KR102013659B1

KR102013659B1 - Dielectric Barrier Discharge Plasma Apparatus for Oral Treatment

Info

Publication number: KR102013659B1
Application number: KR1020180034292A
Authority: KR
Inventors: 김성봉; 윤성영; 오재성; 유승민
Original assignee: 한국기초과학지원연구원
Priority date: 2018-03-26
Filing date: 2018-03-26
Publication date: 2019-08-23

Abstract

A plasma apparatus for oral treatment according to an embodiment of the present invention, comprises: a mouthpiece comprising a fluid inlet and a fluid exhaust port and having a tooth groove inserted into the teeth forming an arch to cover the end surface of a crown; a first plasma generating unit facing the tooth groove and disposed in the mouthpiece; a second plasma generating unit disposed on the mouthpiece while facing the first plasma generating unit; a fluid supply unit for injecting gas or processing liquid into the fluid inlet; an external power source for supplying power to the first plasma generating unit and the second plasma generating unit to generate plasma using the gas or the processing liquid; and a pump configured to exhaust the gas or the processing liquid collected through the fluid exhaust port of the mouthpiece.

Description

Dielectric Barrier Discharge Plasma Apparatus for Oral Treatment

본 발명은 구강 처리용 플라즈마 장치에 관한 것으로, 더 구체적으로 치주 질환 치료를 위한 구강 처리용 유전체 장벽 방전 플라즈마 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma device for oral treatment, and more particularly to a dielectric barrier discharge plasma device for oral treatment for treatment of periodontal disease.

저온 대기압 플라즈마는 생화학 분야에 적용하는 연구가 진행되고 있다. 의료분야에 적용하는 다양한 플라즈마 소스(plasma source)는 치과분야에 적용할 수 있으며, 그 중에서 유전체 장벽 방전(Dielectric Barrier Discharge; DBD)과 플라즈마 제트(Plasma Jet)가 활발하게 연구되고 있다. Research into applying low-temperature atmospheric plasma to the biochemical field is ongoing. Various plasma sources applied to the medical field can be applied to the dental field, and among them, dielectric barrier discharge (DBD) and plasma jet have been actively studied.

통상적인 저온 대기압 플라즈마는 피부와 같은 조직에 적합하나 특히 구강과 같은 유습한 조직의 경우에 대해서는 아직 적용된 사례가 거의 없다. Conventional cold atmospheric plasma is suitable for tissues such as skin, but few applications have yet been applied, particularly for wet tissues such as the oral cavity.

저온 대기압 플라즈마를 치과분야에 적용함에 있어서, 구강내 피부 조직은 연하고, 저온 대기압 플라즈마는 호흡기와 가까이 위치하고 있기 때문에, 환자의 안전과 처리효과를 모두 만족시킬 수 있도록 활성종의 종류와 농도, 기체의 유량, 그리고 활성종 등을 연구할 필요가 있다.
선행기술 1: 국제공개공보 WO2015/083155(2015.06.11.)
선행기술 2: 미국 특허공보 US6893259(2005.05.17.)
선행기술 3: 등록특허공보 제10-1500155호(2015.03.10.)In applying the low-temperature atmospheric plasma to the dental field, the oral skin tissue is soft, and the low-temperature atmospheric plasma is located close to the respiratory organs, so that the type, concentration and gas of the active species can be satisfied to satisfy both the safety and treatment effects of the patient. Flow rate and active species need to be studied.
Prior Art 1: International Publication WO2015 / 083155 (2015.06.11.)
Prior Art 2: US Patent Publication US6893259 (2005.05.17.)
Prior Art 3: Registered Patent Publication No. 10-1500155 (2015.03.10.)

본 발명의 해결하고자 하는 일 기술적 과제는 안정적인 플라즈마 발생을 제공하는 구강 처리용 플라즈마 장치를 제공하는 것이다.One technical problem to be solved of the present invention is to provide a plasma device for oral treatment that provides a stable plasma generation.

본 발명의 해결하고자 하는 일 기술적 과제는 넓은 면적에 안정적인 플라즈마 제트를 제공할 수 있는 구강 처리용 플라즈마 장치를 제공하는 것이다.One technical problem to be solved of the present invention is to provide a plasma device for oral treatment that can provide a stable plasma jet in a large area.

