KR101957927B1 - Upconversion anti-counterfeiting film, preparation method thereof and anti-counterfeiting article comprising the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to an anti-counterfeiting film having an upconversion light emitting property, a manufacturing method thereof and an anti-counterfeiting object comprising the same. The anti-counterfeiting film comprises: an anti-counterfeiting layer at which a predetermined light emitting pattern comprising a photosensitizer and a first electron acceptor is formed; and a first hydrophilic oxygen blocking layer arranged at one side of the anti-counterfeiting layer.

Description

업컨버전 위조방지용 필름, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 위조방지 물품{UPCONVERSION ANTI-COUNTERFEITING FILM, PREPARATION METHOD THEREOF AND ANTI-COUNTERFEITING ARTICLE COMPRISING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an up-conversion anti-falsification film, a manufacturing method thereof, and an anti-falsification article including the anti-

본 발명은 광자 에너지의 업컨버전(UpConversion(상향전환), 이하 'UC'라고도 함) 기술이 적용된 위조방지용 필름, 그 제조 방법 및 상기 위조방지용 필름을 포함하는 위조방지 물품에 관한 것이다.The present invention relates to an anti-falsification film to which an upconversion (upconversion, hereinafter referred to as "UC") technique of photon energy is applied, a manufacturing method thereof, and an anti-falsification article including the anti-falsification film.

위조방지용(Anti-Counterfeiting) 기술은 유가의 제품 또는 화폐에 대한 높은 수준의 보안을 위해 여러 회사와 정부기관 등에서 각별히 신경을 쓰고 있는 분야 중 하나이다. 상기 위조방지용 기술로는 육안으로 식별이 어려운 미세 패턴의 제작, 발광 특성을 갖는 패턴의 인쇄, 홀로그램 제작 등을 들 수 있다.Anti-counterfeiting technology is one of the fields that many companies and government agencies pay particular attention to for the high level of security of oil products or money. Examples of the anti-counterfeiting technology include the production of a fine pattern which is hard to be visually recognized, the printing of a pattern having a light emission characteristic, and the production of a hologram.

상기 발광 특성을 갖는 패턴의 인쇄는 위조여부의 식별이 쉽고 빠르기 때문에 화폐나 신용카드 등에 광범위하게 적용되고 있다. 구체적으로 상기 발광 특성을 갖는 패턴은 주로 자외선 영역의 빛을 흡수하여 가시광선 영역의 빛을 내는 발광체(chromophore)를 고분자 물질 등에 혼합하여 잉크젯 방식으로 제품에 인쇄하는 과정을 거쳐 형성되는 것으로 패턴의 형성과정이 용이하고 다양한 문자와 모양을 쉽게 구현할 수 있는 장점이 있다. 그러나 상기 발광체와 유사한 발광스펙트럼을 갖는 물질로 대체함으로써 쉽게 위조가 가능하다는 단점이 있다. 이에 따라 최근 몇 년 동안 UC 소재라는 독특한 발광특성을 갖는 소재를 위조방지용 기술에 적용하고자 하는 연구가 학계를 중심으로 이루어지고 있다. 이때, UC란 둘 또는 그 이상의 낮은 에너지를 갖는 광자들을 융합시켜 하나의 높은 에너지를 갖는 광자로 변환시키는 광화학적 공정을 일컫는다.The printing of the pattern having the light emission characteristic is widely applied to money, credit cards, and the like because it is easy and quick to identify whether or not falsification has occurred. Specifically, the pattern having the luminescent characteristics is formed by a process of printing on a product by mixing an illuminant (chromophore) which absorbs light in the ultraviolet region and emitting light in the visible light region, The process is easy and various characters and shapes can be easily implemented. However, it has a disadvantage in that it can be easily falsified by replacing it with a substance having an emission spectrum similar to that of the above-mentioned light emitting body. Therefore, in recent years, there have been studies to apply anti-counterfeiting technology to UC materials, which have unique luminescent properties. Here, UC refers to a photochemical process in which two or more photons having a low energy are fused and converted into photons having one high energy.

종래의 위조방지용 기술에 적용되었던 발광 소재들이 자외선 영역의 빛을 흡수하여 가시광선 영역의 빛을 내는데 반해, UC 소재는 가시광선 영역보다 큰 파장의 광자(예를 들어, 근적외선)를 흡수하여 가시광선 영역의 빛을 방출한다. 이러한 현상은 반 스토크스 방출(Anti-stokes emission)이라고도 불리며, 특수한 유/무기 소재의 조합으로만 구현되는 인위적인 현상이다.Conventional anti-counterfeiting technologies use light emitting materials to absorb light in the ultraviolet region to emit light in the visible light region, while UC material absorbs photons (e.g., near-infrared light) having a wavelength larger than the visible light region, Emits light in the region. This phenomenon, also called anti-stokes emission, is an artificial phenomenon realized only by a combination of special oil and inorganic materials.

상기 UC 소재는 크게 두 종류로 분류될 수 있는데, 그 중 하나는 호스트 물질인 희토류 금속에 금속이나 다른 희토류 금속를 도핑하여 얻어진 무기 소재이다. 이러한 무기 소재는 잉크젯 방식으로 기재에 인쇄되어 발광 특성을 갖는 패턴을 형성하게 된다.The UC material can be classified into two types, one of which is an inorganic material obtained by doping a rare earth metal, which is a host material, with a metal or another rare earth metal. Such an inorganic material is printed on a substrate by an ink-jet method to form a pattern having a light-emitting property.

그러나 무기 소재에 기반한 UC 소재를 발광시키기 위해서는 매우 강한 출력(수 내지 수십 W/㎠ 이상)의 근적외선이 조사되어야 하기 때문에 접근성이 떨어지고, 불투명할 뿐만 아니라 유연성이 떨어지는 문제점이 있다. 또한 잉크젯 방식으로 형성된 패턴의 경우 상대적으로 패턴의 크기가 크거나 패턴 간의 간격이 넓기 때문에 미세한 구조의 패턴을 형성하기 어려운 문제점도 있다.However, in order to emit a UC material based on an inorganic material, near infrared rays having a very strong output (several to several tens W / cm 2 or more) must be irradiated, which lowers accessibility, is opaque, and has low flexibility. Further, in the case of a pattern formed by an ink-jet method, there is a problem that it is difficult to form a fine structure pattern because the pattern size is relatively large or the interval between patterns is wide.

상기 UC 소재 중 나머지 하나는 광감응제(Sensitizer)와 전자수용체(Acceptor)를 고분자에 도입하여 얻어진 유기 소재이다. 이러한 유기 소재는 양자효율이 높고 비교적 낮은 출력(수 내지 수십 mW/㎠)의 근적외선에서 발광 특성을 나타내며 투명성 및 유연성이 우수한 장점이 있다. 그러나 상기 유기 소재는 종래의 잉크젯 방식으로 패턴을 형성하는데 적합하지 않고 산소노출 시 발광 특성이 현저하게 떨어지는 문제점이 있다.The other one of the UC materials is an organic material obtained by introducing a photosensitizer and an electron acceptor into a polymer. Such an organic material has high quantum efficiency and exhibits light emission characteristics in a near-infrared light having a relatively low output (several to several tens of mW / cm 2), and is excellent in transparency and flexibility. However, the organic material is not suitable for forming a pattern by a conventional ink-jet method, and has a problem that the luminescent characteristics are significantly lowered when oxygen is exposed.

대한민국 공개특허공보 제2006-0016297호Korean Patent Publication No. 2006-0016297

본 발명은 업컨버전 발광 특성을 포함한 미세 패턴 구조를 가지며, 위조방지성, 유연성, 투명성, 산소차단성 등의 물성이 우수한 위조방지용 필름, 및 그 제조 방법을 제공하고자 한다.An object of the present invention is to provide an anti-fake film having a fine pattern structure including up-conversion luminescent characteristics and excellent in physical properties such as anti-falsification, flexibility, transparency and oxygen barrier property, and a method for producing the same.

또한 본 발명은 상기 위조방지용 필름을 포함하는 위조방지 물품을 제공하고자 한다.The present invention also provides an anti-counterfeit article comprising the anti-counterfeit film.

상기 과제를 해결하기 위해 본 발명은, 광감응제와 제1 전자수용체를 포함하는 소정의 발광 패턴이 형성된 위조방지층; 및 상기 위조방지층의 일측에 배치되는 제1 친수성 산소차단층을 포함하는 위조방지용 필름을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an anti-falsification device comprising: an anti-falsification layer having a predetermined light emission pattern including a light-sensitive material and a first electron acceptor; And a first hydrophilic oxygen barrier layer disposed on one side of the anti-fake layer.

상기 위조방지층은 폴리우레탄, 폴리이소부틸렌, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 셀룰로오스 아세테이트, 폴리디메틸실록산 및 폴리카보네이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 매트릭스 고분자 내에 상기 광감응제와 상기 제1 전자수용체가 함유되어 있는 것일 수 있다.Wherein the anti-fake layer is provided in the matrix polymer comprising at least one member selected from the group consisting of polyurethane, polyisobutylene, polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, cellulose acetate, polydimethylsiloxane and polycarbonate, And may contain the first electron acceptor.

상기 위조방지층은 상기 광감응제와 상기 제1 전자수용체 간의 삼중항-삼중항 소멸에 의한 업컨버전(Triplet-triplet annihilation based UpConversion)에 의해 상기 발광 패턴이 식별 가능하도록 발광되는 것일 수 있다.The anti-fake layer may be such that the emission pattern is distinguishable by triplet-triplet annihilation based UpConversion between triplet-triplet annihilation between the photosensitizer and the first electron acceptor.

상기 광감응제는 금속 원자가 결합된 포피린계 화합물, 금속 원자가 결합된 프탈로사이아닌계 화합물 및 열활성화 지연형광(Thermally Activated Delayed Fluorescence)계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다.The photosensitizer may be at least one selected from the group consisting of a porphyrin compound having a metal atom, a phthalocyanine compound having a metal atom bonded thereto, and a thermally activated delayed fluorescence compound.

상기 제1 전자수용체는 상기 광감응제로부터 전자를 전달받아서 삼중항-삼중항 소멸에 의해 업컨버전된 광자를 방출하는 화합물일 수 있다.The first electron acceptor may be a compound that receives electrons from the photosensitizer and emits photons that are upconverted by triplet-triplet extinction.

상기 제1 친수성 산소차단층은 폴리비닐알코올계 고분자 화합물을 포함할 수 있다.The first hydrophilic oxygen barrier layer may include a polyvinyl alcohol-based polymer compound.

이러한 본 발명의 위조방지용 필름은 상기 제1 친수성 산소차단층의 상기 위조방지층과의 대향측에 배치되는 소수성 산소차단층을 더 포함할 수 있다.The anti-fake film of the present invention may further include a hydrophobic oxygen barrier layer disposed on the side of the first hydrophilic oxygen barrier layer opposite to the anti-fake layer.

상기 소수성 산소차단층은 광경화성 아크릴레이트계 고분자 화합물을 포함할 수 있다.The hydrophobic oxygen barrier layer may include a photocurable acrylate-based polymer compound.

또한 본 발명의 위조방지용 필름은 상기 위조방지층의 타측에 배치되는 제2 친수성 산소차단층을 더 포함할 수 있다.The anti-fake film of the present invention may further comprise a second hydrophilic oxygen barrier layer disposed on the other side of the anti-fake layer.

상기 제2 친수성 산소차단층은 폴리비닐알코올계 고분자 화합물을 포함할 수 있다.The second hydrophilic oxygen barrier layer may include a polyvinyl alcohol-based polymer compound.

