KR102102357B1 - Synthesis of tkx-50 using protected diazidoglyoxime - Google Patents

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tkx
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권국태
김승희
이웅희
심정섭
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국방과학연구소
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Abstract

The present invention relates to a method for synthesizing TKX-50 using diazidoglyoxime in which a functional group is protected. More specifically, the present invention relates to a method for synthesizing TKX-50 using diazidoglyoxime in which a functional group is protected, which comprises the following steps: preparing DCG as a starting material; forming an insensitive-DAG intermediate represented by chemical formula 1 from the DCG; and synthesizing TKX-50 through the insensitive-DAG intermediate. The present invention has an advantage of being safe and easy to process by using an aqueous HCl solution instead of using HCl gas.

Description

작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법{SYNTHESIS OF TKX-50 USING PROTECTED DIAZIDOGLYOXIME}Synthesis method of TKX-50 using diajiglyoxime with functional group protection {SYNTHESIS OF TKX-50 USING PROTECTED DIAZIDOGLYOXIME}

본 발명은 작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for synthesizing TKX-50 using diajiglyoxime with functional group protection.

현재 군용 화약으로 가장 널리 사용되는 고에너지 물질은 RDX (1,3,5-trinitro-1,3,5-triazacyclohexane), HMX (1,3,5,7-tetranitro-1,3,5,7-tetraazacyclooctane), CL-20 (2,4,6,8,10,12-hexanitro-2,4,6,8,10,12-hexaza-isowurtzitane) 등이며, 다양한 분야에 폭넓게 사용되고 있다. 최근 신 무기체계 개발에 따라 기존에 사용되던 고에너지 물질 보다 더 높은 폭발 성능을 가지는 고에너지 물질을 개발하기 위해 많은 연구들이 진행되고 있으며, 특히 고리 또는 케이지 형태를 함유한 물질에 대한 연구가 활발히 진행되었다. 이렇게 개발된 고에너지 물질 중 DDF (dinitroazofuroxane), ONC (octanitrocubane)는 폭발 속도가 약 10,000 m/s로 매우 뛰어난 폭발 성능을 가지지만 매우 민감한 특성을 가지고 있어 취급자의 안전을 위협한다는 치명적인 단점을 가지고 있다.Currently, the most widely used high-energy materials for military gunpowder are RDX (1,3,5-trinitro-1,3,5-triazacyclohexane), HMX (1,3,5,7-tetranitro-1,3,5,7 -tetraazacyclooctane), CL-20 (2,4,6,8,10,12-hexanitro-2,4,6,8,10,12-hexaza-isowurtzitane), and is widely used in various fields. Recently, with the development of new weapon systems, many studies have been conducted to develop high-energy materials with higher explosive performance than previously used high-energy materials. In particular, research on materials containing ring or cage forms has been actively conducted. Became. Among these high-energy materials developed, DDF (dinitroazofuroxane) and ONC (octanitrocubane) have an explosive speed of about 10,000 m / s, but have a very high explosive performance, but have a very sensitive characteristic, which has the fatal disadvantage of threatening the safety of the handling personnel. .

폭발 성능과 둔감성 향상을 위해 최근에는 트리아졸, 테트라졸, 나이트로이미노테트라졸, 테트라진 등의 질소 함량이 높은 고리형 화합물에 대한 연구가 활발히 진행되었으며, 그 중 테트라졸 화합물인 디히드록실암모늄 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올레이트(dihydroxylammonium 5,5'-bistetrazole-1,1'-diolate, Thomas Klapotke eXplosive - 50, TKX-50)은 유망한 고에너지 물질 중 하나로 평가받고 있다. TKX-50은 기존 에너지 물질 (RDX, HMX, CL-20) 보다 높은 폭발 성능을 가지고 있을 뿐만 아니라 감도 또한 둔감한 것으로 알려져 있다.In order to improve explosive performance and desensitization, recently, studies on cyclic compounds having a high nitrogen content, such as triazole, tetrazole, nitroiminotetrazole, and tetrazin, have been actively conducted, of which the tetrazole compound dihydroxylammonium 5,5'-bistetrazol-1,1'-diolate (dihydroxylammonium 5,5'-bistetrazole-1,1'-diolate, Thomas Klapotke eXplosive-50, TKX-50) is rated as one of the promising high-energy materials I am receiving. TKX-50 is known to have higher explosive performance than conventional energy materials (RDX, HMX, CL-20), as well as insensitive sensitivity.

도 1은 TKX-50의 기존 합성 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 1을 참조하면, TKX-50의 기존 합성 방법은 글리옥살(glyoxal)을 출발 물질로 하여 5 단계의 합성 단계를 거쳐 합성되어진다. TKX-50 자체는 기존 고에너지 물질에 비해 둔감한 편이나 에너지 그룹을 도입하는 아지드화 반응 이후 얻어지는 중간체인 다이아지도글라이옥심(diazidoglyoxime, DAG)은 기폭약 수준 (Lead styphnate : 충격감도 2.5-5 J, 마찰감도 1.5 N, Lead azide : 충격감도 2.5-4 J, 마찰감도 0.1-1 N)의 매우 민감한 감도 (DAG : 충격감도 1.5 J, 마찰감도 5 N 이하, 정전기 감도 7 mJ)를 가지고 있어 TKX-50 합성 시 작업자의 안전을 위협할 뿐만 아니라 사고의 위험이 존재한다.1 is a view for explaining the conventional synthesis method of TKX-50. Referring to Figure 1, the existing synthesis method of TKX-50 is synthesized through 5 steps of synthesis using glyoxal as a starting material. TKX-50 itself is insensitive to existing high-energy materials, but diazidoglyoxime (DAG), an intermediate obtained after azide reaction that introduces an energy group, has an explosive level (lead styphnate: impact sensitivity 2.5-5 J, friction sensitivity 1.5 N, lead azide: shock sensitivity 2.5-4 J, friction sensitivity 0.1-1 N), very sensitive sensitivity (DAG: shock sensitivity 1.5 J, friction sensitivity 5 N or less, static sensitivity 7 mJ) When synthesizing TKX-50, it not only threatens the safety of workers, but also risks accidents.

뿐만 아니라, 기존에 알려진 TKX-50의 합성의 마지막 단계는, HCl 가스를 사용하기 때문에 안전상 위험이 되고 효과적인 공정 적용이 쉽지 않다는 어려움이 있다.In addition, the last step of the synthesis of the previously known TKX-50 is that it is a safety hazard because it uses HCl gas, and it is difficult to apply an effective process.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은, TKX-50 합성 시 작업자가 보다 안전하고 효과적으로 작업할 수 있도록 민감한 중간체인 DAG 대신 보다 둔감한 THP-DAG (O,O'-ditetrahydropyranyloxalohydroximoyl diazide)를 거쳐 합성하고, HCl 가스 대신 HCl 수용액을 사용하여 작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법을 제공하는 것이다.The present invention is to solve the above-mentioned problems, the object of the present invention, TKX-50 is a more sensitive THP-DAG (O, O'-) rather than the sensitive intermediate chain DAG so that workers can work more safely and effectively. ditetrahydropyranyloxalohydroximoyl diazide), and provides a method for synthesizing TKX-50 using diazidoglyoxime with functional groups protected by using an aqueous HCl solution instead of HCl gas.

그러나, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급한 것들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 해당 분야 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the problem to be solved by the present invention is not limited to those mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 일 실시예에 따른 작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법은, 출발물질로 다이클로로글라이옥심(dichloroglyoxime, DCG)을 준비하는 단계; 상기 DCG로부터 하기 화학식 1로 표시되는 둔감성-O,O'-디테트라히드로피라닐 옥살로히드록시모닐 디아지드(O,O'-ditetrahydropyranyl oxalohydroximoyl diazide, 둔감성-DiAzidoGlyoxime, 둔감성-DAG)을 형성하는 단계; 및 상기 둔감성-DAG 중간체를 통해 TKX-50을 합성하는 단계;를 포함한다:A method for synthesizing TKX-50 using diajidoglioxime with a functional group protected according to an embodiment of the present invention includes preparing a dichloroglyoxime (DCG) as a starting material; Forming a desensitization-O, O'-ditetrahydropyranyl oxalohydroxymonyl diazide (O, O'-ditetrahydropyranyl oxalohydroximoyl diazide, desensitization-DiAzidoGlyoxime, desensitization-DAG) represented by Formula 1 below from the DCG ; And synthesizing TKX-50 through the insensitive-DAG intermediate.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112019101610799-pat00001
Figure 112019101610799-pat00001

(여기서, R은 테트라히드로피라닐(Tetrahydropyranyl; THP), 메틸(Methyl; Me), 메톡시메틸(Methoxymethyl; MOM), 메톡시티오메틸(Methoxythiomethyl; MTM), 벤질옥시메틸(Benzyloxymethyl; BOM), 2-메톡시메틸(2-Methoxymethyl; MEM), 2-(트리메틸실릴)에톡시메틸((2-(Trimethylsilyl)ethoxymethyl); SEM), 테트라하이드로푸라닐(Tetrahydrofuranyl; THF), t-부틸(t-Butyl), 알릴(Allyl), 벤질(Benzyl), p-메톡시벤질(p-Methoxybenzyl), 3,4-디메톡시벤질(3,4-Dimethoxybenzyl), o-니트로벤질(o-Nitrobenzyl), p-니트로벤질(p-Nitrobenzyl), 트리페닐메틸(Triphenylmethyl), 트리메틸실릴(Trimethylsilyl; TMS), 트리에틸실릴(Triethylsilyl; TES), 트리이소프로필실릴(Triisopropylsilyl; TIPS), t-부틸디메틸실릴(t-Butyldimethylsilyl; TBDMS), t-부틸디페닐실릴(t-Butyldiphenylsilyl; TBDPS), 디페닐메틸실릴(Diphenylmethylsilyl; DPMS), 디-t-부틸메틸실릴(Di-t-butylmethylsilyl; DTBMS), 아세테이트(Acetate; Ac), 클로로아세테이트(Chloroacetate), 메톡시아세테이트(Methoxyacetate), 트리페닐메톡시아세테이트(Triphenylmethoxyacetate), 피발로에이트(Pivaloate), 벤조에이트(Benzoate) 및 p-톨루엔술포네이트(p-Toluenesulfonate; Ts)로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함함).(Wherein, R is Tetrahydropyranyl (THP), Methyl (Me), Methoxymethyl (MOM), Methoxythiomethyl (Methoxythiomethyl; MTM), Benzyloxymethyl (Benzyloxymethyl; BOM), 2-Methoxymethyl (MEM), 2- (trimethylsilyl) ethoxymethyl ((2- (Trimethylsilyl) ethoxymethyl); SEM), Tetrahydrofuranyl (THF), t-butyl (t -Butyl, Allyl, Benzyl, p-Methoxybenzyl, 3,4-Dimethoxybenzyl, o-Nitrobenzyl, p-Nitrobenzyl, Triphenylmethyl, Trimethylsilyl (TMS), Triethylsilyl (TES), Triisopropylsilyl (TIPS), t-butyldimethylsilyl (TPS) t-Butyldimethylsilyl (TBDMS), t-Butyldiphenylsilyl (TBDPS), Diphenylmethylsilyl (DPMS), Di-t-butylmethylsilyl (DTBMS), Acetate ( Acetate; Ac), Chloroacetate, Methoxyacetate, Triphenylmethoxyacetate, Pivaloate, Benzoate and p-Toluenesulfonate (Ts) It includes at least one selected from the group consisting of).

