KR102000204B1

KR102000204B1 - 다단 지지대 및 배치식 처리장치

Info

Publication number: KR102000204B1
Application number: KR1020180113189A
Authority: KR
Inventors: 진용
Original assignee: 주식회사 와이컴
Priority date: 2018-09-20
Filing date: 2018-09-20
Publication date: 2019-07-16

Abstract

본 발명의 실시예에 따른 다단 지지대는 링형상의 피처리물을 지지하는 다단 지지대로서, 일방향으로 연장되고, 표면에 복수의 제1 결합홈이 서로 다른 높이의 다단으로 제공된 기둥부; 및 일단부는 상기 복수의 제1 결합홈에 탈착 가능하게 결합되어, 타단부가 상기 기둥부로부터 외측방향으로 연장되어 방사상을 이루도록 상기 기둥부에 조립되는 복수의 지지막대부;를 포함할 수 있고, 서로 같은 높이의 복수의 지지막대부는 동일한 각도로 서로 이격되어 제공되며, 서로 같은 높이의 상기 복수의 지지막대부의 타단부 상에 상기 링형상의 피처리물이 지지될 수 있다.
본 발명에 실시예에 따른 배치식 처리장치는 링형상의 피처리물을 처리하는 배치식 처리장치로서, 처리 공간을 제공하는 챔버; 상기 챔버의 측벽을 따라 제공되어, 상기 처리공간에 열을 가하는 가열부; 상기 챔버의 측벽을 따라 상하로 제공된 분사 노즐을 통해 상기 처리공간에 공정가스를 분사하는 가스공급부; 상기 처리 공간 내부의 기체를 외부로 배출시키는 배기부; 상기 링형상의 피처리물을 지지하는 상기 다단 지지대;를 포함할 수 있다.

Description

다단 지지대 및 배치식 처리장치{Multi Stage Support and Batch Type Apparatus for Treatment}

본 발명은 다단 지지대 및 배치식 처리장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 링형상의 피처리물을 다단으로 적재하고 배치식 처리장치에 로딩 후 다수의 링형상의 피처리물을 처리하는 장치에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 제조장치에서 링형상의 구조물을 사용할 수 있는데, 플라즈마 처리 기법은 식각 가스를 이온화시키고, 이온화된 식각 가스를 웨이퍼 표면으로 가속시켜 식각을 수행하는데 웨이퍼를 고정시키는 기능을 하는 링형상의 구조물 예를 들면 포커스링 등에 의하여 식각 능력이 크게 좌우된다. 링형상의 구조물은 항상 플라즈마에 노출되어 플라즈마 중의 양이온에 의해 스퍼터링되어 그 표면이 식각되어진다. 따라서, 적당한 주기에 링형상의 구조물의 교체가 이뤄지지 않을 경우, 그 링형상의 구조물의 식각에 따른 식각 부산물의 양이 증가하여 식각 공정의 원활한 진행이 어려운 문제점이 발생하게 된다. 즉, 링형상의 구조물은 일정 주기를 거쳐 식각된 것을 교체해야 하고, 교체된 상기 링형상의 구조물은 그대로 전량 폐기 처분되고 있다.

이렇게 폐기 처분되는 링형상의 구조물을 처리공정을 통해 재사용함으로써 제조 원가를 낮춰 가격 경쟁력을 확보하려는 시도가 진행되고 있는 상태이다. 이를 위해 다수의 링형상의 구조물을 장입하기 위한 지지대가 요구 되고 있다. 링 형상의 구조물은 지지 면적이 넓지 않아 견고히 지지하기가 쉽지 않으며, 이를 안정적으로 지지하기 위해 지지면적을 넓혀 링 형상의 구조물의 외곽부분이 지지면과 접촉하는 형식의 지지대는 링 형상의 구조물의 바닥면적과 지지면이 접촉하는 면이 많아 처리공정시 링형상의 구조물의 전체면적에 처리공정이 진행되지 않아 품질이 저하되는 문제점 등이 있다. 또한, 다수의 링형상의 구조물을 여러 개 장입하여 처리공정을 진행할 때 처리공정이 원활히 진행될 수 있도록 다수의 링형상 구조물 사이에 적절한 공간이 제공되어져야 한다.

종래의 지지대가 처리 공정이 진행되어 영향을 받는 링형상의 구조물의 전체면적을 넓게 하기 위해 적은면적으로 링형상의 구조물을 지지하는 지지대는 링형상의 구조물을 견고히 지지할 수가 없어 링형상의 구조물이 이탈하는 문제점이 있었다. 더해서 여러 개의 링형상의 구조물이 장입된 종래의 지지대에서 링형상의 구조물을 지지하였다 하더라도 처리공정이 이루어지는 장치로 이동할 때 링형상의 구조물이 지지대에 제대로 지지되지 못하고 이탈하는 문제점이 있었다. 반대로 링형상의 구조물을 견고히 지지하기 위해 지지대의 바닥면과 접촉면적을 늘려 지지하면 처리공정이 진행되지 못하는 미처리 면적이 많아져 품질이 안좋아지는 문제점이 있었다.

공개특허공보 제10-2014-0067790호

본 발명은 링형상의 피처리물을 일정한 공간을 확보한 상태에서 여러 개 장입하기 위한 다단 지지대를 제공하는 것이다.

본 발명은 다수의 링형상 피처리물이 여러 개 장입된 다단 지지대를 지지하면서 동시에 처리공정이 수행될 수 있는 배치식 처리장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 실시예에 따른 다단 지지대는 링형상의 피처리물을 지지하는 다단 지지대로서, 일방향으로 연장되고, 표면에 복수의 제1 결합홈이 서로 다른 높이의 다단으로 제공된 기둥부; 및 일단부는 상기 복수의 제1 결합홈에 탈착 가능하게 결합되어, 타단부가 상기 기둥부로부터 외측방향으로 연장되어 방사상을 이루도록 상기 기둥부에 조립되는 복수의 지지막대부;를 포함할 수 있고, 서로 같은 높이의 복수의 지지막대부는 동일한 각도로 서로 이격되어 제공되며, 서로 같은 높이의 상기 복수의 지지막대부의 타단부 상에 상기 링형상의 피처리물이 지지될 수 있다.

상기 복수의 지지막대부 각각은 상기 타단부의 상부면에 제공된 제2 결합홈; 및 상기 제2 결합홈에 삽입되고 상단부가 첨단형태인 지지팁을 포함할 수 있고, 상기 지지팁은 상기 링형상의 피처리물을 접촉하여 지지할 수 있다.

상기 복수의 지지막대부 각각은 상부면에 제공된 단차부를 포함할 수 있으며, 상기 일단부 측의 두께가 상기 타단부 측의 두께보다 두꺼울 수 있다.

상기 일단부는 측벽이 부분적으로 평면을 이루는 돌기부를 포함할 수 있으며, 상기 돌기부가 상기 제1 결합홈에 삽입되어 결합될 수 있다.

