KR102095517B1 - Fluidiizing bed reactor with temperature controller and process for preparing carbon nanostructures using same - Google Patents

Fluidiizing bed reactor with temperature controller and process for preparing carbon nanostructures using same Download PDF

Info

Publication number
KR102095517B1
KR102095517B1 KR1020160047294A KR20160047294A KR102095517B1 KR 102095517 B1 KR102095517 B1 KR 102095517B1 KR 1020160047294 A KR1020160047294 A KR 1020160047294A KR 20160047294 A KR20160047294 A KR 20160047294A KR 102095517 B1 KR102095517 B1 KR 102095517B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
reactor
gas
fluidized bed
temperature
bed reactor
Prior art date
Application number
KR1020160047294A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20170119372A (en
Inventor
손승용
조동현
남성국
김욱영
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
Priority to KR1020160047294A priority Critical patent/KR102095517B1/en
Publication of KR20170119372A publication Critical patent/KR20170119372A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102095517B1 publication Critical patent/KR102095517B1/en

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/15—Nano-sized carbon materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/0006—Controlling or regulating processes
    • B01J19/0013—Controlling the temperature of the process
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/1836—Heating and cooling the reactor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/1872—Details of the fluidised bed reactor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00008—Controlling the process
    • B01J2208/00017—Controlling the temperature
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00008—Controlling the process
    • B01J2208/00017—Controlling the temperature
    • B01J2208/00389—Controlling the temperature using electric heating or cooling elements
    • B01J2208/00407—Controlling the temperature using electric heating or cooling elements outside the reactor bed

Abstract

본 발명에 따른 유동층 반응기는 온도 편차가 발생하는 고온 유동층 반응에서 PID 온도 제어만으로는 즉각적인 온도 보정이 어려울 때 상온의 냉각기체를 분사하여 고온 부위를 즉각적으로 냉각시킴으로써 빠르게 온도편차를 줄일 수 있는 온도조절 수단을 포함하며, 이를 이용하여 보다 균일한 물성을 갖는 탄소나노구조물을 제조할 수 있다.The fluidized bed reactor according to the present invention is a temperature control means capable of rapidly reducing a temperature deviation by immediately cooling a high temperature region by spraying a cooling gas at room temperature when it is difficult to immediately correct temperature by PID temperature control in a high temperature fluidized bed reaction in which temperature deviation occurs. It includes, it can be used to produce a carbon nano-structure having more uniform properties.

Description

온도조절 수단이 구비된 유동층 반응기 및 이를 이용한 탄소나노구조물의 제조방법{FLUIDIIZING BED REACTOR WITH TEMPERATURE CONTROLLER AND PROCESS FOR PREPARING CARBON NANOSTRUCTURES USING SAME}A fluidized bed reactor equipped with a temperature control means and a method for manufacturing a carbon nanostructure using the same {FLUIDIIZING BED REACTOR WITH TEMPERATURE CONTROLLER AND PROCESS FOR PREPARING CARBON NANOSTRUCTURES USING SAME}

본 발명은 유동층 반응기에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 온도조절 수단을 구비하여 보다 균일한 물성을 갖는 탄소나노구조물을 제조할 수 있는 유동층 반응기에 관한 것이다.The present invention relates to a fluidized bed reactor, and more particularly, to a fluidized bed reactor capable of producing a carbon nanostructure having more uniform physical properties by having a temperature control means.

탄소나노구조물(carbon nanostructures, CNS)은 나노튜브, 나노파이버, 풀러렌, 나노콘, 나노호른, 나노로드 등 다양한 형상을 갖는 나노크기의 탄소구조물을 지칭하며, 여러 가지 우수한 성질을 보유하기 때문에 다양한 기술분야에서 활용도가 높다. 대표적인 탄소나노구조물인 탄소나노튜브(Carbon nanotubes; CNT)는 서로 이웃하는 3 개의 탄소 원자가 육각형의 벌집 구조로 결합되어 탄소 평면을 형성하고, 상기 탄소 평면이 원통형으로 말려서 튜브의 형상을 가지는 소재이다. 탄소나노튜브는 구조에 따라서, 즉, 튜브의 지름에 따라서 도체가 되거나 또는 반도체가 되는 특성이 있으며, 다양한 기술 분야에서 광범위하게 응용될 수 있어서 신소재로 각광을 받는다. 예를 들어, 탄소나노튜브는 이차 전지, 연료 전지 또는 슈퍼 커패서티(super capacity)와 같은 전기 화학적 저장 장치의 전극, 전자파 차폐, 전계 방출 디스플레이, 또는 기체 센서 등에 적용될 수 있다.Carbon nanostructures (CNS) refer to nano-sized carbon structures having various shapes such as nanotubes, nanofibers, fullerenes, nanocones, nanohorns, and nanorods, and have various excellent properties. High utilization in the field. Carbon nanotubes (CNT), which are representative carbon nanostructures, are materials in which three carbon atoms adjacent to each other are combined into a hexagonal honeycomb structure to form a carbon plane, and the carbon plane is rolled in a cylindrical shape to form a tube. Carbon nanotubes have the characteristics of being a conductor or a semiconductor according to the structure, that is, the diameter of the tube, and can be widely applied in a variety of technical fields, so it is spotlighted as a new material. For example, carbon nanotubes may be applied to electrodes of electrochemical storage devices such as secondary cells, fuel cells, or super capacities, electromagnetic shielding, field emission displays, or gas sensors.

탄소나노구조물은 예를 들어 아크 방전법, 레이저 증발법, 화학 기상 성장법을 통하여 제조될 수 있다. 상기 열거된 제조 방법 중 화학 기상 성장법에서는 통상적으로 고온의 유동층 반응기 안에서 금속 촉매 입자와 탄화수소 계열의 원료 기체를 분산 및 반응됨으로써 탄소나노튜브가 생성된다. 즉, 금속 촉매는 원료 기체에 의해 유동층 반응기 안에서 부유(浮游)하면서 원료 기체와 반응하여 탄소나노튜브를 성장시킨다. Carbon nanostructures can be produced, for example, through arc discharge, laser evaporation, and chemical vapor deposition. In the chemical vapor deposition method listed above, carbon nanotubes are produced by dispersing and reacting metal catalyst particles and a hydrocarbon-based raw material gas in a high-temperature fluidized bed reactor. That is, the metal catalyst is suspended in the fluidized bed reactor by the raw material gas and reacts with the raw material gas to grow carbon nanotubes.

한편, 유동층 반응기는 다양한 다중상(multiphase) 화학 반응을 수행하도록 이용될 수 있는 반응기 장치이다. 유동층 반응기에서는 유체(기체 또는 액체)가 미립자 상태의 고체 물질과 반응하게 되는데, 통상적으로 상기 고체 물질은 작은 구(sphere)의 형상을 가지는 촉매이고, 유체는 고체 물질을 부유시키기에 충분한 속도로 유동함으로써 고체 물질이 유체와 유사하게 거동하게 된다. On the other hand, fluidized bed reactors are reactor devices that can be used to perform various multiphase chemical reactions. In a fluidized bed reactor, a fluid (gas or liquid) reacts with a solid material in a particulate state. Typically, the solid material is a catalyst having a small sphere shape, and the fluid flows at a speed sufficient to float the solid material. By doing so, the solid material behaves like a fluid.

기존의 유동층 반응기에서는 외부 Jacket Heater를 이용하여 반응기를 감싸면서 반응기 내부를 가열시키는 노(furnace) 형태의 히터가 주로 사용되고 있으며, 고온을 유지하면서 반응할 때, 반응기의 높이에 따라서 온도 편차가 발생하는 것이 일반적이었다. In the existing fluidized bed reactor, a heater in the form of a furnace that heats the inside of the reactor while surrounding the reactor using an outer jacket heater is mainly used. When reacting while maintaining high temperature, temperature variation occurs depending on the height of the reactor. It was common.

그러나, 기존의 온도 조절 방식인 PID 제어(proportional integral derivative control)는 히터를 On/off하는 방식으로 온도를 조절하는 것으로서, 온도의 변화가 매우 더디게 일어나, 온도를 조절하는데 시간이 매우 많이 걸려 즉각적으로 균일한 온도를 유지하는 것이 매우 어렵다. 이와 같은 반응기 내부의 온도 편차는 반응기 내부의 제품 품질의 불균일을 야기할 수 있다.However, the conventional temperature control method, PID integral (proportional integral derivative control), controls the temperature by turning the heater on / off, and the temperature change occurs very slowly, and it takes a lot of time to adjust the temperature. It is very difficult to maintain a uniform temperature. Such temperature variation inside the reactor may cause unevenness in product quality inside the reactor.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 개선된 온도조절 수단을 구비한 유동층 반응기를 제공하는 것이다.The present invention has been devised to solve the above problems, and a problem to be solved by the present invention is to provide a fluidized bed reactor having an improved temperature control means.

