KR102147390B1 - Antenna laminate and image display device including the same - Google Patents

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KR102147390B1
KR102147390B1 KR1020190121583A KR20190121583A KR102147390B1 KR 102147390 B1 KR102147390 B1 KR 102147390B1 KR 1020190121583 A KR1020190121583 A KR 1020190121583A KR 20190121583 A KR20190121583 A KR 20190121583A KR 102147390 B1 KR102147390 B1 KR 102147390B1
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electrode
antenna
ground
dielectric layer
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KR1020190121583A
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오윤석
이영준
허윤호
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동우 화인켐 주식회사
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    • H01Q1/36Structural form of radiating elements, e.g. cone, spiral, umbrella; Particular materials used therewith
    • H01Q1/38Structural form of radiating elements, e.g. cone, spiral, umbrella; Particular materials used therewith formed by a conductive layer on an insulating support
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    • G06F3/044Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means

Abstract

Embodiments of the present invention provide an antenna laminate, in which a first dielectric layer and an antenna electrode layer are disposed on a first ground layer, and a second dielectric layer and a second ground layer are disposed under the first ground layer. The first ground layer and the second ground layer may form a ground composite so as to improve signal characteristics of an antenna.

Description

안테나 적층체 및 이를 포함하는 화상 표시 장치{ANTENNA LAMINATE AND IMAGE DISPLAY DEVICE INCLUDING THE SAME}An antenna stack and an image display device including the same TECHNICAL FIELD

본 발명은 안테나 적층체 및 이를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 안테나 전극층 및 그라운드 층을 포함하는 안테나 적층체 및 이를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an antenna stack and an image display device including the same. More particularly, it relates to an antenna stack including an antenna electrode layer and a ground layer, and an image display device including the same.

최근 정보화 사회가 발전함에 따라 와이 파이(Wi-Fi), 블루투스(Bluetooth) 등과 같은 무선 통신 기술이 화상 표시 장치와 결합되어, 예를 들면 스마트폰 형태로 구현되고 있다. 이 경우, 안테나가 상기 화상 표시 장치에 결합되어 통신 기능이 수행될 수 있다.With the recent development of the information society, wireless communication technologies such as Wi-Fi and Bluetooth are combined with an image display device and implemented in the form of, for example, a smartphone. In this case, an antenna may be coupled to the image display device to perform a communication function.

최근 이동통신 기술이 진화하면서, 예를 들면, 3G 내지 5G에 해당하는 초고주파 대역의 통신을 수행하기 위한 안테나가 상기 화상 표시 장치에 결합될 필요가 있다. With the recent evolution of mobile communication technology, an antenna for performing communication in an ultra-high frequency band corresponding to, for example, 3G to 5G needs to be coupled to the image display device.

한편, 화면에 나타난 지시 내용을 사람의 손 또는 물체로 선택하여 사용자의 명령을 입력할 수 있도록 한 입력장치인 터치 패널 또는 터치 센서가 화상 표시 장치와 결합되어 화상 표시 기능 및 정보 입력 기능이 함께 구현된 전자 기기들이 개발되고 있다. 예를 들면, 한국공개특허 제2014-0092366호에서와 같이 다양한 화상 표시 장치에 터치 센서가 결합된 터치 스크린 패널이 개발되고 있다.On the other hand, a touch panel or a touch sensor, which is an input device that allows the user's command to be input by selecting the instruction content displayed on the screen with a person's hand or object, is combined with the image display device to implement both an image display function and an information input function. Electronic devices are being developed. For example, as in Korean Patent Publication No. 2014-0092366, a touch screen panel in which a touch sensor is combined with various image display devices has been developed.

하나의 화상 표시 장치 내에 안테나 및 터치 센서를 결합함에 따라 적절한 실장 공간 확보가 곤란할 수 있으며, 또한 상호 신호 간섭에 의해 안테나, 터치 센서 및 디스플레이 패널에서의 전기적 특성이 교란될 수도 있다.As the antenna and the touch sensor are combined in one image display device, it may be difficult to secure an appropriate mounting space, and electrical characteristics of the antenna, the touch sensor, and the display panel may be disturbed by mutual signal interference.

예를 들면, 한국공개특허 제2003-0095557호는 휴대용 단말기에 내장되는 안테나 구조를 개시하고 있으나, 터치 센서와 같은 다른 전기 소자와의 정합성을 고려하지 못하고 있다.For example, Korean Patent Application Publication No. 2003-0095557 discloses an antenna structure embedded in a portable terminal, but does not consider the compatibility with other electric devices such as a touch sensor.

한국 공개특허 제2014-0092366호Korean Patent Application Publication No. 2014-0092366 한국 공개특허 제2003-0095557호Korean Patent Application Publication No. 2003-0095557

본 발명의 일 과제는 향상된 구조 효율성 및 신호 효율성을 갖는 안테나 적층체를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide an antenna stack having improved structural efficiency and signal efficiency.

본 발명의 일 과제는 향상된 구조 효율성 및 동작 신뢰성을 갖는 화상 표시 장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide an image display device having improved structural efficiency and operational reliability.

1. 터치 센서 전극을 포함하는 제1 그라운드 층; 상기 제1 그라운드 층 상에 배치된 제1 유전층; 상기 제1 유전층 상에 배치되며 방사 전극을 포함하는 안테나 전극층; 상기 제1 그라운드 층 아래에 배치된 제2 그라운드 층; 및 상기 제1 그라운드 층 및 상기 제2 그라운드 층 사이에 배치된 제2 유전층을 포함하는, 안테나 적층체.1. A first ground layer including a touch sensor electrode; A first dielectric layer disposed on the first ground layer; An antenna electrode layer disposed on the first dielectric layer and including a radiation electrode; A second ground layer disposed under the first ground layer; And a second dielectric layer disposed between the first ground layer and the second ground layer.

2. 위 1에 있어서, 상기 터치 센서 전극은 투명 도전성 산화물을 포함하는, 안테나 적층체.2. In the above 1, wherein the touch sensor electrode comprises a transparent conductive oxide, the antenna laminate.

3. 위 1에 있어서, 상기 제2 그라운드 층은 저저항 그라운드 전극을 포함하며, 상기 저저항 그라운드 전극은 상기 안테나 전극층의 상기 방사 전극과 적어도 부분적으로 중첩된, 안테나 적층체.3. The antenna stack according to 1 above, wherein the second ground layer includes a low resistance ground electrode, and the low resistance ground electrode at least partially overlaps the radiation electrode of the antenna electrode layer.

4. 위 1에 있어서, 상기 저저항 그라운드 전극은 상기 방사 전극과 전체적으로 중첩된, 안테나 적층체.4. The antenna stack according to the above 1, wherein the low-resistance ground electrode is entirely overlapped with the radiation electrode.

5. 위 1에 있어서, 상기 안테나 전극층은 상기 방사 전극으로부터 분기되는 전송 선로 및 상기 전송 선로의 일단부에 연결된 신호 패드를 더 포함하는, 안테나 적층체.5. The antenna stack according to the above 1, wherein the antenna electrode layer further includes a transmission line branched from the radiation electrode and a signal pad connected to one end of the transmission line.

6. 위 5에 있어서, 상기 신호 패드 주변에서 상기 신호 패드 및 상기 전송 선로와 전기적으로 분리된 그라운드 패드를 더 포함하는, 안테나 적층체.6. The antenna stack according to the above 5, further comprising a ground pad electrically separated from the signal pad and the transmission line around the signal pad.

7. 위 1에 있어서, 상기 제2 그라운드 층은 상기 제1 그라운드 층보다 저항이 낮은 금속을 포함하는, 안테나 적층체.7. The antenna stack according to 1 above, wherein the second ground layer includes a metal having a lower resistance than the first ground layer.

8. 위 1에 있어서, 상기 제2 유전층의 두께는 1 내지 500㎛인, 안테나 적층체.8. In the above 1, the thickness of the second dielectric layer is 1 to 500㎛, the antenna laminate.

9. 위 1에 있어서, 상기 제1 유전층의 두께는 200㎛이상인, 안테나 적층체.9. The antenna stack according to the above 1, wherein the thickness of the first dielectric layer is 200 μm or more.

10. 위 1에 있어서, 상기 안테나 전극층은 메쉬 구조를 포함하는, 안테나 적층체.10. The antenna stack according to the above 1, wherein the antenna electrode layer includes a mesh structure.

11. 위 1에 있어서, 상기 제1 유전층은 점접착층을 포함하는, 안테나 적층체.11. The antenna stack according to the above 1, wherein the first dielectric layer includes an adhesive layer.

12. 위 1에 있어서, 상기 안테나 전극층 및 상기 제1 유전층 사이에 배치된 제1 점접착층, 및 상기 제1 유전층 및 상기 제1 그라운드 층 사이에 배치된 제2 점접착층을 더 포함하는, 안테나 적층체.12. The antenna stack according to the above 1, further comprising a first adhesive layer disposed between the antenna electrode layer and the first dielectric layer, and a second adhesive layer disposed between the first dielectric layer and the first ground layer sieve.