본 발명의 일 실시예에 따른 구강 처리용 플라즈마 장치는, 유체 유입구 및 유체 배기구를 포함하고 치열궁을 이루는 치아들에 삽입되어 치관의 끝면을 덮는 치아홈을 구비한 마우스피스; 상기 치아홈을 바라보고 상기 마우스피스에 배치된 제1 플라즈마 발생부; 상기 제1 플라즈마 발생부를 바라보고 상기 마우스피스에 배치된 제2 플라즈마 발생부; 상기 유체 유입구에 가스 또는 처리액을 주입하는 유체 공급부; 상기 가스 또는 처리액을 이용하여 플라즈마를 발생시키도록 상기 제1 플라즈마 발생부 및 상기 제2 플라즈마 발생부에 전력을 공급하는 외부 전원; 및 상기 마우스피스의 상기 유체 배기구를 통하여 수집된 가스 또는 처리액을 배기하는 펌프;를 포함한다.Plasma device for oral treatment according to an embodiment of the present invention, the mouthpiece including a fluid inlet and a fluid exhaust port and having a dental groove inserted into the teeth forming the arch form covering the end surface of the crown; A first plasma generation unit facing the tooth groove and disposed in the mouthpiece; A second plasma generator disposed on the mouthpiece while facing the first plasma generator; A fluid supply unit for injecting gas or processing liquid into the fluid inlet; An external power source for supplying power to the first plasma generating unit and the second plasma generating unit to generate plasma using the gas or the processing liquid; And a pump for exhausting the gas or the processing liquid collected through the fluid exhaust port of the mouthpiece.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 마우스피스는, 치아들에 끼워져 치관의 끝면을 덮도록 상기 치아홈을 구비한 마우스피스 몸체; 상기 치아홈을 따라 연장되면서 돌출된 내측 돌출부 및 외측 돌출부; 상기 제1 플라즈마 발생부를 수납하고 상기 치아홈을 바라보도록 상기 외측 돌출부의 측면에 형성되고 상기 마우스피스의 연장 방향으로 연장되는 제1 장착 홈; 상기 제2 플라즈마 발생부를 수납하고 상기 치아홈을 바라보도록 상기 내측 돌출부의 측면에 형성되고 상기 마우스피스의 연장 방향으로 연장되는 제2 장착 홈; 상기 유체 유입구와 연통되고 상기 외측 돌출부에 매설되고 상기 마우스피스의 연장 방향으로 연장되고 주입된 가스 또는 처리액을 분배하는 제1 버퍼 공간; 상기 유체 유입구와 연통되고 상기 내측 돌출부에 매설되고 상기 마우스피스의 연장 방향으로 연장되고 주입된 가스 또는 처리액을 분배하는 제2 버퍼 공간; 상기 제1 버퍼 공간과 상기 제1 장착 홈 사이를 연결하는 복수의 제1 토출구들; 및 상기 제2 버퍼 공간과 상기 제2 장착 홈 사이를 연결하는 복수의 제2 토출구들;을 포함할 수 있다. 상기 제1 플라즈마 발생부 및 제2 플라즈마 발생부 각각은 주입된 가스 또는 처리액을 방전시키어 상기 치아와 잇몸 사이에 제공할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the mouthpiece, the mouthpiece body having the tooth groove to be inserted into the teeth to cover the end surface of the crown; An inner protrusion and an outer protrusion protruding while extending along the tooth groove; A first mounting groove formed in a side surface of the outer protrusion so as to receive the first plasma generator and face the tooth groove, and extending in an extension direction of the mouthpiece; A second mounting groove formed in a side surface of the inner protrusion so as to receive the second plasma generation unit and face the tooth groove and extend in an extension direction of the mouthpiece; A first buffer space in communication with the fluid inlet, embedded in the outer protrusion, extending in the extension direction of the mouthpiece and dispensing the injected gas or processing liquid; A second buffer space in communication with the fluid inlet, embedded in the inner protrusion, extending in the extending direction of the mouthpiece, and dispensing the injected gas or processing liquid; A plurality of first discharge holes connecting between the first buffer space and the first mounting groove; And a plurality of second discharge holes connecting between the second buffer space and the second mounting groove. Each of the first plasma generator and the second plasma generator may discharge the injected gas or the treatment solution and provide the same between the tooth and the gum.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 플라즈마 발생부 및 상기 제2 플라즈마 발생부 각각은, 관통홀들을 포함하고 상기 치아홈과 나란히 연장되고 띠 형태를 가지는 유전체 장벽 필름; 상기 관통홀들과 수직으로 정렬되고 상기 관통홀들의 직경보다 큰 직경을 가진 상부 보조 관통홀들을 가지고 상기 유전체 장벽 필름 상부에 배치된 상부 도전층; 상기 관통홀들과 수직으로 정렬되고 상기 관통홀들의 직경보다 큰 직경을 가진 하부 보조 관통홀들을 가지고 상기 유전체 장벽 필름 하부에 배치된 하부 도전층; 상기 관통홀들과 수직으로 정렬된 상부 관통홀들을 포함하고 상기 상부 도전층을 덮도록 배치된 상부 절연층(344); 및 상기 관통홀들과 수직으로 정렬된 하부 관통홀들을 포함하고 상기 하부 도전층을 덮도록 배치된 하부 절연층을 포함할 수 있다.In an embodiment, each of the first plasma generating unit and the second plasma generating unit includes: a dielectric barrier film including through holes and extending in parallel with the tooth groove and having a band shape; An upper conductive layer vertically aligned with the through holes and having an upper auxiliary through hole having a diameter larger than the diameter of the through holes and disposed on the dielectric barrier film; A lower conductive layer vertically aligned with the through holes and having a lower auxiliary through hole having a diameter larger than the diameter of the through holes and disposed under the dielectric barrier film; An upper insulating layer 344 including upper through holes vertically aligned with the through holes and disposed to cover the upper conductive layer; And a lower insulating layer including lower through holes vertically aligned with the through holes and covering the lower conductive layer.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 토출구들은 상기 제1 플라즈마 발생부의 상기 관통홀들과 서로 정렬되고, 상기 제2 토출구들은 상기 제2 플라즈마 발생부의 상기 관통홀들과 서로 정렬될 수 잇다.In some embodiments, the first discharge holes may be aligned with the through holes of the first plasma generator, and the second discharge holes may be aligned with the through holes of the second plasma generator. .

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 치아홈의 하부면에 배치된 복수의 흡입구들; 및 상기 유체 배기구와 연통되고 상기 마우스피스 몸체에 매설되고 상기 흡입구들과 연결되고 상기 마우스피스의 연장 방향으로 연장되는 배기 수집 공간;을 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, a plurality of suction ports disposed on the lower surface of the tooth groove; And an exhaust collection space communicating with the fluid exhaust port, embedded in the mouthpiece body, connected to the intake ports, and extending in an extension direction of the mouthpiece.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 내측 돌출부의 상부면을 덮도록 배치되어 잇몸과 접촉하는 내측 탄성부; 및 상기 외측 돌출부의 상부면을 덮도록 배치되어 잇몸과 접촉하는 외측 탄성부를 더 포함할 수 있다,In one embodiment of the present invention, the inner elastic portion is disposed to cover the upper surface of the inner protrusions in contact with the gum; And an outer elastic part disposed to cover the upper surface of the outer protrusion and contacting the gum.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 마우스피스와 상기 유체 공급부를 연결하는 유체 유입 파이프에 배치된 수증기 발생부를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, it may further include a steam generator disposed in the fluid inlet pipe connecting the mouthpiece and the fluid supply.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 마우스피스는 "U" 자 형태, "C" 형태, 또는 원호 형태일 수 잇다.In one embodiment of the present invention, the mouthpiece may be of the "U" shape, "C" shape, or arc shape.

본 발명의 일 실시예에 따른 구강 처리용 플라즈마 장치는 치아의 양측에서 안정적인 유전체 장벽 방전에 의한 플라즈마를 치아와 잇몸 사이에 제공하여 치주 질환을 치료할 수 있다.Plasma device for oral treatment according to an embodiment of the present invention can treat periodontal disease by providing a plasma between the teeth and the gum by a stable dielectric barrier discharge on both sides of the tooth.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 구강 처리용 플라즈마 장치를 나타내는 개념도이다.
도 2는 도 1의 구강 처리용 플라즈마 장치의 마우스피스에 매설된 플라즈마 발생부를 나타내는 사시도이다.
도 3은 도 2의 플라즈마 발생부를 나타내는 평면도이다.
도 4는 도 3의 B-B' 선을 따라 자른 플라즈마 발생부의 단면도이다.
도 5는 도 1의 구강 처리용 플라즈마 장치를 절단한 단면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 구강 처리용 플라즈마 장치를 설명하는 개념도이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 구강 처리용 플라즈마 장치를 설명하는 개념도이다.1 is a conceptual diagram showing a plasma apparatus for oral treatment according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view illustrating a plasma generation unit embedded in a mouthpiece of the plasma processing device for oral cavity of FIG. 1. FIG.
3 is a plan view illustrating the plasma generating unit of FIG. 2.
4 is a cross-sectional view of the plasma generation unit taken along line BB ′ of FIG. 3.
FIG. 5 is a cross-sectional view of the plasma apparatus for oral treatment of FIG. 1.
6 is a conceptual view illustrating a plasma device for oral treatment according to another embodiment of the present invention.
7 is a conceptual diagram illustrating a plasma device for oral treatment according to another embodiment of the present invention.

