KR102027559B1 - High-resolution scanning electron microscope - Google Patents

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KR102027559B1
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김용주
하민수
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(주)코셈
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    • H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams

Abstract

The present invention relates to a high resolution scanning electron microscope. The high resolution scanning electron microscope is mounted at a lower end of a vacuum region, passes electron beams through a membrane thin film to irradiate a surface of a sample therewith, and observes the sample.

Description

고분해능 주사전자현미경{HIGH-RESOLUTION SCANNING ELECTRON MICROSCOPE}High Resolution Scanning Electron Microscopy {HIGH-RESOLUTION SCANNING ELECTRON MICROSCOPE}

본 발명은 주사전자현미경에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 진공 영역과 비진공 영역을 분리하는 멤브레인 박막의 손상을 감지하여, 진공 영역으로 대기가 유입되지 않도록 차단시켜 상기 진공 영역 내의 전자총이 손상되는 것을 방지할 수 있는 고분해능 주사전자현미경에 관한 것이다.The present invention relates to a scanning electron microscope, and more particularly, to detect damage of a membrane thin film separating a vacuum region and a non-vacuum region, and to block the air from entering the vacuum region so that the electron gun in the vacuum region is damaged. A high resolution scanning electron microscope that can be prevented.

시료의 관찰을 위해 각종 전자현미경은 크게 주사전자현미경(Scanning Electron Microscope)과 투과전자현미경(Transmission Electron Microscope)으로 구분할 수 있다.For the observation of the sample, various electron microscopes can be broadly classified into a scanning electron microscope and a transmission electron microscope.

주사전자현미경의 기본 구조는, 시료 위에 전자빔이 주사(scanning)되게 하여 시료에서 발생되는 여러가지 신호 중 그 발생확률이 가장 많은 이차전자(secondary electron)나 반사전자(back scattered electron)를 검출하여 대상 시료를 관찰하는 것으로, 투과전자현미경과 달리 시료 크기 및 준비에 큰 제약을 받지 않게 되어 주사전자현미경이 주로 사용된다.The basic structure of the scanning electron microscope allows the electron beam to be scanned on the sample to detect secondary electrons or back scattered electrons with the highest probability of occurrence among various signals generated from the sample. By observing, the transmission electron microscope is unlikely to be significantly limited in sample size and preparation and scanning electron microscope is mainly used.

그러나 주사전자현미경은 일반적인 현미경의 광원과 광원렌즈에 해당하는 전자선과 전자 렌즈를 사용하는 것인데 전자빔은 고진공 상태에서 방출된다.However, the scanning electron microscope uses an electron beam and an electron lens corresponding to a light source and a light source lens of a general microscope, and the electron beam is emitted in a high vacuum state.

이러한 구조는 시료가 항상 건조한 상태가 되어 버리고, 절연체의 경우는 전하량 증가에 의하여 관찰이 저해되기 때문에 도전성 코팅이나 도전성 염색 처리가 필요한 등의 시료 제조가 번거롭고 관찰을 위한 준비작업 시간이 긴 문제점이 발생한다. In this structure, the sample is always in a dry state, and in the case of an insulator, the observation is hindered by an increase in the amount of charges, so that it is cumbersome to prepare a sample such as a conductive coating or a conductive dyeing process and a long preparation time for the observation occurs. do.

또, 생물시료 등을 변형 없이 그대로 관찰하는 것은 불가능한 문제점이 있었다.In addition, there was a problem that it is impossible to observe the biological sample as it is without modification.

이러한 문제점 해소를 위한 기술로 AIR SEM(Scanning Electron Microscope)이 적용되고 있다.As a technology for solving this problem, AIR SEM (Scanning Electron Microscope) has been applied.

AIR SEM(Scanning Electron Microscope)은 대물렌즈와 관찰시료의 사이에 전자가 통과할 수 있는 두께(통상 수백나노미터 두께)의 매우 얇은 박막을 배치시켜 전자빔 발생부와 시료 영역을 각각 공간적으로 분리하여, 시료 영역이 진공 상태가 아닌 대기압 또는 저진공 환경일 경우에도 시료의 표면 형태 또는 구조를 나노스케일 또는 원자스케일로 관찰 가능하게 한다. AIR SEM (Scanning Electron Microscope) arranges a very thin film (usually hundreds of nanometers thick) through which an electron can pass between an objective lens and an observation sample, and spatially separates an electron beam generator and a sample area, respectively. Even when the sample region is in an atmospheric or low vacuum environment rather than a vacuum state, the surface morphology or structure of the sample can be observed on a nanoscale or atomic scale.

이러한 AIR SEM은 대기압 또는 저진공 환경에서 하전 입자빔을 이용하기 때문에 일반적인 고진공 환경에서 관찰할 수 없는 생물, 바이오 수분을 포함한 시료와 같은 비전도성 시료, 또는 휘발성 성분을 포함하고 있는 시료를 금속 코팅없이 이미지를 용이하게 얻거나 또는 시료의 표면을 가공할 수 이점이 있다.Since the AIR SEM uses charged particle beams in an atmospheric or low vacuum environment, a non-conductive sample such as a sample containing biological or bio moisture, or a sample containing volatile components, which cannot be observed in a general high vacuum environment, is coated without a metal coating. There is an advantage that the image can be easily obtained or the surface of the sample can be processed.

도 1은 종래의 AIR SEM(Scanning Electron Microscope) 개념도로서, 종래의 주사전자현미경은 멤브레인 박막(M)에 의해 박막(M) 하부의 비진공 영역(A1)과 박막 상부의 진공 영역(A2)으로 나뉜다. 1 is a conceptual view of a conventional scanning electron microscope (AIR SEM), in which a conventional scanning electron microscope is a non-vacuum region A1 below the thin film M and a vacuum region A2 above the thin film M by a membrane thin film M. Referring to FIG. Divided.

비진공 영역(A1)은 대기압 또는 저진공 환경으로서 시료 스테이지(100) 상에 관찰 시료(200)가 안착되는 영역된다. The non-vacuum area A1 is an area where the observation sample 200 rests on the sample stage 100 in an atmospheric pressure or low vacuum environment.

