KR102143609B1 - Dielectic barrier discharge plasma jet generating device - Google Patents

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KR102143609B1 KR1020180102053A KR20180102053A KR102143609B1 KR 102143609 B1 KR102143609 B1 KR 102143609B1 KR 1020180102053 A KR1020180102053 A KR 1020180102053A KR 20180102053 A KR20180102053 A KR 20180102053A KR 102143609 B1 KR102143609 B1 KR 102143609B1
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Abstract

본 발명은 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치에 관한 것으로, 복수의 방전전극이 배치되어 있는 방전전극부가 상부 하우징에 수용된 상태에서 격리판에 의해 하부 하우징과 격리되고 상부 하우징과 하부 하우징의 결합에 의해 형성되는 가스공급챔버 내부로 가스가 공급되고 상기 방전전극에 유전체 장벽 방전(DBD) 출력 전력이 유도되면 상기 복수의 방전전극에 1대1 대응하는 복수의 유전체관을 통해 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트를 발생하거나, 절연체관의 단부에 결합되어 가스공급챔버로부터 원거리에 위치한 유전체관에 상기 절연체관을 통해 상기 방전전극과 연결되어 유전체 장벽 방전(DBD) 출력 전력을 유도하는 전극연결선(예컨대, 금속선 또는 전선 등)을 삽입 배치함으로써 상기 방전전극에 1대1 대응하는 복수의 유전체관을 통해 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트를 발생한다.
본 발명에 따르면 다중 플라즈마 제트를 물체의 대면적에 개별로 동시에 복수의 개소에 적용할 수 있고, 특히 절연체관의 단부에 결합되어 가스공급챔버로부터 원거리에 위치한 유전체관을 통해 산업분야에서 다뤄지는 다양하고 입체적인 형태의 물체 표면을 처리하거나 일정하지 않은 간격의 복수의 개소에 플라즈마 제트를 쉽고 편리하게 적용할 수 있다.The present invention relates to a dielectric barrier discharge plasma jet generating device, wherein a discharge electrode portion in which a plurality of discharge electrodes are disposed is isolated from a lower housing by a separator in a state accommodated in an upper housing, and is formed by combining the upper housing and the lower housing. When gas is supplied into the gas supply chamber and the dielectric barrier discharge (DBD) output power is induced to the discharge electrode, a dielectric barrier discharge plasma jet is generated through a plurality of dielectric tubes corresponding to the plurality of discharge electrodes one-to-one, or , An electrode connection wire (e.g., metal wire or wire) that is coupled to the end of the insulator tube and is connected to the discharge electrode through the insulator tube to a dielectric tube located at a distance from the gas supply chamber to induce dielectric barrier discharge (DBD) output power The dielectric barrier discharge plasma jet is generated through a plurality of dielectric tubes corresponding one to one to the discharge electrode by inserting and disposing them.
According to the present invention, multiple plasma jets can be applied to a plurality of locations individually at the same time on a large area of an object. In particular, various types of plasma jets handled in the industrial field through a dielectric tube located at a distance from the gas supply chamber coupled to the end of the insulator tube. And, it is possible to easily and conveniently apply a plasma jet to a plurality of locations with irregular intervals or to treat the surface of an object having a three-dimensional shape.

Description

유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치{Dielectic barrier discharge plasma jet generating device}Dielectric barrier discharge plasma jet generating device

본 발명은 플라즈마 제트 발생 장치에 관한 것이며, 더욱 상세히는 유전체 장벽 방전(DBD; Dielectic Barrier Discharge) 플라즈마 제트 발생 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma jet generating apparatus, and more particularly, to a dielectric barrier discharge (DBD) plasma jet generating apparatus.

근래 실생활 특히 피부, 의료 산업분야에 적용되는 저온 대기압 플라즈마 기술개발에 있어 대표적인 전극형태가 면방전과 플라즈마 제트인데 면방전에 비해 플라즈마 제트는 방전이 더 활발히 일어나고 처리해야 할 물체 또는 물질에 플라즈마 자체가 충분히 도달할 수 있으며 특정 가스 및 혼합가스를 사용하여 목적에 맞는 적절한 조성의 가스 활성종(reactive species)을 제어하여 만들 수 있어 그 활용도가 높은 플라즈마 소스이다.In recent years, in the development of low-temperature atmospheric pressure plasma technology that is applied to real life, especially the skin and medical industries, the representative electrode types are surface discharge and plasma jet. Compared to surface discharge, plasma jet discharges more actively, and plasma itself is sufficient for objects or materials to be treated. It is a plasma source with high utilization as it can be reached and can be made by controlling the gas reactive species of an appropriate composition for the purpose by using a specific gas and mixed gas.

플라즈마 제트의 전극형태는 외부전극이 씌워진 유전체관 내부에 관 또는 봉 형태의 내부전극이 설치되고 유전체관 또는 관 형태의 내부전극의 끝단이나 측면에서 가스가 공급되는 구조가 일반적이다.The electrode type of the plasma jet generally has a structure in which a tube or rod-shaped internal electrode is installed inside a dielectric tube covered with an external electrode, and gas is supplied from the end or side of the dielectric tube or tube-shaped internal electrode.

특허문헌1의 경우, 방전불꽃을 제어하는 단일 플라즈마 제트의 전극 노즐구조에 대해 밝히고 있다.In the case of Patent Document 1, the structure of an electrode nozzle of a single plasma jet that controls discharge sparks is disclosed.

이처럼, 단일 플라즈마 제트의 전극 노즐구조는 물체의 넓은 면적에 플라즈마 제트를 적용하기 불편하고, 단위 시간당 처리 면적에 한계가 있다.As such, the electrode nozzle structure of a single plasma jet is inconvenient to apply the plasma jet to a large area of an object, and there is a limit to a processing area per unit time.

또한, 해당 물체의 넓은 면적 중 복수의 개소에 동시에 플라즈마 제트를 적용하기 위해서는 상기한 바와 같은 단일 플라즈마 제트의 전극 노즐구조를 복수로 사용해야 하는 불편함이 있기 때문에 작업성이 떨어진다.In addition, in order to simultaneously apply the plasma jet to a plurality of locations in a large area of the object, it is inconvenient to use a plurality of electrode nozzle structures of a single plasma jet as described above, so workability is poor.

KRKR 10-2018-007572610-2018-0075726 AA

본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 복수의 방전전극이 배치되어 있는 방전전극부가 상부 하우징에 수용된 상태에서 격리판에 의해 하부 하우징과 격리되고 상부 하우징과 하부 하우징의 결합에 의해 형성되는 가스공급챔버 내부로 가스가 공급되고 상기 방전전극에 유전체 장벽 방전(DBD) 출력 전력이 유도되면 상기 복수의 방전전극에 1대1 대응하는 복수의 유전체관을 통해 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트를 발생하는 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치를 제공하는 것이다.The present invention is to solve the conventional problems as described above, and an object of the present invention is to be separated from the lower housing by a separator in a state in which a discharge electrode portion in which a plurality of discharge electrodes are disposed is accommodated in the upper housing, and When gas is supplied into the gas supply chamber formed by the combination of the lower housing and the dielectric barrier discharge (DBD) output power is induced to the discharge electrode, the dielectric material is passed through a plurality of dielectric tubes corresponding to the plurality of discharge electrodes one-to-one. It is to provide a dielectric barrier discharge plasma jet generating apparatus for generating a barrier discharge plasma jet.

본 발명의 다른 목적은 복수의 방전전극이 배치되어 있는 방전전극부가 상부 하우징에 수용된 상태에서 격리판에 의해 하부 하우징과 격리되고 상부 하우징과 하부 하우징의 결합에 의해 형성되는 가스공급챔버 내부로 공급되는 가스를 상기 가스유도관을 경유하여 절연체관으로 공급하고 상기 절연체관의 단부에 결합되어 가스공급챔버로부터 원거리에 위치한 유전체관에 상기 절연체관을 통해 상기 방전전극과 연결되어 유전체 장벽 방전(DBD) 출력 전력을 유도하는 전극연결선(예컨대, 금속선 또는 전선 등)을 삽입 배치함으로써 상기 방전전극에 1대1 대응하는 복수의 유전체관을 통해 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트를 발생하는 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a discharge electrode part in which a plurality of discharge electrodes are disposed in a gas supply chamber, which is separated from the lower housing by a separator and is supplied into a gas supply chamber formed by a combination of the upper housing and the lower housing in a state accommodated in the upper housing. Gas is supplied to an insulator tube via the gas guide tube, and coupled to an end of the insulator tube and connected to the discharge electrode through the insulator tube to a dielectric tube located at a distance from the gas supply chamber to output a dielectric barrier discharge (DBD) Provides a dielectric barrier discharge plasma jet generator for generating a dielectric barrier discharge plasma jet through a plurality of dielectric tubes corresponding to the discharge electrode one-to-one by inserting and disposing electrode connection lines (eg, metal wires or wires) for inducing electric power. Is to do.