13. 위 1 내지 12 중 어느 하나의 안테나 적층체; 및 전극 구조체 및 상기 전극 구조체 상에 형성된 인캡슐레이션 층을 포함하는 표시 패널을 포함하며, 상기 전극 구조체는 상기 안테나 적층체의 상기 제2 그라운드 층으로 제공되고, 상기 인캡슐레이션 층은 상기 제2 유전층으로 제공되는, 화상 표시 장치.13. The antenna stack of any one of 1 to 12 above; And a display panel including an electrode structure and an encapsulation layer formed on the electrode structure, wherein the electrode structure is provided as the second ground layer of the antenna stack, and the encapsulation layer is the second An image display device provided as a dielectric layer.

본 발명의 실시예들에 따른 안테나 적층체는 안테나 전극층, 제1 그라운드 층 및 제2 그라운드 층이 제1 유전층 및 제2 유전층을 각각 사이에 두고 배치될 수 있다. 제2 그라운드 층이 제1 그라운드 층과 함께 그라운드 복합체를 형성하여, 안테나의 신호 특성(안테나 게인 및 효율)을 향상시킬 수 있다.In the antenna stack according to embodiments of the present invention, the antenna electrode layer, the first ground layer, and the second ground layer may be disposed with the first dielectric layer and the second dielectric layer interposed therebetween. The second ground layer forms a ground complex together with the first ground layer, thereby improving signal characteristics (antenna gain and efficiency) of the antenna.

예시적인 실시예들에 따르면, 상기 제1 그라운드층은 터치 센서 전극을 포함할 수 있다. 이 경우, 안테나 적층체는 안테나와 터치 센서의 기능을 동시에 수행할 수 있다. 따라서, 공간 활용성을 향상시키고 박막화 요구를 달성할 수 있다.According to example embodiments, the first ground layer may include a touch sensor electrode. In this case, the antenna stack can simultaneously perform the functions of the antenna and the touch sensor. Therefore, it is possible to improve the space utilization and achieve the thin film requirements.

예시적인 실시예들에 따르면, 상기 터치 센서 전극은 투명 도전성 산화물을 포함할 수 있다. 따라서, 안테나 적층체가 화상 표시 장치에 적층될 때 화상의 시인성이 개선될 수 있다.According to example embodiments, the touch sensor electrode may include a transparent conductive oxide. Accordingly, when the antenna stack is stacked on the image display device, the visibility of the image can be improved.

예시적인 실시예들에 따르면, 상기 제2 그라운드 층은 상기 제1 그라운드 층보다 저항이 낮은 금속을 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 제2 그라운드 층은 상기 제1 그라운드 층의 그라운드 층으로서의 성능을 보충 및 향상시킬 수 있다. 따라서, 안테나의 신호 특성이 향상될 수 있다.According to example embodiments, the second ground layer may include a metal having a lower resistance than the first ground layer. In this case, the second ground layer may supplement and improve the performance of the first ground layer as a ground layer. Therefore, the signal characteristics of the antenna can be improved.

예시적신 실시예들에 따르면, 상기 안테나 전극층은 메쉬 구조를 포함할 수 있다. 따라서, 안테나 적층체가 디스플레이 패널 상에 배치될 때, 화상의 시인성 악화를 방지할 수 있다.According to exemplary embodiments, the antenna electrode layer may include a mesh structure. Therefore, when the antenna stack is disposed on the display panel, it is possible to prevent deterioration in visibility of the image.

도 1은 예시적인 실시예들에 따른 안테나 적층체를 나타내는 개략적인 단면도이다.
도 2 및 도 3은 일부 실시예들에 따른 터치 센서 전극을 나타내는 개략적인 평면도 및 단면도이다.
도 4 및 도 5는 일부 실시예들에 따른 안테나 전극층을 나타내는 개략적인 평면도이다.
도 6은 예시적인 실시예들에 따른 안테나 적층체를 나타내는 개략적인 평면도이다.
도 7 예시적인 실시예들에 따른 화상 표시 장치를 나타내는 개략적인 단면도이다.
1 is a schematic cross-sectional view illustrating an antenna stack according to exemplary embodiments.
2 and 3 are schematic plan and cross-sectional views illustrating touch sensor electrodes according to some embodiments.
4 and 5 are schematic plan views illustrating an antenna electrode layer according to some embodiments.
6 is a schematic plan view illustrating an antenna stack according to exemplary embodiments.
7 is a schematic cross-sectional view illustrating an image display device according to exemplary embodiments.

본 발명의 실시예들은 제1 그라운드 층 상에 제1 유전층 및 안테나 전극층이 배치되며, 제1 그라운드 층 아래에 제2 유전층 및 제2 그라운드 층이 배치된 안테나 적층체 및 이를 포함하는 화상 표시 장치를 제공한다. 제1 그라운드 층 및 제2 그라운드 층이 그라운드 복합체를 형성하여 안테나의 신호 특성을 향상시킬 수 있다.Embodiments of the present invention provide an antenna stack in which a first dielectric layer and an antenna electrode layer are disposed on a first ground layer, and a second dielectric layer and a second ground layer are disposed under the first ground layer, and an image display device including the same. to provide. The first ground layer and the second ground layer may form a ground composite to improve signal characteristics of the antenna.

이하 도면을 참고하여, 본 발명의 실시예들을 보다 구체적으로 설명하도록 한다. 다만, 본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 전술한 발명의 내용과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. However, the following drawings attached to the present specification illustrate preferred embodiments of the present invention, and serve to further understand the technical idea of the present invention together with the contents of the present invention, so the present invention is described in such drawings. It is limited to matters and should not be interpreted.

도 1은 예시적인 실시예들에 따른 안테나 적층체를 나타내는 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view illustrating an antenna stack according to exemplary embodiments.

도 1을 참조하면, 상기 안테나 적층체는 제1 그라운드 층(100) 제1 유전층(290), 안테나 전극층(300), 제2 유전층(190) 및 제2 그라운드 층(100)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, the antenna stack may include a first ground layer 100, a first dielectric layer 290, an antenna electrode layer 300, a second dielectric layer 190, and a second ground layer 100. .

제1 그라운드 층(200)은 제1 유전층(290)을 사이에 두고 안테나 전극층(300)과 커플링(coupling)되어 정전용량(capacitance) 또는 인덕턴스(inductance)를 형성할 수 있다. 이 경우, 수직 방사 특성이 구현될 수 있다.The first ground layer 200 may be coupled with the antenna electrode layer 300 with the first dielectric layer 290 interposed therebetween to form a capacitance or inductance. In this case, the vertical radiation characteristic can be implemented.

제1 그라운드 층(200)은 예를 들면, 소정의 도전성을 갖는 금속, 금속 합금 또는 금속 산화물을 포함할 수 있다.The first ground layer 200 may include, for example, a metal, a metal alloy, or a metal oxide having a predetermined conductivity.

제1 유전층(290)은 제1 그라운드 층(200) 상에 배치될 수 있다. 예를 들면, 제1 유전층(290)은 제1 그라운드 층(200)과 접촉하거나, 제1 유전층(290)과 제1 그라운드 층(200) 사이에 다른 부재가 개재될 수 있다.The first dielectric layer 290 may be disposed on the first ground layer 200. For example, the first dielectric layer 290 may contact the first ground layer 200, or another member may be interposed between the first dielectric layer 290 and the first ground layer 200.

제1 유전층(290)은 예를 들면, 투명 수지 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 제1 유전층(290)은 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리에틸(메타)아크릴레이트 등의 아크릴계 수지; 폴리스티렌, 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체 등의 스티렌계 수지; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로계 또는 노보넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌-프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀계 수지; 염화비닐계 수지; 나일론, 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 수지; 이미드계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 술폰계 수지; 폴리에테르에테르케톤계 수지; 황화 폴리페닐렌계 수지; 비닐알코올계 수지; 염화비닐리덴계 수지; 비닐부티랄계 수지; 알릴레이트계 수지; 폴리옥시메틸렌계 수지; 에폭시계 수지 등의 열가소성 수지를 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다. The first dielectric layer 290 may include, for example, a transparent resin material. For example, the first dielectric layer 290 may include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polyethylene naphthalate, and polybutylene terephthalate; Cellulose resins such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose; Polycarbonate resin; Acrylic resins such as polymethyl (meth)acrylate and polyethyl (meth)acrylate; Styrene resins such as polystyrene and acrylonitrile-styrene copolymer; Polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polyolefin having a cyclo-based or norbornene structure, and ethylene-propylene copolymer; Vinyl chloride resin; Amide resins such as nylon and aromatic polyamide; Imide resin; Polyethersulfone resin; Sulfone resin; Polyether ether ketone resin; Sulfide polyphenylene resin; Vinyl alcohol resin; Vinylidene chloride resin; Vinyl butyral resin; Allylate resin; Polyoxymethylene resin; It may contain a thermoplastic resin such as an epoxy resin. These may be used alone or in combination of two or more.

또한, (메타)아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화성 수지 또는 자외선 경화형 수지로 된 투명 필름이 제1 유전층(290)으로 활용될 수도 있다.In addition, a transparent film made of a thermosetting resin such as (meth)acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy, silicone, or an ultraviolet curable resin may be used as the first dielectric layer 290.

