KR102064111B1 - Slit linear stage - Google Patents

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KR102064111B1
KR102064111B1 KR1020190043493A KR20190043493A KR102064111B1 KR 102064111 B1 KR102064111 B1 KR 102064111B1 KR 1020190043493 A KR1020190043493 A KR 1020190043493A KR 20190043493 A KR20190043493 A KR 20190043493A KR 102064111 B1 KR102064111 B1 KR 102064111B1
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KR
South Korea
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axis
substrate
stage
coil
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KR1020190043493A
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Korean (ko)
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구춘만
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주식회사 유닉스엔지니어링
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    • F16M11/00Stands or trestles as supports for apparatus or articles placed thereon ; Stands for scientific apparatus such as gravitational force meters
    • F16M11/02Heads
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    • G01MEASURING; TESTING
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    • G01D5/12Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means

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Abstract

The present invention relates to a thin linear stage comprising: an X-axis stage including an X-axis base unit having a plurality of coils arranged thereon, and an X-axis moving unit provided with a plurality of magnets arranged at positions corresponding to the coils and formed to be moved in an X-axis direction on the X-axis base unit; a Y-axis stage including a Y-axis base unit arranged on the X-axis stage and provided with a plurality of coils arranged thereon, and a moving unit provided with a plurality of magnets arranged at positions corresponding to the coils and formed to be moved in a Y-axis direction perpendicular to the X-axis on the Y-axis base unit; and a rotary stage including a circular base unit arranged on the Y-axis stage and provided with a plurality of coils arranged thereon in a circular shape, and a rotating unit formed to be rotated on the circular base unit. The thin linear stage is simply combined in two axes (X-axis-θ-axis) or three axes (X-axis-Y-axis-θ-axis) in accordance with a combination, has a simple structure and a small size, and facilitates maintenance and repair.

Description

박형 리니어 스테이지의 베이스부 위에 형성되는 기판{SLIT LINEAR STAGE}Substrate formed on the base of the thin linear stage {SLIT LINEAR STAGE}

본 발명은 박형 리니어 스테이지에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 코일 및 영구자석을 이용한 전자기력을 통해 대상물을 직접 이동 및 위치를 보정 시킬 수 있도록 구조가 간단하고 정밀하며 높이가 낮아 반도체 및 디스플레이 제조 장치 등 소형 정밀 부품의 생산 라인에 사용되도록 개발된 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a thin linear stage, and more particularly, the structure is simple, precise and low in height so as to directly move and correct an object through an electromagnetic force using a coil and a permanent magnet. A device developed for use in a production line of parts.

일반적으로 정밀제품 생산라인에서는 각각 작업 공정별로 작업 대상물 투입 전에 카메라 등 센서를 이용하여 대상물의 틀어진 위치를 보정해 주어야 한다. 이때 XYθ축 방향으로 정밀하게 이동 및 회전하여 보정해 주는 장치가 필요하다. 종래에는 대상물이 크고, 보정 정도가 떨러져도 문제가 없었으나 최근에는 작업 대상물의 크기가 점점 작아지고, 필요 보정 정도가 정밀해야 되는 상황이다. In general, the precision product production line must correct the misplaced position of the object by using a sensor such as a camera before inputting the work object for each work process. At this time, a device for precisely moving and rotating in the XYθ axis direction is required. Conventionally, there is no problem even if the object is large and the degree of correction is shaken. However, in recent years, the size of the work object becomes smaller and the required degree of correction must be precise.

최근 전자기기의 발달로 이를 제조하는 전자기기 제조 장치도 더불어 발달했음에도 불구하고 XYθ 보정장치는 발달하지 못했다. 종래의 대표적인 방식은 한국등록특허 제10-1474696호(2014.12.18. 공고)(이하, 선행문헌이라고 함)이다. Despite the recent development of the electronic device manufacturing apparatus for manufacturing it due to the development of the electronic device, the XYθ correction device has not been developed. A typical method of the related art is Korean Patent Registration No. 10-1474696 (2014.12.18.) (Hereinafter referred to as a prior document).

구체적으로 상기 선행문헌의 XYθ 보정 스테이지는 하부베이스와 상부베이스로 구성이 되는데, 하부베이스에 YYθ방향으로 이동 가능하게 하는 모든 구성품들(BALLSCREW, LM GUIDE, CROSS BRARING, COUPPLING, MOTOR)을 위치시키고 상부베이스를 덮는 구조로 되어 있다.Specifically, the XYθ correction stage of the prior document is composed of a lower base and an upper base, and all the components (BALLSCREW, LM GUIDE, CROSS BRARING, COUPPLING, MOTOR) that can be moved in the YYθ direction on the lower base and The structure covers the base.

그러나, 선행문헌은 사각형 형태로 구동 부품들을 한 개층(하부베이스)에 위치 시키다보니 구조가 복잡하고, 외형 사이즈가 크고, 높이가 높고, 유지 보수가 복잡하고, 정도가 떨어진다. 특히, 제어를 하기가 매우 복합한 구조다. X방향 또는 Y방향으로 이동을 하려면 최소한 2개의 구동부가 제어적으로 동기운전을 해야 하고, θ방향으로 회전을 하려면 3개 또는 4개의 구동부가 제어적으로 동기 운전을 해야만 하는 복합한 구조를 가지고 있다.However, since the prior art documents the driving parts in a single layer (lower base) in a rectangular shape, the structure is complicated, the outer size is large, the height is high, the maintenance is complicated, and the degree is low. In particular, the structure is very complex to control. In order to move in the X direction or Y direction, at least two driving parts must control synchronously, and in order to rotate in θ direction, three or four driving parts must control synchronously. .

대한민국 등록특허 제1474696호Republic of Korea Patent No. 1474696

이러한 문제점을 해소하기 위하여 본 발명은 코일 및 영구자석을 이용한 전자기력을 통해 대상물을 직접 정밀하게 이동 및 회전 시킬 수 있도록 하여 구조가 간단하고, 외형 사이즈가 작으며, 유지 보수가 용이하여 소형 정밀 부품의 생산에 사용되는 장치를 제공하고자 하는데 있다. In order to solve this problem, the present invention allows the object to be precisely moved and rotated directly through the electromagnetic force using the coil and the permanent magnet, and thus the structure is simple, the external size is small, and the maintenance is easy, so that It is to provide a device used for production.

