KR102167298B1 - Static memory device with write assist and control method thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 라이트 어시스트 기능을 구비하는 정적 메모리 장치 및 그 제어 방법에 관한 것으로서, 일실시예에 따른 정적 메모리 장치는 셀 전원라인과 셀 소스라인 사이에 연결된 복수의 트랜지스터를 구비하는 메모리 셀과, 메모리 셀 양단에 연결된 비트라인과 비트라인바를 프리차지(Precharge)하는 프리차지 회로 및 라이트(Write) 제어 신호에 대응하여, 프리차지된 비트라인을 셀 소스라인과 연결하고 셀 전원라인을 비트라인바와 연결하는 라이트 어시스트 회로를 포함할 수 있다.The present invention relates to a static memory device having a write assist function and a method for controlling the same. The static memory device according to an embodiment includes a memory cell including a plurality of transistors connected between a cell power line and a cell source line, and a memory In response to a precharge circuit that precharges the bit line and bit line bar connected to both ends of the cell and a write control signal, the precharged bit line is connected to the cell source line and the cell power line is connected to the bit line bar. It may include a write assist circuit.

Description

라이트 어시스트 기능을 구비하는 정적 메모리 장치 및 그 제어 방법{STATIC MEMORY DEVICE WITH WRITE ASSIST AND CONTROL METHOD THEREOF}A static memory device having a write assist function and a control method thereof TECHNICAL FIELD

본 발명은 정적 메모리 장치 및 그 제어 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 정적 메모리 장치의 라이트 어시스트 기능에 대한 기술적 사상에 관한 것이다.The present invention relates to a static memory device and a control method thereof, and more particularly, to a technical idea of a write assist function of a static memory device.

트랜지스터(Transistor)는 제작 공정 중 발생하는 RDF(Random Dopant Fluctuation), LER(Line Edge Roughness) 및 WFV(Work Function Variation)으로 인해 설계자가 의도한 문턱전압(Threshold Voltage; Vth)을 구현하는데 어려움이 있다. Transistors have difficulty in realizing the intended threshold voltage (V th ) due to RDF (Random Dopant Fluctuation), LER (Line Edge Roughness), and WFV (Work Function Variation) occurring during the manufacturing process. have.

즉, 트랜지스터는 문턱전압의 변화(Vth variation)가 존재하며, 문턱전압은 확률 변수(Random Variable)가 되고, 문턱전압의 분포는 정규 분포(Gaussian Distribution)를 따르게 된다. That is, the transistor has a variation in the threshold voltage (V th variation), the threshold voltage becomes a random variable, and the distribution of the threshold voltage follows a Gaussian Distribution.

한편, 문턱전압의 표준편차(Standard Deviation)는 하기의 수학식을 통해 도출될 수 있다. 즉, 하기의 수학식을 참조하면 트랜지스터는 길이(Length)와 폭(Width)이 작아질수록 Vth variation이 심해지는 것을 알 수 있다. Meanwhile, the standard deviation of the threshold voltage can be derived through the following equation. That is, referring to the following equation, it can be seen that the V th variation of the transistor increases as the length and width decrease.

[수학식] [Equation]

Figure 112019008369011-pat00001
Figure 112019008369011-pat00001

여기서, AVt는 소자 및 공정 특성에 따라 결정되는 상수, Length는 트랜지스터의 길이, Width는 트랜지스터의 폭을 나타낸다. Here, A Vt is a constant determined according to device and process characteristics, Length is the length of the transistor, and Width is the width of the transistor.

한편, 복수의 트랜지스터로 메모리 셀을 형성하는 SRAM(Static Random Access Memory) 소자는 고집적화(High Density Integration)를 위해 매우 작은 사이즈로 제작 되므로 Vth variation에 크게 영향을 받을 수 있다. Meanwhile, since a static random access memory (SRAM) device forming a memory cell with a plurality of transistors is manufactured in a very small size for high density integration, it can be greatly affected by V th variation.

구체적으로, SRAM 소자에서는 메모리 셀(Memory Cell)의 라이트(Write) 동작 시, Vth variation에 의해 풀업 트랜지스터의 강도(Strength)가 액세스 트랜지스터의 강도보다 커져서 데이터가 플립(Flip)되지 않는 라이트 실패(Write Failure)가 발생될 수 있다. Specifically, in the SRAM device, during the write operation of the memory cell, the strength of the pull-up transistor becomes greater than the strength of the access transistor due to V th variation, so that data is not flipped. Write Failure) may occur.

따라서, SRAM 소자에서의 라이트 실패를 방지하기 위해서는 트랜지스터 간 강도의 균형이 필요한데 Vth variation이 크면 강도의 균형이 깨지기 쉬우므로, Vth variation을 개선할 수 있는 기술이 요구된다. Accordingly, in order to prevent a write failure in an SRAM device, a balance of strength between transistors is required. However, if the V th variation is large, the balance of strength is easily broken. Therefore, a technology capable of improving the V th variation is required.

그러나, SRAM 소자는 고집적화 구현으로 인해 Vth variation의 개선이 쉽지 않으므로, Vth variation을 고려한 설계가 요구된다. However, since the SRAM device is not easy to improve V th variation due to high integration, a design considering V th variation is required.

또한, SRAM 소자는 저전력(Low Power) 구현을 위해 저전압(Low Voltage)의 공급 전압을 이용하는데, 저전압의 공급전압 하에서는 Vth variation이 미치는 영향이 증가하는 문제가 있다. In addition, the SRAM device uses a low voltage supply voltage to implement low power, but under a low voltage supply voltage, the influence of V th variation increases.

다시 말해, SRAM 소자에서는 Vth variation에 크게 영향을 받으므로, 저전압 환경 하에서 Vth variation을 고려한 설계가 요구된다.In other words, since the zoom influenced by the SRAM device V th variation, a design considering the V th variation under a low voltage environment it is required.

한국공개특허 제10-2007-0080206호 "스태틱형 메모리 셀을 포함한 반도체 기억 장치"Korean Patent Laid-Open Patent No. 10-2007-0080206 "Semiconductor memory device including static memory cells" 한국등록특허 제10-1579194호 "메모리 액세스 방법 및 메모리 장치"Korean Patent Registration No. 10-1579194 "Memory access method and memory device"

본 발명은 라이트 동작시, 셀 전원라인과 비트라인바를 연결하여 메모리 셀에 구비된 풀업 트랜지스터의 드레인-소스 전압(VDS)을 감소시키고, 하프 전원전압(VDD/2) 레벨로 프리차지된 비트라인과 셀 소스라인을 연결하여 풀업 트랜지스터의 게이트-소스 전압(VGS)을 감소시킬 수 있는 정적 메모리 장치 및 그 방법을 제공하고자 한다.The present invention reduces the drain-source voltage (V DS ) of a pull-up transistor provided in a memory cell by connecting a cell power line and a bit line bar during a write operation, and a bit precharged to the half power voltage (VDD/2) level. An object of the present invention is to provide a static memory device and method capable of reducing the gate-source voltage (V GS ) of a pull-up transistor by connecting a line and a cell source line.

또한, 본 발명은 풀업 트랜지스터의 드레인-소스 전압(VDS) 및 게이트-소스 전압(VGS)을 감소시켜, 라이트 실패(Write Failure)를 최소화하는 정적 메모리 장치 및 그 방법을 제공하고자 한다.In addition, the present invention is to provide a static memory device and a method for minimizing write failure by reducing the drain-source voltage (V DS ) and the gate-source voltage (V GS ) of a pull-up transistor.

또한, 본 발명은 별도의 전압원을 사용하지 않고, 하프 전원전압(VDD/2) 레벨로 프리차지된 비트라인을 이용한 전하 재활용(Charge Recycling)을 통해 셀 소스라인에 인가되는 셀 소스전압(VSSM)을 증가시킬 수 있는 정적 메모리 장치 및 그 방법을 제공하고자 한다.In addition, the present invention does not use a separate voltage source, but the cell source voltage V applied to the cell source line through charge recycling using a bit line precharged to the half power voltage (V DD /2) level. A static memory device capable of increasing SSM ) and a method thereof are provided.

또한, 본 발명은 별도의 전압원을 사용하지 않고, 셀 전원전압(VDDM)이 인가된 셀 전원라인을 이용한 전하 재활용(Charge Recycling)을 통해 비트라인바에 인가되는 전압을 증가시킬 수 있는 정적 메모리 장치 및 그 방법을 제공하고자 한다.In addition, the present invention is a static memory device capable of increasing the voltage applied to the bit line bar through charge recycling using a cell power line to which the cell power voltage (V DDM ) is applied without using a separate voltage source. And to provide a method thereof.

일실시예에 따른 정적 메모리 장치는 셀 전원라인과 셀 소스라인 사이에 연결된 복수의 트랜지스터를 구비하는 메모리 셀과, 메모리 셀 양단에 연결된 비트라인과 비트라인바를 프리차지(Precharge)하는 프리차지 회로 및 라이트(Write) 제어 신호에 대응하여, 프리차지된 비트라인을 셀 소스라인과 연결하고 셀 전원라인을 비트라인바와 연결하는 라이트 어시스트 회로를 포함할 수 있다. A static memory device according to an embodiment includes a memory cell including a plurality of transistors connected between a cell power line and a cell source line, a precharge circuit for precharging a bit line and a bit line bar connected to both ends of the memory cell, and In response to a write control signal, a write assist circuit may be included for connecting a precharged bit line to a cell source line and a cell power line to a bit line bar.

일측에 따르면, 프리차지 회로는 비트라인을 하프 전원전압(VDD/2) 레벨로 프리차지할 수 있다. According to one side, the precharge circuit may precharge the bit line to the half power voltage (VDD/2) level.

일측에 따르면, 메모리 셀은 비트라인과 연결된 제1 액세스 트랜지스터, 비트라인바와 연결된 제2 액세스 트랜지스터, 셀 전원라인과 각각 연결된 제1 풀업 트랜지스터와 제2 풀업 트랜지스터 및 셀 소스라인과 각각 연결된 제1 풀다운 트랜지스터와 제2 풀다운 트랜지스터를 포함할 수 있다. According to one side, the memory cell includes a first access transistor connected to a bit line, a second access transistor connected to a bit line bar, a first pull-up transistor and a second pull-up transistor connected to the cell power line, and a first pull-down connected to the cell source line, respectively. It may include a transistor and a second pull-down transistor.

일측에 따르면, 라이트 어시스트 회로는 셀 전원라인과 셀 전원전압원을 연결하는 전원전압 트랜지스터 및 셀 소스라인과 셀 소스전압원을 연결하는 소스전압 트랜지스터를 포함할 수 있다. According to one side, the write assist circuit may include a power voltage transistor connecting the cell power line and the cell power voltage source, and a source voltage transistor connecting the cell source line and the cell source voltage source.