본 발명에 실시예에 따른 배치식 처리장치는 링형상의 피처리물을 처리하는 배치식 처리장치로서, 처리 공간을 제공하는 챔버; 상기 챔버의 측벽을 따라 제공되어, 상기 처리공간에 열을 가하는 가열부; 상기 챔버의 측벽을 따라 상하로 제공된 분사 노즐을 통해 상기 처리공간에 공정가스를 분사하는 가스공급부; 상기 처리 공간 내부의 기체를 외부로 배출시키는 배기부; 상기 링형상의 피처리물을 지지하는 상기 다단 지지대;를 포함할 수 있다.

상기 다단 지지대를 지지하고, 상기 챔버의 하단부와 접촉하여 상기 챔버를 밀폐시키는 밀폐부; 상기 밀폐부를 상하 방향으로 이동이 가능하게 하는 승강부; 상기 챔버를 그 설치장소의 바닥면으로부터 이격되도록 상기 챔버의 하단부를 지지하여, 상기 챔버 하단부와 그 설치장소의 바닥면 사이의 이격공간을 형성하도록 그 설치장소의 바닥면으로부터 이격되게 상기 챔버를 지지하는 챔버 지지프레임;을 더 포함할 수 있고, 상기 다단 지지대를 지지하는 밀폐부가 상기 승강부에 의해 상기 이격공간으로 하강하면 상기 링형상의 피처리물을 상기 다단 지지대에 로딩할 수 있다.

상기 챔버는 하단부에 개구부를 포함할 수 있다. 상기 밀폐부는, 상기 챔버 하단부의 개구부를 덮는 시일 캡; 및 상기 시일 캡을 지지하며, 상기 승강부와 연결되는 베이스 플레이트;를 포함할 수 있다.

상기 베이스 플레이트는 외곽 부분에 관통홀이 복수개 제공되고, 상기 복수의 관통홀 각각은 내부면에 형성된 제1 나사산을 포함하며, 상기 승강부는, 구동력을 발생시키는 모터부; 외부면의 적어도 일부에 제2 나사산이 형성되고, 상기 복수의 관통홀에 각각 삽입되어 상기 제2 나사산과 상기 제1 나사산이 연결되는 복수의 회전축; 상기 복수의 회전축을 연결하는 구동벨트;를 포함하고, 상기 모터부에서 발생되는 구동력을 상기 구동벨트가 상기 복수의 회전축으로 전달하고, 상기 복수의 회전축이 서로 연동하여 회전됨으로써 상기 밀폐부가 상하 방향으로 이동이 가능할 수 있다.

대기압 상태가 유지되는 상기 이격공간에서 상기 링형상의 피처리물이 상기 다단 지지대에 로딩될 수 있다.

상기 분사노즐은 서로 다른 높이의 단으로 제공되며, 동일한 각도를 이루며 서로 이격되어 방사상으로 복수개가 제공될 수 있다.

상기 공정가스는 각 단마다 위치한 복수의 분사노즐 중 위에서 바라보았을 때 그 위치가 상이하도록 선택된 각 단의 분사노즐을 통해 분사될 수 있다.

상기 링형상의 피처리물이 탄화규소로 이루어지고, 상기 기둥부 및 지지막대부는 그라파이트로 이루어 질 수 있다.

본 발명에 일실시예에 따른 다단 지지대는 다수의 링형상의 피처리물을 지지하고 링형상의 피처리물간에 일정공간을 확보하여 처리공정이 원활히 진행되면서도 최대한 많은 링형상의 피처리물이 장입될 수 있도록 할 수 있다.

또한, 지지막대부의 지지팁은 링형상의 피처리물을 최소한의 접촉면적으로 지지하여 링형상의 피처리물의 전체 표면 면적이 처리공정에 의해 영향을 받을 수 있도록 할 수 있다.

더해서 기둥부에 제공된 복수의 제1 결합홈에 복수의 지지막대부의 일단부가 방사상으로 결합하여 조립할 때 복수의 지지막대부 각각은 일단부의 측벽에 돌기가 형성되어 있어 이 돌기에 의해 안정적으로 결합되어 회전되지 않고 기둥부에 단단히 고정됨으로써 링형상의 피처리물이 안정적으로 지지되도록 할 수 있다.

한편, 본 발명의 일실시예에 따른 배치식 처리장치는 다수의 링형상의 피처리물이 장입된 다단 지지대가 로딩되어 처리공정을 통해 다수의 링형상의 피처리물을 처리할 수 있는 장치이다.

즉, 링형상의 피처리물을 다단 지지대에 여러 개 장입을 하고 이를 처리장치로 이동 시 다단 지지대를 지지하는 밀폐부가 승강부에 의해 상하로 이동하게 되는데, 상하로만 이동하게 되므로 상하로 흔들림이 있더라도 첨단형태인 지지막대부의 지지팁 상에 제공되어 있는 링형상의 피처리물이 지지팁에 의해 지지됨으로써 지지팁으로부터 이탈되는 경우가 적어지므로 안정적으로 장입하거나 장입한것을 제거하는 작업의 진행이 가능해진다.

또한, 승강부는 다수의 회전축이 하나의 벨트로 연결되어 동시에 회전하므로 좌우로 치우침이 없고 기울지 않게 승하강이 가능하여, 다수의 링형상의 피처리물이 장입된 다단지지대의 무게가 무거울지라도 첨단형태인 지지막대부의 지지팁 상에 제공된 다수의 링형상의 피처리물이 안정적으로 지지되면서 상하 방향으로 이동이 가능하게 되어 링형상의 피처리물의 이탈 가능성이 줄어들게 된다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 다단 지지대가 링형상의 피처리물을 지지하는 모습을 나타내는 도면.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 배치식 처리장치를 나타낸 단면도.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 승강부를 나타낸 저면도.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 처리공정시 공정가스가 분사되는 가스공급부의 분사노즐의 위치를 나타낸 도면.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 더욱 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 설명 중, 동일 구성에 대해서는 동일한 참조부호를 부여하도록 하고, 도면은 본 발명의 실시예를 정확히 설명하기 위하여 크기가 부분적으로 과장될 수 있으며, 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 다단 지지대(100)가 링형상의 피처리물(10)을 지지하는 모습을 나타내는 도면이다.

도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 다단 지지대(100)는 링형상의 피처리물(10)을 지지하는 다단 지지대(100)로서, 일방향으로 연장되고, 표면에 복수의 제1 결합홈(121)이 서로 다른 높이의 다단으로 제공된 기둥부(120); 및 일단부는 상기 복수의 제1 결합홈(121)에 탈착 가능하게 결합되어, 타단부가 상기 기둥부(120)로부터 외측방향으로 연장되어 방사상을 이루도록 상기 기둥부(120)에 조립되는 복수의 지지막대부(110);를 포함할 수 있고, 서로 같은 높이의 복수의 지지막대부(110)는 동일한 각도로 서로 이격되어 제공되며, 서로 같은 높이의 상기 복수의 지지막대부(110)의 타단부 상에 상기 링형상의 피처리물(10)이 지지될 수 있다.

