KR102190058B1 - Toothbrush generating micro-current - Google Patents

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KR102190058B1
KR102190058B1 KR1020200087265A KR20200087265A KR102190058B1 KR 102190058 B1 KR102190058 B1 KR 102190058B1 KR 1020200087265 A KR1020200087265 A KR 1020200087265A KR 20200087265 A KR20200087265 A KR 20200087265A KR 102190058 B1 KR102190058 B1 KR 102190058B1
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황인태
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황인규
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Abstract

A toothbrush which generates microcurrent is disclosed. The toothbrush which generates microcurrent comprises: a toothbrush head part in which toothbrush bristles are planted on one side; a first metal pattern disposed on a rear surface of the head part and comprising a plurality of first extension parts extending in a first direction; and a second metal pattern disposed on a rear surface of the head part, comprising a second extension part extending in the first direction, and being spaced apart so as not to contact the first metal pattern, wherein the head part comprises a plurality of dielectric partition walls positioned between the first metal pattern and the second metal pattern.

Description

미세 전류를 발생시키는 칫솔{TOOTHBRUSH GENERATING MICRO-CURRENT}Toothbrush that generates microcurrent {TOOTHBRUSH GENERATING MICRO-CURRENT}

본 발명은 미세 전류를 발생시키는 칫솔에 관한 것으로, 상세하게는 복수의 전극 구조체를 포함하여 양치 과정에서 미세 전류가 발생되는 칫솔에 관한 것이다.The present invention relates to a toothbrush that generates a microcurrent, and more particularly, to a toothbrush that generates microcurrent during a brushing process including a plurality of electrode structures.

인체의 세포간 물질 전달과정에서 수십 내지 수백 마이크로암페어(㎂) 수준의 미세한 생체 전류가 발생하는 것으로 알려져 있다. 구체적으로, 나트륨(Na), 칼륨(K), 칼슘(Ca) 등의 양이온과 염소(Cl) 등의 음이온이 세포막을 투과하는 과정에서 전기가 발생하게 되며, 이러한 생체 전류는 세포간 신호 전달 기능을 강화하고 조직 재생을 촉진하는 것으로 알려져 있다. 뿐만 아니라 이러한 생체 전류는 인체 내무에 침투한 세균 및/또는 바이러스의 사멸에도 기여하고, 골조직 재생, 혈액 순환, 통증 완화, 관절염 등에 효과를 나타내는 것으로 보고되고 있다.It is known that microscopic biocurrents at the level of tens to hundreds of microamperes (㎂) are generated in the process of transferring substances between cells in the human body. Specifically, electricity is generated in the process of passing cations such as sodium (Na), potassium (K), and calcium (Ca) and anions such as chlorine (Cl) through the cell membrane, and such a living current is used to transmit signals between cells. It is known to enhance tissue regeneration and promote tissue regeneration. In addition, such biocurrents are reported to contribute to the death of bacteria and/or viruses that have penetrated into the interior of the human body, and have an effect on bone tissue regeneration, blood circulation, pain relief, arthritis, and the like.

인체에서 자연스레 발생되는 미세한 생체 전류가 갖는 효능에 착안하여 인위적으로 1,000㎂ 이하 수준의 미세 전류, 예컨대 100㎂ 내지 400㎂ 수준의 미세 전류를 외부에서 인체에 통전시켜 손상된 세포 또는 조직의 치유를 촉진시키려는 연구가 활발히 이루어지고 있다. Focusing on the efficacy of microscopic biocurrents that naturally occur in the human body, artificially energizes the human body with microcurrents of 1,000 ㎂ or less, such as 100 ㎂ to 400 ㎂, to promote the healing of damaged cells or tissues. Research is being actively conducted.

한국등록특허 제10-2041923호 (2019.11.01)Korean Patent Registration No. 10-2041923 (2019.11.01) 한국등록특허 제10-1950133호 (2019.02.13)Korean Patent Registration No. 10-1950133 (2019.02.13) 일본공개특허 제2003-250636호 (2003.09.09)Japanese Patent Publication No. 2003-250636 (2003.09.09)

인간의 구강은 음식물을 섭취하는 기관으로, 그 기능상 특징으로 인해 다양한 바이러스, 박테리아 등이 침투하기 쉽고 구내염, 설하낭, 치주염을 비롯한 다양한 질병에 취약하다. 반면 구강의 내벽에는 혈관 및 신경이 많이 분포되어 있어 구강을 청결하게 유지하고 손상된 조직을 치유하는 것은 매우 중요한 문제이다.The human oral cavity is an organ that consumes food, and due to its functional characteristics, it is easy for various viruses and bacteria to penetrate and is vulnerable to various diseases including stomatitis, sublingual sac, and periodontitis. On the other hand, the inner wall of the oral cavity has many blood vessels and nerves, so keeping the oral cavity clean and healing damaged tissues is a very important problem.

특허문헌 1 내지 특허문헌 3에는 미세 전류를 생성하는 칫솔이 개시되어 있다. 특허문헌 1 내지 특허문헌 3에는 칫솔모가 식모되는 헤드부의 배면 상에 전극 구조체를 배치하여 이들이 생성하는 미세 전류로 구강의 상처 치유를 촉진하는 기술이 개시되어 있다.In Patent Documents 1 to 3, toothbrushes that generate microcurrents are disclosed. Patent Documents 1 to 3 disclose a technique of disposing an electrode structure on the rear surface of a head portion on which the bristles are planted and promoting wound healing of the oral cavity with a microcurrent generated by them.

특허문헌 1 및 특허문헌 2의 전극 구조체는 단순히 서로 간의 대면 면적을 최대화하기 위한 시도가 드러나 있다. 그러나 특허문헌 1 등과 같은 전극 구조체의 배열은 전극 간의 단락(short)이 일어나기 쉽고, 미세한 크기의 전극 구조체를 배치하기 위한 제조 비용이 과다하다는 문제가 있어 상용화되고 있지 않다. The electrode structures of Patent Document 1 and Patent Document 2 are simply attempted to maximize the face area between each other is revealed. However, the arrangement of electrode structures such as Patent Document 1 is not commercially available because there is a problem that a short between electrodes is likely to occur and the manufacturing cost for disposing an electrode structure having a fine size is excessive.

또한 특허문헌 1 및 특허문헌 2는 칫솔의 본체와 전극 구조체 간의 결합 방법에 대해 개시하지 않는다. 가장 흔한 결합 방법으로 칫솔 헤드부의 배면과 전극 구조체를 접착제 등을 이용하여 결합하는 방법을 고려해볼 수 있으나, 칫솔 헤드부는 인체의 구강 내에서 사용되는 것으로 인간이 접착제를 흡입할 수 있는 문제가 있어 적합하지 않은 문제가 있다.In addition, Patent Document 1 and Patent Document 2 do not disclose a bonding method between the main body of the toothbrush and the electrode structure. As the most common bonding method, it is possible to consider a method of bonding the back of the toothbrush head and the electrode structure using an adhesive, but the toothbrush head is used in the oral cavity of the human body and is suitable because there is a problem that humans can inhale the adhesive. There is a problem that has not been done.

이에 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 제조 비용을 절감하면서도 충분한 미세 전류를 생성할 수 있는 구조의 미세 전류를 발생시키는 칫솔을 제공하는 것이다. 또, 인체에 무해한 방법으로 전극 구조체가 결합된 칫솔을 제공하는 것이다.Accordingly, the problem to be solved by the present invention is to provide a toothbrush that generates a microcurrent having a structure capable of generating sufficient microcurrent while reducing manufacturing cost. In addition, it is to provide a toothbrush to which an electrode structure is coupled in a way that is harmless to the human body.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 제조 비용을 절감하면서도 충분한 미세 전류를 생성할 수 있는 구조의 전극 구조체를 제공하는 것이다.Another problem to be solved by the present invention is to provide an electrode structure having a structure capable of generating sufficient microcurrent while reducing manufacturing cost.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 미세 전류를 발생시키는 칫솔은 일면 상에 칫솔모가 식모된 칫솔 헤드부; 상기 헤드부의 배면 상에 배치되고, 제1 방향으로 연장된 복수의 제1 연장부를 포함하는 제1 금속 패턴; 및 상기 헤드부의 배면 상에 배치되고, 상기 제1 방향으로 연장된 복수의 제2 연장부를 포함하며, 상기 제1 금속 패턴과 접촉하지 않도록 이격된 제2 금속 패턴을 포함하되, 상기 헤드부는 상기 제1 금속 패턴과 상기 제2 금속 패턴 사이에 위치하는 복수의 유전 격벽을 포함한다.A toothbrush for generating a microcurrent according to an embodiment of the present invention for solving the above problem includes a toothbrush head having bristles on one side; A first metal pattern disposed on a rear surface of the head portion and including a plurality of first extension portions extending in a first direction; And a second metal pattern disposed on the rear surface of the head part and extending in the first direction, the second metal pattern being spaced apart so as not to contact the first metal pattern, wherein the head part And a plurality of dielectric barrier ribs positioned between the first metal pattern and the second metal pattern.

상기 제1 금속 패턴의 제1 연장부의 개수는 상기 제2 금속 패턴의 제2 연장부의 개수 보다 크고, 상기 제1 금속 패턴은 상기 제2 금속 패턴 보다 산화도가 작은 금속 재질을 포함하여 이루어질 수 있다.The number of first extension portions of the first metal pattern may be greater than the number of second extension portions of the second metal pattern, and the first metal pattern may include a metal material having a smaller oxidation degree than that of the second metal pattern. .

또, 상기 헤드부의 배면은 상기 제1 금속 패턴과 상응하는 형상의 제1 그루브로서, 상기 제1 금속 패턴이 삽입되는 제1 그루브 및 상기 제2 금속 패턴과 상응하는 형상의 제2 그루브로서, 상기 제2 금속 패턴이 삽입되는 제2 그루브를 가질 수 있다.In addition, the rear surface of the head portion is a first groove having a shape corresponding to the first metal pattern, a first groove into which the first metal pattern is inserted, and a second groove having a shape corresponding to the second metal pattern, the It may have a second groove into which the second metal pattern is inserted.

상기 제1 금속 패턴은, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 서로 이격된 복수의 제1 연장부를 서로 전기적으로 연결하는 제1 연결부를 더 포함할 수 있다.The first metal pattern may further include a first connector electrically connecting a plurality of first extensions spaced apart from each other in a second direction crossing the first direction.

또, 상기 제2 금속 패턴은, 상기 제2 방향으로 서로 이격된 복수의 제2 연장부를 서로 전기적으로 연결하는 제2 연결부를 더 포함할 수 있다.In addition, the second metal pattern may further include a second connection part electrically connecting a plurality of second extension parts spaced apart from each other in the second direction.

상기 제1 금속 패턴 및 상기 제2 금속 패턴의 최대 두께는 상기 유전 격벽의 높이 보다 작을 수 있다.The maximum thickness of the first metal pattern and the second metal pattern may be smaller than the height of the dielectric barrier rib.

상기 제1 그루브의 내측벽은 적어도 부분적으로 상기 제2 방향으로 테이퍼지고, 상기 테이퍼진 내측벽은 상기 제1 금속 패턴과 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 교차하는 제3 방향으로 중첩하여 상기 제1 금속 패턴을 고정할 수 있다.The inner wall of the first groove is at least partially tapered in the second direction, and the tapered inner wall overlaps the first metal pattern in a third direction crossing the first direction and the second direction, The first metal pattern can be fixed.

또, 상기 제1 금속 패턴은 상기 제2 금속 패턴에 비해 칫솔의 그립부 측에 위치하고, 상기 제2 그루브의 내측벽은 적어도 부분적으로 상기 제1 방향으로 테이퍼지고, 상기 테이퍼진 내측벽은 상기 제2 금속 패턴과 상기 제3 방향으로 중첩하여 상기 제2 금속 패턴을 고정할 수 있다.In addition, the first metal pattern is located on the side of the grip portion of the toothbrush compared to the second metal pattern, the inner wall of the second groove is at least partially tapered in the first direction, and the tapered inner wall is the second The second metal pattern may be fixed by overlapping the metal pattern in the third direction.