이러한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 대상물을 결합하여 X축 방향으로 이동 가능하도록 형성되는 X축 스테이지와, 상기 X축 스테이지 상에 결합되어 Y축 방향으로 이동 가능하도록 형성되는 Y축 스테이지와, 상기 Y축 스테이지 상에 결합되어 회전 가능하도록 형성되는 회전 스테이지를 포함하는 조합 형태의 박형 리니어 스테이지에 관한 것으로, 상기 박형 리니어 스테이지는 복수개의 코일이 배치되는 X축 베이스부와, 복수개의 자석이 상기 코일과 대응되는 위치에 배치되고, 상기 베이스부 상에서 X축 방향으로 이동가능 하도록 형성되는 X축 이동부를 포함하는 X축 스테이지; 상기 X축 스테이지 상에 구비되고, 복수개의 코일이 배치되는 Y축 베이스부와, 복수개의 자석이 상기 코일과 대응되는 위치에 배치되고, 상기 Y축 베이스부 상에서 상기 X축과 직교되는 Y축 방향으로 이동가능 하도록 형성되는 Y축 이동부를 포함하는 Y축 스테이지; 및 상기 Y축 스테이지 상에 구비되고, 복수개의 코일이 원형으로 배치되는 원형 베이스부와, 복수개의 자석이 상기 코일과 대응되는 위치에 배치되어 상기 원형 베이스부 상에서 회전 가능하도록 형성되는 회전부를 포함하는 회전 스테이지; 를 포함하는 것을 특징으로 한다. In order to achieve the above object, the present invention provides an X-axis stage which is formed to be movable in the X-axis direction by combining an object, a Y-axis stage which is formed on the X-axis stage to be movable in the Y-axis direction, and A combination of a thin linear stage including a rotary stage coupled to the rotatable stage formed on the Y-axis stage, the thin linear stage is an X-axis base portion is arranged a plurality of coils, a plurality of magnets are the coil An X-axis stage disposed at a position corresponding to the X-axis, the X-axis moving unit being formed to be movable in the X-axis direction on the base unit; A Y-axis base portion provided on the X-axis stage and having a plurality of coils disposed thereon, and a plurality of magnets disposed at a position corresponding to the coils, and being in a Y-axis direction perpendicular to the X-axis on the Y-axis base portion; A Y-axis stage including a Y-axis moving part formed to be movable to a direction; And a circular base part provided on the Y-axis stage and having a plurality of coils disposed in a circular shape, and a rotating part disposed at a position corresponding to the coils to be rotatable on the circular base part. Rotating stage; Characterized in that it comprises a.

또한, 상기 X축 베이스부 및 Y축 베이스부는 상기 복수개의 코일이 일렬로 배치되어 형성되는 기판 및 상기 기판의 일측에 형성되는 센서부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The X-axis base unit and the Y-axis base unit may further include a substrate formed by arranging the plurality of coils in a line, and a sensor unit formed on one side of the substrate.

또한, 상기 X축 이동부 및 Y축 이동부는 복수개의 자석의 양 끝단에 각각 하나씩 설치되어, 상기 X축 또는 Y축 베이스부와 이동부 사이의 공간에 이물질 유입을 차단하는 이물질유입차단부를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the X-axis moving unit and the Y-axis moving unit is provided at each end of each of the plurality of magnets, each including a foreign material inlet blocking unit for blocking the foreign material inflow into the space between the X-axis or Y-axis base portion and the moving portion It is characterized by.

또한, 상기 원형 베이스부는 원형 형상으로 형성되며, 복수개의 코일이 원형으로 배치되는 기판 및 상기 기판의 일측에 형성되는 센서부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the circular base portion is formed in a circular shape, characterized in that it further comprises a substrate formed with a plurality of coils in a circular shape and a sensor portion formed on one side of the substrate.

또한, 상기 X축 베이스부, Y축 베이스부 및 회전 베이스부는 상기 이동부가 이동 또는 회전부가 회전할 때, 상기 이동부의 이동거리 또는 회전부의 회전 각도를 파악하여 위치 오차를 실시간 판별하여 보정 가능하도록 하는 리니어 엔코더를 포함하며, 상기 리니어 엔코더는 상기 이동부의 이동 거리 또는 회전부의 회전 각도와 대응되는 길이로 눈금이 형성되는 리니어엔코더 테입과, 상기 리니어엔코더 테입의 눈금을 측정하는 리니어엔코더 헤드를 포함하는 것을 특징으로 한다.The X-axis base part, the Y-axis base part, and the rotation base part may detect the movement distance of the moving part or the rotation angle of the rotating part when the moving part rotates or the rotating part rotates to determine the position error in real time so that the correction is possible. And a linear encoder, wherein the linear encoder includes a linear encoder tape having a scale formed to a length corresponding to a moving distance of the moving part or a rotation angle of the rotating part, and a linear encoder head measuring the scale of the linear encoder tape. It features.

또한, 상기 기판은 복수개의 코일을 접착제 또는 에폭시를 이용하여 기판 상에 경화하여 고정시키며, 기판-코일-에폭시-기판 또는 기판-코일-에폭시 순으로 적층되는 샌드위치 구조인 것을 특징으로 한다.The substrate may be a sandwich structure in which a plurality of coils are hardened and fixed on a substrate by using an adhesive or epoxy, and stacked in a substrate-coil-epoxy-substrate or a substrate-coil-epoxy order.

또한, 상기 회전부는 하부에 센서 감지용 자석을 보유한 스토퍼를 포함하고, 상기 원형 베이스부는 상기 스토퍼가 상기 원형 베이스부의 중심부를 중심으로 원형으로 회전되도록 형성되는 통로와, 상기 통로에 상기 스토퍼의 회전영역이 제한되도록 형성되는 스토퍼블럭을 포함하는 것을 특징으로 한다.The rotating part may include a stopper having a magnet for detecting a sensor at a lower part thereof, and the circular base part may include a passage formed to rotate the stopper in a circular shape around a central portion of the circular base part, and a rotation region of the stopper in the passage. It characterized in that it comprises a stopper block formed to be limited.

또한, 상기 회전부는 상기 자석을 중심으로 회전부의 내측 방향과 외측 방향이 상기 자석과 대응되는 높이로 단차지게 형성되어 상기 자석이 수용되는 공간이 형성되고, 상기 원형 베이스부는 상기 코일을 중심으로 원형 베이스부의 내측 방향과 외측 방향이 상기 코일과 대응되는 높이로 단차지게 형성되어 상기 코일이 수용되는 공간이 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, the rotating part is formed to be stepped at a height corresponding to the magnet in the inner direction and the outer direction of the rotating part around the magnet to form a space for receiving the magnet, the circular base portion is a circular base around the coil Inward and outward directions of the portion are formed to be stepped at a height corresponding to the coil, characterized in that a space for accommodating the coil is formed.

또한, 상기 X축 이동부는 상기 X축 이둥부의 하부에 설치되고, 상기 센서부와 끝단에 형성된 자석과 연동되어, 상기 X축 이동부의 이동을 제한하는 센서도그를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the X-axis moving unit is installed in the lower portion of the X-axis moving portion, it is characterized in that it comprises a sensor dog that is linked to the magnet formed in the sensor and the end to limit the movement of the X-axis moving unit.

따라서, 본 발명은 전자기력을 통해 대상물을 이동시킬 수 있도록 코일 및 영구자석으로 구성되는 구조로 정밀 하며, 간단 조합으로 2축(X축-θ축) 또는 3축(X축-Y축-θ축) 구성이 가능하고, 외형사이즈가 작으며 유지 보수가 용이하여 정밀한 얼라인 보정용으로 사용 시 외형이 큰 불필요한 장치를 사용할 필요가 없어 낭비를 제거하는 효과가 있는 것이다. Therefore, the present invention is precise in the structure consisting of a coil and a permanent magnet to move the object through the electromagnetic force, two-axis (X axis-θ axis) or three axes (X axis-Y axis-θ axis) in a simple combination ) It is possible to configure, small size and easy maintenance, so it is not necessary to use unnecessary device with large appearance when using for precise alignment correction, which eliminates waste.

