KR102082136B1 - A micro-nano composite pattern And A Fabricating Method of the same - Google Patents

A micro-nano composite pattern And A Fabricating Method of the same Download PDF

Info

Publication number
KR102082136B1
KR102082136B1 KR1020170147775A KR20170147775A KR102082136B1 KR 102082136 B1 KR102082136 B1 KR 102082136B1 KR 1020170147775 A KR1020170147775 A KR 1020170147775A KR 20170147775 A KR20170147775 A KR 20170147775A KR 102082136 B1 KR102082136 B1 KR 102082136B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
nano
curable resin
template
composite pattern
micro
Prior art date
Application number
KR1020170147775A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20190052259A (en
Inventor
조영태
정연호
신승항
최현민
Original Assignee
창원대학교 산학협력단
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 창원대학교 산학협력단 filed Critical 창원대학교 산학협력단
Priority to KR1020170147775A priority Critical patent/KR102082136B1/en
Publication of KR20190052259A publication Critical patent/KR20190052259A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102082136B1 publication Critical patent/KR102082136B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/0001Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
    • G02B6/0011Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
    • G02B6/0065Manufacturing aspects; Material aspects
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/0001Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
    • G02B6/0011Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
    • G02B6/0033Means for improving the coupling-out of light from the light guide
    • G02B6/0035Means for improving the coupling-out of light from the light guide provided on the surface of the light guide or in the bulk of it
    • G02B6/004Scattering dots or dot-like elements, e.g. microbeads, scattering particles, nanoparticles
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/0001Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
    • G02B6/0011Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
    • G02B6/0033Means for improving the coupling-out of light from the light guide
    • G02B6/005Means for improving the coupling-out of light from the light guide provided by one optical element, or plurality thereof, placed on the light output side of the light guide
    • G02B6/0051Diffusing sheet or layer
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133504Diffusing, scattering, diffracting elements
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites

Abstract

본 발명은 복수개의 마이크로 패턴; 및 상기 각각의 마이크로 패턴을 구성하는 복수개의 나노패턴을 포함하며, 상기 복수개의 나노패턴은 각각 상부영역은 밀집되어 있고, 하부영역은 일정 간격 이격되어 위치하는 것을 특징으로 하는 나노-마이크로 복합 패턴 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 간단하고, 저가의 공정으로 마이크로-나노 복합 패턴을 제조하는 방법을 제공할 수 있다.The present invention is a plurality of micro patterns; And a plurality of nanopatterns constituting each of the micropatterns, wherein the plurality of nanopatterns each includes an upper region dense and a lower region spaced apart from each other by a predetermined interval. The present invention relates to a method for manufacturing the same, and a method of manufacturing a micro-nano composite pattern in a simple and low-cost process can be provided.

Description

나노-마이크로 복합 패턴 및 이의 제조방법{A micro-nano composite pattern And A Fabricating Method of the same}A micro-nano composite pattern And A Fabricating Method of the same

본 발명은 나노-마이크로 복합 패턴 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 간단하고 저가의 공정에 의해 제조될 수 있는 나노-마이크로 복합 패턴 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a nano-micro composite pattern and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a nano-micro composite pattern and a method for manufacturing the same can be produced by a simple and inexpensive process.

미세한 패턴을 형성시키는 미세패턴 가공기술은 여러 산업분야의 기반이 되는 기반기술로서 전자소자, 광학소자, MEMS, 최근에는 바이오 소자에 이르기까지 다양한 분야에 있어서 파급효과를 줄 수 있는 핵심 기술이 다. 특히 1990년대 이후로 기존의 거시구조에서의 특성과는 다른 현상들이 나노구조에서 발현됨을 주목하는 연구가 속속 소개됨에 따라 이를 이용한 나노소자를 구성하기 위한 미세패턴 가공기술, 즉 패터닝 기술에 대한 연구가 집중적으로 이루어지고 있다. Micropattern processing technology to form fine patterns is a core technology that is the foundation technology of various industries and is a core technology that can have a ripple effect in various fields such as electronic devices, optical devices, MEMS, and recently, bio devices. In particular, since the 1990s, researches paying attention to phenomena that are different from those of macroscopic structures have appeared in nanostructures. It is concentrated.

또한 전기전자, 화학, 재료, 바이오 등의 전통적인 학문에 나노기술을 바탕으로 여러 혼합-응용기술이 발달함에 따라, 전자산업에서 주로 사용되던 미세패턴 가공기술의 응용은 점차 다양한 나노소자와 광학 소자를 비롯하여, 바이오 칩과 같은 바이오 소자에까지 그 응용성이 날로 넓어지고 있다.In addition, as various mixed-application technologies have been developed based on nanotechnology in traditional studies such as electrical and electronics, chemistry, materials, and biotechnology, the application of micropattern processing technology, which is mainly used in the electronics industry, has been increasingly applied to various nano and optical devices. In addition, the applicability of bio devices such as biochips is being expanded day by day.

종래 마이크로 패턴에 나노 크기의 복합 패턴을 제작하기 위해서는 기계적인 방법이나 반도체 리소그라피 기술 등이 활용되어 왔다. 구체적으로, 나노미터 크기의 미세 패턴 제작을 위한 공정으로는 전자빔이나 이온집속빔을 사용한 고가의 공정이 대부분이다. 이에 따라 나노 수준의 패턴과 마이크로 수준의 패턴이 복합 형성된 패턴을 제작하기 위하여는 고가의 비용이 수반되어야 한다. In order to manufacture a nano-scale composite pattern in a conventional micro pattern, a mechanical method or a semiconductor lithography technique has been utilized. In detail, a process for producing a nanometer-sized fine pattern is mostly an expensive process using an electron beam or an ion focusing beam. Accordingly, in order to manufacture a pattern in which a nano-level pattern and a micro-level pattern are formed in combination, an expensive cost must be accompanied.

또한 이러한 고가의 공정에도 불구하고 패턴의 정확도가 떨어지는 문제점이 있었다.In addition, despite this expensive process, there was a problem that the accuracy of the pattern is lowered.

한국공개특허 10-2015-0122891Korea Patent Publication 10-2015-0122891

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 간단하고, 저가의 공정으로 마이크로-나노 복합 패턴을 제조하는 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a method for producing a micro-nano composite pattern in a simple, low-cost process.

본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 지적된 문제점을 해결하기 위해서 본 발명은 복수개의 마이크로 패턴; 및 상기 각각의 마이크로 패턴을 구성하는 복수개의 나노패턴을 포함하며, 상기 복수개의 나노패턴은 각각 상부영역은 밀집되어 있고, 하부영역은 일정 간격 이격되어 위치하는 것을 특징으로 하는 나노-마이크로 복합 패턴을 제공한다.In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a plurality of micro patterns; And a plurality of nanopatterns constituting each of the micropatterns, wherein the plurality of nanopatterns each includes an upper region dense and a lower region spaced apart from each other by a predetermined interval. to provide.

또한, 본 발명은 상기 복수개의 나노패턴의 하부영역은 경화 수지층으로부터 연장되어, 상기 경화 수지층에 의해 상기 복수개의 나노패턴의 각각의 하부영역이 일정 간격 이격되어 위치하는 것을 특징으로 하는 나노-마이크로 복합 패턴을 제공한다.In addition, the present invention is characterized in that the lower regions of the plurality of nanopatterns extend from the cured resin layer, and the lower regions of each of the plurality of nanopatterns are spaced apart by a predetermined interval by the cured resin layer. Provide a micro composite pattern.

또한, 본 발명은 상기 복수개의 나노패턴의 각각 상부영역은 응집(凝集, flocculation)된 것을 특징으로 하는 나노-마이크로 복합 패턴을 제공한다.In another aspect, the present invention provides a nano-micro composite pattern, characterized in that each upper region of the plurality of nano-patterns are flocculation (flocculation).

