KR102015640B1 - Mold apparatus for manufacturing rotating anode target for positive-polarity X-ray tube and Method for manufacturing rotating anode target using the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 양극회전형 엑스선관에 장착되는 회전양극타겟의 제작에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 양극회전형 엑스선관용 회전양극타겟 제작용 몰드장치 및 이를 이용한 회전양극타겟 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to the manufacture of a rotating anode target mounted on the anode rotating X-ray tube, and more particularly, to a mold apparatus for manufacturing a rotating anode target for an anode rotating X-ray tube and a method of manufacturing a rotating anode target using the same.
음극에서 방출된 전자가, 전자기력의 작용에 의해 가속되어 양극의 타겟에 충돌하면 충돌에너지에 의해 타겟면에서 엑스선이 방출된다. 상기 엑스선은 특이한 투과력을 가져 의료용 영상기기나 산업용 촬영장치 등의 분야에 적용되어 왔다. When electrons emitted from the cathode are accelerated by the action of electromagnetic force and collide with the target of the anode, X-rays are emitted from the target surface by the collision energy. The X-rays have a unique transmittance and have been applied to fields such as medical imaging apparatuses and industrial imaging apparatuses.
엑스선관은 엑스선을 출력하기 위해 제작된 진공관으로서, 그 내부에 양극(anode)과 음극(cathode)을 가지며, 양극과 음극에 전위차를 유도하여, 전위차에 의해 전자가 가속되어 타겟에 충돌하게 유도하는 작용을 한다. 예컨대, 양극에 수만 볼트 이상의 고전압을 걸면, 전자는, 가령 텅스텐이나, 몰리브덴 등으로 이루어진 양극에 충돌하고 자신이 지니고 있던 에너지를 엑스선으로 방출하는 것이다.An X-ray tube is a vacuum tube manufactured to output X-rays. The X-ray tube has an anode and a cathode therein, and induces a potential difference between the anode and the cathode, which induces electrons to be accelerated by the potential difference to collide with the target. It works. For example, when a high voltage of tens of thousands of volts is applied to an anode, electrons collide with an anode made of, for example, tungsten, molybdenum, or the like, and emit energy of its own as X-rays.
한편, 상기한 전자의 충돌에 의해 발생되는 에너지의 99% 이상은 열로 전환되고 나머지가 엑스레이로 전환된다. 이와 같이, 에너지의 대부분이 열로 전환되기 때문에, 타겟부위, 즉, 양극에서는 고열이 발생하게 된다. 상기 고열의 열량은 엑스선관에 인가되는 전력에 비례하기 때문에, 엑스선관에 입력되는 전력에 제한을 줄 수밖에 없다. 입력전력을 높일 경우 보다 높은 엑스선 에너지를 얻을 수 있으나, 엑스선관 자체의 안정성을 위해 전력을 제한할 수밖에 없는 것이다.Meanwhile, more than 99% of the energy generated by the collision of electrons is converted into heat and the rest is converted into X-rays. As such, since most of the energy is converted into heat, high heat is generated at the target site, that is, the anode. Since the heat of the high heat is proportional to the power applied to the X-ray tube, it is bound to limit the power input to the X-ray tube. If the input power is increased, higher X-ray energy can be obtained, but the power is limited only for the stability of the X-ray tube itself.
양극 회전형 엑스선관은, 제한된 전력 조건하에서 엑스선 방출량을 높이기 위한 설계가 적용된 엑스선관으로서, 타겟의 역할을 하는 회전형 회전양극타겟을 갖는다. 이러한 양극 회전형 엑스선관에는 다양한 종류가 있으며 대략 도 1의 구조를 갖는다. A bipolar rotary x-ray tube is an x-ray tube to which the X-ray emission is applied under a limited power condition, and has a rotary rotary anode target serving as a target. There are various types of such bipolar rotatable X-ray tubes and have a structure of approximately FIG.
도 1은 양극회전형 엑스선관의 기본 컨셉을 설명하기 위한 개략도이다.1 is a schematic view for explaining the basic concept of a bipolar X-ray tube.