일측에 따르면, 라이트 어시스트 회로는 라이트 제어 신호에 따라 제어되는 전원전압 트랜지스터와 소스전압 트랜지스터의 스위칭 동작을 통해 셀 전원라인과 셀 소스라인을 플로팅(Floating) 시키고, 프리차지된 비트라인을 플로팅된 셀 소스라인과 연결하며, 플로팅된 셀 전원라인을 비트라인바와 연결할 수 있다. According to one side, the write assist circuit floats the cell power line and the cell source line through the switching operation of the power voltage transistor and the source voltage transistor controlled according to the write control signal, and floats the precharged bit line. It is connected to the source line, and the floating cell power line can be connected to the bit line bar.

일측에 따르면, 라이트 어시스트 회로는 셀 전원라인과 비트라인 사이에 연결된 제1 선택 트랜지스터와, 비트라인과 셀 소스라인 사이에 연결된 제2 선택 트랜지스터와, 셀 소스라인과 비트라인바 사이에 연결된 제3 선택 트랜지스터 및 비트라인바와 셀 전원라인 사이에 연결된 제4 선택 트랜지스터를 포함하고, 제1 내지 제4 선택 트랜지스터 각각의 스위칭 동작을 통해 프리차지된 비트라인을 플로팅된 셀 소스라인과 연결하고, 플로팅된 셀 전원라인을 비트라인바와 연결할 수 있다. According to one side, the write assist circuit includes a first selection transistor connected between the cell power line and the bit line, a second selection transistor connected between the bit line and the cell source line, and a third selection transistor connected between the cell source line and the bit line bar. Including a selection transistor and a fourth selection transistor connected between the bit line bar and the cell power line, and connecting the precharged bit line to the floating cell source line through a switching operation of each of the first to fourth selection transistors, and The cell power line can be connected to the bit line bar.

일측에 따르면, 라이트 어시스트 회로는 셀 전원라인 및 셀 소스라인에 각각 연결되고, 비트 인터리브(Bit-interleave) 동작에 따른 제어신호를 수신하여 열 선택(Column Select)을 위한 스위칭 동작을 수행하는 제1 인터리브 트랜지스터 및 제2 인터리브 트랜지스터를 포함할 수 있다.According to one side, the write assist circuit is connected to the cell power line and the cell source line, respectively, and receives a control signal according to a bit-interleave operation to perform a switching operation for column selection. It may include an interleaved transistor and a second interleaved transistor.

일측에 따르면, 라이트 어시스트 회로는 비트라인과 비트라인바와 각각 연결되고, 비트라인의 전압과 비트라인바의 전압을 접지 레벨(Ground Level)로 변경하기 위한 스위칭 동작을 수행하는 제1 접지 트랜지스터 및 제2 접지 트랜지스터를 포함할 수 있다. According to one side, the write assist circuit is connected to the bit line and the bit line bar, respectively, and performs a switching operation for changing the voltage of the bit line and the voltage of the bit line bar to a ground level. It may include 2 ground transistors.

일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 제어 방법은 프리차지 회로에서 복수의 트랜지스터를 구비하는 메모리 셀의 양단에 연결된 비트라인과 비트라인바를 프리차지(Precharge)하는 단계 및 라이트 어시스트 회로에서 라이트(Write) 제어 신호에 대응하여, 프리차지된 비트라인을 메모리 셀과 연결된 셀 소스라인과 연결하고, 메모리 셀과 연결된 셀 전원라인을 비트라인바와 연결하는 단계를 포함할 수 있다.A method of controlling a static memory device according to an embodiment includes the steps of precharging a bit line and a bit line bar connected to both ends of a memory cell having a plurality of transistors in a precharge circuit, and writing in a write assist circuit. In response to the control signal, the precharged bit line may be connected to a cell source line connected to the memory cell, and a cell power line connected to the memory cell may be connected to the bit line bar.

일측에 따르면, 프리차지하는 단계는 프리차지 회로에서 비트라인을 하프 전원전압(VDD/2) 레벨로 프리차지할 수 있다. According to one side, in the precharging step, the precharge circuit may precharge the bit line to the half power voltage (VDD/2) level.

일측에 따르면, 비트라인바와 연결하는 단계는 라이트 어시스트 회로에 구비된 전원전압 트랜지스터와 소스전압 트랜지스터에서 라이트 제어 신호에 따라 제어되는 스위칭 동작을 통해 셀 전원라인과 셀 소스라인을 플로팅(Floating) 시키는 단계 및 라이트 어시스트 회로에 구비된 제1 내지 제4 선택 트랜지스터 각각의 스위칭 동작을 통해 프리차지된 비트라인을 플로팅된 셀 소스라인과 연결하고, 플로팅된 셀 전원라인을 비트라인바와 연결하는 단계를 포함할 수 있다. According to one side, the step of connecting to the bit line bar is a step of floating the cell power line and the cell source line through a switching operation controlled according to the write control signal in the power voltage transistor and the source voltage transistor provided in the write assist circuit. And connecting the precharged bit line to the floating cell source line through the switching operation of each of the first to fourth selection transistors provided in the write assist circuit, and connecting the floating cell power line to the bit line bar. I can.

일측에 따르면, 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 제어 방법은 라이트 어시스트 회로에 구비된 제1 내지 제4 선택 트랜지스터 각각의 스위칭 동작을 통해, 프리차지된 비트라인과 플로팅된 셀 소스라인 사이의 연결을 해제하고 플로팅된 셀 전원라인과 비트라인바 사이의 연결을 해제하는 단계 및 라이트 어시스트 회로에 구비된 제1 접지 트랜지스터 및 제2 접지 트랜지스터의 스위칭 동작을 통해 비트라인의 전압과 비트라인바의 전압을 접지 레벨(Ground Level)로 변경하는 단계를 더 포함할 수 있다.According to one side, the method for controlling a static memory device according to an embodiment is a connection between a precharged bit line and a floating cell source line through a switching operation of each of the first to fourth selection transistors included in the write assist circuit. The voltage of the bit line and the voltage of the bit line bar through the steps of releasing and releasing the connection between the floating cell power line and the bit line bar, and switching operations of the first ground transistor and the second ground transistor provided in the write assist circuit. It may further include the step of changing to a ground level (Ground Level).

일실시예에 따르면, 라이트 동작시, 셀 전원라인과 비트라인바를 연결하여 메모리 셀에 구비된 풀업 트랜지스터의 드레인-소스 전압(VDS)을 감소시키고, 하프 전원전압(VDD/2) 레벨로 프리차지된 비트라인과 셀 소스라인을 연결하여 풀업 트랜지스터의 게이트-소스 전압(VGS)을 감소시킬 수 있다. According to an embodiment, during a write operation, the drain-source voltage (V DS ) of the pull-up transistor provided in the memory cell is reduced by connecting the cell power line and the bit line bar, and the voltage is free to the half power voltage (VDD/2). The gate-source voltage V GS of the pull-up transistor can be reduced by connecting the charged bit line and the cell source line.

일실시예에 따르면, 풀업 트랜지스터의 드레인-소스 전압(VDS) 및 게이트-소스 전압(VGS)을 감소시켜, 라이트 실패(Write Failure)를 최소화할 수 있다. According to an embodiment, by reducing the drain-source voltage (V DS ) and the gate-source voltage (V GS ) of the pull-up transistor, write failure may be minimized.

일실시예에 따르면, 별도의 전압원을 사용하지 않고, 하프 전원전압(VDD/2) 레벨로 프리차지된 비트라인을 이용한 전하 재활용(Charge Recycling)을 통해 셀 소스라인에 인가되는 셀 소스전압(VSSM)을 증가시킬 수 있다.According to an embodiment, the cell source voltage applied to the cell source line through charge recycling using a bit line precharged to the half power voltage (V DD /2) level without using a separate voltage source ( V SSM ) can be increased.

일실시예에 따르면, 별도의 전압원을 사용하지 않고, 셀 전원전압(VDDM)이 인가된 셀 전원라인을 이용한 전하 재활용(Charge Recycling)을 통해 비트라인바에 인가되는 전압을 증가시킬 수 있다.According to an embodiment, a voltage applied to a bit line bar may be increased through charge recycling using a cell power line to which the cell power voltage V DDM is applied without using a separate voltage source.

도 1은 일실시예에 따른 정적 메모리 장치를 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 일실시예에 따른 정적 메모리 장치에 구비된 메모리 셀의 예시를 설명하기 위한 도면이다.
도 3a는 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 상세한 구성을 설명하기 위한 도면이다.
도 3b는 일실시예에 따른 정적 메모리 장치에 구비된 어시스트 제어 신호 생성기를 설명하기 위한 도면이다.
도 3c는 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 동작 타이밍을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 제어 방법을 설명하기 위한 도면이다.
1 is a diagram illustrating a static memory device according to an embodiment.
2 is a diagram for describing an example of a memory cell included in a static memory device according to an embodiment.
3A is a diagram illustrating a detailed configuration of a static memory device according to an embodiment.
3B is a diagram illustrating an assist control signal generator provided in a static memory device according to an exemplary embodiment.
3C is a diagram illustrating an operation timing of a static memory device according to an exemplary embodiment.
4 is a diagram illustrating a method of controlling a static memory device according to an exemplary embodiment.

본 명세서에 개시되어 있는 본 발명의 개념에 따른 실시예들에 대해서 특정한 구조적 또는 기능적 설명들은 단지 본 발명의 개념에 따른 실시예들을 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로서, 본 발명의 개념에 따른 실시예들은 다양한 형태로 실시될 수 있으며 본 명세서에 설명된 실시예들에 한정되지 않는다.Specific structural or functional descriptions of the embodiments according to the concept of the present invention disclosed in this specification are exemplified only for the purpose of describing the embodiments according to the concept of the present invention, and embodiments according to the concept of the present invention They may be implemented in various forms and are not limited to the embodiments described herein.

본 발명의 개념에 따른 실시예들은 다양한 변경들을 가할 수 있고 여러 가지 형태들을 가질 수 있으므로 실시예들을 도면에 예시하고 본 명세서에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명의 개념에 따른 실시예들을 특정한 개시형태들에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 변경, 균등물, 또는 대체물을 포함한다.Since the embodiments according to the concept of the present invention can apply various changes and have various forms, the embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail herein. However, this is not intended to limit the embodiments according to the concept of the present invention to specific disclosed forms, and includes changes, equivalents, or substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

제1 또는 제2 등의 용어를 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만, 예를 들어 본 발명의 개념에 따른 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채, 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소는 제1 구성요소로도 명명될 수 있다.Terms such as first or second may be used to describe various elements, but the elements should not be limited by the terms. The above terms are only for the purpose of distinguishing one component from other components, for example, without departing from the scope of rights according to the concept of the present invention, the first component may be named as the second component, Similarly, the second component may also be referred to as a first component.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성요소들 간의 관계를 설명하는 표현들, 예를 들어 "~사이에"와 "바로~사이에" 또는 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.When a component is referred to as being "connected" or "connected" to another component, it is understood that it may be directly connected or connected to the other component, but other components may exist in the middle. Should be. On the other hand, when a component is referred to as being "directly connected" or "directly connected" to another component, it should be understood that there is no other component in the middle. Expressions describing the relationship between components, for example, "between" and "just between" or "directly adjacent to" should be interpreted as well.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예들을 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함으로 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used in the present specification are only used to describe specific embodiments and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In the present specification, terms such as "comprise" or "have" are intended to designate that the specified features, numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof exist, but one or more other features or numbers, It is to be understood that the presence or addition of steps, actions, components, parts or combinations thereof does not preclude the possibility of preliminary exclusion.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하며, 본 명세서에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by a person of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. Terms as defined in a commonly used dictionary should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related technology, and should not be interpreted as an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in this specification. Does not.

