KR102139477B1 - Sample sensing and analyzing method using sample analyzing apparatus based on image processing using characteristic difference of medium - Google Patents

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Abstract

본 발명은 다이렉트 컨택 방식의 시료 분석 장치에 대한 것으로서, 시료로 서로 다른 파장의 광을 이시(異時)에 조사하는 광원; 상기 광원의 파장별 광 조사에 따른 상기 시료에 대한 데이터를 센싱하는 센서부로서, 상기 시료는 상기 센서부에 접하여 위치하는 것인 센서부; 및 상기 광원의 파장별 광 조사에 따른 상기 센서부의 파장별 센싱 데이터를 이용하여, 시료에 포함된 구성요소들에 대한 이미지 데이터를 획득하는 제어부를 포함한다.The present invention relates to a sample analysis device of a direct contact method, the light source irradiating light of different wavelengths to the sample at a time; A sensor unit for sensing data on the sample according to light irradiation by wavelength of the light source, wherein the sample is located in contact with the sensor unit; And a control unit that acquires image data for the components included in the sample by using the sensing data for each wavelength of the sensor unit according to light irradiation by wavelength of the light source.

Description

매질 특성 차이를 이용한 영상 기반의 시료 분석 장치를 이용하여 시료를 측정하고 분석하는 방법 {SAMPLE SENSING AND ANALYZING METHOD USING SAMPLE ANALYZING APPARATUS BASED ON IMAGE PROCESSING USING CHARACTERISTIC DIFFERENCE OF MEDIUM}How to measure and analyze a sample using an image-based sample analysis device using difference in media characteristics {SAMPLE SENSING AND ANALYZING METHOD USING SAMPLE ANALYZING APPARATUS BASED ON IMAGE PROCESSING USING CHARACTERISTIC DIFFERENCE OF MEDIUM}

본 발명은 매질 특성 차이를 이용한 영상 기반의 시료 분석 장치 및 이를 이용하여 시료를 측정하고 분석하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an image-based sample analysis apparatus using differences in media characteristics and a method of measuring and analyzing a sample using the same.

일반적으로, 광학 현미경을 이용하여 영상 기반으로 시료의 구성 요소를 분석하기는 어렵다. 이 때문에, 영상 기반으로 시료의 구성 요소를 분석하기 위해서 시료의 염색 과정을 수행하고 있으며, 염색된 시료를 광학 현미경으로 확인하는 과정을 거치고 있다. 이러한 경우 시료를 염색하는 과정을 거쳐야 한다는 번거로움이 있었다.In general, it is difficult to analyze components of a sample based on an image using an optical microscope. For this reason, in order to analyze the components of the sample on the basis of the image, a dyeing process of the sample is performed, and a process of checking the dyed sample with an optical microscope is being performed. In this case, there was a hassle of going through the process of dyeing the sample.

또한, 시료의 염색된 특정 부분을 정확하게 확인하기 위해서는 1차적으로 저배율의 넓은 면적 이미지를 이용하고 이후에 2차적으로 고배율의 좁은 면적 이미지를 추가적으로 이용하는 과정을 거치고 있다. 이 때문에, 저배율 이미지와 고배율 이미지를 획득하기 위해서 여러 배율의 렌즈들을 가지는 광학 현미경이 요구되는 실정이며, 부분 확대된 시료 이미지를 추가적으로 획득해야 하는 번거로움이 존재하였다.In addition, in order to accurately identify a specific stained portion of the sample, a process of firstly using a large area image with a low magnification and subsequently using a small area image with a high magnification is additionally used. For this reason, in order to obtain a low magnification image and a high magnification image, an optical microscope having lenses of various magnifications is required, and there is a hassle of additionally acquiring a partially enlarged sample image.

또한, 기존 광학 현미경은 시료와 센서부가 소정 간격 이격되어 있어, 미세한 시료의 매질 차이를 정확하게 영상으로 파악하는 것이 불가능하였다.In addition, in the existing optical microscope, since the sample and the sensor part are spaced apart at predetermined intervals, it is impossible to accurately grasp the difference in the medium between the fine samples with an image.

상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명은 복수의 광학 렌즈를 사용하지 않더라도 정밀하게 시료를 분석할 수 있는 시료 분석 장치를 제공할 수 있다.The present invention for solving the above-described problems can provide a sample analysis device capable of accurately analyzing a sample even without using a plurality of optical lenses.

또한, 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명은 매질의 특성 차이를 이용하여 시료를 염색하지 않더라도 시료의 구성요소를 확인할 수 있는 시료 분석 장치를 제공할 수 있다. 또한, 본 발명은 복수의 파장의 광을 조사하고, 각 파장별로 센싱되는 센싱 데이터를 이용하여 시료에 포함된 세포에 대한 이미지 데이터를 획득하는 시료 분석 장치를 제공할 수 있다.In addition, the present invention for solving the problems as described above can provide a sample analysis device that can identify the components of the sample even if the sample is not dyed using the difference in the characteristics of the medium. In addition, the present invention can provide a sample analysis device that irradiates light of a plurality of wavelengths and acquires image data for cells included in a sample using sensing data sensed for each wavelength.

또한, 본 발명은 광원을 이동시킴으로써 시료를 정밀하게 분석할 수 있는 시료 분석 장치를 제공할 수 있다.In addition, the present invention can provide a sample analysis device capable of precisely analyzing a sample by moving a light source.

또한, 본 발명은 포커싱 렌즈를 이용하여 광원의 광을 포커싱하여, 시료를 정확하게 분석할 수 있는 시료 분석 장치를 제공할 수 있다.In addition, the present invention can provide a sample analysis device capable of accurately analyzing a sample by focusing light of a light source using a focusing lens.

또한, 본 발명은 캘리브레이션을 통해 시료의 미세한 특성 차이도 구분할 수 있는 시료 분석 장치를 이용하여 시료를 측정하고 분석하는 방법을 제공할 수 있다.In addition, the present invention can provide a method of measuring and analyzing a sample using a sample analysis device capable of distinguishing minute characteristics differences of samples through calibration.

본 발명이 해결하고자 하는 과제들은 이상에서 언급된 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems to be solved by the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상술한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 시료 분석 장치는, 시료로 서로 다른 파장의 광을 이시(異時)에 조사하는 광원; 상기 광원의 파장별 광 조사에 따른 상기 시료에 대한 데이터를 센싱하는 센서부로서, 상기 시료는 상기 센서부에 접하여 위치하는 것인 센서부; 및 상기 광원의 파장별 광 조사에 따른 상기 센서부의 파장별 센싱 데이터를 이용하여, 시료에 포함된 구성요소들에 대한 이미지 데이터를 획득하는 제어부를 포함한다.A sample analysis device according to an exemplary embodiment of the present invention for solving the above-described problem includes: a light source irradiating light of different wavelengths to a sample at a time; A sensor unit for sensing data on the sample according to light irradiation by wavelength of the light source, wherein the sample is located in contact with the sensor unit; And a control unit that acquires image data for the components included in the sample by using the sensing data for each wavelength of the sensor unit according to light irradiation by wavelength of the light source.

상술한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 시료 분석 장치를 이용한 시료 측정 및 분석 방법은, 상기 시료 분석 장치의 센서부를 캘리브레이션하는 단계; 상기 시료의 표준 특성 이미지에 대한 데이터베이스를 구축하는 단계; 상기 시료 분석 장치를 이용하여 시료를 측정하는 단계; 및 측정된 이미지 데이터를 이용하여 시료를 분석하고 시료에 대하여 판정을 하는 단계를 포함한다.A sample measurement and analysis method using a sample analysis device according to an embodiment of the present invention for solving the above-described problems includes: calibrating a sensor unit of the sample analysis device; Constructing a database for a standard characteristic image of the sample; Measuring a sample using the sample analysis device; And analyzing the sample using the measured image data and making a judgment on the sample.

상기와 같은 본 발명에 따르면, 광학렌즈를 사용하지 않음은 물론 시료를 염색하지 않더라도 시료의 구성요소를 확인할 수 있는 시료 분석 장치를 제공함으로써, 정확하면서도 신속한 시료 분석이 가능한 효과가 있다.According to the present invention as described above, by providing a sample analysis device that can confirm the components of the sample even if the sample is not dyed as well as the use of an optical lens, there is an effect capable of accurate and rapid sample analysis.