도시한 바와 같이, 양극 회전형 엑스선관(10)은, 진공이 유지되는 진공튜브(12), 진공튜브(12)에 설치되는 음극집속관모듈(14), 회전양극타겟(20), 회전양극타겟(20)을 회전시키는 구동부(18)를 포함한다. 또한, 상기 회전양극타겟(20)은 구동부(18)의 구동샤프트(16)와 고정되는 디스크형 바디(22)와, 바디(22)의 상면 테두리부에 적층되는 적층트랙(24)을 포함한다.As shown, the positive
상기 진공튜브(12)의 내부공간(12a)은, 엑스선의 발생 환경을 최적 유지하기 위하여, 가령 1,2차 진공작업을 통해 고진공이 유지된다. 또한, 음극관집속모듈(14)은, 도시하지 않은 음극집속관, 전극스템, 스템고정체, 절연관 등을 구비하며, 회전양극타겟(20)의 적층트랙(24)을 향하는 지점에 전자빔방출부(14a)를 갖는다. The
상기 전자빔방출부(14a)는, 회전양극타겟(20)과의 사이에 대략 150볼트의 전위차를 형성하며 전자를 방출한다. 전자빔방출부(14a)에서 방출된 전자빔은 상기 전위차에 의해, 회전양극타겟(20)측으로 가속되어 적층트랙(24)에 충돌한다. 상기 적층트랙(24)은 전자빔과의 충돌에 의해 엑스선을 방출한다. The
그런데, 상기 적층트랙(24)은 전자빔과의 집중적 충돌에 의해 매우 높은 온도로 가열되며 그에 따라 쉽게 열화하고 수명단축의 문제를 갖는다. 종래의 적층트랙의 적층방법으로서 진공환경에서 텅스텐을 용사(溶射)하는 방식이 있었으나 이는 고가의 장비가 필요하였으며, 내구성 있는 적층트랙을 형성하는데 한계가 있었다.However, the
본 발명은 상기 문제점을 해소하고자 창출한 것으로서, 구조 및 제작 방식이 간단하며, 바디에 대한 트랙의 입자간 결합을 통해 강력한 결합을 구현하므로 그만큼 내구성이 뛰어난 회전양극타겟을 제작할 수 있는 양극회전형 엑스선관용 회전양극타겟 제작용 몰드장치 및 이를 이용한 회전양극타겟 제조방법을 제공함에 목적이 있다.The present invention has been created to solve the above problems, the structure and the manufacturing method is simple, and since the strong coupling through the interparticle bonding of the track to the body to implement a rotating rotating anode target that is superior in durability so that it can be manufactured An object of the present invention is to provide a mold apparatus for manufacturing a conventional rotary anode target and a method of manufacturing a rotary anode target using the same.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 양극회전형 엑스선관용 회전양극타겟 제작용 몰드장치는, 디스크형 바디와, 상기 바디의 상면 외곽부에 위치하며 링의 형태를 취하고 그 표면을 향해 조사된 전자빔과의 충돌에 의해 엑스선을 방출하는 트랙을 구비한 회전양극타겟을 제조하기 위한 것으로서, 일정내경의 성형공간을 갖는 실린더형 케이싱과; 상기 케이싱내에 장착된 상태로 성형공간 내부로 투입된 성형대상분말을 받쳐 지지하는 것으로서, 상기 케이싱의 내주면에 밀착하며 상하로 개방된 수용공간을 제공하는 링몰드, 상기 링몰드의 수용공간 내에 삽입되며 링몰드의 내주면으로부터 이격되도록 배치되는 코어몰드, 상기 링몰드와 코어몰드의 사이에 개재된 상태로 승강 가능하고 상승한 상태로 링몰드 및 코어몰드의 상면과 단차없는 지지면을 형성하며 하강한 상태로 링몰드와 코어몰드의 사이에 일정깊이의 충진홈을 제공하는 펀칭링을 구비한 하부펀치와; 디스크형 부재로서, 수평의 지지면에 지지된 상태로 상기 케이싱과 링몰드 및 코어몰드를 받쳐 지지하고, 상기 펀칭링은 하강 상태를 유지하게 하는 받침디스크를 포함한다.In order to achieve the above object, a mold apparatus for manufacturing a rotating anode target for an anodic rotary X-ray tube according to the present invention includes a disk-shaped body, an electron beam positioned at an outer periphery of the upper body, and shaped into a ring and irradiated toward the surface thereof. Claims [1] A method for manufacturing a rotating anode target having a track for emitting X-rays due to a collision, comprising: a cylindrical casing having a molding space having a predetermined inner diameter; A ring mold which supports and supports the molding target powder introduced into the molding space while being mounted in the casing. The ring mold adheres to the inner circumferential surface of the casing and provides an upper and lower receiving space, the ring mold being inserted into the receiving space of the ring mold. The core mold disposed to be spaced apart from the inner circumferential surface of the mold, the ring mold and the ring mold and the core mold can be lifted and raised in a raised state to form a support surface without step with the upper surface of the ring mold and the core mold, and the ring is lowered. A lower punch having a punching ring for providing a filling groove having a predetermined depth between the mold and the core mold; A disc-shaped member, wherein the support ring supports the casing, the ring mold and the core mold in a state of being supported on a horizontal support surface, and the punching ring includes a support disc to maintain the lowered state.
또한, 상기 하부펀치에 대응하는 것으로서, 케이싱의 성형공간 내부로 진입하며 성형대상분말을 가압하는 상부펀치가 더 포함된다.In addition, as the lower punch, the upper punch further enters into the molding space of the casing and presses the powder to be molded.