진공 영역(A2)에는 전자빔 소스(300), 전자빔 소스(300)에서 방출된 전자의 양과 전자 빔의 크기를 조절하고 집속하는 제 1 및 제 2 집속 렌즈(400a, 400b), 상의 초점을 맞춰 주사하는 대물렌즈(400c)와 조리개(2400d) 등을 포함하는 광학부(400)와 시료(200)에 충돌한 후 반사되는 이차전자를 검출하는 제 1 검출부(500)와, 후방 산란 전자를 검출하는 제 2 검출부(600) 및 시료 주변에 헬륨 가스 등의 불활성 가스를 공급하는 가스 공급부(700) 등이 설치되어 있다. Scanning in the vacuum area A2 focuses on the electron beam source 300, the first and second focusing lenses 400a and 400b for adjusting and focusing the amount of electrons emitted from the electron beam source 300 and the size of the electron beam A first detector 500 for detecting secondary electrons reflected after colliding with the optical unit 400 including the objective lens 400c, the aperture 2400d, and the like, and the sample 200, and for detecting backscattered electrons. The gas detector 700 and the like are provided for supplying an inert gas such as helium gas to the second detector 600 and the sample.

상술한 구성 이외에, 주사전자현미경 내부를 진공 상태로 만들기 위한 진공 펌프와 시료의 높이를 조절하기 위한 주변 장치들이 필요하지만 이는 공지된 기술로서 이에 대한 구체적인 설명은 생략하도록 한다. In addition to the above-described configuration, a vacuum pump for making the inside of the scanning electron microscope and a peripheral device for adjusting the height of the sample are required, but this is a well-known technique and a detailed description thereof will be omitted.

이러한 주사전자현미경은 주사되는 전자빔이 멤브레인 박막을 통과는 하되, 멤브레인 박막에 의해 진공 영역과 비진공 영역이 분리되는 구조로서 멤브레인 박막과 대기 중에 위치한 시료 사이의 거리가 가까울수록 높은 분해능을 얻을 수 있다.The scanning electron microscope has a structure in which the electron beam to be scanned passes through the membrane thin film, but the vacuum region and the non-vacuum region are separated by the membrane thin film. As the distance between the membrane thin film and the sample located in the air becomes closer, high resolution can be obtained. .

그런데, 시료와 멤브레인 박막 사이의 거리 조절 과정에서 시료와 멤브레인 사이의 거리가 너무 가까울 경우 시료 표면의 형성된 요철에 의해 멤브레인 박막이 손상되는 문제가 발생하게 된다.However, when the distance between the sample and the membrane is too close in the process of adjusting the distance between the sample and the membrane thin film, the membrane thin film is damaged by the irregularities formed on the surface of the sample.

더욱이 이러한 멤브레인 박막은 수십 나노 미터의 얇은 두께를 가지기 때문에 쉽게 손상될 우려가 높으며, 이렇게, 멤브레인 박막이 손상될 경우 비진공 영역에서의 공기가 진공 영역으로 순식간에 유입되어 진공 영역에 배치된 전자총을 산화시켜 장비의 내구성을 저하시키게 되는 심각한 문제점이 발생된다.Moreover, since the membrane thin film has a thin thickness of several tens of nanometers, there is a high possibility that it is easily damaged. Thus, when the membrane thin film is damaged, air from the non-vacuum region flows into the vacuum region in an instant, and the electron gun placed in the vacuum region is removed. There is a serious problem that oxidizes and degrades the durability of the equipment.

따라서, 이러한 AIR SEM 장비에서 멤브레인 박막의 손상에 따른 외부 공기가 진공 영역 내부로 유입되는 불합리한 점을 극복하고, 사전에 멤브레인 박막의 손상을 감지하여 진공 영역의 진공도를 유지할 수 있도록 하는 고분해능 주사전자현미경에 대한 요구가 높아지고 있는 실정이다.Therefore, the high resolution scanning electron microscope which overcomes the irrationality that external air is introduced into the vacuum area due to the damage of the membrane thin film in the AIR SEM equipment and can detect the damage of the membrane thin film in advance to maintain the vacuum degree in the vacuum area. The demand for is increasing.

한국등록특허 제 1756171호Korean Patent No. 1756171

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 진공영역의 진공도를 모니터링하여, 진공도가 임계값을 초과할 경우 멤브레인 박막이 손상된 것으로 판단하여 진공 영역과 비진공 영역의 경계영역을 차단시켜 진공 영역의 대기 유입으로 인한 전자총의 파손을 방지할 수 있도록 하는데 있다.The present invention has been made to solve the above problems, the object of the present invention is to monitor the vacuum degree of the vacuum region, when the vacuum degree exceeds the threshold value of the membrane thin film is damaged to determine whether the vacuum region and the non-vacuum region It is to prevent the damage of the electron gun due to the inflow of the vacuum area to the boundary area by blocking.

본 발명의 다른 목적은 시료가 주사전자현미경에서 방출되는 전자빔에 장시간 노출되지 않도록 하여 시료의 열화를 방지하도록 하는데 있다.Another object of the present invention is to prevent the sample from being deteriorated by preventing the sample from being exposed to the electron beam emitted from the scanning electron microscope for a long time.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일측면에 따르면, 전자빔 소스와 광학부가 배치되는 진공 영역의 하단에 장착되어, 상기 진공 영역과 시료가 설치되는 비진공 영역을 공간적으로 분리시키는 멤브레인 박막을 통해 전자빔을 통과시켜 상기 시료의 표면으로 조사하고 시료를 관찰하는 주사전자현미경에 있어서, 상기 진공 영역의 내부 진공도를 모니터링하여, 상기 진공도가 일정 임계값을 초과하게 되면 상기 멤브레인 박막이 손상된 것으로 판단하고, 상기 진공 영역과 상기 비진공 영역의 경계영역을 차단시켜 상기 멤브레인 박막을 통해 상기 비진공 영역의 대기중 공기가 상기 진공 영역으로 유입되지 않도록 한다.According to an aspect of the present invention for achieving the above object, a membrane thin film is mounted on the lower end of the vacuum region in which the electron beam source and the optical unit is disposed, to spatially separate the vacuum region and the non-vacuum region in which the sample is installed. In a scanning electron microscope that passes through an electron beam and irradiates the surface of the sample and observes the sample, the internal vacuum degree of the vacuum region is monitored to determine that the membrane thin film is damaged when the vacuum degree exceeds a predetermined threshold. In addition, the boundary area between the vacuum region and the non-vacuum region is blocked to prevent air from entering the vacuum region of the non-vacuum region through the membrane thin film.