일부 실시예들에 있어서, 또한, 광학 투명 점착제(Optically clear Adhesive: OCA), 광학 투명 수지(Optically Clear Resin: OCR) 등과 같은 점접착층이 제1 유전층(290)에 포함될 수 있다.In some embodiments, an adhesive layer such as an optically clear adhesive (OCA) or an optically clear resin (OCR) may be included in the first dielectric layer 290.

일부 실시예들에 있어서, 제1 유전층(290)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 실리콘 산질화물, 글래스 등과 같은 무기 절연 물질을 포함할 수 있다. In some embodiments, the first dielectric layer 290 may include an inorganic insulating material such as silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, glass, or the like.

일 실시예에 있어서, 제1 유전층(290)은 실질적으로 단일 층으로 제공될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 제1 유전층(290)은 적어도 2층 이상의 복층 구조를 포함할 수도 있다.In one embodiment, the first dielectric layer 290 may be provided as a substantially single layer. In an embodiment, the first dielectric layer 290 may include at least two or more layers of a multilayer structure.

제1 유전층(290)에 의해 안테나 전극층(300) 및/또는 제1 그라운드 층(200) 사이에서 정전용량(capacitance) 또는 인덕턴스(inductance)가 형성되어, 상기 안테나 구조체가 구동 혹은 센싱할 수 있는 주파수 대역이 조절될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 제1 유전층(290)의 유전율은 약 2 내지 12 범위로 조절될 수 있다. 상기 유전율이 약 12를 초과하는 경우, 구동 주파수가 지나치게 감소하여, 원하는 고주파 대역에서의 구동이 구현되지 않을 수 있다.Capacitance or inductance is formed between the antenna electrode layer 300 and/or the first ground layer 200 by the first dielectric layer 290, and the frequency at which the antenna structure can be driven or sensed The band can be adjusted. In some embodiments, the dielectric constant of the first dielectric layer 290 may be adjusted in the range of about 2 to 12. When the dielectric constant exceeds about 12, the driving frequency is excessively reduced, so that driving in a desired high frequency band may not be implemented.

예시적인 실시예들에 있어서, 제1 유전층(290)의 두께는 200㎛ 이상일 수 있다. 제1 유전층(290)의 두께가 200㎛ 미만일 경우, 안테나 전극층(300)과 제1 그라운드 층(200) 사이의 거리가 과도하게 가까울 수 있다. 이 경우, 안테나의 게인 및 효율이 감소할 수 있다. 바람직하게는 제1 유전층(290)의 두께는 300㎛ 이상일 수 있다. 이 경우, 안테나의 게인 및 효율이 각각 5dB 이상, 60% 이상으로 향상될 수 있다. 보다 바람직하게는, 제1 유전층(290)의 두께는 400㎛ 이상일 수 있다.In example embodiments, the thickness of the first dielectric layer 290 may be 200 μm or more. When the thickness of the first dielectric layer 290 is less than 200 μm, the distance between the antenna electrode layer 300 and the first ground layer 200 may be excessively close. In this case, the gain and efficiency of the antenna may decrease. Preferably, the thickness of the first dielectric layer 290 may be 300 μm or more. In this case, the gain and efficiency of the antenna can be improved to 5dB or more and 60% or more, respectively. More preferably, the thickness of the first dielectric layer 290 may be 400 μm or more.

안테나 전극층(300)은 제1 유전층(290) 상에 배치될 수 있다. 예를 들면, 안테나 전극층(300)은 제1 유전층(290)과 접촉하거나, 안테나 전극층(300)과 제1 유전층(290) 사이에 다른 부재가 개재될 수 있다.The antenna electrode layer 300 may be disposed on the first dielectric layer 290. For example, the antenna electrode layer 300 may contact the first dielectric layer 290, or another member may be interposed between the antenna electrode layer 300 and the first dielectric layer 290.

도 4는 일부 실시예들에 따른 안테나 전극층을 나타내는 개략적인 평면도이다.4 is a schematic plan view illustrating an antenna electrode layer according to some embodiments.

도 4를 참조하면, 안테나 전극층(300)은 방사 전극(312), 전송 선로(320) 및 패드(330)를 포함할 수 있다. 패드(330)는 신호 패드(332) 및 그라운드 패드(334)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 4, the antenna electrode layer 300 may include a radiation electrode 312, a transmission line 320, and a pad 330. The pad 330 may include a signal pad 332 and a ground pad 334.

방사 전극(312)은 예를 들면, 다각형 플레이트 형상을 가지며, 전송 선로(320)는 방사 전극(312)의 중앙부로부터 연장되어 신호 패드(332)와 전기적으로 연결될 수 있다. 전송 선로(320)는 방사 전극(312)과 실질적으로 일체의 단일 부재로서 형성될 수 있다.The radiation electrode 312 may have, for example, a polygonal plate shape, and the transmission line 320 may extend from the central portion of the radiation electrode 312 to be electrically connected to the signal pad 332. The transmission line 320 may be formed as a single member substantially integral with the radiation electrode 312.

일부 실시예들에 있어서, 신호 패드(332)를 사이에 두고 한 쌍의 그라운드 패드(334)들이 배치될 수 있다. 그라운드 패드(334)들은 신호 패드(332) 및 전송 선로(320)와 전기적으로 분리될 수 있다.In some embodiments, a pair of ground pads 334 may be disposed with the signal pad 332 interposed therebetween. The ground pads 334 may be electrically separated from the signal pad 332 and the transmission line 320.

안테나 전극층(300)은 제1 그라운드 층(200)과 상기 안테나 적층체의 두께 방향으로 중첩될 수 있다. 예를 들면, 안테나 전극층(300)의 방사 전극(312)은 제1 그라운드 층(200)에 포함된 전극 구조와 적어도 부분적으로 중첩될 수 있다. The antenna electrode layer 300 may overlap the first ground layer 200 in the thickness direction of the antenna stack. For example, the radiation electrode 312 of the antenna electrode layer 300 may at least partially overlap the electrode structure included in the first ground layer 200.

안테나 전극층(300)은 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 니오븀(Nb), 탄탈륨(Ta), 바나듐(V), 철(Fe), 망간(Mn), 코발트(Co), 니켈(Ni), 아연(Zn), 주석(Sn), 몰리브덴(Mo) 또는 이들의 합금을 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다. 예를 들면, 저저항 구현을 위해 은(Ag) 또는 은 합금이(예를 들면 은-팔라듐-구리(APC) 합금)이 사용될 수 있다.The antenna electrode layer 300 is silver (Ag), gold (Au), copper (Cu), aluminum (Al), platinum (Pt), palladium (Pd), chromium (Cr), titanium (Ti), tungsten (W). , Niobium (Nb), Tantalum (Ta), Vanadium (V), Iron (Fe), Manganese (Mn), Cobalt (Co), Nickel (Ni), Zinc (Zn), Tin (Sn), Molybdenum (Mo) Or it may include an alloy thereof. These may be used alone or in combination of two or more. For example, silver (Ag) or a silver alloy (for example, silver-palladium-copper (APC) alloy) may be used to implement low resistance.

일부 실시예들에 있어서, 상기 안테나 전극층은 인듐주석 산화물(ITO), 인듐아연 산화물(IZO), 인듐아연주석 산화물(ITZO), 아연 산화물(ZnOx)과 같은 투명 금속 산화물을 포함할 수도 있다.In some embodiments, the antenna electrode layer may include a transparent metal oxide such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium zinc tin oxide (ITZO), and zinc oxide (ZnOx).

도 5는 일부 실시예들에 따른 안테나 전극층을 나타내는 개략적인 평면도이다.5 is a schematic plan view illustrating an antenna electrode layer according to some embodiments.

도 5를 참조하면, 방사 전극(312)은 메쉬 구조를 포함할 수 있다. 이 경우, 방사 전극(312)의 투과율이 향상되며 상기 안테나 구조체가 디스플레이 장치에 실장되는 경우 방사 전극(312)이 사용자에게 시인되는 것을 억제할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 전송 선로(320) 역시 방사 전극(312)과 함께 패터닝되어 메쉬 구조를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 5, the radiation electrode 312 may include a mesh structure. In this case, the transmittance of the radiation electrode 312 is improved, and when the antenna structure is mounted on a display device, the radiation electrode 312 may be suppressed from being visually recognized by a user. In one embodiment, the transmission line 320 may also include a mesh structure by being patterned together with the radiation electrode 312.

일부 실시예들에 있어서, 메쉬 구조의 더미 패턴(345)이 방사 전극(312) 주변에 형성될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 방사 전극(312) 역시 더미 패턴(345)과 실질적으로 동일하거나 유사한 메쉬 구조를 포함할 수 있다.In some embodiments, a dummy pattern 345 having a mesh structure may be formed around the radiation electrode 312. In one embodiment, the radiation electrode 312 may also include a mesh structure that is substantially the same as or similar to the dummy pattern 345.

예를 들면, 방사 전극(312)의 테두리를 따라 형성된 분리 영역(340)에 의해 방사 전극(312) 및 더미 패턴(345)이 서로 분리 및 절연될 수 있다.For example, the radiation electrode 312 and the dummy pattern 345 may be separated and insulated from each other by the separation region 340 formed along the edge of the radiation electrode 312.

