KR101929067B1 - Resin composition sheet, resin composition sheet with metal foil attached, metal base wiring board material, metal base wiring board, and led light source member - Google Patents

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Abstract

본 발명의 수지 조성물 시트는 열경화성 수지와 페놀 수지와 절연성 무기 필러를 함유하는 수지 조성물로 형성되고, 표면에 있어서의 최대 깊이 0.5 ㎛ 이상의 오목부의 점유율이 면적률로 4 % 이하이다.The resin composition sheet of the present invention is formed of a resin composition containing a thermosetting resin, a phenol resin and an insulating inorganic filler, and the occupancy rate of the concave portion having a maximum depth of 0.5 mu m or more on the surface is 4% or less in area ratio.

Description

수지 조성물 시트, 금속박이 부착된 수지 조성물 시트, 메탈 베이스 배선판 재료, 메탈 베이스 배선판, 및 LED 광원 부재 {RESIN COMPOSITION SHEET, RESIN COMPOSITION SHEET WITH METAL FOIL ATTACHED, METAL BASE WIRING BOARD MATERIAL, METAL BASE WIRING BOARD, AND LED LIGHT SOURCE MEMBER}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin composition sheet, a resin composition sheet having a metal foil, a metal base wiring board material, a metal base wiring board, and an LED light source member. LED LIGHT SOURCE MEMBER}

본 발명은 수지 조성물 시트, 금속박이 부착된 수지 조성물 시트, 메탈 베이스 배선판 재료, 메탈 베이스 배선판, 및 LED 광원 부재에 관한 것이다.The present invention relates to a resin composition sheet, a resin composition sheet having a metal foil, a metal base wiring board material, a metal base wiring board, and an LED light source member.

전자 기기의 고밀도화, 컴팩트화의 진행에 수반하여, 회로 상 등에서의 국소적인 발열량은 증대 경향에 있고, 반도체 소자 등의 전자 부품을 탑재한 회로 기판에는 높은 방열 성능이 요구되고 있다. 한편, 종래와 같이 높은 전기 절연성은 필요하게 된다.Background Art [0002] With the advancement of high-density and compact electronic devices, the amount of locally generated heat on a circuit or the like tends to increase, and a circuit board on which electronic components such as semiconductor devices are mounted is required to have high heat radiation performance. On the other hand, a high electrical insulation property as in the prior art is required.

그 때문에, 높은 열전도율과 높은 전기 절연성을 갖는 수지 조성물이 열전도성 밀봉재나 열전도성 접착제로서 실용화되어 오고 있다.For this reason, a resin composition having a high thermal conductivity and high electrical insulating properties has been put to practical use as a thermally conductive sealing material or a thermally conductive adhesive.

상기에 관련하여, 일본 공개특허공보 2008-13759호에는, 액정성을 나타내는 에폭시 수지와 절연성 무기 필러를 함유하는 에폭시 수지 조성물이 개시되어, 높은 열전도율과 우수한 가공성을 갖는다고 되어 있다.In connection with the above, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-13759 discloses an epoxy resin composition containing an epoxy resin showing liquid crystallinity and an insulating inorganic filler, and has a high thermal conductivity and excellent processability.

그러나, 특허문헌 1 에 기재된 에폭시 수지 조성물에서는, 충분한 전기 절연성이 얻어지지 않는 경우가 있었다.However, in the epoxy resin composition described in Patent Document 1, sufficient electrical insulation can not be obtained in some cases.

본 발명은 열전도율 및 전기 절연성이 우수한 수지 경화물이 형성 가능한 수지 조성물 시트, 금속박이 부착된 수지 조성물 시트, 그리고 이들을 사용하여 형성되는 메탈 베이스 배선판 재료, 메탈 베이스 배선판, 및 LED 광원 부재를 제공하는 것을 과제로 한다.The present invention provides a resin composition sheet capable of forming a resin cured product excellent in thermal conductivity and electrical insulation, a resin composition sheet having a metal foil, and a metal base wiring board material, a metal base wiring board, and an LED light source member formed using the resin composition sheet We will do it.

본 발명은 다음에 관한 것이다.The present invention relates to the following.

<1> 열경화성 수지와, 페놀 수지와, 절연성 무기 필러를 함유하고,≪ 1 > A thermosetting resin composition comprising a thermosetting resin, a phenol resin, and an insulating inorganic filler,

표면에 있어서의, 최대 깊이 0.5 ㎛ 이상인 오목부의 점유율이 면적률로 4 % 이하인 수지 조성물 시트.Wherein the occupancy rate of the concave portion having a maximum depth of 0.5 占 퐉 or more on the surface is 4% or less in area ratio.

<2> 20 ℃ ∼ 200 ℃ 에서의 최저 용융 점도가 10 ㎩·s ∼ 1000 ㎩·s 인 상기 <1> 에 기재된 수지 조성물 시트.<2> The resin composition sheet according to <1>, wherein a minimum melt viscosity at 20 ° C to 200 ° C is 10 Pa · s to 1000 Pa · s.

<3> 상기 절연성 무기 필러가 40 vol% 이상 82 vol% 이하로 함유되는 상기 <1> 또는 <2> 에 기재된 수지 조성물 시트.<3> The resin composition sheet according to <1> or <2>, wherein the insulating inorganic filler is contained in an amount of 40 vol% or more and 82 vol% or less.

<4> 상기 절연성 무기 필러가 산화알루미늄, 산화마그네슘, 질화붕소, 질화알루미늄, 질화규소, 탄화규소, 및 불화알루미늄으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 필러인 상기 <1> ∼ <3> 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물 시트.<4> The method according to any one of <1> to <3>, wherein the insulating inorganic filler is at least one kind of filler selected from the group consisting of aluminum oxide, magnesium oxide, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, A resin composition sheet as set forth in any one of claims 1 to 4.

<5> 상기 페놀 수지가 하기 일반식 (Ⅰ) 로 나타내는 구조 단위를 갖는 상기 <1> ∼ <4> 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물 시트.<5> The resin composition sheet according to any one of <1> to <4>, wherein the phenol resin has a structural unit represented by the following general formula (I).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112013065116029-pct00001
Figure 112013065116029-pct00001

일반식 (Ⅰ) 중, R1 은 알킬기, 아릴기, 또는 아르알킬기를 나타내며, R2 및 R3 은 각각 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 아릴기, 또는 아르알킬기를 나타내고, m 은 0 ∼ 2 의 정수를, n 은 1 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.In formula (I), R 1 represents an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, m represents an integer of 0 to 2 And n represents an integer of 1 to 10.

<6> 상기 열경화성 수지와, 상기 페놀 수지와, 상기 절연성 무기 필러를 함유하는 수지 조성물로 형성되어 이루어지고,<6> A resin composition comprising the thermosetting resin, the phenol resin, and the resin composition containing the insulating inorganic filler,

상기 수지 조성물은 점도가 1000 m㎩·s 이상 10000 m㎩·s 이하이며,Wherein the resin composition has a viscosity of 1000 mPa s to 10000 mPa 이하,

상기 수지 조성물을 지지 기판 상에 도포하여 형성되어 이루어지는 상기 <1> ∼ <5> 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물 시트.The resin composition sheet according to any one of <1> to <5>, wherein the resin composition sheet is formed by applying the resin composition onto a support substrate.

<7> 20 ℃ ∼ 200 ℃ 에서의 최저 용융 점도가 10 ㎩·s ∼ 1000 ㎩·s 이고,&Lt; 7 &gt; The thermoplastic resin composition according to any one of &lt; 1 &gt; to &lt;

표면에 있어서의, 최대 깊이 0.5 ㎛ 이상인 오목부의 점유율이 면적률로 4 % 이하인 수지 조성물 시트.Wherein the occupancy rate of the concave portion having a maximum depth of 0.5 占 퐉 or more on the surface is 4% or less in area ratio.

<8> 평균 두께가 20 ㎛ 이상 500 ㎛ 이하인 상기 <1> ∼ <7> 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물 시트.<8> The resin composition sheet according to any one of <1> to <7>, wherein the average thickness is 20 μm or more and 500 μm or less.

<9> 상기 <1> ∼ <8> 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물 시트와, 금속박을 갖는 금속박이 부착된 수지 조성물 시트.&Lt; 9 &gt; A resin composition sheet according to any one of &lt; 1 &gt; to &lt; 8 &gt;, and a metal foil having a metal foil.

<10> 금속박과,&Lt; 10 &gt;

금속 기판과,A metal substrate,

상기 금속박과 상기 금속 기판 사이에, 상기 <1> ∼ <8> 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물 시트의 경화물인 열전도성 절연층을 갖는 메탈 베이스 배선판 재료.A metal base wiring board material having a thermally conductive insulating layer which is a cured product of the resin composition sheet according to any one of <1> to <8> is provided between the metal foil and the metal substrate.

<11> 배선층과, &Lt; 11 &gt;

금속 기판과,A metal substrate,

상기 배선층과 상기 금속 기판 사이에, 상기 <1> ∼ <8> 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물 시트의 경화물인 열전도성 절연층을 갖는 메탈 베이스 배선판.And a thermally conductive insulating layer which is a cured product of the resin composition sheet according to any one of <1> to <8> is provided between the wiring layer and the metal substrate.

<12> 상기 <1> ∼ <8> 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물 시트, 상기 <9> 에 기재된 금속박이 부착된 수지 조성물 시트, 상기 <10> 에 기재된 메탈 베이스 배선판 재료, 또는 상기 <11> 의 메탈 베이스 배선판 중 어느 하나를 사용하여 형성된 LED 광원 부재.<12> A resin composition sheet according to any one of <1> to <8>, a resin composition sheet having a metal foil according to <9>, a metal base wiring board material according to <10> &Lt; RTI ID = 0.0 &gt; 1, &lt; / RTI &gt;

본 발명에 의하면, 열전도율 및 전기 절연성이 우수한 수지 경화물이 형성 가능한 수지 조성물 시트, 금속박이 부착된 수지 조성물 시트, 그리고 이들을 사용하여 형성되는 메탈 베이스 배선판 재료, 메탈 베이스 배선판, 및 LED 광원 부재를 제공할 수 있다.According to the present invention, there is provided a resin composition sheet capable of forming a resin cured product excellent in thermal conductivity and electrical insulation, a resin composition sheet having a metal foil, and a metal base wiring board material, a metal base wiring board, and an LED light source member formed using the resin composition sheet can do.

도 1 은 본 발명의 메탈 베이스 배선판 재료의 일례에 있어서의 단면 구조를 나타낸다.
도 2 는 본 발명의 메탈 베이스 배선판의 일례에 있어서의 단면 구조를 나타낸다.
도 3 은 본 발명의 LED 광원 부재의 일례에 있어서의 단면 구조를 나타낸다.
1 shows a cross-sectional structure of an example of a metal base wiring board material of the present invention.
2 shows a cross-sectional structure of an example of a metal base wiring board of the present invention.
3 shows a cross-sectional structure of an LED light source member according to an embodiment of the present invention.

본 발명에 있어서 「공정」이라는 말은 독립된 공정만이 아니고, 다른 공정과 명확하게 구별할 수 없는 경우이어도 그 공정의 소기의 작용이 달성되면, 본 용어에 포함된다.In the present invention, the term &quot; process &quot; means not only an independent process but also a case where the desired action of the process is achieved even if it can not be clearly distinguished from other processes.

또 본 명세서에 있어서 「∼」을 사용하여 나타낸 수치 범위는 「∼」의 전후에 기재되는 수치를 각각 최소치 및 최대치로서 포함하는 범위를 나타낸다.In the present specification, the numerical range indicated by using &quot; ~ &quot; indicates a range including numerical values before and after &quot; ~ &quot; as the minimum value and the maximum value, respectively.

<수지 조성물 시트><Resin Composition Sheet>

본 발명의 제 1 수지 조성물 시트는 열경화성 수지와 페놀 수지와 절연성 무기 필러를 함유하고, 수지 조성물 시트의 표면에 있어서의, 최대 깊이 0.5 ㎛ 이상인 오목부의 점유율이 면적률로 4 % 이하인 수지 조성물 시트이다.The first resin composition sheet of the present invention is a resin composition sheet containing a thermosetting resin, a phenol resin, and an insulating inorganic filler, and the occupancy rate of the concave portion having a maximum depth of 0.5 탆 or more on the surface of the resin composition sheet is 4% .

본 발명의 제 2 수지 조성물 시트는 20 ℃ ∼ 200 ℃ 에서의 최저 용융 점도가 10 ∼ 1000 Pa·s 이며, 표면에 있어서의, 최대 깊이 0.5 ㎛ 이상인 오목부의 점유율이 면적률로 4 % 이하인 수지 조성물 시트이다.The second resin composition sheet of the present invention has a lowest melt viscosity at 20 to 200 캜 of 10 to 1000 Pa s and a percentage of occupied area of recesses having a maximum depth of 0.5 탆 or more on the surface is 4% Sheet.

본 발명에 있어서의 상기 오목부는 B 스테이지 상태의 수지 조성물 시트 표면에 존재하는 것을 말한다. 보다 구체적으로는, 본 발명에 있어서의 오목부란, B 스테이지 상태의 수지 조성물 시트 표면에 존재하는 함몰된 곳 중, 최대 깊이가 수지 조성물 시트 표면으로부터 0.5 ㎛ 이상이고 또한 수지 조성물 시트의 두께 미만인 것을 말한다.The recesses in the present invention are those present on the surface of the resin composition sheet in the B-stage state. More specifically, in the recesses in the present invention, the maximum depth of depressions present on the surface of the resin composition sheet in the B-stage state is 0.5 mu m or more from the surface of the resin composition sheet and less than the thickness of the resin composition sheet .

본 발명의 수지 조성물 시트는 금속박, 배선층, 또는 금속 기판 등에 첩합(貼合)되어, 금속박이 부착된 수지 조성물 시트, 배선판 재료, 배선판 등을 형성한다. 따라서, 수지 조성물 시트의 표면의 함몰된 곳은 금속박, 배선층, 또는 금속 기판 등과 첩합한 계면에서 기포를 형성한다. 이하에서는, 이 기포를 「계면 기포」라고 부르는 경우가 있다. 수지 조성물 시트를 사용하여 배선판 재료나 배선판을 형성했을 때, 이 중에 포함되는 계면 기포는 절연 파괴의 기점이 되어, 배선판 재료나 배선판의 절연 파괴 전압을 저하시킨다.The resin composition sheet of the present invention is bonded to a metal foil, a wiring layer, a metal substrate or the like to form a resin composition sheet, a wiring board material, a wiring board, or the like to which a metal foil is attached. Therefore, the depressed portion of the surface of the resin composition sheet forms bubbles at the interface with the metal foil, the wiring layer, the metal substrate, or the like. Hereinafter, this bubble may be referred to as &quot; interfacial bubble &quot;. When a wiring board material or a wiring board is formed using the resin composition sheet, the interfacial bubbles contained therein become a starting point of the insulation breakdown, thereby lowering the dielectric breakdown voltage of the wiring board material and the wiring board.

그러나, 상기 계면 기포의 함유율이 적은 경우에는, 배선판 재료를 제조할 때의 가압 가열 (이른바 C 스테이지로 하기 위한 경화용 가열 등) 에 의해, 수지 조성물 시트가 유동하고, 계면 기포는 소실된다. 그래서, 종래의 수지 조성물 시트에서는, C 스테이지로 할 때의 가압 가열에 의해 계면 기포를 소실시키고, C 스테이지로 한 후에는 계면 기포가 존재하지 않도록 연구하고 있다. 구체적으로는, 배선판 재료를 제조할 때의 가압 가열시에 있어서의 수지 조성물 시트의 유동성을 높이는 방법이 검토되고 있다.However, when the content of the interfacial bubbles is small, the resin composition sheet flows and the interfacial bubbles disappear by the pressurization heating (so-called curing heating for the C stage) at the time of manufacturing the wiring board material. Thus, in the conventional resin composition sheet, interfacial bubbles are destroyed by pressurization heating in the C stage, and after the C stage, no interfacial bubbles exist. Specifically, a method for increasing the fluidity of the resin composition sheet at the time of pressurization heating in the production of a wiring board material has been studied.

그러나, 가압 가열시에 있어서의 수지 조성물 시트의 유동성이 너무 높은 경우에는, 배선판 재료를 제조할 때의 가압 가열에 의해, 배선판 재료의 단부로부터 수지 조성물 시트가 유출되어, 단부에서의 수지 조성물 시트의 두께가 변화되어, 두께에 편차가 생기는 경우가 있었다. 이 두께의 편차는 메탈 베이스 배선판 재료의 면내에서의 성능의 편차를 야기한다. 또, 단부로부터 수지 조성물 시트가 유출됨으로써, 작업성이 저하된다.However, when the fluidity of the resin composition sheet at the time of pressurization heating is too high, the resin composition sheet flows out from the end portion of the wiring board material by pressurization heating at the time of producing the wiring board material, The thickness is changed, and the thickness is sometimes varied. This variation in thickness causes variations in the performance of the metal base plate material in the plane. Further, the resin composition sheet flows out from the end portion, whereby the workability is lowered.

특히, 열전도율을 향상시키기 위해서 절연성 무기 필러의 충전율을 높이면, 수지 조성물 시트의 표면의 함몰된 곳이 많이 발생하여 계면 기포가 많아지는 것이 분명해졌다. 계면 기포가 다수 존재하는 경우에는, 지금까지 방법으로는 계면 기포가 완전히 소실되지 않는 경우가 있다.In particular, it has become clear that when the filling ratio of the insulating inorganic filler is increased to improve the thermal conductivity, the surface of the resin composition sheet is depressed much and the interfacial bubbles are increased. In the case where a large number of interfacial bubbles are present, the interfacial bubbles may not completely disappear in the conventional method.