또한 본 발명의 위조방지용 필름은 상기 위조방지층의 타측에서의 최외층으로서 배치되는 지지층을 더 포함할 수 있다.The anti-fake film of the present invention may further comprise a support layer disposed as an outermost layer on the other side of the anti-fake layer.

또 본 발명의 위조방지용 필름은 상기 위조방지층과 상기 지지층의 사이에 배치되며, 제2 전자수용체를 포함하는 위조방지보조층을 더 포함할 수 있다.The anti-fake film of the present invention may further include an anti-fake auxiliary layer disposed between the anti-fake layer and the support layer and including a second electron acceptor.

한편, 본 발명은 위조방지용 필름의 제조 방법으로서, 지지층 위에 광감응제와 제1 전자수용체를 포함하는 위조방지층용 용액을 도포하여서 위조방지층을 형성하는 단계; 및 상기 위조방지층 위에 친수성 고분자를 포함하는 제1 친수성 산소차단층용 용액을 도포하여서 제1 친수성 산소차단층을 형성하는 단계를 포함하는 제조 방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an anti-fake film comprising the steps of: applying a solution for anti-fake layer containing a photo-sensitizer and a first electron acceptor on a support layer to form an anti-fake layer; And applying a first hydrophilic oxygen barrier layer solution containing the hydrophilic polymer on the anti-fake layer to form a first hydrophilic oxygen barrier layer.

또한, 본 발명의 위조방지용 필름의 제조 방법은 상기 제1 친수성 산소차단층 위에 소수성 고분자를 포함하는 소수성 산소차단층용 용액을 도포하여서 소수성 산소차단층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.In addition, the method for producing an anti-fake film of the present invention may further comprise forming a hydrophobic oxygen barrier layer by applying a hydrophobic oxygen barrier layer solution containing a hydrophobic polymer on the first hydrophilic oxygen barrier layer.

또한,본 발명의 위조방지용 필름의 제조 방법에서의 상기 위조방지층을 형성하는 단계는, 상기 지지층 위에 친수성 고분자를 포함하는 제2 친수성 산소차단층용 용액을 도포하여서 제2 친수성 산소차단층을 형성하는 단계; 및 상기 제2 친수성 산소차단층 위에 상기 위조방지층용 용액을 도포하여서 위조방지층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.In the method for manufacturing an anti-fake film of the present invention, the step of forming the anti-fake anti-fouling layer may include the steps of forming a second hydrophilic oxygen barrier layer by applying a second hydrophilic oxygen barrier layer solution containing the hydrophilic polymer on the support layer ; And applying a solution for the anti-fake layer on the second hydrophilic oxygen barrier layer to form an anti-fake layer.

나아가, 본 발명의 위조방지용 필름의 제조 방법에서의 상기 제2 친수성 산소차단층을 형성하는 단계는, 상기 지지층 위에 제2 전자수용체를 포함하는 위조방지보조층용 용액을 도포하여서 위조방지보조층을 형성하는 단계; 및 상기 위조방지보조층 위에 상기 제2 친수성 산소차단층용 용액을 도포하여서 제2 친수성 산소차단층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.Further, in the method for manufacturing an anti-fake film of the present invention, the step of forming the second hydrophilic oxygen barrier layer may include forming a second anti-fake auxiliary layer on the support layer by applying a solution for the anti-fake auxiliary layer containing the second electron acceptor ; And applying the second hydrophilic oxygen barrier layer solution onto the anti-fake auxiliary layer to form a second hydrophilic oxygen barrier layer.

한편, 본 발명은 상기 위조방지용 필름을 포함하는 위조방지 물품을 제공한다.On the other hand, the present invention provides an anti-counterfeit article comprising the anti-counterfeit film.

본 발명의 위조방지용 필름은 위조방지층의 일측 또는/및 타측에 산소의 침투를 차단하는 친수성 산소차단층 또는/및 소수성 산소차단층이 배치되어 있어 산소차단성이 우수하며, 높은 유연성과 투명성을 나타낼 수 있다. 또한 본 발명의 위조방지용 필름은 업컨버전에 의한 발광 특성과 미세한 발광 패턴을 갖는 위조방지층에 의해 위조방지성을 나타낼 수 있다.The anti-fake film of the present invention is characterized in that a hydrophilic oxygen barrier layer and / or a hydrophobic oxygen barrier layer, which blocks the penetration of oxygen, are disposed on one side and / or the other side of the anti-fake layer and have excellent oxygen barrier properties and exhibit high flexibility and transparency . Further, the anti-fake film of the present invention can exhibit anti-falsification by the anti-fake layer having the light emission characteristic and the minute light emission pattern by up-conversion.

따라서 본 발명의 위조방지용 필름을 위조방지 물품에 적용할 경우, 보다 높은 수준의 보안성을 갖는 위조방지 물품을 제공할 수 있다.Therefore, when the anti-falsification film of the present invention is applied to an anti-falsification article, it is possible to provide an anti-falsification article having a higher level of security.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 위조방지용 필름을 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 위조방지용 필름에서 일어나는 업컨버전의 기작을 설명하기 위한 참고도이다.
도 3은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 위조방지용 필름을 나타낸 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 위조방지용 필름의 제조과정을 설명하기 위한 참고도이다.
도 5 내지 도 9는 본 발명의 실험예 1 내지 3을 설명하기 위한 참고도이다.
1 is a cross-sectional view illustrating an anti-falsification film according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a reference diagram for explaining a mechanism of up-conversion occurring in the anti-falsification film according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view illustrating an anti-falsification film according to another embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a reference view for explaining the manufacturing process of the anti-falsification film according to an embodiment of the present invention.
5 to 9 are reference views for explaining Experimental Examples 1 to 3 of the present invention.

이하, 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

1. 위조방지용 필름 및 그 제조 방법1. Anti-counterfeit film and its manufacturing method

본 발명의 일 실시예에 따른 위조방지용 필름은 위조방지층 및 제1 친수성 산소차단층을 포함하는데, 이에 대해 도 1을 참고하여 설명하면 다음과 같다.The anti-falsification film according to an embodiment of the present invention includes a anti-falsification layer and a first hydrophilic oxygen barrier layer, which will be described with reference to FIG.

본 발명의 일 실시예에 따른 위조방지용 필름에 포함되는 위조방지층(10)은 광감응제와 제1 전자수용체를 포함하는 소정의 발광 패턴이 적어도 일부 또는 전체에 걸쳐서 형성되어 있다. 이러한 위조방지층(10)은 위조를 방지하거나 위조 여부를 식별할 수 있는 역할을 한다. 구체적으로, 위조방지층(10)에서는 낮은 에너지를 갖는 둘 이상의 광자들이 하나의 높은 에너지를 갖는 광자로 변환되는 업컨버전(UC)이 일어나 상기 발광 패턴이 소정의 형태로 발광하게 되며, 이러한 위조방지층(10)의 업컨버전 발광 특성으로 인해 위조를 방지하거나 위조 여부를 식별할 수 있다.The anti-falsification layer 10 included in the anti-falsification film according to an embodiment of the present invention is formed at least partially or entirely of a predetermined light emission pattern including the photosensitive agent and the first electron acceptor. The anti-fake layer 10 serves to prevent forgery or discriminate whether or not the object is falsified. Specifically, in the anti-falsification layer 10, up-conversion (UC) occurs in which two or more photons having low energy are converted into photons having one high energy, the light emission pattern is emitted in a predetermined form, 10), it is possible to prevent forgery or identify whether or not the image is forged.

상기 위조방지층(10)에서의 업컨버전은 위조방지층(10)에 포함되는 광감응제와 제1 전자수용체의 확산에 의한 에너지 전달과 에너지 융합(fusion)에 의해 이루어질 수 있다. 구체적으로 도 2 및 하기 식들((1) 내지 (6))을 참고하면, 먼저, 광감응제(Sens)는 입사되는 광자를 흡수하여 1Sens* 상태로 여기되며, 항간교차(Intersystem crossing, ISC)를 거쳐 3Sens*가 생성된다(1). 산소가 존재하는 조건에서 3Sens*는 기저상태의 삼중항 산소와 빠르게 반응하여 일중항 산소(1O2)를 생성하며(2), 산소와 같은 삼중항 소광제(quencher)가 없는 상태에서 3Sens*는 기저상태로 전이되어 인광(phosphorescence)를 내게 된다(3). 한편, 적절한 에너지 준위를 가지는 제1 전자수용체(Acc)가 광감응제(Sens)와 함께 존재할 경우, 1Acc0는 삼중항-삼중항 에너지 이동(Triplet-triplet energy transfer, TTET)을 통해 여기된 3Sens*로부터 전자를 전달받아 3Acc*로 여기되고(4), 또 다른 3Acc*와 삼중항-삼중항 소멸(Triplet-triplet annihilation, TTA)을 거쳐 1Acc*를 형성한다(5). 최종적으로 1Acc*는 기저상태로 전이되며 업컨버전된 형광을 내게 되는(6) 과정을 거쳐 위조방지층(10)에서는 낮은 에너지를 갖는 광자들의 변환, 즉, 업컨버전 현상이 일어나게 된다.The up-conversion in the anti-fake layer 10 can be performed by energy transfer and energy fusion by diffusion of the photo-sensitizer and the first electron acceptor included in the anti-fake layer 10. When specifically referring to FIG. 2 and the following equations ((1) to (6)), first, a light-sensitive first (Sens) absorbs a photon of incident and excited by 1 Sens * state, hanggan cross (Intersystem crossing, ISC ) To generate 3 Sens * (1). In the presence of oxygen, 3 Sens * reacts rapidly with the ground triphasic oxygen to produce singlet oxygen ( 1 O 2 ) (2) and in the absence of a triplet quencher such as oxygen, 3 Sens * translocates to the basal state and produces phosphorescence (3). On the other hand, when a first electron acceptor (Acc) with an appropriate energy level is present with a photosensitizer (Sens), 1 Acc 0 is excited via triplet-triplet energy transfer (TTET) It receives electrons from 3 Sens * and is excited to 3 Acc * (4) and forms 1 Acc * via another 3 Acc * and Triplet-triplet annihilation (TTA) (5). Finally, 1 Acc * transitions to the base state and undergoes an up-conversion fluorescence process (6). In the anti-falsification layer 10, conversion of low-energy photons, that is, up-conversion occurs.

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이러한 위조방지층(10)에서 업컨버전이 효과적으로 이루어지기 위해서는 상기 광감응제와 상기 제1 전자수용체 간의 에너지 전달이 효율적으로 이루어져야 하는데, 이는 광감응제와 제1 전자수용체, 그리고 이들이 함유(담지)되는 매질(Media)의 적절한 조합에 의해 구현될 수 있다.In order to efficiently perform up-conversion in the anti-falsification layer 10, energy transfer between the photosensitizer and the first electron acceptor must be efficiently performed. This is because the photo-sensitizer, the first electron acceptor, May be implemented by appropriate combination of media.

상기 광감응제와 제1 전자수용체 간의 효율적인 에너지 전달을 위해 광감응제와 제1 전자수용체로는 광감응제의 일중항, 삼중항 에너지 준위가 제1 전자수용체의 일중항, 삼중항 에너지 준위 사이에 위치(즉, 광감응제의 에너지 준위가 제1 전자수용체의 에너지 준위에 샌드위치 되는 것)하는 물질들의 조합을 선택하는 것이 바람직하다. 또한 업컨버전의 효율을 높이기 위해서는 제1 전자수용체(3Acc*)의 수명(lifetime)이 길어야 하며(수십 내지 수백 ㎲ 이상), 항간교차율도 높은 것이 바람직하다.In order to efficiently transfer energy between the photosensitive agent and the first electron acceptor, the photosensitizer and the first electron acceptor may include one or more triplet energy levels of the photosensitizer between the singlet and triplet energy levels of the first electron acceptor (I.e., the energy level of the photosensitizer is sandwiched by the energy level of the first electron acceptor). In order to increase the efficiency of up-conversion, it is preferable that the lifetime of the first electron acceptor 3 Acc * is long (several tens to several hundreds of μs or more), and the intersection cross ratio is also high.