몇몇 실시예에서, 상기 헤드부의 배면 상에 직접 배치된 유전층을 더 포함할 수 있다.In some embodiments, a dielectric layer may be further disposed directly on the rear surface of the head.

상기 유전층은 상기 헤드부, 상기 제1 금속 패턴 및 상기 제2 금속 패턴과 맞닿아 접하고, 상기 유전층은 상기 제1 금속 패턴 및 상기 제2 금속 패턴과 각각 상기 제3 방향으로 중첩할 수 있다.The dielectric layer may be in contact with the head portion, the first metal pattern, and the second metal pattern, and the dielectric layer may overlap the first metal pattern and the second metal pattern in the third direction, respectively.

여기서 상기 유전층은 실리콘 재질을 포함할 수 있다.Here, the dielectric layer may include a silicon material.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 미세 전류를 발생시키는 칫솔은 제1 방향으로 연장된 칫솔 그립부; 상기 그립부의 상기 제1 방향 일단에 배치되고, 일면 상에 칫솔모가 식모되며 배면 상에 슬라이딩 결합 수단을 포함하는 칫솔 헤드부; 및 베이스, 제1 금속 패턴 및 제2 금속 패턴을 포함하며, 상기 결합 수단과 슬라이딩 결합되는 전극 구조체를 포함하되, 상기 제1 금속 패턴은 상기 제1 방향으로 연장된 복수의 제1 연장부를 포함하고, 상기 제2 금속 패턴은 상기 제1 방향으로 연장된 복수의 제2 연장부를 포함하며, 상기 헤드부와 상기 전극 구조체가 슬라이딩 결합된 상태에서, 상기 헤드부는 상기 제1 금속 패턴 및 상기 제2 금속 패턴과 이격되고, 상기 전극 구조체는 상기 그립부로부터 상기 헤드부 방향으로 슬라이딩 삽입되도록 구성된다.A toothbrush for generating a microcurrent according to another embodiment of the present invention for solving the above problem includes a toothbrush grip part extending in a first direction; A toothbrush head portion disposed at one end of the grip portion in the first direction, bristles are planted on one surface, and a sliding coupling means on a rear surface; And an electrode structure including a base, a first metal pattern, and a second metal pattern, and slidingly coupled with the coupling means, wherein the first metal pattern includes a plurality of first extensions extending in the first direction, , The second metal pattern includes a plurality of second extensions extending in the first direction, and in a state in which the head part and the electrode structure are slidably coupled, the head part comprises the first metal pattern and the second metal It is spaced apart from the pattern, and the electrode structure is configured to slide from the grip portion toward the head portion.

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명에 포함되어 있다. Details of other embodiments are included in the detailed description.

본 발명의 실시예들에 따르면, 전해질과의 접촉 면적을 증가시키는 전극 구조체의 구조를 적용하여 충분한 미세 전류를 발생시키는 효과가 있다. According to embodiments of the present invention, there is an effect of generating sufficient microcurrent by applying a structure of an electrode structure that increases a contact area with an electrolyte.

예를 들어, 본 실시예에 따른 칫솔의 금속 패턴에 의해 발생되는 미세 전류는 약 100㎂ 내지 400㎂, 또는 약 100㎂ 내지 200㎂일 수 있다. 이를 통해 구강 질병, 예컨대 구내염, 설하낭, 치주염 등의 치료, 개선, 예방 효과가 있고, 플라그 및 물 때 제거, 시린니 등 통증 완화에 효과가 있다.For example, the minute current generated by the metal pattern of the toothbrush according to the present embodiment may be about 100 ㎂ to 400 ㎂, or about 100 ㎂ to 200 ㎂. Through this, it is effective in treating, improving, and preventing oral diseases such as stomatitis, sublingual cyst, periodontitis, etc., and is effective in relieving pain such as plaque and dirt removal, and aching teeth.

또한, 전극 구조체와 칫솔의 헤드부 간의 결합을 용이하게 하여 사용자의 편의성을 향상시키는 효과가 있다. In addition, there is an effect of improving user convenience by facilitating coupling between the electrode structure and the head of the toothbrush.

본 발명의 실시예들에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.Effects according to the embodiments of the present invention are not limited by the contents illustrated above, and more various effects are included in the present specification.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 칫솔의 배면사시도이다.
도 2는 도 1의 헤드부를 확대한 확대사시도이다.
도 3은 도 2의 제1 금속 패턴 및 제2 금속 패턴을 나타낸 사시도이다.
도 4는 도 2의 A-A' 선을 따라 절개한 단면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 칫솔의 단면도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 칫솔의 배면사시도이다.
도 7은 도 6의 제1 금속 패턴 및 제2 금속 패턴을 나타낸 사시도이다.
도 8은 도 6의 A-A' 선을 따라 절개한 단면도이다.
도 9는 도 8의 C부분을 확대한 확대도이다.
도 10은 도 6의 B-B' 선을 따라 절개한 단면도이다.
도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 칫솔의 배면사시도이다.
도 12는 도 11의 전극 구조체의 사시도이다.
도 13은 도 11의 A-A' 선을 따라 절개한 단면도이다.
도 14는 도 12의 전극 구조체를 절개한 단면도이다.
도 15는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 칫솔의 전극 구조체의 사시도이다.
도 16은 도 15의 A-A' 선을 따라 절개한 단면도이다.1 is a rear perspective view of a toothbrush according to an embodiment of the present invention.
2 is an enlarged perspective view of an enlarged head of FIG. 1.
3 is a perspective view illustrating a first metal pattern and a second metal pattern of FIG. 2.
4 is a cross-sectional view taken along line AA′ of FIG. 2.
5 is a cross-sectional view of a toothbrush according to another embodiment of the present invention.
6 is a rear perspective view of a toothbrush according to another embodiment of the present invention.
7 is a perspective view illustrating a first metal pattern and a second metal pattern of FIG. 6.
8 is a cross-sectional view taken along line AA′ of FIG. 6.
9 is an enlarged view of part C of FIG. 8.
10 is a cross-sectional view taken along line BB′ of FIG. 6.
11 is a rear perspective view of a toothbrush according to another embodiment of the present invention.
12 is a perspective view of the electrode structure of FIG. 11.
13 is a cross-sectional view taken along line AA′ of FIG. 11.
14 is a cross-sectional view taken along the electrode structure of FIG. 12.
15 is a perspective view of an electrode structure of a toothbrush according to another embodiment of the present invention.
16 is a cross-sectional view taken along line AA′ of FIG. 15.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 즉, 본 발명이 제시하는 실시예들에는 다양한 변경이 가해질 수 있다. 아래 설명하는 실시예들은 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 이들에 대한 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Advantages and features of the present invention, and a method of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail together with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms different from each other, and only the embodiments make the disclosure of the present invention complete, and those skilled in the art to which the present invention pertains. It is provided to fully inform the person of the scope of the invention, and the invention is only defined by the scope of the claims. That is, various changes may be made to the embodiments suggested by the present invention. The embodiments described below are not intended to be limited to the embodiments, and should be understood to include all changes, equivalents, and substitutes thereto.

도면에 도시된 구성요소의 크기, 두께, 폭, 길이 등은 설명의 편의 및 명확성을 위해 과장 또는 축소될 수 있으므로 본 발명이 도시된 형태로 제한되는 것은 아니다.The size, thickness, width, length, etc. of the components shown in the drawings may be exaggerated or reduced for convenience and clarity of description, so the present invention is not limited to the illustrated form.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms (including technical and scientific terms) used in the present specification may be used as meanings that can be commonly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. In addition, terms defined in a commonly used dictionary are not interpreted ideally or excessively unless explicitly defined specifically.

공간적으로 상대적인 용어인 '위(above)', '상부(upper)', ‘상(on)’, '아래(below)', '아래(beneath)', '하부(lower)' 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 '아래(below 또는 beneath)'로 기술된 소자는 다른 소자의 '위(above)'에 놓일 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 '아래'는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다.Spatially relative terms such as'above','upper','on','below','beneath', and'lower' are As shown, it may be used to easily describe the correlation between one device or components and other devices or components. Spatially relative terms should be understood as terms including different directions of the device when used in addition to the directions shown in the drawings. For example, when an element shown in the figure is turned over, an element described as'below or beneath' another element may be placed'above' another element. Therefore, the exemplary term'below' may include both the lower and upper directions.

본 명세서에서, '및/또는'은 언급된 아이템들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다. 또, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 본 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprises)' 및/또는 '포함하는(comprising)'은 언급된 구성요소 외에 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. '내지'를 사용하여 나타낸 수치 범위는 그 앞과 뒤에 기재된 값을 각각 하한과 상한으로서 포함하는 수치 범위를 나타낸다. '약' 또는 '대략'은 그 뒤에 기재된 값 또는 수치 범위의 20% 이내의 값 또는 수치 범위를 의미한다.In this specification,'and/or' includes each and every combination of one or more of the recited items. In addition, the singular form also includes the plural form unless otherwise stated in the text. As used herein,'comprises' and/or'comprising' does not exclude the presence or addition of one or more other elements other than the mentioned elements. Numerical ranges indicated using'to' represent numerical ranges including the values listed before and after them as lower and upper limits, respectively. "About" or "approximately" means a value or numerical range within 20% of the value or numerical range described thereafter.

본 명세서에서, 제1 방향(X)은 평면 내 임의의 방향을 의미하고, 제2 방향(Y)은 상기 평면 내에서 제1 방향(X)과 교차하는 다른 방향을 의미한다. 또, 제3 방향(Z)은 상기 평면과 수직한 방향을 의미한다. 다르게 정의되지 않는 한, '평면'은 제1 방향(X)과 제2 방향(Y)이 속하는 평면을 의미한다.In this specification, the first direction (X) refers to an arbitrary direction in the plane, and the second direction (Y) refers to another direction in the plane that intersects the first direction (X). In addition, the third direction Z means a direction perpendicular to the plane. Unless otherwise defined, a'plane' means a plane to which the first direction X and the second direction Y belong.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 칫솔(11)의 배면사시도이다. 도 2는 도 1의 헤드부(100)를 확대한 확대사시도이다. 도 3은 도 2의 제1 금속 패턴(210) 및 제2 금속 패턴(220)을 나타낸 사시도이다. 도 4는 도 2의 A-A' 선을 따라 절개한 단면도이다. 1 is a rear perspective view of a toothbrush 11 according to an embodiment of the present invention. 2 is an enlarged perspective view of the head portion 100 of FIG. 1. 3 is a perspective view illustrating the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 of FIG. 2. 4 is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 2.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 칫솔은 사용자가 칫솔을 이용해 칫솔질을 할 때, 생체 전류와 유사한 정도의 미세 전류를 발생시킬 수 있다. 미세 전류를 발생시키는 칫솔(11)은 헤드부(100), 그립부(300) 및 전극 구조체(200)를 포함할 수 있다. Referring to FIGS. 1 to 4, the toothbrush according to an embodiment of the present invention may generate a microcurrent similar to that of a living body current when a user brushes with a toothbrush. The toothbrush 11 that generates a micro current may include a head part 100, a grip part 300, and an electrode structure 200.

헤드부(100)는 그립부(300)와 결합될 수 있다. 예를 들어, 헤드부(100)는 그립부(300)의 제1 방향(X)의 일단에 배치될 수 있다. 헤드부(100)는 그립부(300)와 물리적 경계 없이 일체로 형성될 수 있다. 다른 실시예에서 헤드부(100)는 그립부(300)에 착탈 가능하게 결합되도록 구성될 수도 있다.The head part 100 may be coupled to the grip part 300. For example, the head part 100 may be disposed at one end of the grip part 300 in the first direction X. The head part 100 may be integrally formed with the grip part 300 without a physical boundary. In another embodiment, the head portion 100 may be configured to be detachably coupled to the grip portion 300.