도 1은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 3축 박형 리니어 스테이지의 전체 사시도
도 2는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 박형 리니어 스테이지의 분해 사시도
도 3은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 박형 리니어 스테이지의 X축 스테이지의 분해 사시도
도 4는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 박형 리니어 스테이지의 X축 스테이지의 이동부의 저면도
도 5는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 박형 리니어 스테이지의 X축 스테이지의 단면도
도 6은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 박형 리니어 스테이지의 회전 스테이지의 분해 사시도
도 7은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 박형 리니어 스테이지의 회전 스테이지의 원형 베이스부의 평면도
도 8은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 박형 리니어 스테이지의 회전 스테이지의 이동부의 저면도
1 is an overall perspective view of a three-axis thin linear stage according to an embodiment of the present invention
Figure 2 is an exploded perspective view of the thin linear stage according to an embodiment of the present invention
Figure 3 is an exploded perspective view of the X-axis stage of the thin linear stage according to an embodiment of the present invention
Figure 4 is a bottom view of the moving part of the X-axis stage of the thin linear stage according to an embodiment of the present invention
5 is a cross-sectional view of the X-axis stage of the thin linear stage according to an embodiment of the present invention.
Figure 6 is an exploded perspective view of a rotating stage of the thin linear stage according to an embodiment of the present invention
7 is a plan view of a circular base portion of the rotating stage of the thin linear stage according to an embodiment of the present invention;
8 is a bottom view of a moving part of a rotating stage of a thin linear stage according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 도면을 첨부하여 설명하기로 한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명을 상세하게 설명함에 앞서, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략하기로 한다.Prior to describing the present invention in detail, if it is determined that a detailed description of a related known function or configuration may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

도 1 및 도 2에서 보는 바와 같이, 본 발명은 박형 리니어 스테이지에 관한 것으로, X축 스테이지(100), Y축 스테이지(200) 및 회전 스테이지(300)를 포함하여 구성된다. 구체적으로 본 발명의 X축 스테이지(100)는 평면 상에서 X축 방향으로 이동가능 하도록 형성되고, Y축 스테이지(200)는 X축 스테이지(100) 상에 적층되어 형성되고 평면상에서 X축과 직각 방향인 Y축 방향으로 이동 가능하도록 형성된다. 또한, 회전 스테이지(300)는 상기 Y축 스테이지(200) 상에 적층되어 형성되고, 평면 상의 수직축을 중심으로 θ축 방향으로 회전 가능하도록 형성된다. 1 and 2, the present invention relates to a thin linear stage, and includes an X-axis stage 100, a Y-axis stage 200, and a rotation stage 300. Specifically, the X-axis stage 100 of the present invention is formed to be movable in the X-axis direction on the plane, the Y-axis stage 200 is formed by being stacked on the X-axis stage 100 and perpendicular to the X-axis in the plane It is formed to be movable in the Y-axis direction. In addition, the rotation stage 300 is stacked and formed on the Y-axis stage 200, and is formed to be rotatable in the θ-axis direction about the vertical axis on the plane.

도 3 내지 도 5에서 보는 바와 같이, X축 스테이지(100)는 복수개의 코일(111)이 X축 방향으로 일렬로 배치되는 X축 베이스부(110)와, 복수개의 자석(124)이 X축 방향으로 일렬로 상기 코일(111)과 대응되는 위치에 배치되는 X축 이동부(120)를 포함하여 구성된다. 또한, 상기 X축 이동부(120)는 상기 X축 베이스부(110) 상에서 X축 방향으로 이동 가능하도록 형성된다.As shown in FIGS. 3 to 5, the X-axis stage 100 includes an X-axis base part 110 in which a plurality of coils 111 are arranged in a line in the X-axis direction, and a plurality of magnets 124 are X-axis. And an X-axis moving part 120 disposed at a position corresponding to the coil 111 in a line in the direction. In addition, the X-axis moving unit 120 is formed to be movable on the X-axis base portion 110 in the X-axis direction.

구체적으로 설명하면, 상기 코일(111)은 상기 X축 베이스부(110)의 상에 X축 방향으로 일렬로 복수개 배치되어 형성된다. 이때, 상기 코일(111)은 기판(112) 상에 복수개의 코일(111)이 일렬로 형성되고, 상기 기판(112)이 X축 베이스부(110) 상에 형성된다. 또한, 상기 기판(112)의 일측에는 센서부(113)가 형성된다. 상기 센서부(113)는 원점 센서(113'), 리미트 센서 등일 수 있다.Specifically, a plurality of coils 111 are arranged on the X-axis base part 110 in a line in the X-axis direction. In this case, a plurality of coils 111 are formed in a line on the substrate 112, and the substrate 112 is formed on the X-axis base part 110. In addition, a sensor unit 113 is formed at one side of the substrate 112. The sensor unit 113 may be an origin sensor 113 ′, a limit sensor, or the like.

또한, 상기 X축 이동부(120)의 일측면에 돌출되어 설치된 2개의 센서도그(128)는 끝단면에 자석을 두어 상기 X축 베이스부(110)의 기판(112) 내에 위치한 센서부(113)와 연계 동작하고, 상기 X축 이동부(120)의 모터 구동용 자석(124)과 센서부(113)와의 구조상 간섭을 피할 수 있게 할 수 있다. 구체적으로 설명하면, 상기 X축 이동부(120)가 X축 방향으로 이동될 때, 상기 X축 베이스부(110)의 리미트센서는 상기 X축 이동부(120)의 센서도그(128)의 위치를 감지하여 상기 X축 이동부(120)의 이동을 제한한다. 이로 인해, 상기 X축 이동부(120)가 상기 X축 베이스부(110)로부터 이탈되는 것을 방지한다. In addition, the two sensor dogs 128 protruding from one side of the X-axis moving part 120 have a magnet on the end surface thereof, so that the sensor part 113 is located in the substrate 112 of the X-axis base part 110. ), And the structural interference between the motor driving magnet 124 of the X-axis moving unit 120 and the sensor unit 113 can be avoided. Specifically, when the X-axis moving unit 120 is moved in the X-axis direction, the limit sensor of the X-axis base unit 110 is the position of the sensor dog 128 of the X-axis moving unit 120 By detecting the limit the movement of the X-axis moving unit 120. As a result, the X-axis moving part 120 is prevented from being separated from the X-axis base part 110.

또한, 상기 기판(112)은 상기 코일(111)로 외부의 전원을 공급하는 전원부(미도시)가 더 구비되기도 한다. 상기 전원부는 각각의 코일(111)과 연결되어, 외부의 전원을 공급한다. In addition, the substrate 112 may further include a power supply unit (not shown) for supplying external power to the coil 111. The power supply unit is connected to each coil 111 to supply external power.

또한, 상기 기판(112)은 PCB 기판일 수 있으며, 접착제를 이용하여 코일(111)을 접착시킬 수도 있다. 상기 접착제는 경화제 및 에폭시와 같은 물질을 사용하기도 한다. In addition, the substrate 112 may be a PCB substrate, and the coil 111 may be attached using an adhesive. The adhesive may also use materials such as hardeners and epoxies.

