KR102001655B1 - High Eefficiency Wet Scrubber - Google Patents

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KR102001655B1
KR102001655B1 KR1020180157903A KR20180157903A KR102001655B1 KR 102001655 B1 KR102001655 B1 KR 102001655B1 KR 1020180157903 A KR1020180157903 A KR 1020180157903A KR 20180157903 A KR20180157903 A KR 20180157903A KR 102001655 B1 KR102001655 B1 KR 102001655B1
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홍정희
길동순
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케이씨코트렐 주식회사
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    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
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Abstract

The present invention relates to a high efficiency wet scrubber which can improve reaction efficiency of the reaction solution and exhaust gas while facilitating design of a supply unit for supplying a reaction solution. The high efficiency wet scrubber of the present invention includes: a cylindrical main body; an exhaust gas inlet which is formed to penetrate a side surface of the main body, and in which exhaust gas flows; an exhaust gas outlet which is positioned in the top portion of the main body and allows the exhaust gas to be discharged to the outside; a plurality of supply pipes which are positioned in a gas-liquid reaction unit within the main body and vertically spaced apart from one another at predetermined intervals to spray the reaction solution in a downward direction; a first perforated plate which is installed between the plurality of supply pipes and a reaction tank such that the exhaust gas flown in through the inlet is primarily distributed and flown; and a second perforated plate which is installed among the plurality of supply pipes such that the exhaust gas passing through the first perforated plate is secondly distributed and flown. The plurality of supply pipes include: a first supply pipe which is installed to be positioned between the first and second perforated plates; a second supply pipe which is installed in an upper side of the second perforated plate; and a third supply pipe which is installed to be separated from the second supply pipe to the upper side of the second supply pipe at predetermined intervals. The first, second and third supply pipes are formed by disposing a plurality of ring-shaped pipes with different diameters in a concentric shape, and a plurality of nozzles are installed on the bottom portion of the pipes to be spaced apart from one another at predetermined intervals.

Description

고효율 습식 스크러버{High Eefficiency Wet Scrubber}High Efficiency Wet Scrubber < RTI ID = 0.0 >

본 발명은 각종 발전소나 제철소 등에서 화석연료의 연소에 따라 발생되는 배기가스의 오염물질을 더욱 효율적으로 제거하는 습식 스크러버에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 본체 내부로 유입된 배기가스와 세정액 또는 알칼리성 용액 등(이하 '반응액'이라 한다)을 반응시켜 배기가스에 포함된 유해물질이 제거되도록 구성되는 고효율 습식 스크러버에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a wet scrubber for efficiently removing contaminants of exhaust gas generated by combustion of fossil fuels in various power plants and steel mills, and more particularly to a wet scrubber for removing exhaust gas, (Hereinafter referred to as " reaction liquid ") to remove toxic substances contained in the exhaust gas.

일반적으로 집진기는 기체 속에 포함된 고체 또는 액체의 미립자를 모아서 제거하는 장치로서, 최초에는 보일러의 연소가스 속에 함유된 재의 미립자를 제거하는데 사용되었으나, 근래에는 공장 등에서 발생되는 매연(이하 '배기가스'라 한다)에 유해물질이 포함되어 대기 중으로 배출되는 것을 방지하기 위해 설치되고 있다.Generally, a dust collector is a device for collecting and removing solid or liquid fine particles contained in a gas, and was first used to remove particulate matter contained in the combustion gas of the boiler. In recent years, however, ) To prevent the release of harmful substances into the atmosphere.

이러한 집진기는 중력에 의한 것, 여과에 의한 것, 관성 및 원심력에 의한 것, 음파를 이용하는 것, 세정에 의한 것 등과 같이 배기가스에 포함된 유해물질을 제거하는 방법에 따라 다양하게 실시되고 있다.Such a dust collector is variously carried out according to a method of removing harmful substances contained in exhaust gas such as by gravity, by filtration, by inertia and centrifugal force, by using sound waves, by washing, and the like.

이 중에서 세정에 의한 집진기는 스크러버(scrubber)라고 불리는데, 이러한 스크러버는 화학공장 이외에 일반적인 공장, 극장 등의 공기정화에 널리 사용되는 것으로 크게 건식과 습식으로 구분되고, 이 중 습식 스크러버는 건식 스크러버에 비해 상대적으로 유해물질의 제거 효율이 더 높은 것으로 알려져 있다.Among these, scrubbing dust collectors are called scrubber. These scrubbers are widely used for air cleaning in general factories, theaters, etc. other than chemical plants, and they are roughly classified into dry type and wet type, and wet scrubber is compared with dry scrubber It is known that the removal efficiency of harmful substances is relatively higher.

상기와 같은 습식 스크러버의 종래 기술로서 등록특허공보 제1827121호의 고효율 다단 와류형 습식 스크러버(이하 "특허문헌"이라 한다)가 개시되어 있다.As a conventional technique of the above-described wet scrubber, a highly efficient multistage eddy-current type wet scrubber (hereinafter referred to as "Patent Document") of Patent Publication No. 1827121 is disclosed.

상기 특허문헌의 습식 스크러버는 통 형상의 본체; 본체의 내부 한쪽에 설치되고, 제1세정액을 수용하는 제1챔버; 본체의 내부 다른 한쪽에 제1챔버와 분리되도록 설치되고, 제2세정액을 수용하는 제2챔버; 제1챔버와 제2챔버를 분리하도록 상하방향으로 설치되는 챔버 분리판; 본체의 한쪽 측벽에 제1챔버와 연결되도록 설치되고, 대기오염물질을 포함하는 가스흐름이 유입되는 유입구; 제1챔버의 상부에서 유입구보다 높은 위치에 설치되고, 제1세정액을 분사하는 하나 이상의 세정액 분사구; 챔버 분리판과 유입구 사이에서 유입구와 마주보도록 상하방향으로 설치되는 제1충돌판; 제1충돌판의 측면에 챔버 분리판 쪽으로 설치되는 제1노즐; 제1노즐보다 높은 위치에서 챔버 분리판의 측면에 제1충돌판 쪽으로 설치되는 제2충돌판; 챔버 분리판의 상단과 이격되고, 제1충돌판의 상단과 연결되도록 좌우방향으로 설치되는 제3충돌판; 제3충돌판의 제2챔버 쪽 말단과 연결되면서 상하방향으로 설치되고, 챔버 분리판과 이격되는 제4충돌판; 제4충돌판의 측면에 본체의 제2챔버 쪽 측벽 방향으로 설치되는 제2노즐; 제2노즐보다 높은 위치에서 본체의 다른 측벽에 제4충돌판 쪽으로 설치되는 제5충돌판; 제3충돌판보다 높은 위치에서 본체의 상부에서 설치되는 데미스터 필터; 본체의 상단에 설치되는 배출구; 본체의 제1챔버 쪽 측벽에 설치되는 제1세정액 주입구; 본체의 제2챔버 쪽 측벽에 설치되는 제2세정액 주입구; 본체의 제1챔버 쪽 바닥에 설치되는 제1세정액 배출구; 본체의 제2챔버 쪽 바닥에 설치되는 제2세정액 배출구; 제1세정액 주입구와 연결되도록 설치되는 제1수위 확인장치; 및 제2세정액 주입구와 연결되도록 설치되는 제2수위 확인장치를 구비하는 것을 특징으로 한다.The wet scrubber of the patent document comprises a tubular body; A first chamber installed at one side of the main body to receive the first cleaning liquid; A second chamber installed on the other side of the main body so as to be separated from the first chamber and accommodating the second cleaning liquid; A chamber separator installed vertically to separate the first chamber and the second chamber; An inlet port connected to the first chamber on one side wall of the main body and through which a gas flow containing air pollutants flows; At least one cleaning liquid ejection opening provided at an upper portion of the first chamber and higher than the inlet, for ejecting the first cleaning liquid; A first collision plate installed between the chamber separation plate and the inlet port in a vertical direction so as to face the inlet port; A first nozzle installed on the side of the first impingement plate toward the chamber separation plate; A second impingement plate installed at a side of the chamber separator plate at a position higher than the first nozzle toward the first impingement plate; A third collision plate spaced apart from the upper end of the chamber separator plate and installed laterally so as to be connected to the upper end of the first collision plate; A fourth collision plate which is vertically connected to the third chamber-side end of the third collision plate and is spaced apart from the chamber separation plate; A second nozzle installed on a side surface of the fourth collision plate in a direction of a sidewall of the second chamber side of the main body; A fifth collision plate installed on the other side wall of the body toward the fourth collision plate at a position higher than the second nozzle; A demister filter installed at the top of the body at a position higher than the third impingement plate; An outlet provided at an upper end of the main body; A first cleaning liquid inlet formed on a side wall of the first chamber of the main body; A second cleaning liquid injecting port provided on a sidewall of the second chamber side of the main body; A first cleaning liquid discharge port installed at the bottom of the first chamber side of the main body; A second cleaning liquid discharge port installed at the bottom of the second chamber side of the main body; A first level determining device connected to the first cleaning liquid inlet; And a second level determining device connected to the second cleaning liquid injection port.