아울러, 상기 펀칭링의 하단부에는, 펀칭링의 하강상태에서 링몰드 및 코어몰드의 하단부에 대해 상기 충진홈의 깊이에 해당하는 만큼 하향 돌출되는 돌출부가 구비된다.In addition, the lower end of the punching ring is provided with a protrusion protruding downward corresponding to the depth of the filling groove with respect to the lower end of the ring mold and the core mold in the falling state of the punching ring.
또한, 상기 받침디스크에는, 상기 펀칭링의 돌출부를 하향 통과시켜 돌출부가 상기 지지면에 접하게 하는 다수의 유도구멍이 구비된다.In addition, the supporting disk is provided with a plurality of guide holes through which the protrusion of the punching ring passes downward so that the protrusion contacts the support surface.
또한, 상기 코어몰드의 상면 중앙에는 수평의 평면부가 형성되어 있고, 상기 평면부의 주변에는 반지름 방향으로 상향 경사진 경사면부가 형성되며, 상기 링몰드와 펀칭링의 상단면에는 상기 코어몰드의 경사면부와 동일한 경사각을 갖는 상단경사면이 형성된다.In addition, a horizontal flat portion is formed at the center of the upper surface of the core mold, and an inclined surface portion inclined upward in the radial direction is formed around the flat portion, and the inclined surface portion of the core mold is formed on the upper surface of the ring mold and the punching ring. An upper sloped surface having the same inclination angle is formed.
또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 회전양극타겟 제조방법은, 디스크형 바디와, 상기 바디의 상면 외곽부에 위치하며 링의 형태를 취하고 그 표면을 향해 조사된 전자빔과의 충돌에 의해 엑스선을 방출하는 트랙을 구비한 회전양극타겟을 제조하기 위한 방법으로서, 일정 내경의 성형공간을 제공하는 실린더형 케이싱과, 상기 케이싱의 내주면에 밀착하며 상하로 개방된 수용공간을 갖는 링몰드와, 상기 링몰드의 수용공간 내에 삽입되며 링몰드의 내주면으로부터 이격되는 코어몰드와, 상기 링몰드와 코어몰드의 사이에 개재된 상태로 승강 가능한 링형 부재로서, 상승한 상태로 링몰드 및 코어몰드의 상면과 단차없는 지지면을 형성하고, 하강한 상태로 링몰드와 코어몰드의 사이에 일정깊이의 충진홈을 형성하는 펀칭링과, 상기 케이싱의 하부에 상기 펀칭링이 하강한 상태를 유지하게 하는 받침디스크를 구비하는 몰드를 준비하는 몰드세팅단계와; 상기 충진홈의 내부에, 상기 트랙을 형성하기 위한 트랙성형분말을 채우는 트랙성형분말 충진단계와; 상기 트랙성형분말의 충진이 완료된 후, 케이싱내에, 상기 바디를 성형하기 위한 타겟바디분말을 투입하는 타겟바디분말 투입단계와; 상기 받침디스크를 제거한 상태로 케이싱내에 수용된 분말을 하향 가압하여, 상기 펀칭링이 반작용력에 의해 상승하며 충진공간 내부의 트랙성형분말을 올려 타겟바디분말 내부로 침투하게 하는 가압 및 트랙성형분말침투유도단계와; 상기 분말의 가압과정이 완료된 후 몰드를 제거하는 몰드제거단계를 포함한다.In addition, the rotating anode target manufacturing method of the present invention for achieving the above object, X-rays by collision with the disk-shaped body, and the electron beam irradiated toward the surface of the upper surface of the body in the form of a ring A method for manufacturing a rotating anode target having a track for emitting a light, comprising: a cylindrical casing providing a molding space having a predetermined inner diameter, a ring mold having a receiving space in close contact with an inner circumferential surface of the casing, and open vertically; A core mold inserted into a receiving space of the ring mold and spaced apart from an inner circumferential surface of the ring mold, and a ring-shaped member that can be elevated in an interposed state between the ring mold and the core mold. A punching ring for forming a support surface that is not provided and forming a filling groove having a predetermined depth between the ring mold and the core mold in a descending state; A mold setting step of preparing a mold having a support disk which will maintain a state in which the punch is moved down to the ring unit; A track molding powder filling step of filling a track molding powder to form the track in the filling groove; A target body powder input step of injecting a target body powder for forming the body into the casing after the filling of the track molding powder is completed; Pressing the powder contained in the casing with the support disk removed, the punching ring is lifted by the reaction force and lifts the track molding powder inside the filling space to penetrate into the target body powder. Steps; And a mold removing step of removing the mold after the pressing process of the powder is completed.
아울러, 상기 몰드제거단계를 통해 몰드로부터 분리된 성형물을 가열하여 소결시키는 소결단계를 더 포함한다.In addition, the method further includes a sintering step of heating and sintering a molding separated from the mold through the mold removing step.
