KR102133772B1 - Resin composition and film manufactured from the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 제1 단량체 및 제2 단량체를 포함하는 혼합 용액을 졸-겔 반응 시켜 중합되고, 상기 제1 단량체 및 제2 단량체는 트라이알콕시 실란, 다이알콕시 실란, 모노알콕시 실란 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함하는 수지 조성물을 제공한다. 상기 수지 조성물은 강화 유리와 같은 경도 특성을 가지면서 동시에 고유연 특성을 가져 형태의 변형이 비교적 자유로운 필름을 제공할 수 있다.The present invention is polymerized by sol-gel reaction of a mixed solution containing a first monomer and a second monomer, and the first monomer and the second monomer are composed of trialkoxy silane, dialkoxy silane, monoalkoxy silane, and combinations thereof. It provides a resin composition comprising one selected from the group. The resin composition may provide a film having relatively high hardness characteristics such as tempered glass and having a high softness property, thereby freely deforming the shape.

Description

수지 조성물 및 이를 이용해 제조된 필름{Resin composition and film manufactured from the same}Resin composition and film manufactured using the same{Resin composition and film manufactured from the same}

본 발명은 수지 조성물 및 이를 이용해 제조된 필름에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 제1 단량체 및 제2 단량체를 포함하는 혼합 용액을 졸-겔 반응시켜 중합되는 수지 조성물 및 이를 이용해 제조된 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a resin composition and a film prepared using the same, and more particularly, to a resin composition polymerized by sol-gel reaction of a mixed solution containing a first monomer and a second monomer and a film produced using the same .

일반적으로 광학 스크린, LED 전면 판 또는 전자제품의 윈도우 같은 광학 기능성 제품에는 투명성 및 경도를 제공하는 유리가 주로 사용되어 왔다. 다만, 유리는 경량화가 어렵고 유연성이 없으며, 제품 가공 시 불량률이 높다는 문제점이 있다. 이를 극복하기 위해 높은 광투과율, 내파열성 또는 고굴절률 등의 특성을 갖는 열경화성 또는 열 가소성 중합체들이 유리를 대체하게 되었다.In general, optical functional products such as optical screens, LED front panels, or windows of electronic products have been mainly used for providing transparency and hardness. However, glass has a problem that it is difficult to reduce weight and has no flexibility, and a defective rate is high during product processing. To overcome this, thermosetting or thermoplastic polymers having properties such as high light transmittance, burst resistance, or high refractive index have replaced glass.

열경화성 또는 열가소성 중합체들은 투명성과 내충격성은 우수하나 유리소재에 비하여 내스크레치성 및 내약품성이 부족하여 이를 개선하기 위해 물리적 강도가 우수하고 투명한 소재들로 코팅하는 기술을 사용하고 있다.Thermosetting or thermoplastic polymers have excellent transparency and impact resistance, but lack scratch resistance and chemical resistance compared to glass materials, and use technology to coat them with excellent physical strength and transparent materials to improve them.

코팅제로는 열경화 또는 광경화 타입이 있고, 유기 코팅제와 무기 코팅제로 나눌 수 있다. 유기 코팅제로서는 멜라민, 아크릴 및 우레탄 등이 사용되고 있다. 반면에 무기 코팅제는 실리콘계가 주를 이루고 있다. As a coating agent, there are a thermosetting or photocuring type, and can be divided into an organic coating agent and an inorganic coating agent. Melamine, acrylic and urethane are used as the organic coating agent. On the other hand, the inorganic coating agent mainly consists of silicone.

열경화 코팅제의 경우 주로 실리콘계 재료가 사용되고 있다. 광경화의 경우에는 열을 직접적으로 가하지 않기 때문에 열가소성 플라스틱, 목재, 종이 등의 고온 열경화가 곤란한 기재의 코팅이 가능하다.In the case of a thermosetting coating agent, silicone-based materials are mainly used. In the case of photocuring, since heat is not directly applied, it is possible to coat a substrate that is difficult to heat-cure at high temperatures such as thermoplastics, wood, and paper.

폴리 실록산을 이용한 열경화형 하드 코팅은 실리콘 코팅으로 산업체에서 폭넓게 응용되고 있다. 실리콘계 하드코팅액은 플라스틱 표면에 경도가 높은 피막을 형성시켜 스크래치의 발생에 의한 표면 손상을 방지함과 동시에 내후성, 내약품성, 내용제성 등을 향상시켜 플라스틱의 적용분야를 더욱 폭넓게 할 수 있는 가능성을 가지고 있다. The thermosetting hard coating using polysiloxane is a silicone coating and is widely applied in industry. The silicone-based hard coating solution has a possibility to form a high-hardness film on the plastic surface to prevent surface damage due to the occurrence of scratches, and at the same time improve weatherability, chemical resistance, solvent resistance, etc., thereby making the application field of plastics wider. have.

현재 디스플레이 분야는 폴더블 또는 롤러블 등 디스플레이가 휘거나 접히는 형태의 변형이 가능한 차세대 디스플레이 개발이 진행 되고 있다. 기존 디스플레이에 사용되는 강화 유리의 경우 고경도 특성을 가지나 형태의 변형이 불가능하기에 차세대 디스플레이에 적합한 커버윈도우용 소재 연구 개발이 필요하다. 이에 따라 강한 경도 특성을 가지면서 동시에 형태의 변형이 비교적 자유로운 필름 타입의 커버윈도우에 대한 필요성이 증대되고 있다.Currently, in the display field, development of a next-generation display capable of deforming or folding a display such as a foldable or a rollable is progressing. In the case of tempered glass used in existing displays, it has high hardness characteristics but cannot be modified in shape, so it is necessary to research and develop materials for cover windows suitable for next-generation displays. Accordingly, there is an increasing need for a film-type cover window having strong hardness characteristics and at the same time relatively free of deformation of shape.

실리카(SiO2)는 모래나 석영 등으로 발견되며, 규조류의 세포벽에도 분포한다. 유리나 콘크리트의 주성분으로 지구의 지각 대부분을 차지하는 광물이다. Silica (SiO 2 ) is found in sand or quartz, and is also distributed in the cell walls of diatoms. A major component of glass or concrete, it is a mineral that occupies most of the earth's crust.

종래 실리카 입자를 사용한 하드코팅 기술의 경우 높은 표면 경도 구현이 가능하나, 굴곡 시 금이 발생해 유연성이 필요한 기재의 코팅용도로는 적용이 어렵다.In the case of the conventional hard coating technology using silica particles, it is possible to realize high surface hardness, but it is difficult to apply for coating purposes of substrates requiring flexibility due to cracks generated during bending.

한국등록특허 제10-1302720호에서는 두 가지 크기의 실리카 나노입자를 기반으로 구성된 금속 표면 도장을 위한 내스크래치성 실리카 보호막 형성용 코팅 조성물 및 이의 제조방법을 제공하고 있으나, 상기 코팅 조성물을 이용하여 제조된 필름은 유연성이 떨어져 굴곡 시 금이 발생해 유연 소재에 적용이 어려울 수 있다.Korean Registered Patent No. 10-1302720 provides a coating composition for forming a scratch-resistant silica protective film for coating a metal surface composed of two sizes of silica nanoparticles and a manufacturing method thereof, but is prepared using the coating composition The old film may be difficult to apply to the flexible material due to its inflexibility and cracking when bending.

한국등록특허 제10-1302720호Korean Registered Patent No. 10-1302720

본 발명이 이루고자 하는 일 기술적 과제는, 고경도와 유연성을 동시에 가지는 수지 조성물을 제공하는 것이다.One technical problem to be achieved by the present invention is to provide a resin composition having both high hardness and flexibility.

본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 상기 수지 조성물을 이용하여 제조된 필름을 제공하는 것이다.Another technical problem to be achieved by the present invention is to provide a film manufactured using the resin composition.

본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 상기 필름이 구비된 커버 윈도우를 제공하는 것이다.Another technical problem to be achieved by the present invention is to provide a cover window provided with the film.

