KR102164771B1 - Method for manufacturing optical film, optical film and polarizer plate comprising the same - Google Patents

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Abstract

본 명세서는 수지 조성물을 이용하여 필름 형태로 제조하는 단계; 및 상기 필름을 이축 연신하는 단계를 포함하는 광학 필름 제조방법에 있어서, 상기 수지 조성물은 (메타)아크릴계 수지; 및 구형 고무 탄성체를 포함하고, 상기 연신은 구형 고무 탄성체를 단면적의 장경(L)과 단경(T)의 비율(L/T)이 3 이상 8 이하인 타원형 고무 탄성체로 변경하는 단계를 포함하는 것인 광학 필름의 제조방법, 이를 이용하여 형성된 광학 필름 및 이를 포함하는 편광판에 관한 것이다.The present specification comprises the steps of preparing a film using a resin composition; And in the optical film manufacturing method comprising the step of biaxially stretching the film, wherein the resin composition is (meth) acrylic resin; And a spherical rubber elastic body, wherein the stretching comprises the step of changing the spherical rubber elastic body to an elliptical rubber elastic body having a ratio (L/T) of a long diameter (L) and a short diameter (T) of a cross-sectional area of 3 to 8 It relates to a method of manufacturing an optical film, an optical film formed using the same, and a polarizing plate including the same.

Description

광학 필름의 제조방법, 광학 필름 및 이를 포함하는 편광판{METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL FILM, OPTICAL FILM AND POLARIZER PLATE COMPRISING THE SAME}Manufacturing method of an optical film, an optical film, and a polarizing plate including the same TECHNICAL FIELD [METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL FILM, OPTICAL FILM AND POLARIZER PLATE COMPRISING THE SAME}

본 명세서는 광학필름의 제조방법, 광학 필름 및 이를 포함하는 편광판에 관한 것이다.The present specification relates to a method of manufacturing an optical film, an optical film, and a polarizing plate including the same.

액정표시장치와 같은 화상표시장치에서 사용되는 편광판은 일반적으로 편광자의 적어도 일면에 보호 필름이 구비된 구조를 가지고 있다. 보호 필름은 두께가 매우 얇은 편광자를 보호하는 역할을 하며, 자외선에 취약한 편광자를 보호하는 역할을 동시에 수행하기도 한다.A polarizing plate used in an image display device such as a liquid crystal display device generally has a structure in which a protective film is provided on at least one surface of the polarizer. The protective film serves to protect a polarizer having a very thin thickness, and also serves to protect a polarizer vulnerable to ultraviolet rays.

일반적으로 편광자를 보호하기 위한 보호 필름으로 트리아세틸셀룰로오스 필름(이하, TAC 필름)을 주로 사용하고 있다. 그러나, TAC 필름은 기계적 강도, 내열성 및 내흡수성이 취약하여, 장기적으로 사용할 경우 필름 변형에 의해 편광자의 편광도나 색상 등의 변화를 초래하고, 전반적인 편광판 특성을 저하시킨다는 문제점을 가지고 있다. 따라서, 편광자 보호 필름의 재료로 TAC 필름 대신 내습성 및 내열성이 우수한 아크릴계 수지 필름을 사용하는 방안이 제안되었다.In general, a triacetyl cellulose film (hereinafter, a TAC film) is mainly used as a protective film for protecting a polarizer. However, the TAC film has a problem in that mechanical strength, heat resistance, and absorption resistance are weak, and when used for a long period of time, the polarization degree or color of the polarizer is changed due to film deformation, and the general polarizing plate characteristics are deteriorated. Therefore, a method of using an acrylic resin film having excellent moisture resistance and heat resistance instead of the TAC film as a material of the polarizer protective film has been proposed.

그러나, 아크릴계 수지 필름을 단독으로 사용할 경우, 인성(toughness)이 약하여 비정상적인 굴곡이나 휨(bending) 등의 변형이 가해지면 쉽게 부러지거나 크랙이 생기는 문제점이 있다. 따라서, 이를 극복하기 위하여, 고무 탄성체 등의 충격보강제를 도입하여 인성을 개선하는 방안이 제안되었으나, 인성 개선을 위하여 고무 탄성체가 많이 첨가되어야 하고, 이에 따라 고분자 필터의 차압 또는 젤화가 일어나는 문제점이 있다. However, when the acrylic resin film is used alone, the toughness is weak and there is a problem in that it is easily broken or cracked when deformation such as abnormal bending or bending is applied. Therefore, in order to overcome this, a method of improving toughness by introducing an impact modifier such as a rubber elastic body has been proposed, but a lot of rubber elastic bodies must be added to improve toughness, and thus, there is a problem that differential pressure or gelation of the polymer filter occurs. .

한국 특허출원 공개 제2010-0130153호Korean Patent Application Publication No. 2010-0130153

본 명세서는 광학필름의 제조방법, 광학 필름 및 이를 포함하는 편광판을 제공한다.The present specification provides a method of manufacturing an optical film, an optical film, and a polarizing plate including the same.

본 명세서의 일 실시상태는 An exemplary embodiment of the present specification

수지 조성물을 이용하여 필름 형태로 제조하는 단계; 및Preparing a film using a resin composition; And

상기 필름을 이축 연신하는 단계를 포함하는 광학 필름 제조방법에 있어서,In the optical film manufacturing method comprising the step of biaxially stretching the film,

상기 수지 조성물은 (메타)아크릴계 수지; 및 구형 고무 탄성체를 포함하고,The resin composition is a (meth)acrylic resin; And a spherical rubber elastomer,

상기 연신은 구형 고무 탄성체를 단면적의 장경(L)과 단경(T)의 비율(L/T)이 3 이상 8 이하인 타원형 고무 탄성체로 변경하는 단계를 포함하는 것인 광학 필름의 제조방법을 제공한다.The stretching provides a method for manufacturing an optical film comprising the step of changing the spherical rubber elastic body to an elliptical rubber elastic body having a ratio (L/T) of a long diameter (L) and a short diameter (T) of a cross-sectional area of 3 to 8 .

본 명세서의 또 하나의 실시상태는 Another exemplary embodiment of the present specification is

전술한 방법으로 제조된 광학 필름을 제공한다.It provides an optical film manufactured by the above method.

본 명세서의 또 하나의 실시상태는 Another exemplary embodiment of the present specification is

(메타)아크릴계 수지; 및(Meth)acrylic resin; And

타원형 고무 탄성체를 포함하는 광학 필름으로서,An optical film comprising an elliptical rubber elastomer,

상기 광학 필름은 면 방향 위상차 값이 0nm 내지 10nm이고, 두께 방향 위상차 값이 -5nm 내지 30nm이며, 면 방향 위상차 및 두께 방향 위상차는 각각 하기 식 (1) 및 식 (2)를 통해 계산되는 것인 광학 필름을 제공한다.The optical film has a plane direction retardation value of 0 nm to 10 nm, a thickness direction retardation value of -5 nm to 30 nm, and a plane direction retardation and a thickness direction retardation are calculated through the following equations (1) and (2), respectively. Provides an optical film.

식 (1): Rin = (nx-ny) x dEquation (1): R in = (n x -n y ) xd

식 (2): Rth = [(nx+ny)/2-nz] x dEquation (2): Rth = [(nx+ny)/2-nz] x d

상기 식 (1) 및 (2)에 있어서, Rin은 면 방향 위상차이고, Rth는 두께 방향 위상차이며, d는 필름 두께이고, nx, ny 및 nz는 각각 파장 550nm에서 측정된 x 방향 굴절율, y 방향 굴절율 및 z 방향 굴절율이다.In the above formulas (1) and (2), R in is the retardation in the plane direction, R th is the retardation in the thickness direction, d is the film thickness, and n x , n y and n z are the refractive index in the x direction, the refractive index in the y direction, and the refractive index in the z direction measured at a wavelength of 550 nm, respectively.

본 명세서의 또 하나의 실시상태는 Another exemplary embodiment of the present specification is

편광자; 및Polarizer; And

상기 편광자의 적어도 일면에 구비된 상기 광학 필름을 포함하는 편광판을 제공한다.It provides a polarizing plate including the optical film provided on at least one surface of the polarizer.

본 명세서의 또 하나의 실시상태는 Another exemplary embodiment of the present specification is

표시 패널; 및Display panel; And

상기 표시 패널의 일면 또는 양면에 부착되어 있는 상기 편광판을 포함하는 화상표시장치를 제공한다.It provides an image display device including the polarizing plate attached to one or both sides of the display panel.

본 명세서에 기재된 실시상태들에 따르면, 광학 필름에 포함되는 고무 탄성체가 타원형으로 변경된다. 이에 따라, 광학 필름의 충격에너지 등의 기계적 물성이 개선된다. 따라서, 광학 필름의 제조시나 편광판 또는 화상표시장치에 적용시 파단이 생기거나 크랙이 생기는 문제를 해결할 수 있다.According to the exemplary embodiments described herein, the rubber elastic body included in the optical film is changed to an elliptical shape. Accordingly, mechanical properties such as impact energy of the optical film are improved. Therefore, it is possible to solve the problem of breakage or cracking when manufacturing an optical film or when applied to a polarizing plate or an image display device.