그러나 상기 특허문헌의 습식 스크러버는 원통 모양의 본체 내측에 소정 길이를 가지는 반응액(세정액) 분사 배관이 소정 간격을 두고 복수 열로 설치되는 것으로, 이 때문에 배관의 길이를 각각 다르게 설계해야 하고, 또한 길이가 다른 각각의 배관을 통해 분사되는 반응액의 분사량을 균일하게 맞추기 위해 배관을 통해 공급되는 반응액의 유량을 다르게 조절해야 하는 어려움이 있다.However, in the wet scrubber of the patent document, the reaction liquid (cleaning liquid) injection pipes having a predetermined length are provided in a plurality of rows at a predetermined interval inside the cylindrical main body. Therefore, the lengths of the pipes must be designed differently, It is difficult to control the flow rate of the reaction liquid supplied through the pipe in order to uniformly adjust the injection amount of the reaction liquid sprayed through each of the other pipes.

여기서 각 배관으로 공급되는 반응액의 유량을 다르게 조절하지 않는 경우에는 배관을 통해 분사되는 반응액의 양이 균일하지 못하게 되고, 이 때문에 배기가스가 본체 내측 하부에서 상부 쪽으로 흐르는 과정에서 상대적으로 상승 기류의 저항이 적은 쪽(반응액의 양이 적은 쪽)으로 집중되어 흐르게 되면서 배기가스에 포함된 오염물질의 제거 효율이 크게 떨어지게 된다.In this case, when the flow rate of the reaction liquid supplied to each pipe is not adjusted differently, the amount of the reaction liquid injected through the pipe becomes uneven, and therefore, in the course of flowing the exhaust gas from the lower portion of the main body to the upper portion, The concentration of the pollutants contained in the exhaust gas is significantly lowered as the concentration of the pollutants in the exhaust gas is reduced.

또한, 소정 간격을 두고 설치된 배관 사이에 반응액이 분사되지 못하는 공백 부분이 형성될 수 있고, 이 때문에 복수 개의 배관을 복층 구조를 가지도록 설치하게 되며, 이와 동시에 각 층의 배관을 서로 엇갈리게 배열하여 공백 부분이 형성되지 않도록 방지하고 있으나, 이 경우 각 층의 배관을 서로 엇갈리게 배치하기 위해 각층의 배관마다 다른 설계 조건을 반영해야 하는 어려움이 있다.In addition, a blank portion in which the reaction liquid can not be injected may be formed between the piping installed at a predetermined interval, so that a plurality of pipes are provided so as to have a multi-layer structure, and at the same time, the pipes of each layer are staggered However, in this case, it is difficult to reflect different design conditions for each piping of each layer in order to arrange the piping of each layer in a staggered manner.

이에 더해 본체 내부에 설치된 배관 등에 의해 배기가스가 불규칙하게 흐르게 되고(난류), 이 때문에 배기가스의 배출 흐름성이 저하(유속 저하)되면서 배기가스를 본체 외측으로 배출시키기 위한 사용 에너지가 증가되는 문제가 있다.In addition to this, the exhaust gas flows irregularly (turbulent flow) due to a pipe or the like installed inside the main body, and therefore, the flow rate of exhaust gas is lowered (flow velocity is lowered) and the energy used for discharging the exhaust gas to the outside of the main body is increased .

따라서 반응액을 분사시키는 배관의 설계가 용이하고, 배기가스에 포함된 오염물질 효율적으로 제거할 수 있으며, 배기가스의 유속을 담보하여 사용 에너지를 절약할 수 있는 습식 스크러버의 개발이 요구된다.Therefore, it is required to develop a wet scrubber that can easily design a piping for spraying a reaction liquid, efficiently remove contaminants contained in the exhaust gas, and can save the energy used by securing the flow rate of the exhaust gas.

KR 10-1827121 B1 (2018. 02. 01.)KR 10-1827121 B1 (2018. 02. 01.) KR 10-1876413 B1 (2018. 07. 03.)KR 10-1876413 B1 (2018. 07. 03.) KR 10-1550990 B1 (2015. 09. 01.)KR 10-1550990 B1 (May 09, 2015) KR 10-1349959 B1 (2014. 01. 03.)KR 10-1349959 B1 (2014. 01. 03.) KR 10-1277569 B1 (2013. 06. 17.)KR 10-1277569 B1 (June 17, 2013)

본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명에서 해결하고자 하는 과제는 반응액을 분사시키는 배관의 설계가 용이하고, 배기가스에 포함된 오염물질을 효율적으로 제거할 수 있으며, 배기가스의 유속을 담보하여 사용 에너지를 절약할 수 있는 고효율 습식 스크러버를 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide an exhaust gas purifying apparatus which can easily design a pipe for injecting a reaction liquid, can efficiently remove contaminants contained in exhaust gas, And to provide a highly efficient wet scrubber capable of saving the energy used by securing the gas flow rate.

상기의 과제를 해결하기 위하여 본 발명에 따른 고효율 습식 스크러버는, 내측 상부에 형성되는 기액반응부와, 내측 하부에 형성되는 반응조를 포함하는 원통 모양의 본체; 상기 본체의 측면을 관통하도록 형성되어 상기 기액반응부의 하부 쪽으로 배기가스가 유입되도록 하는 배기가스 유입구; 상기 본체의 상부에 위치되면서 상기 기액반응부를 통과하여 질소산화물과 황산화물이 제거된 배기가스가 외부로 배출되도록 하는 배기가스 배출구; 상기 본체 내부의 상기 기액반응부에 위치되면서 상하로 소정 간격 이격되어 반응액을 하향 분사하는 복수 개의 공급관; 상기 복수 개의 공급관과 상기 반응조 사이에 설치되면서 상기 유입구를 통해 유입되는 배기가스가 1차로 분배되어 상승되도록 하는 1차 다공판; 및 상기 복수 개의 공급관 사이에 설치되면서 상기 1차 다공판을 통과한 배기가스가 2차로 분배되어 상승되도록 하는 2차 다공판을 포함하고, 상기 복수 개의 공급관은, 상기 1, 2차 다공판 사이에 위치되도록 설치되는 제1 공급관; 상기 2차 다공판의 상부 쪽에 설치되는 제2 공급관; 및 상기 제2 공급관의 상부 쪽으로 소정 간격 이격되어 설치되는 제3 공급관을 포함하며, 상기 제1, 2, 3 공급관은, 서로 다른 지름을 가지는 링 모양의 배관을 동심원상으로 복수 개 배치하여 구성되고, 상기 배관의 하부 쪽에는 소정 간격을 두고 복수 개의 노즐이 설치되는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a high efficiency wet scrubber comprising: a cylindrical body including a gas-liquid reaction part formed on an upper inner side and a reaction tank formed on an inner lower side; An exhaust gas inlet formed to penetrate the side surface of the main body and allowing the exhaust gas to flow into the lower portion of the gas-liquid reaction portion; An exhaust gas outlet which is located above the main body and through which the exhaust gas from which nitrogen oxides and sulfur oxides have been removed is discharged to the outside; A plurality of supply pipes located in the gas-liquid reaction part inside the main body and spraying the reaction solution downward at a predetermined interval up and down; A primary perforated plate installed between the plurality of supply pipes and the reaction tank to distribute and increase the exhaust gas flowing through the inlet; And a secondary perforated plate disposed between the plurality of supply pipes to allow the exhaust gas passing through the primary perforated plate to be distributed and raised in a second order, wherein the plurality of supply pipes are arranged between the first and second perforated plates A first supply pipe installed to be positioned; A second supply pipe installed on an upper side of the secondary sieve plate; And a third supply pipe disposed at a predetermined distance from the upper portion of the second supply pipe, wherein the first, second, and third supply pipes are formed by arranging a plurality of ring-shaped pipes having different diameters concentrically And a plurality of nozzles are installed at a predetermined interval on the lower side of the pipe.