또한, 상기 기판(112)은 접착제를 이용하여 복수개의 코일(111)을 접착시킬 경우, 경화 과정에서 한쪽 방향(기판 반대 방향)으로 휘어질 수가 있다. 이를 방지하기 위해, 상기 기판(112)은 접착제 또는 에폭시를 이용하여 코일(111)을 접착한 후, 또 다른 PCB 기판을 상기 코일(111) 위에 접착시킨 후 경화시키면 어느 한 쪽 방향으로 휘어지는 것을 방지할 수 있다. 즉, 상기 기판(112)은 기판-코일-에폭시-기판 순으로 적층되는 샌드위치 구조일 수 있다.In addition, when the plurality of coils 111 are bonded to each other using an adhesive, the substrate 112 may be bent in one direction (the opposite direction of the substrate) during the curing process. To prevent this, the substrate 112 is bonded to the coil 111 by using an adhesive or epoxy, and then bonded to another PCB substrate on the coil 111 and cured to prevent bending in either direction. can do. That is, the substrate 112 may be a sandwich structure stacked in the order of substrate-coil-epoxy-substrate.

또한, 상기 기판(112)은 상기 X축 베이스부(110) 및 X축 이동부(120)와 동일한 사각형상으로 형성되는 것이 바람직하다. In addition, the substrate 112 may be formed in the same quadrangular shape as the X-axis base part 110 and the X-axis moving part 120.

또한, 상기 기판(112)은 작업영역에 따라 그 길이가 증가 될 수 있으며, 이에 따라 복수개의 코일(111)의 수량도 증가될 수도 있다. 이때 레일(114) 또한 길어지며 이는 작업 영역 증가(STROKE)에 대응 함이다. 또한, 상기 복수개의 코일(111)은 작업영역에 따라 그 수량은 증가 될 수 있다. 3개가 한쌍으로 그 배수로 증가되며, 그에 따른 상기 X축 베이스부(110) 또는 Y축 베이스부(210) 또한 길이가 비례로 증가될 수 있다.In addition, the length of the substrate 112 may increase according to the working area, and thus the quantity of the plurality of coils 111 may also increase. At this time, the rail 114 is also long, which corresponds to the increase in the working area (STROKE). In addition, the quantity of the plurality of coils 111 may increase according to a work area. Three are increased in multiples of the pair, and thus the length of the X-axis base portion 110 or the Y-axis base portion 210 may also be increased proportionally.

상기 X축 베이스부(110)는 사각형상으로 형성될 수 있으며, 상면에 레일(114)이 형성된다. 상기 레일(114)은 상기 X축 베이스부(110)의 상면에 X축 방향으로 소정거리 이격되어 형성된다. 또한, 상기 X축 베이스부(110)는 복수개의 코일(111)이 X축 방향으로 일렬로 배열되어 형성된다. 또한, 상기 코일(111)은 상기 레일(114) 사이에 배치되는 것이 바람직하다. The X-axis base portion 110 may be formed in a rectangular shape, the rail 114 is formed on the upper surface. The rail 114 is formed on the upper surface of the X-axis base portion 110 spaced apart in the X-axis direction by a predetermined distance. In addition, the X-axis base portion 110 is formed with a plurality of coils 111 arranged in a line in the X-axis direction. In addition, the coil 111 may be disposed between the rails 114.

또한, 상기 X축 베이스부(110)는 일측에 기판(112)과 연결되는 전선(115)이 형성된다. In addition, the X-axis base portion 110 is formed with a wire 115 connected to the substrate 112 on one side.

또한, 상기 X축 스테이지(100)는 자기 위치를 실시간으로 판단하여 정밀하게 제어가능하게 해주는 리니어 엔코더가 장착되어 있다. In addition, the X-axis stage 100 is equipped with a linear encoder that enables precise control by determining the magnetic position in real time.

상기 리니어 엔코더는 X축 이동부(120)에 눈금이 표시되는 리니어엔코더 테입(126)이 형성되고, 상기 X축 베이스부(110)에 상기 리니어엔코더 테입(126)의 눈금을 측정하는 리니어 엔코더 헤드(116)가 형성된다. The linear encoder has a linear encoder tape 126 is displayed on the X-axis moving unit 120, the linear encoder head for measuring the scale of the linear encoder tape 126 on the X-axis base portion 110 116 is formed.

즉, X축 이동부(120)가 이동할 때, 상기 리니어 엔코더 헤드(116)는 상기 리니어엔코더 테입(126)의 눈금으로 발광하여 상기 X축 이동부의 이동거리를 산출할 수 있다. That is, when the X-axis moving unit 120 moves, the linear encoder head 116 may emit light with a scale of the linear encoder tape 126 to calculate the moving distance of the X-axis moving unit.

상기 X축 이동부(120)는 사각형상으로 형성될 수 있으며, 상기 X축 베이스부(110)의 상측에 X축 방향으로 이동가능 하도록 형성된다. 또한, 상기 X축 이동부(120)는 상기 레일(114)과 대응되는 형상으로 형성되는 레일블록(123)이 구비된다. 상기 레일블록(123)은 상기 레일(114)을 따라 이동 가능하도록 형성된다. 이러한, 상기 레일블록(123)은 레일블럭체결나사(122)에 의해 상기 X축 이동부(120)에 결합되기도 한다. 또한, 상기 X축 이동부(120)는 복수개의 자석(124)이 X축 방향으로 일렬로 배치되어 형성된다. 이때, 복수개의 상기 자석(124)은 영구자석으로 N극과 S극이 교차되어 배치되되, 적어도 3개 이상 배치되는 것이 바람직하다. 예를 들어, N극-S극-N극 순 이거나, S극-N극-S극 순으로 배치되는 것이 바람직하다. The X-axis moving unit 120 may be formed in a quadrangular shape, and is formed to be movable in the X-axis direction above the X-axis base unit 110. In addition, the X-axis moving unit 120 is provided with a rail block 123 is formed in a shape corresponding to the rail (114). The rail block 123 is formed to be movable along the rail 114. The rail block 123 may be coupled to the X-axis moving part 120 by a rail block fastening screw 122. In addition, the X-axis moving unit 120 is formed with a plurality of magnets 124 are arranged in a line in the X-axis direction. At this time, the plurality of magnets 124 is a permanent magnet is arranged to cross the N pole and the S pole, preferably at least three or more are arranged. For example, N-pole-S-pole-N pole or S-pole-N-pole-S pole is preferable.

또한, 상기 코일(111)과 자석(124)은 서로 이격되는 간격이 0.3mm~1.0mm 인 것이 바람직하다. 즉, 최소한의 이격된 간격으로 이동되도록 형성되어, 코일(111)과 자석(124)의 이격된 간격 사이로 나사와 같은 이물질 등이 들어가면 제품의 손상이 있을 수 있다. 이를 방지하기 위해서 상기 X축 이동부(120)는 복수개로 배치되는 자석(124)의 양 끝단에 각각 이물질유입차단부(125)가 더 형성되기도 한다. 상기 이물질유입차단부(125)는 고무나 실리콘 또는 플라스틱 재질과 같이 금속인 물체(즉, 나사 등)가 달라 붙지 않은 소재로 사용하는 것이 바람직하다. In addition, the coil 111 and the magnet 124 is preferably spaced apart from each other 0.3mm ~ 1.0mm. That is , it is formed to be moved at a minimum spaced interval, if the foreign matter, such as a screw enters between the spaced interval of the coil 111 and the magnet 124 may damage the product. In order to prevent this, the X-axis moving part 120 may further include a foreign matter inflow blocking part 125 at each end of each of the magnets 124 arranged in plurality . The foreign material inlet blocking part 125 may be used as a material in which a metal object (that is, a screw, etc.) does not stick together, such as rubber, silicon, or plastic material.

