KR102183409B1 - 박막 인캡 상에 터치스크린 패널을 형성하는 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 원자층 증착 공정을 이용하여 형성되는 박막 인캡 상에 터치스크린 패널을 형성하여 차단 특성이 우수하면서도 후속 공정에서 불량 발생이 적은 박막 인캡 상에 터치스크린 패널을 형성하는 방법에 관한 것이다.

Description

박막 인캡 상에 터치스크린 패널을 형성하는 방법{A METHOD FOR MAKING THE TOUCH SCREEN PANEL ON THE THIN FILM ENCAPSULATION OF OLED}
본 발명은 OLED 패널의 TOE(Touch On Encap) 공정에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 차단 특성이 우수하면서도 후속 공정에서 불량 발생이 적은 원자층 증착 공정을 이용하여 형성되는 박막 인캡 상에 터치스크린 패널을 형성하여 박막 인캡 상에 터치스크린 패널을 형성하는 방법에 관한 것이다.
최근 다양한 정보를 화면으로 구현해주는 영상 표시 장치는 정보통신 시대의 핵심 기술로 더 얇고 더 가볍고 휴대가 용이하면서도 고성능을 구현할 수 있는 방향으로 발전하고 있다. 이러한 영상 표시 장치에 대한 요구는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electro Luminescent Display), FED(Field Emission Display), OLED(Organic Light Emitting Display) 등 다양한 평판 표시 장치에 대한 연구 및 기술 개발을 이끌고 있다.
특히, 최근에는 영상 표시 장치로 플렉서블(flexible)한 특성을 구현할 수 있는 OLED에 대하여 연구 개발이 집중되고 있다. OLED는 유기 발광층의 발광량을 제어하여 영상을 표시하는 디스플레이 장치로서, 전자 주입 전극(Cathode)과 정공 주입 전극(Anode)으로부터 각각 전자와 정공을 발광층 내부로 주입시켜, 주입된 전자와 정공이 결합한 엑시톤(Exciton)이 여기 상태로부터 기저 상태로 떨어질 때 발광하는 소자이다.
이러한 OLED 중 액티브 매트릭스 OLED(AMOLED)는 능동 소자로 제어되는 3색(R, G, B) 서브 화소로 구성된 화소들이 매트릭스 형태로 배열되어 화상을 표시하게 된다. 따라서 각 서브 화소는 유기전계 발광 소자와, 그 유기전계 발광소자를 구동하는 셀 구동부를 구비한다. 셀 구동부는 적어도 2개의 박막 트랜지스터와 스토리지 커패시터를 포함하여 데이터 신호에 따라 유기전계 발광소자로 공급되는 전류량을 제어하여 유기발광 표시장치의 밝기를 제어한다.
이러한 OLED는 도 1에 도시된 바와 같이, 모기판(S)에 액티브 영역(AA)과 비액티브 영역(NA)으로 정의된 셀(C)을 다수개 형성하고, 액티브 영역(AA)의 주변에 프릿을 형성한 후 스크라이빙 라인(SL)을 따라 절단함으로써 단위 패널을 이루는 소자 기판을 형성하는 방법으로 제조된다.
이때 액티브 영역(AA)에 형성된 게이트 라인 및 데이터 라인과 같은 내부 배선들은 온/오프 패드 및 FPC 패드와 연결되어 외곽으로 연장된 패드 배선을 통해 쇼팅바 등에 연결된다. 온/오프 패드는 소자 내부 배선망의 정상 작동 여부를 확인하는데 사용되며, FPC 패드는 FPC를 통하여 구동회로기판과 연결된다.
이러한 구조를 가지는 OLED는 여러가지 장점에도 불구하고, 대면적 양산 기술 개발이 어려운 문제점과, 대기 중의 수분 및 산소를 효과적으로 차단하지 못할 경우 다크 스팟(dark spot) 등의 결함이 발생하여 수명이 급격히 감소되는 문제점 등을 해결해야 하는 상태이다.