또한, 본 발명은 파장별 매질의 광 특성 차이를 이용하여 복수의 이미지 데이터를 획득하고 재구성(reconstruction)함으로써, 시료의 구성요소 분석이 가능한 효과가 있다.In addition, according to the present invention, a plurality of image data is acquired and reconstructed using differences in optical characteristics of a medium for each wavelength, so that component analysis of a sample can be analyzed.

또한, 본 발명은 광원의 수평적 이동을 통해 광 입사각을 변경시킴으로써 시료의 구성요소를 효과적으로 분석할 수 있다.In addition, the present invention can effectively analyze the components of the sample by changing the light incident angle through horizontal movement of the light source.

또한, 본 발명은 포커싱 렌즈를 이용하여 포커싱 포인트를 조절하여 시료를 분석하기 때문에, 오차를 최소화하고 정확하게 시료를 분석할 수 있도록 하는 효과가 있다.In addition, since the present invention analyzes a sample by adjusting a focusing point using a focusing lens, there is an effect of minimizing errors and accurately analyzing the sample.

이 밖에 본 발명은 캘리브레이션을 통해 시료의 미세한 특성 차이도 구분할 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention has an effect capable of distinguishing fine characteristic differences of samples through calibration.

본 발명의 효과들은 이상에서 언급된 효과로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 시료 분석 장치의 정면도.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 시료 분석 장치의 정면도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 시료 내에 포함된 세포들을 예시한 예시도.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 복수의 파장별로 센싱되는 이미지 데이터를 예시한 예시도.
도 5는 제어부가 도 4에서 센싱된 이미지 데이터를 합하여 최종 이미지를 생성한 것을 예시한 예시도.
도 6는 본 발명의 실시예에 따른 도 4 및 도 5에서 센싱된 세포 이미지를 데이터베이스와 매칭하는 것을 예시한 예시도.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 시료 분석 장치에 컬러필터가 포함된 것을 예시한 예시도.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 시료 분석 장치에 포커싱 렌즈가 포함된 것을 예시한 예시도.
도 9는 본 발명의 실시예에 따른 시료 분석 장치를 이용한 시료 측정 및 분석 방법의 순서도.
도 10은 도 9의 S100 단계의 세부적인 순서도.
도 11은 도 10의 S110 단계의 측정을 설명하기 위한 예시도.
도 12는 도 10의 S120 단계의 측정을 설명하기 위한 예시도.
도 13은 도 10의 S110 단계의 세부적인 순서도.
도 14는 (a)광반응도의 각 픽셀 공간적 균일도 측정 예시도, (b)광반응도의 각 픽셀 공간적 선형성 측정 예시도, (c)광반응도의 각 픽셀 공간적 선형성 캘리브레이션 예시도.
도 15은 도 10의 S120 단계의 세부적인 순서도.
도 16은 도 10의 S120 단계의 측정 예시도.
도 17은 도 9의 S300 단계의 세부적인 순서도.
도 18은 도 9의 S300 단계의 예시도.
1 is a front view of a sample analysis device according to an embodiment of the present invention.
2 is a front view of a sample analysis device according to another embodiment of the present invention.
3 is an exemplary view illustrating cells included in a sample according to an embodiment of the present invention.
4 is an exemplary diagram illustrating image data sensed by a plurality of wavelengths according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5 is an exemplary view illustrating that the controller generates a final image by adding image data sensed in FIG. 4.
6 is an exemplary view illustrating matching of the cell images sensed in FIGS. 4 and 5 with a database according to an embodiment of the present invention.
7 is an exemplary view illustrating that a color filter is included in a sample analysis device according to an embodiment of the present invention.
8 is an exemplary view illustrating that a focusing lens is included in a sample analysis device according to an embodiment of the present invention.
9 is a flow chart of a sample measurement and analysis method using a sample analysis device according to an embodiment of the present invention.
10 is a detailed flowchart of step S100 of FIG. 9;
11 is an exemplary view for explaining the measurement of step S110 of FIG.
12 is an exemplary view for explaining the measurement of step S120 of FIG.
13 is a detailed flowchart of step S110 of FIG. 10;
14 is an example of (a) measurement of spatial uniformity of each pixel of photoreactivity, (b) an illustration of measurement of spatial linearity of each pixel of photoreactivity, and (c) an illustration of calibration of each pixel spatial linearity of photoreactivity.
15 is a detailed flowchart of step S120 of FIG. 10;
16 is a measurement example of step S120 of FIG. 10.
17 is a detailed flowchart of step S300 of FIG. 9;
18 is an exemplary view of step S300 of FIG. 9.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 제한되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 기술자에게 본 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Advantages and features of the present invention, and methods for achieving them will be clarified with reference to embodiments described below in detail together with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in various different forms, and only the present embodiments allow the disclosure of the present invention to be complete, and are common in the technical field to which the present invention pertains. It is provided to fully inform the skilled person of the scope of the present invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소 외에 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. 명세서 전체에 걸쳐 동일한 도면 부호는 동일한 구성 요소를 지칭하며, "및/또는"은 언급된 구성요소들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다. 비록 "제1", "제2" 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.The terminology used herein is for describing the embodiments and is not intended to limit the present invention. In the present specification, the singular form also includes the plural form unless otherwise specified in the phrase. As used herein, “comprises” and/or “comprising” does not exclude the presence or addition of one or more other components other than the components mentioned. Throughout the specification, the same reference numerals refer to the same components, and “and/or” includes each and every combination of one or more of the components mentioned. Although "first", "second", etc. are used to describe various components, it goes without saying that these components are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another component. Therefore, it goes without saying that the first component mentioned below may be the second component within the technical spirit of the present invention.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 기술자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또한, 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms (including technical and scientific terms) used in this specification may be used in a sense that can be commonly understood by those skilled in the art to which the present invention pertains. In addition, terms that are defined in a commonly used dictionary are not ideally or excessively interpreted unless specifically defined.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

이하, 매질 특성 차이를 이용한 영상 기반의 시료 분석 장치(1)를 설명한다.Hereinafter, an image-based sample analysis device 1 using a difference in media characteristics will be described.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 시료 분석 장치(1)의 정면도이다.1 is a front view of a sample analysis device 1 according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 시료 분석 장치(1)를 설명하도록 한다.A sample analysis device 1 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 1.

시료 분석 장치(1)는 광원지지부(10), 센서지지부(15), 광원(20), 센서부(30), 제어부(40)를 포함한다.The sample analysis device 1 includes a light source support 10, a sensor support 15, a light source 20, a sensor unit 30, and a control unit 40.

광원(20)은 광원지지부(10)에 의해 지지되어 시료(100)로 서로 다른 파장을 갖는 복수의 파장의 광을 조사한다. 여기서, 광원(20)은 백색광(white light)과 같이 다파장의 광을 일시에 시료(100)에 조사하는 것은 아니며, 서로 다른 파장을 갖는 복수의 광을 시차를 두고 시료(100)에 조사한다.The light source 20 is supported by the light source support 10 and irradiates light of a plurality of wavelengths having different wavelengths to the sample 100. Here, the light source 20 does not illuminate the sample 100 at a time, such as white light, but irradiates the sample 100 with a plurality of lights having different wavelengths at different times. .

일 실시예로, 광원(20)은 시료 분석 장치(1)의 상부인 광원지지부(10)에 배치되며, 하측에 배치된 시료(100), 센서부(30) 방향으로 광을 조사한다.In one embodiment, the light source 20 is disposed on the light source support 10 which is the upper portion of the sample analysis device 1, and irradiates light in the direction of the sample 100 and the sensor unit 30 disposed on the lower side.

본 발명의 실시예에서는 제1파장, 제2파장 및 제3파장의 광을 조사하는 것을 예시하고, 여기서 제1 내지 제3 파장은 서로 다른 대역의 파장을 갖는다.In the embodiment of the present invention, it is illustrated that light of the first wavelength, the second wavelength, and the third wavelength is irradiated, wherein the first to third wavelengths have wavelengths of different bands.

이때, 파장의 종류 및 파장의 개수는 발명의 실시자가 용이하게 선택하도록 한다.At this time, the type of wavelength and the number of wavelengths are easily selected by the practitioner of the invention.

센서부(30)는 광원(20)의 파장별 광 조사에 따른 시료(100)에 대한 데이터를 센싱한다. 여기서, 센서부(30)는 센서 이외에 센서 패키지(package)를 포함하는 것으로 정의하고, 센서부(30)는 복수의 센서를 포함할 수 있으며, 각 픽셀(P) 단위로 이미지 데이터를 센싱할 수 있다.The sensor unit 30 senses data on the sample 100 according to light irradiation by wavelength of the light source 20. Here, the sensor unit 30 is defined as including a sensor package in addition to the sensor, and the sensor unit 30 may include a plurality of sensors, and sense image data in units of each pixel (P). have.

