KR101981303B1 - 플라즈마를 이용한 이미용장치 - Google Patents

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KR101981303B1
KR101981303B1 KR1020180076838A KR20180076838A KR101981303B1 KR 101981303 B1 KR101981303 B1 KR 101981303B1 KR 1020180076838 A KR1020180076838 A KR 1020180076838A KR 20180076838 A KR20180076838 A KR 20180076838A KR 101981303 B1 KR101981303 B1 KR 101981303B1
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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따르는 플라즈마를 이용한 이미용장치는, 서로 다른 기능을 갖는 커버들이 일면에 탈착가능하게 결합되는 헤드부; 상기 헤드부 내부에 형성되어 플라즈마 방전을 형성하는 전극부; 상기 일면에 형성된 관통공을 향해 상기 플라즈마 방전시 발생한 라디칼 또는 이온를 토출하도록 형성되는 블로워부; 및 상기 전극부를 지지하며, 외관을 형성하는 프론트 케이스와 리어 케이스 사이로 노출되는 그라운드부를 포함하고, 상기 커버들은 상기 관통공에 연통되는 방사홀을 구비한다.

Description

플라즈마를 이용한 이미용장치{APPARATUS FOR HAIRDRESSING AND BEAUTYCARE USING PLASMA}
본 발명의 일실시예들은 플라즈마를 발생시키는 이미용장치에 관한 것이다.
플라즈마란 초고온에서 음전하를 가진 전자와 양전하를 띤 이온으로 분리된 기체 상태를 말한다. 이때는 전하 분리도가 상당히 높으면서도 전체적으로 음과 양의 전하수가 같아서 중성을 띠게 된다.
일반적으로 물질의 상태는 고체·액체·기체 등 세 가지로 나눠진다. 플라즈마는 흔히 제4의 물질 상태라고 부른다. 고체에 에너지를 가하면 액체, 기체로 되고 다시 이 기체 상태에 높은 에너지를 가하면 수만℃에서 기체는 전자와 원자핵으로 분리되어 플라즈마 상태가 되기 때문이다.
플라즈마를 만들려면 흔히 직류, 초고주파, 전자빔 등 전기적 방법을 가해 플라스마를 생성한 다음 자기장 등을 사용해 이런 상태를 유지하도록 해야한다.
플라즈마는 플라즈마 밀도, 전자 온도, 종들 간의 열평형 정도, 발생방식, 응용분야 등 여러 구분 기준이 있지만 밀도와 전자온도로 분류하는 것이 가장 기본적이다. 플라즈마를 열평형 정도에 의해서 구분하여, 국부열평형(local thermal equilibrium;LTE)과 비국부 열평형(non-LTE)으로 나눌 수 있고, 국부열평형이란 용어는 플라즈마 입자의 모두의 온도가 플라즈마의 국부적 영역에서 같은 열역학적 상태를 의미한다.
연구나 제조 공정을 위한 플라즈마는 대개 LTE 또는 non-LTE 중 하나이며, 일반적으로 전자를 열 플라즈마, 후자를 저온 플라즈마라고 한다.
본 발명에서는 저온 플라즈마를 대상으로 하며, 저온 플라즈마 중 대기압 플라즈마를 발생시키는 이미용장치를 제공하기 위한 방안을 제시한다.
대기압 플라즈마는 주로 물질의 표면 개질 및 코팅, 환경 정화 등의 분야에 활용되며, 최근에는 생체 적용과 바이오 메디칼 분야의 응용 가능성으로 연구가 확대되고 있다.
따라서, 대기압 플라즈마를 이용하면서도 인체에 무해하고 휴대가능한 이미용장치가 고려될 수 있다.
한국등록특허 제10-1579159호 (2015.12.15)
본 발명의 일 목적은 대기압 플라즈마, 산소 라디칼 또는 이온 등을 생성하여 살균 기능을 구비한 플라즈마를 이용한 이미용장치를 제공하기 위한 것이다.
이와 같은 본 발명의 해결 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따르는 플라즈마를 이용한 이미용장치는, 서로 다른 기능을 갖는 커버들이 일면에 탈착가능하게 결합되는 헤드부; 상기 헤드부 내부에 형성되어 플라즈마 방전을 형성하는 전극부; 상기 일면에 형성된 관통공을 향해 상기 플라즈마 방전시 발생한 라디칼 또는 이온를 토출하도록 형성되는 블로워부; 및 상기 전극부를 지지하며, 외관을 형성하는 프론트 케이스와 리어 케이스 사이로 노출되는 그라운드부를 포함하고, 상기 커버들은 상기 관통공에 연통되는 방사홀을 구비한다.