그래서 본 발명에서는, 금속박, 배선층, 또는 금속 기판 등과 첩합하기 전의 B 스테이지 상태에 있어서, 수지 조성물 시트의 표면에 있어서의 오목부의 점유율을 특정 범위 이하로 억제함으로써, 첩합시의 계면 기포를 저감시키고, 나아가서는 절연 파괴 전압의 저하를 억제하는 것으로 한다. 특히, 수지 조성물 시트의 표면에 있어서의 오목부의 점유율이 면적률로 4 % 이하로 하는 것이 절연 파괴 전압의 저하를 억제하는데 유익하다. 또, 수지 조성물 시트의 표면에 있어서의 함몰된 곳 중 특정한 크기의 것이, 절연 파괴 전압의 저하에 큰 영향을 주는 것을 분명히 하고, 표면에 있어서의 함몰된 곳 중, 최대 깊이가 0.5 ㎛ 이상인 것을 오목부로서 특정한다.Therefore, in the present invention, by suppressing the occupation ratio of the concave portion on the surface of the resin composition sheet to a specific range or less in the B-stage state before bonding with the metal foil, the wiring layer, the metal substrate or the like, Further, the lowering of the breakdown voltage is suppressed. Particularly, it is advantageous for the occupancy rate of the concave portion on the surface of the resin composition sheet to be 4% or less in terms of the area ratio to suppress the lowering of the breakdown voltage. It is also made clear that a certain size of the depressed portion on the surface of the resin composition sheet has a great influence on the lowering of the breakdown voltage and it is preferable that a portion having a maximum depth of 0.5 mu m or more, .

또한, 본 발명은, 가압 가열시에 있어서의 수지 조성물 시트의 유동성 이외의 방법으로 계면 기포의 발생을 억제하기 때문에, 배선판 재료를 제조할 때의 가압 가열시에, 배선판 재료의 단부로부터 수지 조성물 시트가 유출된다는 과제를 해결하는 것도 가능하다.The present invention also provides a method for producing a resin composition sheet which is capable of suppressing generation of interfacial bubbles by a method other than the fluidity of the resin composition sheet at the time of pressure heating, Can be solved.

즉, 종래의 수지 시트에서는, 오목부의 점유율에 관계없이, 수지의 유동성을 향상시켜 오목부를 충전시킴으로써 절연 파괴 전압을 향상시켜 왔지만, 일방에서 메탈 베이스 배선판 재료의 면내의 두께 편차나, 수지 조성물의 유출에 의한 작업성 저하를 야기하고 있었다.That is, in the conventional resin sheet, the breakdown voltage is improved by filling the concave portion by improving the flowability of the resin, regardless of the occupancy rate of the concave portion. However, the thickness of the metal base board material in one plane, And the like.

이에 대하여 본 발명의 수지 조성물 시트에서는, 표면에 있어서, 최대 깊이 0.5 ㎛ 이상인 오목부의 점유율을 면적률로 4 % 이하로 함으로써, 수지의 유동성을 향상시키지 않아도 오목부가 충분히 충전되어 절연 파괴 전압을 향상시킬 수 있다. 또한, 메탈 베이스 배선판 재료의 면내의 두께 편차나, 수지 조성물의 유출에 의한 작업성 저하의 문제도 해소할 수 있다.On the other hand, in the resin composition sheet of the present invention, by setting the occupation ratio of the concave portion having the maximum depth of 0.5 탆 or more on the surface to 4% or less as the area ratio, the concave portion is sufficiently filled without improving the fluidity of the resin, . It is also possible to solve the problem of variations in thickness in the plane of the metal base wiring board material and lowering of workability due to leakage of the resin composition.

본 발명의 「표면에 있어서의, 최대 깊이 0.5 ㎛ 이상인 오목부의 점유율이 면적률로 4 % 이하인」수지 조성물 시트를 제조하는 방법으로서, 예를 들어, (1) 절연성 무기 필러의 종류 및 배합량을 조정하는 방법, (2) 수지 조성물 시트를 제조할 때에 사용하는 수지 조성물의 점도를 조정하는 방법, (3) 수지 조성물 시트를 제조할 때에, 2 매의 수지 조성물 시트를 제조하고, 그 2 매를 첩합시킴으로써 표면의 오목부 점유율을 저하시키는 방법, (4) 수지 조성물 시트의 표면을 평활화하는 공정을 거치는 방법 등을 들 수 있다.As a method for producing a resin composition sheet of the present invention wherein the occupation ratio of the concave portion having the maximum depth of 0.5 占 퐉 or more on the surface is 4% or less in terms of area ratio, for example, (1) the kind and amount of the insulating inorganic filler are adjusted (2) a method of adjusting the viscosity of a resin composition used in producing a resin composition sheet, (3) a method of preparing two resin composition sheets at the time of producing the resin composition sheet, A method of lowering the occupancy rate of the concave portion of the surface by heating the resin composition sheet, and (4) a method of smoothing the surface of the resin composition sheet.

여기서, 본 발명에 있어서의 오목부의 점유율이란, 수지 조성물 시트 표면의 오목부의 관찰을 실시한 범위의 총 면적에 대한, 관찰된 오목부의 면적의 총합으로부터 산출되는 면적의 비율로 정의한다. 보다 구체적으로는, 이하의 식으로 나타낸다.Here, the occupancy rate of the concave portion in the present invention is defined as the ratio of the area calculated from the sum of the areas of the concave portions observed to the total area of the range in which the concave portions on the surface of the resin composition sheet are observed. More specifically, it is expressed by the following expression.

오목부 점유율 (%) = (관찰된 오목부의 면적의 총합으로부터 산출되는 면적)/(오목부의 관찰을 실시한 범위의 총 면적) × 100(%) = (Area calculated from the sum of the areas of the concavities observed) / (total area in the range where the concavities were observed) x 100

본 발명에 있어서의 오목부의 관찰은 주사형 전자 현미경 (SEM), 광학 현미경, 레이저 현미경, 광 간섭식 현미경에 의해 실시할 수 있다.Observation of the concave portion in the present invention can be performed by a scanning electron microscope (SEM), an optical microscope, a laser microscope, and a light interference microscope.

금속박, 배선층, 또는 금속 기판 등이 첩합된 후의 금속박이 부착된 수지 조성물 시트, 메탈 베이스 배선판 재료, 또는 메탈 베이스 배선판 등에 있어서, 수지 조성물 시트 표면의 오목부의 점유율을 측정하려면, 금속박, 배선층, 또는 금속 기판 등을 박리할 수 있는 경우에는, 박리한 후의 수지 조성물 시트 표면의 오목부를 관측하여, 상기 식에 의해 구한다. 금속박, 배선층, 또는 금속 기판 등을 박리할 수 없는 경우에는, 단면의 관찰에 의해 오목부의 점유율을 평가할 수 있다. 이 경우, 단면의 관찰을 실시한 범위의 총 길이에 대한, 관찰된 계면 기포의 폭의 길이의 총합의 비율의 2 승을 오목부 점유율 (%) 로 한다.In order to measure the occupation rate of the concave portion of the resin composition sheet surface in a resin composition sheet, a metal base wiring board material, a metal base wiring board or the like having a metal foil after the metal foil, wiring layer or metal substrate is bonded, In the case where the substrate or the like can be peeled off, the concave portion on the surface of the resin composition sheet after peeling is observed and found by the above formula. When the metal foil, the wiring layer, the metal substrate, or the like can not be peeled off, the occupation rate of the recess can be evaluated by observation of the cross section. In this case, the square of the ratio of the sum of the lengths of the widths of the observed interface bubbles to the total length of the range in which the cross-section is observed is defined as the recess portion occupancy rate (%).

본 발명에 있어서, 상기 오목부 점유율은, 절연 파괴 전압을 향상시키는 관점에서, 4 % 이하이며, 보다 확실하게 절연 파괴 전압을 향상시키려면 3 % 이하인 것이 바람직하고, 표면 거침도가 큰 피착체에 대해 보다 확실하게 절연 파괴 전압을 향상시키기 위해서는 2 % 이하인 것이 더욱 바람직하다.In the present invention, the occupancy rate of the concave portion is preferably 4% or less from the viewpoint of improving the breakdown voltage, and preferably 3% or less in order to more reliably improve the breakdown voltage. And more preferably 2% or less in order to more reliably improve the dielectric breakdown voltage.

구체적으로, 수지 조성물 시트의 표면에 있어서의 오목부의 점유율을 조정하는 방법으로서는, 예를 들어, (1) 절연성 무기 필러의 종류 및 배합량을 조정하는 방법, (2) 수지 조성물 시트를 제조할 때에 사용하는 수지 조성물의 점도를 조정하는 방법, (3) 수지 조성물 시트를 제조할 때에, 2 매의 수지 조성물 시트를 제조하고, 그 2 매를 첩합시킴으로써 표면의 오목부 점유율을 저하시키는 방법, (4) 수지 조성물 시트의 표면을 평활화하는 공정을 거치는 방법 등을 들 수 있다.Specifically, as a method for adjusting the occupancy rate of the concave portion on the surface of the resin composition sheet, for example, (1) a method of adjusting the kind and amount of the insulating inorganic filler, (2) (3) a method in which two sheets of resin composition sheets are produced at the time of producing a resin composition sheet and the two sheets are combined to lower the occupancy rate of the concave portion of the surface; and (4) And a step of smoothing the surface of the resin composition sheet.

보다 구체적으로는, (1) 에 있어서는, 절연성 무기 필러를 상이한 입자직경, 예를 들어 대직경 입자, 중직경 입자, 소직경 입자를 혼합시키고, 또한 그 혼합비는 JIS-K-5101-13-2 등의 흡유율 등을 최소로 하도록 배합시키는 방법을 들 수 있다. 이로써, 열전도성을 향상시키기 위해서 절연성 무기 필러의 충전율을 높이어도, 필러간에 수지를 충전할 수 있어 수지 조성물 시트의 오목부의 면적률을 감소시킬 수 있다.More specifically, in (1), the insulating inorganic filler is mixed with different particle diameters such as large-diameter particles, medium-diameter particles and small-diameter particles, and the mixing ratio thereof is determined according to JIS-K-5101-13-2 And the like are mixed so as to minimize the absorption ratio and the like. Thereby, even if the fill factor of the insulating inorganic filler is increased to improve the thermal conductivity, the resin can be filled between the fillers, and the area ratio of the concave portion of the resin composition sheet can be reduced.

(2) 에 있어서는, 수지 조성물의 점도를 도포에 적합한 점도로 저하시키기 위해서, 용매 등을 첨가하는 것이 바람직하다. 용매 첨가량을 적정량 이하로 하는 경우에는, 용매 등의 휘발에 의한 오목부의 발생이 억제된다.(2), it is preferable to add a solvent or the like in order to lower the viscosity of the resin composition to a viscosity suitable for coating. When the amount of the solvent to be added is adjusted to a proper amount or less, the occurrence of concave portions due to volatilization of a solvent or the like is suppressed.

(3) 에 있어서는, 라미네이터나 프레스기 등의 공지된 방법을 이용하여 2 매 이상의 수지 조성물 시트를 첩합시켜도 된다. 수지 조성물 시트끼리는 융합이 양호하기 때문에 수지 조성물 시트끼리를 접합할 수 있어 단일의 수지 시트를 형성할 수 있다. 따라서, 예를 들어, 수지 조성물 시트의 편면이 오목부의 면적률이 높은 경우, 혹은, 요철이 형성되어 있는 경우, 그 면을 서로 첩합시킴으로써, 함몰부나 요철을 소실시킬 수 있다. 그 때문에, 수지 조성물 시트의 표면의 오목부 점유율을 저하시키는 것이 가능하다.(3), two or more sheets of the resin composition may be bonded by a known method such as a laminator or a press machine. Since the resin composition sheets are well fused, the resin composition sheets can be bonded together and a single resin sheet can be formed. Therefore, for example, when the one surface of the resin composition sheet has a high area ratio of the concave portion or when the concave and convex portions are formed, the concave and convex portions can be lost by bonding the surfaces to each other. Therefore, it is possible to reduce the occupancy rate of the concave portion on the surface of the resin composition sheet.

(4) 에 있어서는, 수지 조성물 시트의 1 매에 있어서, 혹은 (3) 의 2 매의 수지 조성물 시트를 첩합시킬 때에, 가압 가열하는 방법을 이용해도 된다. 이로써, 수지 조성물 시트이면, 즉 수지 조성물 시트와 기재의 계면에 발생하고 있던 오목부를 감소시킬 수 있다. 또한 가압 가열할 때에, 수지 조성물 시트에 접하는 기재가 평활하고 요철이 적은 기재를 사용함으로써, 수지 조성물 시트와 기재의 계면에 발생하고 있던 오목부가 감소되기 쉬워진다.In the step (4), a method in which the resin composition sheet is subjected to pressurization heating in the case of bonding one sheet of the resin composition sheet or two sheets of the resin composition sheet (3) may be used. Thereby, it is possible to reduce the recesses that have occurred at the interface between the resin composition sheet and the substrate, that is, the interface between the resin composition sheet and the substrate. Further, when the base material which is in contact with the resin composition sheet is smooth and the surface irregularities are small at the time of pressurization heating, the recesses that have occurred at the interface between the resin composition sheet and the base material are likely to be reduced.

그러나, 본 발명은 이들의 방법에 한정되지 않는다.However, the present invention is not limited to these methods.

이하에서는, 수지 조성물 시트에 사용하는 재료 및 물성에 대해 설명한다.Hereinafter, materials and properties used for the resin composition sheet will be described.

본 발명의 제 1 수지 조성물 시트는 열경화성 수지와 페놀 수지와 절연성 무기 필러를 함유하는 수지 조성물로 형성된다. 본 발명의 수지 조성물 시트는 추가로 필요에 따라 그 밖의 성분을 함유해도 된다.The first resin composition sheet of the present invention is formed of a resin composition containing a thermosetting resin, a phenol resin, and an insulating inorganic filler. The resin composition sheet of the present invention may further contain other components as required.

또한, 본 발명의 제 2 수지 조성물 시트는, 최저 용융 점도가 상기 범위 내에 있으면, 조성에 대해 특별히 한정되지 않지만, 제 1 수지 조성물 시트와 동일하게, 열경화성 수지와 페놀 수지와 절연성 무기 필러를 함유하여 구성되는 것이 바람직하다. 최저 용융 점도의 측정 방법에 대해서는 후술한다.In the second resin composition sheet of the present invention, if the minimum melt viscosity is within the above range, the composition is not particularly limited. However, similarly to the first resin composition sheet, the second resin composition sheet contains a thermosetting resin, a phenol resin and an insulating inorganic filler . A method of measuring the lowest melt viscosity will be described later.

(열경화성 수지)(Thermosetting resin)

본 발명의 수지 조성물 시트는 열경화성 수지의 적어도 1 종을 함유한다. 상기 열경화성 수지로서는, 열경화성을 갖는 수지이면 특별히 제한은 없고, 통상적으로 사용되는 열경화성 수지를 사용할 수 있다. 열경화성 수지로서 구체적으로는 예를 들어, 에폭시계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리아미드이미드계 수지, 트리아진계 수지, 페놀계 수지, 멜라민계 수지, 폴리에스테르계 수지, 시아네이트에스테르계 수지, 및 이들 수지의 변성계 등을 들 수 있다. 이들 수지는 1 종 단독으로 사용하거나, 2 종류 이상을 병용해도 된다.The resin composition sheet of the present invention contains at least one kind of thermosetting resin. The thermosetting resin is not particularly limited as long as it is a thermosetting resin, and a thermosetting resin that is conventionally used can be used. Specific examples of the thermosetting resin include an epoxy resin, a polyimide resin, a polyamideimide resin, a triazine resin, a phenol resin, a melamine resin, a polyester resin, a cyanate ester resin, And a modification system of a resin. These resins may be used alone or in combination of two or more.

본 발명에 있어서의 열경화성 수지는 내열성의 관점에서, 에폭시계 수지 및 트리아진계 수지에서 선택되는 수지인 것이 바람직하고, 에폭시계 수지인 것이 보다 바람직하다. 또, 필요에 따라 경화제나 경화 촉진제를 함유하고 있어도 된다. 에폭시계 수지는 1 종류를 단독으로 사용하거나, 2 종류 이상을 병용해도 된다.From the viewpoint of heat resistance, the thermosetting resin in the present invention is preferably a resin selected from an epoxy resin and a triazine resin, more preferably an epoxy resin. If necessary, a hardening agent or a hardening accelerator may be contained. The epoxy resin may be used alone, or two or more epoxy resins may be used in combination.

상기 에폭시계 수지 (이하, 간단히 「에폭시 수지」라고 하기도 한다) 로서는, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비페놀, 노볼락형 페놀 수지, 오르토 크레졸 노볼락형 페놀 수지, 트리스페놀메탄노볼락형 페놀 수지 등의 다가 페놀 및 1,4-부탄디올 등의 다가 알코올과 에피클로르하이드린을 반응시켜 얻어지는 폴리글리시딜에테르 ; 프탈산, 헥사하이드로프탈산 등의 다염기산과 에피클로르하이드린을 반응시켜 얻어지는 폴리글리시딜에스테르 ; 아민, 아미드, 또는 복소 고리형 질소염기를 갖는 화합물의 N-글리시딜 유도체 ; 및 지환식 에폭시 수지 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy resin (hereinafter sometimes simply referred to as "epoxy resin") include bisphenol A, bisphenol F, biphenol, novolac phenol resin, orthocresol novolac phenol resin, trisphenol methanovolac phenol resin Polyglycidyl ethers obtained by reacting polyhydric alcohols such as polyhydric phenols and 1,4-butanediol with epichlorohydrin; polyglycidyl esters obtained by reacting polybasic acids such as phthalic acid and hexahydrophthalic acid with epichlorohydrin ; N-glycidyl derivatives of amines, amides, or compounds having a heterocyclic nitrogen base; and alicyclic epoxy resins.

상기 에폭시계 수지 중에서도, 수지 그 자체의 열전도율이 향상되고, 가열시의 용융 점도가 작아지는 점에서, 비페닐 구조 등으로 대표되는 메소겐 골격을 갖는 에폭시 모노머 또는 그 중합체가 바람직하다.Of these epoxy resins, an epoxy monomer having a mesogen skeleton represented by a biphenyl structure or a polymer thereof is preferable in that the thermal conductivity of the resin itself is improved and the melt viscosity at the time of heating is reduced.