특히 최근에 플렉서블 디스플레이의 구현을 위하여 폴리이미드 등의 고분자 기판에 유기전계 발광소자와 셀구동부를 포함하는 유기발광 구조물 형성하는 경우에는, 이러한 고분자 기판이 유리 기판에 비하여 수분 및 산소 투과도가 훨씬 크기 때문에 유기발광 구조물에 대한 봉지(Encapsulation) 방안이 더욱 크게 부각되고 있다.
알려진 바로는 AMOLED의 경우 수분 투과도의 평가 척도인 WVTR(Water Vapor Transmission rate) 값이 최소 10-6g/m2·day 이하가 되어야 한다. 이를 위하여 최근에는 유리 기판을 이용한 봉지방법 대신 도 2에 도시된 바와 같이, 소자(1)가 형성된 기판(S) 상에 수분 및 산소 차단 성능이 우수한 무기 박막(2)과 유기 박막(3)을 순차적으로 적층하여 봉지하는 박막 봉지(Thin Film Encapsulation) 방법도 제시되고 있다.
이러한 박막 봉지 방법으로는 PECVD 공정을 이용하여 제1, 2 무기 봉지 박막을 형성하고, 잉크젯프린팅 방법으로 제1, 2 무기 봉지 박막 사이에 유기막을 형성하는 방법과 ALD 공정을 이용하여 제1, 2 무기봉지 박막을 형성하고, 잉크젯프린팅 방법으로 제1, 2 유기 봉지 박막 사이에 유기막을 형성하는 방법이 알려져 있다.
그런데 PECVD 공정을 이용하여 제1, 2 무기봉지 박막을 형성하는 방법은 공정 진행 중에 파티클 이슈도 심각한 상황이며, 이 공정에 의하여 형성된 제1, 2 무기봉지 박막이 후속되는 모듈 공정에 많은 불량의 원인이 되는 문제점도 있다.
한편 ALD 공정을 이용하여 제1, 2 무기봉지 박막을 형성하는 방법은 공정 진행 중에 파티클 이슈가 거의 발생하지 않으며, 차단 성능이 탁월하게 우수하며 후속되는 모듈 공정에서 불량도 발생하지 않는 장점이 있다.
그러나 현재까지는 이러한 ALD 공정을 이용하는 박막 인캡 공정은 생산성 확보를 위하여 배치타입 원자층 증착 장치를 사용함과 동시에 마스크를 채용할 수 없는 공정상의 한계 때문에 양산 적용에 어려움이 있었으며, 특히, 박막 인캡 상에 직접 터치 구조를 형성하는 TOE(Touch On Encap) 구조에 적용할 수 있는 기술이 제시되지 않은 문제점이 있었다.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 차단 특성이 우수하면서도 후속 공정에서 불량 발생이 적은 원자층 증착 공정을 이용하여 형성되는 박막 인캡 상에 터치스크린 패널을 형성하는 방법을 제공하는 것이다.
전술한 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 박막 인캡 상에 터치스크린 패널을 형성하는 방법은, 1) 액티브 영역과 비액티브 영역으로 정의된 다수개의 셀 영역이 매트릭스 형태로 스크라이빙 라인에 의하여 구분되어 있는 플렉서블한 기판 중 상기 액티브 영역에 유기 발광 구조물을 형성하고, 상기 액티브 영역과 비액티브 영역에 걸쳐서 상기 유기 발광 구조물을 구동하기 위한 게이트 라인 및 데이터 라인을 형성하며, 상기 게이트 라인 및 데이터 라인의 말단들과 연결되는 FPC 연결 패드를 상기 비액티브 영역에 형성하여 유기발광 기판을 제조하는 단계; 2) 상기 유기발광 기판의 전면에 원자층 증착 공정을 이용하여 제1 무기 봉지 박막을 형성하는 단계; 3) 상기 제1 무기 봉지 박막이 형성된 기판 상면 중 액티브 영역과 비액티브 영역의 일부분을 포함하는 제2 형성영역에 잉크젯 프린팅 공정을 이용하여 유기막을 형성하는 단계; 4) 상기 유기막이 형성된 기판 전면에 원자층 증착 공정을 이용하여 제2 무기 봉지 박막을 형성하는 단계; 5) 상기 제2 무기 봉지 박막이 형성된 기판 중 상기 FPC 패드 형성 영역의 상면을 포함하는 식각 영역을 제외한 영역에 선택적으로, 상기 제1, 2 무기 봉지 박막 식각을 위한 마스크 기능과 터치 버퍼 기능을 수행하는 버퍼 마스크층을 화학기상증착 공정에 의하여 형성하는 단계; 6) 상기 제1, 2 무기 봉지 박막 중 상기 버퍼 마스크층에 의하여 개방되어 있는 부분을 식각하여 제거하는 단계; 7) 상기 6) 단계를 거친 상기 유기발광 기판 상에 센싱 라인과 절연막 및 드라이빙 라인을 순차적으로 형성하여 터치스크린 패널을 형성하는 단계;를 포함한다.