본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 상기 필름이 구비된 화상표시장치를 제공하는 것이다. Another technical problem to be achieved by the present invention is to provide an image display device equipped with the film.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned can be clearly understood by a person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention belongs from the following description. There will be.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예는 제1 단량체 및 제2 단량체를 포함하는 혼합 용액을 졸-겔 반응 시켜 중합되고, 상기 제1 단량체 및 제2 단량체는 트라이알콕시 실란, 다이알콕시 실란, 모노알콕시 실란 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함하는 수지 조성물을 제공한다.In order to achieve the above technical problem, an embodiment of the present invention is polymerized by performing a sol-gel reaction of a mixed solution containing a first monomer and a second monomer, and the first monomer and the second monomer are trialkoxy silane, di Provided is a resin composition comprising one selected from the group consisting of alkoxy silanes, monoalkoxy silanes, and combinations thereof.

상기 제1 단량체는 에테르기, 에스테르기, C3 내지 C10의 알킬기, 글리시딜옥시기 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함할 수 있다.The first monomer may include one selected from the group consisting of ether groups, ester groups, C 3 to C 10 alkyl groups, glycidyloxy groups, and combinations thereof.

상기 제1 단량체는 (3-글리시딜옥시프로필)트라이메톡시실란, 3-글리시독시프로필다이메톡시메틸실란, (3-(2,3-에폭시프로폭시)-프로필)-트라이메톡시실란 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함할 수 있다.The first monomer is (3-glycidyloxypropyl)trimethoxysilane, 3-glycidoxypropyldimethoxymethylsilane, (3-(2,3-epoxypropoxy)-propyl)-trimethoxy Silanes and combinations thereof.

상기 제2 단량체는 방향족기, C4 내지 C10의 사이클로알킬기 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함할 수 있다.The second monomer may include one selected from the group consisting of aromatic groups, C 4 to C 10 cycloalkyl groups, and combinations thereof.

상기 제2 단량체는 페닐트라이메톡시실란, 1-나프틸트라이메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트라이메톡시실란 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함할 수 있다.The second monomer may include one selected from the group consisting of phenyltrimethoxysilane, 1-naphthyltrimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, and combinations thereof. Can.

상기 제1 단량체는 연질 단량체이고, 상기 제2 단량체는 경질 단량체일 수 있다.The first monomer may be a soft monomer, and the second monomer may be a hard monomer.

상기 제1 단량체 및 상기 제2 단량체의 몰비는 5:1 내지 1:5일 수 있다.The molar ratio of the first monomer and the second monomer may be 5:1 to 1:5.

상기 제1 단량체는 상기 혼합 용액 중 0.1중량% 내지 60중량%로 제공될 수 있다.The first monomer may be provided in 0.1% to 60% by weight in the mixed solution.

상기 제2 단량체는 상기 혼합 용액 중 0.1중량% 내지 60중량%로 제공될 수 있다.The second monomer may be provided in 0.1% to 60% by weight in the mixed solution.

상기 혼합 용액은 촉매를 더 포함할 수 있다.The mixed solution may further include a catalyst.

상기 촉매는 이온 교환 수지를 포함할 수 있다.The catalyst may include an ion exchange resin.

상기 촉매는 알킬암모늄 염, 할라이드 염 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함할 수 있다.The catalyst may include one selected from the group consisting of alkylammonium salts, halide salts, and combinations thereof.

상기 촉매는 제1 단량체 및 제2 단량체의 총 중량 대비 3중량% 내지 7중량%으로 제공될 수 있다.The catalyst may be provided in 3% to 7% by weight relative to the total weight of the first monomer and the second monomer.

상기 수지 조성물은 계면활성제, 황변 방지제, 희석제, 소포제, 분산제, 증점제, 습윤제, 레벨링제 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 더 포함할 수 있다.The resin composition may further include one selected from the group consisting of surfactants, anti-yellowing agents, diluents, anti-foaming agents, dispersants, thickeners, wetting agents, leveling agents, and combinations thereof.

상기 수지 조성물은 하드 코팅용 조성물일 수 있다.The resin composition may be a composition for hard coating.

본 발명의 일 실시예는 상기 수지 조성물을 이용하여 제조된 필름을 제공한다.One embodiment of the present invention provides a film prepared using the resin composition.

본 발명의 일 실시예는 상기 필름이 구비된 커버 윈도우를 제공한다.One embodiment of the present invention provides a cover window provided with the film.

본 발명의 일 실시예는 상기 필름이 구비된 화상표시장치를 제공한다.One embodiment of the present invention provides an image display device provided with the film.

본 발명에서는 제1 단량체 및 제2 단량체를 포함하는 혼합 용액을 졸-겔 반응 시켜 중합되어 강화 유리와 같은 경도 특성을 가지면서 동시에 고유연 특성을 가져 형태의 변형이 비교적 자유로운 필름을 위한 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 필름을 제공할 수 있다.In the present invention, a resin composition for a film in which the mixed solution containing the first monomer and the second monomer is polymerized by sol-gel reaction, having hardness characteristics such as tempered glass, and at the same time having high-intrinsic characteristics and relatively free form deformation It can provide a film produced using this.

도1은 본 발명의 일 실시예에 따른 수지 조성물이 코팅된 기재의 개략적인 단면도이다.
도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 필름의 경도 및 모듈러스 평가 그래프이다.
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 필름의 로드-디스플레이스먼트 평가 그래프이다.
도4는 본 발명의 일 실시예에 따른 필름의 연필 경도 평가 그래프이다.
도5는 본 발명의 일 실시예에 따른 필름의 굽힘 강성 평가 그래프이다.
도6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 필름의 경도 및 모듈러스 평가 그래프이다.
도7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 필름의 연필 강도 평가 그래프이다.
도8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 필름의 굽힘 강성 평가 그래프이다.
도9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 필름의 레지듀얼 뎁스 평가 그래프이다.
도10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 필름의 휨 평가 그래프이다.
1 is a schematic cross-sectional view of a substrate coated with a resin composition according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a hardness and modulus evaluation graph of the film according to an embodiment of the present invention.
3 is a load-displacement evaluation graph of a film according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 is a pencil hardness evaluation graph of the film according to an embodiment of the present invention.
5 is a graph of bending stiffness evaluation of a film according to an embodiment of the present invention.
6 is a graph of hardness and modulus evaluation of a film according to another embodiment of the present invention.
7 is a pencil strength evaluation graph of a film according to another embodiment of the present invention.
8 is a graph of evaluation of bending stiffness of a film according to another embodiment of the present invention.
9 is a residual depth evaluation graph of a film according to another embodiment of the present invention.
10 is a graph of bending evaluation of a film according to another embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the present invention may be implemented in various different forms, and thus is not limited to the embodiments described herein. In addition, in order to clearly describe the present invention in the drawings, parts irrelevant to the description are omitted, and like reference numerals are assigned to similar parts throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결(접속, 접촉, 결합)"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is said to be "connected (connected, contacted, coupled)" to another part, it is not only "directly connected", but also "indirectly connected" with another member in between. "It includes the case where it is. Also, when a part “includes” a certain component, this means that other components may be further provided instead of excluding other components, unless specifically stated otherwise.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used herein are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this specification, terms such as “include” or “have” are intended to indicate that a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification exists, and that one or more other features are present. It should be understood that the existence or addition possibilities of fields or numbers, steps, operations, components, parts or combinations thereof are not excluded in advance.

본 발명의 일 양태는 제1 단량체 및 제2 단량체를 포함하는 혼합 용액을 졸-겔 반응 시켜 중합되고, 상기 제1 단량체 및 제2 단량체는 트라이알콕시 실란, 다이알콕시 실란, 모노알콕시 실란 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함하는 수지 조성물을 제공한다.One aspect of the present invention is polymerized by sol-gel reaction of a mixed solution containing a first monomer and a second monomer, and the first monomer and the second monomer are trialkoxy silane, dialkoxy silane, monoalkoxy silane, and these Provided is a resin composition comprising one selected from the group consisting of combinations.