그리고 본 발명의 상기 제1 공급관에는 중앙 부분에 비해 상대적으로 둘레 쪽으로 반응액을 집중하여 분사하는 할로우콘노즐이 설치되고, 상기 제2, 3 공급관에는 반응액을 미립화하여 전체적으로 균일하게 분사하는 풀콘노즐이 설치되는 것을 또 다른 특징으로 한다.The first and second supply pipes are provided with a hollow cone nozzle for concentrating and spraying the reaction liquid in a peripheral direction relative to the central portion. The second and third supply pipes are provided with a full- Is installed.

또한, 본 발명은 상기 제3 공급관의 상부 쪽에 소정 간격 이격되어 제4 공급관이 더 설치되고, 상기 제4 공급관에는, 중앙 부분에 비해 상대적으로 둘레 쪽으로 반응액을 집중시켜 분사하는 할로우콘노즐이 설치되는 것을 또 다른 특징으로 한다.According to the present invention, a fourth supply pipe is further provided at an upper portion of the third supply pipe, and the fourth supply pipe is provided with a hollow cone nozzle for concentrating and spraying the reaction liquid relatively to the peripheral portion As a further feature.

이에 더해 본 발명은 상기 제1, 2, 3 공급관의 노즐이 상기 기액반응부에 전체적으로 균일하게 반응액이 분사되도록 설치되는 각도를 서로 다르게 하여 설치되는 것을 또 다른 특징으로 한다.In addition, the present invention is characterized in that the nozzles of the first, second, and third supply pipes are installed at different angles so that the reaction liquid is sprayed uniformly throughout the gas-liquid reaction part.

그리고 본 발명의 상기 1, 2차 다공판은 구멍에 의해 형성되는 유로의 전체 면적이 다공판의 전체 면적 대비 40~50%가 되도록 형성되는 것을 또 다른 특징으로 한다.The first and the second perforated plates of the present invention are characterized in that the total area of the channels formed by the holes is 40 to 50% of the total area of the perforated plate.

본 발명에 따르면, 본체의 내부에 링 모양으로 된 복수 개의 배관이 동심원을 이루도록 배치된 공급관이 설치되므로 원통 모양의 본체 내부에 쉽게 설치할 수 있고, 이에 더해 반응액이 균일하게 분사되도록 노즐을 쉽게 배치할 수 있으며, 그 결과 습식 스크러버의 설계가 용이한 장점이 있다.According to the present invention, since the supply pipe arranged in a concentric circle with a plurality of ring-shaped pipes in the inside of the main body is provided, it can be easily installed inside the cylindrical main body and the nozzle can be easily placed As a result, it is easy to design a wet scrubber.

또한, 본체 내부에 설치되는 1, 2차 다공판, 풀콘노즐 및 할로우콘노즐의 배치 구조로 인해 기액 반응과정에서 배기가스의 흐름이 안정화될 수 있고, 이에 의해 배기가스의 유속과 반응성이 담보되어 배기가스 중에 포함된 유해물질의 제거효율이 향상됨과 동시에 배기가스의 압력손실이 감소되는 장점이 있다.Further, the flow structure of the exhaust gas can be stabilized in the gas-liquid reaction process due to the arrangement structure of the primary and secondary perforated plates, the full condenser nozzles, and the hollow cone nozzles installed in the main body, thereby ensuring the flow velocity and reactivity of the exhaust gas There is an advantage that the removal efficiency of the harmful substances contained in the exhaust gas is improved and the pressure loss of the exhaust gas is reduced.

도 1은 본 발명에 따른 고효율 습식 스크러버의 예를 보인 구성도.
도 2는 본 발명에 따른 공급관의 예를 보인 사시도.
도 3은 도 2의 저면도.
도 4 및 도 5는 본 발명에 따른 할로우콘노즐의 사용 예를 보인 도면.
도 6 및 도 7은 본 발명에 따른 풀콘노즐의 사용 예를 보인 도면.
도 8(a, b, c)은 본 발명에 따른 노즐의 설치 각도에 따른 분사영역이 달라지는 예를 보인 도면.
도 9는 본 발명에 따른 1, 2차 다공판의 예를 보인 도면.
도 10은 본 발명에 다른 1차 다공판의 다른 실시예를 보인 도면.
도 11은 본 발명에 따른 고효율 습식 스크러버의 다른 예를 보인 구성도.
도 12는 도 11에 따른 1차 다공판의 예를 보인 도면.
도 13은 도 11에 따른 필터의 예를 보인 도면.
1 is a schematic view showing an example of a high-efficiency wet scrubber according to the present invention.
2 is a perspective view showing an example of a supply pipe according to the present invention;
Fig. 3 is a bottom view of Fig. 2; Fig.
4 and 5 are views showing examples of using the hollow cone nozzle according to the present invention.
6 and 7 are views showing examples of use of a full-cone nozzle according to the present invention.
8 (a), (b) and (c) illustrate examples in which the ejection area varies according to the installation angle of the nozzle according to the present invention.
9 is a view showing examples of primary and secondary perforated plates according to the present invention.
10 is a view showing another embodiment of the primary perforated plate according to the present invention.
11 is a view showing another example of a highly efficient wet scrubber according to the present invention.
12 is a view showing an example of a primary perforated plate according to FIG.
13 is a view showing an example of the filter according to Fig.

이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 도시한 첨부도면에 따라 상세하게 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명은 반응액을 분사시키는 배관의 설계가 용이하고, 배기가스에 포함된 오염물질 효율적으로 제거할 수 있으며, 배기가스의 유속을 담보하여 사용 에너지를 절약할 수 있는 고효율 습식 스크러버를 제공하고자 하는 것으로, 이러한 본 발명은 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 본체(10), 배기가스 유입구(20), 배기가스 배출구(30), 공급관(40), 1차 다공판(50) 및 2차 다공판(60)을 포함한다.An object of the present invention is to provide a highly efficient wet scrubber capable of easily designing piping for spraying a reaction liquid, efficiently removing contaminants contained in the exhaust gas, 1 and 2, the present invention includes a main body 10, an exhaust gas inlet 20, an exhaust gas outlet 30, a supply pipe 40, a primary perforated plate 50, And a perforated plate (60).

본체(10)는 내부로 배기가스가 유입되어 반응액과 반응됨으로써 배기가스에 포함된 유해물질이 제거되도록 하는 구성이다.The main body 10 is configured such that the exhaust gas flows into the interior of the main body 10 and is reacted with the reaction liquid to remove harmful substances contained in the exhaust gas.