본 발명의 다른 목적은 상기 온도조절 수단으로 온도를 보다 균일하게 제어하여, 균일한 물성을 갖는 탄소나노구조물을 제조하는 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a carbon nanostructure having uniform physical properties by controlling the temperature more uniformly by the temperature control means.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은, In order to solve the above problems, the present invention,

외벽과 내벽을 구비한 유동층 반응기 본체, Fluidized bed reactor body having outer and inner walls,

상기 유동층 반응기 본체의 외벽과 소정의 간격을 두고 상기 외벽을 둘러싸도록 설치되는 가열장치, 및A heating device installed to surround the outer wall at a predetermined distance from the outer wall of the fluidized bed reactor body, and

상기 반응기 본체 내부의 온도를 균일하게 조절하는 온도조절수단을 구비하며, It has a temperature control means for uniformly adjusting the temperature inside the reactor body,

상기 온도조절수단은 상기 반응기 본체와 가열장치 사이의 이격된 공간에 냉각 기체를 분사하기 위한 복수개의 가스 분사 파이프를 포함하고, The temperature control means includes a plurality of gas injection pipes for injecting cooling gas into the spaced apart between the reactor body and the heating device,

상기 가스 분사 파이프를 통해 상기 반응기 본체 외벽에 냉각기체를 분사하는 방식으로 상기 반응기 본체내부의 온도를 조절하는 것인 탄소나노구조물 제조용 유동층 반응기를 제공한다.Provided is a fluidized bed reactor for producing a carbon nanostructure that controls the temperature inside the reactor body by injecting a cooling gas to the outer wall of the reactor body through the gas injection pipe.

또한 본 발명의 또 다른 목적에 따르면,In addition, according to another object of the present invention,

상기 유동층 반응기를 이용하는 탄소나노구조물의 제조 방법이 제공된다.A method of manufacturing a carbon nanostructure using the fluidized bed reactor is provided.

본 발명에 따른 유동층 반응기는 반응기 높이에 따라 온도 편차가 발생하는 고온 유동층 반응에서 PID 콘트롤 만으로 즉각적인 온도 보정이 어려울 때 냉각기체를 분사하여 고온 부위를 즉각적으로 냉각시킴으로써 빠르게 온도편차를 줄일 수 있어 보다 균일한 물성을 갖는 탄소나노구조물을 제조할 수 있다.The fluidized bed reactor according to the present invention can rapidly reduce the temperature deviation by immediately cooling a high temperature region by spraying a cooling gas when it is difficult to immediately compensate for temperature with PID control in a high temperature fluidized bed reaction in which temperature deviation occurs depending on the height of the reactor, thereby making it more uniform. Carbon nanostructures having one property can be produced.

도 1 은 통상적인 유동층 반응기의 개략적인 구성도이다.
도 2 는 일 실시예에 따라 온도 조절 수단이 구비된 유동층 반응기를 도시한 종단면도이다.
도 3 은 도 2에 따른 유동층 반응기의 횡단면도로서, 냉각 기체 분사용 가스 분사 파이프가 구비된 모습을 도시한다. 1 is a schematic configuration diagram of a conventional fluidized bed reactor.
Figure 2 is a longitudinal sectional view showing a fluidized bed reactor equipped with a temperature control means according to an embodiment.
FIG. 3 is a cross-sectional view of the fluidized bed reactor according to FIG. 2 and shows a state in which a gas injection pipe for cooling gas injection is provided.

이하, 본 발명을 첨부된 도면에 도시된 본 발명의 실시예들을 참조하여 보다 상세하게 설명하기로 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정 실시 형태로 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 기술사상 및 범위에 포함되는 변형물, 균등물 또는 대체물을 모두 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to embodiments of the present invention shown in the accompanying drawings. However, this is not intended to limit the present invention to a specific embodiment, it should be understood to include all modifications, equivalents, or substitutes included in the technical spirit and scope of the present invention.

각 도면에서 유사한 참조부호는 유사한 구성요소에 대하여 사용하였다.In each figure, similar reference numerals are used for similar components.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 “연결되어”있다거나 “접속되어”있다고 언급된 때에는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결 또는 접속되어 있거나 또는 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 한다.It should be understood that when an element is referred to as being “connected” to or “connected to” another component, it may be directly connected or connected to the other component, or other components may exist in the middle.

단수의 표현은 달리 명시하지 않는 한 복수의 표현을 포함한다.Singular expressions include plural expressions unless otherwise specified.

본 명세서에 기재된 "구비한다", "포함한다" 또는 “가진다”등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 수치, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들의 조합이 존재함을 지칭하는 것이고, 언급되지 않은 다른 특징, 수치, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들의 조합이 존재하거나 부가될 수 있는 가능성을 배제하지 않는다.The terms "equipped", "includes" or "have" as used herein refer to the presence of features, numerical values, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in the specification. It does not exclude the possibility that other features, values, steps, actions, components, parts, or combinations thereof that are not present or present may be added.

본 명세서에 기재된 탄소나노구조물은 카본나노튜브, 카본나노파이버, 풀러렌, 카본나노콘, 카본나노호른, 카본나노로드 등 다양한 형상을 갖는 나노 크기의 탄소나노구조물을 지칭하는 것으로 해석될 수 있다.The carbon nanostructures described herein may be interpreted as referring to nano-sized carbon nanostructures having various shapes such as carbon nanotubes, carbon nanofibers, fullerenes, carbon nanocones, carbon nanohorns, and carbon nanorods.

도 1을 참조하면, 통상적인 유동층 반응기의 구성이 개략적으로 도시되어 있으며, 이러한 유동층 반응기는 예를 들어 탄소나노튜브의 제조에 이용될 수 있지만, 탄소나노튜브의 제조에만 한정되는 것은 아니다.Referring to Figure 1, the configuration of a typical fluidized bed reactor is schematically illustrated, and such a fluidized bed reactor may be used, for example, in the production of carbon nanotubes, but is not limited to the production of carbon nanotubes.

도면을 참조하면, 유동층 반응기(1)는 반응기 본체(10)를 구비하며, 반응기 본체(10)의 하부는 테이퍼 영역(10a)으로 형성되어 있다. 반응기 본체(10)를 고온으로 가열하기 위해, 가열장치(19)가 반응기 본체(10)의 외부에 구비되는 것이 바람직하다. 도 1 장치의 구체적인 설명은 후술한다. Referring to the drawings, the fluidized bed reactor 1 includes a reactor body 10, and a lower portion of the reactor body 10 is formed as a tapered region 10a. In order to heat the reactor body 10 to a high temperature, it is preferable that a heating device 19 is provided outside the reactor body 10. The detailed description of the apparatus of FIG. 1 will be described later.

본 발명은 상기 가열장치(19)로 가열된 반응기 본체의 외부에 반응기 내부의 온도를 조절할 수 있는 온도 조절수단을 구비한 유동층 반응기를 제공한다.The present invention provides a fluidized bed reactor having a temperature control means capable of controlling the temperature inside the reactor outside the reactor body heated by the heating device 19.

본 발명에 따른 유동층 반응기는,The fluidized bed reactor according to the present invention,

외벽과 내벽을 구비한 유동층 반응기 본체, Fluidized bed reactor body having outer and inner walls,

상기 유동층 반응기 본체의 외벽과 소정의 간격을 두고 상기 외벽을 둘러싸도록 설치되는 가열장치, 및A heating device installed to surround the outer wall at a predetermined distance from the outer wall of the fluidized bed reactor body, and

상기 반응기 본체 내부의 온도를 균일하게 조절하는 온도조절수단을 구비하며, It has a temperature control means for uniformly adjusting the temperature inside the reactor body,

상기 온도조절수단은 상기 반응기 본체와 가열장치 사이의 이격된 공간에 냉각 기체를 분사하기 위한 복수개의 가스 분사 파이프를 포함하고, The temperature control means includes a plurality of gas injection pipes for injecting cooling gas into the spaced apart between the reactor body and the heating device,

상기 가스 분사 파이프를 통해 상기 반응기 본체 외벽에 냉각기체를 분사하는 방식으로 상기 반응기 본체내부의 온도를 조절하는 것을 특징으로 한다. It is characterized in that the temperature inside the reactor body is controlled by injecting a cooling gas to the outer wall of the reactor body through the gas injection pipe.

보다 구체적으로, 상기 가열장치는 상기 유동층 반응기의 외벽과 소정의 간격으로 이격되어 있으며, 상기 이격된 공간에 상기 외벽으로 분사되어 가열된 냉각기체가 이동하는 이동통로가 구비될 수 있으며, 상기 이동통로의 상단에는 가열된 기체가 배출되는 배출구가 구비될 수 있다.More specifically, the heating device is spaced apart at a predetermined distance from the outer wall of the fluidized bed reactor, and may be provided with a moving passage through which the cooled gas sprayed and heated by the outer wall moves in the spaced space, and the moving passage The upper end may be provided with an outlet through which heated gas is discharged.

고온의 반응 공정을 처리하는 유동층 반응기는 높이에 따른 온도 편차가 흔히 나타날 수 있으며, 이러한 온도 편차는 반응 중에 반응 생성물 또는 반응원료 등의 내부 물질의 발열, 흡열 반응에 의해 특정 부위에서 급격히 온도변화가 일어나는 것으로부터 발생할 수 있다. 이러한 온도편차는 생성물의 물성을 균일하지 못하게 할 수 있어 제품의 신뢰도를 저하시킬 수 있다.In a fluidized bed reactor that processes a high-temperature reaction process, a temperature variation depending on the height may frequently appear, and the temperature variation rapidly changes in a specific region due to exothermic and endothermic reactions of internal substances such as reaction products or reaction raw materials during the reaction. It can arise from what happens. Such a temperature deviation may make the physical properties of the product non-uniform, thereby degrading the reliability of the product.