또한, 본 발명은 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법에 있어서, 상기 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법은, 베이스 부재를 제공하는 단계; 상기 베이스 부재의 제1면에 경화성 수지를 도포하는 단계; 상기 경화성 수지의 상면에 템플레이트를 위치시키는 단계; 상기 템플레이트의 관통홀에 경화성 수지를 주입하는 단계; 상기 템플레이트의 관통홀에 위치하는 경화성 수지를 경화하여 나노단위 패턴을 형성하는 단계; 상기 템플레이트를 식각하는 단계; 및 상기 템플레이트가 식각되면서, 상기 나노단위 패턴들의 상부 영역이 밀집되어, 상기 나노단위 패턴들이 존재하는 영역들이 구획되고, 상기 구획된 영역들에 의해 각각 마이크로단위 패턴이 형성되는 단계를 포함하는 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention provides a method for producing a nano-micro composite pattern, the method for producing a nano-micro composite pattern, comprising the steps of providing a base member; Applying a curable resin to the first surface of the base member; Placing a template on an upper surface of the curable resin; Injecting a curable resin into the through-hole of the template; Curing the curable resin positioned in the through-hole of the template to form a nano-unit pattern; Etching the template; And as the template is etched, the upper regions of the nano-unit patterns are densified so that regions in which the nano-unit patterns exist are partitioned, and micro-unit patterns are formed by the partitioned regions, respectively. It provides a method for producing a micro composite pattern.

또한, 본 발명은 상기 템플레이트는 일정 높이(h)를 포함하는 몸체부; 상기 몸체부의 상부에 위치하는 상면; 상기 몸체부의 하부에 위치하는 하면; 및 상기 상면과 상기 하면을 관통하는 상기 관통홀을 포함하는 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention the template is a body portion including a predetermined height (h); An upper surface positioned above the body portion; A lower surface positioned below the body portion; And a through hole penetrating the upper surface and the lower surface.

또한, 본 발명은 상기 템플레이트의 관통홀에 경화성 수지를 주입하는 단계는, 상기 경화성 수지의 상면에 위치하는 상기 템플레이트의 하면으로부터 상기 경화성 수지가 주입되어, 상기 템플레이트의 상면 방향으로 상기 경화성 수지가 주입됨으로써, 상기 관통홀의 내측 영역에 경화성 수지를 주입하는 것인 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법을 제공한다.In the present invention, the step of injecting the curable resin into the through-hole of the template, the curable resin is injected from the lower surface of the template located on the upper surface of the curable resin, the curable resin is injected in the upper surface direction of the template As a result, it provides a method for producing a nano-micro composite pattern to inject a curable resin into the inner region of the through-hole.

또한, 본 발명은 상기 템플레이트의 관통홀에 경화성 수지를 주입하는 단계는, 상기 베이스 부재의 제1면에 위치하는 상기 경화성 수지 중 일부의 경화성 수지는 상기 관통홀로 주입되어, 상기 관통홀의 내측 영역에 위치하는 경화성 수지를 구성하며, 다른 일부의 경화성 수지는 상기 베이스 부재의 제1면에 여전히 위치하여 잔존 경화성 수지를 구성하는 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법을 제공한다.In the present invention, the step of injecting the curable resin into the through-hole of the template, the curable resin of some of the curable resin located on the first surface of the base member is injected into the through-hole, in the inner region of the through-hole It provides a method for producing a nano-micro composite pattern constituting the curable resin to be located, the other part of the curable resin is still located on the first side of the base member constituting the remaining curable resin.

또한, 본 발명은 상기 경화성 수지를 경화하는 것은 UV를 조사하여 경화하는 것인 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention provides a method for producing a nano-micro composite pattern to cure the curable resin is to cure by irradiation with UV.

또한, 본 발명은 상기 템플레이트의 관통홀에 위치하는 경화성 수지를 경화하는 단계를 통하여, 상기 잔존 경화성 수지도 경화되어 경화 수지층을 구성하는 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention provides a method for producing a nano-micro composite pattern by curing the curable resin located in the through-holes of the template, the residual curable resin is cured to form a cured resin layer.

또한, 본 발명은 상기 템플레이트를 식각하는 것은, 수산화나트륨(NaOH) 용액, 수산화칼륨(KOH) 용액, 인산(H3PO4) 용액 또는 질산(HNO3) 용액을 사용하는 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention is etching the template, the nano-micro composite pattern using a sodium hydroxide (NaOH) solution, potassium hydroxide (KOH) solution, phosphoric acid (H 3 PO 4 ) solution or nitric acid (HNO 3 ) solution It provides a manufacturing method.

또한, 본 발명은 상기 마이크로단위 패턴이 형성되는 단계이후, 상기 나노-마이크로 복합 패턴에 UV-ozone 처리를 하는 단계를 더 포함하는 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention provides a method of manufacturing a nano-micro composite pattern further comprising the step of UV-ozone treatment to the nano-micro composite pattern after the step of forming the micro-unit pattern.

상기한 바와 같은 본 발명에 따르면, 간단하고, 저가의 공정으로 마이크로-나노 복합 패턴을 제조하는 방법을 제공할 수 있다.According to the present invention as described above, it is possible to provide a method for producing a micro-nano composite pattern in a simple, low-cost process.

또한, 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴은 소수성(疏水性, hydrophobic) 특성이 발현되어, 방수 특성을 요구하는 다양한 제품에 적용이 가능하다.In addition, the nano-micro composite pattern according to the present invention is expressed in hydrophobic (hydrophobic, hydrophobic) properties, it can be applied to a variety of products that require waterproof properties.

도 1은 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 2 내지 도 8은 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법을 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 9a 및 도 9b는 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴을 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 10은 본 발명에 따른 템플레이트의 관통홀에 경화성 수지가 주입된 상태를 도시하는 실사진이다.
도 11은 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴을 도시하는 실사진이다.
도 12는 본 발명의 다른 예에 따른 나노-마이크로 복합 패턴을 도시하는 실사진이다.
도 13은 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴의 접촉각을 도시하는 실사진이다.
1 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a nano-micro composite pattern according to the present invention.
2 to 8 is a schematic view for explaining a method of manufacturing a nano-micro composite pattern according to the present invention.
9A and 9B are schematic diagrams for explaining a nano-micro composite pattern according to the present invention.
10 is a photograph showing a state in which a curable resin is injected into a through hole of a template according to the present invention.
11 is a photogram showing a nano-micro composite pattern according to the present invention.
12 is a photograph showing a nano-micro composite pattern according to another example of the present invention.
Fig. 13 is a photograph showing the contact angle of the nano-micro composite pattern according to the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Advantages and features of the present invention, and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in various forms, and only the present embodiments make the disclosure of the present invention complete, and those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. It is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the present invention is defined only by the scope of the claims.

아래 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시를 위한 구체적인 내용을 상세히 설명한다. 도면에 관계없이 동일한 부재번호는 동일한 구성요소를 지칭하며, "및/또는"은 언급된 아이템들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Regardless of the drawings, like reference numerals refer to like elements, and “and / or” includes each and every combination of one or more of the items mentioned.

비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.Although the first, second, etc. are used to describe various components, these components are of course not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. Therefore, of course, the first component mentioned below may be the second component within the technical spirit of the present invention.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소 외에 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. In this specification, the singular also includes the plural unless specifically stated otherwise in the phrase. As used herein, “comprises” and / or “comprising” does not exclude the presence or addition of one or more other components in addition to the mentioned components.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used in the present specification (including technical and scientific terms) may be used in a sense that can be commonly understood by those skilled in the art. In addition, terms that are defined in a commonly used dictionary are not ideally or excessively interpreted unless they are specifically defined clearly.

공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 구성 요소와 다른 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 구성요소들의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 구성요소를 뒤집을 경우, 다른 구성요소의 "아래(below)" 또는 "아래(beneath)"로 기술된 구성요소는 다른 구성요소의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 구성요소는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다. The spatially relative terms " below ", " beneath ", " lower ", " above ", " upper " It can be used to easily describe the correlation of a component with other components. Spatially relative terms are to be understood as including terms in different directions of components in use or operation in addition to the directions shown in the figures. For example, when flipping a component shown in the drawing, a component described as "below" or "beneath" of another component may be placed "above" the other component. Can be. Thus, the exemplary term "below" can encompass both an orientation of above and below. The components can be oriented in other directions as well, so that spatially relative terms can be interpreted according to the orientation.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법을 설명하기 위한 순서도이고, 도 2 내지 도 8은 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법을 설명하기 위한 개략적인 도면이다. 이때, 도 2 내지 도 8에서, a도는 사시도를 도시하고 있으며, b도는 각각의 a도의 단면도를 도시하고 있다,1 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a nano-micro composite pattern according to the present invention, and FIGS. 2 to 8 are schematic views illustrating a method of manufacturing a nano-micro composite pattern according to the present invention. 2 to 8, a shows a perspective view, and b shows a cross sectional view of each a view.