기둥부(120)는 표면에 복수의 제1 결합홈(121)이 서로 다른 높이의 다단으로 제공될 수 있다. 또한, 기둥부(120)는 다각형 모양일 수 있고 각 면마다 복수의 제1 결합홈(121)이 다단으로 제공될 수 있다.

지지막대부(110)는 상기 기둥부(120)의 제1 결합홈(121)에 결합할 수 있는데 제1 결합홈(121)에 결합하는 부분인 일단부는 제1 결합홈(121)에 탈착이 가능하게 결합되며, 제1 결합홈(121)에 결합되지 않고 기둥부(120)로부터 외측방향으로 연장된 타단부는 기둥부(120)에 연결된 복수의 지지막대부(110)와 함께 방사상을 이루며 조립된다. 이 때 서로 같은 높이의 복수의 지지막대부(110)를 결합한 후 링형상의 피처리물(10)을 서로 같은 높이의 복수의 지지막대부(110) 각각의 타단부 상에 제공하여 링형상의 피처리물(10)을 지지시킬 수 있다.

기둥부(120)의 하단부에 제공된 같은 높이의 제1 결합홈(121)에 복수의 지지막대부(110)가 결합한 후 타단부 상에 링형상의 피처리물(10)을 제공하고, 이미 결합이 완료된 같은 높이의 복수의 지지막대부(110)가 아닌 그 보다 높은위치에 해당하는 복수의 제1 결합홈(121)에 복수의 지지막대부(110)를 결합한 후 각각의 타단부에 링형상의 피처리물(10)을 제공하는 과정을 반복하여 원하는 매수의 링형상의 피처리물(10)을 각 단마다 다단 지지대(100)에 장입 시킬 수 있다. 이 과정을 기둥부(120) 하단부부터 시작하여 높이가 높은 방향으로 진행할 수 있다. 이 때 장입되는 링형상의 피처리물(10)의 중심부에 기둥부(120)가 위치하도록 서로 같은 높이의 지지막대부(110)의 타단부에 제공 할 수 있다. 더해서 링형상의 피처리물 간에 공간이 충분히 확보 되도록 기둥부(120)에 복수의 지지막대부(110)를 높이를 달리하여 결합할 수 있다.

또한, 같은 높이의 복수의 지지막대부(110)는 각각의 일단부가 제1 결합홈(121)에 결합할 때 좌우로 인접한 지지막대부(110)와 서로 동일한 각도를 이루면서 이격되게 결합될 수 있다. 더해서 같은 높이의 복수의 지지막대부(110)가 다각형인 기둥부(120)의 다수의 제1 결합홈(121)에 결합할 때 적어도 3개 이상이 결합 될 수 있다. 이는 링형상의 피처리물(10)을 지지할 때 2개 이하로 지지하게 되면 링형상의 피처리물(10)이 견고히 지지되지 않기 때문이다.

한편, 다각형인 기둥부(120)의 각 단마다 복수의 지지막대부(110)를 복수의 제1 결합홈(121)에 결합하여 조립할 때 서로 같은 높이의 복수의 지지막대부(110)는 인접한 높이에 위치한 서로 같은 높이의 복수의 지지막대부(110)와는 같은 위치가 아닌 교차된 모양인 지그재그 형태로 결합하여 후에 탈착할 때 탈착이 용이하게 할 수 있으며, 이렇게 교차된 형태로 조립 함으로써 링형상의 피처리물(10) 사이에 공간이 확보되어 후술할 처리공정 중 링형상의 피처리물(10)이 전체면적에 고르게 처리공정이 진행 될 수 있게 된다. 또한, 상기 기둥부(120)를 기준으로 대칭이 되게 복수의 지지막대부(110)를 결합하여 조립 할 수 있다.

상기 복수의 지지막대부(110) 각각은 상기 타단부의 상부면에 제공된 제2 결합홈(미도시); 및 상기 제2 결합홈(미도시)에 삽입되고 상단부가 첨단형태인 지지팁(111)을 포함할 수 있고, 상기 지지팁(111)은 상기 링형상의 피처리물(10)을 접촉하여 지지할 수 있다.

도 1(a)를 참조하면, 복수의 지지막대부(110) 각각은 타단부에 제2 결합홈(미도시)이 제공되어 있다. 모양은 한정되지 않으나 본 발명의 실시예에서는 원형일 수 있다. 제2 결합홈(미도시)에 상단부가 첨단형태인 지지팁(111)이 제2 결합홈(미도시)에 삽입되어 고정될 수 있고, 첨단형태의 지지팁(111) 상에 링형상의 피처리물(10)이 접촉되어 링형상의 피처리물(10)을 최소한의 면적으로 접촉하여 지지할 수 있다. 이는 후술할 처리공정에서 링형상의 피처리물(10)의 전체면적이 처리공정에서 일어나는 반응에 참여하게 할 수 있다. 또한, 지지팁(111)에 링형상의 피처리물(10)을 제공할 때 외경과 내경사이의 위치에 지지팁(111)이 위치하도록 함으로써 보다 지지하는게 바람직하다. 이는 링형상의 피처리물(10)이 안정적으로 지지팁(111) 상에 위치하기 위함이다.

상기 복수의 지지막대부(110) 각각은 상부면에 제공된 단차부(112)를 포함할 수 있으며, 상기 일단부 측의 두께가 상기 타단부 측의 두께보다 두꺼울 수 있다.

본 발명의 실시예에 따른 복수의 지지막대부(110) 상부면에 제공된 단차부(112)가 형성 될 수 있다. 이렇게 단차부가 형성됨으로써 복수의 지지막대부(110) 각각의 일단부 측의 두께가 타단부 측의 두께보다 두꺼워 지는 결과가 될 수 있다. 일단부 측의 두께가 두꺼워 기둥부(120)에 연결된 지지막대부가 안정적으로 흔들림 없이 기둥부(120)에 결합될 수 있다. 또한, 타단부의 두께가 상대적으로 얇아 후술할 공정가스가 유동할 수 있는 공간이 확보되어 처리공정이 원활히 일어날 수 있다. 더해서 위와 같이 단차부(112)를 둠으로써 기둥부(120)에 복수의 지지막대부(110)가 결합될 때 각각의 단에 상하로 인접한 복수의 지지막대부(110)가 최적화된 높이로 밀접하게 결합 될 수 있어 동일 공간내에 많은 링형상의 피처리물(10)이 적재될 수 있게 된다. 이 최적화된 거리는 다수의 링형상의 피처리물(10)이 적재가 된 다단 지지대(100)의 각단마다 인접한 링형상의 피처리물(10)의 방해받지 않고 후술할 처리공정이 가능한 원활할 공간을 제공할 수 있는 정도의 거리일 수 있다.

상기 일단부는 측벽이 부분적으로 평면을 이루는 돌기부(113)를 포함할 수 있으며, 상기 돌기부(113)가 상기 제1 결합홈(121)에 삽입되어 결합될 수 있다.