이러한 점들을 고려할 때, 위조방지층(10)에 포함되는 광감응제는 가시광선, 또는 적외선 영역의 광자(photon)를 흡수하여 여기(excitation)될 수 있으며, 높은 항간교차율 값을 갖는 화합물인 것이 바람직하다. 구체적으로 광감응제는 금속 원자가 중심부에 결합된 포피린계 화합물, 금속 원자가 중심부에 결합된 프탈로사이아닌계 화합물 및 열활성화 지연형광(Thermally activated delayed fluorescence)계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것이 바람직하다. 이때, 상기 금속 원자는 Cu, Pd, Pt, Au, 또는 Ir일 수 있다. 보다 구체적으로 광감응제로는 하기 화학식으로 표시되는 화합물이 사용될 수 있다.Considering these points, the photo-sensitizer included in the anti-fake layer 10 can be excited by absorbing photons in the visible region or infrared region, and is preferably a compound having a high inter-edge cross-ratio value Do. Specifically, the photo-sensitizer is at least one selected from the group consisting of a porphyrin compound having a metal atom bonded to the center thereof, a phthalocyanine compound having a metal atom bonded to the center thereof, and a thermally activated delayed fluorescence compound desirable. At this time, the metal atom may be Cu, Pd, Pt, Au, or Ir. More specifically, as the photosensitizer, a compound represented by the following formula may be used.

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또한 위조방지층(10)에 포함되는 제1 전자수용체는 광감응제로부터 삼중항-삼중항 에너지 이동(TTET)을 통해 전자를 전달받아 삼중항 상태(triplet state)로 여기되고, 이어서 서로 다른 여기 삼중항 상태의 전자수용체가 삼중항-삼중항 소멸(TTA)을 통해 여기 일중항 전자수용체를 형성하는 화합물인 것이 바람직하다. 이러한 제1 전자수용체는 높은 형광양자효율(fluorescence quantum yield)를 가지는 방향족(aromatic ring) 화합물일 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다. 구체적으로 제1 전자수용체로는 하기 화학식으로 표시되는 화합물들이 사용될 수 있다.Also, the first electron acceptor included in the anti-fake layer 10 receives electrons from the photosensitizer through triplet-triplet energy transfer (TTET) and is excited into a triplet state, It is preferred that the electron acceptor in the free state is a compound that forms an excited electron acceptor through triple-triple elimination (TTA). Such a first electron acceptor may be, but is not limited to, an aromatic ring compound having a high fluorescence quantum yield. Specifically, as the first electron acceptor, compounds represented by the following formula can be used.

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이러한 위조방지층(10)은 폴리우레탄, 폴리이소부틸렌, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 셀룰로오스 아세테이트, 폴리디메틸실록산 및 폴리카보네이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 매트릭스 고분자 내에 상기 광감응제와 상기 제1 전자수용체가 함유(담지)되어 있는 구조로 이루어질 수 있다. 상기 매트릭스 고분자는 연성(elastic)을 가져 광감응제와 제1 전자수용체의 확산(diffusion)성을 높일 수 있고, 유연하며 투명도가 높기 때문에 상기 위조방지층(10)을 포함하는 본 발명의 위조방지용 필름은 업컨버전 효율이 높고, 우수한 투명성과 유연성을 나타낼 수 있다.The anti-falsification layer 10 may be formed of a material having a high refractive index in a matrix polymer containing at least one selected from the group consisting of polyurethane, polyisobutylene, polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, cellulose acetate, polydimethylsiloxane and polycarbonate. And a structure in which the sensitizer and the first electron acceptor are contained (supported). Since the matrix polymer has elasticity and can increase the diffusion property of the photosensitive agent and the first electron acceptor and is flexible and high in transparency, the anti-fake film of the present invention including the anti-fake layer 10 Conversion efficiency is high, and excellent transparency and flexibility can be exhibited.

이러한 위조방지층(10)에서 업컨버전이 일어나기 위해 조사되는 광원의 파장 범위는 특별히 한정되지 않으나, 400 내지 900 nm일 수 있다.The wavelength range of the light source irradiated for up-conversion in the anti-fake layer 10 is not particularly limited, but may be 400 to 900 nm.

한편, 상기 발광 패턴의 모양으로서는 선형, 메쉬형, 원형, 도트형, 벌집형, 다각형 등과 같은 기하학적 형상, 문자, 숫자, 또는 QR 코드 등을 들 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다.The shape of the light emission pattern may be a linear shape, a mesh shape, a circular shape, a dot shape, a geometric shape such as a honeycomb shape or a polygonal shape, a letter, a number, or a QR code.

또한, 상기 위조방지층(10)에 형성된 발광 패턴의 선폭(반복되는 패턴 단위의 폭에 상당함)은 특별히 한정되지 않으나, 5 내지 20 ㎛ 범위로 미세한 크기일 수 있고, 상기 위조방지층(10)의 적어도 일부에 발광 패턴이 형성되는 경우에는 300 ㎛ 내지 2 cm의 전체 크기의 영역으로 형성될 수 있다. 즉, 상기 위조방지층(10)에는 미세한 구조의 발광 패턴이 형성되어 있는 것으로, 이러한 미세 발광 패턴과 더불어 업컨버전 발광 특성이 위조방지층(10)에 결합되어 있음에 따라 본 발명은 위조방지성(보안성)이 보다 높은 위조방지용 필름을 제공할 수 있다.The width of the light emission pattern formed on the anti-fake layer 10 (corresponding to the width of the repeated pattern) is not particularly limited, but may be a fine size in the range of 5 to 20 μm, And when the light emission pattern is formed on at least a part thereof, it may be formed as a whole size area of 300 μm to 2 cm. That is, the anti-falsification layer 10 has a light emission pattern of a fine structure. Since the up-conversion light emission characteristic is combined with the anti-falsification layer 10 in addition to the minute light emission pattern, Can be provided with a higher anti-fake film.

이러한 위조방지층(10)의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 위조방지용 필름의 박막화, 미세 발광 패턴 및 업컨버전 효율 등을 고려할 때, 100 ㎛ 미만(구체적으로, 10 내지 50 ㎛)인 것이 바람직하다.Though the thickness of the anti-fake layer 10 is not particularly limited, it is preferably less than 100 mu m (specifically, 10 to 50 mu m) in consideration of the thinning of the anti-fake film, the fine luminescence pattern and the upconversion efficiency.

본 발명의 일 실시예에 따른 위조방지용 필름에 포함되는 제1 친수성 산소차단층(20)은 위조방지층(10)의 일측에 배치되어 위조방지층(10)으로 산소가 침투하는 것을 차단하는 역할을 한다.The first hydrophilic oxygen barrier layer 20 included in the anti-fake film according to an embodiment of the present invention is disposed on one side of the anti-fake layer 10 to prevent oxygen from penetrating into the anti-fake layer 10 .

상기 위조방지층(10)이 공기 중에 그대로 노출될 경우 외부 산소가 위조방지층(10)에 빠르게 침투하여 업컨버전 효율이 저하될 수 있는데, 본 발명은 제1 친수성 산소차단층(20)으로 인해 위조방지층(10)에 산소가 침투하는 것을 차단할 수 있으며, 이로 인해 위조방지용 필름의 업컨버전 효율 및 광안정성을 높일 수 있다. 또한 위조방지층(10)이 유기용매와 접촉할 경우, 이에 포함된 광감응제와 제1 전자수용체는 확산되어 외부로 용출되거나 위조방지층(10)을 이루는 매트릭스 고분자는 스웰링(swelling) 현상을 일으킬 수 있는데, 본 발명은 제1 친수성 산소차단층(20)의 친수성으로 인해 위조방지층(10)의 광감응제, 제1 전자수용체 및 매트릭스 고분자가 유기용매와 반응하는 것을 차단할 수 있으며, 이로 인해 광감응제와 제1 전자수용체의 용출 및 매트릭스 고분자의 스웰링 현상 등을 방지할 수 있다.If the anti-falsification layer 10 is exposed to the air, the external oxygen may rapidly penetrate the anti-falsification layer 10 and the up-conversion efficiency may be lowered. According to the present invention, The penetration of oxygen into the film 10 can be blocked, thereby improving the up-conversion efficiency and the optical stability of the anti-falsification film. In addition, when the anti-falsification layer 10 is in contact with an organic solvent, the photosensitive polymer and the first electron acceptor contained therein are diffused and eluted to the outside, or the matrix polymer constituting the anti-falsification layer 10 causes a swelling phenomenon The hydrophilic nature of the first hydrophilic oxygen barrier layer 20 may prevent the photo-sensitizer, the first electron acceptor and the matrix polymer of the anti-fake layer 10 from reacting with the organic solvent, Elution of the sensitizer and the first electron acceptor and swelling of the matrix polymer can be prevented.

상기 제1 친수성 산소차단층(20)을 이루는 물질은 친수성 및 산소차단성(산소투과방지성)이 우수한 물질이라면 특별히 한정되지 않으나, 친수성 및 산소차단성과 더불어 투명성 및 유연성이 우수한 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol, PVA)계 고분자 화합물인 것이 바람직하다. 구체적으로 제1 친수성 산소차단층(20)은 중량평균분자량이 30,000 내지 200,000인 폴리비닐알코올로 이루어질 수 있다.The material constituting the first hydrophilic oxygen barrier layer 20 is not particularly limited as long as it is a material having excellent hydrophilicity and oxygen barrier property (oxygen permeation preventive property), but it is preferable to use polyvinyl alcohol (polyvinyl alcohol) having excellent transparency and flexibility, alcohol, PVA) based polymer compound. Specifically, the first hydrophilic oxygen barrier layer 20 may be formed of polyvinyl alcohol having a weight average molecular weight of 30,000 to 200,000.

또한, 상기 제1 친수성 산소차단층(20)에는 산소차단성을 보다 높이기 위해 무기 입자(예를 들어, 클레이(clay) 등)가 함유(담지)될 수 있다. 구체적으로 제1 친수성 산소차단층(20)은 무기 입자가 함유된 폴리비닐알코올로 이루어질 수 있다.The first hydrophilic oxygen barrier layer 20 may contain (be supported) inorganic particles (such as clay) in order to further improve the oxygen barrier property. Specifically, the first hydrophilic oxygen barrier layer 20 may be made of polyvinyl alcohol containing inorganic particles.

이러한 제1 친수성 산소차단층(20)의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 위조방지용 필름의 박막화 및 산소차단성 등을 고려할 때, 1 내지 10 ㎛인 것이 바람직하다.Although the thickness of the first hydrophilic oxygen barrier layer 20 is not particularly limited, it is preferably 1 to 10 占 퐉 in consideration of thinning of the anti-fake film and oxygen barrier properties.

한편 본 발명의 일 실시예에 따른 위조방지용 필름은 산소차단성, 업컨버전 효율, 광안정성 등을 높이기 위해 위조방지층(10)의 타측에 배치되는 제2 친수성 산소차단층(30)을 더 포함할 수 있다. 상기 제2 친수성 산소차단층(30)은 상술한 제1 친수성 산소차단층(20)과 동일한 역할 및 물질로 이루어질 수 있다. 여기서 제2 친수성 산소차단층(30)은 위조방지용 필름에 후술되는 지지층(50)이 더 포함될 경우, 지지층(50)의 산소차단성을 높이는 역할도 할 수 있다.Meanwhile, the anti-falsification film according to an embodiment of the present invention may further include a second hydrophilic oxygen barrier layer 30 disposed on the other side of the anti-falsification layer 10 in order to improve oxygen barrier property, up-conversion efficiency, . The second hydrophilic oxygen barrier layer 30 may have the same role and material as the first hydrophilic oxygen barrier layer 20. Here, the second hydrophilic oxygen barrier layer 30 may also improve the oxygen barrier property of the support layer 50 when the anti-fake film further includes a support layer 50 described later.