상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 제1실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치는, 판상의 유전체로 제작되고 일면에 전원공급전극이 결합되어 있고 반대면에 상기 전원공급전극으로 전원 인가시 유전체 장벽 방전(DBD; Dielectic Barrier Discharge) 출력 전력이 유도되는 복수의 방전전극이 배치되어 있는 방전전극부와; 중공의 하부 개방형이고 내부에 상기 방전전극부가 수용되는 공간을 형성하는 격리판이 배치되어 있고 측벽에 가스유입구가 형성되어 있는 상부 하우징; 및 중공의 상부 개방형이고 상기 상부 하우징과 결합하여 가스공급챔버를 형성하고 상기 복수의 방전전극에 1대1 대응하고 상기 방전전극이 삽입되는 유전체관이 배열되어 있고 상기 유전체관의 외벽은 정해진 길이의 금속관이나 금속띠 형상의 접지전극으로 둘러져 접지되는 하부 하우징;으로 구성되고, 상기 가스유입구를 통해 가스공급챔버 내부로 가스가 공급되고 상기 전원공급전극으로 전원 인가 시 상기 방전전극에 유전체 장벽 방전(DBD) 출력 전력이 유도되면 상기 유전체관을 통해 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트를 발생하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the object of the present invention as described above, the dielectric barrier discharge plasma jet generator according to the first embodiment of the present invention is made of a plate-shaped dielectric, a power supply electrode is coupled to one side, and the power supply is on the opposite side. A discharge electrode unit in which a plurality of discharge electrodes for inducing a dielectric barrier discharge (DBD) output power when power is applied to the supply electrode are disposed; An upper housing having a hollow lower open type, a separator disposed therein forming a space in which the discharge electrode part is accommodated, and a gas inlet formed at a side wall; And a hollow upper open type and combined with the upper housing to form a gas supply chamber, and a dielectric tube corresponding to the plurality of discharge electrodes and into which the discharge electrode is inserted is arranged, and the outer wall of the dielectric tube has a predetermined length. The lower housing is surrounded by a metal tube or a metal strip-shaped ground electrode and is grounded; and when gas is supplied into the gas supply chamber through the gas inlet and power is applied to the power supply electrode, a dielectric barrier discharge (DBD ) When output power is induced, a dielectric barrier discharge plasma jet is generated through the dielectric tube.

본 발명의 제1실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치에 있어서, 상기 방전전극부는 상기 방전전극부와 결합되고 상기 복수의 방전전극이 1대1 대응하여 삽입 고정되는 관통구멍들이 형성되어 있고 상기 관통구멍의 상측부와 하측부 및 내측벽부가 금속재질로 형성된 기판을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.In the dielectric barrier discharge plasma jet generating apparatus according to the first embodiment of the present invention, the discharge electrode portion is coupled to the discharge electrode portion, and through holes to which the plurality of discharge electrodes are inserted and fixed in a one-to-one correspondence are formed. It is characterized in that it is configured to further include a substrate formed of a metal material, the upper and lower portions and the inner wall portion of the through hole.

본 발명의 제1실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치에 있어서, 상기 하부 하우징의 유전체관과 동일한 배열로 형성된 요홈에 상기 유전체관이 삽입되도록 상기 하부 하우징의 일면에 부착되고 상기 요홈에 형성된 분사구멍을 통해 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트를 방출하는 절연 밀봉판을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.In the dielectric barrier discharge plasma jet generating apparatus according to the first embodiment of the present invention, the dielectric tube is attached to one surface of the lower housing so that the dielectric tube is inserted into a recess formed in the same arrangement as the dielectric tube of the lower housing and formed in the recess. And an insulating sealing plate for discharging the dielectric barrier discharge plasma jet through the spray hole.

본 발명의 제1실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치에 있어서, 상기 유전체관의 상단이 상기 상부 하우징의 측벽에 형성된 가스유입구의 상단 보다 더 높은 위치에서 상기 격리판과 근접하도록 배치되는 것을 특징으로 한다.In the dielectric barrier discharge plasma jet generating apparatus according to the first embodiment of the present invention, the upper end of the dielectric tube is disposed to be close to the separator at a higher position than the upper end of the gas inlet formed on the sidewall of the upper housing. It features.

상기와 같은 본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 제2실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치는, 판상의 유전체로 제작되고 일면에 전원공급전극이 결합되어 있고 반대면에 상기 전원공급전극으로 전원 인가시 유전체 장벽 방전(DBD; Dielectic Barrier Discharge) 출력 전력이 유도되는 복수의 방전전극이 배치되어 있는 방전전극부와; 중공의 하부 개방형이고 내부에 상기 방전전극부가 수용되는 공간을 형성하는 격리판이 배치되어 있고 측벽에 가스유입구가 형성되어 있는 상부 하우징; 중공의 상부 개방형이고 상기 상부 하우징과 결합하여 가스공급챔버를 형성하고 상기 복수의 방전전극에 1대1 대응하고 상기 방전전극이 삽입되는 가스유도관이 배열되어 있는 하부 하우징; 일측 단부가 상기 가스유도관의 말단과 결합되어 가스공급경로를 연장하고 내부에 상기 방전전극과 연결되어 유전체 장벽 방전(DBD) 출력 전력을 유도하는 전극연결선이 수용되고 타측 단부에 상기한 가스공급챔버로부터 원거리에 위치하도록 유전체관이 결합되는 절연체관; 및 상기 절연체관에 수용되는 전극연결선이 삽입 배치되도록 상기 절연체관의 단부에 결합되어 상기한 가스공급챔버로부터 원거리에 위치하고 정해진 길이의 금속관이나 금속띠 형상으로 된 접지전극이 외벽에 둘러져 접지되는 유전체관;으로 구성되고, 상기 가스유입구를 통해 가스공급챔버 내부로 가스가 공급된 후 상기 가스유도관을 통해 상기 절연체관 내부로 가스공급경로가 연장되고 상기 전원공급전극으로 전원 인가 시 상기 방전전극과 연결된 전극연결선에 유전체 장벽 방전(DBD) 출력 전력이 유도되면 상기 유전체관을 통해 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트를 발생하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the other object of the present invention as described above, the dielectric barrier discharge plasma jet generator according to the second embodiment of the present invention is made of a plate-shaped dielectric, a power supply electrode is coupled to one side, and the other side is A discharge electrode portion in which a plurality of discharge electrodes for inducing a dielectric barrier discharge (DBD) output power when power is applied to the power supply electrode are disposed; An upper housing having a hollow lower open type, a separator disposed therein forming a space in which the discharge electrode part is accommodated, and a gas inlet formed at a side wall; A lower housing which is a hollow upper open type and is combined with the upper housing to form a gas supply chamber, which corresponds one to one to the plurality of discharge electrodes, and in which a gas guide tube into which the discharge electrodes are inserted is arranged; One end is coupled to the end of the gas guide pipe to extend the gas supply path, and the electrode connection wire is connected to the discharge electrode to induce the dielectric barrier discharge (DBD) output power, and the gas supply chamber described above is at the other end. An insulator tube to which the dielectric tube is coupled to be located at a distance from And a dielectric tube that is connected to an end of the insulator tube so that the electrode connection line accommodated in the insulator tube is inserted and disposed, located at a distance from the gas supply chamber, and a ground electrode in the shape of a metal tube or metal strip of a predetermined length is wrapped around the outer wall and grounded And, after the gas is supplied into the gas supply chamber through the gas inlet, the gas supply path is extended into the insulator tube through the gas guide pipe, and is connected to the discharge electrode when power is applied to the power supply electrode. When the dielectric barrier discharge (DBD) output power is induced to the electrode connection line, a dielectric barrier discharge plasma jet is generated through the dielectric tube.

본 발명의 제2실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치에 있어서, 상기 방전전극부는 상기 방전전극부와 결합되고 상기 복수의 방전전극이 1대1 대응하여 삽입 고정되는 관통구멍들이 형성되어 있고 상기 관통구멍의 상측부와 하측부 및 내측벽부가 금속재질로 형성된 기판을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.In the dielectric barrier discharge plasma jet generating apparatus according to the second embodiment of the present invention, the discharge electrode portion is coupled to the discharge electrode portion, and through holes to which the plurality of discharge electrodes are inserted and fixed in a one-to-one correspondence are formed. It is characterized in that it is configured to further include a substrate formed of a metal material, the upper and lower portions and the inner wall portion of the through hole.

본 발명의 제2실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치에 있어서, 상기 가스유도관의 말단을 막는 덮개를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.In the dielectric barrier discharge plasma jet generating apparatus according to the second embodiment of the present invention, it is characterized in that it is configured to further include a cover for blocking an end of the gas guide tube.