이러한 본체(10)는 소정 지름을 가지는 원통 모양으로 형성되면서 도 1에 도시된 바와 같이 상부에는 소정 높이의 기액반응부(11)가 형성되고, 하부에는 후술되는 공급관(40)을 통해 낙하되는 반응액과 유해물질이 수집되어 저장되는 반응조(12)가 형성된다.1, a gas-liquid reaction part 11 having a predetermined height is formed on the upper part of the body 10, and a reaction (reaction) dropping down through a supply pipe 40, which will be described later, And a reaction tank 12 in which liquid and harmful substances are collected and stored.

이때 반응조(12)의 일측에는 반응조(12)의 내부로 반응액을 공급하여 농도를 조절하는 반응액공급관(도면부호 없음)이 구비되고, 또 다른 일측에는 반응조(12)에 수집 저장된 반응액을 외부로 배출하여 처리되도록 하는 유로와 연결되거나 또는 반응액을 펌프(도면부호 없음)를 이용하여 공급관(40)으로 공급하여 순환시키는 순환유로와 연결되는 반응액배출관(도면부호 없음)이 구비된다.At this time, a reaction liquid supply pipe (not shown) is provided at one side of the reaction tank 12 to supply the reaction liquid to the inside of the reaction tank 12 to adjust its concentration. On the other side, a reaction solution collected and stored in the reaction tank 12 (Not shown) connected to a flow path for discharging the liquid to the outside or to a circulating flow path for supplying the reaction liquid to the supply pipe 40 using a pump (not shown) and circulating the liquid.

배기가스 유입구(20)는 기액반응부(11)의 하부 쪽과 연통되도록 본체(10)의 측면을 관통하여 형성되어 본체(10)의 내부로 질소산화물과 황산화물 등의 대기오염물질을 포함하는 배기가스를 공급하는 구성이다.The exhaust gas inlet 20 is formed so as to penetrate the side surface of the main body 10 so as to communicate with the lower side of the gas-liquid reaction part 11 and includes an air pollutant such as nitrogen oxides and sulfur oxides inside the main body 10 And the exhaust gas is supplied.

배기가스 배출구(30)는 본체(10)의 상부와 연통되도록 구성되어 질소산화물 및 황산화물 등의 오염물질이 제거된 배기가스가 외부로 배출되도록 하는 구성이다.The exhaust gas outlet 30 is configured to communicate with the upper portion of the main body 10 to exhaust the exhaust gas from which pollutants such as nitrogen oxides and sulfur oxides are removed.

이러한 배기가스 배출구(30)는 도 1에 도시된 바와 같이 기액반응부(11)의 위쪽에 위치되고, 배기가스 배출구(30)상에는 필요에 따라 배기가스를 흡인하여 외부로 배출시키는 배출팬(31)이 설치될 수 있다.1, the exhaust gas outlet 30 is located above the gas-liquid reacting section 11, and on the exhaust gas outlet 30, an exhaust fan 31 ) Can be installed.

공급관(40)은 본체(10) 내부의 기액반응부(11)상에 위치되면서 상하로 소정 간격 이격되어 배기가스에 포함된 질소산화물과 황산화물 제거에 적합한 기약 접촉이 이루어지도록 반응액을 하향 분사하는 구성이다.The supply pipe 40 is positioned on the gas-liquid reaction part 11 in the main body 10 and is spaced apart from the upper and lower sides by a predetermined distance so that the reaction liquid is sprayed downward so as to make a lean contact suitable for the removal of nitrogen oxides and sulfur oxides contained in the exhaust gas. .

이러한 공급관(40)은 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이 후술되는 1, 2차 다공판(50, 60) 사이에 위치되도록 설치되는 제1 공급관(41)과, 상기 2차 다공판(60)의 상부 쪽에 설치되는 제2 공급관(42)과, 상기 제2 공급관(42)의 상부 쪽으로 소정 간격 이격되어 설치되는 제3 공급관(43) 및 상기 제3 공급관(43)의 상부 쪽으로 소정 간격 이격되어 제4 공급관(44)을 포함한다.The supply pipe 40 includes a first supply pipe 41 disposed between the first and second perforated plates 50 and 60 to be described later as shown in FIGS. 2 and 3, A third supply pipe 43 disposed at a predetermined distance from the upper side of the second supply pipe 42 and a third supply pipe 43 disposed at an upper side of the third supply pipe 43, And includes a fourth supply pipe 44.

그리고 제1, 2, 3, 4 공급관(41, 42, 43, 44)은 각각 도 3에 도시된 바와 같이 소정 지름을 가지는 링 모양으로 형성되는 제1 배관부(P1)와, 상기 제1 배관부(P1)에 비해 상대적으로 작은 지름을 가지는 링 모양으로 형성되는 제2 배관부(P2)와, 상기 제2 배관부(P2)에 비해 상대적으로 작은 지름을 가지는 링 모양으로 형성되는 제3 배관부(P3)와, 상기 제1, 2, 3 배관부(P1, P2, P3)를 연결하여 지지하는 복수 개의 연결배관부(P4) 및 상기 제1, 2, 3 배관부(P1, P2, P3)의 일측과 연결되어 내부로 반응액을 공급하는 공급배관부(P5)를 포함한다.The first, second, third, and fourth supply pipes 41, 42, 43, and 44 each have a first pipe portion P1 formed in a ring shape having a predetermined diameter as shown in FIG. 3, A second pipe portion P2 formed in a ring shape having a relatively smaller diameter than the first pipe portion P1 and a third pipe portion P2 formed in a ring shape having a smaller diameter than the second pipe portion P2, A plurality of connecting piping portions P4 for connecting and supporting the first, second and third piping portions P1, P2 and P3 and the first, second and third piping portions P1, P2, P3 to supply the reaction liquid to the inside thereof.

이때 제1, 2, 3 배관부(P1, P2, P3)는 복수 개의 연결배관부(P4)에 의해 서로 동심원 및 동일 평면상에 위치되어 고정되고, 하부 외측면에는 소정 간격을 두고 방사상으로 복수 개의 노즐이 설치된다.At this time, the first, second and third piping sections P1, P2, and P3 are positioned and fixed concentrically and coplanarly with each other by a plurality of connection piping sections P4, and a plurality Nozzles are installed.

여기서 노즐은 제1, 2, 3 배관부(P1, P2, P3)의 지름에 따라 설치되는 개수를 달리하여 설치되고, 이와 동시에 배기가스의 흐름을 안정화시켜 반응액과 배기가스의 반응 효율을 향상시키기 위해 제1, 4 공급관(41, 44)에는 할로우콘노즐(HN)이 설치되고, 제2, 3 공급관(42, 43)에는 풀콘노즐(FN)이 설치된다.Here, the nozzles are installed in different numbers depending on the diameters of the first, second and third pipe sections P1, P2 and P3. At the same time, the flow of the exhaust gas is stabilized to improve the reaction efficiency of the reaction liquid and the exhaust gas The first and fourth supply pipes 41 and 44 are provided with a hollow cone nozzle HN and the second and third supply pipes 42 and 43 are provided with a filler nozzle FN.

이에 대해 더욱 상세하게 설명하면, 할로우콘노즐(HN)은 도 4에 도시된 바와 같이 노즐에서 분사되는 반응액이 점진적으로 지름이 커지는 링 모양으로 분사되도록 구성된 것으로, 이러한 구성에 의해 할로우콘노즐(HN)이 설치된 제1 공급관(41)을 통해 반응액이 분사되면 도 5에 도시된 바와 같이 노즐 각각의 중앙 부분에 상대적으로 반응액이 분사되지 않는 영역이 형성되면서 배기가스가 노즐의 중앙 쪽으로 흐름이 유도된 다음 반응액의 분사 영역을 통과하게 된다.More specifically, as shown in FIG. 4, the hollow cone nozzle HN is configured such that the reaction liquid injected from the nozzle is injected in a ring shape gradually increasing in diameter. With this configuration, the hollow cone nozzle HN When the reaction liquid is injected through the first supply pipe 41 provided with the HN, the region where the reaction liquid is not injected relatively is formed at the central portion of each nozzle as shown in FIG. 5, and the exhaust gas flows toward the center of the nozzle Is passed through the injection area of the next reaction liquid.