제어부(40)는 광원(20)의 파장별 광 조사에 따른 센서부(30)의 파장별 센싱 데이터를 이용하여, 시료(100)에 포함된 세포에 대한 이미지 데이터를 획득한다.The control unit 40 acquires image data for cells included in the sample 100 by using the sensing data for each wavelength of the sensor unit 30 according to light irradiation by wavelength of the light source 20.

예를 들어, 시료(100)가 없는 상태에서 광을 조사할 경우, 광원(20)으로부터 조사된 광 그대로 센서부(30)에서 데이터가 센싱된다. 하지만, 시료(100)가 배치되고 시료(100)에 특정 세포가 포함되어 있을 경우, 세포가 존재하는 영역에 대해서는 매질의 광 특성 차이로 인해 기타 영역과 다른 데이터가 센싱되게 된다.For example, when light is irradiated in the absence of the sample 100, data is sensed by the sensor unit 30 as it is irradiated from the light source 20. However, when the sample 100 is disposed and specific cells are included in the sample 100, data different from other regions is sensed in a region where the cells exist due to a difference in optical characteristics of the medium.

시료(세포)에 포함되는 내부 구성요소의 특성에 따라서, 광의 파장에 반응하는 정도가 다르고, 이로 인해 센서부(30)의 픽셀에 떨어지는 빛의 세기가 달라지게 되는데, 센서부(30)는 이러한 빛의 세기가 달라지는 것을 센싱하게 된다. 그리고, 제어부(40)는 위와 같은 센서부(30)의 센싱 데이터를 이용하여 시료(100)에 포함된 세포에 대한 이미지 데이터를 획득하게 된다.Depending on the characteristics of the internal components included in the sample (cell), the degree of response to the wavelength of light is different, which causes the intensity of light falling on the pixels of the sensor unit 30 to be different. Sensing that the intensity of light changes. Then, the control unit 40 acquires image data for the cells included in the sample 100 using the sensing data of the sensor unit 30 as described above.

이때, 제어부(40)는 각각의 파장별 광 조사에 따른 센서부(30)의 파장별 센싱 데이터를 이용하여 획득된 파장별 세포에 대한 이미지 데이터를 합하여, 시료(100)에 포함된 세포들에 대한 최종 이미지를 생성한다.At this time, the control unit 40 sums the image data for the cells for each wavelength obtained by using the sensing data for each wavelength of the sensor unit 30 according to the light irradiation for each wavelength, to the cells included in the sample 100 To create the final image.

일 실시예로, 센서부(30)는 시료 분석 장치(1)의 하면에 배치되며, 광원(20)은 광축이 센서부(30)의 면과 수직 방향이 되도록 배치된다. 또한, 광원(20)의 광축은 센서부(30)의 정중앙을 향하도록 한다.In one embodiment, the sensor unit 30 is disposed on the lower surface of the sample analysis device 1, and the light source 20 is disposed such that the optical axis is perpendicular to the surface of the sensor unit 30. In addition, the optical axis of the light source 20 is directed toward the center of the sensor unit 30.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 시료 분석 장치(1)는 다이렉트 컨택방식의 시료 분석 장치(1)로, 시료(100)가 센서부(30)의 상면에 직접 접촉하도록 위치할 수 있다. In addition, the sample analysis device 1 according to an embodiment of the present invention is a sample analysis device 1 of a direct contact method, and the sample 100 may be positioned to directly contact the upper surface of the sensor unit 30.

본 실시예에 따른 시료 분석 장치(1)는 다이렉트 컨택방식으로서 센서부(30)가 시료(100)와 직접 접촉하기 때문에, 센서부(30)의 각 픽셀이 해당 픽셀 바로 위에 접촉하는 시료(100)의 특정 부분을 통과하는 광 데이터를 수신할 수 있으며, 이러한 과정에서 다른 픽셀 위에 접촉하는 시료(100)의 다른 특정 부분을 통과하는 광 데이터의 영향을 최소화할 수 있다. 본 실시예에 따른 시료 분석 장치(1)를 이용하면, 따라서 미세한 시료(100)의 매질 차이를 정확하게 영상으로 파악하는 것이 가능하다.In the sample analysis device 1 according to the present embodiment, since the sensor unit 30 directly contacts the sample 100 as a direct contact method, the sample 100 in which each pixel of the sensor unit 30 directly contacts the corresponding pixel ), it is possible to receive the optical data passing through a specific portion, and in this process, it is possible to minimize the influence of the optical data passing through the other specific portion of the sample 100 contacting the other pixel. When the sample analysis device 1 according to the present embodiment is used, it is thus possible to accurately grasp the difference in the medium between the fine samples 100 with an image.

다만, 몇몇 실시예에서 도 2를 참조하면, 시료(100)와 센서부(30) 사이에 시료 홀더(50)가 위치할 수도 있다. 시료 홀더(50)의 두께가 미세하기 때문에, 도 2에 도시된 시료 분석 장치(2) 역시 다이렉트 컨택방식으로서 미세한 시료(100)의 매질 차이를 정확하게 영상으로 파악하는 것이 가능하다.However, referring to FIG. 2 in some embodiments, the sample holder 50 may be positioned between the sample 100 and the sensor unit 30. Since the thickness of the sample holder 50 is fine, the sample analysis device 2 shown in FIG. 2 is also a direct contact method, and it is possible to accurately grasp the difference in the medium of the fine sample 100 through an image.

전술한 구성을 이용하여 본 발명은 별도의 염색과정이 필요없이 시료를 분석하는 것이 가능하며, 이에 대해서는 자세하게 후술한다.Using the above-described configuration, the present invention can analyze a sample without the need for a separate staining process, which will be described later in detail.

시료(100)에 포함된 세포들에 광을 조사하여 센서부(30)를 통해 시각화하는 경우, 예를 들어, 백혈구는 라인 자체가 보이질 않는다. 따라서, 빛을 줄 때 백색광이 아닌 RGB 각 파장별로 광을 조사하는 것이 필요하며, 서로 다른 대역의 파장을 조사하는 경우 혈구를 구성하는 구성요소의 매질 특성 차이로 인하여 혈구를 통과하여 센서부(30)에 감지되는 데이터 값의 차이가 발생한다. 이 차이값을 이용하여 혈구를 구성하는 구성요소에 대한 이미지를 그릴 수 있기 때문에 별도의 염색 과정이 필요하지 않더라도 혈구의 구성요소를 확인할 수 있다.When the cells included in the sample 100 are irradiated with light and visualized through the sensor unit 30, for example, the leukocytes do not see the line itself. Therefore, when giving light, it is necessary to irradiate light for each wavelength of RGB rather than white light, and when irradiating wavelengths of different bands, the sensor unit 30 passes through the blood cell due to the difference in the media characteristics of the components constituting the blood cell. ), a difference in data values detected occurs. Since the image of the components constituting the blood cells can be drawn using this difference value, the components of the blood cells can be identified even if a separate staining process is not required.

도 3 내지 도 5를 참조하여 본 발명의 실시예에 대해서 설명하도록 한다. 도 3 내지 도 5는 도 1을 통해 설명한 파장별 광 조사에 따른 센싱 데이터를 이용하여 세포 이미지를 획득하는 것을 상세하게 예시한 도면이으로서, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 시료(100) 내에 포함된 세포들을 예시한 예시도이고, 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 복수의 파장별로 센싱되는 이미지 데이터를 예시한 예시도이며, 도 5는 제어부(40)가 도 4에서 센싱된 이미지 데이터를 합하여 최종 이미지를 생성한 것을 예시한 예시도이다.An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 to 5. 3 to 5 are diagrams illustrating in detail the acquisition of a cell image using sensing data according to light irradiation for each wavelength described through FIG. 1, and FIG. 3 is a sample 100 according to an embodiment of the present invention 4 is an exemplary view illustrating cells included in the image, and FIG. 4 is an exemplary view illustrating image data sensed by a plurality of wavelengths according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is an image in which the controller 40 is sensed in FIG. 4 It is an example diagram illustrating that the final image is generated by adding data.

도 3과 같이 시료(100)에는 n1, n2, m1, p1과 같은 구성요소들이 포함되어 있다고 가정한다.3, it is assumed that the sample 100 includes components such as n1, n2, m1, and p1.