본 발명의 제2실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치에 있어서, 상기 절연체관은 유연하고 길이가 연장되는 것을 특징으로 한다.In the dielectric barrier discharge plasma jet generator according to the second embodiment of the present invention, the insulator tube is flexible and has an elongated length.

본 발명의 제2실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치에 있어서, 상기 가스유도관의 상단이 상기 상부 하우징의 측벽에 형성된 가스유입구의 상단 보다 더 높은 위치에서 상기 격리판과 근접하도록 배치되는 것을 특징으로 한다.In the dielectric barrier discharge plasma jet generating apparatus according to the second embodiment of the present invention, the upper end of the gas guide pipe is disposed to be close to the separator at a position higher than the upper end of the gas inlet formed on the sidewall of the upper housing. It is characterized by that.

본 발명의 제2실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치에 있어서, 상기 유전체관은 플라즈마 제트를 적용하는 물체의 표면의 크기, 위치, 입체 형태 중 어느 하나 혹은 둘 이상에 맞춘 홀더에 결합되어 사용되는 것을 특징으로 한다.In the dielectric barrier discharge plasma jet generating apparatus according to the second embodiment of the present invention, the dielectric tube is coupled to a holder adapted to one or two or more of the size, position, and three-dimensional shape of the surface of the object to which the plasma jet is applied. It is characterized by being used.

본 발명에 따르면 다중 플라즈마 제트를 물체의 대면적에 개별로 동시에 복수의 개소에 적용할 수 있고, 특히 절연체관의 단부에 결합되어 가스공급챔버로부터 원거리에 위치한 유전체관을 통해 산업분야에서 다뤄지는 다양하고 입체적인 형태의 물체 표면을 처리하거나 일정하지 않은 간격의 복수의 개소에 플라즈마 제트를 쉽고 편리하게 적용할 수 있다.According to the present invention, multiple plasma jets can be applied to a plurality of locations individually at the same time on a large area of an object. In particular, various types of plasma jets handled in the industrial field through dielectric tubes located at a distance from the gas supply chamber coupled to the ends of the insulator tube. And, it is possible to easily and conveniently apply a plasma jet to a plurality of locations with irregular intervals or to treat the surface of an object having a three-dimensional shape.

도 1은 본 발명에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치의 제1실시예.
도 2는 도 1의 평면도.
도 3은 도 1의 하부 하우징의 평면도.
도 4는 도 1의 하부 하우징의 저면도.
도 5는 본 발명에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치의 제2실시예.
도 6은 본 발명에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치의 제2실시예의 사용 상태도.1 is a first embodiment of a dielectric barrier discharge plasma jet generating apparatus according to the present invention.
Figure 2 is a plan view of Figure 1;
Figure 3 is a plan view of the lower housing of Figure 1;
Figure 4 is a bottom view of the lower housing of Figure 1;
5 is a second embodiment of a dielectric barrier discharge plasma jet generating apparatus according to the present invention.
Fig. 6 is a state diagram in use of a second embodiment of the dielectric barrier discharge plasma jet generator according to the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

이하에서 설명하는 본 발명에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치는 하기의 실시예에 한정되지 않고, 청구범위에서 청구하는 기술의 요지를 벗어남이 없이 해당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변경하여 실시할 수 있는 범위까지 그 기술적 정신이 있다.The dielectric barrier discharge plasma jet generator according to the present invention described below is not limited to the following embodiments, and anyone with ordinary knowledge in the relevant technical field without departing from the gist of the technology claimed in the claims It has its technical spirit to the extent that it can be changed and implemented.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치(100)는 방전전극부(110)와 상부 하우징(120), 하부 하우징(130) 및 절연 밀봉판(140)으로 구성된다.1 to 4, the dielectric barrier discharge plasma jet generator 100 according to the first embodiment of the present invention includes a discharge electrode unit 110, an upper housing 120, a lower housing 130, and an insulating seal. It consists of a plate 140.

상기 방전전극부(110)는 판상의 유전체로 제작되고 일면에 전원공급전극(111)이 결합되어 있고 반대면에 상기 전원공급전극(111)으로 전원 인가시 유전체 장벽 방전(DBD; Dielectic Barrier Discharge) 출력 전력이 유도되는 관, 봉 또는 침 등의 형태로 된 복수의 방전전극(112)이 배치되어 있다.The discharge electrode unit 110 is made of a plate-shaped dielectric, and a power supply electrode 111 is coupled to one surface thereof, and a dielectric barrier discharge (DBD) when power is applied to the power supply electrode 111 on the opposite surface. A plurality of discharge electrodes 112 in the form of tubes, rods, needles, etc. from which output power is induced are disposed.

상기 방전전극부(110)는 상기 방전전극부(110)와 결합되고 상기 복수의 방전전극(112)이 1대1 대응하여 삽입 고정되는 관통구멍들이 형성되어 있고 상기 관통구멍의 상측부와 하측부 및 내측벽부가 금속재질로 형성된 기판(113)(예컨대, PCB)을 더 포함한다.The discharge electrode part 110 is coupled to the discharge electrode part 110 and has through holes through which the plurality of discharge electrodes 112 are inserted and fixed in a one-to-one correspondence, and the upper and lower parts of the through holes And a substrate 113 (eg, a PCB) in which the inner wall portion is formed of a metal material.

상기 복수의 방전전극(112)이 상기 기판(113)의 관통구멍에 1대1 대응하여 삽입 고정되어 일정한 규격과 간격을 유지하면 균일한 출력 전압이 유도된다.When the plurality of discharge electrodes 112 are inserted and fixed in a one-to-one correspondence with the through hole of the substrate 113 to maintain a certain standard and interval, a uniform output voltage is induced.

상기 방전전극(112)의 말단은 1대1 대응하는 하기의 유전체관(131)의 상단 개구부를 통해 정해진 길이만큼 수직으로 삽입 배치하는 것이 바람직하다.It is preferable that the distal end of the discharge electrode 112 is vertically inserted and disposed by a predetermined length through the upper opening of the dielectric tube 131 corresponding to one-to-one.

상기 방전전극(112)의 규격은 수 mm 이하로 직경 0.2∼3mm가 바람직하고, 전극간 간격은 복수의 유전체관(131)에서 독립적으로 형성되는 플라즈마 제트의 형태 또는 특성에 상호 영향이 없되 단위 면적당 플라즈마 제트의 접촉면이 최대가 되는 거리로 결정하는 것이 바람직하다.The size of the discharge electrode 112 is preferably several mm or less and a diameter of 0.2 to 3 mm, and the inter-electrode spacing does not affect the shape or characteristics of the plasma jets independently formed in the plurality of dielectric tubes 131, but per unit area. It is desirable to determine the distance at which the contact surface of the plasma jet is maximized.

상기 전원공급전극(111) 또는 상기 방전전극(112)은 텅스텐, 몰리브덴, 티타늄, 스테인리스(SUS) 또는 구리 중 하나 이상의 재질로 구성되는 것이 바람직하며, 재료의 가공성, 가격 등을 고려하여 결정될 수 있다.The power supply electrode 111 or the discharge electrode 112 is preferably made of at least one of tungsten, molybdenum, titanium, stainless steel (SUS), or copper, and may be determined in consideration of workability and price of the material. .

상기 상부 하우징(120)은 중공의 하부 개방형이고 내부에 상기 방전전극부(110)가 수용되는 공간을 형성하는 격리판(121)이 배치되어 있고 측벽에 가스유입구(122)가 형성되어 있다.The upper housing 120 is a hollow lower open type, and a separator 121 defining a space for accommodating the discharge electrode 110 is disposed therein, and a gas inlet 122 is formed on a side wall.

상기 격리판(121)은 상기 방전전극(112)이 돌출된 기판(113)의 일면으로의 가스 유입을 차단한다.The separator 121 blocks gas from flowing into one surface of the substrate 113 from which the discharge electrode 112 protrudes.

상기 하부 하우징(130)은 중공의 상부 개방형이고 상기 상부 하우징(120)과 결합하여 가스공급챔버(C)를 형성하고 상기 복수의 방전전극(112)에 1대1 대응하고 상기 방전전극(112)이 삽입되는 유전체관(131)이 배열되어 있고 상기 유전체관(131)의 외벽은 정해진 길이의 금속관이나 금속띠 형상의 접지전극(132)으로 둘러져 접지된다.The lower housing 130 is a hollow upper open type and is combined with the upper housing 120 to form a gas supply chamber (C), and corresponds to the plurality of discharge electrodes 112 one-to-one, and the discharge electrode 112 The inserted dielectric tube 131 is arranged and the outer wall of the dielectric tube 131 is grounded by being surrounded by a metal tube or a metal strip-shaped ground electrode 132 of a predetermined length.