또한 본 발명의 일 실시예에 따른 위조방지용 필름은 그 적용분야를 넓히기 위해 제1 친수성 산소차단층(20)의 상기 위조방지층(10)과의 대향측(즉, 제1 친수성 산소차단층(20)의 상측)에 배치되는 소수성 산소차단층(40)을 더 포함할 수 있다. 상기 소수성 산소차단층(40)은 위조방지층(10)의 산소차단성을 보다 높일 뿐만 아니라, 제1 친수성 산소차단층(20)을 보호함으로써 제1 친수성 산소차단층(20)이 물 또는 대기 중 수분과 접촉할 경우, 제1 친수성 산소차단층(20)의 물리적인 안정성을 높이는 역할을 한다.The anti-falsification film according to an embodiment of the present invention may be applied to the anti-falsification layer 10 of the first hydrophilic oxygen barrier layer 20 on the opposite side (i.e., the first hydrophilic oxygen barrier layer 20 (The upper side of the hydrophobic oxygen barrier layer 40). The hydrophobic oxygen barrier layer 40 not only enhances the oxygen barrier property of the anti-falsification layer 10 but also protects the first hydrophilic oxygen barrier layer 20, When it comes in contact with moisture, it enhances the physical stability of the first hydrophilic oxygen barrier layer 20.

상기 제1 친수성 산소차단층(20)은 친수성(또는 수용성)으로 인해 물과 접촉할 경우 용해될 수 있어 위조방지용 필름의 적용분야가 제한될 수 있는데, 본 발명은 물에 대한 불수용성(不水溶性)을 갖는 소수성 산소차단층(40)으로 인해 위조방지용 필름이 물과 접촉하더라도 용해되는 것을 방지할 수 있어 위조방지용 필름의 적용분야를 넓힐 수 있다.The first hydrophilic oxygen barrier layer 20 can be dissolved when it is in contact with water due to its hydrophilic (or water-soluble) property. Thus, the application field of the anti-falsification film may be limited. The present invention relates to a water- The hydrophobic oxygen barrier layer 40 having the property of preventing forgery can prevent the forgery preventing film from being dissolved even when it comes into contact with water, thereby widening the application field of the anti-falsification film.

상기 소수성 산소차단층(40)을 이루는 물질은 소수성 및 산소차단성이 우수한 물질이라면 특별히 한정되지 않으나, 소수성 및 산소차단성과 더불어 경화반응성이 빠르고, 투명성 및 유연성이 우수한 광경화성 아크릴레이트계 고분자(올리고머/폴리머) 화합물인 것이 바람직하다. 구체적으로 상기 광경화성 아크릴레이트계 고분자 화합물은 우레탄 아크릴레이트 폴리머, 에스터 아크릴레이트 폴리머, 및 에폭시 아크릴레이트 폴리머로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다.The material constituting the hydrophobic oxygen barrier layer 40 is not particularly limited as long as it is a material having excellent hydrophobicity and oxygen barrier property. However, the hydrophobic oxygen barrier material is excellent in transparency and flexibility as well as transparency and flexibility. / Polymer) compound. Specifically, the photocurable acrylate-based polymer may be at least one selected from the group consisting of urethane acrylate polymer, ester acrylate polymer, and epoxy acrylate polymer.

이러한 소수성 산소차단층(40)의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 위조방지용 필름의 박막화 및 산소차단성 등을 고려할 때, 20 내지 40 ㎛인 것이 바람직하다.Although the thickness of the hydrophobic oxygen barrier layer 40 is not particularly limited, it is preferably 20 to 40 占 퐉 in consideration of thinning of the anti-fake film and oxygen barrier properties.

또 본 발명의 일 실시예에 따른 위조방지용 필름은 일정 수준의 기계적 강도를 갖기 위해 위조방지층(10)의 타측에서의 최외층으로서 배치되는 지지층(50)을 더 포함할 수 있다. 이때, 본 발명의 일 실시예에 따른 위조방지용 필름으로 도시된 도 1에는 지지층(50)과 위조방지층(10) 사이에 제2 친수성 산소차단층(30)이 배치되어 있으나, 본 발명의 위조방지용 필름은 제2 친수성 산소차단층(30) 없이 지지층(50)과 위조방지층(10)이 직접적으로 결합되는 구조로 이루어질 수도 있다.The anti-falsification film according to an embodiment of the present invention may further include a support layer 50 disposed as an outermost layer on the other side of the anti-falsification layer 10 to have a certain level of mechanical strength. 1 showing the anti-fake film according to an embodiment of the present invention, the second hydrophilic oxygen barrier layer 30 is disposed between the support layer 50 and the anti-fake layer 10, The film may have a structure in which the support layer 50 and the anti-falsification layer 10 are directly coupled without the second hydrophilic oxygen barrier layer 30.

상기 지지층(50)을 이루는 물질은 특별히 한정되지 않으나, 유리, 실리콘 웨이퍼, 종이, 또는 고분자 물질(예를 들어, 플라스틱)일 수 있다. 구체적으로 지지층(50)은 위조방지용 필름의 유연성, 투명성, 경제성 등을 고려할 때, 폴리에틸렌, 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)로 이루어지는 것이 바람직하다.The material forming the support layer 50 is not particularly limited, but may be glass, silicon wafer, paper, or a polymer material (e.g., plastic). Specifically, the support layer 50 is preferably made of polyethylene or polyethylene terephthalate (PET) in consideration of flexibility, transparency, economical efficiency, and the like of the anti-falsification film.

이러한 지지층(50)의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 위조방지용 필름의 박막화 및 강도 등을 고려할 때, 100 내지 500 ㎛인 것이 바람직하다.The thickness of the support layer 50 is not particularly limited, but it is preferably 100 to 500 占 퐉 in consideration of thinning and strength of the anti-fake film.

한편, 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 위조방지용 필름은 활용성 및 위조방지성 등을 높이기 위해 위조방지층(10)과 지지층(50)의 사이(제2 친수성 산소차단층(30)이 있을 경우에는 제2 친수성 산소차단층(30)과 지지층(50)의 사이)에 배치되며 제2 전자수용체를 포함하는 위조방지보조층(60)을 더 포함할 수 있는데, 이에 대해 도 3을 참조하여 구체적으로 설명하면 다음과 같다.Meanwhile, the anti-falsification film according to another embodiment of the present invention may be provided between the anti-falsification layer 10 and the support layer 50 (in the case where the second hydrophilic oxygen barrier layer 30 is present) The second hydrophilic oxygen barrier layer 30 and the support layer 50) and includes a second electron acceptor, as shown in FIG. 3, As follows.

상기 위조방지보조층(60)에 포함되는 제2 전자수용체는 위조방지층(10)에 포함된 제1 전자수용체와 동일하거나 상이한 화합물일 수 있다. 구체적으로 제2 전자수용체는 높은 형광양자효율(fluorescence quantum yield)를 가지는 방향족(aromatic ring) 화합물일 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다. 보다 구체적으로 제2 전자수용체로는 하기 화학식으로 표시되는 화합물들이 사용될 수 있다.The second electron acceptor included in the anti-fake auxiliary layer 60 may be the same or different from the first electron acceptor included in the anti-fake layer 10. Specifically, the second electron acceptor may be, but is not limited to, an aromatic ring compound having a high fluorescence quantum yield. More specifically, as the second electron acceptor, compounds represented by the following formula may be used.

Figure 112017086854193-pat00004
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상기 위조방지보조층(60)은 폴리우레탄, 폴리이소부틸렌, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 셀룰로오스 아세테이트, 폴리디메틸실록산 및 폴리카보네이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 매트릭스 고분자 내에 상기 제2 전자수용체가 함유되어 있는 구조로 이루어질 수 있다.The anti-fake auxiliary layer (60) may be formed in a matrix polymer comprising at least one member selected from the group consisting of polyurethane, polyisobutylene, polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, cellulose acetate, polydimethylsiloxane and polycarbonate And the second electron acceptor may be contained.

이러한 위조방지보조층(60)의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 위조방지용 필름의 박막화 및 위조방지성 등을 고려할 때, 10 내지 20 ㎛인 것이 바람직하다.Though the thickness of the anti-fake auxiliary layer 60 is not particularly limited, it is preferably 10 to 20 占 퐉 in consideration of thinning of the anti-fake film and prevention of forgery.

이상에 따른 본 발명의 위조방지용 필름은 미세 발광 패턴과 업컨버전 특성이 결합되어 있어 우수한 위조방지성을 나타낼 수 있다. 또한 산소차단성이 우수하여 향상된 업컨버전 효율과 높은 광안정성을 나타낼 수 있고 각 층이 투명도가 높고 유연한 고분자 물질로 이루어짐에 따라 우수한 투명성과 유연성도 나타낼 수 있다. 따라서 본 발명의 위조방지용 필름은 높은 보안성이 요구되는 어플리케이션에 효율적으로 적용될 수 있다.The anti-falsification film according to the present invention can exhibit excellent anti-falsity by combining the fine light emission pattern and the up-conversion characteristic. Also, it can exhibit improved up-conversion efficiency and high light stability due to excellent oxygen barrier property, and each layer is made of a high-transparency and flexible polymer material, which can also exhibit excellent transparency and flexibility. Therefore, the anti-falsification film of the present invention can be efficiently applied to applications requiring high security.

이러한 본 발명의 일 실시예에 따른 위조방지용 필름은 임프린팅 및 스핀코팅을 통해 각 층을 형성하는 과정을 거쳐 제조될 수 있는데, 그 제조방법에 대해 도 4를 참조하여 구체적으로 설명하면 다음과 같다.The anti-falsification film according to an embodiment of the present invention can be manufactured through a process of forming layers by imprinting and spin coating, and a manufacturing method thereof will be described in detail with reference to FIG. 4 .

준비된 지지층(50) 상에 친수성 고분자를 포함하는 제2 친수성 산소차단층용 용액(예를 들어, 폴리비닐알코올 수용액)을 도포하고 스핀코팅을 수행한다. 이후 상온에서 10 내지 30 분 동안 건조하는 과정을 거쳐 제2 친수성 산소차단층(30)을 형성한다.A second hydrophilic oxygen barrier layer solution (for example, a polyvinyl alcohol aqueous solution) containing a hydrophilic polymer is applied on the prepared support layer 50 and spin coating is performed. Thereafter, the second hydrophilic oxygen barrier layer 30 is formed by drying at room temperature for 10 to 30 minutes.

다음, 형성된 제2 친수성 산소차단층(30) 상에 광감응제와 제1 전자수용체를 포함하는 위조방지층용 용액(경화성 연성 고분자 조성물)을 도포하고 소정의 패턴이 형성된 복제 몰드로 가압하여 임프린팅하는 과정을 거쳐 소정의 발광 패턴이 형성된 위조방지층(10)을 형성한다.Next, a solution for the anti-fake layer (curable soft polymer composition) containing the photosensitive agent and the first electron acceptor is coated on the formed second hydrophilic oxygen barrier layer 30, pressed with a replication mold having a predetermined pattern, The anti-falsification layer 10 having a predetermined light emission pattern is formed.