방사 전극(312) 및 더미 패턴(345)을 실질적으로 동일하거나 유사한 메쉬 구조를 포함하도록 형성함으로써, 안테나 전극층(300)의 투과율을 향상시키면서 패턴 형상의 차이에 따른 방사 전극(312)의 시인을 방지할 수 있다.By forming the radiation electrode 312 and the dummy pattern 345 to have substantially the same or similar mesh structure, the transmittance of the antenna electrode layer 300 is improved and the visibility of the radiation electrode 312 due to the difference in pattern shape is prevented. can do.

일부 실시예들에 있어서, 방사 전극(312)으로부터 분기되는 전송 선로(320) 역시 메쉬 구조를 포함할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 도 4에 도시된 패드(330)는 신호 속도 향상 및 저항 감소를 위해 속이 찬(solid) 패턴 구조를 가질 수 있다.In some embodiments, the transmission line 320 branching from the radiation electrode 312 may also include a mesh structure. In one embodiment, the pad 330 illustrated in FIG. 4 may have a solid pattern structure to improve signal speed and reduce resistance.

예시적인 실시예들에 있어서, 제1 그라운드 층(200)은 터치 센서 전극을 포함할 수 있다.In example embodiments, the first ground layer 200 may include a touch sensor electrode.

도 2 및 도 3은 일부 실시예들에 따른 상기 터치 센서 전극을 나타내는 개략적인 평면도 및 단면도이다. 예를 들면, 도 3은 도 2의 I-I'라인을 따라 절단한 단면도이다.2 and 3 are schematic plan and cross-sectional views illustrating the touch sensor electrode according to some embodiments. For example, FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line II′ of FIG. 2.

도 2 및 도 3을 참조하면, 상기 터치 센서 전극은 지지층(210) 상에 배열된 센싱 전극들을 포함할 수 있다.2 and 3, the touch sensor electrode may include sensing electrodes arranged on the support layer 210.

지지층(210)은 예를 들면, 환형올레핀중합체(COP), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리아크릴레이트(PAR), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리페닐렌설파이드(PPS), 폴리알릴레이트(polyallylate), 폴리이미드(PI), 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(CAP), 폴리에테르술폰(PES), 셀룰로오스 트리아세테이트(TAC), 폴리카보네이트(PC), 환형올레핀공중합체(COC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 등과 같은 수지 물질을 포함할 수 있다.The support layer 210 is, for example, a cyclic olefin polymer (COP), polyethylene terephthalate (PET), polyacrylate (PAR), polyetherimide (PEI), polyethylene naphthalate (PEN), polyphenylene sulfide (PPS). ), polyallylate, polyimide (PI), cellulose acetate propionate (CAP), polyethersulfone (PES), cellulose triacetate (TAC), polycarbonate (PC), cyclic olefin copolymer (COC) ), polymethyl methacrylate (PMMA), and the like.

일부 실시예들에 있어서, 지지층(210)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 실리콘 산질화물, 글래스 등과 같은 무기 절연 물질을 포함할 수 있다.In some embodiments, the support layer 210 may include an inorganic insulating material such as silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, glass, or the like.

예시적인 실시예들에 있어서, 제2 유전층(190)이 지지층(210)으로 제공될 수 있다.In example embodiments, the second dielectric layer 190 may be provided as the support layer 210.

상기 센싱 전극들은 평면 상에서 서로 다른 방향으로 배열되는 센싱 전극들을 포함할 수 있다. 상기 센싱 전극들은 서로 교차하도록 배열된 제1 센싱 전극(220)들 및 제2 센싱 전극(230)들을 포함할 수 있다.The sensing electrodes may include sensing electrodes arranged in different directions on a plane. The sensing electrodes may include first sensing electrodes 220 and second sensing electrodes 230 arranged to cross each other.

제1 센싱 전극(220)들은 예를 들면, 행 방향(예를 들면, X 방향)을 따라 배열될 수 있다. 제2 센싱 전극(230)들은 예를 들면, 열 방향(예를 들면, Y 방향)을 따라 배열될 수 있다.The first sensing electrodes 220 may be arranged along a row direction (eg, an X direction), for example. The second sensing electrodes 230 may be arranged along a column direction (eg, a Y direction), for example.

제1 센싱 전극(220) 및 제2 센싱 전극(230)은 각각 터치되는 지점의 X 좌표 및 Y 좌표에 대한 정보를 제공할 수 있다. 예를 들면, 사람의 손 또는 물체가 터치 센서 적층체 위로 입력되면, 제1 센싱 전극(220) 및 제2 센싱 전극(230)을 통한 정전 용량 변화에 의해 전기적 신호가 생성될 수 있다. 상기 전기적 신호는 예를 들면, 위치 검출라인을 경유하여 구동회로 측으로 전달될 수 있다.The first sensing electrode 220 and the second sensing electrode 230 may each provide information on the X coordinate and Y coordinate of the touched point. For example, when a human hand or object is input onto the touch sensor stack, an electrical signal may be generated by a change in capacitance through the first sensing electrode 220 and the second sensing electrode 230. The electrical signal may be transmitted to the driving circuit through, for example, a position detection line.

제2 센싱 전극(230)들은 각각 이격된 섬(island) 형상을 가질 수 있다. 한편, 제1 센싱 전극(220)들은 행 방향(예를 들면, X 방향)을 따라 연결부(225)를 통해 서로 일체로 연결될 수 있다.Each of the second sensing electrodes 230 may have a spaced island shape. Meanwhile, the first sensing electrodes 220 may be integrally connected to each other through the connection part 225 along the row direction (eg, the X direction).

제1 센싱 전극(220) 및 제2 센싱 전극(230)이 서로 동일 레벨 상에 배치되는 경우, 제2 센싱 전극(230)들을 제1 센싱 전극(220)들과 절연시키면서, 서로 연결시키기 위해 브릿지 전극(235)이 더 형성될 수 있다. 브릿지 전극(235)은 열 방향(예를 들면, y 방향)으로 서로 이웃하는 제2 센싱 전극(230)들을 서로 전기적으로 연결시킬 수 있다. When the first sensing electrode 220 and the second sensing electrode 230 are disposed on the same level, the second sensing electrode 230 is insulated from the first sensing electrode 220 and a bridge is connected to each other. An electrode 235 may be further formed. The bridge electrode 235 may electrically connect the second sensing electrodes 230 adjacent to each other in a column direction (eg, y direction) to each other.

도 3에 도시된 바와 같이, 절연층(240)이 센싱 전극들(220, 230)을 적어도 부분적으로 커버할 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 절연층(240)은 제1 센싱 전극(220) 또는 연결부(225)를 커버하며, 제2 센싱 전극(230)들을 부분적으로 커버할 수 있다. 예를 들면, 절연층(240)은 제2 센싱 전극(230)의 상면을 부분적으로 노출시키는 콘택 홀을 포함할 수 있다.As shown in FIG. 3, the insulating layer 240 may at least partially cover the sensing electrodes 220 and 230. In some embodiments, the insulating layer 240 may cover the first sensing electrode 220 or the connection portion 225 and may partially cover the second sensing electrodes 230. For example, the insulating layer 240 may include a contact hole partially exposing the upper surface of the second sensing electrode 230.

절연층(240)은 투명 절연 소재로 형성될 수 있다. 예를 들면, 실리콘 산화물과 같은 무기 절연 물질, 또는 아크릴계 수지와 같은 투명 유기 물질을 사용하여 절연층(240)이 형성될 수 있다.The insulating layer 240 may be formed of a transparent insulating material. For example, the insulating layer 240 may be formed using an inorganic insulating material such as silicon oxide or a transparent organic material such as an acrylic resin.

브릿지 전극(235)은 절연층(240) 상에 배치되어 이웃하는 한 쌍의 제2 센싱 전극(230)들을 서로 전기적으로 연결시킬 수 있다. 예를 들면, 브릿지 전극(235)은 절연층(240) 상에서 연결부(225)와 서로 교차할 수 있다. 브릿지 전극(235)은 절연층(240) 내에 형성된 상기 콘택 홀들을 채울 수 있다.The bridge electrode 235 may be disposed on the insulating layer 240 to electrically connect a pair of adjacent second sensing electrodes 230 to each other. For example, the bridge electrode 235 may cross each other with the connection part 225 on the insulating layer 240. The bridge electrode 235 may fill the contact holes formed in the insulating layer 240.

센셍 전극들(220, 230) 및 브릿지 전극(235)은 투명 도전성 산화물 또는 금속을 포함할 수 있다. 상기 투명 도전성 산화물은 예를 들면, 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 아연산화물(ZnO), 인듐아연주석산화물(IZTO), 카드뮴주석산화물(CTO) 등을 포함할 수 있다. 상기 금속은 예를 들면, 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 니오븀(Nb), 탄탈륨(Ta), 바나듐(V), 철(Fe), 망간(Mn), 코발트(Co), 니켈(Ni), 아연(Zn), 주석(Sn), 몰리브덴(Mo) 또는 이들의 합금을 포함할 수 있다.The sensing electrodes 220 and 230 and the bridge electrode 235 may include a transparent conductive oxide or metal. The transparent conductive oxide may include, for example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), cadmium tin oxide (CTO), and the like. The metal is, for example, silver (Ag), gold (Au), copper (Cu), aluminum (Al), platinum (Pt), palladium (Pd), chromium (Cr), titanium (Ti), tungsten (W ), niobium (Nb), tantalum (Ta), vanadium (V), iron (Fe), manganese (Mn), cobalt (Co), nickel (Ni), zinc (Zn), tin (Sn), molybdenum (Mo ) Or an alloy thereof.