그 결과 배기가스가 할로우콘노즐(HN)을 중심으로 수직으로 상승하도록 흐름이 안정화(유도)된 상태에서 그 상부 쪽에 위치되는 제2, 3 공급관(42, 43)을 통과하게 된다.As a result, the exhaust gas passes through the second and third supply pipes 42 and 43, which are located on the upper side in a state where the flow is stabilized (induced) so that the exhaust gas vertically rises around the hollow cone nozzle HN.

또한, 풀콘노즐(FN)은 도 6에 도시된 바와 같이 노즐에서 분사되는 반응액이 미립화되어 전체적으로 균일하게 분사되도록 구성된 것으로, 이러한 구성에 의해 제1 공급관(41)을 통해 흐름이 안정화된 상태의 배기가스가 도 7에 도시된 바와 같이 풀콘노즐(FN)의 분사영역(전체적으로 분사되는)을 통과하게 되면서 반응하게 된다.As shown in FIG. 6, the full-cone nozzle FN is configured such that the reaction liquid injected from the nozzle is atomized and uniformly sprayed as a whole. With this configuration, the flow of the liquid through the first supply pipe 41 is stabilized The exhaust gas reacts while passing through the injection region (totally injected) of the full-cone nozzle FN as shown in Fig.

이때 풀콘노즐(FN)을 통해 분사되는 반응액은 미립화되어 배기가스의 유속에 의해 상부 쪽으로 흩날리게 되면서 배기가스와 반응액이 더욱 효과적으로 반응하게 된다.At this time, the reaction liquid injected through the full-cone nozzle FN is atomized and is scattered upward by the flow rate of the exhaust gas, so that the exhaust gas and the reaction liquid react more effectively.

그런 다음, 다시 제4 공급관(44)의 할로우콘노즐(HN)을 통해 배기가스 및 흩날리는 반응액의 흐름이 안정화되어 배기가스는 기액반응부(11) 상부에 위치되는 배기가스 배출구(30) 쪽으로 흐르게 되고, 배기가스와 함께 상부 쪽으로 흩날리는 반응액은 할로우콘노즐(HN)을 통해 분사되는 반응액의 영향으로 본체(10)의 하부 쪽으로 낙하되게 된다.Then, the flow of the exhaust gas and the scattered reaction liquid is stabilized again through the hollow cone nozzle HN of the fourth supply pipe 44 so that the exhaust gas is exhausted through the exhaust gas outlet 30 located in the upper portion of the gas- And the reaction liquid that is scattered toward the upper side together with the exhaust gas falls to the lower side of the main body 10 under the influence of the reaction liquid injected through the hollow cone nozzle HN.

그 결과 배기가스는 기액반응부(11)를 통과하는 동안에 복수 개의 공급관(40)을 통해 분사되는 반응액에 의해 흐름이 안정화되어 유속과 반응 효율이 담보되고, 이와 동시에 반응액이 배기가스와 함께 배기가스 배출구(30) 쪽으로 배출되는 것이 자연스럽게 방지된다.As a result, the flow of the exhaust gas is stabilized by the reaction liquid injected through the plurality of supply pipes 40 while passing through the gas-liquid reaction part 11 to ensure the flow rate and reaction efficiency, and at the same time, It is naturally prevented from being discharged to the exhaust gas outlet 30 side.

한편, 노즐이 배관(P)의 하부 쪽을 향하도록 수직으로 배열되면 도 8(a)에 도시된 바와 같이 배관(P)을 기준으로 내외측으로 균일한 폭의 분사영역(SZ)이 형성되고, 노즐이 배관(P)의 안쪽을 향하도록 소정 각도로 배열되면 도 8(b)에 도시된 바와 같이 배관(P)의 안쪽으로 더 많은 분사영역(SZ)이 형성되며, 노즐이 배관(P)의 바깥쪽을 향하도록 소정 각도로 배열되면 도 8(c)에 도시된 바와 같이 배관(P)의 바깥쪽으로 더 많은 분사영역(SZ)이 형성된다.On the other hand, when the nozzles are vertically arranged so as to face the lower side of the pipe P, the injection region SZ having a uniform width is formed on the inner and outer sides with reference to the pipe P as shown in Fig. 8 (a) When the nozzles are arranged at a predetermined angle so as to face the inside of the pipe P, more injection area SZ is formed inside the pipe P as shown in FIG. 8 (b) The spray area SZ is formed to the outside of the pipe P as shown in FIG. 8 (c).

따라서 제1, 2, 3, 4 공급관(41, 42, 43, 44)의 제1, 2, 3 배관부(P1, P2, P3)에 설치되는 노즐의 설치 각도를 적절하게 변경하는 것만으로 반응액이 기액반응부(11)의 공간상에 균일하게 분사될 수 있다.Therefore, only by properly changing the installation angles of the nozzles provided in the first, second and third pipe sections P1, P2, P3 of the first, second, third and fourth supply pipes 41, 42, 43, Liquid can be uniformly injected onto the space of the gas-liquid reaction part 11. [

또한, 공급관(40)을 통해 분사되는 반응액은 수산화나트륨, 탄산칼슘, 수산화칼슘 및 암모니아수 등의 용액상태로 pH 7~9 정도가 유지되도록 농도 등이 조절된다.In addition, the reaction liquid sprayed through the supply pipe 40 is adjusted in concentration such that the pH of the reaction solution is maintained at about 7 to 9 in a solution state such as sodium hydroxide, calcium carbonate, calcium hydroxide and ammonia water.

1, 2차 다공판(50, 60)은 배기가스 유입구(20)를 통해 본체(10) 내부로 유입된 배기가스가 기액반응부(11)에 고르게 분배되어 흐를 수 있도록 배기가스를 분배하는 구성이다.The first and the second perforated plates 50 and 60 are configured to distribute the exhaust gas so that the exhaust gas flowing into the main body 10 through the exhaust gas inlet 20 can be evenly distributed to the gas- to be.

이러한 1, 2차 다공판(50, 60)은 도 9에 도시된 바와 같이 원판 모양을 가지면서 방사상으로 복수 개의 구멍(H)이 형성된 것으로, 이러한 1, 2 차 다공판(50, 60)은 배기가스의 유속 저하를 방지하기 위해 구멍에 의해 형성되는 유로의 전체 면적이 다공판의 전체 면적 대비 40~50%가 되도록 형성된다.The first and second perforated plates 50 and 60 have a circular plate shape and are radially formed with a plurality of holes H as shown in FIG. The total area of the flow path formed by the holes is set to be 40 to 50% of the total area of the perforated plate in order to prevent the flow rate of the exhaust gas from being lowered.

이는 구멍(H)에 의해 형성되는 유로의 전체 면적이 40% 미만으로 형성되면 배기가스의 유속이 저하되면서 배기가스를 배출시키기 위한 에너지가 증가되고, 이와 반대로 구멍의 면적이 50%를 초과하여 형성되면 배기가스의 분배 효율이 떨어지는 점에서 기인된다.This is because if the total area of the flow path formed by the holes H is less than 40%, the flow rate of the exhaust gas is decreased and the energy for discharging the exhaust gas is increased. On the other hand, The distribution efficiency of the exhaust gas is reduced.

이때 1차 다공판(50)은 배기가스 유입구(20)와의 위치 차이로 인해 1차 다공판(50)에 형성된 구멍으로 균일하게 배기가스가 통과하지 못할 수 있고, 이에 의해 배기가스를 균일하게 분배시키는 효율이 떨어지게 되는 문제가 있을 수 있는데, 이에 따라 도 10에 도시된 바와 같이 가상의 중심선(CL)을 기준으로 배기가스 유입구(20)와 가까운 쪽에 형성되는 제1 구멍(H1)은 먼 쪽에 형성되는 제2 구멍(H2)에 비해 상대적으로 지름이 크게 형성될 수 있다.At this time, the primary perforated plate 50 may not uniformly pass the exhaust gas through the holes formed in the primary perforated plate 50 due to the positional difference with the exhaust gas inlet 20, thereby uniformly distributing the exhaust gas The first hole H1 formed near the exhaust gas inlet 20 on the basis of the imaginary center line CL is formed on the far side as shown in FIG. 10, The diameter of the second hole H2 may be larger than the diameter of the second hole H2.