도 1은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판 구조를 나타낸 도이다.
도 2 및 도 3은 본 명세서의 실시상태들에 따른 광학 필름의 SEM 측정 결과를 나타낸 도이다.
1 is a diagram showing a structure of a polarizing plate according to an exemplary embodiment of the present specification.
2 and 3 are diagrams showing SEM measurement results of an optical film according to exemplary embodiments of the present specification.

이하 본 명세서를 상세히 설명한다.Hereinafter, the present specification will be described in detail.

본 명세서에 있어서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In the present specification, when a part "includes" a certain component, it means that other components may be further included rather than excluding other components unless otherwise stated.

본 명세서의 일 실시상태는 수지 조성물을 이용하여 필름 형태로 제조하는 단계; 및An exemplary embodiment of the present specification is a method of manufacturing a film using a resin composition; And

상기 필름을 이축 연신하는 단계를 포함하는 광학 필름 제조방법에 있어서,In the optical film manufacturing method comprising the step of biaxially stretching the film,

상기 수지 조성물은 (메타)아크릴계 수지; 및 구형 고무 탄성체를 포함하고,The resin composition is a (meth)acrylic resin; And a spherical rubber elastomer,

상기 연신은 구형 고무 탄성체를 단면적의 장경(L)과 단경(T)의 비율(L/T)이 3 이상 8 이하인 타원형 고무 탄성체로 변경하는 단계를 포함하는 것인 광학 필름의 제조방법을 제공한다.The stretching provides a method for manufacturing an optical film comprising the step of changing the spherical rubber elastic body to an elliptical rubber elastic body having a ratio (L/T) of a long diameter (L) and a short diameter (T) of a cross-sectional area of 3 to 8 .

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 수지 조성물을 이용하여 필름 형태로 제조하는 단계는 용액 캐스터법이나 압출법과 같은 당해 기술 분야에 잘 알려진 방법에 따라 진행될 수 있다. 경우에 따라 필름 제조 공정 시에, 필름의 물성을 해하지 않는 범위 내에서 개량제와 같은 첨가제를 추가로 첨가할 수 있다. In the exemplary embodiment of the present specification, the manufacturing of the resin composition into a film form may be performed according to a method well known in the art, such as a solution caster method or an extrusion method. In some cases, during the film manufacturing process, an additive such as an improving agent may be additionally added within a range that does not deteriorate the physical properties of the film.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 연신은 수지 조성물의 유리전이온도보다 5℃ 내지 20℃ 높은 온도에서, 기계방향(MD)으로 1.5배 내지 4배, 폭방향(TD)으로 1.5배 내지 4배 조건으로 진행된다.In an exemplary embodiment of the present specification, the stretching is 1.5 to 4 times in the machine direction (MD) and 1.5 to 4 times in the width direction (TD) at a temperature 5°C to 20°C higher than the glass transition temperature of the resin composition. It proceeds under double conditions.

보다 구체적으로, 상기 연신은 기계방향(MD)으로 1.5배 내지 2배, 폭방향(TD)으로 2.5배 내지 3배의 이축 연신으로 수행된다. 연신비가 폭방향으로 1.5배 미만인 경우에는 필름의 인성이 저하되어 편광판에 적용이 어려운 문제가 있으며, 폭방향으로 4배를 초과하는 경우는 연신 과정에서 필름의 파단으로 인해 안정적인 필름 생산이 불가능한 문제가 있다. More specifically, the stretching is performed by biaxial stretching of 1.5 to 2 times in the machine direction (MD) and 2.5 to 3 times in the width direction (TD). If the stretching ratio is less than 1.5 times in the width direction, the toughness of the film is lowered, making it difficult to apply to the polarizing plate. If it exceeds 4 times in the width direction, it is impossible to produce a stable film due to the fracture of the film during the stretching process. have.

본 명세서에 있어서 "기계방향(Machine Direction, MD)"은 필름의 연속 제조시 진행방향에 해당하는 길이 방향이며, "폭방향(Transverse Direction, TD)"은 MD방향의 수직방향을 의미한다. In the present specification, "Machine Direction (MD)" refers to a longitudinal direction corresponding to the progression direction during continuous production of a film, and "Transverse Direction (TD)" refers to a vertical direction in the MD direction.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 연신은 기계방향(MD) 및 폭방향(TD) 중 어느 한 쪽을 먼저 연신한 후에 다른 방향으로 연신할 수도 있고, 두 방향을 동시에 연신할 수도 있다. 또한, 상기 연신은 한 단계로 수행될 수도 있고, 다단계에 걸쳐 이루어질 수도 있다. In the exemplary embodiment of the present specification, the stretching may be performed in one of the machine direction (MD) and the width direction (TD) first and then in the other direction, or both directions may be simultaneously stretched. Further, the stretching may be performed in one step or may be performed in multiple steps.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 연신은 상기 광학 필름을 제조하기 위한 수지 조성물의 유리전이온도를 Tg라 할 때, (Tg+5)℃ 내지 (Tg+20)℃의 온도에서 수행된다. 구체적으로, 상기 연신은 105℃ 내지 150℃에서 수행될 수 있다. In the exemplary embodiment of the present specification, the stretching is performed at a temperature of (Tg+5)°C to (Tg+20)°C when the glass transition temperature of the resin composition for manufacturing the optical film is Tg. Specifically, the stretching may be performed at 105 ℃ to 150 ℃.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광학 필름의 Tg는 100℃ 내지 130℃일 수 있다. 보다 구체적으로, 110℃ 내지 120℃일 수 있다.In the exemplary embodiment of the present specification, Tg of the optical film may be 100°C to 130°C. More specifically, it may be 110 ℃ to 120 ℃.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 수지 조성물의 유리전이온도는 시차주사형 열량계(DSC)에 의해 측정될 수 있다.In the exemplary embodiment of the present specification, the glass transition temperature of the resin composition may be measured by a differential scanning calorimeter (DSC).

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 구형 고무 탄성체가 타원형 고무 탄성체로 변경되기 위해서는, 낮은 온도에서 연신이 수행될 경우, MD 및 TD로 낮은 배율로 연신이 진행되어야 한다. 반면에, 높은 온도에서 연신이 수행될 경우, MD 및 TD로 높은 배율로 연신이 진행되어야 한다.In the exemplary embodiment of the present specification, in order to change the spherical rubber elastic body into an elliptical rubber elastic body, when stretching is performed at a low temperature, stretching must be performed at a low magnification in MD and TD. On the other hand, when stretching is performed at a high temperature, stretching must be performed at a high magnification in MD and TD.

구체적으로, 본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 연신이 수지 조성물의 유리전이온도보다 5℃ 이상 15℃ 미만의 온도에서 수행될 경우, 연신 배율이 TD로 2.4배 내지 2.7배, MD로 1.5배 내지 4배 수행되어야 고무 탄성체가 타원형으로 변경 가능하다.Specifically, in the exemplary embodiment of the present specification, when the stretching is performed at a temperature of 5° C. or more and less than 15° C. than the glass transition temperature of the resin composition, the stretching ratio is 2.4 to 2.7 times in TD and 1.5 times in MD. The rubber elastic body can be changed to an elliptical shape only when it is performed 4 times.

또한, 본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 연신이 수지 조성물의 유리전이온도보다 15℃ 이상의 온도에서 수행될 경우, 연신 배율이 TD로 2.7배 초과 4배 이하, MD로 1.5배 내지 4배 수행되어야 고무 탄성체가 타원형으로 변경 가능하다.In addition, in the exemplary embodiment of the present specification, when the stretching is performed at a temperature of 15° C. or higher than the glass transition temperature of the resin composition, the stretching ratio is more than 2.7 times 4 times in TD and 1.5 times to 4 times in MD. Only when the rubber elastic body can be changed to an elliptical shape.

예컨대, 필름이 MD로 1.8배, TD로 2.56배 연신될 경우, 필름의 유리전이온도보다 10℃ 높은 온도에서 연신이 수행된다면 구형 탄성체가 타원형 탄성체로 변형되나, 유리전이온도보다 20℃ 높은 온도에서 연신이 수행된다면 탄성체가 구형 탄성체가 타원형으로 변형되지 않는다.For example, if the film is stretched 1.8 times by MD and 2.56 times by TD, if stretching is performed at a temperature 10°C higher than the glass transition temperature of the film, the spherical elastic body is transformed into an elliptical elastic body, but at a temperature 20°C higher than the glass transition temperature. If stretching is performed, the elastic body does not deform into an elliptical shape.

또 하나의 예로, 필름이 필름의 유리전이온도보다 20℃ 높은 온도에서 연신이 수행될 경우, MD로 1.8배, TD로 2.9배 연신이 수행된다면 구형 탄성체가 타원형 탄성체로 변형되나, MD로 1.8배, TD로 2.56배 연신이 수행된다면 구형 탄성체가 타원형으로 변형되지 않는다.As another example, when the film is stretched at a temperature 20°C higher than the glass transition temperature of the film, if stretching is performed 1.8 times by MD and 2.9 times by TD, the spherical elastic body is transformed into an elliptical elastic body, but 1.8 times by MD. If the stretching is performed by 2.56 times TD, the spherical elastic body does not deform into an ellipse.

