KR102126520B1 - Apparatus for amplifying nucleic acids - Google Patents

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KR102126520B1
KR102126520B1 KR1020200016986A KR20200016986A KR102126520B1 KR 102126520 B1 KR102126520 B1 KR 102126520B1 KR 1020200016986 A KR1020200016986 A KR 1020200016986A KR 20200016986 A KR20200016986 A KR 20200016986A KR 102126520 B1 KR102126520 B1 KR 102126520B1
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nucleic acid
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acid amplification
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홍만형
이양원
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주식회사 케이에이치메디칼
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Abstract

A nucleic acid amplification apparatus according to an embodiment includes: a reactor cartridge in which a plurality of reactors are mounted; a first heater unit positioned on the reactor cartridge along a first direction; a second heater unit positioned under the reactor cartridge along the first direction; a plurality of light sources positioned under the second heater unit along the first direction; and a plurality of sensors positioned on the first heater unit along the first direction, wherein each of the plurality of reactors, the plurality of light sources, and the plurality of sensors may overlap each other in a vertical direction along the first direction. In the present invention, a structure of the reactor can be simplified.

Description

핵산 증폭 장치 {APPARATUS FOR AMPLIFYING NUCLEIC ACIDS}Nucleic acid amplification device {APPARATUS FOR AMPLIFYING NUCLEIC ACIDS}

본 개시는 핵산 증폭 장치에 관한 것이다.The present disclosure relates to nucleic acid amplification devices.

염기서열 분석 및 질병 진단 등을 목적으로 DNA 및 RNA와 같은 핵산의 유전 정보를 분석하기 위해서는, 미량의 핵산을 분석에 필요한 양 만큼 대량으로 증폭시킬 필요가 있다.In order to analyze the genetic information of nucleic acids such as DNA and RNA for the purpose of sequencing and disease diagnosis, it is necessary to amplify a small amount of nucleic acids in an amount necessary for analysis.

이러한 핵산 증폭 방법에 이용되는 반응기는 원하는 조건에 따른 온도가 일정하게 유지되는 것이 중요하고, 반응기 내의 물질이 외부와 접촉하지 않는 것이 중요하다.The reactor used in the nucleic acid amplification method is important to maintain a constant temperature according to the desired conditions, it is important that the material in the reactor does not contact the outside.

또한, 실시간으로 증폭되는 핵산 증폭 과정을 판별하기 위하여, 형광 표지를 이용하여 발광하는 형광량을 측정하는 방법이 개발되었다. 이 때, 형광량을 측정하기 위하여 광원 및 수광부 외에 미러나 렌즈 등을 이용하게 되어 핵산 증폭 장치의 구조가 복잡해지고, 동시에 여러 반응기의 형광량을 동시에 측정하기 어렵다.
한국공개특허 10-2016-0082356에서는 반응챔버 아래에 위치하는 히터 블록, 반응챔버 아래에 위치하는 점광원, 반응챔버 위에 위치하는 광검출부 포함하지만, 점광원은 두 개의 히터 블록 사이에 위치하고, 반응챔버를 슬라이딩하여야 광검출 가능하여, 그 구조가 복잡하다.
한국공개특허 10-2011-0137090에서는 용기 아래에 위치하는 광발생부와 용기 위에 위치하는 광검출부를 포함하지만, 복수의 점광원을 개시하지 않고, 렌즈와 굴절부를 이용하여 빛을 공급하기 때문에, 그 구조가 복잡하다.
한국공개특허 10-2019-0007094서는 반응 튜브가 장착되는 복수의 홈 내에 각기 위치하는 복수의 광원과 복수의 광검출기를 개시하지만, 광원과 광검출기는 반응 튜브 옆에 위치하여 광 검출 방법이 복잡한 문제가 발생한다.In addition, in order to determine the nucleic acid amplification process to be amplified in real time, a method of measuring the amount of fluorescence emitted by using a fluorescent label has been developed. At this time, in order to measure the amount of fluorescence, a mirror or a lens is used in addition to the light source and the light receiving unit, so the structure of the nucleic acid amplification device is complicated, and it is difficult to measure the amount of fluorescence of several reactors at the same time.
In Korean Patent Publication No. 10-2016-0082356, the heater block located below the reaction chamber, the point light source located below the reaction chamber, and the photodetector located above the reaction chamber, but the point light source is located between the two heater blocks, the reaction chamber It is possible to detect light only by sliding, so the structure is complicated.
Korean Patent Publication No. 10-2011-0137090 includes a light generating part located under the container and a light detecting part located on the container, but since a plurality of point light sources are not disclosed, light is supplied using a lens and a refracting part. The structure is complex.
Korean Patent Publication No. 10-2019-0007094 discloses a plurality of light sources and a plurality of light detectors respectively located in a plurality of grooves in which a reaction tube is mounted, but the light source and the photodetector are located next to the reaction tube, making the light detection method complicated. Occurs.

실시예들은 반응기의 온도를 유지할 수 있고, 반응기 내의 물질이 외부와 노출되지 않고, 복수의 반응기의 핵산 증폭 과정을 쉽게 판별할 수 있는 핵산 증폭 장치를 제공하기 위한 것이다.Embodiments are to provide a nucleic acid amplification apparatus capable of maintaining the temperature of the reactor, the material in the reactor is not exposed to the outside, and can easily discriminate the nucleic acid amplification process of a plurality of reactors.

실시예에 따른 핵산 증폭 장치는 복수의 반응기들이 장착되는 반응기 카트리지, 제1 방향을 따라 상기 반응기 카트리지 위에 위치하는 제1 히터부, 상기 제1 방향을 따라 상기 반응기 카트리지 아래에 위치하는 제2 히터부, 상기 제1 방향을 따라 상기 제2 히터부 아래에 위치하는 복수의 광원들, 그리고 상기 제1 방향을 따라 상기 제1 히터부 위에 위치하는 복수의 센서들을 포함하고, 상기 복수의 반응기들, 상기 복수의 광원들, 그리고 상기 복수의 센서들 각각은 상기 제1 방향을 따라 상하 방향으로 서로 중첩할 수 있다.The nucleic acid amplifying apparatus according to the embodiment includes a reactor cartridge in which a plurality of reactors are mounted, a first heater unit positioned on the reactor cartridge along a first direction, and a second heater unit positioned below the reactor cartridge along the first direction. , A plurality of light sources positioned under the second heater unit in the first direction, and a plurality of sensors positioned on the first heater unit in the first direction, the plurality of reactors, the Each of the plurality of light sources and the plurality of sensors may overlap each other in the vertical direction along the first direction.

실시예에 따른 핵산 증폭 장치는 복수의 반응기가 장착되는 반응기 카트리지, 상기 반응기 카트리지 위에 위치하고 제1 열전달부를 포함하는 반응기 덮개, 상기 반응기 카트리지 아래에 위치하고, 제2 열전달부를 포함하는 반응기 카트리지 홀더, 상기 반응기 카트리지 홀더 아래에 위치하는 복수의 광원, 그리고 상기 반응기 덮개 위에 위치하는 복수의 센서를 포함하고, 상기 복수의 반응기, 상기 복수의 광원, 그리고 상기 복수의 센서는 상하 방향으로 서로 중첩하고, 함께 구동될 수 있다.Nucleic acid amplification apparatus according to an embodiment is a reactor cartridge, the reactor cartridge holder is located above the reactor cartridge, and located below the reactor cartridge, the reactor cartridge holder including the second heat transfer unit, the reactor It includes a plurality of light sources located under the cartridge holder, and a plurality of sensors located on the reactor lid, the plurality of reactors, the plurality of light sources, and the plurality of sensors overlap each other in the vertical direction and are driven together. Can.

상기 제1 히터부와 상기 제2 히터부는 상기 복수의 광원들 및 상기 복수의 센서들과 상기 제1 방향을 따라 상하 방향으로 서로 중첩하는 복수의 제1 광투과부들과 복수의 제2 광투과부들을 포함할 수 있다.The first heater unit and the second heater unit may include a plurality of first light transmission units and a plurality of second light transmission units overlapping each other in the vertical direction along the first direction with the plurality of light sources and the plurality of sensors. It can contain.

상기 복수의 제1 광투과부들과 상기 복수의 제2 광투과부들은 상기 제1 히터부와 상기 제2 히터부에 형성된 복수의 홈과 상기 복수의 홈 안에 위치하는 광투과성 물질층을 포함할 수 있다.The plurality of first light transmitting portions and the plurality of second light transmitting portions may include a plurality of grooves formed in the first heater portion and the second heater portion and a layer of light transmissive material positioned in the plurality of grooves. .

상기 제1 히터부는 제3 방향을 따라 서로 나란하게 뻗어 있는 복수의 제1 열전달부를 포함하고, 상기 제2 히터부는 상기 제3 방향을 따라 서로 나란하게 뻗어 있는 복수의 제2 열전달부를 포함할 수 있다.The first heater unit may include a plurality of first heat transfer units extending parallel to each other along a third direction, and the second heater unit may include a plurality of second heat transfer units extending parallel to each other along the third direction. .

상기 제1 히터부는 상기 제3 방향과 다른 제4 방향을 따라 서로 나란하게 뻗어 있는 복수의 제3 열전달부를 더 포함하고, 상기 제2 히터부는 상기 제4 방향을 따라 서로 나란하게 뻗어 있는 복수의 제4 열전달부를 더 포함할 수 있다.The first heater unit further includes a plurality of third heat transfer units extending parallel to each other along a fourth direction different from the third direction, and the second heater unit includes a plurality of agents extending parallel to each other along the fourth direction. 4 may further include a heat transfer portion.

상기 복수의 제1 열전달부와 상기 복수의 제3 열전달부는 서로 다른 열 에너지를 공급하고, 상기 복수의 제2 열전달부와 상기 복수의 제4 열전달부는 서로 다른 열 에너지를 공급할 수 있다.The plurality of first heat transfer units and the plurality of third heat transfer units may supply different thermal energy, and the plurality of second heat transfer units and the plurality of fourth heat transfer units may supply different thermal energy.

다른 한 실시예에 따른 핵산 증폭 장치는 복수의 반응기가 장착되는 복수의 반응 홈을 가지는 반응기 카트리지, 상기 반응기 카트리지 아래에 위치하는 하부 히터부, 상기 하부 히터부 아래에 위치하는 광원부를 포함하는 하부 몸체, 그리고 상기 하부 몸체와 결합 수단에 의해 연결되어 있으며, 상부 히터부 및 상기 상부 히터부 위에 위치하는 센서부를 포함하는 하부 몸체를 포함하고, 상기 상부 몸체는 상기 하부 몸체와 결합부를 통해 연결되고, 상기 하부 몸체 바로 위에 결합되거나 상기 하부 몸체로부터 분리되고, 상기 광원부는 복수의 광원을 포함하고, 상기 센서부는 복수의 센서를 포함하고, 상기 상부 몸체가 상기 하부 몸체 바로 위에 결합된 상태에서, 상기 반응기 카트리지의 상기 복수의 반응 홈, 상기 복수의 광원들, 그리고 상기 복수의 센서들 각각은 상하 방향으로 서로 중첩할 수 있다.The nucleic acid amplifying apparatus according to another embodiment includes a reactor cartridge having a plurality of reaction grooves in which a plurality of reactors are mounted, a lower body including a lower heater unit positioned under the reactor cartridge, and a light source unit positioned below the lower heater unit And, the lower body is connected by a coupling means, and includes an upper heater portion and a lower body including a sensor portion located on the upper heater portion, the upper body is connected through the lower body and the coupling portion, the The reactor cartridge is coupled to the lower body or separated from the lower body, the light source portion includes a plurality of light sources, the sensor portion includes a plurality of sensors, and the upper body is directly coupled to the lower body, Each of the plurality of reaction grooves, the plurality of light sources, and the plurality of sensors may overlap each other in the vertical direction.