본 명세서에서, “실란”은 한 개의 중심 실리콘 원자와 H 또는 치환기로 이루어진 분자를 지칭한다. 이때, 상기 치환기는 할로겐기, 치환 또는 비치환된 탄소 수 1 이상 20 이하의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소 수 2 이상 20 이하의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 탄소 수 6 이상 30 이하의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소 수 2 이상 30 이하의 헤테로 아릴기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 하이드록시기 또는 이들의 조합일 수 있다. In this specification, “silane” refers to a molecule consisting of one central silicon atom and H or a substituent. In this case, the substituent is a halogen group, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted carbon atom having 2 to 20 alkenyl groups, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms. It may be a group, a substituted or unsubstituted hetero aryl group having 2 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted silyl group, a hydroxyl group, or a combination thereof.

예를 들어, 알콕시 실란은 하이드록시기(OH)와 반응해 중합체 내에 강한 화학적 결합을 형성할 수 있다. For example, alkoxy silanes can react with hydroxy groups (OH) to form strong chemical bonds within the polymer.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 단량체는 연질 단량체이고, 상기 제2 단량체는 경질 단량체일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the first monomer may be a soft monomer, and the second monomer may be a hard monomer.

상기 연질 단량체를 단독 단량체로 졸-겔 반응 시 유연 나노졸을 형성할 수 있다. 상기 연질 단량체는 다른 종류의 단량체와 함께 졸-겔 반응 시 공중합체를 형성할 수 있고, 상기 공중합체에 유연성을 부여할 수 있다.When the sol-gel reaction is performed with the soft monomer as a single monomer, a flexible nanosol may be formed. The soft monomer may form a copolymer upon sol-gel reaction with other types of monomers, and may impart flexibility to the copolymer.

상기 경질 단량체를 단독 단량체로 졸-겔 반응 시 경질 나노졸을 형성할 수 있다. 상기 경질 단량체는 다른 종류의 단량체와 함께 졸-겔 반응 시 공중합체를 형성할 수 있고, 상기 공중합체에 경성을 부여할 수 있다.When the sol-gel reaction of the hard monomer is a single monomer, a hard nanosol may be formed. The hard monomer may form a copolymer upon sol-gel reaction with other types of monomers, and may give hardness to the copolymer.

중합체의 유연성(flexibility)은 그 중합체 사슬이 어떤 종류로 되어있느냐에 영향받게 되는데, 탄소-탄소 결합은 자유롭게 회전할 수가 있으므로 어느 정도의 유연성을 부여할 수 있다. 탄소-산소 결합의 경우는 탄소-탄소 결합보다 굽힘과 회전이 자유로워 더 유연하다. 중합체가 탄소-탄소 또는 탄소-산소 등과 같이 회전 가능한 유연결합을 포함하는 경우에는 아마이드 또는 방향족 구조를 포함하는 경우보다 사슬의 굽힘이나 회전이 용이하여 유연성을 나타낼 수 있다.The flexibility of the polymer is influenced by the type of the polymer chain, and since the carbon-carbon bond can rotate freely, it can impart some degree of flexibility. Carbon-oxygen bonds are more flexible because they are free to bend and rotate than carbon-carbon bonds. When the polymer includes a rotatable flexible bond such as carbon-carbon or carbon-oxygen, the chain can be easily bent or rotated to exhibit flexibility, as compared to the case of including an amide or aromatic structure.

예를 들어, 상기 연질 단량체는 굽힘 및 회전이 용이한 결합을 포함할 수 있다.For example, the soft monomer may include a bond that is easily bent and rotated.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 단량체는 에테르기, 에스테르기, C3 내지 C10의 알킬기, 글리시딜옥시기 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the first monomer may include one selected from the group consisting of ether groups, ester groups, C 3 to C 10 alkyl groups, glycidyloxy groups, and combinations thereof.

예를 들어, 상기 제1 단량체는 (3-글리시딜옥시프로필)트라이메톡시실란, 3-글리시독시프로필다이메톡시메틸실란, (3-(2,3-에폭시프로폭시)-프로필)-트라이메톡시실란 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.For example, the first monomer is (3-glycidyloxypropyl)trimethoxysilane, 3-glycidoxypropyldimethoxymethylsilane, (3-(2,3-epoxypropoxy)-propyl) -May include one selected from the group consisting of trimethoxysilane and combinations thereof, but is not limited thereto.

예를 들어, 상기 경질 단량체는 굽힘 및 회전이 용이하지 않은 결합을 포함할 수 있다. For example, the hard monomer may include a bond that is not easy to bend and rotate.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제2 단량체는 방향족기, C4 내지 C10의 사이클로알킬기 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the second monomer may include one selected from the group consisting of aromatic groups, C 4 to C 10 cycloalkyl groups, and combinations thereof.

예를 들어, 상기 제2 단량체는 페닐트라이메톡시실란, 1-나프틸트라이메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트라이메톡시실란 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.For example, the second monomer is selected from the group consisting of phenyltrimethoxysilane, 1-naphthyltrimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, and combinations thereof. It may include one, but is not limited thereto.

상기 제1 단량체 및 상기 제2 단량체의 몰비는 5:1 내지 1:5, 예를 들어 4:1 내지 1:4, 예를 들어, 3:1 내지 1:3일 수 있다. 상기 몰비가 1:5 초과인 경우 상기 수지 조성물을 이용해 제조된 필름의 유연성이 부족해 굴곡 시 금이 가는 문제점이 발생할 수 있고, 5:1 미만인 경우 상기 필름의 경도가 부족해 기재를 충분히 보호할 수 없다는 문제점이 발생할 수 있다.The molar ratio of the first monomer and the second monomer may be 5:1 to 1:5, such as 4:1 to 1:4, such as 3:1 to 1:3. When the molar ratio is more than 1:5, the flexibility of the film produced using the resin composition is insufficient, and thus cracking may occur when bending. If it is less than 5:1, the hardness of the film is insufficient to protect the substrate sufficiently. Problems may arise.

상기 제1 단량체는 상기 합성 용액 중 0.1중량% 내지 60중량%로 제공될 수 있다.The first monomer may be provided in 0.1% to 60% by weight in the synthetic solution.

상기 제1 단량체가 0.1중량% 미만으로 제공될 경우 상기 수지 조성물을 이용해 제조된 필름의 유연성이 부족해 굴곡 시 금이 가는 문제점이 발생할 수 있고, 60중량% 초과하여 제공될 경우 제조된 필름의 경도가 저하되는 문제점이 발생할 수 있다.When the first monomer is provided in an amount of less than 0.1% by weight, the flexibility of the film manufactured using the resin composition may be insufficient, resulting in a problem of cracking when bending. When provided in excess of 60% by weight, the hardness of the produced film is A problem may be deteriorated.

상기 제2 단량체는 상기 혼합 용액 중 0.1중량% 내지 60중량%로 제공될 수 있다. The second monomer may be provided in 0.1% to 60% by weight in the mixed solution.

상기 제2 단량체가 상기 수지 조성물 중량 대비 0.1중량% 미만으로 제공되는 경우 상기 수지 조성물을 이용해 제조된 필름의 경도가 부족해 기재를 충분히 보호해 줄 수 없고, 60중량% 초과하여 제공될 경우 제조된 필름의 유연 특성이 저하되는 문제점이 발생할 수 있다.When the second monomer is provided in an amount of less than 0.1% by weight based on the weight of the resin composition, the hardness of the film prepared using the resin composition is insufficient to sufficiently protect the substrate, and the film produced when provided in excess of 60% by weight A problem that a softening property of the deterioration may occur.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 수지 조성물 합성 시에 촉매를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, a catalyst may be included in the synthesis of the resin composition.

상기 촉매는 이온 교환 수지를 포함할 수 있다.The catalyst may include an ion exchange resin.