본 명세서에 있어서, 상기 "타원형"은 물체의 단면적에서 장경(L)과 단경(T)의 비율(L/T)이 3 이상 8 이하인 것을 의미한다. In the present specification, the "oval shape" means that the ratio (L/T) of the long diameter (L) and the short diameter (T) in the cross-sectional area of the object is 3 or more and 8 or less.

본 명세서에 있어서, 상기 "구형"은 물체의 장경(L)과 단경(T)의 비율(L/T)이 3 미만인 것을 의미한다. In the present specification, the "spherical" means that the ratio (L/T) of the long diameter (L) and the short diameter (T) of an object is less than 3.

본 명세서에 있어서, 상기 "장경(L)"은 물체의 단면적에서 가장 긴 부분의 길이를 의미한다. In the present specification, the "longest diameter (L)" means the length of the longest part in the cross-sectional area of the object.

본 명세서에 있어서, 상기 "단경(T)"은 상기 장경의 수직이 되는 부분의 길이를 의미한다. In the present specification, the "shorter diameter (T)" refers to the length of the vertical portion of the major diameter.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 구형 고무 탄성체는 표면 요철이 형성되어 있을 수 있다.In one embodiment of the present specification, the spherical rubber elastic body may have surface irregularities formed.

본 명세서에 있어서, 상기 "물체의 단면적"은 물체의 최대 직경을 나타내는 부분에서의 단면적을 의미한다.In the present specification, the "cross-sectional area of an object" means a cross-sectional area in a portion representing the maximum diameter of the object.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 연신은 일 방향으로 10%/min 내지 20,000%/min, 바람직하게는 100%/min 내지 10,000%/min의 연신 속도 범위에서 수행된다. 연신 속도가 10%/min 미만일 경우에는 충분한 연신 배율을 얻기 위해 시간이 오래 소요되어, 제조 비용이 높아질 우려가 있다. 연신 속도가 20,000%/min을 초과하면 연신 필름의 파단 등이 일어날 우려가 있다. In the exemplary embodiment of the present specification, the stretching is performed in a range of a stretching speed of 10%/min to 20,000%/min, preferably 100%/min to 10,000%/min in one direction. When the drawing speed is less than 10%/min, it takes a long time to obtain a sufficient draw ratio, and there is a fear that the manufacturing cost may increase. When the stretching speed exceeds 20,000%/min, there is a fear that the stretched film may break.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 연신은 롤 연신기 또는 텐더형 연신기와 같은 공지된 연신 장치를 비롯하여 필름의 연신을 행할 수 있는 장치라면 제한 없이 사용 가능하다.In the exemplary embodiment of the present specification, the stretching may be used without limitation, as long as it is a device capable of stretching a film including a known stretching device such as a roll stretching machine or a tender-type stretching machine.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 (메타)아크릴계 수지는 (메타)아크릴계 단량체를 주성분으로 포함하는 것으로서, 당 기술분야에 알려진 재료라면 특별히 한정되지 않으나, 예컨대, 알킬메타크릴레이트계 단량체 또는 알킬메타크릴레이트계 단량체를 포함하는 공중합체일 수 있다. 이때, 상기 알킬메타크릴레이트계 단량체는 알킬메타크릴레이트뿐만 아니라 알킬메타크릴레이트의 유도체를 포함한다.In the exemplary embodiment of the present specification, the (meth)acrylic resin includes a (meth)acrylic monomer as a main component, and is not particularly limited as long as it is a material known in the art, for example, an alkylmethacrylate monomer or an alkyl It may be a copolymer containing a methacrylate-based monomer. In this case, the alkyl methacrylate-based monomer includes not only alkyl methacrylate but also derivatives of alkyl methacrylate.

구체적으로, 상기 (메타)아크릴계 수지는 알킬메타크릴레이트계 단량체; 알킬메타크릴레이트계 단량체의 단독 중합체; 또는 방향족 비닐계 단량체, 아크릴로니트릴계 단량체, 스티렌계 단량체, 페닐말레이미드계 단량체 및 산 무수물 중 1종 이상과 알킬메타크릴레이트계의 단량체를 중합하여 형성된 공중합체를 포함한다. 보다 구체적으로, 상기 (메타)아크릴계 수지는 알킬메타크릴레이트계 단량체의 단독 중합체를 포함한다. Specifically, the (meth)acrylic resin is an alkyl methacrylate-based monomer; Homopolymers of alkyl methacrylate-based monomers; Or a copolymer formed by polymerizing at least one of an aromatic vinyl-based monomer, an acrylonitrile-based monomer, a styrene-based monomer, a phenylmaleimide-based monomer, and an acid anhydride with an alkyl methacrylate-based monomer. More specifically, the (meth)acrylic resin includes a homopolymer of an alkyl methacrylate-based monomer.

본 명세서에 있어서 "단량체"란 중합체에 포함되는 반복되는 구조를 의미한다. 즉, "단량체"란 중합 반응에 의해서 중합체 내에서 2가기 이상의 형태로 포함되는 구조를 의미할 수 있다.In the present specification, "monomer" means a repeating structure included in a polymer. That is, "monomer" may mean a structure included in the form of a bivalent or more in a polymer by a polymerization reaction.

본 명세서에 있어서, "유도체"는 화합물의 일부를 화학적으로 변화시켜서 얻어지는 유사한 화합물로, 화합물 중의 수소 원자 또는 특정 원자단이 다른 원자 또는 원자단에 의하여 치환된 화합물을 의미한다.In the present specification, "derivative" refers to a similar compound obtained by chemically changing a part of a compound, and means a compound in which a hydrogen atom or a specific group of atoms in the compound is substituted by another atom or group of atoms.