따라서, 이러한 특정 부위 또는 국소 부위의 온도변화를 제어함으로써 반응기 내부의 온도를 전체적으로 균일하게 유지하는 것이 중요하다. 기존에는 과열된 반응기의 온도조절을 PID 제어 방법만을 사용하여왔으며, 이러한 PID 제어 방법은, 가열장치의 On/OFF 방식으로 조절되는 방식으로서, 설정 온도에 도달하면 가열장치의 히터를 끄고 설정 온도 보다 온도가 내려가면 가열장치의 히터를 켜는 방식에 불과해 온도를 내리거나 올리는 시간이 매우 길어, 즉각적인 온도변화에 의한 제어가 용이하지 않아, 균일한 온도를 유지하는 것이 매우 어려운 단점이 있어왔다.Therefore, it is important to maintain the temperature inside the reactor as a whole by controlling the temperature change of these specific or local regions. Conventionally, only the PID control method has been used to control the temperature of the overheated reactor, and this PID control method is a method that is controlled by the On / OFF method of the heating device. When the set temperature is reached, the heater of the heating device is turned off and the temperature is higher than the set temperature. When the temperature goes down, it is only a method of turning on the heater of the heating device, so it takes a very long time to lower or raise the temperature, so it is not easy to control by an immediate temperature change, and it has been very difficult to maintain a uniform temperature.

본 발명에 따른 온도조절 수단은 냉각 기체를 분사하는 가스 분사 파이프를 유동층 반응기의 높이에 따라 설치한 후 반응 중 높이에 따른 온도 편차가 발생하면 빠른 시간 내에 높은 온도를 나타내는 쪽에 냉각 기체를 반응기 외벽에 분사하여 반응기 내부의 균일한 온도 분포를 유지하도록 할 수 있다.The temperature control means according to the present invention, after installing the gas injection pipe for injecting the cooling gas according to the height of the fluidized bed reactor, when a temperature deviation according to the height occurs during the reaction, the cooling gas is installed on the outer wall of the reactor on the side showing the high temperature within a short time. It can be sprayed to maintain a uniform temperature distribution inside the reactor.

즉, 본 발명에 따르면, PID(proportional integral derivative) control과 함께 사용됨으로써, 상기 PID 제어시스템만으로는 제어하기 힘든 급작스런 온도변화에 대처할 수 있는 온도조절 수단으로서, 반응기의 특정 부위 온도가 설정 온도 이상으로 급격히 상승되는 경우 해당 부위에 냉각 기체를 분사하여, 반응기의 온도를 신속하게 낮출 수 있어, 균일한 온도제어가 가능하다.That is, according to the present invention, by being used with a PID (proportional integral derivative) control, as a temperature control means that can cope with sudden temperature changes that are difficult to control only with the PID control system, the temperature of a specific part of the reactor rapidly increases above a set temperature When rising, the cooling gas can be injected to the site to quickly lower the temperature of the reactor, thereby enabling uniform temperature control.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 온도 조절 수단이 구비된 유동층 반응기를 개략적으로 도시한 종단면도이다. Figure 2 is a longitudinal cross-sectional view schematically showing a fluidized bed reactor equipped with a temperature control means according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 유동층 반응기는 반응기 외벽을 둘러싸면서 외벽으로부터 소정 거리 이격되어 설치된 가열장치(19) 및 상기 가열장치(19)를 관통하여 반응기 외벽을 향해 가스를 분사하는 가스 분사 파이프(30)가 구비되어있다. 상기 가스 분사 파이프(30)는 상기 반응기의 외벽을 따라 높이 별로 일정 간격을 이루며 설치될 수 있고, 각각의 가스 분사 파이프(30)는 반응기 내부의 온도 센서(미도시)와 연결되어 있어, 반응기 내부 온도가 설정온도 이상으로 과열될 경우 해당 높이에 위치한 가스 분사 파이프(30)에서 냉각 기체를 반응기 외벽에 분사함으로써 상기 과열된 부분의 온도를 낮출 수 있다. 또한, 상기 분사된 기체는 반응기 외벽과 가열장치 사이에 구비되는 가스 이동통로(31)을 통해 이동하여 가스 배출구(32)를 통해 반응기 밖으로 배출되거나, 냉각 장치(미도시)로 공급되어 재냉각된 후 공정에 재사용될 수 있다.Referring to FIG. 2, the fluidized bed reactor according to the present invention surrounds the outer wall of the reactor and passes through a heating device 19 installed at a predetermined distance from the outer wall and through the heating device 19 to inject gas toward the outer wall of the reactor Pipe 30 is provided. The gas injection pipe 30 may be installed at regular intervals for each height along the outer wall of the reactor, and each gas injection pipe 30 is connected to a temperature sensor (not shown) inside the reactor, so that the inside of the reactor When the temperature is overheated above the set temperature, the temperature of the superheated portion may be lowered by injecting cooling gas to the outer wall of the reactor from the gas injection pipe 30 located at the corresponding height. In addition, the injected gas moves through the gas movement passage 31 provided between the outer wall of the reactor and the heating device, and is discharged out of the reactor through the gas outlet 32 or supplied to a cooling device (not shown) and recooled. It can be reused in a later process.

상기 가스 이동통로(31)에는 상기 가열된 공기가 상기 가스 배출구(32)를 향해 흐르되, 역류하지 않도록 가로막(미도시)을 설치하는 것도 가능하다. In the gas passage 31, the heated air flows toward the gas outlet 32, and it is also possible to install a diaphragm (not shown) so as not to reverse flow.

일 구현예에 따르면, 상기 가열장치(19)는 도 2와 같이 다단의 형태로 적층되어 층별로 설치될 수도 있고, 일체형으로 감싸는 형태일 수도 있으며, 반응기 외벽을 완전히 둘러쌀 수만 있다면 형태의 제한이 없다. According to one embodiment, the heating device 19 may be stacked in a multi-stage form as shown in FIG. 2, and may be installed layer by layer, or may be integrally wrapped. none.

본 발명에 따른 가열장치는 통상적으로 유동층 반응기에 사용되며 반응기 외부에 설치되는 가열장치라면 제한 없이 사용가능하며, 예를 들면, 자켓 히터(Jacket Heater)일 수 있다.The heating device according to the present invention is usually used in a fluidized bed reactor and can be used without limitation as long as it is a heating device installed outside the reactor, and may be, for example, a jacket heater.

또한, 상기 가스 분사 파이프(30)는 도 2에 도시된 바와 같이 상기 반응기의 외벽에 상온의 냉각 기체를 외벽에 직접적으로 분사할 수 있도록 설치되며, 가열장치를 관통하여 설치되거나, 다단형태로 설치된 가열장치의 사이에 설치되는 형태 등 외벽에 직접적으로 설치되는 형태라면 한정 없이 가능하다. In addition, the gas injection pipe 30 is installed to directly inject cooling gas at room temperature to the outer wall of the reactor, as shown in Figure 2, is installed through a heating device, or is installed in a multi-stage form Any type that is directly installed on the outer wall, such as a type installed between heating devices, is possible without limitation.

일 구현예에 따르면, 상기 가열장치(19)는 단열재로 보호될 수 있으며, 상기 가스 분사 파이프(30)는 상기 단열재 및 가열장치를 관통하여 설치된다. 기존의 냉각수 시스템에서는 냉각수가 반응기 외벽의 길이방향을 따라 흐르면서 냉각되는 것에 비해, 파이프들(30)이 단열재와 가열장치를 관통하여 설치됨으로써 일정량의 냉각 기체가 반응기 외벽과 접촉하는 시간 및 면적이 감소할 수 있어, 즉 국소적인 면적에 보다 높은 밀도로 분사할 수 있어 보다 효과적으로 반응기의 온도를 낮춰줄 수 있다.According to one embodiment, the heating device 19 may be protected by a heat insulating material, and the gas injection pipe 30 is installed through the heat insulating material and the heating device. In the existing cooling water system, compared to being cooled while the cooling water flows along the longitudinal direction of the outer wall of the reactor, the pipes 30 are installed through the insulating material and the heating device, thereby reducing the amount of time and area in which a certain amount of cooling gas contacts the outer wall of the reactor. It can be done, that is, it can be sprayed at a higher density in a local area, thereby lowering the temperature of the reactor more effectively.

또한, 일 구현예에 따르면, 상기 가스 분사 파이프(30)는 도 3 에 도시된 바와 같이 반응기 외벽의 둘레를 따라 일정 간격으로 설치될 수 있으며, 이러한 구조는 반응기의 외벽을 따라 반응기 표면에 고르게 분산될 수 있어 보다 효율적으로 온도를 낮춰줄 수 있다. 상기 가스 분사 파이프(30)의 개수는 반응기의 크기에 따라 조절 가능하다. 상기 가스 분사 파이프(30)는 반응기 외벽과 수직이 되도록 반응기 중심을 향하여 설치될 수도 있지만, 반응기 중심으로부터 일정 각도로 편향되도록 설치되는 것도 가능하다. 일정 각도로 편향 설치되는 경우에는 냉각 기체의 흐름이 반응기 외벽을 감싸고 선회할 수 있다. In addition, according to one embodiment, the gas injection pipe 30 may be installed at regular intervals along the circumference of the reactor outer wall as shown in FIG. 3, and this structure is evenly distributed on the reactor surface along the outer wall of the reactor It can reduce the temperature more efficiently. The number of gas injection pipes 30 can be adjusted according to the size of the reactor. The gas injection pipe 30 may be installed toward the center of the reactor to be perpendicular to the outer wall of the reactor, but it is also possible to be installed to be deflected at a certain angle from the center of the reactor. When the deflection is installed at a certain angle, the flow of the cooling gas may surround and swing the outer wall of the reactor.

일 실시예에 따르면, 상기 냉각 기체는 질소(N2), 공기(Air) 또는 불활성기체일 수 있으며, 바람직하게는 질소(N2)를 사용할 수 있다. 냉각 기체는 상온상태로 사용할 수도 있고, 필요에 따라 상온 이하로 냉각하여 사용하는 것도 가능하다. According to one embodiment, the cooling gas may be nitrogen (N 2 ), air (Air) or an inert gas, and preferably nitrogen (N 2 ) may be used. The cooling gas may be used at room temperature, or may be cooled to room temperature or lower if necessary.