또한, 상기 X축 이동부(120)는 상면에 Y축 스테이지(200)와 결합되는 결합부(121)가 형성된다. In addition, the X-axis moving unit 120 has a coupling portion 121 is coupled to the Y-axis stage 200 on the upper surface.

또한, 상기 X축 베이스부(110) 및 X축 이동부(120)는 스틸(Steel) 재질로 이루어 질 수도 있다. 상기 코일(111)에 전류가 공급되면, 상기 코일(111)과 자석(124) 사이에 플럭스가 발생하게 된다. 이때, 플럭스는 코일(111)과 자석(124)의 바깥쪽 방향으로 형성될 수 있는데, 상기 X축 베이스부(110) 및 X축 이동부(120)를 스틸(Steel) 재료로 형성하게 되면, 상기 플럭스가 스틸 재료인 X축 베이스부(110) 및 X축 이동부(120)의 외부로 형성되지 않는다. 이때, 상기 X축 베이스부(110) 및 X축 이동부(120)는 스틸 재료에 대해 한정하는 것이 아니며, 플럭스의 형성을 외측방향으로 형성되는 것을 방지할 수 있는 재료 모두 사용할 수 있다. In addition, the X- axis base unit 110 and the X-axis moving unit 120 may be made of steel (Steel) material . When a current is supplied to the coil 111, a flux is generated between the coil 111 and the magnet 124. In this case, the flux may be formed in the outward direction of the coil 111 and the magnet 124. When the X-axis base portion 110 and the X-axis moving portion 120 are formed of steel, The flux is not formed outside the X-axis base part 110 and the X-axis moving part 120 which are steel materials. At this time, the X-axis base portion 110 and the X-axis moving portion 120 is not limited to the steel material, any material that can prevent the formation of the flux in the outward direction can be used.

Y축 스테이지(200)는 Y축 방향으로 이동되도록 상기 X축 스테이지(100) 상에 구비된다. 상기 Y축 스테이지(200)는 복수개의 코일이 배치되는 Y축 베이스부(210)와, 복수개의 자석이 상기 코일과 대응되는 위치에 배치되는 Y축 이동부(220)를 포함하여 구성된다. 상기 Y축 이동부(220)는 상기 Y축 베이스부(210) 상에서 상기 X축과 직교되는 Y축 방향으로 이동가능 하도록 형성된다. 또한, 상기 Y축 이동부(220)의 상면에는 회전 스테이지(300)인 θ축과 결합되는 결합부(221)이 형성된다. The Y-axis stage 200 is provided on the X-axis stage 100 to move in the Y-axis direction. The Y-axis stage 200 includes a Y-axis base portion 210 in which a plurality of coils are disposed, and a Y-axis moving unit 220 in which a plurality of magnets are disposed at a position corresponding to the coil. The Y-axis moving part 220 is formed to be movable on the Y-axis base part 210 in the Y-axis direction perpendicular to the X-axis. In addition, a coupling part 221 coupled to the θ axis, which is a rotation stage 300, is formed on an upper surface of the Y-axis moving part 220.

이러한, 상기 Y축 스테이지(200)는 X축 스테이지(100)의 X축 베이스부(110)과 X축 이동부(120)과 동일한 구조이며, 앞서 설명과 중복되기 때문에 상세한 설명은 생략한다. The Y-axis stage 200 has the same structure as the X-axis base unit 110 and the X-axis moving unit 120 of the X-axis stage 100, and detailed description thereof will be omitted.

또한, 상기 X축 이동부(120)는 하면 일측에 스토퍼(127)이 형성되고, 상기 X축 베이스부(110)에는 상기 스토퍼(127)와 대응되는 위치에 상기 스토퍼(127)가 이동되는 이동통로(119)가 형성된다. 상기 이동통로(119)는 상기 스토퍼(127)가 삽입될 수 있도록 상기 X축 베이스부(110)에 홈이 형성되되, 상기 X축 이동부(120)가 이동될 때 상기 스토퍼(127)가 이동되는 거리와 대응되는 길이로 형성된다. 이때, 상기 스토퍼(127)의 양 끝단은 탄성력을 같는 탄성부재가 더 형성되기도 한다. In addition, a stopper 127 is formed at one side of the X-axis moving part 120, and the stopper 127 is moved to a position corresponding to the stopper 127 at the X-axis base part 110. A passage 119 is formed. The movement passage 119 has a groove formed in the X-axis base portion 110 so that the stopper 127 can be inserted, and the stopper 127 moves when the X-axis movement portion 120 is moved. It is formed to a length corresponding to the distance. At this time, both ends of the stopper 127 may be further formed with an elastic member having the same elastic force.

도 6은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 박형 리니어 스테이지의 회전 스테이지인 θ축의 분해 사시도이며, 도 7은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 박형 리니어 스테이지의 회전 스테이지의 원형 베이스부의 평면도이고, 도 8은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 박형 리니어 스테이지의 회전 스테이지의 이동부의 저면도이다. 6 is an exploded perspective view of the θ axis which is a rotary stage of the thin linear stage according to the preferred embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a plan view of a circular base portion of the rotary stage of the thin linear stage according to the preferred embodiment of the present invention. 8 is a bottom view of a moving part of the rotating stage of the thin linear stage according to the preferred embodiment of the present invention.

도 6 내지 도 8을 참조하여 설명하면, 회전 스테이지(300)는 상기 Y축 스테이지(200) 상에 구비된다. 또한, 상기 회전 스테이지(300)은 복수개의 코일이 원형으로 배치되는 원형 베이스부(310)와, 상기 원형 베이스부(310) 상에서 회전 가능하도록 형성되는 회전부(320)를 포함하여 구성된다. 6 to 8, the rotation stage 300 is provided on the Y-axis stage 200. In addition, the rotation stage 300 includes a circular base portion 310 in which a plurality of coils are disposed in a circular shape, and a rotation part 320 formed to be rotatable on the circular base portion 310.

원형 베이스부(310)는 일측면(상측면)에 상기 회전부(320)가 회전가능 하도록 적층되어 형성된다. 상기 원형 베이스부(310)의 일면에는 복수개의 코일(311)이 형성된다. 상기 코일(311)은 상기 원형 베이스부(310)의 중심부로부터 소정거리 이격되고, 상기 원형 베이스부(310)의 중심부를 중심으로 원형으로 배치되어 형성된다.The circular base portion 310 is formed by stacking the rotatable part 320 on one side (upper side) to be rotatable. A plurality of coils 311 are formed on one surface of the circular base portion 310. The coil 311 is spaced apart from the center of the circular base portion 310 by a predetermined distance, and is formed in a circular shape around the center of the circular base portion 310.

또한, 상기 원형 베이스부(310)는 복수개의 코일(311)이 상기 원형 베이스부(310)의 중심부를 중심으로 원형으로 배치되어 형성되는 기판(312) 및 상기 기판(312) 상의 일측에 형성되는 센서부(313)를 더 포함하여 구성될 수 있다. In addition, the circular base portion 310 is formed on one side of the substrate 312 and the substrate 312 is formed by a plurality of coils 311 is formed in a circular center around the center of the circular base portion 310 The sensor unit 313 may be further included.