본 발명과 관련한 일 예에 따르면, 상기 전극부는, 서로 적층되는 서로 다른 유전율을 갖는 제1 유전체와 제2 유전체; 및 상기 제1 유전체와 제2 유전체 사이에 형성되는 제1 도전체와 제2 도전체를 포함하고, 상기 제1 도전체는 평판 형상으로 이루어지고, 상기 제2 도전체는 상기 제1 도전체의 적어도 일부를 감싸도록 형성될 수 있다.
본 발명과 관련한 일 예에 따르면, 상기 전극부는, 서로 적층되는 서로 다른 유전율을 갖는 제1 유전체와 제2 유전체; 및 상기 제1 유전체와 제2 유전체 사이에 형성되는 도전체를 포함하고, 상기 제1 유전체의 유전율은 상기 제2 유전체의 유전율보다 낮게 형성될 수 있다.
본 발명과 관련한 일 예에 따르면, 상기 전극부는, 서로 적층되는 서로 다른 유전율을 갖는 제1 유전체와 제2 유전체; 상기 제1 유전체와 제2 유전체 사이에 형성되는 제1 도전체; 및 상기 제1 유전체를 덮도록 형성되는 제2 도전체를 포함할 수 있다.
본 발명과 관련한 일 예에 따르면, 상기 전극부는, 봉 형상의 도전체; 중공을 구비하여 상기 도전체가 상기 중공을 통해 삽입되도록 형성되고, 상기 도전체를 감싸는 유전체; 및 상기 유전체의 표면에 형성된 도전성 패턴을 포함할 수 있다.
본 발명과 관련한 일 예에 따르면, 상기 전극부는, 일정 간격을 갖도록 서로 평행하게 형성되고, 표면에 유전층이 형성된 제1 도전체와 제2 도전체를 포함할 수 있다.
상기와 같이 구성되는 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 관련된 플라즈마를 이용한 이미용장치를 이용하면, 가정에서 손쉽게 애완동물의 귀를 통해 유입되는 사상충을 예방할 수 있다. 또한, 강아지나 고양이같은 애완동물에게서 발생하는 각종 병원균을 예방할 수 있으며, 플라즈마를 이용하여 피부의 항균 또는 탈취를 할 수 있어 모공이나 피부에 기생하는 각종 균의 살균이 가능하여 피부 질병을 예방할 수도 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따르는 플라즈마를 이용한 이미용장치의 전면 사시도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따르는 플라즈마를 이용한 이미용장치의 후면 사시도.
도 3은 도 1의 플라즈마를 이용한 이미용장치의 분해 사시도.
도 4는 도 3에 도시된 전극부의 예들을 도시한 도면.
이하, 본 발명에 관련된 플라즈마를 이용한 이미용장치에 대하여 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다. 이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "모듈" 및 "부"는 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서, 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다. 본 명세서에서는 서로 다른 실시예라도 동일·유사한 구성에 대해서는 동일·유사한 참조번호를 부여하고, 그 설명은 처음 설명으로 갈음한다. 본 명세서에서 사용되는 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따르는 플라즈마를 이용한 이미용장치의 전면 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따르는 플라즈마를 이용한 이미용장치의 후면 사시도이고, 도 3은 도 1의 플라즈마를 이용한 이미용장치의 분해 사시도이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 플라즈마를 이용한 이미용장치(100)는 헤드부(104), 전극부(110), 블로워부(130) 및 그라운드부(103)를 포함한다.
헤드부(104)는 서로 다른 기능을 갖는 커버들(191, 192, 193)이 탈착가능하게 결합된다. 헤드부(104)는 커버들(191, 192, 193)이 결합되도록 안착부를 포함한다. 커버들(191, 192, 193)은 그 내주에 돌기와 홈을 구비하여 헤드부(104)에 고정될 수 있다. 안착부는 이에 상응하는 그루브와 돌출부를 구비하여 형성될 수 있다.
