving groove 111 formed on the bottom of the seating groove 110 of the rotating plate 100, and the support plate 410 is fitted with the seating groove 110. After being seated on, it is fixed with a stopper part 430.

스토퍼부(430)는 지지플레이트부(410)가 안착홈부(110)에서 이탈되는 것을 차단하고, 회전플레이트부(100)에 나사 결합되어 지지플레이트부(410)의 승강 구간을 설정할 수 있다. The stopper part 430 blocks the support plate part 410 from being separated from the seating groove part 110 and is screwed to the rotation plate part 100 to set the lifting section of the support plate part 410.

구체적으로 지지플레이트부(410)는 탄성부재(420)에 의해 탄성 지지되는데 스토퍼부(430)의 높이만큼 지지플레이트부(410)는 안착홈부(110) 내에서 승강될 수 있다.Specifically, the support plate part 410 is elastically supported by the elastic member 420, and the support plate part 410 may be raised and lowered within the seating groove 110 by the height of the stopper part 430.

도 4를 참조하면, 회전플레이트부(100)에 장착부(300)가 고정된다. 장착부(300)와 회전플레이트부(100)의 체결홀부(103, 303)를 일치시킨 후 체결부재(50)를 이용하여 상호 고정시킨다. 이때 장착부(300)와 회전플레이트부(100)의 마주보는 각 면은 밀착된다. Referring to FIG. 4, the mounting part 300 is fixed to the rotating plate part 100. After matching the mounting portion 300 and the fastening hole portions 103 and 303 of the rotating plate portion 100, the fastening members 50 are used to fix each other. At this time, each face of the mounting part 300 and the rotating plate part 100 is in close contact.

이로 인하여 장착부(300)와 회전플레이트부(100) 사이로 연마블럭부(200), 구체적으로 연마플랜지부(210)가 이탈되는 것을 방지할 수 있다.Accordingly, it is possible to prevent the polishing block portion 200, specifically, the polishing flange portion 210, from being separated between the mounting portion 300 and the rotating plate portion 100.

장착부(300)에 형성되는 장착홀부(301)에 연마블럭부(200)를 결합한다. 연마블럭부(200)는 연마플랜지부(210), 연마본체부(220)를 포함하고, 연마블럭부(200)가 장착홀부(301)로 슬라이딩 삽입됨에 따라 연마플랜지부(210)가 장착홀부(301)의 내측면에 걸리게 되어 이탈되지 않고 고정되는 효과가 있다.The polishing block part 200 is coupled to the mounting hole part 301 formed in the mounting part 300. The polishing block part 200 includes a polishing flange part 210 and a polishing body part 220, and as the polishing block part 200 is slidingly inserted into the mounting hole part 301, the polishing flange part 210 is inserted into the mounting hole part. Since it is caught on the inner side of the 301, there is an effect of being fixed without being separated.

도 8을 참조하면, 연마플랜지부(210)는 안착홈부(110) 내부로 수용되어 연마작업 시에는 원심력에 의해 연마블럭부(200)의 이탈이 방지되고, 원심력이 작용하지 않을 때에는 안착홈부(110)에 연마플랜지부(210)가 수용된 상태이므로 단차에 의해 연마블럭부(200)가 이탈되는 것을 방지한다.Referring to FIG. 8, the polishing flange 210 is accommodated in the seating groove 110 so that the separation of the polishing block 200 is prevented by centrifugal force during the polishing operation, and when the centrifugal force does not act, the seating groove ( Since the polishing flange part 210 is accommodated in 110), the polishing block part 200 is prevented from being separated by a step difference.

연마블럭부(200)가 장착홀부(301)에 장착됨으로써 결합이 완료되며 이러한 회전플레이트부(100)는 연마공구에 장착되어 연마작업을 수행할 수 있다.The coupling is completed by mounting the polishing block part 200 in the mounting hole part 301, and the rotating plate part 100 may be mounted on a polishing tool to perform a polishing operation.

연마블럭부(200)는 완충부(400)에 의해 탄성 지지되므로 고르지 않은 연마대상물에 유연하게 대응할 수 있다. 연마플랜지부(210)는 지지플레이트부(410)와 접한 상태이고, 지지플레이트부(410)는 탄성부재(420)에 의해 탄성 지지되므로 연마블럭부(200)에 발생되는 충격이 완화되는 효과가 있다.Since the polishing block part 200 is elastically supported by the buffer part 400, it can flexibly respond to an uneven polishing object. Since the polishing flange part 210 is in contact with the support plate part 410, and the support plate part 410 is elastically supported by the elastic member 420, the impact generated on the polishing block part 200 is reduced. have.

