KR102134866B1 - 리니어소스 및 그를 가지는 기판처리장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 증착물질을 증발시켜 기판 표면에 박막을 형성하는 리니어소스 및 그를 가지는 기판처리장치에 관한 것이다.
본 발명은, 증착물질의 증발에 의하여 증착을 수행하기 위한 밀폐된 처리공간을 형성하는 공정챔버와, 상기 공정챔버 내에 설치되어 직사각형 기판에 대하여 상대이동되며 증착물질을 증발시키는 리니어소스를 포함하는 기판처리장치의 리니어소스로서, 상기 직사각형 기판의 상대이동방향에 대하여 수직을 이루는 길이를 가지는 개구가 상측에 형성되며 증착물질이 담기는 제1용기와; 상기 제1용기가 삽입되는 제2용기와; 상기 제1용기의 개구를 복개하도록 상기 제1용기와 탈착가능하게 결합되고, 상기 제1용기에서 증발된 증착물질이 분사되는 하나 이상의 노즐이 형성된 노즐부와; 상기 제1용기 및 상기 제2용기 중 적어도 어느 하나는 내주면 및 외주면 중 적어도 어느 하나에 구조보강을 위한 하나 이상의 리브가 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 리니어소스를 개시한다.
본 발명은, 증착물질의 증발에 의하여 증착을 수행하기 위한 밀폐된 처리공간을 형성하는 공정챔버와, 상기 공정챔버 내에 설치되어 직사각형 기판에 대하여 상대이동되며 증착물질을 증발시키는 리니어소스를 포함하는 기판처리장치의 리니어소스로서, 상기 직사각형 기판의 상대이동방향에 대하여 수직을 이루는 길이를 가지는 개구가 상측에 형성되며 증착물질이 담기는 제1용기와; 상기 제1용기가 삽입되는 제2용기와; 상기 제1용기의 개구를 복개하도록 상기 제1용기와 탈착가능하게 결합되고, 상기 제1용기에서 증발된 증착물질이 분사되는 하나 이상의 노즐이 형성된 노즐부와; 상기 제1용기 및 상기 제2용기 중 적어도 어느 하나는 내주면 및 외주면 중 적어도 어느 하나에 구조보강을 위한 하나 이상의 리브가 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 리니어소스를 개시한다.
Description
본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 증착물질을 증발시켜 기판 표면에 박막을 형성하는 리니어소스 및 그를 가지는 기판처리장치에 관한 것이다.
평판표시소자(Flat Panel Display)는 액정표시소자 (Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이소자(Plasma Display Panel), 유기발광소자 (Organic Light Emitting Diodes) 등이 대표적이다.
이 중에서 유기발광소자는 빠른 응답속도, 기존의 액정표시소자보다 낮은 소비 전력, 고휘도, 경량성 등의 특성이 있으며, 별도의 백라이트(back light) 장치가 필요 없어 초박형으로 만들 수 있는 점 등의 장점을 지니고 있는바, 차세대 디스플레이 소자로서 각광받고 있다.
한편, 평판표시소자의 기판에 박막을 형성하는 일반적인 방법으로는, 증발증착법(Evaporation)과, 이온 플레이팅법(Ion-plating) 및 스퍼터링법(Sputtering)과 같은 물리증착법(PVD)과, 가스반응에 의한 화학기상증착법(CVD) 등이 있다. 이 중에서, 유기발광소자의 유기물층, 무기물층 등과 같은 박막형성에 증발증착법이 사용될 수 있다.
평판표시소자의 기판에 박막을 형성하는 방법 중 증발증착법은 밀폐된 처리공간을 형성하는 진공챔버와, 진공챔버의 하부에 설치되어 증착될 물질이 증발되는 증발원을 포함하는 박막증착장치에 의하여 수행된다.
여기서 종래의 박막증착장치는, 기판의 폭 방향으로 길이를 가지는 리니어소스를 구비하고 기판에 대한 상대이동에 의하여 기판에 박막을 형성할 수 있다.
그리고 증착물질을 증발시키는 리니어소스는, 히터의 가열에 의하여 도가니와 같은 용기에 담긴 증착물질을 가열시키도록 구성된다.
그런데, 공정시간을 늘이거나, 더 많은 양의 증착물질의 증발을 위하여 용기에 담긴 증착물질의 중량이 증가하면서, 보다 견고한 용기가 요구된다.
특히 종래의 용기는, 많은 양의 증착물질의 수용을 위하여 상대적으로 두껍게 구성될 필요가 있다.