또한, 헤드부(100)는 서로 대향된 일면(101)과 배면(102)을 포함할 수 있다. 헤드부(100)는 헤드부(100)의 일면(101) 상에 위치되는 칫솔모(170)와 헤드부(100)의 배면(102) 상에 위치되는 패턴 삽입부(150)를 포함할 수 있다. 헤드부(100)는 유전율이 큰 부도체 재질로 이루어질 수 있다. 실시예에서, 헤드부(100)는 유전율이 큰 플라스틱 재질 또는 세라믹 재질로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. In addition, the head portion 100 may include one surface 101 and a rear surface 102 facing each other. The head portion 100 may include a bristle 170 positioned on one surface 101 of the head portion 100 and a pattern insertion portion 150 positioned on the rear surface 102 of the head portion 100. . The head part 100 may be made of a non-conductor material having a high dielectric constant. In the embodiment, the head portion 100 may be made of a plastic material or a ceramic material having a high dielectric constant, but is not limited thereto.

칫솔모(170)는 헤드부(100)의 일면(101)에 식모되어 고정될 수 있다. 즉, 칫솔모(170)는 적어도 부분적으로 헤드부(100)에 삽입되고, 적어도 부분적으로 돌출된 상태일 수 있다. 또, 패턴 삽입부(150)는 후술할 전극 구조체(200)의 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)이 삽입되는 홈 구조로 형성될 수 있다. 예시적인 실시예에서, 패턴 삽입부(150)는 제1 그루브(151)와 제2 그루브(152)를 포함할 수 있다. 패턴 삽입부(150)에 대한 상세할 설명은 후술하기로 한다. The bristles 170 may be planted and fixed on one surface 101 of the head portion 100. That is, the bristles 170 may be at least partially inserted into the head portion 100 and at least partially protruded. Further, the pattern insertion part 150 may be formed in a groove structure into which the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 of the electrode structure 200 to be described later are inserted. In an exemplary embodiment, the pattern insertion unit 150 may include a first groove 151 and a second groove 152. A detailed description of the pattern insertion unit 150 will be described later.

그립부(300)는 칫솔(11)을 사용하는 사용자가 손으로 잡는 부분일 수 있다. 그립부(300)는 사용자의 편의성을 고려하여 다양한 형태로 디자인될 수 있다. 예시적인 실시예에서 그립부(300)는 제1 방향(X)으로 연장된 대략 막대 형상으로 제공될 수 있다. The grip part 300 may be a part held by a user who uses the toothbrush 11. The grip part 300 may be designed in various forms in consideration of user convenience. In an exemplary embodiment, the grip part 300 may be provided in a substantially bar shape extending in the first direction X.

전극 구조체(200)는 사용자가 본 발명의 칫솔(11)을 이용해 칫솔질을 할 때, 생체 전류와 유사한 정도의 미세 전류를 발생시킬 수 있다. 이 경우, 사용자의 구강 내에 존재하는 물, 타액(침 등), 치약 등이 전해질로 작용할 수 있다. 예를 들면, 전극 구조체(200)는 물, 타액(침 등), 치약 등을 전해질로 이용하여 인체에 무해하고 유익한 미세 전류를 발생시킬 수 있다. The electrode structure 200 may generate a minute current similar to that of a living body current when a user brushes with the toothbrush 11 of the present invention. In this case, water, saliva (saliva, etc.), toothpaste, etc. existing in the user's oral cavity may act as an electrolyte. For example, the electrode structure 200 may generate a fine current that is harmless and beneficial to the human body by using water, saliva (such as saliva), and toothpaste as an electrolyte.

전극 구조체(200)에서 발생된 미세 전류는 물, 타액(침), 치약 등을 매개로 하여 구강 내 점막 등을 자극하거나, 구강 내 점막 등을 통해 전류가 흐를 수 있다. 구강 내로 이동한 미세 전류는 손상을 입었거나 정상적인 상태가 아닌 세포가 정상 상태가 될 수 있도록 활성화시킬 수 있다. 이에 따라 미세 전류는 구강 질환을 치료하거나, 예방하는 역할을 수행할 수 있다.The microcurrent generated in the electrode structure 200 may stimulate mucous membranes in the oral cavity through water, saliva (saliva), toothpaste, or the like, or current may flow through the mucous membranes in the oral cavity. Microcurrents traveling into the oral cavity can activate damaged or abnormal cells to become normal. Accordingly, the microcurrent may play a role of treating or preventing oral diseases.

전극 구조체(200)는 헤드부(100)의 패턴 삽입부(150)에 삽입될 수 있다. 전극 구조체(200)는 금속 재질로 이루어질 수 있다. 금속 재질의 전극 구조체(200)는 비금속 재질의 헤드부(100)에 결합될 수 있다. 이에 따라, 패턴 삽입부(150)에 삽입된 전극 구조체(200)는 헤드부(100)에 고정될 수 있다. 예시적인 실시예에서, 전극 구조체(200)는 헤드부(100)에 초음파 접합될 수 있으나, 전극 구조체(200)와 헤드부(100) 간의 결합이 인체에 유해성을 제공하지 않는다면 결합 방법이 이에 제한되는 것은 아니다. The electrode structure 200 may be inserted into the pattern insertion part 150 of the head part 100. The electrode structure 200 may be made of a metal material. The electrode structure 200 made of a metal material may be coupled to the head part 100 made of a non-metal material. Accordingly, the electrode structure 200 inserted into the pattern insertion part 150 may be fixed to the head part 100. In an exemplary embodiment, the electrode structure 200 may be ultrasonically bonded to the head part 100, but if the coupling between the electrode structure 200 and the head part 100 does not harm the human body, the coupling method is limited thereto. It does not become.

전극 구조체(200)는 제1 금속 패턴(210) 및 제2 금속 패턴(220)을 포함할 수 있다. 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)은 서로 상이한 금속 재질로 이루어질 수 있다. 이에 따라, 전극 구조체(200)는 제1 금속 패턴(210) 및 제2 금속 패턴(220) 간의 산화 및 환원 현상과 전해질(물, 타액, 치약 등)을 이용하여 미세 전류를 발생시킬 수 있다. The electrode structure 200 may include a first metal pattern 210 and a second metal pattern 220. The first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 may be formed of different metal materials. Accordingly, the electrode structure 200 may generate a microcurrent using oxidation and reduction phenomena between the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 and an electrolyte (water, saliva, toothpaste, etc.).

제1 금속 패턴(210)은 제1 반응성를 갖는 제1 금속물질을 포함할 수 있다. 또, 제2 금속 패턴(220)은 제1 반응성과 상이한 제2 반응성를 갖는 제2 금속 물질을 포함할 수 있다. The first metal pattern 210 may include a first metal material having a first reactivity. Further, the second metal pattern 220 may include a second metal material having a second reactivity different from the first reactivity.

예시적인 실시예에서, 제1 금속 물질은 구리(Cu), 산화구리(CuO2), 리튬코발트산화물(LiCoO2), 은(Ag), 금(Au), 백금(Pt), 또는 이들의 합금, 또는 이들의 도금체 등을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 금속 물질은 은, 금 또는 백금을 도금한 구리, 산화구리, 또는 리튬코발트산화물일 수 있다. 또, 제2 금속 물질은 알루미늄(Al), 아연(Zn), 산화코발트(CoO), 마그네슘(Mg), 철(Fe), 또는 이들의 합금, 또는 이들의 도금체 등을 포함할 수 있다. 이에 따라, 제1 금속 패턴(210)은 환원전극 또는 양전극(anode)을 형성할 수 있고, 제2 금속 패턴(220)은 산화 전극 또는 음전극(cathode)을 형성할 수 있다. In an exemplary embodiment, the first metal material is copper (Cu), copper oxide (CuO 2 ), lithium cobalt oxide (LiCoO 2 ), silver (Ag), gold (Au), platinum (Pt), or an alloy thereof. , Or a plated body thereof. For example, the first metal material may be silver, gold or platinum plated copper, copper oxide, or lithium cobalt oxide. In addition, the second metal material may include aluminum (Al), zinc (Zn), cobalt oxide (CoO), magnesium (Mg), iron (Fe), or an alloy thereof, or a plated body thereof. Accordingly, the first metal pattern 210 may form a cathode or a positive electrode, and the second metal pattern 220 may form an oxide electrode or a cathode.

제1 금속 패턴(210)은 헤드부(100)의 배면(102) 상에 배치될 수 있다. 제1 금속 패턴(210)은 패턴 삽입부(150)의 제1 그루브(151)에 삽입될 수 있다. 제1 금속 패턴(210)은 제1 방향(X)으로 연장된 복수의 제1 연장부들(211)을 포함할 수 있다. 실시예에서 제1 금속 패턴(210)은 3개의 제1 연장부들(211)을 포함할 수 있으나, 복수의 제1 연장부들(211)의 개수는 이에 한정되는 것은 아니다. The first metal pattern 210 may be disposed on the rear surface 102 of the head part 100. The first metal pattern 210 may be inserted into the first groove 151 of the pattern insertion part 150. The first metal pattern 210 may include a plurality of first extension parts 211 extending in the first direction X. In an embodiment, the first metal pattern 210 may include three first extension portions 211, but the number of the plurality of first extension portions 211 is not limited thereto.

복수의 제1 연장부들(211)은 서로 이격될 수 있다. 제1 연장부들(211)은 제1 방향(X)과 교차하는 제2 방향(Y)을 따라 이격 배열될 수 있다. 실시예에서, 제2 방향(Y)은 제1 방향(X)과 수직한 방향일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The plurality of first extension parts 211 may be spaced apart from each other. The first extension parts 211 may be spaced apart from each other along the second direction Y crossing the first direction X. In an embodiment, the second direction Y may be a direction perpendicular to the first direction X, but is not limited thereto.

예시적인 실시예에서, 제1 연장부(211)는 제2 방향(Y)으로 이격된 복수의 제1-1 연장부(211a) 및 제1-1 연장부(211a) 사이에 배치된 하나 이상의 제1-2 연장부(211b)를 포함할 수 있다. 제1-1 연장부(211a)는 제1 금속 패턴(210)의 연장부들 중, 제2 방향(Y) 최외곽 가장자리에 위치한 연장부이고, 제1-2 연장부(211b)는 그 사이에 위치한 연장부를 의미할 수 있다.In an exemplary embodiment, the first extension part 211 is disposed between the plurality of 1-1 extension parts 211a and 1-1 extension parts 211a spaced apart in the second direction (Y). It may include a 1-2 extension part 211b. The 1-1 extension part 211a is an extension part located at the outermost edge of the second direction Y among the extension parts of the first metal pattern 210, and the 1-2 extension part 211b is interposed therebetween. It may mean a located extension.

제1 금속 패턴(210)은 제2 방향(Y)으로 서로 이격된 제1 연장부들(211)을 전기적으로 연결하는 제1 연결부(213)를 포함할 수 있다. 실시예에서, 제1 연결부(213)는 제1 연장부들(211) 각각의 일단을 서로 연결할 수 있다. 제1 연결부(213)는 평면적 관점에서 곡선 또는 호 형상일 수 있다. 이에 따라, 제1 금속 패턴(210)은 대략 ∈ 모양 패턴으로 형성될 수 있다. 이와 달리, 다른 실시예에서, 제1 연결부(213)는 직선 형상일 수도 있다. The first metal pattern 210 may include a first connection part 213 electrically connecting the first extension parts 211 spaced apart from each other in the second direction Y. In an embodiment, the first connection part 213 may connect one end of each of the first extension parts 211 to each other. The first connection part 213 may have a curved or arc shape in a plan view. Accordingly, the first metal pattern 210 may be formed in an approximately ∈ shape pattern. Alternatively, in another embodiment, the first connector 213 may have a linear shape.

제2 금속 패턴(220)은 헤드부(100)의 배면(102) 상에 배치될 수 있다. 제2 금속 패턴(220)은 패턴 삽입부(150)의 제2 그루브(152)에 삽입될 수 있다. 제2 금속 패턴(220)은 제1 방향(X)으로 연장된 복수의 제2 연장부(221)를 포함할 수 있다. 실시예에서 제2 금속 패턴(220)은 2개의 제2 연장부들(221)을 포함할 수 있으나, 제2 연장부(221)의 개수는 이에 한정되는 것은 아니다. The second metal pattern 220 may be disposed on the rear surface 102 of the head part 100. The second metal pattern 220 may be inserted into the second groove 152 of the pattern insertion part 150. The second metal pattern 220 may include a plurality of second extension parts 221 extending in the first direction X. In an embodiment, the second metal pattern 220 may include two second extension portions 221, but the number of the second extension portions 221 is not limited thereto.