상기 광감응제와 제1 전자수용체는 유기용매에 용해되어 용액 상태로 위조방지층용 용액(경화성 연성 고분자 조성물)에 혼합될 수 있다. 상기 광감응제와 제1 전자수용체가 용해되는 유기용매로는 통상적으로 공지된 유기용매(예를 들어, 테트라히드로퓨란, 톨루엔, 클로로포름)가 사용될 수 있다. 또한 광감응제는 1.0 내지 5.0 mM의 농도로, 제1 전자수용체는 10 내지 500 mM의 농도로 유기용매에 용해될 수 있다.The light-sensitive agent and the first electron acceptor may be dissolved in an organic solvent to be mixed with a solution for the anti-fake layer (curable soft polymer composition) in a solution state. As the organic solvent in which the photosensitive agent and the first electron acceptor are dissolved, conventionally known organic solvents (for example, tetrahydrofuran, toluene, chloroform) may be used. The photosensitizer may be dissolved in an organic solvent at a concentration of 1.0 to 5.0 mM and the first electron acceptor may be dissolved at a concentration of 10 to 500 mM.

상기 위조방지층용 용액(경화성 연성 고분자 조성물)의 경화에 의해 위조방지층(10)을 형성하게 되는데, 이때, 위조방지층(10)의 매트릭스 고분자로 폴리우레탄이 선택될 경우, 경화성 연성 고분자 물질은 폴리우레탄을 형성할 수 있는 폴리올 성분(주제)과 이소시아네이트 성분(경화제)이 혼합된 것일 수 있다. 여기서 폴리우레탄은 경화가 진행되고 나면 높은 수준의 가교결합(cross-linking)으로 인해 유기용매에 완전히 용해되지 않고 스웰링 현상이 일어날 수 있으므로, 경화가 완료된 폴리우레탄에 광감응제와 제1 전자수용체가 용해된 유기용매를 주입하는 것보다 폴리올 성분과 이소시아네이트 성분이 혼합된 경화성 연성 고분자 물질에 광감응제와 제1 전자수용체가 용해된 유기용매를 혼합하고 이를 코팅, 임프린팅 및 경화하는 과정을 거쳐 위조방지층(10)을 형성하는 것이 바람직하다. 이때, 상기 경화는 40 내지 60 ℃의 온도에서 1 내지 3 시간 동안 이루어질 수 있다.When the polyurethane is selected as the matrix polymer of the anti-falsification layer 10, the curable soft polymer material may be a polyurethane (polyurethane) May be a mixture of a polyol component (a subject) and an isocyanate component (a curing agent) capable of forming a curing agent. Since the polyurethane is not completely dissolved in the organic solvent due to a high level of cross-linking after the curing has proceeded, swelling phenomenon may occur. Therefore, in the cured polyurethane, the photosensitive agent and the first electron acceptor Is mixed with an organic solvent in which a photo-sensitizer and a first electron acceptor are dissolved, and then coated, imprinted, and cured by mixing the photo-sensitizer and the organic solvent in which the first electron acceptor is dissolved, into the curable flexible polymer material in which the polyol component and the isocyanate component are mixed, It is preferable to form the anti-fake layer 10. At this time, the curing may be performed at a temperature of 40 to 60 ° C for 1 to 3 hours.

한편, 위조방지층(10)에 소정의 발광 패턴을 형성하기 위해 사용되는 복제 몰드는 포토-리소그래피(photo-lithography), 또는 소프트-리소그래피(soft-lithography)를 통해 제조된 것일 수 있다. 구체적으로, 소정의 형태를 갖는 미세 패턴을 오토캐드(AutoCAD) 프로그램으로 디자인하고, 포토-리소그래피(photo-lithography)를 통해 마스터 몰드를 제조한 후, 제조된 마스터 몰드를 대상으로 소프트-리소그래피(soft-lithography)를 통해 복제하는 과정을 거쳐 폴리디메틸실록산 소재의 복제 몰드(스탬프 몰드)가 제조될 수 있다.On the other hand, the replica mold used for forming the predetermined luminescent pattern in the anti-fake layer 10 may be one produced through photo-lithography or soft-lithography. Specifically, a fine pattern having a predetermined shape is designed with an AutoCAD program, a master mold is manufactured through photo-lithography, and then the prepared master mold is subjected to soft-lithography a replication mold (stamp mold) of a polydimethylsiloxane material can be produced through a process of replication through a lithography process.

이러한 복제 몰드는 소프트-리소그래피(soft-lithography)를 통해 제조됨에 따라 보다 미세하고 정밀한 구조의 패턴을 가질 수 있으며, 본 발명은 이러한 복제 몰드를 이용하여 위조방지층(10)을 형성하기 때문에 미세한 구조의 발광 패턴을 갖는 위조방지층(10)을 구현할 수 있다.Since such a replica mold is produced through soft-lithography, it can have a pattern of a finer and precise structure, and since the present invention uses this replica mold to form the anti-fake layer 10, The anti-falsification layer 10 having a light emission pattern can be realized.

상기 위조방지층(10)을 형성한 다음, 형성된 위조방지층(10) 상에 친수성 고분자를 포함하는 제1 친수성 산소차단층용 용액(예를 들어, 폴리비닐알코올 수용액)을 도포하고 스핀코팅을 수행한다. 이후 상온에서 10 내지 30 분 동안 건조하는 과정을 거쳐 제1 친수성 산소차단층(20)을 형성한다.After the anti-fake layer 10 is formed, a first hydrophilic oxygen barrier layer solution (for example, a polyvinyl alcohol aqueous solution) containing a hydrophilic polymer is coated on the anti-fake layer 10 and spin coating is performed. Thereafter, the first hydrophilic oxygen barrier layer 20 is formed by drying at room temperature for 10 to 30 minutes.

다음, 형성된 제1 친수성 산소차단층(20) 상에 소수성 고분자(광경화성 수지)와 광개시제를 포함하는 소수성 산소차단층용 용액(예를 들어, 광경화성 우레탄 아크릴레이트 조성물)을 로딩하고 유리판으로 덮은 후 광경화를 진행하여 소수성 산소차단층(40)을 형성한다. 이때, 상기 광경화는 20 내지 40 분 동안 자외선을 조사하는 과정으로 이루어질 수 있다.Next, a hydrophobic oxygen barrier layer solution (for example, a photocurable urethane acrylate composition) containing a hydrophobic polymer (photocurable resin) and a photoinitiator is loaded on the formed first hydrophilic oxygen barrier layer 20 and covered with a glass plate The photocuring proceeds to form a hydrophobic oxygen barrier layer 40. At this time, the photocuring may be performed by irradiating ultraviolet rays for 20 to 40 minutes.

여기서 소수성 산소차단층(40)은 제1 친수성 산소차단층(20)과 유사한 산소차단성, 투명성, 유연성을 가져 위조방지층(10) 상에 직접 형성될 수도 있으나, 위조방지층(10)에 포함된 광감응제와 제1 전자수용체의 보호를 위해 제1 친수성 산소차단층(20) 상에 형성되는 것이 바람직하다. 즉, 소수성 산소차단층(40)은 소수성 산소차단층용 용액(광경화성 수지조성물)에 함유된 광개시제의 분해 및 중합반응에 의해 형성되는데, 이때, 위조방지층(10) 상에 소수성 산소차단층(40)을 직접 형성하면 광개시제에 의해 위조방지층(10)에 포함된 광감응제와 제1 전자수용체가 파괴(분해)될 수 있다. 따라서 소수성 산소차단층(40)은 제1 친수성 산소차단층(20) 상에 형성되는 것이 바람직하다.The hydrophobic oxygen barrier layer 40 may be formed directly on the anti-fake layer 10 to have similar oxygen barrier properties, transparency and flexibility as the first hydrophilic oxygen barrier layer 20, It is preferable that the first hydrophilic oxygen barrier layer 20 is formed to protect the light-sensitive agent and the first electron acceptor. That is, the hydrophobic oxygen barrier layer 40 is formed by the decomposition and polymerization reaction of the photoinitiator contained in the hydrophobic oxygen barrier layer solution (photocurable resin composition). At this time, the hydrophobic oxygen barrier layer 40 ), The photo-sensitizer and the first electron acceptor contained in the anti-fake layer 10 can be destroyed (decomposed) by the photoinitiator. Therefore, it is preferable that the hydrophobic oxygen barrier layer 40 is formed on the first hydrophilic oxygen barrier layer 20.

한편, 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 위조방지용 필름, 즉, 위조방지보조층(60)을 더 포함하는 위조방지용 필름은 상술한 과정과 동일한 과정을 거치되, 지지층(50) 상에 위조방지보조층(60)을 추가로 형성하는 과정을 거쳐 제조될 수 있다. 구체적으로 제2 친수성 산소차단층(30)을 형성하기 전에, 지지층(50) 상에 제2 전자수용체를 포함하는 위조방지보조층용 용액(경화성 연성 고분자 조성물)을 도포하고 복제 몰드를 이용해 임프린팅한 후 경화시키는 과정을 거쳐 위조방지보조층(60)을 형성할 수 있다. 이때, 상기 제2 전자수용체는 유기용매에 용해되어 용액 상태로 위조방지보조층용 용액(경화성 연성 고분자 조성물)에 혼합될 수 있다. 또한 상기 경화는 40 내지 60 ℃의 온도에서 1 내지 3 시간 동안 이루어질 수 있다.Meanwhile, the anti-falsification film, which further includes the anti-falsification film 60 according to another embodiment of the present invention, is subjected to the same process as the above-described process, And the auxiliary layer 60 may be further formed. Specifically, before forming the second hydrophilic oxygen barrier layer 30, a solution for the anti-falsification auxiliary layer (curable soft polymer composition) containing the second electron acceptor is applied on the support layer 50 and imprinted The anti-falsification auxiliary layer 60 can be formed through a post-curing process. At this time, the second electron acceptor may be dissolved in an organic solvent and mixed with a solution (curable soft polymer composition) for an anti-fake auxiliary layer in a solution state. The curing may be carried out at a temperature of 40 to 60 DEG C for 1 to 3 hours.

2. 위조방지 물품2. Anti-counterfeit goods

본 발명은 상술한 위조방지용 필름을 포함하는 위조방지 물품을 제공한다. 상기 위조방지 물품은 신분증, 여권, 화폐, 또는 신용카드일 수 있다. 이때, 상술한 위조방지용 필름은 위조방지 물품의 소재에 부착, 또는 위조방지 물품의 소재 상에 직접적인 필름 형성 등의 방법으로 위조방지 물품에 적용될 수 있다.The present invention provides an anti-falsification article comprising the aforementioned anti-fake film. The anti-counterfeit article may be an identification card, a passport, money, or a credit card. At this time, the above-mentioned anti-falsification film can be applied to the anti-falsification article by a method such as attachment to the material of the anti-falsification article or film formation directly on the material of the anti-falsification article.

이러한 본 발명의 위조방지 물품은 상술한 위조방지용 필름을 포함함에 따라 보다 우수한 위조방지성(보안성)을 나타낼 수 있다.The anti-falsification article of the present invention can exhibit more excellent anti-falsification (security) by including the above-mentioned anti-falsification film.

이하 본 발명을 실시예를 통하여 상세히 설명하면 다음과 같다. 단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. However, the following examples are illustrative of the present invention, and the present invention is not limited by the following examples.

[[ 실시예Example 1] One]

1) One) 광감응제Photo-sensitizer 저장 용액(Stock solution)과 제1 전자수용체 저장 용액 제조 Stock solution and first electron acceptor storage solution preparation

광감응제인 PdTPBP(palladium tetraphenyltetrabenzoporphyrin)을 테트라히드로퓨란에 용해시켜 농도가 1.9 mM인 광감응제 저장 용액을 제조하였다.PdTPBP (palladium tetraphenyltetrabenzoporphyrin), a photo - sensitizer, was dissolved in tetrahydrofuran to prepare a photo - sensitizer storage solution having a concentration of 1.9 mM.