치주질환은 치아를 감싸고 있는 안쪽 잇몸과 잇몸뼈(치조골)에 발생한 염증에 기인한다. 치주질환의 주요 증상은 단계별로 구취, 잇몸 출혈, 치아 흔들림, 및 치아 손실로 이어질 수 있다. 병원균이 주위 혈관에 흡수되어 전신에 퍼질 수 있기 때문에, 치주질환은 치매, 알츠하이머 및 심혈관 질환의 발병 가능성을 증대시킨다. 따라서, 치주질환 치료가 매우 중요하다.Periodontal disease is caused by inflammation of the inner gums and gum bones that surround the teeth. The main symptoms of periodontal disease can lead to bad breath, gum bleeding, tooth shaking, and tooth loss step by step. Periodontal diseases increase the likelihood of developing dementia, Alzheimer's and cardiovascular diseases because pathogens can be absorbed by surrounding blood vessels and spread throughout the body. Therefore, treatment of periodontal disease is very important.

플라즈마는 낮은 기체온도를 유지하면서도 다량의 하전입자, 자외선, 화학적 활성종, 그리고 열을 형성할 수 있다. 플라즈마를 이용할 경우 소음 및 통증 없이 효과적으로 치주질환 치료가 가능하다.Plasma can form large amounts of charged particles, ultraviolet light, chemically active species, and heat while maintaining low gas temperatures. Plasma can effectively treat periodontal disease without noise and pain.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 이하, 바람직한 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 그러나 이들 실시예는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 실험 조건, 물질 종류 등에 의하여 본 발명이 제한되거나 한정되지는 않는다는 것은 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 자명할 것이다. 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. 도면들에 있어서, 구성요소는 명확성을 기하기 위하여 과장되어진 것이다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호로 표시된 부분들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the present invention. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to preferred examples. However, these examples are intended to illustrate the present invention in more detail, it will be apparent to those skilled in the art that the present invention is not limited or limited by experimental conditions, material types, and the like. The invention is not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. Rather, the embodiments introduced herein are provided so that the disclosure may be made thorough and complete, and to fully convey the spirit of the invention to those skilled in the art. In the drawings, the components are exaggerated for clarity. Portions denoted by like reference numerals denote like elements throughout the specification.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 구강 처리용 플라즈마 장치를 나타내는 개념도이다.1 is a conceptual diagram showing a plasma apparatus for oral treatment according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 구강 처리용 플라즈마 장치의 마우스피스에 매설된 플라즈마 발생부를 나타내는 사시도이다.FIG. 2 is a perspective view illustrating a plasma generation unit embedded in a mouthpiece of the plasma processing device for oral cavity of FIG. 1. FIG.

도 3은 도 2의 플라즈마 발생부를 나타내는 평면도이다.3 is a plan view illustrating the plasma generating unit of FIG. 2.

도 4는 도 3의 B-B' 선을 따라 자른 플라즈마 발생부의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of the plasma generation unit taken along line BB ′ of FIG. 3.

도 5는 도 1의 구강 처리용 플라즈마 장치를 절단한 단면도이다.FIG. 5 is a cross-sectional view of the plasma apparatus for oral treatment of FIG. 1.

도 1 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 구강 처리용 유전체 장벽 방전 플라즈마 장치(300)는, 유체 유입구(112b) 및 유체 배기구(114b)를 포함하고 치열궁을 이루는 치아들에 삽입되어 치관의 끝면을 덮는 치아홈(323)을 구비한 마우스피스(320); 상기 치아홈(323)을 바라보고 상기 마우스피스(320)에 배치된 제1 플라즈마 발생부(340a); 상기 제1 플라즈마 발생부(340a)를 바라보고 상기 마우스피스에 배치된 제2 플라즈마 발생부(340b); 상기 유체 유입구(112b)에 가스 또는 처리액을 주입하는 유체 공급부(112); 상기 가스 또는 처리액을 이용하여 플라즈마를 발생시키도록 상기 제1 플라즈마 발생부(340a) 및 상기 제2 플라즈마 발생부(340b)에 전력을 공급하는 외부 전원(116); 및 상기 마우스피스의 상기 유체 배기구(114b)를 통하여 수집된 가스 또는 처리액을 배기하는 펌프(114);를 포함한다.1 to 5, the dielectric barrier discharge plasma apparatus 300 for oral treatment according to an embodiment of the present invention includes a fluid inlet 112b and a fluid exhaust port 114b and teeth that form an arch form. A mouthpiece 320 having a tooth groove 323 inserted into and covering an end surface of the crown; A first plasma generator 340a facing the dental groove 323 and disposed in the mouthpiece 320; A second plasma generator 340b facing the first plasma generator 340a and disposed in the mouthpiece; A fluid supply unit (112) for injecting gas or processing liquid into the fluid inlet (112b); An external power source 116 for supplying power to the first plasma generating unit 340a and the second plasma generating unit 340b to generate plasma using the gas or the processing liquid; And a pump 114 for exhausting the gas or the processing liquid collected through the fluid exhaust port 114b of the mouthpiece.