바람직하게는, 상기 터치 센서 전극은 투명 도전성 산화물로 형성될 수 있다. 이 경우, 안테나 적층체를 표시 장치에 적층할 때, 화상의 시인성 저하를 효과적으로 억제할 수 있다.Preferably, the touch sensor electrode may be formed of a transparent conductive oxide. In this case, when the antenna stack is stacked on the display device, it is possible to effectively suppress a decrease in image visibility.

일부 실시예들에 있어서, 센싱 전극들(220, 230) 및/또는 브릿지 전극(235)은 다층 구조를 가질 수 있다. 예를 들면, 센싱 전극들(220, 230) 및/또는 브릿지 전극(235)은 투명 산화물층 및 금속층이 적층된 구조를 가질 수 있다.In some embodiments, the sensing electrodes 220 and 230 and/or the bridge electrode 235 may have a multilayer structure. For example, the sensing electrodes 220 and 230 and/or the bridge electrode 235 may have a structure in which a transparent oxide layer and a metal layer are stacked.

일부 실시예들에 있어서, 제1 센싱 전극(220) 및 제2 센싱 전극(230)은 서로 다른 레벨에 형성될 수 있다. 예를 들면, 제1 센싱 전극(220) 또는 제2 센싱 전극(230) 중 어느 하나는 절연층(240) 상에 다른 하나는 절연층(240) 아래에 형성될 수 있다. 이 경우 브릿지 전극(235)은 생략될 수도 있으며, 제1 센싱 전극(220) 및 제2 센싱 전극(230) 모두 연결부를 포함할 수 있다.In some embodiments, the first sensing electrode 220 and the second sensing electrode 230 may be formed at different levels. For example, one of the first sensing electrode 220 and the second sensing electrode 230 may be formed on the insulating layer 240 and the other under the insulating layer 240. In this case, the bridge electrode 235 may be omitted, and both the first sensing electrode 220 and the second sensing electrode 230 may include a connection part.

일부 실시예들에 있어서, 센싱 전극들은 각각 독립된 섬 패턴으로 형성되어 각각 개별 센싱 도메인으로 제공될 수 있다.In some embodiments, each of the sensing electrodes may be formed in an independent island pattern and may be provided as individual sensing domains.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 터치 센서 전극은 패시베이션 층(250)으로 덮일 수 있다. 패시베이션 층(250)은 무기 절연 물질, 유기 절연 물질 또는 유-무기 하이브리드 필름을 포함할 수 있다. 패시베이션 층(250)은 상기 터치 센서 전극을 보호하는 밀봉층으로 제공될 수 있다.In example embodiments, the touch sensor electrode may be covered with a passivation layer 250. The passivation layer 250 may include an inorganic insulating material, an organic insulating material, or an organic-inorganic hybrid film. The passivation layer 250 may be provided as a sealing layer protecting the touch sensor electrode.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 터치 센서 전극은 방사 전극(312)과 수직 방향 또는 안테나 적층체의 높이(두께) 방향으로 적어도 부분적으로 중첩될 수 있다. 따라서, 상기 터치 센서 전극이 안테나 전극층(300)의 그라운드로 제공될 수 있다. 예를 들면, 방사 전극(312)과 상기 터치 센서 전극이 커플링되어 안테나 신호를 송수신할 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 방사 전극(312)은 상기 터치 센서 전극과 전체적으로 중첩될 수 있다. 이 경우, 방사 전극(312)과 상기 터치 센서 전극의 커플링 면적이 증가할 수 있으며, 안테나의 게인 및 효율이 증가할 수 있다.In example embodiments, the touch sensor electrode may at least partially overlap the radiation electrode 312 in a vertical direction or a height (thickness) direction of the antenna stack. Accordingly, the touch sensor electrode may be provided as a ground of the antenna electrode layer 300. For example, the radiation electrode 312 and the touch sensor electrode are coupled to each other to transmit and receive antenna signals. In some embodiments, the radiation electrode 312 may entirely overlap the touch sensor electrode. In this case, a coupling area between the radiation electrode 312 and the touch sensor electrode may increase, and gain and efficiency of the antenna may increase.

제2 그라운드 층(100)은 제1 그라운드 층(200) 아래에 배치될 수 있다. 제2 그라운드 층(100)은 제1 그라운드 층(200)과 그라운드 복합체를 형성할 수 있다. 상기 그라운드 복합체는 하나의 그라운드 층으로 작용하여 그라운드 층의 성능(그라운딩 성능)을 향상시킬 수 있다.The second ground layer 100 may be disposed under the first ground layer 200. The second ground layer 100 may form a ground composite with the first ground layer 200. The ground composite may act as one ground layer to improve performance (grounding performance) of the ground layer.

예를 들면, 제1 그라운드 층(200)의 그라운딩 성능이 불충분할 경우(예를 들면, 그라운드 층의 저항이 높으면, 전기적 손실에 의해 방사 효율이 감소함), 제2 그라운드 층(100)이 이를 보충 및 증가시켜 상기 그라운드 복합체 전체의 그라운딩 성능을 향상시킬 수 있다.For example, when the grounding performance of the first ground layer 200 is insufficient (for example, if the resistance of the ground layer is high, the radiation efficiency decreases due to electrical loss), the second ground layer 100 By supplementing and increasing it, the grounding performance of the entire ground composite may be improved.

제2 그라운드 층(100)은 예를 들면, 소정의 도전성을 갖는 금속, 금속 합금 또는 금속 산화물을 포함할 수 있다.The second ground layer 100 may include, for example, a metal, a metal alloy, or a metal oxide having a predetermined conductivity.

예를 들면, 제1 그라운드 층(200) 및 상기 터치 센서 전극이 투명 도전성 산화물을 포함할 경우, 상기 투명 도전성 산화물의 저항(면저항)은 금속 또는 금속 합금보다 클 수 있다. 따라서, 제1 그라운드 층(200)의 그라운딩 성능이 감소되어 안테나의 게인 및 효율이 감소할 수 있다.For example, when the first ground layer 200 and the touch sensor electrode include a transparent conductive oxide, the resistance (sheet resistance) of the transparent conductive oxide may be greater than that of a metal or a metal alloy. Accordingly, the grounding performance of the first ground layer 200 is reduced, so that gain and efficiency of the antenna may be reduced.

예시적인 실시예들에 따르면, 제1 그라운드 층(200) 아래에 제2 그라운드 층(100)을 배치하여 제2 그라운드 층(100)과 제1 그라운드 층(200)이 상기 그라운드 복합체를 형성하도록 할 수 있다. 따라서, 제2 그라운드 층(100)이 제1 그라운드 층(200)의 부족한 그라운딩 성능을 보충할 수 있다. 이 경우, 안테나 전극층(300)과 커플링되는 상기 그라운드 복합체 전체의 그라운딩 성능이 향상될 수 있다. 따라서, 제1 그라운드 층(200)으로 투명 도전성 산화물을 사용하여 향상된 화상의 시인성을 구현하면서, 안테나의 게인 및 효율을 개선할 수 있다.According to exemplary embodiments, the second ground layer 100 is disposed under the first ground layer 200 so that the second ground layer 100 and the first ground layer 200 form the ground composite. I can. Accordingly, the second ground layer 100 may compensate for the insufficient grounding performance of the first ground layer 200. In this case, the grounding performance of the entire ground composite coupled to the antenna electrode layer 300 may be improved. Accordingly, by using a transparent conductive oxide as the first ground layer 200, it is possible to improve the visibility of an image while improving the gain and efficiency of the antenna.

예시적인 실시예들에 있어서, 제2 그라운드 층(100)은 제1 그라운드 층(200)보다 저항이 낮은 금속을 포함할 수 있다. 따라서, 상기 그라운드 복합체를 형성할 때, 제1 그라운드 층(200)의 그라운딩 성능을 효과적으로 향상시킬 수 있다.In example embodiments, the second ground layer 100 may include a metal having a lower resistance than the first ground layer 200. Accordingly, when forming the ground composite, it is possible to effectively improve the grounding performance of the first ground layer 200.