그리고, n1, n2는 광원(20)의 제1파장에 대하여 반응성이 상대적으로 큰 구성요소이고, m1은 광원(20)의 제2파장에 대하여 반응성이 상대적으로 큰 구성요소이며, p1은 광원(20)의 제3파장에 대하여 반응성이 상대적으로 큰 구성요소이다.In addition, n1 and n2 are components having a relatively high reactivity to the first wavelength of the light source 20, m1 is a component having a relatively high reactivity to the second wavelength of the light source 20, and p1 is a light source ( It is a component that has a relatively high reactivity to the third wavelength of 20).

따라서, 광원(20)으로부터 제1파장이 조사되는 경우, 센서부(30)를 통해 도 4의 (a)에 도시된 것과 같이 제1파장에 따른 구성요소들(n1, n2, m1, p1)에 대한 데이터를 얻을 수 있다. 여기서, n1, n2 세포에 대한 이미지가 m1, p1에 비하여 상대적으로 선명한 것을 확인할 수 있으며, 제어부(40) n1, n2 구성요소를 투과한 광 강도가 m1, p1 구성요소를 투과한 광 강도에 비해 상대적으로 크다.Therefore, when the first wavelength is irradiated from the light source 20, the components according to the first wavelength (n1, n2, m1, p1) as shown in FIG. 4(a) through the sensor unit 30 You can get the data for Here, it can be seen that the images for n1 and n2 cells are relatively clear compared to m1 and p1, and the light intensity transmitted through the control unit 40 n1 and n2 components is compared to the light intensity transmitted through the m1 and p1 components. Is relatively large.

여기서, n1, n2 세포에 대한 이미지가 m1, p1에 대한 이미지에 비하여 상대적으로 선명한 이유는 매질 특성 차이 때문이며, 구체적으로 n1, n2, m1, p1 각각의 매질에 대한 제1파장의 투과율/흡수율이 서로 상이하기 때문이다.Here, the reason why the images for the n1 and n2 cells are relatively clear compared to the images for the m1 and the p1 is due to the difference in media characteristics, and specifically, the transmittance/absorption rate of the first wavelength for each of the media n1, n2, m1, p1 is Because they are different.

그리고, 광원(20)으로부터 제2파장이 조사되는 경우, 센서부(30)를 통해 도 4의 (b)에 도시된 것과 같이 제2파장에 따른 구성요소들(n1, n2, m1, p1)에 대한 데이터를 센싱하였고, 제어부(40)가 m1 세포에 대한 이미지 데이터를 획득하였다.And, when the second wavelength is irradiated from the light source 20, the components according to the second wavelength (n1, n2, m1, p1) as shown in Figure 4 (b) through the sensor unit 30 The data for the sensor was sensed, and the control unit 40 acquired image data for the m1 cell.

그리고, 광원(20)으로부터 제3파장이 조사되는 경우, 센서부(30)를 통해 도 4의 (c)에 도시된 것과 같이 제3파장에 따른 구성요소들(n1, n2, m1, p1)에 대한 데이터를 센싱하였고, 제어부(40)가 p1 세포에 대한 이미지 데이터를 획득하였다.And, when the third wavelength is irradiated from the light source 20, the components according to the third wavelength (n1, n2, m1, p1) as shown in Figure 4 (c) through the sensor unit 30 The data for was sensed, and the control unit 40 acquired image data for p1 cells.

도 5를 참조하면, 제어부(40)가 획득된 이미지 데이터를 합하여 시료(100)에 포함된 세포들에 대한 최종 이미지를 생성하였다. 즉, 제어부(40)는 서로 다른 파장에 따른 이미지 데이터를 합성(reconstruction)한다.Referring to FIG. 5, the control unit 40 sums the acquired image data to generate a final image of cells included in the sample 100. That is, the control unit 40 reconstructs image data according to different wavelengths.

따라서, 사용자는 최종 이미지를 통해서 시료(100)에 포함된 세포들을 분석할 수 있게 된다.Therefore, the user can analyze the cells included in the sample 100 through the final image.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 도 4 및 도 5에서 센싱된 세포 이미지를 데이터베이스(60)와 매칭하는 것을 예시한 예시도이다.6 is an exemplary diagram illustrating matching the cell images sensed in FIGS. 4 and 5 with the database 60 according to an embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 제어부(40)는 획득된 이미지 데이터와 데이터베이스(60)에 기 저장된 다수 개의 시료에 대한 데이터를 매칭하여, 시료(100)에 포함된 구성성분들을 분석하는 것을 특징으로 하고, 사용자로부터 입력받은 이미지 데이터에 대한 정보를 데이터베이스(60)에 저장하여 데이터를 축적하도록 한다.Referring to FIG. 6, the control unit 40 analyzes the components included in the sample 100 by matching the acquired image data with data for a plurality of samples previously stored in the database 60, Information about the image data input from the user is stored in the database 60 to accumulate the data.

따라서, 도 3 내지 도 5를 통해 수집된 n1, n2, m1, p1의 이미지 데이터가 데이터베이스(60)에 저장된 매질 특성(예컨대 파장별 매질의 투과도, 흡수율, 굴절각도 등)과 매칭하는지 여부를 확인하게 된다.Accordingly, it is checked whether the image data of n1, n2, m1, and p1 collected through FIGS. 3 to 5 matches media characteristics (for example, transmittance, absorption, refraction angle, etc. of media for each wavelength) stored in the database 60. Is done.

이를 위해, 데이터베이스(60)에는 매질 특성(예컨대 파장별 매질의 투과도, 흡수율, 굴절각도 등)에 대한 데이터가 저장되어 있는 것이 바람직하다.To this end, it is preferable that data about the medium characteristics (eg, transmittance, absorption rate, refractive angle, etc. of the medium for each wavelength) is stored in the database 60.

그리고, 매칭이 되지 않는 이미지 데이터에 대해서는 매칭이 실패하였거나, 데이터가 존재하지 않을 수 있으므로, 사용자가 직접 분석을 한 결과 데이터를 입력받고, 결과 데이터를 저장함으로써, 추후에 다시 사용할 수 있도록 한다.In addition, since the matching may fail for the image data that does not match, or the data may not exist, the result data directly analyzed by the user is input, and the result data is stored so that it can be used again later.

도 7은 본 발명의 실시예에 따른 시료 분석 장치(3)에 컬러필터(70)가 포함된 것을 예시한 예시도이다.7 is an exemplary view illustrating that the color filter 70 is included in the sample analysis device 3 according to the embodiment of the present invention.

도 7을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 시료 분석 장치(3)는 컬러필터(70)를 더 포함한다.Referring to FIG. 7, the sample analysis device 3 according to the embodiment of the present invention further includes a color filter 70.

보다 상세하게는, 센서부(30) 또는 시료(100)의 홀더는 컬러필터(70)를 더 포함한다. 이때, 센서부(30)는 센서부(30)의 상면에 컬러필터(70)가 배치될 수 있다. 여기서, 컬러필터(70)는 시료 홀더의 기능을 할 수도 있다.In more detail, the holder of the sensor unit 30 or the sample 100 further includes a color filter 70. In this case, the sensor unit 30 may be provided with a color filter 70 on the upper surface of the sensor unit 30. Here, the color filter 70 may function as a sample holder.

시료 분석 장치(1)는 컬러필터(70)가 포함됨에 따라서 센서부(30)에서 센싱되는 이미지 데이터에 컬러가 포함되기 때문에, 시료(100)을 염색하지 않고도 동일한 효과를 얻을 수 있게 된다.Since the sample analysis device 1 includes color in the image data sensed by the sensor unit 30 as the color filter 70 is included, the same effect can be obtained without dyeing the sample 100.

도 8은 본 발명의 실시예에 따른 시료 분석 장치(4)에 포커싱 렌즈(80)가 포함된 것을 예시한 예시도이다.8 is an exemplary view illustrating that the focusing lens 80 is included in the sample analysis device 4 according to the embodiment of the present invention.

도 8을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 시료 분석 장치(4)는, 광원(20)에서 조사되는 광을 시료(100) 또는 센서부(30)로 포커싱 해주는 포커싱 렌즈(80)를 더 포함한다.Referring to FIG. 8, the sample analysis device 4 according to the embodiment of the present invention further includes a focusing lens 80 that focuses light irradiated from the light source 20 to the sample 100 or the sensor unit 30. Includes.

이때, 포커싱 렌즈(80)는 광원(20)의 하측에 배치된다.At this time, the focusing lens 80 is disposed under the light source 20.