상기 하부 히터부는 상기 복수의 광원들과 중첩하는 복수의 제1 개구부를 가질 수 있고, 상기 상부 히터부는 상기 복수의 센서들과 중첩하는 복수의 제2 개구부를 가질 수 있고, 상기 복수의 제1 개구부와 상기 복수의 제2 개구부는 상기 복수의 반응 홈과 상기 상하 방향으로 서로 중첩할 수 있다.The lower heater portion may have a plurality of first openings overlapping the plurality of light sources, and the upper heater portion may have a plurality of second openings overlapping the plurality of sensors, and the plurality of first openings And the plurality of second openings may overlap with the plurality of reaction grooves in the vertical direction.

상기 결합부는 회전 가능한 수단일 수 있다.The engaging portion may be a rotatable means.

상기 하부 히터부는 열전달판, 그리고 상기 열전달판의 양쪽 면에 부착되어 있는 두 개의 보호층을 포함할 수 있고, 상기 열전달판은 복수의 제1 홀을 가질 수 있고, 상기 보호층은 복수의 제2 홀을 가질 수 있고, 상기 복수의 제1 홀과 상기 복수의 제2 홀은 상하 방향으로 서로 중첩할 수 있다.The lower heater unit may include a heat transfer plate and two protective layers attached to both sides of the heat transfer plate, the heat transfer plate may have a plurality of first holes, and the protective layer may include a plurality of second A hole may be provided, and the plurality of first holes and the plurality of second holes may overlap each other in the vertical direction.

상기 열전달판의 두께는 0.5mm 이내일 수 있다.The thickness of the heat transfer plate may be within 0.5mm.

실시예들에 따른 핵산 증폭 장치에 의하면, 반응기 내의 물질이 외부와 노출되지 않도록 하면서 반응기의 온도를 일정하게 원하는 온도로 유지할 수 있고, 복수의 반응기의 핵산 증폭 과정을 쉽게 판별할 수 있다. 또한, 핵산 증폭 과정을 감지하는 과정에서 복수의 반응기들, 히터들, 광원 및 센서들을 별개로 이동시키기 위한 추가 구성이 필요 없어, 반응기의 구조가 간단해진다.According to the nucleic acid amplification apparatus according to the embodiments, the temperature in the reactor can be kept constant at a desired temperature while the material in the reactor is not exposed to the outside, and the nucleic acid amplification process of a plurality of reactors can be easily determined. In addition, in the process of sensing the nucleic acid amplification process, there is no need for an additional configuration for separately moving a plurality of reactors, heaters, light sources, and sensors, thereby simplifying the structure of the reactor.

도 1은 한 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 일부의 단면을 도시한 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시한 핵산 증폭 장치의 오픈 상태를 도시한 사시도이다.
도 3은 도 1에 도시한 핵산 증폭 장치의 일부를 도시한 사시도이다.
도 4는 도 3에 도시한 핵산 증폭 장치의 일부의 상면도이다.
도 5는 도 1에 도시한 핵산 증폭 장치의 일부를 도시한 분해 사시도이다.
도 6은 도 1에 도시한 핵산 증폭 장치의 일부를 도시한 분해 사시도이다.
도 7은 한 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응 감지부의 단면도이다.
도 8은 도 7의 핵산 증폭 장치의 반응 감지부의 사시도이다.
도 9 및 도 10은 한 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응부의 상부와 하부를 각각 도시한 평면도이다.
도 11 및 도 12는 다른 한 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응부의 상부와 하부를 각각 도시한 평면도이다.
도 13 및 도 14는 다른 한 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응부의 상부와 하부를 각각 도시한 평면도이다.1 is a perspective view showing a cross-section of a part of a nucleic acid amplification apparatus according to an embodiment.
FIG. 2 is a perspective view showing an open state of the nucleic acid amplification apparatus shown in FIG. 1.
FIG. 3 is a perspective view showing a part of the nucleic acid amplification apparatus shown in FIG. 1.
4 is a top view of a part of the nucleic acid amplification apparatus shown in FIG. 3.
FIG. 5 is an exploded perspective view showing a part of the nucleic acid amplification apparatus shown in FIG. 1.
FIG. 6 is an exploded perspective view showing a part of the nucleic acid amplification apparatus shown in FIG. 1.
7 is a cross-sectional view of a reaction detection unit of a nucleic acid amplification apparatus according to an embodiment.
8 is a perspective view of a reaction detection unit of the nucleic acid amplification apparatus of FIG. 7.
9 and 10 are plan views showing upper and lower portions of a reaction unit of a nucleic acid amplification apparatus according to an embodiment, respectively.
11 and 12 are plan views showing upper and lower portions of a reaction unit of a nucleic acid amplification apparatus according to another embodiment, respectively.
13 and 14 are plan views respectively showing upper and lower portions of a reaction unit of a nucleic acid amplification apparatus according to another embodiment.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 여러 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art to which the present invention pertains can easily practice. The present invention can be implemented in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.In order to clearly describe the present invention, parts irrelevant to the description are omitted, and the same reference numerals are assigned to the same or similar elements throughout the specification.

또한, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다. 도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 그리고 도면에서, 설명의 편의를 위해, 일부 층 및 영역의 두께를 과장되게 나타내었다.In addition, since the size and thickness of each component shown in the drawings are arbitrarily shown for convenience of description, the present invention is not necessarily limited to what is illustrated. In the drawings, the thickness is enlarged to clearly express the various layers and regions. In the drawings, thicknesses of some layers and regions are exaggerated for convenience of description.

또한, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 또는 "상에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다. 또한, 기준이 되는 부분 "위에" 또는 "상에" 있다고 하는 것은 기준이 되는 부분의 위 또는 아래에 위치하는 것이고, 반드시 중력 반대 방향 쪽으로 "위에" 또는 "상에" 위치하는 것을 의미하는 것은 아니다.Also, when a part such as a layer, film, region, plate, etc. is said to be "above" or "on" another part, this includes not only the case of "just above" the other part but also another part in the middle. . Conversely, when one part is "just above" another part, it means that there is no other part in the middle. Also, being "above" or "on" the reference portion is positioned above or below the reference portion, and does not necessarily mean "above" or "on" the opposite direction of gravity. .

또한, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Also, in the specification, when a part “includes” a certain component, this means that other components may be further included instead of excluding other components, unless otherwise stated.

또한, 명세서 전체에서, "평면상"이라 할 때, 이는 대상 부분을 위에서 보았을 때를 의미하며, "단면상"이라 할 때, 이는 대상 부분을 수직으로 자른 단면을 옆에서 보았을 때를 의미한다.In addition, throughout the specification, when referred to as "planar", this means when the object part is viewed from above, and when it is referred to as "cross-sectional", it means when the cross section of the object part vertically cut is viewed from the side.

도 1 내지 도 6을 참고하여, 한 실시예에 따른 핵산 증폭 장치에 대하여 설명한다.A nucleic acid amplification apparatus according to an embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 6.

도 1은 한 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 일부의 단면을 도시한 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시한 핵산 증폭 장치의 오픈 상태를 도시한 사시도이고, 도 3은 도 1에 도시한 핵산 증폭 장치의 일부를 도시한 사시도이고, 도 4는 도 3에 도시한 핵산 증폭 장치의 일부의 상면도이고, 도 5는 도 1에 도시한 핵산 증폭 장치의 일부를 도시한 분해 사시도이고, 도 6은 도 1에 도시한 핵산 증폭 장치의 일부를 도시한 분해 사시도이다.1 is a perspective view showing a cross-section of a part of a nucleic acid amplification apparatus according to an embodiment, FIG. 2 is a perspective view showing an open state of the nucleic acid amplification apparatus shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a nucleic acid illustrated in FIG. 1 Fig. 4 is a perspective view showing a part of the amplification device, Fig. 4 is a top view of a part of the nucleic acid amplification device shown in Fig. 3, and Fig. 5 is an exploded perspective view showing a part of the nucleic acid amplification device shown in Fig. 1, Fig. 6 Is an exploded perspective view showing a part of the nucleic acid amplification apparatus shown in FIG. 1.

먼저, 도 1 및 도 2를 참고하면, 핵산 증폭 장치(1)는 서로 결합되거나 분리될 수 있는 하부 몸체(10) 및 상부 몸체(20)를 가진다. 핵산 증폭 장치(1)는 하부 몸체(10)에 결합되어 있는 반응기 카트리지(100), 상부 몸체(20)에 결합되어 있는 제1 히터부(200), 반응기 카트리지(100) 아래에 위치하는 제2 히터부(300) 아래에 위치하는 복수의 광원(400), 제1 히터부(200) 위에 위치하는 복수의 센서(500)를 포함한다.First, referring to FIGS. 1 and 2, the nucleic acid amplification device 1 has a lower body 10 and an upper body 20 that can be coupled to or separated from each other. The nucleic acid amplification device 1 is a reactor cartridge 100 coupled to the lower body 10, a first heater unit 200 coupled to the upper body 20, and a second located below the reactor cartridge 100 It includes a plurality of light sources 400 positioned below the heater unit 300 and a plurality of sensors 500 positioned above the first heater unit 200.

반응기 카트리지(100)는 복수의 반응기를 수용할 수 있으며, 도시한 실시예에서는 하나의 반응기(1000)가 장착된 것을 예로 들었으나, 이에 한정되지 않는다.The reactor cartridge 100 may accommodate a plurality of reactors, and in the illustrated embodiment, it is exemplified that one reactor 1000 is mounted, but is not limited thereto.

하부 몸체(10) 위에는 복수의 지지대(11)가 위치하고, 복수의 지지대(11) 위에 복수의 광원(400)이 설치되어 있는 광원부(400a)가 위치하고, 광원부(400a) 위에 제2 히터부(300)가 위치한다. 제2 히터부(300) 위에 반응기 카트리지(100)가 수용될 수 있는 반응기 카트리지 수용부(100a)가 장착되고, 반응기 카트리지 수용부(100a) 위에는 반응기 카트리지(100)를 수용할 수 있는 홈을 가지는 덮개(12)가 위치한다. 덮개(12)는 하부 몸체(10) 상부면에 형성된 홈 내에 결합 부착된다.A plurality of supports 11 are positioned on the lower body 10, and a light source unit 400a in which a plurality of light sources 400 are installed is located on the plurality of supports 11, and a second heater unit 300 on the light source unit 400a ) Is located. A reactor cartridge accommodating portion 100a in which the reactor cartridge 100 can be accommodated is mounted on the second heater portion 300, and a groove that can accommodate the reactor cartridge 100 is mounted on the reactor cartridge accommodating portion 100a. The lid 12 is located. The cover 12 is coupled to the groove formed on the upper surface of the lower body 10.