그러나, 용기가 고온으로 가열됨에 따라 탄탈 등의 고가의 재질이 사용되는데, 탄탈의 경우 가공성이 낮고 가격이 비싸 두께가 증가하는 경우 가공성이 떨어지고 제조비용이 증가하는 문제점이 있다.
본 발명의 목적은, 증착물질이 담기는 용기의 내면 및 외면 중 적어도 일면에 하나 이상의 리브를 형성함으로써, 상대적으로 얇은 두께의 재질의 사용이 가능하여 가공성을 높이고 제조비용을 현저히 절감할 수 있는 리니어소스 및 그를 가지는 기판처리장치를 제공하는 데 있다.
본 발명은, 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은, 증착물질의 증발에 의하여 증착을 수행하기 위한 밀폐된 처리공간을 형성하는 공정챔버와, 상기 공정챔버 내에 설치되어 직사각형 기판에 대하여 상대이동되며 증착물질을 증발시키는 리니어소스를 포함하는 기판처리장치의 리니어소스로서, 상기 직사각형 기판의 상대이동방향에 대하여 수직을 이루는 길이를 가지는 개구가 상측에 형성되며 증착물질이 담기는 제1용기와; 상기 제1용기가 삽입되는 제2용기와; 상기 제1용기의 개구를 복개하도록 상기 제1용기와 탈착가능하게 결합되고, 상기 제1용기에서 증발된 증착물질이 분사되는 하나 이상의 노즐이 형성된 노즐부와; 상기 제1용기 및 상기 제2용기 중 적어도 어느 하나는 내주면 및 외주면 중 적어도 어느 하나에 구조보강을 위한 하나 이상의 리브가 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 리니어소스를 개시한다.
상기 리브는, 용접되는 것이 바람직하다.
상기 리브는, 그 측면 내주면 및 외주면 중 어느 하나에 'X'자 또는 '+'자 형상으로 형성될 수 있다.
상기 리브는, 상기 제1용기 및 상기 제2용기 중 적어도 어느 하나에서 길이방향의 측면 내주면 및 외주면 중 어느 하나에 형성될 수 있다.
상기 노즐들만 노출되고 상기 제1용기 및 상기 제2용기가 상측으로 노출되는 것을 방지하기 위하여 상기 노즐부의 상측에서 결합되는 커버부재를 추가로 포함하며, 상기 커버부재의 내주면 및 외주면 중 적어도 어느 하나는, 구조보강을 위한 하나 이상의 리브가 형성될 수 있다.
상기 제2용기의 외부에는, 상기 제2용기의 측면을 둘러싸도록 설치되며 상기 제2용기 및 상기 제1용기의 가열을 통하여 상기 제1용기에 담긴 증착물질을 증발시키는 상기 제2용기를 가열하기 위한 하나 이상의 히팅부재가 내측면에 설치되는 히터지지부가 설치될 수 있다.
상기 히팅부재의 열이 제2용기 쪽으로 반사시키는 반사부 및 상기 히팅부재에서 발생된 열이 주변으로 전달되는 것을 차단하는 단열부 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
본 발명은 또한 증착물질의 증발에 의하여 증착을 수행하기 위한 밀폐된 처리공간을 형성하는 공정챔버와; 상기 공정챔버 내에 설치되어 직사각형 기판에 대하여 상대이동되며 증착물질을 증발시키는 리니어소스로서, 상기와 같은 구성을 가지는 리니어소스를 포함하는 기판처리장치를 개시한다.
본 발명에 따른 리니어소스 및 그를 가지는 기판처리장치는, 증착물질이 담기는 용기의 내면 및 외면 중 적어도 일면에 하나 이상의 리브를 형성함으로써, 상대적으로 얇은 두께의 재질의 사용이 가능하여 가공성을 높이고 제조비용을 현저히 절감할 수 있는 이점이 있다.
또한 본 발명에 따른 리니어소스 및 그를 가지는 기판처리장치는, 리브를 용접에 의하여 용기의 내면, 외면 등에 형성함으로써 고가의 재질인 탄탈 등에 의한 용기의 제조가 용이함과 아울러 상대적으로 얇은 두께에도 불과하고 충분한 강성을 가지는 용기의 제공이 가능하다.
더 나아가, 리브의 형성에 있어서, 'X'자 구조로 형성하게 되면 리브의 형성을 최소화하면서 상대적으로 얇은 두께에도 불과하고 충분한 강성을 가지는 용기의 제공이 가능하다.