여기서, 상기 진공 영역은 상기 전자빔 소스와 상기 광학부가 설치되는 전자총실과, 상기 전자총실의 하부에 설치되어 하단에 상기 멤브레인 박막이 장착되는 챔버를 포함하며, 상기 전자총실과 상기 챔버 사이에 설치되어, 상기 전자총실과 상기 챔버를 선택적으로 격리시키는 차단부와, 상기 챔버의 일측에 연결되어 상기 챔버 내의 압력 변화를 검출하는 진공감지센서와, 상기 진공감지센서에서 검출된 값을 기초로 하여 상기 차단부의 동작을 제어하는 구동제어부를 더 포함하여, 상기 진공감지센서에서 검출된 값이 임계값을 초과할 경우, 상기 구동제어부에서는 상기 차단부의 동작을 제어하여 상기 전자총실과 상기 챔버 사이를 차단시켜 상기 전자총실 내부로 대기가 유입되지 않도록 제어한다.Here, the vacuum region includes an electron gun chamber in which the electron beam source and the optical unit are installed, and a chamber installed below the electron gun chamber to mount the membrane thin film at a lower end thereof, and installed between the electron gun chamber and the chamber. A blocking unit for selectively isolating the electron gun chamber and the chamber, a vacuum sensor connected to one side of the chamber to detect a pressure change in the chamber, and an operation of the blocking unit based on a value detected by the vacuum detection sensor. Further comprising a drive control unit for controlling, if the value detected by the vacuum sensor exceeds a threshold value, the drive control unit controls the operation of the blocking unit to cut off between the electron gun chamber and the chamber into the electron gun chamber Control the air from entering.

아울러, 상기 차단부는 공압실린더에 의해 전후로 구동되어 상기 전자총실과 상기 챔버 사이를 개폐시키는 게이트 밸브인 것을 특징으로 한다.In addition, the blocking unit is characterized in that the gate valve is driven back and forth by the pneumatic cylinder to open and close between the electron gun chamber and the chamber.

또한, 상기 차단부는 상기 전자총실과 상기 챔버 사이에 회동가능하게 설치되어 상기 전자총실과 상기 챔버 사이를 개폐시키는 셔터부재로 이루어지되, 상기 챔버와 상기 전자총실의 압력차에 의해 발생되는 흡입력으로 상기 셔터부재가 회동되어 상기 전자총실과 상기 챔버를 선택적으로 격리시킨다.In addition, the blocking unit may be rotatably installed between the electron gun chamber and the chamber, the shutter member for opening and closing between the electron gun chamber and the chamber, the shutter member by the suction force generated by the pressure difference between the chamber and the electron gun chamber Is rotated to selectively isolate the electron gun chamber and the chamber.

아울러, 상기 셔터부재의 중앙부는 탄성재질의 탄성밀착면이 형성되어, 상기 챔버와 상기 전자총실의 압력차에 의해 발생되는 흡입력으로 인해 상기 탄성밀착면이 탄성변형되어 상기 전자빔의 이동경로 내측면에 밀착된다.In addition, the center portion of the shutter member is formed with an elastic contact surface of the elastic material, the elastic contact surface is elastically deformed due to the suction force generated by the pressure difference between the chamber and the electron gun chamber to the inner surface of the movement path of the electron beam Close contact.

더욱이, 상기 전자빔의 이동경로 상에 설치되어, 전류인가에 의해 상기 전자빔의 주사 방향이 변경되도록 하는 정렬코일을 더 포함하여, 필요에 따라 상기 정렬코일에 전류를 인가시켜 상기 전자빔이 상기 시료의 표면으로 향하지 않도록 주사 방향을 변경시킨다.Furthermore, an alignment coil is provided on the movement path of the electron beam to change the scanning direction of the electron beam by applying an electric current, and if necessary, the electron beam is applied to the alignment coil to apply a current to the surface of the specimen. Change the scanning direction so that it does not face

아울러, 상기 챔버와 상기 전자총실은 전자빔의 이동경로 상에 미세기공으로 형성되는 오리피스를 통해 연결되어, 상기 챔버와 상기 전자총실로 이루어지는 진공 영역의 내부 진공도가 단계적으로 차등형성되도록 한다.In addition, the chamber and the electron gun chamber are connected through an orifice formed by micropores on the movement path of the electron beam, so that the internal vacuum degree of the vacuum region including the chamber and the electron gun chamber is differentially formed step by step.

여기서, 상기 챔버는 일측에 일정 진공도를 형성시킬 수 있는 제1 진공펌프가 연결되어 상기 챔버 내부에 일정 진공도가 형성되며, 상기 전자총실은 전자빔의 이동경로 상에 미세기공으로 형성되는 오리피스를 통해 상기 챔버와 연결되며, 일측에 일정 진공도를 형성시킬 수 있는 제2 진공펌프가 연결되어, 상기 전자총실 내부에는 상기 챔버보다 더 높은 고진공도가 형성된다.Here, the chamber is connected to a first vacuum pump capable of forming a certain degree of vacuum on one side to form a certain degree of vacuum inside the chamber, the electron gun chamber and the chamber through an orifice formed by micropores on the movement path of the electron beam; The second vacuum pump, which is connected to one side and may form a constant vacuum degree, is connected to a high vacuum degree higher than that of the chamber.

더욱이, 상기 전자총실은 하부에 상기 챔버와 연결되어 내부에 일정 크기 이상의 고진공도가 형성되는 제1 전자총실과, 상기 제1 전자총실의 상부에 전자빔의 이동경로 상에 미세기공으로 형성되는 오리피스를 통해 연결되며, 일측에 일정 진공도를 형성시킬 수 있는 제3 진공펌프와 연결되어, 내부에 상기 제1 전자총실보다 더 높은 초고진공도가 형성되는 제2 전자총실을 포함하여 구성된다.Further, the electron gun chamber is connected to the chamber through the first electron gun chamber which is connected to the chamber at the bottom and has a high vacuum degree of a predetermined size or more, and is connected through an orifice formed on the movement path of the electron beam on the upper portion of the first electron gun chamber. And a second electron gun chamber connected to a third vacuum pump capable of forming a constant vacuum degree on one side, and having an ultra-high vacuum degree higher than that of the first electron gun chamber.

상기와 같은 본 발명에 따르면, 진공 영역 내부의 진공도를 모니터링하여, 진공도가 임계값을 초과하여 상압으로 감지될 경우에는 멤브레인 박막이 손상된 것으로 판단하고, 이에 차단부를 동작시켜 진공 영역이 비진공 영역과 차단되도록 하여 진공 영역 내의 진공도가 유지됨에 의해 전자총의 손상을 방지할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention as described above, by monitoring the degree of vacuum inside the vacuum area, when the vacuum degree is detected at atmospheric pressure exceeding the threshold value, it is determined that the membrane thin film is damaged, and by operating the blocking unit to operate the vacuum area and the non-vacuum area. It is possible to prevent the damage to the electron gun by being blocked by maintaining the degree of vacuum in the vacuum area.