본 명세서에 있어서, "공중합체"는 단량체로 언급된 요소가 중합되어 공중합체 수지 내에서 반복 단위로서 포함되는 것을 의미한다. 상기 공중합체는 블록 공중합체 또는 랜덤 공중합체일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 본 명세서에서 공중합체에 포함되는 단량체를 언급하는 경우에도, 언급된 단량체만을 포함하는 것으로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 목적을 벗어나지 않는 범위 내에서, 상기 언급된 단량체 외에 다른 단량체를 공단량체로 추가로 포함할 수 있다.In the present specification, “copolymer” means that an element referred to as a monomer is polymerized and included as a repeating unit in the copolymer resin. The copolymer may be a block copolymer or a random copolymer, but is not limited thereto. In addition, even when referring to the monomers included in the copolymer in the present specification, it is not limited to including only the mentioned monomers, and within the scope not departing from the object of the present invention, other monomers other than the above-mentioned monomers are used as comonomers. It can be additionally included.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 알킬메타크릴레이트계 단량체의 알킬 부(moiety)는 치환 또는 비치환된 알킬기이거나 시클로알킬기 일 수 있고, 이때, 알킬 부의 탄소수는 1 내지 10 정도인 것이 바람직하며, 1 내지 6인 것이 더욱 바람직하고, 메틸기 또는 에틸기인 것이 가장 바람직하다. 구체적으로 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소프로필메타크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트, 히드록시에틸메타크릴레이트, 이소보닐메타크릴레이트 및 시클로헥실메타크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.In an exemplary embodiment of the present specification, the alkyl moiety of the alkyl methacrylate-based monomer may be a substituted or unsubstituted alkyl group or a cycloalkyl group, and in this case, the number of carbon atoms of the alkyl moiety is preferably about 1 to 10, and , More preferably 1 to 6, and most preferably a methyl group or an ethyl group. Specifically, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, t-butyl methacrylate, hydroxyethyl methacrylate, isobornyl methacrylate and cyclohexyl methacrylate It may be at least one selected from the group consisting of, but is not limited thereto.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 스티렌계 단량체는 치환되지 않은 스티렌 단량체 또는 치환된 스티렌 단량체일 수 있다. 상기 치환된 스티렌 단량체는 벤젠고리 또는 비닐기에 지방족 탄화수소 또는 헤테로 원자를 포함하는 치환기로 치환된 스티렌일 수 있다. 예를 들면, 스티렌, α-메틸스티렌, 3-메틸스티렌, 4-메틸스티렌, 2,4-디메틸스티렌, 2,5-디메틸스티렌, 2-메틸-4-클로로스티렌, 2,4,6-트리메틸스티렌, cis-β-메틸스티렌, trans-β-메틸스티렌, 4-메틸-α-메틸스티렌, 4-플루오르-α-메틸스티렌, 4-클로로-α-메틸스티렌, 4-브로모-α-메틸스티렌, 4-t-부틸스티렌, 2-플루오르스티렌, 3-플루오르스티렌, 4-플루오로스티렌, 2,4-디플루오로스티렌, 2,3,4,5,6-펜타플루오로스티렌, 2-클로로스티렌, 3-클로로스티렌, 4-클로로스티렌, 2,4-디클로로스티렌, 2,6-디클로로스티렌, 옥타클로로스티렌, 2-브로모스티렌, 3-브로모스티렌, 4-브로모스티렌, 2,4-디브로모스티렌, α-브로모스티렌 및 β-브로 모스티렌으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. In the exemplary embodiment of the present specification, the styrene-based monomer may be an unsubstituted styrene monomer or a substituted styrene monomer. The substituted styrene monomer may be styrene substituted with a substituent including an aliphatic hydrocarbon or hetero atom in a benzene ring or vinyl group. For example, styrene, α-methylstyrene, 3-methylstyrene, 4-methylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 2,5-dimethylstyrene, 2-methyl-4-chlorostyrene, 2,4,6- Trimethylstyrene, cis-β-methylstyrene, trans-β-methylstyrene, 4-methyl-α-methylstyrene, 4-fluoro-α-methylstyrene, 4-chloro-α-methylstyrene, 4-bromo-α -Methylstyrene, 4-t-butylstyrene, 2-fluorostyrene, 3-fluorostyrene, 4-fluorostyrene, 2,4-difluorostyrene, 2,3,4,5,6-pentafluorostyrene , 2-chlorostyrene, 3-chlorostyrene, 4-chlorostyrene, 2,4-dichlorostyrene, 2,6-dichlorostyrene, octachlorostyrene, 2-bromostyrene, 3-bromostyrene, 4-bromo It may be one or more selected from the group consisting of styrene, 2,4-dibromostyrene, α-bromostyrene, and β-bromostyrene, but is not limited thereto.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 페닐말레이미드계 단량체는 예컨대, 페닐말레이미드, 니트로페닐 말레이미드, 모노클로로페닐 말레이미드, 디클로로페닐 말레이미드, 모노메틸페닐 말레이미드, 디메틸페닐 말레이미드 및 에틸메틸페닐 말레이미드로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In the exemplary embodiment of the present specification, the phenylmaleimide-based monomer is, for example, phenylmaleimide, nitrophenyl maleimide, monochlorophenyl maleimide, dichlorophenyl maleimide, monomethylphenyl maleimide, dimethylphenyl maleimide, and ethylmethylphenyl It may be one or more selected from the group consisting of maleimide, but is not limited thereto.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 (메타)아크릴계 수지는 폴리메틸메타크릴레이트일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present specification, the (meth)acrylic resin may be polymethylmethacrylate.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 고무 탄성체는 메타크릴로니트릴-부타디엔-스티렌(MBS)계 탄성체, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌(ABS)계 탄성체, 아크릴로니트릴-에틸렌-프로필렌-디엔-스티렌(AES)계 탄성체, 아크릴로니트릴-스티렌-부틸아크릴레이트(ASA)계 탄성체, 에틸렌-프로필렌-디엔 삼원공중합체(EPDM)계 탄성체, 스티렌-부타디엔-스티렌(SBS)계 탄성체, 스티렌-이소프렌-스티렌(SIS)계 탄성체, 스티렌-부타디엔(SB)계 탄성체, 스티렌-이소프렌계 고무 탄성체, 에틸렌-비닐아세테이트(EVA)계 탄성체, 에틸렌-에틸아크릴레이트(EEA)계 탄성체, 에틸렌-비닐알코올(EVOH) 공중합체 탄성체, 염화 에틸렌(CPE)계 수지 탄성체, 실리콘계 고무 탄성체, 아크릴-실리콘계 고무 탄성체, 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT)계 탄성체, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)계 탄성체 및 나일론계 탄성체로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 일 수 있다. In the exemplary embodiment of the present specification, the rubber elastomer is methacrylonitrile-butadiene-styrene (MBS)-based elastomer, acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS)-based elastomer, acrylonitrile-ethylene-propylene-diene- Styrene (AES) elastomer, acrylonitrile-styrene-butylacrylate (ASA) elastomer, ethylene-propylene-diene terpolymer (EPDM) elastomer, styrene-butadiene-styrene (SBS) elastomer, styrene-isoprene -Styrene (SIS) elastomer, styrene-butadiene (SB) elastomer, styrene-isoprene rubber elastomer, ethylene-vinyl acetate (EVA) elastomer, ethylene-ethyl acrylate (EEA) elastomer, ethylene-vinyl alcohol ( EVOH) copolymer elastomer, ethylene chloride (CPE) resin elastomer, silicone rubber elastomer, acrylic-silicone rubber elastomer, polybutylene terephthalate (PBT) elastomer, polyethylene terephthalate (PET) elastomer and nylon elastomer. It may be any one selected from the group.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 수지 조성물은 상기 고무 탄성체를 수지 조성물 총 중량을 기준으로 5wt% 내지 15wt% 포함한다. In the exemplary embodiment of the present specification, the resin composition includes 5wt% to 15wt% of the rubber elastomer based on the total weight of the resin composition.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 수지 조성물은 전술한 성분들 외에도 광개시제, 계면활성제, 산화방지제, UV 흡수제, 레벨링제, 방오제, 자외선 흡수제 등 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상적으로 사용되는 첨가제를 추가로 포함할 수 있다. 또한, 상기 광학 필름용 조성물이 전술한 첨가제를 포함할 경우, 그 함량은 광학 필름을 형성하기 위한 조성물의 물성을 저하시키지 않는 범위 내에서 다양하게 조절할 수 있으며, 예컨대, (메타)아크릴계 수지 100 중량부 대비 0.1 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다.In the exemplary embodiment of the present specification, the resin composition is an additive commonly used in the technical field to which the present invention belongs, such as a photoinitiator, surfactant, antioxidant, UV absorber, leveling agent, antifouling agent, ultraviolet absorber, in addition to the above-described components. It may further include. In addition, when the composition for an optical film contains the above additives, the content can be variously adjusted within a range that does not deteriorate the physical properties of the composition for forming an optical film, for example, 100 weight of (meth)acrylic resin It may be included in 0.1 parts by weight to 10 parts by weight based on parts.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 UV 흡수제는 예컨대, 트리아진계 또는 트리아졸계 UV 흡수제일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.In the exemplary embodiment of the present specification, the UV absorber may be, for example, a triazine-based or triazole-based UV absorber, but is not limited thereto.

본 명세서의 일 실시상태는 전술한 광학 필름의 제조 방법으로 제조된 광학 필름을 제공한다.An exemplary embodiment of the present specification provides an optical film manufactured by the method for manufacturing an optical film described above.

본 명세서의 일 실시상태는 (메타)아크릴계 수지; 및An exemplary embodiment of the present specification is a (meth)acrylic resin; And

타원형 고무 탄성체를 포함하는 광학 필름으로서,An optical film comprising an elliptical rubber elastomer,

상기 광학 필름은 면 방향 위상차 값이 0nm 내지 10nm이고, 두께 방향 위상차 값이 -5nm 내지 30nm이며, 면 방향 위상차 및 두께 방향 위상차는 각각 하기 식 (1) 및 식 (2)를 통해 계산되는 것인 광학 필름을 제공한다.The optical film has a plane direction retardation value of 0 nm to 10 nm, a thickness direction retardation value of -5 nm to 30 nm, and a plane direction retardation and a thickness direction retardation are calculated through the following equations (1) and (2), respectively. Provides an optical film.

식 (1): Rin = (nx-ny) x dEquation (1): R in = (n x -n y ) xd

식 (2): Rth = [(nx+ny)/2-nz] x dEquation (2): R th = [(n x +n y )/2-n z ] xd

상기 식 (1) 및 (2)에 있어서, Rin은 면 방향 위상차이고, Rth는 두께 방향 위상차이며, d는 필름 두께이고, nx, ny 및 nz는 각각 파장 550nm에서 측정된 x 방향 굴절율, y 방향 굴절율 및 z 방향 굴절율이다.In the above formulas (1) and (2), R in is the retardation in the plane direction, R th is the retardation in the thickness direction, d is the film thickness, and n x , n y and n z are the refractive index in the x direction, the refractive index in the y direction, and the refractive index in the z direction measured at a wavelength of 550 nm, respectively.

구체적으로, 상기 nx는 파장 550nm의 광에서 측정하였을 때, 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절율이고, ny는 파장 550nm의 광에서 측정하였을 때, 면 방향에 있어서 지상축에 수직인 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절율이며, nz는 두께 방향의 굴절율을 의미한다.Specifically, n x is the refractive index in the direction in which the surface direction refractive index is the maximum (ie, the slow axis direction) when measured in light having a wavelength of 550 nm, and n y is the refractive index in the surface direction when measured in light having a wavelength of 550 nm. In this case, it is the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis (ie, the fast axis direction), and n z means the refractive index in the thickness direction.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 nx, ny 및 nz는 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면, 프리즘 커플러 장비(SAIRON TECHNOLOGY社 SPA-3DR) 등을 이용하여 평균 굴절율을 측정하고, Axomatrics 社의 엑소스캔(Axoscan)으로 복굴절을 측정하여 nx, ny 및 nz를 각각 계산할 수 있다. In the exemplary embodiment of the present specification, the n x , n y and n z can be measured by a known method well known in the art, for example, a prism coupler equipment (SAIRON TECHNOLOGY company SPA-3DR) The average refractive index is measured using the same, and the birefringence is measured with Axomatrics' Axoscan, so that n x , n y and n z can be calculated, respectively.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 "두께"란 어떤 부재의 일 표면과 상기 표면과 대향하는 일 표면 사이의 평균 너비를 의미한다.In the exemplary embodiment of the present specification, the "thickness" means an average width between one surface of a member and one surface opposite to the surface.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광학 필름에 포함된 타원형 고무 탄성체는 구형 고무 탄성체를 유리전이온도보다 5℃ 내지 20℃ 높은 온도에서, 기계방향(MD)으로 1.5배 내지 4배, 폭방향(TD)으로 1.5배 내지 4배 조건으로 연신하여 타원형으로 변경한 것이다.In the exemplary embodiment of the present specification, the elliptical rubber elastic body included in the optical film is 1.5 to 4 times in the machine direction (MD) at a temperature of 5°C to 20°C higher than the glass transition temperature of the spherical rubber elastic body in the width direction. It was transformed into an elliptical shape by stretching under the conditions of 1.5 to 4 times (TD).

