KR102176063B1 - System for removing vaporized material discharged from chiller - Google Patents

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김윤중
이재학
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Abstract

The present invention relates to a system for removing a vaporized material discharged from a chiller. In detail, the system for removing a vaporized material discharged from a chiller includes a filter device which absorbs and treats the vaporized material of a cooling fluid of a process facility discharged from a vent line of the chiller. The filter device includes a housing, and a filtering unit positioned inside the housing to remove the vaporized material of the cooling fluid. The filtering unit includes an adsorbent for adsorbing and removing the vaporized material of the cooling fluid, and a receiving tube for accommodating a detecting agent which changes in color by reacting with the vaporized material of the cooling fluid. A fluid including the vaporized material of the cooling fluid discharged from the vent line passes through the adsorbent and then flows into the detection agent, thereby effectively removing the vaporized material of the cooling fluid discharged through the vent line of the chiller.

Description

칠러의 배출 기화물 제거시스템{System for removing vaporized material discharged from chiller}System for removing vaporized material discharged from chiller

본 발명은 칠러의 배출 기화물 제거시스템에 대한 것으로, 더욱 상세하게는 칠러의 벤트라인에서 유출되는 공정설비의 냉각 유체 기화물을 흡착하여 처리하는 필터장치를 포함하며, 상기 필터장치는 하우징과, 상기 하우징의 내부에 위치하여, 냉각 유체 기화물을 제거하는 여과부를 포함하고, 상기 여과부는 냉각 유체 기화물을 흡착하여 제거하는 흡착제와, 냉각 유체 기화물과 반응하여 색상이 변화하는 검지제를 수용하는 수용관을 포함하고, 상기 벤트라인에서 유출되는 냉각 유체 기화물을 포함하는 유체는 흡착제를 통과한 후 검지제에 유입되어, 칠러의 벤트 라인을 통해 배출되는 냉각 유체의 기화물을 효과적으로 제거할 수 있는 칠러의 배출 기화물 제거시스템에 대한 것이다.The present invention relates to a system for removing vaporized material from a chiller, and more particularly, to a filter device for adsorbing and treating vaporized cooling fluid of a process facility discharged from a vent line of a chiller, wherein the filter device includes a housing, It is located inside the housing and includes a filtration unit for removing vaporized cooling fluid, and the filtration unit accommodates an adsorbent that adsorbs and removes vaporized cooling fluid, and a detection agent whose color changes by reacting with the vaporization of cooling fluid. The fluid containing the cooling fluid vaporized discharged from the vent line passes through the adsorbent and then flows into the detection agent to effectively remove the vaporization of the cooling fluid discharged through the vent line of the chiller. It is about the exhaust gas removal system of the possible chiller.

팹(FAB) 내 환경에서 칠러는, 공정설비의 내부 온도를 일정하게 유지시키기 위해 사용하는 장비로, 공정설비의 냉각 유체를 수용하기 위한 냉각 유체 탱크와, 냉매와 냉각 유체의 열교환을 위한 증발기를 포함하며, 상기 냉각 유체로는 불소용액 등 산성 물질이 사용된다. 상기 칠러는 열교환 효율뿐만 아니라 수용되는 맹독성의 냉각 유체의 안정성을 유지할 수 있으면서, 냉각 유체의 인입 및 인출이 용이하고, 수용 시 냉각 유체를 외부에 유출되지 않도록 하는 기능을 갖추어야 한다. 따라서, 하기의 특허문헌에 기재된 바와 같이, 상기 기능을 갖춘 칠러가 개발되고 있다.A chiller in a FAB environment is an equipment used to keep the internal temperature of a process facility constant. A cooling fluid tank for accommodating the cooling fluid of the process facility and an evaporator for heat exchange between refrigerant and cooling fluid. And an acidic substance such as a fluorine solution is used as the cooling fluid. The chiller must have a function of not only heat exchange efficiency, but also the stability of the highly toxic cooling fluid to be accommodated, facilitate the introduction and withdrawal of the cooling fluid, and prevent the cooling fluid from leaking to the outside when receiving. Therefore, as described in the following patent document, a chiller having the above function is being developed.

<특허문헌><Patent Literature>

특허 제10-1705667호(2017. 02. 06. 등록) "반도체 공정용 칠러 장치"Patent No. 10-1705667 (registered on February 6, 2017) "Chiller device for semiconductor process"

하지만, 종래 칠러의 냉각 유체 탱크의 벤트 라인(Vent line)을 통해, 수용된 냉각 유체의 기화물이 배출되어 주변 환경을 오염시키는 문제가 있다.However, there is a problem of polluting the surrounding environment by discharging vaporized material of the received cooling fluid through a vent line of a cooling fluid tank of a conventional chiller.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로,The present invention was devised to solve the above problems,

본 발명은 칠러의 벤트 라인을 통해 배출되는 냉각 유체의 기화물을 제거하기 위한 칠러의 배출 기화물 제거시스템을 제공하는데 그 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a system for removing vapors of a cooling fluid discharged through a vent line of a chiller.

또한, 본 발명은 칠러에 수용되는 냉각 유체가 산성 물질인 경우, 산성 기화물의 제거에 최적화된 흡착제를 사용하여 산성 기화물의 효율적 제거가 가능한 칠러의 배출 기화물 제거시스템을 제공하는데 그 목적이 있다.In addition, the present invention provides a system for removing gaseous discharge of a chiller capable of efficiently removing acidic vapors by using an adsorbent optimized for removal of acidic vapors when the cooling fluid accommodated in the chiller is an acidic substance. have.