또한, 진공 영역이 챔버, 제1, 제2 전자총실로 각각 구획되고 각 실들이 오리피스를 통해 차등적으로 진공도를 갖도록 연결되어, 멤브레인 박막 손상으로 챔버 내부 진공 상태가 순식간에 파괴되더라도 오리피스를 통해 지연시간을 가져, 게이트 밸브가 닫혀지는 시간동안 진공 영역의 최상부에 위치되는 제2 전자총실의 초고진공도가 유지됨에 의해 제품 안정성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, the vacuum area is divided into chambers, first and second electron gun chambers, respectively, and the chambers are connected to have different degrees of vacuum through the orifices, so that the delay time through the orifices even if the vacuum inside the chamber is suddenly destroyed due to membrane thin film damage. This has the effect of improving product stability by maintaining the ultra-high vacuum of the second electron gun chamber located at the top of the vacuum region during the time that the gate valve is closed.

또한, 정렬코일을 이용하여 필요에 따라 전자빔의 주사 방향을 변경시켜, 시료가 전자빔에 장시간 노출되어 열화되지 않아 시료의 손상을 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, by changing the scanning direction of the electron beam as necessary using the alignment coil, the sample is not exposed to the electron beam for a long time does not deteriorate, thereby preventing damage to the sample.

도 1은 종래의 AIR SEM(Scanning Electron Microscope) 개념도이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 고분해성 주사전자현미경 장치를 나타낸 도면이다.
도 3a와 3b는 본 발명의 일실시예에 따른 고분해성 주사전자현미경 장치의 측단면 구조를 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 고분해성 주사전자현미경의 주요구성을 나타낸 블럭도이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 차단부의 동작을 부분적으로 나타낸 도면이다.
도 6은 정렬코일을 이용하여 전자빔의 궤적을 변경시키는 상태를 간단하게 나타낸 도면
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 차단부의 동작을 부분적으로 나타낸 도면
도 8은 본 발명에 따른 고분해능 주사전자현미경의 진공도 유지 방법을 개략적으로 나타낸 순서도이다.1 is a conceptual view of a conventional AIR SEM (Scanning Electron Microscope).
2 is a view showing a high resolution scanning electron microscope apparatus according to an embodiment of the present invention.
3A and 3B illustrate side cross-sectional structures of a high resolution scanning electron microscope device according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 is a block diagram showing the main configuration of a high resolution scanning electron microscope according to an embodiment of the present invention.
5 is a view partially showing the operation of the blocking unit according to an embodiment of the present invention.
6 is a view simply showing a state in which the trajectory of the electron beam is changed by using the alignment coil.
7 is a view partially showing the operation of the blocking unit according to another embodiment of the present invention;
8 is a flowchart schematically showing a method of maintaining a vacuum degree of a high resolution scanning electron microscope according to the present invention.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일 실시예를 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 고분해성 주사전자현미경 장치를 나타낸 도면이고, 도 3a와 3b는 본 발명의 일실시예에 따른 고분해성 주사전자현미경 장치의 측단면 구조를 나타낸 도면이고, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 고분해성 주사전자현미경의 주요구성을 나타낸 블럭도이고, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 차단부의 동작을 부분적으로 나타낸 도면이다.2 is a view showing a high resolution scanning electron microscope device according to an embodiment of the present invention, Figures 3a and 3b is a view showing a side cross-sectional structure of the high resolution scanning electron microscope device according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is a block diagram showing the main configuration of a high resolution scanning electron microscope according to an embodiment of the present invention, Figure 5 is a view partially showing the operation of the blocking unit according to an embodiment of the present invention.

도면을 참조하면, 본 발명에 따른 고분해성 주사전자현미경은 멤브레인 박막에 의해 내측이 진공상태로 전자빔 소스와 광학부가 설치되는 진공 영역(10)과, 시료가 장착되는 대기상태의 비진공 영역(20)으로 구분된다.Referring to the drawings, the high resolution scanning electron microscope according to the present invention has a vacuum region 10 in which an electron beam source and an optical unit are installed in a vacuum state inside the membrane thin film, and a non-vacuum region 20 in an atmospheric state in which a sample is mounted. ).

이러한 진공 영역(10)은 전자빔 소스와 광학부가 설치되는 전자총실(12)과, 전자빔의 이동경로가 연통되도록 전자총실(12)의 하부에 설치되며, 하단에 멤브레인 박막이 장착되고, 내측에 시료로부터 방출되는 다양한 신호들을 검출하기 위한 검출기가 설치되는 챔버(11)를 포함하여 구성된다.The vacuum region 10 is installed at the lower part of the electron gun chamber 12 so that the electron beam source and the optical unit are installed, and the movement path of the electron beam is communicated. And a chamber 11 in which a detector is installed for detecting various signals emitted from.

이러한 멤브레인 박막은 진공 영역(10)과 비진공 영역(20)을 공간적으로 분리할 뿐만 아니라, 접속된 전자빔이 시료 표면에 조사될 수 있도록 전자빔을 통과시키는 역할을 수행하게 되어, 진공 영역(10)에 배치된 전자빔 소스와 광학부를 통해 방출되는 전자빔이 진공 영역(10)의 하단에 장착되는 멤브레인 박막을 통과하여 비진공 영역(20)에 설치되는 시료의 표면으로 조사되도록 하며, 조사된 전자빔에 의해 시료로부터 발생되는 신호를 검출기로 검출하여 분석하게 된다.The membrane thin film not only spatially separates the vacuum region 10 and the non-vacuum region 20, but also serves to pass the electron beam so that the connected electron beam can be irradiated onto the sample surface. The electron beam source and the electron beam emitted through the optical portion disposed in the through the membrane thin film mounted on the lower end of the vacuum region 10 to be irradiated to the surface of the sample installed in the non-vacuum region 20, by the irradiated electron beam The signal generated from the sample is detected by the detector and analyzed.

아울러, 챔버(11)는 일측에 일정 진공도를 형성시킬 수 있는 제1 진공펌프(31)가 연결되어, 챔버(11) 내부에는 일정 크기의 진공도가 형성되는데, 본 발명에서는 제1 진공펌프(31)가 터보펌프(Turbo Molecular Pump)로 이루어져, 펌핑을 통해 챔버(11) 내부 진공도가 대략 1.0e-4 Torr 정도로 유지되도록 한다.In addition, the chamber 11 is connected to the first vacuum pump 31 that can form a certain degree of vacuum on one side, the vacuum degree of a predetermined size is formed in the chamber 11, in the present invention, the first vacuum pump 31 ) Is composed of a turbo Molecular Pump (Purbo Molecular Pump), so that the vacuum in the chamber 11 is maintained to approximately 1.0e -4 Torr through the pumping.

