KR101971115B1 - Method for preparing ester polythiol with high yield - Google Patents

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Abstract

According to an embodiment, by washing, with a tertiary amine aqueous solution, an ester polythiol composition manufactured by conducting a reaction of polyol with an excess thiol group-containing carboxylic acid under an acid catalyst, it is possible to effectively remove remaining thiol group-containing carboxylic acid and the acid catalyst, and also improve a yield of ester polythiol.

Description

수율이 향상된 에스터 폴리티올의 제조방법{METHOD FOR PREPARING ESTER POLYTHIOL WITH HIGH YIELD}METHOD FOR PREPARING ESTER POLYTHIOL WITH HIGH YIELD [0002]

실시예는 폴리티오우레탄계 광학 재료의 원료로서 사용되는 에스터 폴리티올 조성물을 제조하는 방법에 관한 것이다. 또한, 실시예는 상기 방법에 의해 제조된 에스터 폴리티올 조성물, 이를 포함하는 중합성 조성물, 및 이로부터 얻은 광학 재료에 관한 것이다.The examples relate to a method for producing an ester polythiol composition used as a raw material for a polythiourethane-based optical material. The examples also relate to an ester polythiol composition prepared by the above method, a polymerizable composition containing the same, and an optical material obtained therefrom.

플라스틱 광학 재료는 유리와 같은 무기 재료로 이루어지는 광학 재료에 비해 경량이면서 쉽게 깨지지 않고 염색성이 우수하기 때문에, 안경 렌즈, 카메라 렌즈 등의 광학 재료로 널리 이용되고 있다. 최근에는 고투명성, 고굴절율, 저비중, 고내열성, 고내충격성 등의 광학 재료의 고성능화가 요구되고 있다.The plastic optical material is lightweight and easily broken compared to an optical material made of an inorganic material such as glass, and is excellent in dyeability. Therefore, it is widely used as an optical material such as a spectacle lens and a camera lens. In recent years, high performance of optical materials such as high transparency, high refractive index, low specific gravity, high heat resistance and high impact resistance has been demanded.

플라스틱 광학 재료 중 폴리티오우레탄은 우수한 광학 특성 및 기계적 물성을 가져 광학 재료로서 널리 사용되고 있다. 폴리티오우레탄은 폴리티올과 이소시아네이트를 반응시켜 제조할 수 있으며, 폴리티오우레탄으로부터 제조된 렌즈는 굴절율이 높고 가벼우며 비교적 내충격성이 높아 널리 사용되고 있다. Among plastic optical materials, polythiourethane has excellent optical properties and mechanical properties and is widely used as an optical material. Polythiourethanes can be prepared by reacting polythiols with isocyanates, and lenses made from polythiourethanes are widely used because of their high refractive index, light weight, and relatively high impact resistance.

최근에는 폴리티올에 에스터기(-COO-)를 도입한 에스터 폴리티올을 폴리티오우레탄계 광학 재료의 제조에 이용하여 내충격성을 보다 향상시키려는 시도가 있다. In recent years, attempts have been made to improve the impact resistance by using an ester polythiol having an ester group (-COO-) introduced into a polythiol in the production of a polythiourethane based optical material.

이와 같은 에스터 폴리티올은 일반적으로 비극성 및 비양자성의 용매에 다가 알콜 및 과량의 티올기-함유 카복실산을 가하고 산 촉매 하에서 공비증류를 통해 반응시킨 뒤, 수득한 반응액 내에 남아 있는 미반응의 티올기-함유 카복실산을 염기성 수용액으로 세정하여 제거하고 있다.Such an ester polythiol is generally produced by adding a polyhydric alcohol and an excess amount of a thiol group-containing carboxylic acid to a nonpolar and aprotic solvent, reacting the mixture through azeotropic distillation under an acid catalyst, and then reacting the unreacted thiol group -Containing carboxylic acid is removed by washing with a basic aqueous solution.

예를 들어, 한국 등록특허 제1363198호는 에스터 폴리티올을 제조하기 위해 다가 알콜과 과량의 티올기-함유 카복실산을 반응시킨 뒤, 반응액에 남아 있는 카복실산을 제거하기 위해 염기 세정하는 것을 개시하고 있다.For example, Korean Patent No. 1363198 discloses reacting a polyhydric alcohol with an excess of a thiol group-containing carboxylic acid to prepare an ester polythiol, followed by base washing to remove the carboxylic acid remaining in the reaction solution .

또한, 이와 같은 염기 세정 외에, 다가 알콜과 과량의 티올기-함유 카복실산을 반응시킨 뒤, 별도의 정제 없이 진공으로 티올기-함유 카복실산을 제거하여 에스터 폴리티올을 제조하는 방법이 알려져 있다.Further, in addition to such base washing, there is known a method of reacting a polyhydric alcohol with an excessive thiol group-containing carboxylic acid and removing the thiol group-containing carboxylic acid under vacuum without further purification, thereby producing an ester polythiol.

한국 등록특허 제1363198호 (2014. 2. 7.)Korean Registered Patent No. 1363198 (Feb.

앞서 살펴본 바와 같이, 종래에는 에스터 폴리티올을 제조하는 과정에서 잔여 카복실산을 제거하기 위해 대체로 염기로 세정하고 있으며, 여기에는 금속 염기성 물질(예: 수산화나트륨, 수산화칼륨, 소듐카보네이트 등)이 통상적으로 사용되고 있다. 그러나 이와 같은 통상적인 종류의 염기들은 목적하는 티올기-함유 카복실산 뿐만 아니라 에스터 티올과도 염을 형성할 수 있어 정제가 효과적이지 않으므로, 높은 수율을 기대하기 어려운 문제가 있다.As described above, conventionally, in the course of preparing the ester polythiol, the base is washed with a base in order to remove the residual carboxylic acid, and metal basic materials such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate and the like are conventionally used have. However, such conventional types of bases can form salts with not only the desired thiol group-containing carboxylic acid but also ester thiol, so that the purification is not effective and thus there is a problem that a high yield can not be expected.

또한, 앞서 살펴본 염기 세정 없이 진공을 통해 잔여의 티올기-함유 카복실산을 제거하는 방식은, 제조 수율은 높지만 잔여의 티올기-함유 카복실산을 완전히 제거하기 어려운 문제가 있다.In addition, the method of removing the remaining thiol group-containing carboxylic acid through vacuum without the base cleaning as described above has a problem that it is difficult to completely remove the residual thiol group-containing carboxylic acid, although the production yield is high.

또한, 에스터 폴리티올의 합성 과정에서 사용되는 산 촉매도 역시 반응 이후에 잔류하여 최종 제품의 품질을 저하시키므로, 산 촉매도 함께 제거할 수 있는 효과적인 방법이 요구된다. Also, the acid catalyst used in the synthesis of the ester polythiol also remains after the reaction to deteriorate the quality of the final product. Therefore, an effective method for removing the acid catalyst together is also required.

따라서, 이하의 실시예를 통해, 에스터 폴리티올의 합성 이후에 잔류하는 티올기-함유 카복실산과 산 촉매를 효과적으로 제거하여 수율을 향상시키면서 최종 제품의 품질을 개선할 수 있는 새로운 방법을 제공하고자 한다. Thus, through the following examples, it is intended to provide a novel method for effectively removing residual thiol group-containing carboxylic acid and acid catalyst after synthesis of ester polythiol, thereby improving the yield and improving the quality of the final product.

일 실시예에 따르면, (1) 하기 화학식 1의 화합물 1 당량과 하기 화학식 2의 화합물 1.01~2 당량을 산 촉매 하에서 반응시켜, 미정제의 에스터 폴리티올 조성물을 얻는 단계; 및 (2) 상기 미정제의 에스터 폴리티올 조성물을 3차 아민 수용액으로 세정하여, 조성물 내에 잔류하는 상기 화학식 2의 화합물과 상기 산 촉매를 제거하는 단계를 포함하는, 에스터 폴리티올 조성물의 제조방법이 제공된다:According to one embodiment, there is provided a process for preparing an ester polythiol compound, comprising: (1) reacting 1 equivalent of a compound of the formula (1) and 1.01 to 2 equivalents of a compound of the formula (2) And (2) washing the crude ester polythiol composition with a tertiary amine aqueous solution to remove the compound of Formula 2 and the acid catalyst remaining in the composition. Provided:

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112017118394671-pat00001
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[화학식 2](2)

Figure 112017118394671-pat00002
Figure 112017118394671-pat00002

상기 식에서,In this formula,

R1은 각각 독립적으로 H, -CH3 또는 -CH2CH3이고;R 1 are each independently H, -CH 3 or -CH 2 CH 3 ;

R2는 각각 독립적으로 -CH3, -CH2CH3 또는 -CH2CH2CH3이고;R 2 are each independently -CH 3 , -CH 2 CH 3 or -CH 2 CH 2 CH 3 ;

p는 1 또는 2이고;p is 1 or 2;

m은 각각 독립적으로 0 내지 10의 정수이고;m is independently an integer of 0 to 10;

n은 각각 독립적으로 1 내지 4의 정수이고; each n is independently an integer of 1 to 4;

l 및 o는 각각 독립적으로 0 또는 1이되; l and o are each independently 0 or 1;

여기서 n + l + o = 4 이다.Where n + l + o = 4.