광원(20)의 광축은 센서부(30)의 센서부(30)면과 수직이 되어, 센서부(30)의 정중앙을 향하도록 배치되기 때문에, 센서부(30)의 정중앙에서 멀어질 수록 밀도에 대한 분해능이 떨어지면서 퍼지게 되는 문제점이 발생할 수 있다.Since the optical axis of the light source 20 is perpendicular to the surface of the sensor unit 30 of the sensor unit 30 and is arranged to face the center of the sensor unit 30, the farther from the center of the sensor unit 30 the density A problem that may spread while the resolution for the may decrease may occur.

그리고, 위와 같은 문제는 세포에 대한 데이터를 센싱하는 데 있어서 오차가 발생할 수 있다.And, the above problem may cause an error in sensing data about the cell.

따라서, 포커싱 렌즈(80)를 통해서 포커싱 포인트를 이동시켜 주고, 광이 포커싱 되는 지점 주변의 데이터를 센싱함으로써, 위와 같은 문제점이 발생하지 않도록 할 수 있다.Therefore, by moving the focusing point through the focusing lens 80 and sensing data around the point where the light is focused, it is possible to prevent such a problem from occurring.

보다 상세하게는, 포커싱 렌즈(80)는 포커싱 포인트를 시료(100)의 일측으로부터 타측으로 이동시키고, 센서부(30)는 포커싱 포인트 주변의 데이터를 센싱하되, 포커싱 포인트의 이동에 따라서 연속적으로 데이터를 센싱하도록 한다.More specifically, the focusing lens 80 moves the focusing point from one side of the sample 100 to the other side, and the sensor unit 30 senses data around the focusing point, but continuously data according to the movement of the focusing point. To sense.

또한, 포커싱 렌즈(80)는 포커싱 포인트의 X, Y, Z 좌표를 이동시키고, 제어부(40)는 포커싱 포인트의 이동에 따라서 센서부(30)에서 센싱되는 데이터들을 합성하여 시료(100)의 2차원 또는 3차원 이미지를 생성한다.In addition, the focusing lens 80 moves the X, Y, and Z coordinates of the focusing point, and the control unit 40 synthesizes data sensed by the sensor unit 30 according to the movement of the focusing point, and 2 of the sample 100. Create dimensional or three dimensional images.

따라서, 사용자는 시료(100)에 포함된 세포들에 대한 2차원 이미지 또는 3차원 이미지를 획득하여 시료(100)을 분석할 수 있게 된다.Accordingly, the user can analyze the sample 100 by acquiring a 2D image or a 3D image of cells included in the sample 100.

또한, 본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 시료 분석 장치(4)는 컬러필터(70)와 포커싱 렌즈(80)를 함께 포함하여 구성될 수 있다.In addition, according to another embodiment of the present invention, the sample analysis device 4 may be configured to include the color filter 70 and the focusing lens 80 together.

여기서, 도 8을 참조하면, 광원(20)의 수평방향 이동이 가능하고, 포커싱 렌즈(80)의 수직방향 이동이 가능하다.Here, referring to FIG. 8, the horizontal movement of the light source 20 is possible, and the vertical movement of the focusing lens 80 is possible.

광원(20)의 수평방향 이동이 있는 경우, 광원(20)의 수평방향 이동에 따라 시료(100)의 매질을 통과하는 광의 입사각과 입사거리가 달라지기 때문에, 이미지의 선명도가 높아지도록 할 수 있다.When there is a horizontal movement of the light source 20, since the incident angle and the incident distance of light passing through the medium of the sample 100 are changed according to the horizontal movement of the light source 20, the sharpness of the image can be increased. .

또한, 광원(20)의 수평방향 이동이 있는 경우, 광원(20)의 위치 변화에 따라 굴절각이 달라지기 때문에, 센싱 위치의 변화로 시료(100) 내에 서로 오버랩 되는 구성물질도 분석하기 용이해질 수 있다. 따라서 시료(100)의 입체적인 관찰이 가능할 수 있다.In addition, when there is a horizontal movement of the light source 20, since the refraction angle is changed according to the position change of the light source 20, it is possible to easily analyze constituent materials overlapping each other in the sample 100 due to the change in the sensing position. have. Therefore, three-dimensional observation of the sample 100 may be possible.

포커싱 렌즈(80)의 수직방향 이동이 있는 경우, 시료(100)의 이미지를 입체적으로 구현해 낼 수 있다.When there is a vertical movement of the focusing lens 80, the image of the sample 100 can be realized in three dimensions.

몇몇 실시예에서, 포커싱 렌즈(80)는 가변 곡률을 갖는 액체 렌즈일 수도 있다. 이러한 경우 포커싱 렌즈(80)의 위치는 고정되어 있더라도 곡률 가변을 통해 초점의 위치를 임의로 변경 가능할 수 있으며, 높낮이를 조절하는 것 대비 제품 콤팩트화에 유리할 수 있다.In some embodiments, the focusing lens 80 may be a liquid lens with variable curvature. In this case, although the position of the focusing lens 80 is fixed, the position of the focal point can be arbitrarily changed through variable curvature, and it can be advantageous for product compaction compared to adjusting the height.

이에 따라, 본 실시예에 따른 시료 분석 장치(4)에 따르면, 매질 차이에 따른 광 밀도(optical density) 차이뿐만 아니라, 광원(20)의 위치 변경을 통한 입체적(3D) 시료 분석이 가능하다.Accordingly, according to the sample analysis device 4 according to the present embodiment, it is possible to analyze a three-dimensional (3D) sample through a change in the position of the light source 20 as well as a difference in optical density according to a difference in a medium.

이하, 도 9 내지 도 18을 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 시료 분석 장치를 이용하여 시료를 측정하고 분석하는 방법을 설명한다. 여기서, 시료 분석 장치를 이용하여 시료를 측정하고 분석하는 방법은 제어부(40)에 의해서 수행되거나 수행되도록 제어될 수 있다.Hereinafter, a method of measuring and analyzing a sample using a sample analysis device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 9 to 18. Here, a method of measuring and analyzing a sample using a sample analysis device may be performed or controlled by the control unit 40.

도 9를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 시료 분석 장치를 이용하여 시료를 측정하고 분석하는 방법은, 시료 분석 장치(1)의 센서부(30)를 캘리브레이션하는 단계(S100), 시료의 표준 특성 이미지에 대한 데이터베이스를 구축하는 단계(S200), 시료 분석 장치(1)를 이용하여 시료를 측정하는 단계(S300) 및 측정된 이미지 데이터를 이용하여 시료를 분석하고 시료에 대하여 판정을 하는 단계(S400)를 포함한다. 다만, 몇몇 실시예에 따른 시료 분석 장치를 이용하여 시료를 측정하고 분석하는 방법은 도 9에 도시된 단계보다 상대적으로 적거나 많은 단계를 포함할 수도 있다.Referring to FIG. 9, a method of measuring and analyzing a sample using a sample analysis device according to an embodiment of the present invention includes: calibrating the sensor unit 30 of the sample analysis device 1 (S100); Building a database for the standard characteristic image of (S200), measuring the sample using the sample analysis device (S300) and analyzing the sample using the measured image data and making a judgment on the sample Step S400 is included. However, a method of measuring and analyzing a sample using a sample analysis device according to some embodiments may include relatively fewer or more steps than those shown in FIG. 9.

구체적으로, 도 9를 참조하면 시료 분석 장치(1)의 센서부(30)를 캘리브레이션한다(S100).Specifically, referring to FIG. 9, the sensor unit 30 of the sample analysis device 1 is calibrated (S100).

다이렉트 컨택 방식에서는 센서부(30)의 표면에 직접 컨택된 시료(100)를 측정하기 때문에, 시료(100)를 통과하는 광의 파장, 입사각 등 투과 특성과, 광이 통과하는 시료(100)를 구성하는 매질의 종류/성분에 따른 미세한 특성 차이를 정밀하게 센싱할 수 있어야만 한다. 이 때문에, 표준 평행 광원(120) 하에서 센서부(30)를 구성하는 각 픽셀들을 캘리브레이션하는 과정을 구비함으로써 시료 분석 장치(1)의 측정 및 분석의 정확도를 높일 수 있다.In the direct contact method, since the sample 100 directly contacted the surface of the sensor unit 30 is measured, the transmission characteristics such as wavelength and incident angle of light passing through the sample 100 and the sample 100 through which light passes are configured. It must be able to accurately sense the difference in minute characteristics according to the type/component of the medium to be made. For this reason, by calibrating each pixel constituting the sensor unit 30 under the standard parallel light source 120, it is possible to increase the accuracy of measurement and analysis of the sample analysis device 1.