예시적인 실시예들에 있어서, 제2 그라운드 층(100)은 저저항 그라운드 전극을 포함할 수 있다. 상기 저저항 그라운드 전극은 상기 터치 센서 전극보다 저항이 낮은 물질로 형성될 수 있다. 상기 저저항 그라운드 전극은 예를 들면, 표시 패널의 전극 구조체를 포함할 수 있다. 상기 전극 구조체는 표시 패널의 게이트 전극, 소스 전극, 드레인 전극 및/또는 화소 전극을 포함할 수 있다.In example embodiments, the second ground layer 100 may include a low resistance ground electrode. The low resistance ground electrode may be formed of a material having a lower resistance than the touch sensor electrode. The low resistance ground electrode may include, for example, an electrode structure of a display panel. The electrode structure may include a gate electrode, a source electrode, a drain electrode, and/or a pixel electrode of the display panel.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 저저항 그라운드 전극은 방사 전극(312)과 수직 방향 또는 안테나 적층체의 높이(두께) 방향으로 적어도 부분적으로 중첩될 수 있다. 따라서, 상기 저저항 그라운드 전극이 안테나 전극층(300)의 그라운드로 제공될 수 있다. 예를 들면, 방사 전극(312)과 상기 저저항 그라운드 전극이 커플링되어 안테나 신호를 송수신할 수 있다. 상기 중첩 구조에 의해 제2 그라운드 층(100)으로부터 기인하는 그라운딩 성능이 향상될 수 있다.In example embodiments, the low-resistance ground electrode may at least partially overlap the radiation electrode 312 in a vertical direction or a height (thickness) direction of the antenna stack. Accordingly, the low-resistance ground electrode may be provided as a ground of the antenna electrode layer 300. For example, the radiation electrode 312 and the low resistance ground electrode are coupled to each other to transmit and receive antenna signals. Grounding performance resulting from the second ground layer 100 may be improved by the overlapping structure.

일부 실시예들에 있어서, 방사 전극(312)은 상기 저저항 그라운드 전극과 전체적으로 중첩될 수 있다. 이 경우, 방사 전극(312)과 상기 저저항 그라운드 전극의 커플링 면적이 증가할 수 있으며, 안테나의 게인 및 효율이 증가할 수 있다. In some embodiments, the radiation electrode 312 may entirely overlap the low-resistance ground electrode. In this case, a coupling area between the radiation electrode 312 and the low-resistance ground electrode may increase, and gain and efficiency of the antenna may increase.

제2 유전층(190)은 제1 그라운드 층(200) 및 제2 그라운드 층(100) 사이에 배치될 수 있다. 예를 들면, 제2 유전층(190)은 제1 그라운드 층(200) 및 제2 그라운드 층(100)과 접촉하거나, 제2 유전층(190)과 제1 그라운드 층(200) 및 제2 그라운드 층(100)의 사이에 다른 부재가 개재될 수 있다.The second dielectric layer 190 may be disposed between the first ground layer 200 and the second ground layer 100. For example, the second dielectric layer 190 may contact the first ground layer 200 and the second ground layer 100, or the second dielectric layer 190 and the first ground layer 200 and the second ground layer ( Another member may be interposed between 100).

제2 유전층(190)은 예를 들면, 투명 수지 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 제2 유전층(190)은 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리에틸(메타)아크릴레이트 등의 아크릴계 수지; 폴리스티렌, 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체 등의 스티렌계 수지; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로계 또는 노보넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌-프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀계 수지; 염화비닐계 수지; 나일론, 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 수지; 이미드계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 술폰계 수지; 폴리에테르에테르케톤계 수지; 황화 폴리페닐렌계 수지; 비닐알코올계 수지; 염화비닐리덴계 수지; 비닐부티랄계 수지; 알릴레이트계 수지; 폴리옥시메틸렌계 수지; 에폭시계 수지 등의 열가소성 수지를 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다. The second dielectric layer 190 may include, for example, a transparent resin material. For example, the second dielectric layer 190 may include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polyethylene naphthalate, and polybutylene terephthalate; Cellulose resins such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose; Polycarbonate resin; Acrylic resins such as polymethyl (meth)acrylate and polyethyl (meth)acrylate; Styrene resins such as polystyrene and acrylonitrile-styrene copolymer; Polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polyolefin having a cyclo-based or norbornene structure, and ethylene-propylene copolymer; Vinyl chloride resin; Amide resins such as nylon and aromatic polyamide; Imide resin; Polyethersulfone resin; Sulfone resin; Polyether ether ketone resin; Sulfide polyphenylene resin; Vinyl alcohol resin; Vinylidene chloride resin; Vinyl butyral resin; Allylate resin; Polyoxymethylene resin; It may contain a thermoplastic resin such as an epoxy resin. These may be used alone or in combination of two or more.

또한, (메타)아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화성 수지 또는 자외선 경화형 수지로 된 투명 필름이 제2 유전층(190)으로 활용될 수도 있다. 일부 실시예들에 있어서, 또한, 광학 투명 점착제(Optically clear Adhesive: OCA), 광학 투명 수지(Optically Clear Resin: OCR) 등과 같은 점접착 필름이 제2 유전층(190)에 포함될 수 있다.In addition, a transparent film made of a thermosetting resin such as (meth)acrylic-based, urethane-based, acrylic-urethane-based, epoxy-based, silicone-based or ultraviolet-curable resin may be used as the second dielectric layer 190. In some embodiments, an adhesive film such as an optically clear adhesive (OCA), an optically clear resin (OCR), or the like may be included in the second dielectric layer 190.

일부 실시예들에 있어서, 제2 유전층(190)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 실리콘 산질화물, 글래스 등과 같은 무기 절연 물질을 포함할 수 있다. In some embodiments, the second dielectric layer 190 may include an inorganic insulating material such as silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, glass, or the like.

일 실시예에 있어서, 제2 유전층(190)은 실질적으로 단일 층으로 제공될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 제2 유전층(190)은 적어도 2층 이상의 복층 구조를 포함할 수도 있다.In one embodiment, the second dielectric layer 190 may be provided as a substantially single layer. In an embodiment, the second dielectric layer 190 may include at least two or more layers of a multilayer structure.

제2 유전층(190)에 의해 제1 그라운드 층(200) 및/또는 제2 그라운드 층(100) 사이에 정전용량(capacitance) 또는 인덕턴스(inductance)가 형성되어, 상기 그라운드 복합체가 형성될 수 있다. 제2 유전층(190)에 의해 상기 안테나 적층체가 구동 혹은 센싱할 수 있는 주파수 대역이 조절될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 제2 유전층(190)의 유전율은 약 2 내지 12 범위로 조절될 수 있다. 상기 유전율이 약 12를 초과하는 경우, 구동 주파수가 지나치게 감소하여, 원하는 고주파 대역에서의 구동이 구현되지 않을 수 있다.Capacitance or inductance is formed between the first ground layer 200 and/or the second ground layer 100 by the second dielectric layer 190, so that the ground composite may be formed. A frequency band in which the antenna stack can be driven or sensed may be adjusted by the second dielectric layer 190. In some embodiments, the dielectric constant of the second dielectric layer 190 may be adjusted in the range of about 2 to 12. When the dielectric constant exceeds about 12, the driving frequency is excessively reduced, so that driving in a desired high frequency band may not be implemented.

예시적인 실시예들에 있어서, 제2 유전층(190)의 두께는 1 내지 500㎛일 수 있다. 제2 유전층(190)의 두께가 500㎛ 초과일 경우, 상기 그라운드 복합체의 형성으로 인한 그라운딩 성능 향상 효과가 실질적으로 구현되지 않을 수 있다. 바람직하게는, 제2 유전층(190)의 두께는 1 내지 400㎛일 수 있으며, 보다 바람직하게는, 1 내지 150㎛일 수 있다.In example embodiments, the thickness of the second dielectric layer 190 may be 1 to 500 μm. When the thickness of the second dielectric layer 190 is more than 500 μm, the effect of improving the grounding performance due to the formation of the ground composite may not be substantially realized. Preferably, the thickness of the second dielectric layer 190 may be 1 to 400 μm, more preferably 1 to 150 μm.

도 6은 예시적인 실시예들에 따른 안테나 적층체를 나타내는 개략적인 평면도이다. 도 1을 참조로 설명한 구성과 실질적으로 동일한 구성에 대한 설명은 생략될 수 있다.6 is a schematic plan view illustrating an antenna stack according to exemplary embodiments. Description of the configuration substantially the same as the configuration described with reference to FIG. 1 may be omitted.

도 6을 참조하면, 안테나 전극층(300)과 제1 유전층(290) 사이에 제1 점접착층(295)이 배치되고, 제1 유전층(290)과 제1 그라운드 층(200) 사이에 제2 점접착층(285)이 배치될 수 있다.Referring to FIG. 6, a first adhesive layer 295 is disposed between the antenna electrode layer 300 and the first dielectric layer 290, and a second point is disposed between the first dielectric layer 290 and the first ground layer 200. An adhesive layer 285 may be disposed.

제1 점접착층(295) 및 제2 점접착층(285)은 광학 투명 점착제(Optically clear Adhesive: OCA), 광학 투명 수지(Optically Clear Resin: OCR) 등과 같은 점접착 필름을 포함할 수 있다.The first adhesive layer 295 and the second adhesive layer 285 may include an adhesive film such as an optically clear adhesive (OCA) or an optically clear resin (OCR).