다른 실시예에 따르면, 상기 방법으로 제조되고, 상기 화학식 2의 화합물의 함량이 0.5 중량% 이하인, 에스터 폴리티올 조성물이 제공된다.According to another embodiment, there is provided an ester polythiol composition prepared by the above method, wherein the content of the compound of Formula 2 is 0.5% by weight or less.

상기 실시예에 따르면, 폴리올과 과량의 티올기-함유 카복실산을 산 촉매 하에서 반응시켜 제조된 에스터 폴리티올 조성물을 3차 아민 수용액으로 세정함으로써, 미반응하여 잔류하는 티올기-함유 카복실산과 산 촉매를 효과적으로 제거하면서도 에스터 폴리티올의 수율을 향상시킬 수 있다.According to this embodiment, an ester polythiol composition prepared by reacting a polyol with an excess of a thiol group-containing carboxylic acid under an acid catalyst is washed with a tertiary amine aqueous solution to remove unreacted residual thiol group-containing carboxylic acid and an acid catalyst The yield of the ester polythiol can be improved while effectively removing it.

구체적으로, 3차 아민은 에스터 폴리티올과는 염을 형성하지 않으면서 티올기-함유 카복실산과는 염을 형성하는 선택적인 반응성을 가지므로, 3차 아민의 수용액을 이용한 세정으로 티올기-함유 카복실산의 염을 수층으로 이동시켜 제거할 수 있다. 또한, 상기 3차 아민은 산 촉매와도 염을 형성하여 함께 제거할 수 있으므로 잔류 촉매로 인한 품질 저하를 방지할 수 있다.Specifically, the tertiary amine has selective reactivity to form a salt with the thiol group-containing carboxylic acid without forming a salt with the ester polythiol. Therefore, by washing with an aqueous solution of the tertiary amine, the thiol group-containing carboxylic acid Can be removed by transferring the salt to the water layer. In addition, since the tertiary amine can form salts with the acid catalyst and can be removed together, it is possible to prevent deterioration in quality due to the residual catalyst.

그 결과, 실시예에 따라 제조된 에스터 폴리티올 조성물은 높은 수율로 제조되면서 이에 함유된 티올기-함유 카복실산의 함량이 매우 적을 수 있다.As a result, the ester polythiol composition prepared according to the examples may be produced at a high yield, and the content of the thiol group-containing carboxylic acid contained therein may be very small.

상기 실시예에 따른 에스터 폴리티올 조성물은 이소시아네이트와 중합하여 굴절률, 아베수, 투명도, 유리전이온도, 황색도 등의 물성이 우수한 폴리티오우레탄으로 제조될 수 있으므로, 안경 렌즈, 카메라 렌즈 등의 광학 재료 분야에서 유용하다.The ester polythiol composition according to the present invention can be produced from polythiourethane having excellent properties such as refractive index, Abbe number, transparency, glass transition temperature, and yellowing degree by polymerization with isocyanate, It is useful in the field.

본 발명에서 "에스터 폴리티올"이라 함은, 분자 내에 에스터기(-COO-)를 하나 이상 갖는 폴리티올을 의미한다.In the present invention, the term " ester polythiol " means a polythiol having at least one ester group (-COO-) in the molecule.

또한, 본 발명에서 "에스터 폴리티올 조성물"이라 함은, 주성분으로서 에스터 폴리티올을 포함하고 그 외 미량의 다른 성분들을 포함하는 조성물을 의미한다.The term " ester polythiol composition " in the present invention means a composition comprising ester polythiol as a main component and other minor components.

에스터 폴리티올 조성물의 제조방법Method for preparing ester polythiol composition

실시예에 따른 에스터 폴리티올 조성물의 제조방법은, (1) 하기 화학식 1의 화합물 1 당량과 하기 화학식 2의 화합물 1.01~2 당량을 산 촉매 하에서 반응시켜, 미정제의 에스터 폴리티올 조성물을 얻는 단계; 및 (2) 상기 미정제의 에스터 폴리티올 조성물을 3차 아민 수용액으로 세정하여, 조성물 내에 잔류하는 상기 화학식 2의 화합물과 상기 산 촉매를 제거하는 단계를 포함한다:The method for producing an ester polythiol composition according to an embodiment includes the steps of (1) reacting 1 equivalent of a compound represented by the following formula (1) with 1.01 to 2 equivalents of a compound represented by the following formula (2) under acid catalysis to obtain a crude ester polythiol composition ; And (2) washing the crude ester polythiol composition with a tertiary amine aqueous solution to remove the compound of Formula 2 and the acid catalyst remaining in the composition:

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112017118394671-pat00003
Figure 112017118394671-pat00003

[화학식 2](2)

Figure 112017118394671-pat00004
Figure 112017118394671-pat00004

상기 식에서,In this formula,

R1은 각각 독립적으로 H, -CH3 또는 -CH2CH3이고;R 1 are each independently H, -CH 3 or -CH 2 CH 3 ;

R2는 각각 독립적으로 -CH3, -CH2CH3 또는 -CH2CH2CH3이고;R 2 are each independently -CH 3 , -CH 2 CH 3 or -CH 2 CH 2 CH 3 ;

p는 1 또는 2이고;p is 1 or 2;

m은 각각 독립적으로 0 내지 10의 정수이고;m is independently an integer of 0 to 10;

n은 각각 독립적으로 1 내지 4의 정수이고; each n is independently an integer of 1 to 4;

l 및 o는 각각 독립적으로 0 또는 1이되; l and o are each independently 0 or 1;

여기서 n + l + o = 4 이다.Where n + l + o = 4.

이하 각 단계별로 구체적으로 설명한다.Each step will be described in detail below.

(1) 미정제의 에스터 폴리티올 조성물의 제조(1) Preparation of unpurified ester polythiol composition

상기 단계 (1)에서는, 상기 화학식 1의 화합물 1 당량과 상기 화학식 2의 화합물 1.01~2 당량을 산 촉매 하에서 반응시켜, 미정제의 에스터 폴리티올 조성물을 얻는다.In the step (1), 1 equivalent of the compound of the formula (1) and 1.01 to 2 equivalents of the compound of the formula (2) are reacted under acid catalyst to obtain a crude ester polythiol composition.

상기 화학식 1의 화합물은 에스터 폴리티올의 합성 반응에 사용되는 다가 폴리올이다.The compound of formula (1) is a polyhydric polyol used for the synthesis reaction of ester polythiol.

상기 화학식 1의 화합물의 구체적인 예로는 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디트리메틸올프로판, 디펜타에리트리톨, 트리메틸올프로판 에틸렌옥사이드 부가물, 펜타에리트리톨 에틸렌옥사이드 부가물, 디트리메틸올프로판 에틸렌옥사이드 부가물, 디펜타에리트리톨 에틸렌옥사이드 부가물, 트리메틸올프로판 프로필렌옥사이드 부가물, 펜타에리트리톨 프로필렌옥사이드 부가물, 디트리메틸올프로판 프로필렌옥사이드 부가물, 디펜타에리트리톨 프로필렌옥사이드 부가물 등을 들 수 있다.Specific examples of the compound of Formula 1 include trimethylol propane, pentaerythritol, ditrimethylol propane, dipentaerythritol, trimethylolpropane ethylene oxide adduct, pentaerythritol ethylene oxide adduct, ditrimethylolpropane ethylene oxide adduct Water, dipentaerythritol ethylene oxide adduct, trimethylolpropane propylene oxide adduct, pentaerythritol propylene oxide adduct, ditrimethylolpropane propylene oxide adduct, dipentaerythritol propylene oxide adduct, and the like.

상기 화학식 2의 화합물은 에스터 폴리티올의 합성 반응에 사용되는 티올기-함유 카복실산이다.The compound of formula (2) is a thiol group-containing carboxylic acid used for the synthesis reaction of an ester polythiol.

상기 화학식 2의 화합물의 구체적인 예로는 티오글리콜산 및 3-머캅토프로피온산을 들 수 있다. Specific examples of the compound of Formula 2 include thioglycolic acid and 3-mercaptopropionic acid.

상기 화학식 1의 화합물과 상기 화학식 2의 화합물은 에스터화 반응하여 에스터 폴리티올 조성물을 생성한다.The compound of Formula 1 and the compound of Formula 2 are esterified to produce an ester polythiol composition.

상기 반응에서, 상기 화학식 2의 화합물은 상기 화학식 1의 화합물보다 과량으로 사용된다. In the above reaction, the compound of formula (2) is used in excess of the compound of formula (1).

예를 들어, 상기 화학식 1의 화합물 1 당량에 대하여 화학식 2의 화합물 1.01~2 당량, 보다 바람직하게는 1.05~1.15 당량이 사용된다.For example, 1.01 to 2 equivalents, more preferably 1.05 to 1.15 equivalents, of the compound of formula (2) is used relative to 1 equivalent of the compound of formula (1).

여기서 당량이란 분자량을 반응기의 수로 나눈 값을 의미한다. Here, the equivalence means a molecular weight divided by the number of reactors.

상기 화학식 1의 화합물과 상기 화학식 2의 화합물의 반응은 산 촉매 하에서 수행된다.The reaction between the compound of Formula 1 and the compound of Formula 2 is carried out under an acid catalyst.

상기 산 촉매로는 황산, 파라톨루엔설폰산, 트리플루오로설폰산 등의 황산 유도체가 바람직하다. As the acid catalyst, sulfuric acid, para-toluenesulfonic acid, sulfuric acid derivatives such as trifluorosulfonic acid are preferable.