일 실시형태에 따르면, 다이아지도글라이옥심(diazidoglyoxime, DAG) 중간부산물-프리인 것일 수 있다.According to one embodiment, it may be a diazidoglyoxime (DAG) intermediate by-product.

일 실시형태에 따르면, 상기 둔감성-DAG 중간체는, 충격 감도가 1.5 J 내지 19 J이고, 마찰 감도가 5 N 내지 350 N이며, 정전기 감도가 7 m J 내지 50 m J인 것일 수 있다. According to one embodiment, the insensitive-DAG intermediate may have an impact sensitivity of 1.5 J to 19 J, a friction sensitivity of 5 N to 350 N, and an electrostatic sensitivity of 7 m J to 50 m J.

일 실시형태에 따르면, 다이클로로글라이옥심(dichloroglyoxime, DCG)을 합성하는 단계; 상기 DCG을 통해 하기 화학식 2로 표시되는 R-DCG 중간체를 합성하는 단계; 상기 R-DCG 중간체를 통해 둔감성-DAG 중간체를 합성하는 단계; 및 상기 둔감성-DAG 중간체를 통해 TKX-50를 합성하는 단계;를 포함할 수 있다:According to one embodiment, the step of synthesizing dichloroglyoxime (DCG); Synthesizing an R-DCG intermediate represented by Chemical Formula 2 through the DCG; Synthesizing an insensitive-DAG intermediate through the R-DCG intermediate; And synthesizing TKX-50 through the insensitive-DAG intermediate.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112019101610799-pat00002
Figure 112019101610799-pat00002

(여기서, R은 테트라히드로피라닐(Tetrahydropyranyl; THP), 메틸(Methyl; Me), 메톡시메틸(Methoxymethyl; MOM), 메톡시티오메틸(Methoxythiomethyl; MTM), 벤질옥시메틸(Benzyloxymethyl; BOM), 2-메톡시메틸(2-Methoxymethyl; MEM), 2-(트리메틸실릴)에톡시메틸((2-(Trimethylsilyl)ethoxymethyl); SEM), 테트라하이드로푸라닐(Tetrahydrofuranyl; THF), t-부틸(t-Butyl), 알릴(Allyl), 벤질(Benzyl), p-메톡시벤질(p-Methoxybenzyl), 3,4-디메톡시벤질(3,4-Dimethoxybenzyl), o-니트로벤질(o-Nitrobenzyl), p-니트로벤질(p-Nitrobenzyl), 트리페닐메틸(Triphenylmethyl), 트리메틸실릴(Trimethylsilyl; TMS), 트리에틸실릴(Triethylsilyl; TES), 트리이소프로필실릴(Triisopropylsilyl; TIPS), t-부틸디메틸실릴(t-Butyldimethylsilyl; TBDMS), t-부틸디페닐실릴(t-Butyldiphenylsilyl; TBDPS), 디페닐메틸실릴(Diphenylmethylsilyl; DPMS), 디-t-부틸메틸실릴(Di-t-butylmethylsilyl; DTBMS), 아세테이트(Acetate; Ac), 클로로아세테이트(Chloroacetate), 메톡시아세테이트(Methoxyacetate), 트리페닐메톡시아세테이트(Triphenylmethoxyacetate), 피발로에이트(Pivaloate), 벤조에이트(Benzoate) 및 p-톨루엔술포네이트(p-Toluenesulfonate; Ts)로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함함).(Wherein, R is Tetrahydropyranyl (THP), Methyl (Me), Methoxymethyl (MOM), Methoxythiomethyl (Methoxythiomethyl; MTM), Benzyloxymethyl (Benzyloxymethyl; BOM), 2-Methoxymethyl (MEM), 2- (trimethylsilyl) ethoxymethyl ((2- (Trimethylsilyl) ethoxymethyl); SEM), Tetrahydrofuranyl (THF), t-butyl (t -Butyl, Allyl, Benzyl, p-Methoxybenzyl, 3,4-Dimethoxybenzyl, o-Nitrobenzyl, p-Nitrobenzyl, Triphenylmethyl, Trimethylsilyl (TMS), Triethylsilyl (TES), Triisopropylsilyl (TIPS), t-butyldimethylsilyl (TPS) t-Butyldimethylsilyl (TBDMS), t-Butyldiphenylsilyl (TBDPS), Diphenylmethylsilyl (DPMS), Di-t-butylmethylsilyl (DTBMS), Acetate ( Acetate; Ac), Chloroacetate, Methoxyacetate, Triphenylmethoxyacetate, Pivaloate, Benzoate and p-Toluenesulfonate (Ts) It includes at least one selected from the group consisting of).

일 실시형태에 따르면, 상기 다이클로로글라이옥심(dichloroglyoxime, DCG)을 합성하는 단계는, 글라이옥심(glyoxime)을 합성하는 단계; 및 상기 글라이옥심과 N-클로로숙신이미드(N-chlorosuccinimide)를 반응시키는 단계;를 포함하는 것일 수 있다. According to one embodiment, the step of synthesizing the dichloroglyoxime (DCG) comprises: synthesizing a glyoxime; And reacting the glyoxime with N-chlorosuccinimide.

일 실시형태에 따르면, 상기 DCG을 통해 R-DCG중간체를 합성하는 단계는, 상기 DCG와 테트라히드로피라닐(Tetrahydropyranyl; THP), 메틸(Methyl; Me), 메톡시메틸(Methoxymethyl; MOM), 메톡시티오메틸(Methoxythiomethyl; MTM), 벤질옥시메틸(Benzyloxymethyl; BOM), 2-메톡시메틸(2-Methoxymethyl; MEM), 2-(트리메틸실릴)에톡시메틸((2-(Trimethylsilyl)ethoxymethyl); SEM), 테트라하이드로푸라닐(Tetrahydrofuranyl; THF), t-부틸(t-Butyl), 알릴(Allyl), 벤질(Benzyl), p-메톡시벤질(p-Methoxybenzyl), 3,4-디메톡시벤질(3,4-Dimethoxybenzyl), o-니트로벤질(o-Nitrobenzyl), p-니트로벤질(p-Nitrobenzyl), 트리페닐메틸(Triphenylmethyl), 트리메틸실릴(Trimethylsilyl; TMS), 트리에틸실릴(Triethylsilyl; TES), 트리이소프로필실릴(Triisopropylsilyl; TIPS), t-부틸디메틸실릴(t-Butyldimethylsilyl; TBDMS), t-부틸디페닐실릴(t-Butyldiphenylsilyl; TBDPS), 디페닐메틸실릴(Diphenylmethylsilyl; DPMS), 디-t-부틸메틸실릴(Di-t-butylmethylsilyl; DTBMS), 아세테이트(Acetate; Ac), 클로로아세테이트(Chloroacetate), 메톡시아세테이트(Methoxyacetate), 트리페닐메톡시아세테이트(Triphenylmethoxyacetate), 피발로에이트(Pivaloate), 벤조에이트(Benzoate) 및 p-톨루엔술포네이트(p-Toluenesulfonate; Ts)로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 화합물을 반응시켜 수행하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the step of synthesizing the R-DCG intermediate through the DCG, the DCG and tetrahydropyranyl (Tetrahydropyranyl; THP), methyl (Methyl; Me), methoxymethyl (Methoxymethyl; MOM), meth Methoxythiomethyl (MTM), Benzyloxymethyl (BOM), 2-Methoxymethyl (MEM), 2- (trimethylsilyl) ethoxymethyl ((2- (Trimethylsilyl) ethoxymethyl); SEM), Tetrahydrofuranyl (THF), t-Butyl, Allyl, Benzyl, p-Methoxybenzyl, 3,4-dimethoxybenzyl (3,4-Dimethoxybenzyl), o-Nitrobenzyl, p-Nitrobenzyl, Triphenylmethyl, Trimethylsilyl (TMS), Triethylsilyl (TES) ), Triisopropylsilyl (TIPS), t-Butyldimethylsilyl (TBDMS), t-Butyldiphenylsilyl (TBDPS), Diphenylmethylsilyl yl; DPMS), Di-t-butylmethylsilyl (DTBMS), Acetate (Ac), Chloroacetate, Methoxyacetate, Triphenylmethoxyacetate , Pivaloate (Pivaloate), benzoate (Benzoate) and p-toluenesulfonate (p-Toluenesulfonate; Ts) may be carried out by reacting a compound containing at least one selected from the group consisting of.

일 실시형태에 따르면, 상기 DCG을 통해 R-DCG 중간체를 합성하는 단계는, 피리디늄 p-톨루엔술포네이트(Pyrydinium p-toluenesulfonate, PPTS) 촉매 하에서 수행하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the step of synthesizing the R-DCG intermediate through the DCG may be performed under a pyridinium p-toluenesulfonate (Ppyrydinium p-toluenesulfonate, PPTS) catalyst.

일 실시형태에 따르면, 상기 DCG을 통해 R-DCG 중간체를 합성하는 단계는, 상기 DCG, 상기 PPTS 및 상기 화합물을 1 : 0.1 : 5의 몰비로 교반한 후, 반응시켜 수행하는 것일 수 있다. According to one embodiment, the step of synthesizing the R-DCG intermediate through the DCG may be performed by stirring the DCG, the PPTS, and the compound in a molar ratio of 1: 0.1: 5, followed by reaction.

일 실시형태에 따르면, 상기 DCG, 상기 PPTS 및 상기 화합물의 교반은 상온 내지 60 ℃에서 수행하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the stirring of the DCG, the PPTS and the compound may be performed at room temperature to 60 ℃.

일 실시형태에 따르면, 상기 R-DCG 중간체를 통해 둔감성-DAG 중간체를 합성하는 단계는, 아지드화 반응을 통해 수행하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the step of synthesizing the insensitive-DAG intermediate through the R-DCG intermediate may be performed through an azide reaction.

일 실시형태에 따르면, 상기 R-DCG 중간체를 통해 둔감성-DAG 중간체를 합성하는 단계는, 상기 R-DCG 중간체를 아지드화나트륨(sodium azide, NaN3)과 반응시켜 수행하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the step of synthesizing the insensitive-DAG intermediate through the R-DCG intermediate may be performed by reacting the R-DCG intermediate with sodium azide (NaN 3 ).

일 실시형태에 따르면, 상기 R-DCG 중간체 및 상기 아지드화나트륨을 1 : 2 내지 4의 몰비로 교반한 후, 반응시켜 수행하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the R-DCG intermediate and the sodium azide may be carried out by stirring at a molar ratio of 1: 2 to 4, followed by reaction.

일 실시형태에 따르면, 상기 R-DCG 중간체 및 상기 아지드화나트륨의 교반은 95 ℃내지 100 ℃에서 수행하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the agitation of the R-DCG intermediate and the sodium azide may be performed at 95 ° C to 100 ° C.

일 실시형태에 따르면, 상기 둔감성-DAG 중간체를 통해 TKX-50를 합성하는 단계는, 상기 둔감성-DAG 중간체를 염산 수용액과 반응시켜 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올(5,5'-bistetrazole-1,1'-diol)을 합성하는 단계; 및 상기 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올을 히드록실아민(Hydroxylamine)과 반응시켜 TKX-50를 합성하는 단계;를 포함하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the step of synthesizing TKX-50 through the desensitizing-DAG intermediate is by reacting the desensitizing-DAG intermediate with an aqueous hydrochloric acid solution to 5,5'-bistetrazol-1,1'-diol (5 , 5'-bistetrazole-1,1'-diol); And reacting the 5,5'-bistetrazol-1,1'-diol with hydroxylamine to synthesize TKX-50.