먼저, 도 1, 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법은 베이스 부재(110)를 제공하는 단계를 포함한다(S110).First, referring to FIGS. 1, 2A and 2B, a method of manufacturing a nano-micro composite pattern according to the present invention includes providing a base member 110 (S110).

상기 베이스 부재(110)는 라텍스, 폴리우레탄, PDMS, PUA, PFPE, PE, 스판덱스, 고어덱스, 폴리클로로프렌, 스티렌-부타디엔 고무(SBR), 아크릴로니트릴-부타디엔 고무(NBR), 부틸 고무, 에틸렌플로필렌 러버(EPR), 티오콜, 실리콘 고무 중 적어도 어느 하나의 물질을 사용할 수 있으며, 다만, 본 발명에서 상기 베이스 부재의 재질을 제한하는 것은 아니다.The base member 110 is made of latex, polyurethane, PDMS, PUA, PFPE, PE, spandex, Goddex, polychloroprene, styrene-butadiene rubber (SBR), acrylonitrile-butadiene rubber (NBR), butyl rubber, ethylene At least one material of propylene rubber (EPR), thiocol, and silicone rubber may be used, but the material of the base member is not limited in the present invention.

다음으로, 도 1, 도 3a 및 도 3b를 참조하면, 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법은 상기 베이스 부재(110)의 제1면에 경화성 수지(120)를 도포하는 단계를 포함한다(S120).Next, referring to FIGS. 1, 3A and 3B, the method of manufacturing a nano-micro composite pattern according to the present invention includes applying a curable resin 120 to a first surface of the base member 110. (S120).

상기 경화성 수지(120)는 후술하는 공정인 UV 조사 공정에서, 경화가 일어나는 수지에 해당하는 것으로, 폴리에스테르 아크릴, 우레탄 아크릴, 에폭시 아크릴, 폴리에터르 아크릴 등의 아크릴계 수지 또는 에폭시 수지와 같은 에폭시계 수지를 사용할 수 있으며, 다만, 본 발명에서 상기 경화성 수지의 종류를 제한하는 것은 아니다.The curable resin 120 corresponds to a resin in which curing occurs in a UV irradiation process, which will be described later, and an epoxy resin such as an acrylic resin such as polyester acrylic, urethane acrylic, epoxy acrylic, polyether acrylic, or epoxy resin. Resin may be used, but the type of the curable resin is not limited in the present invention.

이때, 상기 경화성 수지의 도포 두께는 적정한 두께로 형성될 수 있으며, d이에 대해서는 후술하기로 한다.At this time, the coating thickness of the curable resin may be formed to an appropriate thickness, d will be described later.

다음으로, 도 1, 도 4a 및 도 4b를 참조하면, 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법은 상기 경화성 수지(120)의 상면에 템플레이트(130)를 위치시키는 단계를 포함한다(S130).Next, referring to FIGS. 1, 4A and 4B, the method of manufacturing a nano-micro composite pattern according to the present invention includes placing a template 130 on an upper surface of the curable resin 120 (S130). ).

상기 템플레이트(130)는 일정 높이(h)를 포함하는 몸체부(131); 상기 몸체부(131)의 상부에 위치하는 상면(132); 상기 몸체부(131)의 하부에 위치하는 하면(133); 및 상기 상면(132)과 상기 하면(133)을 관통하는 관통홀(134)를 포함한다. The template 130 has a body portion 131 having a predetermined height (h); An upper surface 132 positioned on an upper portion of the body portion 131; A lower surface 133 positioned below the body portion 131; And a through hole 134 penetrating the upper surface 132 and the lower surface 133.

이때, 상기 관통홀의 사이즈는 설명의 편의를 위하여 과도하게 도시하였으며, 본 발명에서 상기 관통홀(134)은 나노사이즈에 해당하는 것으로, 상기 관통홀(134)의 크기는 수십나노 내지 수백나노에 해당할 수 있으며, 예를 들어, 10nm 내지 500nm의 크기에 해당할 수 있다.In this case, the size of the through hole is excessively illustrated for convenience of description, and in the present invention, the through hole 134 corresponds to a nano size, and the size of the through hole 134 corresponds to several tens of nanometers to several hundred nanometers. For example, it may correspond to a size of 10nm to 500nm.

다만, 상기 관통홀(134)의 사이즈(w)는 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴에서의 나노 패턴의 사이즈를 결정하는 것으로, 제조하고자 하는 나노 패턴의 사이즈에 따라 적정하게 선택할 수 있는 것으로, 따라서, 본 발명에서 상기 관통홀(134)의 사이즈를 제한하는 것은 아니다.However, the size (w) of the through hole 134 is to determine the size of the nano-pattern in the nano-micro composite pattern according to the present invention, which can be appropriately selected according to the size of the nano-pattern to be manufactured, Therefore, the size of the through hole 134 is not limited in the present invention.

한편, 본 발명에 따른 상기 템플레이트(130)는, 후술하는 식각공정에 의해 제거될 수 있는 것으로, 잘 알려진 AAO(Anodic Aluminum Oxide) Template("알루미늄 양극 산화 방법에 의해 제작된 형틀")일 수 있으며, 이러한 AAO Template의 일 예로, 한국공개특허 제10-2013-0050652호를 참조할 수 있다.On the other hand, the template 130 according to the present invention, which can be removed by an etching process to be described later, may be a well-known AAO (Anodic Aluminum Oxide) Template ("template produced by the aluminum anodic oxidation method") As an example of such an AAO template, Korean Patent Publication No. 10-2013-0050652 may be referred to.

또한, 상기 몸체부(131)의 일정 높이(h1)는 후술하는 나노-마이크로 복합 패턴의 높이를 고려하여 적정하게 선정할 수 있으며, 예를 들어, 수 마이크로 내지 수백 마이크로의 높이를 가질 수 있으며, 예를 들어, 5㎛ 내지 500㎛의 높이를 가질 수있다.In addition, the predetermined height (h1) of the body portion 131 may be appropriately selected in consideration of the height of the nano-micro composite pattern to be described later, for example, may have a height of several micro to several hundred micro, For example, it may have a height of 5 μm to 500 μm.

즉, 상기 몸체부(131)의 일정 높이(h1)는 나노-마이크로 복합 패턴의 높이를 결정하는 것으로, 제조하고자 하는 나노-마이크로 복합 패턴의 높이에 따라 적정하게 선택할 수 있는 것으로, 따라서, 본 발명에서 상기 몸체부(131)의 일정 높이(h1)를 제한하는 것은 아니다.That is, the predetermined height (h1) of the body portion 131 is to determine the height of the nano-micro composite pattern, can be appropriately selected according to the height of the nano-micro composite pattern to be manufactured, therefore, the present invention In the predetermined height h1 of the body portion 131 is not limited.

한편, 상기 경화성 수지(120)의 상면에 템플레이트(130)를 위치시키는 단계는, 상기 경화성 수지(120)의 상면에 상기 템플레이트(130)의 하면(133)을 위치시키는 것에 해당한다.Meanwhile, the positioning of the template 130 on the upper surface of the curable resin 120 corresponds to placing the lower surface 133 of the template 130 on the upper surface of the curable resin 120.

다음으로, 도 1, 도 5a 및 도 5b를 참조하면, 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법은 상기 템플레이트(130)의 관통홀(134)에 경화성 수지(120'')를 주입하는 단계를 포함한다(S140).Next, referring to FIGS. 1, 5A and 5B, in the method of manufacturing a nano-micro composite pattern according to the present invention, the curable resin 120 ″ is injected into the through-hole 134 of the template 130. It includes a step (S140).