상기와 같이 이루어지는 본 발명의 양극회전형 엑스선관용 회전양극타겟 제작용 몰드장치는, 구조 및 제작 방식이 간단하며 바디에 대한 트랙의 입자간 결합을 통해 강력한 결합을 구현하므로 그만큼 내구성이 뛰어난 회전양극타겟을 제작할 수 있다.The mold apparatus for manufacturing a rotating anode target for an anodic rotating X-ray tube made of the present invention as described above is simple in structure and manufacturing method, and implements a strong coupling through interparticle bonding of a track to a body, thus having a durable rotating anode target. Can be produced.
도 1은 양극회전형 엑스선관의 기본 컨셉을 설명하기 위한 개략도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 양극회전형 엑스선관용 회전양극타겟 제작용 몰드장치의 분해 사시도이다.
도 3은 도 2에 도시한 몰드장치의 측단면도이다.
도 4a 내지 4e는 상기 몰드장치를 이용한 회전양극타겟 제조방법을 도식적으로 나타내 보인 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 회전양극타겟 제조방법을 정리하여 나타낸 블록도이다.1 is a schematic view for explaining the basic concept of a bipolar X-ray tube.
2 is an exploded perspective view of a mold apparatus for manufacturing a rotating anode target for an anodic rotation type X-ray tube according to an embodiment of the present invention.
3 is a side cross-sectional view of the mold apparatus shown in FIG.
4A to 4E are diagrams schematically showing a method of manufacturing a rotating anode target using the mold apparatus.
5 is a block diagram illustrating a method of manufacturing a rotating anode target according to an embodiment of the present invention.
이하, 본 발명에 따른 하나의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, one embodiment according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
기본적으로, 본 실시예에 따른 양극회전형 엑스선관용 회전양극타겟 제작용 몰드장치(30)는, 도 4e에 도시한 회전양극타겟(80)을 제작하기 위한 것이며, 특히, 소결 전에, 바디(80a)와 트랙(80b)의 입자간 결합을 유도하여, 바디(80a)에 대한 트랙(80b)의 결합을 매우 강력하게 구현할 수 있다. 아울러, 몰드장치(30)로 제작된 회전양극타겟(80)에서의 트랙(80b)은 그 자체의 기계적 강도가 양호하여 그만큼 수명이 길게 유지된다.Basically, the
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 양극회전형 엑스선관용 회전양극타겟 제작용 몰드장치(30)의 분해 사시도이고, 도 3은 도 2에 도시한 몰드장치의 측단면도이다.2 is an exploded perspective view of a
도시한 바와 같이, 본 실시예에 따른 회전양극타겟 제작용 몰드장치(30)는, 일정내경의 성형공간(40a)을 갖는 실린더형 케이싱(40), 상기 케이싱(40)의 성형공간 내부에 배치되는 상부펀치(50) 및 하부펀치(60), 케이싱(40) 및 하부펀치(60)를 지지하는 받침디스크(70)를 구비한다. As shown in the drawing, the
상기 구성을 갖는 몰드장치(30)는, 도 4e에 도시한, 디스크형 바디(도 4e의 80a)와, 상기 바디(80a)의 상면 외곽부에 위치하며 링의 형태를 취하고 그 표면을 향해 조사된 전자빔과의 충돌에 의해 엑스선을 방출하는 트랙(80b)을 구비한 회전양극타겟(80)을 제조하기 위한 것으로서, 수평의 지지평면(90)에 지지된 상태로 사용된다. 지지평면(90)은 유압프레스의 작업 다이 일 수 있다.The
먼저, 상기 케이싱(40)은 일정 내경 및 외경을 가지고 상하로 개방되어 있는 실린더형 부재로서, 가압 성형할 분말을 그 내부에 수용한다. 본 실시예에서의 분말에는, 트랙성형분말(A)과 타겟바디분말(B)이 포함된다. First, the
트랙성형분말(A)은, 티타늄, 지르코늄, 몰리브덴 분말이 혼합된 TZM 합금분말이거나, 텅스텐과 레늄(Rhenium)이 혼합된 W-Re 일 수 있다. 트랙성형분말(A)은 가압과 소결 과정을 통해 트랙(80b)으로 변모한다. 아울러, 타겟바디분말(B)은 몰리브덴 분말로서 가압과 소결 과정을 통해 디스크형 바디(80a)로 이루어진다.The track molding powder (A) may be a TZM alloy powder in which titanium, zirconium, and molybdenum powder are mixed, or W-Re in which tungsten and rhenium are mixed. The track molding powder A is transformed into the