본 발명에 있어서의 메소겐 골격이란, 액정성을 발현할 가능성이 있는 관능기를 나타낸다. 구체적으로는, 비페닐, 페닐벤조에이트, 아조벤젠, 스틸벤 등이나 그 유도체를 들 수 있고, 비페닐 내지 분자 내에 3 개 이상의 6 원자 고리 구조를 갖는 것을 들 수 있고, 「액정 편람」 (마루젠 액정 편람 반신 위원회 편찬 2000 년 출판) 에 기재되어 있는 하기 일반식 (A) 를 들 수 있다.The mesogen skeleton in the present invention refers to a functional group capable of exhibiting liquid crystallinity. Specific examples thereof include biphenyl, phenylbenzoate, azobenzene, stilbene, and derivatives thereof, and those having three or more six-membered ring structures in the biphenyl or the molecule are mentioned, and "liquid crystal handbook" (A), which is described in the &quot; Liquid Crystal Display Handbook &quot;

[화학식 2](2)

Figure 112013065116029-pct00002
Figure 112013065116029-pct00002

일반식 (A) 중, 고리 1, 고리 2, 및 고리 3 으로서 나타내는 고리 구조는 각각 독립적으로In the general formula (A), the ring structures represented by rings 1, 2, and 3 are each independently

[화학식 3](3)

Figure 112013065116029-pct00003
Figure 112013065116029-pct00003

중에서 선택되고, 결합기 X1 및 X2 는 각각 독립적으로 단결합,And the couplers X1 and X2 are each independently a single bond,

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure 112013065116029-pct00004
Figure 112013065116029-pct00004

또는, 이들을 2 개 이상 조합한 연결기이며, Y1, Y2 및 Y3 은 각각 독립적으로 -R, -OR (R 은 탄소수 1 ∼ 8 의 지방족 탄화수소기를 나타낸다), -F, -Cl, -Br, -I, -CN, -NO2, 또는 -CO-CH3 을 나타내고, n, m 및 l 은 각각 독립적으로 0 ∼ 4 의 정수를 나타낸다.Y1, Y2 and Y3 each independently represent -R, -OR (R represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms), -F, -Cl, -Br, -I , -CN, -NO 2, or -CO-CH 3 , And n, m and 1 each independently represent an integer of 0 to 4.

메소겐 골격을 갖는 에폭시 모노머로서는, 비페닐형 에폭시 수지, 비자일레닐형 에폭시 수지, 1-(3-메틸-4-옥시라닐메톡시페닐)-4-(4-옥시라닐메톡시페닐)-1-시클로헥센, 또는 1-(3-메틸-4-옥시라닐메톡시페닐)-4-(4-옥시라닐메톡시페닐)-벤젠 등이 바람직하고, 융점 및 경화물의 열전도율의 관점에서, 1-(3-메틸-4-옥시라닐메톡시페닐)-4-(4-옥시라닐메톡시페닐)-1-시클로헥센이 보다 바람직하다. 이러한 에폭시 화합물은, 예를 들어, 전술한 특허문헌 1 에 기재된 방법에 의해 제조할 수 있다.Examples of the epoxy monomer having a mesogen skeleton include a biphenyl type epoxy resin, a non-arylenyl type epoxy resin, 1- (3-methyl-4-oxiranylmethoxyphenyl) -4- (4-oxiranylmethoxyphenyl) -Cyclohexene or 1- (3-methyl-4-oxiranylmethoxyphenyl) -4- (4-oxiranylmethoxyphenyl) -benzene and the like are preferable. From the viewpoints of the melting point and the thermal conductivity of the cured product, 1- (3-methyl-4-oxiranylmethoxyphenyl) -4- (4-oxiranylmethoxyphenyl) -1-cyclohexene is more preferable. Such an epoxy compound can be produced, for example, by the method described in Patent Document 1 described above.

상기 메소겐 골격을 갖는 에폭시 모노머 또는 그 중합체 중에서도, 비페닐 골격을 갖는 2 관능의 에폭시 수지의 적어도 1 종을 함유하는 것이 바람직하다. 상기 비페닐 골격을 갖는 2 관능의 에폭시 수지는 적어도 1 개의 비페닐 골격을 함유하고, 2 개의 에폭시기를 갖는 화합물이면 특별히 제한은 없다. 구체적으로는 예를 들어, 비페닐형 에폭시 수지나 비페닐렌형 에폭시 수지를 들 수 있다.Among the epoxy monomers having the mesogen skeleton or the polymer thereof, those containing at least one bifunctional epoxy resin having a biphenyl skeleton are preferred. The bifunctional epoxy resin having a biphenyl skeleton is not particularly limited as long as it contains at least one biphenyl skeleton and has two epoxy groups. Specific examples thereof include biphenyl type epoxy resins and biphenylene type epoxy resins.

상기 비페닐형 에폭시 수지로서는, 하기 일반식 (III) 으로 나타내는 에폭시 수지 등을 사용하는 것이 바람직하다.As the biphenyl type epoxy resin, an epoxy resin represented by the following general formula (III) is preferably used.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure 112013065116029-pct00005
Figure 112013065116029-pct00005

일반식 (III) 중, R1 ∼ R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 또는, 탄소수 1 ∼ 10 의 치환 혹은 비치환의 탄화수소기를 나타내고, n 은 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.In the general formula (III), R 1 to R 8 Each independently represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted hydrocarbon group of 1 to 10 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 3;

탄소수 1 ∼ 10 의 치환 혹은 비치환의 탄화수소기로서는 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 이소프로필기, 이소부틸기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 R1 ∼ R8 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기가 바람직하다.Examples of the substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, and an isobutyl group. Among them, R 1 to R 8 Are each independently a hydrogen atom or a methyl group.

상기 일반식 (III) 으로 나타내는 비페닐형 에폭시 수지로서는, 예를 들어, 4,4'-비스(2,3-에폭시프로폭시)비페닐 또는 4,4'-비스(2,3-에폭시프로폭시)-3,3',5,5'-테트라메틸비페닐을 주성분으로 하는 에폭시 수지, 에피클로르하이드린과 4,4'-비페놀 또는 4,4'-(3,3',5,5'-테트라메틸)비페놀을 반응시켜 얻어지는 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 그 중에서도 4,4'-비스(2,3-에폭시프로폭시)-3,3',5,5'-테트라메틸비페닐을 주성분으로 하는 에폭시 수지가 바람직하다. 이와 같은 화합물로서는 YX-4000 (재팬 에폭시 레진 주식회사 제조), YL-6121H (재팬 에폭시 레진 주식회사 제조), YSLV-80XY (토토 화성 주식회사 제조) 등이 시판품으로서 입수 가능하다.Examples of the biphenyl type epoxy resin represented by the above general formula (III) include 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) biphenyl or 4,4'-bis (2,3- Epoxy, 3,3 ', 5,5'-tetramethylbiphenyl as the main component, epichlorohydrin and 4,4'-biphenol or 4,4' - (3,3 ' 5'-tetramethyl) biphenol, and the like. Among them, an epoxy resin containing 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3 ', 5,5'-tetramethylbiphenyl as a main component is preferable. Examples of such compounds are commercially available products such as YX-4000 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), YL-6121H (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), YSLV-80XY (manufactured by Toto Chemical Co., Ltd.)

또 상기 비페닐렌형 에폭시 수지로서는, 하기 일반식 (IV) 로 나타내는 에폭시 수지 등을 들 수 있다.Examples of the biphenylene type epoxy resin include an epoxy resin represented by the following general formula (IV).

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure 112013065116029-pct00006
Figure 112013065116029-pct00006

일반식 (IV) 중, R1 ∼ R9 는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 10 의 알콕시기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기, 또는 탄소수 7 ∼ 10 의 아르알킬기를 나타내고, n 은 0 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.In the general formula (IV), R 1 to R 9 Each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 10 .

상기 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기로서는 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 이소프로필기, 이소부틸기 등을 들 수 있다. 탄소수 1 ∼ 10 의 알콕시기로서는 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기 등을 들 수 있다. 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기로서는 예를 들어, 페닐기, 톨릴기, 자일릴기 등을 들 수 있다. 또 탄소수 7 ∼ 10 의 아르알킬기로서는 예를 들어, 벤질기, 페네틸기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 R1 ∼ R9 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기가 바람직하다.Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, and an isobutyl group. Examples of the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group. Examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms include a phenyl group, a tolyl group and a xylyl group. Examples of the aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms include a benzyl group and a phenethyl group. Among them, R 1 to R 9 Are each independently a hydrogen atom or a methyl group.

상기 일반식 (IV) 로 나타내는 비페닐형 에폭시 수지로서는 예를 들어, NC-3000 (닛폰 화약 주식회사 제조 상품명) 이 시판품으로서 입수 가능하다.As the biphenyl type epoxy resin represented by the general formula (IV), for example, NC-3000 (trade name, manufactured by Nippon Yakushin KK) is available as a commercial product.

본 발명에 있어서의 비페닐 골격을 갖는 2 관능 에폭시 수지로서는, 열전도율, 전기 절연성 및 후술하는 B 스테이지 시트의 가요성의 관점에서, 상기 일반식 (III) 또는 일반식 (IV) 로 나타내는 화합물의 적어도 1 종을 함유하는 것이 바람직하고, 일반식 (III) 으로 나타내는 화합물의 적어도 1 종을 함유하는 것이 보다 바람직하다.The bifunctional epoxy resin having a biphenyl skeleton in the present invention is preferably at least one compound selected from the group consisting of compounds represented by the general formula (III) or the general formula (IV) in view of thermal conductivity, electrical insulation, And more preferably at least one kind of compound represented by the general formula (III).

본 발명의 수지 조성물 시트의 전체 고형분에 있어서의 상기 열경화성 수지의 함유율로서는, 특별히 제한은 없지만, 열전도율, 전기 절연성 및 B 스테이지 시트의 가요성의 관점에서, 1 질량% ∼ 15 질량% 가 바람직하고, 2 질량% ∼ 12 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 3 질량% ∼ 10 질량% 인 것이 더욱 바람직하다.The content of the thermosetting resin in the total solid content of the resin composition sheet of the present invention is not particularly limited, but is preferably from 1% by mass to 15% by mass, more preferably from 2% by mass to 2% by mass from the viewpoint of thermal conductivity, More preferably from 12% by mass to 12% by mass, and still more preferably from 3% by mass to 10% by mass.

본 발명의 수지 조성물 시트는 상기 비페닐 골격을 갖는 2 관능 에폭시 수지와 그 밖의 에폭시 수지를 병용해도 된다. 그 밖의 에폭시 수지로서는, 비페닐 골격을 갖지 않는 것이면, 종래 공지된 에폭시 수지를 특별히 제한 없이 사용할 수 있다.In the resin composition sheet of the present invention, the bifunctional epoxy resin having a biphenyl skeleton may be used in combination with other epoxy resin. As the other epoxy resins, conventionally known epoxy resins can be used without particular limitation, provided that they do not have a biphenyl skeleton.

그 밖의 에폭시 수지로서 구체적으로는 예를 들어, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 오르토 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 트리페닐메탄 골격을 갖는 에폭시 수지를 비롯한 페놀, 크레졸, 자일레놀, 레조르신, 카테콜, 비스페놀 A, 비스페놀 F 등의 페놀류 및/또는 α-나프톨, β-나프톨, 디하이드록시나프탈렌 등의 나프톨류와 포름알데히드, 아세트알데히드, 프로피온알데히드, 벤즈알데히드, 살리실알데히드 등의 알데히드기를 갖는 화합물을 산성 촉매하에서 축합 또는 공축합시켜 얻어지는 노볼락 수지를 에폭시화한 것을 들 수 있다.Specific examples of the other epoxy resin include phenol novolak type epoxy resin, orthocresol novolak type epoxy resin, phenol including epoxy resin having a triphenyl methane skeleton, cresol, xylenol, resorcin, catechol , A phenol such as bisphenol A or bisphenol F and / or a compound having an aldehyde group such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, benzaldehyde or salicylaldehyde and a naphthol such as? -Naphthol,? -Naphthol or dihydroxynaphthalene And epoxidized novolac resins obtained by condensation or co-condensation in the presence of an acidic catalyst.

또, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S, 스틸벤형 에폭시 수지, 하이드로퀴논형 에폭시 수지, 프탈산, 다이머산 등의 다염기산과 에피클로르하이드린의 반응에 의해 얻어지는 글리시딜에스테르형 에폭시 수지, 디아미노디페닐메탄, 이소시아누르산 등의 폴리아민과 에피클로르하이드린의 반응에 의해 얻어지는 글리시딜아민형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔과 페놀류의 공축합 수지의 에폭시화물, 나프탈렌 고리를 갖는 에폭시 수지, 페놀·아르알킬 수지, 비페닐렌 골격을 함유하는 페놀·아르알킬 수지, 나프톨·아르알킬 수지 등의 아르알킬형 페놀 수지의 에폭시화물, 트리메틸올프로판형 에폭시 수지, 테르펜 변성 에폭시 수지, 올레핀 결합을 과아세트산 등의 과산으로 산화하여 얻어지는 선상 지방족 에폭시 수지, 지환족 에폭시 수지, 황 원자 함유 에폭시 수지 등을 들 수 있고, 이들을 단독으로 사용하거나 2 종 이상을 병용해도 된다.Also, glycidyl ester type epoxy resins obtained by reaction of polybasic acids such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, stilbene type epoxy resins, hydroquinone type epoxy resins, phthalic acid and dimeric acid with epichlorohydrin, A glycidylamine type epoxy resin obtained by the reaction of polyamines such as phenylmethane and isocyanuric acid with epichlorohydrin, an epoxy resin of a cocondensation resin of dicyclopentadiene and a phenol, an epoxy resin having a naphthalene ring, · Aralkyl resins, phenol · aralkyl resins containing a biphenylene skeleton, epoxides of aralkyl type phenolic resins such as naphthol · aralkyl resins, trimethylolpropane type epoxy resins, terpene modified epoxy resins, A linear aliphatic epoxy resin obtained by oxidation with a peroxide such as acetic acid, an alicyclic epoxy resin, a sulfur atom Oil there may be mentioned epoxy resins, may be used alone or in combination of two or more thereof.

본 발명의 수지 조성물 시트는, B 스테이지 시트에 있어서의 가요성의 관점에서, 나프탈렌 고리를 갖는 에폭시 수지에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 것이 바람직하다.The resin composition sheet of the present invention preferably contains at least one kind selected from an epoxy resin having a naphthalene ring from the viewpoint of flexibility in the B stage sheet.

본 발명의 수지 조성물 시트가 그 밖의 에폭시 수지를 함유하는 경우, 그 함유율에는 특별히 제한은 없지만, 예를 들어, 상기 비페닐 골격을 갖는 2 관능 에폭시 수지에 대해 1 질량% ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 2 질량% ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하고, 3 질량% ∼ 15 질량% 인 것이 더욱 바람직하다. 이러한 함유율임으로써 열전도율, 전기 절연성 및 B 스테이지 시트의 가요성이 보다 효과적으로 향상된다.When the resin composition sheet of the present invention contains other epoxy resin, the content thereof is not particularly limited, but is preferably 1% by mass to 30% by mass based on the bifunctional epoxy resin having the biphenyl skeleton , More preferably from 2% by mass to 20% by mass, and still more preferably from 3% by mass to 15% by mass. Such a content ratio improves the thermal conductivity, the electrical insulation, and the flexibility of the B stage sheet more effectively.

(페놀 수지)(Phenolic resin)

본 발명의 수지 조성물 시트는 페놀 수지의 적어도 1 종을 함유한다. 상기 페놀 수지로서 하기 일반식 (I) 로 나타내는 구조 단위를 갖는 화합물의 적어도 1 종을 함유하는 페놀 수지 (이하, 「노볼락 수지」라고 하기도 한다) 를 함유하는 것이 바람직하다. 상기 페놀 수지는, 예를 들어, 에폭시 수지의 경화제로서 작용한다.The resin composition sheet of the present invention contains at least one kind of phenolic resin. It is preferable that the phenol resin contains a phenol resin containing at least one compound having a structural unit represented by the following general formula (I) (hereinafter sometimes referred to as &quot; novolak resin &quot;). The phenolic resin functions as a curing agent of, for example, an epoxy resin.

특정 구조를 갖는 페놀 수지를 함유함으로써, 열전도율이 효과적으로 향상되고, 또한 경화 전 상태에 있어서의 사용 가능 시간을 충분히 길게 할 수 있다.By containing a phenol resin having a specific structure, the thermal conductivity is effectively improved and the usable time in the state before curing can be sufficiently long.

[화학식 7](7)

Figure 112013065116029-pct00007
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상기 일반식 (I) 에 있어서 R1 은 알킬기, 아릴기, 또는 아르알킬기를 나타낸다. R1 로 나타내는 알킬기, 아릴기 및 아르알킬기는 가능하면 치환기를 추가로 가지고 있어도 되고, 그 치환기로서는, 알킬기, 아릴기, 할로겐 원자, 및 수산기 등을 들 수 있다.In the above general formula (I), R 1 Represents an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. The alkyl group, aryl group and aralkyl group represented by R 1 may further have a substituent, if any, and examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom and a hydroxyl group.

m 은 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고, m 이 2 인 경우, 2 개의 R1 은 동일하거나 상이해도 된다. 본 발명에 있어서, m 은 0 또는 1 인 것이 바람직하고, 0 인 것이 보다 바람직하다. n 은 1 ∼ 10 의 정수를 나타내고, 1 ∼ 8 인 것이 바람직하고, 1 ∼ 7 인 것이 보다 바람직하다.m represents an integer of 0 to 2, and when m is 2, two R &lt; 1 &gt; May be the same or different. In the present invention, m is preferably 0 or 1, and more preferably 0. n represents an integer of 1 to 10, preferably 1 to 8, more preferably 1 to 7.

일반식 (I) 에 있어서 R2 및 R3 은 각각 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 아릴기, 페닐기 또는 아르알킬기를 나타낸다. R2 및 R3 으로 나타내는 알킬기, 페닐기, 아릴기 및 아르알킬기는 가능하면 치환기를 추가로 가지고 있어도 되고, 그 치환기로서는, 알킬기, 아릴기, 할로겐 원자, 및 수산기 등을 들 수 있다.In the general formula (I), R 2 and R 3 Each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a phenyl group or an aralkyl group. The alkyl group, phenyl group, aryl group and aralkyl group represented by R 2 and R 3 may further have a substituent, if any. Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, and a hydroxyl group.

본 발명에 있어서의 R2 및 R3 으로서는, 보존 안정성과 열전도율의 관점에서, 수소 원자, 알킬기, 페닐기 또는 아릴기인 것이 바람직하고, 수소 원자, 탄소수 1 내지 4 의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 6 의 아릴기, 페닐기인 것이 보다 바람직하고, 수소 원자인 것이 더욱 바람직하다.As R 2 and R 3 in the present invention, a hydrogen atom, an alkyl group, a phenyl group or an aryl group is preferable from the viewpoints of storage stability and thermal conductivity, and a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 3 to 6 carbon atoms , More preferably a phenyl group, and still more preferably a hydrogen atom.