이때, 상기 템플레이트(130)의 관통홀(134)에 경화성 수지(120'')를 주입하는 하는 것은, 상기 경화성 수지(120)의 상면에 위치하는 상기 템플레이트(130)의 하면(133)으로부터 상기 경화성 수지(120)가 주입되어, 상기 템플레이트(130)의 상면(132) 방향으로 상기 경화성 수지가 주입됨으로써, 상기 관통홀(134)의 내측 영역에 경화성 수지(120'')를 주입시킬 수 있다.In this case, injecting the curable resin 120 ″ into the through hole 134 of the template 130 may be formed from the lower surface 133 of the template 130 positioned on the upper surface of the curable resin 120. Since the curable resin 120 is injected and the curable resin is injected toward the upper surface 132 of the template 130, the curable resin 120 ″ may be injected into the inner region of the through hole 134. .

이로 인하여, S110 단계에서의 상기 베이스 부재(110)의 제1면에 위치하는 상기 경화성 수지(120) 중 일부의 경화성 수지는 상기 관통홀(134)로 주입되어, 상기 관통홀(134)의 내측 영역에 위치하는 경화성 수지(120'')를 구성하며, 다른 일부의 경화성 수지는 상기 베이스 부재(110)의 제1면에 여전히 위치하여 잔존 경화성 수지(120')를 구성하게 된다.Therefore, some of the curable resin 120 of the curable resin 120 positioned on the first surface of the base member 110 in step S110 is injected into the through-hole 134, so that the inside of the through-hole 134. And the other part of the curable resin is still positioned on the first surface of the base member 110 to constitute the remaining curable resin 120 '.

다만, 본 발명에서 상기 베이스 부재(110)의 제1면에 여전히 위치하는 잔존 경화성 수지(120')는 필수적인 구성은 아니며, S110 단계에서의 상기 베이스 부재(110)의 제1면에 위치하는 상기 경화성 수지(120)의 모두가 상기 관통홀(134)로 주입되어, 상술한 잔존 경화성 수지(120')는 존재하지 않을 수 있다.However, in the present invention, the remaining curable resin 120 ′ still positioned on the first surface of the base member 110 is not an essential configuration, and the position located on the first surface of the base member 110 in step S110. Since all of the curable resin 120 is injected into the through hole 134, the above-described remaining curable resin 120 ′ may not exist.

또한, 상기 템플레이트(130)의 관통홀(134)에 경화성 수지(120'')를 주입하는 하는 것은, 상기 템플레이트(130)를 가압함에 의하여 상기 경화성 수지(120)의 상면에 위치하는 상기 템플레이트(130)의 하면(133)으로부터 상기 경화성 수지(120)가 주입될 수 있으며, 이때, 상기 관통홀(134)은 상기 템플레이트(130)의 상기 상면(132)과 상기 하면(133)을 관통하고 있기 때문에, 상기 템플레이트(130)의 하면(133)으로부터 상기 템플레이트(130)의 상면(132) 방향으로 상기 경화성 수지가 주입됨에 있어서, 보다 용이하게 경화성 수지의 주입이 가능하다.Injecting the curable resin 120 ″ into the through-hole 134 of the template 130 may be performed by pressurizing the template 130 to place the template on the upper surface of the curable resin 120. The curable resin 120 may be injected from the lower surface 133 of the 130, wherein the through hole 134 penetrates the upper surface 132 and the lower surface 133 of the template 130. Therefore, when the curable resin is injected from the lower surface 133 of the template 130 toward the upper surface 132 of the template 130, the curable resin can be easily injected.

즉, 본 발명에 따른 상기 템플레이트(130)의 상면(132)이 폐구되어 있다면, 즉, 상기 관통홀(134)이 홀의 형태가 아닌, 홈의 형태라고 한다면, 상기 경화성 수지가 상기 템플레이트(130)의 하면(133)으로부터 상기 템플레이트(130)의 상면(132) 방향으로 이동함에 따라, 상기 홈 내부의 압력이 점차적으로 증가하게 되어, 상기 홈 내부의 압력에 의해, 상기 경화성 수지는 상기 템플레이트(130)의 상면(132) 방향으로 이동하는 것이 어렵게 된다.That is, if the upper surface 132 of the template 130 according to the present invention is closed, that is, if the through-hole 134 is in the form of a groove, not in the form of a hole, the curable resin is the template 130 In the direction from the lower surface 133 to the upper surface 132 of the template 130, the pressure inside the groove is gradually increased, by the pressure inside the groove, the curable resin is the template 130 It is difficult to move in the direction of the upper surface 132 of the.

하지만, 본 발명에서는, 상기 관통홀(134)은 상기 템플레이트(130)의 상기 상면(132)과 상기 하면(133)을 관통하고 있기 때문에, 상기 경화성 수지가 상기 템플레이트(130)의 하면(133)으로부터 상기 템플레이트(130)의 상면(132) 방향으로 이동함에 있어서, 상기 관통홀에 발생되는 압력이 없으므로, 따라서, 보다 용이하게 경화성 수지의 주입이 가능하다.However, in the present invention, since the through hole 134 penetrates the upper surface 132 and the lower surface 133 of the template 130, the curable resin is lower surface 133 of the template 130. Since there is no pressure generated in the through hole in the direction of the upper surface 132 of the template 130, it is possible to more easily inject the curable resin.

다음으로, 도 1, 도 6a 및 도 6b를 참조하면, 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법은 상기 템플레이트(130)의 관통홀(134)에 위치하는 경화성 수지를 경화하여 나노단위 패턴(150)을 형성하는 단계를 포함한다(S150).Next, referring to Figures 1, 6a and 6b, the nano-micro composite pattern manufacturing method according to the present invention by curing the curable resin located in the through-hole 134 of the template 130 nano-unit pattern Forming a step (150) (S150).

상기 경화성 수지를 경화하는 것은 UV를 조사하여 경화시킬 수 있으며, 즉, 상술한 바와 같이, 상기 경화성 수지(120)는 UV 조사 공정에서, 경화가 일어나는 수지에 해당하는 것으로, 폴리에스테르 아크릴, 우레탄 아크릴, 에폭시 아크릴, 폴리에터르 아크릴 등의 아크릴계 수지 또는 에폭시 수지와 같은 에폭시계 수지를 사용할 수 있으며, 다만, 본 발명에서 상기 경화성 수지의 종류를 제한하는 것은 아니다.Curing the curable resin may be cured by irradiating UV, that is, as described above, the curable resin 120 corresponds to a resin that curing occurs in the UV irradiation process, polyester acrylic, urethane acrylic And epoxy resins such as acrylic resins such as epoxy acrylics and polyether acrylics or epoxy resins, but the type of the curable resin is not limited in the present invention.

한편, 본 발명에서 상기 베이스 부재(110)의 제1면에 여전히 위치하는 잔존 경화성 수지(120')가 존재하는 경우, 본 S150 단계에서 상기 잔존 경화성 수지(120')도 경화되어, 경화 수지층(151)을 구성할 수 있다.On the other hand, in the present invention, when the remaining curable resin 120 'still located on the first surface of the base member 110, the remaining curable resin 120' is also cured in the step S150, the cured resin layer 151 can be configured.

다음으로, 도 1, 도 7a 및 도 7b를 참조하면, 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법은 상기 템플레이트(130)를 식각하는 단계를 포함한다(S160).Next, referring to FIGS. 1, 7A and 7B, the method of manufacturing a nano-micro composite pattern according to the present invention includes etching the template 130 (S160).

상기 템플레이트(130)를 식각하는 것은, 수산화나트륨(NaOH) 용액, 수산화칼륨(KOH) 용액, 인산(H3PO4) 용액 또는 질산(HNO3) 용액을 사용할 수 있으며, 다만, 본 발명에서 상기 템플레이트의 식각용액의 종류를 제한하는 것은 아니다.Etching the template 130, may be used sodium hydroxide (NaOH) solution, potassium hydroxide (KOH) solution, phosphoric acid (H 3 PO 4 ) solution or nitric acid (HNO 3 ) solution, but in the present invention It does not limit the type of etching solution of the template.