예시적인 실시예들에 있어서, 안테나 전극층(300) 및 제1 그라운드 층(200)은 제1 유전층(290)에 의해 전기적 및 물리적으로 분리될 수 있다. 또한, 제1 유전층(290)을 관통하는 비아(via) 또는 컨택에 의해 서로 연결될 수도 있다.In example embodiments, the antenna electrode layer 300 and the first ground layer 200 may be electrically and physically separated by the first dielectric layer 290. In addition, they may be connected to each other by a via or a contact penetrating the first dielectric layer 290.

예시적인 실시예들에 있어서, 제1 그라운드 층(200) 및 제2 그라운드 층(100)은 제2 유전층(190)에 의해 전기적 및 물리적으로 분리될 수 있다. 또한, 제2 유전층(190)을 관통하는 비아(via) 또는 컨택에 의해 서로 연결될 수도 있다.In example embodiments, the first ground layer 200 and the second ground layer 100 may be electrically and physically separated by the second dielectric layer 190. In addition, they may be connected to each other by a via or a contact passing through the second dielectric layer 190.

도 7 예시적인 실시예들에 따른 화상 표시 장치를 나타내는 개략적인 단면도이다.7 is a schematic cross-sectional view illustrating an image display device according to exemplary embodiments.

도 7을 참조하면, 상기 화상 표시 장치는 안테나 전극층(300), 제1 유전층(290) 및 표시 패널(400)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 7, the image display device may include an antenna electrode layer 300, a first dielectric layer 290, and a display panel 400.

표시 패널(400)은 예를 들면, 유기 발광 다이오드(OLED) 표시 장치 또는 액정 표시 장치(LCD)와 같은 디스플레이 장치의 박막 트랜지스터 어레이(TFT array) 기판 또는 백-플레인(Back-Plane) 기판을 포함할 수 있다.The display panel 400 includes, for example, a TFT array substrate or a back-plane substrate of a display device such as an organic light emitting diode (OLED) display device or a liquid crystal display (LCD). can do.

표시 패널(400)은 전극 구조체(410) 및 인캡슐레이션 층(420)을 포함할 수 있다. The display panel 400 may include an electrode structure 410 and an encapsulation layer 420.

전극 구조체(410)는 표시 패널(400)의 박막 트랜지스터(TFT) 어레이에 포함된 게이트 전극(135), 소스 전극(145) 및 드레인 전극(147)을 포함할 수 있다. 또한, 전극 구조체(410)는 표시 패널(400)의 화소 전극을 포함할 수 있다.The electrode structure 410 may include a gate electrode 135, a source electrode 145, and a drain electrode 147 included in a thin film transistor (TFT) array of the display panel 400. Also, the electrode structure 410 may include a pixel electrode of the display panel 400.

예를 들면, 게이트 전극, 소스 전극, 드레인 전극 및 화소 전극은 각각 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 니오븀(Nb), 탄탈륨(Ta), 바나듐(V), 철(Fe), 망간(Mn), 코발트(Co), 니켈(Ni), 아연(Zn), 주석(Sn), 몰리브덴(Mo) 또는 이들의 합금과 같은 저저항 금속을 포함할 수 있다.For example, the gate electrode, the source electrode, the drain electrode, and the pixel electrode are silver (Ag), gold (Au), copper (Cu), molybdenum (Mo), aluminum (Al), platinum (Pt), palladium (Pd), respectively. ), chromium (Cr), titanium (Ti), tungsten (W), niobium (Nb), tantalum (Ta), vanadium (V), iron (Fe), manganese (Mn), cobalt (Co), nickel (Ni ), zinc (Zn), tin (Sn), molybdenum (Mo), or a low resistance metal such as an alloy thereof.

인캡슐레이션 층(420)은 무기 절연 물질, 유기 절연 물질 또는 유-무기 하이브리드 필름을 포함할 수 있다. 인캡슐레이션 층(420)은 표시 패널(400)에 포함되는 박막 트랜지스터(TFT), 전극 및 표시층을 보호하는 밀봉층으로 제공될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 인캡슐레이션 층(420)은 표시 패널(400)에 포함된 구성 또는 부재로서 함께 제조될 수 있다.The encapsulation layer 420 may include an inorganic insulating material, an organic insulating material, or an organic-inorganic hybrid film. The encapsulation layer 420 may be provided as a sealing layer that protects the thin film transistor TFT, the electrode, and the display layer included in the display panel 400. In an embodiment, the encapsulation layer 420 may be manufactured together as a component or member included in the display panel 400.

예시적인 실시예들에 있어서, 전극 구조체(410)는 제2 그라운드 층(100)으로 제공될 수 있다. 그리고, 인캡슐레이션 층(420)은 제2 유전층(190)으로 제공될 수 있다. 이 경우, 별도의 제2 유전층 및 제2 그라운드 층을 추가로 형성하지 않고, 표시 패널(400)을 제1 그라운드 층(200) 아래에 배치함으로써, 상기 그라운드 복합체가 형성된 안테나 적층체를 구현할 수 있다. 따라서, 간단하게 터치 센서 및 안테나 기능을 포함하는 박형의 화상 표시 장치를 형성할 수 있으며, 별도의 그라운드 층으로 인한 화상 표시 장치의 동작 간섭을 방지할 수 있다.In example embodiments, the electrode structure 410 may be provided as the second ground layer 100. In addition, the encapsulation layer 420 may be provided as the second dielectric layer 190. In this case, by disposing the display panel 400 under the first ground layer 200 without additionally forming a second dielectric layer and a second ground layer, an antenna stack having the ground composite formed thereon can be implemented. . Accordingly, a thin image display device including a touch sensor and an antenna function can be simply formed, and operation interference of the image display device due to a separate ground layer can be prevented.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 이들 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 첨부된 특허청구범위를 제한하는 것이 아니며, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 실시예에 대한 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.Hereinafter, preferred embodiments are presented to aid understanding of the present invention, but these examples are only illustrative of the present invention and do not limit the scope of the appended claims, and examples within the scope and spirit of the present invention It is obvious to those skilled in the art that various changes and modifications are possible, and it is natural that such modifications and modifications fall within the appended claims.

실시예 1 내지 8Examples 1 to 8

폴리이미드 유전층의 상면 상에 은-팔라듐-구리(APC) 합금을 사용하여 안테나 전극층을 형성하였다.An antenna electrode layer was formed on the upper surface of the polyimide dielectric layer using a silver-palladium-copper (APC) alloy.

상기 유전층의 아래에 두께 3 내지 4㎛의 인듐주석 산화물(ITO)로 형성된 센싱 전극들을 포함하는 터치 전극층을 접합하였다.A touch electrode layer including sensing electrodes formed of indium tin oxide (ITO) having a thickness of 3 to 4 μm was bonded under the dielectric layer.

상기 안테나 전극층과 상기 터치 전극층 사이의 거리는 400㎛로 조절되었다.The distance between the antenna electrode layer and the touch electrode layer was adjusted to 400 μm.

상기 터치 전극층의 저면을 OLED 패널과 접합하여 화상 표시 장치를 제조하였다.An image display device was manufactured by bonding the bottom of the touch electrode layer with an OLED panel.

상기 터치 전극층과 상기 OLED 패널의 전극 구조체(TFT 전극 및 화소 전극) 사이의 거리는 하기 표 1과 같이 조절되었다.The distance between the touch electrode layer and the electrode structure (TFT electrode and pixel electrode) of the OLED panel was adjusted as shown in Table 1 below.

비교예Comparative example

폴리이미드 유전층의 상면 상에 은-팔라듐-구리(APC) 합금을 사용하여 안테나 전극층을 형성하였다.An antenna electrode layer was formed on the upper surface of the polyimide dielectric layer using a silver-palladium-copper (APC) alloy.

상기 유전층의 아래에 두께 3 내지 4㎛의 인듐주석 산화물(ITO)로 형성된 센싱 전극들을 포함하는 터치 전극층을 접합하였다.A touch electrode layer including sensing electrodes formed of indium tin oxide (ITO) having a thickness of 3 to 4 μm was bonded under the dielectric layer.

상기 안테나 전극층과 상기 터치 전극층 사이의 거리를 400㎛로 조절하여 비교예의 안테나 적층체를 제조하였다.The antenna laminate of Comparative Example was manufactured by adjusting the distance between the antenna electrode layer and the touch electrode layer to 400 μm.

실험예 - 안테나의 신호 특성 평가Experimental Example-Evaluation of signal characteristics of antenna

실시예 및 비교예의 화상 표시 장치 및 안테나 적층체에 대하여 Network analyzer를 이용하여 50Ω의 임피던스로 약 27.5 내지 28.5GHz 주파수에서 S-parameter(S11, return loss) 및 안테나 효율을 추출하여 아래 표 1에 나타내었다.For the image display devices and antenna stacks of Examples and Comparative Examples, the S-parameter (S11, return loss) and antenna efficiency were extracted at a frequency of about 27.5 to 28.5 GHz with an impedance of 50 Ω using a network analyzer and shown in Table 1 below. Done.