본 발명은 앞서 본 목적을 달성하기 위해서 다음과 같은 구성을 가진 실시예에 의해서 구현된다.The present invention is implemented by an embodiment having the following configuration in order to achieve the above object.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 칠러의 배출 기화물 제거시스템은 칠러의 벤트라인에서 유출되는 공정설비의 냉각 유체 기화물을 흡착하여 처리하는 필터장치를 포함하는 것을 특징을 한다.According to an embodiment of the present invention, a system for removing vaporized material from a chiller according to the present invention is characterized in that it includes a filter device that absorbs and treats vaporized cooling fluid of a process facility that flows out of a vent line of the chiller.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 칠러의 배출 기화물 제거시스템에 있어서 상기 필터장치는 하우징과; 상기 하우징의 내부에 위치하여, 냉각 유체 기화물을 제거하는 여과부;를 포함하며, 상기 여과부는 냉각 유체 기화물을 흡착하여 제거하는 흡착제와, 냉각 유체 기화물과 반응하여 색상이 변화하는 검지제를 수용하는 수용관을 포함하고, 상기 벤트라인에서 유출되는 냉각 유체 기화물을 포함하는 유체는 흡착제를 통과한 후 검지제에 유입되어, 상기 검지제의 색상 변화를 감지하여 흡착제의 수명을 판단할 수 있는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in a system for removing vaporized matter from a chiller according to the present invention, the filter device comprises: a housing; A filtration unit positioned inside the housing to remove vaporized cooling fluid; and an adsorbent configured to remove vaporized cooling fluid; and a detection agent that changes color by reacting with vaporized cooling fluid. A fluid containing a receiving pipe for receiving a, and the fluid containing the cooling fluid vapor that flows out from the vent line passes through the adsorbent and then flows into the detector, and detects a color change of the detector to determine the life of the adsorbent. It is characterized by being able to.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 칠러의 배출 기화물 제거시스템에 있어서 상기 수용관은 투명 소재로 이루어지고, 상기 하우징은 내외부를 연통시켜, 검지제의 색상변화를 하우징의 외부에서 확인할 수 있도록 하는 개방구를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the system for removing vaporized matter from the chiller according to the present invention, the receiving tube is made of a transparent material, and the housing communicates with the inside and outside, so that the color change of the detection agent is prevented from the outside of the housing. It characterized in that it comprises an opening to be able to check in.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 칠러의 배출 기화물 제거시스템에 있어서 상기 흡착제는 산성 가스 제거용 흡착제가 사용되고, 상기 산성 가스 제거용 흡착제는 염기성금속 염화물 및 담체를 혼합하여 담체 혼합물을 형성하는 담체혼합물형성단계와, 상기 담체 혼합물을 알칼리 수용액에 혼합하여 담체 용액을 형성하는 담체용액형성단계와, 상기 담체 용액을 계면활성제 용액에 투입하고 반응시켜 혼합용액을 형성하는 혼합용액형성단계와, 상기 혼합용액에 초산 용액을 투입하여 pH를 9 내지 10으로 조절하고 80 내지 120℃의 온도에서 2 내지 4시간 동안 반응시켜 걸쭉한 상태의 겔화된 건조물을 얻는 pH조절단계와, 상기 건조물에 산화아연 및 알칼리 수용액을 혼합하여 반죽을 형성하는 반죽형성단계를 거쳐 제조되는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the system for removing vaporization of a chiller according to the present invention, the adsorbent is used as an adsorbent for removing acid gas, and the adsorbent for removing acidic gas is a carrier by mixing a basic metal chloride and a carrier. A carrier mixture formation step of forming a mixture, a carrier solution formation step of mixing the carrier mixture with an alkaline aqueous solution to form a carrier solution, and a mixed solution formation step of adding the carrier solution to a surfactant solution and reacting to form a mixed solution Step and, a pH adjustment step of adding an acetic acid solution to the mixed solution to adjust the pH to 9 to 10 and reacting at a temperature of 80 to 120°C for 2 to 4 hours to obtain a gelled dry product in a thick state, and to the dried product It is characterized in that it is produced through a dough forming step of forming a dough by mixing zinc oxide and an aqueous alkali solution.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 칠러의 배출 기화물 제거시스템에 있어서 상기 담체는 활성탄 및 천연 제올라이트가 사용되며, 상기 활성탄은 상기 염기성금속 염화물 100중량부당 80 내지 120중량부가 사용되며, 상기 천연 제올라이트는 상기 염기성금속 염화물 100중량부당 80 내지 120중량부가 사용되고, 상기 염기성금속 염화물은 염화마그네슘 1g당 염화아연 8 내지 10g이 혼합된 혼합물이 사용되며, 상기 담체용액형성단계에서는 산화철이 추가로 혼합된 알칼리 수용액이 사용되고, 상기 산화철은 상기 염기성금속 염화물 100중량부 15 내지 25중량부가 사용되는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the system for removing vapors from the chiller according to the present invention, activated carbon and natural zeolite are used as the carrier, and 80 to 120 parts by weight of the activated carbon are used per 100 parts by weight of the basic metal chloride. The natural zeolite is used in an amount of 80 to 120 parts by weight per 100 parts by weight of the basic metal chloride, and the basic metal chloride is a mixture of 8 to 10 g of zinc chloride per 1 g of magnesium chloride. An additionally mixed aqueous alkali solution is used, and the iron oxide is characterized in that 100 parts by weight of the basic metal chloride and 15 to 25 parts by weight are used.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 칠러의 배출 기화물 제거시스템에 있어서 상기 혼합용액형성단계는 상기 담체 용액을 계면활성제 용액에 투입하고 80 내지 120℃의 온도에서 2 내지 4시간 동안 반응시켜 혼합용액을 형성하고, 상기 계면활성제 용액은, 염기성금속 염화물 100중량부당 1800 내지 2500중량부가 사용되며, 증류수 1L당 계면활성제 80 내지 120g이 혼합되어 형성되며, 상기 혼합용액형성단계에서는 담체 용액을 한 방울씩 계면활성제 용액에 투입하고, 상기 산화아연은 상기 염기성금속 염화물 100중량부당 80 내지 120중량부가 사용되며, 상기 알칼리 수용액은, 상기 염기성 금속염화물 100중량부당 50 내지 200중량부가 사용되며, 2 내지 3 몰농도를 가지고, 상기 반죽형성단계에서, 산화아연과 함께 탄산수소아연이 추가로 혼합되며,상기 탄산수소아연은 염기성 금속 염화물 100중량부당 30 내지 50중량부가 사용되며, 상기 반죽형성단계에서, 상기 알칼리 수용액에 나노 다이아몬드가 추가로 혼합되며, 상기 나노 다이아몬드는 염기성 금속 염화물 100중량부에 대하여 1 내지 3중량부가 사용되는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the step of forming the mixed solution in the system for removing vaporized matter from the chiller according to the present invention, the carrier solution is added to the surfactant solution and the temperature is 80 to 120°C for 2 to 4 hours. During the reaction to form a mixed solution, the surfactant solution is formed by mixing 1800 to 2500 parts by weight per 100 parts by weight of basic metal chloride, 80 to 120 g of surfactant per 1 liter of distilled water, and in the mixed solution forming step The solution is added dropwise to the surfactant solution, the zinc oxide is used in an amount of 80 to 120 parts by weight per 100 parts by weight of the basic metal chloride, and the alkaline aqueous solution is used in an amount of 50 to 200 parts by weight per 100 parts by weight of the basic metal chloride. , 2 to 3 molar concentration, in the dough forming step, zinc hydrogen carbonate is further mixed with zinc oxide, the zinc hydrogen carbonate is used 30 to 50 parts by weight per 100 parts by weight of basic metal chloride, the dough forming step In, nanodiamonds are further mixed with the aqueous alkali solution, and the nanodiamonds are characterized in that 1 to 3 parts by weight is used based on 100 parts by weight of the basic metal chloride.

본 발명은 앞서 본 실시예와 하기에 설명할 구성과 결합, 사용관계에 의해 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다.The present invention can obtain the following effects by the configuration, combination, and use relationship that will be described below with the present embodiment.

본 발명은 칠러의 벤트 라인을 통해 배출되는 냉각 유체의 기화물을 제거할 수 있는 효과가 있다.The present invention has an effect of removing vapors of a cooling fluid discharged through a vent line of a chiller.

또한, 본 발명은 칠러에 수용되는 냉각 유체가 산성 물질인 경우, 산성 기화물의 제거에 최적화된 흡착제를 사용하여 산성 기화물의 효율적 제거가 가능한 효과가 있다.In addition, according to the present invention, when the cooling fluid accommodated in the chiller is an acidic substance, an adsorbent optimized for removal of acidic vapors can be used to efficiently remove acidic vapors.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 칠러의 배출 기화물 제거시스템의 구성도.
도 2는 도 1의 필터장치의 사시도.
도 3은 도 1의 필터장치의 부분 분해 사시도.
도 4는 도 1의 필터장치에 사용되는 흡착제의 SEM이미지..
1 is a block diagram of a system for removing exhaust vapors of a chiller according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a perspective view of the filter device of Figure 1;
Figure 3 is a partial exploded perspective view of the filter device of Figure 1;
Figure 4 is a SEM image of the adsorbent used in the filter device of Figure 1.

이하에서는 본 발명에 따른 칠러의 배출 기화물 제거시스템을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 특별한 정의가 없는 한 본 명세서의 모든 용어는 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 기술자가 이해하는 당해 용어의 일반적 의미와 동일하고 만약 본 명세서에 사용된 용어의 의미와 충돌하는 경우에는 본 명세서에 사용된 정의에 따른다. 또한, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능 및 구성에 대해 상세한 설명은 생략한다. 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, a system for removing vapors from a chiller according to the present invention will be described in detail. Unless otherwise defined, all terms in this specification are the same as the general meaning of the terms understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs, and in case of conflict with the meaning of terms used herein, In accordance with the definitions used in the specification. In addition, detailed descriptions of known functions and configurations that may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention will be omitted. Throughout the specification, when a part "includes" a certain component, it means that other components may be further included rather than excluding other components unless specifically stated to the contrary.

본 발명의 일 실시예에 따른 칠러의 배출 기화물 제거시스템을 도 1 내지 4를 참조하여 설명하면, 상기 칠러의 배출 기화물 제거시스템은 칠러(미도시)의 벤트라인(100)에서 유출되는 공정설비의 냉각 유체 기화물을 흡착하여 처리하는 필터장치(1) 등을 포함한다. 상기 기화물 제거시스템은 종래의 칠러의 벤트라인(100)에서 배출되는 기화물을 제거하는 것을 목적으로 하므로 종래의 칠러를 먼저 설명하면, 상기 칠러(미도시)는 공정설비의 냉각 유체를 수용하기 위한 냉각 유체 탱크와, 냉매와 냉각 유체의 열교환을 위한 증발기를 포함하며, 상기 냉각 유체 탱크에는 내부의 공기가 외부와 통하도록 하는 벤트라인(100)을 가지고 있으며, 상기 벤트라인(100)은 냉각 유체 탱크 내부와 외부를 연통시키므로, 상기 냉각 유체 탱크의 내부에 수용된 냉각 유체가 자연 기화에 의해 상기 벤트라인(100)으로 배출될 수 있으며, 팹(FAB) 내 환경에서, 상기 공정설비의 냉각 유체는 불소용액 등의 산성물질이 사용되게 되므로, 벤트라인을 통해 배출되는 냉각 유체의 기화물(예컨대, 불화수소 등)을 처리하지 않는 경우 주변 환경을 오염시키게 된다.Referring to Figs. 1 to 4, a system for removing gaseous discharged from a chiller according to an embodiment of the present invention is a process that is discharged from the vent line 100 of the chiller (not shown). It includes a filter device (1) and the like that absorbs and treats vaporized cooling fluid of the facility. Since the vaporization removal system aims to remove vapors discharged from the vent line 100 of a conventional chiller, when describing the conventional chiller first, the chiller (not shown) accommodates the cooling fluid of the process equipment. And a cooling fluid tank for heat exchange between the refrigerant and the cooling fluid, and the cooling fluid tank has a vent line 100 to allow internal air to communicate with the outside, and the vent line 100 is cooled. Since the inside and outside of the fluid tank are communicated, the cooling fluid contained in the cooling fluid tank can be discharged to the vent line 100 by natural vaporization, and in the environment inside the fab (FAB), the cooling fluid of the process facility Since acidic substances such as fluorine solution are used, the surrounding environment is contaminated if vaporized material (eg, hydrogen fluoride) of the cooling fluid discharged through the vent line is not treated.