제2 연장부(221)는 적어도 부분적으로 서로 인접한 제1 연장부들(211) 사이에 위치될 수 있다. 예를 들면, 제2 연장부들(221)의 각각은 서로 인접한 제1 연장부들(211)의 사이 공간에 위치될 수 있다. 구체적으로, 어느 제2 연장부(221)는 서로 제2 방향(Y)으로 이격된 제1-1 연장부(211a)와 제1-2 연장부(211b) 사이에 위치할 수 있다.The second extension part 221 may be at least partially positioned between the first extension parts 211 adjacent to each other. For example, each of the second extension parts 221 may be located in a space between the first extension parts 211 adjacent to each other. Specifically, the second extension part 221 may be positioned between the 1-1th extension part 211a and the 1-2nd extension part 211b spaced apart from each other in the second direction Y.

이에 따라, 복수의 제2 연장부들(221)은 서로 제2 방향(Y)을 따라 배열될 수 있고, 제1 연장부(211)와 제2 연장부(221)는 제2 방향(Y)을 따라 서로 교번적으로 배치된 이격 구조를 가질 수 있다. 즉, 전극 구조체(200)는 제2 방향(Y)을 따라 양전극과 음전극을 서로 번갈아가며 배치된 이격 구조를 가질 수 있다. 제1 연장부들(211)과 제2 연장부들(221)이 제2 방향(Y)으로 서로 교번적으로 배치된 이격 구조를 가짐으로써, 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)의 평면상 대면 면적이 극대화될 수 있다. 이를 통해 전극 구조체(200)는 별도의 전원 공급 없이도 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220) 간의 산화 환원 반응 및 물, 타액(침 등), 치약 등의 전해질을 이용하여 제1 금속 패턴(210) 및 제2 금속 패턴(220) 사이에 인체에 무해한 1,000㎂ 미만, 예컨대 100㎂ 내지 400㎂, 또는 약 100㎂ 내지 200㎂ 수준의 미세 전류를 발생시킬 수 있다. 미세 전류를 발생시키는 상세한 과정은 후술한다. Accordingly, the plurality of second extension parts 221 may be arranged along the second direction Y, and the first extension part 211 and the second extension part 221 are in the second direction Y. Accordingly, it is possible to have a spaced structure alternately arranged with each other. That is, the electrode structure 200 may have a spaced structure in which the positive electrode and the negative electrode are alternately disposed along the second direction Y. The first extension parts 211 and the second extension parts 221 have a spaced structure alternately arranged with each other in the second direction Y, so that the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 The face-to-face area on the plane of can be maximized. Through this, the electrode structure 200 uses an oxidation-reduction reaction between the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 and an electrolyte such as water, saliva (saliva), and toothpaste without a separate power supply. Between the metal pattern 210 and the second metal pattern 220, a minute current of less than 1,000 ㎂ harmless to the human body, for example, 100 ㎂ to 400 ㎂, or about 100 ㎂ to 200 ㎂ may be generated. A detailed process of generating a micro current will be described later.

제2 금속 패턴(220)은 제2 방향(Y)으로 서로 이격된 제2 연장부들(221)을 전기적으로 연결하는 제2 연결부(223)를 포함할 수 있다. 실시예에서, 제2 연결부(223)는 제2 연장부들(221) 각각의 일단을 서로 연결할 수 있다. 제2 연결부(223)는 평면적 관점에서 곡선 또는 호 형상일 수 있다. 이에 따라 제2 금속 패턴(220)은 대략 ⊂ 모양 패턴으로 형성될 수 있다. 이와 달리, 다른 실시예에서, 제2 연결부(223)는 직선 형상일 수도 있다. The second metal pattern 220 may include a second connection part 223 electrically connecting the second extension parts 221 spaced apart from each other in the second direction Y. In an embodiment, the second connection part 223 may connect one end of each of the second extension parts 221 to each other. The second connection part 223 may have a curved or arc shape in a plan view. Accordingly, the second metal pattern 220 may be formed in an approximately ⊂-shaped pattern. Alternatively, in another embodiment, the second connection portion 223 may have a linear shape.

제1 연결부(213)와 제2 연결부(223)는 서로 마주보게 위치될 수 있다. 실시예에서, 제1 연결부(213)는 제2 연결부(223)로부터 제1 방향(X)으로 이격되어 위치될 수 있다. 예를 들면, 제2 연결부(223)는 제1 연결부(213)보다 그립부(300)에 인접하게 위치될 수 있다.The first connector 213 and the second connector 223 may be positioned to face each other. In an embodiment, the first connection part 213 may be spaced apart from the second connection part 223 in the first direction X. For example, the second connection part 223 may be positioned closer to the grip part 300 than the first connection part 213.

예시적인 실시예에서, 상대적으로 산화도가 작은 제1 금속 패턴(210)의 제1 연장부(211)의 개수는 상대적으로 산화도가 큰 제2 금속 패턴(220)의 제2 연장부(221)의 개수 보다 클 수 있다. 본 발명의 발명자들은 은(Ag) 도금된 구리(Cu) 등의 산화도가 작은 소재를 이용한 제1 금속 패턴(210)의 연장부의 개수가 피막이 형성된 철(Fe) 등의 산화도가 큰 소재를 이용한 제2 금속 패턴(220)의 연장부의 개수 보다 많은 경우, 그렇지 않은 경우에 비해 상대적으로 전류의 발생이 더 용이한 것을 발견하고 본 발명을 완성하기에 이르렀다. In an exemplary embodiment, the number of the first extension portions 211 of the first metal pattern 210 with a relatively small degree of oxidation is the second extension portion 221 of the second metal pattern 220 with a relatively high degree of oxidation. Can be greater than the number of ). The inventors of the present invention use a material with a high degree of oxidation, such as iron (Fe), in which a film is formed, in which the number of extensions of the first metal pattern 210 using a material with a small oxidation degree such as silver (Ag) plated copper (Cu) When the number of extensions of the used second metal pattern 220 is greater than the number of extensions, it has been found that generation of current is relatively easier than that of the other, and the present invention has been completed.

본 발명이 어떠한 이론에 국한되는 것은 아니나, 예를 들어 부식 방지를 위해 은이 도금된 구리의 경우 은으로 이루어진 피막이 매우 얇아 전자를 얻기가 쉽지 않을 수 있다. 따라서 평면상 면적 등에 있어 환원 전극을 산화 전극 보다 크게 형성하는 것이 바람직할 수 있다. 즉, 제1 금속 패턴(210)의 제1 연장부(211)와 제2 금속 패턴(220)의 제2 연장부(221)를 교번적으로 형성하되, 제1 금속 패턴(210)이 대략 제2 금속 패턴(220)을 둘러싸는 형태로 형성하여 미세 전류의 발생을 용이하게 하고, 미세 전류의 크기를 증가시키는 효과가 있다.Although the present invention is not limited to any theory, for example, in the case of copper plated with silver to prevent corrosion, it may not be easy to obtain electrons because the film made of silver is very thin. Therefore, it may be desirable to form the reduction electrode larger than the oxidation electrode in terms of a planar area or the like. That is, the first extension part 211 of the first metal pattern 210 and the second extension part 221 of the second metal pattern 220 are alternately formed, but the first metal pattern 210 is 2 There is an effect of facilitating generation of microcurrent by forming a shape surrounding the metal pattern 220 and increasing the magnitude of microcurrent.

한편, 전술한 바와 같이, 패턴 삽입부(150)는 제1 그루브(151) 및 제2 그루브(152)를 포함할 수 있다. 제1 그루브(151) 및 제2 그루브(152)는 헤드부(100)의 배면(102)으로부터 일면(101) 방향으로 함몰된 함몰 패턴일 수 있다. 또, 제1 그루브(151)와 제2 그루브(152)는 연결되지 않을 수 있다. 이에 따라 제1 그루브(151)와 제2 그루브(152)의 평면 방향 사이에는 유전 격벽(155)이 형성될 수 있다. 복수의 유전 격벽(155)은 서로 물리적으로 연결된 상태일 수 있다. 또, 유전 격벽(155)은 칫솔(11)의 헤드부(100)에 포함되어 헤드부(100)와 물리적 경계 없이 일체로 형성될 수 있다.Meanwhile, as described above, the pattern insertion unit 150 may include a first groove 151 and a second groove 152. The first groove 151 and the second groove 152 may be a concave pattern recessed from the rear surface 102 of the head portion 100 in the direction of the one surface 101. Also, the first groove 151 and the second groove 152 may not be connected. Accordingly, a dielectric barrier rib 155 may be formed between the first groove 151 and the second groove 152 in the planar direction. The plurality of dielectric barrier ribs 155 may be physically connected to each other. Further, the dielectric barrier rib 155 may be included in the head portion 100 of the toothbrush 11 and may be integrally formed with the head portion 100 without a physical boundary.

제1 그루브(151)는 제1 금속 패턴(210)과 대응된 형상으로 이루어질 수 있다. 이에 따라, 제1 금속 패턴(210)은 제1 그루브(151)에 삽입될 수 있다. 마찬가지로 제2 그루브(152)는 제2 금속 패턴(220)과 대응된 형상으로 이루어질 수 있다. 이에 따라, 제2 금속 패턴(220)은 제2 그루브(152)에 삽입될 수 있다. The first groove 151 may have a shape corresponding to the first metal pattern 210. Accordingly, the first metal pattern 210 may be inserted into the first groove 151. Likewise, the second groove 152 may have a shape corresponding to the second metal pattern 220. Accordingly, the second metal pattern 220 may be inserted into the second groove 152.

유전 격벽들(155)의 각각은 제1 그루브(151)와 제2 그루브(152) 사이에 위치될 수 있다. 이에 따라 유전 격벽들(155)의 각각은 제1 그루브(151)의 공간과 제2 그루브(152)의 공간을 구획할 수 있다. 유전 격벽(155)의 제3 방향(Z)으로의 높이는 제1 그루브(151) 및/또는 제2 그루브(152)의 깊이, 또는 제1 그루브(151) 및/또는 제2 그루브(152)의 내측벽의 높이와 대략 상응할 수 있다.Each of the dielectric barrier ribs 155 may be positioned between the first groove 151 and the second groove 152. Accordingly, each of the dielectric barrier ribs 155 may divide the space of the first groove 151 and the space of the second groove 152. The height of the dielectric partition wall 155 in the third direction (Z) is the depth of the first groove 151 and/or the second groove 152, or of the first groove 151 and/or the second groove 152. It may approximately correspond to the height of the inner wall.

예시적인 실시예에서, 유전 격벽(155)의 높이는 제1 금속 패턴(210) 및/또는 제2 금속 패턴(220)의 제3 방향(Z)으로의 두께, 구체적으로 제1 연장부(211)와 제2 연장부(221)의 제3 방향(Z)으로의 최대 두께 보다 클 수 있다. 즉, 헤드부(100)의 배면(102)과 제1 금속 패턴(210) 및/또는 제2 금속 패턴(220)의 노출면은 상이한 레벨에 위치할 수 있다.In an exemplary embodiment, the height of the dielectric barrier rib 155 is the thickness of the first metal pattern 210 and/or the second metal pattern 220 in the third direction Z, specifically, the first extension part 211 And the maximum thickness of the second extension part 221 in the third direction Z. That is, the rear surface 102 of the head unit 100 and the exposed surface of the first metal pattern 210 and/or the second metal pattern 220 may be positioned at different levels.

인간의 구강 내 이물질, 예컨대 음식물 찌꺼기 등 중 일부는 미세한 도전성을 가질 수 있다. 이러한 도전성은 동력 없이 미세 전류를 발생시키는 산화 환원 반응에 영향을 미칠 수 있다. 예를 들어, 도전성을 갖는 이물질이 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)을 직접 도통시킬 경우 미세 전류가 발생하지 않거나, 적어도 미세 전류의 발생 효율이 현저하게 저하될 수 있다.Some of foreign substances in the human oral cavity, such as food waste, may have fine conductivity. This conductivity can affect redox reactions that generate microcurrents without power. For example, when a conductive foreign material directly conducts the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220, the microcurrent may not be generated, or at least the generation efficiency of the microcurrent may be significantly reduced.