또한, 본 발명에 따른 유동층 반응기는 탄소나노구조물을 제조하는데 이용될 수 있다.In addition, the fluidized bed reactor according to the present invention can be used to produce a carbon nanostructure.

본 발명에 따른 탄소나노구조물의 제조방법은,Method of manufacturing a carbon nanostructure according to the present invention,

상기 유동층 반응기에 촉매를 공급하는 단계;Supplying a catalyst to the fluidized bed reactor;

상기 반응기에 탄소원, 환원성 기체 및 불활성기체를 포함하는 원료기체를 반응기 본체 내부로 공급하는 단계;Supplying a raw material gas containing a carbon source, a reducing gas, and an inert gas to the reactor into the reactor body;

상기 촉매와 반응기체가 반응기 본체 내부의 반응 공간에서 반응하여 탄소나노구조물을 생성하는 단계; 및Generating a carbon nanostructure by reacting the catalyst and the reaction gas in a reaction space inside the reactor body; And

생성된 탄소나노구조물을 회수하는 단계를 포함하며,And recovering the generated carbon nanostructure,

상기 탄소나노구조물 생성반응 중 반응기 과열에 의한 급격한 온도상승에 의해 반응기 내부에 온도편차가 발생하는 경우, 온도편차가 발생한 부분의 높이에 설치된 가스 분사 파이프를 통해 냉각 기체가 반응기 본체 외벽으로 분사됨으로써, 반응기 내부의 온도를 냉각시켜 반응기 내부의 온도를 균일하게 유지하는 온도조절 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. When a temperature deviation occurs inside the reactor due to a rapid temperature rise due to overheating of the reactor during the carbon nanostructure generation reaction, cooling gas is injected to the outer wall of the reactor body through a gas injection pipe installed at the height of the portion where the temperature deviation occurs, It characterized in that it comprises a temperature control step of maintaining a uniform temperature inside the reactor by cooling the temperature inside the reactor.

고온의 온도에서 반응하여 생성되는 탄소나노구조물의 생성반응에 있어서, 반응기 내적 또는 외적인 요인들에 의해 반응기의 온도가 과열되는 경우가 발생할 수 있으며, 이는 반응기 내부의 온도 편차를 발생시킬 수 있다. 예를 들면, 탄소나노구조물 생성반응시 촉매에 의한 생성물의 급격한 층 팽창이 일어날 때, 생성물보다 높은 온도로 가열되어 있던 반응기 벽면에 의해 온도 편차가 발생할 수 있다. 이러한 반응기 내부의 급격한 온도변화에 의한 온도 편차는 생성되는 탄소나노구조물의 물성을 불균일하게 할 수 있으며, 이는 제품의 신뢰도를 저하시키게 된다.In the reaction of generating a carbon nanostructure produced by reacting at a high temperature, it may occur that the temperature of the reactor is overheated due to factors inside or outside the reactor, which may cause a temperature deviation inside the reactor. For example, when a rapid layer expansion of a product by a catalyst occurs during a carbon nanostructure production reaction, a temperature deviation may occur due to a reactor wall surface heated to a higher temperature than the product. The temperature deviation due to the rapid temperature change inside the reactor may make the properties of the carbon nanostructure produced non-uniform, which degrades the reliability of the product.

본 발명에 따른 유동층 반응기는 이러한 탄소나노구조물의 제조방법에 있어서, 급격한 온도 변화에 신속하고 정확하게 대처할 수 있는 온도조절 수단을 구비하고 있으며, 이러한 온도조절 수단은 유동층 반응기 내부에서 일어나는 온도변화, 즉 과열 현상에 의한 온도 편차를 감소시켜 보다 균일한 물성을 갖는 탄소나노구조물을 제조할 수 있다. The fluidized bed reactor according to the present invention is provided with a temperature control means capable of quickly and accurately coping with a rapid temperature change in the method of manufacturing such a carbon nanostructure, and the temperature control means is a temperature change occurring inside the fluidized bed reactor, that is, overheating. It is possible to manufacture a carbon nanostructure having more uniform physical properties by reducing the temperature deviation due to development.

이하, 본 발명에 따른 유동층 반응기의 작용을 간단히 설명하기로 한다. Hereinafter, the operation of the fluidized bed reactor according to the present invention will be briefly described.

본 발명에 따른 유동층 반응기의 전체적인 구조는 도 1 에 도시된 바와 같은 유동층 반응기와 유사하며, 유동층 반응기의 저부에 배치된 원료 기체 공급부(12)로부터 공급되는 원료 기체는 분산판(13)의 상부에 해당하는 반응 공간으로 진입한다. 도 1을 참조하여 설명된 바와 같이, 반응기 본체(10)의 반응 공간에는 촉매 공급기(16)로부터 촉매가 공급되며, 가열장치(19)에 의해서 반응 공간이 미리 결정된 온도로 가열된다. 따라서 반응 공간 내에서 원료 기체와 촉매가 상호 반응함으로써 분체 형태의 생성물이 생성될 수 있다. The overall structure of the fluidized bed reactor according to the present invention is similar to the fluidized bed reactor as shown in FIG. 1, and the raw material gas supplied from the raw material gas supply unit 12 disposed at the bottom of the fluidized bed reactor is located at the top of the dispersion plate 13. Enter the corresponding reaction space. As described with reference to FIG. 1, a catalyst is supplied from the catalyst feeder 16 to the reaction space of the reactor body 10, and the reaction space is heated to a predetermined temperature by the heating device 19. Therefore, in the reaction space, the product gas and the catalyst react with each other, so that a product in powder form can be produced.

도 1을 참조하면, 상기 유동층 반응기는 탄소나노구조물이 합성되는 반응기(1)로서, 이 반응기(1)는 내부공간을 갖는 반응기 본체(10), 및 상기 본체 내부에 배치된 미반응 탄화수소 제거수단(미도시)을 구비한다.Referring to FIG. 1, the fluidized bed reactor is a reactor 1 in which carbon nanostructures are synthesized, the reactor 1 being a reactor body 10 having an internal space, and means for removing unreacted hydrocarbons disposed inside the body. (Not shown).

상기 반응기 본체(10)의 하부는 테이퍼 영역(10a)으로 형성될 수 있다. 가열장치(19)가 반응기 본체(10)의 외부에 구비될 수 있다. 상기 반응기(1)의 저부에 원료 기체 공급부(12)가 구비된다. 원료 기체는 원료 기체 공급관(21)을 통해 반응기 본체(10)로 공급되며, 반응기 본체(10)로 공급되기 전에 예열기(17)에서 예열될 수 있다.The lower portion of the reactor body 10 may be formed as a tapered region 10a. A heating device 19 may be provided outside the reactor body 10. A raw material gas supply unit 12 is provided at the bottom of the reactor 1. The raw material gas is supplied to the reactor body 10 through the raw material gas supply pipe 21, and may be preheated in the preheater 17 before being supplied to the reactor body 10.

일 구현예에 따르면, 상기 유동층 반응기는 i) 상기 반응기(1)의 상부에 연결되는 신장부(11); ii) 상기 반응기 본체(10)의 측면에 부착되어 상기 반응기 본체로부터 배출된 탄소나노구조물과 혼합기체를 분리하는 분리기(14); iii) 신장부(11)로부터 배출된 혼합기체에서 하나 또는 둘 이상의 성분기체를 일부 또는 전부 제거시키는 여과기(18); 및 iv) 상기 여과기(18)에서 여과된 혼합기체를 외부로 배출시키는 이송관(23); 중 하나 이상을 더 구비할 수 있다.According to one embodiment, the fluidized bed reactor comprises: i) an extension 11 connected to the top of the reactor 1; ii) a separator 14 attached to the side of the reactor body 10 to separate the carbon nanostructures discharged from the reactor body and the mixed gas; iii) a filter 18 for partially or completely removing one or more component gases from the mixed gas discharged from the extension part 11; And iv) a transfer pipe 23 for discharging the mixed gas filtered by the filter 18 to the outside. It may further include one or more of.

일 구현예에 따르면, 상기 제조장치는 상기 혼합기체의 일부를 상기　반응기로 재순환시키는 재순환 배관(22, 26)을 더 구비할 수 있다According to one embodiment, the manufacturing apparatus may further include a recirculation pipe (22, 26) for recirculating a part of the mixed gas to the reactor.

상기 반응기 본체(10)의 측면에는 배출관(24)이 배치되어 생성된 카본 나노구조물을 이송하게 되는바, 이와 같은 배출관(24)은 상기 내부 컬럼(2)의 외부 영역에서 형성된 탄소나노구조물과 혼합기체를 회수기(15)로 이송하기 위하여 상기 반응기 측면의 하단부에 설치될 수 있다.A discharge pipe 24 is disposed on the side of the reactor body 10 to transfer the generated carbon nanostructures, and the discharge pipe 24 is mixed with the carbon nanostructures formed in the outer region of the inner column 2 It may be installed at the lower end of the side of the reactor to transfer the gas to the recovery device (15).

상기 탄소나노구조물과 혼합기체는 상기 배출관(24)을 통해 분리기(14)로 이송된 후 탄소나노구조물과 혼합기체가 분리된다. 분리된 탄소나노구조물은 회수기(15)로 이송되어 회수된다.The carbon nano structure and the mixed gas are transferred to the separator 14 through the discharge pipe 24, and then the carbon nano structure and the mixed gas are separated. The separated carbon nanostructures are transferred to a recovery machine 15 for recovery.