이에 더하여 연마블럭부(200) 및 연마면(221)에 융착되는 연마입자의 손상을 방지할 수 있어 제품의 수명을 연장시킬 수 있는 효과가 있다. In addition, it is possible to prevent damage to the abrasive particles fused to the polishing block portion 200 and the polishing surface 221, thereby prolonging the life of the product.

도 1, 도 5, 도 7을 참조하면, 회전플레이트부(100)의 중심축에서 연마블럭부(200)의 내측 단부까지의 거리가, 회전플레이트부(100)의 중심축에서 연마블럭부(200), 구체적으로 연마플랜지부(210)를 덮는 장착부(300)의 내측 단부까지의 거리보다 작게 형성된다.1, 5, and 7, the distance from the central axis of the rotary plate unit 100 to the inner end of the polishing block unit 200 is from the central axis of the rotary plate unit 100 to the polishing block unit ( 200), specifically, is formed smaller than the distance to the inner end of the mounting portion 300 covering the polishing flange portion 210.

이 절개구간(t)으로 인하여 사용자가 연마블럭부(200)를 가압하면 연마블럭부(200)가 안착홈부(110)의 저면 측으로 탄성부재(420)를 가압하며 이동하고 경사가 형성되면 연마블럭부(200)가 회전플레이트부(100)의 중심축을 향해 절개구간(t) 사이로 탈거될 수 있도록 한다.When the user presses the polishing block part 200 due to this cut section (t), the polishing block part 200 presses the elastic member 420 toward the bottom of the seating groove part 110 and moves, and when a slope is formed, the polishing block The part 200 may be removed between the cutout sections t toward the central axis of the rotating plate part 100.

이로 인하여 장착부(300)가 연마블럭부(200), 구체적으로 연마플랜지부(210)를 전 구간에 걸쳐 덮는 것에 비해 절개구간(t)을 통해 안착홈부(110)에서 탈거할 수 있도록 하여 체결부재(50)를 풀어 회전플레이트부(100)와 장착부(300)를 해체하지 않고도, 단순한 동작으로 연마블럭부(200)를 안착홈부(110)에서 탈거시키고, 새로운 연마블럭부(200)로 교체할 수 있어 교체성이 향상되는 효과가 있다. Due to this, compared to the mounting portion 300 covering the polishing block portion 200, specifically the polishing flange portion 210 over the entire section, the fastening member can be removed from the mounting groove 110 through the cut section (t) Without disassembling the rotating plate part 100 and the mounting part 300 by loosening 50, the polishing block part 200 is removed from the seating groove part 110 with a simple operation, and replaced with a new polishing block part 200. There is an effect of improving the replaceability.

안착홈부(110)의 저면이 회전플레이트부(100)의 중심 측으로 갈수록 장착부(300)와의 거리가 작아지도록 경사면이 형성됨으로 인하여 연마블럭부(200)의 각도가 틀어지고 안착홈부(110)로부터 절개구간(t)을 통과하여 탈거되도록 한다.The angle of the polishing block part 200 is changed and cut from the seating groove 110 because the inclined surface is formed so that the distance from the mounting part 300 decreases as the bottom surface of the seating groove 110 moves toward the center of the rotating plate part 100 Pass through the section (t) to be removed.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 하여 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 기술적 보호범위는 아래의 특허청구범위에 의해서 정하여져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, this is only illustrative, and those of ordinary skill in the field to which the technology pertains, various modifications and other equivalent embodiments are possible. I will understand. Therefore, the technical protection scope of the present invention should be determined by the following claims.

1: 연마장치 t: 절개구간
50: 체결부재 100: 회전플레이트부
101: 공구홀부 103, 303: 체결홀부
110: 안착홈부 111, 411: 수용홈부
200: 연마블럭부 210: 연마플랜지부
220: 연마본체부 221: 연마면
223: 칩배출부 300: 장착부
301: 장착홀부 400: 완충부
410: 지지플레이트부 420: 탄성부재
430: 스토퍼부 1: grinding device t: incision section
50: fastening member 100: rotating plate portion
101: tool hole portion 103, 303: fastening hole portion
110: seating groove 111, 411: receiving groove
200: polishing block portion 210: polishing flange portion
220: polishing main body 221: polishing surface
223: chip discharge unit 300: mounting unit
301: mounting hole part 400: buffer part
410: support plate portion 420: elastic member
430: stopper part