이는 배기가스 유입구(20)를 통해 본체(10)의 내부로 유입되는 배기가스가 소정의 유속을 가지기 때문에 상대적으로 배기가스 유입구(20)와 가까운 쪽의 1차 다공판(50) 쪽으로는 많은 양의 배기가스가 통과하지 못하는 점에서 기인된다.This is because the exhaust gas flowing into the interior of the main body 10 through the exhaust gas inlet 20 has a predetermined flow rate and therefore a relatively large amount of foreign matter is supplied toward the primary perforated plate 50 closer to the exhaust gas inlet 20 The exhaust gas can not pass through.

위와 같은 구성에 의해 제2 구멍(H2) 쪽으로 많은 양의 배기가스가 유입되더라도 자연스럽게 지름이 더 큰 제1 구멍(H1) 쪽과 제2 구멍(H2) 간에 배기가스가 통과하는 속도의 차이가 생기게 되고, 그 결과 제2 구멍(H2) 쪽에서 제1 구멍(H1) 쪽으로 배기가스의 흐름이 유도되어 전체적으로 고르게 배기가스가 통과되게 된다.Even if a large amount of exhaust gas flows into the second hole H2, a difference in the speed at which the exhaust gas passes between the first hole H1 and the second hole H2, which naturally has a larger diameter, is generated As a result, the flow of the exhaust gas is guided from the second hole (H2) toward the first hole (H1), so that the exhaust gas is evenly distributed as a whole.

위에서는 구멍(H)의 크기를 달리하는 것으로 도시되어 설명되었으나, 이와 달리 구멍(H)의 지름은 동일하게 형성되는 대신에 동일 면적 대비 구멍(H)이 형성되는 수를 달리하도록 구성될 수도 있다.The diameter of the hole H may be different from that of the hole H but may be different from the diameter of the hole H to be formed .

또 다르게는 도 11에 도시된 바와 같이 자연스럽게 배기가스가 배기가스 유입구(20) 쪽으로 흐를 수 있도록 배기가스 유입구(20)와 가까운 쪽이 상대적으로 높게 위치되고 반대로 배기가스 유입구(20)와 먼 쪽이 낮게 위치되도록 소정 각도의 기울기(A)를 가지게 설치될 수 있고, 이러한 경우에는 도 12에 도시된 바와 같이 소정 각도로 기울기(A)를 가진 상태에서 본체(10) 내부를 구획할 수 있도록 타원 모양의 1차 다공판(50')이 형성될 수 있다.11, the side closer to the exhaust gas inlet 20 is positioned relatively higher, so that the exhaust gas can flow naturally toward the exhaust gas inlet 20, and on the contrary, the side closer to the exhaust gas inlet 20 is located higher It is possible to provide a slope A having a predetermined angle such that the slope A is positioned at a predetermined angle as shown in FIG. 12. In this case, in order to divide the inside of the main body 10 with the slope A at a predetermined angle, The first perforated plate 50 'of the first embodiment can be formed.

이에 의해 배기가스 유입구(20)로 유입된 배기가스가 1차 다공판(50')의 기울기(A)에 의해 배기가스 유입구(20)와 먼 쪽에서 가까운 쪽으로 흐르면서 1차 다공판(50')에 형성된 구멍(H)을 통과하여 균일하게 분배되게 된다.As a result, the exhaust gas flowing into the exhaust gas inlet 20 flows into the primary perforated plate 50 'while flowing toward the exhaust gas inlet 20 from the side far from the exhaust gas inlet 20 by the inclination A of the primary perforated plate 50' And is uniformly distributed through the holes H formed.

상기와 같은 구성의 1, 2차 다공판(50, 60)에 의해 본체(10) 내부로 공급되는 배기가스는 1차 다공판(50)을 통과하면서 기액반응부(11)의 내부 공간상에 균일하게 분배되어 위쪽에 위치되는 제1 공급관(41) 쪽으로 흐르고, 제1 공급관(41)의 할로우콘노즐(HN)을 통해 분사되는 반응액에 의해 배기가스의 흐름이 안정화된 다음 그 위쪽에 위치되는 2차 다공판(60)을 통해 재차 배기가스가 더욱 균일하게 분배되게 된다.The exhaust gas supplied to the inside of the main body 10 by the primary and secondary perforated plates 50 and 60 having the above-described configuration passes through the primary perforated plate 50 and flows into the interior space of the gas-liquid reactive section 11 The flow of the exhaust gas is stabilized by the reaction liquid which is uniformly distributed and flows to the first supply pipe 41 located at the upper side and is injected through the hollow cone nozzle HN of the first supply pipe 41, The exhaust gas is more uniformly distributed again through the secondary perforated plate 60. [

이렇게 흐름이 안정화되어 유속이 담보됨과 동시에 균일하게 분배된 상태의 배기가스는 제2, 3 공급관(42, 43)을 통해 분배되는 미립자 상태의 반응액 분사영역을 통과하면서 효과적이면서도 빠르게 반응액과 반응하여 유해물질이 제거된 다음 제4 공급관(44)을 거쳐 배기가스 배출관(30)을 통해 배출되게 된다.The flow is stabilized so that the flow velocity is ensured and the exhaust gas in a uniformly distributed state passes through the reaction liquid injection region in the particulate state distributed through the second and third supply pipes 42 and 43 while effectively and rapidly reacting with the reaction liquid And then discharged through the exhaust gas discharge pipe 30 through the fourth supply pipe 44 after the harmful substances are removed.

한편, 기액반응부(11)에는 배기가스 배출구(30)를 통해 배기가스가 배출되기에 앞서 기액을 분리하는 필터부(70)가 더 설치될 수 있는데, 이러한 필터부(70)는 도 11 및 도 13에 도시된 바와 같이 데미스터 필터(71), 이슬유도판(72) 및 이슬유도관(73)을 포함한다.The gas-liquid reacting unit 11 may further include a filter unit 70 for separating the gas-liquid prior to exhausting the exhaust gas through the exhaust gas outlet 30, And includes a demister filter 71, a dew guide plate 72, and a dew guide pipe 73 as shown in Fig.

여기서 데미스터 필터(71)는 기액반응부(11)의 상부에 폭 방향으로 설치되어 질소산화물과 황산화물이 제거된 배기가스가 외부로 배출되기 전에 수분(반응액)과 불순물이 외부로 방출되지 않도록 차단하는 구성이다.Here, the demister filter 71 is disposed in the width direction on the upper part of the gas-liquid reaction part 11, and moisture (reaction liquid) and impurities are not emitted to the outside before the exhaust gas from which nitrogen oxides and sulfur oxides are removed is discharged to the outside .

그러나 상기 데미스터 필터(71)의 설치로 인하여 데미스터 필터(71) 하부 즉, 기액 반응이 일어나는 기액반응부(11)와 데미스터 필터(71)의 상부의 온도차가 생기게 되어 데미스터 필터(71)의 측면부에 이슬이 맺히게 되고, 기액 반응이 진행될수록 이슬의 양이 증가하여 결국 이슬이 하강하게 되어 기액 반응 효율을 떨어뜨리게 된다.However, due to the installation of the demister filter 71, a temperature difference is generated between the demister filter 71 and the upper part of the demister filter 71 where the gas-liquid reaction occurs, ). As the gas-liquid reaction progresses, the amount of dew increases and eventually the dew descends and the gas-liquid reaction efficiency is lowered.