상기 케이싱(40)은 받침디스크(70)에 지지된 상태로 지지평면(90) 상에 수직으로 세팅된다. 후술하는 바와 같이, 받침디스크(70)가 제거된 상황에서는 도 4d와 같이, 지지평면(90)에 바로 세워진다.The
상부펀치(50)는 일정 직경을 갖는 원통형 부재로서, 별도의 유압프레스(미도시)에 장착된 상태로 승강운동 한다. 상부펀치(50)를 케이싱(40)의 성형공간(40a)에 삽입한 상태로 하강시키거나 상승시키는 것이다. 상부펀치(50)가 하강함에 따라, 성형공간(40a)내에 미리 투입되어 있는 트랙성형분말(A)과 타겟바디분말(B)이 매우 강한 압력으로 압착되며 입자간 결합을 이룬다.The
한편, 상기 하부펀치(60)는, 링몰드(61), 펀칭링(63), 코어몰드(65)를 포함한다. 링몰드(61)와 펀칭링(63)과 코어몰드(65)는 상호 결합한 상태로 하나의 하부펀치(60)를 구성하며, 도 3에 도시한 바와 같이, 성형공간(40a)의 하측부에 끼워진 상태로, 성형공간 내부로 투입된 성형대상분말을 받쳐 지지 한다. 하부펀치(60)의 상면은 분말을 받치기 위한 지지면(60a)이다.The
상기 링몰드(61)는 일정 내경 및 외경을 갖는 링형부재로서, 그 내측에 수용공간(61a)을 제공한다. 수용공간(61a)은 펀칭링(63)과 코어몰드(65)를 수용하는 홈이다. The
상기 링몰드(61)의 외주면은 케이싱(40)의 내주면에 면접하며 밀착한다. 케이싱(40)에 대한 링몰드(61)의 결합과 분리는 물론 위치 조정도 가능하다. 아울러 링몰드(61)의 상단에는 상단경사면(61b)이 마련되어 있다. 상단경사면(61b)은 링몰드(61)의 외주면으로부터 내주면을 향해 하향 경사진 경사면이다. 상단경사면(61b)의 경사각은, 후술할 코어몰드(65)의 경사면부(65b)의 경사각과 동일하다.The outer circumferential surface of the
상기 코어몰드(65)는, 링몰드(61)의 수용공간(61a) 중앙에 배치되는 부재로서, 그 외주면부(65c)가 링몰드의 내주면(61c)으로부터 일정 간격 이격된다. 아울러, 코어몰드(65)의 상면에는 평면부(65a)와 경사면부(65b)가 마련되어 있다. 평면부(65a)는 코어몰드(65) 상면 중앙부에 형성되어 있는 원형 부분이다. 또한 경사면부(65b)는 평면부(65a)로부터 반지름 방향으로 상향 경사진 부분이다. 위에 언급한 바와 같이, 평면부(65a)의 경사각은 링몰드(61)의 상단경사면(61b)의 경사각과 같다.The
한편, 상기 펀칭링(63)은, 링몰드(61)와 코어몰드(65)의 사이에 개재된 상태로 승강 가능한 링형 부재이다. 펀칭링(63)의 외주면과 내주면은, 링몰드(61)의 내주면(61c)과 코어몰드(65)의 외주면부(65c)에 면접한 상태로 슬라이딩 운동 가능하다. 즉, 펀칭링(63)은 링몰드(61)와 코어몰드(65)의 사이에 끼워진 상태로 승강운동 가능한 것이다.On the other hand, the punching
아울러 펀칭링(63)의 하단부에는 돌출부(63d)가 형성되어 있다. 돌출부(63d)는 받침디스크(70)의 유도구멍(70a)을 하향 통과하여 그 하단부가 지지평면(90)의 상면에 접하는 부분으로서 홈부(63c)에 의해 분리되어 있다. 돌출부(63d)는 펀칭링(63)의 중심을 기준으로 대칭을 이룬다.In addition, a
또한 펀칭링(63)의 상단부에는 가압면(63b)이 마련되어 있다. 가압면(63b)은 펀칭링(63)의 외주면에서 내주면을 향하여 하향 경사진 부분으로서, 상기한 상단경사면(61b)과 동일한 경사각을 갖는다.In addition, the
특히, 상기 펀칭링(63)은, 도 4d에 도시한 바와 같이, 링몰드(61)와 코어몰드(65)의 사이에서 상승한 상태로, 상단경사면(61b) 및 경사면부(65b)와 함께 단차없는 지지면(60a)을 형성하고, 도 4a처럼 하강한 상태로 링몰드(61)와 코어몰드(65)의 사이에 일정깊이의 충진홈(62)을 제공한다.In particular, as shown in FIG. 4D, the punching
상기 받침디스크(70)는 일정두께를 갖는 디스크형 부재로서, 상기 지지평면(90)에 지지된 상태로 케이싱(40)과 링몰드(61) 및 코어몰드(65)를 받치는 부재로서 다수의 유도구멍(70a)을 갖는다. The
상기 유도구멍(70a)은 하강한 상태의 펀칭링(63)의 돌출부(63d)를 통과시키는 구멍이다. 위에 언급한 바와 같이, 돌출부(63d)는 유도구멍(70a)을 통과한 상태로 지지평면(90)에 지지된다. 돌출부(63d)는 받침디스크(70)가 설치되어 있던 제거된 상태이건 항상 지지평면(90)에 접하고 있는 것이다.The
아울러, 상기 받침디스크(70)의 두께는, 홈부(63c)에 대한 돌출부(63d)의 단차높이(H)와 충진홈(62)의 깊이(Z)와 같다. 따라서,도 4c에 도시한 바와 같이, 받침디스크(70)를 제거한 상태로 하부펀치(60)를 내려 앉히면, 펀칭링(63)이, 링몰드(61) 및 코어몰드(65)에 대해 상대적으로 상승하며, 단차 없는 지지면(60a)을 형성하게 된다.In addition, the thickness of the
도 4a 내지 4e는 상기 몰드장치를 이용한 회전양극타겟 제조방법을 도식적으로 나타내 보인 도면이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 회전양극타겟 제조방법을 정리하여 나타낸 블록도이다.4A to 4E are diagrams schematically illustrating a method of manufacturing a rotating anode target using the mold apparatus, and FIG. 5 is a block diagram illustrating a method of manufacturing a rotating anode target according to an embodiment of the present invention.