또한 상기 반응 시에 부산물로 물이 발생하기 때문에, 물과 분리될 수 있는 용매 중에서 공비증류를 통해 수행될 수 있다.Further, since water is generated as a by-product in the above reaction, it can be carried out by azeotropic distillation in a solvent which can be separated from water.

구체적으로, 상기 화학식 1의 화합물과 상기 화학식 2의 화합물의 반응은 비극성 및 비양자성의 용매 중에서 공비증류를 통해 수행될 수 있다.Specifically, the reaction between the compound of Formula 1 and the compound of Formula 2 may be carried out by azeotropic distillation in a nonpolar and aprotic solvent.

보다 구체적으로, 상기 용매로는 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 탄화수소계 용매를 사용할 수 있다. More specifically, as the solvent, hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, hexane, heptane, octane and the like can be used.

이상의 과정을 통해 미정제된 에스터 폴리티올 조성물이 얻어진다.Through the above process, an untreated ester polythiol composition is obtained.

상기 미정제된 에스터 폴리티올 조성물 내에는 목적하는 에스터 폴리티올 외에도, 미반응된 상기 화학식 2의 화합물 및 산 촉매가 잔류하게 된다. In addition to the desired ester polythiol, the unreacted compound of Formula 2 and the acid catalyst remain in the untreated ester polythiol composition.

예를 들어, 상기 미정제된 에스터 폴리티올 조성물은 상기 화학식 2의 화합물을 0.1~10 중량%, 또는 0.5~5 중량%로 포함할 수 있다.For example, the untreated ester polythiol composition may contain 0.1 to 10% by weight or 0.5 to 5% by weight of the compound of Formula 2.

또한, 상기 미정제된 에스터 폴리티올 조성물은 상기 산 촉매를 0.001~1 중량%, 또는 0.01~0.5 중량%로 포함할 수 있다.In addition, the untreated ester polythiol composition may contain the acid catalyst in an amount of 0.001 to 1 wt%, or 0.01 to 0.5 wt%.

(2) 3차 아민 수용액을 이용한 세정(2) Cleaning with tertiary amine aqueous solution

상기 단계 (2)에서는, 앞서 얻은 미정제의 에스터 폴리티올 조성물을 3차 아민의 수용액으로 세정하여, 상기 에스터 폴리티올 조성물 내에 남아 있는 상기 화학식 2의 화합물과 산 촉매를 제거한다. In the step (2), the above crude ester polyol composition is washed with an aqueous solution of tertiary amine to remove the compound of formula (2) and the acid catalyst remaining in the ester polythiol composition.

상기 세정은, 예를 들어, 상기 미정제의 에스터 폴리티올 조성물을 상기 3차 아민의 수용액과 혼합한 뒤, 수층을 제거하는 것으로 수행될 수 있다. 이때 상기 미정제의 에스터 폴리티올 조성물은 용매를 함유한 것이거나 또는 용매와 혼합된 뒤 상기 3차 아민의 수용액과 혼합될 수 있다.The cleaning may be performed, for example, by mixing the crude ester polythiol composition with an aqueous solution of the tertiary amine followed by removal of the aqueous layer. Wherein the crude ester polythiol composition contains a solvent or may be mixed with an aqueous solution of the tertiary amine after being mixed with a solvent.

상기 3차 아민은 예를 들어 물과 상용성이 좋은 지방족 3차 아민일 수 있다.The tertiary amine may be, for example, an aliphatic tertiary amine having good compatibility with water.

구체적으로, 상기 3차 아민 수용액은 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민 또는 피리딘의 수용액일 수 있다.Specifically, the tertiary amine aqueous solution may be an aqueous solution of trimethylamine, triethylamine, tributylamine or pyridine.

상기 3차 아민은 물에 용해된 수용액의 형태로 사용되며, 예를 들어, 물에 1~15 중량%의 농도로 희석된 수용액으로 사용될 수 있다.The tertiary amine is used in the form of an aqueous solution dissolved in water, for example, as an aqueous solution diluted to a concentration of 1 to 15% by weight in water.

상기 3차 아민의 수용액은, 앞서 단계 (1)에서 얻은 에스터 폴리티올 조성물의 세정 시에, 잔류하는 상기 화학식 2의 화합물 및 산 촉매를 제거한다.The aqueous solution of the tertiary amine removes the remaining compound of formula (2) and the acid catalyst at the time of washing the ester polythiol composition obtained in step (1).

구체적으로, 상기 3차 아민은 상기 화학식 2의 화합물 및 상기 산 촉매와 염을 형성한다. 반면, 상기 3차 아민은 상기 미정제의 조성물 내에 함유된 주 목적물인 에스터 폴리티올과는 반응하지 않는다. Specifically, the tertiary amine forms a salt with the compound of Formula 2 and the acid catalyst. On the other hand, the tertiary amine does not react with ester polythiol, which is the main object contained in the crude composition.

그에 따라, 상기 3차 아민은 상기 화학식 2의 화합물 및 상기 산 촉매와만 선택적으로 반응하여 염을 형성한다. 이후, 상기 형성된 염은 수층으로 이동하여 제거됨으로써, 상기 미정제의 조성물 내의 상기 화학식 2의 화합물 및 상기 산 촉매만을 선택적으로 제거할 수 있다. Accordingly, the tertiary amine selectively reacts only with the compound of Formula 2 and the acid catalyst to form a salt. Thereafter, the salt formed is removed and transferred to the aqueous layer, whereby only the compound of Formula 2 and the acid catalyst in the crude composition can be selectively removed.

이와 같이 상기 3차 아민이 선택적인 반응을 하는 것은 분자 내에 활성 수소가 없기 때문이다.Thus, the selective reaction of the tertiary amine is due to the absence of active hydrogen in the molecule.

반면, 종래에 유사한 목적으로 사용되었던 금속 염기성 물질(예: 수산화나트륨, 수산화칼륨, 소듐카보네이트 등)이나 활성수소를 가지는 아민(1차 아민, 2차 아민)은, 에스터 폴리티올과도 반응하여 염을 생성하므로, 효과적인 정제가 어렵고 높은 수율을 기대할 수 없다.On the other hand, metal basic materials (for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, etc.) or amines having active hydrogen (primary amine, secondary amine) which have conventionally been used for similar purposes also react with ester polythiol So that effective purification is difficult and a high yield can not be expected.

상기 3차 아민의 수용액을 이용한 세정은, 세정 후 수층 폐액의 pH가 8 이상이 될 때까지, 또는 수층 폐액의 pH가 7~8 범위가 될 때까지 수행될 수 있다.The washing with the aqueous solution of the tertiary amine can be carried out until the pH of the aqueous waste solution after washing is 8 or more, or until the pH of the aqueous waste solution ranges from 7 to 8.

즉, 상기 세정 후의 수층 폐액이 pH 8 이상이면 상기 화학식 2의 화합물과 산 촉매가 완전히 염 형태로 변하여 제거된 것으로 생각할 수 있다. That is, if the aqueous waste solution after the washing has a pH of 8 or more, the compound of formula (2) and the acid catalyst may be considered to be completely converted into a salt form and removed.

(3) 산 세정(3) acid cleaning

상기 3차 아민의 수용액을 이용한 세정 후에, 에스터 폴리티올 조성물 내에는 3차 아민이 남아 있을 수 있다. 이와 같이 잔류하는 3차 아민은, 후속하는 우레탄 반응 등에서 공촉매로 작용하여 반응 속도를 높임으로써 제어를 어렵게 할 수 있다. After washing with an aqueous solution of the tertiary amine, tertiary amines may remain in the ester polythiol composition. The residual tertiary amine acts as a cocatalyst in a subsequent urethane reaction or the like to increase the reaction rate, thereby making it difficult to control the reaction.

따라서 상기 3차 아민 수용액으로 세정된 에스터 폴리티올 조성물을 산 수용액으로 세정하는 공정을 더 거칠 수 있다.Therefore, the step of washing the ester polythiol composition washed with the tertiary amine aqueous solution with an aqueous acid solution can be further roughened.

상기 산 세정은, 예를 들어, 상기 에스터 폴리티올 조성물을 산 수용액과 혼합한 뒤, 수층을 제거하는 것으로 수행될 수 있다.The pickling can be performed, for example, by mixing the ester polythiol composition with an aqueous acid solution and then removing the aqueous layer.

상기 산 수용액은 예를 들어 황산, 염산, 인산, 아세트산 또는 질산의 수용액일 수 있다. The aqueous acid solution may be, for example, an aqueous solution of sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, acetic acid or nitric acid.

일례로서, 상기 산 수용액은, 산 수용액의 총 중량을 기준으로, 1~10 중량%의 염산을 함유하는 것일 수 있다. As an example, the acid aqueous solution may contain 1 to 10% by weight of hydrochloric acid, based on the total weight of the aqueous acid solution.

상기 산 수용액을 이용한 세정은, 세정 후 수층 폐액의 pH가 5 이하가 될 때까지, 예를 들어 pH가 1~5 범위가 될 때까지 수행될 수 있다.The cleaning with the acid aqueous solution may be performed until the pH of the aqueous waste solution after washing becomes 5 or less, for example, until the pH is in the range of 1 to 5.

즉, 상기 세정 후의 수층 폐액이 pH 5 이하이면 상기 3차 아민이 제거된 것으로 생각할 수 있다. That is, when the pH of the aqueous waste solution after the washing is 5 or less, it can be considered that the tertiary amine is removed.