이하, 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 그러나, 특허출원의 범위가 이러한 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 각 도면에 제시된 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다.Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the scope of the patent application is not limited or limited by these embodiments. The same reference numerals in each drawing indicate the same members.

도 1은 일실시예에 따른 정적 메모리 장치를 설명하기 위한 도면이다. 1 is a diagram illustrating a static memory device according to an embodiment.

도 1을 참조하면, 일실시예에 따른 정적 메모리 장치(100)는 라이트 동작시, 셀 전원라인과 비트라인을 연결하여 메모리 셀에 구비된 풀업 트랜지스터의 드레인-소스 전압(VDS)을 감소시키고 하프 전원전압(VDD/2) 레벨로 프리차지된 비트라인과 셀 소스라인을 연결하여 풀업 트랜지스터의 게이트-소스 전압(VGS)을 감소시켜 라이트 실패(Write Failure)를 최소화할 수 있다. Referring to FIG. 1, in a static memory device 100 according to an embodiment, during a write operation, a cell power line and a bit line are connected to reduce the drain-source voltage V DS of a pull-up transistor provided in the memory cell. Write failure can be minimized by reducing the gate-source voltage (V GS ) of the pull-up transistor by connecting the bit line precharged to the half power voltage (VDD/2) level and the cell source line.

또한, 일실시예에 따른 정적 메모리 장치(100)는 별도의 전압원을 사용하지 않고 하프 전원전압(VDD/2) 레벨로 프리차지된 비트라인을 이용한 전하 재활용(Charge Recycling)을 통해 셀 소스라인에 인가되는 셀 소스전압(VSSM)을 증가시킬 수 있다. In addition, the static memory device 100 according to an exemplary embodiment does not use a separate voltage source, but uses a bit line precharged to a half power voltage (V DD /2) through charge recycling. The cell source voltage V SSM applied to the cell may be increased.

또한, 일실시예에 따른 정적 메모리 장치(100)는 별도의 전압원을 사용하지 않고 셀 전원전압(VDDM)이 인가된 셀 전원라인을 이용한 전하 재활용을 통해 비트라인바에 인가되는 전압을 증가시킬 수 있다.In addition, the static memory device 100 according to an embodiment may increase the voltage applied to the bit line bar through charge recycling using the cell power line to which the cell power voltage V DDM is applied without using a separate voltage source. have.

다시 말해, 일실시예에 따른 정적 메모리 장치(100)는 별도의 전압원 없이 전하 재활용을 통해 셀 소스전압(VSSM)과 비트라인바에 인가되는 전압을 증가시킴으로써, 장치의 사이즈 및 라이트 동작에 이용되는 전력을 감소시킬 수 있다. In other words, the static memory device 100 according to an embodiment increases the cell source voltage (V SSM ) and the voltage applied to the bit line bar through charge recycling without a separate voltage source, thereby being used for the size and write operation of the device. Power can be reduced.

이를 위해, 일실시예에 따른 정적 메모리 장치(100)는 메모리 셀(110), 프리차지 회로(120) 및 라이트 어시스트 회로(130)를 포함할 수 있다. To this end, the static memory device 100 according to an embodiment may include a memory cell 110, a precharge circuit 120, and a write assist circuit 130.

예를 들면, 정적 메모리 장치(100)는 SRAM(Static Random Access Memory) 소자일 수 있다. 또한, 정적 메모리 장치(100)는 복수의 메모리 셀(110)들이 어레이(Array) 구조로 형성될 수 있으며, 참조부호 100의 도면에서는 어레이 구조의 메모리 셀들 중에서 어느 하나의 열(Column)에 연결된 메모리 셀(110)들만을 도시하여 설명하기로 한다. For example, the static memory device 100 may be a static random access memory (SRAM) device. In addition, in the static memory device 100, a plurality of memory cells 110 may be formed in an array structure, and in the drawing of reference numeral 100, a memory connected to any one column among the memory cells of the array structure It will be described by showing only the cells 110.

구체적으로, 일실시예에 따른 메모리 셀(110)은 셀 전원라인과 셀 소스라인 사이에 연결된 복수의 트랜지스터를 구비할 수 있다. Specifically, the memory cell 110 according to an embodiment may include a plurality of transistors connected between the cell power line and the cell source line.

예를 들면, 일실시예에 따른 메모리 셀(110)은 6개의 트랜지스터를 구비하는 6T 구조의 메모리 셀일 수 있다. 또한, 셀 전원라인은 셀 전원전압(VDDM)이 인가되는 라인이고, 셀 소스라인은 셀 소스전압(VSSM)이 인가되는 라인일 수 있다. For example, the memory cell 110 according to an embodiment may be a 6T memory cell including six transistors. In addition, the cell power line may be a line to which the cell power voltage V DDM is applied, and the cell source line may be a line to which the cell source voltage V SSM is applied.

일측에 따르면, 프리차지 회로(120)는 메모리 셀(110) 양단에 연결된 비트라인(BL)과 비트라인바(BLb)를 프리차지(Precharge)할 수 있다.According to one side, the precharge circuit 120 may precharge the bit line BL and the bit line bar BLb connected to both ends of the memory cell 110.

일측에 따르면, 프리차지 회로(120)는 비트라인(BL)을 하프 전원전압(VDD/2) 레벨로 프리차지할 수 있다. According to one side, the precharge circuit 120 may precharge the bit line BL to the half power voltage VDD/2 level.

보다 구체적으로, 리드 포트(Read Port)와 라이트 포트(Write Port)가 동일한 6T 구조의 정적 메모리 장치에서는 비트라인(BL)을 0V로 프리차지하면 비선택된 열(Unselected Column)에서의 리드 안정성(Stability) 문제가 발생될 수 있다. More specifically, in a static memory device of a 6T structure in which the read port and the write port are the same, if the bit line BL is precharged to 0V, read stability in an unselected column is achieved. ) Problems may occur.

따라서, 일실시예에 따른 프리차지 회로(120)는 6T 구조에서 리드 안정성 문제없이 라이트 특성을 향상시키기 위하여 비트라인(BL)을 하프 전원전압(VDD/2) 레벨로 프리차지할 수 있다.Accordingly, the precharge circuit 120 according to an exemplary embodiment may precharge the bit line BL at the half power voltage (V DD /2) level in order to improve the write characteristics without a read stability problem in the 6T structure.

또한, 일실시예에 따른 라이트 어시스트 회로(130)는 라이트(Write) 제어 신호에 대응하여, 프리차지된 비트라인(BL)을 셀 소스라인과 연결하고 셀 전원라인을 비트라인바(BLb)와 연결할 수 있다. In addition, the write assist circuit 130 according to an embodiment connects the precharged bit line BL to the cell source line and connects the cell power line to the bit line bar BLb in response to a write control signal. I can connect.

여기서, 비트라인바(BLb)의 전압은 프리차지 레벨에서 0V 레벨로 방전된 상태일 수 있다.Here, the voltage of the bit line bar BLb may be discharged from the precharge level to the 0V level.

예를 들면, 라이트 어시스트 회로(130)는 일실시예에 따른 메모리 셀(110)에 대한 라이트 동작을 수행하는 라이트 드라이버(Write Driver)에 포함되거나, 라이트 드라이버와 별도로 분리되어 라이트 동작을 지원하는 회로일 수 있다.For example, the write assist circuit 130 is included in a write driver that performs a write operation on the memory cell 110 according to an embodiment, or is separate from the write driver to support a write operation. Can be

또한, 라이트 제어 신호는 라이트 드라이버로부터 인가되는 제어 신호일 수 있다. Also, the write control signal may be a control signal applied from the write driver.

즉, 일실시예에 따른 라이트 어시스트 회로(130)는 메모리 셀(110)에 대한 라이트 동작 시, 셀 전원전압(VDDM)이 인가되는 셀 전원라인과 비트라인(BL)을 연결하여 메모리 셀(110)에 구비된 풀업 트랜지스터의 드레인-소스 전압(VDS)을 감소시키고, 하프 전원전압(VDD/2) 레벨로 프리차지된 비트라인과 셀 소스라인을 연결하여 풀업 트랜지스터의 게이트-소스 전압(VGS)을 감소시킴으로써, 라이트 실패(Write Failure)를 최소화할 수 있다. That is, the write assist circuit 130 according to an embodiment connects the cell power line to which the cell power voltage V DDM is applied and the bit line BL during a write operation on the memory cell 110 to connect the memory cell ( 110), the gate-source voltage of the pull-up transistor by reducing the drain-source voltage (V DS ) of the pull-up transistor and connecting the precharged bit line and the cell source line to the half power voltage (V DD /2) level. By reducing (V GS ), it is possible to minimize write failure.

또한, 라이트 어시스트 회로(130)는 셀 전원라인과 비트라인(BL)의 연결을 통해 전하 재활용이 이루어져 별도의 전압원을 사용하지 않고 비트라인바(BLb)에 인가되는 전압을 증가시킬 수 있다. In addition, the write assist circuit 130 recycles charges through the connection between the cell power line and the bit line BL, so that a voltage applied to the bit line bar BLb may be increased without using a separate voltage source.

또한, 라이트 어시스트 회로(130)는 하프 전원전압(VDD/2) 레벨로 프리차지된 비트라인(BL)의 연결을 통해 전하 재활용이 이루어져 별도의 전압원을 사용하지 않고 셀 소스라인에 인가되는 셀 소스전압(VSSM)을 증가시킬 수 있다.In addition, the write assist circuit 130 is a cell that is applied to the cell source line without using a separate voltage source because charge is recycled through the connection of the bit line BL precharged to the half power voltage (V DD /2) level. The source voltage V SSM can be increased.

일측에 따르면, 라이트 어시스트 회로(130)는 라이트하고자 하는 데이터에 따라, 셀 전원라인과 비트라인을 연결하고 셀 소스라인과 비트라인바를 연결할 수도 있다.According to one side, the write assist circuit 130 may connect the cell power line and the bit line and connect the cell source line and the bit line bar according to the data to be written.

한편, 일실시예에 따른 정적 메모리 장치(100)는 비트라인(BL)과 비트라인바(BLb)에 각각 연결되고, 비트 인터리브(Bit-interleave) 동작에 따른 제어신호를 수신하여 선택된 열(Selected Column)에 대응되는 비트라인(BL)과 비트라인바(BLb)를 연결하는 복수의 멀티플렉서(Multiplexer)를 더 포함할 수도 있다.Meanwhile, the static memory device 100 according to an embodiment is connected to the bit line BL and the bit line bar BLb, respectively, and receives a control signal according to a bit-interleave operation, and selects a selected row. A plurality of multiplexers connecting the bit line BL corresponding to the column and the bit line bar BLb may be further included.