구체적으로는 상기 코일(311)은 기판(312) 상에 복수개의 코일(311)이 중심부를 중심으로 원형으로 배치되어 형성된다. 또한, 상기 기판(312)의 일측에 형성되는 센서부(313)를 포함하여 구성된다. 상기 센서부(313)는 원점센서, 리미트 센서 등 일수 있다. Specifically, the coil 311 is formed by forming a plurality of coils 311 in a circular shape around the center of the substrate 312. In addition, it is configured to include a sensor unit 313 formed on one side of the substrate 312. The sensor unit 313 may be an origin sensor, a limit sensor, or the like.

또한, 상기 기판(312)은 상기 코일(311)로 외부의 전원을 공급하는 전원부(미도시)가 더 구비되기도 한다. 상기 전원부는 각각의 코일(311)과 연결되어, 외부의 전원을 공급한다. In addition, the substrate 312 may further include a power supply unit (not shown) for supplying external power to the coil 311. The power supply unit is connected to each coil 311 to supply external power.

또한, 상기 기판(312)은 PCB 기판일 수 있으며, 접착제를 이용하여 코일(311)을 접착시킬 수도 있으며, 상기 접착제는 경화제 및 에폭시와 같은 물질을 사용하기도 한다. In addition, the substrate 312 may be a PCB substrate, and the coil 311 may be bonded using an adhesive, and the adhesive may use a material such as a curing agent and an epoxy.

또한, 상기 기판(312)은 접착제를 이용하여 복수개의 코일(311)을 접착시킬 경우, 한쪽 방향으로 휘어질 수가 있다. 이를 방지하기 위해, 상기 기판(312)은 접착제를 이용하여 코일(311)을 접착한 후, 또 다른 기판을 상기 코일(311) 위에 접착시켜 어느 한 쪽 방향으로 휘어지는 것을 방지할 수 있다. 즉, 기판, 코일, 에폭시, 기판 순으로 적층되는 샌드위치 구조일 수 있다. In addition, the substrate 312 may be bent in one direction when the plurality of coils 311 are bonded to each other using an adhesive. In order to prevent this, the substrate 312 may adhere the coil 311 using an adhesive, and then adhere another substrate onto the coil 311 to prevent the substrate 312 from being bent in either direction. That is, the sandwich structure may be stacked in order of a substrate, a coil, an epoxy, and a substrate.

또한, 상기 기판(312)은 상기 회전부(320)와 동일한 원형의 형상으로 형성되는 것이 바람직하다. 구체적으로 설명하면, 상기 기판(312)은 중심부가 통공되어 형성되고, 상부면에 복수개의 코일(311)이 원형으로 배치되어 형성된다. 또한, 상기 코일(311) 및 자석(321)은 서로 배치되는 방향 및 위치가 동일하게 형성된다. In addition, the substrate 312 is preferably formed in the same circular shape as the rotating part 320. Specifically, the substrate 312 is formed by passing through a central portion thereof, and a plurality of coils 311 are formed in a circular shape on an upper surface thereof. In addition, the coil 311 and the magnet 321 are formed in the same direction and position are arranged with each other.

회전부(320)는 원형의 판 형상으로 형성되고, 상기 회전 베이스부(300)의 일측면에 적층되어 형성된다. 이러한, 상기 회전부(320)는 중심부를 중심으로 회전가능하도록 형성된다. The rotating part 320 is formed in a circular plate shape and is formed by being stacked on one side of the rotating base part 300. The rotation part 320 is formed to be rotatable about a central portion.

상기 회전부(320)의 일측면에는 복수개의 자석(321)이 형성된다. 구체적으로, 복수개의 상기 자석(321)은 상기 회전부(320)의 일측면에 중심부로부터 소정거리 이격되어, 상기 회전부(320)의 중심부를 중심으로 원형으로 배치되어 형성된다. 또한, 상기 자석(321)는 영구자석일 수 있다. 복수개의 자석(321)은 N극과 S극이 교차되어 배치되되, 적어도 3개 이상 배치되는 것이 바람직하다. 예를 들어, N극-S극-N극 순 이거나, S극-N극-S극 순으로 배치되는 것이 바람직하다. A plurality of magnets 321 are formed on one side of the rotating part 320. In detail, the magnets 321 are spaced apart from the center by a predetermined distance on one side of the rotating part 320, and are formed in a circular shape around the center of the rotating part 320. In addition, the magnet 321 may be a permanent magnet. The plurality of magnets 321 are arranged to cross the N pole and the S pole, preferably at least three or more. For example, N-pole-S-pole-N pole or S-pole-N-pole-S pole is preferable.

상기 회전부(320)는 원형 베이스부(310) 상에서 회전 가능하도록 크로스롤러 베이링이 형성되기도 한다. 구체적으로 설명하면, 상기 크로스 베어링은 내측회전판(323)과 외측회전판(322)으로 형성되고, 상기 내측회전판(323)과 외측회전판(322) 사이에 베어링이 형성되는 구조이다. 상기 외측회전판(322)은 상기 회전부(320)와 나사 결합되고, 내측회전판(323)은 원형 베이스부(310)와 나사 결합된다. 구체적으로 설명하면, 상기 원형 베이스부(310)는 단차부(315)가 형성되며, 상기 단차부(315)는 높이가 상기 코일(311)의 높이와 대응되는 높이로 형성되기도 한다. 또한, 상기 단차부(315)는 상기 내측회전판(323)과 나사 결합되는 나사구명(316)이 형성된다. The rotating part 320 may be formed with a cross roller bearing so as to be rotatable on the circular base part 310. Specifically, the cross bearing is formed of an inner rotating plate 323 and an outer rotating plate 322, and a bearing is formed between the inner rotating plate 323 and the outer rotating plate 322. The outer rotating plate 322 is screwed with the rotating part 320, the inner rotating plate 323 is screwed with the circular base portion 310. Specifically, the circular base portion 310 may have a stepped portion 315, and the stepped portion 315 may have a height corresponding to a height of the coil 311. In addition, the stepped portion 315 is formed with a screw lifespan 316 is screwed with the inner rotating plate 323.