도시한 바와 같이, 본 실시예에 따른 회전양극타켓 제조방법은, 몰드세팅단계(101), 트랙성형분말 충진단계(103), 타겟바디분말 투입단계(105), 가압 및 트랙성형분말 침투유도단계(107), 몰드제거단계(109), 소결단계(111)를 포함한다.As shown, the rotating anode target manufacturing method according to the embodiment, the
먼저, 상기 몰드세팅단계(101)는, 상기한 케이싱(40)에 하부펀치(60)와 받침디스크(70)를 장착하여 맞춘 상태로, 몰드장치(30)를 지지평면(90)에 세워 놓는 과정이다. First, in the
말하자면, 도 4a에 나타낸 바와 같이, 상기 링몰드(61), 코어몰드(65), 펀칭링(63)을 조합한 상태로, 케이싱(40) 내부에 삽입하고, 케이싱(40) 하부에 받침디스크(70)를 위치시키는 과정이다. 이 때 상기 돌출부(63d)는 유도구멍(70a)을 통해 지지평면(90)에 접한 상태, 즉, 펀칭링(63)이 하강하여 충진홈(62)이 확보된 상태이다.In other words, as shown in FIG. 4A, the
이어지는 트랙성형분말 충진단계(103)는, 확보되어 있는 충진홈(62)의 내부에 트랙성형분말(A)을 채우는 과정이다. 트랙성형분말에 대해서는 위에 언급하였다. The following track molding
한편, 경우에 따라, 상기 트랙성형분말 충진단계(103)를 미리 진행할 수도 있다. 이를테면, 하부펀치(60) 구조체와 받침디스크(70)를 조립 구성하여 충진홈(62)을 확보한 상태로 충진홈(62)에 트랙성형분말을 먼저 충진하고, 이 상태의 하부펀치(60)를 케이싱(40)에 삽입할 수도 있는 것이다.In some cases, the track molding
상기 충진홈(62) 내부에 트랙성형분말(A)이 충진 되었다면, 성형공간(40a) 내부에 타겟바디분말(B)을 투입하여 채우는 타겟바디분말 투입단계(105)를 수행한다. 이 때 투입되는 타겟바디분말(B)의 양은 필요에 따라 달라진다. 도 4b에 도시한 바와 같이, 투입된 타겟바디분말(B)은 하부펀치(60)의 상부에 쌓인 상태로 그 일부가 트랙성형분말(A)과 접한다.When the track molding powder A is filled in the filling
상기 타겟바디분말 투입단계(105)가 완료된 후, 가압 및 트랙성형분말 침투유도단계(107)를 수행한다. 가압 및 트랙성형분말 침투유도단계(107)는, 일단 받침디스크(70)를 제거한 상태로, 상부펀치(50)를 도 4c의 화살표 F방향으로 하향 가압하는 과정이다. After the target body
상부펀치(50)를 하향 가압하면, 케이싱(40) 내에 수용된 분말(A,B)이 압착됨과 동시에, 펀칭링(63)이, 상부펀치(50)의 하향 가압력에 대한 반작용력에 의해 상대적으로 상승한다. 상대적으로 상승한다는 의미는, 펀칭링(63)이 링몰드(61) 및 코어몰드(65)에 대해 상대적으로 상승한다는 의미이다. 이를 보다 정확히 말하면, 펀칭링(63)은 그 상태를 유지하고 있고, 링몰드(61)와 코어몰드(65)가 상부펀치(50)의 가압력을 받아 하강하는 것이다.When the
상기 과정을 통해, 충진홈(62)에 채워져 있던 트랙성형분말(A)은, 펀칭링(63)에 의해 강력한 상향 압력을 받아, 도 4c의 화살표 s방향으로 올라오며, 타겟바디분말(B)의 내부로 침투한다. 타겟바디분말(B)과 트랙성형분말(A)이 입자간 결합을 하는 것이다. 도 4d에 표시한 도면부호 C는 타겟바디분말(B)에 트랙성형분말(A)이 침투하여 결합한 분말침투부위를 의미한다.Through the above process, the track molding powder A filled in the filling
상기한 가압 및 트랙성형분말 침투유도단계(107)를 통해 트랙성형분말(A)과 타겟바디분말(B)의 결합이 완료되었다면, 몰드제거단계(109)를 수행한다. 몰드제거단계(109)는, 분말에 대한 가압과정이 완료된 후, 성형물을 몰드로부터 분리하는 과정이다. When the combination of the track molding powder A and the target body powder B is completed through the pressurization and track molding powder
이어지는 소결단계(111)는, 상기 몰드제거단계(109)를 통해 몰드장치(30)로부터 분리한 성형물은 가열하여 소결시키는 과정이다. 소결 과정 자체는 일반적인 프로세스에 따를 수 있다. 상기 소결단계(111)를 통해 도 4e에 도시한 회전양극타겟(80)를 얻는다.