다시 말해, 일실시예에 따른 정적 메모리 장치(100)는 같은 데이터 단위, 즉, 같은 워드(Word)에 속하는 메모리 셀(110)들을 인접하여 배치시키지 않고, 서로 다른 워드에 속하는 메모리 셀(110)들을 인접하여 배치시키는 비트 인터리브 구조로 형성된 메모리일 수 있다. In other words, the static memory device 100 according to an embodiment does not arrange the memory cells 110 belonging to the same data unit, that is, the same word adjacent to each other, but the memory cells 110 belonging to different words. It may be a memory formed in a bit interleaved structure in which they are arranged adjacent to each other.

도 1을 통해 설명한 일실시예에 따른 정적 메모리 장치에 대한 상세한 구성은 이후 실시예 도 3a 내지 도 3c를 통해 보다 구체적으로 설명하기로 한다. A detailed configuration of the static memory device according to the exemplary embodiment described with reference to FIG. 1 will be described in more detail with reference to FIGS. 3A to 3C.

도 2는 일실시예에 따른 정적 메모리 장치에 구비된 메모리 셀의 예시를 설명하기 위한 도면이다. 2 is a diagram for describing an example of a memory cell included in a static memory device according to an embodiment.

다시 말해, 도 2의 메모리 셀(200)을 도 1에서 설명한 일실시예에 따른 메모리 셀(110)일 수 있다. In other words, the memory cell 200 of FIG. 2 may be the memory cell 110 according to the embodiment described with reference to FIG. 1.

도 2를 참조하면, 일실시예에 따른 메모리 셀(200)은 6개의 트랜지스터를 구비하는 6T 구조로 형성될 수 있다. Referring to FIG. 2, a memory cell 200 according to an exemplary embodiment may be formed in a 6T structure including six transistors.

일측에 따르면, 메모리 셀(200)은 비트라인(BL)과 연결된 제1 액세스 트랜지스터(PG1), 비트라인바와 연결된 제2 액세스 트랜지스터(PG2)를 포함할 수 있다. According to one side, the memory cell 200 may include a first access transistor PG1 connected to the bit line BL and a second access transistor PG2 connected to the bit line bar.

또한, 메모리 셀(200)은 셀 전원전압(VDDM)이 인가되는 셀 전원라인과 각각 연결된 제1 풀업 트랜지스터(PU1)와 제2 풀업 트랜지스터(PU2) 및 셀 소스전압(VSSM)이 인가되는 셀 소스라인과 각각 연결된 제1 풀다운 트랜지스터(PD1)와 제2 풀다운 트랜지스터(PD2)를 포함할 수 있다. In addition, the memory cell 200 includes a first pull-up transistor PU1, a second pull-up transistor PU2 and a cell source voltage V SSM respectively connected to the cell power line to which the cell power voltage V DDM is applied. A first pull-down transistor PD1 and a second pull-down transistor PD2 respectively connected to the cell source line may be included.

일측에 따르면, 제1 액세스 트랜지스터(PG1)와 제2 액세스 트랜지스터(PG2)는 NMOS 트랜지스터로 구성될 수 있으며, 제1 액세스 트랜지스터(PG1)와 제2 액세스 트랜지스터(PG2) 각각의 게이트 단자는 워드라인(WL)과 연결될 수 있다. According to one side, the first access transistor PG1 and the second access transistor PG2 may be composed of NMOS transistors, and the gate terminals of each of the first access transistor PG1 and the second access transistor PG2 are word lines. (WL) can be connected.

또한, 워드라인(WL)은 메모리 셀(200)이 홀드(Hold), 라이트(Write) 및 리드(Read) 동작 중 어느 하나의 동작 시, 소정 레벨의 게이트 제어 신호가 인가되어 제1 액세스 트랜지스터(PG1)와 제2 액세스 트랜지스터(PG2)의 스위칭 동작을 제어할 수 있다. In addition, when the memory cell 200 is in any one of a hold, write, and read operation, the word line WL is applied with a gate control signal of a predetermined level so that the first access transistor ( Switching operations of the PG1 and the second access transistor PG2 may be controlled.

한편, 워드라인(WL)에 인가되는 소정 레벨의 게이트 제어 신호는 별도로 구비된 워드라인 제어 회로를 통해 인가되는 신호일 수 있으며, 워드라인 제어 회로는 라이트(Write) 제어 신호 또는 리드(Read) 제어 신호와 같은 제어 신호의 인가 시에 게이트 제어 신호를 인가할 수 있다. Meanwhile, the gate control signal of a predetermined level applied to the word line WL may be a signal applied through a separately provided word line control circuit, and the word line control circuit is a write control signal or a read control signal. The gate control signal can be applied when the control signal is applied.

일측에 따르면, 제1 풀업 트랜지스터(PU1)와 제2 풀업 트랜지스터(PU2)는 PMOS 트랜지스터로 구성될 수 있고, 제1 풀다운 트랜지스터(PD1)와 제2 풀다운 트랜지스터(PD2)는 NMOS 트랜지스터로 구성될 수 있다. According to one side, the first pull-up transistor PU1 and the second pull-up transistor PU2 may be composed of PMOS transistors, and the first pull-down transistor PD1 and the second pull-down transistor PD2 may be composed of NMOS transistors. have.

또한, 제1 풀업 트랜지스터(PU1)와 제1 풀다운 트랜지스터(PD1)의 게이트 단자는 VR 노드와 연결되고 드레인 단자는 VL 노드에 서로 연결되어 하나의 인버터를 구성하고, 제2 풀업 트랜지스터(PU2)와 제2 풀다운 트랜지스터(PD2)의 게이트 단자는 VL 노드에 연결되고 드레인 단자는 VR 노드에 서로 연결되어 다른 하나의 인버터를 구성할 수 있다. In addition, gate terminals of the first pull-up transistor PU1 and the first pull-down transistor PD1 are connected to the V R node, the drain terminal is connected to the V L node to form one inverter, and the second pull-up transistor PU2 ) And the gate terminal of the second pull-down transistor PD2 are connected to the V L node, and the drain terminal is connected to the V R node to form another inverter.

또한, 제1 풀업 트랜지스터(PU1)와 제1 풀다운 트랜지스터(PD1)로 형성된 인버터와, 제2 풀업 트랜지스터(PU2)와 제2 풀다운 트랜지스터(PD2)로 형성된 인버터는 상호결합(Cross-Coupled)된 구조로 구성될 수 있다. In addition, the inverter formed of the first pull-up transistor PU1 and the first pull-down transistor PD1, and the inverter formed of the second pull-up transistor PU2 and the second pull-down transistor PD2 are cross-coupled. It can be composed of.

한편, 일실시예에 따른 메모리 셀(200)은 라이트(Write) 동작이 수행될 수 있다. Meanwhile, a write operation may be performed in the memory cell 200 according to an exemplary embodiment.

보다 구체적으로, 메모리 셀(200)은 비트라인(BL)이 하프 전원전압(VDD/2) 레벨이 되고 비트라인바(BLB)가 0V로 방전되며 워드 라인(WL)에 전원전압(VDD)이 인가되면, 제1 액세스 트랜지스터(PG1)와 제2 액세스 트랜지스터(PG2)가 턴-온(Turn-On) 상태가 되어 비트라인(BL)의 전압이 0V로 방전(Discharge) 되면서, VL 노드에는 '0'이 라이트되고 VR 노드에는 '1'이 라이트될 수 있다.More specifically, in the memory cell 200, the bit line BL reaches the half power voltage (V DD /2) level, the bit line bar BLB is discharged to 0 V, and the power voltage V DD is applied to the word line WL. ) Is applied, the first access transistor PG1 and the second access transistor PG2 are turned on and the voltage of the bit line BL is discharged to 0V, and V L '0' may be written to the node and '1' may be written to the V R node.

그러나, 메모리 셀(200)은 전술한 라이트 동작 시에 Vth variation에 의해 제1 풀업 트랜지스터(PU1)의 강도(Strength)가 제1 액세스 트랜지스터(PG1)의 강도보다 커져서 데이터가 플립(Flip)되지 않는 라이트 실패(Write Failure)가 발생될 수 있다.However, in the memory cell 200, the strength of the first pull-up transistor PU1 is greater than the strength of the first access transistor PG1 due to V th variation during the above-described write operation, so that data is not flipped. Write failure may occur.

따라서, 도 1에서 설명한 일시예에 따른 라이트 어시스트 회로는 라이트 제어 신호에 대응하여, 하프 전원전압(VDD/2)으로 프리차지된 비트라인(BL)을 셀 소스라인과 연결하고 셀 전원라인을 비트라인바(BLb)와 연결할 수 있다. Accordingly, the write assist circuit according to the temporary example described in FIG. 1 connects the bit line BL precharged with the half power voltage (V DD /2) to the cell source line and connects the cell power line in response to the write control signal. It can be connected to the bit line bar BLb.

즉, 일시예에 따른 라이트 어시스트 회로는 전술한 연결 동작을 통해 제1 풀업 트랜지스터(PU1)의 드레인-소스 전압(VDS) 및 게이트-소스 전압(VGS)을 감소 시킴으로써, 제1 풀업 트랜지스터(PU1)의 강도를 약하게 하여 라이트 실패(Write Failure)를 최소화 할 수 있다. That is, the write assist circuit according to the temporary example reduces the drain-source voltage (V DS ) and the gate-source voltage (V GS ) of the first pull-up transistor PU1 through the above-described connection operation, thereby reducing the first pull-up transistor ( Write failure can be minimized by weakening the strength of PU1).

도 3a는 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 상세한 구성을 설명하기 위한 도면이고, 도 3b는 일실시예에 따른 정적 메모리 장치에 구비된 어시스트 제어 신호 생성기를 설명하기 위한 도면이다. 3A is a diagram illustrating a detailed configuration of a static memory device according to an embodiment, and FIG. 3B is a diagram illustrating an assist control signal generator provided in the static memory device according to an embodiment.

또한, 도 3c는 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 동작 타이밍을 설명하기 위한 도면이다. In addition, FIG. 3C is a diagram illustrating an operation timing of a static memory device according to an embodiment.

다시 말해, 도 3a 내지 도 3c는 도 1 내지 도 2를 통해 설명한 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 상세한 구성 및 동작을 설명하기 위한 도면으로, 이후 실시예 도 3a 내지 도 3c를 통해 설명하는 내용 중 일실시예에 따른 정적 메모리 장치를 통해 설명한 내용과 중복되는 설명은 생략하기로 한다. In other words, FIGS. 3A to 3C are diagrams for explaining the detailed configuration and operation of the static memory device according to the exemplary embodiment described with reference to FIGS. 1 to 2, and contents described later with reference to FIGS. 3A to 3C Description of the contents overlapping with those described through the static memory device according to one embodiment will be omitted.

도 3a 내지 도 3c를 참조하면, 참조부호 310은 메모리 셀(311), 프리차지 회로(312) 및 라이트 어시스트 회로(313)를 포함하는 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 상세한 구성을 나타낸다. 3A to 3C, reference numeral 310 denotes a detailed configuration of a static memory device according to an embodiment including a memory cell 311, a precharge circuit 312, and a write assist circuit 313.