상기 필터장치(1)는 칠러의 벤트라인(100)에서 유출되는 공정설비의 냉각 유체 기화물을 흡착하여 처리하는 구성으로, 하우징(11), 여과부(12), 연결부(13) 등을 포함한다.The filter device 1 is configured to absorb and treat the vaporized cooling fluid of the process equipment flowing out from the vent line 100 of the chiller, and includes a housing 11, a filtration part 12, a connection part 13, etc. do.

상기 하우징(11)은 상기 필터장치(1)의 외형을 형성하며 상기 여과부(12)를 수용하는 구성으로, 상부하우징(11a), 하부하우징(11b) 등을 포함한다.The housing 11 forms the outer shape of the filter device 1 and accommodates the filtering part 12, and includes an upper housing 11a, a lower housing 11b, and the like.

상기 상부하우징(11a)은 상기 하부하우징(11b)과 결합하여 상기 하우징(11)을 형성하는 구성으로, 예컨대 상기 상부하우징(11a)과 하부하우징(11b)는 나사 결합에 의해 탈착식으로 결합될 수 있다. 상기 상부하우징(11a)은 예컨대, 상하가 개방된 원통형의 형상을 가지며, 외측면에는 상부하우징(11a) 내외부를 연통시키는 개방구(111)가 형성될 수 있다. 하기에서 자세히 설명하겠으나, 상기 개방구(111)를 통해 하우징(11) 내부에 위치하는 검지제를 직접 육안으로 확인할 수 있다.The upper housing 11a is combined with the lower housing 11b to form the housing 11, for example, the upper housing 11a and the lower housing 11b may be detachably coupled by screwing. have. The upper housing 11a has, for example, a cylindrical shape with open top and bottom, and an opening 111 for communicating inside and outside the upper housing 11a may be formed on an outer surface. Although it will be described in detail below, the detecting agent located inside the housing 11 can be directly checked with the naked eye through the opening 111.

상기 하우하우징(11b)는 상기 상부하우징(11a)와 결합하여 상기 하우징(11)을 형성하는 구성으로, 예컨대 상면이 개방된 원통형으로 형상을 가지며, 하면에는 상기 연결부(13)와 연통되는 연통공(미도시)이 형성될 수 있다.The housing (11b) is a configuration configured to form the housing (11) by being combined with the upper housing (11a), for example, has a cylindrical shape with an open top surface, and a communication hole communicating with the connection part (13) (Not shown) may be formed.

상기 여과부(12)는 상기 하우징(11) 내부에 위치하여 벤트라인(100)에서 유출되는 공정설비의 냉각 유체 기화물을 흡착하여 제거하는 구성으로, 수용관(12a), 상부캡(12b), 하부캡(12c), 흡착제(미도시), 검지제(미도시) 등을 포함한다.The filtration unit 12 is located inside the housing 11 to absorb and remove the vaporized cooling fluid of the process equipment that flows out from the vent line 100, and includes a receiving pipe 12a and an upper cap 12b. , A lower cap (12c), an adsorbent (not shown), and a detection agent (not shown).

상기 수용관(12a)은 상기 상부캡(12b) 및 하부캡(12c)에 의해 상하면이 폐쇄되어 내부에 흡착제, 검지제를 차례로 수용하는 구성으로, 예컨대 상하면이 개방된 원통형의 형상을 가지며, 유리, 플라스틱 등의 투명 소재로 이루어질 수 있다.The receiving pipe (12a) has a configuration in which the upper and lower surfaces are closed by the upper cap (12b) and the lower cap (12c) to sequentially receive an adsorbent and a detection agent therein, for example, has a cylindrical shape with open upper and lower surfaces, and glass , It may be made of a transparent material such as plastic.

상기 상부캡(12b)은 상기 수용관(12a)의 상면에 끼워져 상기 수용관(12a)의 상단을 폐쇄하는 구성으로, 상기 상부캡(12b)에는 수용관(12a) 내외부를 연통시키는 복수 개의 중공(121)이 형성된다.The upper cap (12b) is fitted to the upper surface of the receiving pipe (12a) to close the upper end of the receiving pipe (12a), the upper cap (12b) has a plurality of hollows that communicate the inside and outside 121 is formed.

상기 하부캡(12c)는 상기 수용관(12a)의 하면에 끼워져 상기 수용관(12a)의 하단을 폐쇄하는 구성으로, 상기 하부캡(12c)에는 수용관(12a) 내외부를 연통시키는 복수 개의 중공(미도시)이 형성된다.The lower cap (12c) is fitted to the lower surface of the receiving pipe (12a) to close the lower end of the receiving pipe (12a), the lower cap (12c) has a plurality of hollows that communicate inside and outside the receiving pipe (12a) (Not shown) is formed.

상기 흡착제(미도시)는 상기 수용관(12a) 내에 위치하여 냉각 유체 기화물을 흡착하는 구성으로, 산업적으로 사용되는 종래의 흡착제가 사용될 수 있다.The adsorbent (not shown) is positioned in the receiving pipe 12a to adsorb the cooling fluid vapor, and a conventional adsorbent used industrially may be used.

상기 검지제(미도시)는 상기 수용관(12a) 내에 위치하여 냉각 유체 기화물에 반응하여 색상이 변화하는 구성으로, 산업적으로 사용되는 종래의 검지제가 사용될 수 있으며, 예를 들어 산성물질과 접촉하는 경우 종래 오렌지색이 빨간색으로 변화하는 종래의 실리카겔 검지제가 사용될 수 있다. 상기 흡착제는 냉각 유체 기화물이 유입되는 유입구(하부캡) 상부에 위치하고, 상기 검지제는 상기 흡착제의 상부에 위치하여, 상기 하부캡(12c)의 중공을 통해 유입된 냉각 유체 기화물을 포함하는 유체는 흡착제와 반응하여 냉각 유체 기화물이 제거된 후 검지체를 통과한 후 상부캡(12b)의 중공(121)을 통해 배출되게 된다. 따라서, 냉각 유체 기화물이 상기 흡착제에서 제거되는 경우 상기 검지제의 색상이 변화하지 않으나, 상기 흡착제가 수명을 다하여 성능을 유지하지 못하는 경우 냉각 유체 기화물이 상기 흡착제에서 제거되지 못해 상기 검지제에 유입되어 반응하므로, 상기 검지제는 색상이 변화하게 된다. 또한, 상기 여과부(12)를 수용하는 하우징(11)에는 개방구(11)이 형성되어 검지제를 육안으로 확인할 수 있으므로, 개방구(111)를 통해 상기 검지제의 색상을 확인하여 변화하는 경우 흡착제가 수명을 다하였다고 판단할 수 있어, 상기 흡착제를 교환해야 하는 시기를 용이하게 파악할 수 있다.The detection agent (not shown) is located in the receiving pipe 12a and changes color in response to vaporization of the cooling fluid, and a conventional detection agent used industrially may be used, for example, contact with an acidic substance. In this case, a conventional silica gel detecting agent that changes from orange to red may be used. The adsorbent is located above the inlet (lower cap) through which the cooling fluid vapor is introduced, and the detection agent is located above the adsorbent, and includes a cooling fluid vapor introduced through the hollow of the lower cap (12c). The fluid reacts with the adsorbent to remove the cooling fluid vapor, passes through the detector, and is discharged through the hollow 121 of the upper cap 12b. Therefore, when the cooling fluid vaporized material is removed from the adsorbent, the color of the detection agent does not change, but when the adsorbent is not able to maintain its performance due to the end of its life, the cooling fluid vaporization cannot be removed from the adsorbent and thus the detection agent As it flows in and reacts, the color of the detection agent changes. In addition, since an opening 11 is formed in the housing 11 accommodating the filtering unit 12 so that the detection agent can be visually checked, the color of the detection agent is checked through the opening 111 In this case, it can be determined that the adsorbent has reached the end of its life, so that the time when the adsorbent must be replaced can be easily identified.