또한 제1 전자수용체인 페릴렌(perylene)을 테트라히드로퓨란에 용해시켜 농도가 23.7 mM인 제1 전자수용체 저장 용액을 제조하였다.The first electron acceptor, perylene, was dissolved in tetrahydrofuran to prepare a first electron acceptor storage solution having a concentration of 23.7 mM.

2) 마스터 2) Master 몰드(Master mold)와Master mold and 폴리디메틸실록산Polydimethylsiloxane 복제  a copy 몰드Mold (( PDMSPDMS replica mold) 제조(도 5 참조) (see Fig. 5)

미세한 구조의 선-공백 패턴(Line-and-space)의 형태는 AutoCAD 프로그램을 이용해 디자인되었고, 이를 바탕으로 기업체 의뢰를 통해 포토 마스크를 제작하였다.The line-and-space pattern of fine structure was designed using AutoCAD program, and based on this, we made a photomask through corporate request.

포토리소그래피(photolithography) 공정의 기재(substrate)로써 6 inch 실리콘 웨이퍼(silicon wafer)를 준비하였다. 준비된 실리콘 웨이퍼 상에 음성감광제인 SU-8 2015(MicroChem, USA)를 500 rpm에서 5 초 동안 스핀코팅을 실시하고, 이어서 4000 rpm에서 30 초 동안 다시 스핀코팅을 실시하였다.A 6 inch silicon wafer was prepared as a substrate for the photolithography process. A negative photoresist SU-82015 (MicroChem, USA) was spin-coated on the prepared silicon wafer at 500 rpm for 5 seconds and then spin-coated again at 4000 rpm for 30 seconds.

다음, 상기 음성감광제의 경화를 위해 95 의 핫플레이트(MSH-10, WiseStir, Korea)에서 180 초 동안 소프트 베이크(soft bake)를 실시하였다.Next, a soft bake was performed for 180 seconds on a 95 hot plate (MSH-10, WiseStir, Korea) for curing the negative photosensitive agent.

그 다음, 마스크 얼라이너(MA/BA6, SUSS MicroTec, Germany)를 이용하여 포토 마스크를 상기 실리콘 웨이퍼 상에 위치시키고 약 130 mJ/㎠의 에너지를 입력하기 위해 4.5 초 동안 자외선(UV)을 조사시켰다.A photomask was then placed on the silicon wafer using a mask aligner (MA / BA6, SUSS MicroTec, Germany) and irradiated with ultraviolet light (UV) for 4.5 seconds to enter an energy of about 130 mJ / .

다음, 95 의 핫플레이트 상에서 240 초 동안 포스트 익스포져 베이크 (post exposure bake)를 실시한 후, SU-8 Developer(MicroChem, USA) 용액에 3 분 동안 노출시켜 미세한 구조의 선-공백 형태의 패턴을 형성하였다.Next, a post exposure bake was performed on a 95 hot plate for 240 seconds, and then exposed to a solution of SU-8 Developer (MicroChem, USA) for 3 minutes to form a fine-structure pre-blank pattern .

그 다음, 선-공백 형태의 패턴이 형성된 실리콘 웨이퍼를 탈이온수(DI water)로 10 초 동안 1차 세정한 후 이소프로필 알코올로 10 초 동안 2차 세정하고, 질소 분위기 하에 건조시켰다.Then, the silicon wafer on which the line-space pattern was formed was first washed with DI water for 10 seconds, then secondly washed with isopropyl alcohol for 10 seconds, and dried under a nitrogen atmosphere.

다음, 95 의 핫플레이트에서 240 분 동안 하드 베이크(hard bake)를 실시하여 마스터 몰드를 제조하였다.Next, a hard bake was performed on a 95 hot plate for 240 minutes to prepare a master mold.

그 다음, 제조된 마스터 몰드를 유리 용기에 놓은 후, 마스터 몰드 주위에 자가조립 단분자막 형성 용액(L-SAM, Minuta Tech. Co. Ltd, Korea)을 3 방울 떨어뜨렸다. 이후, 유리 용기를 데시케이터에 넣고 1×10-3 torr에서 30 분 동안 진공 상태에 두어 마스터 몰드의 표면에 자가조립 단분자막(SAM)을 형성하였다.Then, the prepared master mold was placed in a glass container, and 3 drops of a self-assembled monolayer forming solution (L-SAM, Minuta Tech. Co. Ltd, Korea) was dropped around the master mold. The glass container was then placed in a desiccator and placed in a vacuum for 30 minutes at 1 × 10 -3 torr to form a self-assembled monolayer (SAM) on the surface of the master mold.

다음, 자가조립 단분자막이 형성된 마스터 몰드를 깨끗한 OHP(Over Head Projector) 필름 상에 두고 아크릴로 제조된 틀을 배치한 후 주제와 경화제가 10:1의 질량비로 혼합된 폴리디메틸실록산 용액(Sylgard 184, Dow Corning Coporation, USA)을 충분히 붓고 상온에서 48 시간 이상 경화시켜 폴리디메틸실록산 복제 몰드를 제조하였다.Next, a master mold with a self-assembled monolayer formed thereon was placed on a clean OHP (Over Head Projector) film, and a frame made of acrylic was placed. Then, a polydimethylsiloxane solution (Sylgard 184, Dow Corning Coporation, USA) was sufficiently poured and cured at room temperature for more than 48 hours to prepare a polydimethylsiloxane replica mold.

3) 3) 위조방지층Anti-counterfeit layer 형성용 폴리우레탄 용액 제조 Polyurethane solution for forming

폴리올(A) 성분과 폴리이소시아네이트(B) 성분이 1:1의 질량비로 혼합된 액상 고무(polytek社의 poly-74-30)를 유리 바이얼(vial)에 2 g 정도 분취한 후 클로로포름 2 ㎖를 첨가하고 밀봉하였다. 다음, 70 ℃에서 자석교반기를 사용하여 800 rpm으로 교반을 실시하였다. 교반 시작 후, 40 분, 60 분, 80 분, 120 분이 경과할 때 마다 클로로포름 2 ㎖씩을 첨가하였다. 교반 완료 후 얻어진 용액 5 g을 분취하여 별도의 유리 바이얼에 담고 상기에서 제조된 광감응제 저장 용액과 제1 전자수용체 저장 용액 각각을 마이크로 피펫으로 첨가 및 혼합하는 과정을 거쳐 폴리우레탄 용액을 제조하였다.2 g of a liquid rubber (poly-74-30 from polytek) mixed with a polyol (A) component and a polyisocyanate (B) component in a mass ratio of 1: 1 was collected in a vial, and 2 ml of chloroform Was added and sealed. Then, the mixture was stirred at 70 rpm at 800 rpm using a magnetic stirrer. After the start of stirring, 2 ml of chloroform was added every 40 minutes, 60 minutes, 80 minutes, and 120 minutes. 5 g of the solution obtained after completion of the stirring was collected and placed in a separate glass vial, and the photo-sensitizer storage solution and the first electron acceptor storage solution prepared above were added and mixed with a micropipette to prepare a polyurethane solution Respectively.

4) 지지층/제2 친수성 4) Support layer / second hydrophilic 산소차단층The oxygen- // 위조방지층Anti-counterfeit layer 구조의 위조방지용 필름 제조 Construction of anti-counterfeit film

지지층으로 두께가 100 ㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트를 사용하였으며, 상기 폴리에틸렌테레프탈레이트 상에 폴리비닐알코올 수용액을 도포한 후, 3000 rpm에서 60 초 동안 스핀 코팅을 실시하였다. 이후, 20 분 동안 상온에서 건조시켜 제2 친수성 산소차단층(두께: 1 ㎛)을 형성하였다. 이때, 상기 폴리비닐알코올 수용액은 알드리치사의 폴리비닐알코올(Mowiol 4-88) 14 g을 증류수 50 ㎖에 투입하고 90 ℃에서 1000 rpm(자석교반기 사용)으로 교반 및 용해시키는 과정을 거쳐 얻어진 것을 사용하였다.Polyethylene terephthalate having a thickness of 100 탆 was used as a support layer, and a polyvinyl alcohol aqueous solution was applied on the polyethylene terephthalate, followed by spin coating at 3000 rpm for 60 seconds. Thereafter, it was dried at room temperature for 20 minutes to form a second hydrophilic oxygen barrier layer (thickness: 1 mu m). The polyvinyl alcohol aqueous solution was prepared by adding 14 g of polyvinyl alcohol (Mowiol 4-88) manufactured by Aldrich Co. to 50 ml of distilled water and stirring and dissolving at 90 ° C at 1000 rpm using a magnetic stirrer .

다음, 폴리비닐알코올로 이루어진 제2 친수성 산소차단층 상에 상기에서 제조된 폴리우레탄 용액 150 ㎕을 도포한 후, 도포면 상에 상기에서 제조된 폴리디메틸실록산 복제 몰드를 올려놓고 가압 스템핑한 상태로 상온에서 12 시간 이상 방지하여 용매를 증발시켰다. 이후, 경화 과정을 거쳐 광감응제와 제1 전자수용체를 포함하면서 선-공백 형태의 발광 패턴이 형성된 폴리우레탄 소재의 위조방지층을 형성하였다.Next, 150 占 퐇 of the polyurethane solution prepared above was coated on the second hydrophilic oxygen barrier layer made of polyvinyl alcohol, and the polydimethylsiloxane replica mold prepared above was placed on the application surface, The reaction was stopped at room temperature for at least 12 hours to evaporate the solvent. Thereafter, a curing process was performed to form a polyurethane anti-fake layer including a light-sensitive material and a first electron acceptor and having a light emission pattern in a line-space form.

그 다음, 상온에서 하루 동안 암실에 보관하는 과정을 거쳐 위조방지용 필름을 제조하였다.Then, the film was stored in a dark room at room temperature for one day to prepare an anti-fake film.

[[ 실시예Example 2] 2]

선-공백 형태의 패턴 대신에 벌집 형상의 패턴으로 마스터 몰드와 폴리디메틸실록산 복제 몰드를 제조한 후, 제조된 폴리디메틸실록산 복제 몰드로 가압 스템핑하여 벌집 형상의 발광 패턴이 형성된 위조방지층을 형성하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 과정을 거쳐 지지층/제2 친수성 산소차단층/위조방지층 구조를 갖는 위조방지용 필름을 제조하였다.A master mold and a polydimethylsiloxane replica mold are produced in a honeycomb pattern instead of the line-vacancy pattern, and then the resulting polydimethylsiloxane replica mold is pressure-stamped to form an anti-forbidden layer in which a honeycomb luminescence pattern is formed A counterfeit preventing film having a support layer / a second hydrophilic oxygen barrier layer / anti-fake layer structure was produced through the same procedure as in Example 1.

[[ 실시예Example 3] 3]

선-공백 형태의 패턴 대신에 메쉬(mesh) 형상의 패턴으로 마스터 몰드와 폴리디메틸실록산 복제 몰드를 제조한 후, 제조된 폴리디메틸실록산 복제 몰드로 가압 스템핑하여 메쉬(mesh) 형상의 발광 패턴이 형성된 위조방지층을 형성하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 과정을 거쳐 지지층/제2 친수성 산소차단층/위조방지층 구조를 갖는 위조방지용 필름을 제조하였다.A master mold and a polydimethylsiloxane replica mold were produced in the form of a mesh instead of the line-vacancy pattern, and then pressure-stamped with the prepared polydimethylsiloxane replica mold to form a mesh- A forgery preventing film having a support layer / a second hydrophilic oxygen barrier layer / anti-fake layer structure was produced through the same procedure as in Example 1, except that the anti-fake layer formed was formed.