일측에 따르면, 정적 메모리 장치(310)는 비트라인(BL)과 비트라인바(BLb)에 각각 연결되고, 비트 인터리브(Bit-interleave) 동작에 따른 제어신호를 수신하여 선택된 열(Selected Column)의 비트라인(BL)과 비트라인바(BLb)를 연결하는 복수의 멀티플렉서(Multiplexer; 314)를 더 포함할 수도 있다.According to one side, the static memory device 310 is connected to the bit line BL and the bit line bar BLb, respectively, and receives a control signal according to a bit-interleave operation to select a selected column. A plurality of multiplexers 314 connecting the bit line BL and the bit line bar BLb may be further included.

일측에 따르면, 라이트 어시스트 회로(313)는 전원전압 트랜지스터(P0), 소스전압 트랜지스터(N0), 제1 인터리브 트랜지스터(P1), 제2 인터리브 트랜지스터(N1), 제1 선택 트랜지스터(P2), 제2 선택 트랜지스터(N2), 제3 선택 트랜지스터(N3), 제4 선택 트랜지스터(P3), 제1 접지 트랜지스터(N4) 및 제2 접지 트랜지스터(N5)를 포함할 수 있다. According to one side, the write assist circuit 313 includes a power supply voltage transistor P0, a source voltage transistor N0, a first interleaved transistor P1, a second interleaved transistor N1, a first selection transistor P2, and a A second selection transistor N2, a third selection transistor N3, a fourth selection transistor P3, a first ground transistor N4, and a second ground transistor N5 may be included.

다음으로, 참조부호 320은 라이트 어시스트 회로에 제어 신호를 인가하는 어시스트 제어 신호 생성기를 나타낸다. Next, reference numeral 320 denotes an assist control signal generator that applies a control signal to the write assist circuit.

구체적으로, 어시스트 제어 신호 생성기(320)는 제1 라이트 워드라인 제어 신호(WWL0) 및 제2 라이트 워드 라인 제어신호(WWL1)를 수신하여, 제1 선택 트랜지스터(P2)의 제어신호(DP0)와, 제2 선택 트랜지스터(N2)의 제어신호(DN1)와, 제3 선택 트랜지스터(N3)의 제어신호(DN0)와, 제4 선택 트랜지스터(P3)의 제어신호(DP1)와, 제1 접지 트랜지스터(N4)의 제어신호(DN2) 및 제2 접지 트랜지스터(N5)의 제어신호(DN2b)를 생성하고, 생성된 제어신호들을 라이트 어시스트 회로(313)에 구비된 각각의 트랜지스터들에 인가할 수 있다.Specifically, the assist control signal generator 320 receives the first write word line control signal WWL0 and the second write word line control signal WWL1, and receives the control signal DP0 of the first selection transistor P2. , The control signal DN1 of the second selection transistor N2, the control signal DN0 of the third selection transistor N3, the control signal DP1 of the fourth selection transistor P3, and the first ground transistor A control signal DN2 of (N4) and a control signal DN2b of the second ground transistor N5 may be generated, and the generated control signals may be applied to respective transistors provided in the write assist circuit 313. .

예를 들면, 어시스트 제어 신호 생성기(320)는 일실시예에 따른 정적 메모리 장치(310)에 구비될 수 있다.For example, the assist control signal generator 320 may be provided in the static memory device 310 according to an embodiment.

또한, 제1 라이트 워드라인 제어 신호(WWL0) 및 제2 라이트 워드 라인 제어신호(WWL1)는 라이트 어시스트 회로(313)에 인가되는 라이트 제어 신호(WR, /WR)에 대응되어 생성되는 신호일 수 있다. In addition, the first write word line control signal WWL0 and the second write word line control signal WWL1 may be signals generated in response to the write control signals WR and /WR applied to the write assist circuit 313. .

또한, 제1 라이트 워드라인 제어 신호(WWL0) 및 제2 라이트 워드 라인 제어신호(WWL1)는 라이트 제어 신호(WR, /WR)를 인가하는 라이트 드라이버(Write Driver)로부터 인가되는 신호일 수 있다.Further, the first write word line control signal WWL0 and the second write word line control signal WWL1 may be signals applied from a write driver that applies the write control signals WR and /WR.

다음으로, 참조부호 330은 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 동작에 따른 타이밍도를 나타낸다. Next, reference numeral 330 denotes a timing diagram according to an operation of a static memory device according to an embodiment.

구체적으로, 참조부호 330에서 'WL'은 메모리 셀(311)에 구비된 제1 액세스 트랜지스터와 제2 액세스 트랜지스터의 게이트 단자와 연결된 워드라인(WL)에 인가되는 신호를 나타내고, 'WR'은 전원전압 트랜지스터(P0)에 인가되는 라이트 제어 신호를 나타낸다.Specifically,'WL' in reference numeral 330 denotes a signal applied to the word line WL connected to the gate terminals of the first access transistor and the second access transistor provided in the memory cell 311, and'WR' is a power supply. It represents a write control signal applied to the voltage transistor P0.

또한, 참조부호 330에서 'WWL0' 및 'WWL1'은 어시스트 제어 신호 생성기(320)의 입력으로 인가되는 제1 라이트 워드라인 제어 신호(WWL0) 및 제2 라이트 워드 라인 제어신호(WWL1)를 나타낸다. Further,'WWL0' and'WWL1' in reference numeral 330 denote a first write word line control signal WWL0 and a second write word line control signal WWL1 applied as inputs of the assist control signal generator 320.

또한, 참조부호 330에서 'VDDM'은 셀 전원전압(VDDM)을 나타내고, 'VSSM'은 셀 소스전압(VSSM)을 나타내며, 'BL'은 비트라인(BL)에 인가되는 신호를 나타내고, 'BLb'는 비트라인바(BLb)에 인가되는 신호를 나타낸다. In addition,'V DDM ' in reference numeral 330 denotes the cell power voltage (V DDM ),'V SSM ' denotes the cell source voltage (V SSM ), and'BL' denotes a signal applied to the bit line BL. And'BLb' denotes a signal applied to the bit line bar BLb.

또한, 참조부호 330에서 'VR' 및 'VL'은 메모리 셀(311)에 구비된 VR 노드 및 VL 노드에 인가되는 신호를 나타낸다.Further, in the reference numeral 330 'V R' and 'V L' represents a signal applied to the node V R and V L having the node in the memory cell 311.

이하에서는, 참조부호 310에 도시된 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 상세한 구성에 대하여 설명하기로 한다. Hereinafter, a detailed configuration of a static memory device according to an embodiment shown by reference numeral 310 will be described.

구체적으로, 일실시예에 따른 프리차지 회로(312)는 메모리 셀(311) 양단에 연결된 비트라인(BL)과 비트라인바(BLb)를 프리차지(Precharge)할 수 있다. Specifically, the precharge circuit 312 according to an exemplary embodiment may precharge the bit line BL and the bit line bar BLb connected to both ends of the memory cell 311.

일측에 따르면, 프리차지 회로(312)는 비트라인(BL)을 하프 전원전압(VDD/2) 레벨로 프리차지할 수 있다. According to one side, the precharge circuit 312 may precharge the bit line BL to the half power voltage (V DD /2) level.

다음으로, 일실시예에 따른 라이트 어시스트 회로(313)는 라이트 제어 신호(WR)에 대응하여, 프리차지된 비트라인을 셀 소스라인과 연결하고 셀 전원라인을 비트라인바와 연결할 수 있다. Next, the write assist circuit 313 according to an embodiment may connect a precharged bit line to a cell source line and connect a cell power line to a bit line bar in response to the write control signal WR.

일측에 따르면, 전원전압 트랜지스터(P0)는 셀 전원라인과 셀 전원전압원을 연결하고, 소스전압 트랜지스터(N0)는 셀 소스라인과 셀 소스전압원을 연결할 수 있다. According to one side, the power voltage transistor P0 may connect the cell power line and the cell power voltage source, and the source voltage transistor N0 may connect the cell source line and the cell source voltage source.

다시 말해, 전원전압 트랜지스터(P0)는 스위칭 동작을 통해 셀 전원라인에 셀 전원전압(VDDM)을 공급하고, 소스전압 트랜지스터(N0)는 스위칭 동작을 통해 셀 소스라인에 셀 소스전압(VSSM)을 공급할 수 있다. In other words, the power supply voltage transistor P0 supplies the cell power voltage V DDM to the cell power line through a switching operation, and the source voltage transistor N0 supplies the cell source voltage V SSM to the cell source line through the switching operation. ) Can be supplied.

예를 들면, 전원전압 트랜지스터(P0)는 PMOS 트랜지스터이고, 소스전압 트랜지스터(N0)는 NMOS 트랜지스터일 수 있다. For example, the power voltage transistor P0 may be a PMOS transistor, and the source voltage transistor N0 may be an NMOS transistor.

또한, 전원전압 트랜지스터(P0)의 스위칭 동작을 제어하기 위해 인가되는 라이트 제어 신호(WR) 및 소스전압 트랜지스터(N0)의 스위칭 동작을 제어하기 위해 인가되는 제어 신호(/WR)은 라이트 드라이버(Write Driver)로부터 인가될 수 있다. In addition, the write control signal WR applied to control the switching operation of the power voltage transistor P0 and the control signal /WR applied to control the switching operation of the source voltage transistor N0 are the write driver. Driver).

또한, 전원전압 트랜지스터(P0)에 인가되는 제어 신호(WR)가 'High'면 소스전압 트랜지스터(N0)에 인가되는 제어 신호(/WR)는 'Low'이고, 전원전압 트랜지스터(P0)에 인가되는 제어 신호(WR)가 'Low'면 소스전압 트랜지스터(N0)에 인가되는 제어 신호(/WR)는 'High'일 수 있다. In addition, if the control signal WR applied to the power voltage transistor P0 is'High', the control signal /WR applied to the source voltage transistor N0 is'Low', and is applied to the power voltage transistor P0. When the control signal WR is'Low', the control signal /WR applied to the source voltage transistor N0 may be'High'.

일측에 따르면, 라이트 어시스트 회로(313)는 라이트 제어 신호(WR, /WR)에 따라 제어되는 전원전압 트랜지스터(P0)와 소스전압 트랜지스터(N0)의 스위칭 동작을 통해 셀 전원라인과 셀 소스라인을 플로팅(Floating) 시킬 수 있다. According to one side, the write assist circuit 313 connects the cell power line and the cell source line through a switching operation of the power voltage transistor P0 and the source voltage transistor N0 controlled according to the write control signals WR and /WR. It can be floated.

또한, 라이트 어시스트 회로(313)는 프리차지된 비트라인(BL)을 플로팅된 셀 소스라인과 연결하고, 플로팅된 셀 전원라인을 비트라인바(BLb)와 연결할 수 있다. Further, the write assist circuit 313 may connect the precharged bit line BL to the floating cell source line, and connect the floating cell power line to the bit line bar BLb.