이때, 상기 연신 조건은 광학 필름의 제조방법에서 전술한 바와 동일하다.At this time, the stretching conditions are the same as described above in the method of manufacturing the optical film.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광학 필름에 포함된 타원형 고무 탄성체는 장경(L)과 단경(T)의 비율(L/T)이 3 이상 8 이하이다.In one embodiment of the present specification, the elliptical rubber elastic body included in the optical film has a ratio (L/T) of a long diameter (L) and a short diameter (T) of 3 or more and 8 or less.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광학 필름은 고무 탄성체를 광학 필름 총 중량 기준으로 기준으로 5wt% 내지 15wt% 포함한다.In the exemplary embodiment of the present specification, the optical film includes 5wt% to 15wt% of a rubber elastic body based on the total weight of the optical film.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광학 필름은 UV 흡수제가 더 포함되어 있다. 이때의 UV 흡수제는 상기 제조방법에서 전술한 바와 동일하다.In the exemplary embodiment of the present specification, the optical film further includes a UV absorber. The UV absorber at this time is the same as described above in the manufacturing method.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광학 필름은 파장 380nm에서 UV 투과도 값이 20% 이하이다. 이에 따라, 자외선에 취약한 편광자를 보호하는 역할을 할 수 있다.In the exemplary embodiment of the present specification, the optical film has a UV transmittance value of 20% or less at a wavelength of 380 nm. Accordingly, it may serve to protect a polarizer vulnerable to ultraviolet rays.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광학필름의 충격에너지 값은 600 kN·m/m3 이상이다. 상기 충격 에너지가 낮을 경우, 필름 제조시에는 파단이 발생할 수 있으며, 편광판 재단시에는 크랙(crack)이 발생할 수 있다. 따라서, 상기 충격 에너지는 높을수록 바람직하며, 그 상한은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어 2,000 kN·m/m3 이하일 수 있다. In the exemplary embodiment of the present specification, the impact energy value of the optical film is 600 kN·m/m 3 or more. When the impact energy is low, fracture may occur during film manufacturing, and crack may occur when cutting a polarizing plate. Therefore, the higher the impact energy is, the more preferable, and the upper limit thereof is not particularly limited, but may be, for example, 2,000 kN·m/m 3 or less.

상기 충격 에너지는 낙하 충격 실험을 통해 구할 수 있다. 구체적으로, 상기 충격 에너지는 위치 에너지(potential energy)를 필름 부피로 나눔으로써 구할 수 있다. 이때, 위치 에너지는 (중력 가속도 x 낙구 볼 무게 x 낙구 높이)이며, 필름 부피는 (필름 두께 x 측정 면적)으로 계산하였다. 즉, 상기 충격 에너지는 (중력 가속도 x 낙구 볼 무게 x 낙구 높이)/(필름 두께 x 측정 면적)을 통해 계산 가능하다.The impact energy can be obtained through a drop impact experiment. Specifically, the impact energy can be obtained by dividing potential energy by the volume of the film. At this time, the potential energy was (gravity acceleration x falling ball weight x falling ball height), and the film volume was calculated as (film thickness x measurement area). That is, the impact energy can be calculated through (gravity acceleration x falling ball weight x falling ball height)/(film thickness x measurement area).

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 낙구 볼 무게는 10g 내지 100g이다.In the exemplary embodiment of the present specification, the weight of the falling ball is 10g to 100g.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 낙구 높이는 50mm 내지 1,500mm이다.In the exemplary embodiment of the present specification, the height of the falling ball is 50mm to 1,500mm.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 필름 두께는 20μm 내지 100μm이다.In an exemplary embodiment of the present specification, the film thickness is 20 μm to 100 μm.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 측정 면적은 2,500mm2 내지 10,000mm2(필름 직경: 50mm 내지 100mm)이다. In one embodiment of the present specification, the measurement area is 2,500mm 2 to 10,000mm 2 (film diameter: 50mm to 100mm).

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광학 필름은 두께가 20㎛ 내지 100㎛, 바람직하게는 40㎛ 내지 80㎛이다. 본 명세서에 따르면, 광학 필름이 상기와 같은 두께를 가짐으로써 별도의 코팅층을 포함하는 필름에 비하여 박형화가 가능하며, 컬이나 크랙 발생 없이 고경도의 광학 필름을 제공할 수 있다. 구체적으로, 상기 광학 필름의 두께가 20㎛ 미만일 경우에는 필름의 취급성이 불량하여 제조 공정 및 제품의 취급 과정에서 꺾임, 파단 등이 발생하는 문제가 있으며, 80㎛를 초과할 경우에는 편광판의 박형화가 불가능한 문제가 있다. In one embodiment of the present specification, the optical film has a thickness of 20 μm to 100 μm, preferably 40 μm to 80 μm. According to the present specification, since the optical film has the same thickness as described above, it is possible to be thinner than a film including a separate coating layer, and an optical film of high hardness can be provided without occurrence of curls or cracks. Specifically, when the thickness of the optical film is less than 20 μm, there is a problem that the film is poorly handled and thus bends and breaks may occur during the manufacturing process and product handling. When it exceeds 80 μm, the polarizing plate is thinned. There is an impossible problem.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광학 필름은 400nm 내지 800nm의 파장범위에서 광 투과율이 80% 이상일 수 있다. 또한, 상기 광학 필름의 탁도(haze)는 2% 이하일 수 있다. 만약 상기 광학 필름의 직진 투과율 및 탁도가 각각 80% 미만, 2% 이상일 경우, 이로부터 제조된 액정표시장치의 휘도가 감소하는 문제점이 있다. In the exemplary embodiment of the present specification, the optical film may have a light transmittance of 80% or more in a wavelength range of 400 nm to 800 nm. In addition, the haze of the optical film may be 2% or less. If the straight transmittance and turbidity of the optical film are less than 80% and 2% or more, respectively, there is a problem in that the luminance of the liquid crystal display device manufactured therefrom decreases.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광학 필름은 편광자 보호필름이다. In one embodiment of the present specification, the optical film is a polarizer protective film.

본 명세서의 일 실시상태는 편광자; 및 상기 편광자의 적어도 일면에 구비된 전술한 실시상태들에 따른 광학 필름을 포함하는 편광판을 제공한다. An exemplary embodiment of the present specification is a polarizer; And it provides a polarizing plate including the optical film according to the above-described embodiments provided on at least one surface of the polarizer.

이때, 상기 광학 필름은 편광자의 양면에 부착되어도 되고, 일면에만 부착되어도 된다. 상기 광학 필름이 편광자의 일면에만 부착될 경우, 타면에는 필요에 따라 당기술분야에 알려져 있는 보호 필름을 구비시킬 수 있다.At this time, the optical film may be attached to both sides of the polarizer, or may be attached only to one side. When the optical film is attached to only one surface of the polarizer, a protective film known in the art may be provided on the other surface as necessary.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 상기 광학 필름은 편광자의 일면 또는 양면에 직접 부착되거나, 편광자의 양면에 보호 필름이 부착된 편광판의 보호 필름 상에 부착되어, 보호 필름 또는 위상차 필름으로 유용하게 사용될 수 있다. The optical film according to an exemplary embodiment of the present specification may be directly attached to one or both sides of a polarizer, or attached on a protective film of a polarizing plate to which a protective film is attached to both sides of the polarizer, and thus may be usefully used as a protective film or a retardation film. have.

상기 광학 필름을 편광자의 일면 또는 양면에 직접 부착시키는 경우, 예를 들어, 그 구조는 상 보호 필름/편광자/광학 필름, 광학 필름/편광자/하 보호 필름, 광학 필름/상 보호 필름/편광자/하 보호 필름 또는 상 보호 필름/편광자/하 보호 필름/광학 필름 일 수 있다. When the optical film is directly attached to one or both sides of a polarizer, for example, the structure is an upper protective film/polarizer/optical film, an optical film/polarizer/lower protective film, an optical film/upper protective film/polarizer/lower It may be a protective film or an upper protective film/polarizer/lower protective film/optical film.

도 1에는 본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판을 나타내었다. 구체적으로, 편광자의 양면에 광학 필름이 부착된 경우를 예시한 도이다. 1 shows a polarizing plate according to an exemplary embodiment of the present specification. Specifically, it is a diagram illustrating a case where an optical film is attached to both sides of a polarizer.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광자로는 당 기술분야에 알려져 있는 것을 제한되지 않고 사용할 수 있으며, 예컨대 요오드 또는 이색성 염료를 포함하는 폴리비닐알콜(이하 'PVA')로 이루어진 필름을 사용할 수 있다. 상기 편광자는 PVA 필름에 요오드 또는 이색성 염료를 염착시켜서 제조될 수 있으나, 이의 제조방법은 특별히 한정되지 않는다. 본 명세서에 있어서, 편광자는 광학 필름을 포함하지 않는 상태를 의미하며, 편광판은 편광자와 광학 필름을 포함하는 상태를 의미한다.In one embodiment of the present specification, as the polarizer, those known in the art may be used without limitation, and for example, a film made of polyvinyl alcohol (hereinafter'PVA') containing iodine or a dichroic dye may be used. I can. The polarizer may be prepared by dyeing iodine or a dichroic dye on a PVA film, but the method of manufacturing the polarizer is not particularly limited. In the present specification, a polarizer means a state that does not include an optical film, and a polarizing plate means a state including a polarizer and an optical film.