일 실시형태에 따르면, 상기 둔감성-DAG 중간체를 염산 수용액과 반응시켜 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올(5,5'-bistetrazole-1,1'-diol)을 합성하는 단계는, 상온의 온도조건에서 상기 둔감성-DAG 중간체 및 상기 염산 수용액을 교반하여 수행하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the insensitive-DAG intermediate is reacted with an aqueous hydrochloric acid solution to synthesize 5,5'-bistetrazol-1,1'-diol (5,5'-bistetrazole-1,1'-diol). The step may be performed by stirring the insensitive-DAG intermediate and the aqueous hydrochloric acid solution at room temperature.

일 실시형태에 따르면, 상기 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올을 히드록실아민(Hydroxylamine)과 반응시켜 TKX-50를 합성하는 단계는, 상기 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올 및 상기 히드록실아민을 1 : 3 내지 50의 몰비로 교반한 후, 반응시켜 수행하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the step of synthesizing TKX-50 by reacting the 5,5'-bistetrazol-1,1'-diol with hydroxylamine is the 5,5'-bistetrazole -1,1'-diol and the hydroxylamine may be carried out by stirring and reacting at a molar ratio of 1: 3 to 50.

일 실시형태에 따르면, 상기 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올 및 상기 히드록실아민의 교반은 40 ℃내지 60 ℃에서 수행하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the stirring of the 5,5'-bistetrazol-1,1'-diol and the hydroxylamine may be performed at 40 ° C to 60 ° C.

본 발명의 일 실시예에 따른 작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법에 의하여, TKX-50 합성 시 합성되어지는 민감한 중간체인 DAG 대신 둔감성이 향상된 중간체인 둔감성-DAG 중간체를 거쳐 충격, 마찰, 정전기에 의한 폭발 및 화재 사고의 위협으로부터 종래 합성 방법에 비해 안전하게 작업할 수 있다. 그리고 HCl 가스를 사용하지 않고 HCl 수용액을 사용함으로써, 안전하고 공정이 용이하다는 장점을 가진다.According to the method for synthesizing TKX-50 using diajiglyoxime with a functional group protected according to an embodiment of the present invention, instead of sensitive intermediate DAG synthesized during synthesis of TKX-50, insensitivity-DAG intermediate, which is an insensitivity improved intermediate Through, it is possible to safely work compared to the conventional synthetic method from the threat of impact, friction, static electricity explosion and fire accident. And by using an aqueous solution of HCl without using HCl gas, it has the advantage of being safe and easy to process.

도 1은 TKX-50의 기존 합성 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시예 1에 따라 합성된 글라이옥심의 NMR 그래프이다.
도 4는 본 발명의 실시예 2에 따라 합성된 DCG의 NMR 그래프이다.
도 5는 본 발명의 실시예 3에 따라 합성된 THP-DCG의 NMR 그래프이다.
도 6은 본 발명의 실시예 4에 따라 합성된 THP-DAG의 NMR 그래프이다.
도 7은 본 발명의 실시예 5에 따라 합성된 TKX-50의 NMR 그래프이다.
1 is a view for explaining the conventional synthesis method of TKX-50.
2 is a view for explaining a method of synthesizing TKX-50 using diajiglyoxime with a functional group protected according to an embodiment of the present invention.
3 is an NMR graph of glyoxime synthesized according to Example 1 of the present invention.
4 is a NMR graph of DCG synthesized according to Example 2 of the present invention.
5 is an NMR graph of THP-DCG synthesized according to Example 3 of the present invention.
6 is a NMR graph of THP-DAG synthesized according to Example 4 of the present invention.
7 is an NMR graph of TKX-50 synthesized according to Example 5 of the present invention.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명한다. 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 용어들은 본 발명의 바람직한 실시예를 적절히 표현하기 위해 사용된 용어들로서, 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 본 발명이 속하는 분야의 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 따라서, 본 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다. 각 도면에 제시된 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In describing the present invention, when it is determined that a detailed description of related known functions or configurations may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description will be omitted. In addition, terms used in the present specification are terms used to properly express a preferred embodiment of the present invention, which may vary according to a user's, operator's intention, or customs in the field to which the present invention pertains. Therefore, definitions of these terms should be made based on the contents throughout the present specification. The same reference numerals in each drawing denote the same members.

명세서 전체에서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.Throughout the specification, when one member is positioned "on" another member, this includes not only the case where one member is in contact with the other member but also another member between the two members.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part “includes” a certain component, it means that the other component may be further included instead of excluding the other component.

이하, 본 발명의 작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법에 대하여 실시예 및 도면을 참조하여 구체적으로 설명하도록 한다. 그러나, 본 발명이 이러한 실시예 및 도면에 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, a method for synthesizing TKX-50 using a diajiglyoxime protected with a functional group of the present invention will be described in detail with reference to examples and drawings. However, the present invention is not limited to these examples and drawings.

본 발명의 일 실시예에 따른 작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법은, 출발물질로 DCG를 준비하는 단계; 상기 DCG로부터 하기 화학식 1로 표시되는 둔감성-DAG 중간체를 형성하는 단계; 및 상기 둔감성-DAG 중간체를 통해 TKX-50을 합성하는 단계;를 포함한다:A method for synthesizing TKX-50 using diajidoglioxime with functional groups protected according to an embodiment of the present invention includes preparing DCG as a starting material; Forming an insensitive-DAG intermediate represented by Formula 1 below from the DCG; And synthesizing TKX-50 through the insensitive-DAG intermediate.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112019101610799-pat00003
Figure 112019101610799-pat00003

(여기서, R은 테트라히드로피라닐(Tetrahydropyranyl; THP), 메틸(Methyl; Me), 메톡시메틸(Methoxymethyl; MOM), 메톡시티오메틸(Methoxythiomethyl; MTM), 벤질옥시메틸(Benzyloxymethyl; BOM), 2-메톡시메틸(2-Methoxymethyl; MEM), 2-(트리메틸실릴)에톡시메틸((2-(Trimethylsilyl)ethoxymethyl); SEM), 테트라하이드로푸라닐(Tetrahydrofuranyl; THF), t-부틸(t-Butyl), 알릴(Allyl), 벤질(Benzyl), p-메톡시벤질(p-Methoxybenzyl), 3,4-디메톡시벤질(3,4-Dimethoxybenzyl), o-니트로벤질(o-Nitrobenzyl), p-니트로벤질(p-Nitrobenzyl), 트리페닐메틸(Triphenylmethyl), 트리메틸실릴(Trimethylsilyl; TMS), 트리에틸실릴(Triethylsilyl; TES), 트리이소프로필실릴(Triisopropylsilyl; TIPS), t-부틸디메틸실릴(t-Butyldimethylsilyl; TBDMS), t-부틸디페닐실릴(t-Butyldiphenylsilyl; TBDPS), 디페닐메틸실릴(Diphenylmethylsilyl; DPMS), 디-t-부틸메틸실릴(Di-t-butylmethylsilyl; DTBMS), 아세테이트(Acetate; Ac), 클로로아세테이트(Chloroacetate), 메톡시아세테이트(Methoxyacetate), 트리페닐메톡시아세테이트(Triphenylmethoxyacetate), 피발로에이트(Pivaloate), 벤조에이트(Benzoate) 및 p-톨루엔술포네이트(p-Toluenesulfonate; Ts)로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함함).(Wherein, R is Tetrahydropyranyl (THP), Methyl (Me), Methoxymethyl (MOM), Methoxythiomethyl (Methoxythiomethyl; MTM), Benzyloxymethyl (Benzyloxymethyl; BOM), 2-Methoxymethyl (MEM), 2- (trimethylsilyl) ethoxymethyl ((2- (Trimethylsilyl) ethoxymethyl); SEM), Tetrahydrofuranyl (THF), t-butyl (t -Butyl, Allyl, Benzyl, p-Methoxybenzyl, 3,4-Dimethoxybenzyl, o-Nitrobenzyl, p-Nitrobenzyl, Triphenylmethyl, Trimethylsilyl (TMS), Triethylsilyl (TES), Triisopropylsilyl (TIPS), t-butyldimethylsilyl (TPS) t-Butyldimethylsilyl (TBDMS), t-Butyldiphenylsilyl (TBDPS), Diphenylmethylsilyl (DPMS), Di-t-butylmethylsilyl (DTBMS), Acetate ( Acetate; Ac), Chloroacetate, Methoxyacetate, Triphenylmethoxyacetate, Pivaloate, Benzoate and p-Toluenesulfonate (Ts) It includes at least one selected from the group consisting of).

상기 화학식 1로 표시되는 둔감성-DAG 중간체는, TKX-50 합성 시 합성되어지는 민감한 중간체인 DAG 대신 둔감성이 향상되기 때문에 이러한 둔감성-DAG 중간체를 거쳐 충격, 마찰, 정전기에 의한 폭발 및 화재 사고의 위협으로부터 종래 합성 방법에 비해 안전하게 작업할 수 있다.The desensitization-DAG intermediate represented by Chemical Formula 1 has an improved desensitization property instead of DAG, a sensitive intermediate synthesized during TKX-50 synthesis. From, it can work safely compared to the conventional synthesis method.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법을 설명하기 위한 도면이다. 이하 도 2를 참조하여, 본 발명의 일 실시시예에 따른 둔감성-DAG 중간체로서 THP-DAG 중간체를 이용한 TKX-50의 합성 방법을 설명한다.2 is a view for explaining a method of synthesizing TKX-50 using diajiglyoxime with a functional group protected according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, a method for synthesizing TKX-50 using a THP-DAG intermediate as an insensitive-DAG intermediate according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 2.

본 발명의 일 실시예에 따른 작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법은, 출발물질로 다이클로로글라이옥심(dichloroglyoxime, 이하 'DCG'로 표기)을 준비하는 단계; 상기 DCG로부터 O,O'-디테트라히드로피라닐 옥살로히드록시모닐 디아지드(O,O'-ditetrahydropyranyl oxalohydroximoyl diazide, 이하 'THP-DAG'로 표기)중간체를 형성하는 단계; 및 상기 THP-DAG 중간체를 통해 디히드록실암모늄 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올레이트(dihydroxylammonium 5,5'-bistetrazole-1,1'-diolate, 이하 'TKX-50'로 표기)를 합성하는 단계;를 포함한다.A method for synthesizing TKX-50 using diajiglyoxime protected with a functional group according to an embodiment of the present invention includes preparing a dichloroglyoxime (hereinafter referred to as 'DCG') as a starting material; Forming an O, O'-ditetrahydropyranyl oxalohydroxymonyl diazide (hereinafter referred to as 'THP-DAG') intermediate from the DCG; And dihydroxylammonium 5,5'-bistetrazole-1,1'-diolate, hereinafter referred to as 'TKX-50' through the THP-DAG intermediate. Synthesis as)).

일 실시형태에 따르면, 다이아지도글라이옥심(diazidoglyoxime, 이하 'DAG'로 표기) 중간부산물-프리인 것일 수 있다.According to one embodiment, diazidoglyoxime (hereinafter referred to as 'DAG') may be an intermediate by-product.

즉, TKX-50 합성 시 민감한 중간체인 DAG 대신 보다 둔감한 둔감성-DAG 중간체를 사용함으로써, 작업자가 보다 안전하게 TKX-50을 합성할 수 있다.That is, by using a more insensitive desensitization-DAG intermediate instead of the sensitive intermediate DAG when synthesizing TKX-50, the worker can synthesize TKX-50 more safely.