또한 내열성의 관점에서, R2 및 R3 중 적어도 일방은 아릴기인 것도 또 바람직하다.From the viewpoint of heat resistance, R 2 and R 3 Is preferably an aryl group.

본 발명에 있어서의 페놀 수지는 상기 일반식 (I) 로 나타내는 구조 단위를 갖는 화합물을 1 종 단독으로 함유해도 되고, 또 2 종 이상을 함유해도 된다.The phenol resin in the present invention may contain one compound having a structural unit represented by the above general formula (I) alone or two or more kinds thereof.

상기 일반식 (I) 로 나타내는 페놀 수지는 페놀성 화합물로서 레조르시놀에서 유래하는 부분 구조를 함유하지만, 레조르시놀 이외의 페놀성 화합물에서 유래하는 부분 구조의 적어도 1 종을 추가로 함유하고 있어도 된다. 레조르시놀 이외의 페놀성 화합물로서는, 예를 들어, 페놀, 크레졸, 카테콜, 하이드로퀴논 등을 들 수 있다. 상기 페놀 수지는 이들에서 유래하는 부분 구조를 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상의 조합으로 함유하고 있어도 된다.The phenol resin represented by the above-mentioned general formula (I) is a phenolic compound containing a partial structure derived from resorcinol, but further contains at least one partial structure derived from a phenolic compound other than resorcinol do. Examples of phenolic compounds other than resorcinol include phenol, cresol, catechol, hydroquinone, and the like. The phenolic resin may contain a partial structure derived therefrom as a single species or a combination of two or more species.

여기서 페놀성 화합물에서 유래하는 부분 구조란, 페놀성 화합물의 벤젠고리 부분으로부터 수소 원자를 1 개 또는 2 개 제거하여 구성되는 1 가 또는 2 가의 기를 의미한다. 또한, 수소 원자가 제거되는 위치는 특별히 한정되지 않는다.Here, the partial structure derived from the phenolic compound means a monovalent or divalent group formed by removing one or two hydrogen atoms from the benzene ring portion of the phenolic compound. The position at which the hydrogen atom is removed is not particularly limited.

본 발명에 있어서 레조르시놀 이외의 페놀성 화합물에서 유래하는 부분 구조로서는, 열전도율, 접착성, 보존 안정성의 관점에서, 페놀, 크레졸, 카테콜, 하이드로퀴논, 1,2,3-트리하이드록시벤젠, 1,2,4-트리하이드록시벤젠, 및, 1,3,5-트리하이드록시벤젠에서 선택되는 적어도 1 종에서 유래하는 부분 구조인 것이 바람직하고, 카테콜 및 하이드로퀴논에서 선택되는 적어도 1 종에서 유래하는 부분 구조인 것이 보다 바람직하다.The partial structure derived from a phenolic compound other than resorcinol in the present invention is preferably a partial structure derived from a phenolic compound other than resorcinol from the viewpoints of thermal conductivity, adhesiveness and storage stability, phenol, cresol, catechol, hydroquinone, 1,2,3-trihydroxybenzene , 1,2,4-trihydroxybenzene, and 1,3,5-trihydroxybenzene, and is preferably a partial structure derived from at least one selected from catechol and hydroquinone More preferably a partial structure derived from a species.

또 상기 페놀 수지에 있어서의 레조르시놀에서 유래하는 부분 구조의 함유 비율에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 열전도율과 보존 안정성의 관점에서, 페놀 수지의 전체 질량에 대한 레조르시놀에서 유래하는 부분 구조의 함유 비율이 30 질량% 이상인 것이 바람직하고, 55 질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 80 질량% 이상인 것이 더욱 바람직하다.The content ratio of the partial structure derived from resorcinol in the phenol resin is not particularly limited. However, from the viewpoints of the thermal conductivity and the storage stability, the content of the partial structure derived from resorcinol relative to the total mass of the phenol resin Is preferably 30 mass% or more, more preferably 55 mass% or more, and even more preferably 80 mass% or more.

본 발명에 있어서의 페놀 수지로서 구체적으로는, 이하에 나타내는 일반식 (Ia) ∼ 일반식 (If) 중 어느 것으로 나타내는 부분 구조를 갖는 화합물을 함유하는 페놀 수지인 것이 바람직하다.Specifically, the phenol resin in the present invention is preferably a phenol resin containing a compound having a partial structure represented by any one of the following general formulas (Ia) to (If) shown below.

[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure 112013065116029-pct00008
Figure 112013065116029-pct00008

본 발명에 있어서의 페놀 수지는, 상기 일반식 (I) 로 나타내는 구조 단위를 갖는 화합물은, 하기 일반식 (II) 로 나타내는 화합물의 적어도 1 종인 것도 바람직하다.In the phenol resin in the present invention, the compound having the structural unit represented by the general formula (I) is preferably at least one compound represented by the following general formula (II).

[화학식 9][Chemical Formula 9]

Figure 112013065116029-pct00009
Figure 112013065116029-pct00009

일반식 (II) 중, R11 은 수소 원자 또는 하기 일반식 (IIp) 로 나타내는 페놀성 화합물에서 유래하는 1 가의 기를 나타내고, R12 는 페놀성 화합물에서 유래하는 1 가의 기를 나타낸다. 또, R1, R2, R3, m 및 n 은 일반식 (I) 에 있어서의 R1, R2, R3, m 및 n 과 각각 동의이다.In the formula (II), R &lt; 11 &gt; Represents a hydrogen atom or a monovalent group derived from a phenolic compound represented by the following formula (IIp), and R &lt; 12 &gt; Represents a monovalent group derived from a phenolic compound. Further, R 1, R 2, R 3, m and n are the same R 1, R 2, R 3 , m and n and copper each in the formula (I).

R11 및 R12 로 나타내는 페놀성 화합물에서 유래하는 1 가의 기는 페놀성 화합물의 벤젠고리 부분으로부터 수소 원자를 1 개 제거하여 구성되는 1 가의 기이며, 수소 원자가 제거되는 위치는 특별히 한정되지 않는다.The monovalent group derived from the phenolic compound represented by R 11 and R 12 is a monovalent group formed by removing one hydrogen atom from the benzene ring portion of the phenolic compound and the position at which the hydrogen atom is removed is not particularly limited.

[화학식 10][Chemical formula 10]

Figure 112013065116029-pct00010
Figure 112013065116029-pct00010

일반식 (IIp) 중, p 는 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. 또, R1, R2 및 R3 은 일반식 (I) 에 있어서의 R1, R2 및 R3 과 각각 동의이며, m 은 0 ∼ 2 의 정수를 나타낸다.In the general formula (IIp), p represents an integer of 1 to 3. Also, R 1 , R 2 and R 3 Is in the formula (I) R 1, R 2 and R 3 And m represents an integer of 0 to 2.

R11 및 R12 에 있어서의 페놀성 화합물은 페놀성 수산기를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는 예를 들어, 페놀, 크레졸, 카테콜, 레조르시놀, 하이드로퀴논 등을 들 수 있다. 그 중에서도 열전도율과 보존 안정성의 관점에서, 크레졸, 카테콜, 레조르시놀에서 선택되는 적어도 1 종인 것이 바람직하다.The phenolic compound in R 11 and R 12 is not particularly limited as long as it is a compound having a phenolic hydroxyl group. Specific examples thereof include phenol, cresol, catechol, resorcinol, hydroquinone, and the like. Among them, at least one selected from cresol, catechol and resorcinol is preferable in terms of thermal conductivity and storage stability.

본 발명의 수지 조성물 시트에 있어서, 상기 일반식 (I) 로 나타내는 구조 단위를 갖는 화합물을 함유하는 페놀 수지는 페놀 수지를 구성하는 페놀성 화합물인 모노머를 함유하고 있어도 된다. 페놀 수지를 구성하는 페놀성 화합물인 모노머의 함유 비율 (이하, 「모노머 함유 비율」이라고도 한다) 로서는 특별히 제한은 없지만, 5 ∼ 80 질량% 인 것이 바람직하고, 15 ∼ 60 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 20 ∼ 50 질량% 인 것이 더욱 바람직하다.In the resin composition sheet of the present invention, the phenol resin containing the compound having the structural unit represented by the general formula (I) may contain a monomer which is a phenolic compound constituting the phenolic resin. The content ratio (hereinafter also referred to as &quot; monomer content ratio &quot;) of the monomer as the phenolic compound constituting the phenol resin is not particularly limited, but is preferably 5 to 80 mass%, more preferably 15 to 60 mass% , More preferably from 20 to 50 mass%.

모노머 함유 비율이 5 질량% 이상임으로써, 페놀 수지의 점도 상승을 억제하여, 무기 충전제의 밀착성이 보다 향상된다. 또 80 질량% 이하임으로써, 경화시에 있어서의 가교 반응에 의해, 보다 고밀도인 고차 구조가 형성되어 우수한 열전도율과 내열성을 달성할 수 있다.When the content of the monomer is 5 mass% or more, the viscosity of the phenol resin is suppressed from increasing, and the adhesion of the inorganic filler is further improved. Further, when the content is 80% by mass or less, a higher-order higher-order structure is formed by the crosslinking reaction at the time of curing, and excellent heat conductivity and heat resistance can be achieved.

또한, 페놀 수지를 구성하는 페놀성 화합물의 모노머로서는, 레조르시놀, 카테콜, 하이드로퀴논을 들 수 있고, 적어도 레조르시놀을 모노머로서 함유하는 것이 바람직하다.As the monomer of the phenolic compound constituting the phenol resin, resorcinol, catechol and hydroquinone can be mentioned, and it is preferable to contain at least resorcinol as a monomer.

또 본 발명의 수지 조성물 시트에 있어서의 상기 페놀 수지의 함유 비율로서는, 특별히 제한은 없지만, 열전도율, 전기 절연성, B 스테이지 시트의 가요성 및 사용 가능 시간의 관점에서, 1 질량% ∼ 15 질량% 인 것이 바람직하고, 2 질량% ∼ 10 질량% 인 것이 보다 바람직하다.The content of the phenolic resin in the resin composition sheet of the present invention is not particularly limited, but is preferably 1% by mass to 15% by mass in view of heat conductivity, electrical insulation, flexibility of the B- , More preferably from 2% by mass to 10% by mass.

또 본 발명의 수지 조성물 시트에 있어서의 상기 열경화성 수지와 상기 페놀 수지의 함유비 (열경화성 수지/페놀 수지) 로서는 예를 들어, 당량비 기준으로, 0.6 ∼ 1.5 로 할 수 있고, 열전도율, B 스테이지 시트의 가요성 및 사용 가능 시간의 관점에서, 0.8 ∼ 1.2 인 것이 바람직하다.The content of the thermosetting resin and the phenol resin (thermosetting resin / phenol resin) in the resin composition sheet of the present invention can be 0.6 to 1.5 on the basis of, for example, an equivalence ratio, and the thermal conductivity, the B- From the viewpoint of flexibility and usable time, it is preferably 0.8 to 1.2.

본 발명의 수지 조성물 시트는, 상기 페놀 수지에 추가하여 필요에 따라, 페놀 수지 이외의 그 밖의 경화제를 함유하고 있어도 된다. 그 밖의 경화제로서는 종래 공지된 경화제를 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 구체적으로는 예를 들어, 아민계 경화제, 메르캅탄계 경화제 등의 중부가형 경화제나, 이미다졸 등의 잠재성 경화제 등을 사용할 수 있다.The resin composition sheet of the present invention may contain, in addition to the phenol resin, other curing agents other than the phenol resin, if necessary. As the other curing agent, conventionally known curing agents can be used without particular limitation. Specifically, for example, a mid-type curing agent such as an amine-based curing agent and a mercaptan-based curing agent, and a latent curing agent such as imidazole can be used.

(절연성 무기 필러)(Insulating inorganic filler)

본 발명의 수지 조성물 시트에 함유되는 절연성 무기 필러는 절연성의 무기 필러이면 특별히 제한되지 않는다. 바람직하게는, 1 W/mK 이상의 열전도율을 갖는 것으로, 구체적으로는, 이산화규소, 산화알루미늄, 산화마그네슘, 산화베릴륨, 질화붕소, 질화알루미늄, 질화규소, 탄화규소, 불화알루미늄, 또는 불화칼슘에서 선택된다. 이들 중, 1 종 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.The insulating inorganic filler contained in the resin composition sheet of the present invention is not particularly limited as long as it is an insulating inorganic filler. And is preferably selected from silicon dioxide, aluminum oxide, magnesium oxide, beryllium oxide, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, aluminum fluoride, or calcium fluoride having a thermal conductivity of 1 W / mK or more . Of these, one kind or a mixture of two or more kinds may be used.

더욱 바람직하게는, 10 W/mK 이상의 열전도율을 갖는 무기 세라믹이며, 구체적으로는, 산화알루미늄, 산화마그네슘, 질화붕소, 질화알루미늄, 질화규소, 탄화규소, 또는 불화알루미늄에서 선택된다.More preferably, it is an inorganic ceramic having a thermal conductivity of 10 W / mK or more, and is specifically selected from aluminum oxide, magnesium oxide, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, or aluminum fluoride.

그 중에서도, 1016 Ωcm 이상의 체적 저항율을 갖는, 산화알루미늄 (알루미나) 이 보다 바람직하다.Among them, aluminum oxide (alumina) having a volume resistivity of 10 16 ? Cm or more is more preferable.

이들은 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.These may be used alone or in combination of two or more.

절연성 무기 필러의 입자직경이나 혼합 비율은 특별히 제한되지 않는다. 절연성 무기 필러의 입자직경이나 혼합 비율에 대해서는, 예를 들어 상이한 입도 분포를 갖는 3 종류의 무기 충전재군을 적용하는 경우를 예로 들면, 중량 누적 입도 분포의 소입자직경측에서의 누적 50 % 에 대응하는 입자직경 D50 이 5 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하의 무기 충전재군 (A), D50 이 무기 충전재군 (A) 의 1/2 이하로 1 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하의 무기 충전재군 (B), 및, D50 이 무기 충전재군 (B) 의 1/2 이하로 0.1 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하의 무기 충전재군 (C) 를 함유하여 구성되고, 무기 충전재의 전체량에 대한 무기 충전재군 (A), (B) 및 (C) 의 비율이 각각 40 질량% 이상 90 질량% 이하, 5 질량% 이상 40 질량% 이하, 1 질량% 이상 30 질량% 이하 (단, 무기 충전재군 (A), (B) 및 (C) 의 총 질량% 는 100 질량%) 의 비율로 충전하면 바람직하다.The particle diameter and the mixing ratio of the insulating inorganic filler are not particularly limited. With respect to the particle diameter and the mixing ratio of the insulating inorganic filler, for example, when three types of inorganic filler groups having different particle size distributions are applied, particles corresponding to 50% cumulative cumulative particle size distribution on the small particle diameter side (A) having a diameter D50 of not less than 5 占 퐉 and not more than 100 占 퐉, an inorganic filler group (D) having D50 of not less than 1/2 of the inorganic filler group (A) and not less than 1 占 퐉 and not more than 10 占 퐉, (A), (B) and (C) of inorganic filler group (C) with respect to the total amount of inorganic filler, wherein the filler group (B) ) Of the inorganic filler groups (A), (B) and (C) is 40 mass% or more and 90 mass% or less, 5 mass% or more and 40 mass% or less and 1 mass% or more and 30 mass% % By mass is 100% by mass).

또, 입도 분포가 광역에 걸친 무기 충전재를 사용할 때에는, 혼합 후의 입도 분포를 명확하게 분리하는 것은 곤란한 경우가 있다. 이와 같은 경우에는 설계하는 막두께를 고려하여 최대 입자직경을 결정한 다음, 중량 누적 입도 분포를 그렸을 때에 대입자직경측을 Fuller 곡선 등의 종래의 지견에 맞도록 입도 분포를 설계하면 바람직하다.When an inorganic filler whose particle size distribution has a wide range is used, it may be difficult to clearly separate the particle size distribution after mixing. In such a case, it is preferable to determine the maximum particle diameter in consideration of the film thickness to be designed, and then design the particle size distribution so as to match the conventional knowledge such as the Fuller curve on the large particle diameter side when the weight cumulative particle size distribution is drawn.

또, 상기 무기 충전재군 (A) 의 평균 입자직경 및 최대는 시트 또는 수지가 부착된 금속박의 경우에는 목표로 하는 막두께에 의해 제한된다. 다른 제한이 특별히 없는 경우에는, 열도전율의 관점에서는 상기 무기 충전재군 (A) 의 평균 입자직경은 클수록 바람직하지만, 열저항의 관점에서 절연성이 허용하는 범위에서 가능한 한 얇은 막두께로 하는 것이 바람직하다. 또, 절연성의 관점에서 최대 입자직경은 적어도 막두께의 7/8 이하로서, 2/3 이하로 하는 것이 바람직하고, 1/2 이하로 하는 것이 더욱 바람직하다. 따라서, 상기 무기 충전재군 (A) 의 평균 입자직경은 막두께의 1/2 이하이며, 또한 5 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 충전성 및 열저항·열전도성의 관점에서, 10 ㎛ 이상 75 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 10 ㎛ 이상 45 ㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다.The average particle diameter and the maximum of the inorganic filler group (A) are limited by the target film thickness in the case of the sheet or the metal foil on which the resin is adhered. In the absence of other restrictions, it is preferable that the average particle diameter of the inorganic filler group (A) is as large as possible from the viewpoint of the thermal conductivity, but from the viewpoint of heat resistance, . From the viewpoint of the insulating property, the maximum particle diameter is preferably at least 7/8 of the film thickness, preferably 2/3 or less, more preferably 1/2 or less. Therefore, it is preferable that the average particle diameter of the inorganic filler group (A) is 1/2 or less of the film thickness, more preferably 5 占 퐉 or more and 100 占 퐉 or less, and from the viewpoint of filling property and heat resistance / And more preferably 10 m or more and 45 m or less.

본 발명에 있어서 절연성 무기 필러의 입자직경 D50 은 레이저 회절법을 이용하여 측정되고, 중량 누적 입도 분포 곡선을 소입자직경측에서 그린 경우에, 중량 누적이 50 % 가 되는 입자직경에 대응한다.In the present invention, the particle diameter D50 of the insulating inorganic filler is measured using a laser diffraction method, and corresponds to the particle diameter at which the weight accumulation is 50% when the weight cumulative particle size distribution curve is drawn on the small particle diameter side.