이때, 상기 회전부(320)의 자석(321)과 원형 베이스부(310)의 코일(311) 사이의 간격은 0.3mm~1.0mm 인 것이 바람직하다. 또한, 회전부(320)는 하부에 스토퍼(324)가 돌출되어 형성된다. 또한, 원형 베이스부(310)는 상기 스토퍼(324)가 삽입되어 이동되는 통로(314)가 형성된다. 상기 통로(314)는 상기 원형 베이스부(310)의 중심부를 중심으로 원형으로 형성된다. 또한, 상기 통로(314)는 크로스롤러 베어링과 코일(311) 사이에 형성되는 것이 바람직하다. 더욱 상세하게 설명하면, 상기 회전부(320)는 원형 베이스부(310) 상에 적층되어 형성될 때, 상기 스토퍼(324)가 상기 통로(314)에 삽입되어 이동된다. 이때, 상기 회전부(320)가 원형 베이스부(310) 상에서 회전할 때, 상기 스토퍼(324)가 상기 통로(314)를 따라 이동된다. 이때, 상기 통로(314)는 상기 스토퍼(324)의 이동을 제한하는 스토퍼블럭(318)이 형성된다. 상기 스토퍼블럭(318)은 상기 스토퍼(324)가 통로(314)를 이동할 때 상기 스토퍼블럭(318)에 걸려, 상기 회전부(320)의 회전범위를 제한한다. 상기 회전부(320)의 회전범위는 10도 ∼ 350도 일 수 있으며, 상기 스토퍼블럭(318) 및 센서부(313, 313')의 위치에 따라 결정된다.At this time, the distance between the magnet 321 of the rotating unit 320 and the coil 311 of the circular base portion 310 is preferably 0.3mm ~ 1.0mm. In addition, the stopper 324 is formed to protrude from the rotating part 320. In addition, the circular base portion 310 is formed with a passage 314 through which the stopper 324 is inserted and moved. The passage 314 is formed in a circular shape around a central portion of the circular base portion 310. In addition, the passage 314 is preferably formed between the cross roller bearing and the coil 311. In more detail, when the rotating part 320 is stacked on the circular base part 310, the stopper 324 is inserted into the passage 314 and moved. At this time, when the rotating part 320 rotates on the circular base part 310, the stopper 324 is moved along the passage 314. At this time, the passage 314 is formed with a stopper block 318 for limiting the movement of the stopper 324. The stopper block 318 is caught by the stopper block 318 when the stopper 324 moves the passage 314, thereby limiting the rotation range of the rotating part 320. The rotation range of the rotating part 320 may be 10 degrees to 350 degrees, and is determined according to the positions of the stopper block 318 and the sensor parts 313 and 313 '.

또한 상기 회전부(320)의 스토퍼(324) 말단에 자석을 두어 회전하면서 베이스부(310)에 위치한 센서를 감지하도록 할 수 있다.In addition, by placing a magnet at the end of the stopper 324 of the rotating part 320 may be to detect the sensor located in the base portion 310.

또한, 상기 회전부(320)가 회전할 때, 상기 회전부(320)의 회전 각도를 파악하여 회전 오차를 실시간 판별하여 보정 가능하도록 하는 리니어 엔코더를 포함한다.In addition, when the rotation unit 320 rotates, it includes a linear encoder for grasping the rotation angle of the rotation unit 320 to determine the rotation error in real time to correct.

상기 리니어 엔코더는 회전부(320)의 회전 각도와 대응되는 길이로 눈금이 형성되는 리니어엔코더 테입(325)과, 상기 리니어엔코더 테입(325)의 눈금을 측정하는 리니어엔코더헤드(317)로 이루어진다. 상기 리니어엔코더 테입(325)는 상기 회전부(320)의 외주면에 형성되기도 한다.The linear encoder includes a linear encoder tape 325 having a scale formed to a length corresponding to the rotation angle of the rotating unit 320, and a linear encoder head 317 measuring the scale of the linear encoder tape 325. The linear encoder tape 325 may be formed on the outer circumferential surface of the rotating part 320.

또한, 회전 구간의 오차를 판별하기 위해 베이스부(310)내에 리니어엔코더 헤드(317)을 두고, 회전부(320)의 외측면에 회전 영역에 따라 필요한 길이만큼 리니어엔코더 테입(325)을 부착한다 In addition, the linear encoder head 317 is placed in the base portion 310 to determine the error of the rotation section, and the linear encoder tape 325 is attached to the outer surface of the rotation portion 320 by the required length according to the rotation area.

또한, 상기 회전부(320)는 상기 자석(321)을 중심으로 회전부(320)의 내측 방향과 외측 방향이 상기 자석(321)과 대응되는 높이로 단차지게 형성되어 상기 자석(321)이 수용되는 공간이 형성된다. In addition, the rotating part 320 is formed to be stepped at a height corresponding to the magnet 321 inward and outward directions of the rotating part 320 with respect to the magnet 321 to accommodate the magnet 321. Is formed.

또한, 상기 베이스부(310)는 상기 코일(210)을 중심으로 베이스부(200)의 내측 방향과 외측 방향이 상기 코일(311)과 대응되는 높이로 단차지게 형성되어 상기 코일(210)이 수용되는 공간이 형성된다. In addition, the base part 310 is formed to be stepped at a height corresponding to the coil 311 inward and outward directions of the base part 200 with respect to the coil 210 to accommodate the coil 210. Space is formed.

상기 베이스부(310) 및 회전부(320)는 스틸(Steel) 재질로 이루어 질 수도 있다. 구체적으로 설명하면, 상기 코일(311)에 전류가 공급되면, 상기 코일(311)과 자석(321) 사이에 플럭스가 발생하게 된다. 이때, 플럭스는 코일(311)과 자석(321)의 바깥쪽 방향으로 형성될 수 있는데, 상기 베이스부(310) 및 회전부(320)를 스틸(Steel) 재료로 형성하게 되면, 상기 플럭스가 스틸 재료인 베이스부(310) 및 회전부(320)의 외부로 형성되지 않는다. 또한, 상기 베이스부(310) 및 회전부(320)는 스틸 재료에 대해 한정하는 것이 아니며, 플럭스의 형성을 외측방향으로 형성되는 것을 방지할 수 있는 재료 모두 사용할 수 있다.The base part 310 and the rotating part 320 may be made of steel. In detail, when a current is supplied to the coil 311, a flux is generated between the coil 311 and the magnet 321. In this case, the flux may be formed in the outward direction of the coil 311 and the magnet 321. When the base portion 310 and the rotating portion 320 are formed of a steel material, the flux may be a steel material. It is not formed to the outside of the base portion 310 and the rotating part 320. In addition, the base portion 310 and the rotating portion 320 is not limited to the steel material, and any material capable of preventing the formation of the flux in the outward direction may be used.

상기 회전부(320)의 자석(321)은 코일(311)이 있는 베이스부(310) 방향으로만 플럭스가 흐르도록 하기 위해 회전부(320)는 자석(321)를 감싸는 형태의 구조로 단면상으로 내부나 외부로 플럭스가 흐르지 못하도록 할 수 있다. The magnet 321 of the rotating part 320 has a structure that surrounds the magnet 321 so that the flux flows only in the direction of the base part 310 where the coil 311 is located. You can prevent the flux from flowing outside.

이러한, 본 발명의 박형 리니어 스테이지는 회전부(320)의 상면에 대상물을 올려놓은(고정) 후, 외부의 전원으로부터 전원이 공급되면, X축 베이스부(110)의 코일(111), Y축 베이스부(210)의 코일 및 원형 베이스부(310)의 코일(311) 각각에 전류가 공급된다. In the thin linear stage of the present invention, after the object is placed on the upper surface of the rotating part 320 (fixed), when power is supplied from an external power source, the coil 111 of the X axis base part 110 and the Y axis base A current is supplied to each of the coil of the unit 210 and the coil 311 of the circular base unit 310.

또한, 코일에 전류가 흐르게 되면, 자석과 상기 코일 사이에 전자기력이 발생한다. 상기 전자기력에 의해 X축 이동부(120), Y축 이동부(220)가 이동되고, 회전부(320)는 회전하게 된다. In addition, when a current flows through the coil, an electromagnetic force is generated between the magnet and the coil. The X-axis moving part 120 and the Y-axis moving part 220 are moved by the electromagnetic force, and the rotating part 320 is rotated.