일 실시형태에 따르면, 상기 둔감성-DAG 중간체는, 충격 감도가 1.5 J 내지 19 J이고, 마찰 감도가 5 N 내지 350 N이며, 정전기 감도가 7 m J 내지 50 m J인 것일 수 있다. 상기 충격 감도, 마찰 감도 및 정전기 감도는 상기 범위에 제한되지 않으며, DAG보다 둔감하기만 하면 된다 (DAG의 충격감도 1.5 J, 마찰감도 5 N, 정전기 감도 7 mJ 이상).According to one embodiment, the insensitive-DAG intermediate may have an impact sensitivity of 1.5 J to 19 J, a friction sensitivity of 5 N to 350 N, and an electrostatic sensitivity of 7 m J to 50 m J. The impact sensitivity, friction sensitivity, and static electricity sensitivity are not limited to the above range, and only need to be insensitive to DAG (DAG impact sensitivity 1.5 J, friction sensitivity 5 N, electrostatic sensitivity 7 mJ or more).

표 1은 DAG와 둔감성-DAG 중간체의 일 실시예로서 THP-DAG 중간체의 감도 특성을 나타낸 표이다. 구체적으로, THP-DAG 합성 후, 아세토니트릴(acetonitrile) 용매 내에서 37% HCl 용액을 사용하여 5,5´-비스테트라졸-1,1´-디올 디하이드레이트(5,5´-bistetrazole-1,1´-diol dihydrate; 1,1'-BTO)를 합성하고, 용매를 날린 후 one-pot으로 하이드록시아민(hydroxylamine)과 반응시켜, 최종적으로 디하이드록시암모늄 5,5’-비스테트라졸-1,1’-디올레이트(dihydroxylammonium 5,5’-bistetrazole-1,1’-diolate; TKX-50)를 합성하였다. 더욱 자세하게는 THP-DAG를 BAM Fall Hammer, BAM Friction Tester, Electrostatic Spark Sensitivity Tester를 이용하여 충격 감도, 마찰 감도 및 정전기 감도를 측정한 결과이다.Table 1 is a table showing the sensitivity characteristics of the THP-DAG intermediate as an example of the DAG and the insensitive-DAG intermediate. Specifically, after THP-DAG synthesis, 5,5´-bistetrazol-1,1´-diol dihydrate (5,5´-bistetrazole-1) using a 37% HCl solution in acetonitrile solvent , 1´-diol dihydrate; 1,1'-BTO) is synthesized, the solvent is blown and reacted with hydroxyamine in one-pot, finally dihydroxyammonium 5,5'-bistetrazole -1,1'-diolate (dihydroxylammonium 5,5'-bistetrazole-1,1'-diolate; TKX-50) was synthesized. In more detail, THP-DAG is a result of measuring impact sensitivity, friction sensitivity, and electrostatic sensitivity using BAM Fall Hammer, BAM Friction Tester, and Electrostatic Spark Sensitivity Tester.

충격감도
[J]
Shock sensitivity
[J]
마찰감도
[N]
Friction sensitivity
[N]
정전기감도
[mJ]
Static sensitivity
[mJ]
DAGDAG 1.51.5 < 5<5 77 THP-DAGTHP-DAG 19.9519.95 352.8352.8 5050

상기 표 1을 참조하면, THP-DAG의 충격 감도는 19.95 J, 마찰 감도는 352.8 N, 정전기 감도는 50 mJ로 DAG 보다 휠씬 둔감한 것을 확인하였다. 특히 THP-DAG의 충격/마찰 감도는 기존에 사용 중인 고에너지 물질 보다도 휠씬 둔감한 특성을 가지고 있으며, THP-DAG 취급 시 충격/마찰/정전기에 의한 폭발 및 화재 사고의 위협으로부터 기존의 합성 방법을 이용하는 것보다 안전하게 작업할 수 있다.일 실시형태에 따르면, 다이클로로글라이옥심(dichloroglyoxime, DCG)을 합성하는 단계; 상기 DCG을 통해 하기 화학식 2로 표시되는 R-DCG 중간체를 합성하는 단계; 상기 R-DCG 중간체를 통해 둔감성-DAG 중간체를 합성하는 단계; 및 상기 둔감성-DAG 중간체를 통해 TKX-50를 합성하는 단계;를 포함한다:Referring to Table 1, it was confirmed that the impact sensitivity of THP-DAG was 19.95 J, the friction sensitivity was 352.8 N, and the electrostatic sensitivity was 50 mJ, which was much insensitive than DAG. In particular, the impact / friction sensitivity of THP-DAG has a much less sensitive characteristic than the high-energy materials currently in use, and when handling THP-DAG, the existing synthesis method is prevented from the threat of explosion / fire accidents due to impact / friction / electrostatics. It is possible to work more safely than using. According to one embodiment, the step of synthesizing dichloroglyoxime (DCG); Synthesizing an R-DCG intermediate represented by Chemical Formula 2 through the DCG; Synthesizing an insensitive-DAG intermediate through the R-DCG intermediate; And synthesizing TKX-50 through the insensitive-DAG intermediate.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112019101610799-pat00004
Figure 112019101610799-pat00004

(여기서, R은 테트라히드로피라닐(Tetrahydropyranyl; THP), 메틸(Methyl; Me), 메톡시메틸(Methoxymethyl; MOM), 메톡시티오메틸(Methoxythiomethyl; MTM), 벤질옥시메틸(Benzyloxymethyl; BOM), 2-메톡시메틸(2-Methoxymethyl; MEM), 2-(트리메틸실릴)에톡시메틸((2-(Trimethylsilyl)ethoxymethyl); SEM), 테트라하이드로푸라닐(Tetrahydrofuranyl; THF), t-부틸(t-Butyl), 알릴(Allyl), 벤질(Benzyl), p-메톡시벤질(p-Methoxybenzyl), 3,4-디메톡시벤질(3,4-Dimethoxybenzyl), o-니트로벤질(o-Nitrobenzyl), p-니트로벤질(p-Nitrobenzyl), 트리페닐메틸(Triphenylmethyl), 트리메틸실릴(Trimethylsilyl; TMS), 트리에틸실릴(Triethylsilyl; TES), 트리이소프로필실릴(Triisopropylsilyl; TIPS), t-부틸디메틸실릴(t-Butyldimethylsilyl; TBDMS), t-부틸디페닐실릴(t-Butyldiphenylsilyl; TBDPS), 디페닐메틸실릴(Diphenylmethylsilyl; DPMS), 디-t-부틸메틸실릴(Di-t-butylmethylsilyl; DTBMS), 아세테이트(Acetate; Ac), 클로로아세테이트(Chloroacetate), 메톡시아세테이트(Methoxyacetate), 트리페닐메톡시아세테이트(Triphenylmethoxyacetate), 피발로에이트(Pivaloate), 벤조에이트(Benzoate) 및 p-톨루엔술포네이트(p-Toluenesulfonate; Ts)로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함함).(Wherein, R is Tetrahydropyranyl (THP), Methyl (Me), Methoxymethyl (MOM), Methoxythiomethyl (Methoxythiomethyl; MTM), Benzyloxymethyl (Benzyloxymethyl; BOM), 2-Methoxymethyl (MEM), 2- (trimethylsilyl) ethoxymethyl ((2- (Trimethylsilyl) ethoxymethyl); SEM), Tetrahydrofuranyl (THF), t-butyl (t -Butyl, Allyl, Benzyl, p-Methoxybenzyl, 3,4-Dimethoxybenzyl, o-Nitrobenzyl, p-Nitrobenzyl, Triphenylmethyl, Trimethylsilyl (TMS), Triethylsilyl (TES), Triisopropylsilyl (TIPS), t-butyldimethylsilyl (TPS) t-Butyldimethylsilyl (TBDMS), t-Butyldiphenylsilyl (TBDPS), Diphenylmethylsilyl (DPMS), Di-t-butylmethylsilyl (DTBMS), Acetate ( Acetate; Ac), Chloroacetate, Methoxyacetate, Triphenylmethoxyacetate, Pivaloate, Benzoate and p-Toluenesulfonate (Ts) It includes at least one selected from the group consisting of).

일 실시형태에 따르면, THP-DCG 중간체 및 THP-DAG 중간체를 이용하는 경우, 다이클로로글라이옥심(dichloroglyoxime, DCG)을 합성하는 단계; 상기 DCG을 통해 O,O'-디테트라히드로피라닐 옥살로히드록시모닐 디클로라이드(O,O'-ditetrahydropyranyl oxalohydroximoyl dichloride, 이하 'THP-DCG'로 표기)를 합성하는 단계; 상기 THP-DCG를 통해 THP-DAG를 합성하는 단계; 및 상기 THP-DAG를 통해 TKX-50를 합성하는 단계;를 포함할 수 있다.According to an embodiment, when using the THP-DCG intermediate and the THP-DAG intermediate, synthesizing a dichloroglyoxime (DCG); Synthesizing O, O'-ditetrahydropyranyl oxalohydroxymonyl dichloride (O, O'-ditetrahydropyranyl oxalohydroximoyl dichloride, hereinafter referred to as 'THP-DCG') through the DCG; Synthesizing THP-DAG through the THP-DCG; And synthesizing TKX-50 through the THP-DAG.

일 실시형태에 따르면, 상기 다이클로로글라이옥심(dichloroglyoxime, DCG)을 합성하는 단계는, 글라이옥심(glyoxime)을 합성하는 단계; 및 상기 글라이옥심과 N-클로로숙신이미드(N-chlorosuccinimide)를 반응시키는 단계;를 포함하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the step of synthesizing the dichloroglyoxime (DCG) comprises: synthesizing a glyoxime; And reacting the glyoxime with N-chlorosuccinimide.

일 실시형태에 따르면, 상기 DCG을 통해 R-DCG 중간체를 합성하는 단계는, 상기 DCG와 테트라히드로피라닐(Tetrahydropyranyl; THP), 메틸(Methyl; Me), 메톡시메틸(Methoxymethyl; MOM), 메톡시티오메틸(Methoxythiomethyl; MTM), 벤질옥시메틸(Benzyloxymethyl; BOM), 2-메톡시메틸(2-Methoxymethyl; MEM), 2-(트리메틸실릴)에톡시메틸((2-(Trimethylsilyl)ethoxymethyl); SEM), 테트라하이드로푸라닐(Tetrahydrofuranyl; THF), t-부틸(t-Butyl), 알릴(Allyl), 벤질(Benzyl), p-메톡시벤질(p-Methoxybenzyl), 3,4-디메톡시벤질(3,4-Dimethoxybenzyl), o-니트로벤질(o-Nitrobenzyl), p-니트로벤질(p-Nitrobenzyl), 트리페닐메틸(Triphenylmethyl), 트리메틸실릴(Trimethylsilyl; TMS), 트리에틸실릴(Triethylsilyl; TES), 트리이소프로필실릴(Triisopropylsilyl; TIPS), t-부틸디메틸실릴(t-Butyldimethylsilyl; TBDMS), t-부틸디페닐실릴(t-Butyldiphenylsilyl; TBDPS), 디페닐메틸실릴(Diphenylmethylsilyl; DPMS), 디-t-부틸메틸실릴(Di-t-butylmethylsilyl; DTBMS), 아세테이트(Acetate; Ac), 클로로아세테이트(Chloroacetate), 메톡시아세테이트(Methoxyacetate), 트리페닐메톡시아세테이트(Triphenylmethoxyacetate), 피발로에이트(Pivaloate), 벤조에이트(Benzoate) 및 p-톨루엔술포네이트(p-Toluenesulfonate; Ts)로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 화합물을 반응시켜 수행하는 것일 수 있다. According to one embodiment, the step of synthesizing the R-DCG intermediate through the DCG, the DCG and tetrahydropyranyl (Tetrahydropyranyl; THP), methyl (Methyl; Me), methoxymethyl (Methoxymethyl; MOM), meth Methoxythiomethyl (MTM), Benzyloxymethyl (BOM), 2-Methoxymethyl (MEM), 2- (trimethylsilyl) ethoxymethyl ((2- (Trimethylsilyl) ethoxymethyl); SEM), Tetrahydrofuranyl (THF), t-Butyl, Allyl, Benzyl, p-Methoxybenzyl, 3,4-dimethoxybenzyl (3,4-Dimethoxybenzyl), o-Nitrobenzyl, p-Nitrobenzyl, Triphenylmethyl, Trimethylsilyl (TMS), Triethylsilyl (TES) ), Triisopropylsilyl (TIPS), t-Butyldimethylsilyl (TBDMS), t-Butyldiphenylsilyl (TBDPS), Diphenylmethylsiyl lyl; DPMS), di-t-butylmethylsilyl (DTBMS), acetate (Ac), chloroacetate (Methoxyacetate), triphenylmethoxyacetate , Pivaloate (Pivaloate), benzoate (Benzoate) and p-toluenesulfonate (p-Toluenesulfonate; Ts) may be carried out by reacting a compound containing at least one selected from the group consisting of.