일측에 따르면, 제1 선택 트랜지스터(P2)는 셀 전원라인과 비트라인(BL) 사이에 연결되고, 제2 선택 트랜지스터(N2)는 비트라인(BL)과 셀 소스라인 사이에 연결될 수 있다. According to one side, the first selection transistor P2 may be connected between the cell power line and the bit line BL, and the second selection transistor N2 may be connected between the bit line BL and the cell source line.

또한, 제3 선택 트랜지스터(N3)는 셀 소스라인과 비트라인바(BLb) 사이에 연결되고, 제4 선택 트랜지스터(P3)는 비트라인바(BLb)와 셀 전원라인 사이 연결될 수 있다. Also, the third select transistor N3 may be connected between the cell source line and the bit line bar BLb, and the fourth select transistor P3 may be connected between the bit line bar BLb and the cell power line.

예를 들면, 제1 선택 트랜지스터(P2) 및 제4 선택 트랜지스터(P3)는 PMOS 트랜지스터이고, 제2 선택 트랜지스터(N2) 및 제3 선택 트랜지스터(N3)는 NMOS 트랜지스터일 수 있다. For example, the first selection transistor P2 and the fourth selection transistor P3 may be PMOS transistors, and the second selection transistor N2 and the third selection transistor N3 may be NMOS transistors.

또한, 제1 선택 트랜지스터(P2)와 제2 선택 트랜지스터(N2) 사이에 구비된 노드와 비트라인(BL) 사이 및 제3 선택 트랜지스터(N3)와 제4 선택 트랜지스터(P3) 사이에 구비된 노드와 비트라인바(BLb) 사이에는 복수의 멀티플렉서(314)가 연결될 수 있다. In addition, a node provided between the first selection transistor P2 and the second selection transistor N2 and a node provided between the bit line BL and between the third selection transistor N3 and the fourth selection transistor P3 A plurality of multiplexers 314 may be connected between the and the bit line bar BLb.

일측에 따르면, 라이트 어시스트 회로(313)는 제1 내지 제4 선택 트랜지스터(P2, N2, N3, P3) 각각의 스위칭 동작을 통해 프리차지된 비트라인(BL)을 플로팅된 셀 소스라인과 연결하고, 플로팅된 셀 전원라인을 비트라인바(BLb)와 연결할 수 있다. According to one side, the write assist circuit 313 connects the precharged bit line BL with the floating cell source line through the switching operation of each of the first to fourth selection transistors P2, N2, N3, and P3. , The floating cell power line may be connected to the bit line bar BLb.

일측에 따르면, 제1 인터리브 트랜지스터(P1)와 제2 인터리브 트랜지스터(N1)는 셀 전원라인과 셀 소스라인에 각각 연결되고, 비트 인터리브(Bit-interleave) 동작에 따른 제어신호를 수신하여 열 선택(Column Select)을 위한 스위칭 동작을 수행할 수 있다. According to one side, the first interleaved transistor P1 and the second interleaved transistor N1 are connected to a cell power line and a cell source line, respectively, and receive a control signal according to a bit-interleave operation to select a column ( Switching operation for Column Select) can be performed.

예를 들면, 제1 인터리브 트랜지스터(P1)는 PMOS 트랜지스터이고, 제2 인터리브 트랜지스터(N1)는 NMOS 트랜지스터일 수 있다. For example, the first interleaved transistor P1 may be a PMOS transistor, and the second interleaved transistor N1 may be an NMOS transistor.

또한, 제1 인터리브 트랜지스터(P1)는 제1 선택 트랜지스터(P2)와 제4 선택 트랜지스터(P3) 사이에 구비된 노드와 셀 전원라인 사이에 연결될 수 있고, 제2 인터리브 트랜지스터(N1)는 제2 선택 트랜지스터(N2)와 제3 선택 트랜지스터(N3) 사이에 구비된 노드와 셀 소스라인 사이에 연결될 수 있다. In addition, the first interleaved transistor P1 may be connected between a node provided between the first selection transistor P2 and the fourth selection transistor P3 and a cell power line, and the second interleaved transistor N1 is a second It may be connected between a node provided between the selection transistor N2 and the third selection transistor N3 and a cell source line.

일측에 따르면, 복수의 멀티플렉서(314) 각각에 인가되는 제어신호와 제1 인터리브 트랜지스터(P1)에 인가되는 제어신호(Sb0) 및 제2 인터리브 트랜지스터(N1)에 인가되는 제어신호(S0) 각각은 일실시예에 따른 정적 메모리 장치(310)의 비트 인터리브(Bit-interleave) 동작을 제어하는 별도의 수단으로부터 제공될 수 있다. According to one side, a control signal applied to each of the plurality of multiplexers 314, a control signal Sb0 applied to the first interleaved transistor P1, and a control signal S0 applied to the second interleaved transistor N1, respectively, are It may be provided from a separate means for controlling a bit-interleave operation of the static memory device 310 according to an embodiment.

일측에 따르면, 제1 접지 트랜지스터(N4) 및 제2 접지 트랜지스터(N5)는 비트라인(BL)과 비트라인바(BLb)와 각각 연결되고, 비트라인(BL)의 전압과 비트라인바(BLb)의 전압을 접지 레벨(Ground Level)로 변경하기 위한 스위칭 동작을 수행할 수 있다. According to one side, the first ground transistor N4 and the second ground transistor N5 are connected to the bit line BL and the bit line bar BLb, respectively, and the voltage of the bit line BL and the bit line bar BLb A switching operation for changing the voltage of) to a ground level may be performed.

예를 들면, 제1 접지 트랜지스터(N4)와 제2 접지 트랜지스터(N5)는 NMOS 트랜지스터일 수 있다.For example, the first ground transistor N4 and the second ground transistor N5 may be NMOS transistors.

이하에서는 참조부호 310 내지 320을 참조하여, 참조부호 330에 도시된 정적 메모리 장치의 동작 타이밍에 대해 보다 구체적으로 설명하기로 한다. Hereinafter, with reference to reference numerals 310 to 320, the operation timing of the static memory device shown by reference numeral 330 will be described in more detail.

일측에 따르면, 331 내지 335 구간 동안 복수의 멀티플렉서(314), 제1 인터리브 트랜지스터(P1) 및 제2 인터리브 트랜지스터(N1)는 비트 인터리브 동작의 결과로 턴-온(Turn-on) 상태를 유지하여, 선택된 열(Selected Column)에 구비된 메모리 셀(311)에서의 라이트 동작을 지원 할 수 있다. According to one side, the plurality of multiplexers 314, the first interleaved transistor P1, and the second interleaved transistor N1 maintain a turn-on state as a result of the bit interleaving operation during the period 331 to 335. , It is possible to support a write operation in the memory cell 311 provided in the selected column.

일측에 따르면, 331 구간에서 프리차지 회로(312)는 비트라인(BL)을 하프 전원전압(VDD/2) 레벨로 프리차지할 수 있다. According to one side, in section 331, the precharge circuit 312 may precharge the bit line BL to the half power voltage VDD/2 level.

또한, 331 구간에서 전원전압 트랜지스터(P0)는 'Low' 레벨의 제어신호(WR)에 대응하여 턴-온 상태가 되고, 소스전압 트랜지스터(N0)는 'High' 레벨의 제어신호(/WR)에 대응하여 턴-온 상태가 될 수 있다. In addition, in section 331, the power voltage transistor P0 is turned on in response to the'Low' level control signal WR, and the source voltage transistor N0 is the'High' level control signal (/WR). It can be turned on in response to.

다시 말해, 331 구간에서 일실시예에 따른 정적 메모리 장치(310)는 셀 전원라인에 셀 전원전압(VDDM)을 공급하고, 셀 소스라인에 셀 소스전압(VSSM)을 공급할 수 있다.In other words, in section 331, the static memory device 310 according to an embodiment may supply a cell power voltage V DDM to a cell power line and a cell source voltage V SSM to the cell source line.

다음으로, 332 구간에서 메모리 셀(311)에 구비된 제1 액세스 트랜지스터와 제2 액세스 트랜지스터는 'High' 레벨의 제어 신호(WL)에 대응하여 턴-온 상태가 될 수 있다.Next, in section 332, the first access transistor and the second access transistor provided in the memory cell 311 may be turned on in response to the control signal WL of the'High' level.

또한, 332 구간에서 전원전압 트랜지스터(P0)와 소스전압 트랜지스터(N0)는 턴-오프(Turn-off)되어 셀 전원라인과 셀 소스라인을 플로팅(Floating) 시킬 수 있다.In addition, in section 332, the power voltage transistor P0 and the source voltage transistor N0 are turned off, so that the cell power line and the cell source line are floating.

다음으로, 333 구간에서 어시스트 제어 신호 생성기(320)는 'High' 레벨의 제1 라이트 워드라인 제어 신호(WWL0) 및 'Low' 레벨의 제2 라이트 워드라인 제어신호(WWL1)에 대응되는 제어 신호들을 생성하고, 생성된 제어 신호들을 라이트 어시스트 회로(313)에 구비된 트랜지스터 각각에 제공할 수 있다. Next, in section 333, the assist control signal generator 320 is a control signal corresponding to the first write word line control signal WWL0 of the'High' level and the second write word line control signal WWL1 of the'Low' level. And provide the generated control signals to each of the transistors included in the write assist circuit 313.

또한, 333 구간에서 제공 받은 제어 신호들에 대응하여, 제2 선택 트랜지스터(N2)와 제4 선택 트랜지스터(P3)는 턴-온 상태가 되고, 제1 선택 트랜지스터(P2)와 제3 선택 트랜지스터(N3)와 제1 접지 트랜지스터(N4) 및 제2 접지 트랜지스터(N5)는 턴-오프 상태가 될 수 있다. In addition, in response to the control signals provided in section 333, the second selection transistor N2 and the fourth selection transistor P3 are turned on, and the first selection transistor P2 and the third selection transistor P3 are turned on. N3), the first ground transistor N4, and the second ground transistor N5 may be turned off.

다시 말해, 333 구간에서 라이트 어시스트 회로(313)는 제1 내지 제4 선택 트랜지스터(P2, N2, N3, P3)의 스위칭 동작에 따라, 프리차지된 비트라인(BL)과 플로팅된 셀 소스라인 사이를 연결하는 패스(Path)와 플로팅된 셀 전원라인과 비트라인바(BLb) 사이를 연결하는 패스를 형성할 수 있다. In other words, in section 333, the write assist circuit 313 operates between the precharged bit line BL and the floating cell source line according to the switching operation of the first to fourth selection transistors P2, N2, N3, and P3. A path connecting the cells and a path connecting the floating cell power line and the bit line bar BLb may be formed.

일측에 따르면, 333 구간에서 일실시예에 따른 정적 메모리 장치(310)는 메모리 셀(311)에 대한 라이트 동작을 완료할 수 있다. According to one side, in section 333, the static memory device 310 according to an embodiment may complete a write operation on the memory cell 311.