그리고 본 발명에서 상기 제1, 2 무기 봉지 박막은, 배치(BATCH) 타입 원자층 증착장치를 이용하여 마스크 없이 형성되는 것이 바람직하다.
또한 본 발명에서 상기 제1, 2 무기 봉지 박막은, 산화알루미늄(Al2O3)인 것이 바람직하다.
또한 본 발명에서 상기 버퍼 마스크층은, Si3NX (X는 3 ~ 4 사이의 실수)로 이루어지는 것이 바람직하다.
또한 본 발명에서 상기 버퍼 마스크층은, 100 ~ 500 ㎛ 의 두께로 형성되는 것이 바람직하다.
또한 본 발명에 따른 상기 5) 단계에서는, 스틱 마스크(Stick Mask)를 이용하여 상기 셀 형성 라인 사이의 영역을 라인 형태로 차단한 상태에서 상기 버퍼 마스크층을 라인 형태로 형성하는 것이 바람직하다.
또한 본 발명에서 상기 5) 단계와 6) 단계는 박막 인캡 형성 라인에서 이루어지는 것이 바람직하다.
본 발명의 박막 인캡 상에 터치스크린을 형성하는 방법에 의하면 도 13, 14에 도시된 바와 같이, 단순하게 기존 TOE 공정에서 형성하던 터치 버퍼층을 TFE 공정에서 형성하는 방식으로 박막 인캡을 차단성과 물리적 특성이 우수한 산화알루미늄층으로 원자층 증착 방법을 이용하여 형성할 수 있는 장점이 있다.
특히, 본 발명에서는 기존의 터치 버퍼층을 제1, 2 무기 봉지 박막의 식각을 위한 마스크로서의 기능도 수행하게 하여, 패드 상측의 제1, 2 무기 봉지 박막을 다른 마스크 없이 식각가능한 장점이 있다.
이렇게 기존의 터치 버퍼층을 마스크 버퍼층으로 이용하면 화학기상증착에 비하여 생산성이 낮지만 차단성과 물리적 특성이 우수한 제1, 2 무기봉지 박막을 형성할 수 있는 원자층 증착 공정을 배치 방식으로 채용하여 생산성을 높일 수 있으며, 복잡한 TOE 공정 라인에서 사용하는 PECVD 등의 장비를 공간적인 여유가 있는 TFE 공정 라인으로 재배치할 수 있어서 공간 사용의 효율성도 높일 수 있는 장점도 있다.
도 1, 2는 일반적인 OLED 기판의 구조를 모식적으로 도시하는 도면들이다.
도 3, 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광 기판 제조 단계를 도시하는 도면들이다.
도 5, 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 무기 봉지 박막 형성 단계를 도시하는 도면들이다.
도 7, 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기막 형성 단계를 도시하는 도면들이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 제2 무기 봉지 박막 형성 단계를 도시하는 도면이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 버퍼층 형성 단계를 도시하는 도면이다.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 제1, 2 무기 봉지 박막 식각 단계를 도시하는 도면이다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 스틱 마스크 구조를 도시하는 도면이다.
도 13은 종래의 TOE 공정을 도시하는 공정도이다.
도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 인캡 상에 터치스크린 패널을 형성하는 방법의 공정을 도시하는 공정도이다.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 상세하게 설명한다.