상기 유전체관(131)의 상단은 상기 상부 하우징(120)의 측벽에 형성된 가스유입구(122)의 상단 보다 더 높은 위치(h)에서 상기 격리판(121)과 근접하도록 배치되는 것이 바람직하다. 참고로, 상기 가스유입구(122)의 상단은 해당 가스유입구(122)의 단면(예컨대, 원형 단면)의 상단을 가리킨다.The upper end of the dielectric pipe 131 is preferably disposed to be close to the separator 121 at a higher position h than the upper end of the gas inlet 122 formed on the sidewall of the upper housing 120. For reference, the upper end of the gas inlet 122 indicates the upper end of the cross-section (eg, circular cross-section) of the gas inlet 122.

상기 유전체관(131)의 규격은 두께 0.1∼3mm 정도이고 관의 내경은 2∼5mm가 바람직하다.The dielectric tube 131 has a thickness of about 0.1 to 3 mm, and the inner diameter of the tube is preferably 2 to 5 mm.

상기 접지전극(132)과 상기 방전전극(112)간 거리는 수 mm 이하, 예컨대 2∼4mm가 바람직하고, 상기 접지전극(132)의 폭은 수 mm 이하, 예컨대 4∼6mm가 바람직하다.The distance between the ground electrode 132 and the discharge electrode 112 is preferably several mm or less, such as 2 to 4 mm, and the width of the ground electrode 132 is several mm or less, such as 4 to 6 mm.

상기 가스공급챔버(C)의 높이 또는 체적은 상기한 가스유입구(122)로부터 상기 복수의 유전체관(131) 각각의 상단 개구부까지의 거리에 따른 가스유량의 차이가 없는 정압이 유지되는 범위에서 결정하는 것이 바람직하다.The height or volume of the gas supply chamber C is determined within a range in which a positive pressure without a difference in gas flow rate according to the distance from the gas inlet 122 to the upper opening of each of the plurality of dielectric tubes 131 is maintained. It is desirable to do it.

상기 가스공급챔버(C) 내부로 공급되는 가스는 공기(Air), 산소(O2), 오존(O3), 질소(N2), 아르곤(Ar), 헬륨(He) 중 어느 하나이거나 둘 이상을 포함하는 가스인 것이 바람직하다.The gas supplied into the gas supply chamber (C) is one or two of air (Air), oxygen (O 2 ), ozone (O 3 ), nitrogen (N 2 ), argon (Ar), and helium (He). It is preferable that it is a gas containing the above.

상기 가스공급챔버(C) 내부로 공급되는 가스의 유량은 기체의 흐름이 안정적인 층류영역인 0.5∼2.0 lpm(liters per mimute)이 바람직하다.The flow rate of gas supplied into the gas supply chamber C is preferably 0.5 to 2.0 lpm (liters per mimute), which is a laminar flow region in which gas flow is stable.

상기 절연 밀봉판(140)은 상기 하부 하우징(130)의 유전체관(131)과 동일한 배열로 형성된 요홈(141)에 상기 유전체관(131)이 삽입되도록 상기 하부 하우징(130)의 일면에 부착되고 상기 요홈(141)에 형성된 분사구멍(142)을 통해 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트를 방출한다.The insulating sealing plate 140 is attached to one surface of the lower housing 130 so that the dielectric tube 131 is inserted into a groove 141 formed in the same arrangement as the dielectric tube 131 of the lower housing 130, The dielectric barrier discharge plasma jet is discharged through the injection hole 142 formed in the recess 141.

본 발명의 제1실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치(100)에 있어서, 상기 방전전극부(110) 또는 유전체관(131)을 형성하는 유전체는 알루미나(Al2O3), 지르코늄, 석영 또는 유리, 고분자 물질 중 하나 이상의 재질로 구성되는 것이 바람직하며, 재료의 가공성 또는 가격을 고려하여 결정될 수 있다.In the dielectric barrier discharge plasma jet generating apparatus 100 according to the first embodiment of the present invention, the dielectric forming the discharge electrode portion 110 or the dielectric tube 131 is alumina (Al 2 O 3 ), zirconium, It is preferably made of at least one of quartz, glass, and polymer, and may be determined in consideration of processability or cost of the material.

또한, 상기 상부 하우징(120)과 상기 격리판(121), 상기 하부 하우징(130) 및 상기 절연 밀봉판(140)은 오존과 같은 플라즈마 이온에 안정성이 있는 실리콘(Silicone), 고밀도폴리에틸렌(HDPE), 저밀도폴리에틸렌(LDPE), 폴리에틸렌(PE), 폴리염화비닐(PVC), 아크릴로니트릴부타디엔스틸렌(ABS), 폴리우레탄(PU) 중 하나의 재질로 구성되는 것이 바람직하며, 장치의 안정성과 내구성을 고려하여 결정될 수 있다.In addition, the upper housing 120, the separator 121, the lower housing 130, and the insulating sealing plate 140 are formed of silicon, high-density polyethylene (HDPE) having stability against plasma ions such as ozone. , Low-density polyethylene (LDPE), polyethylene (PE), polyvinyl chloride (PVC), acrylonitrile butadiene styrene (ABS), it is preferable to be composed of one of polyurethane (PU), stability and durability of the device. Can be determined in consideration.

상기와 같이 구성되는 본 발명의 제1실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치(100)는 다음과 같이 작동한다.The dielectric barrier discharge plasma jet generator 100 according to the first embodiment of the present invention configured as described above operates as follows.

본 발명의 제1실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치(100)는 가스공급부(300)로부터 상기 가스유입구(122)를 통해 가스공급챔버(C) 내부로 가스가 공급되고 전원공급부(400)로부터 상기 전원공급전극(111)으로 전원 인가 시 상기 방전전극(112)에 유전체 장벽 방전(DBD) 출력 전력이 유도되면 상기 유전체관(131)을 통해 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트를 발생한다.In the dielectric barrier discharge plasma jet generator 100 according to the first embodiment of the present invention, gas is supplied from the gas supply unit 300 through the gas inlet 122 into the gas supply chamber C, and the power supply unit 400 When power is applied to the power supply electrode 111 from ), when a dielectric barrier discharge (DBD) output power is induced to the discharge electrode 112, a dielectric barrier discharge plasma jet is generated through the dielectric tube 131.

이때, 상기한 바와 같이 유전체관(131)의 상단이 상기 상부 하우징(120)의 측벽에 형성된 가스유입구(122)의 상단 보다 더 높은 위치(h)에서 상기 격리판(121)과 근접하도록 배치된 구조에 기인하여 가스공급챔버(C) 내부에서 공급된 가스가 복수의 유전체관(131)의 상단 개구를 통해 균일하게 공급될 수 있는 정압 상태를 유지하므로 각각의 유전체관(131) 별로 공급 가스 유량 및 유속의 불균일함을 최소화할 수 있으며, 그 결과로 상기 절연 밀봉판(140)에 배열된 복수의 요홈(141)에 삽입된 복수의 유전체관(131) 각각에서 균일한 플라즈마 제트를 방출하게 된다.At this time, as described above, the upper end of the dielectric pipe 131 is disposed to be close to the separator 121 at a higher position (h) than the upper end of the gas inlet 122 formed on the sidewall of the upper housing 120. Due to the structure, the gas supplied from the gas supply chamber C maintains a constant pressure state that can be uniformly supplied through the upper openings of the plurality of dielectric pipes 131, so the supply gas flow rate for each dielectric pipe 131 And it is possible to minimize the non-uniformity of the flow rate, as a result, a uniform plasma jet is emitted from each of the plurality of dielectric tubes 131 inserted into the plurality of grooves 141 arranged in the insulating sealing plate 140. .

이때, 상기 전원공급부(400)는 외부전원을 인가받아 이를 소정의 크기의 전압을 가지는 교류 또는 펄스 전원으로 변환하여 출력하는 것이 바람직하고, 입력되는 전원의 전압을 증폭하는 트랜스포머 및 정류기 등을 포함하여 구성될 수 있다. 또한, 입력되는 전원의 종류 및 전압, 출력되는 전원의 종류 등에 따라 적절한 형태의 전원공급부로 구성될 수 있다.In this case, the power supply unit 400 receives external power, converts it to an AC or pulsed power having a predetermined voltage, and outputs it, and includes a transformer and a rectifier to amplify the voltage of the input power. Can be configured. In addition, it may be configured as an appropriate type of power supply according to the type and voltage of the input power, the type of the output power, and the like.