상기 마우스피스(320)는, 치아들에 삽입되어 치관의 끝면을 덮도록 상기 치아홈(323)을 구비한 마우스피스 몸체(320a); 상기 치아홈(323)을 따라 연장되면서 돌출된 내측 돌출부(322) 및 외측 돌출부(321); 상기 제1 플라즈마 발생부(340a)를 수납하고 상기 치아홈(323)을 바라보도록 상기 외측 돌출부(321)의 측면에 형성되고 상기 마우스피스(320)의 연장 방향으로 연장되는 제1 장착 홈(321a); 상기 제2 플라즈마 발생부(340b)를 수납하고 상기 치아홈(323)을 바라보도록 상기 내측 돌출부(322)의 측면에 형성되고 상기 마우스피스(320)의 연장 방향으로 연장되는 제2 장착 홈(322a); 상기 유체 유입구(112b)와 연통되고 상기 외측 돌출부(321)에 매설되고 상기 마우스피스의 연장 방향으로 연장되고 주입된 가스 또는 처리액을 분배하는 제1 버퍼 공간(329a); 상기 유체 유입구(112b)와 연통되고 상기 내측 돌출부(322)에 매설되고 상기 마우스피스(320)의 연장 방향으로 연장되고 주입된 가스 또는 처리액을 분배하는 제2 버퍼 공간(329b); 상기 제1 버퍼 공간(329a)과 상기 제1 장착 홈(321a) 사이를 연결하는 복수의 제1 토출구들(328a); 및 상기 제2 버퍼 공간(29b)과 상기 제2 장착 홈(322a) 사이를 연결하는 복수의 제2 토출구들(328b);을 포함할 수 있다. 상기 제1 플라즈마 발생부(430a) 및 제2 플라즈마 발생부(340b) 각각은 주입된 가스 또는 처리액을 방전시키어 상기 치아와 잇몸 사이에 제공할 수 있다.The mouthpiece 320 includes a mouthpiece body 320a having the tooth groove 323 inserted into the teeth to cover the end surface of the crown; An inner protrusion 322 and an outer protrusion 321 protruding while extending along the tooth groove 323; A first mounting groove 321a which is formed on a side surface of the outer protrusion 321 and extends in an extension direction of the mouthpiece 320 to accommodate the first plasma generator 340a and to face the tooth groove 323. ); Second mounting grooves 322a which are formed on the side surface of the inner protrusion 322 and extend in the extending direction of the mouthpiece 320 to accommodate the second plasma generator 340b and face the tooth groove 323. ); A first buffer space 329a in communication with the fluid inlet 112b, embedded in the outer protrusion 321, extending in the extension direction of the mouthpiece, and dispensing the injected gas or processing liquid; A second buffer space (329b) communicating with the fluid inlet (112b), embedded in the inner protrusion (322), extending in the extension direction of the mouthpiece (320) and dispensing the injected gas or processing liquid; A plurality of first discharge holes 328a connecting between the first buffer space 329a and the first mounting groove 321a; And a plurality of second discharge holes 328b connecting between the second buffer space 29b and the second mounting groove 322a. Each of the first plasma generator 430a and the second plasma generator 340b may discharge the injected gas or the processing liquid and provide the same between the tooth and the gum.

유체 공급부(112), 펌프(114), 및 외부 전원(116)은 별도의 블록(110) 내에 배치되고, 상기 블록(110)은 용이하게 이동할 수 있도록 바퀴를 구비할 수 있다.The fluid supply 112, the pump 114, and the external power source 116 are disposed in a separate block 110, and the block 110 may be provided with wheels so as to easily move.

유체 공급부(112)는 헬륨과 아르곤과 같은 불활성 가스, 질소 및 산소 중에서 적어도 하나를 포함하는 가스 또는 처리액을 저장할 수 있다. 상기 처리액은 물, 식염수 또는 멸균제를 함유한 액상 물질일 수 있다. 유체 공급부(112)는 상기 유체 유입 파이프(112a) 및 상기 마우스피스(320)의 상기 유체 유입구(112b)를 통하여 가스 또는 처리액을 상기 마우스피스(320)에 공급할 수 있다.The fluid supply unit 112 may store a gas or a processing liquid including at least one of an inert gas such as helium and argon, nitrogen, and oxygen. The treatment liquid may be a liquid substance containing water, saline or a sterilizing agent. The fluid supply unit 112 may supply a gas or a processing liquid to the mouthpiece 320 through the fluid inflow pipe 112a and the fluid inlet 112b of the mouthpiece 320.

상기 펌프(114)는 진공펌프일 수 있다. 상기 펌프(114)는 유체 배기 파이프(114a) 및 상기 마우스피스(320)의 상기 유체 배기구(114b)를 통하여 수집된 가스 또는 처리액을 배출할 수 있다.The pump 114 may be a vacuum pump. The pump 114 may discharge the gas or the processing liquid collected through the fluid exhaust pipe 114a and the fluid exhaust port 114b of the mouthpiece 320.

외부 전원(116)은 상용전원 또는 배터리를 사용하여 수십 내지 수십 kHz의 주파수의 교류 전원을 발생시킬 수 있다. 상기 외부 전원(116)은 수십 내지 수십 kHz의 DC 펄스를 발생시킬 수 있다. 상기 교류 전원의 출력 전압은 수 백 V 내지 수십 kV일 수 있다. 상기 외부 전원(116)의 출력은 전력 공급 라인(116a)을 통하여 상기 제1 및 제2 플라즈마 발생부들(340a, 340b)에 제공되어 유전체 장벽 방전을 수행할 수 있다.The external power source 116 may generate an AC power source having a frequency of several tens to tens of kHz using a commercial power source or a battery. The external power source 116 may generate a DC pulse of several tens to several tens of kHz. The output voltage of the AC power source may be several hundred V to several tens kV. The output of the external power source 116 may be provided to the first and second plasma generators 340a and 340b through the power supply line 116a to perform dielectric barrier discharge.

상기 마우스피스(320)는 구강에 삽입되어 윗니 치열궁 또는 아랫니 치열궁을 이루는 치아들의 일부 또는 전부를 감싸도록 배치될 수 있다. 상기 마우스피스(320)는 전체적으로 'U' 형태일 수 있다.The mouthpiece 320 may be inserted into the oral cavity so as to surround some or all of the teeth forming the upper teeth or lower teeth. The mouthpiece 320 may have a 'U' shape as a whole.

상기 마우스피스 몸체(320a)는 일정한 두께를 가진 'U' 형태일 수 있다. 상기 마우스피스 몸체(320a)는 플라스틱 재질 또는 아크릴 재질일 수 있다. 상기 마우스피스 몸체(320a)는 고정된 형상을 가질 수 있다. 상기 마우스피스 몸체(320a)의 상부면에는 치아홈(323)이 형성될 수 있다. 상기 치아홈(323)은 상기 마우스피스 몸체(320a)의 상부면에서 연장된 방향을 따라 함몰된 'U'자 형태일 수 있다. 상기 유체 유입구(112b) 및 상기 유체 배기구(114b) 각각은 상기 마우스피스 몸체(320a)의 외측면에서 중심 부위에 서로 이웃하게 배치될 수 있다. 사용자의 입에 상기 마우스피스가 삽입되는 경우, 상기 유체 유입구(112b) 및 상기 유체 배기구(114b)는 사용자의 입에서 돌출되도록 배치될 수 있다.The mouthpiece body 320a may have a 'U' shape with a predetermined thickness. The mouthpiece body 320a may be made of plastic or acrylic. The mouthpiece body 320a may have a fixed shape. A tooth groove 323 may be formed on an upper surface of the mouthpiece body 320a. The tooth groove 323 may have a 'U' shape recessed along a direction extending from the upper surface of the mouthpiece body 320a. Each of the fluid inlet 112b and the fluid exhaust port 114b may be disposed adjacent to each other at a central portion on the outer surface of the mouthpiece body 320a. When the mouthpiece is inserted into the mouth of the user, the fluid inlet 112b and the fluid outlet 114b may be arranged to protrude from the mouth of the user.