(4) 소금물 세정(4) Brine cleaning

상기 산 수용액을 이용한 세정 후에, 에스터 폴리티올 조성물 내에는 산 성분이 남아 있을 수 있다. 이와 같이 잔류하는 산 성분은, 후속하는 우레탄 반응 등에서 촉매독으로 작용하여 반응 효율을 저하시킬 수 있다.After rinsing with the acid solution, the acid component may remain in the ester polythiol composition. The acid component remaining as such can act as a catalyst poison in the subsequent urethane reaction and the like, thereby lowering the reaction efficiency.

따라서 상기 산 수용액으로 세정된 에스터 폴리티올의 용액을 소금물(brine)로 세정하는 공정을 더 거칠 수 있다.Therefore, the step of washing the solution of the ester polythiol washed with the acid aqueous solution with brine may be further carried out.

상기 소금물 세정은, 예를 들어, 상기 에스터 폴리티올 조성물을 소금물과 혼합한 뒤, 수층을 제거하는 것으로 수행될 수 있다.The brine cleaning may be performed, for example, by mixing the ester polythiol composition with brine and then removing the water layer.

이때 사용되는 소금물은 예를 들어 소금물의 총 중량을 기준으로 5~20 중량%의 소금을 함유할 수 있다.The salt water used herein may contain, for example, 5 to 20% by weight of salt based on the total weight of the salt water.

상기 소금물을 이용한 세정은, 세정 후 수층 폐액의 pH가 6 이상이 될 때까지, 예를 들어 pH가 6~7 범위가 될 때까지 반복적으로 수행될 수 있다.The washing with the brine can be repeatedly performed until the pH of the aqueous waste solution after washing becomes 6 or more, for example, until the pH is in the range of 6 to 7.

이상과 같은 방법에 따르면, 에스터 폴리티올이 높은 수율(예: 80% 이상)로 합성될 수 있다.According to the above process, the ester polythiol can be synthesized at a high yield (e.g., 80% or more).

또한, 상기 방법에 따르면 최종 제품에 잔류하는 화학식 2의 화합물 및 산 촉매의 함량이 매우 적을 수 있다.In addition, according to the above method, the content of the compound of formula (2) and the acid catalyst remaining in the final product may be very small.

에스터 폴리티올 조성물Ester polythiol composition

실시예에 따르면, 앞서의 방법으로 제조된 에스터 폴리티올 조성물이 제공된다.According to an embodiment, there is provided an ester polythiol composition prepared by the above process.

실시예에 따른 에스터 폴리티올 조성물은, 에스터 폴리티올 화합물을 주성분으로 포함한다.The ester polythiol composition according to the embodiment contains an ester polythiol compound as a main component.

상기 에스터 폴리티올 화합물은 2관능 이상, 3관능 이상, 또는 4관능 이상의 폴리티올일 수 있다. 예를 들어, 상기 에스터 폴리티올 화합물은 분자 내에 티올기가 2~10개, 2~8개, 2~6개 또는 2~4개인 폴리티올 수 있다. The ester polythiol compound may be a bifunctional or more polyfunctional, a trifunctional or more polyfunctional, or a polyfunctional or quaternary functional. For example, the ester polythiol compound may be a polythiol having 2 to 10, 2 to 8, 2 to 6, or 2 to 4 thiol groups in the molecule.

또한, 상기 에스터 폴리티올은 에스터기(-COO-)를 분자 내에 1개 이상 가질 수 있다.The ester polythiol may have at least one ester group (-COO-) in the molecule.

예를 들어, 실시예에 따른 에스터 폴리티올은 상기 화학식 1의 화합물의 하이드록실기에 상기 화학식 2의 화합물의 카복실기가 축합 반응하여 에스터기로 형성된 구조를 가질 수 있다.For example, the ester polythiol according to an embodiment may have a structure in which the carboxyl group of the compound of Formula 2 is condensed to the hydroxyl group of the compound of Formula 1 to form an ester group.

상기 에스터 폴리티올 조성물 내의 에스터 폴리티올 화합물의 함량은, 90 중량% 이상, 95 중량% 이상, 97 중량% 이상, 99 중량% 이상, 또는 99.5 중량% 이상일 수 있다.The ester polythiol compound content in the ester polythiol composition may be at least 90 wt%, at least 95 wt%, at least 97 wt%, at least 99 wt%, or at least 99.5 wt%.

또한, 상기 에스터 폴리티올 조성물은 그 외 성분을 미량 포함할 수 있으며, 이에 따라, 상기 에스터 폴리티올 조성물 내의 에스터 폴리티올 화합물의 함량은 100 중량% 미만일 수 있다.In addition, the ester polythiol composition may contain a minor amount of other components, so that the content of the ester polythiol compound in the ester polythiol composition may be less than 100% by weight.

실시예에 따른 에스터 폴리티올 조성물은, 상기 화학식 2의 화합물의 함량이 0.5 중량% 이하이다. 보다 구체적으로, 상기 에스터 폴리티올 조성물 내의 상기 화학식 2의 화합물의 함량은, 0.4 중량% 이하, 또는 0.3 중량% 이하일 수 있다.In the ester polythiol composition according to the embodiment, the content of the compound of Formula 2 is 0.5% by weight or less. More specifically, the content of the compound of Formula 2 in the ester polythiol composition may be 0.4 wt% or less, or 0.3 wt% or less.

또한, 실시예에 따른 에스터 폴리티올 조성물은, 잔류하는 산 촉매의 함량이 0.5 중량% 이하일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 에스터 폴리티올 조성물 내의 산 촉매의 함량은, 0.4 중량% 이하, 0.3 중량% 이하, 0.2 중량% 이하, 또는 0.1 중량% 이하일 수 있다.Further, in the ester polythiol composition according to the embodiment, the content of the remaining acid catalyst may be 0.5% by weight or less. More specifically, the content of the acid catalyst in the ester polythiol composition may be 0.4 wt% or less, 0.3 wt% or less, 0.2 wt% or less, or 0.1 wt% or less.

또한, 상기 실시예에 따른 에스터 폴리티올 조성물은 에스터 폴리티올의 순도가 50% 이상일 수 있다. 상기 순도는 상기 화학식 1의 화합물과 상기 화학식 2의 화합물의 반응을 통해 얻어진 에스터 폴리티올 조성물의 총 중량에 대해서, 상기 반응을 통해 이론상 수득되어야 하는 에스터 폴리티올의 실제 수득량의 백분율을 의미할 수 있다.Also, the ester polythiol composition according to the above example may have an ester polythiol purity of 50% or more. This purity may mean the percentage of the actual yield of the ester polythiol which should be theoretically obtained through the reaction with respect to the total weight of the ester polythiol composition obtained through the reaction of the compound of formula 1 and the compound of formula 2. [ have.

예를 들어, 상기 실시예에 따른 에스터 폴리티올 조성물은 4관능 이상의 에스터 폴리티올을 50 중량% 이상, 예를 들어 50~99 중량%로 함유할 수 있다. For example, the ester polythiol composition according to the above example may contain at least 50 wt%, for example, 50 to 99 wt%, of ester polythiol having 4 or more functionalities.

또한, 상기 실시예에 따른 에스터 폴리티올 조성물은, 정제에 사용되었던 3차 아민 화합물이 거의 존재하지 않게 된다. 예를 들어, 상기 에스터 폴리티올 조성물 내의 3차 아민 화합물의 함량은 0.1 중량% 미만, 0.01 중량% 이하의 범위일 수 있다.Further, in the ester polythiol composition according to the above-mentioned embodiment, the tertiary amine compound used in the purification hardly exists. For example, the content of the tertiary amine compound in the ester polythiol composition may range from less than 0.1% by weight to less than 0.01% by weight.

또한, 실시예에 따른 폴리티올은 APHA (American Public Health Association) 색상 값이 5~30의 범위, 또는 10~20의 범위일 수 있다.In addition, the polythiol according to an embodiment may have an APHA (American Public Health Association) color value in the range of 5 to 30, or in the range of 10 to 20.

또한, 실시예에 따른 폴리티올은 액상 굴절률(nd25)이 1.510~1.540의 범위, 또는 1.520~1.530의 범위일 수 있다.In addition, the polythiol according to the embodiment may have a liquid refractive index (nd 25) in the range of 1.510 to 1.540, or in the range of 1.520 to 1.530.

중합성 조성물Polymerizable composition

실시예에 따르면, 상기 폴리티올 및 이소시아네이트를 포함하는 중합성 조성물이 제공된다.According to an embodiment, there is provided a polymerizable composition comprising said polythiol and isocyanate.

상기 중합성 조성물은 폴리티올 및 이소시아네이트를 혼합 상태로 포함하거나 또는 분리된 상태로 포함할 수 있다. 즉, 상기 중합성 조성물 내에서, 폴리티올 및 이소시아네이트는, 서로 접촉하여 배합된 상태이거나, 또는 서로 접촉하지 않도록 분리된 상태일 수 있다.The polymerizable composition may contain the polythiol and the isocyanate in a mixed state or may contain the polythiol and the isocyanate in a separated state. That is, in the polymerizable composition, the polythiol and the isocyanate may be in a state of being in contact with each other or separated from each other so as not to contact each other.