따라서 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)을 각각 제1 그루브(151) 및 제2 그루브(152) 내에 삽입하되, 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)을 그루브 내에 완전히 삽입하여 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)이 의도치 않은 이물질에 의해 영향을 받는 것을 최소화할 수 있다.Therefore, the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 are inserted into the first groove 151 and the second groove 152, respectively, but the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 Is completely inserted into the groove to minimize the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 from being affected by unintended foreign substances.

서로 인접한 제1 연장부(211)와 제2 연장부(221)는 물 등의 전해질에 의해 산화 및 환원 반응을 발생시킬 수 있다. 실시예에서, 제1 연장부(211)는 환원반응에 의해 양전극을 형성할 수 있고, 제2 연장부(221)는 산화반응에 의해 음전극을 형성할 수 있다. 유전 격벽(155)에 존재하는 자유전자나 이온에 의하여 제1 연장부(211)에서 제2 연장부(221)를 향해 미세 전류가 흐를 수 있다. The first extension part 211 and the second extension part 221 adjacent to each other may generate oxidation and reduction reactions by an electrolyte such as water. In an embodiment, the first extension part 211 may form a positive electrode through a reduction reaction, and the second extension part 221 may form a negative electrode through an oxidation reaction. A minute current may flow from the first extension part 211 to the second extension part 221 by free electrons or ions existing in the dielectric barrier rib 155.

미세 전류는 유전 격벽(155)의 유전률이 커지거나, 서로 인접한 제1 연장부(211)와 제2 연장부(221) 사이의 거리가 작아질수록 커질 수 있다. 실시예에서, 유전 격벽들(155)은 헤드부(100)와 동일한 플라스틱, 예컨대 폴리페닐렌설파이드(PPS) 수지 등이거나, 또는 세라믹 재질일 수 있다. 이와 달리 다른 실시예에서, 유전 격벽들(155)은 헤드부(100)와 상이고 헤드부(100)보다 유전률이 큰 재질로 이루어질 수 있다. The minute current may increase as the dielectric constant of the dielectric barrier rib 155 increases or the distance between the adjacent first and second extension portions 211 and 221 increases. In an embodiment, the dielectric barrier ribs 155 may be made of the same plastic as the head part 100, such as polyphenylene sulfide (PPS) resin, or a ceramic material. Alternatively, in another embodiment, the dielectric barrier ribs 155 may be formed of a material that is different from the head portion 100 and has a higher dielectric constant than the head portion 100.

앞서 설명한 것과 같이 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)의 이격 거리를 작게 할수록 발생되는 미세 전류의 크기를 크게 할 수 있다. 그러나 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)의 이격 거리가 작아질수록 양 금속 패턴 간의 의도치 않은 단락(short)이 발생하여 미세 전류 발생 기능을 갖지 못하거나, 이를 위한 제조 비용의 상승을 야기할 수 있다. 그러나 본 실시예에 따른 칫솔(11)은 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220) 간의 이격 거리를 충분히 작게 하면서도, 단락을 미연에 방지할 수 있고 제조 비용을 절감할 수 있다.As described above, the smaller the separation distance between the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220, the greater the magnitude of the microcurrent generated. However, as the separation distance between the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 decreases, an unintended short occurs between the two metal patterns, so that a micro current generation function may not be provided, or manufacturing cost for this Can cause an increase in However, the toothbrush 11 according to the present exemplary embodiment can prevent a short circuit in advance and reduce manufacturing cost while sufficiently shortening the separation distance between the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220.

이하, 본 발명의 다른 실시예들에 대해 설명한다. 다만 전술한 실시예에 따른 칫솔(11)과 동일하거나 극히 유사한 구성에 대한 설명은 생략하며, 이는 첨부된 도면으로부터 본 기술분야에 속하는 통상의 기술자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.Hereinafter, other embodiments of the present invention will be described. However, a description of the same or extremely similar configuration as the toothbrush 11 according to the above-described embodiment will be omitted, which will be clearly understood by those skilled in the art from the accompanying drawings.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 칫솔(12)의 단면도로서, 도 4와 대응되는 위치를 나타낸 단면도이다. 5 is a cross-sectional view of a toothbrush 12 according to another embodiment of the present invention, showing a position corresponding to that of FIG. 4.

도 5를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 칫솔(12)은 헤드부(100), 그립부(300), 및 전극 구조체(200)를 포함할 수 있다. 또한, 헤드부(100)는 패턴 삽입부(150), 유전 격벽들(155) 및 유전층(160)을 포함할 수 있다. 즉, 본 실시예의 칫솔(12)은 헤드부(100)의 배면(102) 상에 유전층(160)이 더 배치된 점이 도 4 등의 실시예에 따른 칫솔(11)과 상이한 점이다.Referring to FIG. 5, a toothbrush 12 according to another embodiment of the present invention may include a head portion 100, a grip portion 300, and an electrode structure 200. In addition, the head part 100 may include a pattern insertion part 150, dielectric barrier ribs 155, and a dielectric layer 160. That is, the toothbrush 12 of this embodiment differs from the toothbrush 11 according to the embodiment of FIG. 4 in that the dielectric layer 160 is further disposed on the rear surface 102 of the head portion 100.

유전층(160)은 헤드부(100)의 배면(102) 상에 위치될 수 있다. 실시예에서, 유전층(160)은 유전 격벽들(155), 제1 그루브(151) 및 제2 그루브(152) 상에 걸쳐서 배치될 수 있다. 즉, 유전층(160)은 유전 격벽(155)의 상면과 측면 및 제1 그루브(151)와 제2 그루브(152)의 기저면 상에 배치될 수 있다. 또, 유전층(160)은 적어도 부분적으로 제1 그루브(151)와 제2 그루브(152) 내에 위치할 수 있다.The dielectric layer 160 may be located on the rear surface 102 of the head portion 100. In an embodiment, the dielectric layer 160 may be disposed over the dielectric barrier ribs 155, the first groove 151 and the second groove 152. That is, the dielectric layer 160 may be disposed on the top and side surfaces of the dielectric barrier rib 155 and on the base surfaces of the first and second grooves 151 and 152. Further, the dielectric layer 160 may be at least partially located in the first groove 151 and the second groove 152.

이에 따라 제1 그루브(151)에 삽입된 제1 금속 패턴(210)은 유전층(160) 상에 위치될 수 있다. 또한, 제2 그루브(152)에 삽입된 제2 금속 패턴(220) 또한 유전층(160) 상에 위치될 수 있다. 제1 금속 패턴(210) 및 제2 금속 패턴(220)은 유전층(160)과 제3 방향(Z)으로 중첩 배치될 수 있다. 또, 유전층(160)은 서로 인접한 제1 연장부(211)와 유전 격벽(155) 사이 및 서로 인접한 제2 연장부(221)와 유전 격벽(155) 사이에 위치될 수 있다.Accordingly, the first metal pattern 210 inserted into the first groove 151 may be positioned on the dielectric layer 160. In addition, the second metal pattern 220 inserted into the second groove 152 may also be positioned on the dielectric layer 160. The first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 may be disposed to overlap the dielectric layer 160 in the third direction Z. Further, the dielectric layer 160 may be positioned between the first extension portion 211 and the dielectric barrier rib 155 adjacent to each other, and between the second extension portion 221 and the dielectric barrier rib 155 adjacent to each other.

유전층(160)은 유전 격벽(155)의 유전율보다 더 큰 유전률을 가질 수 있다. 이에 따라 유전층(160)은 전극 구조체(200)가 물 등의 전해질과 유전 격벽(155)에 의해 발생되는 미세전류를 더 크게 생성시킬 수 있다. 예를 들면, 유전층(160)은 실리콘 등의 재질로 이루어질 수 있다. The dielectric layer 160 may have a dielectric constant greater than that of the dielectric barrier rib 155. Accordingly, the dielectric layer 160 may generate a larger microcurrent generated by the electrode structure 200 and the dielectric barrier rib 155 and an electrolyte such as water. For example, the dielectric layer 160 may be made of a material such as silicon.

도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 칫솔(13)의 배면사시도이다. 도 7은 도 6의 제1 금속 패턴(210) 및 제2 금속 패턴(220)을 나타낸 사시도이다. 도 8은 도 6의 A-A' 선을 따라 절개한 단면도이다. 도 9는 도 8의 C부분을 확대한 확대도이다. 도 10은 도 6의 B-B' 선을 따라 절개한 단면도이다.6 is a rear perspective view of a toothbrush 13 according to another embodiment of the present invention. 7 is a perspective view illustrating the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 of FIG. 6. 8 is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 6. 9 is an enlarged view of part C of FIG. 8. 10 is a cross-sectional view taken along line B-B' of FIG. 6.

도 6 내지 도 10을 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 칫솔(13)은 헤드부(100), 그립부(300), 및 전극 구조체(200)를 포함할 수 있다. 헤드부(100)는 패턴 삽입부(150) 및 유전 격벽들(155)을 포함할 수 있다. 패턴 삽입부(150)는 제1 그루브(151)와 제2 그루브(152)를 포함할 수 있다. 6 to 10, the toothbrush 13 according to another embodiment of the present invention may include a head portion 100, a grip portion 300, and an electrode structure 200. The head part 100 may include a pattern insertion part 150 and dielectric barrier ribs 155. The pattern insertion unit 150 may include a first groove 151 and a second groove 152.

전극 구조체(200)는 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)을 포함할 수 있다. 제1 금속 패턴(210)은 복수의 제1 연장부들(211)과 제1 연결부(213)를 포함할 수 있다. 제2 전극 구조체(200)는 복수의 제2 연장부들(221)과 제2 연결부(223)를 포함할 수 있다. The electrode structure 200 may include a first metal pattern 210 and a second metal pattern 220. The first metal pattern 210 may include a plurality of first extension parts 211 and a first connection part 213. The second electrode structure 200 may include a plurality of second extension parts 221 and a second connection part 223.

본 실시예의 칫솔(13)은 제1 금속 패턴(210)이 제2 금속 패턴(220) 보다 그립부(300)에 인접하게 위치, 구체적으로 제1 연결부(213)가 제2 연결부(223)보다 그립부(300)에 인접하게 위치하는 점이 도 1 등의 실시예에 따른 칫솔(11)과 상이한 점이다.In the toothbrush 13 of the present embodiment, the first metal pattern 210 is positioned closer to the grip part 300 than the second metal pattern 220, specifically, the first connection part 213 is the grip part more than the second connection part 223. A point located adjacent to 300 is different from the toothbrush 11 according to the embodiment of FIG. 1 and the like.

또, 도 8 및 도 10에 도시된 것과 같이 제1 그루브(151)의 내측벽 및 제2 그루브(152)의 내측벽은 적어도 부분적으로 테이퍼 또는 역테이퍼진 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 제1 그루브(151)의 내측벽 및 제2 그루브(152)의 내측벽은 각각 제1 금속 패턴(210) 및 제2 금속 패턴(220)을 향해 경사진 내측벽을 가질 수 있다.In addition, as shown in FIGS. 8 and 10, the inner wall of the first groove 151 and the inner wall of the second groove 152 may at least partially have a tapered or reverse tapered shape. For example, the inner wall of the first groove 151 and the inner wall of the second groove 152 may have inner walls that are inclined toward the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220, respectively. .