상기 내측 돌출부(322) 및 상기 외측 돌출부(321) 각각은 상기 마우스피스 몸체에서 상기 치아홈(323)에 의하여 돌출된 부위일 수 있다. 상기 내측 돌출부(322)는 구강 내에서 목을 향하도록 배치되고, 상기 외측 돌출부(321)는 입술을 향하도록 배치될 수 있다. 상기 마우스피스 몸체(320a), 상기 내측 돌출부(322), 및 상기 외측 돌출부(321)는 일체형일 수 있다.Each of the inner protrusion 322 and the outer protrusion 321 may be a portion protruded by the tooth groove 323 in the mouthpiece body. The inner protrusion 322 may be disposed to face the neck in the oral cavity, and the outer protrusion 321 may be disposed to face the lips. The mouthpiece body 320a, the inner protrusion 322, and the outer protrusion 321 may be integral.

상기 제1 장착 홈(321a)은 상기 외측 돌출부(321)의 측면을 따라 함몰된 띠 형태의 부위일 수 있다. 제1 플라즈마 발생부(340a)는 띠 형태를 가지고 상기 제1 장착 홈(321a)에 삽입되어 고정될 수 있다. 상기 제1 장착 홈(321a)은 상기 외측 돌출부의 내측면에 형성된 돌기에 포함할 수 있다. 상기 제1 플라즈마 발생부(340a)는 유연성 회로 기판으로 구성되어, 상기 제1 플라즈마 발생부(340a)는 상기 제1 장착 홈(321a)에 구부러뜨려 삽입될 수 있다. 상기 돌기는 상기 제1 플라즈마 발생부(340a)의 이탈을 방지할 수 있다. The first mounting groove 321a may be a band-shaped portion recessed along the side surface of the outer protrusion 321. The first plasma generator 340a may have a band shape and may be inserted into and fixed to the first mounting groove 321a. The first mounting groove 321a may include a protrusion formed on an inner side surface of the outer protrusion. The first plasma generator 340a may be formed of a flexible circuit board, and the first plasma generator 340a may be bent and inserted into the first mounting groove 321a. The protrusion may prevent separation of the first plasma generator 340a.

상기 제2 장착 홈(322a)은 상기 내측 돌출부(322)의 측면을 따라 함몰된 띠 형태의 부위일 수 있다. 상기 제2 플라즈마 발생부(340b)는 띠 형태를 가지고 상기 제2 장착 홈(322a)에 삽입되어 고정될 수 있다. 상기 제2 장착 홈(322a)은 상기 내측 돌출부의 외측면에 형성된 돌기에 포함할 수 있다. 상기 제2 플라즈마 발생부(340b)는 유연성 회로 기판으로 구성되어, 상기 제2 플라즈마 발생부(340b)는 상기 제2 장착 홈(322a)에 구부러뜨려 삽입될 수 있다. 상기 돌기는 상기 제2 플라즈마 발생부(340b)의 이탈을 방지할 수 있다.The second mounting groove 322a may be a band-shaped portion recessed along the side surface of the inner protrusion 322. The second plasma generator 340b may have a band shape and may be inserted into and fixed to the second mounting groove 322a. The second mounting groove 322a may include a protrusion formed on an outer surface of the inner protrusion. The second plasma generator 340b may be formed of a flexible circuit board, and the second plasma generator 340b may be inserted into the second mounting groove 322a by bending. The protrusion may prevent separation of the second plasma generator 340b.

상기 제1 버퍼 공간(329a)은, 제1 장착홈(321a)에 인접하게 배치되고 상기 제1 장착홈(321a)과 나란히 상기 외측 돌출부(321) 내에 매설될 수 있다. 상기 제1 버퍼 공간(329a)은 상기 유체 유입구(112b)를 통하여 공급된 가스를 복수의 제1 토출구들(328a)에 균일하게 분배할 수 있다. 상기 제1 토출구들(328a)은 일정한 간격으로 배치될 수 있다. 또는 상기 제1 토출구들(328a)은 하나의 치아에 하나의 제1 토출구가 할당되도록 배치될 수 있다. 상기 제1 토출구들(328a)은 상기 제1 플라즈마 발생부(340a)에 형성된 관통홀들(341a)과 정렬될 수 있다. 상기 제1 토출구들(328a)로 토출된 가스 또는 처리액은 상기 제1 플라즈마 발생부(340a)에 의하여 방전된 후, 치아와 잇몸 사이에 제공될 수 있다. 상기 제1 버퍼 공간(329a)과 상기 제2 제2 버퍼 공간(329b)은 연결 통로(327)를 통하여 연결될 수 있다.The first buffer space 329a may be disposed adjacent to the first mounting groove 321a and buried in the outer protrusion 321 in parallel with the first mounting groove 321a. The first buffer space 329a may uniformly distribute the gas supplied through the fluid inlet 112b to the plurality of first outlets 328a. The first discharge holes 328a may be disposed at regular intervals. Alternatively, the first discharge holes 328a may be arranged such that one first discharge hole is allocated to one tooth. The first discharge holes 328a may be aligned with the through holes 341a formed in the first plasma generator 340a. The gas or the processing liquid discharged to the first discharge ports 328a may be provided between the tooth and the gum after being discharged by the first plasma generator 340a. The first buffer space 329a and the second second buffer space 329b may be connected through a connection passage 327.

상기 제2 버퍼 공간(329b)은, 제2 장착홈(322a)에 인접하게 배치되고 상기 제2 장착홈(322a)과 나란히 상기 내측 돌출부(322) 내에 매설될 수 있다. 상기 제2 버퍼 공간(329b)은 상기 유체 유입구를 통하여 공급된 가스를 복수의 제2 토출구들(328b)에 균일하게 분배할 수 있다. 상기 제2 토출구들(328b)은 일정한 간격으로 배치될 수 있다. 상기 제2 토출구들(328b)은 하나의 치아에 하나의 제2 토출구들이 할당되도록 배치될 수 있다. 상기 제2 토출구들(328b)은 상기 제2 플라즈마 발생부(340b)에 형성된 관통홀들(341a)과 정렬될 수 있다. 상기 제2 토출구들(328b)로 토출된 가스 또는 처리액은 상기 제2 플라즈마 발생부(340b)에 의하여 방전된 후, 치아와 잇몸 사이에 제공될 수 있다. The second buffer space 329b may be disposed adjacent to the second mounting groove 322a and embedded in the inner protrusion 322 in parallel with the second mounting groove 322a. The second buffer space 329b may uniformly distribute the gas supplied through the fluid inlet to the plurality of second outlets 328b. The second discharge holes 328b may be disposed at regular intervals. The second discharge holes 328b may be arranged such that one second discharge hole is allocated to one tooth. The second discharge holes 328b may be aligned with the through holes 341a formed in the second plasma generator 340b. The gas or the processing liquid discharged to the second discharge holes 328b may be provided between the tooth and the gum after being discharged by the second plasma generator 340b.