상부 몸체(20)에는 복수의 센서(500)가 부착되어 있는 상판(21)과 제1 히터부(200)를 포함하는 하판(22)이 제1 결합 부재(23a, 23b)를 통해 부착되어 있다. 도시한 실시예에서, 상부 몸체(20)에 부착된 상판(21)과 하판(22)은 일정 간격을 이루도록 부착되어 있으나, 이에 한정되지 않고, 상판(21) 바로 아래 하판(22)이 위치할 수도 있다.The upper body 20 is attached to the upper plate 21 to which a plurality of sensors 500 are attached and the lower plate 22 including the first heater unit 200 through the first coupling members 23a and 23b. . In the illustrated embodiment, the upper plate 21 and the lower plate 22 attached to the upper body 20 are attached to form a predetermined distance, but are not limited thereto, and the lower plate 22 directly under the upper plate 21 may be located. It might be.

하부 몸체(10)와 상부 몸체(20)는 힌지 등의 결합 부재(3a)를 통해 서로 결합되었다가 분리될 수 있다.The lower body 10 and the upper body 20 may be coupled to each other through a coupling member 3a such as a hinge and then separated.

그러면, 도 1 및 도 2와 함께, 도 3 내지 도 5를 참고하여, 반응기 카트리지(100), 복수의 광원(400)과 제2 히터부(300)에 대하여 보다 구체적으로 설명한다.Then, with reference to FIGS. 1 and 2, with reference to FIGS. 3 to 5, the reactor cartridge 100, the plurality of light sources 400 and the second heater unit 300 will be described in more detail.

도 3을 참고하면, 하부 몸체(10) 위에 장착되어 있는 복수의 지지대(11) 위에 복수의 광원이 부착되어 있는 광원부(400a)가 설치되고, 제2 히터부(300)의 연결부(300b)가 제2 결합 부재(41)를 통해 광원부(400a)에 결합되어 광원부(400a) 위에 제2 히터부(300)가 장착된다.Referring to FIG. 3, a light source unit 400a in which a plurality of light sources are attached is installed on a plurality of supports 11 mounted on the lower body 10, and a connection part 300b of the second heater unit 300 is provided. The second heater unit 300 is mounted on the light source unit 400a by being coupled to the light source unit 400a through the second coupling member 41.

제2 히터부(300) 위에 반응기 카트리지 수용부(100a)가 제3 결합 부재(33)를 통해 결합된다. 반응기 카트리지 수용부(100a)는 반응기 카트리지(100)가 수용될 수 있는 홈과 같은 반응기 수용 홈을 가진다. 도 3에서는 반응기 카트리지 수용부(100a) 내에 반응기 카트리지(100)가 수용되어 있는 상태를 도시한다.The reactor cartridge accommodating portion 100a is coupled to the second heater portion 300 through the third coupling member 33. The reactor cartridge accommodating part 100a has a reactor accommodating groove such as a groove in which the reactor cartridge 100 can be accommodated. 3 illustrates a state in which the reactor cartridge 100 is accommodated in the reactor cartridge accommodating part 100a.

제4 결합 부재(31)와 제5 결합 부재(32)를 이용하여 반응기 카트리지 수용부(100a) 내에 반응기 카트리지(100)를 고정할 수 있다. 제4 결합 부재(31)와 제5 결합 부재(32)는 반응기 카트리지(100)가 반응기 카트리지 수용부(100a) 내에 안전하게 수용되어 핵산 증폭 과정 중에 반응기 카트리지(100)가 이탈되는 것을 방지할 수 있다.The reactor cartridge 100 may be fixed in the reactor cartridge accommodating portion 100a by using the fourth coupling member 31 and the fifth coupling member 32. The fourth coupling member 31 and the fifth coupling member 32 can prevent the reactor cartridge 100 from being detached during the nucleic acid amplification process because the reactor cartridge 100 is safely accommodated in the reactor cartridge receiving portion 100a. .

반응기 카트리지(100)에는 복수의 반응기(1000)가 장착되는 복수의 반응 홈(1000a)이 형성되어 있다.The reactor cartridge 100 has a plurality of reaction grooves 1000a in which a plurality of reactors 1000 are mounted.

도 4를 참고하면, 제2 히터부(300)는 복수의 제1 홈(3000a)을 가지고, 제1 홈(3000a)에 의해 복수의 광원(400)으로부터 발광되는 빛이 반응기 카트리지(100) 내의 반응기(1000)에 도달할 수 있게 한다. 앞서 설명한 바와 같이, 광원부(400a)은 복수의 광원(400)을 포함하고, 복수의 광원(400)은 제2 히터부(300)의 복수의 제1 홈(3000a), 그리고 반응기 카트리지(100)의 복수의 반응 홈(1000a) 각각과 중첩한다. 따라서, 광원부(400a)의 복수의 광원(400)으로부터 발광되는 빛이 반응기 카트리지(100)의 복수의 반응 홈(1000a)에 장착되는 복수의 반응기(1000) 각각에 개별적으로 입사될 수 있다.Referring to Figure 4, the second heater unit 300 has a plurality of first grooves (3000a), the light emitted from the plurality of light sources 400 by the first groove (3000a) in the reactor cartridge (100) It is possible to reach the reactor 1000. As described above, the light source unit 400a includes a plurality of light sources 400, and the plurality of light sources 400 includes a plurality of first grooves 3000a of the second heater unit 300, and a reactor cartridge 100. Overlaps each of the plurality of reaction grooves 1000a. Therefore, light emitted from the plurality of light sources 400 of the light source unit 400a may be individually incident to each of the plurality of reactors 1000 mounted in the plurality of reaction grooves 1000a of the reactor cartridge 100.

다음으로 도 5를 참고하여, 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 제2 히터부(300)의 구조에 대하여 설명한다. 제2 히터부(300)는 열이 전달되는 열전달판(3a)과 열전달판(3a)의 양쪽 면에 위치하는 두 개의 보호층(3b), 그리고 보호층(3b)에 부착되어 있는 접착층(3c)을 포함한다. 접착층(3c)은 제2 히터부(300)와 광원부(400a)의 결합을 도와준다.Next, the structure of the second heater unit 300 of the nucleic acid amplification apparatus according to the embodiment will be described with reference to FIG. 5. The second heater unit 300 includes two protective layers 3b located on both sides of the heat transfer plate 3a and the heat transfer plate 3a to which heat is transferred, and an adhesive layer 3c attached to the protective layer 3b ). The adhesive layer 3c helps to combine the second heater unit 300 and the light source unit 400a.

열전달판(3a)에는 복수의 제1 개구부(30a)가 형성되어 있고, 두 보호층(3b)에는 복수의 제2 개구부(30b)가 형성되어 있고, 접착층(3c)에는 복수의 제3 개구부(30c)가 형성되어 있다. 복수의 제1 개구부(30a), 복수의 제2 개구부(30b), 그리고 복수의 제3 개구부(30c) 각각은 서로 상하 중첩하여, 제2 히터부(300)의 홈(3000a)을 이룬다. 열전달판(3a)는 약 0.5mm 이내의 두께를 가질 수 있다. 도시한 실시예와는 달리, 열전달판(3a)의 형태는 다양하게 변형 가능하다.A plurality of first openings 30a are formed in the heat transfer plate 3a, a plurality of second openings 30b are formed in the two protective layers 3b, and a plurality of third openings (in the adhesive layer 3c) 30c) is formed. Each of the plurality of first openings 30a, the plurality of second openings 30b, and the plurality of third openings 30c overlaps each other to form a groove 3000a of the second heater unit 300. The heat transfer plate 3a may have a thickness within about 0.5 mm. Unlike the illustrated embodiment, the shape of the heat transfer plate 3a can be variously modified.

그러면, 도 1 및 도 2와 함께 도 6을 참고하여, 상부 몸체(20)에 부착되어 있는 상판(21)과 제1 히터부(200)를 포함하는 하판(22)에 대하여 보다 구체적으로 설명한다.Then, with reference to FIG. 6 together with FIGS. 1 and 2, the lower plate 22 including the upper plate 21 and the first heater unit 200 attached to the upper body 20 will be described in more detail. .

도 1 및 도 2와 함께 도 6을 참고하면, 하판(22)에는 복수의 제4 개구부(220a)가 형성되어 있다. 도시하지는 않았지만, 하판(22) 내에는 제1 히터부(200)가 포함되어 있고, 제1 히터부(200)에도 복수의 제4 개구부(220a)와 일렬 정렬되어 중첩하는 개구부가 형성되어 있다. 상판(21)은 복수의 센서(500)를 포함하고, 복수의 센서(500)는 하판(22)의 복수의 제4 개구부(220a)와 중첩하는 위치에 배치된다.Referring to FIG. 6 together with FIGS. 1 and 2, a plurality of fourth openings 220a are formed in the lower plate 22. Although not illustrated, the first heater unit 200 is included in the lower plate 22, and the first heater unit 200 is also provided with openings overlapping and aligned with the plurality of fourth openings 220a. The upper plate 21 includes a plurality of sensors 500, and the plurality of sensors 500 are disposed at positions overlapping the plurality of fourth openings 220a of the lower plate 22.

복수의 센서(500)가 부착되어 있는 상판(21)과 제1 히터부(200)를 포함하는 하판(22)이 제1 결합 부재(23a, 23b)를 통해 부착되어 있다. The upper plate 21 to which the plurality of sensors 500 are attached and the lower plate 22 including the first heater unit 200 are attached through the first coupling members 23a and 23b.

하부 몸체(10)의 복수의 광원(400)으로부터 발광된 후 복수의 반응기(1000) 각각을 통과한 빛은 제1 히터부(200)를 포함하는 하판(22)의 개구부를 통해 복수의 센서(500)에 의해 감지될 수 있다.After the light emitted from the plurality of light sources 400 of the lower body 10 passes through each of the plurality of reactors 1000, a plurality of sensors through the openings of the lower plate 22 including the first heater unit 200 ( 500).