구체적으로, 제1 그루브(151) 및 제2 그루브(152)의 내측벽은 예각을 형성하고, 헤드부(100)는 제1 금속 패턴(210) 및 제2 금속 패턴(220)과 제3 방향(Z)으로 중첩하되, 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)의 노출된 상면을 적어도 부분적으로 커버할 수 있다. 본 명세서에서, 그루브의 내측벽의 경사각은 그루브의 기저면과 측면이 형성하는 각도를 의미한다. 더 구체적으로, 헤드부(100)는 제1 금속 패턴(210) 및 제2 금속 패턴(220)의 노출된 상면과 적어도 부분적으로 대면할 수 있다.Specifically, the inner walls of the first groove 151 and the second groove 152 form an acute angle, and the head part 100 has the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 and the third direction. While overlapping with (Z), the exposed upper surfaces of the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 may be at least partially covered. In the present specification, the inclination angle of the inner wall of the groove means an angle formed by the base surface and the side surface of the groove. More specifically, the head part 100 may at least partially face the exposed upper surfaces of the first and second metal patterns 210 and 220.

어느 그루브, 예컨대 제1 그루브(151)의 기저면의 제2 방향(Y)으로의 폭(W1)은 제1 그루브(151)의 상단부의 제2 방향(Y)으로의 폭(W2) 보다 클 수 있다. 제1 그루브(151)의 상단부의 제2 방향(Y)으로의 폭(W2)은 제1 금속 패턴(210)의 제1 연장부(211)의 제2 방향(Y)으로의 폭(W3) 보다 작을 수 있다. 또, 도면 부호로 표현하지 않았으나, 어느 그루브, 예컨대 제2 그루브(152)의 기저면의 제1 방향(X)으로의 폭은 제2 그루브(152)의 상단부의 제1 방향(X)으로의 폭 보다 클 수 있다. 제2 그루브(152)의 상단부의 제1 방향(X)으로의 폭은 제2 금속 패턴(220)의 제2 연결부(223)의 제1 방향(X)으로의 폭 보다 작을 수 있다.The width (W1) of the base surface of the first groove (151) in the second direction (Y) may be greater than the width (W2) of the upper end of the first groove (151) in the second direction (Y). have. The width W2 of the upper end of the first groove 151 in the second direction Y is the width W3 of the first extension 211 of the first metal pattern 210 in the second direction Y Can be smaller than In addition, although not represented by reference numerals, the width in the first direction (X) of a groove, for example, the base surface of the second groove 152 is the width in the first direction (X) of the upper end of the second groove 152 Can be greater than The width of the upper end of the second groove 152 in the first direction X may be smaller than the width of the second connection part 223 of the second metal pattern 220 in the first direction X.

이는 칫솔(13)의 헤드부(100)의 제1 방향(X)의 일 측면(즉, 칫솔의 헤드부측 가장자리)과 헤드부(100)의 제2 방향(Y)의 양 측면을 각각 제1 방향(X) 및 제2 방향(Y)으로 압력을 가해 압축 변형시켜 발생한 구조일 수 있다. 이에 따라 칫솔(13)의 헤드부(100)의 외곽 측면 또한 경사진 형상을 가질 수 있다.This means that one side of the toothbrush 13 in the first direction X (that is, the edge of the head of the toothbrush) and both sides of the head part 100 in the second direction Y are respectively first It may be a structure generated by compressive deformation by applying pressure in the direction (X) and the second direction (Y). Accordingly, the outer side surface of the head portion 100 of the toothbrush 13 may also have an inclined shape.

본 실시예와 같이 칫솔(13)이 서로 상이한 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)을 포함할 경우, 헤드부(100)와 제1 금속 패턴(210) 및 제2 금속 패턴(220)을 결합시키는 것은 미세 전류의 발생 효율에 영향을 미치는 매우 중요한 요소일 수 있다. 특히, 제1 금속 패턴(210) 및 제2 금속 패턴(220)이 인간의 구강 내에서 사용되기 때문에 이들의 결합 방법은 인체에 유독성을 미칠 수도 있다. 예를 들어, 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)을 접착제 등을 이용하여 헤드부(100)에 부착할 경우 접착제의 유독 성분이 지속적으로 인간의 구강에 녹아드는 문제가 발생할 수 있다.When the toothbrush 13 includes the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 that are different from each other as in this embodiment, the head part 100 and the first metal pattern 210 and the second metal pattern Coupling 220 may be a very important factor affecting the generation efficiency of the microcurrent. In particular, since the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 are used in the oral cavity of a human, a combination method thereof may have toxic effects on the human body. For example, when attaching the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 to the head part 100 using an adhesive or the like, a problem in which toxic components of the adhesive continuously dissolve in the human oral cavity may occur. I can.

이를 해결하기 위해 본 발명의 발명자들은 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)을 헤드부(100)와 초음파 접합하되, 내구성을 더 높이는 방법을 발견하고 본 발명을 완성하기에 이르렀다. In order to solve this problem, the inventors of the present invention have discovered a method of ultrasonically bonding the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 with the head part 100, but to further increase the durability, and have come to complete the present invention. .

즉, 초음파 접합 만으로는 칫솔(13)을 지속적으로 사용함에 따라 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)이 헤드부(100)로부터 박리될 수 있기 때문에, 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)을 제1 그루브(151) 및 제2 그루브(152)에 삽입한 후, 칫솔의 헤드부(100)를 제1 방향(X) 및 제2 방향(Y)으로 압축하여 제1 그루브(151) 및 제2 그루브(152)의 상단 개구 크기를 감소시키고, 이를 통해 제1 금속 패턴(210) 및 제2 금속 패턴(220)이 헤드부(100)로부터 분리되는 것을 방지할 수 있다.That is, since the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 may be separated from the head part 100 as the toothbrush 13 is continuously used by only ultrasonic bonding, the first metal pattern 210 And the second metal pattern 220 are inserted into the first groove 151 and the second groove 152, and then the head portion 100 of the toothbrush is compressed in the first direction (X) and the second direction (Y). Thus, the size of the top openings of the first and second grooves 151 and 152 are reduced, thereby preventing the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 from being separated from the head part 100 can do.

구체적으로, 제2 방향(Y)으로 테이퍼진 제1 그루브(151)의 내측벽은 제1 금속 패턴(210)을 고정하고, 제1 방향(X)으로 테이퍼진 제2 그루브(152)의 내측벽은 제2 금속 패턴(220)을 고정할 수 있다.Specifically, the inner wall of the first groove 151 tapered in the second direction (Y) fixes the first metal pattern 210 and the inside of the second groove 152 tapered in the first direction (X). The sidewall may fix the second metal pattern 220.

만일 도 1 등의 실시예와 같이 제2 금속 패턴(220)이 제1 금속 패턴(210)에 비해 그립부(300) 측에 위치할 경우, 칫솔 헤드부(100)의 제1 방향(X) 및 제2 방향(Y)으로의 압축 변형에도 불구하고, 제1 금속 패턴(210)은 고정될 수 있으나 제2 금속 패턴(220)은 고정되지 않을 수 있다. 따라서 본 실시예에 따른 칫솔(13)은 제1 금속 패턴(210)을 제2 금속 패턴(220)에 비해 그립부(300) 측에 배치하여 이러한 문제를 해결할 수 있다.If the second metal pattern 220 is positioned on the grip part 300 side compared to the first metal pattern 210 as in the example of FIG. 1, the first direction X of the toothbrush head 100 and Despite the compression deformation in the second direction Y, the first metal pattern 210 may be fixed, but the second metal pattern 220 may not be fixed. Therefore, the toothbrush 13 according to the present exemplary embodiment may solve this problem by disposing the first metal pattern 210 on the grip part 300 side compared to the second metal pattern 220.

몇몇 실시예에서, 제1 그루브(151) 및 제2 그루브(152)의 내측벽, 즉 헤드부(100)가 부분적으로 테이퍼지고, 나아가 유전 격벽(155)의 일측 측면 및/또는 타측 측면 또한 테이퍼진 형상일 수도 있다. In some embodiments, the inner wall of the first groove 151 and the second groove 152, that is, the head portion 100 is partially tapered, and further, one side and/or the other side of the dielectric barrier rib 155 is also tapered. It may be a true shape.

한편, 도면으로 표현하지 않았으나 도 5의 실시예와 같이 헤드부(100)의 배면 상에 유전층이 위치할 수 있다. 이에 따라, 제1 그루브(151), 제2 그루브(152) 및 유전 격벽들(155) 상에 유전층(160)이 형성될 수 있다. 이에 대해서는 전술한 바 있으므로 중복되는 설명은 생략한다.Meanwhile, although not shown in the drawings, a dielectric layer may be positioned on the rear surface of the head portion 100 as in the exemplary embodiment of FIG. 5. Accordingly, the dielectric layer 160 may be formed on the first groove 151, the second groove 152, and the dielectric barrier ribs 155. Since this has been described above, a duplicate description will be omitted.

도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 칫솔(14)의 배면사시도이다. 도 12는 도 11의 전극 구조체(200)의 사시도이다. 도 13은 도 11의 A-A' 선을 따라 절개한 단면도로서, 제2 방향(Y)을 따라 절개한 단면도이다. 도 14는 도 12의 전극 구조체(200)를 절개한 단면도로서, 제2 방향(Y)을 따라 절개한 단면도이다.11 is a rear perspective view of a toothbrush 14 according to another embodiment of the present invention. 12 is a perspective view of the electrode structure 200 of FIG. 11. 13 is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 11 and taken along a second direction Y. 14 is a cross-sectional view of the electrode structure 200 of FIG. 12 taken along a second direction Y.

도 11 내지 도 14를 참조하면, 본 실시예에 따른 칫솔(14)은 칫솔 헤드부(100)와 전극 구조체(200)가 슬라이딩 결합되는 점이 도 1 등의 실시예에 따른 칫솔(11)과 상이한 점이다. 칫솔은 헤드부(100a), 그립부(300), 및 전극 구조체(200)를 포함할 수 있다. 11 to 14, the toothbrush 14 according to the present embodiment differs from the toothbrush 11 according to the embodiment such as FIG. 1 in that the toothbrush head portion 100 and the electrode structure 200 are slidingly coupled. Point. The toothbrush may include a head portion 100a, a grip portion 300, and an electrode structure 200.

헤드부(100a)는 일면 및 배면을 포함할 수 있다. 또한, 헤드부(100a)는 패턴 삽입부(150a)와 스토퍼부(180)를 포함할 수 있다. The head portion 100a may include one surface and a rear surface. In addition, the head portion 100a may include a pattern insertion portion 150a and a stopper portion 180.

본 발명의 패턴 삽입부(150a)는 홈 구조의 도 1의 패턴 삽입부(150)와 달리, 헤드부(100a)의 배면(102) 상에 돌출될 수 있다. 본 발명의 패턴 삽입부(150a)를 상세히 설명하면, 패턴 삽입부(150a)는 헤드부(100a)의 배면으로부터 제3 방향(Z) 타측으로 돌출될 수 있다. 또한, 패턴 삽입부(150a)는 헤드부(100a)의 경계를 따라 형성될 수 있다. 패턴 삽입부(150a)는 그립부(300)로부터 멀리 떨어진 헤드부(100a)의 배면(102) 상에 위치될 수 있다. The pattern insertion portion 150a of the present invention may protrude on the rear surface 102 of the head portion 100a, unlike the pattern insertion portion 150 of FIG. 1 having a groove structure. When the pattern insertion portion 150a of the present invention is described in detail, the pattern insertion portion 150a may protrude from the rear surface of the head portion 100a to the other side in the third direction Z. In addition, the pattern insertion portion 150a may be formed along the boundary of the head portion 100a. The pattern insertion part 150a may be located on the rear surface 102 of the head part 100a far from the grip part 300.

패턴 삽입부(150a)는 후술할 전극 구조체(200)가 슬라이딩 삽입되는 슬라이딩 홈(156)을 포함할 수 있다. 슬라이딩 홈(156)은 패턴 삽입부(150a)의 내측면에서 외측면을 향해 함몰된 형태로 형성될 수 있다. The pattern insertion part 150a may include a sliding groove 156 into which an electrode structure 200 to be described later is slidably inserted. The sliding groove 156 may be formed to be recessed from the inner side of the pattern insertion part 150a toward the outer side.

스토퍼부(180)는 슬라이딩 홈(156)에 슬라이딩 삽입된 전극 구조체(200)가 슬라이딩 홈(156)에서 이탈하는 것을 방지하는 역할을 할 수 있다. 스토퍼부(180)에 대한 자세한 사항은 후술할 수 있다. The stopper unit 180 may serve to prevent the electrode structure 200 slidingly inserted into the sliding groove 156 from being separated from the sliding groove 156. Details of the stopper unit 180 may be described later.