상기 연결부(13)는 일단은 벤트라인(100)에 연통되고 타단은 하부하우징(11b)에 연통되어, 배트라인(100)에서 배출된 냉각 유체 기화물을 포함하는 유체가 상기 하우징(11) 내부에 유입되도록 하는 구성이다. 상기와 같은 구성을 포함하는 필터장치(1)를 이용하여 냉각 유체 기화물을 제거하는 원리를 살펴보면, 먼저 수용관(12a)에 하부캡(12c)를 연결하고 흡착제, 검지제를 차례로 수용관(12a) 내에 담은 다음 상기 상부캡(12b)을 연결하여 여과부(12)를 준비하고, 연결부(13)가 결합된 하부하우징(11b)에 상기 여과부(12)를 삽입하고 상기 상부하우징(11a)을 상기 여과부(12)의 상측부를 덮어 씌운 후 상기 상부하우징(11a)과 하부하우징(11b)을 체결하면 상기 필터장치(1)가 준비되게 되고, 이후 상기 필터장치(1)의 연결부(13)와 벤트라인(100)을 연결하면, 상기 벤트라인(100)에서 배출되는 냉각 유체 기화물을 포함하는 유체는 연결부(13), 하부하우징(11b), 하부캡(12c), 흡착제, 검지제, 상부캡(12b)를 차례로 통과하여 냉각 유체 기화물이 제거된 후 상기 상부하우징(11a)을 통해 배출되게 된다.The connection part 13 has one end in communication with the vent line 100 and the other end in communication with the lower housing 11b, so that the fluid including the cooling fluid vapor discharged from the bat line 100 is inside the housing 11 It is a configuration that allows it to flow into. Looking at the principle of removing vaporized cooling fluid using the filter device 1 having the above configuration, first, the lower cap 12c is connected to the receiving pipe 12a, and the adsorbent and the detecting agent are sequentially inserted into the receiving pipe ( 12a) and then connecting the upper cap 12b to prepare a filtration unit 12, inserting the filtration unit 12 into the lower housing 11b to which the connection unit 13 is coupled, and inserting the filtration unit 12 into the upper housing 11a ) To cover the upper part of the filter unit 12 and then fasten the upper housing 11a and the lower housing 11b, the filter device 1 is prepared, and thereafter, the connection part of the filter device 1 ( 13) and the vent line 100, the fluid containing the cooling fluid vapor discharged from the vent line 100 is the connection part 13, the lower housing 11b, the lower cap 12c, the adsorbent, and the detection First, after passing through the upper cap 12b in turn, the cooling fluid vapor is removed and then discharged through the upper housing 11a.

도시하지 않았지만 본 발명의 다른 실시예에 따른 칠러의 배출 기화물 제거시스템은 필터에서 배출된 유체에서 냉각 유체 기화물의 농도를 측정하는 센서와, 상기 벤트라인(100)에 설치되어 상기 벤트라인(100)을 개페하는 밸브와, 상기 센서에서 출력된 정보를 확인하여 상기 필터에서 냉각 유체 기화물이 배출된다고 판단시 상기 밸브를 제어하여 상기 벤트라인을 폐쇄하는 제어부 등을 포함한다.Although not shown, a system for removing vaporization of a chiller according to another embodiment of the present invention includes a sensor for measuring the concentration of vaporized cooling fluid in the fluid discharged from the filter, and is installed in the vent line 100 to provide the vent line ( 100), and a control unit configured to close the vent line by controlling the valve when it is determined that the cooling fluid vapor is discharged from the filter by checking information output from the sensor.

상기 팹 내 환경에서, 상기 공정설비 냉각 유체는 주로 산성물질이 사용되므로, 하기의 산성 가스 제거용 흡착제가 사용되는 것이 바람직하다.In the environment within the fab, since an acidic substance is mainly used as the cooling fluid for the process equipment, the following adsorbent for removing acidic gas is preferably used.

상기 산성 가스 제거용 흡착제는 염기성 금속염화물 및 담체를 혼합하여 담체 혼합물을 형성하는 담체혼합물형성단계와, 상기 담체 혼합물을 알칼리 수용액을 혼합하여 담체 용액을 형성하는 담체용액형성단계와, 상기 담체 용액을 계면활성제 용액에 투입하고 반응시켜 혼합용액을 형성하는 혼합용액형성단계와, 상기 혼합용액에 초산 용액을 투입하여 pH를 9 내지 10으로 조절하고 건조하여 건조물을 얻는 pH조절단계와, 상기 건조물에 산화아연 및 탄산칼슘 수용액을 혼합하여 반죽을 형성하는 반죽형성단계와, 상기 반죽을 성형한 후 건조하여 흡착제를 형성하는 건조단계를 거쳐 제조되게 되며, 상기 흡착제는 산성 가스를 제거하게 되는데, 상기 산성 가스에는 활로겐화 수소(HF, HCl, HBr 등), 활로겐 가스(Cl2, F2, ClF3 등) 등의 다양한 산성 가스를 포함한다.The acidic gas removal adsorbent includes a carrier mixture forming step of forming a carrier mixture by mixing a basic metal chloride and a carrier, a carrier solution forming step of mixing the carrier mixture with an aqueous alkali solution to form a carrier solution, and the carrier solution A mixed solution forming step of adding and reacting to a surfactant solution to form a mixed solution; adjusting the pH to 9 to 10 by adding an acetic acid solution to the mixed solution and drying to obtain a dried product; and oxidation to the dried product. It is manufactured through a dough-forming step of mixing zinc and calcium carbonate aqueous solution to form a dough, and a drying step of forming the dough and then drying to form an adsorbent, and the adsorbent removes acidic gas. Includes various acidic gases such as hydrogen glide (HF, HCl, HBr, etc.) and glide gas (Cl 2 , F 2 , ClF 3, etc.).

상기 담체혼합물형성단계는 염기성 금속염화물 및 담체를 혼합하여 담체 혼합물을 형성하는 단계이다. 상기 염기성 금속염화물은 분말의 형태로 사용될 수 있으며, 평균직경이 0.5 내지 200㎛를 가지는 것이 바람직하다. 상기 염기성 금속염화물은 염화아연, 염화마그네슘 및 염화칼슘으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상이 사용되는 것이 바람직하며, 염화마그네슘 1g당 염화아연 8 내지 10g이 혼합 사용되는 것이 더욱 바람직하다. 상기 담체는 분말의 형태로 사용될 수 있으며, 석탄계 활성탄 및 제올라이트가 사용되는 것이 바람직하다. 상기 석탄계 활성탄은 상기 염기성 금속염화물 100중량부당 80 내지 120중량부가 사용되며, 0.1 ~ 0.4cm3/g의 총기공부피를 가지고, 2 ~ 10nm의 평균기공크기를 가지며, 100 ~ 400m2/g의 비표면적을 가지는 것이 바람직하다. 상기 제올라이트는 천연 제올라이트가 사용될 수 있으며, 상기 염기성 금속염화물 100중량부당 80 내지 120중량부가 사용되고, 0.1 ~ 0.5cm3/g의 총기공부피를 가지며, 2~20nm의 평균기공크기를 가지고, 100 ~ 150m2/g의 비표면적을 가지는 것이 바람직하다.The step of forming a carrier mixture is a step of forming a carrier mixture by mixing a basic metal chloride and a carrier. The basic metal chloride may be used in the form of a powder, and preferably has an average diameter of 0.5 to 200 μm. The basic metal chloride is preferably at least one selected from the group consisting of zinc chloride, magnesium chloride, and calcium chloride, and more preferably, 8 to 10 g of zinc chloride per 1 g of magnesium chloride are used in combination. The carrier may be used in the form of a powder, and coal-based activated carbon and zeolite are preferably used. The coal-based activated carbon is used in an amount of 80 to 120 parts by weight per 100 parts by weight of the basic metal chloride, has a total pore volume of 0.1 to 0.4 cm 3 /g, has an average pore size of 2 to 10 nm, and has an average pore size of 100 to 400 m 2 /g. It is desirable to have a specific surface area. The zeolite may be a natural zeolite, 80 to 120 parts by weight per 100 parts by weight of the basic metal chloride is used, has a total pore volume of 0.1 to 0.5 cm 3 /g, has an average pore size of 2 to 20 nm, and 100 to It is preferred to have a specific surface area of 150 m 2 /g.

상기 담체용액형성단계는 상기 담체 혼합물을 알칼리 수용액을 혼합하여 담체 용액을 형성하는 단계로, 상기 알칼리 수용액은 염기성 금속염화물 100중량부당 2000 내지 3000중량부가 사용되며, 증류수 1L당 수산화나트륨 200 내지 600g이 혼합되어 형성되는 것이 바람직하다.The carrier solution forming step is a step of forming a carrier solution by mixing the carrier mixture with an aqueous alkali solution, and the alkali aqueous solution is used in an amount of 2000 to 3000 parts by weight per 100 parts by weight of a basic metal chloride, and 200 to 600 g sodium hydroxide per 1 liter of distilled water. It is preferably formed by mixing.