레이저 회절법을 이용한 입도 분포 측정은 레이저 회절 산란 입도 분포 측정 장치 (예를 들어, 베크만·콜터사 제조, LS230) 를 사용하여 실시할 수 있다.The particle size distribution measurement using the laser diffraction method can be carried out using a laser diffraction scattering particle size distribution measuring apparatus (for example, LS230 manufactured by Beckman Coulter, Inc.).

또한, 상기 무기 충전재군 (A) 및 무기 충전재군 (B) 가 알루미나 필러인 경우는, α-알루미나의 단결정 입자로 이루어지는 알루미나 필러인 것이 더욱 바람직하다.When the inorganic filler group (A) and the inorganic filler group (B) are alumina fillers, alumina fillers composed of single-crystal particles of -alumina are more preferable.

한편, 상기 무기 충전재군 (C) 가 알루미나 필러인 경우는, α-알루미나, γ-알루미나, δ-알루미나, 또는 θ-알루미나인 것이 바람직하고, α-알루미나인 것이 보다 바람직하고, α-알루미나의 단결정 입자로 이루어지는 알루미나 필러인 것이 더욱 바람직하다.On the other hand, when the inorganic filler group (C) is an alumina filler, it is preferably? -Alumina,? -Alumina,? -Alumina or? -Alumina, more preferably? -Alumina, And more preferably an alumina filler composed of single crystal particles.

본 발명의 수지 조성물 시트에 함유되는 절연성 무기 필러의 함유율에는 특별히 제한은 없지만, 수지 조성물 시트를 구성하는 고형분 중, 40 vol% ∼ 82 vol% 로 할 수 있고, 열전도율, 전기 절연성, 및 시트 가요성의 관점에서, 50 vol% ∼ 79 vol% 가 보다 바람직하고, 55 vol% ∼ 76 vol% 인 것이 더욱 바람직하다. 절연성 무기 필러의 총 체적이 너무 적은 경우에는 열전도율이 낮아지고, 너무 많은 경우에는 시트 형상물의 형성이 곤란해진다.The content of the insulating inorganic filler contained in the resin composition sheet of the present invention is not particularly limited, but it may be 40 vol.% To 82 vol.% Of the solid content constituting the resin composition sheet. The thermal conductivity, the electrical insulating property, , More preferably from 50 vol% to 79 vol%, and still more preferably from 55 vol% to 76 vol%. If the total volume of the insulating inorganic filler is too small, the thermal conductivity becomes low, and if it is too much, it becomes difficult to form the sheet material.

또한, 수지 조성물 시트 중의 고형분이란, 수지 조성물 시트를 구성하는 성분으로부터 휘발성의 성분을 제거한 잔분을 의미한다.The solid content in the resin composition sheet means a residue obtained by removing volatile components from the components constituting the resin composition sheet.

상기 무기 충전재군 (A) ∼ (C) 로서는, 시판되는 것에서 적절히 선택할 수 있다. 또, 예를 들어 천이 알루미나 또는 열처리함으로써 천이 알루미나가 되는 알루미나 필러를, 염화수소를 함유하는 분위기 가스 중에서 소성함으로써 (예를 들어, 일본 공개특허공보 평6-191833호, 일본 공개특허공보 평6-191836호 등 참조) 제조한 것이어도 된다.As the inorganic filler groups (A) to (C), commercially available ones can be appropriately selected. Further, by calcining an alumina filler which becomes a transition alumina, for example, by transitional alumina or heat treatment in an atmosphere gas containing hydrogen chloride (see, for example, JP-A-6-191833, JP-A-6-191836 See, for example, US Pat.

본 발명의 수지 조성물 시트는 상기 무기 충전재군 (A) ∼ (C) 에 더하여, 알루미나를 주성분으로 하고, 그 수평균 섬유 직경이 1 ㎛ ∼ 50 ㎛ 인 무기 섬유를 포함하고 있어도 된다. 본 발명에 있어서 「알루미나를 주성분으로 하는 무기 섬유」란, 알루미나를 41 vol% 이상 함유하는 무기 섬유를 의미한다. 그 중에서도, 알루미나를 58 vol% 이상 함유하는 무기 섬유인 것이 바람직하고, 알루미나를 74 vol% 이상 함유하는 무기 섬유인 것이 보다 바람직하다. 이러한 무기 섬유의 수평균 섬유 직경은 1 ㎛ ∼ 50 ㎛ 이지만, 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 30 ㎛ 이며, 보다 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 20 ㎛ 이다. 또, 이러한 무기 섬유의 섬유 길이는 통상적으로 0.1 ㎜ ∼ 100 ㎜ 이다.In addition to the inorganic filler groups (A) to (C), the resin composition sheet of the present invention may contain inorganic fibers containing alumina as a main component and having a number average fiber diameter of 1 to 50 탆. In the present invention, "inorganic fiber containing alumina as a main component" means inorganic fiber containing 41 vol% or more of alumina. Among them, inorganic fibers containing alumina at 58 vol% or more are preferable, and inorganic fibers containing alumina at 74 vol% or more are more preferable. The number average fiber diameter of the inorganic fibers is 1 to 50 탆, preferably 1 to 30 탆, and more preferably 1 to 20 탆. The fiber length of such an inorganic fiber is usually 0.1 mm to 100 mm.

이러한 무기 섬유로서는, 통상적으로 시판되고 있는 것이 사용되며, 구체적으로는, 알텍스 (스미토모 화학 주식회사 제조), 덴카알센 (덴키 화학공업 주식회사 제조), 마프텍 벌크 파이버 (미츠비시 화학 산업자본 주식회사 제조) 등을 들 수 있다.Specific examples of such inorganic fibers include those commercially available under the trade names of Altex (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Denkalkalen (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.), Maftek Bulk Fiber (manufactured by Mitsubishi Chemical Industry Corporation) And the like.

이러한 무기 섬유를 사용하는 경우의 그 사용량은, 상기 무기 충전재군 (A) ∼ (C) 의 질량에 대해, 통상적으로 4 vol% ∼ 58 vol%, 바람직하게는 4 vol% ∼ 41 vol% 이며, 절연성 무기 필러와 무기 섬유의 합계 질량이, 수지 조성물 시트의 고형분 중, 통상적으로 30 ∼ 95 질량% 가 되는 양이 사용된다.The amount of the inorganic fibers used is usually 4 vol% to 58 vol%, preferably 4 vol% to 41 vol%, with respect to the mass of the inorganic filler groups (A) to (C) The amount of the total amount of the insulating inorganic filler and the inorganic fiber in the solid content of the resin composition sheet is usually 30 to 95% by mass.

본 발명의 수지 조성물 시트는 상기 절연성 무기 필러에 더하여, 필요에 따라 절연성 무기 필러 이외의 무기 충전재를 추가로 함유하고 있어도 된다. 무기 충전재로서는 예를 들어, 비도전성인 것으로서, 산화마그네슘, 질화알루미늄, 질화붕소, 질화규소, 산화규소, 수산화알루미늄, 황산바륨 등을 들 수 있다. 또 도전성인 것으로서, 금, 은, 니켈, 구리 등을 들 수 있다. 이들 무기 충전재는 1 종 단독으로 사용하거나, 또는 2 종 이상을 병용해도 된다.In addition to the insulating inorganic filler, the resin composition sheet of the present invention may further contain an inorganic filler other than the insulating inorganic filler, if necessary. Examples of the inorganic filler include magnesium oxide, aluminum nitride, boron nitride, silicon nitride, silicon oxide, aluminum hydroxide, and barium sulfate, which are non-conductive. Examples of conductive materials include gold, silver, nickel, and copper. These inorganic fillers may be used singly or in combination of two or more.

(그 외 성분)(Other components)

본 발명의 수지 조성물 시트는 상기 필수 성분에 더하여, 필요에 따라 그 밖의 성분을 함유하고 있어도 된다. 그 밖의 성분으로서는 예를 들어, 용제, 실란 커플링제, 분산제, 침강 방지제 등을 들 수 있다.The resin composition sheet of the present invention may contain other components as necessary in addition to the above essential components. Other components include, for example, solvents, silane coupling agents, dispersants, and anti-settling agents.

상기 용제로서는 수지 조성물 시트의 경화 반응을 저해하지 않는 것이면 특별히 제한 없고, 통상적으로 사용되는 유기 용제를 적절히 선택하여 사용할 수 있다.The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the curing reaction of the resin composition sheet, and a commonly used organic solvent can be appropriately selected and used.

본 발명의 수지 조성물 시트에는 실란 커플링제를 함유하는 것이 바람직하다. 실란 커플링제를 함유함으로써, 절연성 무기 필러의 표면과 그 주위를 둘러싸는 유기 수지 사이에서 공유 결합을 형성하는 역할 (바인더제에 상당) 을 달성함으로써, 열을 효율적으로 전달하는 기능이나, 나아가서는 수분의 침입을 방해함으로써, 절연 신뢰성의 향상에도 기여한다.The resin composition sheet of the present invention preferably contains a silane coupling agent. By the inclusion of the silane coupling agent, the function of forming a covalent bond (corresponding to binder) between the surface of the insulating inorganic filler and the organic resin surrounding the insulating filler can be achieved, and the function of efficiently transferring heat, Thereby contributing to an improvement in insulation reliability.

실란 커플링제로서는, 시판되는 것을 통상적으로 사용할 수 있지만, 에폭시 수지나 페놀 수지와의 상용성 및 수지층과 절연성 무기 필러의 계면에서의 열전도 로스를 저감시키는 것을 고려하면, 말단에 에폭시기, 아미노기, 메르캅토기, 우레이드기, 수산기를 갖는 실란 커플링제를 사용하는 것이 바람직하다.As a silane coupling agent, a commercially available silane coupling agent can be generally used. Considering the compatibility with an epoxy resin or a phenol resin and the reduction of heat conduction loss at the interface between the resin layer and the insulating inorganic filler, it is preferable that an epoxy group, It is preferable to use a silane coupling agent having a hydroxyl group, a hydroxyl group, a hydroxyl group, a hydroxyl group, a hydroxyl group.

구체적으로는 예를 들어, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-(2-아미노에틸)아미노프로필트리메톡시실란, 3-(2-아미노에틸)아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-페닐아미노프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토트리에톡시실란, 3-우레이도프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있고, 또 SC-6000KS2 로 대표되는 실란커플링제 올리고머 (히타치 화성 코텟트산도 주식회사 제조) 등도 들 수 있다. 이들 실란 커플링제는 단독 또는 2 종류 이상을 병용할 수도 있다.Specific examples thereof include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane Aminopropyltrimethoxysilane, 3- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-phenylaminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptotriethoxysilane, 3-ureidopropyl Triethoxysilane and the like, and silane coupling agent oligomers represented by SC-6000KS2 (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) can also be used. These silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 수지 조성물 시트에는, 분산제를 첨가할 수 있고, 분산제로서는 절연성 무기 필러의 분산에 효과가 있는 시판되는 분산제를 통상적으로 사용할 수 있다. 예를 들어, 아지노모토 파인테크 주식회사 제조 아지스퍼 시리즈, 쿠스모토 화성 주식회사 제조 HIPLAAD 시리즈, 주식회사 카오제 호모게놀 시리즈 등을 들 수 있다. 이들 분산제는 2 종류 이상을 병용할 수 있다.A dispersing agent can be added to the resin composition sheet of the present invention, and as the dispersing agent, a commercially available dispersing agent which is effective for dispersing the insulating inorganic filler can be usually used. For example, Ajisper series manufactured by Ajinomoto Fine Tech Co., Ltd., HIPLAAD series manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd., Kao Homogenol series manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd., and the like. These dispersants may be used in combination of two or more.

(수지 조성물)(Resin composition)

본 발명에서는, 수지 조성물을 사용하여 수지 조성물 시트를 형성해도 된다. 수지 조성물은 상기 열경화성 수지와 상기 페놀 수지와 상기 절연성 무기 필러를 함유한다. 이 수지 조성물은 절연성 무기 필러를 충전하고 있기 때문에, 기재 상에 수지 조성물을 부여할 때의 절연성 무기 필러의 거동이 전술한 오목부 점유율에 영향을 미친다.In the present invention, the resin composition sheet may be used to form the resin composition sheet. The resin composition contains the thermosetting resin, the phenol resin, and the insulating inorganic filler. Since the resin composition is filled with the insulating inorganic filler, the behavior of the insulating inorganic filler when the resin composition is applied on the substrate affects the occupancy rate of the concave portion described above.

수지 조성물의 점도가 너무 낮으면, 수지 조성물에 함유되는 유기 용매의 증발보다, 절연성 무기 필러가 도포 기재측에 침강되는 것이 빠르고, 절연성 무기 필러의 벽을 형성한다. 그 결과, 절연성 무기 필러의 벽보다 도포 기재측의 수지 조성물에 함유되는 용매 등의 휘발성 물질은 절연성 무기 필러의 벽에 의해 막혀 응집되어, 기포가 된다. 그 결과, 도포 기재측에 계면 기포가 발생한다. 그 때문에, 발명의 수지 조성물 시트의 오목부 점유율을 낮게 하기 위해서는, 기재 상에 부여하는 수지 조성물의 점도 제어가 중요해진다. 특히, 금속박에 수지 조성물을 도포하여, 금속박 상에 수지 조성물 시트를 형성하는 경우, 후술과 같이 일반적으로 금속박의 표면 거칠기는 금속 기판에 비해 거칠기 때문에, 수지 조성물의 점도의 조정이 중요한 것이 분명해졌다.When the viscosity of the resin composition is too low, the insulating inorganic filler precipitates on the side of the application substrate faster than the evaporation of the organic solvent contained in the resin composition, and forms a wall of the insulating inorganic filler. As a result, volatile substances such as a solvent contained in the resin composition on the side of the coating base material are clogged by the walls of the insulating inorganic filler to form bubbles more than the walls of the insulating inorganic filler. As a result, interfacial bubbles are generated on the coated substrate side. Therefore, in order to reduce the occupancy rate of the concave portion of the resin composition sheet of the present invention, viscosity control of the resin composition imparted on the substrate becomes important. Particularly, when the resin composition is applied to the metal foil and the resin composition sheet is formed on the metal foil, it is clear that adjustment of the viscosity of the resin composition is important because the surface roughness of the metal foil is generally rougher than that of the metal substrate.

수지 조성물의 점도는 25 ℃ 에서의 점도를 B 형 점도계 (스핀들 No 4, 회전수 30 rpm) 로 측정한다. 계면 기포의 발생을 효과적으로 억제하려면, 1000 ∼ 10000 mPa·s 인 것이 바람직하고, 1200 ∼ 8000 mPa·s 인 것이 보다 바람직하고, 1500 ∼ 6000 mPa·s 인 것이 더욱 바람직하다. 점도가 너무 낮으면 절연성 무기 필러의 침강이 빨라, 계면 기포를 발생시키기 쉽다. 한편, 점도가 너무 높으면 도포막의 막두께의 제어가 곤란해진다. 특히, 점도가 낮은 수지 조성물을 금속박에 도포하여 금속박이 부착된 수지 조성물 시트를 제조하는 경우, 점도가 1000 mPa 이상인 경우에는, 절연성 무기 필러의 침강이 너무 빨라지는 것이 억제되어 조면화된 금속박의 요철과 절연성 무기 필러의 사이에 간극을 일으키는 것이 억제된다.The viscosity of the resin composition was measured by a B-type viscometer (spindle No. 4, rotation number 30 rpm) at 25 캜. In order to effectively suppress the occurrence of interfacial bubbles, it is preferably from 1000 to 10,000 mPa · s, more preferably from 1200 to 8000 mPa · s, even more preferably from 1500 to 6000 mPa · s. If the viscosity is too low, the deposition of the insulating inorganic filler is rapid, and interface bubbles are easily generated. On the other hand, if the viscosity is too high, it becomes difficult to control the film thickness of the coating film. Particularly, when a resin composition sheet having a low viscosity is coated on a metal foil to prepare a resin composition sheet having a metal foil attached thereto, if the viscosity is 1000 mPa or more, the settling of the insulating inorganic filler is suppressed from becoming too rapid, And the insulating inorganic filler is prevented from being generated.

절연성 무기 필러를 함유하는 수지 조성물은, 절연성 무기 필러 함유량이 많을수록 수지 조성물의 점도가 높아져, 균일한 막두께로의 도포가 곤란해진다. 그러나, 용매 등의 첨가량을 늘림으로써 점도를 저하시키면, 상기와 같이 절연성 무기 필러의 침강이 너무 빨라져 오목부 점유율이 증대된다. 그 때문에, 수지 조성물은 적절한 점도로 조정하는 것이 바람직하다.In the resin composition containing the insulating inorganic filler, the more the content of the insulating inorganic filler is, the higher the viscosity of the resin composition becomes, and the coating with a uniform film thickness becomes difficult. However, if the viscosity is lowered by increasing the addition amount of a solvent or the like, the settling of the insulating inorganic filler becomes too fast as described above, and the occupancy rate of the concave portion increases. Therefore, it is preferable to adjust the resin composition to an appropriate viscosity.

(수지 조성물 시트 (B 스테이지) 의 제조 방법)(Production method of resin composition sheet (B stage)) [

본 발명의 수지 조성물 시트는 반경화 상태 (B 스테이지) 의 시트 형상물이다. 이 반경화 상태 (B 스테이지) 의 수지 조성물 시트가 배선판 재료나 배선판 중에 사용되어 본 경화되면, 열전도성 절연층이 된다.The resin composition sheet of the present invention is a semi-cured (B-stage) sheet-like article. When the resin composition sheet in the semi-cured state (B stage) is used in a wiring board material or a wiring board and finally cured, it becomes a thermally conductive insulating layer.

수지 조성물 시트는 상기 수지 조성물을 지지 기재 (도포 기재) 상에 부여하여 시트상의 도포물을 형성하고, 이것을 반경화 상태 (B 스테이지) 가 될 때까지 가열함으로써 제조된다.The resin composition sheet is produced by applying the resin composition on a supporting substrate (coated substrate) to form a sheet-like coating, and heating the coated composition to a semi-cured state (B stage).