도 1은, 본 발명에 따른 기판처리장치의 일예를 보여주는 수직 단면도이다.
도 2는, 도 1의 기판처리장치를 보여주는 수평 단면도이다.
도 3은, 도 1의 기판처리장치에 설치되는 리니어소스의 일부를 보여주는 분해사시도이다.
도 4는, 도 3의 리니어소스의 수직 단면도이다.
도 5는, 도 3의 리니어소스의 제1용기의 일예를 보여주는 사시도이다.
도 6은, 도 3의 리니어소스의 제2용기의 일예를 보여주는 사시도이다.
도 2는, 도 1의 기판처리장치를 보여주는 수평 단면도이다.
도 3은, 도 1의 기판처리장치에 설치되는 리니어소스의 일부를 보여주는 분해사시도이다.
도 4는, 도 3의 리니어소스의 수직 단면도이다.
도 5는, 도 3의 리니어소스의 제1용기의 일예를 보여주는 사시도이다.
도 6은, 도 3의 리니어소스의 제2용기의 일예를 보여주는 사시도이다.
이하 본 발명에 따른 리니어소스 및 그를 가지는 기판처리장치에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
이하 본 발명에 따른 리니어소스 및 그를 가지는 기판처리장치에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 따른 기판처리장치는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 증착물질의 증발에 의하여 증착을 수행하기 위한 밀폐된 처리공간(S)을 형성하는 공정챔버(100)와; 공정챔버(100) 내에 설치되어 직사각형 기판(10)에 대하여 상대이동되며 증착물질을 증발시키는 리니어소스(200)를 포함한다.
상기 공정챔버(100)는, 기판(10)에 박막을 증착하기 위한 처리공간(S)이 하나 이상으로 형성될 수 있는 구성이면 어떠한 구성이든 가능하다.
이때, 상기 공정챔버(100)의 내부는, 기판(10)에 박막을 증착하기 위한 공정이 진행되는 동안 공정조건에 맞는 진공압인 진공상태로 유지되는 것이 바람직하다.
일예로서, 상기 공정챔버(100)는, 하나 이상의 게이트(111)가 형성될 수 있으며, 하나 이상의 게이트(111)들은 공정챔버(100)의 내부를 밀봉할 수 있도록 밀봉부재가 추가로 설치될 수 있다.
그리고 상기 공정챔버(100)는, 처리공간(S)에서 기판(10)처리의 조건에 맞춰 압력유지 및 배기를 위한 배기관(미도시), 처리공간(S) 내로 가스를 공급하는 가스공급부(미도시), 기판(10)의 고정을 위한 클램핑장치, 기판(10)의 이동을 가이드하는 상하이동구동부재 등 기판처리의 종류에 따라서 다양한 부재, 모듈 등이 설치될 수 있다.
또한 상기 공정챔버(100)는 기판(10)에 패턴화된 증착공정을 수행하는 경우 마스크(미도시)가 설치될 수 있으며, 마스크와 기판(10)을 얼라인하는 얼라인모듈 등 다양한 모듈이 설치될 수 있다.
상기 리니어소스(200)는, 공정챔버(100) 내에 설치되어 직사각형 기판(10)에 대하여 상대이동되며 증착물질을 증발시키는 구성으로서, 제1용기(210), 제2용기(230), 노즐부(220)를 포함하는 등 다양한 구성이 가능하다.
상기 제1용기(210)는, 직사각형 기판(10)의 상대이동방향에 대하여 수직을 이루는 길이를 가지는 개구(211)가 상측에 형성되며 증착물질이 담기는 용기, 즉 도가니로서 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 제1용기(210)는, 평면 형상이 장변 및 단변을 가지는 직사각형 형상을 가질 수 있으며, 탄소재질, 탄탈 또는 그 합금 재질 등 고열의 가해짐을 고려하여 내열성 소재로 이루어짐이 바람직하다.
특히 상기 제1용기(210)는, 탄탈재질을 가질 수 있으며, 탄탈재질의 복수의 플레이트들이 용접되어 형성될 수 있다.
또한 상기 제1용기(210)는, 도 3 및 도 5a에 도시된 바와 같이, 그 구조적 강성 보강을 위하여 내면 및 외면 중 적어도 하나에 하나 이상의 리브(219)가 형성되거나 부착될 수 있다.
상기 리브(219)는, 강성 보강을 위하여 제1용기(210)의 외면, 내면 등에 형성되는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
특히 상기 리브(219)는, 로드구조, 띠구조 등 다양한 구조가 가능하며 용접 등에 의하여 제1용기(210)의 외면, 내면 등에 형성될 수 있다.