Claims (7)

연마공구의 출력단에 장착되는 회전플레이트부;
상기 회전플레이트부의 원주 방향에 대하여 이격 배치되는 복수 개의 연마블럭부;
상기 연마블럭부가 장착되고, 상기 회전플레이트부에 결합되는 장착부; 및
상기 회전플레이트부에 설치되고, 상기 연마블럭부를 상기 장착부 측으로 탄성 지지하는 완충부;를 포함하고,
상기 연마블럭부가 장착되는 경우 상기 회전플레이트부의 중심축에서 상기 연마블럭부의 내측 단부까지의 거리는, 상기 회전플레이트부의 중심축에서 상기 연마블럭부를 덮는 상기 장착부의 내측 단부까지의 거리보다 작게 형성되는 것을 특징으로 하는 연마장치.
A rotating plate unit mounted on the output end of the polishing tool;
A plurality of polishing block portions spaced apart from the rotation plate portion in a circumferential direction;
A mounting portion mounted on the polishing block portion and coupled to the rotating plate portion; And
Includes; a buffer unit installed on the rotating plate portion, elastically supporting the polishing block portion toward the mounting portion,
When the polishing block part is mounted, the distance from the central axis of the rotation plate part to the inner end of the polishing block part is formed to be smaller than the distance from the center axis of the rotation plate part to the inner end of the mounting part covering the polishing block part. Polishing device.
 제1항에 있어서,
상기 회전플레이트부의 저면에는 상기 연마블럭부가 안착되는 안착홈부가 형성되고,
상기 안착홈부의 저면은 상기 회전플레이트부의 중심 측으로 갈수록 상기 장착부와의 거리가 작아지도록 경사면이 형성되는 것을 특징으로 하는 연마장치.
The method of claim 1,
A seating groove in which the polishing block portion is seated is formed on the bottom surface of the rotating plate portion,
A polishing apparatus, wherein the bottom surface of the seating groove portion is formed with an inclined surface so that the distance to the mounting portion decreases toward the center of the rotating plate portion.
 제2항에 있어서,
상기 완충부는,
상기 연마블럭부와 접촉되며 상기 안착홈부 상에 배치되는 지지플레이트부;
상기 지지플레이트부와 상기 안착홈부 사이에 배치되며 상기 지지플레이트부 측으로 탄성 복원력을 가지는 탄성부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 연마장치.
The method of claim 2,
The buffer unit,
A support plate portion in contact with the polishing block portion and disposed on the seating groove portion;
And an elastic member disposed between the support plate portion and the seating groove portion and having an elastic restoring force toward the support plate portion.
 제3항에 있어서,
상기 탄성부재는 복수 개가 구비되고, 상기 탄성부재의 길이는 상기 회전플레이트부의 중심축으로부터 이격될수록 증가하는 것을 특징으로 하는 연마장치.
The method of claim 3,
The plurality of elastic members are provided, and the length of the elastic member increases as spaced apart from a central axis of the rotation plate part.
 제1항에 있어서,
상기 회전플레이트부와 상기 장착부의 마주보는 각 면은 밀착되는 것을 특징으로 하는 연마장치.
The method of claim 1,
A polishing apparatus, characterized in that the rotating plate portion and each surface facing the mounting portion are in close contact with each other.
 제1항에 있어서,
상기 장착부에는 상기 회전플레이트부의 중심 측이 개구되는 복수 개의 장착홀부가 형성되고,
상기 장착홀부에 상기 연마블럭부가 슬라이딩 삽입되는 것을 특징으로 하는 연마장치.
The method of claim 1,
The mounting portion is formed with a plurality of mounting holes opening the center side of the rotating plate portion,
A polishing apparatus, wherein the polishing block portion is slidingly inserted into the mounting hole.
 제6항에 있어서,
상기 연마블럭부는,
상기 회전플레이트부와 상기 장착부 사이에 걸쳐지는 연마플랜지부; 및
상기 연마플랜지부와 결합되고, 상기 장착홀부를 통과하여 상기 장착부의 외측으로 돌출 형성되는 연마본체부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 연마장치.The method of claim 6,
The polishing block part,
A polishing flange portion spanning between the rotating plate portion and the mounting portion; And
And a polishing body portion coupled to the polishing flange portion and formed to protrude outward from the mounting portion through the mounting hole portion.
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