상기 중합성 조성물은 상기 폴리티올로서 앞서의 실시예에 따른 에스터 폴리티올 조성물을 100 중량%의 양으로 포함할 수 있다. 또한, 필요에 따라 상기 중합성 화합물은 상술한 바와 같은 에스터 폴리티올 조성물 외에 다른 폴리티올을 추가로 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 중합성 조성물은 전체 폴리티올 100 중량부에 대하여 상기 에스터 폴리티올 조성물을 5 내지 70 중량부의 양으로 포함할 수 있다. The polymerizable composition may contain, as the polythiol, the ester polythiol composition according to the above embodiment in an amount of 100% by weight. In addition, if necessary, the polymerizable compound may further include a polythiol other than the ester polythiol composition as described above. In this case, the polymerizable composition may contain the ester polythiol composition in an amount of 5 to 70 parts by weight based on 100 parts by weight of the total polythiol.

상기 이소시아네이트는 폴리티오우레탄의 합성에 사용되는 통상적인 것을 사용할 수 있다.The isocyanate may be a conventional one used for the synthesis of polythiourethane.

구체적으로 상기 이소시아네이트는, 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4-디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2-디메틸펜탄디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥산디이소시아네이트, 부텐디이소시아네이트, 1,3-부타디엔-1,4-디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,6,11-운데카트리이소시아네이트, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이토메틸옥탄, 비스(이소시아네이토에틸)카보네이트, 비스(이소시아네이토에틸)에테르, 1,2-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,3-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 시클로헥산디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 디시클로헥실디메틸메탄이소시아네이트, 2,2-디메틸디시클로헥실메탄이소시아네이트, 비스(이소시아네이토에틸)설파이드, 비스(이소시아네이토프로필)설파이드, 비스(이소시아네이토헥실)설파이드, 비스(이소시아네이토메틸)설폰, 비스(이소시아네이토메틸)디설파이드, 비스(이소시아네이토프로필)디설파이드, 비스(이소시아네이토메틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)에탄, 비스(이소시아네이토메틸티오)에탄, 1,5-디이소시아네이토-2-이소시아네이토메틸-3-티아펜탄, 2,5-디이소시아네이토티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)티오펜, 2,5-디이소시아네이토테트라히드로티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 3,4-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 2,5-디이소시아네이토-1,4-디티안, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,4-디티안, 4,5-디이소시아네이토-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-2-메틸-1,3-디티오란 등을 포함하는 지방족 이소시아네이트계 화합물; 및 비스(이소시아네이토에틸)벤젠, 비스(이소시아네이토프로필)벤젠, 비스(이소시아네이토부틸)벤젠, 비스(이소시아네이토메틸)나프탈렌, 비스(이소시아네이토메틸)디페닐에테르, 페닐렌디이소시아네이트, 에틸페닐렌디이소시아네이트, 이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 디메틸페닐렌디이소시아네이트, 디에틸페닐렌디이소시아네이트, 디이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 트리메틸벤젠트리이소시아네이트, 벤젠트리이소시아네이트, 비페닐디이소시아네이트, 톨루엔디이소시아네이트, 톨루이딘디이소시아네이트, 4,4-디페닐메탄디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트, 비벤질-4,4-디이소시아네이트, 비스(이소시아네이토페닐)에틸렌, 3,3-디메톡시비페닐-4,4-디이소시아네이트, 헥사히드로벤젠디이소시아네이트, 헥사히드로디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트, o-크실렌디이소시아네이트, m-크실렌디이소시아네이트, p-크실렌디이소시아네이트, 자일렌디이소시아네이트, X-자일렌디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아네이토메틸)사이클로헥산, 디페닐설파이드-2,4-디이소시아네이트, 디페닐설파이드-4,4-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시-4,4-디이소시아네이토디벤질티오에테르, 비스(4-이소시아네이토메틸벤젠)설파이드, 4,4-메톡시벤젠티오에틸렌글리콜-3,3-디이소시아네이트, 디페닐디설파이드-4,4-디이소시아네이트, 2,2-디메틸디페닐디설파이드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디설파이드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디설파이드-6,6-디이소시아네이트, 4,4-디메틸디페닐디설파이드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시디페닐디설파이드-4,4-디이소시아네이트, 4,4-디메톡시디페닐디설파이드-3,3-디이소시아네이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다. Specifically, the isocyanate is at least one member selected from the group consisting of isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4-diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,2-dimethylpentane diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexane diisocyanate, 1,3-butadiene-1,4-diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 1,6,11-undecatriisocyanate, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, (Isocyanatoethyl) ether, 1,2-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, 1 (isocyanatomethyl) , 3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, dicyclohexylmethane diisocyanate, cyclohexane diisocyanate, methylcyclohexane diisocyanate, dicyclohexyl (Isocyanatoethyl) sulfide, bis (isocyanatohexyl) sulfide, bis (isocyanate) sulfide, bis (isocyanatoethyl) Bis (isocyanatomethylthio) methane, bis (isocyanatoethylthio) methane, bis (isocyanatomethyl) disulfide, bis (Isocyanatoethylthio) ethane, bis (isocyanatomethylthio) ethane, 1,5-diisocyanato-2-isocyanatomethyl-3-thiapentane, 2,5-diisocyanatothiophene , 2,5-bis (isocyanatomethyl) thiophene, 2,5-diisocyanatotetrahydrothiophene, 2,5-bis (isocyanatomethyl) tetrahydrothiophene, 3,4- Bis (isocyanatomethyl) tetrahydrothiophene, 2,5-diisocyanato-1,4-dithiane, 2,5- (Isocyanatomethyl) -1,4-dithiane, 4,5-diisocyanato-1,3-dithiolane, 4,5-bis (isocyanatomethyl) Oran, aliphatic isocyanate compounds including 4,5-bis (isocyanatomethyl) -2-methyl-1,3-dithiolane, and the like; (Isocyanatoethyl) benzene, bis (isocyanatoethyl) benzene, bis (isocyanatoethyl) benzene, bis (isocyanatoethyl) Examples of the aromatic diisocyanate compound include aromatic diisocyanates such as phenyl ether, phenylenediisocyanate, ethylphenylenediisocyanate, isopropylphenylenediisocyanate, dimethylphenylenediisocyanate, diethylphenylenediisocyanate, diisopropylphenylenediisocyanate, trimethylbenzene triisocyanate, Toluene diisocyanate, 4,4-diphenylmethane diisocyanate, 3,3-dimethyldiphenylmethane-4,4-diisocyanate, bibenzyl-4,4-diisocyanate, bis (isocyanato Phenyl) ethylene, 3,3-dimethoxybiphenyl-4,4-diisocyanate, hexahydrobenzene diisocyanate, hexahydrate Xylene diisocyanate, p-xylene diisocyanate, xylene diisocyanate, X-xylene diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) ) Cyclohexane, diphenylsulfide-2,4-diisocyanate, diphenylsulfide-4,4-diisocyanate, 3,3-dimethoxy-4,4-diisocyanatodibenzylthioether, bis Diisocyanate, diphenyldisulfide-4,4-diisocyanate, 2,2-dimethyldiphenyldisulfide-5,5-diisocyanatomethylbenzene) sulfide, 4,4-methoxybenzenethiolethylene glycol- Diisocyanate, 3,3-dimethyldiphenyldisulfide-5,5-diisocyanate, 3,3-dimethyldiphenyldisulfide-6,6-diisocyanate, 4,4-dimethyldiphenyldisulfide-5,5-diisocyanate , 3,3-dimethoxydiphenyl disulfide-4,4-diisocyanate, 4,4 -Dimethoxydiphenyl disulfide-3,3-diisocyanate, and mixtures thereof.

보다 구체적으로는, 상기 이소시아네이트로서 1,3-비스(이소시아네이토메틸)사이클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 자일렌디이소시아네이트, 톨루엔디이소시아네이트 등을 사용할 수 있다.More specifically, as the isocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylene diisocyanate, toluene diisocyanate and the like can be used.

상기 중합성 조성물은, 그 외에도 필요에 따라, 내부 이형제, 자외선 흡수제, 중합개시제, 열안정제, 색상보정제, 사슬연장제, 가교제, 광안정제, 산화방지제, 충전제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.The polymerizable composition may further contain additives such as an internal release agent, an ultraviolet absorber, a polymerization initiator, a heat stabilizer, a color correcting agent, a chain extender, a crosslinking agent, a light stabilizer, an antioxidant, .

상기 내부 이형제로는, 퍼플루오르알킬기, 히드록시알킬기 또는 인산에스테르기를 지닌 불소계 비이온계면활성제; 디메틸폴리실록산기, 히드록시알킬기 또는 인산에스테르기를 가진 실리콘계 비이온계면활성제; 알킬제 4급 암모늄염 즉, 트리메틸세틸 암모늄염, 트리메틸스테아릴 암모늄염, 디메틸에틸세틸 암모늄염, 트리에틸도데실 암모늄염, 트리옥틸메틸 암모늄염, 디에틸시클로헥사도데실 암모늄염; 산성 인산에스테르 중에서 선택된 성분이 단독으로 혹은 2종 이상 함께 사용될 수 있다.Examples of the internal release agent include a fluorine-based nonionic surfactant having a perfluoroalkyl group, a hydroxyalkyl group or a phosphate ester group; A silicone-based nonionic surfactant having a dimethylpolysiloxane group, a hydroxyalkyl group or a phosphate ester group; Alkyl quaternary ammonium salts such as trimethylcetylammonium salt, trimethylstearylammonium salt, dimethylethylcetylammonium salt, triethyldodecylammonium salt, trioctylmethylammonium salt, diethylcyclohexadodecylammonium salt; The acid phosphate ester may be used singly or in combination of two or more thereof.