일 실시형태에 따르면, 상기 DCG을 통해 R-DCG 중간체를 합성하는 단계는, 피리디늄 p-톨루엔술포네이트(Pyrydinium p-toluenesulfonate, PPTS) 촉매 하에서 수행하는 것일 수 있다. 상기에서 촉매를 PPTS 촉매로 한정하였지만, PPTS가 아닌 다른 촉매를 사용할 수도 있다.According to one embodiment, the step of synthesizing the R-DCG intermediate through the DCG may be performed under a pyridinium p-toluenesulfonate (Ppyrydinium p-toluenesulfonate, PPTS) catalyst. In the above, the catalyst was limited to a PPTS catalyst, but other catalysts other than PPTS may be used.

본 발명에서는, 예를 들어, 상기 DCG을 통해 R-DCG 중간체를 합성하는 단계는, 피리디늄 p-톨루엔술포네이트(PPTS) 촉매 하에서 상기 DCG와 3,4-다이하이드로-2H-피란(3,4-dihydro-2H-pyran, DHP)을 반응시켜 수행하는 것일 수 있다.In the present invention, for example, the step of synthesizing the R-DCG intermediate through the DCG, the DCG and 3,4-dihydro-2H-pyran (3, under pyridinium p-toluenesulfonate (PPTS) catalyst) 4-dihydro-2H-pyran, DHP).

일 실시형태에 따르면, 상기 DCG을 통해 R-DCG 중간체를 합성하는 단계는, 상기 DCG 및 상기 PPTS 및 상기 화합물을 1 : 0.1 : 5의 몰비로 교반한 후, 반응시켜 수행하는 것일 수 있다. 바람직하게는, 1 : 0.1 : 5의 몰비로 교반한 후, 반응시켜 수행하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the step of synthesizing the R-DCG intermediate through the DCG may be performed by stirring the DCG and the PPTS and the compound in a molar ratio of 1: 0.1: 5, followed by reaction. Preferably, after stirring at a molar ratio of 1: 0.1: 5, it may be performed by reacting.

상기 몰비를 벗어날 경우, 수율이 감소하거나 불순물이 많아지는 문제점이 발생할 수 있다.If it exceeds the molar ratio, there may be a problem that the yield decreases or impurities increase.

일 실시형태에 따르면, 상기 DCG, 상기 PPTS 및 상기 화합물의 교반은 상온 내지 60 ℃에서 수행하는 것일 수 있다. 상온을 벗어난 온도조건에서 교반 시 부반응이 일어날 수 있다. 바람직하게는, 50 ℃에서 수행하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the stirring of the DCG, the PPTS and the compound may be performed at room temperature to 60 ℃. Side reactions may occur when stirring under a temperature condition outside the room temperature. Preferably, it may be carried out at 50 ℃.

바람직한 일 예로, 상기 DCG을 통해 THP-DCG를 합성하는 단계는, 1) 반응기에 DCG 2.98 g (18.98 mmol), DCM 35 mL, PPTS 0.498 g (1.98 mmol), 3,4-디하이드로-2H-피란(3,4-dihydro-2H-pyran, DHP) 8.298 g (98.65 mmol) 투입 후 50 ℃에서 3 시간 교반하는 단계, 2)디에틸에테르 200 mL을 투입한 후 반응액을 분별 깔때기로 옮기고 NaHCO3 포화용액 150 mL, NaCl 포화용액 150 mL 그리고 증류수 150 mL로 씻어주고 용매를 감압증류하여 THP-DCG를 수득하는 단계를 포함하는 것일 수 있다.As a preferred example, the step of synthesizing THP-DCG through the DCG is: 1) DCG 2.98 g (18.98 mmol), DCM 35 mL, PPTS 0.498 g (1.98 mmol), 3,4-dihydro-2H- in the reactor. After introducing pyran (3,4-dihydro-2H-pyran, DHP) 8.298 g (98.65 mmol) and stirring at 50 ° C. for 3 hours, 2) 200 mL of diethyl ether was added and the reaction solution was transferred to a separatory funnel and NaHCO was added. 3 150 mL of saturated solution, 150 mL of NaCl saturated solution and 150 mL of distilled water may be washed, and the solvent may be distilled under reduced pressure to obtain THP-DCG.

일 실시형태에 따르면, 상기 R-DCG 중간체를 통해 둔감성-DAG 중간체를 합성하는 단계는, 아지드화 반응을 통해 수행하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the step of synthesizing the insensitive-DAG intermediate through the R-DCG intermediate may be performed through an azide reaction.

일 실시형태에 따르면, 상기 R-DCG 중간체를 통해 둔감성-DAG 중간체를 합성하는 단계는, 상기 R-DCG 중간체를 아지드화나트륨(sodium azide, NaN3)과 반응시켜 수행하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the step of synthesizing the insensitive-DAG intermediate through the R-DCG intermediate may be performed by reacting the R-DCG intermediate with sodium azide (NaN 3 ).

일 실시형태에 따르면, 상기 R-DCG 중간체 및 상기 아지드화나트륨을 1 : 2 내지 4 의 몰비로 교반한 후, 반응시켜 수행하는 것일 수 있다. 바람직하게는, 1 : 3 의 몰비로 교반한 후, 반응시켜 수행하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the R-DCG intermediate and the azide agitation may be performed by stirring the mixture at a molar ratio of 1: 2 to 4. Preferably, after stirring at a molar ratio of 1: 3, it may be performed by reacting.

상기 몰비를 벗어날 경우, 수율이 감소하거나 불순물이 많아지는 문제점이 발생할 수 있다.If it exceeds the molar ratio, there may be a problem that the yield decreases or impurities increase.

일 실시형태에 따르면, 상기 R-DCG 중간체 및 상기 아지드화나트륨의 교반은 95 ℃내지 100 ℃에서 수행하는 것일 수 있다. 95 ℃내지 100 ℃를 벗어난 온도조건에서 교반 시 반응이 덜 진행되어 수율이 감소하거나 부반응이 진행되는 문제점이 발생할 수 있다.According to one embodiment, the agitation of the R-DCG intermediate and the sodium azide may be performed at 95 ° C to 100 ° C. When stirring at a temperature condition outside 95 ° C to 100 ° C, the reaction proceeds less and the yield may decrease or a side reaction may occur.

바람직한 일 예로, 상기 THP-DCG를 통해 THP-DAG를 합성하는 단계는, 1) THP-DCG 5 g (15.4 mmol), DMF 100 mL, NaN3 3.0 g (46.2 mmol)를 투입한 후, 반응기 내부 온도를 100 ℃로 승온하여 2 시간 동안 교반한 후 상온으로 냉각하는 단계 및 2) 증류수 100 mL를 투입하여 THP-DAG를 석출시키고 여과하여 THP-DAG를 수득하는 단계를 포함하는 것일 수 있다.As a preferred example, the step of synthesizing THP-DAG through THP-DCG is: 1) 5 g (15.4 mmol) of THP-DCG, 100 mL of DMF, and 3.0 g (46.2 mmol) of NaN3 are added, and the temperature inside the reactor The temperature may be increased to 100 ° C. and stirred for 2 hours, followed by cooling to room temperature, and 2) adding 100 mL of distilled water to precipitate THP-DAG and filtering to obtain THP-DAG.

일 실시형태에 따르면, 상기 둔감성-DAG 중간체를 통해 TKX-50를 합성하는 단계는, 상기 둔감성-DAG 중간체를 염산 수용액과 반응시켜 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올(5,5'-bistetrazole-1,1'-diol)을 합성하는 단계; 및 상기 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올을 히드록실아민(Hydroxylamine)과 반응시켜 TKX-50를 합성하는 단계;를 포함하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the step of synthesizing TKX-50 through the desensitizing-DAG intermediate is by reacting the desensitizing-DAG intermediate with an aqueous hydrochloric acid solution to 5,5'-bistetrazol-1,1'-diol (5 , 5'-bistetrazole-1,1'-diol); And reacting the 5,5'-bistetrazol-1,1'-diol with hydroxylamine to synthesize TKX-50.

일 실시형태에 따르면, 상기 둔감성-DAG를 산성 수용액에서 반응시키면, R기가 떨어진 채로 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올이 얻어질 수 있고, 또 다른 경우에는 R기가 붙은 5,5'-비스테트라졸-1,1'-프로텍티드 디올(5-5'-bistetrazole-1,1'-protected diol)이 얻어질 수 있다. R기가 붙은 5,5'-비스테트라졸-1,1'-프로텍티드 디올의 경우 R기를 제거해주는 반응이 추가될 수 있다.According to one embodiment, when the desensitization-DAG is reacted in an acidic aqueous solution, 5,5'-bistetrazol-1,1'-diol can be obtained with R groups separated, and in other cases, 5 with R groups attached. , 5'-bistetrazol-1,1'-protected diol (5-5'-bistetrazole-1,1'-protected diol) can be obtained. In the case of the 5,5'-bistetrazol-1,1'-protected diol with an R group, a reaction for removing the R group may be added.

일 실시형태에 따르면, 상기 둔감성-DAG 중간체를 염산 수용액과 반응시켜 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올(5,5'-bistetrazole-1,1'-diol, 1,1'-BTO)을 합성하는 단계는, 상온의 온도조건에서 상기 둔감성-DAG 중간체 및 상기 염산 수용액을 교반하여 수행하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the insensitive-DAG intermediate is reacted with an aqueous hydrochloric acid solution to form 5,5'-bistetrazol-1,1'-diol (5,5'-bistetrazole-1,1'-diol, 1,1). The step of synthesizing '-BTO) may be performed by stirring the insensitive-DAG intermediate and the aqueous hydrochloric acid solution under normal temperature conditions.