터치 전극층과 OLED 전극 구조체 사이의 거리(㎛)Distance between the touch electrode layer and the OLED electrode structure (㎛) S11(dB)S11(dB) 효율(%)efficiency(%) 실시예 1Example 1 1010 -9.08-9.08 87.187.1 실시예 2Example 2 2525 -9.10-9.10 87.287.2 실시예 3Example 3 5050 -9.47-9.47 88.788.7 실시예 4Example 4 100100 -7.82-7.82 83.583.5 실시예 5Example 5 150150 -7.02-7.02 80.280.2 실시예 6Example 6 240240 -4.53-4.53 64.864.8 실시예 7Example 7 380380 -4.01-4.01 60.360.3 실시예 8Example 8 480480 -3.41-3.41 54.454.4 비교예Comparative example OLED 없음No OLED -3.40-3.40 53.353.3

표 1을 참조하면, OLED를 제2 그라운드 층으로 사용하지 않은 비교예에 비하여 실시예들의 안테나 성능이 향상되었다.Referring to Table 1, the antenna performance of the examples was improved compared to the comparative example in which the OLED was not used as the second ground layer.

참고예Reference example

폴리이미드 유전층 상에 APC로 형성된 안테나 전극층을 배치하고 유전층 아래에 두께 2400Å의 APC 그라운드 층을 형성하였다. APC 그라운드 층의 저항은 0.15Ω이었다.An antenna electrode layer formed of APC was disposed on the polyimide dielectric layer, and an APC ground layer having a thickness of 2400Å was formed under the dielectric layer. The resistance of the APC ground layer was 0.15Ω.

상기 유전층의 두께를 하기 표 2와 같이 조절하면서 상기 실험예와 동일한 방법으로 안테나 특성을 평가하였다.While adjusting the thickness of the dielectric layer as shown in Table 2 below, antenna characteristics were evaluated in the same manner as in the experimental example.

유전층의 두께(㎛)Dielectric layer thickness (㎛) 효율(%)efficiency(%) 게인(dB)Gain(dB) Directivity(dB)Directivity(dB) 참고예 1Reference Example 1 1010 0.130.13 -28.23-28.23 7.727.72 참고예 2Reference Example 2 5050 0.450.45 -15.48-15.48 8.048.04 참고예 3Reference Example 3 100100 1818 0.140.14 7.547.54 참고예 4Reference Example 4 200200 43.743.7 3.23.2 7.327.32 참고예 5Reference Example 5 300300 64.364.3 5.355.35 7.277.27 참고예 6Reference Example 6 400400 78.078.0 5.65.6 7.187.18 참고예 7Reference Example 7 500500 80.380.3 6.186.18 7.147.14 참고예 8Reference Example 8 700700 8585 6.356.35 7.077.07 참고예 9Reference Example 9 10001000 87.887.8 6.156.15 6.86.8

표 2를 참조하면, 유전층의 두께가 증가함에 따라 안테나의 효율 및 게인이 증가하였다. 유전층의 두께가 200㎛ 이상일 때 효율 및 게인이 안테나로 사용 가능한 수준으로 나타났다. 유전층의 두께가 300㎛ 이상일 우수한 효율 및 게인이 나타났으며, 유전층의 두께가 400㎛ 이상인 구간에서는 효율 및 게인이 실질적으로 포화되었다. Referring to Table 2, as the thickness of the dielectric layer increases, the efficiency and gain of the antenna increase. When the thickness of the dielectric layer is 200㎛ or more, the efficiency and gain were found to be at the level that can be used as an antenna. Excellent efficiency and gain were observed when the thickness of the dielectric layer was 300 μm or more, and the efficiency and gain were substantially saturated in the section where the thickness of the dielectric layer was 400 μm or more.

100: 제2 그라운드 층 190: 제2 유전층
200: 제1 그라운드 층
210: 지지층 220: 제1 센싱 전극
225: 연결부 230: 제2 센싱 전극
235: 브릿지 전극 240: 절연층
250: 패시베이션 층 285: 제2 점접착층
290: 제1 유전층 295: 제1 점접착층
300: 안테나 전극층
312: 방사 전극 320: 전송 선로
330: 패드 332: 신호 패드
334: 그라운드 패드 340: 분리 영역
345: 더미 패턴
400: 표시 패널
410: 전극 구조체 420: 인캡슐레이션 층
100: second ground layer 190: second dielectric layer
200: first ground layer
210: support layer 220: first sensing electrode
225: connection part 230: second sensing electrode
235: bridge electrode 240: insulating layer
250: passivation layer 285: second adhesive bonding layer
290: first dielectric layer 295: first adhesive layer
300: antenna electrode layer
312: radiation electrode 320: transmission line
330: pad 332: signal pad
334: ground pad 340: separation area
345: dummy pattern
400: display panel
410: electrode structure 420: encapsulation layer

Claims (13)

터치 센서 전극을 포함하는 제1 그라운드 층;
상기 제1 그라운드 층 상에 배치된 제1 유전층;
상기 제1 유전층 상에 배치되며 방사 전극을 포함하는 안테나 전극층;
상기 제1 그라운드 층 아래에 배치된 제2 그라운드 층; 및
상기 제1 그라운드 층 및 상기 제2 그라운드 층 사이에 배치된 제2 유전층을 포함하는, 안테나 적층체.
A first ground layer including a touch sensor electrode;
A first dielectric layer disposed on the first ground layer;
An antenna electrode layer disposed on the first dielectric layer and including a radiation electrode;
A second ground layer disposed under the first ground layer; And
An antenna stack comprising a second dielectric layer disposed between the first ground layer and the second ground layer.
청구항 1에 있어서, 상기 터치 센서 전극은 투명 도전성 산화물을 포함하는, 안테나 적층체.
The antenna stack according to claim 1, wherein the touch sensor electrode comprises a transparent conductive oxide.
청구항 1에 있어서, 상기 제2 그라운드 층은 저저항 그라운드 전극을 포함하며,
상기 저저항 그라운드 전극은 상기 안테나 전극층의 상기 방사 전극과 적어도 부분적으로 중첩된, 안테나 적층체.
The method according to claim 1, wherein the second ground layer comprises a low resistance ground electrode,
The low-resistance ground electrode at least partially overlaps the radiation electrode of the antenna electrode layer.
청구항 3에 있어서, 상기 저저항 그라운드 전극은 상기 방사 전극과 전체적으로 중첩된, 안테나 적층체.
The antenna stack according to claim 3, wherein the low-resistance ground electrode entirely overlaps the radiation electrode.
청구항 1에 있어서, 상기 안테나 전극층은 상기 방사 전극으로부터 분기되는 전송 선로 및 상기 전송 선로의 일단부에 연결된 신호 패드를 더 포함하는, 안테나 적층체.
The antenna stack of claim 1, wherein the antenna electrode layer further comprises a transmission line branched from the radiation electrode and a signal pad connected to one end of the transmission line.
청구항 5에 있어서, 상기 신호 패드 주변에서 상기 신호 패드 및 상기 전송 선로와 전기적으로 분리된 그라운드 패드를 더 포함하는, 안테나 적층체.
The antenna stack of claim 5, further comprising a ground pad electrically separated from the signal pad and the transmission line around the signal pad.
청구항 1에 있어서, 상기 제2 그라운드 층은 상기 제1 그라운드 층보다 저항이 낮은 금속을 포함하는, 안테나 적층체.
The antenna stack according to claim 1, wherein the second ground layer comprises a metal having a lower resistance than the first ground layer.
청구항 1에 있어서, 상기 제2 유전층의 두께는 1 내지 500㎛인, 안테나 적층체.
The antenna stack according to claim 1, wherein the thickness of the second dielectric layer is 1 to 500 μm.
청구항 1에 있어서, 상기 제1 유전층의 두께는 200㎛이상인, 안테나 적층체.
The antenna stack according to claim 1, wherein the thickness of the first dielectric layer is 200 μm or more.
청구항 1에 있어서, 상기 안테나 전극층은 메쉬 구조를 포함하는, 안테나 적층체.
The antenna stack according to claim 1, wherein the antenna electrode layer comprises a mesh structure.
청구항 1에 있어서, 상기 제1 유전층은 점접착층을 포함하는, 안테나 적층체.
The antenna stack according to claim 1, wherein the first dielectric layer comprises an adhesive layer.
청구항 1에 있어서, 상기 안테나 전극층 및 상기 제1 유전층 사이에 배치된 제1 점접착층, 및 상기 제1 유전층 및 상기 제1 그라운드 층 사이에 배치된 제2 점접착층을 더 포함하는, 안테나 적층체.
The antenna laminate of claim 1, further comprising a first adhesive layer disposed between the antenna electrode layer and the first dielectric layer, and a second adhesive layer disposed between the first dielectric layer and the first ground layer.
청구항 1 내지 12 중 어느 한 항의 안테나 적층체; 및
전극 구조체 및 상기 전극 구조체 상에 형성된 인캡슐레이션 층을 포함하는 표시 패널을 포함하며,
상기 전극 구조체는 상기 안테나 적층체의 상기 제2 그라운드 층으로 제공되고,
상기 인캡슐레이션 층은 상기 제2 유전층으로 제공되는, 화상 표시 장치.
The antenna stack according to any one of claims 1 to 12; And
A display panel including an electrode structure and an encapsulation layer formed on the electrode structure,
The electrode structure is provided as the second ground layer of the antenna stack,
The image display device, wherein the encapsulation layer is provided as the second dielectric layer.
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