본 발명의 제1실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치(100)는 상기 절연 밀봉판(140)에 배열된 복수의 분사구멍(142)을 통해 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트를 방출하기 때문에 상기 절연 밀봉판(140)으로 대상 물체의 대면적 표면에 대한 저온 대기압 플라즈마 제트 처리가 가능하여 바이오/의료산업, 식품산업, 환경산업, 재료산업 등과 같은 다양한 산업분야에서 활용할 수 있다.The dielectric barrier discharge plasma jet generator 100 according to the first embodiment of the present invention emits the dielectric barrier discharge plasma jet through the plurality of spray holes 142 arranged in the insulating sealing plate 140. The sealing plate 140 enables low-temperature atmospheric pressure plasma jet treatment on a large area surface of a target object, so that it can be used in various industrial fields such as bio/medical industry, food industry, environment industry, and material industry.

도 5 내지 도 6을 참조하면, 본 발명의 제2실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치(100')는 방전전극부(110)와 상부 하우징(120), 하부 하우징(130'), 절연체관(140'), 유전체관(150) 및 홀더(160a,160b,160c,160d)로 구성된다.5 to 6, a dielectric barrier discharge plasma jet generating apparatus 100' according to a second embodiment of the present invention includes a discharge electrode unit 110, an upper housing 120, and a lower housing 130'. It consists of an insulator tube 140 ′, a dielectric tube 150 and holders 160a, 160b, 160c, and 160d.

본 실시예는 상기한 제1실시예와 달리 가스공급챔버(C) 내부로 공급되는 가스를 상기 하부 하우징(130') 내부의 가스유도관(131')을 경유하여 상기 절연체관(140')으로 공급하고 상기 절연체관(140')의 단부에 결합되어 가스공급챔버(C)로부터 원거리에 위치한 유전체관(150)을 통해 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트를 발생한다.In this embodiment, unlike the first embodiment, the gas supplied into the gas supply chamber (C) is passed through a gas guide pipe (131') inside the lower housing (130') to the insulator pipe (140'). And is coupled to the end of the insulator tube 140 ′ to generate a dielectric barrier discharge plasma jet through the dielectric tube 150 located at a distance from the gas supply chamber C.

상기 방전전극부(110)는 판상의 유전체로 제작되고 일면에 전원공급전극(111)이 결합되어 있고 반대면에 상기 전원공급전극(111)으로 전원 인가시 유전체 장벽 방전(DBD; Dielectic Barrier Discharge) 출력 전력이 유도되는 관, 봉 또는 침 등의 형태로 된 복수의 방전전극(112)이 배치되어 있다.The discharge electrode unit 110 is made of a plate-shaped dielectric, and a power supply electrode 111 is coupled to one surface thereof, and a dielectric barrier discharge (DBD) when power is applied to the power supply electrode 111 on the opposite surface. A plurality of discharge electrodes 112 in the form of tubes, rods, needles, etc. from which output power is induced are disposed.

상기 방전전극부(110)는 상기 방전전극부(110)와 결합되고 상기 복수의 방전전극(112)이 1대1 대응하여 삽입 고정되는 관통구멍들이 형성되어 있고 상기 관통구멍의 상측부와 하측부 및 내측벽부가 금속재질로 형성된 기판(113)(예컨대, PCB)을 더 포함한다.The discharge electrode part 110 is coupled to the discharge electrode part 110 and has through holes through which the plurality of discharge electrodes 112 are inserted and fixed in a one-to-one correspondence, and the upper and lower parts of the through holes And a substrate 113 (eg, a PCB) in which the inner wall portion is formed of a metal material.

상기 복수의 방전전극(112)이 상기 기판(113)의 관통구멍에 1대1 대응하여 삽입 고정되어 일정한 규격과 간격을 유지하면 균일한 출력 전압이 유도된다.When the plurality of discharge electrodes 112 are inserted and fixed in a one-to-one correspondence with the through hole of the substrate 113 to maintain a certain standard and interval, a uniform output voltage is induced.

상기 방전전극(112)의 말단은 1대1 대응하는 하기의 가스유도관(131')의 상단 개구부를 통해 정해진 길이만큼 수직으로 삽입 배치하는 것이 바람직하다.It is preferable that the distal end of the discharge electrode 112 is vertically inserted and disposed by a predetermined length through the upper opening of the gas guide pipe 131 ′ corresponding to one to one.

상기 방전전극(112)의 규격은 수 mm 이하로 직경 0.2∼3mm가 바람직하고, 전극간 간격은 복수의 유전체관(131)에서 독립적으로 형성되는 플라즈마 제트의 형태 또는 특성에 상호 영향이 없되 단위 면적당 플라즈마 제트의 접촉면이 최대가 되는 거리로 결정하는 것이 바람직하다.The size of the discharge electrode 112 is preferably several mm or less and a diameter of 0.2 to 3 mm, and the inter-electrode spacing does not affect the shape or characteristics of the plasma jets independently formed in the plurality of dielectric tubes 131, but per unit area. It is desirable to determine the distance at which the contact surface of the plasma jet is maximized.

상기 전원공급전극(111) 또는 상기 방전전극(112)은 텅스텐, 몰리브덴, 티타늄, 스테인리스(SUS) 또는 구리 중 하나 이상의 재질로 구성되는 것이 바람직하며, 재료의 가공성, 가격 등을 고려하여 결정될 수 있다.The power supply electrode 111 or the discharge electrode 112 is preferably made of at least one of tungsten, molybdenum, titanium, stainless steel (SUS), or copper, and may be determined in consideration of workability and price of the material. .

상기 상부 하우징(120)은 중공의 하부 개방형이고 내부에 상기 방전전극부(110)가 수용되는 공간을 형성하는 격리판(121)이 배치되어 있고 측벽에 가스유입구(122)가 형성되어 있다.The upper housing 120 is a hollow lower open type, and a separator 121 defining a space for accommodating the discharge electrode 110 is disposed therein, and a gas inlet 122 is formed on a side wall.

상기 격리판(121)은 상기 방전전극(112)이 돌출된 기판(113)의 일면으로의 가스 유입을 차단한다.The separator 121 blocks gas from flowing into one surface of the substrate 113 from which the discharge electrode 112 protrudes.

상기 하부 하우징(130')은 중공의 상부 개방형이고 상기 상부 하우징(120)과 결합하여 가스공급챔버(C)를 형성하고 상기 복수의 방전전극(112)에 1대1 대응하고 상기 방전전극(112)이 삽입되는 가스유도관(131')이 배열되어 있다.The lower housing 130 ′ is a hollow upper open type and is combined with the upper housing 120 to form a gas supply chamber C, and corresponds to the plurality of discharge electrodes 112 one-to-one, and the discharge electrode 112 A gas guide pipe 131' into which) is inserted is arranged.

상기 가스유도관(131')의 말단은 덮개(132')로 막는 것이 바람직하다.It is preferable to close the end of the gas guide pipe 131 ′ with a cover 132 ′.

상기 가스유도관(131')의 상단은 상기 상부 하우징(120)의 측벽에 형성된 가스유입구(122)의 상단 보다 더 높은 위치(h)에서 상기 격리판(121)과 근접하도록 배치되는 것이 바람직하다. 참고로, 상기 가스유입구(122)의 상단은 해당 가스유입구(122)의 단면(예컨대, 원형 단면)의 상단을 가리킨다.It is preferable that the upper end of the gas guide pipe 131 ′ is disposed to be close to the separator 121 at a higher position (h) than the upper end of the gas inlet 122 formed on the sidewall of the upper housing 120. . For reference, the upper end of the gas inlet 122 indicates the upper end of the cross-section (eg, circular cross-section) of the gas inlet 122.

상기 가스공급챔버(C)의 높이 또는 체적은 상기한 가스유입구(122)로부터 상기 복수의 가스유도관(131') 각각의 상단 개구부까지의 거리에 따른 가스유량의 차이가 없는 정압이 유지되는 범위에서 결정하는 것이 바람직하다.The height or volume of the gas supply chamber C is a range in which a positive pressure without a difference in gas flow rate according to the distance from the gas inlet 122 to the upper opening of each of the plurality of gas guide pipes 131 ′ is maintained It is desirable to determine from.

상기 가스공급챔버(C) 내부로 공급되는 가스는 공기(Air), 산소(O2), 오존(O3), 질소(N2), 아르곤(Ar), 헬륨(He) 중 어느 하나이거나 둘 이상을 포함하는 가스인 것이 바람직하다.The gas supplied into the gas supply chamber (C) is one or two of air (Air), oxygen (O 2 ), ozone (O 3 ), nitrogen (N 2 ), argon (Ar), and helium (He). It is preferable that it is a gas containing the above.

상기 가스공급챔버(C) 내부로 공급되는 가스의 유량은 기체의 흐름이 안정적인 층류영역인 0.5∼2.0 lpm(liters per mimute)이 바람직하다.The flow rate of gas supplied into the gas supply chamber C is preferably 0.5 to 2.0 lpm (liters per mimute), which is a laminar flow region in which gas flow is stable.