복수의 지지막대부(110) 각각의 일단부 측면이 부분적으로 평면을 이루는 형태의 돌기부(113)는 기둥부(120)의 제1 결합홈(121)에 삽일될 때 한번에 삽입되기가 용이할 수 있으며, 제1 결합홈(121)에 삽입 됨으로써 지지막대부(110)가 회전이 일어나지 않게하거나 흔들림이 없게하여 링형상의 피처리물(10)이 안정적으로 지지될 수 있도록 한다. 본 발명의 실시예에서는 이 돌기부(113)는 다각형 모양일 수 있으며 바람직하게는 사각형 모양일 수 있다.

이렇게 본 발명의 다단 지지대와는 달리 종래의 배치식 지지대는 링형상의 피처리물(10)을 장입할 때 링형상의 피처리물(10)의 외곽부분의 많은 면적이 접촉되었고 공정가스가 배치식 지지대의 구조 때문에 링형상의 피처리물(10)의 외곽부분에 균일하게 공정가스가 확산이 되지 않는 문제점 등이 있는데 이 상태로 증착공정을 진행하면 링형상의 피처리물(10)의 외곽부분의 표면과 하부면에 고르게 탄화규소 등이 증착하지 못하는 문제점이 있었다. 또한, 링형상의 피처리물(10)은 지지면적이 좁기 때문에 안정적으로 지지하는 것은 어려움이 있었다.

하지만 본 발명은 종래의 배치식 지지대와는 달리 링형상의 피처리물(10)의 외곽부분에 구조물이 존재하지 않음으로써 후술할 증착공정을 통해 링형상의 피처리물(10) 전체면적 상에 공정가스가 고르게 분사되어 처리공정이 진행 될 수 있고, 또한 지지팁(111)을 이용하여 최소한의 면적으로 링형상의 피처리물(10)을 지지함으로써 전체 면적 상에 탄화규소 등을 증착할 수 있는 장점이 있으며, 복수의 지지막대부(110)가 기둥부(120)에 견고하게 결합됨으로써 안정적으로 링형상의 피처리물(10)이 흔들림 없이 지지할 수가 있다.

도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 배치식 처리장치를 나타낸 단면도이다.

도 2를 참조하면, 본 발명에 실시예에 따른 배치식 처리장치는 링형상의 피처리물(10)을 처리하는 배치식 처리장치로서, 처리 공간을 제공하는 챔버(200); 상기 챔버(200)의 측벽을 따라 제공되어, 상기 처리공간에 열을 가하는 가열부(300); 상기 챔버(200)의 측벽을 따라 상하로 제공된 분사 노즐을 통해 상기 처리공간에 공정가스를 분사하는 가스공급부(400); 상기 처리 공간 내부의 기체를 외부로 배출시키는 배기부(500); 상기 링형상의 피처리물(10)을 지지하는 상기 다단 지지대(100);를 포함할 수 있다. 이 때, 다단 지지대(100)는 앞서 살펴본 본 발명의 일 실시예에 따른 다단 지지대(100)이다.

다단 지지대(100)는 첨단형태의 지지팁(111) 상에도 다수의 링형상의 피처리물(10)이 안정적으로 장입될 수 있으며, 링형상의 피처리물(10) 사이에 최적의 공간을 확보하여 처리공정이 진행될 수 있는 공간을 확보하면서도 최대한 많은 링형상의 피처리물(10)이 장입될 수 있다.

챔버(200)는 상기 다단 지지대(100)가 수용될 수 있는 수용 공간이 형성되어 있고, 상술한 링형상의 피처리물(10)의 처리공정이 진행되는 처리공간을 제공한다. 챔버(200)는 원통 형태로 형성 될 수 있으며 외부와는 독립된 공간을 만들어 에너지가 밖으로 빠져나가지 않게 한다. 또한, 상술한 처리공정이 하나의 챔버(200)에서 인시츄(in-situ) 공정을 통해 진행 될 수 있다.

가열부(300)는 챔버(200)의 측벽을 따라 제공되며 처리공정이 일어나는 공간에 열을 공급하여 챔버(200)내 온도를 상승시킬 수 있다. 또한, 처리공정 중 표면이 손상된 링형상의 피처리물(10)을 열처리 공정을 통해 재생시킬 때 필요한 열을 제공하여 열처리 공정이 필요한 처리공간 내에 온도를 조절할 수 있게 된다.

가스공급부(400)는 처리공정 중 고온으로 열처리하는 공정과 화학 기상 증착법을 이용한 증착공정에 필요한 공정가스를 분사노즐(401)을 통해 공급할 수 있다. 고온으로 열처리하는 공정에서는 환원성 가스인 예를들면 수소기체 등을 챔버(200) 내부로 주입할 수 있다. 또한, 화학 기상 증착법을 이용한 증착공정에서는 탄화규소를 증착하기 위한 탄화규소 원료 등의 공정가스를 분사 노즐을 통해 챔버(200)내 처리공간으로 공급할 수 있다.

배기부(500)는 챔버(200)내 공간을 진공으로 만들기 위해 챔버(200) 내부의 기체를 외부로 배출 시킬 수 있고 또한, 고온 열처리하는 공정과 탄화규소를 증착하는 공정을 통해 생성된 공정 잔류물을 챔버(200) 외부로 배출 시킬 수도 있다. 배기부(500)는 진공으로 내부 공기를 외부로 배출시키는 진공 배기부(500) 일 수 있다.

또한, 배치식 처리장치는 회전부(800)를 포함 할 수 있다. 회전부(800)는 챔버(200) 하단부에 형성되어 다단 지지대(100)의 기둥부(120)와 연결되 다단 지지대(100)를 챔버(200) 내 처리공간에서 회전시킬 수 있다. 이렇게 다단 지지대(100)가 회전을 함으로써 공정가스가 링형상의 피처리물(10)에 고르게 분사가 될 수 있기 때문에 다단 지지대(100)에 장입되어 있는 링형상의 피처리물(10) 전체에 고르게 처리공정이 진행 될 수 있다.

처리 공정은 링형상의 피처리물(10)을 처리할 수 있는 공정으로써 열처리 공정, 화학적 기상 증착법을 이용한 증착 공정 또는 손상된 링형상의 피처리물을 재생하는 공정 중 탄화규소로 이루어진 포커스링 등을 재생하는 공정 등도 포함 될 수 있다. 그 중 손상된 링형상의 피처리물을 재생하는 공정은 화학적 기상 증착법을 이용한 처리 공정은 수소 또는 실리콘 중 적어도 어느 하나가 포함된 상기 공정가스를 이용하여 상기 링형상의 피처리물(10) 상에 탄화규소를 증착할 수 있다. 본 발명에 실시예에 따른 배치식 처리장치는 고온으로 열처리하는 공정과 화학 기상 증착법을 이용한 증착공정을 포함하는 처리공정을 진행하여 손상된 링형상의 피처리물을 재생할 수 있다. 이 중 고온으로 열처리 하는 공정은 챔버(200) 내에 손상된 탄화규소 재질일 수 있는 링형상의 피처리물(10)을을 제공하고, 환원성 기체인 수소 등을 주입하여 환원성 분위기에서 고온으로 열처리하는 과정을 진행할 수 있는데, 이 고온으로 열처리하는 과정을 진행함으로써 링형상의 피처리물(10)의 표면에 남아있는 SiO₂와 같은 산화막이 환원성 기체와 반응하여 환원되고, 산화막이 환원된 실리콘 또는 탄화규소 제품 내에 존재하는 실리콘 및 탄소들이 상호확산되어 재정렬이 될 수 있다. 이로 인해 α-탄화규소 결정상(Hexagonal structure)과 플라즈마 식각에 의해 생긴 표면 결함 등이 제거될 수 있고, 표면 거칠기가 완화될 수 있으며, β-탄화규소 결정상(Cubic structure)의 (200)면이 상대적으로 우선배향 될 수 있다. 우선배향된 β-탄화규소 결정상의 (200)면이 탄화규소 제품의 표면에 제공되고, 처리공정 중 화학 기상 증착법으로 탄화규소층을 증착시 고온 열처리된 탄화규소 제품의 표면에 우선배향된 β-탄화규소 결정상의(200)면을 따라 (200)면이 우선성장 될 수 있다.