아울러, 전자총실(12)은 초고진공도를 형성시키기 위해 제1 전자총실(12a)과 제2 전자총실(12b)로 구분된다.In addition, the electron gun chamber 12 is divided into a first electron gun chamber 12a and a second electron gun chamber 12b to form an ultra-high vacuum degree.

이러한 전자총실(12)은 전자빔의 이동경로상에 1,000um 가량의 미세기공으로 이루어지는 오리피스(13a)를 통해 챔버(11)와 연결되며, 일측에 일정 진공도를 형성시킬 수 있는 제2 진공펌프(32)가 연결되어, 내부에는 챔버(11)보다 더 높은 고진공도가 형성되는 제1 전자총실(12a)과, 제1 전자총실(12a)의 상부에 전자빔의 이동경로상에 1,000um 가량의 미세기공으로 이루어지는 오리피스(13b)를 통해 제1 전자총실(12a)과 연결되며, 일측에 일정 진공도를 형성시킬 수 있는 제2 진공펌프(32)가 연결되어, 내부에는 제1 전자총실(12a)보다 더 높은 초고진공도가 형성되는 제2 전자총실(12b)을 포함하여 구성된다.The electron gun chamber 12 is connected to the chamber 11 through an orifice 13a formed of micropores of about 1,000 μm on the movement path of the electron beam, and has a second vacuum pump 32 capable of forming a certain degree of vacuum on one side thereof. Connected to each other, the first electron gun chamber 12a having a higher vacuum degree than the chamber 11 is formed therein, and the micropores of about 1,000um on the movement path of the electron beam on the upper part of the first electron gun chamber 12a. The second vacuum pump 32 is connected to the first electron gun chamber 12a through the orifice 13b, and the second vacuum pump 32 which can form a certain degree of vacuum is connected to one side, and there is a higher height than the first electron gun chamber 12a. It is comprised including the 2nd electron gun chamber 12b by which the degree of vacuum is formed.

이러한 제1 전자총실(12a)과 연결되는 제2 진공펌프(32)는 일반적으로 이온 펌프(Ion pump)로 이루어져, 제1 전자총실(12a) 내부는 대략 1.0e-8 Torr 정도의 고진공도로 형성되도록 한다. 그리고 제2 전자총실(12b)과 연결되는 제3 진공펌프(33)는 제1 전자총실(12a)과 동일한 이온 펌프로서, 제2 전자총실(12b) 내부는 대략 1.0e-10 Torr 정도의 초고진공도가 형성된다.The second vacuum pump 32 connected to the first electron gun chamber 12a generally includes an ion pump, and the inside of the first electron gun chamber 12a is formed at a high vacuum of about 1.0e-8 Torr. Be sure to The third vacuum pump 33 connected to the second electron gun chamber 12b is the same ion pump as the first electron gun chamber 12a, and the inside of the second electron gun chamber 12b is approximately 1.0e -10 Torr. The degree of vacuum is formed.

이와 같이, 본 발명은 이러한 챔버(11), 제1 전자총실(12a), 제2 전자총실(12b)로 이루어지는 진공 영역(10) 내부 진공도가 단계적으로 차등형성되도록 하며, 이러한 진공 영역(10) 내부 진공도가 파괴되지 않도록 본 발명에서는 진공 영역(10)의 내부 진공도를 모니터링 하여, 진공도가 일정 임계값을 초과하게 되면 멤브레인 박막이 손상된 것으로 판단하고, 진공 영역(10)과 비진공 영역(20)의 경계영역을 차단시켜 멤브레인 박막을 통해 상기 비진공 영역(20)의 대기중 공기가 진공 영역(10)으로 유입되지 않도록 한다.As described above, the present invention allows the vacuum degree inside the vacuum region 10 including the chamber 11, the first electron gun chamber 12a, and the second electron gun chamber 12b to be differentially formed step by step, and the vacuum region 10 In the present invention, the internal vacuum degree of the vacuum area 10 is monitored so that the internal vacuum degree is not destroyed, and when the vacuum degree exceeds a predetermined threshold value, the membrane thin film is damaged, and the vacuum area 10 and the non-vacuum area 20 are determined. By blocking the boundary region of the air to prevent the air in the air of the non-vacuum region 20 to the vacuum region 10 through the membrane thin film.

이를 위해 본 발명의 일실시예에서는 차단부(50), 진공감지센서(40), 및 구동 제어부(60)를 더 포함하여 구성된다.To this end, in one embodiment of the present invention further comprises a blocking unit 50, the vacuum sensor 40, and the drive control unit 60.

차단부(50)는 전자총실(12)과 챔버(11) 사이에 전자빔의 이동경로상에 설치되어, 전자총실(12)과 챔버(11)를 선택적으로 격리시키는 것으로, 본 발명의 일실시예에서의 차단부(50)는 공압실린더에 의해 전후로 구동되면서 전자총실(12)과 챔버(11) 사이의 전자빔 이동경로를 개폐시키는 게이트 밸브(51)로 이루어진다.The blocking unit 50 is installed on the movement path of the electron beam between the electron gun chamber 12 and the chamber 11 to selectively isolate the electron gun chamber 12 and the chamber 11, and according to one embodiment of the present invention. The blocking unit 50 is formed of a gate valve 51 which opens and closes the electron beam movement path between the electron gun chamber 12 and the chamber 11 while being driven back and forth by the pneumatic cylinder.

진공감지센서(40)는 챔버(11)의 일측 제1 진공펌프(31)와 연결되는 연결관로상에 설치되어 챔버(11) 내의 압력 변화를 검출하는 것으로, 본 발명에서는 진공감지센서(40)를 피라니 진공계(Pirani gauge)로 하여 챔버(11) 내의 진공도를 실시간으로 측정하도록 한다.The vacuum sensor 40 is installed on a connection pipe connected to the first vacuum pump 31 on one side of the chamber 11 to detect a pressure change in the chamber 11. In the present invention, the vacuum sensor 40 By using a Pirani gauge (Pirani gauge) to measure the degree of vacuum in the chamber 11 in real time.