전극 구조체(200)는 패턴 삽입부(150a)의 슬라이딩 홈(156)에 슬라이딩 삽입될 수 있다. 전극 구조체(200)는 베이스(250), 제1 금속 패턴(210), 및 제2 금속 패턴(220)을 포함할 수 있다. 실시예에서, 전극 구조체(200)는 유전부(260)을 더 포함할 수 있다. 유전부(260)는 유전 격벽일 수 있다. 유전부(260)는 베이스(250)와 물리적 경계 없이 일체로 형성될 수 있으나, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.The electrode structure 200 may be slidingly inserted into the sliding groove 156 of the pattern insertion portion 150a. The electrode structure 200 may include a base 250, a first metal pattern 210, and a second metal pattern 220. In an embodiment, the electrode structure 200 may further include a dielectric part 260. The dielectric part 260 may be a dielectric barrier rib. The dielectric part 260 may be integrally formed with the base 250 without a physical boundary, but the present invention is not limited thereto.

베이스(250)는 서로 대향된 제1 면(251)과 제2 면(252)을 가질 수 있다. 제2 면(252)은 헤드부(100a)의 배면과 마주보는 면일 수 있다. 이에 따라, 제2 면(252)은 전극 구조체(200)가 슬라이딩 홈(156)에 삽입될 때, 헤드부(100a)의 배면(102)과 접할 수 있다. 실시예에서 베이스(250)는 양단이 곡률지게 형성된 플레이트 형상으로 제공될 수 있다. 이와 달리, 다른 실시예에서, 베이스(250)는 사각 플레이트 형상으로 제공될 수 있다. 베이스(250)는 소정의 유연성을 갖는 재질로 이루어질 수 있다. 베이스(250)는 비금속 재질로 이루어질 수 있다. 실시예에서, 베이스(250)는 플라스틱 또는 세라믹 재질로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 이를 통해 베이스(250)를 포함하는 전극 구조체(200)가 약간의 벤딩된 상태에서 칫솔(14)의 패턴 삽입부(150a)에 용이하게 삽입되도록 할 수 있다.The base 250 may have a first surface 251 and a second surface 252 facing each other. The second surface 252 may be a surface facing the rear surface of the head portion 100a. Accordingly, the second surface 252 may contact the rear surface 102 of the head portion 100a when the electrode structure 200 is inserted into the sliding groove 156. In the embodiment, the base 250 may be provided in a plate shape having both ends curved. Alternatively, in another embodiment, the base 250 may be provided in the shape of a square plate. The base 250 may be made of a material having a predetermined flexibility. The base 250 may be made of a non-metal material. In an embodiment, the base 250 may be made of a plastic or ceramic material, but is not limited thereto. Through this, the electrode structure 200 including the base 250 may be easily inserted into the pattern insertion portion 150a of the toothbrush 14 in a slightly bent state.

제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)은 베이스(250) 상에 위치될 수 있다. 예를 들면, 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)은 베이스(250)의 제1 면(251) 상에 위치될 수 있다. 또한, 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)은 베이스(250)의 제1 면(251)으로부터 돌출된 형태로 위치될 수 있다. The first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 may be positioned on the base 250. For example, the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 may be positioned on the first surface 251 of the base 250. In addition, the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 may be positioned to protrude from the first surface 251 of the base 250.

전술한 바와 같이, 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)은 금속 재질로 이루어질 수 있다. 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)은 베이스(250)의 제1 면(251) 상에 초음파 융착 방법 등을 통해 결합될 수 있다. As described above, the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 may be made of a metal material. The first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 may be combined on the first surface 251 of the base 250 through an ultrasonic welding method or the like.

제1 금속 패턴(210)은 복수의 제1 연장부들(211)과 제1 연결부(213)를 포함할 수 있다. 제2 금속 패턴(220)은 복수의 제2 연장부들(221)과 제2 연결부(223)를 포함할 수 있다. 도 1 내지 도 4에서 설명한 바 같이, 제1 연장부들(211)과 제2 연장부들(221)은 제1 방향(X)을 따라 연장될 수 있다. 제1 연장부들(211)은 제2 방향(Y)을 따라 서로 이격 배치될 수 있다. 제2 연장부들(221)은 제2 방향(Y)을 따라 서로 이격 배치될 수 있다.The first metal pattern 210 may include a plurality of first extension parts 211 and a first connection part 213. The second metal pattern 220 may include a plurality of second extension parts 221 and a second connection part 223. As described with reference to FIGS. 1 to 4, the first and second extensions 211 and 221 may extend along the first direction X. The first extension parts 211 may be spaced apart from each other along the second direction Y. The second extension parts 221 may be spaced apart from each other along the second direction Y.

제2 연장부들(221)의 각각은 서로 인접하게 배치된 제1 연장부들(211) 사이에 배치될 수 있다. 이에 따라, 제1 연장부들(211)과 제2 연장부들(221)은 제2 방향(Y)을 따라 서로 번갈아가며 교번적으로 배치될 수 있다. 또한, 서로 인접한 제1 연장부(211)와 제2 연장부(221)는 서로 이격 배치될 수 있다. Each of the second extension parts 221 may be disposed between the first extension parts 211 disposed adjacent to each other. Accordingly, the first extension parts 211 and the second extension parts 221 may be alternately disposed along the second direction Y, alternating with each other. In addition, the first extension part 211 and the second extension part 221 adjacent to each other may be spaced apart from each other.

제1 연장부들(211)의 개수는 제2 연장부들(221)의 개수보다 하나 더 많을 수 있다. 실시예에서, 제1 금속 패턴(210)은 3개의 제1 연장부들(211)을 포함할 수 있고, 제2 금속 패턴(220)은 2개의 제2 연장부들(221)을 포함할 수 있다. 이와 달리, 다른 실시예에서, 제1 연장부들(211)의 개수와 제2 연장부들(221)의 개수는 상이할 수 있다. The number of first extension parts 211 may be one greater than the number of second extension parts 221. In an embodiment, the first metal pattern 210 may include three first extension parts 211, and the second metal pattern 220 may include two second extension parts 221. In contrast, in another embodiment, the number of first extensions 211 and the number of second extensions 221 may be different.

제1 연결부(213)와 제2 연결부(223)는 서로 마주보도록 이격 배치될 수 있다. 실시예에서, 제1 연결부(213)는 제2 연결부(223)로부터 제1 방향(X)으로 이격 배치될 수 있다. 이에 따라, 제2 연결부(223)가 제1 연결부(213)보다 그립부(300)와 인접하게 위치될 수 있다. 이와 달리 다른 실시예에서, 제2 연결부(223)가 제1 연결부(213)로부터 제1 방향(X)으로 이격 배치될 수 있다. The first connection part 213 and the second connection part 223 may be spaced apart to face each other. In an embodiment, the first connection part 213 may be spaced apart from the second connection part 223 in the first direction X. Accordingly, the second connection part 223 may be positioned closer to the grip part 300 than the first connection part 213. Alternatively, in another embodiment, the second connection part 223 may be spaced apart from the first connection part 213 in the first direction X.

유전부(260)은 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220) 사이 공간에 위치될 수 있다. 실시예에서, 유전부(260)은 서로 인접한 제1 연장부(211)와 제2 연장부(221) 사이에 위치될 수 있다. 실시예에서, 유전부(260)는 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)의 사이 공간을 채울 수 있다. 유전부(260)은 부도체인 비금속 물질로 이루어질 수 있다. 실시예에서, 유전부(260)은 플라스틱 물질, 세라믹 물질, 실리콘 물질 등으로 이루어질 수 있다. 유전부(260)의 최대 높이는 제1 금속 패턴(210) 및 제2 금속 패턴(220) 보다 높을 수 있다. 이를 통해 의도치 않은 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220) 간의 단락을 최소화할 수 있다.The dielectric part 260 may be located in a space between the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220. In an embodiment, the dielectric portion 260 may be positioned between the first extension portion 211 and the second extension portion 221 adjacent to each other. In an embodiment, the dielectric part 260 may fill a space between the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220. The dielectric part 260 may be made of a non-metal material that is a non-conductor. In an embodiment, the dielectric part 260 may be made of a plastic material, a ceramic material, a silicon material, or the like. The maximum height of the dielectric part 260 may be higher than that of the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220. Through this, it is possible to minimize an unintended short circuit between the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220.

스토퍼부(180)는 패턴 삽입부(150a)에 슬라이딩 삽입된 전극 구조체(200)가 슬라이딩 홈(156)을 이탈하는 것을 방지할 수 있다. 스토퍼부(180)는 헤드부(100a)의 배면 상에 위치될 수 있다. 스토퍼부(180)는 전극 구조체(200)의 일측을 지지할 수 있다. 예를 들면, 스토퍼부(180)는 베이스(250)의 일단을 지지할 수 있다. 여기서 베이스(250)의 일단은 베이스(250)에서 그립부(300)에 인접한 끝단을 의미할 수 있다. The stopper unit 180 may prevent the electrode structure 200 slidingly inserted into the pattern insertion unit 150a from leaving the sliding groove 156. The stopper part 180 may be located on the rear surface of the head part 100a. The stopper part 180 may support one side of the electrode structure 200. For example, the stopper unit 180 may support one end of the base 250. Here, one end of the base 250 may mean an end adjacent to the grip part 300 in the base 250.

실시예에서, 스토퍼부(180)는 헤드부(100a)의 배면으로부터 제3 방향(Z)과 반대 방향으로 돌출된 적어도 하나의 돌기(181, 182)를 포함할 수 있다. 예를 들면, 스토퍼부(180)는 제1 돌기(181)와 제2 돌기(182)를 포함할 수 있다. 제1 돌기(181)와 제2 돌기(182)는 서로 이격 배치될 수 있다. 제2 돌기(182)는 제1 돌기(181)로부터 제2 방향(Y)으로 이격될 수 있다. In an embodiment, the stopper unit 180 may include at least one protrusion 181 and 182 protruding from the rear surface of the head unit 100a in a direction opposite to the third direction Z. For example, the stopper unit 180 may include a first protrusion 181 and a second protrusion 182. The first protrusion 181 and the second protrusion 182 may be spaced apart from each other. The second protrusion 182 may be spaced apart from the first protrusion 181 in the second direction Y.

전술한 베이스(250)는 그의 일단에 전술한 돌기(181, 182)가 삽입되는 적어도 하나의 돌기 홈(255, 256)을 가질 수 있다. 실시예에서, 베이스(250)는 제1 돌기(181)가 삽입되는 제1 돌기 홈(255)과 제2 돌기(182)가 삽입되는 제2 돌기 홈(256)을 포함할 수 있다. 제1 돌기(181)와 제2 돌기(182)가 제1 돌기 홈(255) 및 제2 돌기 홈(256)에 삽입된으로써, 슬라이딩 홈(156)에 삽입된 전극 구조체(200)가 제1 및 제2 방향(Y)들로 이동하는 것을 방지할 수 있다.The aforementioned base 250 may have at least one protruding groove 255 and 256 into which the protrusions 181 and 182 are inserted at one end thereof. In an embodiment, the base 250 may include a first protrusion groove 255 into which the first protrusion 181 is inserted and a second protrusion groove 256 into which the second protrusion 182 is inserted. Since the first protrusion 181 and the second protrusion 182 are inserted into the first protrusion groove 255 and the second protrusion groove 256, the electrode structure 200 inserted into the sliding groove 156 is the first And it is possible to prevent the movement in the second direction (Y).

도 15는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 칫솔의 전극 구조체(201)의 사시도이다. 도 16은 도 15의 A-A' 선을 따라 절개한 단면도이다.15 is a perspective view of an electrode structure 201 of a toothbrush according to another embodiment of the present invention. 16 is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 15.