상기 혼합용액형성단계는 상기 담체 용액을 계면활성제 용액에 투입하고 80 내지 120℃의 온도에서 2 내지 4시간 동안 반응시켜 혼합용액을 형성하는 단계로, 상기 계면활성제 용액은 염기성 금속염화물 100중량부당 1800 내지 2500중량부가 사용되며, 증류수 1L당 계면활성제 80 내지 120g이 혼합되어 형성되는 것이 바람직하며, 계면활성제는 TTAB(tetradecyl trimethyl ammonium bromide), DTAB(dodecyl trimethyl ammonium bromide), CTAB(cetyl trimethyl ammonium bromide), Tween-20(polyoxyethylene (20) sorbitan monolaurate), Tween-40(polyoxyethylene (40) sorbitan monopalmitate) 및 Tween-80(polyoxyethylene (80) sorbitan monooleate)으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상이 이용될 수 있다. 상기 담체 용액과 계면활성제 용액을 한꺼번에 혼합하는 경우 담체의 골결구조가 망가져 균일하게 재배열이 이루어지 않아 염기성 금속들이 분산되지 않아 신터링 현상이 초래되어 흡착 성능을 저하시킬 수 있으므로, 상기 혼합용액형성단계에서는 담체 용액을 한 방울씩(drop by drop) 계면활성제 용액에 투입하게 된다. 상기 담체의 비표면적이 크면 클수록, 물리흡착의 효율이 증대되고, 염기성 금속의 적재량이 많아져 화학흡착 효율이 증대되어, 산성 가스가 더욱 효과적으로 제거되게 되는데, 상기 흡착제의 제조방법은 비표면적이 작아 가치가 떨어지는 천연 제올라이트를 알칼리 수용액에 녹인 상태에서 계면활성제를 넣어 강제적으로 기공이 생기도록 유도하고 활성탄 분말과 결합하도록 하여 마이크로 크기의 기공 결합구조에서 메조포러스한 기공을 가지는(즉, 발달된 기공을 가지는) 담체를 형성하여, 기공 및 비표면적을 크게 할 수 있다. 한편, 담체로 활성탄만을 이용하는 경우 제조된 흡착제의 강도가 떨어지게 되는데, 상기 흡착제의 제조방법은 천연 제올라이트를 알칼리 수용액에 녹인 상태에서 계면활성제를 넣어 강제적으로 기공이 생기도록 유도하고 활성탄 분말과 결합하도록 담체를 형성하므로, 제조된 흡착제의 비표면적을 크게 할뿐만 아니라 강도도 증가시킬 수 있게 된다. 상기 혼합용액형성단계에서 산화철이 추가로 혼합된 알칼리 수용액을 사용하는 경우, 염기성 금속(아연, 마그네슘, 칼슘 등)의 담체 내에 분산성을 더욱 크게 하여 산성 가스 제거 효율을 더욱 향상시킬 수 있다. 상기 산화철은 염기성 금속염화물 100중량부 15 내지 25중량부가 사용되는 것이 바람직하다.The mixed solution forming step is a step of forming a mixed solution by adding the carrier solution to a surfactant solution and reacting at a temperature of 80 to 120°C for 2 to 4 hours, and the surfactant solution is 1800 per 100 parts by weight of a basic metal chloride. To 2500 parts by weight is used, and 80 to 120 g of a surfactant per 1 L of distilled water are mixed and formed, and the surfactant is tetradecyl trimethyl ammonium bromide (TTAB), dodecyl trimethyl ammonium bromide (DTAB), cetyl trimethyl ammonium bromide (CTAB) , Tween-20 (polyoxyethylene (20) sorbitan monolaurate), Tween-40 (polyoxyethylene (40) sorbitan monopalmitate), and Tween-80 (polyoxyethylene (80) sorbitan monooleate) Any one or more selected from the group consisting of may be used. When the carrier solution and the surfactant solution are mixed at the same time, the bone grain structure of the carrier is damaged and rearrangement is not performed uniformly, so that basic metals are not dispersed, resulting in a sintering phenomenon, which may degrade the adsorption performance, thus forming the mixed solution. In the step, the carrier solution is added drop by drop to the surfactant solution. The larger the specific surface area of the carrier, the higher the efficiency of physical adsorption, the greater the loading amount of the basic metal, thereby increasing the chemical adsorption efficiency, and thus the acidic gas is more effectively removed.The method of preparing the adsorbent has a smaller specific surface area. In a state of dissolving a low-value natural zeolite in an aqueous alkali solution, a surfactant is added to forcibly induce pores to be formed, and to bind with the activated carbon powder, thereby having mesoporous pores in a micro-sized pore-binding structure (i.e., developed pores). Eggplant) by forming a carrier, it is possible to increase the pores and specific surface area. On the other hand, when only activated carbon is used as a carrier, the strength of the prepared adsorbent decreases.In the method for preparing the adsorbent, a surfactant is added in a state in which natural zeolite is dissolved in an aqueous alkali solution to forcibly induce pores to be formed, and to bind to the activated carbon powder As a result, it is possible to increase the strength as well as increase the specific surface area of the prepared adsorbent. In the case of using an aqueous alkali solution in which iron oxide is additionally mixed in the step of forming the mixed solution, the acidic gas removal efficiency can be further improved by increasing the dispersibility in the carrier of the basic metal (zinc, magnesium, calcium, etc.). The iron oxide is preferably used in an amount of 15 to 25 parts by weight of 100 parts by weight of a basic metal chloride.

상기 pH조절단계는 상기 혼합용액에 초산 용액을 투입하여 pH를 9 내지 10으로 조절하고 80 내지 120℃의 온도에서 2 내지 4시간 동안 반응시켜 걸쭉한 상태의 겔화된 건조물을 얻는 단계이다. 상기 건조물의 pH가 9보다 작은 경우 산성 가스 제거 효율이 떨어지며 10보다 큰 경우 강알칼리에 의해 담체의 골격구조가 무너져 흡착제의 성능이 저하되게 된다.The pH adjusting step is a step of adding an acetic acid solution to the mixed solution to adjust the pH to 9 to 10 and reacting at a temperature of 80 to 120°C for 2 to 4 hours to obtain a thick gelled dried product. When the pH of the dried product is less than 9, the acidic gas removal efficiency decreases, and when the pH of the dried product is greater than 10, the skeleton structure of the carrier is collapsed by strong alkali, and the performance of the adsorbent decreases.

상기 반죽형성단계는 상기 건조물에 산화아연 및 탄산칼슘 수용액을 혼합하여 반죽을 형성하는 단계로, 상기 산화아연은 바인더의 역할을 수행하며, 상기 염기성 금속염화물 100중량부당 80 내지 120중량부가 사용되는 것이 바람직하다. 상기 탄산칼슘 수용액이 사용됨으로 인해 흡착제의 강도를 증가시켜, 상기 탄산칼슘 수용액은 상기 염기성 금속염화물 100중량부당 50 내지 200중량부가 사용되며, 2 내지 3 몰농도를 가지는 것이 바람직하다. 상기 반죽형성단계에서, 탄산수소아연(Zn(HCO3)2)을 추가로 사용하는 경우 반응과정에서 생성된 수분에 의해 할로겐화수소 및 활로겐가스가 추가적인 이온화가 이루어지며, 탄산칼슘 수용액에 나노 다이아몬드가 추가로 혼합되는 경우 반응 과정에서 열을 효과적으로 분산시켜(흡착제는 고온의 산성 가스와 반응하고 흡착 과정을 발열 반응이므로, 흡착제에서 온도가 균일하지 않는 경우 흡착반응 효율이 떨어지고 흡착제가 손상될 수 있음), 산성가스 제거 효율을 향상시키게 된다. 상기 탄산수소아연은 염기성 금속 염화물 100중량부당 30 내지 50중량부가 사용되는 것이 바람직하며, 상기 나노다이아몬드는 흡착제의 열전도율을 높여 전체에 걸쳐 균일한 온도를 가지도록 하며, 염기성 금속 염화물 100중량부에 대하여 1 내지 3중량부가 사용되는 것이 바람직하다.The dough forming step is a step of forming a dough by mixing an aqueous solution of zinc oxide and calcium carbonate with the dried product, wherein the zinc oxide serves as a binder, and 80 to 120 parts by weight per 100 parts by weight of the basic metal chloride are used. desirable. Since the calcium carbonate aqueous solution is used, the strength of the adsorbent is increased, so that the calcium carbonate aqueous solution is used in an amount of 50 to 200 parts by weight per 100 parts by weight of the basic metal chloride, and preferably has 2 to 3 molar concentration. In the dough forming step, when zinc hydrogen carbonate (Zn(HCO 3 ) 2 ) is additionally used, hydrogen halide and activator gas are additionally ionized by moisture generated in the reaction process, and nanodiamonds are added to the calcium carbonate aqueous solution. If is further mixed, heat is effectively dispersed during the reaction process ), improves acid gas removal efficiency. The zinc hydrogen carbonate is preferably used in an amount of 30 to 50 parts by weight per 100 parts by weight of the basic metal chloride, and the nanodiamond increases the thermal conductivity of the adsorbent so that it has a uniform temperature throughout, and based on 100 parts by weight of the basic metal chloride. It is preferred that 1 to 3 parts by weight are used.