상기 편광자와 광확 필름의 부착은 당 기술분야에 잘 알려져 있는 필름의 합지 방법을 통해 수행될 수 있다. 예컨대, 롤코터, 그라비아 코터, 바 코터, 나이프 코터 또는 캐필러리 코터 등을 사용하여 광학 필름 또는 편광자의 표면에 접착제를 코팅한 후, 광학 필름과 편광자를 합지 롤로 가열 합지하거나, 상온 압착하여 합지하는 방법에 의해 수행될 수 있다.The attachment of the polarizer and the optical diffusing film may be performed through a method of laminating films well known in the art. For example, after coating an adhesive on the surface of an optical film or polarizer using a roll coater, gravure coater, bar coater, knife coater, or capillary coater, the optical film and polarizer are heat-laminated with a paper roll, or laminated by room temperature compression. It can be carried out by a method.

상기 접착제로는 당 기술분야에서 사용되는 물질이라면 제한 없이 사용가능하며, 예를 들면, 수계 접착제, 열경화성 접착제, 자외선 경화형 접착제 등이 사용될 수 있다. 구체적으로, 폴리비닐알코올계 접착제, 폴리우레탄계 접착제, 아크릴계 접착제 등이 제한 없이 사용 가능하다. As the adhesive, any material used in the art may be used without limitation, and for example, a water-based adhesive, a thermosetting adhesive, or an ultraviolet curable adhesive may be used. Specifically, polyvinyl alcohol-based adhesives, polyurethane-based adhesives, and acrylic adhesives may be used without limitation.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 편광판의 전체 두께는 45㎛이상, 예를 들어 45㎛ 내지 250㎛, 또는 50㎛ 내지 120㎛, 또는 50㎛ 내지 100㎛가 될 수 있다. 본 명세서에 따르면, 편광판에 전술한 광학 필름을 적용함으로써, 박형의 두께를 가지면서도 컬이나 크랙 발생 없이 고경도를 달성할 수 있다. In an exemplary embodiment of the present specification, the total thickness of the polarizing plate may be 45 μm or more, for example, 45 μm to 250 μm, or 50 μm to 120 μm, or 50 μm to 100 μm. According to the present specification, by applying the above-described optical film to the polarizing plate, it is possible to achieve a high hardness without generating curls or cracks while having a thin thickness.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광판은 TN(Twisted Nematic), 또는 STN(Super Twisted Nematic) 액정용 편광판일 수 있으며, IPS(In-Plane Switching), Super-IPS, 또는 FFS(Fringe Field Switching) 등의 수평배향모드용 편광판일 수도 있고, 수직배향모드용 편광판일 수도 있다.In the exemplary embodiment of the present specification, the polarizing plate may be a polarizing plate for TN (Twisted Nematic) or STN (Super Twisted Nematic) liquid crystal, and may be In-Plane Switching (IPS), Super-IPS, or FFS (Fringe Field Switching). ) May be a polarizing plate for horizontal alignment mode, or a polarizing plate for vertical alignment mode.

본 명세서의 일 실시상태는 표시 패널; 및 상기 표시 패널의 일면 또는 양면에 부착되어 있는 전술한 편광판을 포함하는 화상표시장치를 제공한다. An exemplary embodiment of the present specification is a display panel; And it provides an image display device including the above-described polarizing plate attached to one or both sides of the display panel.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 표시 패널은 액정 패널 또는 유기발광 패널일 수 있으며, 이에 따라, 상기 화상 표시장치는 액정표시장치(LCD) 또는 전계발광장치(LED) 일 수 있다.In the exemplary embodiment of the present specification, the display panel may be a liquid crystal panel or an organic light emitting panel, and accordingly, the image display device may be a liquid crystal display device (LCD) or an electroluminescent device (LED).

구체적으로, 상기 화상표시장치는 액정 패널 및 이 액정 패널의 양면에 각각 구비된 편광판들을 포함하는 액정표시장치일 수 있으며, 이때, 상기 편광판 중 적어도 하나가 전술한 본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 액정표시장치는 액정 셀 및 상기 액정 셀의 양면에 각각 구비된 상부 편광판 및 하부 편광판을 포함하는 것일 수 있으며, 상기 광학 필름은 상기 액정 셀이 구비되지 않은 상부 편광판의 외측 및/또는 액정 셀이 구비되지 않은 하부 편광판의 외측에 위상차 필름 또는 보호 필름으로써 구비될 수 있다. 즉, 액정 셀이 구비되지 않은 상부 편광판의 외측, 액정 셀이 구비되지 않은 하부 편광판의 외측 및/또는 상부 편광판과 하부 편광판 모두에서 액정 셀이 구비되지 않은 외측에 광학 필름이 하나 또는 2 이상 구비될 수 있다. Specifically, the image display device may be a liquid crystal display device including a liquid crystal panel and polarizing plates respectively provided on both sides of the liquid crystal panel, wherein at least one of the polarizing plates is a polarizing plate according to an exemplary embodiment of the present specification described above. Can be More specifically, the liquid crystal display may include a liquid crystal cell and an upper polarizing plate and a lower polarizing plate provided on both sides of the liquid crystal cell, respectively, and the optical film may include an outer side of an upper polarizing plate without the liquid crystal cell and/ Alternatively, it may be provided as a retardation film or a protective film outside the lower polarizing plate on which the liquid crystal cell is not provided. That is, one or two or more optical films may be provided on the outside of the upper polarizing plate without the liquid crystal cell, the outside of the lower polarizing plate without the liquid crystal cell, and/or on the outside without the liquid crystal cell in both the upper and lower polarizing plates. I can.

보다 구체적으로, 상기 광학 필름은 보호 필름으로써, 액정표시장치의 최외각에 위치할 수 있다. 이 경우, 특히 파단이 생기거나 크랙이 생기는 문제를 해결할 수 있다. More specifically, the optical film is a protective film and may be located at the outermost part of the liquid crystal display device. In this case, in particular, it is possible to solve the problem of occurrence of fracture or crack.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 액정표시장치에 포함되는 액정 패널의 종류는 특별히 한정되지 않으며, 공지된 패널이 모두 적용될 수 있다. 또한, 액정표시장치를 구성하는 기타 구성, 예를 들면, 상부 및 하부 기판(예를 들어, 컬러 필터 기판 또는 어레이 기판) 등의 종류 역시 특별히 제한되지 않고, 이 분야에 공지되어 있는 구성이 제한 없이 채용될 수 있다.In the exemplary embodiment of the present specification, the type of the liquid crystal panel included in the liquid crystal display device is not particularly limited, and all known panels may be applied. In addition, other components constituting the liquid crystal display device, for example, the types of upper and lower substrates (for example, color filter substrates or array substrates) are not particularly limited, and configurations known in the art are not limited. Can be employed.

이하에서, 실시예를 통하여 본 명세서를 더욱 상세하게 설명한다. 그러나, 이하의 실시예는 본 명세서를 예시하기 위한 것이며, 이에 의하여 본 명세서의 범위가 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present specification will be described in more detail through examples. However, the following examples are for illustrating the present specification, and the scope of the present specification is not limited thereby.

실시예 1. Example 1.

조성물 총 중량 대비 구형 고무 탄성체(L/T: 3 미만)가 10wt% 포함된 폴리메틸메타크릴레이트 수지를 압출하여 원단 시트(sheet)를 제작하였다. 그 후, 유리전이온도인 115℃보다 10℃ 높은 125℃에서 MD 방향으로 1.8배 연신 후 동일한 온도에서 TD 방향으로 2.56배 연신하여 광학 필름을 제조하였다.A fabric sheet was prepared by extruding a polymethyl methacrylate resin containing 10 wt% of a spherical rubber elastomer (L/T: less than 3) based on the total weight of the composition. Thereafter, an optical film was prepared by stretching 1.8 times in the MD direction at 125°C, which is 10°C higher than the glass transition temperature, and stretching 2.56 times in the TD direction at the same temperature.

실시예 2.Example 2.

조성물 총 중량 대비 구형 고무 탄성체(L/T: 3 미만)가 10wt% 포함된 폴리메틸메타크릴레이트 수지를 압출하여 원단 시트(sheet)를 제작하였다. 그 후, 유리전이온도인 115℃보다 15℃ 높은 130℃에서 MD 방향으로 1.8배 연신 후 동일한 온도에서 TD 방향으로 2.9배 연신하여 광학 필름을 제조하였다.A fabric sheet was prepared by extruding a polymethyl methacrylate resin containing 10 wt% of a spherical rubber elastomer (L/T: less than 3) based on the total weight of the composition. Thereafter, an optical film was prepared by stretching 1.8 times in the MD direction at 130°C, which is 15°C higher than the glass transition temperature, and then stretching 2.9 times in the TD direction at the same temperature.