구동 제어부(60)는 상기의 진공감지센서(40)에서 검출된 값을 기초로 하여 차단부(50)의 동작을 제어하는 것으로, 진공감지센서(40)에서 검출된 진공도 값이 1.0e-4 Torr의 임계값을 초과하여 상압의 값이 검출될 경우, 멤브레인 박막이 손상된 것으로 판단하고, 차단부(50)를 구동하여 공압실린더로 전진하면서 신속하게 게이트 밸브(51)를 닫아 전자총실(12)과 챔버(11)가 공간적으로 분리되도록 하여 전자총실(12)의 내부가 초고진공도 상태로 유지되도록 한다.The driving controller 60 controls the operation of the breaker 50 based on the value detected by the vacuum sensor 40, and the vacuum degree value detected by the vacuum sensor 40 is 1.0 e-4. When a value of atmospheric pressure is detected above the threshold value of Torr, it is determined that the membrane thin film is damaged, and the gate valve 51 is quickly closed while driving the blocking unit 50 to move forward to the pneumatic cylinder, thereby causing the electron gun chamber 12 to be closed. And the chamber 11 to be spatially separated so that the interior of the electron gun chamber 12 is maintained in an ultra-high vacuum state.

더욱이, 본 발명에서는 진공영역(10)을 구성하는 챔버(11), 제1 전자총실(12a) 및 제2 전자총실(12b)들이 상호간에 오리피스(13a, 13b)를 통해 연결되어 각 실별로 차등진공이 가능해지도록 하여 멤브레인 박막이 손상되더라도 최상부에 형성되는 제2 전자총실(12b)의 초고진공도가 떨어지기 전에 게이트 밸브(51)가 닫히도록 한다.Furthermore, in the present invention, the chamber 11, the first electron gun chamber 12a and the second electron gun chamber 12b constituting the vacuum region 10 are connected to each other through orifices 13a and 13b to differentiate each chamber. The vacuum is enabled to allow the gate valve 51 to close even if the membrane thin film is damaged before the ultrahigh vacuum degree of the second electron gun chamber 12b formed at the top drops.

아울러, 본 발명에서는 시료가 주사전자현미경에서 방출되는 전자빔에 장시간 노출되지 않도록 하여 시료의 열화를 방지하기 위해 전자빔의 궤적을 필요에 따라 변경시키도록 한다.In addition, in the present invention, to prevent the sample from being exposed to the electron beam emitted from the scanning electron microscope for a long time, the trajectory of the electron beam is changed as necessary to prevent degradation of the sample.

도 6은 이러한 정렬코일을 이용하여 전자빔의 궤적을 변경시키는 상태를 간단하게 나타낸 도면으로, 도면을 참조하면 본 발명의 일실시예에서는 전자총실(12)의 전자빔 이동경로상에 정렬코일(14)을 설치하여, 시료 관찰이 필요하지 않을 경우에는 정렬코일(14)로 전류를 인가시켜 정렬코일(14)을 통과하는 전자빔의 주사 방향이 변경되어, 전자빔이 시료의 표면으로 떨어지지 않고 전자총실(12) 벽면에 닿게 한다. 이에 따라, 상시 전자빔이 가동되어 시료가 손상되는 것을 방지할 수 있게 된다.FIG. 6 is a view simply showing a state in which the trajectory of the electron beam is changed by using the alignment coil. Referring to the drawing, the alignment coil 14 is disposed on the electron beam movement path of the electron gun chamber 12 according to an embodiment of the present invention. If the observation of the sample is not necessary, the scanning direction of the electron beam passing through the alignment coil 14 is changed by applying a current to the alignment coil 14 so that the electron beam does not fall to the surface of the sample. ) Touch the wall. Accordingly, the electron beam is always operated to prevent the sample from being damaged.

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 차단부의 동작을 부분적으로 나타낸 도면으로, 도면을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에서의 차단부(50)는 전자총실(12)과 상기 챔버(11) 사이에 회동가능하게 설치되어 전자총실(12)과 챔버(11) 사이를 개폐시키는 셔터부재(52)로 이루어지되, 이러한 셔터부재(52)는 진공도 변화에 따라 챔버(11)와 전자총실(12)의 압력차에 의해 발생되는 흡입력으로 회동되어 전자총실(12)과 챔버(11)를 격리시키게 되며, 아울러, 셔터부재(52)는 전자빔의 이동경로 상에 방사상으로 둘러싸이도록 설치되어 일체로 회동되면서 전자빔의 이동경로가 개폐될 수도 있다.7 is a view partially showing the operation of the blocking unit according to another embodiment of the present invention. Referring to the drawings, the blocking unit 50 according to another embodiment of the present invention includes an electron gun chamber 12 and the chamber 11. And rotatably installed between the electron gun chamber 12 and the chamber 11 to open and close the shutter member 52. The shutter member 52 has a chamber 11 and an electron gun chamber ( It is rotated by the suction force generated by the pressure difference of 12) to isolate the electron gun chamber 12 and the chamber 11, and the shutter member 52 is installed so as to be radially surrounded on the movement path of the electron beam integrally. The rotation path of the electron beam may be opened and closed while being rotated.

이와 같이, 본 발명의 다른 실시예에서는 셔터부재(52)의 동작을 위한 별도의 구동수단이 필요치 않게 되며, 아울러 셔터부재(52)의 중앙부에는 탄성재질로 이루어지는 탄성밀착면(52a)이 형성되어 챔버(11)와 전자총실(12)의 압력차에 의해 발생되는 흡입력에 의해 탄성밀착면(52a)이 탄성변형되며, 이러한 탄성밀착면(52a)은 흡입력에 의해 전자빔의 이동경로 내측면으로 밀착되어 대기중의 공기 유입을 완전히 차단시키도록 한다.As such, in another embodiment of the present invention, a separate driving means for the operation of the shutter member 52 is not required, and an elastic contact surface 52a formed of an elastic material is formed at the center of the shutter member 52. The elastic contact surface 52a is elastically deformed by the suction force generated by the pressure difference between the chamber 11 and the electron gun chamber 12, and the elastic contact surface 52a is in close contact with the inner side of the moving path of the electron beam by the suction force. To completely block the inflow of air into the atmosphere.

아래에서는 본 발명에 따른 고분해능 주사전자현미경의 진공도 유지 방법에 대해 자세히 설명하도록 한다.Hereinafter will be described in detail the method of maintaining the vacuum degree of a high resolution scanning electron microscope according to the present invention.