본 발명에서 사용되는 유동층 반응기(1)는 화학기상증착 반응기(chemical vapor deposition reactor)이다.The fluidized bed reactor 1 used in the present invention is a chemical vapor deposition reactor.

화학기상증착(CVD) 방식에 의해 탄소나노구조물을 합성하기 위해서는 반응기체와 촉매의 반응 시간이 최소 10분 이상 필요하여 반응기 내에서 생산하고자 하는 탄소나노구조물과 촉매의 체류시간이 탄소나노구조물의 순도 및 수율에 중요한 영향을 미친다.In order to synthesize the carbon nanostructures by chemical vapor deposition (CVD), the reaction time between the reactant and the catalyst is at least 10 minutes, so the residence time of the carbon nanostructures and catalyst to be produced in the reactor is the purity of the carbon nanostructures. And yields.

유동층 반응기는 내부에서 촉매가 고르게 분포하여 촉매와 반응기체의 접촉이 우수하며 발열 반응시　열의 확산이 용이하고 반응기 내에서 촉매 및 목적 생산물인 탄소나노구조물의 체류시간 확보가 가능하여 고수율(촉매대비 카본 나노구조물의 생성비율)의 탄소나노구조물의 제조가 가능하다는 장점을 갖는다.In the fluidized bed reactor, the catalyst is evenly distributed in the inside, so that the contact between the catalyst and the reactor body is excellent, diffusion of heat during the exothermic reaction is easy, and the residence time of the catalyst and the target product, the carbon nanostructure, can be secured, resulting in high yield (compared to catalyst) It has the advantage that it is possible to produce a carbon nanostructure of the carbon nanostructure production rate).

상기 반응기에는 탄소원(carbon source), 환원성 기체(reducing gas), 불활성 기체(inert gas) 등을 반응기체 공급관(21)을 통해 반응기 하부에서 상부로 공급하여 반응기 측면으로 배출되는 분리기(14)에서 탄소나노구조물을 분리하게 된다.In the reactor, a carbon source, a reducing gas, an inert gas, and the like are supplied from the bottom of the reactor through the reactor gas supply pipe 21 to the upper portion of the reactor to discharge carbon from the separator 14 The nanostructures are separated.

상기 반응기체 공급관(21)은 통상적으로 유동층 반응기의 제조장치에 사용될 수 있는 것인 경우 특별히 제한되지 않고, 구체적으로 기체 분배기(gas distributor) 등일 수 있다.The reactor gas supply pipe 21 is not particularly limited when it can be used in a manufacturing apparatus for a fluidized bed reactor, and may be a gas distributor or the like.

상기 반응기와 상기 분리기 사이라는 것은 상기 반응기의 내부도 포함하고, 미세입자를 분리하는 필터도 유동층 반응기 상부의 신장부(expander)에 배치될 수 있다.The between the reactor and the separator includes the inside of the reactor, and a filter for separating fine particles may also be disposed in an expander at the top of the fluidized bed reactor.

상기 촉매 공급관(25)은 통상적으로 탄소나노구조물의 제조에 사용될 수 있는 것인 경우 특별히 제한되지 않고, 구체적으로 호퍼(hopper), 정량 공급관(feeder), 스크류 공급관(screw feeder), 로타리 에어락 밸브(Rotary airlock valve)로 구성된 촉매 공급장치 등일 수 있다.The catalyst supply pipe 25 is not particularly limited when it can be generally used for the production of carbon nanostructures, and specifically, a hopper, a quantitative feeder, a screw feeder, and a rotary airlock valve (Rotary airlock valve), and the like.

상기 촉매는 탄소나노구조물의 제조에 통상적으로 사용될 수 있는 활성금속과 담지체의 복합구조로 이루어진 불균일계(heterogeneous) 촉매일 수 있고, 보다 구체적으로는 담지촉매, 공침촉매 등일 수 있다. 바람직한 촉매 형태로서 담지촉매가 사용되는 경우 촉매 자체의 부피밀도(bulk density)가 공침 촉매에 비해 높고, 공침촉매와 달리 10 미크론(micron) 이하의 미분이 적어 미세 입자의 뭉침(agglomeration) 현상 발생을 억제할 수 있고, 유동화 과정에서 발생할 수 있는 마모(attrition)에 의한 미분 발생 가능성을 줄일 수 있으며, 촉매 자체의 기계적 강도도 우수하여 반응기 운전을 안정하게 할 수 있는 효과가 있다.The catalyst may be a heterogeneous catalyst composed of a complex structure of an active metal and a carrier, which can be commonly used in the production of carbon nanostructures, and more specifically, may be a supported catalyst, a co-catalyst, or the like. When a supported catalyst is used as a preferred catalyst type, the bulk density of the catalyst itself is higher than that of a co-precipitation catalyst, and unlike co-precipitation catalysts, less than 10 microns of fines are generated, resulting in agglomeration of fine particles. It can be suppressed, it is possible to reduce the possibility of generating fines due to abrasion (attrition) that may occur in the fluidization process, the mechanical strength of the catalyst itself is also excellent, there is an effect to stabilize the reactor operation.

바람직한 촉매 형태로서 공침 촉매를 사용하는 경우, 촉매의 제조 방법이 간단하고, 촉매 원료로 바람직한 금속염들의 가격이 낮아 제조원가상 유리한 측면이 있으며, 비표면적이 넓어 촉매활성이 높은 장점이 있다.When a co-precipitation catalyst is used as a preferred catalyst type, the method for preparing the catalyst is simple, and there are advantages in terms of manufacturing cost due to a low cost of metal salts as a catalyst raw material, and a high specific surface area has a high catalytic activity.

상기 불활성 기체는 질소(N2), 아르곤(Ar) 등일 수 있다.The inert gas may be nitrogen (N 2 ), argon (Ar), or the like.

상기 유동층 반응기의 운전방식은 반응기 내에 유동층을 형성시키고, 이 유동층 안에서 촉매가 반응기체와 접촉하여 반응이 일어나며, 반응이 진행됨에 따라 촉매의 활성금속 상에서 탄소나노튜브 구조물이 성장하여 생성물의 부피밀도(bulk density)가 낮아지게 되면 반응기의 상부 측면의 배출관(회수관)을 통해 밖으로 방출되는 것일 수 있다.The operation method of the fluidized bed reactor forms a fluidized bed in the reactor, in which the catalyst is brought into contact with the reaction gas to react, and as the reaction proceeds, the carbon nanotube structure grows on the active metal of the catalyst to increase the bulk density of the product ( When the bulk density) is lowered, it may be discharged through the discharge pipe (recovery pipe) on the upper side of the reactor.

상기 부피밀도는 0.03 내지 0.3 g/㎤일 수 있고, 바람직하게는 0.05 내지 0.2 g/㎤이다.The bulk density may be 0.03 to 0.3 g / cm 3, preferably 0.05 to 0.2 g / cm 3.

상기 반응기(10) 내에서 형성되는 유동층의 유동속도는 0.03 내지 100 ㎝/s가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.1 내지 70 ㎝/s이다.The flow rate of the fluidized bed formed in the reactor 10 is preferably 0.03 to 100 cm / s, and more preferably 0.1 to 70 cm / s.

상기 반응기(10) 내의 유동층의 최소 유동속도(minimum fluidization velocity)는 0.03 내지 15 ㎝/s가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.1 내지 10 ㎝/s이다.The minimum fluidization velocity of the fluidized bed in the reactor 10 is preferably 0.03 to 15 cm / s, more preferably 0.1 to 10 cm / s.

상기 반응기(1)는 촉매가 공급되는 촉매 공급관(25); 탄소원(carbon source), 환원성 기체 및 불활성 기체가 공급되는 반응기체 공급관(21); 및 생성된 탄소나노튜브와 반응 부산물 기체가 포함된 혼합기체가 배출되는 생성물 배출관(24);이 상호 연결될 수 있다.The reactor 1 includes a catalyst supply pipe 25 through which a catalyst is supplied; A reactor source supply pipe 21 through which a carbon source, a reducing gas and an inert gas are supplied; And a product discharge pipe 24 through which the mixed gas containing the produced carbon nanotubes and the reaction by-product gas is discharged.

상기 탄소원은 가열 상태에서 분해될 수 있는 탄소 함유 기체고, 구체적인예로 지방족 알칸, 지방족 알켄, 지방족 알킨(alkyne), 방향족 화합물 등이며, 보다 구체적인 예로 메탄, 에탄, 에틸렌, 아세틸렌, 에탄올, 메탄올, 아세톤, 일산화 탄소, 프로판, 부탄, 벤젠, 시클로헥산, 프로필렌, 부텐, 이소부텐, 톨루엔, 자일렌, 쿠멘, 에틸벤젠, 나프탈렌, 페난트렌, 안트라센, 아세틸렌, 포름알데히드, 아세트알데히드 등이고, 바람직하게는 메탄(CH4), 에탄(C2H6), 일산화탄소(CO), 아세틸렌(C2H2), 에틸렌(C2H4), 프로필렌(C3H6), 프로판(C3H8), 부탄(C4H10) 및 혼합물인 액화석유기체(LPG) 등일 수 있다.The carbon source is a carbon-containing gas that can be decomposed in a heated state, and specific examples thereof are aliphatic alkanes, aliphatic alkenes, aliphatic alkynes, aromatic compounds, and more specifically, methane, ethane, ethylene, acetylene, ethanol, methanol, Acetone, carbon monoxide, propane, butane, benzene, cyclohexane, propylene, butene, isobutene, toluene, xylene, cumene, ethylbenzene, naphthalene, phenanthrene, anthracene, acetylene, formaldehyde, acetaldehyde, etc., preferably Methane (CH 4 ), ethane (C 2 H 6 ), carbon monoxide (CO), acetylene (C 2 H 2 ), ethylene (C 2 H 4 ), propylene (C 3 H 6 ), propane (C 3 H 8 ) , Butane (C 4 H 10 ) and a liquefied petroleum gas (LPG) that is a mixture.