예를 들어, 상기 촉매는 알킬암모늄 염, 할라이드 염 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함할 수 있다.For example, the catalyst may include one selected from the group consisting of alkylammonium salts, halide salts, and combinations thereof.

구체적인 예를 들어, 상기 촉매는 플루오라이트(Plurolite) 회사로부터 구입 가능한 CT-175, CT-275, 롬앤드하스(Rohm & Haas) 회사로부터 구입 가능한 IRA-400, IRA-402, IRA-904, IRA-910 IRA-966, 바이어(Bayer) 회사로부터 구입 가능한 M-500, M-504, M-600, M-500-A, M-500, K-2641, 다우(Dow) 회사로부터 구입 가능한 SBR, SBR-P, SAR, MSA-1, MSA02, 미쓰비시(Mitsubishi) 회사로부터 구입 가능한 SAlO, SA12, SA 2OA, PA-302, PA-312, PA-412, 또는 PA-308를 포함할 수 있다.For a specific example, the catalyst is CT-175, CT-275, available from the company Flurolite, IRA-400, IRA-402, IRA-904, IRA available from the company Rohm & Haas. -910 IRA-966, M-500, M-504, M-600, M-500-A, M-500, K-2641, SBR available from Dow, available from Bayer SBR-P, SAR, MSA-1, MSA02, SAlO, SA12, SA 2OA, PA-302, PA-312, PA-412, or PA-308 available from Mitsubishi.

예를 들어, 상기 촉매는 헥사데실트라이메틸암모늄 클로라이드, 테트라-n-부틸암모늄 클로라이드, 벤질 트라이메틸 암모늄 클로라이드 또는 벤질 트라이메틸 암모늄 브로마이드를 포함할 수 있다.For example, the catalyst may include hexadecyltrimethylammonium chloride, tetra-n-butylammonium chloride, benzyl trimethyl ammonium chloride or benzyl trimethyl ammonium bromide.

상기 촉매는 제1 단량체 및 제2 단량체의 총 중량 대비 3중량% 내지 7중량%으로 제공될 수 있다.The catalyst may be provided in 3% to 7% by weight relative to the total weight of the first monomer and the second monomer.

상기 촉매가 3중량% 미만으로 제공되는 경우 졸-겔 반응이 충분히 일어나지 않는 문제가 발생할 수 있고, 7중량% 초과하여 제공되는 경우 투입된 촉매에 비해 반응 속도가 더 이상 증가하지 않을 수 있다.When the catalyst is provided in an amount of less than 3% by weight, a problem that the sol-gel reaction does not sufficiently occur may occur, and when it is provided in an amount of more than 7% by weight, the reaction rate may not increase any more than the injected catalyst.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 수지 조성물은 단량체들이 졸-겔 반응을 통하여 중합체를 만드는 방법으로, 높은 입자 균일성을 가지는 수지 조성물을 얻을 수 있으며, 박막 형태로 성형하기 쉬운 액상의 반응물을 수득할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the resin composition is a method in which monomers make a polymer through a sol-gel reaction to obtain a resin composition having high particle uniformity, and a liquid reactant that is easy to mold into a thin film form. Can be obtained.

상기 졸-겔 반응은 용액 중에서 가수분해 반응과 중축합 반응을 통해 상기 수지 조성물을 경제적으로 제조할 수 있다. The sol-gel reaction can economically manufacture the resin composition through a hydrolysis reaction and a polycondensation reaction in a solution.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 수지 조성물은 계면활성제, 황변 방지제, 희석제, 소포제, 분산제, 증점제, 습윤제, 레벨링제, 대전 방지제 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 더 포함할 수 있고, 항산화제, 자외선흡수제, 광안정제, 열적고분자 금지제, 윤활제, 방오제 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 더 포함할 수도 있다.In one embodiment of the present invention, the resin composition may further include one selected from the group consisting of surfactants, anti-yellowing agents, diluents, antifoaming agents, dispersants, thickeners, wetting agents, leveling agents, antistatic agents, and combinations thereof. In addition, it may further include one selected from the group consisting of antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, thermal polymer inhibitors, lubricants, antifouling agents and combinations thereof.

예를 들어, 상기 수지 조성물은 자외선 흡수제를 더 포함함으로써 자외선 차단 효과를 갖는 필름을 형성할 수 있어, 표시 모듈로 전달되는 자외선을 차단함으로써 표시 장치의 신뢰성을 개선할 수 있다.For example, the resin composition may further include an ultraviolet absorber to form a film having an ultraviolet ray blocking effect, thereby improving the reliability of the display device by blocking ultraviolet rays transmitted to the display module.

본 발명의 일 실시예에 따른 수지 조성물은 대전방지제를 더 포함함으로써 필름의 대전방지 특성을 개선함으로써 먼지 등의 흡착에 따른 오염 방지 기능을 개선할 수 있다.The resin composition according to an embodiment of the present invention may further improve an antistatic property of a film by further including an antistatic agent, thereby improving a function of preventing contamination due to adsorption of dust and the like.

예를 들어, 상기 대전 방지제는 음이온 계면활성제 계열의 대전 방지제를 포함할 수 있다. For example, the antistatic agent may include an anionic surfactant-based antistatic agent.

본 발명의 일 실시예에 따른 수지 조성물은 레벨링제를 더 포함하여 수지 조성물의 코팅성을 개선하여 상기 수지 조성물을 이용해 제조된 필름의 평활성을 향상시킬 수 있다. The resin composition according to an embodiment of the present invention may further include a leveling agent to improve the coating property of the resin composition to improve the smoothness of the film produced using the resin composition.

예를 들어, 상기 레벨링제는 실리콘계 레벨링제, 불소계 레벨링제, 아크릴계 레벨링제 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함할 수 있다. For example, the leveling agent may include one selected from the group consisting of silicone leveling agents, fluorine leveling agents, acrylic leveling agents, and combinations thereof.

본 발명의 일 실시예에서 상기 희석제는 수지 조성물의 농도와 점도 또는 생성된 필름의 두께를 조절하기 위하여 사용 될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the diluent may be used to control the concentration and viscosity of the resin composition or the thickness of the resulting film.

예를 들어, 상기 희석제는 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 메틸아세테이트, 에틸아세테이트, 톨루엔, 벤젠, 크실렌 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함할 수 있다. 이때, 상기 희석제는 코팅 방법 또는 목적하는 필름의 두께에 의존하여 적절히 선택될 수 있다.For example, the diluent may include one selected from the group consisting of methanol, ethanol, propanol, isopropanol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl acetate, ethyl acetate, toluene, benzene, xylene and combinations thereof. have. At this time, the diluent may be appropriately selected depending on the coating method or the thickness of the desired film.

본 발명의 일 실시예에 있어서 상기 수지 조성물은 코팅 용도로 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기 수지 조성물은 하드코팅 용도로 사용 될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the resin composition may be used for coating. For example, the resin composition may be used for hard coating applications.

본 발명의 일 양태는 본 발명의 일 실시예에 따른 수지 조성물을 이용하여 제조된 필름을 제공한다.One aspect of the present invention provides a film prepared using a resin composition according to an embodiment of the present invention.

도1을 참조하면, 상기 필름(200)은 기재(100)상에 형성될 수 있으며, 상기 기재(100) 상에 상기 수지 조성물을 공지된 방법으로 코팅하는 방법에 의해 형성될 수 있다.Referring to Figure 1, the film 200 may be formed on a substrate 100, it may be formed by a method of coating the resin composition on the substrate 100 by a known method.

예를 들어, 상기 공지된 방법은 스핀 코팅법, 바 코팅법, 분무 코팅법, 잉크젯 코팅법, 디핑법, 플로우 코팅법, 롤 코팅법 또는 스크린 인쇄법을 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. For example, the known methods may include, but are not limited to, spin coating, bar coating, spray coating, inkjet coating, dipping, flow coating, roll coating or screen printing. .

본 발명의 일 양태는 상기 필름이 구비된 커버 윈도우를 제공할 수 있다.One aspect of the present invention may provide a cover window provided with the film.