또한, 탄화규소를 증착하는 공정을 진행시 고온 열처리하는 과정을 통해 β-탄화규소 결정상의 (200)면이 상대적으로 우선배향된 탄화규소 제품은 β-탄화규소 결정상의 (200)면을 따라 비교적 짧은 시간안에 다른 β-탄화규소 결정상보다 빠른속도로 탄화규소층을 증착할 수 있는데 이 처리공정 중 실리콘 또는 수소 중 적어도 1개 이상이 포함된 공정가스를 주입하여 링형상의 피처리물(10) 상에 탄화규소를 증착하는 공정을 진행할 수 있다. 예를 들어, 화학적 기상 증착법(CVD)을 이용하여 50Torr 내지 760Torr 등의 공정압력 범위에서 링형상의 피처리물(10) 상에 탄화규소층을 증착함으로써 우수한 특성을 가지면서도 신속하고 효율적으로 손상된 탄화규소 재질인 링형상의 피처리물(10)을 재생할 수 있다. 앞서 살펴본 바와 같이 지지막대부(110) 상부면에 단차부(112)를 형성함으로써 링형상의 피처리물(10)간에 공간이 형성되어 공정가스가 안쪽까지 유동이 될 수 있는 공간이 마련된다. 한편, 고진공에서 처리공정을 진행하면 가스 분자들 사이에 충돌거리가 길어서 다단 지지대의 안쪽까지 공정가스가 유동이 될 수 있으나, 압력범위가 50Torr 내지 760Torr등의 비교적 낮은 진공에서 처리공정을 진행시 처리가스 간에 충돌거리가 짧아 다단 지지대 안쪽까지 처리가스가 도달하지 못 할 수도 있게 된다. 이를 방지하기 위해 앞에서 살펴 봤듯이 지지막대부(110) 상부면에 단차부(112)를 두어 링형상의 피처리물(10)간에 적절한 거리를 두게 하여 처리가스가 다단 지지대 안쪽까지 유동이 될 수 있도록 지지막대부(110)의 단차부(112)가 더 필요하게 된다.

상기 다단 지지대(100)를 지지하고, 상기 챔버(200)의 하단부와 접촉하여 상기 챔버(200)를 밀폐시키는 밀폐부(600); 상기 밀폐부(600)를 상하 방향으로 이동이 가능하게 하는 승강부(700); 상기 챔버(200)를 그 설치장소의 바닥면으로부터 이격되도록 상기 챔버(200)의 하단부를 지지하여, 상기 챔버(200) 하단부와 그 설치장소의 바닥면 사이의 이격공간을 형성하는 챔버 지지프레임(220);을 더 포함할 수 있고, 상기 다단 지지대(100)를 지지하는 밀폐부(600)가 상기 승강부(700)에 의해 상기 이격공간으로 하강하면 상기 링형상의 피처리물(10)을 상기 다단 지지대(100)에 로딩할 수 있다.

챔버(200)는 챔버(200)의 하단부에 개구부(210)가 형성 될 수 있는데 바람직한 개구부(210)의 형태는 원형일 수 있다. 이 개구부(210)를 통해 밀폐부(600)에 의해 지지되는 다단 지지대(100)가 챔버(200) 내부로 로딩 될 수 있고 챔버(200) 외부로 언로딩 될 수도 있다.

밀폐부(600)는 다단 지지대(100)를 하부에서 지지하며 챔버(200) 하단부와 접촉함으로써 챔버(200)의 개구부(210)로 인해 밀폐가 되지 않던 챔버(200) 내 처리공간을 외부로부터 밀폐시키는 역할을 수행 할 수 있다.

승강부(700)는 밀폐부(600)를 상하로 이동시킬 수 있으며 이로 인해 밀폐부(600)가 상승하여 챔버(200) 하단부와 접촉함으로써 챔버(200)내 처리공간을 외부로부터 밀폐시킬 수 있게 된다.

챔버 지지프레임(220)은 챔버(200)의 하단부를 지지할 수 있는 지지대 역할로써 챔버(200)를 챔버(200)가 설치된 설치장소의 바닥면으로부터 챔버를 이격시켜 지지함으로써 이격공간을 형성할 수 있다. 이 이격공간을 통해 승강부(700)가 밀폐부(600)를 상하로 이동시킬 수 있는 공간을 제공하며, 승강부(700)에 의해 밀폐부(600)가 상하로 이동이 됨으로써 밀폐부(600)에 의해 지지되는 다단 지지대(100)도 상하로 이동이 가능하게 될 수 있다. 승강부(700)에 의해 밀폐부(600)가 하강하여 다단 지지대(100)가 챔버(200) 외부로 언로딩 되어 있는 상태가 되면 링형상의 피처리물(10)을 이 이격공간에서 로딩 또는 언로딩을 진행할 수 있게된다.

일반적으로 처리장치에 링형상의 피처리물(10)이 장입된 지지대를 로딩할 때 외부공간에서 링형상의 피처리물(10)을 지지대에 장입을 한 후 좌우로 수평 이동하고 처리공정이 진행되는 처리장치까지 수직 이동하여 처리장치에 로딩하는 방식인데 이렇게 좌우로 지지대를 움직이게 되면 첨단 형태의 지지팁에 제공된 링형상의 피처리물(10)이 지지대가 이동함에 따라 지지팁으로 부터 이탈될 수 있고 또한 지지대가 움직임에 따라 지지대가 기울어져 링형상의 피처리물(10)이 이탈 될 수도 있다. 하지만 본 발명의 실시예에 따른 배치식 처리장치는 밀폐부(600) 상에 다단 지지대(100)가 제공되고 승강부(700)에 의해 상하로만 이동이 된다. 이렇게 상하로만 이동이 됨으로써 좌우로 이동할 때보다 다단 지지대(100)의 첨단형태인 지지팁(111) 상에 제공되어 최소 면적으로 링형상의 피처리물(10)을 지지하여도 링형상의 피처리물(10)이 이탈이 방지가 될 수 있다.