다음으로, 334 내지 335 구간에서 어시스트 제어 신호 생성기(320)는 'Low' 레벨의 제1 라이트 워드라인 제어 신호(WWL0) 및 'High' 레벨의 제2 라이트 워드라인 제어신호(WWL1)에 대응되는 제어 신호들을 생성하고, 생성된 제어 신호들을 라이트 어시스트 회로(313)에 구비된 트랜지스터 각각에 제공할 수 있다.Next, in sections 334 to 335, the assist control signal generator 320 corresponds to the first write word line control signal WWL0 of the'Low' level and the second write word line control signal WWL1 of the'High' level. Control signals may be generated, and the generated control signals may be provided to each transistor included in the write assist circuit 313.

또한, 334 내지 335 구간에서 제공 받은 제어 신호들에 대응하여, 제1 내지 제4 선택 트랜지스터(P2, N2, N3, P3)는 턴-오프 상태가 되고, 제1 접지 트랜지스터(N4)와 제2 접지 트랜지스터(N5)는 턴-온 상태가 될 수 있다. In addition, in response to control signals provided in sections 334 to 335, the first to fourth selection transistors P2, N2, N3, and P3 are turned off, and the first ground transistor N4 and the second The ground transistor N5 may be turned on.

즉, 334 내지 335 구간에서 라이트 어시스트 회로(313)는 제1 내지 제4 선택 트랜지스터(P2, N2, N3, P3)의 스위칭 동작에 따라, 프리차지된 비트라인(BL)과 플로팅된 셀 소스라인 사이의 연결을 차단하고 플로팅된 셀 전원라인과 비트라인바(BLb) 사이의 연결을 차단할 수 있다. In other words, in the period 334 to 335, the write assist circuit 313 is configured to be a precharged bit line BL and a floating cell source line according to the switching operation of the first to fourth selection transistors P2, N2, N3, P3 It is possible to cut off the connection and cut off the connection between the floating cell power line and the bit line bar BLb.

또한, 334 내지 335 구간에서 라이트 어시스트 회로(313)는 제1 접지 트랜지스터(N4)와 제2 접지 트랜지스터(N5)를 통해 비트라인(BL)과 비트라인바(BLb)를 접지 레벨로 방전(Discharge) 시킬 수 있다.In addition, in the period 334 to 335, the write assist circuit 313 discharges the bit line BL and the bit line bar BLb to the ground level through the first ground transistor N4 and the second ground transistor N5. ).

도 4는 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 제어 방법을 설명하기 위한 도면이다. 4 is a diagram illustrating a method of controlling a static memory device according to an exemplary embodiment.

다시 말해, 도 4는 도 1 내지 도 3c를 통해 설명한 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 제어 방법에 관한 도면으로, 이후 도 4를 통해 설명하는 내용 중 일실시예에 따른 정적 메모리 장치에서 설명한 내용과 중복되는 설명은 생략 하기로 한다.In other words, FIG. 4 is a diagram illustrating a method for controlling a static memory device according to an embodiment described with reference to FIGS. 1 to 3C, and contents described in the static memory device according to an embodiment of the contents described later with reference to FIG. 4 A description that overlaps with will be omitted.

도 4를 참조하면, 410 단계에서 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 제어 방법은 프리차지 회로에서 복수의 트랜지스터를 구비하는 메모리 셀의 양단에 연결된 비트라인과 비트라인바를 프리차지(Precharge)할 수 있다. Referring to FIG. 4, in step 410, the method for controlling a static memory device according to an embodiment may precharge bit lines and bit line bars connected to both ends of a memory cell including a plurality of transistors in a precharge circuit. have.

일측에 따르면, 410 단계에서 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 제어 방법은 프리차지 회로에서 비트라인 및 비트라인바를 하프 전원전압(VDD/2) 레벨로 프리차지할 수 있다. According to one side, in step 410, the method for controlling the static memory device according to an embodiment may precharge the bit line and the bit line bar to the half power voltage (VDD/2) level in the precharge circuit.

다음으로, 420 단계에서 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 제어 방법은 라이트 어시스트 회로에서 라이트(Write) 제어 신호에 대응하여, 프리차지된 비트라인을 메모리 셀과 연결된 셀 소스라인과 연결하고, 메모리 셀과 연결된 셀 전원라인을 비트라인바와 연결할 수 있다. Next, in step 420, the method for controlling a static memory device according to an embodiment connects the precharged bit line to the cell source line connected to the memory cell in response to a write control signal in the write assist circuit, The cell power line connected to the cell can be connected to the bit line bar.

일측에 따르면, 420 단계에서 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 제어 방법은 라이트 어시스트 회로에 구비된 전원전압 트랜지스터와 소스전압 트랜지스터에서 라이트 제어 신호에 따라 제어되는 스위칭 동작을 통해 셀 전원라인과 셀 소스라인을 플로팅(Floating) 시킬 수 있다. According to one side, in step 420, the control method of the static memory device according to an embodiment includes the cell power line and the cell source through a switching operation controlled according to a write control signal in the power voltage transistor and the source voltage transistor provided in the write assist circuit. You can float the line.

다음으로, 420 단계에서 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 제어 방법은 라이트 어시스트 회로에 구비된 제1 내지 제4 선택 트랜지스터 각각의 스위칭 동작을 통해 프리차지된 비트라인을 플로팅된 셀 소스라인과 연결하고, 플로팅된 셀 전원라인을 비트라인바와 연결할 수 있다. Next, in step 420, the method for controlling the static memory device according to an embodiment connects the precharged bit line to the floating cell source line through the switching operation of each of the first to fourth selection transistors provided in the write assist circuit. And, the floating cell power line can be connected to the bit line bar.

일측에 따르면, 430 단계에서 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 제어 방법은 라이트 어시스트 회로에 구비된 제1 내지 제4 선택 트랜지스터 각각의 스위칭 동작을 통해, 프리차지된 비트라인과 플로팅된 셀 소스라인 사이의 연결을 해제하고 플로팅된 셀 전원라인과 비트라인바 사이의 연결을 해제할 수 있다. According to one side, in step 430, the method for controlling a static memory device according to an embodiment includes a precharged bit line and a floating cell source line through switching operations of each of the first to fourth selection transistors included in the write assist circuit. It is possible to disconnect the connection and disconnect the connection between the floating cell power line and the bit line bar.

또한, 440 단계에서 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 제어 방법은 라이트 어시스트 회로에 구비된 제1 접지 트랜지스터 및 제2 접지 트랜지스터의 스위칭 동작을 통해 비트라인의 전압과 비트라인바의 전압을 접지 레벨(Ground Level)로 변경할 수 있다. In step 440, the control method of the static memory device according to an embodiment is to convert the voltage of the bit line and the voltage of the bit line bar to the ground level through the switching operation of the first ground transistor and the second ground transistor provided in the write assist circuit. It can be changed to (Ground Level).

일측에 따르면, 440 단계에서 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 제어 방법은 비트라인과 비트라인바를 프리차지하고, 셀 전원라인을 셀 전원전압(VDDM) 레벨로 변경하며, 셀 소스라인을 셀 소스전압(VSSM) 레벨로 변경할 수 있다.According to one side, in step 440, the method of controlling a static memory device according to an embodiment precharges the bit line and the bit line bar, changes the cell power line to the cell power voltage (V DDM ) level, and changes the cell source line to the cell source. It can be changed to the voltage (V SSM ) level.

다시 말해, 440 단계에서 일실시예에 따른 정적 메모리 장치의 제어 방법은 셀 전원라인과 셀 전원전압원을 연결하고, 셀 소스라인과 셀 소스전압원을 연결함으로써, 셀 전원라인을 셀 전원전압 레벨로 변경하고 셀 소스전압을 접지 레벨로 변경할 수 있다.In other words, in step 440, the method of controlling a static memory device according to an embodiment changes the cell power line to the cell power voltage level by connecting the cell power line and the cell power voltage source, and connecting the cell source line and the cell source voltage source. And you can change the cell source voltage to the ground level.

결국, 본 발명을 이용하면, 라이트 동작시 셀 전원라인과 비트라인을 연결하여 메모리 셀에 구비된 풀업 트랜지스터의 드레인-소스 전압(VDS)을 감소시키고 하프 전원전압(VDD/2) 레벨로 프리차지된 비트라인과 셀 소스라인을 연결하여 풀업 트랜지스터의 게이트-소스 전압(VGS)을 감소시킬 수 있다. In the end, according to the present invention, the drain-source voltage (V DS ) of the pull-up transistor provided in the memory cell is reduced by connecting the cell power line and the bit line during the write operation, and free to the half power voltage (VDD/2). The gate-source voltage V GS of the pull-up transistor can be reduced by connecting the charged bit line and the cell source line.

또한, 본 발명은 풀업 트랜지스터의 드레인-소스 전압(VDS) 및 게이트-소스 전압(VGS)을 감소시켜 라이트 실패(Write Failure)를 최소화할 수 있다. In addition, the present invention may minimize write failure by reducing the drain-source voltage (V DS ) and the gate-source voltage (V GS ) of the pull-up transistor.

또한, 본 발명은 별도의 전압원을 사용하지 않고 하프 전원전압(VDD/2) 레벨로 프리차지된 비트라인을 이용한 전하 재활용(Charge Recycling)을 통해 셀 소스라인에 인가되는 셀 소스전압(VSSM)을 증가시킬 수 있다.In addition, the present invention does not use a separate voltage source, but the cell source voltage (V SSM) applied to the cell source line through charge recycling using a bit line precharged to the half power voltage (V DD /2) level. ) Can be increased.

또한, 본 발명은 별도의 전압원을 사용하지 않고 셀 전원전압(VDDM)이 인가된 셀 전원라인을 이용한 전하 재활용(Charge Recycling)을 통해 비트라인바에 인가되는 전압을 증가시킬 수 있다.In addition, according to the present invention, a voltage applied to a bit line bar can be increased through charge recycling using a cell power line to which the cell power voltage V DDM is applied without using a separate voltage source.