이상, 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정하지 않고, 본 발명의 기술적 사상의 범위내에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다.As mentioned above, although this invention was demonstrated in detail through the specific Example, this invention is not limited to the said Example, A various deformation | transformation is possible for a person with ordinary knowledge within the scope of the technical idea of this invention.
10:양극회전형 엑스선관 12:진공튜브 12a:내부공간
14:음극집속관모듈 14a:전자빔방출부 16:구동샤프트
18:구동부 20:회전양극타겟 22:바디
24:적층트랙 30:몰드장치 40:케이싱
40a:성형공간 50:상부펀치 60:하부펀치
60a:지지면 61:링몰드 61a:수용공간
61b:상단경사면 61c:내주면 62:충진홈
63:펀칭링 63b:가압면 63c:홈부
63d:돌출부 65:코어몰드 65a:평면부
65b:경사면부 65c:외주면부 70:받침디스크
70a:유도구멍 80:회전양극타겟 80a:바디
80b:트랙 90:지지평면10: bipolar rotary x-ray tube 12:
14: cathode collecting
18: drive unit 20: rotary anode target 22: body
24: stacked track 30: molding apparatus 40: casing
40a: molding space 50: upper punch 60: lower punch
60a: ground 61:
61b: Upper sloped
63: punching
63d: protrusion 65:
65b: sloped
70a: guide hole 80:
80b: Track 90: Support Plane
Claims (7)
일정내경의 성형공간을 갖는 실린더형 케이싱과;
상기 케이싱내에 장착된 상태로 성형공간 내부로 투입된 성형대상분말을 받쳐 지지하는 것으로서, 상기 케이싱의 내주면에 밀착하며 상하로 개방된 수용공간을 제공하는 링몰드, 상기 링몰드의 수용공간 내에 삽입되며 링몰드의 내주면으로부터 이격되도록 배치되는 코어몰드, 상기 링몰드와 코어몰드의 사이에 개재된 상태로 승강 가능하고 상승한 상태로 링몰드 및 코어몰드의 상면과 단차없는 지지면을 형성하며 하강한 상태로 링몰드와 코어몰드의 사이에 일정깊이의 충진홈을 제공하는 펀칭링을 구비한 하부펀치와;
디스크형 부재로서, 수평의 지지면에 지지된 상태로 상기 케이싱과 링몰드 및 코어몰드를 받쳐 지지하고, 상기 펀칭링은 하강 상태를 유지하게 하는 받침디스크를 포함하는 양극회전형 엑스선관용 회전양극타겟 제작용 몰드장치.In order to manufacture a rotating anode target having a disk-shaped body and a track located on the upper edge of the body and taking the form of a ring and emitting X-rays by collision with an electron beam irradiated toward the surface.
A cylindrical casing having a forming space having a constant inner diameter;
A ring mold which supports and supports the molding target powder introduced into the molding space while being mounted in the casing. The ring mold adheres to the inner circumferential surface of the casing and provides an upper and lower receiving space, the ring mold being inserted into the receiving space of the ring mold. The core mold disposed to be spaced apart from the inner circumferential surface of the mold, the ring mold and the ring mold and the core mold can be lifted and raised in a raised state to form a support surface without step with the upper surface of the ring mold and the core mold, and the ring is lowered. A lower punch having a punching ring for providing a filling groove having a predetermined depth between the mold and the core mold;
A disc-shaped member, comprising: a support for supporting a casing, a ring mold and a core mold in a state of being supported on a horizontal support surface, and the punching ring including a support disk for maintaining a lowered state. Molding device for manufacturing.
상기 하부펀치에 대응하는 것으로서, 케이싱의 성형공간 내부로 진입하며 성형대상분말을 가압하는 상부펀치가 더 포함되는 양극회전형 엑스선관용 회전양극타겟 제작용 몰드장치.The method of claim 1,
Corresponding to the lower punch, a mold apparatus for manufacturing a rotating anode target for a positive electrode rotating X-ray tube further comprises an upper punch to enter the molding space of the casing and press the powder to be molded.