상기 건조단계는 상기 반죽을 성형한 후 건조하여 흡착제를 형성하는 단계로, 예컨대 압출성형기를 이용하여 펠릿 형태로 흡착제를 제조할 수 있으며, 회전성형기를 이용하여 구형 형태로 흡착제를 제조할 수 있다.The drying step is a step of forming an adsorbent by molding and drying the dough to form an adsorbent. For example, an adsorbent may be prepared in a pellet form using an extrusion molding machine, and an adsorbent may be prepared in a spherical shape using a rotary molding machine.

이하에서는 상기 흡착제를 사용하는 경우 산성 가스의 흡착 효율을 향상시킬 수 있는 효과를 실시예를 통해 구체적으로 살펴보기로 한다.Hereinafter, the effect of improving the adsorption efficiency of acidic gas when the adsorbent is used will be described in detail through examples.

<실시예 1> 흡착제의 제조<Example 1> Preparation of adsorbent

1. 실시예 11. Example 1

(1) 염기성 금속염화물(ZnCl2·6H2O 45g 및 MgCl2·6H2O 5g) 50g, 석탄계 활성탄 50g 및 천연 제올라이트 50g을 혼합하여 담체 혼합물을 준비하고, 수산화나트륨 400g을 증류수 1000ml에 녹여 알칼리 수용액을 준비하고, 상기 담체 혼합물과 알칼리 수용액을 혼합 후 1시간 동안 교반하여 담체 용액을 준비하였다.(1) A carrier mixture was prepared by mixing 50 g of basic metal chloride (45 g of ZnCl 2 ·6H 2 O and 5 g of MgCl 2 ·6H 2 O), 50 g of coal-based activated carbon and 50 g of natural zeolite, and 400 g of sodium hydroxide was dissolved in 1000 ml of distilled water and alkali. An aqueous solution was prepared, and the carrier mixture and an aqueous alkali solution were mixed and stirred for 1 hour to prepare a carrier solution.

(2) CTAB 100g을 증류수 1000ml에 혼합 교반하여 계면활성제 용액을 얻고, 상기 담체 용액을 한 방울씩(drop by drop) 계면활성제 용액에 투입한 후 1시간 동안 교반하고 100℃ 오븐에서 3시간 반응시키고, 초산 용액을 투입해 pH가 10이 되도록 한 후 100℃ 오븐에서 3시간 반응시켰다. 이후, 바인더로 산화아연 50g을 추가하고 2.5mol 농도의 탄산칼슘 수용액 75g을 혼합하여 반죽을 형성하고, 상기 반죽을 회전성형기를 이용하여 구형 형태로 성형한 후 100℃에서 건조하여 흡착제를 형성하였다.(2) 100 g of CTAB was mixed and stirred in 1000 ml of distilled water to obtain a surfactant solution, and the carrier solution was added drop by drop to the surfactant solution, stirred for 1 hour, and reacted in an oven at 100° C. for 3 hours. After adding an acetic acid solution to a pH of 10, it was reacted in an oven at 100° C. for 3 hours. Thereafter, 50 g of zinc oxide was added as a binder, and 75 g of an aqueous calcium carbonate solution having a concentration of 2.5 mol was mixed to form a dough, and the dough was molded into a spherical shape using a rotary molding machine, and dried at 100° C. to form an adsorbent.

2. 실시예 22. Example 2

CTAB 대신에 TTAB가 사용된 것을 제외하고는 다른 조건을 실시예 1의 1과 동일하게 하여 흡착제를 형성하였다.An adsorbent was formed in the same manner as in Example 1 except that TTAB was used instead of CTAB.

3. 실시예 33. Example 3

계면활성제 용액 대신에 증류수 1100ml가 사용된 것을 제외하고는 다른 조건을 실시예 1의 1과 동일하게 하여 흡착제를 형성하였다.An adsorbent was formed in the same manner as in Example 1 except that 1100 ml of distilled water was used instead of the surfactant solution.

4. 실시예 44. Example 4

알칼리 수용액 대신에 증류수 1400ml가 사용된 것을 제외하고는 다른 조건을 실시예 1의 1과 동일하게 하여 흡착제를 형성하였다.An adsorbent was formed in the same manner as in Example 1 except that 1400 ml of distilled water was used instead of the aqueous alkali solution.

5. 실시예 55. Example 5

담체 용액을 한 방울씩 계면활성제 용액에 투입하지 않고, 담체 용액 전체를 한꺼번에 계면활성제 용액에 투입한 것을 제외하고는 다른 조건을 실시예 1의 1과 동일하게 하여 흡착제를 형성하였다.The adsorbent was formed in the same manner as in Example 1 except that the carrier solution was not added dropwise to the surfactant solution and the entire carrier solution was added to the surfactant solution at once.

6. 실시예 66. Example 6

ZnCl2·6H2O 45g 및 MgCl2·6H2O 5g 대신에 ZnCl2·6H2O 50g이 사용된 것을 제외하고는 다른 조건을 실시예 1의 1과 동일하게 하여 흡착제를 형성하였다. 2 · 6H 2 O 45g and ZnCl 2 · 6H 2 O 5g instead of MgCl 2 · 6H 2 O 50g The ZnCl were formed and the adsorbent in the same manner as one of Example 1, except that the other conditions used in the.

7. 실시예 77. Example 7

ZnCl2·6H2O 대신에 CaCl2·2H2O이 사용된 것을 제외하고는 다른 조건을 실시예 1의 1과 동일하게 하여 흡착제를 형성하였다.Except that CaCl 2 ·2H 2 O was used instead of ZnCl 2 ·6H 2 O, an adsorbent was formed under the same conditions as in Example 1 1.

8. 실시예 88. Example 8

탄산칼슘 수용액 대신에 동일 양의 증류수가 사용된 것을 제외하고는 다른 조건을 실시예 1의 1과 동일하게 하여 흡착제를 형성하였다.An adsorbent was formed in the same manner as in Example 1 except that the same amount of distilled water was used instead of the aqueous calcium carbonate solution.

9. 실시예 99. Example 9

알칼리 수용액에 10g의 산화철이 추가로 사용된 것을 제외하고는 다른 조건을 실시예 1의 1과 동일하게 하여 흡착제를 형성하였다.An adsorbent was formed in the same manner as in Example 1 except that 10 g of iron oxide was additionally used in the aqueous alkali solution.

10. 실시예 1010. Example 10

산화아연 50g과 함께 탄산수소아연 20g이 추가로 사용된 것을 제외하고는 다른 조건을 실시예 1의 9와 동일하게 하여 흡착제를 형성하였다.An adsorbent was formed in the same manner as in Example 1 9, except that 20 g of zinc hydrogen carbonate was additionally used together with 50 g of zinc oxide.

11. 실시예 1111. Example 11

탄산칼슘 수용액에 나노 다이아몬드(PL-D-G01 사용) 1g이 추가로 사용된 것을 제외하고는 다른 조건을 실시예 1의 10과 동일하게 하여 흡착제를 형성하였다.An adsorbent was formed in the same manner as in Example 1, except that 1 g of nano diamonds (using PL-D-G01) was additionally used in the calcium carbonate aqueous solution.

<실시예 2> 물리적 특성 확인<Example 2> Physical properties confirmation

1. 실시예 1의 1 내지 5 및 11에서 제조된 흡착체를 BET 장치(비표면적 분석장치)를 사용하여 비표면적(m2/g)을 측정하여, 그 결과를 표 1에 나타내었다. 또한, 실시예의 1의 1 및 3에서 제조된 흡착체를 SEM으로 측정하여, 그 결과를 도 4에 나타내었다(도 4의 (a)는 실시예 1의 1에서 제조된 흡착제의 SEM 이미지이고, 도 4의 (b)는 실시예 1의 3에서 제조된 흡착제의 SEM 이미지임).1. The specific surface area (m 2 /g) of the adsorbents prepared in Example 1 1 to 5 and 11 was measured using a BET apparatus (specific surface area analyzer), and the results are shown in Table 1. In addition, the adsorbents prepared in Example 1 1 and 3 were measured by SEM, and the results are shown in FIG. 4 (FIG. 4A is an SEM image of the adsorbent prepared in Example 1, 4B is a SEM image of the adsorbent prepared in Example 1 3).