따라서 데미스터 필터(71)의 양 하단모서리 부분에 이슬유도판(72)이 설치되고, 상기 이슬유도판(72)과 연결되어 본체(10)의 내부 측면을 따라 이슬을 배출시키는 이슬유도관(73)이 설치된다.Therefore, the dew induction plate 72 is provided at both lower corners of the demister filter 71 and the dew induction pipe 72 connected to the dew induction plate 72 to discharge dew along the inner side surface of the main body 10 73 are installed.

상기와 같은 구성에 의해 기액 반응이 활발히 일어나면 기액반응부(11)와 데미스터 필터(71)의 상부의 온도차로 인하여 데미스터 필터(71)의 측면부에 맺히는 이슬이 하강되는 동시에 데미스터필터(71)의 양 하단모서리 부분의 이슬유도판(72)으로 모이게 되고, 다시 이슬유도관(73)을 통하여 본체(10)의 내부 측면을 따라 아래쪽으로 낙하하여 반응조(12)에 수집되게 된다.When the gas-liquid reaction occurs actively, the dew formed on the side surface of the demister filter 71 is lowered due to the temperature difference between the upper part of the gas-liquid reaction part 11 and the demister filter 71, And then drops downward along the inner side surface of the main body 10 through the dew induction pipe 73 and is collected in the reaction tank 12.

이하에서는 본 발명의 고효율 습식 스크러버의 사용 예에 따라 설명한다.Hereinafter, the use of the high efficiency wet scrubber of the present invention will be described.

본 발명에 따른 고효율 습식 스크러버(1)를 사용하여 각종 발전소나 제철소 등에서 화석연료의 연소에 따라 발생되는 배기가스 중 질소산화물과 황산화물을 효과적으로 정화 처리하여 배출하고자 하는 경우에는 도 1에 도시된 바와 같이 배기가스 유입구(20)를 통해 유입된 배기가스는 본체(10)의 기액반응부(11) 하부측으로 유입되고, 기액반응부(11)의 내측 하부에 설치된 1차 다공판(50)을 통과하면서 기액반응부(11) 내부에서 균일하게 분배되어 상승되게 된다.When the high-efficiency wet scrubber 1 according to the present invention is used to effectively purify and discharge nitrogen oxides and sulfur oxides in the exhaust gas generated by combustion of fossil fuels in various power plants, steel mills, and the like, The exhaust gas flowing through the exhaust gas inlet 20 flows into the lower side of the gas-liquid reaction section 11 of the main body 10 and passes through the primary perforated plate 50 provided at the inner lower portion of the gas-liquid reaction section 11 And is uniformly distributed and elevated in the gas-liquid reaction part 11.

이렇게 1차 다공판(50)을 통과하여 상승되는 배기가스는 기액반응부(11)의 내측에 구비된 복수 개의 공급관(40)에서 분사되는 반응액에 의해 배기가스에 포함된 질소산화물과 황산화물이 제거되고, 질소산화물과 황산화물이 제거된 배기가스는 기액반응부(11)의 최상부에 설치된 데미스터 필터(71)를 거쳐 물과 불순물이 제거된 다음 상부에 연결 설치된 배출팬(31)의 흡입 작용으로 인해 배기가스 배출구(30)를 따라 외부로 배출된다.The exhaust gas, which is raised through the primary perforated plate 50 in this way, is supplied to the gas-liquid reacting section 11 by the reaction liquid injected from the plurality of supply pipes 40 provided inside the gas-liquid reacting section 11, And the exhaust gas from which nitrogen oxides and sulfur oxides have been removed is exhausted through a demister filter 71 provided at the uppermost part of the gas-liquid reaction part 11 to remove water and impurities, And is discharged to the outside along the exhaust gas outlet 30 due to the suction action.

이때, 기액 반응이 일어나는 과정에서 기액반응부(11)와 데미스터 필터(71)의 상부의 온도차가 생기게 되어 데미스터 필터(71)의 측면부에 이슬이 맺히게 되고, 이렇게 맺힌 이슬은 이슬유도판(72)에 모인 다음 이슬유도관(73)을 통해 본체(10)의 내부 측면을 따라 하래 쪽으로 낙하되어 반응조(12)에 수집된다.At this time, in the course of the gas-liquid reaction, a temperature difference is generated in the upper part of the vapor-liquid reaction part 11 and the demister filter 71, so that dew is formed on the side part of the demister filter 71, 72 and collected along the inner side surface of the main body 10 through the dew induction pipe 73 to the lower side and collected in the reaction tank 12.

그리고 기액반응부(11)에서 배기가스의 질소산화물 및 황산화물과 반응으로 생성된 염과 반응된 반응액은 반응조(12)로 낙하되어 저장된 다음 처리된다.The reaction liquid reacted with the salt generated by the reaction with the nitrogen oxides and sulfur oxides of the exhaust gas in the gas-liquid reacting section 11 is dropped into the reaction tank 12, stored and then processed.

이상 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 고효율 습식 스크러버는 본체의 내부에 링 모양으로 된 복수 개의 배관이 동심원을 이루도록 배치된 공급관이 설치되므로 원통 모양의 본체 내부에 쉽게 설치되고, 또한 본체 내부에 설치되는 1, 2차 다공판, 풀콘노즐 및 할로우콘노즐의 배치 구조로 인해 기액 반응과정에서 배기가스의 흐름이 안정화되어 배기가스의 유속과 반응성이 담보되며, 그 결과 배기가스 중에 포함된 유해물질의 제거효율이 향상됨과 동시에 사용 에너지가 절약된다.As described above, the high-efficiency wet scrubber according to the present invention is provided with a supply pipe arranged in a ring shape so as to form concentric circles in the inside of the main body, so that it is easily installed in the cylindrical main body, , The secondary perforated plate, the full condenser nozzle, and the hollow cone nozzle, the flow of the exhaust gas is stabilized in the gas-liquid reaction process to ensure the flow rate and reactivity of the exhaust gas. As a result, the removal efficiency of the harmful substances contained in the exhaust gas And the energy used is saved.

위에서는 설명의 편의를 위해 바람직한 실시예를 도시한 도면과 도면에 나타난 구성에 도면부호와 명칭을 부여하여 설명하였으나, 이는 본 발명에 따른 하나의 실시예로서 도면상에 나타난 형상과 부여된 명칭에 국한되어 그 권리범위가 해석되어서는 안 될 것이며, 발명의 설명으로부터 예측 가능한 다양한 형상으로의 변경과 동일한 작용을 하는 구성으로의 단순 치환은 통상의 기술자가 용이하게 실시하기 위해 변경 가능한 범위 내에 있음은 지극히 자명하다고 볼 것이다.Although the preferred embodiments of the present invention have been disclosed for illustrative purposes, those skilled in the art will appreciate that various modifications, additions and substitutions are possible, without departing from the scope and spirit of the invention as disclosed in the accompanying claims. It is to be understood that the scope of the present invention should not be construed as being limited only by the appended claims and should not be construed as limiting the scope of the present invention to those of ordinary skill in the art. It will be very self-evident.