바람직한 일 예로, THP-DAG를 염산 수용액과 반응시켜 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올(5,5'-bistetrazole-1,1'-diol)을 합성하는 단계는, 1) 상온에서 반응기에 THP-DAG 0.5 g (1.47 mmol), 아세토니트릴(acetonitrile) 50 mL를 투입한 후, 37% HCl 용액 1.0 mL (12.1 mmol)를 넣어 주는 단계 2) 반응기를 밀폐하고, 상온에서 24 시간 교반하는 단계 및 3) 아세토니트릴과 HCl 용액을 공기로 불어 제거하여 1,1'-BTO를 석출하는 단계를 포함하는 것일 수 있다.As a preferred example, the step of synthesizing 5,5'-bistetrazol-1,1'-diol (5,5'-bistetrazole-1,1'-diol) by reacting THP-DAG with an aqueous hydrochloric acid solution is 1 ) 0.5 g (1.47 mmol) of THP-DAG and 50 mL of acetonitrile are added to the reactor at room temperature, and then 1.0 mL (12.1 mmol) of 37% HCl solution is added. 2) The reactor is sealed and at room temperature. It may be a step of stirring for 24 hours and 3) by removing acetonitrile and HCl solution by blowing with air to precipitate 1,1'-BTO.

일 실시형태에 따르면, 상기 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올을 히드록실아민(Hydroxylamine)과 반응시켜 TKX-50를 합성하는 단계는, 상기 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올 및 상기 히드록실아민을 바람직하게는, 1 : 3 내지 50의 몰비로 교반한 후, 반응시켜 수행하는 것일 수 있다. 바람직하게는, 1 : 44 의 몰비로 교반한 후, 반응시켜 수행하는 것일 수 있다.According to one embodiment, the step of synthesizing TKX-50 by reacting the 5,5'-bistetrazol-1,1'-diol with hydroxylamine is the 5,5'-bistetrazole The -1,1'-diol and the hydroxylamine are preferably stirred at a molar ratio of 1: 3 to 50, and then reacted. Preferably, after stirring at a molar ratio of 1:44, it may be performed by reacting.

상기 중량비를 벗어날 경우, 반응 수율이 감소하거나 불순물이 많아지는 문제점이 발생할 수 있다.If the weight ratio is exceeded, a problem may occur that a reaction yield decreases or impurities increase.

일 실시형태에 따르면, 상기 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올 및 상기 히드록실아민의 교반은 40 ℃내지 60 ℃에서 수행하는 것일 수 있다. 바람직하게는, 50 ℃에서 수행하는 것일 수 있다. 40 ℃내지 60 ℃를 벗어난 온도조건에서 교반 시 반응 수율이 감소하거나 불순물이 많아지는 문제점이 발생할 수 있다.According to one embodiment, the stirring of the 5,5'-bistetrazol-1,1'-diol and the hydroxylamine may be performed at 40 ° C to 60 ° C. Preferably, it may be carried out at 50 ℃. When stirring under a temperature condition out of 40 ° C to 60 ° C, a reaction yield may decrease or a problem in which impurities are increased.

바람직한 일 예로, 상기 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올을 히드록실아민(Hydroxylamine)과 반응시켜 TKX-50를 합성하는 단계는, 1) 1,1'-BTO 가 있는 반응기에 증류수 10 mL를 투입한 후 50 ℃로 승온하고, NH2OH (50% w/w in H2O) 4.0 mL (65.3 mmol)을 투입하는 단계 및 2) 30 분간 50 ℃에서 교반한 후 상온으로 냉각하면 TKX-50이 석출되고, 이후 여과 및 건조하여 TKX-50를 수득하는 단계를 포함하는 것일 수 있다.As a preferred example, the step of synthesizing TKX-50 by reacting the 5,5'-bistetrazol-1,1'-diol with hydroxylamine is: 1) a reactor with 1,1'-BTO 10 mL of distilled water was added to the mixture, and the temperature was increased to 50 ° C., and 4.0 mL (65.3 mmol) of NH 2 OH (50% w / w in H 2 O) was added. 2) After stirring for 30 minutes at 50 ° C. When cooled to TKX-50 is precipitated, and then filtered and dried may be to include the step of obtaining TKX-50.

본 발명의 일 실시예에 따른 작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법에 의하여, TKX-50 합성 시 합성되어지는 민감한 중간체인 DAG 대신 둔감성이 향상된 중간체인 둔감성-DAG 중간체를 거쳐 충격, 마찰, 정전기에 의한 폭발 및 화재 사고의 위협으로부터 종래 합성 방법에 비해 안전하게 작업할 수 있다. 그리고, HCl 가스를 사용하지 않고 HCl 수용액을 사용함으로써, 안전하고 공정이 용이하다는 장점을 가진다.According to the method for synthesizing TKX-50 using diajiglyoxime with a functional group protected according to an embodiment of the present invention, instead of sensitive intermediate DAG synthesized during synthesis of TKX-50, insensitivity-DAG intermediate, which is an insensitivity improved intermediate Through, it is possible to safely work compared to the conventional synthetic method from the threat of impact, friction, static electricity explosion and fire accident. And, by using an aqueous solution of HCl without using HCl gas, it has the advantage of being safe and easy to process.

이하, 실시예 및 비교예에 의하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하고자 한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by examples and comparative examples.

단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.However, the following examples are only for illustrating the present invention, and the contents of the present invention are not limited to the following examples.

[실시예][Example]

재료 및 특성 분석Material and characterization

모든 화학물질은 Acros 또는 Aldrich Organics에서 얻은 순수 분석 등급의 재료로 수신되었다. 1H 및 13C NMR 스펙트럼은 용매로서 DMSO-d6 또는 CDCl3을 사용하는 400 MHz (Bruker AVANCE 400) 핵 자기 공명 분광계(Nuclear Magnetic Resonance)에서 발견되었다. 분석적 박막 크로마토그래피(Analytical thin layer chromatography; TLC)를 E. Merck 예비-코팅된 TLC 플레이트, 층 두께 0.25 mm, 실리카 겔 60F-254인 것으로 수행하였다. 전기분무 이온화(electrospray ionization) 기술을 가진 microTOF-QII HRMS/MS 기기 (Bruker)에서 고해상도 질량 스펙트럼을 획득하였다. BAM Fallhammer 기기 (OZM)를 사용하여 STANAG 4489 수정 지침에 따라 충격 감도 테스트를 수행했다. 마찰 민감도 테스트는 BAM 마찰 테스터 (OZM)를 사용하여 STANAG 4487 수정 명령에 따라 수행되었다. 정전기 방전(electrostatic discharge) 테스트는 ESD 테스트 기기 (OZM)를 사용하여 STANAG 4490에 따라 수행되었다.All chemicals were received in pure analytical grade material from Acros or Aldrich Organics. 1 H and 13 C NMR spectra were found on a 400 MHz (Bruker AVANCE 400) Nuclear Magnetic Resonance Spectrometer using DMSO-d 6 or CDCl 3 as a solvent. Analytical thin layer chromatography (TLC) was performed with E. Merck pre-coated TLC plate, layer thickness 0.25 mm, silica gel 60F-254. High resolution mass spectra were obtained on a microTOF-QII HRMS / MS instrument (Bruker) with electrospray ionization technology. Impact sensitivity tests were performed using a BAM Fallhammer instrument (OZM) according to the STANAG 4489 revision instructions. The friction sensitivity test was performed according to the STANAG 4487 modification instruction using a BAM friction tester (OZM). Electrostatic discharge testing was performed according to STANAG 4490 using an ESD test instrument (OZM).

실시예 1: 글라이옥심의 합성Example 1: Synthesis of glyoxime

NaOH 18.4 g (0.46 mol), 증류수 50 mL을 반응기에 투입하고 0 ℃로 냉각하며 하이드로암모늄 클로라이드(hydroxylammonium chloride) 46 g (0.66 mol)를 반응기에 투입하였다. 이후 0~10 ℃를 유지하며 40% 글리옥살(glyoxal) 수용액 47.9 g (0.33 mol)을 반응기에 투입하였다. 반응기 내부 온도를 0 ℃로 유지하며 1 시간 동안 교반한 후 고체가 생성되면 여과하고 소량의 얼음물로 세척하였다. 이후 건조하여 글라이옥심(glyoxime) 24.7 g (0.28 mol, 85%)를 수득하였다.NaOH 18.4 g (0.46 mol), 50 mL of distilled water was added to the reactor, cooled to 0 ° C., and 46 g (0.66 mol) of hydroammonium chloride was added to the reactor. Subsequently, 47.9 g (0.33 mol) of 40% glyoxal aqueous solution was added to the reactor while maintaining 0 to 10 ° C. The inside temperature of the reactor was maintained at 0 ° C. and stirred for 1 hour, and when a solid was formed, filtered and washed with a small amount of ice water. After drying, 24.7 g (0.28 mol, 85%) of glyoxime was obtained.

1H NMR (DMSO-d6): 7.73 (s, 2H, CH), 11.61 (s, 2H, OH); 13C NMR (DMSO-d6): 145.82 1 H NMR (DMSO-d 6 ): 7.73 (s, 2H, CH), 11.61 (s, 2H, OH); 13 C NMR (DMSO-d 6 ): 145.82

실시예 2: 글라이옥심을 통한 DCG의 합성Example 2: Synthesis of DCG via glyoxime

글라이옥심(Glyoxime) 18 g (0.20 mol), DMF 180 mL을 반응기에 투입 후 0 ℃로 냉각하고, 천천히 N-클로로숙신이미드(N-chlorosuccinimide, NCS) 54.5 g (0.40 mol)을 반응기에 투입하였다. 이후 반응기 내부를 0 ℃로 유지하며 30 분 동안 교반하고, 천천히 25 ℃로 승온하여 1 시간 동안 교반하였다. 이후 증류수 200 mL 투입한 후 반응액을 분별 깔때기로 옮겨 EA 200 mL과 증류수 (150 mL x 3회)로 추출하였다. 얻어진 유기층을 감압 증류 후 crude DCG를 얻었다. 얻어진 crude DCG와 MC 100 mL를 반응기에 투입하고 상온에서 1 시간 교반 후 여과하였다. 이후 건조하여 DCG 25.4 g (0.16 mol, 81%)를 수득하였다.Glyoxime (Glyoxime) 18 g (0.20 mol), 180 mL of DMF was added to the reactor, cooled to 0 ° C., and 54.5 g (0.40 mol) of N-chlorosuccinimide (NCS) was slowly added to the reactor. Input. Thereafter, the inside of the reactor was maintained at 0 ° C and stirred for 30 minutes, and then slowly heated to 25 ° C and stirred for 1 hour. After adding 200 mL of distilled water, the reaction solution was transferred to a separatory funnel and extracted with 200 mL of EA and distilled water (150 mL x 3 times). The obtained organic layer was distilled under reduced pressure to obtain crude DCG. 100 mL of the obtained crude DCG and MC were added to the reactor, stirred at room temperature for 1 hour, and filtered. After drying, DCG 25.4 g (0.16 mol, 81%) was obtained.