한편 상기 리브(219)는, 다양한 형상을 가질 수 있으며, 도 3 및 도 5a에 도시된 바와 같이, 'X'자 형상, '+'자 형상 등 다양한 형상을 가질 수 있다.
상기 리브(219)가 'X'자 형상, '+'자 형상 등의 형상을 가진 경우 리브(219)의 형성을 최소화하면서 상대적으로 얇은 두께에도 불과하고 충분한 강성을 가지는 제1용기(210)의 형성이 가능하다.
한편 상기 리브(219)의 형성위치는, 설계 및 디자인에 따라서 다양하게 설정될 수 있으며, 도 3 및 도 5a에 도시된 바와 같이, 측면 내주면 또는 외주면에 형성될 수 있다.
또한 상기 리브(219)는, 제1용기(210)에서 길이방향의 측면 내주면 및 외주면 중 어느 하나에 형성될 수 있다.
상기 제2용기(230)는, 제1용기(210)가 삽입되는 용기로서 전체 형상을 제1용기(210)와 닮은 꼴로 형성될 수 있으며 다양한 구성이 가능하다.
다만, 상기 제2용기(230)는, 히터지지부(240) 등의 부재에 의하여 상측에서 지지될 수 있도록 외측으로 연장된 플렌지(232)가 형성될 수 있다.
예로서, 상기 제2용기(230)는, 평면 형상이 장변 및 단변을 가지는 직사각형 형상을 가질 수 있으며, 탄소재질, 탄탈 또는 그 합금 재질 등 고열의 가해짐을 고려하여 내열성 소재로 이루어짐이 바람직하다.
특히 상기 제2용기(230)는, 탄탈재질을 가질 수 있으며, 탄탈재질의 복수의 판재, 즉 플레이트들이 용접되어 형성될 수 있다.
또한 상기 제2용기(230)는, 도 3 및 도 5b에 도시된 바와 같이, 그 구조적 강성 보강을 위하여 내면 및 외면 중 적어도 하나에 하나 이상의 리브(239)가 형성되거나 부착될 수 있다.
상기 리브(239)는, 강성 보강을 위하여 제2용기(230)의 외면, 내면 등에 형성되는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
특히 상기 리브(239)는, 로드구조, 띠구조 등 다양한 구조가 가능하며 용접 등에 의하여 제3용기(230)의 외면, 내면 등에 형성될 수 있다.
한편 상기 리브(239)는, 다양한 형상을 가질 수 있으며, 도 3 및 도 5b에 도시된 바와 같이, 'X'자 형상, '+'자 형상 등의 형상을 가질 수 있다.
상기 리브(239)가 'X'자 형상, '+'자 형상 등의 형상을 가진 경우 리브(239)의 형성을 최소화하면서 상대적으로 얇은 두께에도 불과하고 충분한 강성을 가지는 제2용기(230)의 형성이 가능하다.
한편 상기 리브(239)의 형성위치는, 설계 및 디자인에 따라서 다양하게 설정될 수 있으며, 도 3 및 도 5b에 도시된 바와 같이, 측면 내주면 또는 외주면에 형성될 수 있다.
또한 상기 리브(239)는, 제2용기(230)에서 길이방향의 측면 내주면 및 외주면 중 어느 하나에 형성될 수 있다.
상기 노즐부(220)는, 제1용기(210)의 개구(211)를 복개하도록 제1용기(210)와 탈착가능하게 결합되고, 제1용기(210)에서 증발된 증착물질이 분사되는 적어도 하나 이상의 노즐(221)이 형성되는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 노즐부(220)는, 제1용기(210)의 개구(211) 부분에서 형성된 단차에 의하여 지지될 수 있다.
그리고 상기 노즐(221)은, 제1용기(210)에서 증발된 증착물질이 처리공간(S)으로 토출되는 구성으로, 개구형상을 가지며 그 평면형상, 내경 등 구조는 증착물질의 종류, 증발특성 등에 따라서 다양한 구성이 가능하다.
상기 노즐부(220)는, 탄소재질, 탄탈 또는 그 합금 재질 등 고열의 가해짐을 고려하여 내열성 소재로 이루어짐이 바람직하다.
한편, 상기 노즐부(220)는, 공정 수행시 고온 상태로 유지되는 바 기판(10) 등 외부로 열이 노출되는 것을 방지하기 위하여, 노즐(211)들만 노출되고 제1용기(210) 및 제2용기(230)가 상측으로 노출되는 것을 방지하기 위하여 노즐부(220)의 상측에서 결합되는 커버부재(280)가 추가로 설치될 수 있다.