이때, 상기 템플레이트(130)는, 잘 알려진 AAO(Anodic Aluminum Oxide) Template("알루미늄 양극 산화 방법에 의해 제작된 형틀")일 수 있으며, 이러한 AAO Template는 상술한 식각용액에 의해 용이하게 제거될 수 있다.At this time, the template 130 may be a well-known Aanodic Aluminum Oxide (AOA) template ("template produced by aluminum anodic oxidation"), this AAO template can be easily removed by the above-described etching solution. have.

한편, 본 발명에 따른 상기 식각용액은 후술하는 바와 같이, 식각용액의 표면장력에 의하여, 상기 나노단위 패턴(150)의 상부 영역이 밀집되는 것을 용이하게 할 수 있다. 이에 대해서는 후술하기로 한다.On the other hand, the etching solution according to the present invention, as described below, by the surface tension of the etching solution, it can be easy to crowd the upper region of the nano-unit pattern 150. This will be described later.

다음으로, 도 1, 도 8a 및 도 8b를 참조하면, 상기 템플레이트(130)가 식각되면서, 상기 나노단위 패턴(150)들의 상부 영역이 밀집되어, 상기 나노단위 패턴(150)들이 존재하는 영역들이 구획되고, 상기 구획된 영역들에 의해 각각 마이크로단위 패턴이 형성되는 단계를 포함한다(S170).Next, referring to FIGS. 1, 8A, and 8B, as the template 130 is etched, the upper regions of the nano-unit patterns 150 are densified, so that the regions where the nano-unit patterns 150 exist. Comprising, and forming a micro-unit pattern by each of the partitioned areas (S170).

다만, 도 8a 및 도 8b에서는 설명의 편의를 위하여, 상기 템플레이트(130)를 모두 식각된 상태만을 도시하였으나, 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴은 상기 나노단위 패턴(150)들의 상부 영역이 밀집되어 있는 것을 특징으로 한다.8A and 8B, for convenience of explanation, the template 130 is only etched. However, in the nano-micro composite pattern according to the present invention, the upper regions of the nano-unit patterns 150 are dense. It is characterized by that.

한편, 도 8a 및 도 8b에 도시된 바와 같이, 상기 잔존 경화성 수지(120')가 경화되어 구성된 상기 경화 수지층(151)을 포함하는 경우, 나노단위 패턴(150)들의 하부 영역은 밀집되지 않고, 일정 간격을 유지할 수 있도록 하는 역할을 할 수 있다.Meanwhile, as shown in FIGS. 8A and 8B, when the remaining curable resin 120 ′ includes the cured resin layer 151 formed by curing, the lower regions of the nano-unit patterns 150 are not dense. For example, it can play a role in maintaining a certain interval.

즉, 후술하는 바와 같이, 본 발명에 따른 복수개의 나노단위 패턴들은 상부 영역이 밀집되게 되는데, 이때, 상기 경화 수지층(151)이 상기 나노단위 패턴(150)의 하부영역을 지지하고 있기 때문에, 상기 복수개의 나노단위 패턴들의 하부 영역은 밀집되지 않고, 일정 간격을 유지할 수 있다.That is, as will be described later, the plurality of nano-unit patterns according to the present invention is the upper region is dense, since the cured resin layer 151 supports the lower region of the nano-unit pattern 150, Lower regions of the plurality of nano-unit patterns are not dense and may maintain a constant interval.

도 9a 및 도 9b는 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴을 설명하기 위한 개략적인 도면이다.9A and 9B are schematic diagrams for explaining a nano-micro composite pattern according to the present invention.

이때, 도 9a 및 도 9b에 도시된 형태가, 상술한 템플레이트(130)가 모두 식각된 상태에서의 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴이라고 할 수 있다.9A and 9B may be referred to as the nano-micro composite pattern according to the present invention in which the template 130 is etched.

먼저, 도 9a를 참조하면, 상술한 바와 같이, 상기 템플레이트(130)를 식각하는 단계를 포함하며, 이러한 템플레이트를 식각하는 과정에서, 상기 템플레이트의 상부 영역부터 식각이 일어나며, 이때, 상기 나노단위 패턴(150)은 상부 영역부터 노출이 되게 된다.First, referring to FIG. 9A, as described above, the method includes etching the template 130, and in the process of etching the template, etching occurs from an upper region of the template, wherein the nano-unit pattern 150 is exposed from the upper region.

상기 나노단위 패턴(150)의 상부 영역(150a)이 노출되면서, 상기 나노단위 패턴(150)의 상부 영역(150a)은, 복수개의 나노단위 패턴 간의 인력에 의하여, 상기 복수개의 나노단위 패턴들은 불규칙적으로 밀집하게 된다.As the upper region 150a of the nano-unit pattern 150 is exposed, the upper region 150a of the nano-unit pattern 150 is irregular due to attraction between the plurality of nano-unit patterns. Will be concentrated.

이때, 복수개의 나노단위 패턴들은 불규칙적으로 밀집된다 함은, 밀집되는 나노단위 패턴들의 개수도 불규칙하고, 또한, 나노단위 패턴들이 밀집되는 형태도 불규칙함을 포함하는 의미이다.In this case, the plurality of nano-unit patterns are irregularly densified, meaning that the number of nano-unit patterns that are dense is irregular, and that the nano-unit patterns are also irregular.

또한, 상술한 바와 같이, 상기 나노단위 패턴(150)의 상부 영역(150a)은, 복수개의 나노단위 패턴 간의 인력에 의하여, 상기 복수개의 나노단위 패턴들은 불규칙적으로 밀집하며, 본 발명에서는, 상기 템플레이트를 식각하는 식각용액에 의해서도 상기 복수개의 나노단위 패턴들이 불규칙적으로 밀집하는 것을 용이하게 할 수 있다. In addition, as described above, the upper region 150a of the nano-unit pattern 150 is irregularly dense by the attraction between a plurality of nano-unit patterns, and in the present invention, the template The etching solution may be used to facilitate the irregular concentration of the plurality of nano-unit patterns.

즉, 상기 식각용액의 표면장력에 의해, 상기 복수개의 나도단위 패턴들이 상호 밀집하게 하는 힘을 부여할 수 있으며, 따라서, 본 발명에서는 식각용액의 표면장력에 의하여, 상기 나노단위 패턴(150)의 상부 영역이 밀집되는 것을 용이하게 할 수 있다.That is, by the surface tension of the etching solution, it is possible to impart a force that the plurality of strands of the unit pattern is dense with each other, therefore, in the present invention, by the surface tension of the etching solution, of the nano-unit pattern 150 It may be easy for the upper region to be dense.

한편, 상술한 잔존 경화성 수지(120')가 경화되어 구성된 상기 경화 수지층(151)을 포함하는 경우, 나노단위 패턴(150)들의 하부 영역(150b)은 밀집되지 않고, 일정 간격을 유지할 수 있도록 하는 역할을 할 수 있다.Meanwhile, when the above-described remaining curable resin 120 ′ includes the cured resin layer 151 formed by curing, the lower regions 150b of the nano-unit patterns 150 are not dense and can maintain a predetermined interval. Can play a role.

즉, 복수개의 나노단위 패턴들은 상부 영역이 밀집됨에 있어서, 상기 경화 수지층(151)이 상기 나노단위 패턴(150)의 하부영역(150b)을 지지하고 있기 때문에, 상기 복수개의 나노단위 패턴들의 하부 영역(150b)은 밀집되지 않고, 일정 간격을 유지할 수 있다.That is, since the plurality of nano-unit patterns have an upper region dense, since the cured resin layer 151 supports the lower region 150b of the nano-unit pattern 150, lower portions of the plurality of nano-unit patterns The region 150b is not dense and can maintain a constant interval.

이때, 본 발명에서는 상기 복수개의 나노단위 패턴(150)이 밀집되어 복수개의 마이크로단위 패턴(A, B, C, D)를 구성할 수 있다.At this time, in the present invention, the plurality of nano-unit patterns 150 may be densely formed to form a plurality of micro-unit patterns A, B, C, and D.