상기 절연체관(140')은 일측 단부가 상기 가스유도관(131')의 말단과 결합되어 가스공급경로를 연장하고 내부에 상기 방전전극(112)과 연결되어 유전체 장벽 방전(DBD) 출력 전력을 유도하는 전극연결선(141')(예컨대, 금속선 또는 전선 등)이 수용되고 타측 단부에 상기한 가스공급챔버(C)로부터 원거리에 위치하도록 유전체관(150)이 결합된다.One end of the insulator tube 140 ′ is coupled to the end of the gas guide tube 131 ′ to extend the gas supply path and is connected to the discharge electrode 112 therein to provide a dielectric barrier discharge (DBD) output power. The induction electrode connection line 141' (eg, a metal wire or an electric wire, etc.) is accommodated, and the dielectric tube 150 is coupled to the other end to be located at a distance from the gas supply chamber C.

상기 절연체관(140')은 유연하고 길이가 연장되어 상기 유전체관(150)을 상기한 가스공급챔버(C)로부터 원거리에 위치하도록 결합하는 것이 바람직하다.It is preferable that the insulator tube 140 ′ is flexible and extends in length so that the dielectric tube 150 is located at a distance from the gas supply chamber C.

상기 절연체관(140')의 규격은 수 mm 이하로 직경 2∼3mm가 바람직하고, 길이는 0.8∼1.2mm가 바람직하다.The standard of the insulator tube 140' is several mm or less, preferably 2 to 3 mm in diameter, and preferably 0.8 to 1.2 mm in length.

상기 절연체관(140')은 플라즈마 제트를 대상 물체에 적용 시의 작업성을 고려하여 실리콘(Silicone), 폴리우레탄(PU) 중 어느 하나의 재질로 구성되는 것이 바람직하다.The insulator tube 140 ′ is preferably made of any one of silicon and polyurethane in consideration of workability when applying a plasma jet to a target object.

상기 유전체관(150)은 상기 절연체관(140')에 수용되는 전극연결선(141')(예컨대, 금속선 또는 전선 등)이 삽입 배치되도록 상기 절연체관(140')의 단부에 결합되어 상기한 가스공급챔버(C)로부터 원거리에 위치하고 정해진 길이의 금속관이나 금속띠 형상으로 된 접지전극(151)이 외벽에 둘러져 접지된다.The dielectric tube 150 is coupled to the end of the insulator tube 140 ′ so that the electrode connection line 141 ′ (eg, metal wire or wire, etc.) accommodated in the insulator tube 140 ′ is inserted and disposed. A ground electrode 151 in the shape of a metal tube or metal strip located at a distance from the supply chamber C and having a predetermined length is surrounded by an outer wall to be grounded.

상기 전극연결선(141')은 구리와 같은 금속재질의 선 또는 전선으로 직경은 0.1∼0.2mm인 것이 바람직하다.The electrode connection wire 141 ′ is preferably a wire or wire made of a metal material such as copper and has a diameter of 0.1 to 0.2 mm.

상기 유전체관(150)의 규격은 두께 0.1∼3mm 정도이고 관의 내경은 2∼5mm가 바람직하다.The dielectric tube 150 has a thickness of about 0.1 to 3 mm, and the inner diameter of the tube is preferably 2 to 5 mm.

상기 접지전극(151)과 상기 전극연결선(141')간 거리는 수 mm 이하, 예컨대 2∼4mm가 바람직하고, 상기 접지전극(151)의 폭은 수 mm 이하, 예컨대 4∼6mm가 바람직하다.The distance between the ground electrode 151 and the electrode connection line 141 ′ is preferably several mm or less, for example 2 to 4 mm, and the width of the ground electrode 151 is several mm or less, such as 4 to 6 mm.

상기 방전전극(112)과 연결된 전극연결선(141')(예컨대, 금속선 또는 전선 등)은 1대1 대응하는 유전체관(150)의 상단 개구부를 통해 정해진 길이만큼 수직으로 삽입 배치하는 것이 바람직하다.It is preferable that the electrode connection line 141 ′ connected to the discharge electrode 112 (eg, a metal wire or an electric wire) is vertically inserted and disposed by a predetermined length through the upper opening of the dielectric tube 150 corresponding to one-to-one.

상기 유전체관(150)은 플라즈마 제트를 적용하는 물체의 표면의 크기, 위치, 입체 형태에 맞춘 홀더(160a,160b,160c,160d)에 결합되어 사용되는 것이 바람직하다.The dielectric tube 150 is preferably used in combination with holders 160a, 160b, 160c, and 160d adapted to the size, position, and three-dimensional shape of the surface of the object to which the plasma jet is applied.

본 발명의 제2실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치(100')에 있어서, 상기 방전전극부(110) 또는 유전체관(150)을 형성하는 유전체는 알루미나(Al2O3), 지르코늄, 석영 또는 유리, 고분자 물질 중 하나 이상의 재질로 구성되는 것이 바람직하며, 재료의 가공성 또는 가격을 고려하여 결정될 수 있다.In the dielectric barrier discharge plasma jet generating apparatus 100 ′ according to the second embodiment of the present invention, a dielectric material forming the discharge electrode portion 110 or the dielectric tube 150 is alumina (Al 2 O 3 ), zirconium , Quartz or glass, preferably composed of one or more materials of a polymer material, it may be determined in consideration of the processability or price of the material.

또한, 상기 상부 하우징(120)과 상기 격리판(121), 상기 하부 하우징(130) 및 상기 가스유도관(131')은 오존과 같은 플라즈마 이온에 안정성이 있는 실리콘(Silicone), 고밀도폴리에틸렌(HDPE), 저밀도폴리에틸렌(LDPE), 폴리에틸렌(PE), 폴리염화비닐(PVC), 아크릴로니트릴부타디엔스틸렌(ABS), 폴리우레탄(PU) 중 하나의 재질로 구성되는 것이 바람직하며, 장치의 안정성과 내구성을 고려하여 결정될 수 있다.In addition, the upper housing 120, the separator 121, the lower housing 130, and the gas guide pipe 131 ′ have silicon, high-density polyethylene (HDPE) that are stable against plasma ions such as ozone. ), low-density polyethylene (LDPE), polyethylene (PE), polyvinyl chloride (PVC), acrylonitrile butadiene styrene (ABS), polyurethane (PU), and the stability and durability of the device Can be determined in consideration of.

상기와 같이 구성되는 본 발명의 제2실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치(100')는 다음과 같이 작동한다.The dielectric barrier discharge plasma jet generator 100' according to the second embodiment of the present invention configured as described above operates as follows.

본 발명의 제2실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치(100')는 가스공급부(300)로부터 상기 가스유입구(122)를 통해 가스공급챔버(C) 내부로 가스가 공급된 후 상기 가스유도관(131')을 통해 상기 절연체관(140') 내부로 가스공급경로가 연장되고 전원공급부(400)로부터 상기 전원공급전극(111)으로 전원 인가 시 상기 방전전극(112)과 연결된 전극연결선(141')(예컨대, 금속선 또는 전선 등)에 유전체 장벽 방전(DBD) 출력 전력이 유도되면 상기 유전체관(150)을 통해 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트를 발생한다.In the dielectric barrier discharge plasma jet generator 100 ′ according to the second embodiment of the present invention, the gas is supplied from the gas supply unit 300 to the gas supply chamber C through the gas inlet 122. An electrode connection line connected to the discharge electrode 112 when the gas supply path is extended into the insulator tube 140 ′ through the induction tube 131 ′ and power is applied from the power supply unit 400 to the power supply electrode 111 When the dielectric barrier discharge (DBD) output power is induced to 141 ′ (eg, a metal wire or an electric wire), a dielectric barrier discharge plasma jet is generated through the dielectric tube 150.

이때, 상기한 바와 같이 가스유도관(131')의 상단이 상기 상부 하우징(120)의 측벽에 형성된 가스유입구(122)의 상단 보다 더 높은 위치(h)에서 상기 격리판(121)과 근접하도록 배치된 구조에 기인하여 가스공급챔버(C) 내부에서 공급된 가스가 복수의 가스유도관(131')의 상단 개구를 통해 균일하게 공급될 수 있는 정압 상태를 유지하므로 각각의 가스유도관(131')에 결합된 절연체관(140')의 단부에 결합된 유전체관(150) 별로 공급 가스 유량 및 유속의 불균일함을 최소화할 수 있으며, 그 결과로 상기 절연체관(140')의 단부에 결합된 유전체관(150) 각각에서 균일한 플라즈마 제트를 방출하게 된다.At this time, as described above, the upper end of the gas guide pipe 131 ′ is closer to the separator 121 at a higher position (h) than the upper end of the gas inlet 122 formed on the sidewall of the upper housing 120. Due to the arrangement, the gas supplied from the gas supply chamber C maintains a constant pressure state in which the gas supplied from the gas supply chamber C can be uniformly supplied through the upper openings of the plurality of gas guide pipes 131 ′. It is possible to minimize the unevenness of the supply gas flow rate and flow rate for each dielectric pipe 150 coupled to the end of the insulator pipe 140 ′ coupled to the insulator pipe 140 ′, and as a result, coupled to the end of the insulator pipe 140 ′. A uniform plasma jet is emitted from each of the dielectric tubes 150.