시료 분석 장치(1)의 센서부(30)를 캘리브레이션하기 위해서(S100), 도 10 및 도 11을 참조하여 표준 평행 광원(120)에서 측정 결과에 기초하여 센서부(30)를 캘리브레이션하고(S110), 도 10 및 도 12를 참조하여 적용 광원(20)에서 구조물이 시료 분석 장치(1)에 포함된 상태에서 측정 결과에 기초하여 센서부(30)를 캘리브레이션할 수 있다(S120). 한편, 센서부(30) 위에 시료(100)를 위치시키지 않은 상태에서 캘리브레이션을 위해 센서부(30)를 이용하여 측정을 진행한다.In order to calibrate the sensor unit 30 of the sample analysis device 1 (S100), the sensor unit 30 is calibrated based on the measurement result in the standard parallel light source 120 with reference to FIGS. 10 and 11 (S110) ), the sensor unit 30 may be calibrated based on the measurement result while the structure is included in the sample analysis device 1 in the applied light source 20 with reference to FIGS. 10 and 12 (S120 ). On the other hand, the measurement is performed using the sensor unit 30 for calibration in a state in which the sample 100 is not placed on the sensor unit 30.

여기서, 표준 평행 광원(120)은 미리 정해진 종류의 광원이고, 필요에 따라 선택된 파장이 적용될 수 있다. 적용 광원(20)은 시료 분석 장치(1)에 채용되어 시료의 측정에 실제로 이용되는 광원이다. 그리고 구조물은 측정 과정에서 센서부(30) 상에 위치하여 측정에 영향을 줄 수 있는 것으로 시료 홀더(50), 컬러필터(70) 또는 카트리지 등을 포함할 수 있다.Here, the standard parallel light source 120 is a predetermined type of light source, and a selected wavelength may be applied as needed. The applied light source 20 is a light source that is employed in the sample analysis device 1 and is actually used for measurement of a sample. In addition, the structure is located on the sensor unit 30 during the measurement process, and may influence the measurement, and may include a sample holder 50, a color filter 70, or a cartridge.

표준 평행 광원(120)에서의 캘리브레이션을 설명한다.Calibration in the standard parallel light source 120 will be described.

표준 평행 광원(120)에서 측정 결과에 기초하여 센서부(30)를 캘리브레이션하기 위해서(S110), 도 13을 참조하여 미리 정해진 파장의 표준 평행 광원(120)의 광원 세기를 0에서 미리 정해진 포화영역까지 증가시키면서, 각각 N번씩(여기서, N은 자연수) 측정하여 데이터를 수집한다(S111).In order to calibrate the sensor unit 30 based on the measurement result in the standard parallel light source 120 (S110), referring to FIG. 13, the light intensity of the standard parallel light source 120 of a predetermined wavelength is set to a predetermined saturation region from 0. While increasing to, each N times (where N is a natural number) is measured to collect data (S111).

이어서, 도 13, 도 14(a) 및 14(b) 를 참조하여 센서부(30)의 각 픽셀(P)의 N번 측정값의 통계적 박스 플롯의 대표값을 기준으로 각 픽셀(P)의 광원 반응도의 공간적 균일도와 선형도를 산출한다(S112).Subsequently, referring to FIGS. 13, 14(a), and 14(b), each pixel P of the statistical box plot of the N measurement value of each pixel P of the sensor unit 30 is referenced. Spatial uniformity and linearity of light source responsiveness are calculated (S112).

이어서, 도 13 및 도 14(c)를 참조하여 표준 평행 광원(120)에 해당하는 각 픽셀(P)의 제1 캘리브레이션 룩업테이블을 만들어서 광원 반응도의 공간적 균일도와 선형성을 캘리브레이션 한다(S113).Next, referring to FIGS. 13 and 14(c), spatial uniformity and linearity of light source responsiveness are calibrated by creating a first calibration lookup table of each pixel P corresponding to the standard parallel light source 120 (S113).

적용 광원(20)에서의 캘리브레이션을 설명한다. 여기서, 표준 평행 광원(120)의 파장과 적용 광원(20)의 파장은 동일할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.Calibration in the applied light source 20 will be described. Here, the wavelength of the standard parallel light source 120 and the wavelength of the applied light source 20 may be the same, but is not limited thereto.

적용 광원(20)에서 구조물이 시료 분석 장치(1)에 포함된 상태에서 측정 결과에 기초하여 센서부(30)를 캘리브레이션하기 위해서(S120), 도 15를 참조하여 적용 광원(20)의 광원 세기를 0에서 미리 정해진 포화영역까지 증가시키면서, 각각 N번씩 측정하여 데이터를 수집한다(S121).In order to calibrate the sensor unit 30 based on the measurement result while the structure is included in the sample analysis device 1 in the applied light source 20 (S120), the light source intensity of the applied light source 20 with reference to FIG. 15 While increasing from 0 to a predetermined saturation region, data is collected by measuring N times each (S121).

이어서, 도 14(a) 및 도 15를 참조하여 센서부(30)의 각 픽셀(P)의 N번 측정값의 통계적 박스 플롯의 대표값을 기준으로 각 픽셀(P)의 광원 반응도의 공간적 균일도와 선형도를 산출한다(S122).Subsequently, referring to FIGS. 14(a) and 15, spatial uniformity of light source responsiveness of each pixel P based on the representative value of the statistical box plot of the N measurement value of each pixel P of the sensor unit 30 And linearity is calculated (S122).

이어서, 도 14(b) 및 도 15를 참조하여 적용 광원(20)에 해당하는 각 픽셀(P)의 제2 캘리브레이션 룩업테이블을 만들어서 광원 반응도의 공간적 균일도와 선형성을 캘리브레이션 한다(S123).Subsequently, referring to FIGS. 14(b) and 15, a second calibration lookup table of each pixel P corresponding to the applied light source 20 is created to calibrate spatial uniformity and linearity of light source responsiveness (S123).

이어서, 도 9 및 도 16을 참조하면 시료(100)의 표준 특성 이미지에 대한 데이터베이스를 구축한다(S200).Subsequently, referring to FIGS. 9 and 16, a database for a standard characteristic image of the sample 100 is constructed (S200 ).

본 단계에서는 표준 평행 광원(120)을 이용하여 다양한 파장에 대하여 각 파장마다 시료(100)의 표준 특성 이미지에 대한 데이터베이스를 구축한다. 표준 특성 이미지에 대한 데이터베이스를 세부적으로 구성하기 위해 다양한 크기의 파장이 다양한 세기로 이용될 수 있다.In this step, the standard parallel light source 120 is used to build a database of standard characteristic images of the sample 100 for each wavelength for various wavelengths. Wavelengths of various sizes may be used at various intensities to construct a detailed database of standard characteristic images.

예컨대, 암세포, 적혈구 또는 백혈구와 같이 측정하려는 시료(100)를 센서부(30) 위에 놓고 각 파장에 대하여, 표준 평행 광원(120)의 광원 세기를 0에서 미리 정해진 포화영역까지 증가시키면서, 각각 N번씩 측정하여 데이터를 수집하고, 센서부(30)의 각 픽셀(P)의 N번 측정값의 통계적 박스 플롯의 대표값을 기준으로 각 픽셀(P)의 광원 반응도의 공간적 균일도와 선형도를 산출하고, 표준 평행 광원(120)에 해당하는 각 픽셀(P)의 제1 캘리브레이션 룩업테이블을 만들어서 광원 반응도의 공간적 균일도와 선형성을 캘리브레이션 하는 과정을 반복함으로써, 제1 및 제2 캘리브레이션 룩업테이블을 만들고 시료(100)에 대한 표준 특성 이미지 데이터베이스를 구축할 수 있다.For example, a sample 100 to be measured, such as cancer cells, red blood cells, or white blood cells, is placed on the sensor unit 30, and for each wavelength, the light intensity of the standard parallel light source 120 is increased from 0 to a predetermined saturation area, respectively, N Collect data by measuring each time, and calculate the spatial uniformity and linearity of the light source responsiveness of each pixel P based on the representative value of the statistical box plot of the N measurement value of each pixel P of the sensor unit 30 Then, by repeating the process of calibrating the spatial uniformity and linearity of the light source responsiveness by making the first calibration lookup table of each pixel P corresponding to the standard parallel light source 120, the first and second calibration lookup tables are created and sampled. A standard characteristic image database for 100 can be constructed.