상기 제1 플라즈마 발생부(340a)는 제2 플라즈마 발생부(340b)와 동일한 구조 및 동작 원리를 가질 수 있다. 상기 제1 플라즈마 발생부(340a)의 길이는 상기 제2 플라즈마 발생부(340b)의 길이보다 클 수 있다.The first plasma generator 340a may have the same structure and operation principle as the second plasma generator 340b. The length of the first plasma generator 340a may be greater than the length of the second plasma generator 340b.

상기 제1 플라즈마 발생부(340a)는, 관통홀들(341a)을 포함하고 상기 치아홈(323)과 나란히 연장되고 띠 형태를 가지는 유전체 장벽 필름(341); 상기 관통홀들(341a)과 수직으로 정렬되고 상기 관통홀들(341a)의 직경보다 큰 직경을 가진 상부 보조 관통홀들(342a)을 가지고 상기 유전체 장벽 필름(341) 상부에 배치된 상부 도전층(342); 상기 관통홀들(341a)과 수직으로 정렬되고 상기 관통홀들의 직경보다 큰 직경을 가진 하부 보조 관통홀들(343a)을 가지고 상기 유전체 장벽 필름(341) 하부에 배치된 하부 도전층(343); 상기 관통홀들(341a)과 수직으로 정렬된 상부 관통홀들(344a)을 포함하고 상기 상부 도전층(342)을 덮도록 배치된 상부 절연층(344); 및 상기 관통홀들(341a)과 수직으로 정렬된 하부 관통홀들(345a)을 포함하고 상기 하부 도전층(343)을 덮도록 배치된 하부 절연층(345)을 포함할 수 있다. 상기 하부 도전층(343)과 상기 상부 도전층(342) 사이에 교류 고전압이 인가된 경우, 상기 관통홀(341a)에 유전체 장벽 방전에 의한 대기압 플라즈마가 형성될 수 있다. 상기 상부 도전층(342)은 접지될 수 있다. 상기 관통홀들(341a)을 통하여 주입된 가스 또는 처리수는 유전체 장벽 방전을 통하여 플라즈마를 형성할 수 있다. 플라즈마는 하전입자들 및 화학적 활성종을 생성하고, 하전입자들 및 화학적 활성종은 상기 관통홀들(341a)을 통하여 잇몸과 이빨 사이에 배출될 수 있다. 상기 제1 플라즈마 발생부와 상기 잇몸 사이가 근접하도록 설계되어, 하전입자들 및 화학적 활성종은 효율적으로 잇몸 질환을 치료할 수 있다.The first plasma generator 340a may include a dielectric barrier film 341 including through holes 341a and extending in parallel with the tooth groove 323 and having a band shape; An upper conductive layer vertically aligned with the through holes 341a and having upper auxiliary through holes 342a having a diameter larger than that of the through holes 341a and disposed on the dielectric barrier film 341. 342; A lower conductive layer 343 vertically aligned with the through holes 341a and having lower auxiliary through holes 343a having a diameter larger than the diameter of the through holes and disposed below the dielectric barrier film 341; An upper insulating layer 344 including upper through holes 344a vertically aligned with the through holes 341a and disposed to cover the upper conductive layer 342; And a lower insulating layer 345 including lower through holes 345a vertically aligned with the through holes 341a and covering the lower conductive layer 343. When an alternating current high voltage is applied between the lower conductive layer 343 and the upper conductive layer 342, an atmospheric pressure plasma may be formed in the through hole 341a by dielectric barrier discharge. The upper conductive layer 342 may be grounded. Gas or treated water injected through the through holes 341a may form plasma through dielectric barrier discharge. The plasma generates charged particles and chemically active species, and the charged particles and chemically active species may be discharged between the gum and teeth through the through holes 341a. Since the first plasma generating unit and the gum are designed to be close to each other, the charged particles and the chemically active species can effectively treat the gum disease.

상기 제1 플라즈마 발생부(340a)는 유연성을 가진 필름 형태로 구현될 수 있다. 상기 제1 플라즈마 발생부(340a)는 유연성 인쇄회로 기판으로 구현될 수 있다. 상기 유전체 장벽 필름(341)은 폴리이미드 필름일 수 있다. 상기 하부 도전층(343) 및 상기 상부 도전층(342)은 구리 필름일 수 있다. 상기 상부 절연층(344) 및 상기 하부 절연층(345)은 폴리이미드 필름일 수 있다. 상기 관통홀들(341a)의 직경은 수백 마이크로미터 내지 밀리미터일 수 있다. 상기 제1 플라즈마 발생부(340a)의 폭은 치아홈(123)의 깊이보다 작고, 상기 제1 플라즈마 발생부(340a)의 두께는 수백 마이크로비터 내지 수 밀리미터일 수 있다. 상기 제1 플라즈마 발생부(340a)는 배치 평면의 대칭축에서 배치 평면으로 돌출된 돌출 부위(349)를 포함할 수 있다. 상기 돌출 부위(349)에는 외부 전원과 전기적 연결을 위한 커넥터가 배치될 수 있다. 상기 하부 도전층(343) 및 상기 상부 도전층(342)은 상기 유전체 장벽 필름(341), 상기 상부 절연층(344) 및 상기 하부 절연층(345)에 의하여 절연될 수 있다.The first plasma generator 340a may be implemented in the form of a film having flexibility. The first plasma generator 340a may be implemented as a flexible printed circuit board. The dielectric barrier film 341 may be a polyimide film. The lower conductive layer 343 and the upper conductive layer 342 may be copper films. The upper insulating layer 344 and the lower insulating layer 345 may be polyimide films. The through holes 341a may have a diameter of several hundred micrometers to millimeters. The width of the first plasma generator 340a may be smaller than the depth of the tooth groove 123, and the thickness of the first plasma generator 340a may be several hundred microbitters to several millimeters. The first plasma generator 340a may include a protruding portion 349 protruding from the symmetry axis of the placement plane to the placement plane. The protrusion 349 may be provided with a connector for electrical connection with an external power source. The lower conductive layer 343 and the upper conductive layer 342 may be insulated by the dielectric barrier film 341, the upper insulating layer 344, and the lower insulating layer 345.