2. 표 1을 보면, 실시예 1의 1, 2 및 11에서 제조된 흡착제에 비해서 실시예 1의 3 내지 5에서 제조된 흡착제의 비표면적이 현저하게 작음을 확인할 수 있어, 계면활성제를 사용하지 않거나, 담체 용액 형성시 알칼리 수용액을 사용하지 않거나, 담체 용액과 계면활성제 용액을 한꺼번에 혼합하는 경우, 제조된 흡착제의 비표면적이 작음을 알 수 있고, 실시예 1의 1 및 2에서 제조된 흡착제에 비해서 실시예 1의 11에서 제조된 흡착제의 비표면적이 작으나 차이가 얼마 나지 않아, 메조포러스한 기공을 형성한 후 특정 기능을 부여하기 위해 첨가된 첨가물에 의해 미표적에 미치는 영향이 적음을 알 수 있다. 또한, 도 4를 보면 실시예 1의 1에서 제조된 흡착제는 메조포러스한 기공(기공 직경 3.53nm임)을 가지는데 반해, 실시예 1의 3에서 제조된 흡착제는 표면적이 매끄러운 것을 확인할 수 있어, 실시예 1의 1에서 제조된 흡착제는 메조포러스한 기공 구조를 가져 비표면적이 증가되었음을 알 수 있다.2. Looking at Table 1, it can be seen that the specific surface area of the adsorbents prepared in Example 1 3 to 5 was significantly smaller than that of the adsorbents prepared in Example 1, 2 and 11, and no surfactant was used. Or, when the alkali aqueous solution is not used when the carrier solution is formed, or when the carrier solution and the surfactant solution are mixed together, it can be seen that the specific surface area of the prepared adsorbent is small, and in the adsorbents prepared in Example 1 1 and 2 In comparison, the specific surface area of the adsorbent prepared in Example 1 11 was small, but there was little difference, so it was found that the effect on the untargeted by the additive added to impart a specific function after the formation of mesoporous pores was small. have. In addition, referring to FIG. 4, the adsorbent prepared in Example 1 1 has mesoporous pores (pore diameter of 3.53 nm), whereas the adsorbent prepared in Example 1 3 has a smooth surface area. It can be seen that the adsorbent prepared in Example 1 of 1 had a mesoporous pore structure and thus increased specific surface area.

실시예1의1Example 1-1 실시예1의2Example 1-2 실시예1의3Example 1-3 실시예1의4Example 1-4 실시예1의5Example 1-5 실시예1의11Example 1-11 비표면적(m2/g)Specific surface area (m 2 /g) 512512 498498 110110 190190 200200 459459

<실시예 3> 산가스 처리 효율 평가<Example 3> Acid gas treatment efficiency evaluation

1. 흡착 제거 실험은 내경이 25mm이고 높이가 80mm인 유리 재질의 원통형 반응기에 실시예 1의 1 내지 11에서 준비된 흡착제 각각 20ml를 넣고 진행하였다. 염화수소(HCl) 표준가스, 불화수소(HF) 표준가스 각각을 유량 1LPM로 일정하게 유지하여 연속적으로 흘려 주었으며, 반응 후 흘러나온 가스는 FT-IR(MIDAC, 대한민국)을 통해 분석하였고, 가스의 농도가 10ppm에 이를 때 파괴시점으로 보고, 흡착제 1L당 제거된 HCl가스 양을 흡착성능으로 평가하여, 그 결과를 표 2에 나타내었다. 또한, 염소(Cl2) 표준가스를 유량 5LPM로 일정하게 유지하여 연속적으로 흘려 주었으며, 반응 후 흘러나온 가스는 테들러백에 포집하여 검지관(가스텍, 일본)으로 측정하였고, 포집된 가스의 농도가 10ppm에 이를 때를 파괴시점으로 보고, 흡착제 1L당 제거된 Cl2 양을 흡착성능으로 평가하여, 그 결과를 표 2에 나타내었다.1. The adsorption removal experiment was carried out by putting 20 ml of each of the adsorbents prepared in Examples 1 to 11 in a cylindrical reactor made of glass having an inner diameter of 25 mm and a height of 80 mm. Each of the hydrogen chloride (HCl) standard gas and the hydrogen fluoride (HF) standard gas were kept constant at a flow rate of 1LPM and flowed continuously, and the gas flowing out after the reaction was analyzed through FT-IR (MIDAC, Korea), and the concentration of the gas When it reached 10 ppm, it was reported as the time of destruction, and the amount of HCl gas removed per 1 L of adsorbent was evaluated by adsorption performance, and the results are shown in Table 2. In addition, chlorine (Cl 2 ) standard gas was kept at a constant flow rate of 5LPM and flowed continuously, and the gas that flowed out after the reaction was collected in a Tedler bag and measured with a detection tube (Gastech, Japan). When the concentration reached 10 ppm was reported as the time of destruction, and the amount of Cl 2 removed per 1 L of adsorbent was evaluated by adsorption performance, and the results are shown in Table 2.

2. 표 2를 보면, 실시예 2에서 확인한 바와 같이 비표면적이 작은 실시예 1의 3 내지 5에서 제조된 흡착제는 산성 가스 제거 효율이 떨어짐을 알 수 있고, 실시예 1의 1에서 제조된 흡착제는 실시예 1의 6 및 7에서 제조된 흡착제에 비해 산성 가스 제거 효율이 좋음을 확인할 수 있어 Ca보다 Zn이 산성가스 제거효율이 좋고 Zn 단독으로 사용된 경우보다 Mg이 첨가되는 경우 조촉매의 역활을 수행하여 산성가스 제거 효율을 향상시킴을 알 수 있다. 또한, 실시예 1의 9 내지 11에서 제조된 흡착제는 실시예 1의 1에서 제조된 흡착제 비해 산성 가스 제거 효율이 좋은데, 이는 산화철이 사용된 경우 알칼리 금속의 분산성을 향상시키고, 탄산수소아연이 사용된 경우 반응과정에서 생성된 수분에 의해 할로겐화수소 및 활로겐가스가 추가적인 이온화가 이루어지며, 나노다이아몬드가 사용된 경우 열을 효과적으로 분산시켜, 산성가스 제거 효율을 향상시키게 된다.2. Looking at Table 2, as confirmed in Example 2, it can be seen that the adsorbents prepared in 3 to 5 of Example 1 with a small specific surface area have low acid gas removal efficiency, and the adsorbent prepared in Example 1 of 1 It can be seen that the acidic gas removal efficiency is better than that of the adsorbents prepared in Example 1 6 and 7, so that Zn has better acid gas removal efficiency than Ca, and when Mg is added than when Zn alone is used, the role of a cocatalyst It can be seen that the acid gas removal efficiency is improved by performing In addition, the adsorbents prepared in Example 1 9 to 11 have better acid gas removal efficiency than the adsorbent prepared in Example 1 1, which improves the dispersibility of alkali metals when iron oxide is used, and zinc hydrogen carbonate is used. In this case, the hydrogen halide and the lubricant gas are further ionized by the moisture generated in the reaction process, and when nanodiamonds are used, heat is effectively dispersed, thereby improving the acid gas removal efficiency.

실시예 Example HCl 흡착HCl adsorption HF 흡착HF absorption Cl2 흡착Cl 2 adsorption 파괴시간
(min)
Destruction time
(min)
흡착량
(L/L)
Adsorption amount
(L/L)
파괴시간
(min)
Destruction time
(min)
흡착량
(L/L)
Adsorption amount
(L/L)
파괴시간
(min)
Destruction time
(min)
흡착량
(L/L)
Adsorption amount
(L/L)
1One 180180 4444 150150 3232 115115 2929 22 175175 4646 145145 3131 119119 2626 33 5050 1515 5050 1212 2525 1212 44 7070 2323 6868 1616 3333 1515 55 6868 2525 7070 1818 3131 1414 66 150150 3838 128128 2727 9999 2323 77 171171 4141 145145 2828 105105 2424 88 175175 4242 146146 2929 110110 2626 99 220220 5353 200200 3636 133133 3535 1010 309309 7979 260260 4242 200200 4141 1111 400400 9898 310310 5555 270270 5353

<실시예 4> 압축강도의 평가<Example 4> Evaluation of compressive strength

1. 실시예 1의 1 및 8에서 제조된 흡착제에 대하여 압축강도(Kgf)를 측정하였다. 실시예 1의 1에서 제조된 흡착제의 압축강도는 6.4이고, 실시예 1의 8에서 제조된 흡착제의 압축강도는 2.7이었다.1. The compressive strength (Kgf) was measured for the adsorbents prepared in Example 1 1 and 8. The compressive strength of the adsorbent prepared in Example 1 1 was 6.4, and the compressive strength of the adsorbent prepared in Example 1 8 was 2.7.

2. 실시예 1의 1에서 제조된 흡착제는 실시예 1의 8에서 제조된 흡착제에 비해 압축강도가 큰 것을 확인할 수 있어, 탄산칼슘 수용액이 사용된 경우 충분한 바인더 작용이 일어나 흡착제의 강도를 향상시킴을 알 수 있다.2. It can be seen that the adsorbent prepared in Example 1 of 1 has a higher compressive strength than the adsorbent prepared in Example 1 of 8, so that when an aqueous calcium carbonate solution is used, sufficient binder action occurs to improve the strength of the adsorbent. Can be seen.