상기 커버부재(280)는, 고온의 노즐부(210)를 복개하기 위한 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.
상기 커버(280)는, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 상대적으로 얇은 재질의 플레이트가 판금, 용접 등에 의하여 형성될 수 있으며, 구조적 보강을 위하여 측면 외주면에 하나 이상의 리브(283)들이 설치될 수 있다.
상기 리드(283)은, 커버(280)의 외주면에 결합되어 상대적으로 얇은 부분의 구조적 보강을 위한 구성으로 다양한 재질 및 구조가 가능하다.
한편 상기 커버부재(280)는, 노즐(211)들만 노출될 수 있도록 각 노즐(211)들의 위치에 대응되어 개구부(281)이 형성되고, 후술하는 열차단부(260) 등에 볼트(289) 등에 의하여 고정될 수 있다.
그리고 상기 커버부재(280) 및 노즐부(210) 사이에는, 리플렉터(261), 단열부재(미도시) 등이 설치될 수 있다.
상기 히터지지부(240)는, 제2용기(230)의 측면을 둘러싸도록 설치되며 제2용기(230)를 가열하기 위한 하나 이상의 히팅부재(241)가 내측면에 설치되는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 히터지지부(240)는, 내열금속, 세라믹 등 고열에 강한 재질을 가짐이 바람직하다.
그리고 상기 히터지지부(240) 내부에 설치되는 히팅부재(241)는, 제2용기(230)를 가열을 통하여, 제1용기(210)에 담긴 증착물질을 증발시키는 구성으로서 전원공급에 의하여 열을 발생시키는 열선이 와이어 형상을 이루는 등 다양한 구성을 가질 수 있다.
또한 상기 히터지지부(240)는, 앞서 설명한 바와 같이, 제2용기(230), 특히 플렌지(232)를 지지할 수 있다.
또한 상기 히터지지부(240)의 외측에는, 히팅부재(241)의 열이 외측으로 전달되는 것을 방지하기 위한 열차단부(260)가 추가로 설치될 수 있다.
상기 열차단부(260)는, 히팅부재(241)의 열을 제2용기(230) 쪽으로 반사시키는 하나 이상의 반사부(261), 유리섬유 등 단열부재로 이루어진 단열부(262) 등을 포함할 수 있다.
상기 반사부(261)는, 히팅부재(241)의 열을 제2용기(230) 쪽으로 반사시키는 구성으로서 열이 반사될 수 있는 재질이면 어떠한 재질 및 구조도 가능하다.
또한 상기 반사부(261)는, 히터지지부(240)의 외측 이외에 제2용기(230)의 저면 쪽에서 설치될 수 있다.
상기 단열부(262)는, 단열성능이 높은 세라믹, 유리섬유 등이 포함된 하우징 구조를 이루는 등 다양한 구성이 가능하며, 반사부(261)와 함께 또는 반사부(261) 없이 설치될 수 있다.
한편 상기 열차단부(260)의 설치에도 불구하고, 히팅부재(241)에서 발생된 열이 외부로 노출될 수 있는바, 이를 방지하기 위하여, 물과 같은 냉매가 흐르는 쿨링자켓, 기타 냉각수단을 포함하여 냉각부(270)가 추가로 설치될 수 있다.
도면에서 설명되지 않은 도면부호 265는, 히터지지부(240), 열차단부(260) 등의 지지를 위한 저면플레이트를 가리키며, 272는, 저면플레이트를 지지하기 위한 지지부재, 271은, 냉각부(270) 내에 설치된 히팅부재(241)에 대한 전원인가선, 온도센서(미도시)와 연결되는 신호연결선의 삽입을 위하여 형성된 통과홀을 가리킨다.
이상은 본 발명에 의해 구현될 수 있는 바람직한 실시예의 일부에 관하여 설명한 것에 불과하므로, 주지된 바와 같이 본 발명의 범위는 위의 실시예에 한정되어 해석되어서는 안 될 것이며, 위에서 설명된 본 발명의 기술적 사상과 그 근본을 함께하는 기술적 사상은 모두 본 발명의 범위에 포함된다고 할 것이다.