상기 챔버(200)는 하단부에 개구부(210)를 포함할 수 있다. 상기 밀폐부(600)는, 상기 챔버(200) 하단부의 개구부(210)를 덮는 시일 캡(seal cap)(610); 및 상기 시일 캡(seal cap)(610)을 지지하며, 상기 승강부(700)와 연결되는 베이스 플레이트(620);를 포함할 수 있다.

밀폐부(600)의 시일 캡(seal cap)(610)은 상기 챔버(200) 하단부와 접촉하여 챔버(200) 하단부에 형성된 개구부(210)를 덮음으로써 챔버(200) 내 처리공간을 외부로 부터 밀폐시킬 수 있다. 시일 캡(seal cap)(610)은 다단 지지대(100)를 하부에서 지지하며 시일 캡(seal cap)(610)과 챔버(200) 하단부 사이에 오링 형태의 밀폐부재(630)가 더 포함될 수 있다. 또한, 시일 캡(seal cap)(610)은 챔버(200) 하단부의 개구부(210) 보다는 그 폭이 커야 한다.

밀폐부(600)의 베이스 플레이트(620)는 시일 캡(seal cap)(610) 하부에서 시일 캡(seal cap)(610)을 지지하며, 승강부(700)와 연결되어 승강부(700)에 의해 실질적으로 이 베이스 플레이트(620)가 상하 방향으로 이동하면서 시일 캡(seal cap)(610)을 포함한 밀폐부(600)가 상하 방향으로 이동이 가능하게 된다.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 승강부(700)를 나타낸 저면도이다.

도 3을 참조하면, 상기 베이스 플레이트는 외곽 부분에 관통홀이 복수개 제공되고, 상기 복수의 관통홀 각각은 내부면에 형성된 제1 나사산을 포함하며, 상기 승강부(700)는, 구동력을 발생시키는 모터부; 외부면의 적어도 일부에 제2 나사산이 형성되고, 상기 복수의 관통홀에 각각 삽입되어 상기 제2 나사산과 상기 제1 나사산이 연결되는 복수의 회전축; 상기 복수의 회전축을 연결하는 구동벨트;를 포함하고, 상기 모터부에서 발생되는 구동력을 상기 구동벨트가 상기 복수의 회전축으로 전달하고, 상기 복수의 회전축이 서로 연동하여 회전됨으로써 상기 밀폐부(600)가 상하 방향으로 이동이 가능할 수 있다.

밀폐부(600)의 베이스 플레이트(620) 외곽부분에는 복수개의 관통홀이 제공 될 수 있는데 이는 시일 캡(seal cap)(610) 상에 있는 다단 지지대(100)가 제공되기 때문이다. 이렇게 외곽부분에 관통홀이 존재함으로써 회전축(710)과 연결될 때 다단 지지대(100)가 있을 공간이 존재하며 밀폐부(600)가 승강부(700)에 의해 이격공간으로 하강 할때 링형상의 피처리물(10)을 로딩하거나 언로딩 할 수 있는 공간이 확보 되기 때문이다. 본 발명의 실시예에서는 베이스 플레이트(620)가 네모판 형태일때 가장자리 부분인 모서리 부분에 각각 관통홀이 제공될 수 있다. 각각의 관통홀 내부면에는 제1 나사산이 형성될 수 있다.

회전축(710)은 기둥형태로써 복수개일 수 있다. 복수개의 회전축(710)은 베이스 플레이트(620)에 제공된 관통홀에 각각 체결되게 된다. 복수개의 회전축(710) 각각의 외부면에는 제1 나사산과 맞물리는 제2 나사산이 형성될 수 있다. 회전축(710)은 밀폐부(600)가 승강부(700)에 의해 상하 방향으로 이동 시 원하는 성능을 나타내기 위해 적절한 길이로 제공 되어야 한다. 길이가 너무 짧아진다면 이격 공간으로 밀폐부(600)가 하강시 다단 지지대(100)에 링형상의 피처리물(10)을 로딩하거나 언로딩하는 공간이 확보되지 못하게 될 수 있다. 또한, 회전축(710)은 일정한 길이로 고정되어 있는 상태로 회전을 할 수 있다.

본 발명에 따른 실시예의 구동벨트(720)는 체인과 같은 벨트형태로써 회전축(710)을 하나의 구동벨트(720)로 연결하여 구동벨트(720)가 움직인다면 회전축(710) 전체가 구동벨트(720)의 움직임에 따라 회전을 할 수 있게된다. 한편, 하나의 벨트가 아닌 복수개의 벨트를 이용하여 회전축(710)을 회전 시킬 수도 있다.

모터부(730)는 구동벨트(720)와 연결되어 모터부(730)가 회전을 통해 구동력을 발생시키면 이 발생된 구동력을 구동벨트(720)가 전달받아 구동벨트(720)가 움직이게 된다. 구동벨트(720)가 움직이게 됨으로써 하나의 구동벨트(720)에 연결된 회전축(710)이 이와 연동되어 회전할 수 있게된다.

모터부(730)에서 생성된 구동력을 구동벨트(720)가 전달받아 회전축(710)으로 전달하게 되면 회전축(710)이 회전함으로써 밀폐부(600)가 상하로 이동이 가능하게 된다. 자세히 알아보면 베이스 플레이트(620)에 형성된 관통홀의 내부면에는 제1 나사산이 형성되어 있고, 외부면에 제2 나사산이 형성된 회전축(710)이 서로 맞물려 체결되어 있다. 일정한 길이로 고정되어 있는 회전축(710)이 회전함으로써 베이스 플레이트(620)가 회전방향에 따라 상하 방향으로 연동되어 이동이 될 수 있다. 밀폐부(600)가 상승하여 윗 방향으로 이동하면 시일 캡(seal cap)(610)이 챔버(200) 하단부와 접촉하여 챔버(200) 내 처리공간을 밀폐시킬 수 있고, 밀폐부(600)가 하강하여 아래 방향으로 이동이 되면 챔버(200) 하단에 이격공간으로 이동하여 밀폐부(600) 상에 제공되어 있는 다단 지지대(100)에 장입되어 있는 링형상의 피처리물(10)을 언로딩 할 수 있으며 다시 링형상의 피처리물(10)을 로딩할 수 있다.

또한, 다수의 링형상의 피처리물(10)이 장입된 다단 지지대(100)는 그 무게가 많이 나가게 되므로 이 무게를 지탱하면서 안정적으로 이 다단 지지대(100)를 움직일 수 있어야 한다. 또한, 이렇게 무게가 많이 나가는 다단 지지대(100)를 상하 방향으로 이동 시킬 때 어느 한쪽으로 치우침 없이 수평을 유지하며 상하 방향으로 이동이 가능해야 한다. 종래의 승강부(700)는 챔버 외부에서 하나의 로드로 지지대를 상하 방향으로 이동 시키는데 위와 같이 다수의 링형상의 피처리물(10)이 장입되면 그 무게를 버티지 못하고 좌우로 치우치며 상하방향으로 이동하거나 그 무게를 버티지 못할 수가 있다. 이렇게 되면 지지대 상에 제공된 링형상의 피처리물(10)이 지지팁으로 부터 이탈될 확률이 증가하게 된다. 하지만 본 발명의 실시예인 배치식 처리장치는 위에서 살펴 봤듯이 승강부(700)를 이루는 다수의 회전축이 하나의 구동벨트에 연결되어 움직이므로 좌우 수평을 유지하며 상하방향으로 다수의 링형상의 피처리물(10)이 장입된 다단 지지대(100)를 이동 시킬 수 있다. 이렇게 무게가 많이 나가는 다수의 링형상의 피처리물(10)이 장입된 다단 지지대(100)를 첨단형태의 지지팁 상에 제공된 링형상의 피처리물(10)이 좌우 흔들림 없이 안정적으로 상하 이동 시킬 수 있게 된다.