이상에서, 출원인은 본 발명의 바람직한 실시예들을 설명하였지만, 이와 같은 실시예들은 본 발명의 기술적 사상을 구현하는 일 실시예일 뿐이며 본 발명의 기술적 사상을 구현하는 한 어떠한 변경예 또는 수정예도 본 발명의 범위에 속하는 것으로 해석되어야 한다.In the above, the applicant has described the preferred embodiments of the present invention, but such embodiments are only one embodiment that implements the technical idea of the present invention, and any change or modification of the present invention as long as the technical idea of the present invention is implemented. It should be construed as falling within the scope.

1. 필터장치 11: 하우징 12: 여과부
13: 연결부 11a: 상부하우징 11b: 하부하우징
12a: 수용관 12b: 상부캡 12c: 하부캡
111: 개방구 121: 중공
1. Filter device 11: housing 12: filter unit
13: connection part 11a: upper housing 11b: lower housing
12a: accommodation pipe 12b: upper cap 12c: lower cap
111: opening 121: hollow

Claims (6)

칠러의 벤트라인에서 유출되는 공정설비의 냉각 유체 기화물을 흡착하여 처리하는 필터장치를 포함하고,
상기 필터장치는 하우징과; 상기 하우징의 내부에 위치하여, 냉각 유체 기화물을 제거하는 여과부;를 포함하며,
상기 여과부는 냉각 유체 기화물을 흡착하여 제거하는 흡착제와, 냉각 유체 기화물과 반응하여 색상이 변화하는 검지제를 수용하는 수용관을 포함하고, 상기 벤트라인에서 유출되는 냉각 유체 기화물을 포함하는 유체는 흡착제를 통과한 후 검지제에 유입되어, 상기 검지제의 색상 변화를 감지하여 흡착제의 수명을 판단할 수 있고,
상기 수용관은 투명 소재로 이루어지고, 상기 하우징은 내외부를 연통시켜, 검지제의 색상변화를 하우징의 외부에서 확인할 수 있도록 하는 개방구를 포함하며,
상기 흡착제는 산성 가스 제거용 흡착제가 사용되고,
상기 산성 가스 제거용 흡착제는 염기성 금속 염화물 및 담체를 혼합하여 담체 혼합물을 형성하는 담체혼합물형성단계와, 상기 담체 혼합물을 알칼리 수용액에 혼합하여 담체 용액을 형성하는 담체용액형성단계와, 상기 담체 용액을 계면활성제 용액에 투입하고 반응시켜 혼합용액을 형성하는 혼합용액형성단계와, 상기 혼합용액에 초산 용액을 투입하여 pH를 9 내지 10으로 조절하고 80 내지 120℃의 온도에서 2 내지 4시간 동안 반응시켜 걸쭉한 상태의 겔화된 건조물을 얻는 pH조절단계와, 상기 건조물에 산화아연 및 탄산칼슘 수용액을 혼합하여 반죽을 형성하는 반죽형성단계를 거쳐 제조되는 것을 특징으로 하는 칠러의 배출 기화물 제거시스템.
Including a filter device for adsorbing and treating the vaporized cooling fluid of the process equipment discharged from the vent line of the chiller,
The filter device includes a housing; It is located in the interior of the housing, and a filtering unit for removing vaporized cooling fluid; includes,
The filtration unit includes an adsorbent for adsorbing and removing the cooling fluid vapor, and a receiving pipe for accommodating a detecting agent that changes color in response to the cooling fluid vapor, and includes a cooling fluid vapor flowing out of the vent line. The fluid passes through the adsorbent and then flows into the detecting agent, and the life of the adsorbent can be determined by detecting the color change of the detecting agent.
The receiving tube is made of a transparent material, and the housing includes an opening that communicates with the inside and outside so that the color change of the detection agent can be checked from the outside of the housing,
The adsorbent is an adsorbent for removing acidic gas,
The acidic gas removal adsorbent includes a carrier mixture forming step of mixing a basic metal chloride and a carrier to form a carrier mixture, a carrier solution forming step of mixing the carrier mixture with an aqueous alkali solution to form a carrier solution, and the carrier solution A mixed solution forming step of adding and reacting to a surfactant solution to form a mixed solution, and by adding an acetic acid solution to the mixed solution to adjust the pH to 9 to 10 and reacting at a temperature of 80 to 120°C for 2 to 4 hours. A system for removing gaseous discharge from a chiller, characterized in that it is manufactured through a pH adjustment step of obtaining a thick gelled dried product, and a dough forming step of mixing the dried product with an aqueous zinc oxide and calcium carbonate solution to form a dough.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 담체는 활성탄 및 천연 제올라이트가 사용되며,
상기 활성탄은 상기 염기성금속 염화물 100중량부당 80 내지 120중량부가 사용되며, 상기 천연 제올라이트는 상기 염기성금속 염화물 100중량부당 80 내지 120중량부가 사용되고,
상기 염기성금속 염화물은 염화마그네슘 1g당 염화아연 8 내지 10g이 혼합된 혼합물이 사용되며,
상기 담체용액형성단계에서는 산화철이 추가로 혼합된 알칼리 수용액이 사용되고, 상기 산화철은 상기 염기성금속 염화물 100중량부 15 내지 25중량부가 사용되는 것을 특징으로 하는 칠러의 배출 기화물 제거시스템.
The method of claim 1,
Activated carbon and natural zeolite are used as the carrier,
The activated carbon is used in an amount of 80 to 120 parts by weight per 100 parts by weight of the basic metal chloride, and the natural zeolite is used in an amount of 80 to 120 parts by weight per 100 parts by weight of the basic metal chloride,
As the basic metal chloride, a mixture of 8 to 10 g of zinc chloride per 1 g of magnesium chloride is used,
In the carrier solution forming step, an alkali aqueous solution in which iron oxide is additionally mixed is used, and the iron oxide is 100 parts by weight of the basic metal chloride and 15 to 25 parts by weight of the basic metal chloride.
제5항에 있어서,
상기 혼합용액형성단계는 상기 담체 용액을 계면활성제 용액에 투입하고 80 내지 120℃의 온도에서 2 내지 4시간 동안 반응시켜 혼합용액을 형성하고,
상기 계면활성제 용액은, 염기성금속 염화물 100중량부당 1800 내지 2500중량부가 사용되며, 증류수 1L당 계면활성제 80 내지 120g이 혼합되어 형성되며,
상기 혼합용액형성단계에서는 담체 용액을 한 방울씩 계면활성제 용액에 투입하고,
상기 산화아연은 상기 염기성금속 염화물 100중량부당 80 내지 120중량부가 사용되며,
상기 탄산칼슘 수용액은, 상기 염기성 금속염화물 100중량부당 50 내지 200중량부가 사용되며, 2 내지 3 몰농도를 가지고,
상기 반죽형성단계에서, 산화아연과 함께 탄산수소아연이 추가로 혼합되며,상기 탄산수소아연은 염기성 금속 염화물 100중량부당 30 내지 50중량부가 사용되며,
상기 반죽형성단계에서, 상기 탄산칼슘 수용액에 나노 다이아몬드가 추가로 혼합되며, 상기 나노 다이아몬드는 염기성 금속 염화물 100중량부에 대하여 1 내지 3중량부가 사용되는 것을 특징으로 하는 칠러의 배출 기화물 제거시스템.
The method of claim 5,
In the mixed solution forming step, the carrier solution is added to a surfactant solution and reacted at a temperature of 80 to 120° C. for 2 to 4 hours to form a mixed solution,
The surfactant solution is formed by mixing 1800 to 2500 parts by weight per 100 parts by weight of basic metal chloride, and 80 to 120 g of surfactant per 1 liter of distilled water,
In the mixed solution forming step, the carrier solution is added dropwise to the surfactant solution,
The zinc oxide is used in an amount of 80 to 120 parts by weight per 100 parts by weight of the basic metal chloride,
The calcium carbonate aqueous solution is used in an amount of 50 to 200 parts by weight per 100 parts by weight of the basic metal chloride, and has a molar concentration of 2 to 3,
In the dough forming step, zinc hydrogen carbonate is additionally mixed with zinc oxide, and 30 to 50 parts by weight of the zinc hydrogen carbonate is used per 100 parts by weight of basic metal chloride,
In the dough forming step, nanodiamonds are additionally mixed with the aqueous calcium carbonate solution, and the nanodiamonds are used in an amount of 1 to 3 parts by weight based on 100 parts by weight of the basic metal chloride.
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JP2009542892A (en) * 2006-07-11 2009-12-03 エスケー エナジー 株式会社 Discoloration indicator for life determination of desulfurization adsorbent, and desulfurization reactor and desulfurization system including the same
KR20150038766A (en) * 2013-09-30 2015-04-09 김남원 Chiller for process equipment with leakage blocking function of toxic gas and discoloration detecting device

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