1H NMR (DMSO-d6): 13.10 (s, 2H, OH); 13C NMR (DMSO-d6): 130.86 1 H NMR (DMSO-d 6 ): 13.10 (s, 2H, OH); 13 C NMR (DMSO-d 6 ): 130.86

실시예 3: DCG을 통한 THP-DCG의 합성Example 3: Synthesis of THP-DCG via DCG

반응기에 DCG 2.98 g (18.98 mmol), DCM 35 mL, PPTS 0.498 g (1.98 mmol), 3,3-디하이드로-2H-피란(3,4-dihydro-2H-pyran, DHP) 8.298 g (98.65 mmol) 투입 후 상온에서 3 시간 교반하였다. 이후 디에틸에테르 200 mL을 투입한 후 반응액을 분별 깔때기로 옮기고 NaHCO3 포화용액 150 mL, NaCl 포화용액 150 mL 그리고 증류수 150 mL로 씻어주었다. 이후 용매를 감압증류하여 THP-DCG 4.34g (13.28 mmol, 70%)를 수득하였다.To the reactor, 2.98 g (18.98 mmol) of DCG, 35 mL of DCM, 0.498 g (1.98 mmol) of PPTS, 3,3-dihydro-2H-pyran (3,4-dihydro-2H-pyran, DHP) 8.298 g (98.65 mmol) ) After stirring, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Then, after adding 200 mL of diethyl ether, the reaction solution was transferred to a separatory funnel, washed with 150 mL of saturated NaHCO 3 solution, 150 mL of NaCl saturated solution, and 150 mL of distilled water. Then, the solvent was distilled under reduced pressure to obtain 4.34 g (13.28 mmol, 70%) of THP-DCG.

1H NMR (CDCl3): 1.64 (m, 8H, CH2), 1.86 (m, 4H, CH2), 3.75 (m, 4H, CH2), 5.52 (m, 2H, CH); 13C NMR (CDCl3): 18.80, 18.83, 25.16, 28.45, 28.47, 62.54, 62.62, 102.30, 102.36, 133.91, 133.96 1 H NMR (CDCl 3 ): 1.64 (m, 8H, CH 2 ), 1.86 (m, 4H, CH 2 ), 3.75 (m, 4H, CH 2 ), 5.52 (m, 2H, CH); 13 C NMR (CDCl 3 ): 18.80, 18.83, 25.16, 28.45, 28.47, 62.54, 62.62, 102.30, 102.36, 133.91, 133.96

실시예 4: THP-DCG을 통한 THP-DAG의 합성Example 4: Synthesis of THP-DAG via THP-DCG

반응기에 THP-DCG 5 g (15.4 mmol), DMF 100 mL, NaN3 3.0 g (46.2 mmol)를 투입하였다. 반응기 내부 온도를 100 ℃로 승온하여 2 시간 동안 교반한 후 상온으로 냉각하였다. 이후 증류수 100 mL를 투입하여 THP-DAG를 석출시키고 여과하여 THP-DAG 4.11 g (12.166 mmol, 79%)을 수득하였다.To the reactor, 5 g (15.4 mmol) of THP-DCG, 100 mL of DMF, and 3.0 g (46.2 mmol) of NaN3 were added. The temperature inside the reactor was raised to 100 ° C., stirred for 2 hours, and then cooled to room temperature. Then, 100 mL of distilled water was added to precipitate THP-DAG and filtered to obtain 4.11 g (12.166 mmol, 79%) of THP-DAG.

1H NMR (CDCl3): 1.63 (m, 8H, CH2), 1.80 (m, 4H, CH2), 3.75 (m, 4H, CH2), 5.34 (m, 2H, CH); 13C NMR (CDCl3): 18.37, 18.45, 24.79, 28.01, 28.06, 62.10, 62.26, 101.72, 101.81, 137.80, 137.82; 충격감도: 19.95 J, 마찰감도: 352.8 N, 정전기 감도: 50 mJ 1 H NMR (CDCl 3 ): 1.63 (m, 8H, CH 2 ), 1.80 (m, 4H, CH 2 ), 3.75 (m, 4H, CH 2 ), 5.34 (m, 2H, CH); 13 C NMR (CDCl 3 ): 18.37, 18.45, 24.79, 28.01, 28.06, 62.10, 62.26, 101.72, 101.81, 137.80, 137.82; Impact sensitivity: 19.95 J, friction sensitivity: 352.8 N, electrostatic sensitivity: 50 mJ

실시예 5: THP-DAG을 통한 1,1'-BTO의 합성 및 1,1'-BTO의 합성을 통한 TKX-50의 합성Example 5: Synthesis of 1,1'-BTO via THP-DAG and TKX-50 through synthesis of 1,1'-BTO

상온에서 반응기에 THP-DAG 0.5 g (1.47 mmol), 아세토니트릴(acetonitrile) 50 mL를 투입한 후, 37% HCl 용액 1.0 mL (12.1 mmol)를 넣어 주었다. 이후 반응기를 밀폐하고, 상온에서 24 시간 교반하였다. 반응 후, 아세토니트릴과 HCl 용액을 공기로 불어서 제거하여 1,1’-BTO를 석출시켰다. 석출된 1,1’-BTO가 있는 반응기에 증류수 10 mL를 넣어준 후, 50 ℃로 승온시켜 다 녹여주었다. NH2OH (50% w/w in H2O) 4.0 mL (65.3 mmol)를 투입한 후, 서서히 상온으로 내리면서 2 시간 동안 교반하였다. 석출된 TKX-50을 여과 건조하여 0.22 g (0.931 mmol, 63.3% in two steps)을 수득하였다.After adding 0.5 g (1.47 mmol) of THP-DAG and 50 mL of acetonitrile to the reactor at room temperature, 1.0 mL (12.1 mmol) of a 37% HCl solution was added. After that, the reactor was sealed and stirred at room temperature for 24 hours. After the reaction, acetonitrile and HCl solution were removed by blowing with air to precipitate 1,1'-BTO. 10 mL of distilled water was added to the reactor with the precipitated 1,1'-BTO, and the temperature was raised to 50 ° C to melt. After adding NH 2 OH (50% w / w in H 2 O) 4.0 mL (65.3 mmol), the mixture was stirred for 2 hours while gradually lowering to room temperature. The precipitated TKX-50 was filtered and dried to obtain 0.22 g (0.931 mmol, 63.3% in two steps).

1H NMR (DMSO-d6): 9.74 (s, 8H, NH3OH); 13C NMR (DMSO-d6): 135.48 1 H NMR (DMSO-d 6 ): 9.74 (s, 8H, NH 3 OH); 13 C NMR (DMSO-d 6 ): 135.48

도 3은 본 발명의 실시예 1에 따라 합성된 글라이옥심의 NMR 그래프이다. 더욱 자세하게, 도 3 (a)는 글라이옥심의 1H NMR 스펙트럼이고, 도 3 (b)는 글라이옥심의 13C NMR 스펙트럼이다.3 is an NMR graph of glyoxime synthesized according to Example 1 of the present invention. More specifically, Figure 3 (a) is a 1 H NMR spectrum of glyoxime, Figure 3 (b) is a 13 C NMR spectrum of glyoxime.

도 3 (a) 및 (b)를 참조하면, 실시예 1을 통해 글라이옥심이 합성된 것을 알 수 있다.3 (a) and (b), it can be seen that glyoxime was synthesized through Example 1.

도 4는 본 발명의 실시예 2에 따라 합성된 DCG의 NMR 그래프이다. 더욱 자세하게, 도 4 (a)는 DCG의 1H NMR 스펙트럼이고, 도 4 (b)는 DCG의 13C NMR 스펙트럼이다.4 is a NMR graph of DCG synthesized according to Example 2 of the present invention. More specifically, Fig. 4 (a) is the 1 H NMR spectrum of DCG, and Fig. 4 (b) is the 13 C NMR spectrum of DCG.

도 4 (a) 및 (b)를 참조하면, 실시예 2를 통해 DCG가 합성된 것을 알 수 있다.Referring to Figure 4 (a) and (b), it can be seen that DCG is synthesized through Example 2.

도 5는 본 발명의 실시예 3에 따라 합성된 THP-DCG의 NMR 그래프이다. 더욱 자세하게, 도 5 (a)는 THP-DCG의 1H NMR 스펙트럼이고, 도 5 (b)는 THP-DCG의 13C NMR 스펙트럼이다.5 is an NMR graph of THP-DCG synthesized according to Example 3 of the present invention. More specifically, Fig. 5 (a) is the 1 H NMR spectrum of THP-DCG, and Fig. 5 (b) is the 13 C NMR spectrum of THP-DCG.

도 5 (a) 및 (b)를 참조하면, 실시예 3을 통해 THP-DCG가 합성된 것을 알 수 있다.5 (a) and (b), it can be seen that THP-DCG was synthesized through Example 3.

도 6은 본 발명의 실시예 4에 따라 합성된 THP-DAG의 NMR 그래프이다. 더욱 자세하게, 도 6 (a)는 THP-DAG의 1H NMR 스펙트럼이고, 도 6 (b)는 THP-DAG의 13C NMR 스펙트럼이다.6 is a NMR graph of THP-DAG synthesized according to Example 4 of the present invention. More specifically, FIG. 6 (a) is the 1 H NMR spectrum of THP-DAG, and FIG. 6 (b) is the 13 C NMR spectrum of THP-DAG.

도 6 (a) 및 (b)를 참조하면, 실시예 4를 통해 THP-DAG가 합성된 것을 알 수 있다.6 (a) and (b), it can be seen that THP-DAG was synthesized through Example 4.

도 7은 본 발명의 실시예 5에 따라 합성된 TKX-50의 NMR 그래프이다. 더욱 자세하게, 도 7 (a)는 TKX-50의 1H NMR 스펙트럼이고, 도 7 (b)는 TKX-50의 13C NMR 스펙트럼이다.7 is an NMR graph of TKX-50 synthesized according to Example 5 of the present invention. More specifically, Fig. 7 (a) is a 1 H NMR spectrum of TKX-50, and Fig. 7 (b) is a 13 C NMR spectrum of TKX-50.

도 7 (a) 및 (b)를 참조하면, 실시예 5를 통해 TKX-50이 합성된 것을 알 수 있다.7 (a) and (b), it can be seen that TKX-50 was synthesized through Example 5.

상술한 바와 같이 본 발명은 TKX-50 합성 시 합성되어지는 민감한 중간체인 DAG 대신 둔감성이 향상된 중간체인 THP-DAG를 거쳐 TKX-50을 합성하는 방법에 관한 것으로 충격, 마찰, 정전기에 의한 폭발 및 화재 사고의 위협으로부터 기존 합성 방법에 비해 안전하게 작업할 수 있다는 장점이 있다.As described above, the present invention relates to a method for synthesizing TKX-50 through THP-DAG, an intermediate insensitivity with improved insensitivity, instead of DAG, a sensitive intermediate that is synthesized during TKX-50 synthesis, explosion and fire due to impact, friction, static electricity It has the advantage of being able to work safely compared to existing synthetic methods from the threat of accidents.

이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기의 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다. 그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 특허청구범위의 범위에 속한다.As described above, although the embodiments have been described by a limited embodiment and drawings, those skilled in the art can make various modifications and variations from the above description. For example, even if the described techniques are performed in a different order than the described method, and / or the described components are combined or combined in a different form from the described method, or replaced or replaced by another component or equivalent Appropriate results can be achieved. Therefore, other implementations, other embodiments, and equivalents to the claims are also within the scope of the following claims.