본 실시예에 따른 박막 인캡 상에 터치스크린 패널을 형성하는 방법은 도 3, 4에 도시된 바와 같이 유기발광 기판(100)을 제조하는 단계로 시작된다. 이 단계에서는 먼저 액티브 영역(AA)과 비액티브 영역(NA)으로 정의된 다수개의 셀 영역이 매트릭스 형태로 스크라이빙 라인(SL)에 의하여 구분되어 있는 플렉서블(flexible)한 기판(110) 중 상기 액티브 영역(AA)에 유기 발광 구조물(120)을 형성하고, 상기 액티브 영역(AA)과 비액티브 영역(NA)에 걸쳐서 상기 유기 발광 구조물(120)을 구동하기 위한 게이트 라인 및 데이터 라인을 형성한다.
그리고 상기 게이트 라인(130) 및 데이터 라인(140)의 말단들과 연결되는 FPC 연결 패드(150)를 상기 비액티브 영역(NA)에 형성한다.
다음으로는 상기 유기 발광 구조물(120)의 밀봉을 위한 박막 인캡(TFE : Thin Film Encapsulation)을 형성하는 과정이 진행된다. 이 과정은 도 14에 도시된 바와 같이, 제1 무기 봉지 박막(160)을 형성하는 단계, 유기막(170)을 형성하는 단계, 제2 무기 봉지 박막(180)을 형성하는 단계 및 버퍼 마스크층(190)을 형성하는 단계로 나뉘어 진행된다.
먼저 상기 제1 무기 봉지 박막(160)을 형성하는 단계는 도 5, 6에 도시된 바와 같이, 상기 유기발광 기판(100)의 전면에 원자층 증착(Atomic Layer Deposition) 공정을 이용하여 제1 무기 봉지 박막(160)을 증착하여 형성한다. 이때 본 실시예에서는 수십 또는 수백장의 유기발광 기판(100)을 동시에 증착 챔버에 장입하는 배치(BATCH) 타입 원자층 증착장치를 이용하여 생산성이 높게 제1 무기 봉지 박막 증착 공정을 수행하는 것이 바람직하다. 따라서 이 단계에서는 상기 제1 무기 봉지 박막(160)의 선택적 증착을 위한 마스크를 사용하지 않고, 상기 기판(110)의 전면에 걸쳐서 제1 무기 봉지 박막(160)을 증착한다.
그리고 본 실시예에서 상기 제1 무기 봉지 박막(160)은 산화알루미늄(Al2O3)인 것이, 공기 중의 수분과 산소를 효과적으로 차단할 수 있어서 바람직하다.
다음으로는 도 7에 도시된 바와 같이, 유기막(170)을 형성하는 단계가 진행된다. 이 단계에서는 도 7, 8에 도시된 바와 같이, 상기 제1 무기 봉지 박막(160)이 형성된 기판(110) 상면 중 액티브 영역(AA)과 비액티브 영역(NA)의 일부분을 포함하는 제2 형성영역(A1)에 유기막(170)을 형성한다. 본 실시예에서 상기 유기막(170)은 잉크젯 프린팅(Ink Jet Printing) 공정을 이용하여 제2 형성 영역(A1)에만 한정적으로 형성하는 것이 바람직하다.
다음으로는 도 9에 도시된 바와 같이, 상기 제2 무기 봉지 박막(180)을 형성하는 단계가 진행된다. 이 단계에서는 상기 유기막(170)이 형성된 기판 전면에 원자층 증착 공정을 이용하여 제2 무기 봉지 박막(180)을 증착하여 형성한다. 이때 상기 제2 무기 봉지 박막(180)도 상기 제1 무기 봉지 박막(160)과 마찬가지로 배치(BATCH) 타입 원자층 증착장치를 이용하여 마스크 없이 상기 기판(110)의 전면에 걸쳐서 형성되는 것이 바람직하며, 특히 상기 제2 무기 봉지 박막(180)도 산화알루미늄(Al2O3)인 것이 더욱 바람직하다.
다음으로는 도 10에 도시된 바와 같이, 상기 버퍼 마스크층(190)을 형성하는 단계가 진행된다. 여기에서 상기 버퍼 마스크층(190)은 기존의 TOE(Touch On Encap) 공정에서 요구되는 터치 버퍼(Touch Buffer)층의 기능을 수행함과 동시에 상기 제1, 2 무기 봉지 박막(160, 180) 중 상기 패드(150) 상에 존재하는 부분을 에칭하여 제거하기 위한 마스크로 기능하는 물질을 말한다.