본 발명의 일 양태는 상기 필름이 구비된 화상표시장치를 제공할 수 있다.One aspect of the present invention can provide an image display device provided with the film.

본 발명의 일 실시예에 있어서 화상표시장치는 액정패널 또는 발광다이오드 패널과 같은 표시모듈의 보호를 위해 표시 면에 커버 윈도우가 부착될 수 있다. 상기 커버 윈도우는 접착층을 통해 상기 표시모듈에 견고히 부착되어야 한다.In one embodiment of the present invention, the image display device may have a cover window attached to a display surface for protection of a display module such as a liquid crystal panel or a light emitting diode panel. The cover window must be firmly attached to the display module through an adhesive layer.

예를 들어, 접착제를 상기 커버 윈도우에 도포한 후 가경화 하고, 상기 표시모듈과 상기 커버 윈도우가 마주하도록 접착시켜 배치한 다시 경화시킴으로써, 상기 표시모듈과 상기 커버 윈도우가 상기 접착층에 의해 부착되도록 할 수 있다.For example, by applying an adhesive to the cover window and temporarily curing, the display module and the cover window are adhered so as to face each other, and placed again to cure, so that the display module and the cover window are attached by the adhesive layer. Can.

표시 모듈은 표시 패널 및 기능성 부재를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 표시 패널은 유기 전계 발광 표시패널(organic electroluminescence display panel), 액정표시패널(liquid crystal display panel), 전자잉크 표시패널(electronic ink display panel), 전기습윤 표시패널(electrowetting display panel) 또는 전기영동 표시패널(electrophoretic display panel)을 포함할 수 있다.The display module may include a display panel and a functional member. For example, the display panel includes an organic electroluminescence display panel, a liquid crystal display panel, an electronic ink display panel, and an electrowetting display panel. Or it may include an electrophoretic display panel.

상기 표시 모듈은 유연 소재를 포함할 수 있다. The display module may include a flexible material.

상기 기능성 부재는 보호필름, 입력감지 유닛, 광학부재 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함할 수 있지만 이에 제한되지 않는다. The functional member may include, but is not limited to, one selected from the group consisting of a protective film, an input sensing unit, an optical member, and combinations thereof.

예를 들어, 상기 광학부재는 편광자, 광보상층 또는 위상 지연자를 포함할 수 있다. For example, the optical member may include a polarizer, a light compensation layer, or a phase retarder.

예를 들어, 상기 입력감지 유닛은 터치센싱 유닛일 수 있으며, 그 종류가 제한되지 않고 정전용량 방식 또는 전자기 유도 방식 터치센싱 유닛일 수 있다.For example, the input sensing unit may be a touch sensing unit, the type of which is not limited, and may be a capacitive type or electromagnetic induction type touch sensing unit.

본 발명의 일 실시예에 따른 수지 조성물은 하이브리드 코어 나노 졸을 포함할 수 있다. 상기 수지 조성물은 경연성(rigid-flex) 네트워크를 포함할 수 있다. The resin composition according to an embodiment of the present invention may include a hybrid core nano sol. The resin composition may include a rigid-flex network.

상기 경연성 네트워크는 상기 수지 조성물을 이용하여 제조된 필름에 경성 및 연성을 동시에 부여할 수 있다.The ductile network may simultaneously impart stiffness and ductility to a film produced using the resin composition.

현재 디스플레이 분야는 폴더블 디스플레이 또는 롤러블 디스플레이 등 휘거나 접히는 형태의 변형이 가능한 차세대 디스플레이에 대한 개발이 활발히 진행되고 있다. Currently, in the display field, development of a next-generation display capable of bending or folding in a form such as a foldable display or a rollable display is actively being developed.

종래 디스플레이에 사용되는 강화 유리의 경우 고경도 특성을 가지나 형태의 변형이 불가능해 차세대 디스플레이에 적용될 수 없는 문제가 있을 수 있다. 또한, 졸-겔 공정에 사용되는 무기 입자의 경우도 고경도 특성을 가진다는 장점이 있으나 유연성이 떨어져 폴더블 디스플레이에 사용하기는 적합하지 않다는 문제가 있을 수 있다.In the case of tempered glass used in a conventional display, it has a high hardness characteristic, but cannot be applied to a next-generation display because deformation of the shape is impossible. In addition, the inorganic particles used in the sol-gel process also have the advantage of having high hardness properties, but may have problems in that they are not suitable for use in a foldable display due to inflexibility.

본 발명의 일 실시예에 따른 수지 조성물은 유리와 같이 단단한 경도 특성 및 고유연 특성을 동시에 구현할 수 있다. The resin composition according to an embodiment of the present invention can simultaneously implement hard hardness characteristics and high-softness characteristics such as glass.

상기 조성물을 이용해 제조된 필름은 유리와 같은 경도 특성을 가지면서 동시에 형태의 변형이 용이할 수 있다.The film prepared using the composition may have the same hardness characteristics as glass, and at the same time, the shape may be easily deformed.

예를 들어, 상기 수지 조성물 및 상기 필름은 유연 디스플레이 등과 같은 차세대 디스플레이에 적용 될 수 있다.For example, the resin composition and the film may be applied to next-generation displays such as flexible displays.

이하에서는, 실시예 및 비교예를 참조하면서, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 수지 조성물에 대하여 구체적으로 설명한다. 또한, 이하에 나타내는 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 일 예시이며, 본 발명의 범위가 이에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, a resin composition according to an embodiment of the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. In addition, the examples shown below are only examples to help understanding of the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto.

실시예Example

비교예1. Comparative Example 1.

(3-글리시딜옥시프로필)트라이메톡시실란(GPTMS) 및 H2O의 몰비가 1:1.5가 되도록 구형 플라스크에 투입하였다. 이때 상기 GPTMS는 100g이 되도록 하였다. The (3-glycidyloxypropyl) trimethoxysilane (GPTMS) and H 2 O were charged into a spherical flask such that the molar ratio was 1:1.5. At this time, the GPTMS was set to 100 g.

상기 구형 플라스크에 5g의 Amberlite IRA-400를 투입하고 80℃에서 24시간 동안 졸-겔 반응을 진행하여 반응물을 생성하였다.5 g of Amberlite IRA-400 was added to the spherical flask and a sol-gel reaction was performed at 80° C. for 24 hours to produce a reactant.

상기 반응물을 정제하여 반응 부산물과 미반응 단량체가 제거된 수지 조성물을 제조하였다.The reaction product was purified to prepare a resin composition from which reaction by-products and unreacted monomers were removed.

비교예2. Comparative Example 2.

2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트라이메톡시실란(ECTMS) 및 H2O의 몰비가 1:1.5가 되도록 구형 플라스크에 투입하였다. 이때 상기 ECTMS는 100g이 되도록 하였다. The 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane (ECTMS) and H 2 O were charged into a spherical flask such that the molar ratio was 1:1.5. At this time, the ECTMS was set to 100 g.

상기 구형 플라스크에 5g의 Amberlite IRA-400를 투입하고 80℃에서 24시간 동안 졸-겔 반응을 진행하여 반응물을 생성하였다.5 g of Amberlite IRA-400 was added to the spherical flask and a sol-gel reaction was performed at 80° C. for 24 hours to produce a reactant.

상기 반응물을 정제하여 반응 부산물과 미반응 단량체가 제거된 수지 조성물을 제조하였다.The reaction product was purified to prepare a resin composition from which reaction by-products and unreacted monomers were removed.

비교예3. Comparative Example 3.

상기 비교예1 및 상기 비교예2에서 수득한 수지 조성물을 1:1의 비율로 혼합(blending)하여 수지 조성물을 제조하였다.The resin composition obtained in Comparative Example 1 and Comparative Example 2 was blended at a ratio of 1:1 to prepare a resin composition.

실시예1. Example 1.