이때, 상기 전원공급부(400)는 외부전원을 인가받아 이를 소정의 크기의 전압을 가지는 교류 또는 펄스 전원으로 변환하여 출력하는 것이 바람직하고, 입력되는 전원의 전압을 증폭하는 트랜스포머 및 정류기 등을 포함하여 구성될 수 있다. 또한, 입력되는 전원의 종류 및 전압, 출력되는 전원의 종류 등에 따라 적절한 형태의 전원공급부로 구성될 수 있다.In this case, the power supply unit 400 receives external power, converts it to an AC or pulsed power having a predetermined voltage, and outputs it, and includes a transformer and a rectifier to amplify the voltage of the input power. Can be configured. In addition, it may be configured as an appropriate type of power supply according to the type and voltage of the input power, the type of the output power, and the like.

본 발명의 제2실시예에 따른 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치(100')는 상기 덮개(132')가 제거된 가스유도관(131')에 상기 절연체관(140')을 결합하고 해당 절연체관(140')을 단부에 가스공급챔버(C)로부터 원거리에 위치하도록 상기 유전체관(150)을 결합하여 해당 유전체관(150)을 통해 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트를 방출하기 때문에 플라즈마 제트를 적용하는 물체의 표면의 크기, 위치, 입체 형태 중 어느 하나 혹은 둘 이상에 맞춘 홀더(160a,160b,160c,160d)에 유전체관(150)을 결합하여 사용함으로써 대상 물체의 대면적 표면 혹은 입체적인 표면에 대한 저온 대기압 플라즈마 제트 처리가 가능하여 바이오/의료산업, 식품산업, 환경산업, 재료산업 등과 같은 다양한 산업분야에서 활용할 수 있다.The dielectric barrier discharge plasma jet generator 100' according to the second embodiment of the present invention couples the insulator tube 140' to the gas guide tube 131' from which the cover 132' has been removed, and Since the dielectric tube 150 is coupled so that the tube 140 ′ is located at a distance from the gas supply chamber C at the end, the dielectric barrier discharge plasma jet is emitted through the dielectric tube 150. By combining the dielectric tube 150 to the holder (160a, 160b, 160c, 160d) adapted to one or two or more of the size, location, and three-dimensional shape of the surface of the object, It can be used in various industrial fields such as bio/medical industry, food industry, environmental industry, material industry, etc. as it is possible to process low temperature atmospheric pressure plasma jet.

참고로, 도 6에 나타낸 홀더 160a는 볼록한 물체의 표면에 맞추어 복수의 유전체관(150)을 결합하여 대상 물체의 대면적 입체 표면에 플라즈마 제트를 적용하기 위한 홀더이다.For reference, the holder 160a shown in FIG. 6 is a holder for applying a plasma jet to a large-area three-dimensional surface of a target object by combining a plurality of dielectric tubes 150 to match the surface of a convex object.

도 6에 나타낸 홀더 160b는 오목한 물체의 표면에 맞추어 복수의 유전체관(150)을 결합하여 대상 물체의 대면적 입체 표면에 플라즈마 제트를 적용하기 위한 홀더이다.The holder 160b shown in FIG. 6 is a holder for applying a plasma jet to a large-area three-dimensional surface of a target object by combining a plurality of dielectric tubes 150 to match the surface of a concave object.

도 6에 나타낸 홀더 160c는 평평한 물체의 표면에 맞추어 단일 유전체관(150)을 결합하여 대상 물체의 단일 개소에 플라즈마 제트를 적용하기 위한 홀더이다.The holder 160c shown in FIG. 6 is a holder for applying a plasma jet to a single location of a target object by combining a single dielectric tube 150 in accordance with the surface of a flat object.

도 6에 나타낸 홀더 160d는 평평한 물체의 표면에 맞추어 복수의 유전체관(150)을 결합하여 대상 물체의 대면적 표면에 플라즈마 제트를 적용하기 위한 홀더이다.The holder 160d shown in FIG. 6 is a holder for applying a plasma jet to a large area surface of a target object by combining a plurality of dielectric tubes 150 in accordance with the surface of a flat object.

상기와 같이 작동하는 본 발명에 따르면 다중 플라즈마 제트를 물체의 대면.적에 개별로 동시에 복수의 개소에 적용할 수 있고, 특히 상기한 바와 같이 절연체관(140')의 단부에 결합되어 가스공급챔버(C)로부터 원거리에 위치한 유전체관(150)을 통해 산업분야에서 다뤄지는 다양하고 입체적인 형태의 물체 표면을 처리하거나 일정하지 않은 간격의 복수의 개소에 플라즈마 제트를 쉽고 편리하게 적용할 수 있다.According to the present invention operating as described above, multiple plasma jets can be applied to a plurality of locations individually and simultaneously on a large surface area of an object. In particular, as described above, the gas supply chamber is coupled to the end of the insulator tube 140'. Through the dielectric tube 150 located at a distance from C), the surface of various and three-dimensional objects handled in the industrial field can be treated, or a plasma jet can be easily and conveniently applied to a plurality of locations with irregular intervals.

100,100': 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치
110: 방전전극부 111: 전원공급전극
112: 방전전극 113: 기판
120: 상부 하우징 121: 격리판
122: 가스유입구 130,130': 하부 하우징
131: 유전체관 131': 가스유도관
132: 접지전극 132': 덮개
140: 절연 밀봉판 140': 절연체관
141: 요홈 141': 전극연결선
142: 분사구멍 150: 유전체관
151: 접지전극 160a,160b,160c,160d: 홀더
300: 가스공급부 400: 전원공급부100,100': dielectric barrier discharge plasma jet generator
110: discharge electrode part 111: power supply electrode
112: discharge electrode 113: substrate
120: upper housing 121: separator
122: gas inlet 130,130': lower housing
131: dielectric pipe 131': gas guide pipe
132: ground electrode 132': cover
140: insulation sealing plate 140': insulator tube
141: groove 141': electrode connection line
142: spray hole 150: dielectric tube
151: ground electrode 160a, 160b, 160c, 160d: holder
300: gas supply unit 400: power supply unit

Claims (10)