상기 자외선 흡수제로는 벤조페논계, 벤조트라이아졸계, 살리실레이트계, 시아노아크릴레이트계, 옥사닐라이드계 등이 사용될 수 있다. Examples of the ultraviolet absorber include benzophenone, benzotriazole, salicylate, cyanoacrylate, oxanilide, and the like.

상기 중합개시제로는 아민계, 인계, 유기주석계, 유기구리계, 유기갈륨, 유기지르코늄, 유기철계, 유기아연, 유기알루미늄 등이 사용될 수 있다. As the polymerization initiator, an amine-based, phosphorus-based, organosilicate-based, organic copper-based, organic gallium, organic zirconium, organic iron-based, organic zinc, and organic aluminum may be used.

상기 열안정제로는, 금속 지방산염계, 인계, 납계, 유기주석계 등을 1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용가능하다. Examples of the thermal stabilizer include metal fatty acid salts, phosphorus, lead, and an organosilicate, which may be used alone or in combination of two or more.

폴리티오우레탄계 광학 재료Polythiourethane-based optical material

실시예는 상술한 바와 같은 중합성 조성물로부터 얻은 폴리티오우레탄계 화합물을 제공한다. 상기 폴리티오우레탄계 화합물은 상기 폴리티올 조성물과 이소시아네이트 화합물이 중합(및 경화)되어 제조된다. 상기 중합 반응에서 SH기/NCO기의 반응 몰비는 0.5 내지 3.0일 수 있고, 구체적으로는 0.6 내지 2.0, 보다 구체적으로는 0.8 내지 1.3일 수 있고, 상기 범위 내이면 광학재료로서 요구되는 굴절률, 내열성 등의 특성 및 밸런스를 향상시킬 수 있다. 또한, 반응 속도를 조절하기 위해서, 폴리티오우레탄의 제조에 통상적으로 이용되는 상기 언급된 반응 촉매가 첨가될 수 있다.The examples provide polythiourethane-based compounds obtained from the polymerizable composition as described above. The polythiourethane compound is prepared by polymerizing (and curing) the polythiol composition and the isocyanate compound. The reaction mole ratio of the SH group / NCO group in the polymerization reaction may be 0.5 to 3.0, specifically 0.6 to 2.0, more specifically 0.8 to 1.3. Within this range, the refractive index, heat resistance And the balance and the like can be improved. Further, in order to control the reaction rate, the above-mentioned reaction catalyst which is conventionally used for the production of polythiourethane may be added.

실시예는 상기 중합성 조성물을 경화시켜 얻은 성형체 및 상기 성형체로 이루어지는 광학 재료를 제공한다. 상기 광학 재료는 중합성 조성물이 중합 및 성형되어 제조될 수 있다.The embodiment provides a molded article obtained by curing the polymerizable composition and an optical material comprising the molded article. The optical material may be prepared by polymerizing and molding the polymerizable composition.

먼저, 상기 중합성 조성물을 감압하에 탈기(degassing)한 후, 광학 재료 성형용 몰드에 주입한다. 이와 같은 탈기 및 몰드 주입은 예를 들어 20 내지 40℃의 온도 범위에서 수행될 수 있다. 몰드에 주입한 후에는 통상 저온으로부터 고온으로 서서히 가열하여 중합을 수행한다.First, the polymerizable composition is degassed under reduced pressure, and then injected into a mold for optical material molding. Such degassing and mold injection can be performed, for example, at a temperature range of 20 to 40 캜. After injection into the mold, the polymerization is usually carried out by gradually heating from a low temperature to a high temperature.

상기 중합 반응의 온도는 예를 들어 20 내지 150℃일 수 있고, 구체적으로 25 내지 120℃일 수 있다. 또한, 반응 속도를 조절하기 위해서, 폴리티오우레탄의 제조에 통상적으로 이용되는 반응 촉매가 첨가될 수 있으며, 이의 구체적인 종류는 앞서 예시한 바와 같다.The temperature of the polymerization reaction may be, for example, 20 to 150 ° C, and specifically 25 to 120 ° C. In order to control the reaction rate, a reaction catalyst which is usually used in the production of polythiourethane may be added, and specific examples thereof are as exemplified above.

이후 폴리티오우레탄계 광학 재료를 몰드로부터 분리한다.Then, the polythiourethane-based optical material is separated from the mold.

상기 광학 재료는 제조시 사용하는 주형의 몰드를 바꾸는 것으로 여러 가지 형상일 수 있다. 구체적으로, 안경렌즈, 카메라 렌즈, 발광다이오드(LED) 등의 형태일 수 있다.The optical material may be in various shapes by changing the mold of the mold used in the production. Specifically, it may be in the form of a spectacle lens, a camera lens, a light emitting diode (LED), or the like.

상기 광학 재료는 1.65 내지 1.75 또는 1.65 내지 1.70의 굴절률을 가질 수 있다. The optical material may have a refractive index of 1.65 to 1.75 or 1.65 to 1.70.

상기 광학 재료는 광학 렌즈, 구체적으로 플라스틱 광학 렌즈일 수 있다. 상기 광학 렌즈는 필요에 따라 반사 방지, 고경도 부여, 내마모성 향상, 내약품성 향상, 방운성(anti-fogging) 부여 또는 패션성 부여를 위해 표면연마, 대전 방지 처리, 하드 코트 처리, 무반사 코트 처리, 염색 처리, 조광(調光)처리 등의 물리적, 화학적 처리를 실시하여 개량할 수 있다. The optical material may be an optical lens, specifically a plastic optical lens. The optical lens can be used for surface polishing, antistatic treatment, hard coat treatment, anti-reflection coat treatment, anti-reflection treatment, anti-reflection treatment, anti- A dyeing treatment, a dimming treatment, and the like.

이하 보다 구체적인 실시예들을 예시한다.The following more specific embodiments are illustrated.

실시예: 에스터 폴리티올의 제조Example: Preparation of ester polythiol

(1) 실시예 1(1) Example 1

단계 1: 미정제의 에스터 폴리티올 조성물의 제조Step 1: Preparation of crude ester polythiol composition

냉각콘덴서, 교반장치, 딘스탁 및 온도조절장치가 장착된 멘틀 1L 3구 반응기에, 펜타에리트리톨(퍼스탑사 99%) 63.0g(0.46몰), 티오글리콜산(이하 TGA, 다이셀사 99%) 187.4g(2.03몰), 파라톨루엔설폰산 0.8g, 및 톨루엔 466.4g을 투입하고, 반응기 온도를 120℃까지 올렸다. 반응기 온도를 110~115℃로 유지하면서 반응 부산물인 물을 딘스탁으로 배출하기 시작하였다. 반응 4시간 후 32.5g의 물이 배출된 것을 확인하고 반응을 종료하였다. 이때 배출된 물의 양으로 계산된 반응 전환율은 97.5%이었다. 60℃ 및 1 Torr에서 톨루엔을 감압증류하고, 에틸아세테이트 653.6g을 더하여, 펜타에리트리톨 테트라머캅토아세테이트(이하 PETMA)를 함유하는 미정제의 조성물을 수득하였다. 63.0 g (0.46 mol) of pentaerythritol (99%), thioglycolic acid (hereinafter referred to as TGA, 99% of Diesell) were added to a Mentel 1L three-necked reactor equipped with a condenser, a stirring device, 187.4 g (2.03 mol) of p-toluenesulfonic acid, 0.8 g of para-toluenesulfonic acid and 466.4 g of toluene were charged and the reactor temperature was raised to 120 캜. The reaction by-product, water, was started to be discharged to Dean Stark while maintaining the reactor temperature at 110 to 115 ° C. After 4 hours of reaction, it was confirmed that 32.5 g of water was discharged, and the reaction was terminated. The reaction conversion rate calculated by the amount of discharged water was 97.5%. The toluene was distilled off under reduced pressure at 60 DEG C and 1 Torr, and 653.6 g of ethyl acetate was added to obtain a crude composition containing pentaerythritol tetramercaptoacetate (hereinafter PETMA).

단계 2: 3차 아민 수용액을 이용한 정제Step 2: Purification using a tertiary amine aqueous solution

상기 단계 1에서 얻은 미정제의 PETMA 조성물에 5% 트리에틸아민 수용액 435.7g을 혼합하고 분별 깔대기에서 수층을 제거하면서 수층의 pH가 9인 것을 확인하였다. 수득한 유기층에 3% HCl 수용액을 혼합하고 분별 깔대기에서 수층을 제거하면서 수층의 pH가 2인 것을 확인하였다. 수득한 유기층에 5% 소금물(brine) 435.7g을 혼합하고 분별 깔대기에서 수층을 제거하면서 수층의 pH를 확인하여 pH 6 이상일 때까지 반복하였다. 수득한 유기층을 50℃ 및 1 Torr에서 감압증류를 통해 정제하여 최종 PETMA를 얻었다.435.7 g of a 5% triethylamine aqueous solution was mixed with the crude PETMA composition obtained in the step 1, and the aqueous layer was removed from the separating funnel to confirm that the aqueous layer had a pH of 9. The obtained organic layer was mixed with 3% aqueous HCl solution and the aqueous layer was removed from the separating funnel to confirm that the pH of the aqueous layer was 2. The obtained organic layer was mixed with 435.7 g of 5% brine and the pH of the aqueous layer was checked while removing the aqueous layer from the separating funnel, and the operation was repeated until the pH was 6 or higher. The obtained organic layer was purified by vacuum distillation at 50 DEG C and 1 Torr to obtain final PETMA.