커버들(191, 192, 193)은 다양한 기능을 갖도록 형성된다. 예를 들어, 커버들(191, 192, 193)은 이어 타입(Ear type, 191), 헤어 타입(Hair type, 192) 및 스킨 타입(Skin type, 193)을 포함하여 형성될 수 있다. 애완동물에 이어 타입용 커버가 결합된 이미용장치(100)를 사용하는 경우, 애완동물의 귀를 통해 유입되는 사상충을 예방할 수 있다. 또한, 애완동물에 헤어 타입용 커버가 결합된 이미용장치(100)를 사용하는 경우, 강아지나 고양이같은 애완동물에서 털에 덮인 피부의 항균 또는 탈취를 할 수 있다. 그리고, 애완동물에 스킨 타입용 커버가 결합된 이미용장치(100)를 사용하는 경우, 애완동물에서 털에 덮이지 않은 피부의 항균 또는 탈취를 할 수 있어 질병을 예방할 수도 있다. 이어 타입(Ear type), 헤어 타입(Hair type) 및 스킨 타입(Skin type)용 커버들은 도 3에 개시된 바와 같다.
커버들(191, 192, 193)은 플라즈마 방전에 의해 형성된 라디칼 또는 이온들이 피부에 전달되도록 방사홀((191a, 192a, 193a)을 구비하여 형성된다.
전극부(110)는 헤드부(104) 내부에 형성되어 플라즈마 방전을 형성하도록 이루어진다. 전극부(110)는 인가되는 전력에 의해 대기압 플라즈마를 형성한다. 전극부(110)는 헤드부(104)에 형성된 개구부(106)을 통해 노출되도록 형성된다. 전극부(110)에 대해서는 도 4를 참조하여 좀 더 상세히 설명하기로 한다.
블로워부(130)는 전원을 공급받아 회전하면서 헤드부(104)에 형성된 관통공을 향해 공기를 토출하도록 형성되는 팬을 구비하여 이루어진다. 이로 인해, 플라즈마 방전시 발생한 라디칼 또는 이온이 커버에 형성된 방사홀을 통해 토출될 수 있다.
그라운드부(103)는 전극부(110)를 지지하고 프론트 케이스(101) 및 리어 케이스(102)와 함께 이미용장치(100)의 외관을 형성한다. 그라운드부(103)는 프론트 케이스(101)와 리어 케이스(102) 사이로 그 측면이 노출되도록 형성된다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 프론트 케이스(101)와 리어 케이스(102) 사이에 형성된 공간에 배터리(170), 교류 발생부(160) 및 제어부(140)가 형성된다. 배터리(170)는 재충전 가능한 리튬-폴리머 배터리일 수 있다. 배터리(170)는 프론트 케이스(101)와 리어 케이스(102) 사이에 형성된 공간에 배치되고 교류 발생부(160)에 DC 전력을 공급할 수 있다.
교류 발생부(160)는 직류 전압을 고압의 교류 전압으로 변경할 수 있다. 교류 발생부(160)는 인버터를 포함할 수 있다. 교류 전압의 주파수는 수 kHz 내지 수백 kHz일 수 있다. 피크-투-피크 교류 전압은 3kV 내지 10 kV일 수 있다. 교류 발생부(160)의 출력 파형은 정현파일 수 있다. 교류 발생부(160)는 수 Hz 내지 수 kHz의 펄스 주파수로 고전압 교류 펄스를 출력할 수 있다. 구체적으로, 교류 발생부(160)의 구동 주파수는 수 kHz에서 수십 kHz 영역일 수 있다. 교류 발생부(160)는 수 Hz에서 수백 Hz 의 펄스 주파수로 펄스 모드로 동작할 수 있다. 펄스 주파수 및 구동 주파수에서 안정적인 유전체 장벽 방전이 수행될 수 있다.
제어부(140)는 이미용장치(100)의 전반적인 동작을 제어한다. 일 예로, 제어부(140)는 교류 발생부(160)의 펄스의 듀티비를 조절하고, 교류 발생부(160)의 출력을 제어할 수 있다. 또한, 제어부(140)는 조작부(107)의 입력에 의하여 동작하고 이미용장치(100)의 동작 상태를 표시부(미도시)에 표시할 수 있다. 제어부(140)는 보조 램프를 제어할 수 있다. 제어부(140)는 회로기판(150)에 장착된 프로세서(processors), 제어기(controllers), 마이크로 컨트롤러(micro-controllers), 마이크로 프로세서(microprocessors), 기타 기능 수행을 위한 전기적인 유닛 중 적어도 하나를 이용하여 구현될 수 있다.