또한, 대기압 상태가 유지되는 상기 이격공간에서 상기 링형상의 피처리물(10)이 상기 다단 지지대(100)에 로딩될 수 있다.

챔버 지지프레임(220)을 통해 형성된 챔버(200) 하단의 이격 공간은 챔버(200)와 이어진 하나의 공간이 아닌 챔버(200)와는 분리된 별도의 공간으로써 대기압 상태를 유지할 수 있어서, 작업자가 대기압 상태에서 다단 지지대(100)의 각 단을 조립하는 과정과 링형상의 피처리물(10)을 다단 지지대(100)의 각단에 거치하는 과정을 반복하여 손쉽게 복수의 링형상의 피처리물(10)을 다단 지지대(100) 상에 장입할 수 있다. 이후에 다단 지지대(100)을 지지하고 있는 밀폐부(600)를 간단히 상승시켜 링형상 피처리물을 처리공간을 제공하는 챔버(200)내부로 로딩하면서 챔버(200)를 밀폐시키고 처리공정을 진행할 수 있어서 공정시간을 단출할 수 있을 뿐만 아니라, 안정적으로 처리 공정을 수행할 수 있게 된다.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 처리공정시 공정가스가 분사되는 가스공급부의 분사노즐의 위치를 나타낸 도면이다.

도 4를 참조하면, 상기 분사노즐(401)은 서로 다른 높이의 단으로 제공되며, 동일한 각도를 이루며 서로 이격되어 방사상으로 복수개가 제공될 수 있다.

본 발명의 실시예에 따른 가스공급부(400)의 분사노즐(401)은 챔버의 측벽을 따라 서로 높이가 다른 각 단마다 복수개의 분사노즐(401)이 제공되어 있는데 이 분사노즐(401)은 서로 동일한 각도를 이루며 이격된 형태로 제공되어 있다. 이렇게 각 단마다 복수의 분사노즐(401)을 활용하여 원하는 방향에서 공정가스를 주입할 수 있는 이점이 있을 수 있으며, 각 단마다 제공된 모든 분사노즐(401)을 통해 빠른 속도로 처리공간내 공정가스를 분사할 수도 있다. 이렇게 각 단마다 복수의 분사노즐(401)을 통해 배치식으로 장입된 링형상의 피처리물(10)에 처리가스를 균일하게 공급할 수가 있으며, 앞서 살펴본 바와 같이 다단 지지대(100)를 회전시키는 회전부(800)을 통해 더욱 더 균일하게 처리가스를 다수의 링형상의 피처리물(10)에 분사 할 수 있게된다.

상기 공정가스는 각 단마다 위치한 복수의 분사노즐(401) 중 위에서 바라보았을 때 그 위치가 상이하도록 선택된 각 단의 분사노즐(401)을 통해 분사될 수 있다.

도 4(a)를 보면, 각 단마다 복수개의 분사노즐(401) 중 하나의 위치를 선택하여 정해지면 그 선택되어진 노즐을 기준으로 그 밑에 단의 복수개의 분사노즐(401) 중 상기 윗단의 선택된 분사노즐(401)과 다른 위치에 존재하는 위치의 분사노즐(401)을 선택한다. 이 과정을 반복하여 각 단마다 위치가 서로 다르게 선택할 수 있다. 바람직하게는 가장 상단의 복수개의 분사노즐(401) 중 하나의 분사노즐(401) 위치를 기준으로 시계방향이나 반시계방향으로 나선형 방향을 따라 선택되어진 분사노즐(401)일 수 있다. 이런식으로 서로 다른 위치의 분사노즐(401)을 선택을 하면 각 단마다 서로 다른 위치의 분사노즐(401)을 통해 공정가스가 분사되어 챔버(200)내 처리공간에 공정가스가 뭉쳐짐 없이 고르게 분사될 수 있게 되어진다. 더해서 상술했듯이 회전부(800)를 통해 다단 지지대(100)가 회전할 수 있으므로 분사노즐(401)의 위치와 더불어 다단 지지대(100)가 회전함으로써 링형상의 피처리물(10) 상에 공정가스가 고르게 분사될 수 있게된다.

한편, 예를 들어, 본 발명의 실시예에 따른 배치식 처리장치에서 진행되는 증착공정시 화학적 기상증착법(CVD)으로 증착이 진행되고, 가스공급부(400)에서 분사노즐(401)을 통해 공정가스를 분사하게 된다. 증착가스를 분사노즐(401)을 통해 분사시 탄화규소 재질의 링형상의 피처리물(10)에 탄화규소가 증착될 수도 있지만 분사노즐(401)에 증착이 될 수가 있어 막힐 수 있으며, 또한 처리 부산물 등에 의해 분사노즐(401)이 막힐 수가 있게된다. 이러한 문제점을 해결하기 위해 도 4(b)를 참조하면, 이럴 때를 대비해 각 단마다 복수개의 분사노즐(401)을 제공하였으며 이를 통해 분사노즐(401)이 막히면 도 4(a)에 표시된 노즐과는 달리 각 단의 복수개의 분사노즐(401) 중 막히지 않은 분사노즐(401)을 선택하여 처리공정을 원활히 진행할 수가 있게 된다. 이렇게 막히지 않은 분사노즐(401)을 선택하여 처리가스를 분사함으로써 오랜시간 동안 배치식 처리장치를 사용 할 수 있어 생산성이 향상 될 수 있는 이점이 있다. 또한, 상술했듯이 회전부(800)를 통해 다단 지지대(100)가 회전할 수 있으므로 분사노즐(401)의 위치와 더불어 다단 지지대(100)가 회전함으로써 링형상의 피처리물(10) 상에 공정가스가 고르게 도달할 수 있게된다.

상기 링형상의 피처리물(10)이 탄화규소로 이루어지고, 상기 기둥부(120) 및 지지막대부(110)는 그라파이트로 이루어질 수 있다.