실시예 3.Example 3.

조성물 총 중량 대비 구형 고무 탄성체(L/T: 3 미만)가 5wt% 포함된 폴리메틸메타크릴레이트 수지를 압출하여 원단 시트(sheet)를 제작하였다. 그 후, 유리전이온도인 115℃보다 10℃ 높은 125℃에서 MD 방향으로 1.8배 연신 후 동일한 온도에서 TD 방향으로 2.56배 연신하여 광학 필름을 제조하였다.A fabric sheet was prepared by extruding a polymethyl methacrylate resin containing 5 wt% of a spherical rubber elastomer (L/T: less than 3) based on the total weight of the composition. Thereafter, an optical film was prepared by stretching 1.8 times in the MD direction at 125°C, which is 10°C higher than the glass transition temperature, and stretching 2.56 times in the TD direction at the same temperature.

실시예 4.Example 4.

조성물 총 중량 대비 구형 고무 탄성체(L/T: 3 미만)가 15wt% 포함된 폴리메틸메타크릴레이트 수지를 압출하여 원단 시트(sheet)를 제작하였다. 그 후, 유리전이온도인 115℃보다 20℃ 높은 135℃에서 MD 방향으로 1.8배 연신 후 동일한 온도에서 TD 방향으로 2.9배 연신하여 광학 필름을 제조하였다.A fabric sheet was prepared by extruding a polymethyl methacrylate resin containing 15 wt% of a spherical rubber elastomer (L/T: less than 3) based on the total weight of the composition. Thereafter, an optical film was prepared by stretching 1.8 times in the MD direction at 135°C, 20°C higher than the glass transition temperature of 115°C, and then stretching 2.9 times in the TD direction at the same temperature.

실시예 5Example 5

조성물 총 중량 대비 구형 고무 탄성체(L/T: 3 미만)가 10wt% 포함된 폴리메틸메타크릴레이트 수지에 UV 조절제(LA-F70, ADEKA社)를 0.55phr를 첨가하고 압출하여 원단 시트(sheet)를 제작하였다. 그 후, 유리전이온도인 115℃보다 10℃ 높은 125℃에서 MD 방향으로 1.8배 연신 후 동일한 온도에서 TD 방향으로 2.56배 연신하여 약 60μm의 광학 필름을 제조하였다.A fabric sheet by adding 0.55 phr of a UV modifier (LA-F70, ADEKA) to a polymethyl methacrylate resin containing 10 wt% of a spherical rubber elastomer (L/T: less than 3) relative to the total weight of the composition and extruding Was produced. Thereafter, the glass transition temperature was stretched 1.8 times in the MD direction at 125°C, 10°C higher than the glass transition temperature, and then 2.56 times stretched in the TD direction at the same temperature to prepare an optical film of about 60 μm.

비교예 1.Comparative Example 1.

조성물 총 중량 대비 구형 고무 탄성체(L/T: 3 미만)가 10wt% 포함된 폴리메틸메타크릴레이트 수지를 압출하여 원단 시트(sheet)를 제작하였다. 그 후, 유리전이온도인 115℃보다 20℃ 높은 135℃에서 MD 방향으로 1.8배 연신 후 동일한 온도에서 TD 방향으로 2.56배 연신하여 광학 필름을 제조하였다.A fabric sheet was prepared by extruding a polymethyl methacrylate resin containing 10 wt% of a spherical rubber elastomer (L/T: less than 3) based on the total weight of the composition. Thereafter, an optical film was prepared by stretching 1.8 times in the MD direction at 135°C, 20°C higher than the glass transition temperature of 115°C, and stretching 2.56 times in the TD direction at the same temperature.

비교예 2.Comparative Example 2.

조성물 총 중량 대비 구형 고무 탄성체(L/T: 3 미만)가 10wt% 포함된 폴리메틸메타크릴레이트 수지를 압출하여 원단 시트(sheet)를 제작하였다. 그 후, 유리전이온도인 115℃보다 15℃ 높은 130℃에서 MD 방향으로 1.8배 연신 후 동일한 온도에서 TD 방향으로 2.56배 연신하여 광학 필름을 제조하였다.A fabric sheet was prepared by extruding a polymethyl methacrylate resin containing 10 wt% of a spherical rubber elastomer (L/T: less than 3) based on the total weight of the composition. Thereafter, an optical film was prepared by stretching 1.8 times in the MD direction at 130°C, which is 15°C higher than the glass transition temperature, and stretching 2.56 times in the TD direction at the same temperature.

비교예 3.Comparative Example 3.

조성물 총 중량 대비 구형 고무 탄성체(L/T: 3 미만)가 5wt% 포함된 폴리메틸메타크릴레이트 수지를 압출하여 원단 시트(sheet)를 제작하였다. 그 후, 유리전이온도인 115℃보다 20℃ 높은 135℃에서 MD 방향으로 1.8배 연신 후 동일한 온도에서 TD 방향으로 2.56배 연신하여 광학 필름을 제조하였다.A fabric sheet was prepared by extruding a polymethyl methacrylate resin containing 5 wt% of a spherical rubber elastomer (L/T: less than 3) based on the total weight of the composition. Thereafter, an optical film was prepared by stretching 1.8 times in the MD direction at 135°C, 20°C higher than the glass transition temperature of 115°C, and stretching 2.56 times in the TD direction at the same temperature.

비교예 4.Comparative Example 4.

조성물 총 중량 대비 구형 고무 탄성체(L/T: 3 미만)가 15wt% 포함된 폴리메틸메타크릴레이트 수지를 압출하여 원단 시트(sheet)를 제작하였다. 그 후, 유리전이온도인 115℃보다 20℃ 높은 135℃에서 MD 방향으로 1.8배 연신 후 동일한 온도에서 TD 방향으로 2.56배 연신하여 광학 필름을 제조하였다.A fabric sheet was prepared by extruding a polymethyl methacrylate resin containing 15 wt% of a spherical rubber elastomer (L/T: less than 3) based on the total weight of the composition. Thereafter, an optical film was prepared by stretching 1.8 times in the MD direction at 135°C, 20°C higher than the glass transition temperature of 115°C, and stretching 2.56 times in the TD direction at the same temperature.

비교예 5. Comparative Example 5 .

고무 탄성체가 포함되지 않은 폴리메틸메타크릴레이트 수지를 압출하여 원단 시트(sheet)를 제작하였다. 그 후, 유리전이온도인 115℃보다 15℃ 높은 130℃에서 MD 방향으로 1.8배 연신 후 동일한 온도에서 TD 방향으로 2.56배 연신하여 광학 필름을 제조하였다.A raw sheet was prepared by extruding a polymethyl methacrylate resin containing no rubber elastic body. Thereafter, an optical film was prepared by stretching 1.8 times in the MD direction at 130°C, which is 15°C higher than the glass transition temperature, and stretching 2.56 times in the TD direction at the same temperature.

비교예 6. Comparative Example 6.

고무 탄성체가 포함되지 않은 폴리메틸메타크릴레이트 수지를 압출하여 원단 시트(sheet)를 제작하였다. 그 후, 유리전이온도인 115℃보다 15℃ 높은 130℃에서 MD 방향으로 1.8배 연신 후 동일한 온도에서 TD 방향으로 2.9배 연신하여 광학 필름을 제조하였다.A raw sheet was prepared by extruding a polymethyl methacrylate resin containing no rubber elastic body. Thereafter, an optical film was prepared by stretching 1.8 times in the MD direction at 130°C, which is 15°C higher than the glass transition temperature, and then stretching 2.9 times in the TD direction at the same temperature.

실험예 1. 충격에너지 측정Experimental Example 1. Measurement of impact energy

실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 6에서 제조된 광학 필름을 10cm x 10cm의 샘플로 제작하고, 샘플을 58cm2의 원형의 구멍이 뚫려있는 금속 판 사이에 고정시킨 후 36g 금속 볼(ball)을 일정 높이에서 자유 낙하 시켜 필름이 파괴되지 않는 최대 높이에서의 위치에너지를 필름의 부피로 나누어 단위 부피당 에너지로 계산하여 충격 에너지를 측정하였다. The optical films prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 6 were prepared as samples of 10 cm x 10 cm, and the samples were fixed between metal plates with a circular hole of 58 cm 2 and then 36 g metal balls The impact energy was measured by dividing the potential energy at the maximum height at which the film was not destroyed by free falling at a certain height by the volume of the film and calculated as energy per unit volume.

실험예 2. 투과도 측정Experimental Example 2. Measurement of transmittance

HITACHI 社의 U-3310 Spectrophotometer를 Scan Speed를 600nm/min으로 하여 200~850nm 파장까지 측정을 한 후 UV영역인 380nm와 가시광선 영역인 550nm에서의 투과도를 측정하였다.HITACHI's U-3310 Spectrophotometer was used with a scan speed of 600 nm/min to measure the wavelength from 200 to 850 nm, and then the transmittance in the UV region of 380 nm and the visible region of 550 nm.