배터리(170)는 바디(101, 102)에 내장되거나, 바디(101, 102)에 직접 탈착될 수 있도록 형성될 수 있다. 재충전 가능한 리튬-폴리머 배터리일 수 있다. 배터리(170)는 하우징의 저장 공간 내에 배치될 수 있다. 상기 배터리(170)의 교환을 위하여, 상기 하우징 몸체부와 상기 결합 부위는 서로 분해/결합되도록 설계될 수 있다. 배터리(170)는 교류 발생부(160)에 DC 전력을 공급할 수 있다.
교류 발생부(160)는 직류 전압을 고압의 교류 전압으로 변경할 수 있다. 교류 발생부(160)는 인버터를 포함할 수 있다. 상기 교류 전압의 주파수는 수 kHz 내지 수백 kHz일 수 있다. 피크-투-피크 교류 전압은 3 kV 내지 10 kV일 수 있다. 교류 발생부(160)의 출력 파형은 정현파일 수 있다. 교류 발생부(160)는 수 Hz 내지 수 kHz의 펄스 주파수로 고전압 교류 펄스를 출력할 수 있다. 구체적으로, 교류 발생부(160)의 구동 주파수는 수 kHz에서 수십 kHz 영역일 수 있다. 교류 발생부(160)는 수 Hz에서 수백 Hz 의 펄스 주파수로 펄스 모드로 동작할 수 있다. 이 펄스 주파수 및 구동 주파수에서 안정적인 유전체 장벽 방전이 수행될 수 있다.
전극부(110)에 인가하는 전원은 PWM 방식의 펄스를 사용함으로써 플라즈마의 방전 온, 오프 타임을 컨트롤할 수 있다. 플라즈마의 온, 오프 타임의 컨트롤에 따라 오존 발생을 최소화할 수 있으며, 이온의 발생량을 컨트롤 할 수 있으며, 플라즈마 방전에 따른 표면온도를 컨트롤할 수 있으며, 전극부(110) 및 피부의 데미지를 없앨 수 있다. 일반 CW(Continue Wave) 방식을 사용할 경우 표면온도의 컨트롤을 할 수 없어 플라즈마를 피부에 사용시 피부에 데미지(화상)를 줄 수 있다. 또한, 전극에서는 전극의 산화를 촉진 시키며, 전극 표면의 데미지로 인해 아크 발생의 원인이 될 수 있다.
제어부(140)는 교류 발생부(160)의 펄스의 듀티비를 조절하고, 교류 발생부(160)의 출력을 제어할 수 있다. 또한, 상기 제어부(140)는 스위치에 의하여 동작하고 동작 상태를 표시부(미도시)에 표시할 수 있다.
도 4는 도 3에 도시된 전극부(110)의 예들을 도시한 도면이다.
전극부(110)는 전극 장착부(102)에 탈착가능하게 장착된다. 전극부(110)는 대기압 플라즈마를 위한 유전체 장벽 방전이 생성되도록 도전성 전극과 유전체를 포함하여 형성된다. 유전체의 재질은 세라믹 또는 실리콘일 수 있으며, 그 두께는 비정상적인 방전을 억제할 수 있도록 충분한 두께를 가지는 데, 일 예로 수백 마이크로 미터 내지 수 밀리미터의 두께를 가질 수 있다. 도전체의 두께는 10 내지 15 마이크로미터일 수 있으며, 그 재질은 금, 은, 구리, 또는 몰리브덴-망간 합금일 수 있다.
도 4(a)는 전극부의 평면(윗도면)과 단면(아랫도면)을 각각 도시한 것이다. 도 4(a)를 참조하면, 전극부(110A)는 복수의 유전체가 서로 겹친 판 형상으로 이루어진다. 전극부는 제1 유전체(111a), 제2 유전체(112a) 및 제1 유전체(111a)와 제2 유전체(112a) 사이에 형성된 제1 도전체(113a1)와 제2 도전체(113a2)를 포함한다. 제1 도전체(113a1)와 제2 도전체(113a2)는 동일 평면상에서 서로 이격되도록 형성된다. 제1 도전체(113a1)는 평판 형상으로 이루어지고, 제2 도전체(113a2)는 제1 도전체(113a1)의 적어도 일부를 감싸도록 형성된다. 제1 유전체(111a)는 피부를 향하여 노출되게 형성된다. 제1 유전체(111a)의 일면이 피부를 향하여 노출되는 면이고 타면에 도전체들이 형성된다.