상기 펀칭링의 하단부에는, 펀칭링의 하강상태에서 링몰드 및 코어몰드의 하단부에 대해 상기 충진홈의 깊이에 해당하는 만큼 하향 돌출되는 돌출부가 구비된 양극회전형 엑스선관용 회전양극타겟 제작용 몰드장치.The method of claim 2,
The lower end of the punching ring, a mold apparatus for producing a rotating anode target for a bipolar rotary X-ray tube having a protrusion protruding downward corresponding to the depth of the filling groove with respect to the lower end of the ring mold and the core mold in the falling state of the punching ring. .
상기 받침디스크에는, 상기 펀칭링의 돌출부를 하향 통과시켜 돌출부가 상기 지지면에 접하게 하는 다수의 유도구멍이 구비된 양극회전형 엑스선관용 회전양극타겟 제작용 몰드장치.The method of claim 3,
The supporting disk, a mold apparatus for producing a rotating anode target for a bipolar rotary X-ray tube having a plurality of guide holes through which the projection of the punching ring passes downward to contact the support surface.
상기 코어몰드의 상면 중앙에는 수평의 평면부가 형성되어 있고,
상기 평면부의 주변에는 반지름 방향으로 상향 경사진 경사면부가 형성되며,
상기 링몰드와 펀칭링의 상단면에는 상기 코어몰드의 경사면부와 동일한 경사각을 갖는 상단경사면이 형성된 양극회전형 엑스선관용 회전양극타겟 제작용 몰드장치.The method of claim 2,
A horizontal flat portion is formed in the center of the upper surface of the core mold,
Around the flat portion is formed an inclined surface portion inclined upward in the radial direction,
Molding apparatus for manufacturing a rotating anode target for a bipolar rotary X-ray tube formed on the top surface of the ring mold and the punching ring has an inclined surface having the same inclination angle as the inclined surface portion of the core mold.
일정 내경의 성형공간을 제공하는 실린더형 케이싱과, 상기 케이싱의 내주면에 밀착하며 상하로 개방된 수용공간을 갖는 링몰드와, 상기 링몰드의 수용공간 내에 삽입되며 링몰드의 내주면으로부터 이격되는 코어몰드와, 상기 링몰드와 코어몰드의 사이에 개재된 상태로 승강 가능한 링형 부재로서, 상승한 상태로 링몰드 및 코어몰드의 상면과 단차없는 지지면을 형성하고, 하강한 상태로 링몰드와 코어몰드의 사이에 일정깊이의 충진홈을 형성하는 펀칭링과, 상기 케이싱의 하부에 상기 펀칭링이 하강한 상태를 유지하게 하는 받침디스크를 구비하는 몰드를 준비하는 몰드세팅단계와;
상기 충진홈의 내부에, 상기 트랙을 형성하기 위한 트랙성형분말을 채우는 트랙성형분말 충진단계와;
상기 트랙성형분말의 충진이 완료된 후, 케이싱내에, 상기 바디를 성형하기 위한 타겟바디분말을 투입하는 타겟바디분말 투입단계와;
상기 받침디스크를 제거한 상태로 케이싱내에 수용된 분말을 하향 가압하여, 상기 펀칭링이 반작용력에 의해 상승하며 충진공간 내부의 트랙성형분말을 올려 타겟바디분말 내부로 침투하게 하는 가압 및 트랙성형분말침투유도단계와;
상기 분말의 가압과정이 완료된 후 몰드를 제거하는 몰드제거단계를 포함하는 회전양극타겟 제조방법.A method for manufacturing a rotating anode target having a disk-shaped body and a track located at the outer periphery of the body and having a ring shape and emitting X-rays by collision with an electron beam irradiated toward the surface.
Cylindrical casing providing a molding space of a predetermined inner diameter, a ring mold having a receiving space in close contact with the inner circumferential surface of the casing, and a core mold inserted into the receiving space of the ring mold and spaced apart from the inner circumferential surface of the ring mold. And a ring-shaped member that can be elevated in a state interposed between the ring mold and the core mold, wherein the ring mold and the core mold are formed in a raised state so as to form a support surface without a step, and the ring mold and the core mold in a lowered state. A mold setting step of preparing a mold including a punching ring forming a filling groove having a predetermined depth therebetween, and a support disc at the lower portion of the casing to maintain the punching ring in a lowered state;
A track molding powder filling step of filling a track molding powder to form the track in the filling groove;
A target body powder input step of injecting a target body powder for forming the body into the casing after the filling of the track molding powder is completed;
Pressing the powder contained in the casing with the support disk removed, the punching ring is lifted by the reaction force and lifts the track molding powder inside the filling space to penetrate into the target body powder. Steps;
Rotating anode target manufacturing method comprising a mold removing step of removing the mold after the pressing process of the powder is completed.
상기 몰드제거단계를 통해 몰드로부터 분리된 성형물을 가열하여 소결시키는 소결단계를 더 포함하는 회전양극타겟 제조방법.The method of claim 6,
And a sintering step of heating and sintering a molding separated from the mold through the mold removing step.
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