도 8은 본 발명에 따른 고분해능 주사전자현미경의 진공도 유지 방법을 개략적으로 나타낸 순서도이다.8 is a flowchart schematically showing a method of maintaining a vacuum degree of a high resolution scanning electron microscope according to the present invention.

먼저, 진공감지센서(40)를 통해 챔버(11) 내부의 압력변화를 실시간으로 계속 센싱하도록 한다(S810).First, through the vacuum sensor 40 to continuously sense the pressure change in the chamber 11 in real time (S810).

그리고 진공감지센서(40)에서 센싱된 값은 구동 제어부(60)로 전송되고, 구동 제어부(60)에서는 센싱된 값을 판단하여 임계치를 초과하지 않을 경우에는 계속적으로 챔버(11) 내 압력을 감지하도록 하며, 임계치인 1.0e-4 Torr를 초과하여 상압으로 센싱될 경우에는 멤브레인 박막이 손상된 것으로 판단하고(S820), 차단부(50)가 동작되도록 구동제어명령을 생성시키게 된다(S830).In addition, the value sensed by the vacuum sensor 40 is transmitted to the drive controller 60, and the drive controller 60 determines the sensed value and continuously detects the pressure in the chamber 11 when the threshold value is not exceeded. When it is sensed at an atmospheric pressure exceeding the threshold value 1.0e-4 Torr, it is determined that the membrane thin film is damaged (S820), and generates a driving control command to operate the blocking unit 50 (S830).

이렇게 생성된 구동제어명령은 차단부(50)로 전송되고, 차단부(50)에서는 공압실린더를 구동시켜 게이트 밸브(51)가 신속하게 닫히도록 하여, 전자총실(12)과 챔버(11) 공간이 분리되어 전자총실(12)의 내부 초고진공도가 유지되도록 한다(S840).The driving control command generated as described above is transmitted to the blocking unit 50, and the blocking unit 50 drives the pneumatic cylinder to close the gate valve 51 quickly, so that the electron gun chamber 12 and the chamber 11 are spaced. This separation is such that the ultra-high vacuum degree of the electron gun chamber 12 is maintained (S840).

비록 본 발명이 상기 언급된 바람직한 실시예와 관련하여 설명되어졌지만, 발명의 요지와 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 수정이나 변형을 하는 것이 가능하다. 따라서 첨부된 특허등록청구의 범위는 본 발명의 요지에서 속하는 이러한 수정이나 변형을 포함할 것이다.Although the present invention has been described in connection with the above-mentioned preferred embodiments, it is possible to make various modifications or variations without departing from the spirit and scope of the invention. Therefore, the scope of the appended claims will include such modifications and variations that fall within the spirit of the invention.

10 : 진공 영역 11 : 챔버
12 : 전자총실 12a : 제1 전자총실
12b : 제2 전자총실 13a, 13b : 오리피스
14 : 정렬코일
20 : 비진공 영역
31 : 제1 진공펌프 32 : 제2 진공펌프
33 : 제3 진공펌프
40 : 진공감지센서
50 : 차단부 51 : 게이트 밸브
52 : 셔터부재 52a : 탄성밀착면
60 : 구동 제어부10 vacuum region 11 chamber
12: electron gun chamber 12a: first electron gun chamber
12b: 2nd electron gun chamber 13a, 13b: orifice
14: alignment coil
20: non-vacuum area
31: first vacuum pump 32: second vacuum pump
33: third vacuum pump
40: vacuum sensor
50: blocking part 51: gate valve
52: shutter member 52a: elastic contact surface
60: drive control unit

Claims (9)