(3-글리시딜옥시프로필)트라이메톡시실란(GPTMS), 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트라이메톡시실란(ECTMS) 및 H2O의 몰비가 1.5:0.5:3이 되도록 구형 플라스크에 투입하였다. 이때 상기 GPTMS 및 ECTMS의 합산 중량은 100g이 되도록 하였다. The molar ratio of (3-glycidyloxypropyl)trimethoxysilane (GPTMS), 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane (ECTMS) and H 2 O is 1.5:0.5:3. It was put into a spherical flask. At this time, the combined weight of the GPTMS and ECTMS was set to 100 g.

상기 구형 플라스크에 5g의 Amberlite IRA-400를 투입하고 80℃에서 24시간 동안 졸-겔 반응을 진행하여 반응물을 생성하였다.5 g of Amberlite IRA-400 was added to the spherical flask and a sol-gel reaction was performed at 80° C. for 24 hours to produce a reactant.

상기 반응물을 정제하여 반응 부산물과 미반응 단량체가 제거된 수지 조성물을 제조하였다.The reaction product was purified to prepare a resin composition from which reaction by-products and unreacted monomers were removed.

실시예2. Example 2.

상기 실시예1에 기재된 제조방법 중, 3-글리시딜옥시프로필)트라이메톡시실란(GPTMS), 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트라이메톡시실란(ECTMS) 및 H2O의 몰비가 1.2:0.8:3이 되도록 구형 플라스크에 투입한 것을 제외하고는, 상기 실시예1에 기재된 방법과 동일한 방법으로 수지 조성물을 제조하였다.Of the production method described in Example 1, 3-glycidyloxypropyl)trimethoxysilane (GPTMS), 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane (ECTMS) and H 2 O A resin composition was prepared in the same manner as described in Example 1, except that the molar ratio was 1.2:0.8:3, which was introduced into a spherical flask.

실시예3. Example 3.

상기 실시예1에 기재된 제조방법 중, 3-글리시딜옥시프로필)트라이메톡시실란(GPTMS), 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트라이메톡시실란(ECTMS) 및 H2O의 몰비가 1:1:3이 되도록 구형 플라스크에 투입한 것을 제외하고는, 상기 실시예1에 기재된 방법과 동일한 방법으로 수지 조성물을 제조하였다.Of the production method described in Example 1, 3-glycidyloxypropyl)trimethoxysilane (GPTMS), 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane (ECTMS) and H 2 O A resin composition was prepared in the same manner as described in Example 1 above, except that the molar ratio was 1:1:3 to a spherical flask.

실시예4. Example 4.

상기 실시예1에 기재된 제조방법 중, 3-글리시딜옥시프로필)트라이메톡시실란(GPTMS), 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트라이메톡시실란(ECTMS) 및 H2O의 몰비가 0.8:1.2:3가 되도록 구형 플라스크에 투입한 것을 제외하고는, 상기 실시예1에 기재된 방법과 동일한 방법으로 수지 조성물을 제조하였다.Of the production method described in Example 1, 3-glycidyloxypropyl)trimethoxysilane (GPTMS), 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane (ECTMS) and H 2 O A resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the molar ratio was 0.8:1.2:3, which was then added to a spherical flask.

실시예5. Example 5.

상기 실시예1에 기재된 제조방법 중, 3-글리시딜옥시프로필)트라이메톡시실란(GPTMS), 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트라이메톡시실란(ECTMS) 및 H2O의 몰비가 0.5:1.5:3이 되도록 구형 플라스크에 투입한 것을 제외하고는, 상기 실시예1에 기재된 방법과 동일한 방법으로 수지 조성물을 제조하였다.Of the production method described in Example 1, 3-glycidyloxypropyl)trimethoxysilane (GPTMS), 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane (ECTMS) and H 2 O A resin composition was prepared in the same manner as described in Example 1, except that the molar ratio was 0.5:1.5:3, and the flask was charged.

하기 표1은 비교예 1 내지 3, 및 실시예 1 내지 5에 따른 수지 조성물의 조성을 기록한 표이다.Table 1 below is a table recording the compositions of the resin compositions according to Comparative Examples 1 to 3 and Examples 1 to 5.

실시예Example 단량체1:Monomer 1:
GPTMSGPTMS
(몰 비율)(Molar ratio)
단량체2:Monomer 2:
ECTMSECTMS
(몰 비율)(Molar ratio)
HH 22 OO
(단량체1+단량체2에 대한 몰 비율)(Molar ratio to monomer 1 + monomer 2)
촉매catalyst
(중량%)(weight%)
비교예1Comparative Example 1 1One 00 1.51.5 55 비교예2Comparative Example 2 00 1One 1.51.5 55 비교예3Comparative Example 3 1One 1One 1.51.5 55 실시예1Example 1 1.51.5 0.50.5 1.51.5 55 실시예2Example 2 1.21.2 0.80.8 1.51.5 55 실시예3Example 3 1One 1One 1.51.5 55 실시예4Example 4 0.80.8 1.21.2 1.51.5 55 실시예5Example 5 0.50.5 1.51.5 1.51.5 55

실시예6. Example 6.

폴리 에틸렌 테레프탈레이트(PET) 기판을 준비하고, 상기 PET기판에 상기 비교예1 내지 3 및 상기 실시예3에서 수득한 수지 조성물을 바 코팅(bar coating)한 후, 40℃ 내지 80℃ 온도에서 1분 내지 10분 동안 건조하여 수지 조성물 내의 용매를 완전히 제거하였다. 상기 코팅된 수지 조성물을 경화시켜 필름을 제조하였다. 이때 각 필름의 두께는 50μm, PET기판의 두께는 100μm 로 제조하였다.After preparing a polyethylene terephthalate (PET) substrate, and bar coating the resin compositions obtained in Comparative Examples 1 to 3 and Example 3 on the PET substrate, 1 at 40°C to 80°C. Drying for minutes to 10 minutes completely removed the solvent in the resin composition. The coated resin composition was cured to prepare a film. At this time, the thickness of each film was 50 μm, and the thickness of the PET substrate was 100 μm.

실시예7. Example 7.

폴리 에틸렌 테레프탈레이트(PET) 기판을 준비하고, 상기 PET기판에 상기 비교예1 내지 2 및 실시예1 내지 5에서 수득한 수지 조성물을 바 코팅(bar coating)한 후, 40℃ 내지 80℃ 온도에서 1분 내지 10분 동안 건조하여 수지 조성물 내의 용매를 완전히 제거하였다. 상기 코팅된 수지 조성물을 경화시켜 필름을 제조하였다. 이때 각 필름의 두께는 50μm, PET기판의 두께는 100μm 로 제조하였다.After preparing a polyethylene terephthalate (PET) substrate, and bar coating the resin compositions obtained in Comparative Examples 1 and 2 and Examples 1 to 5 on the PET substrate, at 40°C to 80°C Drying for 1 to 10 minutes completely removed the solvent in the resin composition. The coated resin composition was cured to prepare a film. At this time, the thickness of each film was 50 μm, and the thickness of the PET substrate was 100 μm.

실험예1. 경도 및 모듈러스 평가.Experimental Example 1. Hardness and modulus evaluation.

상기 실시예6에서 수득한 필름 각각의 경도 및 모듈러스(hardness & modulus) 평가를 진행하고 그 결과를 도2에 나타내었다.The hardness and modulus of each of the films obtained in Example 6 were evaluated and the results are shown in FIG. 2.

원자힘현미경(atomic force microscope, XE-7 from Park systems)의 나노인덴테이션 측정 모드에서 Berkovich type diamond cantilever(TD26818)을 사용하여 나노인덴테이션 평가를 진행하였으며, 초당 10μN의 속도로 로딩과 언로딩을 진행하였다.In the nanoindentation measurement mode of an atomic force microscope (XE-7 from Park systems), nanoindentation evaluation was performed using a Berkovich type diamond cantilever (TD26818), and loading and unloading at a rate of 10 μN/sec. Loading proceeded.