상기　분리기(14)는 탄소 나노구조물과 혼합기체를 분리할 수 있는 수단, 기구 또는 장치인 경우 특별히 제한되지 않으나, 바람직하게는 싸이클론 (cyclone)일 수 있다.The separator 14 is not particularly limited in the case of a means, mechanism, or device capable of separating a carbon nanostructure from a mixed gas, but may preferably be a cyclone.

상기　여과기(18)는 신장부로부터 배출된 혼합기체를 선택적으로 분리 또는 제거하는 물질, 기구, 기계, 수단 또는 장치를 포함하여 이루어진다.The filter 18 is made of a material, apparatus, machine, means or device for selectively separating or removing the mixed gas discharged from the kidney.

상기 여과기는 상기 반응기 상부 신장부의 하나 또는 둘 이상이 연결된 분리기로부터 배출된 혼합기체에서 탄소원, 환원성 기체 및 불활성 기체를 각각 분리하여 선택적으로 필요한 양 만큼 상기 재순환배관으로 이송시키는 기체 분리유닛일 수 있다.The filter may be a gas separation unit for separating a carbon source, a reducing gas, and an inert gas from the mixed gas discharged from a separator in which one or more of the reactor's upper extensions are connected to each other and selectively transferring the required amount to the recirculation pipe.

상기 환원성 기체는 수소, 암모니아일 수 있다.The reducing gas may be hydrogen or ammonia.

상기 금속 멤브레인 타입의 기체 분리 유닛은 600℃ 미만의 온도에서 수소를 선택적으로 분리할 수 있다.The metal membrane type gas separation unit can selectively separate hydrogen at a temperature of less than 600 ° C.

상기 금속 멤브레인은 Pd, Ir, Rh, Pd-Ni 합금, Pd-Ag 합금 및 Pd-Cu 합금으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택될 수 있으며, 그 중에서 Pd 금속과 Pd계 합금이 바람직하게 사용되나, 이에 한정되는 것은 아니다.The metal membrane may be one or more selected from the group consisting of Pd, Ir, Rh, Pd-Ni alloy, Pd-Ag alloy and Pd-Cu alloy, among which Pd metal and Pd-based alloy are preferably used, It is not limited to this.

금속 멤브레인은 1 이상 사용될 수 있고, 분리하고자 하는 기체의 분리효율을 얻기 위해 최소한의 면적 확보가 필요하다. 대면적의 금속 멤브레인의 제조가 가능할 경우 하나의 멤브레인으로 원하는 플럭스(flux)를 얻을 수 있으나 현재 치밀화 박막 멤브레인을 100㎜*100㎜ 이상으로 제조할 수 없어 최대 크기의 멤브레인을 적층하여 표면적을 확보할 수도 있다. 대면적의 멤브레인(membrane)을 제조 가능할 경우 금속 멤브레인을 적층할 필요가 없으나, 현재 기술로 100㎜*100㎜를 초과하는 고효율의 금속 멤브레인의 제조에는 한계가 있어, 최대의 크기를 지니는 멤브레인을 적층하거나 시리즈로 연결하여 시스템을 구성할 수 있다. 금속 멤브레인은 봉 형상, 시트 형상 등 다양한 형태를 사용 가능하다.More than one metal membrane can be used, and it is necessary to secure a minimum area to obtain separation efficiency of the gas to be separated. If it is possible to manufacture a large-area metal membrane, the desired flux can be obtained with one membrane, but currently, the densified thin-film membrane cannot be manufactured with more than 100 mm * 100 mm. It might be. When it is possible to manufacture a large-area membrane, it is not necessary to stack the metal membrane, but the current technology has limitations in the production of a high-efficiency metal membrane exceeding 100 mm * 100 mm, so that the membrane having the largest size is laminated. Or you can configure the system by connecting in series. The metal membrane may be used in various forms, such as rod shape and sheet shape.

상기 반응기(10)에서 제조된 탄소나노구조물 입자와 혼합기체를 싸이클론을 이용하여 탄소나노구조물 입자와 혼합기체를 분리함으로써 탄소나노구조물 입자는 반응기 상부 측면에 배치된 배출관(24)을 통해 회수하고, 혼합기체는 수소 분리유닛을 통과시킨 다음 재순환시킨 경우 열교환기의 장착 없이 탄소나노구조물의 생산량 대비 원료 투입량을 감소시킬 수 있다.The carbon nanostructure particles and the mixed gas produced in the reactor 10 are separated using a cyclone to separate the carbon nanostructure particles and the mixed gas, thereby recovering the carbon nanostructure particles through the discharge pipe 24 disposed on the upper side of the reactor. , When the mixed gas is passed through the hydrogen separation unit and then recycled, it is possible to reduce the amount of raw material input compared to the production amount of the carbon nano structure without installing a heat exchanger.

상기 수소 분리유닛은 금속 멤브레인이 1개 이상 포함되어 이루어지는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 제작 가능한 최대 크기의 금속멤브레인을 적층하거나 병렬 또는 직렬로 연결하여 원하는 수소 투과 플럭스를 확보하는 형태로 이루어지는 것인데, 이 경우 멤브레인 주입 압력을 변화시켜 반응에서 부생된 수소기체만을 제거할 수 있어 재순환 피드(recycle feed) 조성 제어 등에 유리한 효과가 있다. 그러나 분리 효율이 높은 경우 하나의 멤브레인에서도 분리가 가능하며 분리유닛에서 압력 및 피드량 제어를 통해 분리가 이루어진다.The hydrogen separation unit is preferably made of one or more metal membranes, and more preferably, the metal membranes of the largest possible size are stacked or connected in parallel or in series to secure the desired hydrogen permeation flux. In this case, by changing the membrane injection pressure, it is possible to remove only the hydrogen gas by-product in the reaction, which is advantageous in controlling the composition of the recycle feed. However, when the separation efficiency is high, separation is possible even in one membrane, and separation is performed through pressure and feed rate control in the separation unit.

상기 특정기체는 필요에 따라, 특히 여과된 혼합기체에 특정 기체가 부족한 경우, 그 일부(예를 들면 일부 H2)가 재순환배관으로 공급될 수 있다.The specific gas may be supplied to a recirculation pipe if necessary, especially when the filtered gas mixture lacks a specific gas (eg, some H 2 ).

상기 혼합기체에 포함된 미반응 탄소원은 반응기로 공급된 탄소원의 2 내지 30 %로 조절되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 내지 25 %로 조절되는 것 이다.The unreacted carbon source contained in the mixed gas is preferably adjusted to 2 to 30% of the carbon source supplied to the reactor, and more preferably 5 to 25%.

상기 유동층 반응기는 촉매와 상기 반응기에서 소모된 탄소원만을 투입하는 것으로 항상 거의 동일한 반응물 조성비와 양을 갖는 이상적인 공정 운전이 가능한 특징이 있다.The fluidized bed reactor is characterized in that it is possible to perform an ideal process operation with almost the same composition ratio and amount of reactants as only the catalyst and the carbon source consumed in the reactor are input.

상기 유동층 반응기는 종래 플레어 스택(flare stack) 또는 소각로 등을 이용하여 소각 또는 방출시켰던 미반응 탄소원, 불활성 기체 및 부산물 기체 등을 포함하는 혼합기체를 탄소나노구조물의 생성에서 부생된 환원성 기체인 수소(H2)만을 선택적으로 제거 후 재순환시켜 불활성 기체의 추가 주입 없이 98 % 이상의 탄소원 전환율을 확보할 수 있어 탄소나노구조물의 생산원가를 획기적으로 절감시키고, 소각처리가 필요 없어 이산화탄소의 대기 방출 문제가 없는 친환경 공정이다.The fluidized bed reactor is a reducing gas produced by generating a carbon nanostructure in a mixed gas containing an unreacted carbon source, an inert gas, and a by-product gas that has been incinerated or discharged using a conventional flare stack or an incinerator, hydrogen ( By selectively removing only H 2 ) and recirculating it, it is possible to secure a carbon source conversion rate of 98% or more without additional injection of an inert gas, thereby dramatically reducing the production cost of carbon nanostructures and eliminating the need for incineration, so there is no problem of carbon dioxide emissions It is an eco-friendly process.

또한, 상기 유동층 반응기는 저에너지 소비 장치로 용량(capacity) 대비 반응기의 크기를 줄일 수 있어, 600 내지 1000 ℃에서 운전되는 유동층 반응기의 에너지 비용(cost)을 크게 절감시킬 수 있다.In addition, the fluidized bed reactor can reduce the size of the reactor compared to the capacity (capacity) with a low energy consumption device, it is possible to significantly reduce the energy cost (cost) of the fluidized bed reactor operating at 600 to 1000 ℃.