상기 수지 조성물의 부여 방법은 특별히 제한되지 않지만, 대면적으로 형성하는 경우에는 도포가 바람직하다. 도포는 공지된 방법에 의해 실시할 수 있다. 도포 방법으로서 구체적으로는, 콤마 코트, 다이 코트, 립 코트, 그라비아 코트 등의 방법을 들 수 있다. 소정 두께로 수지층을 형성하기 위한 도포 방법으로서는, 갭 사이에 피도포물을 통과시키는 콤마 코트법, 노즐로부터 유량을 조정한 수지 바니시를 도포하는 다이 코트법 등을 적용할 수 있다. 그 외에, 립 코트나 그라비아 코트 등을 들 수 있다.The method of applying the resin composition is not particularly limited, but when it is formed in a large area, the application is preferable. The application can be carried out by a known method. Specific examples of the application method include a comma coat, a die coat, a lip coat, and a gravure coat. As a coating method for forming the resin layer to a predetermined thickness, a comma coating method for passing the object between the gaps, a die coating method for applying a resin varnish whose flow rate is adjusted from a nozzle, and the like can be applied. Other examples include lip coats and gravure coats.

도포할 때에 점도 조정을 위해서 상기 수지 조성물에 용제를 첨가해도 된다. 수지 조성물이 함유하는 용제로서는, 특별히 한정되는 것이 아니고, 메틸에틸케톤이나 아세톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 시클로헥산올, 디메틸아세트아미드, 이소프로판올, 메탄올, 에탄올 등을 사용할 수 있다.A solvent may be added to the resin composition for viscosity adjustment at the time of application. The solvent contained in the resin composition is not particularly limited, and methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, cyclohexanol, dimethylacetamide, isopropanol, methanol, ethanol and the like can be used.

도포 기재는 특별히 한정되지 않지만, 메탈 베이스 배선판 재료를 제조할 때에는 제거되기 때문에, 저렴한 플라스틱 기재가 바람직하다. 플라스틱 기재에 사용되는 수지로서는, 폴리스티렌 수지, 아크릴 수지, 폴리메틸메타크릴레이트 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리염화비닐 수지, 폴리염화비닐리덴 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 폴리아미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 폴리에테르이미드 수지, 폴리에테르에테르케톤 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리아세탈 수지, 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 등의 열가소성 폴리에스테르 수지, 아세트산셀룰로오스 수지, 불소 수지, 폴리술폰 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리메틸펜텐 수지, 폴리우레탄 수지, 프탈산디알릴 수지 등의 열가소성 수지나 열경화성 수지를 들 수 있다. 플라스틱 기재의 두께는 0.01 ㎜ ∼ 5 ㎜ 가 취급성의 관점에서 바람직하다. 수지 조성물 시트의 박리성을 향상시키기 위해서 플라스틱 기재의 표면에 이형층이 형성되어 있어도 된다.The application substrate is not particularly limited, but is preferably removed from the plastic base material because it is removed when the metal base wiring board material is produced. Examples of the resin used for the plastic substrate include polystyrene resin, acrylic resin, polymethyl methacrylate resin, polycarbonate resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polyamide resin, polyamideimide A thermoplastic polyester resin such as a resin, a polyetherimide resin, a polyetheretherketone resin, a polyarylate resin, a polyacetal resin, a polybutylene terephthalate resin and a polyethylene terephthalate resin, a cellulose acetate resin, a fluororesin, a polysulfone resin , Polyethersulfone resin, polymethylpentene resin, polyurethane resin, phthalic acid diallyl resin, and thermosetting resin. The thickness of the plastic substrate is preferably 0.01 mm to 5 mm from the viewpoint of handleability. In order to improve the peelability of the resin composition sheet, a release layer may be formed on the surface of the plastic substrate.

얻어진 상기 도포물은 반경화를 위한 가열에 앞서 건조시켜도 된다. 건조 온도 및 건조 시간은 도포물에 함유되는 유기 용제의 종류에 따라 적절히 조정하는 것이 바람직하다. 건조 온도나 건조 시간을 조정함으로써, 유기 용매의 증발 속도와 절연성 무기 필러의 도포 기재측으로의 침강 속도의 조정에 의해, 얻어지는 수지 조성물 시트 표면의 오목부의 점유율을 4 % 이하로 하는 것도 가능하다.The obtained coating material may be dried before heating for semi-curing. The drying temperature and the drying time are preferably adjusted appropriately according to the type of the organic solvent contained in the coating material. By adjusting the drying temperature and the drying time, it is also possible to make the occupation ratio of the concave portion of the obtained resin composition sheet surface to 4% or less by adjusting the evaporation rate of the organic solvent and the settling rate of the insulating inorganic filler to the coating substrate side.

구체적으로는, 건조 온도는 30 ℃ ∼ 90 ℃ 로 하는 것이 바람직하고, 40 ℃ ∼ 100 ℃ 로 하는 것이 보다 바람직하고, 50 ℃ ∼ 110 ℃ 로 하는 것이 더욱 바람직하다. 또, 건조 시간은 0.2 ∼ 60 분간으로 하는 것이 바람직하고, 0.5 ∼ 40 분간으로 하는 것이 보다 바람직하고, 1 ∼ 30 분간으로 하는 것이 더욱 바람직하다.Concretely, the drying temperature is preferably 30 ° C to 90 ° C, more preferably 40 ° C to 100 ° C, and further preferably 50 ° C to 110 ° C. The drying time is preferably 0.2 to 60 minutes, more preferably 0.5 to 40 minutes, and further preferably 1 to 30 minutes.

얻어진 도포물을 반경화 상태 (B 스테이지) 가 될 때까지 가열한다. 여기서 「반경화 상태 (B 스테이지)」란, 최저 용융 점도로서 상온에 있어서는 103 ∼ 106 Pa·s 인데 대해, 80 ℃ ∼ 200 ℃ 의 범위에서 10 ∼ 103 Pa·s 까지 점도가 저하되는 상태에 있는 것을 말한다. 또한, 본 경화 후의 C 스테이지의 시트 (열전도성 절연층) 에서는, 가온에 의해 용융되는 일은 없다.The obtained coating material is heated until it reaches a semi-cured state (B stage). Here, the term &quot; semi-cured state (B stage) &quot; refers to the lowest melt viscosity, which is 10 3 to 10 6 Pa · s at room temperature, while the viscosity decreases from 10 to 10 3 Pa · s in the range of 80 ° C to 200 ° C State. Further, the sheet (thermally conductive insulating layer) of the C stage after the main curing is not melted by heating.

상기 최저 용융 점도란, 말단 변성 이미드 올리고머의 용융 점도는 온도 상승에 의한 점도 저하와 경화 반응에 의한 점도의 상승에 의해 최소치를 취하며, 이 최소치를 의미한다. 수지 조성물 시트의 최저 용융 점도의 측정 방법은 후술한다.The melt viscosity of the terminally modified imide oligomer means the minimum value by the viscosity lowering due to the temperature rise and the viscosity increasing due to the curing reaction. A method of measuring the lowest melt viscosity of the resin composition sheet will be described later.

반경화를 위한 가열 온도 및 가열 시간은 상기 도포물에 함유되는 유기 용제의 종류나 양에 따라 적절히 조정하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 반경화를 위한 가열 온도는 70 ℃ ∼ 160 ℃ 로 하는 것이 바람직하고, 80 ℃ ∼ 150 ℃ 로 하는 것이 보다 바람직하고, 90 ℃ ∼ 140 ℃ 로 하는 것이 더욱 바람직하다. 또, 반경화를 위한 가열 시간은 0.2 ∼ 60 분간으로 하는 것이 바람직하고, 0.5 ∼ 40 분간으로 하는 것이 보다 바람직하고, 1 ∼ 30 분간으로 하는 것이 더욱 바람직하다.The heating temperature and the heating time for semi-curing are preferably adjusted appropriately according to the kind and amount of the organic solvent contained in the coating. Concretely, the heating temperature for semi-curing is preferably 70 ° C to 160 ° C, more preferably 80 ° C to 150 ° C, and further preferably 90 ° C to 140 ° C. The heating time for semi-curing is preferably 0.2 to 60 minutes, more preferably 0.5 to 40 minutes, and more preferably 1 to 30 minutes.

수지 조성물 시트 (B 스테이지 시트) 중의 유기 용매의 함유량은, 기재 상에 부여하기 전의 수지 조성물 중의 함유량의 40 % 이하로 감소되어 있는 것이, 본 경화 후 (C 스테이지 시트) 의 열전도성 절연층에서의 공극이나 기포의 발생을 억제하는 관점에서 바람직하다.The content of the organic solvent in the resin composition sheet (B-stage sheet) is reduced to 40% or less of the content of the organic solvent in the resin composition before being applied on the substrate. From the viewpoint of suppressing generation of voids or bubbles.

또한, 얻어진 수지 조성물 시트는 단층이어도 되고, 또 2 매의 수지 조성물 시트를 서로 첩합시킨 것, 혹은 3 매 이상의 수지 조성물 시트를 적층한 것이어도 된다. 2 매 이상의 수지 조성물 시트의 첩합은 라미네이터나 프레스기 등의 공지된 방법을 이용하여 실시해도 되고, 그 때에 가열함으로써 반경화 상태 (B 스테이지) 로 해도 된다.The obtained resin composition sheet may be a single layer, or two resin composition sheets may be adhered to each other, or three or more resin composition sheets may be laminated. The bonding of the two or more sheets of the resin composition may be carried out by using a known method such as a laminator or a press machine, or may be heated to a semi-cured state (B stage).

이와 같이 2 매 이상의 수지 조성물 시트를 첩합함으로써, 수지 조성물 시트 끼리는 융합이 양호하기 때문에 수지 조성물 시트끼리를 접합할 수 있어 단일의 수지 시트를 형성할 수 있다. 따라서, 예를 들어, 수지 조성물 시트의 편면이 오목부의 면적률이 높은 경우, 혹은, 요철이 형성되어 있는 경우, 그 면을 서로 첩합시킴으로써, 함몰부나 요철을 소실시킬 수 있다. 그 때문에, 수지 조성물 시트의 표면의 오목부 점유율을 저하시키는 것이 가능하다.By bonding two or more sheets of the resin composition composition in this manner, the resin composition sheets can be bonded together because the resin composition sheets are well fused together, and a single resin sheet can be formed. Therefore, for example, when the one surface of the resin composition sheet has a high area ratio of the concave portion or when the concave and convex portions are formed, the concave and convex portions can be lost by bonding the surfaces to each other. Therefore, it is possible to reduce the occupancy rate of the concave portion on the surface of the resin composition sheet.

수지 조성물 시트의 첩합은 바람직하게는 70 ℃ ∼ 160 ℃, 보다 바람직하게는 80 ℃ ∼ 150 ℃, 더욱 바람직하게는 90 ℃ ∼ 140 ℃ 에서 가열하여 실시하는 것이 바람직하다.The bonding of the resin composition sheet is preferably performed by heating at 70 to 160 캜, more preferably 80 to 150 캜, and further preferably 90 to 140 캜.

또, 첩합의 압력은 바람직하게는 0.05 MPa ∼ 1 MPa, 보다 바람직하게는 0.1 MPa ∼ 0.6 MPa, 더욱 바람직하게는 0.2 MPa ∼ 0.4 MPa 이다.The pressure of the coalescing is preferably 0.05 MPa to 1 MPa, more preferably 0.1 MPa to 0.6 MPa, and still more preferably 0.2 MPa to 0.4 MPa.

또한, 얻어진 수지 조성물 시트는 표면을 평활화하여, 표면의 오목부 점유율을 저하시켜도 된다. 평활화의 방법으로서는, 예를 들어, 라미네이터나 프레스기 등의 공지된 방법 등을 들 수 있다. 평활화에 의해, 가압에 의해 수지 조성물 시트를 약간 유동시켜, 시트 표면의 오목부를 소실시켜도 된다. 평활화시에 수지 조성물 시트에 접촉시키는 부재는 평활한 것이 바람직하다. 그 부재의 평활성이 수지 조성물 시트의 평활성에 영향을 미치기 때문이다. 예를 들어, 수지 조성물 시트에 표면이 평활한 플라스틱 시트를 접촉시켜도 되고, 동시에 수지 조성물 시트가 라미네이터나 프레스기에 첩부되는 것을 방지해도 된다. 또, 가압시에 수지 조성물 시트를 가열하여, 수지 조성물의 유동성을 향상시켜도 된다. 이 평활화의 공정에 있어서, 가열함으로써 반경화 상태 (B 스테이지) 로 해도 된다.The surface of the obtained resin composition sheet may be smoothed to lower the concave portion occupation rate of the surface. As a method of smoothing, for example, known methods such as a laminator and a press machine can be given. By smoothing, the resin composition sheet may be slightly flowed by pressurization to dislodge the concave portion of the sheet surface. It is preferable that the member brought into contact with the resin composition sheet at the time of smoothing is smooth. This is because the smoothness of the member affects the smoothness of the resin composition sheet. For example, a smooth plastic sheet may be brought into contact with the resin composition sheet, and at the same time, the resin composition sheet may be prevented from being attached to the laminator or the press machine. Further, the resin composition sheet may be heated at the time of pressurization to improve the fluidity of the resin composition. In this smoothing step, a semi-cured state (B stage) may be obtained by heating.

수지 조성물 시트의 표면의 평활화를 진공 라미네이터에 의해 실시하는 경우, 진공도는 0.01 kPa ∼ 20 kPa 가 바람직하고, 0.03 kPa ∼ 10 kPa 가 보다 바람직하고, 0.1 kPa ∼ 5 kPa 가 더욱 바람직하다.When the surface of the resin composition sheet is smoothed by a vacuum laminator, the degree of vacuum is preferably from 0.01 kPa to 20 kPa, more preferably from 0.03 kPa to 10 kPa, and further preferably from 0.1 kPa to 5 kPa.

진공 라미네이터의 가열 온도는 70 ℃ ∼ 170 ℃ 가 바람직하고, 80 ℃ ∼ 160 ℃ 가 보다 바람직하고, 90 ℃ ∼ 150 ℃ 가 더욱 바람직하다.The heating temperature of the vacuum laminator is preferably 70 ° C to 170 ° C, more preferably 80 ° C to 160 ° C, and further preferably 90 ° C to 150 ° C.

진공 라미네이터의 압력은 바람직하게는 0.1 MPa ∼ 3 MPa, 보다 바람직하게는 0.3 MPa ∼ 2 MPa, 더욱 바람직하게는 0.6 MPa ∼ 1.5 MPa 이다.The pressure of the vacuum laminator is preferably 0.1 MPa to 3 MPa, more preferably 0.3 MPa to 2 MPa, and still more preferably 0.6 MPa to 1.5 MPa.

(수지 조성물 시트 (B 스테이지) 의 물성)(Physical properties of resin composition sheet (B stage)) [

수지 조성물 시트의 최저 용융 점도는 B 스테이지로부터 C 스테이지로 하는 가압 가열 공정에서의 수지 조성물의 유동성에 영향을 미친다. 그 때문에, 가압 가열 공정에서 가해지는 온도 범위 20 ℃ ∼ 200 ℃ 에 있어서의 최저 용융 점도를 조정하는 것이 취급성이나 단부로부터의 수지 조성물 시트의 유출을 억제하는 관점에서 바람직하다.The minimum melt viscosity of the resin composition sheet affects the fluidity of the resin composition in the pressure heating step from the B stage to the C stage. Therefore, it is preferable to adjust the lowest melt viscosity at a temperature range of 20 ° C to 200 ° C, which is applied in the pressure heating step, from the viewpoint of handling convenience and suppressing the outflow of the resin composition sheet from the end portion.

수지 조성물 시트의 최저 용융 점도는, 전단 점탄성의 온도 의존성을 측정했을 때에, 온도 상승에 의한 점도 저하와 경화 반응에 의한 점도 증가에 의해 나타나는 최소치이다.The minimum melt viscosity of the resin composition sheet is a minimum value which is caused by a decrease in viscosity due to temperature rise and an increase in viscosity due to a curing reaction when the temperature dependence of shear viscoelasticity is measured.

전단 점탄성을 측정하는 조건의 예로서, 승온 속도 5 ℃/min (프레스의 승온 속도), 주파수 1 ∼ 10 Hz 를 들 수 있고, 시트를 끼우는 측정 지그는 원형의 평판을 들 수 있다. 샘플은 필요에 따라 수지 조성물 시트를 적층한 것을 사용해도 된다.Examples of conditions for measuring the shear viscoelasticity include a temperature raising rate of 5 deg. C / min (temperature raising rate of the press) and a frequency of 1 to 10 Hz, and a measuring jig for sandwiching a sheet is a circular plate. The sample may be prepared by laminating a resin composition sheet as necessary.

수지 조성물 시트의 20 ℃ ∼ 200 ℃ 에 있어서의 최저 용융 점도는 10 Pa·s ∼ 1000 Pa·s 인 것이 바람직하고, 20 Pa·s ∼ 800 Pa·s 인 것이 보다 바람직하고, 30 Pa·s ∼ 600 Pa·s 인 것이 더욱 바람직하다. 최저 용융 점도가 너무 낮으면 열전도성 절연층의 두께 편차가 발생하고, 최저 용융 점도가 너무 높으면 열전도성 절연층이 구리박이나 금속 기판 등의 피착체에 충분히 밀착되지 않게 되어, 접착력의 저하나 절연 파괴 전압의 저하가 발생한다. 따라서, 20 ℃ ∼ 200 ℃ 에 있어서의 최저 용융 점도가 상기 범위 내에 있으면, 가열시에 우수한 유동성을 나타내고, 요철 구조를 갖는 피착체에 대해서도 추종하기 때문에, 본 경화 후에 높은 접착력을 나타낸다.The minimum melt viscosity of the resin composition sheet at 20 ° C to 200 ° C is preferably 10 Pa · s to 1000 Pa · s, more preferably 20 Pa · s to 800 Pa · s, More preferably 600 Pa · s. If the minimum melt viscosity is too low, the thickness of the thermally conductive insulating layer will be varied. If the minimum melt viscosity is too high, the thermally conductive insulating layer will not sufficiently adhere to the adherend such as copper foil or metal substrate, The breakdown voltage is lowered. Therefore, when the minimum melt viscosity at 20 ° C to 200 ° C is within the above range, excellent fluidity is exhibited at the time of heating, and adhesion to an adherend having a concavo-convex structure is also followed.