(2) 실시예 2(2) Example 2

상기 실시예 1의 단계 1의 절차대로 얻은 미정제의 PETMA 조성물에, 5% 피리딘 수용액 435.7g을 혼합하고 분별 깔대기에서 수층을 제거하면서 수층의 pH가 10인 것을 확인하였다. 수득한 유기층에 3% HCl 수용액을 혼합하고 분별 깔대기에서 수층을 제거하면서 수층의 pH가 3인 것을 확인하였다. 수득한 유기층에 5% 소금물 435.7g을 혼합하고 분별 깔대기에서 수층을 제거하면서 수층의 pH를 확인하여 pH 6 이상일 때까지 반복하였다. 수득한 유기층을 50℃ 및 1 Torr에서 감압증류를 통해 정제하여 최종 PETMA를 얻었다.435.7 g of a 5% aqueous pyridine solution was mixed with the crude PETMA composition obtained in the procedure of Step 1 of Example 1 above, and the aqueous layer was removed from the separating funnel to confirm that the pH of the aqueous layer was 10. The obtained organic layer was mixed with 3% HCl aqueous solution, and the aqueous layer was removed from the separating funnel to confirm that the pH of the aqueous layer was 3. The obtained organic layer was mixed with 435.7 g of 5% brine, and the pH of the aqueous layer was checked while removing the water layer from the separating funnel and repeated until the pH was 6 or higher. The obtained organic layer was purified by vacuum distillation at 50 DEG C and 1 Torr to obtain final PETMA.

(3) 실시예 3(3) Example 3

상기 실시예 1의 단계 1의 절차대로 얻은 미정제의 PETMA 조성물에, 2% 트리에틸아민 수용액 435.7g을 혼합하고 분별 깔대기에서 수층을 제거하면서 수층의 pH가 8인 것을 확인하였다. 수득한 유기층에 2% HCl 수용액을 혼합하고 분별 깔대기에서 수층을 제거하면서 수층의 pH가 4인 것을 확인하였다. 수득한 유기층에 5% 소금물 435.7g을 혼합하고 분별 깔대기에서 수층을 제거하면서 수층의 pH를 확인하여 pH 6 이상일 때까지 반복하였다. 수득한 유기층을 50℃ 및 1 Torr에서 감압증류를 통해 정제하여 최종 PETMA를 얻었다.435.7 g of a 2% triethylamine aqueous solution was mixed with the crude PETMA composition obtained in the procedure of Step 1 of Example 1 above, and the aqueous layer was removed from the separating funnel to confirm that the aqueous layer had a pH of 8. The obtained organic layer was mixed with an aqueous 2% HCl solution and the aqueous layer was removed from the separating funnel to confirm that the pH of the aqueous layer was 4. The obtained organic layer was mixed with 435.7 g of 5% brine, and the pH of the aqueous layer was checked while removing the water layer from the separating funnel and repeated until the pH was 6 or higher. The obtained organic layer was purified by vacuum distillation at 50 DEG C and 1 Torr to obtain final PETMA.

비교예: 에스터 폴리티올의 제조Comparative Example: Preparation of ester polythiol

(1) 비교예 1(1) Comparative Example 1

상기 실시예 1의 단계 1의 절차대로 얻은 미정제의 PETMA 조성물에, 5% 수산화나트륨 수용액 435.7g을 혼합하고 분별 깔대기에서 수층을 제거하면서 수층의 pH가 8인 것을 확인하였다. 수득한 유기층에 3% HCl 수용액을 혼합하고 분별 깔대기에서 수층을 제거하면서 수층의 pH가 4인 것을 확인하였다. 수득한 유기층에 5% 소금물 435.7g을 혼합하고 분별 깔대기에서 수층을 제거하면서 수층의 pH를 확인하여 pH 6 이상일 때까지 반복하였다. 수득한 유기층을 50℃ 및 1 Torr에서 감압증류를 통해 정제하여 최종 PETMA를 얻었다.435.7 g of a 5% sodium hydroxide aqueous solution was added to the crude PETMA composition obtained in the procedure of Step 1 of Example 1 above and the aqueous layer was removed from the separating funnel to confirm that the pH of the aqueous layer was 8. The obtained organic layer was mixed with 3% HCl aqueous solution, and the aqueous layer was removed from the separating funnel to confirm that the pH of the aqueous layer was 4. The obtained organic layer was mixed with 435.7 g of 5% brine, and the pH of the aqueous layer was checked while removing the water layer from the separating funnel and repeated until the pH was 6 or higher. The obtained organic layer was purified by vacuum distillation at 50 DEG C and 1 Torr to obtain final PETMA.

(2) 비교예 2(2) Comparative Example 2

상기 실시예 1의 단계 1의 절차대로 얻은 미정제의 PETMA 조성물에, 5% 암모니아 수용액 435.7g을 혼합하고 분별 깔대기에서 수층을 제거하면서 수층의 pH가 8인 것을 확인하였다. 수득한 유기층에 3% HCl 수용액을 혼합하고 분별 깔대기에서 수층을 제거하면서 수층의 pH가 4인 것을 확인하였다. 수득한 유기층에 5% 소금물 435.7g을 혼합하고 분별 깔대기에서 수층을 제거하면서 수층의 pH를 확인하여 pH 6 이상일 때까지 반복하였다. 수득한 유기층을 50℃ 및 1 Torr에서 감압증류를 통해 정제하여 최종 PETMA를 얻었다.435.7 g of a 5% aqueous ammonia solution was mixed with the crude PETMA composition obtained in the procedure of Step 1 of Example 1, and the aqueous layer was removed from the separating funnel to confirm that the pH of the aqueous layer was 8. The obtained organic layer was mixed with 3% HCl aqueous solution, and the aqueous layer was removed from the separating funnel to confirm that the pH of the aqueous layer was 4. The obtained organic layer was mixed with 435.7 g of 5% brine, and the pH of the aqueous layer was checked while removing the water layer from the separating funnel and repeated until the pH was 6 or higher. The obtained organic layer was purified by vacuum distillation at 50 DEG C and 1 Torr to obtain final PETMA.

(3) 비교예 3(3) Comparative Example 3

냉각 콘덴서, 교반장치, 딘스탁 및 온도조절장치가 장착된 멘틀 1리터 3구 반응기에, 펜타에리트리톨(퍼스탑사 99%) 63.0g (0.46몰), TGA(다이셀사 99%) 339.0g(3.68몰) 및 톨루엔 466.4g를 투입하고, 반응기 온도를 120℃까지 올렸다. 반응기 온도를 110~115℃로 유지하면서 반응 부산물인 물을 딘스탁으로 배출하기 시작하였다. 반응 8시간 후 30.1g의 물이 배출된 것을 확인하고 반응을 종료하였다. 이때 배출된 물의 양으로 계산된 반응 전환율은 90.4%이었다. 반응액을 60℃ 및 1 Torr에서 감압증류하여 톨루엔을 제거하였다. 이후 반응액을 110℃ 및 5 Torr에서 다시 감압증류하여 잔류하는 TGA를 제거하여, 최종 PETMA를 얻었다.(0.46 mol) of pentaerythritol (99%) and 339.0 g (3.68 mol) of TGA (99% of Diesels) were charged in a 1 liter three-necked reactor equipped with a stirrer, a cooling condenser, Mol) and 466.4 g of toluene were charged, and the reactor temperature was raised to 120 ° C. The reaction by-product, water, was started to be discharged to Dean Stark while maintaining the reactor temperature at 110 to 115 ° C. After 8 hours of reaction, it was confirmed that 30.1 g of water was discharged, and the reaction was terminated. The reaction conversion rate calculated by the amount of discharged water was 90.4%. The reaction solution was distilled under reduced pressure at 60 ° C and 1 Torr to remove toluene. Thereafter, the reaction solution was distilled again under reduced pressure at 110 DEG C and 5 Torr to remove residual TGA, thereby obtaining final PETMA.

시험예Test Example

상기 실시예 및 비교예에서 제조한 에스터 폴리티올에 대해, 아래의 절차에 따라 평가하여 그 결과를 하기 표 1에 정리하였다.The ester polythiol prepared in the above Examples and Comparative Examples was evaluated according to the following procedure. The results are summarized in Table 1 below.

(1) 에스터 폴리티올의 수율 (1) Yield of ester polythiol

상기 실시예 및 비교예에서 합성한 에스터 폴리티올의 수율을, 이론적인 수득량(200g)에 대한 백분율로서 산출하였다. The yield of the ester polythiol synthesized in the above Examples and Comparative Examples was calculated as a percentage of the theoretical yield (200 g).