판상의 유전체로 제작되고 일면에 전원공급전극이 결합되어 있고 반대면에 상기 전원공급전극으로 전원 인가시 유전체 장벽 방전(DBD; Dielectic Barrier Discharge) 출력 전력이 유도되는 복수의 방전전극이 배치되어 있는 방전전극부와;
중공의 하부 개방형이고 내부에 상기 방전전극부가 수용되는 공간을 형성하는 격리판이 배치되어 있고 측벽에 가스유입구가 형성되어 있는 상부 하우징; 및
중공의 상부 개방형이고 상기 상부 하우징과 결합하여 가스공급챔버를 형성하고 상기 복수의 방전전극에 1대1 대응하고 상기 방전전극이 삽입되는 유전체관이 배열되어 있고 상기 유전체관의 외벽은 정해진 길이의 금속관이나 금속띠 형상의 접지전극으로 둘러져 접지되는 하부 하우징;
으로 구성되고,
상기 가스유입구를 통해 가스공급챔버 내부로 가스가 공급되고 상기 전원공급전극으로 전원 인가 시 상기 방전전극에 유전체 장벽 방전(DBD) 출력 전력이 유도되면 상기 유전체관을 통해 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트를 발생하는 것을 특징으로 하는 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치.Discharge that is made of a plate-shaped dielectric and has a power supply electrode coupled to one side and a plurality of discharge electrodes to induce output power when power is applied to the power supply electrode on the opposite side. An electrode part;
An upper housing having a hollow lower open type, a separator disposed therein to form a space in which the discharge electrode part is accommodated, and a gas inlet formed at a side wall; And
A hollow upper open type, combined with the upper housing to form a gas supply chamber, a one-to-one correspondence to the plurality of discharge electrodes, and a dielectric tube into which the discharge electrode is inserted, and the outer wall of the dielectric tube is a metal tube of a predetermined length Or a lower housing that is grounded by being surrounded by a ground electrode in the shape of a metal strip;
Consists of,
When gas is supplied into the gas supply chamber through the gas inlet and when power is applied to the power supply electrode, when a dielectric barrier discharge (DBD) output power is induced to the discharge electrode, a dielectric barrier discharge plasma jet is generated through the dielectric tube. Dielectric barrier discharge plasma jet generating apparatus, characterized in that. 제 1 항에 있어서, 상기 방전전극부는 상기 방전전극부와 결합되고 상기 복수의 방전전극이 1대1 대응하여 삽입 고정되는 관통구멍들이 형성되어 있고 상기 관통구멍의 상측부와 하측부 및 내측벽부가 금속재질로 형성된 기판을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치.The method according to claim 1, wherein the discharge electrode part is coupled to the discharge electrode part, and through holes for inserting and fixing the plurality of discharge electrodes in a one-to-one correspondence are formed, and upper and lower parts and inner wall parts of the through hole are formed. Dielectric barrier discharge plasma jet generating apparatus, characterized in that the structure further comprises a substrate formed of a metal material. 제 1 항에 있어서, 상기 하부 하우징의 유전체관과 동일한 배열로 형성된 요홈에 상기 유전체관이 삽입되도록 상기 하부 하우징의 일면에 부착되고 상기 요홈에 형성된 분사구멍을 통해 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트를 방출하는 절연 밀봉판을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치.The insulation according to claim 1, wherein the dielectric tube is attached to one surface of the lower housing so that the dielectric tube is inserted into a recess formed in the same arrangement as the dielectric tube of the lower housing, and discharges a dielectric barrier discharge plasma jet through a spray hole formed in the recess. Dielectric barrier discharge plasma jet generating apparatus, characterized in that it is configured to further include a sealing plate. 제 1 항에 있어서, 상기 유전체관의 상단이 상기 상부 하우징의 측벽에 형성된 가스유입구의 상단 보다 더 높은 위치에서 상기 격리판과 근접하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치.The apparatus of claim 1, wherein an upper end of the dielectric tube is disposed to be closer to the separator at a position higher than an upper end of a gas inlet formed on a sidewall of the upper housing. 판상의 유전체로 제작되고 일면에 전원공급전극이 결합되어 있고 반대면에 상기 전원공급전극으로 전원 인가시 유전체 장벽 방전(DBD; Dielectic Barrier Discharge) 출력 전력이 유도되는 복수의 방전전극이 배치되어 있는 방전전극부와;
중공의 하부 개방형이고 내부에 상기 방전전극부가 수용되는 공간을 형성하는 격리판이 배치되어 있고 측벽에 가스유입구가 형성되어 있는 상부 하우징;
중공의 상부 개방형이고 상기 상부 하우징과 결합하여 가스공급챔버를 형성하고 상기 복수의 방전전극에 1대1 대응하고 상기 방전전극이 삽입되는 가스유도관이 배열되어 있는 하부 하우징;
일측 단부가 상기 가스유도관의 말단과 결합되어 가스공급경로를 연장하고 내부에 상기 방전전극과 연결되어 유전체 장벽 방전(DBD) 출력 전력을 유도하는 전극연결선이 수용되고 타측 단부에 상기한 가스공급챔버로부터 원거리에 위치하도록 유전체관이 결합되는 절연체관; 및
상기 절연체관에 수용되는 전극연결선이 삽입 배치되도록 상기 절연체관의 단부에 결합되어 상기한 가스공급챔버로부터 원거리에 위치하고 정해진 길이의 금속관이나 금속띠 형상으로 된 접지전극이 외벽에 둘러져 접지되는 유전체관;
으로 구성되고,
상기 가스유입구를 통해 가스공급챔버 내부로 가스가 공급된 후 상기 가스유도관을 통해 상기 절연체관 내부로 가스공급경로가 연장되고 상기 전원공급전극으로 전원 인가 시 상기 방전전극과 연결된 전극연결선에 유전체 장벽 방전(DBD) 출력 전력이 유도되면 상기 유전체관을 통해 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트를 발생하는 것을 특징으로 하는 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치.Discharge that is made of a plate-shaped dielectric and has a power supply electrode coupled to one side and a plurality of discharge electrodes to induce output power when power is applied to the power supply electrode on the opposite side. An electrode part;
An upper housing having a hollow lower open type, a separator disposed therein to form a space in which the discharge electrode part is accommodated, and a gas inlet formed at a side wall;
A lower housing which is a hollow upper open type and is combined with the upper housing to form a gas supply chamber, which corresponds one to one to the plurality of discharge electrodes, and in which a gas guide tube into which the discharge electrodes are inserted is arranged;
One end is coupled to the end of the gas guide pipe to extend the gas supply path, and the electrode connection wire is connected to the discharge electrode to induce the dielectric barrier discharge (DBD) output power, and the gas supply chamber described above is at the other end. An insulator tube to which the dielectric tube is coupled so as to be located at a distance from the insulator tube; And
A dielectric tube coupled to an end of the insulator tube so that the electrode connection line accommodated in the insulator tube is inserted and disposed, located at a distance from the gas supply chamber, and a ground electrode in the shape of a metal tube or metal strip of a predetermined length is surrounded by an outer wall to be grounded;
Consists of,
After the gas is supplied into the gas supply chamber through the gas inlet, the gas supply path is extended into the insulator tube through the gas guide tube, and when power is applied to the power supply electrode, a dielectric barrier to the electrode connection line connected to the discharge electrode. A dielectric barrier discharge plasma jet generating apparatus, characterized in that when a discharge (DBD) output power is induced, a dielectric barrier discharge plasma jet is generated through the dielectric tube. 제 5 항에 있어서, 상기 방전전극부는 상기 방전전극부와 결합되고 상기 복수의 방전전극이 1대1 대응하여 삽입 고정되는 관통구멍들이 형성되어 있고 상기 관통구멍의 상측부와 하측부 및 내측벽부가 금속재질로 형성된 기판을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치.The method of claim 5, wherein the discharge electrode portion is coupled to the discharge electrode portion, and through holes for inserting and fixing the plurality of discharge electrodes are formed in a one-to-one correspondence, and upper and lower portions and inner wall portions of the through hole Dielectric barrier discharge plasma jet generating apparatus, characterized in that the structure further comprises a substrate formed of a metal material. 제 5 항에 있어서, 상기 가스유도관의 말단을 막는 덮개를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치.The dielectric barrier discharge plasma jet generating apparatus according to claim 5, further comprising a cover covering an end of the gas guide tube. 제 5 항에 있어서, 상기 절연체관은 유연하고 길이가 연장되는 것을 특징으로 하는 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치.6. The dielectric barrier discharge plasma jet generator according to claim 5, wherein the insulator tube is flexible and has an elongated length. 제 5 항에 있어서, 상기 가스유도관의 상단이 상기 상부 하우징의 측벽에 형성된 가스유입구의 상단 보다 더 높은 위치에서 상기 격리판과 근접하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치.6. The apparatus of claim 5, wherein an upper end of the gas guide pipe is disposed to be closer to the separator at a position higher than an upper end of a gas inlet formed on a sidewall of the upper housing. 제 5 항에 있어서, 상기 유전체관은 플라즈마 제트를 적용하는 물체의 표면의 크기, 위치, 입체 형태 중 어느 하나 혹은 둘 이상에 맞춘 홀더에 결합되어 사용되는 것을 특징으로 하는 유전체 장벽 방전 플라즈마 제트 발생 장치.6. The apparatus of claim 5, wherein the dielectric tube is used in combination with a holder adapted to one or more of a size, position, and three-dimensional shape of an object to which the plasma jet is applied. .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102529934B1 (en) * 2020-06-23 2023-05-04 두산에너빌리티 주식회사 Water pretreatment apparatus of filter unit including submerged type plasma apparatus
KR20210158010A (en) 2020-06-23 2021-12-30 두산중공업 주식회사 Submerged type plasma apparatus and water treatment system using the same
CN112804806A (en) * 2020-11-23 2021-05-14 北京劳动保障职业学院 Magnetic confinement three-dimensional plasma jet array method and system
CN112888133A (en) * 2020-12-31 2021-06-01 广州大学 Atmospheric pressure low temperature plasma jet array processing apparatus with adjustable structure
CN115636473A (en) * 2022-11-02 2023-01-24 山东大学 Water treatment device and method based on plasma

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008098128A (en) 2006-10-11 2008-04-24 Kunihide Tachibana Atmospheric pressure plasma generating and irradiating device

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100436297B1 (en) * 2000-03-14 2004-06-18 주성엔지니어링(주) Plasma spray apparatus for use in semiconductor device fabrication and method of fabricating semiconductor devices using the same
KR100967878B1 (en) * 2007-11-27 2010-07-05 주식회사 에스디알앤디 Underwater plasma producing apparatus and method using thereof
KR20110109111A (en) * 2010-03-30 2011-10-06 경남과학기술대학교 산학협력단 Apparatus and method for treating water by using plasma gun
KR20180075726A (en) 2016-12-26 2018-07-05 광운대학교 산학협력단 Plume controllable surface-discharged low temperature atmospheric pressure plasma jet

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008098128A (en) 2006-10-11 2008-04-24 Kunihide Tachibana Atmospheric pressure plasma generating and irradiating device

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