상기 관통홀들(341a)은 띠 형태의 유연성 인쇄회로 기판에서 직선 상에 배열될 수 있다. 상기 관통홀들(341a)은 치아마다 하나씩 대응되도록 배열될 수 있다.The through holes 341a may be arranged on a straight line in the strip-shaped flexible printed circuit board. The through holes 341a may be arranged to correspond to each tooth one by one.

상기 제1 토출구들(328a)은 상기 제1 플라즈마 발생부(340a)의 상기 관통홀들(341a)과 서로 정렬될 수 있다. 상기 제2 토출구들(328b)은 상기 제2 플라즈마 발생부(340b)의 상기 관통홀들(341a)과 서로 정렬될 수 있다.The first discharge holes 328a may be aligned with the through holes 341a of the first plasma generator 340a. The second discharge holes 328b may be aligned with the through holes 341a of the second plasma generator 340b.

복수의 흡입구들(352)은 상기 치아홈(323)의 하부면에 배치될 수 있다. 복수의 흡입구들(352)은 상기 제1 토출구들(328a) 및 상기 제2 토출구들(328b)로 토출된 후 잇몸을 치료한 가스 또는 처리액을 흡입할 수 있다. 상기 흡입구들(352)은 상기 치아홈의 연장 방향을 따라 일정한 간격을 가지고 배열될 수 있다.A plurality of suction ports 352 may be disposed on the lower surface of the tooth groove 323. The plurality of suction ports 352 may suck the gas or the treatment liquid treating the gum after being discharged to the first discharge holes 328a and the second discharge holes 328b. The suction ports 352 may be arranged at regular intervals along the extending direction of the tooth groove.

배기 수집 공간(351)은 상기 유체 배기구와 연통되고 상기 마우스피스 몸체에 매설되고 상기 흡입구들(352)과 연결되고 상기 마우스피스의 연장 방향으로 연장될 수 있다. An exhaust collection space 351 may be in communication with the fluid exhaust port, embedded in the mouthpiece body, connected to the intake ports 352, and may extend in an extension direction of the mouthpiece.

내측 탄성부(330b)는 상기 내측 돌출부(322)의 상부면을 덮도록 배치되어 잇몸과 접촉할 수 있다. 외측 탄성부(330a)는 상기 외측 돌출부(321)의 상부면을 덮도록 배치되어 잇몸과 접촉할 수 있다. 상기 내측 탄성부(330b) 및 상기 외측 탄성부(330a)는 유연성을 가진 실리콘 고무(silicone rubber) 재질일 수 있다. 상기 내측 탄성부(330b) 및 상기 외측 탄성부(330a)는 상기 잇몸을 감싸도록 배치되어 밀봉시킬 수 있다.The inner elastic part 330b may be disposed to cover the upper surface of the inner protrusion 322 to contact the gum. The outer elastic part 330a may be disposed to cover the upper surface of the outer protrusion 321 to be in contact with the gum. The inner elastic portion 330b and the outer elastic portion 330a may be made of silicone rubber having flexibility. The inner elastic part 330b and the outer elastic part 330a may be disposed to surround the gum and sealed.

수증기 발생부(160)는 상기 마우스피스(120)와 상기 유체 공급부(112)를 연결하는 상기 유체 유입 파이프(112a)에 배치될 수 있다. 상기 수증기 발생부(160)는 초음파 진동자를 이용하여 물 또는 처리액을 증기화시키어 상기 마우스피스(320)에 제공할 수 있다. 상기 유체 공급부(112)가 제공하는 가스는 상기 수증기를 운송하는 케리어로 또한 기능할 수 있다. 이에 따라, 수증기를 포함한 가스는 플라즈마 발생부(340a, 340b)에 의하여 수산화이온을 생성할 수 있다.The steam generator 160 may be disposed in the fluid inlet pipe 112a connecting the mouthpiece 120 and the fluid supply part 112. The steam generator 160 may vaporize water or a treatment liquid using an ultrasonic vibrator and provide the same to the mouthpiece 320. The gas provided by the fluid supply 112 may also function as a carrier for transporting the steam. Accordingly, the gas including water vapor may generate hydroxide ions by the plasma generation units 340a and 340b.

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 구강 처리용 플라즈마 장치를 설명하는 개념도이다.6 is a conceptual view illustrating a plasma device for oral treatment according to another embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 구강 처리용 유전체 장벽 방전 플라즈마 장치(300a)는, 유체 유입구(112b) 및 유체 배기구(114b)를 포함하고 치열궁을 이루는 치아들에 삽입되어 치관의 끝면을 덮는 치아홈(323)을 구비한 마우스피스(320); 상기 치아홈(323)을 바라보고 상기 마우스피스(320)에 배치된 제1 플라즈마 발생부(340a); 상기 제1 플라즈마 발생부(340a)를 바라보고 상기 마우스피스에 배치된 제2 플라즈마 발생부(340b); 상기 유체 유입구(112b)에 가스 또는 처리액을 주입하는 유체 공급부(112); 상기 가스 또는 처리액을 이용하여 플라즈마를 발생시키도록 상기 제1 플라즈마 발생부(340a) 및 상기 제2 플라즈마 발생부(340b)에 전력을 공급하는 외부 전원(116); 및 상기 마우스피스의 상기 유체 배기구(114b)를 통하여 수집된 가스 또는 처리액을 배기하는 펌프(114);를 포함한다. Referring to FIG. 6, a dielectric barrier discharge plasma apparatus 300a for oral treatment includes a dental groove including a fluid inlet 112b and a fluid exhaust port 114b and inserted into teeth forming an arch form to cover an end surface of the crown ( A mouthpiece 320 having a 323; A first plasma generator 340a facing the dental groove 323 and disposed in the mouthpiece 320; A second plasma generator 340b facing the first plasma generator 340a and disposed in the mouthpiece; A fluid supply unit (112) for injecting gas or processing liquid into the fluid inlet (112b); An external power source 116 for supplying power to the first plasma generating unit 340a and the second plasma generating unit 340b to generate plasma using the gas or the processing liquid; And a pump 114 for exhausting the gas or the processing liquid collected through the fluid exhaust port 114b of the mouthpiece.

상기 마우스피스(320)는 치아들 중에서 전치, 견치, 또는 소구치를 처리하도록 "C" 자 형태 또는 또는 원호 형태일 수 있다. 예를 들어, 상기 마우스피스(320)는 견치만을 선택적으로 처리하도록 토출구들(328a,328b)을 포함할 수 있다.The mouthpiece 320 may have a “C” shape or an arc shape to process anterior, canine, or premolar among the teeth. For example, the mouthpiece 320 may include discharge ports 328a and 328b to selectively process only the canine.