본 발명의 수지 조성물 시트 (B 스테이지 시트) 의 두께는 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어, 평균 두께는 20 ㎛ ∼ 500 ㎛ 가 바람직하고, 25 ㎛ ∼ 400 ㎛ 가 보다 바람직하고, 열전도율, 전기 절연성 및 시트 가요성의 관점에서, 30 ㎛ ∼ 300 ㎛ 인 것이 바람직하다. 20 ㎛ 이상의 경우에는 전기 절연성이 우수하고, 500 ㎛ 이하의 경우에는 열저항의 증대가 억제된다.The thickness of the resin composition sheet (B-stage sheet) of the present invention can be appropriately selected according to the purpose. For example, the average thickness is preferably 20 to 500 占 퐉, more preferably 25 to 400 占 퐉, From the viewpoint of electrical insulation and sheet flexibility, it is preferable that the thickness is 30 mu m to 300 mu m. The electrical insulation is excellent when the thickness is 20 mu m or more, and the increase in the thermal resistance is suppressed when the thickness is 500 mu m or less.

<금속박이 부착된 수지 조성물 시트 (B 스테이지 시트)>&Lt; Resin composition sheet with metal foil (B stage sheet) &gt;

금속박이 부착된 수지 조성물 시트는 상기의 수지 조성물 시트에 금속박을 첩부한 것이다. 보다 구체적으로는, 수지 조성물 시트에 금속박을 라미네이터나 프레스기 등을 사용하여 공지된 방법으로 첩합시켜 금속박이 부착된 수지 조성물 시트를 제조할 수 있다. 또, 금속박이 부착된 수지 조성물 시트는 금속박을 기재로 하여 수지 조성물을 부여하여 도포물을 형성하고, 반경화 상태 (B 스테이지) 까지 가열함으로써 제조할 수 있다.The resin composition sheet to which the metal foil is attached is obtained by pasting a metal foil to the above resin composition sheet. More specifically, a metal foil can be bonded to a resin composition sheet by a known method using a laminator, a press machine or the like to produce a resin composition sheet having a metal foil. The resin composition sheet to which the metal foil is adhered can be produced by applying a resin composition with a metal foil as a base to form a coating and heating it to a semi-cured state (B stage).

일반적으로, 금속박은 수지 조성물 시트와의 접착력을 높이기 위해서 조면화되어 있다. 수지 조성물 시트를 금속박에 첩부함으로써 금속박이 부착된 수지 조성물 시트를 제조하는 경우, 수지 조성물 시트의 표면에 상기 특정 크기의 오목부가 존재하면, C 스테이지화의 가압 및 가열 공정에 있어서 금속박이 조면화된 표면 형상에 완전히 추종할 수 없어, 계면 기포가 발생하기 쉬워질 수 있다.Generally, the metal foil is roughened in order to enhance the adhesion with the resin composition sheet. In the case of producing a resin composition sheet with a metal foil by attaching the resin composition sheet to a metal foil, if the concave portion of the specific size is present on the surface of the resin composition sheet, the metal foil is roughened in the pressing and heating step of C- It is impossible to completely follow the surface shape, and interfacial bubbles can be easily generated.

이와 같은 계면 기포의 발생을 억제하려면, 본 발명의 수지 조성물 시트, 요컨대, 열경화성 수지와 페놀 수지와 절연성 무기 필러를 함유하고, 표면에 있어서의 최대 깊이 0.5 ㎛ 이상인 오목부의 점유율이 면적률로 4 % 이하인 제 1 수지 조성물 시트, 또는, 20 ℃ ∼ 200 ℃ 에서의 최저 용융 점도가 10 ∼ 1000 Pa·s 이며, 표면에 있어서의 최대 깊이 0.5 ㎛ 이상인 오목부의 점유율이 면적률로 4 % 이하인 제 2 수지 조성물 시트를 사용하는 것이 유효한 것을 알아냈다. 또한, 본 발명의 수지 조성물 시트는, 물론, 금속 기판을 부설하는 경우에도 계면 기포의 발생을 효과적으로 억제한다.In order to suppress the generation of such interfacial bubbles, the resin composition sheet of the present invention, that is, a resin composition sheet containing a thermosetting resin, a phenolic resin, and an insulating inorganic filler and having a recess having a maximum depth of 0.5 탆 or more on the surface, Or a second resin having a lowest melt viscosity at 20 ° C to 200 ° C of 10 to 1000 Pa · s and a recess having a maximum depth of 0.5 μm or more on the surface at a surface area of 4% It has been found effective to use a composition sheet. In addition, the resin composition sheet of the present invention effectively suppresses the generation of interfacial bubbles even when a metal substrate is laid.

금속박으로서는, 구리, 알루미늄, 니켈, 주석, 또는 그들을 함유하는 합금 중 어느 하나의 재질로 이루어지는 금속박을 사용할 수 있다. 또, 금속박의 층 구조는 1 층에 한정되지 않고, 2 ∼ 3 층의 복합 박을 사용할 수도 있다. 저비용과 전기 전도율의 높이를 요망하는 경우, 구리박을 사용하는 것이 바람직하다.As the metal foil, a metal foil made of any one material of copper, aluminum, nickel, tin, or an alloy containing them may be used. The layer structure of the metal foil is not limited to one layer, and a composite foil of two to three layers may be used. When low cost and high electric conductivity are required, it is preferable to use a copper foil.

금속박의 두께는 3 ㎛ ∼ 110 ㎛ 인 것이 바람직하고, 5 ㎛ ∼ 90 ㎛ 인 것이 보다 바람직하고, 9 ㎛ ∼ 70 ㎛ 인 것이 더욱 바람직하다. 3 ㎛ 이상인 경우에는 취급이 우수하고, 약간의 힘으로 접히는 것을 방지할 수 있다. 또, 110 ㎛ 이하의 경우에는, 고가인 금속박의 사용량이 억제된다.The thickness of the metal foil is preferably 3 mu m to 110 mu m, more preferably 5 mu m to 90 mu m, and even more preferably 9 mu m to 70 mu m. When the thickness is 3 mu m or more, handling is excellent and folding with a slight force can be prevented. When the thickness is 110 μm or less, the amount of expensive metal foil to be used is suppressed.

금속박의 취급성을 향상시키기 위해서, 캐리어 필름을 첩부한 상태로 금속박을 취급해도 된다. 그러한 캐리어 필름으로서 미점착성의 점착 필름, 자기 흡착성의 점착 필름, UV 경화성의 점착 필름을 사용할 수 있다. 금속 기판과 금속박의 수지 조성물 시트에 의한 접착 공정, 혹은 금속박이 부착된 수지 조성물 시트를 얻기 위한 도포 공정에 있어서, 금속박에 캐리어 필름이 첩부된 상태임으로써 금속박의 접힘 등을 억제할 수 있다.In order to improve the handling property of the metal foil, the metal foil may be handled with the carrier film attached thereto. As such a carrier film, a tacky adhesive film, a self-adsorbing tacky film, and a UV curable tacky film can be used. It is possible to suppress the folding of the metal foil or the like due to the state in which the carrier film is attached to the metal foil in the step of adhering the metal substrate and the metal foil to the resin composition sheet or in the application step for obtaining the resin composition sheet with the metal foil.

그 밖의 제조 방법이나 제조 조건, 수지 조성물 시트의 두께의 바람직한 범위나, 수지 조성물의 점도의 바람직한 범위 등은 상기 수지 조성물 시트에 관한 것과 동일하다.Other manufacturing methods and manufacturing conditions, a preferable range of the thickness of the resin composition sheet, a preferable range of the viscosity of the resin composition, and the like are the same as those of the resin composition sheet.

<열전도성 절연층 (C 스테이지)>&Lt; Heat-conductive insulating layer (C stage) &gt;

열전도성 절연층은, 후술하는 메탈 베이스 배선판이나 메탈 베이스 배선판 재료에 있어서, 금속 기판과 배선층 또는 금속박과의 사이를 절연시키는 접착층이다. 상기 수지 조성물 시트 (B 스테이지) 를 본 경화 (C 스테이지화) 하여 열전도성 절연층 (C 스테이지) 으로 한다.The thermally conductive insulating layer is an adhesive layer that insulates a metal substrate from a wiring layer or a metal foil in a metal base wiring board or a metal base wiring board material described later. The resin composition sheet (B stage) is finally cured (C stage) to form a thermally conductive insulating layer (C stage).

구체적으로는, 금속 기판과 금속박의 사이에 전술한 수지 조성물 시트를 사이에 끼우고, 프레스기 등으로 가압 가열함으로써, 금속 기판과 금속박을 접착시킨다. 반경화 상태 (B 스테이지) 인 상기 수지 조성물 시트는 가압 가열 공정에서 재용융하여, 금속 기판 및 금속박에 수지 조성물 시트가 밀착되고, 그 후, 수지 조성물 시트를 본 경화 (C 스테이지화) 하여 열전도성 절연층 (C 스테이지) 이 되어, 금속 기판과 금속박이 접착된다. 본 경화한 후의 열전도성 절연층은 가열에 의해 용융되는 일은 없다.Specifically, the above-mentioned resin composition sheet is sandwiched between a metal substrate and a metal foil, and the metal substrate and the metal foil are bonded to each other by pressurizing and heating by a press machine or the like. The resin composition sheet in the semi-cured state (B stage) is re-melted in a pressurizing and heating step, and the resin composition sheet is adhered to the metal substrate and the metal foil, and then the resin composition sheet is finally cured (C stage), and the metal substrate and the metal foil are bonded. The thermally conductive insulating layer after the final curing is not melted by heating.

본 발명의 열전도성 절연층은 열전도성의 절연성 무기 필러와 열경화성 수지의 컴포지트이다. 열전도성의 절연성 무기 필러로서는, 열전도율이 높고 절연성인 무기 세라믹을 사용하는 것이 바람직하다. 또, 열경화성 수지로서 열전도성의 수지를 사용하면 보다 적은 필러 함유량으로 열전도율을 높일 수 있다. 본 발명에서는, 열전도성의 수지로서 비페닐 골격을 갖는 2 관능의 에폭시 수지를 사용하는 것이 바람직하다.The thermally conductive insulating layer of the present invention is a composite of a thermally conductive insulating inorganic filler and a thermosetting resin. As the thermally conductive insulating inorganic filler, it is preferable to use inorganic ceramics having high thermal conductivity and insulating property. When a thermally conductive resin is used as the thermosetting resin, the thermal conductivity can be increased with a smaller filler content. In the present invention, it is preferable to use a bifunctional epoxy resin having a biphenyl skeleton as the thermally conductive resin.

비페닐 골격을 갖는 2 관능의 에폭시 수지에 있어서의 비페닐 골격은 메소겐기가 되기 때문에 이방성 구조를 가지고 있다. 열전도성 수지층이 내부에 이방성 구조를 가지면 높은 열전도율을 나타낸다. 일반적으로, 절연체의 열전도는 주로 포논에 의한 것이며, 재료 중의 결함에서의 포논의 정적 산란이나, 분자 진동이나 격자 진동의 비조화성에 의한 포논끼리의 충돌에 의한 동적 산란에 의해, 열전도율은 저하된다.The biphenyl skeleton of a bifunctional epoxy resin having a biphenyl skeleton has an anisotropic structure because it becomes a mesogen group. If the thermally conductive resin layer has an anisotropic structure inside, it exhibits a high thermal conductivity. Generally, the thermal conductivity of an insulator is mainly due to phonon, and thermal conductivity is lowered due to static scattering of phonons in defects in the material and dynamic scattering due to collision of phonons with each other due to molecular vibration or non-uniformity of lattice vibration.

그러나, 고분자의 주사슬 방향은 주사슬과 직각 방향 (분자 사슬간 방향) 보다 열전도율이 크다. 이것은, 고분자의 주사슬 방향은 강한 공액 결합으로 연결되어 있기 때문에, 주사슬 방향의 진동 (포논) 의 조화성이 높고, 또, 포논의 정적 산란을 야기하는 결함 등도 분자 사슬간 방향보다 훨씬 작기 때문이다. 그 때문에, 고분자의 주사슬을 배향시킴으로써 이방적으로 열전도율을 높일 수 있다. 고분자의 주사슬의 배향은 연신, 전장 인가, 러빙 등 공지된 방법에 의해 실시된다. 고분자의 주사슬을 필름면의 수직 방향 (두께 방향) 으로 배향시키면, 두께 방향에서의 열전도율을 높일 수 있다.However, the main chain direction of the polymer is higher than that in the direction perpendicular to the main chain (direction between molecular chains). This is because the main chain direction of the polymer is connected by a strong conjugate bond, so that the harmonics of vibration in the main chain direction (phonon) is high and defects causing static scattering of phonon are also much smaller than those between molecular chains . Therefore, by orienting the main chain of the polymer, the thermal conductivity can be increased anisotropically. The orientation of the main chain of the polymer is carried out by known methods such as stretching, electric field application, and rubbing. When the main chain of the polymer is oriented in the direction perpendicular to the film surface (thickness direction), the thermal conductivity in the thickness direction can be increased.

한편, 고분자의 주사슬을 필름면의 수평 방향으로 배향시키면, 필름면 내의 열전도율을 증가시키는 것이 가능해진다. 한편, 일반적으로는, 고분자의 분자 사슬간 방향인 수직 방향의 열전도율은 배향시키지 않는 고분자의 경우보다 저하된다. 그 때문에, 일반적으로는, 고분자의 주사슬을 필름면의 수평 방향으로 배향시킨 수지 조성물 시트에서는, 두께 방향에서의 열전도율이 작아진다.On the other hand, if the main chain of the polymer is oriented in the horizontal direction of the film surface, it becomes possible to increase the thermal conductivity in the film surface. On the other hand, in general, the thermal conductivity in the vertical direction between the molecular chains of the polymer is lower than that of the polymer not oriented. Therefore, in general, in the resin composition sheet in which the main chain of the polymer is oriented in the horizontal direction of the film surface, the thermal conductivity in the thickness direction is reduced.

그러나, 물질의 질서성이 증대하면, 진동의 조화성이 증가하고, 결함도 감소하기 때문에, 분자 사슬간 방향 (두께 방향) 의 열전도율도 증대시킬 수 있다. 여기서, 물질의 질서성이 최고인 것은 완전 결정이지만, 고분자 절연체의 완전 결정은, 실제 상, 절연성 접착 재료로서 적용하는 것이 불가능하다. 그에 대해, 액정 상태는 결정에 이어서 높은 질서성을 가지며, 실현도 가능하다. 비페닐 골격을 갖는 2 관능 에폭시 수지는 메소겐기를 갖는 것이기 때문에, 주사슬 방향뿐만 아니라, 분자 사슬간 방향에 있어서도 결함이 적고, 또한, 진동의 비조화성도 작다. 따라서, 특정 배향 방향으로 포착되는 일 없이, 큰 열전도성을 나타낸다.However, if the orderliness of the material increases, the degree of harmonization of vibration increases and the degree of defects also decreases, so that the thermal conductivity in the molecular chain direction (thickness direction) can also be increased. Here, it is completely determined that the orderability of the material is the highest, but the complete crystal of the polymer insulator is practically impossible to be applied as an insulating adhesive material. On the other hand, the liquid crystal state has a high orderability following the determination and can be realized. Since the bifunctional epoxy resin having a biphenyl skeleton has a mesogen group, there are few defects in not only the main chain direction but also the intermolecular chain direction, and also the incombustibility of vibration is small. Therefore, it exhibits a large thermal conductivity without being caught in a specific orientation direction.

<메탈 베이스 배선판 재료><Material of metal base board>

도 1 에, 본 발명의 메탈 베이스 배선판 재료의 일례의 단면 구조를 나타낸다.1 shows a cross-sectional structure of an example of a metal base wiring board material of the present invention.

메탈 베이스 배선판 재료는 금속박 (30) 과 금속 기판 (20) 을 가지며, 금속박 (30) 과 금속 기판 (20) 사이에, 상기 수지 조성물 시트의 경화물인 열전도성 절연층 (10) 을 구비한다. 열전도성 절연층 (10) 의 배치에 의해 금속 기판 (20) 과 금속박 (30) 은 절연된다.The metal base plate material has a metal foil 30 and a metal substrate 20 and is provided between the metal foil 30 and the metal substrate 20 with a thermally conductive insulating layer 10 as a cured product of the resin composition sheet. The metal substrate 20 and the metal foil 30 are insulated by the arrangement of the thermally conductive insulating layer 10.

금속 기판 (20) 은 열전도율이 높고, 열용량이 큰 금속 재료로 이루어지고, 구리, 알루미늄, 철, 리드 프레임에 사용되는 합금 등을 예시할 수 있다. 금속 기판 (20) 이 두꺼울수록 메탈 베이스 배선판의 강도가 높아지지만, 전자 부품을 탑재한 메탈 베이스 배선판이 금속제 섀시 등에 나사나 접착성 재료 등에 의해 일체화되는 경우에는, 강도가 향상되기 때문에 금속 기판 (20) 은 특별히 두꺼울 필요는 없다. 금속 기판 (20) 은 경량화나 가공성을 우선하는 경우에는 알루미늄, 강도를 우선하는 경우에는 철과 같이 목적을 따라서 재질을 선정해도 된다.The metal substrate 20 is made of a metal material having a high thermal conductivity and a large heat capacity, and may be an alloy used for copper, aluminum, iron, and lead frames. The strength of the metal base board increases as the thickness of the metal base board 20 increases. However, when the metal base board on which the electronic components are mounted is integrated with a metal chassis or the like by screws or an adhesive material, ) Need not be particularly thick. The material of the metal substrate 20 may be selected in accordance with the purpose, such as aluminum in the case of weight reduction and workability being priority, and iron in the case of giving priority to the strength.

메탈 베이스 배선판을 큰 사이즈로 제조한 후, 전자 부품 실장 후에 사용하는 사이즈로 커트하는 것이 생산성을 높이기 때문에 바람직하다. 그 때문에, 금속 기판 (20) 은 커트하기 위한 가공성이 높은 것이 바람직하다.It is preferable that the metal base wiring board is manufactured in a large size and then cut to a size to be used after electronic component mounting because productivity is enhanced. Therefore, it is preferable that the metal substrate 20 has high workability for cutting.

알루미늄의 금속 기판 (20) 으로서는, 알루미늄 또는 알루미늄을 주성분으로 하는 합금을 재질로서 선정할 수 있고, 그 화학 조성과 열처리 조건에 의해 다종류의 것이 입수 가능하지만, 높고 절삭하기 쉬운 등의 가공성이 높고, 또한 강도가 우수한 종류를 선정하는 것이 바람직하다.As the aluminum metal substrate 20, aluminum or an alloy containing aluminum as a main component can be selected as a material, and various kinds of metals can be obtained depending on the chemical composition and the heat treatment conditions. However, the workability such as high and easy cutting is high , And it is preferable to select a type having excellent strength.