1: 고효율 습식 스크러버
10: 본체 11: 기액반응부
12: 반응조 20: 배기가스 유입구
30: 배기가스 배출구 31: 배출팬
40: 공급관 41: 제1 공급관
42: 제2 공급관 43: 제3 공급관
44: 제4 공급관 50, 50': 1차 다공판
60: 2차 다공판 70: 필터
71: 데미스터 필터 72: 이슬유도판
73: 이슬유도관 A: 기울기
CL: 가상의 중심선 FN: 풀콘노즐
HN: 할로우콘노즐 H1: 제1 구멍
H2: 제2 구멍 P: 배관
P1: 제1 배관부 P2: 제2 배관부
P3: 제3 배관부 P4: 연결배관부
P5: 공급배관부 SZ: 분사영역
1: High efficiency wet scrubber
10: main body 11: gas-liquid reaction part
12: Reactor 20: Exhaust gas inlet
30: exhaust gas outlet 31: exhaust fan
40: supply pipe 41: first supply pipe
42: second supply pipe 43: third supply pipe
44: fourth supply pipe 50, 50 ': primary pressure plate
60: Secondary Perforation 70: Filter
71: demister filter 72: dew-induced plate
73: Dew condensation tube A: Tilt
CL: virtual center line FN: full-cone nozzle
HN: hollow cone nozzle H1: first hole
H2: Second hole P: Piping
P1: first piping part P2: second piping part
P3: Third piping part P4: Connection piping part
P5: Supply piping SZ: Injection area

Claims (5)

내측 상부에 형성되는 기액반응부(11)와, 내측 하부에 형성되는 반응조(12)를 포함하는 원통 모양의 본체(10);
상기 본체(10)의 측면을 관통하도록 형성되어 상기 기액반응부(11)의 하부 쪽으로 배기가스가 유입되도록 하는 배기가스 유입구(20);
상기 본체(10)의 상부에 위치되면서 상기 기액반응부(11)를 통과하여 질소산화물과 황산화물이 제거된 배기가스가 외부로 배출되도록 하는 배기가스 배출구(30);
상기 본체(10) 내부의 상기 기액반응부(11)에 위치되면서 상하로 소정 간격 이격되어 반응액을 하향 분사하는 복수 개의 공급관(40);
상기 복수 개의 공급관(40)과 상기 반응조(12) 사이에 설치되면서 상기 유입구(20)를 통해 유입되는 배기가스가 1차로 분배되어 상승되도록 하는 1차 다공판(50); 및
상기 복수 개의 공급관(40) 사이에 설치되면서 상기 1차 다공판(50)을 통과한 배기가스가 2차로 분배되어 상승되도록 하는 2차 다공판(60);
을 포함하고,
상기 복수 개의 공급관(40)은,
상기 1, 2차 다공판(50, 60) 사이에 위치되도록 설치되는 제1 공급관(41);
상기 2차 다공판(60)의 상부 쪽에 설치되는 제2 공급관(42); 및
상기 제2 공급관(42)의 상부 쪽으로 소정 간격 이격되어 설치되는 제3 공급관(43)을 포함하며,
상기 제1, 2, 3 공급관(41, 42, 43)은 각각,
소정 지름을 가지는 링 모양으로 형성되는 제1 배관부(P1);
상기 제1 배관부(P1)에 비해 상대적으로 작은 지름을 가지는 링 모양으로 형성되는 제2 배관부(P2);
상기 제2 배관부(P2)에 비해 상대적으로 작은 지름을 가지는 링 모양으로 형성되는 제3 배관부(P3);
상기 제1, 2, 3 배관부(P1, P2, P3)를 연결하여 지지하는 복수 개의 연결배관부(P4); 및
상기 제1, 2, 3 배관부(P1, P2, P3)의 일측과 연결되어 내부로 반응액을 공급하는 공급배관부(P5);
를 포함하고,
상기 제1, 2, 3 배관부(P1, P2, P3)는,
상기 복수 개의 연결배관부(P4)에 의해 서로 동심원 및 동일 평면상에 위치되어 고정되면서 하부 외측면에 소정 간격을 두고 방사상으로 복수 개의 노즐이 설치되며,
상기 제1 공급관(41)에는,
중앙 부분에 비해 상대적으로 둘레 쪽으로 반응액을 집중하여 분사하는 할로우콘노즐(HN)이 설치되고,
상기 제2, 3 공급관(42, 43)에는,
반응액을 미립화하여 전체적으로 균일하게 분사하는 풀콘노즐(FN)이 설치되며,

상기 제1, 2, 3 공급관(41, 42, 43)은,
상기 기액반응부(11)에 전체적으로 균일하게 반응액이 분사되도록 상기 노즐이 설치되는 각도를 서로 다르게 하여 설치되고,
상기 1차 다공판(50)은,
가상의 중심선(CL)을 기준으로 상기 배기가스 유입구(20)와 가까운 쪽에 형성되는 제1 구멍(H1)이 먼 쪽에 형성되는 제2 구멍(H2)에 비해 상대적으로 지름이 크게 형성되는 것을 특징으로 하는 고효율 습식 스크러버.
A cylindrical main body 10 including a gas-liquid reaction part 11 formed on an inner upper side and a reaction tank 12 formed on an inner lower side;
An exhaust gas inlet 20 formed to penetrate the side surface of the main body 10 and allowing the exhaust gas to flow into the lower portion of the gas-liquid reaction part 11;
An exhaust gas outlet 30 located above the main body 10 and passing through the gas-liquid reaction part 11 to exhaust the exhaust gas from which nitrogen oxides and sulfur oxides have been removed to the outside;
A plurality of supply pipes (40) located in the gas-liquid reaction part (11) inside the main body (10) and spaced vertically at predetermined intervals to spray the reaction liquid downward;
A primary perforated plate (50) installed between the plurality of supply pipes (40) and the reaction tank (12) so that exhaust gas flowing through the inlet (20) is distributed and elevated in a first order; And
A secondary perforated plate (60) installed between the plurality of supply pipes (40) so that exhaust gas passing through the primary perforated plate (50) is distributed and raised in a second order;
/ RTI >
The plurality of supply pipes (40)
A first supply pipe 41 installed between the first and second perforated plates 50 and 60;
A second supply pipe (42) installed on the upper side of the secondary perforated plate (60); And
And a third supply pipe (43) spaced apart from the upper side of the second supply pipe (42) by a predetermined distance,
The first, second and third supply pipes (41, 42, 43)
A first pipe portion P1 formed in a ring shape having a predetermined diameter;
A second pipe portion P2 formed into a ring shape having a relatively small diameter as compared with the first pipe portion P1;
A third pipe portion P3 formed in a ring shape having a relatively small diameter as compared with the second pipe portion P2;
A plurality of connection piping sections P4 for connecting and supporting the first, second and third piping sections P1, P2 and P3; And
A supply pipe portion P5 connected to one side of the first, second and third pipe portions P1, P2, and P3 to supply the reaction solution to the inside;
Lt; / RTI >
The first, second, and third piping sections P1, P2,
A plurality of nozzles are radially arranged at a predetermined interval on a lower outer side surface while being positioned and fixed concentrically and coplanarly with each other by the plurality of connection pipe portions P4,
In the first supply pipe 41,
A hollow cone nozzle HN for concentrating and spraying the reaction liquid in a peripheral direction relative to the central portion is provided,
In the second and third supply pipes 42 and 43,
(FN) for atomizing the reaction liquid and uniformly injecting the reaction liquid as a whole,

The first, second and third supply pipes (41, 42, 43)
And the nozzles are installed at different angles so that the reaction liquid is sprayed uniformly throughout the gas-liquid reaction part (11)
The primary perforated plate (50)
The first hole H1 formed on the side closer to the exhaust gas inlet 20 with respect to the imaginary center line CL is formed larger in diameter than the second hole H2 formed on the far side, High efficiency wet scrubber.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 제3 공급관(43)의 상부 쪽에는 소정 간격 이격되어 제4 공급관(44)이 더 설치되고,
상기 제4 공급관(44)에는,
중앙 부분에 비해 상대적으로 둘레 쪽으로 반응액을 집중시켜 분사하는 할로우콘노즐(HN)이 설치되는 것을 특징으로 하는 고효율 습식 스크러버.
The method according to claim 1,
A fourth supply pipe (44) is further provided at an upper portion of the third supply pipe (43)
In the fourth supply pipe 44,
And a hollow cone nozzle (HN) for concentrating and spraying the reaction liquid in a peripheral direction relatively to the center portion.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 1, 2차 다공판(50, 60)은,
구멍에 의해 형성되는 유로의 전체 면적이 다공판의 전체 면적 대비 40~50%가 되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 고효율 습식 스크러버.
The method according to claim 1,
The primary and secondary perforated plates (50, 60)
Wherein the total area of the flow path formed by the holes is 40 to 50% of the total area of the perforated plate.
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