따라서 상기 버퍼 마스크층(190)은 상기 패드(150) 상부를 제외한 나머지 영역에 형성되며, 상기 제1, 2 무기 봉지 박막(160, 180)의 에칭 과정에서 상기 제1, 2 무기 봉지 박막과 동일 또는 유사한 두께 만큼 식각되는 재질로 이루어지는 것이 바람직하다.
이를 위하여 본 실시예에서는 상기 버퍼 마스크층(190)을 PECVD 공정을 이용하여 증착하여 형성하며, Si3NX (X는 3 ~ 4 사이의 실수) 재질로 형성하는 것이 바람직하다. 그리고 상기 버퍼 마스크층(190)은 300 ㎛ 의 두께로 형성되는 것이 바람직하며, 상기 제1, 2 무기 봉지 박막(160, 180)의 에칭 과정에서 100㎛ 정도가 함께 식각되고 200 ㎛ 정도의 두께가 그대로 남아서 터치 버퍼(Touch Buffer)층으로 기능하는 것이다.
한편 본 실시예에서 상기 버퍼 마스크층(190) 형성 단계에서는 도 12에 도시된 바와 같은 구조의 스틱 마스크(Stick Mask)를 이용하여 상기 유기발광 기판(1) 상의 셀 형성 라인 사이의 영역을 차단한 상태에서 상기 버퍼 마스크층(190)을 라인 형태로 형성하는 것이, 마스크 제작이 용이하면서도 후속으로 이어지는 TOE 공정에서 Tx 라인이나 Rx 라인을 형성할 수 있는 공간을 셀 사이의 공간에 확보할 수 있어서 바람직하다.
다음으로는 도 11에 도시된 바와 같이, 상기 제1, 2 무기 봉지 박막(160, 180) 중 상기 버퍼 마스크층(190)에 의하여 개방되어 있는 부분을 상기 버퍼 마스크층(190) 일부와 함께 식각하여 제거하는 단계가 진행된다. 즉, 상기 제1, 2 무기 봉지 박막(160, 180) 중 전 단계에서 형성되는 상기 버퍼 마스크층(190)에 의하여 가려지지 않고 개방되는 부분을 드라이 에칭(Dry Etching) 방법 등으로 제거하는 것이다.
이때 본 실시예에서는 상기 유기발광 기판(100) 전체를 그대로 에칭 챔버 내에 장입한 상태에서 에칭 공정을 수행하므로, 상기 버퍼 마스크층(190)과 노출된 식각 영역(EA)의 제1, 2 무기 봉지 박막(160, 180)이 함께 식각된다. 따라서 도 11에 도시된 바와 같이, 상기 제1, 2 무기 봉지 박막(160, 180)이 식각된 만큼 상기 버퍼 마스크층(190)의 상면 일부도 식각되어 제거되고, 상기 버퍼 마스크층(190)의 두께가 기존 두께보다 얇아진다.
도 13은 기존의 PECVD 공정을 이용하여 박막 인캡을 형성하는 경우의 TOE(Touch On Encap) 공정도이다. 이 공정도에 의하면 TFE 공정을 모두 완료하고 난 후, TOE 공정에서 PECVD 공정을 이용하여 터치 버퍼(Touch Buffer)층으로 Si3NX 층을 형성하는 것을 알 수 있다.
반면에 본 실시예에서 상기 버퍼 마스크층(190) 형성 단계와 제1, 2 무기 봉지 박막 식각 단계는 도 14에 도시된 바와 같이, TOE 공정 라인이 아니라, 박막 인캡 형성 라인에서 이루어진다. 따라서 전체적인 OLED 패널 생산 라인 구성이 기존 PECVD 공정을 이용한 TOE 공정라인보다 쉬어지고 공간 사용의 효율성이 높아지는 장점이 있다.