상기 유동층 반응기는 PSA(Pressure swing adsorption), 고분자 분리막을 사용하여 혼합기체를 분리시 반응기체의 냉각을 위해 필수적으로 요구되는 열교환기(heat exchanger)가 필요 없어 설비 투자비의 절감 및 반응 시스템의 크기도 줄일 수 있는 컴팩트한 유동층 반응기이다. 또한 냉각 없이 고온의 반응기체를 재순환 배관을 통해 재순환시킴으로써 예열기의 필요열량 절감 및 크기를 줄일 수 있다.The fluidized bed reactor uses a pressure swing adsorption (PSA) and a polymer separation membrane to eliminate the heat exchanger, which is essential for cooling the reaction gas when separating the mixed gas, thereby reducing equipment investment and reducing the size of the reaction system. It is a compact fluidized bed reactor that can be reduced. In addition, it is possible to reduce the required amount of heat and the size of the preheater by recirculating the high temperature reactor body through the recirculation pipe without cooling.

상기 반응기와 상기 분리기 사이라는 것은 상기 반응기의 내부도 포함하고, 미세입자를 분리하는 필터도 유동층 반응기 상부의 신장부(expander)에 배치될 수 있다.The between the reactor and the separator includes the inside of the reactor, and a filter for separating fine particles may also be disposed in an expander at the top of the fluidized bed reactor.

상기 반응기에서 합성된 탄소나노구조물이 반응기의 하부로 회수되도록 설계된 경우 상기 필터는 상부로 배출되는 혼합기체에 포함된 미분 제거 용도로 반응기 내부에 설치될 수 있고, 촉매와 탄소나노구조물 등의 고체와 혼합기체를 분리하는 싸이클론과 같은 분리기도 반응기 내부에 배치될 수 있다.When the carbon nanostructure synthesized in the reactor is designed to be recovered to the bottom of the reactor, the filter can be installed inside the reactor for the purpose of removing fines contained in the mixed gas discharged to the top, and solids such as catalysts and carbon nanostructures A separator such as a cyclone separating the mixed gas may also be disposed inside the reactor.

상기 성분기체는 상기 반응기에서 생성된 부산물 기체인 것일 수 있다.The component gas may be a by-product gas produced in the reactor.

상기 유동층 반응기는 상기 반응기에 공급되는 반응기체의 양과 상기 여과기에서 제거되는 성분기체의 양을 조절하는 제어수단을 더 포함하는 것이 바람직하다.Preferably, the fluidized bed reactor further includes control means for adjusting the amount of the reactant gas supplied to the reactor and the amount of the component gas removed from the filter.

상기 제어수단은 상기 반응기에 공급되는 환원성 기체의 양과 상기 여과기를 통과하는 환원성 기체의 양을 조절하는 제어수단일 수 있다.The control means may be a control means for adjusting the amount of reducing gas supplied to the reactor and the amount of reducing gas passing through the filter.

상기 유동층 반응기는 상기 분리기와 상기 여과기 사이에 필터, 스크러버(scrubber) 또는 이들 모두를 더 포함하는 것이 바람직하다.Preferably, the fluidized bed reactor further includes a filter, a scrubber, or both between the separator and the filter.

상기 필터는 분리기에 의해 분리된 혼합기체에 남아 있는 탄소나노구조물 입자를 회수하고, 상기 스크러버는 분리기에 의해 분리된 혼합기체에 존재하는 할로겐화물 등과 같은 유해물질을 제거할 수 있다.The filter recovers carbon nanostructure particles remaining in the mixed gas separated by the separator, and the scrubber can remove harmful substances such as halides present in the mixed gas separated by the separator.

상기 유동층 반응기는 반응기체를 반응기에 투입하기 전에 예열시키는 예열기(pre-heater)를 더 포함하는 것이 바람직할 수 있다.The fluidized bed reactor may preferably further include a pre-heater that preheats the reactor gas before it is introduced into the reactor.

상기 유동층 반응기는 상기 반응기 사이즈가 커질수록, 많은 양의 불활성 기체가 필요하고, 또한 탄소원과 동일 또는 그 이상의 양으로 환원성 기체가 주입되어야 하므로, 생산비용이 절감되는 효과가 현저히 상승한다.In the fluidized bed reactor, as the size of the reactor increases, a large amount of an inert gas is required, and a reducing gas must be injected in an amount equal to or higher than a carbon source, so the effect of reducing production costs is significantly increased.

상기 유동층 반응기는 플레어 스택(flare stack) 또는 소각로 등과 같은 폐기체 소각수단을 포함하지 않을 수 있다.The fluidized bed reactor may not include waste incineration means such as a flare stack or an incinerator.

상기 탄소원과 환원성 기체는 그 몰비가 1:0.5 내지 1:10인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1:0.9 내지 1:6인 것이며, 가장 바람직하게는 1:1 내지 1:5인 것인데, 이 범위 내에서 탄소나노구조물의 생성속도를 제어하여 촉매의 소결(sintering)을 억제하고, 비정질 탄소 생성을 억제하며 그래파이트 탄소(graphitic carbon) 생성을 증가시키는 효과가 있다.The carbon source and the reducing gas preferably have a molar ratio of 1: 0.5 to 1:10, more preferably 1: 0.9 to 1: 6, and most preferably 1: 1 to 1: 5. It is effective to suppress the sintering of the catalyst by controlling the production rate of the carbon nanostructure within the range, suppress the production of amorphous carbon, and increase the production of graphite carbon.

상기 탄소나노구조물을 생성하는 단계에서 필요에 따라 물, 암모니아, NO, NO2 등으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 더 투입할 수 있다.In the step of generating the carbon nanostructure, one or more selected from the group consisting of water, ammonia, NO, and NO 2 may be further added as necessary.

상기 탄소나노구조물의 생성 단계에서 사용되는 촉매는 구체적으로 촉매활성금속 전구체인 Co(NO3)2-6H2O, (NH4)6Mo7O24-4H2O, Fe(NO3)2-6H2O 또는 (Ni(NO3)2-6H2O) 등을 증류수에 용해시킨 다음, 이를 Al2O3, SiO2 또는 MgO 등의 담체에 습식 함침(wet impregnation)시켜 제조한 것일 수 있다.The catalyst used in the step of generating the carbon nanostructure is specifically a catalytically active metal precursor Co (NO 3 ) 2 -6H 2 O, (NH 4 ) 6 Mo 7 O 24 -4H 2 O, Fe (NO 3 ) 2 It may be prepared by dissolving -6H 2 O or (Ni (NO 3 ) 2 -6H 2 O) in distilled water, and then wet impregnation with a carrier such as Al 2 O 3 , SiO 2 or MgO. have.

또한, 상기 촉매는 구체적인 예로 촉매활성 금속 전구체와 Al(OH)3, Mg(NO3)2 또는 콜로이달 실리카(colloidal silica) 등의 담체를 함께 초음파로 처리하여 제조된 것일 수 있다.In addition, the catalyst may be prepared by ultrasonically treating a catalyst active metal precursor with a carrier such as Al (OH) 3 , Mg (NO 3 ) 2 or colloidal silica.

또한, 상기 촉매는 물에 촉매활성 금속전구체가 원활하게 용해될 수 있도록 시트르산(citric acid), 타르타르산(tartaric acid) 등의 킬레이트제를 사용하여 졸겔법으로 제조된 것이거나, 물에 잘 용해되는 촉매활성 금속전구체를 공침(co-precipitation)시켜 제조된 것일 수 있다.In addition, the catalyst is prepared by a sol-gel method using a chelating agent such as citric acid or tartaric acid so that the catalytically active metal precursor can be dissolved smoothly in water, or a catalyst that dissolves well in water It may be prepared by co-precipitation of the active metal precursor.

상기 여과는 혼합기체를 선택적으로 분리할 수 분리방법, 분리수단 또는 분리장치를 사용하여 실시될 수 있다.The filtration can be carried out using a separation method, a separation means or a separation device to selectively separate the mixed gas.

상기 금속 멤브레인 타입의 기체 분리유닛은 600℃ 미만의 온도에서 수소가 선택적으로 분리할 수 있으며, 상기 iii) 금속 멤브레인은 Pd, Ir, Rh, Pd-Ni 합금, Pd-Ag 합금 및 Pd-Cu 합금으로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In the metal membrane type gas separation unit, hydrogen can be selectively separated at a temperature of less than 600 ° C., and the iii) metal membrane is Pd, Ir, Rh, Pd-Ni alloy, Pd-Ag alloy and Pd-Cu alloy. It may be selected from the group consisting of, but is not limited thereto.