[[ 실시예Example 4] 4]

선-공백 형태의 패턴 대신에 PNU UPCONVERSION LAB. 로고 형태의 패턴으로 마스터 몰드와 폴리디메틸실록산 복제 몰드를 제조한 후, 제조된 폴리디메틸실록산 복제 몰드로 가압 스템핑하여 상기 로고 형태의 발광 패턴이 형성된 위조방지층을 형성하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 과정을 거쳐 지지층/제2 친수성 산소차단층/위조방지층 구조를 갖는 위조방지용 필름을 제조하였다.Instead of the line-space pattern PNU UPCONVERSION LAB. The procedure of Example 1 was repeated except that a master mold and a polydimethylsiloxane replica mold were produced in the form of a logo, and then the resulting polydimethylsiloxane replica mold was pressure-stamped to form an anti- A counterfeit preventing film having a support layer / a second hydrophilic oxygen barrier layer / anti-fake layer structure was prepared.

[[ 실험예Experimental Example 1] One]

실시예 1 내지 4에서 제조된 위조방지용 필름에 형성된 각각의 패턴을 확인하기 위해 위조방지용 필름을 주사전자현미경으로 확인하였으며, 그 결과를 도 6에 나타내었다.Anti-falsification films were identified with a scanning electron microscope to confirm respective patterns formed on the anti-falsification films prepared in Examples 1 to 4, and the results are shown in Fig.

도 6을 참조하면, 실시예 1 내지 4에서 제조된 위조방지용 필름에는 약 10 ㎛ 수준의 크기를 갖는 미세 발광 패턴이 각각 선명하게 형성되었음을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 6, it can be confirmed that the anti-falsification films prepared in Examples 1 to 4 have clearly defined fine light emission patterns having a size of about 10 μm.

[[ 실시예Example 5] 5]

실시예 1에서 제조된 위조방지용 필름에 추가로 제1 친수성 산소차단층과 소수성 산소차단층을 각각 형성하여 지지층/제2 친수성 산소차단층/위조방지층/제1 친수성 산소차단층/소수성 산소차단층의 구조를 갖는 위조방지용 필름을 제조하였다. 이때 제1 친수성 산소차단층과 소수성 산소차단층은 다음과 같은 과정으로 형성하였다.The first hydrophilic oxygen barrier layer and the hydrophobic oxygen barrier layer were formed in addition to the anti-falsification film prepared in Example 1 to form the support layer / second hydrophilic oxygen barrier layer / anti-fake layer / first hydrophilic oxygen barrier layer / hydrophobic oxygen barrier layer To prepare an anti-falsification film. At this time, the first hydrophilic oxygen barrier layer and the hydrophobic oxygen barrier layer were formed by the following process.

1) 제1 친수성 1) First hydrophilic 산소차단층The oxygen- 형성 formation

실시예 1에서 제조된 위조방지용 필름의 위조방지층 상에 폴리비닐알코올 수용액을 도포한 후 3000 rpm에서 60 초 동안 스핀 코팅을 실시하였다. 이후, 20 분 동안 상온에서 건조시켜 제1 친수성 산소차단층(두께: 1 ㎛)을 형성하였다. 이때, 상기 스핀 코팅은 선-공백 형태의 패턴을 완전히 덮을 수 있는 수준까지 수 회 이상 반복되었다. 또한 상기 폴리비닐알코올 수용액으로는 실시예 1에서 제2 친수성 산소차단층을 형성하는데 사용한 것과 동일한 것을 사용하였다. A polyvinyl alcohol aqueous solution was coated on the anti-fake layer of the anti-falsification film prepared in Example 1, and then spin-coated at 3000 rpm for 60 seconds. Thereafter, the membrane was dried at room temperature for 20 minutes to form a first hydrophilic oxygen barrier layer (thickness: 1 mu m). At this time, the spin coating was repeated several times or more to a level at which the line-blank pattern could be completely covered. The same polyvinyl alcohol aqueous solution as that used for forming the second hydrophilic oxygen barrier layer in Example 1 was used.

2) 소수성 2) Hydrophobicity 산소차단층The oxygen- 형성 formation

상기 제1 친수성 산소차단층의 가장자리를 테이프(로딩시 스페이서(spacer) 역할)로 고정시킨 후 우레탄 아크릴레이트 조성물(Minuta Tech, MINS-ERM)을 제1 친수성 산소차단층 상에 천천히 로딩하였다. 다음, 기포가 발생하지 않도록 주의하면서 투명 유리판으로 도포된 우레탄 아크릴레이트 조성물을 덮은 후 시편을 자외선 램프에 30 분 동안 노출시켜 광경화를 진행하였다. 이후 투명 유리판을 제거하여 우레탄 아크릴레이트로 이루어진 소수성 산소차단층(두께: 20 ㎛)을 형성하였다. The urethane acrylate composition (Minuta Tech, MINS-ERM) was slowly loaded onto the first hydrophilic oxygen barrier layer after the edge of the first hydrophilic oxygen barrier layer was fixed with a tape (serving as a spacer at the time of loading). Next, the urethane acrylate composition coated with a transparent glass plate was covered while taking care not to generate bubbles, and the specimen was exposed to an ultraviolet lamp for 30 minutes to perform photo-curing. Thereafter, the transparent glass plate was removed to form a hydrophobic oxygen barrier layer (thickness: 20 mu m) made of urethane acrylate.

[[ 실시예Example 6] 6]

실시예 1에서 제조된 위조방지용 필름 대신에 실시예 2에서 제조된 위조방지용 필름을 적용한 것을 제외하고는 실시예 5와 동일한 과정을 거쳐 위조방지용 필름을 제조하였다.An anti-falsification film was produced in the same manner as in Example 5, except that the anti-falsification film prepared in Example 2 was used instead of the anti-falsification film prepared in Example 1.

[[ 실시예Example 7] 7]

실시예 1에서 제조된 위조방지용 필름 대신에 실시예 3에서 제조된 위조방지용 필름을 적용한 것을 제외하고는 실시예 5와 동일한 과정을 거쳐 위조방지용 필름을 제조하였다.An anti-falsification film was produced in the same manner as in Example 5, except that the anti-falsification film prepared in Example 3 was used instead of the anti-falsification film prepared in Example 1.

[[ 실시예Example 8] 8]

실시예 1에서 제조된 위조방지용 필름 대신에 실시예 4에서 제조된 위조방지용 필름을 적용한 것을 제외하고는 실시예 5와 동일한 과정을 거쳐 위조방지용 필름을 제조하였다.An anti-falsification film was produced in the same manner as in Example 5 except that the anti-falsification film prepared in Example 4 was used instead of the anti-falsification film prepared in Example 1.

[[ 비교예Comparative Example 1] One]

지지층으로 두께가 100 ㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 상에 상기 실시예 1에서 제조된 폴리우레탄 용액으로 위조방지층을 형성하여 지지층/위조방지층의 구조로 이루어진 위조방지용 필름을 제조하였다. 이때, 위조방지층은 실시예 1과 동일한 과정으로 형성하였다.An anti-fake film was formed on the polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 탆 as a support layer by using the polyurethane solution prepared in Example 1 to prepare an anti-fake film having a support layer / anti-fake layer structure. At this time, the anti-fake layer was formed in the same manner as in Example 1.

[[ 실험예Experimental Example 2] 2]

실시예 5 내지 8 및 비교예 1에서 제조된 위조방지용 필름의 UC 발광 특성을 평가하기 위해 각각의 위조방지용 필름에 635 ㎚ 파장의 적색 가시광선 레이저를 조사하면서 위조방지용 필름으로부터 방출되는 빛 중 광학필터(shortpass filter, 컷오프: 500nm)를 이용하여 500 ㎚ 파장보다 짧은 파장의 빛만을 투과시켜서 형광현미경으로 관측하였으며, 그 결과를 도 7에 나타내었다.In order to evaluate the UC emission characteristics of the anti-fake films prepared in Examples 5 to 8 and Comparative Example 1, each of the anti-falsification films was irradiated with a red visible ray laser having a wavelength of 635 nm, (short-pass filter, cut-off: 500 nm). The result was observed with a fluorescence microscope. The results are shown in FIG.

도 7을 참조하면, 실시예 5 내지 8에서 제조된 위조방지용 필름은 위조방지층에 형성된 발광 패턴의 형태에 따라 청색의 UC 발광 현상이 나타나는 것을 확인할 수 있다. 이러한 점은 미세 패턴 형성 기술과 비전통적인 발광 현상인 삼중항-삼중항 소멸에 의한 UC 발광이 접목되어 새로운 형태의 비전통적 발광형 위조방지 기술의 구현이 가능함을 뒷받침하는 것으로, 이에 따라 본 발명에 의하면 독특한 UC 발광의 원리가 적용된 위조방지 기술로서 종래의 자외선-가시광선(UV-to-VIS)을 이용한 위조방지 기술보다 위조 물품 제조(모방) 및/또는 위조 판별이 고도화된 발광 기반의 위조방지 기술을 제공할 수 있을 것으로 보인다.Referring to FIG. 7, it can be seen that the anti-falsification films produced in Examples 5 to 8 exhibit a blue UC emission phenomenon depending on the pattern of the emission pattern formed on the anti-fake layer. This supports the possibility of implementing a new type of non-traditional luminescent anti-falsification technology by combining a fine pattern formation technique and a non-traditional luminescence phenomenon, that is, UC emission by triplet-triplet extinction. (Anti-counterfeiting technology), which is based on the principle of unique UC emission, is a counterfeiting prevention technology using conventional UV-to-VIS, Technology.

반면에 비교예 1에서 제조된 위조방지용 필름은 친수성 산소차단층이 존재하지 않아 UC 발광 현상이 전혀 나타나지 않는 것을 확인할 수 있다. 이러한 결과는 친수성 산소차단층의 존재유무가 UC 발광 현상을 구현하는데 필수적이라는 점을 뒷받침하는 것이라고 볼 수 있다.On the other hand It can be confirmed that the anti-fake film prepared in Comparative Example 1 does not have a hydrophilic oxygen barrier layer and no UC emission phenomenon appears at all. These results support that the presence or absence of the hydrophilic oxygen barrier layer is essential to realize the UC emission phenomenon.

[[ 실시예Example 9] 9]

지지층과 제2 친수성 산소차단층 사이에 제2 전자수용체인 페릴렌(perylene)만이 혼합된 폴리우레탄 용액으로 선-공백 형태의 발광 패턴이 형성된 위조방지보조층을 형성하는 것과, 위조방지층에 선-공백 형태의 발광 패턴 대신에 QR 코드 형태의 발광 패턴을 형성한 것을 제외하고는 실시예 5와 동일한 과정을 거쳐 지지층/위조방지보조층/제2 친수성 산소차단층/위조방지층/제1 친수성 산소차단층/소수성 산소차단층의 구조(도 8 참조)를 갖는 위조방지용 필름을 제조하였다.Forming an anti-fake auxiliary layer in which an emission pattern of a pre-blank type is formed by a polyurethane solution mixed only with perylene which is a second electron acceptor between the support layer and the second hydrophilic oxygen barrier layer; Anti-fake auxiliary layer / second hydrophilic oxygen barrier layer / anti-fake anti-fake layer / first hydrophilic oxygen barrier layer / anti-fake anti-fouling layer / Layer / hydrophobic oxygen barrier layer (see Fig. 8).