링형상의 피처리물(10)이 탄화규소로 이루어질 수 있는데 본 발명에서 링형상의 피처리물(10)은 반도체 공정에서 사용되는 포커스 링 일 수 있다. 이 포커스 링은 플라즈마 공정 등에 의해 표면이 손상되고 이를 재사용하기 위한 재생 공정을 진행할 수 있다. 다단 지지대(100)에 표면이 손상된 링형상의 피처리물(10)을 여러장 장입 시키고 배치식 처리장치로 로딩하여 표면을 개질하는 환원성 분위기에서 고온 열처리하는 공정을 거침으로써 표면에 형성되어 있던 산화막과 결함등이 사라져 평탄도가 회복이 될 수 있다. 이후 탄화규소를 증착하는 공정을 진행할 수 있는데 화학적 기상 증착법(CVD)을 이용한 증착공정에 사용되는 처리가스를 압력범위가 50Torr 내지 760Torr로 처리공간 내에 주입하여 링형상의 피처리물(10)상에 탄화규소를 보다 빠른시간에 많은 양을 증착할 수 있다. 이때 다단 지지대(100)를 구성하고 있는 기둥부(120) 및 지지막대부(110)도 그라파이트 재질로 이루어 질 수 있다. 이는 재생공정 중 탄화규소로 이루어진 링형상의 피처리물(10)에 탄화규소를 증착하여 재생하는 공정을 진행 할 때 탄소와 실리콘 이외의 재질은 불순물이 될 수 있으므로 위와 같이 재질을 한정하여 원하는 물질이 증착될 수 있도록 할 수 있다.

그러나 이는 위 실시예로서 위 실시예에 한정되는 효과만이 있지는 않다.

이와 같이, 본 발명의 설명에서는 구체적인 실시 예에 관해 설명하였으나, 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능하다. 그러므로, 본 발명의 범위는 설명된 실시 예에 국한되어 정해져서는 안되며, 아래에 기재될 특허청구범위뿐만 아니라 이 청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.

10: 링형상의 피처리물 100: 다단 지지대
110: 지지막대부 111: 지지팁
112: 단차부 113: 돌기부
120: 기둥부 121: 제1 결합홈
200: 챔버 210: 개구부
220: 챔버 지지구조물 300: 가열부
400: 가스공급부 401: 분사노즐
500: 배기부 600: 밀폐부
610: 시일 캡(seal cap) 620: 베이스 플레이트
630: 밀폐부재 700: 승강부
710: 회전축 720: 구동벨트
730: 모터부 800: 회전부

Claims

링형상의 피처리물을 처리하는 배치식 처리장치로서,
처리공간을 제공하는 챔버;
상기 챔버의 측벽을 따라 제공되어, 상기 처리공간에 열을 가하는 가열부;
상기 챔버의 측벽을 따라 상하로 제공된 분사노즐을 통해 상기 처리공간에 공정가스를 분사하는 가스공급부;
상기 처리공간 내부의 기체를 외부로 배출시키는 배기부; 및
상기 링형상의 피처리물을 지지하는 다단 지지대;를 포함하고,
상기 다단 지지대는,
일방향으로 연장되고, 표면에 서로 다른 높이의 다단으로 제공되고, 각 단마다 복수 개로 제공되는 복수의 제1 결합홈을 가지는 기둥부; 및
일단부는 상기 복수의 제1 결합홈에 탈착 가능하게 결합되어, 타단부가 상기 기둥부로부터 외측방향으로 연장되어 서로 같은 높이에서 방사상을 이루도록 상기 기둥부에 조립되는 복수의 지지막대부;를 포함하고,
서로 같은 높이의 상기 복수의 지지막대부는 동일한 각도로 서로 이격되어 제공되며, 상기 링형상의 피처리물의 중심부에 상기 기둥부가 위치하도록 서로 같은 높이의 상기 복수의 지지막대부의 타단부 상에 상기 링형상의 피처리물이 제공되어 상기 복수의 지지막대부의 타단부에 의해 지지되는 배치식 처리장치.
제 1항에 있어서,
상기 복수의 지지막대부 각각은,
상기 타단부의 상부면에 제공된 제2 결합홈; 및
상기 제2 결합홈에 삽입되고 상단부가 첨단형태인 지지팁;을 포함하고,
상기 지지팁은 상기 링형상의 피처리물을 접촉하여 지지하는 배치식 처리장치.
제 1항에 있어서,
상기 복수의 지지막대부 각각은 상부면에 제공된 단차부를 포함하며, 상기 일단부 측의 두께가 상기 타단부 측의 두께보다 두꺼운 배치식 처리장치.
제 1항에 있어서,
상기 일단부는 측벽이 부분적으로 평면을 이루는 돌기부;를 포함하며,
상기 돌기부가 상기 제1 결합홈에 삽입되어 결합되는 배치식 처리장치.
삭제
제 1항에 있어서,
상기 다단 지지대를 지지하고, 상기 챔버의 하단부와 접촉하여 상기 챔버를 밀폐시키는 밀폐부;
상기 밀폐부를 상하 방향으로 이동이 가능하게 하는 승강부; 및
상기 챔버의 하단부와 상기 배치식 처리장치가 설치되는 설치장소의 바닥면 사이의 이격공간을 형성하도록 상기 설치장소의 바닥면으로부터 이격되게 상기 챔버를 지지하는 챔버 지지프레임;을 더 포함하고,
상기 다단 지지대를 지지하는 밀폐부가 상기 승강부에 의해 상기 이격공간으로 하강하면 상기 링형상의 피처리물을 상기 다단 지지대에 로딩하는 배치식 처리장치.
제 6항에 있어서,
상기 챔버는 하단부에 개구부를 포함하며,
상기 밀폐부는,
상기 챔버의 하단부의 개구부를 덮는 시일 캡; 및
상기 시일 캡을 지지하며, 상기 승강부와 연결되는 베이스 플레이트;를 포함하는 배치식 처리장치.
제 7항에 있어서,
상기 베이스 플레이트는 외곽 부분에 관통홀이 복수개 제공되고, 상기 복수의 관통홀 각각은 내부면에 형성된 제1 나사산을 포함하며,
상기 승강부는,
구동력을 발생시키는 모터부;
외부면의 적어도 일부에 제2 나사산이 형성되고, 상기 복수의 관통홀에 각각 삽입되어 상기 제2 나사산과 상기 제1 나사산이 연결되는 복수의 회전축;
상기 복수의 회전축을 연결하는 구동벨트;를 포함하고,
상기 모터부에서 발생되는 구동력을 상기 구동벨트가 상기 복수의 회전축으로 전달하고, 상기 복수의 회전축이 서로 연동하여 회전됨으로써 상기 밀폐부가 상하 방향으로 이동이 가능한 배치식 처리장치.
제 6항에 있어서,
대기압 상태가 유지되는 상기 이격공간에서 상기 링형상의 피처리물이 상기 다단 지지대에 로딩되는 배치식 처리장치.
제 1항에 있어서,
상기 분사노즐은 서로 다른 높이의 단으로 제공되며, 동일한 각도를 이루며 서로 이격되어 방사상으로 복수개가 제공되는 배치식 처리장치.
제 10항에 있어서,
상기 공정가스는 각 단마다 위치한 복수의 분사노즐 중 위에서 바라보았을 때 그 위치가 상이하도록 선택된 각 단의 분사노즐을 통해 분사되는 배치식 처리장치.
제 1항에 있어서,
상기 링형상의 피처리물이 탄화규소로 이루어지고,
상기 기둥부 및 지지막대부는 그라파이트로 이루어진 배치식 처리장치.