도 15 및 도 16을 참조하면, 본 실시예에 따른 칫솔은 전극 구조체(201)의 유전부(261)의 상단이 확장된 점이 도 11 등의 실시예에 따른 칫솔(14)과 상이한 점이다.15 and 16, the toothbrush according to the present exemplary embodiment differs from the toothbrush 14 according to the exemplary embodiment of FIG. 11 in that the upper end of the dielectric portion 261 of the electrode structure 201 is extended.

본 발명의 전극 구조체(201)는 베이스(250), 제1 금속 패턴(210), 및 제2 금속 패턴(220)을 포함하고, 유전부(261) 및 최외곽 측벽(262)을 더 포함할 수 있다.The electrode structure 201 of the present invention includes a base 250, a first metal pattern 210, and a second metal pattern 220, and further includes a dielectric portion 261 and an outermost sidewall 262. I can.

전술한 것과 같이 복수의 유전부(261)들은 유전 측벽과 같이 가능하며, 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)이 삽입되는 그루브를 형성할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 유전부(261)의 제3 방향(Z) 상단은 적어도 제2 방향(Y)을 따라 확장된 면적을 가질 수 있다. 이에 따라, 유전부(261)는 제1 금속 패턴(210) 및 제2 금속 패턴(220)의 노출된 상면과 적어도 부분적으로 대향하며, 제3 방향(Z)으로 중첩할 수 있다. 본 실시예와 같이 유전부(261)가 확장된 상면을 가지고 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)의 상면 노출 면적으로 감소시킴으로써, 구강 내 이물질 등에 의해 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)이 단락되는 것을 방지할 수 있다.As described above, the plurality of dielectric portions 261 may be formed as dielectric sidewalls, and a groove into which the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 are inserted may be formed. In an exemplary embodiment, an upper end of the dielectric portion 261 in the third direction (Z) may have an area that extends along at least the second direction (Y). Accordingly, the dielectric part 261 may at least partially face the exposed top surfaces of the first and second metal patterns 210 and 220, and may overlap in the third direction Z. As in the present embodiment, the dielectric part 261 has an expanded upper surface and is reduced to the exposed areas of the upper surfaces of the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220, so that the first metal pattern 210 ) And the second metal pattern 220 may be prevented from being short-circuited.

최외곽 측벽(262)은 베이스(250) 상에서 제2 방향(Y) 양단부에 위치할 수 있다. 최외곽 측벽(262)은 유전부(261)와 함께 제1 금속 패턴(210)과 제2 금속 패턴(220)이 삽입되는 그루브를 형성할 수 있다. 최외곽 측벽(262)의 제3 방향(Z) 상단은 적어도 부분적으로 확장된 면적을 가질 수 있다. 이에 따라, 최외곽 측벽(262)은 제1 금속 패턴(210) 및 제2 금속 패턴(220)의 노출된 상면과 적어도 부분적으로 대향하며, 제3 방향(Z)으로 중첩하 ㄹ수 있다. 최외곽 측벽(262)은 베이스(250)와 물리적 경계 없이 일체로 형성될 수 있으나 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.The outermost side walls 262 may be located on both ends of the second direction Y on the base 250. The outermost sidewall 262 may form a groove into which the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220 are inserted together with the dielectric portion 261. An upper end of the outermost sidewall 262 in the third direction Z may have an area that is at least partially expanded. Accordingly, the outermost sidewall 262 may at least partially face the exposed top surfaces of the first metal pattern 210 and the second metal pattern 220, and may overlap in the third direction Z. The outermost sidewall 262 may be integrally formed with the base 250 without a physical boundary, but the present invention is not limited thereto.

전술한 것과 같이 전극 구조체(201)는 칫솔의 배면 상의 패턴 삽입부에 슬라이딩 결합, 예를 들어 제1 방향(X)으로 슬라이딩 결합될 수 있다. 전극 구조체(201)가 슬라이딩 되는 과정에서 제1 금속 패턴(210) 및/또는 제2 금속 패턴(220)이 칫솔의 패턴 삽입부와 맞물리는 경우, 제1 금속 패턴(210) 및/또는 제2 금속 패턴(220)이 손상되거나, 표면에 흠집이 발생하거나, 피막(도금막 등)이 벗겨지는 등의 문제가 발생할 수 있고, 이는 위생상 및 건강상의 문제를 야기할 수 있으며, 심지어 미세 전류의 발생 효과가 저하될 수 있다. 최외곽 측벽(262)은 제1 금속 패턴(210)(또는 제2 금속 패턴(220))을 제2 방향(Y) 양측에서 커버하여 위와 같은 문제를 해결할 수 있다.As described above, the electrode structure 201 may be slidingly coupled to the pattern insertion portion on the rear surface of the toothbrush, for example, slidingly coupled in the first direction (X). When the first metal pattern 210 and/or the second metal pattern 220 is engaged with the pattern insertion part of the toothbrush while the electrode structure 201 is sliding, the first metal pattern 210 and/or the second The metal pattern 220 may be damaged, scratches may occur on the surface, or problems such as peeling of a film (plating film, etc.) may occur, which may cause hygiene and health problems, and even microcurrent The resulting effect may be reduced. The outermost sidewall 262 may solve the above problem by covering the first metal pattern 210 (or the second metal pattern 220) from both sides of the second direction Y.

이상에서 본 발명의 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. The embodiments of the present invention have been described above, but these are only examples and do not limit the present invention, and those of ordinary skill in the field to which the present invention pertains should not depart from the essential characteristics of the embodiments of the present invention. It will be appreciated that various modifications and applications not illustrated above are possible.

따라서 본 발명의 범위는 이상에서 예시된 기술 사상의 변경물, 균등물 내지는 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, 본 발명의 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성요소는 변형하여 실시할 수 있다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Therefore, the scope of the present invention should be understood to include modifications, equivalents, or substitutes of the technical idea exemplified above. For example, each component specifically shown in the embodiment of the present invention can be modified and implemented. And differences related to these modifications and applications should be construed as being included in the scope of the present invention defined in the appended claims.

11: 칫솔
100: 헤드부
151: 제1 그루브
152: 제2 그루브
155: 유전 격벽
160: 유전층
170: 칫솔모
200: 전극 구조체
210: 제1 금속 패턴
220: 제2 금속 패턴
300: 그립부11: toothbrush
100: head
151: first groove
152: second groove
155: oilfield bulkhead
160: dielectric layer
170: brush head
200: electrode structure
210: first metal pattern
220: second metal pattern
300: grip portion

Claims (7)

일면 상에 칫솔모가 식모된 칫솔 헤드부;
상기 헤드부의 배면 상에 배치되고, 제1 방향으로 연장된 복수의 제1 연장부, 및 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 서로 이격된 복수의 제1 연장부를 서로 전기적으로 연결하는 제1 연결부를 포함하는 제1 금속 패턴; 및
상기 헤드부의 배면 상에 배치되고, 상기 제1 방향으로 연장된 복수의 제2 연장부, 및 상기 제2 방향으로 서로 이격된 복수의 제2 연장부를 서로 전기적으로 연결하는 제2 연결부를 포함하며, 상기 제1 금속 패턴과 접촉하지 않도록 이격된 제2 금속 패턴을 포함하되,
상기 헤드부는 상기 제1 금속 패턴과 상기 제2 금속 패턴 사이에 위치하는 복수의 유전 격벽을 포함하고,
상기 제1 금속 패턴의 제1 연장부의 개수는 상기 제2 금속 패턴의 제2 연장부의 개수 보다 크고,
상기 제1 금속 패턴은 상기 제2 금속 패턴 보다 산화도가 작은 금속 재질을 포함하여 이루어지고,
상기 헤드부의 배면은 상기 제1 금속 패턴과 상응하는 형상의 제1 그루브로서, 상기 제1 금속 패턴이 삽입되는 제1 그루브 및 상기 제2 금속 패턴과 상응하는 형상의 제2 그루브로서, 상기 제2 금속 패턴이 삽입되는 제2 그루브를 가지고,
상기 제1 금속 패턴 및 상기 제2 금속 패턴의 최대 두께는 상기 유전 격벽의 높이 보다 작은, 미세 전류를 발생시키는 칫솔.A toothbrush head portion having bristles on one side;
A first electrically connecting a plurality of first extensions disposed on the rear surface of the head portion and extending in a first direction, and a plurality of first extensions spaced apart from each other in a second direction crossing the first direction A first metal pattern including a connection portion; And
A second connection portion disposed on the rear surface of the head portion and electrically connecting a plurality of second extension portions extending in the first direction, and a plurality of second extension portions spaced apart from each other in the second direction, Including a second metal pattern spaced apart so as not to contact the first metal pattern,
The head portion includes a plurality of dielectric barrier ribs positioned between the first metal pattern and the second metal pattern,
The number of first extension portions of the first metal pattern is greater than the number of second extension portions of the second metal pattern,
The first metal pattern is made of a metal material having a smaller oxidation degree than that of the second metal pattern,
The rear surface of the head portion is a first groove having a shape corresponding to the first metal pattern, a first groove into which the first metal pattern is inserted, and a second groove having a shape corresponding to the second metal pattern, and the second It has a second groove into which a metal pattern is inserted,
The toothbrush for generating a fine current, the maximum thickness of the first metal pattern and the second metal pattern is smaller than the height of the dielectric barrier rib. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1 그루브의 내측벽은 적어도 부분적으로 상기 제2 방향으로 테이퍼지고,
상기 테이퍼진 내측벽은 상기 제1 금속 패턴과 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 교차하는 제3 방향으로 중첩하여 상기 제1 금속 패턴을 고정하는 칫솔.The method of claim 1,
The inner wall of the first groove is at least partially tapered in the second direction,
The toothbrush fixing the first metal pattern by overlapping the tapered inner wall in a third direction crossing the first metal pattern and the first direction and the second direction. 제4항에 있어서,
상기 제1 금속 패턴은 상기 제2 금속 패턴에 비해 칫솔의 그립부 측에 위치하고,
상기 제2 그루브의 내측벽은 적어도 부분적으로 상기 제1 방향으로 테이퍼지고,
상기 테이퍼진 내측벽은 상기 제2 금속 패턴과 상기 제3 방향으로 중첩하여 상기 제2 금속 패턴을 고정하는 칫솔.The method of claim 4,
The first metal pattern is located on the side of the grip part of the toothbrush compared to the second metal pattern,
The inner wall of the second groove is at least partially tapered in the first direction,
The tapered inner wall overlaps the second metal pattern in the third direction to fix the second metal pattern. 제5항에 있어서,
상기 헤드부의 배면 상에 직접 배치된 유전층을 더 포함하되,
상기 유전층은 상기 헤드부, 상기 제1 금속 패턴 및 상기 제2 금속 패턴과 맞닿아 접하고,
상기 유전층은 상기 제1 금속 패턴 및 상기 제2 금속 패턴과 각각 상기 제3 방향으로 중첩하며,
상기 유전층은 실리콘 재질을 포함하는 칫솔.The method of claim 5,
Further comprising a dielectric layer disposed directly on the rear surface of the head,
The dielectric layer is in contact with the head portion, the first metal pattern, and the second metal pattern, and
The dielectric layer overlaps the first metal pattern and the second metal pattern in the third direction, respectively,
The dielectric layer is a toothbrush comprising a silicon material. 삭제delete
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200285664Y1 (en) * 2002-05-02 2002-08-13 전경식 Toothbrush
JP2003250636A (en) 2002-02-27 2003-09-09 Fukui Shigeaki Toothbrush and hairbrush
KR101950133B1 (en) 2018-02-05 2019-02-21 주식회사 마이크로월드 Electrode Structure
KR20190094609A (en) * 2018-02-05 2019-08-14 주식회사 마이크로월드 Toothbrush

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003250636A (en) 2002-02-27 2003-09-09 Fukui Shigeaki Toothbrush and hairbrush
KR200285664Y1 (en) * 2002-05-02 2002-08-13 전경식 Toothbrush
KR101950133B1 (en) 2018-02-05 2019-02-21 주식회사 마이크로월드 Electrode Structure
KR20190094609A (en) * 2018-02-05 2019-08-14 주식회사 마이크로월드 Toothbrush
KR102041923B1 (en) 2018-02-05 2019-11-07 여흥수 Toothbrush

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