즉, 본 발명에서는, 복수개의 나노단위 패턴(150)을 형성하면서, 상기 나노단위 패턴(150)의 상부 영역이 밀집되면서, 상기 나노단위 패턴(150)들이 존재하는 영역들이 구획되고, 이러한 구획된 영역들은 각각 마이크로단위 패턴(A, B, C, D)으로 정의될 수 있다.That is, in the present invention, while forming a plurality of nano-unit pattern 150, while the upper region of the nano-unit pattern 150 is dense, the areas in which the nano-unit pattern 150 is present are partitioned, such a partitioned The regions may be defined as micro-unit patterns A, B, C, and D, respectively.

이와 같은 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴은 다음과 같이 정의될 수 있다.Such a nano-micro composite pattern according to the present invention can be defined as follows.

즉, 도 9a를 참조하면, 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴(200)은, 복수개의 마이크로 패턴(A, B, C, D); 및 상기 각각의 마이크로 패턴(A, B, C, D)을 구성하는 복수개의 나노패턴(150)을 포함하며, 상기 복수개의 나노패턴(150)은 각각 상부영역은 밀집되어 있고, 하부영역은 일정 간격 이격되어 위치하는 것을 특징으로 한다.That is, referring to FIG. 9A, the nano-micro composite pattern 200 according to the present invention may include a plurality of micro patterns A, B, C, and D; And a plurality of nanopatterns 150 constituting the micropatterns A, B, C, and D, wherein the plurality of nanopatterns 150 are each densely formed in an upper region and a constant in a lower region. Characterized in that spaced apart.

또한, 상기 복수개의 나노패턴(150)의 하부영역은 경화 수지층(151)으로부터 연장되어, 상기 경화 수지층(151)에 의해 상기 복수개의 나노패턴(150)의 각각의 하부영역이 일정 간격 이격되어 위치하는 것을 특징으로 한다.In addition, the lower regions of the plurality of nanopatterns 150 extend from the cured resin layer 151, and the lower regions of each of the plurality of nanopatterns 150 are spaced apart by a predetermined interval by the cured resin layer 151. It is characterized in that the position.

즉, 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴(200)은 하부영역은, 복수개의 나노패턴들의 하부영역은 일정 간격을 유지하고 있고, 복수개의 나노패턴들의 상부영역은 상호 밀집되어 있기 때문에, 하부영역에서 상부영역으로 갈수록 면적이 좁아지는 첨예한 형태로 구성된다.That is, in the nano-micro composite pattern 200 according to the present invention, since the lower region, the lower region of the plurality of nanopatterns is maintained at a predetermined interval, and the upper region of the plurality of nanopatterns is densely packed together, the lower region. It is composed of a sharp shape in which the area becomes narrower toward the upper region.

따라서, 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴(200)은 복수개의 나노패턴들의 상부영역에 소수성(疏水性, hydrophobic)이 발현될 수 있다.Therefore, the nano-micro composite pattern 200 according to the present invention may be expressed in hydrophobic (hydrophobic) in the upper region of the plurality of nano-patterns.

상기 소수성이란, 물과 화합되지 않는 성질을 의미하는 것으로, 따라서, 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴(200)을 의류 등의 소재로 사용하는 경우, 방수 특성을 갖는 의류를 제조할 수 있다.The hydrophobic means a property that is incompatible with water, and thus, when the nano-micro composite pattern 200 according to the present invention is used as a material such as clothing, garments having waterproof characteristics can be manufactured.

다음으로, 도 9b를 참조하면, 도 9b의 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴은 도 9a와 비교하여, 상기 복수개의 나노패턴(150)의 각각 상부영역은 응집(凝集, flocculation)된 것을 특징으로 한다.Next, referring to FIG. 9B, the nano-micro composite pattern according to the present invention of FIG. 9B is compared with FIG. 9A, and upper regions of the plurality of nanopatterns 150 are flocculated. It is done.

즉, 상술한 밀집과 비교하여, 상기 밀집은 물리적으로 모여있다는 의미이나, 상기 응집은 화학적으로 뭉쳐 덩어리를 이룸을 의미한다.That is, in comparison with the above-mentioned compaction, the compaction means physically gathered, but the agglomeration means chemically aggregated to form a mass.

이는 상기 S160 단계의, 상기 템플레이트(130)를 식각하여, 상기 나노단위 패턴(150)들의 상부 영역이 밀집되어 있는 나노-마이크로 복합 패턴을 제조한 이후에, 상기 나노-마이크로 복합 패턴에 UV-ozone 처리를 하는 단계를 추가함으로써 달성할 수 있다.This is to etch the template 130 of the step S160, after manufacturing a nano-micro composite pattern in which the upper region of the nano-unit pattern 150 is dense, UV-ozone to the nano-micro composite pattern This can be achieved by adding a process step.

예를 들어, 상기 UV-ozone 처리는 피처리물이 포함된 챔버내에 산소가스를 공급하고, 상기 챔버 내의 진공도를 일정 수준으로 유지하면서, 자외선 램프(UV lamp)를 작동시킴으로써, 산소 가스가 자외선 광과 반응하여 발생하는 오존에 의해 상기 나노-마이크로 복합 패턴을 처리하는 것을 의미한다.For example, the UV-zone treatment may be performed by supplying oxygen gas into a chamber containing an object to be treated and operating an ultraviolet lamp while maintaining a degree of vacuum in the chamber, whereby the oxygen gas may be ultraviolet light. Treatment of the nano-micro composite pattern by ozone generated in reaction with

이러한, 상기 나노-마이크로 복합 패턴에 UV-ozone 처리를 하는 단계를 포함함으로써, 상기 밀집된 나노단위 패턴(150)들의 상부 영역을 응집상태로 변형시킬 수 있으며, 이러한 응집된 상태의 나노단위 패턴들의 상부 영역은 보다 부드러운 면을 포함하게 되므로, 상술한 바와 같은 소수성(疏水性, hydrophobic) 특성의 발현이 보다 용이하게 될 수 있다.The nano-micro composite pattern may be subjected to UV-ozone treatment, thereby transforming the upper region of the dense nano-unit patterns 150 into an aggregated state, and the upper portion of the nano-unit patterns in the aggregated state. Since the region includes the softer side, the expression of hydrophobic properties as described above can be made easier.

즉, 도 9b에 도시된 바와 같이, 상기 나노-마이크로 복합 패턴에 UV-ozone 처리를 하는 단계를 포함함으로써, 상기 밀집된 나노단위 패턴(150)들의 상부 영역을 응집상태로 변형시킴으로써, 응집된 상태의 나노단위 패턴들의 상부 영역은 보다 부드러운 면을 포함할 수 있다.That is, as shown in Figure 9b, by the step of UV-ozone treatment to the nano-micro composite pattern, by modifying the upper region of the dense nano-unit pattern 150 in an aggregated state, The upper region of the nanoscale patterns may include a softer side.

상술한 바와 같이, 종래 마이크로 패턴에 나노 크기의 복합 패턴을 제작하기 위해서는 기계적인 방법이나 반도체 리소그라피 기술 등이 활용되어 왔다. As described above, in order to fabricate a nano-scale composite pattern on a micro pattern, a mechanical method, a semiconductor lithography technique, or the like has been utilized.

하지만, 이러한 종래의 마이크로 패턴에 나노 크기의 복합 패턴을 제작하는 공정은, 고가의 공정에도 불구하고 패턴의 정확도가 떨어지는 문제점이 있었다.However, the process of manufacturing a nano-sized composite pattern in such a conventional micro-pattern has a problem in that the accuracy of the pattern is low despite the expensive process.

하지만, 본 발명에서는, 간단하고, 저가의 공정으로 마이크로-나노 복합 패턴을 제조하는 방법을 제공할 수 있다.However, the present invention can provide a method for producing a micro-nano composite pattern in a simple and inexpensive process.

특히, 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴은 소수성(疏水性, hydrophobic) 특성이 발현되어, 방수 특성을 요구하는 다양한 제품에 적용이 가능하다.In particular, the nano-micro composite pattern according to the present invention is expressed in hydrophobic (hydrophobic, hydrophobic) properties, it can be applied to a variety of products that require waterproof properties.