상기 실시예 1 내지 5에서 제조된 광학 필름의 특성 평가 결과를 하기 표 1에, 비교예 1 내지 6에서 제조된 광학 필름의 특성 평가 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The evaluation results of the properties of the optical films prepared in Examples 1 to 5 are shown in Table 1 below, and the evaluation results of the optical films prepared in Comparative Examples 1 to 6 are shown in Table 2 below.

실시예
1
Example
One
실시예
2
Example
2
실시예
3
Example
3
실시예
4
Example
4
실시예
5
Example
5
수지 조성Resin composition 폴리메틸메타크릴레이트
(wt%)
Polymethyl methacrylate
(wt%)
9090 9090 9595 8585 9090
고무 탄성체
(wt%)
Rubber elastomer
(wt%)
1010 1010 55 1515 1010
UV 흡수제
(phr)
UV absorber
(phr)
-- -- -- -- 0.550.55
유리전이 온도(℃)Glass transition temperature (℃) 115115 115115 115115 115115 115115 연신 조건Stretching conditions MD 연신비 (배)MD draw ratio (times) 1.81.8 1.81.8 1.81.8 1.81.8 1.81.8 TD 연신비 (배)TD draw ratio (times) 2.562.56 2.92.9 2.562.56 2.92.9 2.562.56 연신 온도 (℃)Stretching temperature (℃) Tg+10Tg+10 Tg+15Tg+15 Tg+10Tg+10 Tg+20Tg+20 Tg+10Tg+10 Rin/Rth (nm)R in /R th (nm) 2/232/23 3/263/26 2/182/18 3/293/29 2/232/23 필름 물성Film properties 충격 에너지
(kN·m/m3)
Impact energy
(kN m/m 3 )
10501050 10151015 714714 988988 10501050
고무탄성체의
L/T
Of rubber elastomer
L/T
4.94.9 4.54.5 4.34.3 4.14.1 4.94.9
380nm에서의 투과도
(%)
Transmittance at 380nm
(%)
9393 9393 9393 9393 44
550nm에서의 투과도
(%)
Transmittance at 550nm
(%)
9393 9393 9393 9393 9393

비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 비교예 4Comparative Example 4 비교예
5
Comparative example
5
비교예
6
Comparative example
6
수지 조성
(wt%)
Resin composition
(wt%)
폴리메틸메타크릴레이트Polymethyl methacrylate 9090 9090 9595 8585 100100 100100
고무 탄성체Rubber elastomer 1010 1010 55 1515 -- -- 유리전이 온도(℃)Glass transition temperature (℃) 115115 115115 115115 115115 115115 115115 연신 조건Stretching conditions MD 연신비 (배)MD draw ratio (times) 1.81.8 1.81.8 1.81.8 1.81.8 1.81.8 1.81.8 TD 연신비 (배)TD draw ratio (times) 2.562.56 2.562.56 2.562.56 2.562.56 2.562.56 2.92.9 연신 온도 (℃)Stretching temperature (℃) Tg
+20
Tg
+20
Tg
+15
Tg
+15
Tg
+20
Tg
+20
Tg
+20
Tg
+20
Tg
+15
Tg
+15
Tg
+15
Tg
+15
Re/Rth (nm)R e /R th (nm) 2/172/17 2/192/19 2/132/13 2/222/22 2/112/11 3/143/14 필름 물성Film properties 충격 에너지
(kN·m/m3)
Impact energy
(kN m/m 3 )
591591 832832 384384 776776 402402 483483
고무탄성체의
L/T
Of rubber elastomer
L/T
1One 1.21.2 1One 1One -- --
380nm에서의 투과도
(%)
Transmittance at 380nm
(%)
9393 9393 9393 9393 9393 9393
550nm에서의 투과도
(%)
Transmittance at 550nm
(%)
9393 9393 9393 9393 9393 9393

상기 표 1 및 표 2에 기재된 고무탄성체의 L/T로부터, 실시예 1 내지 5는 적절한 연신 조건으로 인하여 고무탄성체가 타원형으로 변경된 것을 확인할 수 있다. 반면에, 비교예 1 내지 6에서 제조된 고무탄성체는 L/T가 3 미만을 나타냄으로써, 연신 조건이 상이해짐에 따라 고무탄성체가 타원형을 나타내지 않는 것을 확인할 수 있다. From the L/T of the rubber elastomers described in Tables 1 and 2, it can be seen that in Examples 1 to 5, the rubber elastomers were changed to an elliptical shape due to appropriate stretching conditions. On the other hand, since the rubber elastomers prepared in Comparative Examples 1 to 6 had an L/T of less than 3, it can be confirmed that the rubber elastomers did not exhibit an elliptical shape as the stretching conditions were different.

또한, 고무탄성체가 타원형으로 변경된 실시예 1 내지 5에서 제조된 광학 필름의 경우, 충격 에너지가 600 kN·m/m3 이상을 나타내는 것에 비하여, 고무탄성체를 첨가하지 않은 비교예 5 및 6의 경우, 제조된 광학 필름의 경우, 충격 에너지가 600 kN·m/m3 미만을 나타내는 것을 확인할 수 있다. 또한, 고무 탄성체가 타원형으로 변형되지 않은 비교예 1 내지 4의 경우, 실시예에 비하여 충격 에너지가 감소하는 것을 확인할 수 있다.In addition, in the case of the optical films prepared in Examples 1 to 5 in which the rubber elastomer was changed to an elliptical shape, the impact energy was 600 kN m/m 3 or more, whereas in Comparative Examples 5 and 6 in which the rubber elastomer was not added , In the case of the manufactured optical film, it can be seen that the impact energy is less than 600 kN·m/m 3 . In addition, in the case of Comparative Examples 1 to 4 in which the rubber elastic body is not deformed into an elliptical shape, it can be seen that the impact energy is reduced compared to the Example.

한편, UV 흡수제를 첨가한 실시예 5의 경우, 380nm에서의 투과도가 4%를 나타내는 것을 확인할 수 있다.On the other hand, in the case of Example 5 to which the UV absorber was added, it can be seen that the transmittance at 380 nm is 4%.

도 2는 실시예 2에서 제조된 광학 필름의 SEM 측정 결과를 나타내었다. 도 3은 비교예 2에서 제조된 광학 필름의 SEM 측정 결과를 나타내었다. 도 2 및 도 3에 따르면, 실시예 2에서 제조된 광학 필름에 포함된 고무 탄성체는 타원형으로 변경된 것에 비하여, 비교예 2에서 제조된 광학 필름에 포함된 고무 탄성체는 구형을 유지하고 있는 것을 확인할 수 있다. 2 shows the SEM measurement results of the optical film prepared in Example 2. 3 shows SEM measurement results of the optical film prepared in Comparative Example 2. 2 and 3, it can be seen that the rubber elastic body included in the optical film prepared in Example 2 was changed to an elliptical shape, whereas the rubber elastic body included in the optical film prepared in Comparative Example 2 maintained a spherical shape. have.

10: 광학 필름
20: 편광자
10: optical film
20: polarizer

Claims (11)

수지 조성물을 이용하여 필름 형태로 제조하는 단계; 및
상기 필름을 이축 연신하는 단계를 포함하는 편광자 보호 필름 제조방법에 있어서,
상기 수지 조성물은 (메타)아크릴계 수지; 및 구형 고무 탄성체를 포함하고,
상기 연신은 수지 조성물의 유리전이온도보다 5℃ 이상 15℃ 미만의 온도에서, TD로 2.4배 내지 2.7배, MD로 1.5배 내지 4배 연신 배율로 수행되거나, 수지 조성물의 유리전이온도보다 15℃ 이상의 온도에서, TD로 2.7배 초과 4배 이하, MD로 1.5배 내지 4배 연신 배율로 수행되어, 구형 고무 탄성체를 단면적의 장경(L)과 단경(T)의 비율(L/T)이 3 이상 8 이하인 타원형 고무 탄성체로 변경하는 단계를 포함하여,
상기 편광자 보호 필름이 타원형 고무 탄성체를 포함하는 것인 편광자 보호 필름의 제조방법.
Preparing a film using a resin composition; And
In the polarizer protective film manufacturing method comprising the step of biaxially stretching the film,
The resin composition is a (meth)acrylic resin; And a spherical rubber elastomer,
The stretching is performed at a temperature of 5° C. or more and less than 15° C. than the glass transition temperature of the resin composition, 2.4 to 2.7 times TD, 1.5 to 4 times MD, or 15° C. than the glass transition temperature of the resin composition At the above temperature, TD is more than 2.7 times and less than 4 times and MD is performed at a stretching ratio of 1.5 to 4 times, and the ratio (L/T) of the long diameter (L) and the short diameter (T) of the cross-sectional area to the spherical rubber elastic body is 3 Including the step of changing to an elliptical rubber elastomer having more than 8 or less,
The method of manufacturing a polarizer protective film wherein the polarizer protective film includes an elliptical rubber elastic body.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 수지 조성물은 고무 탄성체를 수지 조성물 총 중량 기준으로 5wt% 내지 15wt% 포함하는 것인 편광자 보호 필름의 제조방법.
The method according to claim 1,
The resin composition is a method of manufacturing a polarizer protective film containing 5wt% to 15wt% of a rubber elastic body based on the total weight of the resin composition.
청구항 1의 제조방법으로 제조된 편광자 보호 필름.A polarizer protective film manufactured by the manufacturing method of claim 1. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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