핵산 증폭 공정 동안, 제1 히터부(200)와 제2 히터부(300)는 각기 원하는 온도로 반응기(1000)를 유지할 수 있는 열을 전달할 수 있다. 예를 들어, 제1 히터부(200)와 제2 히터부(300)에 가해지는 열 에너지는 서로 다를 수 있고, 제1 히터부(200)에 가해지는 열 에너지는 제2 히터부(300)에 가해지는 열 에너지보다 클 수 있다. 제2 히터부(300)는 복수의 반응기(1000) 내의 시약을 핵산 증폭에 필요한 온도로 유지하는 역할을 할 수 있고, 제1 히터부(200)는 제2 히터부(300)에 의해 가열된 복수의 반응기(1000) 내의 시약이 증발되는 것을 방지할 수 있다.During the nucleic acid amplification process, the first heater unit 200 and the second heater unit 300 may each transfer heat capable of maintaining the reactor 1000 at a desired temperature. For example, heat energy applied to the first heater unit 200 and the second heater unit 300 may be different, and heat energy applied to the first heater unit 200 may be different from the second heater unit 300. It can be greater than the heat energy applied to it. The second heater unit 300 may serve to maintain reagents in the plurality of reactors 1000 at a temperature required for nucleic acid amplification, and the first heater unit 200 is heated by the second heater unit 300. It is possible to prevent the reagents in the plurality of reactors 1000 from evaporating.

핵산 증폭 공정을 위하여, 반응기 카트리지(100)에 복수의 반응기(1000)를 장착한 후, 하부 몸체(10)에 상부 몸체(20)를 결합시킨다. 그 후, 제1 히터부(200)와 제2 히터부(300)에 원하는 열에너지를 공급하면서 핵산 증폭 공정을 진행하고, 복수의 광원(400)에서 각기 발광된 빛이 복수의 반응기(1000) 각각에 입사된 후, 복수의 센서(500) 각각에 다시 입사되어 각 반응기 내의 핵산 증폭 과정을 감지할 수 있다.For the nucleic acid amplification process, after mounting a plurality of reactors 1000 in the reactor cartridge 100, the upper body 20 is coupled to the lower body 10. Subsequently, a nucleic acid amplification process is performed while supplying desired heat energy to the first heater unit 200 and the second heater unit 300, and the light emitted from each of the plurality of light sources 400 is respectively a plurality of reactors 1000. After being incident on, it is incident on each of the plurality of sensors 500 to detect a nucleic acid amplification process in each reactor.

앞서 설명한 바와 같이, 복수의 광원(400)은 제2 히터부(300) 아래에 위치하고, 각기 복수의 반응기(1000)와 상하 중첩하는 위치에 배치된다. 이와 유사하게 제1 히터부(200) 위에 위치하는 복수의 센서(500)는 각기 복수의 반응기(1000)와 상하 중첩하는 위치에 배치되고, 복수의 광원(400)과도 상하 중첩하는 위치에 배치된다.As described above, the plurality of light sources 400 are located under the second heater unit 300 and are respectively disposed at positions overlapping the plurality of reactors 1000. Similarly, the plurality of sensors 500 positioned on the first heater unit 200 are disposed at positions overlapping the plurality of reactors 1000, respectively, and disposed at positions overlapping the plurality of light sources 400. .

이에 따라, 복수의 반응기(1000)와 복수의 광원(400) 및 복수의 센서(500)는 상하 방향으로 일렬 정렬될 수 있다.Accordingly, the plurality of reactors 1000, the plurality of light sources 400, and the plurality of sensors 500 may be aligned in a vertical direction.

복수의 광원(400) 및 복수의 센서(500)는 복수의 반응기(1000) 각각과 상하 중첩하도록 배치될 수 있고, 이에 따라 복수의 광원(400) 및 복수의 센서(500)의 개수는 복수의 반응기(1000)의 개수와 같을 수 있다.The plurality of light sources 400 and the plurality of sensors 500 may be arranged to overlap each of the plurality of reactors 1000, and accordingly, the number of the plurality of light sources 400 and the plurality of sensors 500 is a plurality of The number of reactors 1000 may be the same.

이처럼, 복수의 반응기(1000) 위와 아래에 각기 위치하는 복수의 광원(400) 및 복수의 센서(500)를 포함함으로써, 복수의 광원(400)에서 발광된 빛이 복수의 반응기(1000)와 복수의 센서(500)에 일직선으로 입사될 수 있다.As described above, by including a plurality of light sources 400 and a plurality of sensors 500 respectively located above and below the plurality of reactors 1000, the light emitted from the plurality of light sources 400 and the plurality of reactors 1000 and the plurality of It may be incident on the sensor 500 in a straight line.

복수의 광원(400)과 복수의 센서(500)는 복수의 반응기(1000) 각각을 통과한 광학 신호를 측정함으로써 원하는 반응기의 핵산 증폭 과정을 감지할 수 있다.The plurality of light sources 400 and the plurality of sensors 500 may detect a nucleic acid amplification process of a desired reactor by measuring optical signals passing through each of the plurality of reactors 1000.

예를 들어, 복수의 광원(400)과 복수의 센서(500)는 복수의 반응기(1000) 각각을 통과한 광학 신호를 측정함으로써 원하는 반응기의 핵산 증폭 과정을 감지할 수 있다. 복수의 반응기(1000)의 반응 용액에는 형광 물질이 포함될 수 있고, 핵산 증폭 과정에 따라 특정 파장의 광에 의해 발광하고, 이러한 발광 여부를 복수의 센서(500)가 감지함으로써, 각 반응기(1000)의 핵산 증폭 정도를 확인할 수 있다. 복수의 광원(400)은 반응 용액에 포함된 형광 물질을 여기(excitation)시킬 수 있는 파장의 빛을 각기 발광할 수 있고, 복수의 센서(500)는 형광 물질에서 발광되는 빛을 감지할 수 있다.For example, the plurality of light sources 400 and the plurality of sensors 500 may detect a nucleic acid amplification process of a desired reactor by measuring optical signals passing through each of the plurality of reactors 1000. The reaction solution of the plurality of reactors 1000 may include a fluorescent material, and emit light by light having a specific wavelength according to a nucleic acid amplification process, and the plurality of sensors 500 detect whether or not such light emission, each reactor 1000 The degree of nucleic acid amplification of can be confirmed. The plurality of light sources 400 may emit light of a wavelength that can excite the fluorescent material contained in the reaction solution, respectively, and the plurality of sensors 500 may sense light emitted from the fluorescent material. .

각 반응기(1000)의 측면에 광원과 센서를 위치하는 경우보다 광원에서 발광된 빛은 짧고 간단한 경로로 반응기를 통과하여 센서에 입사될 수 있고, 이에 따라, 복수의 반응기 각각의 공정 진행 과정을 쉽고 빠르게 감지하는 것이 가능하다.The light emitted from the light source can pass through the reactor in a shorter and simpler path than the case where the light source and the sensor are positioned on the side of each reactor 1000, and thus, the process of each of the plurality of reactors can be easily performed. It is possible to detect quickly.

또한, 각 반응기(1000)의 위와 아래에 중첩하는 위치에 광원과 센서를 위치시킴으로써, 각 반응기의 공정 진행을 개별적으로 감지하는 것이 가능하다.In addition, by placing light sources and sensors at positions overlapping the top and bottom of each reactor 1000, it is possible to individually sense the process progress of each reactor.

그러면, 도 7 및 도 8을 참고하여, 한 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응부에 대하여 보다 구체적으로 설명한다. 도 7은 다른 한 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응부의 단면도이고, 도 8은 도 7의 핵산 증폭 장치의 반응부의 사시도이다.Then, with reference to FIGS. 7 and 8, the reaction unit of the nucleic acid amplification apparatus according to an embodiment will be described in more detail. 7 is a cross-sectional view of a reaction unit of a nucleic acid amplification apparatus according to another embodiment, and FIG. 8 is a perspective view of a reaction unit of a nucleic acid amplification apparatus of FIG. 7.

도 7 및 도 8을 참고하면, 본 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응부는 복수의 반응기(1000)가 장착되는 반응기 카트리지(100), 제1 방향(D1)을 따라 반응기 카트리지(100)의 위에 위치하는 제1 히터부(200), 제1 방향(D1)을 따라 반응기 카트리지(100)의 아래에 위치하는 제2 히터부(300), 제1 방향(D1)을 따라 제2 히터부(300) 아래에 위치하는 복수의 광원(400), 그리고 제1 방향(D1)을 따라 제1 히터부(200) 위에 위치하는 복수의 센서(500)를 포함한다. 제1 히터부(200)와 제2 히터부(300) 각각은 복수의 광원(400)과 복수의 센서(500)와 중첩하는 위치에 형성되어 있는 복수의 제1 광투과부(200a) 및 복수의 제2 투과부(300a)를 포함한다.Referring to FIGS. 7 and 8, the reaction unit of the nucleic acid amplification apparatus according to the present embodiment is a reactor cartridge 100 on which a plurality of reactors 1000 are mounted, and on the reactor cartridge 100 along the first direction D1. Located first heater unit 200, second heater unit 300 located below reactor cartridge 100 along first direction D1, second heater unit 300 along first direction D1 ) Includes a plurality of light sources 400 positioned below, and a plurality of sensors 500 positioned on the first heater unit 200 along the first direction D1. Each of the first heater unit 200 and the second heater unit 300 includes a plurality of first light transmission units 200a and a plurality of light sources 400 and a plurality of sensors 500 formed at overlapping positions. It includes a second transmission portion (300a).

반응기 카트리지(100)의 위에 위치하는 제1 히터부(200)와 반응기 카트리지(100)의 아래에 위치하는 제2 히터부(300)는 복수의 반응기(1000)의 각 온도를 원하는 온도로 유지할 수 있다. 예를 들어, 제1 히터부(200)와 제2 히터부(300)는 복수의 반응기(1000)에 서로 다른 열 에너지를 공급하여 복수의 반응기(1000)의 온도를 일정하게 유지할 수 있다. 제1 히터부(200)에서 유지하고자 하는 제1 온도와 제2 히터부(300)에서 유지하고자 하는 제2 온도는 서로 다를 수 있고, 서로 같을 수도 있다. 예를 들어, 제1 온도는 85℃ 내지 105℃일 수 있고, 제2 온도는 40℃ 내지 60℃일 수 있고, 제1 온도는 변성 단계를 수행하기 위한 온도일 수 있고, 제2 온도는 어닐링 단계를 수행하기 위한 온도일 수 있다.The first heater unit 200 positioned above the reactor cartridge 100 and the second heater unit 300 positioned below the reactor cartridge 100 can maintain each temperature of the plurality of reactors 1000 at a desired temperature. have. For example, the first heater unit 200 and the second heater unit 300 may supply different thermal energy to the plurality of reactors 1000 to keep the temperatures of the plurality of reactors 1000 constant. The first temperature to be maintained by the first heater unit 200 and the second temperature to be maintained by the second heater unit 300 may be different from each other or may be the same. For example, the first temperature may be 85°C to 105°C, the second temperature may be 40°C to 60°C, the first temperature may be a temperature for performing the denaturation step, and the second temperature may be annealed. It may be a temperature for performing the step.