본 발명의 박형 리니어 스테이지는 상기와 같은 구동을 통해 대상물을 X축 방향 및 Y축 방향으로 이동시키는 동시에 회전시킬 수도 있다. The thin linear stage of the present invention can also rotate while moving the object in the X-axis direction and the Y-axis direction through the above drive.

이상과 같이 본 발명은 예시한 도면을 참조로 하여 설명하였지만, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 의하여 본 발명이 한정되는 것은 아니며 본 발명의 기술 사상의 범위 내에서 당업자에 의하여 다양한 변형이 이루어질수 있음은 물론이다. As described above, the present invention has been described with reference to the illustrated drawings, but the present invention is not limited to the embodiments and drawings described herein, and various modifications may be made by those skilled in the art within the scope of the technical idea of the present invention. Of course.

10 : 박형 리니어 스테이지 100 : X축 스테이지
110 : X축 베이스부 111 : 코일 112 : 기판
113 : 센서부 114 : 레일 115 : 전선
116 : 리니어 엔코더 119 : 이동통로 120 : X축 이동부
121 : 결합부 122 : 레일블럭체결나사
123 : 레일블럭 124 : 자석 125 : 이물질유입차단부
126 : 리니어엔코더 테입 127 : 스토퍼 128 : 센서도그
200 : Y축 스테이지 210 : Y축 베이스부 220 : Y축 이동부
221 : 결합부 222 : 레일블럭체결나사
300 : 회전 스테이지 310 : 원형 베이스부
311 : 코일 312 : 기판 313 : 센서부
314 : 통로 315 : 단차부 316 : 나사구멍
317 : 엔코더헤드 318 : 스토퍼 블럭
319 : 전선 320 : 회전부 321 : 자석
322 : 외측 회전판 323 : 내측 회전판
324 : 스토퍼 325 : 엔코더 테입
10: thin linear stage 100: X axis stage
110: X axis base portion 111: coil 112: substrate
113 sensor section 114 rail 115 electric wire
116: linear encoder 119: movement passage 120: X axis moving part
121: coupling portion 122: rail block fastening screw
123: rail block 124: magnet 125: foreign material inlet blocking
126: linear encoder tape 127: stopper 128: sensor dog
200: Y-axis stage 210: Y-axis base portion 220: Y-axis moving portion
221: coupling portion 222: rail block fastening screw
300: rotation stage 310: circular base portion
311 coil 312 substrate 313 sensor
314: passage 315: stepped portion 316: screw hole
317: encoder head 318: stopper block
319: wire 320: rotating part 321: magnet
322: outer rotating plate 323: inner rotating plate
324: stopper 325: encoder tape

Claims (5)

박형 리니어 스테이지의 X축 스테이지, Y축 스테이지 및 회전스테이지의 베이스부 위에 형성되는 기판에 있어서,
상기 기판 위에 배치된 코일과 상기 코일를 기판에 접착시키기 위하여 경화제 및 에폭시로 구성되는 접착제를 사용하여 코일을 접착시키되,
상기 접착제를 사용하여 코일을 기판에 접착시킬 때 상기 기판의 휘어짐을 방지하기 위하여 또 다른 기판을 상기 코일 위에 배치하여 접착시키며,
상기 기판과 코일의 적층은 기판-코일-접착제-기판 순으로 적층하여, 기판 사이에서 코일이 접착제로 접착되어 기판이 휘어지거나 변형되지 않도록 하는 것을 특징으로 하는 베이스부 위에 형성되는 기판.


In the substrate formed on the base portion of the X-axis stage, Y-axis stage and the rotating stage of the thin linear stage,
Bonding the coil using a coil disposed on the substrate and an adhesive composed of a curing agent and an epoxy to bond the coil to the substrate,
When the adhesive is used to bond the coil to the substrate, another substrate is placed and bonded on the coil to prevent the substrate from bending.
Stacking the substrate and the coil in a substrate-coil-adhesive-substrate order so that the coil is bonded with an adhesive between the substrates so that the substrate does not bend or deform.


삭제delete 제1항에 있어서,
상기 기판은 기판의 길이가 길어지면 작업영역의 코일(111) 수량도 증가되며, 상기 증가되는 코일(111)은 작업영역에 따라 코일 3개가 한쌍으로 증가되고, 상기 증가되는 코일의 배수에 따라 상기 X축 스테이지의 베이스부(110) 및 Y축 스테이지의 베이스부(210)의 길이가 비례로 증가되는 것을 특징으로 하는 베이스부 위에 형성되는 기판.
The method of claim 1,
The length of the substrate increases as the length of the substrate increases, and the number of coils 111 of the work area also increases, and the increased number of coils 111 increases by a pair of three coils according to the work area. A substrate formed on the base portion, characterized in that the length of the base portion 110 of the X-axis stage and the base portion 210 of the Y-axis stage is increased proportionally.
제1항에 있어서,
상기 기판은 PCB 기판을 사용하며, 상기 코일과 자석이 이격되는 간격이 0.3~1.0mm 간격이 되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 베이스부 위에 형성되는 기판
The method of claim 1,
The substrate is a PCB substrate, the substrate formed on the base portion, characterized in that formed so that the interval between the coil and the magnet is 0.3 ~ 1.0mm interval
제1항에 있어서,
상기 기판을 포함하여 구성되는 박형 리니어 스테이지는 대상물을 X축 방향으로 이동 가능하도록 형성되는 X축 스테이지와,
상기 X축 스테이지 상에 결합되어 Y축 방향으로 이동 가능하도록 형성되는 Y축 스테이지 및
상기 Y축 스테이지 상에 결합되어 회전 가능하도록 형성되는 회전 스테이지를 포함하는 적층되는 형태로 구성되는 것을 특징으로 하는 베이스부 위에 형성되는 기판
The method of claim 1,
The thin linear stage including the substrate includes an X-axis stage formed to move an object in the X-axis direction,
A Y-axis stage coupled to the X-axis stage and formed to be movable in the Y-axis direction;
A substrate formed on the base portion, wherein the substrate is formed in a stacked form including a rotation stage coupled to the Y axis stage to be rotatable.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000333435A (en) * 1999-05-18 2000-11-30 Nippon Thompson Co Ltd Slide equipment with built-in movable coil type linear motor
JP2004072960A (en) * 2002-08-09 2004-03-04 Nippon Thompson Co Ltd Alignment stage device containing linear motor
JP2005192389A (en) * 2003-12-02 2005-07-14 Neomax Co Ltd theta LINEAR MOTOR, LINEAR MOTOR DRIVING STAGE, AND theta-Y-X STAGE

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000333435A (en) * 1999-05-18 2000-11-30 Nippon Thompson Co Ltd Slide equipment with built-in movable coil type linear motor
JP2004072960A (en) * 2002-08-09 2004-03-04 Nippon Thompson Co Ltd Alignment stage device containing linear motor
JP2005192389A (en) * 2003-12-02 2005-07-14 Neomax Co Ltd theta LINEAR MOTOR, LINEAR MOTOR DRIVING STAGE, AND theta-Y-X STAGE

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