이어서, 도 9를 참조하면 시료 분석 장치(1)를 이용하여 시료를 측정한다(S300).Subsequently, referring to FIG. 9, a sample is measured using the sample analysis device 1 (S300).

이를 위해서, 도 4 및 도 17을 참조하여 표준 특성 이미지 데이터베이스에서 측정하려는 시료(100)의 특징을 가장 잘 나타내는 파장과 광원의 세기를 도출한다(S310). 여기서, 시료(100)가 여러 구성요소를 포함하는 경우, 각 시료(100)의 구성요소마다 적합한 파장과 광원의 세기가 도출될 수 있으며, 시료(100)의 특징을 가장 잘 나타내는 파장과 광원의 세기는 매칭/유사도 확률이 가장 큰 값을 나타낼 때의 파장과 광원의 세기일 수 있다. 예컨대, 매칭/유사도 확률 산출을 위해 이용되는 이미지 패턴 매칭 방법은 잘 알려진 Harris corner detector, Shi-Tomasi 특징점 추출 방법, SIFT(Scale Invariant Feature Transform), FAST(Features from Accelerated Segment Test), AGAST 방법, 그리고 SIFT, SURF, BRIEF, ORB, FREAK 등과 같은 지역적 불변 특징량(local invariant feature descriptor) 방법이나 딥러닝 기술 등을 적용할 수 있으며, 위에 언급된 기법에 한정되지는 않는다.To this end, with reference to FIGS. 4 and 17, the wavelength and the intensity of the light source that best represent the characteristics of the sample 100 to be measured in the standard characteristic image database are derived (S310 ). Here, when the sample 100 includes several components, a suitable wavelength and intensity of a light source may be derived for each component of each sample 100, and the wavelength and light source that best represent the characteristics of the sample 100 may be derived. The intensity may be the wavelength and intensity of the light source when the matching/similarity probability represents the largest value. For example, the image pattern matching method used for calculating the matching/similarity probability is a well-known Harris corner detector, Shi-Tomasi feature point extraction method, Scale Invariant Feature Transform (SIFT), Features from Accelerated Segment Test (FAST), AGAST method, and Local invariant feature descriptor methods such as SIFT, SURF, BRIEF, ORB, FREAK, and deep learning techniques can be applied, but are not limited to the above-mentioned techniques.

이어서, 도 5, 도 17 및 도 18을 참조하여 시료(100)를 센서부(30) 위에 놓고, 시료(100)의 특징을 가장 잘 나타내는 파장(예컨대 제1 파장, 제2 파장 및 제3 파장 등)과 광원의 세기 하에서 측정하여 얻은 각각의 이미지 데이터 또는 통합 이미지 데이터를 얻는다(S320). 즉, 다양한 파장과 광원의 세기 하에서 측정하여 얻은 이미지 데이터를 통해 시료(100) 전체에 대하여 잘 나타난 통합 이미지 데이터를 얻을 수 있다.Subsequently, the sample 100 is placed on the sensor unit 30 with reference to FIGS. 5, 17, and 18, and the wavelengths that best represent the characteristics of the sample 100 (eg, the first wavelength, the second wavelength, and the third wavelength) Etc.) and each image data obtained by measuring under the intensity of the light source or integrated image data is obtained (S320). That is, it is possible to obtain well-consolidated image data for the entire sample 100 through image data obtained by measuring under various wavelengths and intensity of light sources.

마지막으로, 도 9를 참조하면 측정된 이미지 데이터를 이용하여 시료를 분석하고 시료에 대하여 판정을 한다(S400).Finally, referring to FIG. 9, a sample is analyzed using the measured image data and a judgment is made on the sample (S400).

측정에서 얻은 시료(100)의 이미지 데이터와 시료(100)의 표준 특성 이미지 데이터베이스를 비교(예컨대, 해당 시료(100)의 표준 특성 이미지 필터 연산 등)하여 매칭되는 것을 찾아낸다. 매칭 정확도 확률을 적용하여, x%로 표시하고, 해당 타겟 시료는 무엇이고 몇 개가 있는지 등을 계수하여 표시할 수 있다.The image data of the sample 100 obtained from the measurement is compared with the standard characteristic image database of the sample 100 (for example, a standard characteristic image filter operation of the sample 100) to find a match. By applying the matching accuracy probability, it can be expressed as x%, and the target sample can be counted and displayed.

이상, 첨부된 도면을 참조로 하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 기술자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며, 제한적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.The embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but those skilled in the art to which the present invention pertains may be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. You will understand. Therefore, it should be understood that the above-described embodiments are illustrative in all respects and not restrictive.

1: 시료 분석 장치 10: 광원지지부
15: 센서지지부 20: 광원
30: 센서부 40: 제어부
100: 시료
1: Sample analysis device 10: Light source support
15: sensor support 20: light source
30: sensor unit 40: control unit
100: sample

Claims (14)