10. 반응기 본체 11. 신장부
12. 원료 기체 공급부 13. 분산판
19. 가열장치 30. 가스 분사 파이프
31. 가스 이동 통로 32. 가스 배출구10. Reactor body 11. Stretch
12. Raw material gas supply unit 13. Dispersion plate
19. Heating device 30. Gas injection pipe
31. Gas passage 32. Gas outlet

Claims (11)

외벽과 내벽을 구비한 유동층 반응기 본체,
상기 유동층 반응기 본체의 외벽과 소정의 간격을 두고 상기 외벽을 둘러싸도록 설치되는 가열장치, 및
상기 반응기 본체 내부의 온도를 균일하게 조절하는 온도조절수단을 구비하며,
상기 온도조절수단은 상기 반응기 본체와 가열장치 사이의 이격된 공간에 냉각 기체를 분사하기 위한 복수개의 가스 분사 파이프를 포함하고,
상기 가스 분사 파이프를 통해 상기 반응기 본체 외벽에 냉각기체를 분사하는 방식으로 상기 반응기 본체내부의 온도를 조절하는 것인 탄소나노구조물 제조용 유동층 반응기.Fluidized bed reactor body having outer and inner walls,
A heating device installed to surround the outer wall at a predetermined distance from the outer wall of the fluidized bed reactor body, and
It has a temperature control means for uniformly adjusting the temperature inside the reactor body,
The temperature control means includes a plurality of gas injection pipes for injecting cooling gas into the spaced apart between the reactor body and the heating device,
A fluidized bed reactor for producing a carbon nanostructure, wherein the temperature inside the reactor body is controlled by injecting a cooling gas to the outer wall of the reactor body through the gas injection pipe. 제1항에 있어서,
상기 복수개의 가스 분사 파이프는 유동층 반응기 외벽 둘레에, 그리고 반응기 높이에 따라 일정 간격으로 설치되는 것인 유동층 반응기. According to claim 1,
The plurality of gas injection pipes are installed around the outer wall of the fluidized bed reactor and at regular intervals according to the height of the reactor. 제1항에 있어서,
상기 온도조절 수단은 상기 복수개의 가스 분사 파이프에 연결된 PID (proportional integral derivative) 온도 제어 수단을 함께 포함하는 것인 유동층 반응기.According to claim 1,
The temperature control means is a fluidized bed reactor comprising a PID (proportional integral derivative) temperature control means connected to the plurality of gas injection pipes. 제1항에 있어서,
상기 유동층 반응기의 특정 높이에서 설정 온도 보다 온도가 상승할 경우 해당 높이의 가스 분사 파이프에서 냉각 기체가 분사되어 반응기 외벽의 온도를 낮추는 것인 유동층 반응기. According to claim 1,
When the temperature rises above a set temperature at a specific height of the fluidized bed reactor, a cooling gas is injected from a gas injection pipe of a corresponding height to lower the temperature of the outer wall of the reactor. 제1항에 있어서,
상기 이격된 공간에는 분사된 냉각기체가 이동하여 배출될 수 있는 이동통로가 구비된 것인 유동층 반응기.According to claim 1,
The spaced space is a fluidized bed reactor that is provided with a movement passage through which the injected cooling gas can be moved and discharged. 제1항에 있어서,
상기 가열장치는 일체형으로 반응기 외벽을 둘러 싸고 있는 형태인 유동층 반응기.According to claim 1,
The heating device is a fluidized bed reactor in a form that surrounds the outer wall of the reactor as an integral type. 제1항에 있어서,
상기 가열장치는 복수개의 가열장치가 다단의 형태로 반응기 외벽에 높이 별로 일정 간격을 이루며 설치되어 반응기 외벽을 둘러 싸고 있는 것인 유동층 반응기.According to claim 1,
The heating device is a fluidized bed reactor in which a plurality of heating devices are installed at a predetermined interval for each height on the outer wall of the reactor in a multi-stage form to surround the outer wall of the reactor. 제1항에 있어서,
상기 가스 분사 파이프에서 분사되는 냉각기체는 공기, 불활성기체 또는 이들의 혼합물인 유동층 반응기.According to claim 1,
The cooling gas injected from the gas injection pipe is a fluidized bed reactor which is air, an inert gas, or a mixture thereof. 제5항에 있어서,
상기 가스 분사 파이프는 상기 가열장치를 관통하여 설치되어 반응기 본체 외벽에 가스를 직접적으로 분사하며, 상기 분사된 냉각 기체는 상기 가스 이동통로를 통해 가스 배출구로 배출되는 것인 유동층 반응기.The method of claim 5,
The gas injection pipe is installed through the heating device to directly inject gas into the outer wall of the reactor body, and the injected cooling gas is discharged to the gas outlet through the gas movement passage. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 유동층 반응기를 이용한 탄소나노구조물의 제조방법.Method for producing a carbon nanostructure using the fluidized bed reactor of any one of claims 1 to 9. 제10항에 있어서,
상기 유동층 반응기에 촉매를 공급하는 단계;
상기 반응기에 탄소원, 환원성 기체 및 불활성기체를 포함하는 원료기체를 반응기 본체 내부로 공급하는 단계;
상기 촉매와 반응기체가 반응기 본체 내부의 반응 공간에서 반응하여 탄소나노구조물을 생성하는 단계; 및
생성된 탄소나노구조물을 회수하는 단계를 포함하며,
상기 탄소나노구조물 생성반응 중 반응기 과열에 의한 급격한 온도상승에 의해 반응기 내부에 온도편차가 발생하는 경우, 온도편차가 발생한 부분의 높이에 설치된 가스 분사 파이프를 통해 냉각 기체가 반응기 본체 외벽으로 분사됨으로써, 반응기 내부의 온도를 냉각시켜 반응기 내부의 온도를 균일하게 유지하는 온도조절 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소나노구조물의 제조방법.The method of claim 10,
Supplying a catalyst to the fluidized bed reactor;
Supplying a raw material gas containing a carbon source, a reducing gas, and an inert gas to the reactor into the reactor body;
Generating a carbon nanostructure by reacting the catalyst and the reaction gas in a reaction space inside the reactor body; And
And recovering the generated carbon nanostructure,
When a temperature deviation occurs inside the reactor due to a rapid temperature rise due to overheating of the reactor during the carbon nanostructure production reaction, cooling gas is injected to the outer wall of the reactor body through a gas injection pipe installed at the height of the portion where the temperature deviation occurs, A method of manufacturing a carbon nano structure, comprising a step of controlling the temperature inside the reactor by cooling the temperature inside the reactor to maintain the temperature uniformly.
KR1020160047294A 2016-04-19 2016-04-19 Fluidiizing bed reactor with temperature controller and process for preparing carbon nanostructures using same KR102095517B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160047294A KR102095517B1 (en) 2016-04-19 2016-04-19 Fluidiizing bed reactor with temperature controller and process for preparing carbon nanostructures using same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160047294A KR102095517B1 (en) 2016-04-19 2016-04-19 Fluidiizing bed reactor with temperature controller and process for preparing carbon nanostructures using same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170119372A KR20170119372A (en) 2017-10-27
KR102095517B1 true KR102095517B1 (en) 2020-04-01

Family

ID=60300212

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160047294A KR102095517B1 (en) 2016-04-19 2016-04-19 Fluidiizing bed reactor with temperature controller and process for preparing carbon nanostructures using same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102095517B1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022124867A1 (en) * 2020-12-11 2022-06-16 주식회사 엘지화학 Carbon nanotube manufacturing apparatus and manufacturing method
WO2024007082A1 (en) * 2022-07-06 2024-01-11 Oqab Dietrich Induction Inc. Multi-phase heating systems for bidispersed and polydispersed particle applications

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114950280A (en) * 2022-04-18 2022-08-30 牛忠玲 Shell and tube heat exchanger and ft synthesis slurry bed reactor

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100299113B1 (en) 1993-06-30 2001-11-30 히가시 데쓰로 Heat treatment apparatus and heat treatment method
JP2015174775A (en) 2014-03-12 2015-10-05 ヤマハ株式会社 Production apparatus of carbon nanotube

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100977147B1 (en) * 2007-12-31 2010-08-23 세메스 주식회사 Fluidizing bed apparatus for producting carbon nano tube and facility and method producting carbon nano tube

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100299113B1 (en) 1993-06-30 2001-11-30 히가시 데쓰로 Heat treatment apparatus and heat treatment method
JP2015174775A (en) 2014-03-12 2015-10-05 ヤマハ株式会社 Production apparatus of carbon nanotube

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022124867A1 (en) * 2020-12-11 2022-06-16 주식회사 엘지화학 Carbon nanotube manufacturing apparatus and manufacturing method
WO2024007082A1 (en) * 2022-07-06 2024-01-11 Oqab Dietrich Induction Inc. Multi-phase heating systems for bidispersed and polydispersed particle applications

Also Published As

Publication number Publication date
KR20170119372A (en) 2017-10-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Philippe et al. Catalytic production of carbon nanotubes by fluidized‐bed CVD
CN107108221B (en) Method for producing carbon nanostructure, carbon nanostructure produced by the method, and composite material comprising the carbon nanostructure
US9630160B2 (en) Apparatus and method for continuously producing carbon nanotubes
KR102095517B1 (en) Fluidiizing bed reactor with temperature controller and process for preparing carbon nanostructures using same
KR101800309B1 (en) Fluidized bed reactor and process for preparing carbon nanostructures using same
KR101201523B1 (en) Continuous carbon nano-tube manufacturing apparatus and method
KR101329384B1 (en) Continuous manufacturing apparatus and method for carbon nanotube having gas seperation units
KR101771290B1 (en) Manufacturing device for carbon nanostructures and process for preparing carbon nanostructures by using same
KR101784043B1 (en) Fluidized bed reactor and process for preparing carbon nanostructures using same
KR101783512B1 (en) Fluidized bed reactor and process for preparing carbon nanostructures using same
KR101487975B1 (en) Continuous carbon nano-tube manufacturing apparatus and method
KR101773653B1 (en) Fluidized bed reactor and process for preparing carbon nanostructures using same
KR101602685B1 (en) Continuous process and apparatus for producing carbon nanotubes
KR101486821B1 (en) Continuous carbon nano-tube manufacturing apparatus and method with metalic membrane
KR101834612B1 (en) process for Preparing carbon nanostructures and carbon nanostructures prepared by same
KR20120114453A (en) Continous carbon nano-tube manufacturing apparatus and method
KR101741298B1 (en) Preparation of carbon nanostructures
KR20090011785A (en) Method and apparatus of collecting carbon nano tube
KR20150120615A (en) Catalyst feeder, fluidized bed reactor comprising catalyst feeder and manufacturing method of carbon nanostructures using same
KR20230083719A (en) Method and apparatus for manufacturing hydrogen and carbon product using fluidized reactor comprising activation-pretreated catalyst

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant