KR102089581B1 - Method for manufacturing high resolution large-area fine pattern and flat panel display manufactured by the same - Google Patents

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Abstract

본 발명에 의한 고분해능의 대면적 미세 패턴 제조 방법 및 그 방법으로 제조된 평판 디스플레이가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조하기 위한 방법은 기판 상에 금속 유기 이온 잉크를 도포하여 코팅층을 형성하는 잉크 도포 단계; 상기 코팅층이 형성된 기판을 가열하여 상기 코팅층에 다수의 금속 나노 시드를 생성시켜 상기 코팅층이 소정의 열전도도를 갖는 시드 생성 단계; 및 상기 소정의 열전도도를 갖는 코팅층에 베셀 빔을 직접 조사하되, 상기 베셀 빔의 초점이 상기 코팅층 내의 상기 기판에 인접한 미리 정해진 패터닝 영역에 형성되도록 하여, 상기 패터닝 영역에 있는 금속 나노 시드가 성장 소결되어 금속 패턴이 형성되는 패턴 형성 단계;를 포함하고, 상기 패턴 형성 단계에서 상기 금속 나노 시드가 성장 소결되는 소결 영역은 상기 베셀 빔에 의해 상기 패터닝 영역 내에 형성되는 레이저 조사 영역보다 작게 형성된다.Disclosed is a method for manufacturing a large area fine pattern with high resolution according to the present invention and a flat panel display produced by the method. A method for manufacturing a high resolution large area fine pattern according to an embodiment of the present invention includes an ink application step of forming a coating layer by applying a metal organic ion ink on a substrate; Heating the substrate on which the coating layer is formed to generate a plurality of metal nano seeds on the coating layer to generate a seed having the coating layer having a predetermined thermal conductivity; And directly irradiating a vessel beam to the coating layer having the predetermined thermal conductivity, so that the focal point of the vessel beam is formed in a predetermined patterning region adjacent to the substrate in the coating layer, so that the metal nanoseed in the patterning region grows and sinters. And a pattern forming step in which a metal pattern is formed. In the pattern forming step, a sintered region in which the metal nanoseed is grown and sintered is formed smaller than a laser irradiation region formed in the patterning region by the vessel beam.

Description

고분해능의 대면적 미세 패턴 제조 방법 및 그 방법으로 제조된 평판 디스플레이{METHOD FOR MANUFACTURING HIGH RESOLUTION LARGE-AREA FINE PATTERN AND FLAT PANEL DISPLAY MANUFACTURED BY THE SAME}METHOD FOR MANUFACTURING HIGH RESOLUTION LARGE-AREA FINE PATTERN AND FLAT PANEL DISPLAY MANUFACTURED BY THE SAME

본 발명은 패턴 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 베셀 빔을 이용하여 고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조하기 위한 방법 및 그 방법으로 제조된 평판 디스플레이에 관한 것이다.The present invention relates to a pattern manufacturing method, and more particularly, to a method for manufacturing a high-resolution large-area fine pattern using a vessel beam and a flat panel display manufactured by the method.

전기, 전자 산업의 발전으로 얇고 작으며 다양한 기능이 구현 가능한 전자장치를 제조하기 위해 전자부품 또한 얇고, 작고, 가벼우면서 강하게 제조하기 위한 기술이 요구되고 있다. 디스플레이나 태양전지와 같이 높은 광 투과율이 요구되는 경우 미세 패턴 형성이 중요하며, 또한 대면적으로 제조할 시 미세 패턴의 신뢰성을 갖춰야 한다. 이러한 미세 패턴 형성 기술은 반도체 소자, 광학 소자, 바이오 소자, 디스플레이 등에 적용된다.With the development of the electric and electronic industries, a technology for manufacturing a thin, small, light and strong electronic component is also required in order to manufacture an electronic device capable of implementing thin, small and various functions. When a high light transmittance such as a display or a solar cell is required, it is important to form a fine pattern, and also, when manufacturing in a large area, it is necessary to have the reliability of the fine pattern. The fine pattern forming technology is applied to semiconductor devices, optical devices, bio devices, displays, and the like.

미세 금속 패턴을 제작하는 방법으로 나노 임프린팅(Nano Imprinting), 잉크젯 프린팅(Inkjet Printing), 롤 프린팅(Roll Printing) 등의 방법이 있다. 그 일예로, 등록특허공보 제10-1787013호에는 롤투롤 인쇄전자 공정 기술을 이용한 미세패턴 형성 장치 및 제조 방법이 제안되었다.As a method of manufacturing a fine metal pattern, there are methods such as nano imprinting, inkjet printing, and roll printing. As an example, Patent No. 10-1787013 proposes a fine pattern forming apparatus and manufacturing method using roll-to-roll printing electronic process technology.

그러나, 이러한 기존의 기술들은 유독성 및 느린 시간의 화학 에칭 공정, 고진공 및 다수의 진공 공정, 대면적으로 한계가 있으며 마스터 몰드의 제작 등의 요구에 의해 제조비용이 경제적이지 않고 장시간이 소요되는 등의 공정의 효율성이 떨어지는 문제점이 있다.However, these existing technologies are toxic and slow time chemical etching process, high vacuum and multiple vacuum processes, and there are limitations in large area. There is a problem that the efficiency of the process is reduced.

또한, 기존의 기술들은 대면적 제조에 있어서 스테이지 또는 테이블의 평탄도에 한계가 있어 고해상도의 균일한 패턴 형성이 어려운 문제점이 있고, 잉크젯프린팅, 롤 프린팅은 50μm의 미세 패턴을 형성이 어려우며, 접착력이 좋지 못하고 해상도에 한계가 있다.In addition, existing technologies have a problem in that it is difficult to form a high-resolution uniform pattern due to limitations in flatness of a stage or table in large-area manufacturing, and inkjet printing and roll printing are difficult to form a fine pattern of 50 μm, and adhesion It is not good and there is a limit to the resolution.

뿐만 아니라, 기존의 기술들에 사용되는 금속 나노 입자 분산액은 산화를 방지하기 위해 나노 입자 각각을 캡슐화 되어야 하는데, 이러한 캡슐화에 의해 분산액의 제조 비용이 경제적이지 않다.In addition, the dispersion of the metal nanoparticles used in the existing technologies must be encapsulated in each of the nanoparticles to prevent oxidation, and the manufacturing cost of the dispersion is not economical by such encapsulation.

따라서, 고효율이면서 고분해능의 대면적 금속 패턴 제조 방법이 필요하다.Therefore, there is a need for a method of manufacturing a large area metal pattern with high efficiency and high resolution.

등록특허공보 제10-1787013호, 공고일자 2017년10월19일Registered Patent Publication No. 10-1787013, Announcement Date October 19, 2017

이러한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 기판 상에 금속 유기 이온 잉크를 코팅하여 코팅층을 형성하고 그 코팅층이 형성된 기판을 열처리하여 코팅층에 금속 나노 시드를 생성시키며, 코팅층의 미리 정해진 패터닝 영역에 베셀 빔을 조사하여 패터닝 영역에 있는 금속 나노 시드를 성장 소결시켜 금속 패턴이 형성되도록 한, 고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조하기 위한 방법 및 그 방법으로 제조된 평판 디스플레이를 제공하는데 있다.In order to solve the problems of the prior art, the object of the present invention is to coat the metal organic ion ink on the substrate to form a coating layer and heat-treat the substrate on which the coating layer is formed to generate a metal nanoseed on the coating layer, and advance the coating layer. It is to provide a method for manufacturing a large-resolution microscopic pattern having high resolution, by forming a metal pattern by growing and sintering a metal nanoseed in the patterning area by irradiating a vessel pattern beam to a predetermined patterning area, and to provide a flat panel display manufactured by the method .

다만, 본 발명의 목적은 상기 목적들로 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.However, the object of the present invention is not limited to the above objects, and may be variously extended without departing from the spirit and scope of the present invention.

상기 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 한 관점에 따른 고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조하기 위한 방법은 기판 상에 금속 유기 이온 잉크를 도포하여 코팅층을 형성하는 잉크 도포 단계; 상기 코팅층이 형성된 기판을 가열하여 상기 코팅층에 다수의 금속 나노 시드를 생성시켜 상기 코팅층이 소정의 열전도도를 갖는 시드 생성 단계; 및 상기 소정의 열전도도를 갖는 코팅층에 베셀 빔을 직접 조사하되, 상기 베셀 빔의 초점이 상기 코팅층 내의 상기 기판에 인접한 미리 정해진 패터닝 영역에 형성되도록 하여, 상기 패터닝 영역에 있는 금속 나노 시드가 성장 소결되어 금속 패턴이 형성되는 패턴 형성 단계;를 포함하고, 상기 패턴 형성 단계에서 상기 금속 나노 시드가 성장 소결되는 소결 영역은 상기 베셀 빔에 의해 상기 패터닝 영역 내에 형성되는 레이저 조사 영역보다 작게 형성된다.In order to achieve the object of the present invention, a method for manufacturing a high resolution large area fine pattern according to one aspect of the present invention includes an ink application step of forming a coating layer by applying a metal organic ion ink on a substrate; Heating the substrate on which the coating layer is formed to generate a plurality of metal nano seeds on the coating layer to generate a seed having the coating layer having a predetermined thermal conductivity; And directly irradiating a vessel beam to the coating layer having the predetermined thermal conductivity, so that the focal point of the vessel beam is formed in a predetermined patterning region adjacent to the substrate in the coating layer, so that the metal nanoseed in the patterning region grows and sinters. And a pattern forming step in which a metal pattern is formed. In the pattern forming step, a sintered region in which the metal nanoseed is grown and sintered is formed smaller than a laser irradiation region formed in the patterning region by the vessel beam.

또한, 상기 패턴 형성 단계는, 레이저로부터 발생된 레이저 빔을 상기 베셀 빔으로 변환시키는 베셀 빔 변환 단계를 더 포함할 수 있다.In addition, the pattern forming step may further include a vessel beam conversion step of converting a laser beam generated from a laser into the vessel beam.

또한, 상기 베셀 빔 변환 단계는, 상기 레이저 빔을 엑시콘 렌즈, 고리 모양의 링, 고리 모양의 슬릿 중 어느 하나를 이용하여 상기 베셀 빔으로 변환시킬 수 있다.In addition, in the step of converting the vessel beam, the laser beam may be converted into the vessel beam by using any one of an excicon lens, an annular ring, and an annular slit.

또한, 상기 패턴 형성 단계에서는, 상기 베셀 빔에 의해 가열되는 상기 패터닝 영역에 있는 금속 나노 시드가 성장함에 따라 그 크기가 증가하여 서로 결합되면서 소결될 수 있다.In addition, in the pattern forming step, as the metal nanoseed in the patterning region heated by the vessel beam grows, its size increases and may be sintered while being combined with each other.

또한, 상기 금속 유기 이온 잉크는, 금속 이온이 용해되어 있거나 혼합되어 있는 유기 용매를 포함할 수 있다.Further, the metal organic ion ink may include an organic solvent in which metal ions are dissolved or mixed.

또한, 본 발명은 상기 베셀 빔이 조사되지 않은 영역에 있는 금속 유기 이온 잉크와 금속 나노 시드를 제거하는 시드 제거 단계를 더 포함할 수 있다.In addition, the present invention may further include a seed removal step of removing the metal organic ion ink and the metal nano-seed in the region where the vessel beam is not irradiated.

본 발명의 다른 한 관점에 따른 고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조하기 위한 방법은 기판 상에 금속 나노 입자 분산액을 도포하여 코팅층을 형성하는 용액 도포 단계; 및 상기 코팅층을 상온에서 소정 시간 건조하는 단계; 및 상기 코팅층에 베셀 빔을 직접 조사하되, 상기 베셀 빔의 초점이 상기 코팅층 내의 상기 기판에 인접한 미리 정해진 패터닝 영역에 형성되도록 하여, 상기 패터닝 영역에 있는 금속 나노 입자가 소결되어 금속 패턴이 형성되는 패턴 형성 단계;를 포함하고, 상기 패턴 형성 단계에서 상기 금속 나노 입자가 성장 소결되는 소결 영역은 상기 베셀 빔에 의해 상기 패터닝 영역 내에 형성되는 레이저 조사 영역보다 작게 형성될 수 있다.A method for manufacturing a high resolution large area fine pattern according to another aspect of the present invention includes a solution application step of forming a coating layer by applying a metal nanoparticle dispersion on a substrate; And drying the coating layer at room temperature for a predetermined time. And directly irradiating a vessel beam to the coating layer, so that a focal point of the vessel beam is formed in a predetermined patterning region adjacent to the substrate in the coating layer, whereby metal nanoparticles in the patterning region are sintered to form a metal pattern. Forming step; including, in the pattern forming step, the sintered region where the metal nanoparticles are grown and sintered may be formed smaller than the laser irradiation region formed in the patterning region by the vessel beam.

이처럼 본 발명은 기판 상에 금속 유기 이온 잉크를 코팅하여 코팅층을 형성하고 그 코팅층이 형성된 기판을 열처리하여 코팅층에 금속 나노 시드를 생성시키며, 코팅층의 미리 정해진 패터닝 영역에 베셀 빔을 조사하여 패터닝 영역에 있는 금속 나노 시드를 성장 소결시켜 금속 패턴이 형성되도록 함으로써, 고효율, 고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조할 수 있다.As described above, the present invention forms a coating layer by coating a metal organic ion ink on a substrate and heat-treats the substrate on which the coating layer is formed to generate a metal nano seed on the coating layer, and irradiates a vessel pattern beam to a predetermined patterning region of the coating layer to the patterning region. By growing and sintering the metal nano seeds, the metal pattern can be formed, thereby producing a high-efficiency, high-resolution large-area fine pattern.

또한, 본 발명은 캡슐화가 필요 없는 금속 유기 이온 잉크를 사용하여 경제적으로 미세 패턴을 제조할 수 있다.In addition, the present invention can economically produce a fine pattern using a metal organic ion ink that does not require encapsulation.

또한, 본 발명은 대면적을 위한 별도의 몰드나 마스크 제작이 필요하지 않고, 스테이지나 테이블의 거칠기 최소를 위한 별도의 공정 및 기술이 필요하지 않기 때문에, 단일 공정으로 효율적인 미세 패턴의 제조가 가능할 수 있다.In addition, the present invention does not require the production of a separate mold or mask for a large area, and does not require a separate process and technology to minimize the roughness of the stage or table, so it is possible to manufacture an efficient fine pattern in a single process. have.

다만, 본 발명의 효과는 상기 효과들로 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.However, the effects of the present invention are not limited to the above effects, and may be variously extended without departing from the spirit and scope of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조하기 위한 방법을 나타내는 도면이다.
도 2 내지 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 미세 패턴 제조 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 형성 단계를 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 베셀 빔 생성 원리를 설명하기 위한 도면이다.
도 8a 내지 도 8c는 베셀 빔을 이용하여 제조 가능한 미세 패턴을 보여주는 도면이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따라 기판에 형성된 미세 패턴을 나타내는 도면이다.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조하기 위한 방법을 나타내는 도면이다.1 is a view showing a method for manufacturing a high resolution large area fine pattern according to an embodiment of the present invention.
2 to 5 are views for explaining a process of manufacturing a fine pattern according to an embodiment of the present invention.
6 is a view showing a pattern forming step according to an embodiment of the present invention.
7 is a view for explaining the principle of generating a vessel beam according to an embodiment of the present invention.
8A to 8C are diagrams illustrating fine patterns that can be manufactured using a vessel beam.
9 is a view showing a fine pattern formed on a substrate according to an embodiment of the present invention.
10 is a view showing a method for manufacturing a high resolution large area fine pattern according to another embodiment of the present invention.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭한다.For a detailed description of the present invention, which will be described later, reference is made to the accompanying drawings that illustrate, by way of example, specific embodiments in which the present invention may be practiced. These examples are described in detail enough to enable those skilled in the art to practice the present invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different, but need not be mutually exclusive. For example, certain shapes, structures, and properties described herein may be implemented in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention in relation to one embodiment. In addition, it should be understood that the location or placement of individual components within each disclosed embodiment can be changed without departing from the spirit and scope of the invention. Therefore, the following detailed description is not intended to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention, if appropriately described, is limited only by the appended claims, along with all ranges equivalent to those claimed. In the drawings, similar reference numerals refer to the same or similar functions across various aspects.

이하, 첨부되는 도면을 참조하여 본 발명의 예시적인 실시형태에 따른 고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조하기 위한 방법 및 그 방법으로 제조된 평판 디스플레이를 설명한다. 특히, 본 발명에서는 기판 상에 금속 유기 이온 잉크를 코팅하여 코팅층을 형성하고 그 코팅층이 형성된 기판을 열처리하여 코팅층에 금속 나노 시드를 생성시키며, 코팅층의 미리 정해진 패터닝 영역에 베셀 빔을 조사하여 패터닝 영역에 있는 금속 나노 시드를 성장 소결시켜 금속 패턴이 형성되도록 한, 새로운 패턴 제조 방안을 제안한다.Hereinafter, a method for manufacturing a high resolution large area fine pattern according to an exemplary embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings, and a flat panel display manufactured by the method will be described. In particular, in the present invention, a metal organic ion ink is coated on a substrate to form a coating layer, and the substrate on which the coating layer is formed is heat-treated to generate a metal nanoseed in the coating layer, and a patterning region is irradiated with a vessel beam to a predetermined patterning region of the coating layer. A new pattern manufacturing method is proposed, in which a metal pattern is formed by growing and sintering a metal nanoseed.

디스플레이나 태양전지와 같이 높은 광투과율이 요구되는 장치의 경우 미세 패턴 형성이 중요한 요소이며, 또한 대면적으로 고분해능의 패턴 제조의 신뢰성이 확보되어야 한다. 레이저 빔을 엑시콘 렌즈로 변환시킨 베셀 빔은 고분해능의 대면적 패턴 제조의 효율성을 향상 시킬 수 있으며, 이러한 미세 패턴 형성 기술은 반도체 소자, 광학 소자, 바이오 소자, 디스플레이 등의 다양한 분야에 적용 가능한데, 특히, 평판 디스플레이에 적용될 수 있다.In the case of a device requiring a high light transmittance such as a display or a solar cell, formation of a fine pattern is an important factor, and reliability of manufacturing a pattern having high resolution in a large area must be secured. The vessel beam, which converts the laser beam into an excicon lens, can improve the efficiency of manufacturing a high-resolution large-area pattern, and this fine pattern formation technology can be applied to various fields such as semiconductor devices, optical devices, bio devices, displays, etc. In particular, it can be applied to a flat panel display.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조하기 위한 방법을 나타내는 도면이고, 도 2 내지 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 미세 패턴 제조 과정을 설명하기 위한 도면이다.1 is a view showing a method for manufacturing a high-resolution large-area fine pattern according to an embodiment of the present invention, Figures 2 to 5 is a view for explaining a fine pattern manufacturing process according to an embodiment of the present invention to be.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조하기 위한 방법은 잉크 도포 단계(S100), 시드 생성 단계(S200), 패턴 형성 단계(S300), 잉크 제거 단계(S400)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, a method for manufacturing a high-resolution large-area fine pattern according to an embodiment of the present invention includes an ink application step (S100), a seed generation step (S200), a pattern formation step (S300), and an ink removal step It may include (S400).

1)잉크 도포 단계(S100)에서는, 도 2와 같이 기판(10) 상에 금속 유기 이온 잉크를 코팅하여 코팅층을 형성할 수 있다. 이때, 기판은 SiO2, TiO2, ZnO, 유리, 실리콘 웨이퍼, 및 폴리이미드, 폴리카보네이트, 폴리우레탄, 폴리에틸렌레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 유기 박막형 필름 중 어느 하나일 수 있다.1) In the ink application step (S100), a metal organic ion ink may be coated on the substrate 10 as shown in FIG. 2 to form a coating layer. At this time, the substrate may be any one of an organic thin film such as SiO 2 , TiO 2 , ZnO, glass, a silicon wafer, and polyimide, polycarbonate, polyurethane, polyethylene rephthalate, and polyethylene naphthalate.

또한, 금속 유기 이온 잉크는 금속 이온이 용해되어 있거나 혼합되어 있는 유기 용매를 포함할 수 있다. 이러한 금속 유기 이온의 점도는 1~100 cp일 수 있다. 여기서, 금속 이온은 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 코발트(Co), 철(Fe), 크롬(Cr), 파라듐(Pd), 백금(Pt), 티타늄(Ti), 아연(Zn) 중 어느 하나일 수 있다. 유기 용매는 이소프로판올(Isopropanol), 부탄올(Butanol), 아세톤(Acetone), 에탄올(Ethanol), 톨루엔(Toluene) 중 어느 하나일 수 있다.Further, the metal organic ion ink may include an organic solvent in which metal ions are dissolved or mixed. The viscosity of these metal organic ions may be 1 to 100 cp. Here, the metal ions are gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), aluminum (Al), nickel (Ni), cobalt (Co), iron (Fe), chromium (Cr), palladium (Pd) , Platinum (Pt), titanium (Ti), zinc (Zn). The organic solvent may be any one of isopropanol, butanol, acetone, ethanol, and toluene.

종래 미세 패턴을 형성하는 공정에 사용되던 금속 나노 입자 분산액은 산화로 인한 캡슐화로 경제적이지 않은 제조비용과 습윤성이 뛰어나지 않은 문제점이 있다. 따라서 이러한 문제점을 개선시키기 위해 본 발명에서는 금속을 유기 용매에 용해시킨 금속 유기 이온 잉크를 사용하고자 한다.The metal nanoparticle dispersion liquid used in the process of forming a fine pattern has a problem in that it is not economical for manufacturing cost and wettability due to encapsulation due to oxidation. Therefore, in order to improve this problem, the present invention intends to use a metal organic ion ink in which a metal is dissolved in an organic solvent.

이때, 금속 유기 이온 잉크를 코팅하는 방식으로는 랭뮤어-블로젯(Langmuir-blogett), 스핀(spin) 코팅, 롤(roll) 코팅, 스프레이(spray) 코팅, 블레이드(blade) 코팅, 슬롯다이(slot die) 코팅, 딥(dip) 코팅, 잉크젯(inkjet) 코팅 등 기존에 사용되고 있는 다양한 코팅 방식 중 어느 하나가 이용될 수 있다.At this time, the method of coating the metal organic ion ink is Langmuir-blogett, spin coating, roll coating, spray coating, blade coating, slot die ( Slot die) coating, dip coating, inkjet coating, or any of various coating methods used in the past may be used.

2)시드 생성 단계(S200)에서는, 도 3a 내지 도 3b와 같이 코팅층이 형성된 기판을 열처리하여 상기 코팅층에 다수의 금속 나노 시드를 생성시킬 수 있다. 이때, 코팅층이 형성된 기판을 열처리하는 방식으로는 도 3a와 같이 코팅층이 형성된 기판의 하부에 가열부를 구비하여 가열하거나, 도 3b와 같이 코팅층이 형성된 기판의 상부에 램프 예컨대, IR(Infrared Ray) 램프를 구비하여 가열하는 방식이 이용될 수 있다.2) In the seed generating step (S200), a plurality of metal nano seeds may be generated in the coating layer by heat-treating the substrate on which the coating layer is formed as shown in FIGS. 3A to 3B. At this time, as a method of heat-treating the substrate on which the coating layer is formed, a heating unit is provided at the bottom of the substrate on which the coating layer is formed as shown in FIG. 3A, or a lamp, for example, an IR (Infrared Ray) lamp on top of the substrate on which the coating layer is formed as shown in FIG. A method of heating can be used.

또한, 코팅층이 형성된 기판(10)을 히팅 오븐(heating oven), 마이크로웨이브 오븐(microwave oven) 등의 열처리 챔버 내부에 배치시켜 열을 제공할 수 있다. 이외에 코팅층이 형성된 기판을 가열하는 다양한 방식이 이용될 수 있다.In addition, the substrate 10 on which the coating layer is formed may be placed inside a heat treatment chamber such as a heating oven or a microwave oven to provide heat. In addition, various methods of heating the substrate on which the coating layer is formed may be used.

이러한 열처리 방법에서 코팅층의 일부에만 열이 공급되는 등 불균일하게 열이 공급되는 경우 코팅층 내부에서 금속 나노 시드의 분포가 불균일해지는 문제가 발생될 수 있기 때문에 코팅층에 전체적으로 균일한 열이 공급되도록 한다. 이렇게 코팅층에 열이 전체적으로 균일하게 공급되면, 코팅층 내에서 서로 결합된 금속 이온과 유기물의 결합이 끊어져 환원되면서 고체상태의 미세한 금속 입자로 석출됨으로써, 금속 나노 시드가 생성될 수 있다.In this heat treatment method, when heat is supplied non-uniformly, such as heat is supplied only to a part of the coating layer, a problem may occur in which the distribution of metal nano seeds is uneven inside the coating layer, so that uniform heat is supplied to the coating layer as a whole. When heat is uniformly supplied to the coating layer as described above, the metal ions and organic substances bound to each other in the coating layer are cut off and precipitated to form fine metal particles in a solid state, thereby generating metal nanoseeds.

도 3c와 같이, 금속 유기이온 잉크로 유기은 용액을 사용하여 실험한 결과, 열처리에 의해 유기은 용액에서 은 나노 시드가 생성되는 것을 확인할 수 있다.As shown in Figure 3c, as a result of experiments using an organosilver solution as a metal organoionic ink, it can be seen that silver nano seeds are generated in the organosilver solution by heat treatment.

도 3d와 같이, 제안 방법에 의해 유기은 용액에 은 나노 시드가 생성되는 경우 은 나노 시드 간의 거리가 기존 방법에 의해 생성된 은 나노 시드 간의 거리보다 길어 그 만큼 열 확산 거리도 짧아지기 때문에, 열 확산 거리의 차이만큼 열전도도(thermal conductivity)가 상대적으로 낮아질 수 있다. 이러한 열전도도는 예컨대, 본 발명의 성장소결 과정에서 1 ~ 100W/mK 이내일 수 있다. 즉, 열처리 이전의 금속 유기 이온 잉크 상태에는 열전도도가 1W/mK 미만이고, 열처리에 의한 성장소결 과정에서는 열전도도가 1~100W/mK 이내로 되었다가 성장소결 과정 이후에 100W/mK보다 높아지게 된다.As shown in FIG. 3D, when silver nano seeds are generated in the organic silver solution by the proposed method, the heat diffusion distance is shorter because the distance between the silver nano seeds is longer than the distance between the silver nano seeds generated by the conventional method, and thus the heat diffusion distance is shortened. The thermal conductivity may be relatively low by a difference in distance. The thermal conductivity may be, for example, within 1 to 100 W / mK in the growth sintering process of the present invention. That is, in the state of the metal organic ion ink before the heat treatment, the thermal conductivity is less than 1 W / mK, and in the growth sintering process by heat treatment, the thermal conductivity becomes within 1 to 100 W / mK, and then becomes higher than 100 W / mK after the growth sintering process.

도 3e와 같이, 일반적인 금속 나노 입자 분산액은 낮은 열전도도의 용액상태에서 레이저를 조사하면 유기 용매가 순간적으로 증발하여 높은 열전도를 가지는 고체상태의 나노 입자만 남아 소결 영역이 레이저 조사영역 보다 넓어져 금속 패턴의 분해능이 저하된다.As shown in Fig. 3e, when a laser is irradiated in a solution state of a low thermal conductivity, a typical metal nanoparticle dispersion liquid evaporates instantaneously, leaving only the nanoparticles in a solid state with high thermal conductivity, and the sintering area is wider than the laser irradiation area. The resolution of the pattern is lowered.

반면, 본 공정은 금속 유기 이온 잉크의 열전도도가 1W/mK 이하로 금속나노입자 분산액과 비슷하고 레이저를 조사하면 핵 생성(나노시드), 클러스터 형성, 성장과정을 일으키면서 유기물이 증발하므로 갑작스럽게 열전도도가 증가하지 않고 서서히 증가하여 소결이 이루어져 레이저 조사 영역보다 소결 영역이 넓어지는 현상이 억제되어 금속 패턴의 분해능이 향상된다.On the other hand, in this process, the thermal conductivity of the metal organic ion ink is 1 W / mK or less, which is similar to the dispersion of metal nanoparticles, and when irradiated with laser, the organic matter evaporates while generating nucleation (nanoseed), cluster formation, and growth, so suddenly The sintering is performed by increasing gradually without increasing the thermal conductivity, thereby suppressing the phenomenon that the sintering region is wider than the laser irradiation region, thereby improving the resolution of the metal pattern.

3)패턴 형성 단계(S300)에서는, 도 4a와 같이 코팅층의 미리 정해진 패터닝 영역에 베셀 빔을 조사하여 패터닝 영역에 있는 금속 나노 시드가 성장 소결되어 금속 패턴이 형성될 수 있다.3) In the pattern forming step (S300), a metal pattern may be formed by growing and sintering the metal nanoseed in the patterning region by irradiating a vessel beam to a predetermined patterning region of the coating layer as shown in FIG. 4A.

예를들어, 도 4b와 같이, 기판 상에 코팅된 금속 유기 이온 잉크에 열처리를 하여 은 나노 시드가 형성된 후 그 은 나노 시드에 베셀 빔을 조사함으로써, 베셀 빔에 의해 가열되는 은 나노 시드의 성장과 동시에 서로 간의 소결을 통해 성장 소결을 일으키게 된다.For example, as shown in FIG. 4B, heat treatment is performed on a metal organic ion ink coated on a substrate to form a silver nano seed, and then irradiating the silver nano seed with a vessel beam, thereby growing the silver nano seed heated by the vessel beam. At the same time, growth sintering occurs through sintering with each other.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 형성 단계를 나타내는 도면이다.6 is a view showing a pattern forming step according to an embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 패턴을 형성하는 단계(S300)는 영역 설정 단계(S310), 레이저 조사 단계(S320), 결합 및 소결 단계(S330)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 6, the step of forming a metal pattern according to an embodiment of the present invention (S300) may include a region setting step (S310), a laser irradiation step (S320), a bonding and sintering step (S330). .

3-1)영역 설정 단계(S310)에서는, 코팅층에 베셀 빔을 조사할 영역 즉, 패터닝 영역이 설정될 수 있다. 또한, 설정된 패터닝 영역으로 레이저를 이동시켜 베셀 빔의 초점이 조절될 수 있다. 예를들어, 기판을 고정한 상태에서 레이저를 이동시키거나 레이저를 고정한 상태에서 기판을 이동시킬 수 있다. 이때, 기판은 이동 수단 위에 올려지기 때문에 이동 수단을 이동시킴으로써 기판을 이동시킬 수 있다. 이렇게 이동 수단을 이용하여 레이저 또는 기판을 이동시키며 패터닝 영역에 레이저를 조사하는 방법 이외에 갈바노 스캐너(galvano scanner)를 사용하여 베셀 빔을 이동시키며 조사하는 방법, 그리고 이 두 가지 방법을 결합하여 사용하는 방법들이 사용될 수 있다.3-1) In the region setting step (S310), an area to be irradiated with the vessel beam to the coating layer, that is, a patterning area may be set. In addition, the focus of the vessel beam can be adjusted by moving the laser to the set patterning area. For example, the substrate may be moved while the substrate is fixed or the substrate may be moved while the laser is fixed. At this time, since the substrate is placed on the moving means, the substrate can be moved by moving the moving means. In addition to the method of moving the laser or the substrate using a moving means and irradiating the laser to the patterning area, a method of moving and irradiating a vessel beam using a galvano scanner and combining the two methods are used. Methods can be used.

이렇게 패터닝 영역으로 레이저를 이동시킨 후 베셀 빔의 초점이 조절되는데, 예를들어, 대물 렌즈(objective lens), 스캐너(scanner)를 이용하여 초점이 조절될 수 있다. 또한, 형성하고자 하는 미세 패턴의 면적이나 두께에 영향을 미칠 수 있는 공정 온도, 레이저 빔 이동 속도(scan rate), 레이저 빔의 출력, 펄스폭, 반복율(repetition rate) 등이 조절될 수 있다.After moving the laser to the patterning area, the focus of the vessel beam is adjusted. For example, the focus may be adjusted using an objective lens or a scanner. In addition, process temperature, laser beam scan rate, laser beam output, pulse width, repetition rate, etc., which can affect the area or thickness of the fine pattern to be formed, can be adjusted.

3-2)레이저 조사 단계(S320)에서는, 레이저로부터 발생된 레이저 빔을 베셀 빔으로 변환시키고, 변환시킨 베셀 빔을 코팅층의 미리 정해진 패터닝 영역에 조사할 수 있다. 이러한 레이저는 예를 들어, fs(femtoseconds)에서 ms(milliseconds)까지의 펄스 레이저, CW(Continuous Wave) 레이저, QCW(Quasicontinuous-wave) 레이저를 포함할 수 있다.3-2) In the laser irradiation step (S320), the laser beam generated from the laser may be converted into a vessel beam, and the converted vessel beam may be irradiated to a predetermined patterning area of the coating layer. Such lasers may include, for example, pulse lasers from fs (femtoseconds) to ms (milliseconds), CW (Continuous Wave) lasers, and QCW (Quasicontinuous-wave) lasers.

이때, 본 발명에서는 기판을 통과하여 레이저 빔을 패터닝 영역에 조사하는 경우를 일 예로 설명하고 있지만, 반드시 이에 한정되지 않고 기판을 통과하지 않고 레이저 빔을 패터닝 영역에 조사할 수 있다. 즉, 기판을 기준으로 기판의 하부에서 레이저 빔을 조사하거나 기판의 상부에서 레이저 빔을 조사할 수 있다.At this time, in the present invention, the case where the laser beam is irradiated through the substrate to the patterning area is described as an example, but the present invention is not limited thereto, and the laser beam can be irradiated to the patterning area without passing through the substrate. That is, the laser beam may be irradiated from the bottom of the substrate with respect to the substrate or the laser beam may be irradiated from the top of the substrate.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 베셀 빔 생성 원리를 설명하기 위한 도면이다.7 is a view for explaining the principle of generating a vessel beam according to an embodiment of the present invention.

도 7을 참조하면, 단면 프로파일이 가우시안 형태인 레이저 빔을 엑시콘 렌즈(Axicon Lens)를 이용하여 베셀 빔으로 변환시킬 수 있다. 여기서는 엑시콘 렌즈를 이용하는 경우를 일 예로 설명하고 있지만, 반드시 이에 한정되지 않고, 엑시콘 렌즈뿐 아니라, 고리 모양의 링, 고리 모양의 슬릿을 이용할 수도 있다.Referring to FIG. 7, a laser beam having a cross-sectional profile of a Gaussian shape may be converted into a vessel beam using an Axicon Lens. Here, the case of using an axicon lens is described as an example, but the present invention is not limited to this, and an annular ring or a ring-shaped slit may be used as well as the axicon lens.

부연 설명하면, 레이저의 기본적인 빔 프로파일인 가우시안 형태는 에너지의 소모가 크며 광 파장에 가깝게 빔의 집속이 어려워 광 파장에 가까운 미세 패턴을 형성하기에는 어려움이 있다. 그러나, 베셀 빔은 좁은 영역에 빔을 집속하여 에너지의 소모를 줄이고 집중도를 증가시켜 빔의 초점 크기를 감소시키기 때문에 광 파장 크기의 패턴 형성을 할 수 있고, 간섭을 이용하여 빔을 집속시키며 긴 초점심도(Depth of focus)를 가져 비평면기판에 미세 패턴 형성을 가능하게 한다.In other words, the Gaussian shape, which is the basic beam profile of the laser, consumes a lot of energy and has difficulty in forming a fine pattern close to the light wavelength due to difficulty in focusing the beam close to the light wavelength. However, because the vessel beam focuses the beam in a small area, it reduces energy consumption and increases the concentration, thereby reducing the focal size of the beam, and thus can form a pattern having an optical wavelength, focusing the beam using interference, and long focusing. Depth of focus enables fine pattern formation on non-planar substrates.

그리고 엑시콘 렌즈로 베셀 빔으로 변환 시키고 빔 확대기(Beam expander)에 통과시키면 빔의 크기가 변하는데, 이때 빔의 크기는 빔 확대기의 조절에 의해 자유롭게 변화할 수 있다. 베셀 빔의 크기가 자유롭게 변화하면 초점 영역이 확대기의 조절에 맞추어 변화하고 이를 통해 제한된 초점심도를 극복하여 높이차가 큰 기판 또는 3차원 패터닝이 가능할 수 있다.And when converted to a vessel beam with an excicon lens and passed through a beam expander, the size of the beam changes. At this time, the size of the beam can be changed freely by adjusting the beam expander. If the size of the vessel beam changes freely, the focal region may change according to the control of the expander, thereby overcoming the limited depth of focus, thereby enabling a substrate or a 3D pattern having a large height difference.

또한, 본 발명에서는 하나의 패터닝 영역에 레이저 빔을 조사하는 경우를 일 예로 설명하고 있지만, 반드시 이에 한정되지 않고 다수의 패터닝 영역에 레이저 빔을 조사할 수 있다. 예를들어, 어레이 렌즈 등의 다중 초점 장치를 이용하여 다수의 패터닝 영역을 다중으로 초점화하여 레이저 빔을 조사할 수 있다.In addition, in the present invention, a case in which a laser beam is irradiated to one patterning area is described as an example, but the laser beam may be irradiated to a plurality of patterning areas. For example, a laser beam may be irradiated by multiplexing multiple patterning areas using a multi-focus device such as an array lens.

3-3)결합 및 소결 단계(S330)에서는, 레이저 빔에 의해 가열되는 패터닝 영역에 있는 금속 나노 시드가 성장함에 따라 그 크기가 증가하여 서로 결합되면서 소결될 수 있다.3-3) In the bonding and sintering step (S330), as the metal nano seeds in the patterning region heated by the laser beam grow, their sizes increase and may be sintered while being bonded to each other.

도 8a 내지 도 8c는 베셀 빔을 이용하여 제조 가능한 미세 패턴을 보여주는 도면이다.8A to 8C are diagrams illustrating fine patterns that can be manufactured using a vessel beam.

도 8a를 참조하면, 베셀 빔을 이용하는 경우, 대물 렌즈, 2D 스캐너, 3D 스캐너를 통해 렌즈 형태 또는 반구 형태의 기판이나 표면이 거친 기판 등에 미세 패턴을 형성할 수 있다. 즉, 비평면 기판에 패턴의 형성이 가능하다.Referring to FIG. 8A, when a vessel beam is used, a fine pattern may be formed on an object lens, a 2D scanner, a 3D scanner, a lens-shaped or hemispherical substrate, or a substrate having a rough surface. That is, it is possible to form a pattern on a non-planar substrate.

도 8b를 참조하면, 베셀 빔을 이용하는 경우, 기판의 엣지(edge) 등에 미세 패턴을 형성할 수 있다. 즉, 기판의 엣지에 패턴의 형성이 가능하다.Referring to FIG. 8B, when a vessel beam is used, a fine pattern may be formed on an edge of a substrate. That is, it is possible to form a pattern on the edge of the substrate.

도 8c를 참조하면, 베셀 빔을 이용하는 경우, 긴 초점 심도를 갖기 때문에 기판 위에 미세 패턴을 형성하면서 기판의 엣지에 연속적으로 미세 패턴을 형성할 수 있어, 기판의 앞뒤 양면에 전극이 흐르는 미세 패턴을 형성할 수 있다. 즉, 기판의 평면과 곡면에 연속적으로 패턴의 형성이 가능하다.Referring to Figure 8c, when using a vessel beam, since it has a long depth of focus, it is possible to continuously form a fine pattern on the edge of the substrate while forming a fine pattern on the substrate, so that the electrode flows on both front and back sides of the substrate. Can form. That is, it is possible to form a pattern continuously on the plane and curved surface of the substrate.

예를들어, 디스플레이를 제작하는 경우, 기판의 벽면부를 넘어서 앞면의 디스플레이와 뒷면의 컨트롤 칩(control chip)을 직접 연결하여 기존 대비 베젤(화면 주위 테두리 부분) 영역이 감소하여 상대적으로 화면이 넓어지는 효과와 FPCB(유연성있는 절연기판을 사용한 배선판)와 같은 추가적인 연결회로가 불필요하여 얇고 내구성이 높은 디스플레이를 제작하는 것이 가능하다.For example, in the case of manufacturing a display, the display area on the front side and the control chip on the back side are directly connected beyond the wall surface of the substrate, thereby reducing the area of the bezel (rim area around the screen) compared to the conventional one, thereby making the screen relatively wide. Effects and additional connection circuits such as FPCBs (wiring boards using flexible insulated substrates) are unnecessary, making it possible to manufacture thin and durable displays.

4)잉크 제거 단계(S400)에서는, 도 5와 같이 레이저 빔이 조사되지 않은 영역에 있는 금속 유기 이온 잉크와 금속 나노 시드를 제거하여 기판 상에 금속 패턴만이 존재하도록 할 수 있다. 이러한 제거 방식으로는 초음파나 스프레이 등을 이용하는 방식이 사용되거나, 에탄올, 아세톤 등의 세척 용액을 이용하는 방식이 사용될 수 있다.4) In the ink removal step (S400), the metal organic ion ink and the metal nano-seed in the region where the laser beam is not irradiated may be removed as shown in FIG. 5 so that only a metal pattern is present on the substrate. As the removal method, a method using ultrasonic waves or a spray or the like, or a method using a washing solution such as ethanol or acetone may be used.

도 9는 본 발명의 일 실시예에 따라 기판에 형성된 미세 패턴을 나타내는 도면이다.9 is a view showing a fine pattern formed on a substrate according to an embodiment of the present invention.

도 9를 참조하면, 베셀 빔을 조사하여 패터닝 영역에 있는 금속 나노 시드를 결합 및 소결시킴으로서 기판 상에 미세 패턴이 형성되었음을 보여주고 있다.Referring to FIG. 9, a fine pattern is formed on a substrate by irradiating a vessel beam and bonding and sintering metal nanoseeds in the patterning region.

도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조하기 위한 방법을 나타내는 도면이다.10 is a view showing a method for manufacturing a high resolution large area fine pattern according to another embodiment of the present invention.

도 10을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조하기 위한 방법은 용액 도포 단계(S1100), 패턴 형성 단계(S1200), 잉크 제거 단계(S1300)를 포함할 수 있다. 여기서는 도 1에서 설명한 금속 유기이온 잉크를 대신하여 금속 나노입자 분산액을 사용하고자 한다.Referring to FIG. 10, a method for manufacturing a high resolution large area fine pattern according to an embodiment of the present invention may include a solution application step (S1100), a pattern formation step (S1200), and an ink removal step (S1300). have. Here, it is intended to use a metal nanoparticle dispersion instead of the metal organic ion ink described in FIG. 1.

1)용액 도포 단계(S1100)에서는, 기판 상에 금속 나노 입자 분산액을 코팅하여 코팅층을 형성할 수 있다. 여기서, 금속 나노 입자 분산액은 금속 나노 입자가 유기 용매나 물에 분산된 상태로 제조될 수 있다.1) In the solution application step (S1100), a coating layer may be formed by coating a metal nanoparticle dispersion liquid on a substrate. Here, the metal nanoparticle dispersion may be prepared in a state in which the metal nanoparticles are dispersed in an organic solvent or water.

이렇게 금속 나노 입자 분산액을 이용하여 경우에는 도 1의 제조 방법과 같이 코팅층을 가열하여 금속 나노 시드를 생성하는 과정이 필요하지 않고, 코팅층을 상온에서 소정 시간 건조시킨 후 이후 과정을 진행하게 된다.In the case of using the metal nanoparticle dispersion, the process of heating the coating layer as shown in the manufacturing method of FIG. 1 to generate a metal nanoseed is not necessary, and after drying the coating layer at room temperature for a predetermined time, the subsequent process is performed.

즉, 패턴 형성 단계(S1200), 잉크 제거 단계(S1300)는 도 1의 제조 방법에서 설명하는 내용과 동일하기 때문에 이하에서는 설명하지 않기로 한다.That is, the pattern forming step (S1200) and the ink removing step (S1300) are the same as those described in the manufacturing method of FIG. 1, and thus will not be described below.

이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The features, structures, and effects described in the above embodiments are included in one embodiment of the present invention, and are not necessarily limited to only one embodiment. Furthermore, features, structures, effects, and the like exemplified in each embodiment may be combined or modified for other embodiments by a person having ordinary knowledge in the field to which the embodiments belong. Therefore, the contents related to such combinations and modifications should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

또한, 이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.In addition, although the embodiments have been mainly described above, these are merely examples and do not limit the present invention, and those skilled in the art to which the present invention pertains are exemplified above without departing from the essential characteristics of this embodiment. It will be appreciated that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments can be implemented by modification. And differences related to these modifications and applications should be construed as being included in the scope of the invention defined in the appended claims.

10: 기판
20: 코팅층
30: 금속 나노 시드
40: 레이저
50: 금속 패턴10: substrate
20: coating layer
30: metal nano seed
40: laser
50: metal pattern

Claims (8)

기판 상에 금속 유기 이온 잉크를 도포하여 코팅층을 형성하는 잉크 도포 단계;
상기 코팅층이 형성된 기판을 가열하여 상기 코팅층에 다수의 금속 나노 시드를 생성시켜 상기 코팅층이 소정의 열전도도를 갖는 시드 생성 단계; 및
상기 소정의 열전도도를 갖는 코팅층에 베셀 빔을 직접 조사하되, 상기 베셀 빔의 초점이 상기 코팅층 내의 상기 기판에 인접한 미리 정해진 패터닝 영역에 형성되도록 하여, 상기 패터닝 영역에 있는 금속 나노 시드가 성장 소결되어 금속 패턴이 형성되는 패턴 형성 단계;를 포함하고,
상기 패턴 형성 단계에서, 상기 금속 나노 시드가 성장 소결되는 소결 영역은, 상기 베셀 빔에 의해 상기 패터닝 영역 내에 형성되는 레이저 조사 영역보다 작게 형성되는,
고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조하기 위한 방법.An ink application step of forming a coating layer by applying a metal organic ion ink on the substrate;
Heating the substrate on which the coating layer is formed to generate a plurality of metal nano seeds on the coating layer, so that the coating layer has a seed having a predetermined thermal conductivity; And
Directly irradiating a vessel beam to the coating layer having the predetermined thermal conductivity, the focal point of the vessel beam is formed in a predetermined patterning region adjacent to the substrate in the coating layer, and the metal nanoseed in the patterning region is grown and sintered The pattern forming step of forming the metal pattern; includes,
In the pattern forming step, the sintered region where the metal nanoseed is grown and sintered is formed smaller than the laser irradiation region formed in the patterning region by the vessel beam,
A method for producing a high resolution large area fine pattern. 제1항에 있어서,
상기 패턴 형성 단계는, 레이저로부터 발생된 레이저 빔을 상기 베셀 빔으로 변환시키는 베셀 빔 변환 단계를 더 포함하는, 고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조하기 위한 방법.According to claim 1,
The pattern forming step further comprises a vessel beam converting step of converting a laser beam generated from a laser into the vessel beam, a method for manufacturing a high resolution large area fine pattern. 제2항에 있어서,
상기 베셀 빔 변환 단계는, 상기 레이저 빔을 엑시콘 렌즈, 고리 모양의 링, 고리 모양의 슬릿 중 어느 하나를 이용하여 상기 베셀 빔으로 변환시키는, 고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조하기 위한 방법.According to claim 2,
The step of converting the vessel beam, wherein the laser beam is converted into the vessel beam using any one of an excicon lens, an annular ring, and an annular slit, a method for manufacturing a high resolution large area fine pattern. 제1항에 있어서,
상기 패턴 형성 단계에서는, 상기 베셀 빔에 의해 가열되는 상기 패터닝 영역에 있는 금속 나노 시드가 성장함에 따라 그 크기가 증가하여 서로 결합되면서 소결되는, 고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조하기 위한 방법.According to claim 1,
In the pattern forming step, as the metal nano seeds in the patterning region heated by the vessel beam grow, their sizes increase and are sintered while being bonded to each other. 제1항에 있어서,
상기 금속 유기 이온 잉크는, 금속 이온이 용해되어 있거나 혼합되어 있는 유기 용매를 포함하는, 고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조하기 위한 방법.According to claim 1,
The metal organic ion ink is a method for producing a high resolution large area fine pattern comprising an organic solvent in which metal ions are dissolved or mixed. 제1항에 있어서,
상기 베셀 빔이 조사되지 않은 영역에 있는 금속 유기 이온 잉크와 금속 나노 시드를 제거하는 시드 제거 단계;를 더 포함하는, 고분해능의 대면적 미세 패턴을 제조하기 위한 방법.According to claim 1,
A method for manufacturing a high-resolution large-area fine pattern further comprising; a seed removal step of removing the metal organic ion ink and the metal nano-seed in an area where the vessel beam is not irradiated. 삭제delete 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 평판 디스플레이.A flat panel display manufactured by the method of claim 1.
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