도시하지는 않았지만, 제1 히터부(200)와 제2 히터부(300)는 복수의 영역으로 구분되어, 각 영역에 서로 다른 열 에너지를 공급할 수도 있다. 이에 따라, 복수의 반응기(1000)의 위치에 따라, 복수의 반응기(1000)의 온도를 다르게 유지할 수도 있다.Although not illustrated, the first heater unit 200 and the second heater unit 300 are divided into a plurality of regions, and different heat energy may be supplied to each region. Accordingly, depending on the positions of the plurality of reactors 1000, the temperatures of the plurality of reactors 1000 may be maintained differently.

반응기 카트리지(100)의 위에 위치하는 제1 히터부(200)는 반응기 카트리지(100)의 복수의 반응기(1000) 위를 덮어 보호함으로써, 복수의 반응기(1000) 내부의 반응 물질이 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있다. 이처럼 별도의 반응기 덮개 없이, 반응기 카트리지(100)의 위에 위치하는 제1 히터부(200)가 덮개 역할을 함으로써, 반응부의 구조를 복잡하게 하지 않으면서도 복수의 반응기(1000)를 가열함과 동시에 복수의 반응기(1000) 내부의 반응 물질이 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있다.The first heater unit 200 positioned on the reactor cartridge 100 covers and protects the plurality of reactors 1000 of the reactor cartridge 100, so that the reaction substances inside the plurality of reactors 1000 are discharged to the outside. Can be prevented. As described above, without a separate reactor cover, the first heater unit 200 positioned on the reactor cartridge 100 serves as a cover, thereby simultaneously heating a plurality of reactors 1000 without complicating the structure of the reaction unit, and simultaneously The reaction material inside the reactor 1000 may be prevented from flowing out.

반응기 카트리지(100)의 아래에 위치하는 제2 히터부(300)는 반응기 카트리지(100)를 고정하여, 공정 중 반응기 카트리지(100)가 원하는 위치에서 불필요하게 이동하는 것을 방지할 수 있다.The second heater unit 300 located under the reactor cartridge 100 fixes the reactor cartridge 100, and can prevent the reactor cartridge 100 from being unnecessarily moved in a desired position during the process.

복수의 광원(400)은 제2 히터부(300) 아래에 위치하고, 각기 복수의 반응기(1000)와 상하 중첩하는 위치에 배치된다.The plurality of light sources 400 are located under the second heater unit 300 and are respectively disposed at positions overlapping the plurality of reactors 1000.

이와 유사하게 제1 히터부(200) 위에 위치하는 복수의 센서(500)는 각기 복수의 반응기(1000)와 상하 중첩하는 위치에 배치되고, 복수의 광원(400)과도 상하 중첩하는 위치에 배치된다.Similarly, the plurality of sensors 500 positioned on the first heater unit 200 are disposed at positions overlapping the plurality of reactors 1000, respectively, and disposed at positions overlapping the plurality of light sources 400. .

이에 따라, 복수의 반응기(1000)와 복수의 광원(400) 및 복수의 센서(500)는 상하 방향으로 일렬 정렬될 수 있다.Accordingly, the plurality of reactors 1000, the plurality of light sources 400, and the plurality of sensors 500 may be aligned in a vertical direction.

복수의 광원(400) 및 복수의 센서(500)는 복수의 반응기(1000) 각각과 상하 중첩하도록 배치될 수 있고, 이에 따라 복수의 광원(400) 및 복수의 센서(500)의 개수는 복수의 반응기(1000)의 개수와 같을 수 있다.The plurality of light sources 400 and the plurality of sensors 500 may be arranged to overlap each of the plurality of reactors 1000, and accordingly, the number of the plurality of light sources 400 and the plurality of sensors 500 is a plurality of The number of reactors 1000 may be the same.

복수의 반응기(1000)와 복수의 센서(500) 사이에 위치하는 제1 히터부(200)는 열 에너지를 전달할 수 있으며 불투명한 금속을 포함할 수 있고, 복수의 반응기(1000) 및 복수의 센서(500)와 상하 중첩하는 위치에 형성되어 있는 복수의 제1 광투과부(200a)를 포함할 수 있다.The first heater unit 200 positioned between the plurality of reactors 1000 and the plurality of sensors 500 may transfer heat energy and may include an opaque metal, and the plurality of reactors 1000 and the plurality of sensors It may include a plurality of first light transmitting portion 200a formed at a position overlapping with the top and bottom 500.

이와 유사하게, 복수의 반응기(1000)와 복수의 광원(400) 사이에 위치하는 제2 히터부(300)는 열 에너지를 전달할 수 있으며 불투명한 금속을 포함할 수 있고, 복수의 반응기(1000) 및 복수의 광원(400)과 상하 중첩하는 위치에 형성되어 있는 복수의 제2 광투과부(300a)를 포함할 수 있다.Similarly, the second heater unit 300 positioned between the plurality of reactors 1000 and the plurality of light sources 400 may transfer heat energy and may include an opaque metal, and the plurality of reactors 1000 And a plurality of second light transmitting parts 300a formed at positions overlapping the plurality of light sources 400.

복수의 제1 광투과부(200a)와 복수의 제2 광투과부(300a)는 복수의 광원(400)에서 발광하는 빛을 투과할 수 있다. 복수의 제1 광투과부(200a)와 복수의 제2 광투과부(300a)는 제1 히터부(200)와 제2 히터부(300)의 열 에너지 전달부에 형성된 복수의 홈과 복수의 홈 안에 위치하는 광투과성 물질층을 포함할 수 있다.The plurality of first light transmitting units 200a and the plurality of second light transmitting units 300a may transmit light emitted from the plurality of light sources 400. The plurality of first light transmitting parts 200a and the plurality of second light transmitting parts 300a are formed in a plurality of grooves and a plurality of grooves formed in the heat energy transmitting parts of the first heater part 200 and the second heater part 300. It may include a layer of light-transmitting material located.

반응기 카트리지(100) 역시 복수의 광원(400)과 복수의 반응기(1000) 내의 형광 성분에서 발광하는 빛이 투과될 수 있도록 광 투과성을 가질 수 있다.The reactor cartridge 100 may also have light transmittance so that light emitted from a plurality of light sources 400 and fluorescent components in the plurality of reactors 1000 can be transmitted.

복수의 광원(400)과 복수의 센서(500)는 반응 감지부(60)로부터 각기 제어될 수 있고, 이에 의해 복수의 반응기(1000) 각각의 반응 여부를 개별적으로 감지할 수 있다. 이처럼, 복수의 광원(400)과 복수의 센서(500)는 복수의 반응기(1000) 각각을 통과한 광학 신호를 측정함으로써 원하는 반응기의 핵산 증폭 과정을 감지할 수 있다.The plurality of light sources 400 and the plurality of sensors 500 may be respectively controlled from the reaction detection unit 60, whereby it is possible to individually detect whether each of the plurality of reactors 1000 reacts. As such, the plurality of light sources 400 and the plurality of sensors 500 may detect a nucleic acid amplification process of a desired reactor by measuring optical signals passing through each of the plurality of reactors 1000.

도 8을 참고하면, 복수의 반응기 카트리지(100), 복수의 광원(400)과 복수의 센서(500)는 상하 중첩하는 위치에 각기 배치되어 있고, 제1 히터부(200) 및 제2 히터부(300)는 복수의 반응기 카트리지(100), 복수의 광원(400) 및 복수의 센서(500)와 상하 중첩하는 위치에 각기 배치되어 있는 복수의 제1 광투과부(200a) 및 복수의 제2 투과부(300a)를 포함하는 바, 복수의 광원(400)에서 발광된 각 광(L1, L2, L3, L4, L5, L6, L7, L8)은 복수의 반응기(1000) 각각을 통과한 후 복수의 센서(500)로 유입될 수 있다.Referring to FIG. 8, a plurality of reactor cartridges 100, a plurality of light sources 400, and a plurality of sensors 500 are disposed at positions overlapping each other, the first heater unit 200 and the second heater unit 300 is a plurality of reactor cartridges 100, a plurality of light sources 400 and a plurality of first and second light transmitting parts 200a and a plurality of second transmitting parts respectively disposed at positions overlapping the plurality of sensors 500. Bar (300a), each light (L1, L2, L3, L4, L5, L6, L7, L8) emitted from the plurality of light sources 400 passes through each of the plurality of reactors 1000, and It may be introduced into the sensor 500.

본 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응부의 복수의 반응기 카트리지(100), 제1 히터부(200) 및 제2 히터부(300), 그리고 복수의 광원(400)과 복수의 센서(500)는 핵산 증폭 과정 동안 함께 움직일 수 있고, 예를 들어, 제1 방향(D1) 또는 제2 방향(D2)을 따라 다른 방향으로 움직이지 않고, 함께 움직일 수 있다. 따라서, 복수의 반응기 카트리지(100), 제1 히터부(200) 및 제2 히터부(300), 그리고 복수의 광원(400)과 복수의 센서(500)의 위치를 상대적으로 변화시키기 위하여 필요한 슬라이딩 동작 등을 구현하기 위한 복잡한 슬라이딩 구동부를 포함하지 않아 반응부의 구조를 복잡하게 하지 않으면서도, 핵산 증폭 과정 동안 각 반응기 카트리지(100) 내에서 원하는 온도 하에서 원하는 공정을 수행할 수 있고 이와 동시에 각 반응기 카트리지(100) 내에서 원하는 공정이 수행되었는 지 여부를 별개로 감지할 수 있다.The plurality of reactor cartridges 100, the first heater unit 200 and the second heater unit 300, and the plurality of light sources 400 and the plurality of sensors 500 of the reaction unit of the nucleic acid amplification apparatus according to the present embodiment are During the nucleic acid amplification process, they may move together, and, for example, may move together without moving in different directions along the first direction D1 or the second direction D2. Accordingly, sliding required to relatively change the positions of the plurality of reactor cartridges 100, the first heater unit 200 and the second heater unit 300, and the plurality of light sources 400 and the plurality of sensors 500 The desired process can be performed under the desired temperature in each reactor cartridge 100 during the nucleic acid amplification process, without complicating the structure of the reaction part because it does not include a complicated sliding drive for implementing operations, etc., and at the same time, each reactor cartridge It is possible to separately detect whether the desired process has been performed within (100).

또한, 반응기 카트리지(100)의 위에 위치하는 제1 히터부(200)는 반응기 카트리지(100)의 복수의 반응기(1000) 위를 덮어 보호함으로써, 복수의 반응기(1000) 내부의 반응 물질이 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있고, 반응기 카트리지(100)의 아래에 위치하는 제2 히터부(300)는 반응기 카트리지(100)를 고정할 수 있다. 이처럼 별도의 반응기 덮개와 별도의 고정부 없이, 반응기 카트리지(100)의 위에 위치하는 제1 히터부(200)가 덮개 역할을 하고, 반응기 카트리지(100)의 아래에 위치하는 제2 히터부(300)가 고정부의 역할을 함으로써, 반응부의 구조를 복잡하게 하지 않으면서도 복수의 반응기(1000)를 가열함과 동시에 복수의 반응기(1000) 내부의 반응 물질이 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있고, 공정 중 반응기 카트리지(100)가 원하는 위치에서 불필요하게 이동하는 것을 방지할 수 있다.In addition, the first heater unit 200 positioned above the reactor cartridge 100 covers and protects the plurality of reactors 1000 of the reactor cartridge 100, so that the reaction substances inside the plurality of reactors 1000 are externally It can be prevented from leaking, and the second heater unit 300 located below the reactor cartridge 100 can fix the reactor cartridge 100. As such, without a separate reactor cover and a separate fixing part, the first heater part 200 positioned above the reactor cartridge 100 serves as a cover, and the second heater part 300 positioned below the reactor cartridge 100 By acting as a fixing part, it is possible to prevent the reaction material inside the plurality of reactors 1000 from flowing out while simultaneously heating the plurality of reactors 1000 without complicating the structure of the reaction part, During the process, it is possible to prevent the reactor cartridge 100 from being unnecessarily moved in a desired position.