제1 도전체(113a1)와 제2 도전체(113a2)는 얇은 판 형상으로 이루어지거나, 제1 유전체(111a)의 타면에 얇은 도전성 패턴으로 형성될 수 있다. 도전성 패턴을 형성하기 위해, 제1 유전체(111a)의 타면에 도전성 물질로 코팅 후 열처리하여 형성할 수 있다.
도 4(b)는 전극부의 평면(윗도면)과 단면(아랫도면)을 각각 도시한 것이다. 도 4(b)를 참조하면, 전극부(110B)는 복수의 유전체(111b, 112b)가 서로 겹친 판 형상으로 이루어진다. 전극부는 제1 유전체(111b), 제2 유전체(112b) 및 제1 유전체(111b)와 제2 유전체(112b) 사이에 형성된 도전체(113b)를 포함한다. 도전체(113b)는 평판 형상으로 이루어진다. 제1 유전체(111b)는 피부를 향하여 노출되게 형성된다. 제1 유전체(111b)의 일면이 피부를 향하여 노출되는 면이고 타면에 도전체(113b)가 형성된다.
도전체(113b)는 얇은 판 형상으로 이루어지거나, 제1 유전체(111b)의 타면에 얇은 도전성 패턴으로 형성될 수 있다. 도전성 패턴을 형성하기 위해, 제1 유전체(111b)의 타면에 도전성 물질로 코팅 후 열처리하여 형성할 수 있다.
이 때, 제1 유전체(111b)의 유전율은 제2 유전체(112b)의 유전율보다 낮게 형성된다. 제1 유전체(111b)의 일면을 향한 방전을 좀 더 효율적으로 형성하기 위함이다.
도 4(c)는 전극부의 평면(윗도면)과 단면(아랫도면)을 각각 도시한 것이다. 도 4(c)를 참조하면, 전극부(110C)는 복수의 유전체가 서로 겹친 판 형상으로 이루어진다. 전극부는 제1 유전체(111c), 제2 유전체(112c) 및 제1 유전체(111c)와 제2 유전체(112c) 사이에 형성된 제1 도전체(113c), 제1 유전체(111c)의 일면에 형성된 제2 도전체(114)를 포함한다. 제1 도전체(113c)와 제2 도전체(114)는 동일 평면상에서 서로 이격되도록 형성된다. 제1 도전체(113c)는 평판 형상으로 이루어지고, 제2 도전체(114)는 제1 도전체(113c)와 달리 폭이 얇은 판 형상으로 형성된다. 제1 유전체(111c)와 제2 도전체(114)는 피부를 향하여 노출되게 형성된다. 제1 유전체(111c)의 일면이 피부를 향하여 노출되는 면이다.
제1 도전체(113c)와 제2 도전체(114)는 얇은 판 형상으로 이루어지거나, 제1 유전체(111c)의 일면과 타면에 각각 얇은 도전성 패턴으로 형성될 수 있다. 도전성 패턴을 형성하기 위해, 제1 유전체(111c)의 일면과 타면에 도전성 물질로 코팅 후 열처리하여 형성할 수 있다.
도 4d를 참조하면, 전극부(110D)는 봉 형상으로 이루어질 수 있다. 전극부는 도전체(113d), 유전체(115) 및 도전성 패턴(116)을 포함한다. 도전체(113d)는 일측에서 전원이 공급되고, 중간에서 절곡되도록 이루어진다. 유전체(115)는 중공을 구비하여 도전체(113d)가 중공을 통해 삽입되도록 형성되고, 도전체(113d)를 감싸도록 이루어진다. 유전체(115)의 외주면을 따라 도전성 패턴(116)이 형성된다. 플라즈마 방전을 집중시키기 위해, 도전성 패턴(116)에 집중부가 형성될 수 있다. 집중부는 다른 도전성 패턴(116)에 비해 좀 더 폭이 더 넓게 형성된다. 집중부(116a)는 헤드부(104)의 개구부(106)을 통해 노출될 수 있다. 집중부를 구성하는 도전성 패턴은 다른 부분보다 3 내지 4배의 폭으로 형성된다.