도2를 참조하면 상기 실시예3에서 수득한 수지 조성물을 이용해 제조된 필름이 가장 높은 경도 및 모듈러스를 나타내는 것을 확인하였다.2, it was confirmed that the film prepared using the resin composition obtained in Example 3 exhibits the highest hardness and modulus.

실험예2. 로드-디스플레이스먼트Experimental Example 2. Road-displacement 평가evaluation

상기 실시예6에서 수득한 필름의 로드-디스플레이스먼트(load-displacement) 평가를 진행하고 그 결과를 도3에 나타내었다.The load-displacement evaluation of the film obtained in Example 6 was performed and the results are shown in FIG. 3.

나노인덴테이션 평가를 통해서 인덴테이션 깊이에 따른 로드 수치를 도식화하였다.Through the nanoindentation evaluation, the rod values according to the indentation depth were plotted.

도3을 참조하면 상기 실시예3에서 수득한 수지 조성물을 이용해 제조된 필름이 가장 낮은 인덴테이션 깊이를 나타내는 것을 확인하였다.Referring to Figure 3, it was confirmed that the film prepared using the resin composition obtained in Example 3 exhibits the lowest indentation depth.

실험예3. 연필 경도Experimental Example 3. Pencil hardness 평가evaluation

상기 실시예6에서 수득한 필름의 연필 경도(pencil hardness) 평가를 진행하고 그 결과를 도4에 나타내었다.The pencil hardness of the film obtained in Example 6 was evaluated and the results are shown in FIG. 4.

연필 경도계에 750g 및 1000g 추를 이용하여 하중이 걸린 상태의 연필경도 평가용 연필을 분당 60mm의 속도로 10mm 움직인 후 필름 표면의 스크래치 생성 여부를 확인하였으며, 총 5회 반복하여 5회 모두 스크래치가 발생하지 않은 연필 경도를 필름의 연필경도 수치로 도출하였다.The pencil hardness tester was moved 10 mm at a speed of 60 mm per minute using a 750 g and 1000 g weight on the pencil hardness tester, and then it was confirmed whether or not scratches were generated on the film surface. The pencil hardness that did not occur was derived from the pencil hardness value of the film.

도4를 참조하면, 상기 실시예3에서 수득한 수지 조성물을 이용해 제조된 필름은 1000g 및 750g 조건 모두에서 9H의 연필 강도를 보여 상기 비교예 1 내지 3에 비해 높은 연필 강도를 나타내는 것을 확인하였다.Referring to Figure 4, the film prepared using the resin composition obtained in Example 3 showed a pencil strength of 9H in both 1000g and 750g conditions, it was confirmed that it shows a higher pencil strength compared to Comparative Examples 1 to 3.

실험예4. 굽힘 강성 평가Experimental Example 4. Evaluation of bending stiffness

상기 실시예6에서 수득한 필름의 굽힘 강성(bending stiffness) 평가를 진행하고 그 결과를 도5에 나타내었다.Evaluation of the bending stiffness of the film obtained in Example 6 was performed, and the results are shown in FIG. 5.

만능 시험기(UTM from Test one) 장비의 3점 압입 시험을 통해서 굽힘 강성을 측정하였으며, 이때 필름을 길이 100mm, 너비 40mm로 재단하였으며, 굽힘 시험 측정은 지간 거리 50mm로 설정하고 분당 15mm의 속도로 압입을 진행하였다.The bending stiffness was measured through a three-point indentation test of the UTM from Test one equipment. At this time, the film was cut to a length of 100 mm and a width of 40 mm, and the bending test measurement was set to a distance of 50 mm and pressed at a speed of 15 mm per minute. Proceeded.

도5를 참조하면, 상기 실시예3에서 수득한 수지 조성물을 이용해 제조된 필름은 1.5kgf/mm2의 굽힘 강성을 나타내는 것을 확인하였다.5, it was confirmed that the film prepared using the resin composition obtained in Example 3 exhibits a bending stiffness of 1.5 kgf/mm 2 .

실험예5. 경도 및 모듈러스 평가Experimental Example 5. Hardness and modulus evaluation

상기 실시예7에서 수득한 필름의 경도 및 모듈러스 평가를 진행하고 그 결과를 도6에 나타내었다.The hardness and modulus of the film obtained in Example 7 were evaluated, and the results are shown in FIG. 6.

원자힘현미경(atomic force microscope, XE-7 from Park systems)의 나노인덴테이션 측정 모드에서 Berkovich type diamond cantilever(TD26818)을 사용하여 나노인덴테이션 평가를 진행하였으며, 초당 10μN의 속도로 로딩과 언로딩을 진행하였다.In the nanoindentation measurement mode of an atomic force microscope (XE-7 from Park systems), nanoindentation evaluation was performed using a Berkovich type diamond cantilever (TD26818), and loading and unloading at a rate of 10 μN/sec. Loading proceeded.

도6을 참조하면, 상기 실시예4에서 수득한 수지 조성물을 이용해 제조된 필름이 가장 높은 경도 및 모듈러스를 나타내는 것을 확인하였다.Referring to Figure 6, it was confirmed that the film prepared using the resin composition obtained in Example 4 exhibits the highest hardness and modulus.

실험예6. 연필 경도 평가Experimental Example 6. Pencil hardness rating

상기 실시예7에서 수득한 필름의 연필 강도 평가를 진행하고 그 결과를 도7에 나타내었다.The pencil strength of the film obtained in Example 7 was evaluated and the results are shown in FIG. 7.

연필 경도계에 750g 및 1000g 추를 이용하여 하중이 걸린 상태의 연필경도 평가용 연필을 분당 60mm의 속도로 10mm 움직인 후 필름 표면의 스크래치 생성 여부를 확인하였으며, 총 5회 반복하여 5회 모두 스크래치가 발생하지 않은 연필 경도를 필름의 연필경도 수치로 도출하였다.The pencil hardness tester was moved 10 mm at a speed of 60 mm per minute using a 750 g and 1000 g weight on the pencil hardness tester, and then it was confirmed whether or not scratches were generated on the film surface. The pencil hardness that did not occur was derived from the pencil hardness value of the film.

도7을 참조하면, 상기 실시예4에서 수득한 수지 조성물을 이용해 제조된 필름은 1000g 및 750g 조건 모두에서 9H의 연필 강도를 보이는 것을 확인하였다.Referring to Figure 7, it was confirmed that the film prepared using the resin composition obtained in Example 4 exhibits pencil strength of 9H under both 1000g and 750g conditions.

실험예7. 굽힘 강성 평가Experimental Example 7. Evaluation of bending stiffness

상기 실시예7에서 수득한 필름의 굽힘 강성 평가를 진행하고 그 결과를 도8에 나타내었다.Evaluation of the bending stiffness of the film obtained in Example 7 was performed, and the results are shown in FIG. 8.

만능 시험기(UTM from Test one) 장비의 3점 압입 시험을 통해서 굽힘 강성을 측정하였으며, 이때 필름을 길이 100mm, 너비 40mm로 재단하였으며, 굽힘 시험 측정은 지간 거리 50mm로 설정하고 분당 15mm의 속도로 압입을 진행하였다.The bending stiffness was measured through a three-point indentation test of the UTM from Test one equipment. At this time, the film was cut to a length of 100 mm and a width of 40 mm, and the bending test measurement was set to a distance of 50 mm and pressed at a speed of 15 mm per minute. Proceeded.

도8을 참조하면, 상기 실시예4에서 수득한 수지 조성물을 이용해 제조된 필름은 1.9kgf/mm2의 굽힘 강성을 나타내는 것을 확인하였다.Referring to Figure 8, it was confirmed that the film prepared using the resin composition obtained in Example 4 exhibits a bending stiffness of 1.9 kgf/mm 2 .

실험예8. 레지듀얼 뎁스 평가Experimental Example 8. Residual Depth Evaluation

상기 실시예7에서 수득한 필름의 레지듀얼 뎁스(residual depth) 평가를 진행하고 그 결과를 도9에 나타내었다.Evaluation of the residual depth of the film obtained in Example 7 was performed and the results are shown in FIG. 9.