그러면, 도 9 및 도 10을 참고하여, 다른 한 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응부에 대하여 설명한다. 도 9 및 도 10은 한 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응부의 상면과 하면을 각각 도시한 평면도이다. Then, with reference to FIGS. 9 and 10, the reaction unit of the nucleic acid amplification apparatus according to another embodiment will be described. 9 and 10 are plan views respectively showing upper and lower surfaces of a reaction unit of a nucleic acid amplification apparatus according to an embodiment.

도 9 및 도 10을 참고하면, 본 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응부의 제1 히터부(200) 및 제2 히터부(300)는 각기 투명한 층으로 이루어지며, 투명한 층 내에 위치하는 제1 열전달부(2000)와 제2 열전달부(3000)를 각기 포함한다.9 and 10, the first heater unit 200 and the second heater unit 300 of the reaction unit of the nucleic acid amplification apparatus according to the present embodiment are each made of a transparent layer, and are located in a transparent layer. Each of the heat transfer unit 2000 and the second heat transfer unit 3000 is included.

제1 열전달부(2000)와 제2 열전달부(3000)는 불투명한 금속층으로 이루어질 수 있고, 제1 열전달부(2000)는 복수의 센서(500)의 유사한 가장자리를 가지고, 복수의 센서(500)보다 큰 폭을 가지는 복수의 제1 홈(200a)을 가지고, 제2 열전달부(3000)는 복수의 광원(400)의 가장자리와 유사한 가장자리를 가지고, 복수의 광원(400)보다 큰 폭을 가지는 복수의 제2 홈(300a)를 가질 수 있다.The first heat transfer unit 2000 and the second heat transfer unit 3000 may be made of an opaque metal layer, and the first heat transfer unit 2000 has similar edges of the plurality of sensors 500, and the plurality of sensors 500 A plurality of first grooves (200a) having a larger width, the second heat transfer unit 3000 has an edge similar to the edge of the plurality of light sources 400, a plurality of light sources having a width greater than the plurality of light sources (400) It may have a second groove (300a).

제1 히터부(200)의 제1 열전달부(2000)에 형성된 복수의 제1 홈(200a)과 제2 히터부(300)의 제2 열전달부(3000)에 형성된 복수의 제2 홈(300a)을 통해 복수의 광원(400)으로부터 발광된 빛에 의해 복수의 반응기(1000) 각각 내부에 유입되어 형광 물질에 의해 발광된 빛은 복수의 센서(500)에 각기 유입되어, 각 반응기(1000) 내에서 이루어진 핵산 증폭 과정을 감지할 수 있다.The plurality of first grooves 200a formed in the first heat transfer unit 2000 of the first heater unit 200 and the plurality of second grooves 300a formed in the second heat transfer unit 3000 of the second heater unit 300 ), the light emitted from each of the plurality of reactors 1000 by the light emitted from the plurality of light sources 400 is introduced into each of the plurality of sensors 500, and each of the reactors 1000 Nucleic acid amplification process can be detected.

앞서 도 1 내지 도 6, 그리고 도 7 및 도 8을 참고로 설명한 실시예들에 따른 핵산 증폭 장치의 많은 특징들은 본 실시예에 따른 핵산 증폭 장치에 모두 적용 가능하다.Many features of the nucleic acid amplification apparatus according to the embodiments described above with reference to FIGS. 1 to 6 and FIGS. 7 and 8 are applicable to the nucleic acid amplification apparatus according to the present embodiment.

본 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응부의 복수의 반응기 카트리지(100), 제1 히터부(200) 및 제2 히터부(300), 그리고 복수의 광원(400)과 복수의 센서(500)는 핵산 증폭 과정 동안 함께 움직일 수 있다. 따라서, 복수의 반응기 카트리지(100), 제1 히터부(200) 및 제2 히터부(300), 그리고 복수의 광원(400)과 복수의 센서(500)의 위치를 상대적으로 변화시키기 위하여 필요한 슬라이딩 동작 등을 구현하기 위한 복잡한 슬라이딩 구동부를 포함하지 않아 반응부의 구조를 복잡하게 하지 않으면서도, 핵산 증폭 과정 동안 각 반응기 카트리지(100) 내에서 원하는 온도 하에서 원하는 공정을 수행할 수 있고 이와 동시에 각 반응기 카트리지(100) 내에서 원하는 공정이 수행되었는 지 여부를 별개로 감지할 수 있다.The plurality of reactor cartridges 100, the first heater unit 200 and the second heater unit 300, and the plurality of light sources 400 and the plurality of sensors 500 of the reaction unit of the nucleic acid amplification apparatus according to the present embodiment are They can move together during the nucleic acid amplification process. Accordingly, sliding required to relatively change the positions of the plurality of reactor cartridges 100, the first heater unit 200 and the second heater unit 300, and the plurality of light sources 400 and the plurality of sensors 500 The desired process can be performed under the desired temperature in each reactor cartridge 100 during the nucleic acid amplification process, without complicating the structure of the reaction part because it does not include a complicated sliding drive for implementing operations, etc., and at the same time, each reactor cartridge It is possible to separately detect whether the desired process has been performed within (100).

또한, 반응기 카트리지(100)의 위에 위치하는 제1 히터부(200)는 반응기 카트리지(100)의 복수의 반응기(1000) 위를 덮어 보호함으로써, 복수의 반응기(1000) 내부의 반응 물질이 외부로 유출되는 것을 방지하는 덮개이고, 반응기 카트리지(100)의 아래에 위치하는 제2 히터부(300)는 반응기 카트리지(100)를 고정하는 홀더이다. 이처럼 별도의 반응기 덮개와 별도의 고정부 없이, 반응기 카트리지(100)의 위에 위치하는 제1 히터부(200)가 덮개 역할을 하고, 반응기 카트리지(100)의 아래에 위치하는 제2 히터부(300)가 고정부의 역할을 함으로써, 반응부의 구조를 복잡하게 하지 않으면서도 복수의 반응기(1000)를 가열함과 동시에 복수의 반응기(1000) 내부의 반응 물질이 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있고, 공정 중 반응기 카트리지(100)가 원하는 위치에서 불필요하게 이동하는 것을 방지할 수 있다.In addition, the first heater unit 200 positioned above the reactor cartridge 100 covers and protects the plurality of reactors 1000 of the reactor cartridge 100, so that the reaction substances inside the plurality of reactors 1000 are externally It is a cover that prevents leakage, and the second heater unit 300 located under the reactor cartridge 100 is a holder for fixing the reactor cartridge 100. As such, without a separate reactor cover and a separate fixing part, the first heater part 200 positioned above the reactor cartridge 100 serves as a cover, and the second heater part 300 positioned below the reactor cartridge 100 By acting as a fixing part, it is possible to prevent the reaction material inside the plurality of reactors 1000 from flowing out while simultaneously heating the plurality of reactors 1000 without complicating the structure of the reaction part, During the process, it is possible to prevent the reactor cartridge 100 from being unnecessarily moved in a desired position.

그러면, 도 11 및 도 12를 참고하여, 다른 한 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응부에 대하여 설명한다. 도 11 및 도 12는 다른 한 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응부의 상면과 하면을 각각 도시한 평면도이다.Then, with reference to FIGS. 11 and 12, the reaction unit of the nucleic acid amplification apparatus according to another embodiment will be described. 11 and 12 are plan views respectively showing upper and lower surfaces of a reaction unit of a nucleic acid amplification apparatus according to another embodiment.

도 11 및 도 12를 참고하면, 본 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응부의 제1 히터부(200) 및 제2 히터부(300)는 각기 투명한 층으로 이루어지며, 투명한 층 내에 위치하는 복수의 제1 열전달선(2001)와 복수의 제2 열전달선(3001)를 각기 포함한다.11 and 12, the first heater unit 200 and the second heater unit 300 of the reaction unit of the nucleic acid amplification apparatus according to the present embodiment are each made of a transparent layer, and a plurality of located in the transparent layer The first heat transfer line 2001 and the plurality of second heat transfer lines 3001 are respectively included.

복수의 제1 열전달선(2001)와 복수의 제2 열전달선(3001)는 불투명한 금속층으로 이루어질 수 있고, 일정한 방향을 따라 나란하게 뻗어 있다.The plurality of first heat transfer lines 2001 and the plurality of second heat transfer lines 3001 may be formed of an opaque metal layer and extend side by side along a certain direction.

복수의 제1 열전달선(2001)와 복수의 제2 열전달선(3001)는 각기 복수의 센서(500) 및 복수의 광원(400)과 서로 중첩하지 않도록 배치될 수 있다. 따라서, 제1 히터부(200) 및 제2 히터부(300) 내부에 위치하는 복수의 제1 열전달선(2001)와 복수의 제2 열전달선(3001)는 복수의 광원(400)으로부터 발광된 빛은 제2 히터부(300)에 의해 방해 받지 않으면서 복수의 반응기(1000) 내부에 전달되고, 복수의 반응기(1000) 각각의 내부에 포함된 형광 물질에 의해 발광된 빛은 제1 히터부(200)에 의해 방해 받지 않으면서 복수의 센서(500)에 각기 유입될 수 있다. 이에 따라 각 반응기(1000) 내에서 이루어진 핵산 증폭 과정을 감지할 수 있다.The plurality of first heat transfer lines 2001 and the plurality of second heat transfer lines 3001 may be disposed so as not to overlap each other with the plurality of sensors 500 and the plurality of light sources 400. Accordingly, the plurality of first heat transfer lines 2001 and the plurality of second heat transfer lines 3001 positioned inside the first heater unit 200 and the second heater unit 300 are emitted from the plurality of light sources 400. Light is transmitted to the plurality of reactors 1000 without being disturbed by the second heater unit 300, and the light emitted by the fluorescent material included in each of the plurality of reactors 1000 is the first heater unit Each of the plurality of sensors 500 may be introduced without being disturbed by the 200. Accordingly, a nucleic acid amplification process performed in each reactor 1000 can be detected.

앞서 도 1 내지 도 6, 그리고 도 7 및 도 8을 참고로 설명한 실시예들에 따른 핵산 증폭 장치의 많은 특징들은 본 실시예에 따른 핵산 증폭 장치에 모두 적용 가능하다.Many features of the nucleic acid amplification apparatus according to the embodiments described above with reference to FIGS. 1 to 6 and FIGS. 7 and 8 are applicable to the nucleic acid amplification apparatus according to the present embodiment.

본 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응부의 복수의 반응기 카트리지(100), 제1 히터부(200) 및 제2 히터부(300), 그리고 복수의 광원(400)과 복수의 센서(500)는 핵산 증폭 과정 동안 함께 움직일 수 있다. 따라서, 복수의 반응기 카트리지(100), 제1 히터부(200) 및 제2 히터부(300), 그리고 복수의 광원(400)과 복수의 센서(500)의 위치를 상대적으로 변화시키기 위하여 필요한 슬라이딩 동작 등을 구현하기 위한 복잡한 슬라이딩 구동부를 포함하지 않아 반응부의 구조를 복잡하게 하지 않으면서도, 핵산 증폭 과정 동안 각 반응기 카트리지(100) 내에서 원하는 온도 하에서 원하는 공정을 수행할 수 있고 이와 동시에 각 반응기 카트리지(100) 내에서 원하는 공정이 수행되었는 지 여부를 별개로 감지할 수 있다.The plurality of reactor cartridges 100, the first heater unit 200 and the second heater unit 300, and the plurality of light sources 400 and the plurality of sensors 500 of the reaction unit of the nucleic acid amplification apparatus according to the present embodiment are They can move together during the nucleic acid amplification process. Accordingly, sliding required to relatively change the positions of the plurality of reactor cartridges 100, the first heater unit 200 and the second heater unit 300, and the plurality of light sources 400 and the plurality of sensors 500 The desired process can be performed under the desired temperature in each reactor cartridge 100 during the nucleic acid amplification process, without complicating the structure of the reaction part because it does not include a complicated sliding drive for implementing operations, etc., and at the same time, each reactor cartridge It is possible to separately detect whether the desired process has been performed within (100).

또한, 반응기 카트리지(100)의 위에 위치하는 제1 히터부(200)는 반응기 카트리지(100)의 복수의 반응기(1000) 위를 덮어 보호함으로써, 복수의 반응기(1000) 내부의 반응 물질이 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있고, 반응기 카트리지(100)의 아래에 위치하는 제2 히터부(300)는 반응기 카트리지(100)를 고정할 수 있다. 이처럼 별도의 반응기 덮개와 별도의 고정부 없이, 반응기 카트리지(100)의 위에 위치하는 제1 히터부(200)가 덮개 역할을 하고, 반응기 카트리지(100)의 아래에 위치하는 제2 히터부(300)가 고정부의 역할을 함으로써, 반응부의 구조를 복잡하게 하지 않으면서도 복수의 반응기(1000)를 가열함과 동시에 복수의 반응기(1000) 내부의 반응 물질이 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있고, 공정 중 반응기 카트리지(100)가 원하는 위치에서 불필요하게 이동하는 것을 방지할 수 있다.In addition, the first heater unit 200 positioned above the reactor cartridge 100 covers and protects the plurality of reactors 1000 of the reactor cartridge 100, so that the reaction substances inside the plurality of reactors 1000 are externally It can be prevented from leaking, and the second heater unit 300 located below the reactor cartridge 100 can fix the reactor cartridge 100. As such, without a separate reactor cover and a separate fixing part, the first heater part 200 positioned above the reactor cartridge 100 serves as a cover, and the second heater part 300 positioned below the reactor cartridge 100 By acting as a fixing part, it is possible to prevent the reaction material inside the plurality of reactors 1000 from flowing out while simultaneously heating the plurality of reactors 1000 without complicating the structure of the reaction part, During the process, it is possible to prevent the reactor cartridge 100 from being unnecessarily moved in a desired position.

그러면, 도 13 및 도 14를 참고하여, 다른 한 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응부에 대하여 설명한다. 도 13 및 도 14는 다른 한 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응부의 상면과 하면을 각각 도시한 평면도이다.Then, referring to FIGS. 13 and 14, a reaction unit of the nucleic acid amplification apparatus according to another embodiment will be described. 13 and 14 are plan views respectively showing upper and lower surfaces of a reaction unit of a nucleic acid amplification apparatus according to another embodiment.

도 13 및 도 14를 참고하면, 본 실시예에 따른 핵산 증폭 장치는 앞서 도 11 및 도 12를 참고로 설명한 실시예에 따른 핵산 증폭 장치와 유사하다.13 and 14, the nucleic acid amplification apparatus according to the present embodiment is similar to the nucleic acid amplification apparatus according to the embodiment described with reference to FIGS. 11 and 12 above.

본 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응부의 제1 히터부(200) 및 제2 히터부(300)는 각기 투명한 층으로 이루어지고, 투명한 층 내에 위치하는 복수의 제1 열전달선(2001)와 복수의 제2 열전달선(3001)를 각기 포함한다. 또한, 제1 히터부(200) 및 제2 히터부(300)는 각기 복수의 제3 열전달선(2002)와 복수의 제4 열전달선(3002)를 더 포함한다. The first heater unit 200 and the second heater unit 300 of the reaction unit of the nucleic acid amplification apparatus according to the present embodiment are each made of a transparent layer, and a plurality of first heat transfer lines 2001 and a plurality of positions located in the transparent layer Each of the second heat transfer line (3001). In addition, the first heater unit 200 and the second heater unit 300 further include a plurality of third heat transfer lines 2002 and a plurality of fourth heat transfer lines 3002, respectively.

복수의 제1 열전달선(2001)와 복수의 제2 열전달선(3001)는 불투명한 금속층으로 이루어질 수 있고, 제1 방향을 따라 나란하게 뻗어 있고, 복수의 제3 열전달선(2002)와 복수의 제4 열전달선(3002)는 금속층으로 이루어질 수 있고, 제1 방향과 다른 제2 방향을 따라 나란하게 뻗어 있다.The plurality of first heat transfer lines 2001 and the plurality of second heat transfer lines 3001 may be formed of an opaque metal layer, extend in parallel along the first direction, and the plurality of third heat transfer lines 2002 and the plurality of The fourth heat transfer line 3002 may be formed of a metal layer and extends side by side along a second direction different from the first direction.

제1 히터부(200)의 복수의 제1 열전달선(2001)와 복수의 제3 열전달선(2002)는 서로 교차할 수 있고, 서로 별개로 구동될 수 있으며, 서로 다른 온도를 전달하거나, 서로 같은 온도를 전달할 수 있다.The plurality of first heat transfer lines 2001 and the plurality of third heat transfer lines 2002 of the first heater unit 200 may cross each other, may be driven separately from each other, transfer different temperatures, or Can deliver the same temperature.

이와 유사하게, 제2 히터부(300)의 복수의 제2 열전달선(3001)와 복수의 제4 열전달선(3002)는 서로 교차할 수 있고, 서로 별개로 구동될 수 있으며, 서로 다른 온도를 전달하거나, 서로 같은 온도를 전달할 수 있다.Similarly, the plurality of second heat transfer lines 3001 and the plurality of fourth heat transfer lines 3002 of the second heater unit 300 may cross each other, may be driven separately from each other, and have different temperatures. They can be delivered, or they can deliver the same temperature to each other.

이처럼, 제1 히터부(200) 및 제2 히터부(300)는 각기 서로 별개로 구동될 수 있는 복수의 열전달부들을 포함함으로써, 복수의 반응기(1000)의 온도를 좀 더 상세하게 유지할 수 있다. 예를 들어, 제1 히터부(200)의 복수의 제1 열전달선(2001)와 복수의 제3 열전달선(2002)가 전달하는 열 에너지를 다르게 조절함으로써, 그 평균에 따른 온도를 구현할 수 있고, 이와 유사하게 제2 히터부(300)의 복수의 제2 열전달선(3001)와 복수의 제4 열전달선(3002)가 전달하는 열 에너지를 다르게 조절함으로써, 그 평균에 따른 온도를 구현할 수 있다.As such, the first heater unit 200 and the second heater unit 300 may include a plurality of heat transfer units that can be driven separately from each other, thereby maintaining the temperature of the plurality of reactors 1000 in more detail. . For example, by adjusting the heat energy transmitted by the plurality of first heat transfer lines 2001 and the plurality of third heat transfer lines 2002 of the first heater unit 200 differently, a temperature according to the average can be realized. , Similarly, by adjusting the heat energy transmitted by the plurality of second heat transfer lines 3001 and the plurality of fourth heat transfer lines 3002 of the second heater unit 300 differently, a temperature according to the average can be realized. .

또는 제1 히터부(200)의 복수의 제1 열전달선(2001)와 복수의 제3 열전달선(2002) 중 일부에만 열 에너지를 전달할 수도 있고, 제2 히터부(300)의 복수의 제2 열전달선(3001)와 복수의 제4 열전달선(3002) 중 일부에만 열 에너지를 전달할 수도 있다.Alternatively, heat energy may be transferred to only a portion of the plurality of first heat transfer lines 2001 and the plurality of third heat transfer lines 2002 of the first heater unit 200, and the plurality of second heat of the second heater unit 300 may be performed. Heat energy may be transferred to only part of the heat transfer line 3001 and the plurality of fourth heat transfer lines 3002.

복수의 제1 열전달선(2001)와 복수의 제2 열전달선(3001), 그리고 복수의 제3 열전달선(2002)와 복수의 제4 열전달선(3002)는 각기 복수의 센서(500) 및 복수의 광원(400)과 서로 중첩하지 않도록 배치될 수 있다. 따라서, 제1 히터부(200) 및 제2 히터부(300) 내부에 위치하는 복수의 제1 열전달선(2001)와 복수의 제2 열전달선(3001)는 복수의 광원(400)으로부터 발광된 빛은 제2 히터부(300)에 의해 방해 받지 않으면서 복수의 반응기(1000) 내부에 전달되고, 복수의 반응기(1000) 각각의 내부에 포함된 형광 물질에 의해 발광된 빛은 제1 히터부(200)에 의해 방해 받지 않으면서 복수의 센서(500)에 각기 유입될 수 있다. 이에 따라 각 반응기(1000) 내에서 이루어진 핵산 증폭 과정을 감지할 수 있다.The plurality of first heat transfer lines 2001 and the plurality of second heat transfer lines 3001, and the plurality of third heat transfer lines 2002 and the plurality of fourth heat transfer lines 3002 are each a plurality of sensors 500 and a plurality of It may be arranged so as not to overlap with the light source 400 of. Accordingly, the plurality of first heat transfer lines 2001 and the plurality of second heat transfer lines 3001 positioned inside the first heater unit 200 and the second heater unit 300 are emitted from the plurality of light sources 400. The light is transmitted to the plurality of reactors 1000 without being disturbed by the second heater unit 300, and the light emitted by the fluorescent material included in each of the plurality of reactors 1000 is the first heater unit Each of the plurality of sensors 500 may be introduced without being disturbed by the 200. Accordingly, a nucleic acid amplification process performed in each reactor 1000 can be detected.