예를 들어, 상술한 S110 단계의 베이스 부재를 의류의 원단으로 사용하는 경우, 상기 의류의 원단인 상기 베이스 부재의 상부에 본 발명에 따른 마이크로-나노 복합 패턴을 형성할 수 있으므로, 방수 특성이 발현되는 의류 원단을 제조할 수 있다.For example, when the base member of step S110 described above is used as the fabric of the garment, since the micro-nano composite pattern according to the present invention can be formed on the base member which is the fabric of the garment, waterproof characteristics are expressed. It is possible to manufacture a garment fabric.

도 10은 본 발명에 따른 템플레이트의 관통홀에 경화성 수지가 주입된 상태를 도시하는 실사진이다.10 is a photograph showing a state in which a curable resin is injected into a through hole of a template according to the present invention.

도 10을 참조하면, Unfilled hole과 Filled hole이 존재함을 확인할 수 있고, Filled hole은 경화성 수지가 주입된 관통홀을 의미하는 것이다.Referring to FIG. 10, it can be seen that an unfilled hole and a filled hole exist, and a filled hole means a through hole in which a curable resin is injected.

이때, Unfilled hole, 즉, 경화성 수지가 주입되지 않은 관통홀은 S120 단계의 베이스 부재의 제1면에 도포되는 경화성 수지의 두께 제어 또는 상술한 S140 단계에서의 상기 템플레이트를 가압하는 힘의 제어에 의해 경화성 수지의 주입특성을 향상시킬 수 있다.At this time, the unfilled hole, that is, the through-hole in which the curable resin is not injected, is controlled by controlling the thickness of the curable resin applied to the first surface of the base member in step S120 or the force for pressing the template in step S140. The injection characteristic of curable resin can be improved.

도 11은 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴을 도시하는 실사진이다.11 is a photogram showing a nano-micro composite pattern according to the present invention.

이때, 도 11의 나노-마이크로 복합 패턴은 상기 S160 단계의, 템플레이트(130)를 식각하여, 상기 나노단위 패턴(150)들의 상부 영역이 밀집되어 있는 상태를 도시한 것으로, (c)는 (a)의 단면상태, (d)는 (b)의 단면상태를 도시하고 있다.In this case, the nano-micro composite pattern of FIG. 11 illustrates a state in which the upper regions of the nano-unit patterns 150 are densified by etching the template 130 in step S160, and (c) shows (a). The cross-sectional state of (), (d) shows the cross-sectional state of (b).

도 11에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴은 Hill과 Hill의 사이에 Valley가 존재하며, 이때, 각각의 Hill은 복수개의 마이크로 패턴(A, B, C, D)을 의미하며, 상기 각각의 마이크로 패턴(A, B, C, D)은 복수개의 나노패턴으로 구성되어 있음을 확인할 수 있다.As shown in FIG. 11, in the nano-micro composite pattern according to the present invention, a valley exists between Hill and Hill, wherein each Hill means a plurality of micro patterns A, B, C, and D. In addition, it can be seen that each of the micro patterns A, B, C, and D is composed of a plurality of nano patterns.

한편, Residual layer는 상술한 경화 수지층(151)을 의미하며, 상기 복수개의 나노패턴(150)은 각각 상부영역은 밀집되어 있으나, 하부영역은 상기 경화 수지층(151)에 의해 지지되어, 일정 간격 이격되어 위치하고 있는 것을 확인할 수 있다.On the other hand, the residual layer refers to the above-mentioned cured resin layer 151, the upper portion of the plurality of nano-pattern 150 is dense, but the lower region is supported by the cured resin layer 151, You can see that they are located at intervals apart.

도 12는 본 발명의 다른 예에 따른 나노-마이크로 복합 패턴을 도시하는 실사진이다.12 is a photograph showing a nano-micro composite pattern according to another example of the present invention.

이때, 도 12의 나노-마이크로 복합 패턴은 상기 S160 단계의, 템플레이트(130)를 식각하여, 상기 나노단위 패턴(150)들의 상부 영역이 밀집되어 있는 상태의 나노-마이크로 복합 패턴을 제조한 이후에, 상기 나노-마이크로 복합 패턴에 UV-ozone 처리를 하는 단계를 추가한 상태를 도시하고 있다.At this time, the nano-micro composite pattern of FIG. 12 after etching the template 130 of the step S160, after manufacturing the nano-micro composite pattern in which the upper region of the nano-unit pattern 150 is dense In addition, UV-ozone treatment is added to the nano-micro composite pattern.

도 12에 도시된 바와 같이, 본 발명에서는 상기 나노-마이크로 복합 패턴에 UV-ozone 처리를 하는 단계를 포함함으로써, 상기 밀집된 나노단위 패턴(150)들의 상부 영역을 응집상태로 변형시킴으로써, 응집된 상태의 나노단위 패턴들의 상부 영역은 보다 부드러운 면을 포함할 수 있다.As shown in FIG. 12, the present invention includes the step of subjecting the nano-micro composite pattern to UV-ozone treatment, thereby deforming an upper region of the dense nanounit patterns 150 into an aggregated state, thereby agglomerated. The upper region of the nanounit patterns of may comprise the softer side.

도 13은 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴의 접촉각을 도시하는 실사진이다. 이때, 도 13의 (a)는 상술한 도 11의 나노-마이크로 복합 패턴의 접촉각을 도시하고 있으며, 도 13의 (b)는 상술한 도 12의 나노-마이크로 복합 패턴의 접촉각을 도시하고 있다.13 is a photograph showing the contact angle of the nano-micro composite pattern according to the present invention. 13A illustrates the contact angle of the nano-micro composite pattern of FIG. 11 described above, and FIG. 13B illustrates the contact angle of the nano-micro composite pattern of FIG. 12 described above.

도 13의 (a)에서 알 수 있는 바와 같이, 도 11의 나노-마이크로 복합 패턴의 접촉각은 약 90°로써, 본 발명에 따른 나노-마이크로 복합 패턴은 소수성(疏水性, hydrophobic) 특성이 발현됨을 확인할 수 있다.As can be seen in Figure 13 (a), the contact angle of the nano-micro composite pattern of Figure 11 is about 90 °, the nano-micro composite pattern according to the present invention is characterized in that hydrophobic (hydrophobic, hydrophobic) characteristics are expressed You can check it.

또한, 도 13의 (b)에서 알 수 있는 바와 같이, 도 12의 나노-마이크로 복합 패턴의 접촉각은 약 126.8°로써, 본 발명에서는 UV-ozone 처리를 하는 단계를 포함함으로써, 보다 향상된 소수성(疏水性, hydrophobic) 특성을 발현시킬 수 있다.In addition, as can be seen in Figure 13 (b), the contact angle of the nano-micro composite pattern of Figure 12 is about 126.8 °, in the present invention by including a step of UV-ozone treatment, further improved hydrophobicity (疏水) Sexual, hydrophobic) properties.

이상과 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains may implement the present invention in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof. You will understand that there is. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.