로드-디스플레이스먼트 평가에서 로딩과 언로딩 시의 로드 수치가 0μN이 되는 때의 인덴테이션 뎁스 수치 차이를 계산하여 레지듀얼 뎁스 수치를 산출하였다.In the load-displacement evaluation, the difference in the indentation depth value when the load value at loading and unloading becomes 0 μN was calculated to calculate the residual depth value.

도9를 참조하면, 상기 실시예4에서 수득한 수지 조성물을 이용해 제조된 필름은 11nm의 레지듀얼 뎁스를 나타내는 것을 확인하였다.9, it was confirmed that the film produced using the resin composition obtained in Example 4 exhibits a residual depth of 11 nm.

실험예9. 휨 평가Experimental Example 9. Flexural evaluation

상기 실시예7에서 수득한, 상기 실시예4에서 수득한 수지 조성물을 이용해 제조된, 필름의 휨(warpage) 평가를 진행하고 그 결과를 도10에 나타내었다.The warpage evaluation of the film, prepared using the resin composition obtained in Example 4, obtained in Example 7, was performed and the results are shown in FIG. 10.

필름을 가로 10mm×세로 100mm의 형태로 재단하고 반복 굴곡 평가를 정해진 굴곡 반경에서 진행하였다. 각각의 굴곡 반경에서 10만 사이클 반복 굴곡을 진행하였으며, 굴곡 평가가 끝난 샘플을 바닥에 놓았을 때 샘플의 최고점이 바닥으로부터 떨어진 거리를 측정하였다.The film was cut in the form of 10 mm horizontal × 100 mm vertical, and repeated bending evaluation was conducted at a predetermined bending radius. 100,000 bending cycles were repeated at each bending radius, and when a sample having been evaluated for bending was placed on the floor, the distance from the bottom of the sample peak was measured.

도10을 참조하면, 상기 실시예4에서 수득한 수지 조성물을 이용해 제조된 필름은 1R의 굴곡반경에서는 16mm의 휨을 보이고, 2R의 굴곡반경에서는 10mm, 3R의 굴곡반경에서는 3mm의 휨이 측정되었고, 4R 이상의 굴곡 반경에서는 굴곡 평가 후에도 휨 현상이 확인 되지 않았다.Referring to Figure 10, the film produced using the resin composition obtained in Example 4 shows a bending of 16 mm in the bending radius of 1R, 10 mm in the bending radius of 2R, 3 mm bending in the bending radius of 3R, At a bending radius of 4R or more, no bending phenomenon was observed even after bending evaluation.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The above description of the present invention is for illustration only, and those skilled in the art to which the present invention pertains can understand that the present invention can be easily modified into other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. will be. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive. For example, each component described as a single type may be implemented in a distributed manner, and similarly, components described as distributed may be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is indicated by the following claims, and all modifications or variations derived from the meaning and scope of the claims and their equivalent concepts should be interpreted to be included in the scope of the present invention.

Claims (18)

연질 단량체인 제1 단량체 및 경질 단량체인 제2 단량체를 포함하는 혼합 용액을 졸-겔 반응 시켜 중합된 나노 졸을 포함하고, 제조되는 필름에 경성 및 연성을 동시에 부여할 수 있는 경연성 네트워크 구조를 포함하는 것을 특징으로 하고,
상기 제1 단량체는 트라이알콕시 실란, 다이알콕시 실란, 모노알콕시 실란 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함하는 것을 특징으로 하고,
상기 제1 단량체는 에테르기, 에스테르기, C3 내지 C10의 알킬기, 글리시딜옥시기 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함하는 것을 특징으로 하고,
상기 제2 단량체는 트라이알콕시 실란, 다이알콕시 실란, 모노알콕시 실란 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함하고,
상기 제2 단량체는 방향족기, C4 내지 C10의 사이클로알킬기 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
A mixed solution comprising a first monomer that is a soft monomer and a second monomer that is a hard monomer includes a polymerized nano sol by sol-gel reaction, and a flexible network structure capable of simultaneously imparting stiffness and ductility to a film produced Characterized by including,
The first monomer is characterized in that it comprises one selected from the group consisting of trialkoxy silane, dialkoxy silane, monoalkoxy silane and combinations thereof,
The first monomer is characterized in that it comprises one selected from the group consisting of ether groups, ester groups, C 3 to C 10 alkyl groups, glycidyloxy groups, and combinations thereof,
The second monomer includes one selected from the group consisting of trialkoxy silane, dialkoxy silane, monoalkoxy silane, and combinations thereof,
The second monomer is an aromatic group, a C 4 to C 10 cycloalkyl group, and a resin composition comprising one selected from the group consisting of combinations thereof.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1 단량체는 (3-글리시딜옥시프로필)트라이메톡시실란, 3-글리시독시프로필다이메톡시메틸실란, (3-(2,3-에폭시프로폭시)-프로필)-트라이메톡시실란 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
According to claim 1,
The first monomer is (3-glycidyloxypropyl)trimethoxysilane, 3-glycidoxypropyldimethoxymethylsilane, (3-(2,3-epoxypropoxy)-propyl)-trimethoxy A resin composition comprising one selected from the group consisting of silanes and combinations thereof.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제2 단량체는 페닐트라이메톡시실란, 1-나프틸트라이메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트라이메톡시실란 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
According to claim 1,
The second monomer comprises one selected from the group consisting of phenyltrimethoxysilane, 1-naphthyltrimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, and combinations thereof. Resin composition, characterized in that.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1 단량체 및 상기 제2 단량체의 몰비가 5:1 내지 1:5인 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
According to claim 1,
The resin composition, characterized in that the molar ratio of the first monomer and the second monomer is 5:1 to 1:5.
제1항에 있어서,
상기 제1 단량체는 상기 혼합 용액 중 0.1중량% 내지 60중량%로 제공되는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
According to claim 1,
The first monomer is a resin composition, characterized in that provided in 0.1% to 60% by weight of the mixed solution.
제1항에 있어서,
상기 제2 단량체는 상기 혼합 용액 중 0.1중량% 내지 60중량%로 제공되는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
According to claim 1,
The second monomer is a resin composition, characterized in that provided in 0.1 to 60% by weight of the mixed solution.
제1항에 있어서,
상기 혼합 용액은 촉매를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
According to claim 1,
The mixed solution is a resin composition further comprising a catalyst.
제10항에 있어서,
상기 촉매는 이온 교환 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
The method of claim 10,
The catalyst is a resin composition comprising an ion exchange resin.
제10항에 있어서,
상기 촉매는 알킬암모늄 염, 할라이드 염 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
The method of claim 10,
The catalyst is a resin composition comprising one selected from the group consisting of alkyl ammonium salts, halide salts and combinations thereof.
제10항에 있어서,
상기 촉매는 제1 단량체 및 제2 단량체의 총 중량 대비 3중량% 내지 7중량%으로 제공되는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
The method of claim 10,
The catalyst is a resin composition, characterized in that provided in 3% to 7% by weight relative to the total weight of the first monomer and the second monomer.
제1항에 있어서,
상기 수지 조성물은 계면활성제, 황변 방지제, 희석제, 소포제, 분산제, 증점제, 습윤제, 레벨링제 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
According to claim 1,
The resin composition further comprises one selected from the group consisting of surfactants, anti-yellowing agents, diluents, anti-foaming agents, dispersants, thickeners, wetting agents, leveling agents, and combinations thereof.
제1항에 있어서,
상기 수지 조성물은 하드코팅용 조성물인 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
According to claim 1,
The resin composition is a resin composition, characterized in that the composition for hard coating.
제1항의 수지 조성물을 이용하여 제조된 필름.A film prepared using the resin composition of claim 1. 제16항의 필름이 구비된 커버 윈도우.A cover window provided with the film of claim 16. 제16항의 필름이 구비된 화상표시장치.An image display device provided with the film of claim 16.
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