마지막으로 상기 제1, 2 무기봉지 박막 식각 단계를 거친 상기 유기발광 기판 상에 센싱 라인과 절연막 및 드라이빙 라인을 순차적으로 형성하여 터치스크린 패널을 형성하는 단계가 진행된다. 이 단계는 터치 버퍼층(190)이 이미 형성되어 있으므로 이를 형성하는 공정이 불필요한 것을 제외하면 종래의 터치 생성 공정과 실질적으로 동일하므로 이에 대한 구체적인 설명은 생략한다.
100 : 유기 발광 기판 110 : 기판
120 : 유기 발광 구조물 130 : 게이트 라인
140 : 데이터 라인 150 : 패드
160 : 제1 무기 봉지 박막 170 : 유기막
180 : 제2 무기 봉지 박막 190 : 마스크 버퍼층

Claims (7)

1) 액티브 영역과 비액티브 영역으로 정의된 다수개의 셀 영역이 매트릭스 형태로 스크라이빙 라인에 의하여 구분되어 있는 플렉서블한 기판 중 상기 액티브 영역에 유기 발광 구조물을 형성하고, 상기 액티브 영역과 비액티브 영역에 걸쳐서 상기 유기 발광 구조물을 구동하기 위한 게이트 라인 및 데이터 라인을 형성하며, 상기 게이트 라인 및 데이터 라인의 말단들과 연결되는 FPC 연결 패드를 상기 비액티브 영역에 형성하여 유기발광 기판을 제조하는 단계;
2) 상기 유기발광 기판의 전면에 원자층 증착 공정을 이용하여 제1 무기 봉지 박막을 형성하는 단계;
3) 상기 제1 무기 봉지 박막이 형성된 기판 상면 중 액티브 영역과 비액티브 영역의 일부분을 포함하는 제2 형성영역에 잉크젯 프린팅 공정을 이용하여 유기막을 형성하는 단계;
4) 상기 유기막이 형성된 기판 전면에 원자층 증착 공정을 이용하여 제2 무기 봉지 박막을 형성하는 단계;
5) 상기 제2 무기 봉지 박막이 형성된 기판 중 상기 FPC 연결 패드가 형성된 영역의 상면을 포함하는 식각 영역을 제외한 영역에 선택적으로, 상기 제1, 2 무기 봉지 박막 식각을 위한 마스크 기능과 터치 버퍼 기능을 수행하는 버퍼 마스크층을 상기 제1, 2 무기 봉지 박막 두께의 2배 이상의 두께로 화학기상증착 공정에 의하여 형성하는 단계;
6) 상기 제1, 2 무기 봉지 박막 중 상기 버퍼 마스크층에 의하여 개방되어 있는 부분과 상기 버퍼 마스크층 일부를 동시에 식각하여 제거하는 단계;
7) 상기 6) 단계를 거친 상기 유기발광 기판 상에 센싱 라인과 절연막 및 드라이빙 라인을 순차적으로 형성하여 터치스크린 패널을 형성하는 단계;를 포함하며,
상기 버퍼 마스크층은 Si3NX (X는 3 ~ 4 사이의 실수)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 박막 인캡 상에 터치스크린 패널을 형성하는 방법.
제1항에 있어서, 상기 제1, 2 무기 봉지 박막은,
배치(BATCH) 타입 원자층 증착장치를 이용하여 마스크 없이 형성되는 것을 특징으로 하는 박막 인캡 상에 터치스크린 패널을 형성하는 방법.
제2항에 있어서, 상기 제1, 2 무기 봉지 박막은,
산화알루미늄(Al2O3)인 것을 특징으로 하는 박막 인캡 상에 터치스크린 패널을 형성하는 방법.
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제2항에 있어서, 상기 버퍼 마스크층은,
300 ㎛ 의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 박막 인캡 상에 터치스크린 패널을 형성하는 방법.
제1항에 있어서, 상기 5) 단계에서는,
스틱 마스크(Stick Mask)를 이용하여 상기 셀 영역 사이의 영역을 라인 형태로 차단한 상태에서 상기 버퍼 마스크층을 라인 형태로 형성하는 것을 특징으로 하는 박막 인캡 상에 터치스크린 패널을 형성하는 방법.
제1항에 있어서,
상기 5) 단계와 6) 단계는 박막 인캡 형성 라인에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 박막 인캡 상에 터치스크린 패널을 형성하는 방법.
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