앞서 도 1 내지 도 6, 그리고 도 7 및 도 8을 참고로 설명한 실시예들에 따른 핵산 증폭 장치의 많은 특징들은 본 실시예에 따른 핵산 증폭 장치에 모두 적용 가능하다.Many features of the nucleic acid amplification apparatus according to the embodiments described above with reference to FIGS. 1 to 6 and FIGS. 7 and 8 are applicable to the nucleic acid amplification apparatus according to the present embodiment.

본 실시예에 따른 핵산 증폭 장치의 반응부의 복수의 반응기 카트리지(100), 제1 히터부(200) 및 제2 히터부(300), 그리고 복수의 광원(400)과 복수의 센서(500)는 핵산 증폭 과정 동안 함께 움직일 수 있다. 따라서, 복수의 반응기 카트리지(100), 제1 히터부(200) 및 제2 히터부(300), 그리고 복수의 광원(400)과 복수의 센서(500)의 위치를 상대적으로 변화시키기 위하여 필요한 슬라이딩 동작 등을 구현하기 위한 복잡한 슬라이딩 구동부를 포함하지 않아 반응부의 구조를 복잡하게 하지 않으면서도, 핵산 증폭 과정 동안 각 반응기 카트리지(100) 내에서 원하는 온도 하에서 원하는 공정을 수행할 수 있고 이와 동시에 각 반응기 카트리지(100) 내에서 원하는 공정이 수행되었는 지 여부를 별개로 감지할 수 있다.The plurality of reactor cartridges 100, the first heater unit 200 and the second heater unit 300, and the plurality of light sources 400 and the plurality of sensors 500 of the reaction unit of the nucleic acid amplification apparatus according to the present embodiment are They can move together during the nucleic acid amplification process. Accordingly, sliding required to relatively change the positions of the plurality of reactor cartridges 100, the first heater unit 200 and the second heater unit 300, and the plurality of light sources 400 and the plurality of sensors 500 A desired process can be performed under a desired temperature in each reactor cartridge 100 during the nucleic acid amplification process, without complicating the structure of the reaction part by not including a complicated sliding driving part for realizing operations and the like, and at the same time, each reactor cartridge It is possible to separately detect whether the desired process has been performed within (100).

또한, 반응기 카트리지(100)의 위에 위치하는 제1 히터부(200)는 반응기 카트리지(100)의 복수의 반응기(1000) 위를 덮어 보호함으로써, 복수의 반응기(1000) 내부의 반응 물질이 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있고, 반응기 카트리지(100)의 아래에 위치하는 제2 히터부(300)는 반응기 카트리지(100)를 고정할 수 있다. 이처럼 별도의 반응기 덮개와 별도의 고정부 없이, 반응기 카트리지(100)의 위에 위치하는 제1 히터부(200)가 덮개 역할을 하고, 반응기 카트리지(100)의 아래에 위치하는 제2 히터부(300)가 고정부의 역할을 함으로써, 반응부의 구조를 복잡하게 하지 않으면서도 복수의 반응기(1000)를 가열함과 동시에 복수의 반응기(1000) 내부의 반응 물질이 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있고, 공정 중 반응기 카트리지(100)가 원하는 위치에서 불필요하게 이동하는 것을 방지할 수 있다.In addition, the first heater unit 200 positioned above the reactor cartridge 100 covers and protects the plurality of reactors 1000 of the reactor cartridge 100, so that the reaction substances inside the plurality of reactors 1000 are externally It can be prevented from leaking, and the second heater unit 300 located below the reactor cartridge 100 can fix the reactor cartridge 100. As such, without a separate reactor cover and a separate fixing part, the first heater part 200 positioned above the reactor cartridge 100 serves as a cover, and the second heater part 300 positioned below the reactor cartridge 100 By acting as a fixing part, it is possible to prevent the reaction material inside the plurality of reactors 1000 from flowing out while simultaneously heating the plurality of reactors 1000 without complicating the structure of the reaction part, During the process, it is possible to prevent the reactor cartridge 100 from being unnecessarily moved in a desired position.

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements of those skilled in the art using the basic concept of the present invention defined in the following claims are also provided. It belongs to the scope of rights.

1: 핵산 증폭 장치
100: 반응기 카트리지
1000: 반응기
200, 300: 히터부
400: 광원
500: 센서
2000, 3000: 열전달부
2001, 2002, 3001, 3002: 열전달선
200a, 300a: 홈1: nucleic acid amplification device
100: reactor cartridge
1000: reactor
200, 300: heater unit
400 light source
500: sensor
2000, 3000: Heat transfer section
2001, 2002, 3001, 3002: Heat transfer wire
200a, 300a: home

Claims (8)

복수의 반응기들이 장착되는 반응기 카트리지,
제1 방향을 따라 상기 반응기 카트리지 위에 위치하는 제1 히터부,
상기 제1 방향을 따라 상기 반응기 카트리지 아래에 위치하는 제2 히터부,
상기 제1 방향을 따라 상기 제2 히터부 아래에 위치하는 복수의 광원들, 그리고
상기 제1 방향을 따라 상기 제1 히터부 위에 위치하는 복수의 센서들을 포함하고,
상기 복수의 반응기들, 상기 복수의 광원들, 그리고 상기 복수의 센서들 각각은 상기 제1 방향을 따라 상하 방향으로 서로 중첩하고,
상기 제1 히터부는 상기 복수의 광원들 및 상기 복수의 센서들과 상기 제1 방향을 따라 서로 중첩하는 복수의 제1 광투과부를 포함하고,
상기 제2 히터부는 상기 복수의 광원들, 상기 복수의 센서들, 그리고 상기 복수의 제1 광투과부와 상기 제1 방향을 따라 서로 중첩하는 복수의 제2 광투과부를 포함하고,
상기 복수의 광원들, 상기 복수의 제2 광투과부, 상기 복수의 반응기들, 상기 복수의 제1 광투과부, 상기 복수의 센서는 상기 제1 방향을 따라 순서대로 일렬 배열되는 핵산 증폭 장치.
Reactor cartridge equipped with a plurality of reactors,
A first heater unit located on the reactor cartridge along a first direction,
A second heater unit located under the reactor cartridge along the first direction,
A plurality of light sources located under the second heater unit along the first direction, and
It includes a plurality of sensors located on the first heater portion along the first direction,
Each of the plurality of reactors, the plurality of light sources, and the plurality of sensors overlaps each other in the vertical direction along the first direction,
The first heater unit includes the plurality of light sources, the plurality of sensors, and a plurality of first light transmitting units overlapping each other along the first direction,
The second heater part includes the plurality of light sources, the plurality of sensors, and the plurality of first light transmitting parts and a plurality of second light transmitting parts overlapping each other along the first direction,
The plurality of light sources, the plurality of second light transmission units, the plurality of reactors, the plurality of first light transmission units, and the plurality of sensors are arranged in a row along the first direction.
삭제delete 제1항에서,
상기 복수의 제1 광투과부들과 상기 복수의 제2 광투과부들은 상기 제1 히터부와 상기 제2 히터부에 형성된 복수의 홈과 상기 복수의 홈 안에 위치하는 광투과성 물질층을 포함하는 핵산 증폭 장치.
In claim 1,
The plurality of first light-transmitting portions and the plurality of second light-transmitting portions are nucleic acid amplification including a plurality of grooves formed in the first heater portion and the second heater portion and a light-transmitting material layer located in the plurality of grooves Device.
복수의 반응기가 장착되는 복수의 반응 홈을 가지는 반응기 카트리지, 상기 반응기 카트리지 아래에 위치하는 하부 히터부, 상기 하부 히터부 아래에 위치하는 광원부를 포함하는 하부 몸체, 그리고
상기 하부 몸체와 결합 수단에 의해 연결되어 있으며, 상부 히터부 및 상기 상부 히터부 위에 위치하는 센서부를 포함하는 상부 몸체를 포함하고,
상기 상부 몸체는 상기 하부 몸체와 결합부를 통해 연결되고, 상기 하부 몸체 바로 위에 결합되거나 상기 하부 몸체로부터 분리되고,
상기 광원부는 복수의 광원을 포함하고,
상기 센서부는 복수의 센서를 포함하고,
상기 하부 히터부는 상기 복수의 광원들과 중첩하는 복수의 제1 개구부를 가지고,
상기 상부 히터부는 상기 복수의 센서들과 중첩하는 복수의 제2 개구부를 가지고,
상기 상부 몸체가 상기 하부 몸체 바로 위에 결합된 상태에서, 상기 복수의 광원들, 상기 복수의 제1 개구부, 상기 반응기 카트리지의 상기 복수의 반응 홈, 상기 복수의 제2 개구부, 그리고 상기 복수의 센서들 각각은 상하 방향으로 서로 중첩하고, 아래에서 위로 향하는 방향을 따라 일렬 배열되는 핵산 증폭 장치.
A reactor cartridge having a plurality of reaction grooves in which a plurality of reactors are mounted, a lower body including a lower heater unit positioned under the reactor cartridge, and a lower body including a light source unit positioned under the lower heater unit, and
It is connected to the lower body by a coupling means, and includes an upper body including an upper heater portion and a sensor portion located on the upper heater portion,
The upper body is connected to the lower body through a coupling portion, is coupled directly to the lower body or is separated from the lower body,
The light source unit includes a plurality of light sources,
The sensor unit includes a plurality of sensors,
The lower heater portion has a plurality of first openings overlapping the plurality of light sources,
The upper heater portion has a plurality of second openings overlapping the plurality of sensors,
With the upper body coupled directly above the lower body, the plurality of light sources, the plurality of first openings, the plurality of reaction grooves of the reactor cartridge, the plurality of second openings, and the plurality of sensors Nucleic acid amplification apparatus, each of which overlaps each other in the vertical direction and is arranged in a line along the direction from bottom to top.
삭제delete 제4항에서,
상기 결합부는 회전 가능한 핵산 증폭 장치.
In claim 4,
The coupling portion is a rotatable nucleic acid amplification device.
제4항에서,
상기 하부 히터부는 열전달판, 그리고
상기 열전달판의 양쪽 면에 부착되어 있는 두 개의 보호층을 포함하고,
상기 열전달판은 복수의 제1 홀을 가지고,
상기 보호층은 복수의 제2 홀을 가지고,
상기 복수의 제1 홀과 상기 복수의 제2 홀은 상하 방향으로 서로 중첩하는 위치에 형성되어 있는 핵산 증폭 장치.
In claim 4,
The lower heater portion heat transfer plate, and
It includes two protective layers attached to both sides of the heat transfer plate,
The heat transfer plate has a plurality of first holes,
The protective layer has a plurality of second holes,
The plurality of first holes and the plurality of second holes are nucleic acid amplification devices formed at positions overlapping each other in the vertical direction.
제7항에서,
상기 열전달판의 두께는 0.5mm 이내인 핵산 증폭 장치.In claim 7,
The thickness of the heat transfer plate is a nucleic acid amplification device within 0.5mm.
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