이상에서 설명된 장치는 하드웨어 구성요소, 소프트웨어 구성요소, 및/또는 하드웨어 구성요소 및 소프트웨어 구성요소의 조합으로 구현될 수 있다. 예를 들어, 실시예들에서 설명된 장치 및 구성요소는, 예를 들어, 프로세서, 콘트롤러, ALU(arithmetic logic unit), 디지털 신호 프로세서(digital signal processor), 마이크로컴퓨터, FPA(field programmable array), PLU(programmable logic unit), 마이크로프로세서, 또는 명령(instruction)을 실행하고 응답할 수 있는 다른 어떠한 장치와 같이, 하나 이상의 범용 컴퓨터 또는 특수 목적 컴퓨터를 이용하여 구현될 수 있다. 처리 장치는 운영 체제(OS) 및 상기 운영 체제 상에서 수행되는 하나 이상의 소프트웨어 애플리케이션을 수행할 수 있다. 또한, 처리 장치는 소프트웨어의 실행에 응답하여, 데이터를 접근, 저장, 조작, 처리 및 생성할 수도 있다. 이해의 편의를 위하여, 처리 장치는 하나가 사용되는 것으로 설명된 경우도 있지만, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는, 처리 장치가 복수 개의 처리 요소(processing element) 및/또는 복수 유형의 처리 요소를 포함할 수 있음을 알 수 있다. 예를 들어, 처리 장치는 복수 개의 프로세서 또는 하나의 프로세서 및 하나의 콘트롤러를 포함할 수 있다. 또한, 병렬 프로세서(parallel processor)와 같은, 다른 처리 구성(processing configuration)도 가능하다.The apparatus described above may be implemented as a hardware component, a software component, and/or a combination of a hardware component and a software component. For example, the devices and components described in the embodiments include, for example, a processor, a controller, an arithmetic logic unit (ALU), a digital signal processor, a microcomputer, a field programmable array (FPA), It can be implemented using one or more general purpose computers or special purpose computers, such as a programmable logic unit (PLU), a microprocessor, or any other device capable of executing and responding to instructions. The processing device may execute an operating system (OS) and one or more software applications executed on the operating system. In addition, the processing device may access, store, manipulate, process, and generate data in response to the execution of software. For the convenience of understanding, although it is sometimes described that one processing device is used, one of ordinary skill in the art, the processing device is a plurality of processing elements and/or a plurality of types of processing elements. It can be seen that it may include. For example, the processing device may include a plurality of processors or one processor and one controller. In addition, other processing configurations are possible, such as a parallel processor.

이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기의 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.As described above, although the embodiments have been described by the limited drawings, various modifications and variations are possible from the above description to those of ordinary skill in the art. For example, the described techniques are performed in a different order from the described method, and/or components such as a system, structure, device, circuit, etc. described are combined or combined in a form different from the described method, or other components Alternatively, even if substituted or substituted by an equivalent, an appropriate result can be achieved.

그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 특허청구범위의 범위에 속한다.Therefore, other implementations, other embodiments, and claims and equivalents fall within the scope of the claims to be described later.

100: 정적 메모리 장치 110: 메모리 셀
120: 프리차지 회로 130: 라이트 어시스트 회로
100: static memory device 110: memory cell
120: precharge circuit 130: write assist circuit

Claims (12)

셀 전원라인과 셀 소스라인 사이에 연결된 복수의 트랜지스터를 구비하는 메모리 셀;
상기 메모리 셀 양단에 연결된 비트라인과 비트라인바를 프리차지(Precharge)하는 프리차지 회로 및
상기 셀 전원라인과 셀 전원전압원을 연결하는 전원전압 트랜지스터 및 상기 셀 소스라인과 셀 소스전압원을 연결하는 소스전압 트랜지스터를 구비하고 라이트(Write) 제어 신호에 대응하여, 상기 프리차지된 비트라인을 상기 셀 소스라인과 연결하고 상기 셀 전원라인을 상기 비트라인바와 연결하는 라이트 어시스트 회로
를 포함하고,
상기 라이트 어시스트 회로는
상기 라이트 제어 신호에 따라 제어되는 상기 전원전압 트랜지스터와 상기 소스전압 트랜지스터의 스위칭 동작을 통해 상기 셀 전원라인과 상기 셀 소스라인을 플로팅(Floating) 시키고, 상기 프리차지된 비트라인을 상기 플로팅된 셀 소스라인과 연결하며, 상기 플로팅된 셀 전원라인을 상기 비트라인바와 연결하는
정적 메모리 장치.
A memory cell including a plurality of transistors connected between the cell power line and the cell source line;
A precharge circuit for precharging a bit line and a bit line bar connected to both ends of the memory cell, and
And a power voltage transistor connecting the cell power line and a cell power voltage source, and a source voltage transistor connecting the cell source line and a cell source voltage source, In response to a write control signal, a write assist circuit for connecting the precharged bit line to the cell source line and connecting the cell power line to the bit line bar
Including,
The light assist circuit is
Floating the cell power line and the cell source line through a switching operation of the power voltage transistor and the source voltage transistor controlled according to the write control signal, and converting the precharged bit line into the floating cell source A line and connecting the floating cell power line to the bit line bar
Static memory device.
제1항에 있어서,
상기 프리차지 회로는
상기 비트라인 및 상기 비트라인바를 하프 전원전압(VDD/2) 레벨로 프리차지하는
정적 메모리 장치.
The method of claim 1,
The precharge circuit is
Precharging the bit line and the bit line bar to a half power voltage (VDD/2) level
Static memory device.
제1항에 있어서,
상기 메모리 셀은
상기 비트라인과 연결된 제1 액세스 트랜지스터, 상기 비트라인바와 연결된 제2 액세스 트랜지스터, 상기 셀 전원라인과 각각 연결된 제1 풀업 트랜지스터와 제2 풀업 트랜지스터 및 상기 셀 소스라인과 각각 연결된 제1 풀다운 트랜지스터와 제2 풀다운 트랜지스터를 포함하는
정적 메모리 장치.
The method of claim 1,
The memory cell is
A first access transistor connected to the bit line, a second access transistor connected to the bit line bar, a first pull-up transistor and a second pull-up transistor connected to the cell power line, and a first pull-down transistor connected to the cell source line, respectively, Including 2 pull-down transistors
Static memory device.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 라이트 어시스트 회로는
상기 셀 전원라인과 상기 비트라인 사이에 연결된 제1 선택 트랜지스터와, 상기 비트라인과 상기 셀 소스라인 사이에 연결된 제2 선택 트랜지스터와, 상기 셀 소스라인과 상기 비트라인바 사이에 연결된 제3 선택 트랜지스터 및 상기 비트라인바와 상기 셀 전원라인 사이에 연결된 제4 선택 트랜지스터를 포함하고,
상기 제1 내지 제4 선택 트랜지스터 각각의 스위칭 동작을 통해 상기 프리차지된 비트라인을 상기 플로팅된 셀 소스라인과 연결하고, 상기 플로팅된 셀 전원라인을 상기 비트라인바와 연결하는
정적 메모리 장치.
The method of claim 1,
The light assist circuit is
A first selection transistor connected between the cell power line and the bit line, a second selection transistor connected between the bit line and the cell source line, and a third selection transistor connected between the cell source line and the bit line bar And a fourth selection transistor connected between the bit line bar and the cell power line,
Connecting the precharged bit line to the floating cell source line through a switching operation of each of the first to fourth selection transistors, and connecting the floating cell power line to the bit line bar.
Static memory device.
제1항에 있어서,
상기 라이트 어시스트 회로는
상기 셀 전원라인 및 상기 셀 소스라인에 각각 연결되고, 비트 인터리브(Bit-interleave) 동작에 따른 제어신호를 수신하여 열 선택(Column Select)을 위한 스위칭 동작을 수행하는 제1 인터리브 트랜지스터 및 제2 인터리브 트랜지스터를 포함하는
정적 메모리 장치.
The method of claim 1,
The light assist circuit is
A first interleaved transistor and a second interleaved transistor connected to the cell power line and the cell source line, respectively, and performing a switching operation for column selection by receiving a control signal according to a bit-interleave operation Including transistor
Static memory device.
제1항에 있어서,
상기 라이트 어시스트 회로는
상기 비트라인과 상기 비트라인바와 각각 연결되고, 상기 비트라인의 전압과 상기 비트라인바의 전압을 접지 레벨(Ground Level)로 변경하기 위한 스위칭 동작을 수행하는 제1 접지 트랜지스터 및 제2 접지 트랜지스터를 포함하는
정적 메모리 장치.
The method of claim 1,
The light assist circuit is
A first ground transistor and a second ground transistor connected to the bit line and the bit line bar, respectively, and performing a switching operation for changing the voltage of the bit line and the voltage of the bit line bar to a ground level. Included
Static memory device.
프리차지 회로에서 복수의 트랜지스터를 구비하는 메모리 셀의 양단에 연결된 비트라인과 비트라인바를 프리차지(Precharge)하는 단계 및
라이트 어시스트 회로에서 라이트(Write) 제어 신호에 대응하여, 상기 프리차지된 비트라인을 상기 메모리 셀과 연결된 셀 소스라인과 연결하고, 상기 메모리 셀과 연결된 셀 전원라인을 상기 비트라인바와 연결하는 단계
를 포함하고,
상기 비트라인바와 연결하는 단계는
상기 라이트 어시스트 회로에 구비된 전원전압 트랜지스터와 소스전압 트랜지스터에서 상기 라이트 제어 신호에 따라 제어되는 스위칭 동작을 통해 상기 셀 전원라인과 상기 셀 소스라인을 플로팅(Floating) 시키는 단계 및
상기 라이트 어시스트 회로에 구비된 제1 내지 제4 선택 트랜지스터 각각의 스위칭 동작을 통해 상기 프리차지된 비트라인을 상기 플로팅된 셀 소스라인과 연결하고, 상기 플로팅된 셀 전원라인을 상기 비트라인바와 연결하는 단계
를 포함하는 정적 메모리 장치의 제어 방법.
Precharging a bit line and a bit line bar connected to both ends of a memory cell including a plurality of transistors in a precharge circuit; and
In response to a write control signal in a write assist circuit, connecting the precharged bit line to a cell source line connected to the memory cell, and connecting a cell power line connected to the memory cell to the bit line bar
Including,
Connecting with the bit line bar
Floating the cell power line and the cell source line through a switching operation controlled according to the write control signal in a power voltage transistor and a source voltage transistor provided in the write assist circuit; and
Connecting the precharged bit line to the floating cell source line through a switching operation of each of the first to fourth selection transistors provided in the write assist circuit, and connecting the floating cell power line to the bit line bar. step
Control method of a static memory device comprising a.
제9항에 있어서,
상기 프리차지하는 단계는
상기 프리차지 회로에서 상기 비트라인 및 상기 비트라인바를 하프 전원전압(VDD/2) 레벨로 프리차지하는
정적 메모리 장치의 제어 방법.
The method of claim 9,
The precharging step
Precharging the bit line and the bit line bar to a half power voltage (VDD/2) level in the precharge circuit
Control method of static memory device.
삭제delete 제9항에 있어서,
상기 라이트 어시스트 회로에 구비된 제1 내지 제4 선택 트랜지스터 각각의 스위칭 동작을 통해, 상기 프리차지된 비트라인과 상기 플로팅된 셀 소스라인 사이의 연결을 해제하고 상기 플로팅된 셀 전원라인과 상기 비트라인바 사이의 연결을 해제하는 단계 및
상기 라이트 어시스트 회로에 구비된 제1 접지 트랜지스터 및 제2 접지 트랜지스터의 스위칭 동작을 통해 상기 비트라인의 전압과 상기 비트라인바의 전압을 접지 레벨(Ground Level)로 변경하는 단계
를 더 포함하는 정적 메모리 장치의 제어 방법.
The method of claim 9,
The connection between the precharged bit line and the floating cell source line is released through a switching operation of each of the first to fourth selection transistors provided in the write assist circuit, and the floating cell power line and the bit line Breaking the connection between the bars and
Changing the voltage of the bit line and the voltage of the bit line bar to a ground level through a switching operation of a first ground transistor and a second ground transistor provided in the write assist circuit
Control method of a static memory device further comprising.
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