도 4e를 참조하면, 전극부(110E)는 두개의 봉이 서로 평행하게 연장되는 형상으로 이루어질 수 있다. 전극부는 서로 평행하게 연장되는 제1 및 제2 도전체(117a, 117b), 제1 및 제2 도전체(117a, 117b) 각각을 감싸는 제1 및 제2 유전체(118a, 118b)를 포함한다. 도전체들(117a, 117b)은 일측에서 전원이 공급되고, 중간에서 절곡되도록 이루어진다. 제1 유전체와 제2 유전체(118a, 118b)는 중공을 구비하여 도전체가 각각 중공을 통해 삽입되도록 형성되고, 도전체를 감싸도록 이루어진다. 플라즈마 방전을 집중시키기 위해 유전체는 집중부(118c)를 구비할 수 있다. 집중부를 구성하는 유전체의 일부분은 다른 부분에 비해 좀 더 얇게 형성될 수 있다.
상기와 같이 설명된 플라즈마를 이용한 이미용장치는 상기 설명된 실시예들의 구성과 방법이 한정되게 적용될 수 있는 것이 아니라, 상기 실시예들은 다양한 변형이 이루어질 수 있도록 각 실시예들의 전부 또는 일부가 선택적으로 조합되어 구성될 수도 있다.

Claims (6)

  1. 서로 다른 기능을 갖는 커버들이 일면에 탈착가능하게 결합되는 헤드부;
    상기 헤드부 내부에 형성되어 플라즈마 방전을 형성하는 전극부;
    상기 전극부의 후방에 형성되어, 상기 플라즈마 방전시 발생한 라디칼 또는 이온를 상기 전극부의 전방으로 토출하도록 형성되는 블로워부; 및
    상기 전극부를 지지하며, 외관을 형성하는 프론트 케이스와 리어 케이스 사이로 노출되는 그라운드부를 포함하고,
    상기 커버들은 상기 일면에 형성된 관통공에 연통되는 방사홀을 구비하고,
    상기 전극부는 상기 헤드부의 상기 일면에 형성된 개구부를 통해 노출되도록 상기 헤드부를 구성하는 프론트 케이스의 배면에 결합되고,
    상기 전극부를 고정하는 내부 케이스에 형성된 홀은 상기 블로워부의 전면에 배치되고, 상기 홀은 상기 전극부의 상부와 하부에 각각 형성되고,
    상기 헤드부를 구성하는 리어 케이스의 노출된 일면에 노출부가 형성되고,
    상기 관통공은 상기 개구부에 중첩되지 않게 상기 개구부에 인접하여 형성되고, 상기 관통공은 상기 홀보다 작은 구경을 갖도록 형성되고, 상기 관통공은 상기 홀보다 많은 개수로 형성되고,
    상기 방사홀은 상기 관통공보다 작은 구경을 갖도록 형성되고,
    상기 블로워부 및 상기 전극부는 상기 개구부로부터 상기 노출부까지 연장되는 선상에 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 이미용장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 전극부는,
    서로 적층되는 서로 다른 유전율을 갖는 제1 유전체와 제2 유전체; 및
    상기 제1 유전체와 제2 유전체 사이에 형성되는 제1 도전체와 제2 도전체를 포함하고,
    상기 제1 도전체는 평판 형상으로 이루어지고,
    상기 제2 도전체는 상기 제1 도전체의 적어도 일부를 감싸도록 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 이미용장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 전극부는,
    서로 적층되는 서로 다른 유전율을 갖는 제1 유전체와 제2 유전체; 및
    상기 제1 유전체와 제2 유전체 사이에 형성되는 도전체를 포함하고,
    상기 제1 유전체의 유전율은 상기 제2 유전체의 유전율보다 낮게 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 이미용장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 전극부는,
    서로 적층되는 서로 다른 유전율을 갖는 제1 유전체와 제2 유전체;
    상기 제1 유전체와 제2 유전체 사이에 형성되는 제1 도전체; 및
    상기 제1 유전체를 덮도록 형성되는 제2 도전체를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 이미용장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 전극부는,
    봉 형상의 도전체;
    중공을 구비하여 상기 도전체가 상기 중공을 통해 삽입되도록 형성되고, 상기 도전체를 감싸는 유전체; 및
    상기 유전체의 표면에 형성된 도전성 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 이미용장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 전극부는,
    일정 간격을 갖도록 서로 평행하게 형성되고, 표면에 유전층이 형성된 제1 도전체와 제2 도전체를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 이미용장치.

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