수율(%) = (실제 수득량(g) / 이론적 수득량(200g)) x 100 Yield (%) = (actual gain (g) / theoretical gain (200 g)) x 100

(2) 잔류 티오글리콜산(TGA) 함량 및 제품 순도(2) Residual thioglycolic acid (TGA) content and product purity

에스터 폴리티올 시료 내의 잔류 TGA 함량을 고성능액체크로마토그래피(HPLC, LC 20A, Shimazhu, Japan)를 이용하여 측정하였다. 이때 C18 역상칼럼 (Ace 5, 250 X 4.6 ㎜, ACE-121-2548, particle size 5㎛) 및 혼합용매(CH3CN : H2O = 7:3)를 이용하였고, 1 mL/min의 유속, 240nm의 UV 파장, 및 40℃의 오븐 온도 조건으로 측정하였다. 시험 중에 TGA는 약 2.4분, 4관능 제품은 10.2분에서 관찰되었으며 전체 량에 대한 면적비로 TGA의 함량 및 4관능 제품의 함량(제품 순도)를 측정하였다. The residual TGA content in the ester polythiol sample was measured using high performance liquid chromatography (HPLC, LC 20A, Shimazhu, Japan). At this time, a C18 reverse phase column (Ace 5, 250 X 4.6 mm, ACE-121-2548, particle size 5 μm) and a mixed solvent (CH 3 CN: H 2 O = 7: 3) , A UV wavelength of 240 nm, and an oven temperature condition of 40 占 폚. During the test, TGA was observed for about 2.4 minutes and tetrafunctional product was observed for 10.2 minutes. The content of TGA and the content of tetrafunctional products (product purity) were measured by area ratio to the total amount.

(3) APHA (American Public Health Association) 색상(3) APHA (American Public Health Association) color

에스터 폴리티올 시료의 APHA를 Hunterlab사의 ColorQuest XE 기기를 이용하여 측정하였다. 이때, 백금과 코발트의 시약을 용해하여 조제한 표준액의 농도를 데이터화하여 내장된 프로그램과 시료액의 비교에서 얻어진 APHA 색상 값을 측정치(도수)로 하였다. 측정한 값이 작을수록 색상이 양호한 것으로 평가한다.The APHA of the ester polythiol sample was measured using a ColorQuest XE instrument from Hunterlab. At this time, the concentration of the standard solution prepared by dissolving the reagents of platinum and cobalt was data, and the APHA color value obtained by the comparison between the program and the sample solution was determined as a frequency (frequency). The smaller the measured value, the better the color.

(4) 액상 굴절률(4) liquid refractive index

에스터 폴리티올 시료의 액상 굴절률을, 교토전자사의 액상 굴절계 Refractometer RA-600를 이용하여 25℃에서 측정하였다.The liquid refractive index of the ester polythiol sample was measured at 25 캜 using Refractometer RA-600, a liquid refractometer of Kyoto Electronics Co.,

구 분division 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 수율(%)yield(%) 89.289.2 87.687.6 93.593.5 27.427.4 33.733.7 99.899.8 잔류 TGA(%)Residual TGA (%) 0.20.2 0.10.1 미검출Not detected 1.11.1 0.90.9 3.13.1 APHA 색상APHA color 99 99 55 1515 1919 2727 액상 굴절률(nd25)Liquid refractive index (nd 25) 1.54581.5458 1.54591.5459 1.54561.5456 1.54121.5412 1.54211.5421 1.53931.5393 제품 순도(%)Product Purity (%) 64.664.6 53.153.1 70.770.7 27.827.8 41.441.4 51.551.5

상기 표 1에서 보듯이, 실시예 1 내지 3에 따라 제조된 에스터 폴리티올은 수율 및 순도가 높으면서 잔류 TGA 함량이 낮았고 APHA 색상 및 액상 굴절률 면에서도 우수하였다. 반면, 비교예 1 내지 3에 따라 제조된 에스터 폴리티올은 수율이 낮거나 순도가 낮고 잔류 TGA 함량이 높았으며 그 외 APHA 색상 등의 면에서도 저조하였다. As shown in Table 1, the ester polythiol prepared according to Examples 1 to 3 had a high yield and purity, a low residual TGA content, and was excellent in APHA color and liquid refractive index. On the other hand, the ester polythiol prepared according to Comparative Examples 1 to 3 had a low yield, a low purity, a high residual TGA content, and was poor in terms of APHA color and the like.

Claims (12)

(1) 하기 화학식 1의 화합물 1 당량과 하기 화학식 2의 화합물 1.01~2 당량을 산 촉매 하에서 반응시켜, 미정제의 에스터 폴리티올 조성물을 얻는 단계;
(2) 상기 미정제의 에스터 폴리티올 조성물을 3차 아민 수용액으로 세정하여, 조성물 내에 잔류하는 상기 화학식 2의 화합물과 상기 산 촉매를 제거하는 단계;
(3) 상기 3차 아민 수용액을 이용하여 세정된 에스터 폴리티올 조성물을 산 수용액으로 세정하되, 상기 산 수용액을 이용한 세정이 세정 후 수층 폐액의 pH가 5 이하가 될 때까지 수행하는 단계; 및
(4) 상기 산 수용액을 이용하여 세정된 에스터 폴리티올 조성물을 소금물로 더 세정하되, 상기 소금물을 이용한 세정이 세정 후 수층 폐액의 pH가 6 이상이 될 때까지 반복적으로 수행하는 단계를 포함하는, 에스터 폴리티올 조성물의 제조방법:
[화학식 1]
Figure 112019013296836-pat00005

[화학식 2]
Figure 112019013296836-pat00006

상기 식에서,
R1은 각각 독립적으로 H, -CH3 또는 -CH2CH3이고;
R2는 각각 독립적으로 -CH3, -CH2CH3 또는 -CH2CH2CH3이고;
p는 1 또는 2이고;
m은 각각 독립적으로 0 내지 10의 정수이고;
n은 각각 독립적으로 1 내지 4의 정수이고;
l 및 o는 각각 독립적으로 0 또는 1이되;
여기서 n + l + o = 4 이다.
(1) reacting 1 equivalent of a compound represented by the following formula (1) and 1.01 - 2 equivalents of a compound represented by the following formula (2) under acid catalysis to obtain a crude ester polythiol composition;
(2) washing the crude ester polythiol composition with a tertiary amine aqueous solution to remove the compound of Formula 2 and the acid catalyst remaining in the composition;
(3) washing the ester polythiol composition washed with the tertiary amine aqueous solution with an aqueous acid solution until the pH of the aqueous layer waste solution after washing with the aqueous acid solution is less than 5; And
(4) The method of any one of (1) to (4), further comprising washing the washed ester polythiol composition with the aqueous acid solution, followed by repeated washing with the brine until the pH of the aqueous layer wastewater after washing is at least 6, Method for preparing ester polythiol composition:
[Chemical Formula 1]
Figure 112019013296836-pat00005

(2)
Figure 112019013296836-pat00006

In this formula,
R 1 are each independently H, -CH 3 or -CH 2 CH 3 ;
R 2 are each independently -CH 3 , -CH 2 CH 3 or -CH 2 CH 2 CH 3 ;
p is 1 or 2;
m is independently an integer of 0 to 10;
each n is independently an integer of 1 to 4;
l and o are each independently 0 or 1;
Where n + l + o = 4.
제 1 항에 있어서,
상기 화학식 1의 화합물과 상기 화학식 2의 화합물의 반응이 비극성 및 비양자성의 용매 중에서 공비증류를 통해 수행되는, 에스터 폴리티올 조성물의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the reaction of the compound of Formula 1 with the compound of Formula 2 is carried out by azeotropic distillation in a nonpolar and aprotic solvent.
제 1 항에 있어서,
상기 3차 아민 수용액이 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민 또는 피리딘의 수용액인, 에스터 폴리티올 조성물의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the tertiary amine aqueous solution is an aqueous solution of trimethylamine, triethylamine, tributylamine or pyridine.
제 1 항에 있어서,
상기 3차 아민 수용액을 이용한 세정이, 세정 후 수층 폐액의 pH가 8 이상이 될 때까지 수행되는, 에스터 폴리티올 조성물의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the cleaning with the tertiary amine aqueous solution is carried out until the pH of the water layer waste solution after cleaning becomes 8 or more.
제 1 항에 있어서,
상기 3차 아민 수용액을 이용한 세정이, 상기 미정제의 에스터 폴리티올 조성물을 상기 3차 아민의 수용액과 혼합한 뒤, 수층을 제거하는 것으로 수행되는, 에스터 폴리티올 조성물의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the cleaning with the tertiary amine aqueous solution is carried out by mixing the crude ester polythiol composition with an aqueous solution of the tertiary amine and then removing the aqueous layer.
삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 산 수용액이 염산, 황산, 인산, 아세트산 또는 질산의 수용액인, 에스터 폴리티올 조성물의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the acid aqueous solution is an aqueous solution of hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, acetic acid or nitric acid.
삭제delete 삭제delete 제 1 항 내지 제 5 항 및 제 8 항 중 어느 한 항의 방법에 따라 제조되고, 하기 화학식 2의 화합물의 함량이 0.5 중량% 이하인, 에스터 폴리티올 조성물:
[화학식 2]
Figure 112019013296836-pat00007

상기 식에서 p는 1 또는 2이다.
8. An ester polythiol composition prepared according to the process of any one of claims 1 to 5 and 8, wherein the content of the compound of formula (2) is 0.5% by weight or less:
(2)
Figure 112019013296836-pat00007

In the above formula, p is 1 or 2.
제 11 항에 있어서,
상기 에스터 폴리티올 조성물은 4관능 이상의 에스터 폴리티올을 50 중량% 이상으로 함유하는, 에스터 폴리티올 조성물.
12. The method of claim 11,
Wherein the ester polythiol composition contains at least 50% by weight of a tetrafunctional or higher ester polythiol.
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