도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 구강 처리용 플라즈마 장치를 설명하는 개념도이다.7 is a conceptual diagram illustrating a plasma device for oral treatment according to another embodiment of the present invention.

도 7을 참조하면, 구강 처리용 유전체 장벽 방전 플라즈마 장치(300b)는, 유체 유입구(112b) 및 유체 배기구(114b)를 포함하고 치열궁을 이루는 치아들에 삽입되어 치관의 끝면을 덮는 치아홈(323)을 구비한 마우스피스(320); 상기 치아홈(323)을 바라보고 상기 마우스피스(320)에 배치된 제1 플라즈마 발생부(340a); 상기 제1 플라즈마 발생부(340a)를 바라보고 상기 마우스피스에 배치된 제2 플라즈마 발생부(340b); 상기 유체 유입구(112b)에 가스 또는 처리액을 주입하는 유체 공급부(112); 상기 가스 또는 처리액을 이용하여 플라즈마를 발생시키도록 상기 제1 플라즈마 발생부(340a) 및 상기 제2 플라즈마 발생부(340b)에 전력을 공급하는 외부 전원(116); 및 상기 마우스피스의 상기 유체 배기구(114b)를 통하여 수집된 가스 또는 처리액을 배기하는 펌프(114);를 포함한다. Referring to FIG. 7, a dielectric barrier discharge plasma apparatus 300b for oral treatment includes a tooth groove including a fluid inlet 112b and a fluid exhaust port 114b and inserted into teeth forming an arch form to cover an end surface of the crown ( A mouthpiece 320 having a 323; A first plasma generator 340a facing the dental groove 323 and disposed in the mouthpiece 320; A second plasma generator 340b facing the first plasma generator 340a and disposed in the mouthpiece; A fluid supply unit (112) for injecting gas or processing liquid into the fluid inlet (112b); An external power source 116 for supplying power to the first plasma generating unit 340a and the second plasma generating unit 340b to generate plasma using the gas or the processing liquid; And a pump 114 for exhausting the gas or the processing liquid collected through the fluid exhaust port 114b of the mouthpiece.

상기 마우스피스(320)는 치아들 중에서 일부만을 처리하도록 반이 절단된 "C" 자 형태 또는 원호 형태일 수 있다. 상기 마우스피스(320)는 좌측 치아 또는 우측 치아들만을 선택적으로 처리할 수 있다.The mouthpiece 320 may be in the form of a "C" or arc shape cut in half so as to process only some of the teeth. The mouthpiece 320 may selectively process only left teeth or right teeth.

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 이러한 실시예에 한정되지 않으며, 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 실시할 수 있는 다양한 형태의 실시예들을 모두 포함한다.While the invention has been shown and described with respect to certain preferred embodiments thereof, the invention is not limited to these embodiments, and has been claimed by those of ordinary skill in the art to which the invention pertains. It includes all the various forms of embodiments that can be implemented without departing from the spirit.

320: 마우스피스
323: 치아홈
340: 플라즈마 발생부
112: 유체 공급부
114: 펌프
116: 외부 전원320: mouthpiece
323: tooth groove
340: plasma generating unit
112: fluid supply
114: pump
116: external power

Claims

A mouthpiece comprising a fluid inlet and a fluid exhaust port and having a tooth groove inserted into the teeth forming the arch form and covering the end surface of the crown;
A first plasma generation unit facing the tooth groove and disposed in the mouthpiece;
A second plasma generator disposed on the mouthpiece while facing the first plasma generator;
A fluid supply unit for injecting gas or processing liquid into the fluid inlet;
An external power source for supplying power to the first plasma generating unit and the second plasma generating unit to generate a plasma using the gas or the processing liquid; And
And a pump configured to exhaust the gas or the processing liquid collected through the fluid exhaust port of the mouthpiece.
Each of the first plasma generator and the second plasma generator includes:
A dielectric barrier film including through holes and extending in parallel with the tooth groove and having a band shape;
An upper conductive layer vertically aligned with the through holes and having an upper auxiliary through hole having a diameter larger than the diameter of the through holes and disposed on the dielectric barrier film;
A lower conductive layer vertically aligned with the through holes and having a lower auxiliary through hole having a diameter larger than the diameter of the through holes and disposed under the dielectric barrier film;
An upper insulating layer including upper through holes vertically aligned with the through holes and disposed to cover the upper conductive layer; And
And a lower insulating layer including lower through holes vertically aligned with the through holes and covering the lower conductive layer.

According to claim 1,
The mouthpiece is:
A mouthpiece body having the tooth groove inserted in the teeth to cover the end surface of the crown;
An inner protrusion and an outer protrusion protruding while extending along the tooth groove;
A first mounting groove formed in a side surface of the outer protrusion so as to receive the first plasma generator and face the tooth groove, and extending in an extension direction of the mouthpiece;
A second mounting groove formed in a side surface of the inner protrusion so as to receive the second plasma generation unit and face the tooth groove and extend in an extension direction of the mouthpiece;
A first buffer space in communication with the fluid inlet, embedded in the outer protrusion, extending in the extension direction of the mouthpiece and dispensing the injected gas or processing liquid;
A second buffer space in communication with the fluid inlet, embedded in the inner protrusion, extending in the extending direction of the mouthpiece, and dispensing the injected gas or processing liquid;
A plurality of first discharge holes connecting between the first buffer space and the first mounting groove; And
And a plurality of second discharge holes connecting between the second buffer space and the second mounting groove.
And each of the first plasma generating unit and the second plasma generating unit discharges the injected gas or the processing liquid and provides the same between the tooth and the gum.

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The method of claim 2,
The first discharge holes are aligned with the through holes of the first plasma generator,
And the second discharge holes are aligned with the through holes of the second plasma generator.

According to claim 1,
A plurality of suction ports disposed on the lower surface of the tooth groove; And
And an exhaust collection space communicating with the fluid exhaust port, embedded in the mouthpiece body, connected to the intake ports, and extending in an extension direction of the mouthpiece.

The method of claim 2,
An inner elastic part disposed to cover the upper surface of the inner protrusion and in contact with the gum; And
Dielectric barrier discharge plasma device for oral treatment further comprises an outer elastic portion disposed to cover the upper surface of the outer protrusion in contact with the gum.

The method of claim 2,
And a water vapor generator disposed in the fluid inlet pipe connecting the mouthpiece and the fluid supply unit.

According to claim 1,
The mouthpiece is a dielectric barrier discharge plasma device for oral treatment in the form of a "U", "C", or arc.