200 : 리니어소스
210 : 제1용기 220 : 노즐부
230 : 제2용기 219, 239 : 리브
210 : 제1용기 220 : 노즐부
230 : 제2용기 219, 239 : 리브
Claims (8)
- 증착물질의 증발에 의하여 증착을 수행하기 위한 밀폐된 처리공간을 형성하는 공정챔버와, 상기 공정챔버 내에 설치되어 직사각형 기판에 대하여 상대이동되며 증착물질을 증발시키는 리니어소스를 포함하는 기판처리장치의 리니어소스로서,
상기 직사각형 기판의 상대이동방향에 대하여 수직을 이루는 길이를 가지는 개구가 상측에 형성되며 증착물질이 담기는 제1용기와;
상기 제1용기가 삽입되는 제2용기와;
상기 제1용기의 개구를 복개하도록 상기 제1용기와 탈착가능하게 결합되고, 상기 제1용기에서 증발된 증착물질이 분사되는 하나 이상의 노즐이 형성된 노즐부와;
상기 제1용기 및 상기 제2용기 중 적어도 어느 하나는 내주면 및 외주면 중 적어도 어느 하나에 구조보강을 위한 하나 이상의 리브가 형성되며,
상기 리브는, 상기 제1용기 및 상기 제2용기 중 적어도 어느 하나에서 길이방향의 측면 내주면 및 외주면 중 어느 하나에 형성되며,
상기 노즐들만 노출되고 상기 제1용기 및 상기 제2용기가 상측으로 노출되는 것을 방지하기 위하여 상기 노즐부의 상측에서 결합되는 커버부재를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 리니어소스. - 청구항 1에 있어서,
상기 리브는, 용접되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 리니어소스. - 청구항 1에 있어서,
상기 리브는, 그 측면 내주면 및 외주면 중 어느 하나에 'X'자 또는 '+'자 형상으로 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 리니어소스. - 삭제
- 증착물질의 증발에 의하여 증착을 수행하기 위한 밀폐된 처리공간을 형성하는 공정챔버와, 상기 공정챔버 내에 설치되어 직사각형 기판에 대하여 상대이동되며 증착물질을 증발시키는 리니어소스를 포함하는 기판처리장치의 리니어소스로서,
상기 직사각형 기판의 상대이동방향에 대하여 수직을 이루는 길이를 가지는 개구가 상측에 형성되며 증착물질이 담기는 제1용기와;
상기 제1용기가 삽입되는 제2용기와;
상기 제1용기의 개구를 복개하도록 상기 제1용기와 탈착가능하게 결합되고, 상기 제1용기에서 증발된 증착물질이 분사되는 하나 이상의 노즐이 형성된 노즐부와;
상기 제1용기 및 상기 제2용기 중 적어도 어느 하나는 내주면 및 외주면 중 적어도 어느 하나에 구조보강을 위한 하나 이상의 리브가 형성되며,
상기 노즐들만 노출되고 상기 제1용기 및 상기 제2용기가 상측으로 노출되는 것을 방지하기 위하여 상기 노즐부의 상측에서 결합되는 커버부재를 추가로 포함하며,
상기 커버부재의 내주면 및 외주면 중 적어도 어느 하나는, 구조보강을 위한 하나 이상의 리브가 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 리니어소스. - 청구항 1에 있어서,
상기 제2용기의 외부에는, 상기 제2용기의 측면을 둘러싸도록 설치되며 상기 제2용기 및 상기 제1용기의 가열을 통하여 상기 제1용기에 담긴 증착물질을 증발시키는 상기 제2용기를 가열하기 위한 하나 이상의 히팅부재가 내측면에 설치되는 히터지지부가 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 리니어소스. - 청구항 6에 있어서,
상기 히팅부재의 열이 제2용기 쪽으로 반사시키는 반사부 및 상기 히팅부재에서 발생된 열이 주변으로 전달되는 것을 차단하는 단열부 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 리니어소스. - 증착물질의 증발에 의하여 증착을 수행하기 위한 밀폐된 처리공간을 형성하는 공정챔버와;
상기 공정챔버 내에 설치되어 직사각형 기판에 대하여 상대이동되며 증착물질을 증발시키는 리니어소스로서, 청구항 1 내지 청구항 3 및 청구항 5 내지 청구항 7 중 어느 하나의 항에 따른 리니어소스를 포함하는 기판처리장치.
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| KR1020150130636A KR102134866B1 (ko) | 2015-09-15 | 2015-09-15 | 리니어소스 및 그를 가지는 기판처리장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020150130636A KR102134866B1 (ko) | 2015-09-15 | 2015-09-15 | 리니어소스 및 그를 가지는 기판처리장치 |
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| KR20170032781A KR20170032781A (ko) | 2017-03-23 |
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