Claims (11)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법에 있어서,
상기 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법은,
베이스 부재를 제공하는 단계;
상기 베이스 부재의 제1면에 경화성 수지를 도포하는 단계;
상기 경화성 수지의 상면에 템플레이트를 위치시키는 단계;
상기 템플레이트의 관통홀에 경화성 수지를 주입하는 단계;
상기 템플레이트의 관통홀에 위치하는 경화성 수지를 경화하여 나노단위 패턴을 형성하는 단계;
상기 템플레이트를 식각하는 단계; 및
상기 템플레이트가 식각되면서, 상기 나노단위 패턴들의 상부 영역이 밀집되어, 상기 나노단위 패턴들이 존재하는 영역들이 구획되고, 상기 구획된 영역들에 의해 각각 마이크로단위 패턴이 형성되는 단계를 포함하는 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법.
In the method of manufacturing a nano-micro composite pattern,
Method for producing the nano-micro composite pattern,
Providing a base member;
Applying a curable resin to the first surface of the base member;
Placing a template on an upper surface of the curable resin;
Injecting a curable resin into the through-hole of the template;
Curing the curable resin positioned in the through-hole of the template to form a nano-unit pattern;
Etching the template; And
As the template is etched, the upper regions of the nano-unit patterns are densified, so that the regions in which the nano-unit patterns exist are partitioned, and micro-unit patterns are formed by the partitioned regions, respectively. Method of manufacturing a composite pattern.
제 4 항에 있어서,
상기 템플레이트는 일정 높이(h)를 포함하는 몸체부; 상기 몸체부의 상부에 위치하는 상면; 상기 몸체부의 하부에 위치하는 하면; 및 상기 상면과 상기 하면을 관통하는 상기 관통홀을 포함하는 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법.
The method of claim 4, wherein
The template includes a body portion having a predetermined height (h); An upper surface positioned above the body portion; A lower surface positioned below the body portion; And the through hole penetrating the upper surface and the lower surface.
제 5 항에 있어서,
상기 템플레이트의 관통홀에 경화성 수지를 주입하는 단계는,
상기 경화성 수지의 상면에 위치하는 상기 템플레이트의 하면으로부터 상기 경화성 수지가 주입되어, 상기 템플레이트의 상면 방향으로 상기 경화성 수지가 주입됨으로써, 상기 관통홀의 내측 영역에 경화성 수지를 주입하는 것인 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법.
The method of claim 5, wherein
Injecting the curable resin into the through-hole of the template,
Wherein the curable resin is injected from the lower surface of the template located on the upper surface of the curable resin, and the curable resin is injected in the upper surface direction of the template, thereby injecting the curable resin into the inner region of the through hole. Method of producing a pattern.
제 6 항에 있어서,
상기 템플레이트의 관통홀에 경화성 수지를 주입하는 단계는,
상기 베이스 부재의 제1면에 위치하는 상기 경화성 수지 중 일부의 경화성 수지는 상기 관통홀로 주입되어, 상기 관통홀의 내측 영역에 위치하는 경화성 수지를 구성하며, 다른 일부의 경화성 수지는 상기 베이스 부재의 제1면에 여전히 위치하여 잔존 경화성 수지를 구성하는 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법.
The method of claim 6,
Injecting the curable resin into the through-hole of the template,
Partial curable resin of the curable resin located on the first surface of the base member is injected into the through hole to form a curable resin located in an inner region of the through hole, and another part of the curable resin is formed of the base member. A method for producing a nano-micro composite pattern still on one side to form a residual curable resin.
제 7 항에 있어서,
상기 경화성 수지를 경화하는 것은 UV를 조사하여 경화하는 것인 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법.
The method of claim 7, wherein
Curing the curable resin is a method of producing a nano-micro composite pattern that is cured by irradiation with UV.
제 7 항에 있어서,
상기 템플레이트의 관통홀에 위치하는 경화성 수지를 경화하는 단계를 통하여, 상기 잔존 경화성 수지도 경화되어 경화 수지층을 구성하는 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법.
The method of claim 7, wherein
Through the step of curing the curable resin located in the through-hole of the template, the remaining curable resin is also cured to form a cured resin layer nano-micro composite pattern.
제 4 항에 있어서,
상기 템플레이트를 식각하는 것은, 수산화나트륨(NaOH) 용액, 수산화칼륨(KOH) 용액, 인산(H3PO4) 용액 또는 질산(HNO3) 용액을 사용하는 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법.
The method of claim 4, wherein
Etching the template is a method of producing a nano-micro composite pattern using a sodium hydroxide (NaOH) solution, potassium hydroxide (KOH) solution, phosphoric acid (H 3 PO 4 ) solution or nitric acid (HNO 3 ) solution.
제 4 항에 있어서,
상기 마이크로단위 패턴이 형성되는 단계이후,
상기 나노-마이크로 복합 패턴에 UV-ozone 처리를 하는 단계를 더 포함하는 나노-마이크로 복합 패턴의 제조방법.
The method of claim 4, wherein
After the step of forming the micro unit pattern,
Method for producing a nano-micro composite pattern further comprising the step of UV-ozone treatment to the nano-micro composite pattern.
KR1020170147775A 2017-11-08 2017-11-08 A micro-nano composite pattern And A Fabricating Method of the same KR102082136B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170147775A KR102082136B1 (en) 2017-11-08 2017-11-08 A micro-nano composite pattern And A Fabricating Method of the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170147775A KR102082136B1 (en) 2017-11-08 2017-11-08 A micro-nano composite pattern And A Fabricating Method of the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190052259A KR20190052259A (en) 2019-05-16
KR102082136B1 true KR102082136B1 (en) 2020-02-27

Family

ID=66672239

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170147775A KR102082136B1 (en) 2017-11-08 2017-11-08 A micro-nano composite pattern And A Fabricating Method of the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102082136B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220159599A (en) 2021-05-26 2022-12-05 한국전기연구원 Nano-micro hybrid pattern with highly transparent superhydrophobic surface and method for manufacturing the same

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100033560A (en) * 2008-09-22 2010-03-31 삼성전자주식회사 Manufacturing method of mold for nano imprint and pattern forming method using the mold for nano imprint
KR101422112B1 (en) * 2012-03-14 2014-07-23 한국기계연구원 Method of nano-imprint lithography
KR101419531B1 (en) * 2012-12-26 2014-07-14 (재)한국나노기술원 Fabrication of alligned metal oxide nanostructure
KR102203701B1 (en) 2014-04-23 2021-01-18 한국생산기술연구원 A preparation method of micro-nano composite pattern using extraction of nano particles and a preparation method of light guide plate using the same method
KR101795866B1 (en) * 2015-11-20 2017-11-09 연세대학교 산학협력단 Nanowire bundle array, membrane comprising the same and method for manufacturing of the membrane and steam generator using the membrane

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220159599A (en) 2021-05-26 2022-12-05 한국전기연구원 Nano-micro hybrid pattern with highly transparent superhydrophobic surface and method for manufacturing the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20190052259A (en) 2019-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100805229B1 (en) Method For Forming Fine Pattern Using Nanoimprint
KR100758699B1 (en) Method for forming high aspect ratio nanostructure and method for forming nano pattern using the same
Xue et al. Pattern formation by dewetting of polymer thin film
KR100961282B1 (en) Fabricating Method of Membrane Having Hydrophilicity and Hydrophobicity
Jeong et al. Generation and self-replication of monolithic, dual-scale polymer structures by two-step capillary-force lithography
KR101264673B1 (en) method for fabricating detail pattern by using soft mold
Park et al. Fabrication and applications of stimuli‐responsive micro/nanopillar arrays
KR102082136B1 (en) A micro-nano composite pattern And A Fabricating Method of the same
US9180608B2 (en) Stamp, method of manufacturing the same, and imprinting method using the stamp
KR100935640B1 (en) Method of forming hierarchical fine structure using partial curing
KR20060024564A (en) Method for aligning carbon nanotubes and method of manufacturing field emission device using the same
KR100881233B1 (en) Stamp for imprint lithography and imprint lithography method using thereof
KR101927433B1 (en) Uultra-thin, foldable and dry adhesive film and manufacturing method of the same
KR101399459B1 (en) Fabrication method for nano-hole using compressing process
Hyun et al. Micropatterning by controlled liquid instabilities and its applications
JP2009096191A (en) Mold for fine molding, base material for mold for fine molding, and manufacturing method of mold for fine molding
KR101009340B1 (en) Method for fabricating nanoparticle layer and Method for preparing nano imprinting stamp using the same
KR102203701B1 (en) A preparation method of micro-nano composite pattern using extraction of nano particles and a preparation method of light guide plate using the same method
US20110315659A1 (en) Pattern formation method and imprint material
Hong et al. Fabrication of sub-50 nm Au nanowires using thermally curing nanoimprint lithography
KR102485247B1 (en) Film provided with micro-pattern and manufacturing methode thereof
KR101235834B1 (en) Method of forming protruding patterns using a polymer layer as a etching protection layer
US20140178598A1 (en) Method for forming graphene pattern
JP2007237360A (en) Method of manufacturing structure having rugged pattern and structure having rugged pattern
Zhao et al. Step-and-repeat stamping method for the generation of large-area microscale wrinkle patterns

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right