전자빔 소스와 광학부가 배치되는 진공 영역의 하단에 장착되어, 상기 진공 영역과 시료가 설치되는 비진공 영역을 공간적으로 분리시키는 멤브레인 박막을 통해 전자빔을 통과시켜 상기 시료의 표면으로 조사하고 시료를 관찰하는 주사전자현미경에 있어서,
상기 진공 영역의 내부 진공도를 모니터링하여, 상기 진공도가 일정 임계값을 초과하게 되면 상기 멤브레인 박막이 손상된 것으로 판단하고, 상기 진공 영역과 상기 비진공 영역의 경계영역을 차단시켜 상기 멤브레인 박막을 통해 상기 비진공 영역의 대기중 공기가 상기 진공 영역으로 유입되지 않도록 하되,
상기 진공 영역은
상기 전자빔 소스와 상기 광학부가 설치되는 전자총실과,
상기 전자총실의 하부에 설치되어 하단에 상기 멤브레인 박막이 장착되는 챔버를 포함하며,
상기 전자총실과 상기 챔버 사이에 설치되어, 상기 전자총실과 상기 챔버를 선택적으로 격리시키는 차단부와,
상기 챔버의 일측에 연결되어 상기 챔버 내의 압력 변화를 검출하는 진공감지센서와,
상기 진공감지센서에서 검출된 값을 기초로 하여 상기 차단부의 동작을 제어하는 구동제어부를 더 포함하여,
상기 진공감지센서에서 검출된 값이 임계값을 초과할 경우, 상기 구동제어부에서는 상기 차단부의 동작을 제어하여 상기 전자총실과 상기 챔버 사이를 차단시켜 상기 전자총실 내부로 대기가 유입되지 않도록 제어하는 것을 특징으로 하는 고분해능 주사전자현미경.
Mounted at the lower end of the vacuum region in which the electron beam source and the optical unit are disposed, the electron beam passes through the membrane thin film that spatially separates the vacuum region and the non-vacuum region in which the sample is installed to irradiate the surface of the sample and observe the sample. In the scanning electron microscope,
By monitoring the internal vacuum degree of the vacuum region, it is determined that the membrane thin film is damaged when the vacuum degree exceeds a predetermined threshold value, and the boundary region between the vacuum region and the non-vacuum region is blocked, so that the ratio To prevent air in the vacuum zone from entering the vacuum zone,
The vacuum area is
An electron gun chamber in which the electron beam source and the optical unit are installed;
It is installed in the lower portion of the electron gun chamber includes a chamber in which the membrane thin film is mounted,
A blocking part installed between the electron gun chamber and the chamber, for selectively separating the electron gun chamber and the chamber;
A vacuum sensor connected to one side of the chamber to detect a pressure change in the chamber;
Further comprising a drive control unit for controlling the operation of the blocking unit based on the value detected by the vacuum sensor,
When the value detected by the vacuum sensor exceeds a threshold value, the driving control unit controls the operation of the blocking unit to cut off between the electron gun chamber and the chamber to control the air not to enter the electron gun chamber. High resolution scanning electron microscope.
삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 차단부는
공압실린더에 의해 전후로 구동되어 상기 전자총실과 상기 챔버 사이를 개폐시키는 게이트 밸브인 것을 특징으로 하는 고분해능 주사전자현미경.
The method of claim 1,
The blocking part
And a gate valve driven back and forth by a pneumatic cylinder to open and close the chamber and the chamber.
제 1항에 있어서,
상기 차단부는
상기 전자총실과 상기 챔버 사이에 회동가능하게 설치되어 상기 전자총실과 상기 챔버 사이를 개폐시키는 셔터부재로 이루어지되,
상기 챔버와 상기 전자총실의 압력차에 의해 발생되는 흡입력으로 상기 셔터부재가 회동되어 상기 전자총실과 상기 챔버를 선택적으로 격리시키는 것을 특징으로 하는 고분해능 주사전자현미경.
The method of claim 1,
The blocking part
Rotatingly installed between the electron gun chamber and the chamber is made of a shutter member for opening and closing between the electron gun chamber and the chamber,
And the shutter member is rotated by the suction force generated by the pressure difference between the chamber and the electron gun chamber to selectively isolate the electron gun chamber and the chamber.
제 4항에 있어서,
상기 셔터부재의 중앙부는 탄성재질의 탄성밀착면이 형성되어,
상기 챔버와 상기 전자총실의 압력차에 의해 발생되는 흡입력으로 인해 상기 탄성밀착면이 탄성변형되어 상기 전자빔의 이동경로 내측면에 밀착되는 것을 특징으로 하는 고분해능 주사전자현미경.
The method of claim 4, wherein
The center portion of the shutter member is formed with an elastic contact surface of the elastic material,
The elastic contact surface is elastically deformed due to the suction force generated by the pressure difference between the chamber and the electron gun chamber to be in close contact with the inner surface of the movement path of the electron beam.
전자빔 소스와 광학부가 배치되는 진공 영역의 하단에 장착되어, 상기 진공 영역과 시료가 설치되는 비진공 영역을 공간적으로 분리시키는 멤브레인 박막을 통해 전자빔을 통과시켜 상기 시료의 표면으로 조사하고 시료를 관찰하는 주사전자현미경에 있어서,
상기 진공 영역의 내부 진공도를 모니터링하여, 상기 진공도가 일정 임계값을 초과하게 되면 상기 멤브레인 박막이 손상된 것으로 판단하고, 상기 진공 영역과 상기 비진공 영역의 경계영역을 차단시켜 상기 멤브레인 박막을 통해 상기 비진공 영역의 대기중 공기가 상기 진공 영역으로 유입되지 않도록 하되,
상기 전자빔의 이동경로 상에 설치되어, 전류인가에 의해 상기 전자빔의 주사 방향이 변경되도록 하는 정렬코일을 더 포함하여,
상기 정렬코일에 전류를 인가시켜 상기 전자빔이 상기 시료의 표면으로 향하지 않도록 주사 방향을 변경시키는 것을 특징으로 하는 고분해능 주사전자현미경.
Mounted at the lower end of the vacuum region in which the electron beam source and the optical unit are disposed, the electron beam passes through the membrane thin film that spatially separates the vacuum region and the non-vacuum region in which the sample is installed to irradiate the surface of the sample and observe the sample. In the scanning electron microscope,
By monitoring the internal vacuum degree of the vacuum region, it is determined that the membrane thin film is damaged when the vacuum degree exceeds a predetermined threshold value, and the boundary region between the vacuum region and the non-vacuum region is blocked, so that the ratio To prevent air in the vacuum zone from entering the vacuum zone,
It is provided on the movement path of the electron beam, further comprising an alignment coil to change the scanning direction of the electron beam by applying the current,
And applying a current to the alignment coil to change the scanning direction so that the electron beam does not face the surface of the sample.
제 1항에 있어서,
상기 챔버와 상기 전자총실은 전자빔의 이동경로 상에 미세기공으로 형성되는 오리피스를 통해 연결되어, 상기 챔버와 상기 전자총실로 이루어지는 진공 영역의 내부 진공도가 단계적으로 차등형성되도록 하는 것을 특징으로 하는 고분해능 주사전자현미경.
The method of claim 1,
The chamber and the electron gun chamber are connected through an orifice formed by micropores on the movement path of the electron beam, so that the internal vacuum degree of the vacuum region consisting of the chamber and the electron gun chamber is differentially formed step by step.
제 7항에 있어서,
상기 챔버는 일측에 일정 진공도를 형성시킬 수 있는 제1 진공펌프가 연결되어 상기 챔버 내부에 일정 진공도가 형성되며,
상기 전자총실은 전자빔의 이동경로 상에 미세기공으로 형성되는 오리피스를 통해 상기 챔버와 연결되며, 일측에 일정 진공도를 형성시킬 수 있는 제2 진공펌프가 연결되어, 상기 전자총실 내부에는 상기 챔버보다 더 높은 고진공도가 형성되는 것을 특징으로 하는 고분해능 주사전자현미경.
The method of claim 7, wherein
The chamber is connected to a first vacuum pump capable of forming a constant vacuum degree on one side to form a predetermined vacuum degree inside the chamber,
The electron gun chamber is connected to the chamber through an orifice formed by micropores on the movement path of the electron beam, and a second vacuum pump capable of forming a certain degree of vacuum is connected to one side thereof, and the inside of the electron gun chamber has a higher vacuum than that of the chamber. High resolution scanning electron microscope, characterized in that the degree is formed.
제 8항에 있어서,
상기 전자총실은
하부에 상기 챔버와 연결되어 내부에 일정 크기 이상의 고진공도가 형성되는 제1 전자총실과,
상기 제1 전자총실의 상부에 전자빔의 이동경로 상에 미세기공으로 형성되는 오리피스를 통해 연결되며, 일측에 일정 진공도를 형성시킬 수 있는 제3 진공펌프와 연결되어, 내부에 상기 제1 전자총실보다 더 높은 초고진공도가 형성되는 제2 전자총실을 포함하는 것을 특징으로 하는 고분해능 주사전자현미경.The method of claim 8,
The electron gun room
A first electron gun chamber connected to the chamber at a lower portion thereof and having a high vacuum of a predetermined size or more inside thereof;
It is connected to the third vacuum pump which is formed in the upper part of the first electron chamber through the micropores on the movement path of the electron beam, and can form a certain degree of vacuum on one side, there is more than the first electron chamber inside A high resolution scanning electron microscope, comprising: a second electron gun chamber having a high ultrahigh vacuum degree.
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