시료로 서로 다른 파장의 광을 이시(異時)에 조사하는 광원, 상기 광원의 파장별 광 조사에 따른 상기 시료에 대한 데이터를 센싱하는 센서부로서, 상기 시료는 상기 센서부에 접하여 위치하는 것인 센서부, 및 상기 광원의 파장별 광 조사에 따른 상기 센서부의 파장별 센싱 데이터를 이용하여, 시료에 포함된 구성요소들에 대한 이미지 데이터를 획득하는 제어부를 포함하는 다이렉트 컨택 방식의 시료 분석 장치를 이용한 시료 측정 및 분석 방법에 있어서,
상기 시료 분석 장치의 상기 센서부를 캘리브레이션하는 단계;
상기 시료의 표준 특성 이미지에 대한 데이터베이스를 구축하는 단계;
상기 시료 분석 장치를 이용하여 시료를 측정하는 단계; 및
측정된 이미지 데이터를 이용하여 시료를 분석하고 시료에 대하여 판정을 하는 단계를 포함하고,
상기 시료 분석 장치의 센서부를 캘리브레이션하는 단계는,
표준 평행 광원에서 측정 결과에 기초하여 상기 센서부를 캘리브레이션하는 단계와, 적용 광원에서 구조물이 상기 시료 분석 장치에 포함된 상태에서 측정 결과에 기초하여 상기 센서부를 캘리브레이션하는 단계를 포함하고,
상기 구조물은 시료 홀더, 컬러필터 및 카트리지 중 적어도 하나를 포함하고,
상기 표준 평행 광원에서 측정 결과에 기초하여 상기 센서부를 캘리브레이션하는 단계는,
미리 정해진 파장의 상기 표준 평행 광원의 광원 세기를 미리 정해진 포화영역까지 증가시키면서, 각각 N번씩(여기서, N은 자연수) 측정하여 데이터를 수집하는 단계와,
상기 센서부의 각 픽셀의 N번 측정값의 통계적 박스 플롯의 대표값을 기준으로 각 픽셀의 광원 반응도의 공간적 균일도 및 선형도를 산출하는 단계와,
상기 표준 평행 광원에 해당하는 각 픽셀(P)의 제1 캘리브레이션 룩업테이블을 만들어서 광원 반응도의 공간적 균일도와 선형성을 캘리브레이션 하는 단계를 포함하는 것인, 시료 분석 장치를 이용한 시료 측정 및 분석 방법.
A light source that irradiates light of different wavelengths with a sample at a time, and a sensor unit that senses data on the sample according to light irradiation by wavelength of the light source, wherein the sample is located in contact with the sensor unit A direct contact-type sample analysis device comprising a phosphorus sensor unit and a control unit that acquires image data for components included in a sample using sensing data for each wavelength of the sensor unit according to light irradiation by wavelength of the light source In the sample measurement and analysis method using,
Calibrating the sensor unit of the sample analysis device;
Constructing a database for a standard characteristic image of the sample;
Measuring a sample using the sample analysis device; And
Analyzing the sample using the measured image data and determining the sample,
The step of calibrating the sensor part of the sample analysis device may include:
Calibrating the sensor unit based on a measurement result in a standard parallel light source, and calibrating the sensor unit based on a measurement result while a structure is included in the sample analysis device in an applied light source,
The structure includes at least one of a sample holder, a color filter and a cartridge,
The step of calibrating the sensor unit based on the measurement result in the standard parallel light source,
Collecting data by measuring N times (where N is a natural number) each while increasing the light intensity of the standard parallel light source having a predetermined wavelength to a predetermined saturation region;
Calculating a spatial uniformity and linearity of light source responsiveness of each pixel based on a representative value of a statistical box plot of N measurement values of each pixel of the sensor unit;
And calibrating spatial uniformity and linearity of light source responsiveness by creating a first calibration lookup table for each pixel (P) corresponding to the standard parallel light source, and measuring and analyzing a sample using a sample analysis device.
제1항에 있어서,
상기 센서부는 복수의 픽셀을 포함하고,
각 픽셀은 해당 픽셀과 오버랩되는 상기 센서부의 상면에 접하는 상기 시료의 일부 영역을 통과하는 광을 수신하고, 수신된 데이터를 이용하여 파장별 센싱 데이터를 생성하는 것인, 시료 분석 장치를 이용한 시료 측정 및 분석 방법.
According to claim 1,
The sensor unit includes a plurality of pixels,
Each pixel receives light passing through a portion of the sample contacting the upper surface of the sensor part overlapping with the corresponding pixel, and generates sensing data for each wavelength using the received data. And analytical methods.
제1항에 있어서,
상기 제어부는,
상기 획득된 이미지 데이터를 합하여, 상기 시료에 포함된 구성요소들에 대한 최종 이미지를 생성하는, 시료 분석 장치를 이용한 시료 측정 및 분석 방법.
According to claim 1,
The control unit,
A method of measuring and analyzing a sample using a sample analysis device, which combines the acquired image data to generate a final image of the components included in the sample.
제1항에 있어서,
상기 센서부 상에 위치하는 컬러필터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 시료 분석 장치를 이용한 시료 측정 및 분석 방법.
According to claim 1,
Characterized in that it further comprises a color filter located on the sensor unit, the sample measurement and analysis method using a sample analysis device.
제1항에 있어서,
상기 제어부는,
상기 획득된 이미지 데이터와 데이터베이스에 기 저장된 매질에 대한 데이터를 매칭하여, 상기 시료에 포함된 구성요소를 분석하는 것을 특징으로 하는, 시료 분석 장치를 이용한 시료 측정 및 분석 방법.
According to claim 1,
The control unit,
A method of measuring and analyzing a sample using a sample analysis device, characterized in that the acquired image data is matched with data for a medium previously stored in a database, and the components included in the sample are analyzed.
제5항에 있어서,
상기 제어부는,
사용자로부터 입력받은 상기 이미지 데이터에 대한 정보를 상기 데이터베이스에 저장하는, 시료 분석 장치를 이용한 시료 측정 및 분석 방법.
The method of claim 5,
The control unit,
A method of measuring and analyzing a sample using a sample analysis device that stores information on the image data received from a user in the database.
제1항에 있어서,
상기 광원에서 조사되는 광을 시료 또는 센서부로 포커싱 해주는 포커싱 렌즈를 더 포함하는, 시료 분석 장치를 이용한 시료 측정 및 분석 방법.
According to claim 1,
Further comprising a focusing lens for focusing the light irradiated from the light source to the sample or sensor unit, the sample measurement and analysis method using a sample analysis device.
제7항에 있어서,
상기 포커싱 렌즈는 포커싱 포인트를 시료의 일측으로부터 타측으로 이동시키고,
상기 센서부는,
상기 포커싱 포인트 주변의 데이터를 센싱하되, 포커싱 포인트의 이동에 따라서 연속적으로 데이터를 센싱하는, 시료 분석 장치를 이용한 시료 측정 및 분석 방법.
The method of claim 7,
The focusing lens moves the focusing point from one side of the sample to the other side,
The sensor unit,
A method of measuring and analyzing a sample using a sample analysis device, which senses data around the focusing point and continuously senses data according to the movement of the focusing point.
제7항에 있어서,
상기 포커싱 렌즈는 포커싱 포인트의 X, Y, Z 좌표를 이동시키고,
상기 제어부는 상기 포커싱 포인트의 이동에 따라서, 상기 센서에서 센싱되는 데이터들을 합성하여 시료의 2차원 또는 3차원 이미지를 생성하는, 시료 분석 장치를 이용한 시료 측정 및 분석 방법.
The method of claim 7,
The focusing lens moves the X, Y, and Z coordinates of the focusing point,
The control unit generates a two-dimensional or three-dimensional image of a sample by synthesizing data sensed by the sensor according to the movement of the focusing point, a sample measurement and analysis method using a sample analysis device.
제1항에 있어서,
상기 광원은 수평방향으로 이동 가능한 것인, 시료 분석 장치를 이용한 시료 측정 및 분석 방법.
According to claim 1,
The light source is movable in the horizontal direction, a sample measurement and analysis method using a sample analysis device.
다이렉트 컨택 방식의 시료 분석 장치를 이용한 시료 측정 및 분석 방법에 있어서,
상기 시료 분석 장치의 센서부를 캘리브레이션하는 단계;
상기 시료의 표준 특성 이미지에 대한 데이터베이스를 구축하는 단계;
상기 시료 분석 장치를 이용하여 시료를 측정하는 단계; 및
측정된 이미지 데이터를 이용하여 시료를 분석하고 시료에 대하여 판정을 하는 단계를 포함하고,
상기 시료 분석 장치의 센서부를 캘리브레이션하는 단계는,
표준 평행 광원에서 측정 결과에 기초하여 상기 센서부를 캘리브레이션하는 단계와, 적용 광원에서 구조물이 상기 시료 분석 장치에 포함된 상태에서 측정 결과에 기초하여 상기 센서부를 캘리브레이션하는 단계를 포함하고,
상기 구조물은 시료 홀더, 컬러필터 및 카트리지 중 적어도 하나를 포함하고,
상기 표준 평행 광원에서 측정 결과에 기초하여 상기 센서부를 캘리브레이션하는 단계는,
미리 정해진 파장의 상기 표준 평행 광원의 광원 세기를 미리 정해진 포화영역까지 증가시키면서, 각각 N번씩(여기서, N은 자연수) 측정하여 데이터를 수집하는 단계와,
상기 센서부의 각 픽셀의 N번 측정값의 통계적 박스 플롯의 대표값을 기준으로 각 픽셀의 광원 반응도의 공간적 균일도 및 선형도를 산출하는 단계와,
상기 표준 평행 광원에 해당하는 각 픽셀(P)의 제1 캘리브레이션 룩업테이블을 만들어서 광원 반응도의 공간적 균일도와 선형성을 캘리브레이션 하는 단계를 포함하는 것인, 시료 분석 장치를 이용한 시료 측정 및 분석 방법.
In the sample measurement and analysis method using the direct contact method of the sample analysis device,
Calibrating the sensor part of the sample analysis device;
Constructing a database for a standard characteristic image of the sample;
Measuring a sample using the sample analysis device; And
Analyzing the sample using the measured image data and determining the sample,
The step of calibrating the sensor part of the sample analysis device may include:
Calibrating the sensor unit based on a measurement result in a standard parallel light source, and calibrating the sensor unit based on a measurement result while a structure is included in the sample analysis device in an applied light source,
The structure includes at least one of a sample holder, a color filter and a cartridge,
The step of calibrating the sensor unit based on the measurement result in the standard parallel light source,
Collecting data by measuring N times (where N is a natural number) each while increasing the light intensity of the standard parallel light source having a predetermined wavelength to a predetermined saturation region;
Calculating a spatial uniformity and linearity of light source responsiveness of each pixel based on a representative value of a statistical box plot of N measurement values of each pixel of the sensor unit;
And calibrating spatial uniformity and linearity of light source responsiveness by creating a first calibration lookup table for each pixel (P) corresponding to the standard parallel light source, and measuring and analyzing a sample using a sample analysis device.
삭제delete 삭제delete 제11항에 있어서,
상기 시료 분석 장치를 이용하여 시료를 측정하는 단계는,
상기 표준 특성 이미지에 대한 데이터베이스에서 측정하려는 상기 시료를 측정하기 위한 파장과 광원의 세기를 도출하는 단계와,
상기 도출된 파장과 광원의 세기 하에서 측정하여 얻은 각각의 이미지 데이터를 얻는 단계
를 포함하는 것인, 시료 분석 장치를 이용한 시료 측정 및 분석 방법.
The method of claim 11,
Step of measuring a sample using the sample analysis device,
Deriving a wavelength and an intensity of the light source for measuring the sample to be measured in the database for the standard characteristic image,
Obtaining respective image data obtained by measuring under the derived wavelength and the intensity of the light source
That includes, a sample measurement and analysis method using a sample analysis device.
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