Claims (17)

출발물질로 다이클로로글라이옥심(dichloroglyoxime, DCG)을 준비하는 단계;
상기 DCG로부터 하기 화학식 1로 표시되는 둔감성-O,O'-디테트라히드로피라닐 옥살로히드록시모닐 디아지드(O,O'-ditetrahydropyranyl oxalohydroximoyl diazide, 둔감성-DiAzidoGlyoxime, 둔감성-DAG) 중간체를 형성하는 단계; 및
상기 둔감성-DAG 중간체를 통해 디히드록실암모늄 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올레이트(dihydroxylammonium 5,5'-bistetrazole-1,1'-diolate, Thomas Klapotke eXplosive - 50, TKX-50)을 합성하는 단계;
를 포함하고,
다이클로로글라이옥심(dichloroglyoxime, DCG)을 합성하는 단계;
상기 DCG을 통해 하기 화학식 2로 표시되는 R-다이클로로글라이옥심(R-DiChloroGlyoxime, R-DCG) 중간체를 합성하는 단계;
상기 R-DCG 중간체를 통해 둔감성-DAG 중간체를 합성하는 단계; 및
상기 둔감성-DAG 중간체를 통해 TKX-50를 합성하는 단계;
를 포함하고,
상기 DCG을 통해 R-DCG 중간체를 합성하는 단계는,
상기 DCG와 테트라히드로피라닐(Tetrahydropyranyl; THP), 메톡시메틸(Methoxymethyl; MOM), 테트라하이드로푸라닐(Tetrahydrofuranyl; THF), t-부틸(t-Butyl), p-메톡시벤질(p-Methoxybenzyl), 3,4-디메톡시벤질(3,4-Dimethoxybenzyl), 트리메틸실릴(Trimethylsilyl; TMS) 및 t-부틸디메틸실릴(t-Butyldimethylsilyl; TBDMS)로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 화합물을 반응시켜 수행하는 것인,
작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법:
[화학식 1]
Figure 112020015835772-pat00005
,
[화학식 2]
Figure 112020015835772-pat00015

(화학식 1 및 화학식 2에서, R은, 각각, 테트라히드로피라닐(Tetrahydropyranyl; THP), 메톡시메틸(Methoxymethyl; MOM), 테트라하이드로푸라닐(Tetrahydrofuranyl; THF), t-부틸(t-Butyl), p-메톡시벤질(p-Methoxybenzyl), 3,4-디메톡시벤질(3,4-Dimethoxybenzyl), 트리메틸실릴(Trimethylsilyl; TMS) 및 t-부틸디메틸실릴(t-Butyldimethylsilyl; TBDMS)로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함함).
Preparing dichloroglyoxime (DCG) as a starting material;
From the DCG to form an insensitive-O, O'-ditetrahydropyranyl oxalohydroxymonyl diazide (O, O'-ditetrahydropyranyl oxalohydroximoyl diazide, insensitive-DiAzidoGlyoxime, insensitive-DAG) intermediate represented by the following Chemical Formula 1 step; And
Dihydroxylammonium 5,5'-bistetrazole-1,1'-diolate, Thomas Klapotke eXplosive-50, TKX via the insensitive-DAG intermediate -50);
Including,
Synthesizing dichloroglyoxime (DCG);
Synthesizing an R-dichloroglyoxime (R-DCG) intermediate represented by Chemical Formula 2 through DCG;
Synthesizing an insensitive-DAG intermediate through the R-DCG intermediate; And
Synthesizing TKX-50 through the insensitive-DAG intermediate;
Including,
Synthesizing the R-DCG intermediate through the DCG,
The DCG and tetrahydropyranyl (THP), methoxymethyl (MOM), tetrahydrofuranyl (THF), t-butyl (t-Butyl), p-methoxybenzyl (p-Methoxybenzyl) ), 3,4-dimethoxybenzyl, trimethylsilyl (TMS) and t-butyldimethylsilyl (t-Butyldimethylsilyl; TBDMS) at least one compound selected from the group consisting of It is carried out by reacting,
Synthesis of TKX-50 using diajiglyoxime with functional group protection:
[Formula 1]
Figure 112020015835772-pat00005
,
[Formula 2]
Figure 112020015835772-pat00015

(In Formula 1 and Formula 2, R is, respectively, tetrahydropyranyl (Tetrahydropyranyl; THP), methoxymethyl (Methoxymethyl; MOM), tetrahydrofuranyl (Tetrahydrofuranyl; THF), t-butyl (t-Butyl) , p-methoxybenzyl (p-Methoxybenzyl), 3,4-dimethoxybenzyl (3,4-Dimethoxybenzyl), trimethylsilyl (Trimethylsilyl; TMS) and t-butyldimethylsilyl (t-Butyldimethylsilyl; TBDMS) At least one selected from).
제1항에 있어서,
다이아지도글라이옥심(diazidoglyoxime, DAG) 중간부산물-프리인 것인,
작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법.
According to claim 1,
Diazidoglyoxime (DAG) is an intermediate by-product,
Synthesis of TKX-50 using diajiglyoxime with functional group protection.
제1항에 있어서,
상기 둔감성-DAG 중간체는,
충격 감도가 1.5 J 내지 19 J이고,
마찰 감도가 5 N 내지 300 N이며,
정전기 감도가 7 m J 내지 50 m J인 것인,
작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법.
According to claim 1,
The insensitive-DAG intermediate,
Impact sensitivity is 1.5 J to 19 J,
Friction sensitivity is 5 N to 300 N,
The electrostatic sensitivity is 7 m J to 50 m J,
Synthesis of TKX-50 using diajiglyoxime with functional group protection.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 다이클로로글라이옥심(dichloroglyoxime, DCG)을 합성하는 단계는,
글라이옥심(glyoxime)을 합성하는 단계; 및
상기 글라이옥심과 N-클로로숙신이미드(N-chlorosuccinimide)를 반응시키는 단계;를 포함하는 것인,
작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법.
According to claim 1,
Synthesizing the dichloroglyoxime (dichloroglyoxime, DCG),
Synthesizing glyoxime; And
Reacting the glyoxime and N-chlorosuccinimide (N-chlorosuccinimide); to include,
Synthesis of TKX-50 using diajiglyoxime with functional group protection.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 DCG을 통해 R-DCG 중간체를 합성하는 단계는, 피리디늄 p-톨루엔술포네이트(Pyrydinium p-toluenesulfonate, PPTS) 촉매 하에서 수행하는 것인,
작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법.
According to claim 1,
The step of synthesizing the R-DCG intermediate through the DCG is carried out under a pyridinium p-toluenesulfonate (Pyrydinium p-toluenesulfonate, PPTS) catalyst,
Synthesis of TKX-50 using diajiglyoxime with functional group protection.
제7항에 있어서,
상기 DCG을 통해 R-DCG 중간체를 합성하는 단계는,
상기 DCG, 상기 PPTS 및 상기 화합물을 1 : 0.1 : 5의 몰비로 교반한 후, 반응시켜 수행하는 것인,
작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법.
The method of claim 7,
Synthesizing the R-DCG intermediate through the DCG,
After the DCG, the PPTS and the compound were stirred at a molar ratio of 1: 0.1: 5, and reacted,
Synthesis of TKX-50 using diajiglyoxime with functional group protection.
제8항에 있어서,
상기 DCG, 상기 PPTS 및 상기 화합물의 교반은 상온 내지 60 ℃에서 수행하는 것인,
작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법.
The method of claim 8,
Stirring of the DCG, the PPTS and the compound is carried out at room temperature to 60 ℃,
Synthesis of TKX-50 using diajiglyoxime with functional group protection.
제1항에 있어서,
상기 R-DCG 중간체를 통해 둔감성-DAG 중간체를 합성하는 단계는,
아지드화 반응을 통해 수행하는 것인,
작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법.
According to claim 1,
Synthesizing the insensitive-DAG intermediate through the R-DCG intermediate,
It is carried out through an azide reaction,
Synthesis of TKX-50 using diajiglyoxime with functional group protection.
제10항에 있어서,
상기 R-DCG 중간체를 통해 둔감성-DAG 중간체를 합성하는 단계는,
상기 R-DCG 중간체를 아지드화나트륨(sodium azide, NaN3)과 반응시켜 수행하는 것인,
작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법.
The method of claim 10,
Synthesizing the insensitive-DAG intermediate through the R-DCG intermediate,
It is carried out by reacting the R-DCG intermediate with sodium azide (NaN 3 ),
Synthesis of TKX-50 using diajiglyoxime with functional group protection.
제11항에 있어서,
상기 R-DCG 중간체 및 상기 아지드화나트륨을 1 : 2 내지 4의 몰비로 교반한 후, 반응시켜 수행하는 것인,
작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법.
The method of claim 11,
It is performed by stirring the R-DCG intermediate and the sodium azide at a molar ratio of 1: 2 to 4, followed by reaction,
Synthesis of TKX-50 using diajiglyoxime with functional group protection.
제12항에 있어서,
상기 R-DCG 중간체 및 상기 아지드화나트륨의 교반은 95 ℃내지 100 ℃에서 수행하는 것인,
작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법.
The method of claim 12,
Stirring of the R-DCG intermediate and the sodium azide is performed at 95 ° C to 100 ° C,
Synthesis of TKX-50 using diajiglyoxime with functional group protection.
제1항에 있어서,
상기 둔감성-DAG 중간체를 통해 TKX-50를 합성하는 단계는,
상기 둔감성-DAG 중간체를 염산 수용액과 반응시켜 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올(5,5'-bistetrazole-1,1'-diol)을 합성하는 단계; 및
상기 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올을 히드록실아민(Hydroxylamine)과 반응시켜 TKX-50를 합성하는 단계;를 포함하는 것인,
작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법.
According to claim 1,
Synthesizing the TKX-50 through the insensitive-DAG intermediate,
Reacting the insensitive-DAG intermediate with an aqueous hydrochloric acid solution to synthesize 5,5'-bistetrazol-1,1'-diol (5,5'-bistetrazole-1,1'-diol); And
It comprises the step of synthesizing TKX-50 by reacting the 5,5'-bistetrazol-1,1'-diol with hydroxylamine (Hydroxylamine);
Synthesis of TKX-50 using diajiglyoxime with functional group protection.
제14항에 있어서,
상기 둔감성-DAG 중간체를 염산 수용액과 반응시켜 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올(5,5'-bistetrazole-1,1'-diol)을 합성하는 단계는,
상온의 온도조건에서 상기 둔감성-DAG 중간체 및 상기 염산 수용액을 교반하여 수행하는 것인,
작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법.
The method of claim 14,
The step of synthesizing 5,5'-bistetrazol-1,1'-diol (5,5'-bistetrazole-1,1'-diol) by reacting the insensitive-DAG intermediate with an aqueous hydrochloric acid solution,
Is carried out by stirring the insensitive-DAG intermediate and the aqueous hydrochloric acid solution at room temperature conditions,
Synthesis of TKX-50 using diajiglyoxime with functional group protection.
제14항에 있어서,
상기 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올을 히드록실아민(Hydroxylamine)과 반응시켜 TKX-50를 합성하는 단계는,
상기 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올 및 상기 히드록실아민을 1 : 3 내지 50의 몰비로 교반한 후, 반응시켜 수행하는 것인,
작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법.
The method of claim 14,
The step of synthesizing the TKX-50 by reacting the 5,5'-bistetrazol-1,1'-diol with hydroxylamine (Hydroxylamine),
The 5,5'-bistetrazol-1,1'-diol and the hydroxylamine are stirred at a molar ratio of 1: 3 to 50, and then reacted.
Synthesis of TKX-50 using diajiglyoxime with functional group protection.
제16항에 있어서,
상기 5,5'-비스테트라졸-1,1'-디올 및 상기 히드록실아민의 교반은 40 ℃내지 60 ℃에서 수행하는 것인,
작용기가 보호된 다이아지도글라이옥심을 이용한 TKX-50의 합성 방법.
The method of claim 16,
Stirring of the 5,5'-bistetrazol-1,1'-diol and the hydroxylamine is performed at 40 ° C to 60 ° C,
Synthesis of TKX-50 using diajiglyoxime with functional group protection.
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