[[ 실험예Experimental Example 3] 3]

실시예 9에서 제조된 위조방지용 필름의 위조방지성(보안성)을 평가하기 위해 365 ㎚ 파장의 자외선과 635 ㎚ 파장의 적색 가시광선의 레이저를 각각 위조방지용 필름에 조사하고, 광학필터(longpass filter 및 shortpass filter)를 이용하여 투과시킨 후에 형광현미경으로 발광 특성을 확인하였다. 또한, 얻어진 패턴을 소정의 휘도를 기준으로 추출한 후에 휴대단말기의 QR 스캐너를 이용하여 확인을 시도하였고, 이들의 결과를 도 9에 나타내었다.In order to evaluate the anti-falsification (security) of the anti-falsification film manufactured in Example 9, the anti-fake film was irradiated with a laser beam having a wavelength of 365 nm and a laser beam having a wavelength of 635 nm, short pass filter) to confirm the luminescence characteristics by fluorescence microscope. In addition, after the extracted patterns were extracted based on a predetermined luminance, verification was attempted using a QR scanner of a portable terminal, and the results thereof are shown in Fig.

도 9를 참조하면, 실시예 9에서 제조된 위조방지용 필름에 자외선을 조사할 경우, 위조방지보조층과 위조방지층에 공통적으로 전자수용체인 페릴렌이 함유되어 있어 두 층 모두 청색 발광이 나타나고, 두 층에 형성된 발광 패턴은 구분이 되지 않는 것을 확인할 수 있다. 이에 따라 위조방지층에 형성된 QR 코드는 휴대단말기를 통해 인식이 어려움을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 9, when the anti-falsification film manufactured in Example 9 is irradiated with ultraviolet rays, the anti-falsification auxiliary layer and the anti-falsification layer contain perylene, which is an electron acceptor in common, It can be confirmed that the light emission pattern formed on the layer is not distinguished. Accordingly, it can be confirmed that the QR code formed on the anti-fake layer is difficult to recognize through the portable terminal.

반면에 실시예 9에서 제조된 위조방지용 필름에 635 ㎚ 파장의 레이저를 조사할 경우, 위조방지보조층에서는 UC 발광이 일어나지 않지만 UC 발광 특성을 갖는 위조방지층에서는 선택적으로 QR 코드 형태의 청색 발광이 나타나는 것을 확인할 수 있다. 이에 따라 위조방지층에 형성된 QR 코드는 휴대단말기를 통해 인식이 가능하여 QR 코드에 포함된 정보를 확인할 수 있으며, 이는 본 발명의 위조방지용 필름이 종래의 발광기반 위조방지 기술에 비해 고차원화된 위조방지성(보안성)을 가지고 있음을 뒷받침하는 결과로 볼 수 있다.On the other hand, when the anti-fake film produced in Example 9 is irradiated with a laser beam having a wavelength of 635 nm, UC emission does not occur in the anti-fake auxiliary layer, but blue light of QR code type appears selectively in the anti- . Accordingly, the QR code formed on the anti-falsification layer can be recognized through the portable terminal and information contained in the QR code can be confirmed. This is because the anti-falsification film of the present invention is superior to the conventional anti-falsification technology This is a result of supporting the fact that we have sex (security).

10: 위조방지층
20: 제1 친수성 산소차단층
30: 제2 친수성 산소차단층
40: 소수성 산소차단층
50: 지지층
60: 위조방지보조층
10: Anti-counterfeit layer
20: First hydrophilic oxygen barrier layer
30: second hydrophilic oxygen barrier layer
40: hydrophobic oxygen barrier layer
50: Support layer
60: Anti-counterfeiting auxiliary layer

Claims (18)

매트릭스 고분자 내에 광감응제와 제1 전자수용체를 포함하는 소프트 리소그래피 발광 패턴이 형성된 위조방지층; 및
상기 위조방지층의 일측에 배치되고, 친수성 고분자를 포함하는 제1 친수성 산소차단층을 포함하고,
상기 매트릭스 고분자는 폴리우레탄, 폴리이소부틸렌, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 셀룰로오스 아세테이트, 폴리디메틸실록산 및 폴리카보네이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하며,
상기 친수성 고분자는 폴리비닐알코올계 고분자 화합물을 포함하는 것인 위조방지용 필름.
An anti-falsification layer in which a soft lithographic light emission pattern including a photo-sensitizer and a first electron acceptor is formed in the matrix polymer; And
A first hydrophilic oxygen barrier layer disposed on one side of the anti-fake layer and including a hydrophilic polymer,
Wherein the matrix polymer comprises at least one member selected from the group consisting of polyurethane, polyisobutylene, polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, cellulose acetate, polydimethylsiloxane and polycarbonate,
Wherein the hydrophilic polymer comprises a polyvinyl alcohol-based polymer compound.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 위조방지층은 상기 광감응제와 상기 제1 전자수용체 간의 삼중항-삼중항 소멸에 의한 업컨버전(Triplet-triplet annihilation based UpConversion)에 의해 상기 발광 패턴이 식별 가능하도록 발광되는 것인 위조방지용 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the anti-fake layer is emitted by the triplet-triplet annihilation based UpConversion between the photosensitizer and the first electron acceptor such that the light emission pattern is distinguishable.
청구항 1에 있어서,
상기 광감응제는 금속 원자가 결합된 포피린계 화합물, 금속 원자가 결합된 프탈로사이아닌계 화합물 및 열활성화지연형광(Thermally Activated Delayed Fluorescence)계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것인 위조방지용 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the photosensitive agent is at least one selected from the group consisting of a porphyrin compound bonded with a metal atom, a phthalocyanine compound bonded with a metal atom, and a thermally activated delayed fluorescence compound.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전자수용체는 상기 광감응제로부터 전자를 전달받아서 삼중항-삼중항 소멸에 의해 업컨버전된 광자를 방출하는 화합물인 것인 위조방지용 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the first electron acceptor is a compound that receives electrons from the photosensitizer and emits photons that are upconverted by triplet-triplet extinction.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 제1 친수성 산소차단층의 상기 위조방지층과의 대향측에 배치되는 소수성 산소차단층을 더 포함하는 것인 위조방지용 필름.
The method according to claim 1,
Further comprising a hydrophobic oxygen barrier layer disposed on an opposite side of the first hydrophilic oxygen barrier layer to the anti-fake layer.
청구항 7에 있어서,
상기 소수성 산소차단층은 광경화성 아크릴레이트계 고분자 화합물을 포함하는 것인 위조방지용 필름.
The method of claim 7,
Wherein the hydrophobic oxygen barrier layer comprises a photocurable acrylate-based polymer compound.
청구항 1에 있어서,
상기 위조방지층의 타측에 배치되는 제2 친수성 산소차단층을 더 포함하는 것인 위조방지용 필름.
The method according to claim 1,
And a second hydrophilic oxygen barrier layer disposed on the other side of the anti-fake layer.
청구항 9에 있어서,
상기 제2 친수성 산소차단층은 폴리비닐알코올계 고분자 화합물을 포함하는 것인 위조방지용 필름.
The method of claim 9,
Wherein the second hydrophilic oxygen barrier layer comprises a polyvinyl alcohol-based polymer compound.
청구항 1에 있어서,
상기 위조방지층의 타측에서의 최외층으로서 배치되는 지지층을 더 포함하는 것인 위조방지용 필름.
The method according to claim 1,
Further comprising a support layer disposed as an outermost layer on the other side of the anti-fake layer.
청구항 11에 있어서,
상기 위조방지층과 상기 지지층의 사이에 배치되며, 제2 전자수용체를 포함하는 위조방지보조층을 더 포함하는 것인 위조방지용 필름.
The method of claim 11,
And an anti-fake auxiliary layer disposed between the anti-fake layer and the support layer, the anti-fake auxiliary layer including a second electron acceptor.
매트릭스 고분자, 광감응제 및 제1 전자수용체를 포함하는 위조방지층용 용액을 지지층 위에 도포하여서 소프트 리소그래피 발광 패턴이 형성된 위조방지층을 형성하는 단계; 및
상기 위조방지층 위에 친수성 고분자를 포함하는 제1 친수성 산소차단층용 용액을 도포하여서 제1 친수성 산소차단층을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 위조방지층은 매트릭스 고분자 내에 상기 광감응제 및 제1 전자수용체가 함유되어 있는 것이며,
상기 매트릭스 고분자는 폴리우레탄, 폴리이소부틸렌, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 셀룰로오스 아세테이트, 폴리디메틸실록산 및 폴리카보네이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것이며,
상기 친수성 고분자는 폴리비닐알코올계 고분자 화합물을 포함하는 것인 위조방지용 필름의 제조 방법.
Applying a solution for an anti-fake layer including a matrix polymer, a photo-sensitizer, and a first electron acceptor on a support layer to form an anti-fake layer having a soft-lithography luminescent pattern formed thereon; And
And forming a first hydrophilic oxygen barrier layer by applying a first hydrophilic oxygen barrier layer solution containing a hydrophilic polymer on the anti-fake layer,
Wherein the anti-fake layer contains the photo-sensitizer and the first electron acceptor in the matrix polymer,
Wherein the matrix polymer comprises at least one member selected from the group consisting of polyurethane, polyisobutylene, polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, cellulose acetate, polydimethylsiloxane and polycarbonate,
Wherein the hydrophilic polymer comprises a polyvinyl alcohol-based polymer compound.
청구항 13에 있어서,
상기 제1 친수성 산소차단층 위에 소수성 고분자를 포함하는 소수성 산소차단층용 용액을 도포하여서 소수성 산소차단층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것인 위조방지용 필름의 제조 방법.
14. The method of claim 13,
And forming a hydrophobic oxygen barrier layer by applying a hydrophobic oxygen barrier layer solution containing a hydrophobic polymer on the first hydrophilic oxygen barrier layer.
청구항 13에 있어서,
상기 위조방지층을 형성하는 단계는,
상기 지지층 위에 친수성 고분자를 포함하는 제2 친수성 산소차단층용 용액을 도포하여서 제2 친수성 산소차단층을 형성하는 단계; 및
상기 제2 친수성 산소차단층 위에 상기 위조방지층용 용액을 도포하여서 위조방지층을 형성하는 단계를 포함하는 것인 위조방지용 필름의 제조 방법.
14. The method of claim 13,
The step of forming the anti-
Forming a second hydrophilic oxygen barrier layer by applying a second hydrophilic oxygen barrier layer solution containing a hydrophilic polymer on the support layer; And
And applying a solution for the anti-fake layer on the second hydrophilic oxygen barrier layer to form an anti-fake layer.
청구항 15에 있어서,
상기 제2 친수성 산소차단층을 형성하는 단계는,
상기 지지층 위에 제2 전자수용체를 포함하는 위조방지보조층용 용액을 도포하여서 위조방지보조층을 형성하는 단계; 및
상기 위조방지보조층 위에 상기 제2 친수성 산소차단층용 용액을 도포하여서 제2 친수성 산소차단층을 형성하는 단계를 포함하는 것인 위조방지용 필름의 제조 방법.
16. The method of claim 15,
Wherein forming the second hydrophilic oxygen barrier layer comprises:
Applying a solution for an anti-fake auxiliary layer containing a second electron acceptor on the support layer to form an anti-fake auxiliary layer; And
And applying a solution for the second hydrophilic oxygen barrier layer on the anti-fake auxiliary layer to form a second hydrophilic oxygen barrier layer.
청구항 1, 3 내지 5, 7 내지 12 중 어느 한 항에 따른 위조방지용 필름을 포함하는 위조방지 물품.An anti-fake article comprising the anti-fake film according to any one of claims 1, 3 to 5 and 7 to 12. 청구항 17에 있어서,
신분증, 여권, 화폐 및 신용카드로 이루어진 군에서 선택되는 것인 위조방지 물품.
18. The method of claim 17,
An identification card, a passport, a currency, and a credit card.
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