메탈 베이스 배선판 재료는 상기 수지 조성물 시트를 금속 기판 (20) 과 금속박 (30) 으로 사이에 끼우고, 프레스기 등으로 가압 가열하는 방법 등에 의해 제조된다. 또는, 금속박이 부착된 수지 조성물 시트와 금속 기판 (20) 을 가압 가열하는 방법 등에 의해 제조된다. 상기 수지 조성물 시트를 경화하는 가열·가압 처리의 조건은 수지 조성물 시트의 구성에 따라 적절히 선택된다. 예를 들어, 가열 온도가 80 ∼ 250 ℃ 이고, 압력이 0.5 ∼ 8.0 MPa 인 것이 바람직하고, 가열 온도가 130 ∼ 230 ℃ 이고, 압력이 1.5 ∼ 5.0 MPa 인 것이 보다 바람직하다.The metal base plate material is produced by a method in which the resin composition sheet is sandwiched between the metal substrate 20 and the metal foil 30 and heated under pressure with a press machine or the like. Or a method in which the resin composition sheet having the metal foil attached thereto and the metal substrate 20 are heated under pressure. The conditions of the heating and pressurizing treatment for curing the resin composition sheet are appropriately selected depending on the constitution of the resin composition sheet. For example, the heating temperature is preferably 80 to 250 占 폚, the pressure is preferably 0.5 to 8.0 MPa, the heating temperature is 130 to 230 占 폚, and the pressure is more preferably 1.5 to 5.0 MPa.

<메탈 베이스 배선판><Metal base board>

도 2 에, 본 발명의 메탈 베이스 배선판의 일례의 단면 구조를 나타낸다.2 shows a cross-sectional structure of an example of the metal base wiring board of the present invention.

메탈 베이스 배선판은, 금속 기판 (20) 과 배선층 (40) 을 가지며, 금속 기판 (20) 과 배선층 (40) 사이에, 상기 수지 조성물 시트의 경화물인 열전도성 절연층 (10) 을 구비한다. 열전도성 절연층 (10) 의 배치에 의해 금속 기판 (20) 과 배선층 (40) 은 절연된다.The metal base wiring board has a metal substrate 20 and a wiring layer 40 and a thermally conductive insulating layer 10 as a cured product of the resin composition sheet is provided between the metal substrate 20 and the wiring layer 40. The metal substrate 20 and the wiring layer 40 are insulated by the arrangement of the thermally conductive insulating layer 10.

배선층 (40) 은 메탈 베이스 배선판 재료의 금속박 (30) 을 배선 가공함으로써 얻어진다. 금속박 (30) 의 배선 가공 방법으로서는, 에칭이 공업적으로 바람직하다.The wiring layer 40 is obtained by wiring the metal foil 30 of the metal base wiring board material. As a method for wiring the metal foil 30, etching is industrially preferable.

메탈 베이스 배선판은 전자 부품을 탑재하기 위한 패드부를 제거하고, 솔더 레지스트가 표면에 형성되어 있는 것이 바람직하다. 메탈 베이스 배선판 재료는 회로 가공 및 솔더 레지스트 형성 후에, LED 광원 부재와 같은 전자 부품 탑재 부재의 사이즈로 커트되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 메탈 베이스 배선판의 패드부에 땜납 등의 전기 접속 재료를 도포하고, 전자 부품을 배치한 후에, 땜납 리플로우 공정을 통과함으로써, 전자 부품이 실장된다.It is preferable that the metal base wiring board is formed by removing a pad portion for mounting electronic components and forming a solder resist on the surface. The metal base plate material is preferably cut into a size of an electronic component mounting member such as an LED light source member after circuit processing and formation of a solder resist. For example, an electronic component is mounted by applying an electrical connection material such as solder to the pad portion of the metal base wiring board, arranging the electronic components, and then passing through the solder reflow process.

<LED 광원 부재><LED light source member>

도 3 에, 전자 부품으로서 LED 패키지를 사용했을 때의 LED 광원 부재의 단면 구조를 나타낸다. 도 3 에 나타내는 LED 광원 부재에서는, 금속 기판 (20) 과 배선층 (40) 사이에 열전도성 절연층 (10) 을 구비하고, 배선층 (40) 에 전자 부품 (50) 이 탑재된다. 이 LED 광원 기기를 사용하여, LED 백라이트 유닛 등을 제조할 수 있고, 혹은 LED 전등이나 LED 전구 등을 제조할 수 있다.3 shows a cross-sectional structure of an LED light source member when an LED package is used as an electronic component. In the LED light source member shown in Fig. 3, the heat conductive insulating layer 10 is provided between the metal substrate 20 and the wiring layer 40, and the electronic component 50 is mounted on the wiring layer 40. [ By using this LED light source device, an LED backlight unit or the like can be manufactured, or LED lamps, LED bulbs, and the like can be manufactured.

LED 패키지에서 발생한 열은 땜납 등의 전기 접속 재료, 금속박 (30) 으로 구성되는 패드부, 열전도성 절연층 (10), 금속 기판 (20) 의 순서로 전도하여, 방열시킨다. 본 발명의 수지 조성물 시트의 경화물인 열전도성 절연층 (10) 을 사용함으로써, 패드부로부터 금속 기판으로의 방열성이 향상되어, LED 패키지의 온도 상승을 억제할 수 있다.Heat generated in the LED package is conducted in order of an electrical connecting material such as solder, a pad portion composed of the metal foil 30, a thermally conductive insulating layer 10, and a metal substrate 20 in order to dissipate heat. By using the thermally conductive insulating layer 10 which is a cured product of the resin composition sheet of the present invention, heat radiation from the pad portion to the metal substrate is improved, and temperature rise of the LED package can be suppressed.

실시예Example

이하, 본 발명을 실시예에 의해 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 특별히 언급이 없는 한, 「부」 및 「%」 는 질량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described concretely with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. Unless otherwise stated, "parts" and "%" are on a mass basis.

[실시예 1][Example 1]

<수지 합성예 1>&Lt; Resin Synthesis Example 1 &

교반기, 냉각기, 온도계를 구비한 3 ℓ 의 세퍼러블 플라스크에 레조르시놀 594 g, 카테콜 66 g, 37 % 포르말린 316.2 g, 옥살산 15 g, 물 100 g 을 넣고, 오일 배스에서 가온하면서 100 ℃ 로 승온했다. 환류 온도에서 4 시간 반응을 계속했다.594 g of resorcinol, 66 g of catechol, 316.2 g of 37% formalin, 15 g of oxalic acid and 100 g of water were placed in a 3-liter separable flask equipped with a stirrer, a condenser and a thermometer, It has warmed up. The reaction was continued at reflux temperature for 4 hours.

그 후 물을 증류 제거하면서, 플라스크 내의 온도를 170 ℃ 로 승온했다. 170 ℃ 를 유지하면서 8 시간 반응을 계속했다. 그 후 감압하, 20 분간 농축을 실시하여 계 내의 물 등을 제거하고, 일반식 (I) 로 나타내는 구조 단위를 갖는 페놀 수지를 추출했다. 얻어진 페놀 수지의 수평균 분자량은 530, 중량 평균 분자량은 930 이었다. 또 페놀 수지의 페놀 당량은 65 g/eq. 이었다.Thereafter, while distilling off water, the temperature in the flask was raised to 170 占 폚. The reaction was continued for 8 hours while maintaining the temperature at 170 ° C. Thereafter, the mixture was concentrated under reduced pressure for 20 minutes to remove water and the like in the system, and a phenol resin having a structural unit represented by the general formula (I) was extracted. The phenol resin thus obtained had a number average molecular weight of 530 and a weight average molecular weight of 930. The phenol equivalent of the phenol resin was 65 g / eq. .

<바니시상 수지 조성물>&Lt; Vanishy phase resin composition &gt;

폴리프로필렌제의 1 ℓ 뚜껑이 부착된 용기 중에, 입자직경 D50 이 18 ㎛ 인 절연성 무기 필러 (스미토모 화학 주식회사 제조, 스미코런덤 AA18) 를 56.80 g (63 % (절연성 무기 필러 총 질량에 대해)) 과, 입자직경 D50 이 3 ㎛ 인 절연성 무기 필러 (스미토모 화학 주식회사 제조, 스미코런덤 AA3) 를 20.29 g (22.5 % (절연성 무기 필러 총 질량에 대해)) 과, 입자직경 D50 이 0.4 ㎛ 인 절연성 무기 필러 (스미토모 화학 주식회사 제조, 스미코런덤 AA04) 를 13.07 g (14.5 % (절연성 무기 필러 총 질량에 대해)) 을 칭량하고, 실란 커플링제 (신에츠 화학공업 주식회사 제조, KBM403) 를 0.099 g, 용제로서 2-부타논 (와코 쥰야쿠 주식회사 제조) 을 11.18 g, 분산제 (쿠스모토 화성 주식회사 제조, ED-113) 를 0.180 g, 상기 수지 합성예 1 에서 얻어진 페놀 수지를 5.96 g 첨가하여 교반했다. 또한 비페닐 골격을 갖는 2 관능 에폭시 수지 (미츠비시 화학 주식회사 제조, YL6121H) 를 5.914 g, 나프탈렌계 에폭시 수지 (DIC 주식회사 제조, HP4032D) 를 0.657 g, 이미다졸 화합물 (시코쿠 화성공업 주식회사 제조, 2 PHZ) 을 0.012 g 첨가했다. 또한, 직경 5 ㎜ 의 지르코니아제 볼을 500 g 투입하여, 볼밀 가대(架臺) 상에서 100 rpm 으로 48 시간 교반한 후, 지르코니아제 볼을 여과 분리하고, 바니시상의 수지 조성물 1 을 얻었다. 배합한 각각의 절연성 무기 필러의 입자직경 D50 과 절연성 무기 필러 총 질량에 대한 중량비를 표 1 에 나타낸다.56.80 g (63% (relative to the total mass of the insulating inorganic filler)) of an insulating inorganic filler having a particle diameter D50 of 18 占 퐉 (Sumiko Random A.Ma18, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was placed in a container equipped with a 1 L cap made of polypropylene , 20.29 g (22.5% (relative to the total mass of the insulative inorganic filler)) of an insulating inorganic filler having a particle diameter D50 of 3 占 퐉 (Sumikomo Chemical Co., Ltd., Sumikonomam AA3), and an insulating inorganic filler having a particle diameter D50 13.07 g (14.5% (relative to the total mass of the insulating inorganic filler)) was weighed, and 0.099 g of a silane coupling agent (KBM403 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 2-buta (Manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 0.180 g of a dispersant (ED-113, manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd.) and 5.96 g of the phenol resin obtained in Synthesis Example 1 were added and stirred. 5.914 g of a bifunctional epoxy resin having a biphenyl skeleton (YL6121H manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), 0.657 g of a naphthalene-based epoxy resin (HP4032D, manufactured by DIC Corporation), 2 g of an imidazole compound (2 PHZ manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Was added. Further, 500 g of a ball made of zirconia having a diameter of 5 mm was charged and stirred on a ball mill base at 100 rpm for 48 hours, and then the ball made of zirconia was separated by filtration to obtain a varnish-type resin composition 1. Table 1 shows the particle diameter D50 of each insulating inorganic filler compounded and the weight ratio to the total mass of the insulating inorganic filler.

<점도><Viscosity>

바니시상의 수지 조성물 1 의 25 ℃ 에서의 점도를 B 형 점도계 (스핀들 No 4, 회전수 30 rpm) 로 측정했다. 측정 결과를 표 1 에 나타냈다.The viscosity of the resin composition 1 on the varnish at 25 캜 was measured by a B-type viscometer (spindle No. 4, revolutions 30 rpm). The measurement results are shown in Table 1.

<수지 조성물 시트><Resin Composition Sheet>

상기에서 얻어진 수지 조성물 1 을 바 코터를 사용하여, PET 필름 (테이진 듀퐁 필름사 제조, A53) 상에 도포하고, 100 ℃ 에서 20 분간 건조를 실시했다. 건조 후의 막두께는 50 ㎛ 였다. 건조 후의 수지 조성물 시트를 서로 마주 보게 하여 2 매 재치하고, 롤 라미네이터를 사용하여 110 ℃, 0.3 MPa, 이송 속도 0.3 m/min 으로 적층하고, 평균 두께 100 ㎛ 의 수지 조성물 시트 (B 스테이지 시트) 를 얻었다. 얻어진 수지 조성물 시트는 가요성이 우수하였다.The resin composition 1 obtained above was coated on a PET film (A53 manufactured by Teijin Dupont Film Co., Ltd.) using a bar coater and dried at 100 캜 for 20 minutes. The film thickness after drying was 50 占 퐉. Two sheets of the resin composition sheets after drying were placed facing each other and laminated at 110 DEG C, 0.3 MPa, and a conveying speed of 0.3 m / min using a roll laminator to obtain a resin composition sheet (B stage sheet) having an average thickness of 100 mu m . The resulting resin composition sheet was excellent in flexibility.

<절연성 무기 필러의 함유율><Containing Ratio of Insulating Inorganic Filler>

또, 수지 조성물 시트 중에 있어서의 전체 절연성 무기 필러가 차지하는 비율을 이하와 같이 평가했다. 먼저, 수지 조성물 시트의 중량을 측정하고, 그 수지 조성물 시트를 400 ℃ 2 시간 이어서 700 ℃ 3 시간 소성하고, 수지분을 증발시켜, 잔존한 절연성 무기 필러의 질량을 측정함으로써, 절연성 무기 필러의 수지 조성물 시트 중의 중량비를 평가했다. 이어서, 그 절연성 무기 필러를 수중에 가라앉히고, 수위의 변화로부터 절연성 무기 필러의 체적을 측정했다. 이것으로부터, 절연성 무기 필러의 비중을 평가했다. 이어서, 동일한 방법으로 수지 조성물 시트의 비중을 평가했다. 이어서, 수지 시트 중의 절연성 무기 필러의 중량비를 절연성 무기 필러의 비중으로 나누고, 또한 수지 시트의 비중을 적산한 값을 절연성 무기 필러의 체적 비율로서 평가했다. 평가 결과를 표 1 에 나타낸다.The ratio of the total insulating inorganic filler in the resin composition sheet was evaluated as follows. First, the weight of the resin composition sheet was measured, and the resin composition sheet was baked at 400 DEG C for 2 hours at 700 DEG C for 3 hours, and the resin component was evaporated to measure the mass of the remaining insulating inorganic filler, The weight ratio in the composition sheet was evaluated. Subsequently, the insulating inorganic filler was submerged in water, and the volume of the insulating inorganic filler was measured from the change of the water level. From this, the specific gravity of the insulating inorganic filler was evaluated. Then, the specific gravity of the resin composition sheet was evaluated in the same manner. Then, the weight ratio of the insulating inorganic filler in the resin sheet was divided by the specific gravity of the insulating inorganic filler, and the specific gravity of the resin sheet was integrated to evaluate the volume ratio of the insulating inorganic filler. The evaluation results are shown in Table 1.

<수지 조성물 시트의 최저 용융 점도>&Lt; Minimum melt viscosity of resin composition sheet &gt;

동적 점탄성 장치 (Rheometric Scientific, Inc. 제조, ARES) 에 의해, 수지 조성물 시트의 복소 탄성률의 온도 의존성을 측정하여, 각주파수로 나눔으로써 복소 점도를 구했다.The temperature dependency of the complex elastic modulus of the resin composition sheet was measured by a dynamic viscoelastic device (manufactured by Rheometric Scientific, Inc., ARES), and the temperature was divided by each frequency to obtain a complex viscosity.

PET 필름을 박리한 수지 조성물 시트를 8 매 중첩시키고, 층두께 0.8 ㎜ 인 시트를 측정 샘플로 했다. 측정 샘플을 25 ㎜φ 의 원판상의 측정 지그로 끼우고, 80 ℃ 에서 10 초간, 전단 동작을 실시했다. 그 후, 승온 속도 5 ℃/min, 주파수 10 Hz, 20 ℃ 내지 200 ℃ 의 범위의 복소 점도를 측정했다. 20 ℃ ∼ 200 ℃ 에서의 복소 점도의 최저치를 최저 용융 점도로서 평가했다.Eight sheets of the resin composition sheets on which the PET film was peeled were stacked, and a sheet having a layer thickness of 0.8 mm was used as a measurement sample. The measurement sample was sandwiched by a measuring jig on a disk of 25 mm phi and a shearing operation was performed at 80 DEG C for 10 seconds. Thereafter, the complex viscosity in the temperature raising rate of 5 캜 / min, the frequency of 10 Hz, and the range of 20 캜 to 200 캜 was measured. And the lowest value of the complex viscosity at 20 캜 to 200 캜 was evaluated as the lowest melt viscosity.

<수지 조성물 시트의 오목부 점유율>&Lt; Occlusion Occurrence Rate of Resin Composition Sheet &gt;

수지 조성물 시트의 표면 형상을 3 차원 비접촉 표면 형상 계측 시스템 (료카 시스템사 제조, MM3200) 에 의해 측정했다. 250 ㎛ × 190 ㎛ 의 시야 범위에서 표면 형상의 측정을 실시했다. 측정 화상 데이터에 대해 다항식 근사를 2 차로 한 면 보정을 실시하고, 또한, 면 보정 전의 측정 화상 데이터로부터 근사면을 빼고, 보정 후의 화상 데이터를 얻었다. 이로써, 수지 조성물 시트의 표면 높이의 기울기가 보정되었다. 이어서, 평균 높이 (평탄부) 보다 0.5 ㎛ 낮은 값을 2 치화 임계값 (역치) 으로 한 베어링 해석에 의해, 임계값 (역치) 보다 높은 부분의 면적률을 평가했다. 이로써, 평탄부의 면적률을 평가했다. 이어서, 상기 면적률을 100 % 로부터 차감한 값을 오목부 면적률로서 평가했다. 이 측정 및 조작을 시료에 대해 무작위로 10 회 반복하고, 오목부가 차지하는 면적률을 평균하여, 그 시료의 오목부 점유율로 했다. 그 결과를 표 1 에 나타냈다.The surface shape of the resin composition sheet was measured by a three-dimensional non-contact surface shape measuring system (MM3200, manufactured by Ryoka Corporation). And the surface shape was measured in the field of view of 250 占 퐉 占 190 占 퐉. Polarity approximation to the measured image data was subjected to second-order correction, and the approximated image was subtracted from the measured image data before the surface correction to obtain the corrected image data. Thus, the slope of the surface height of the resin composition sheet was corrected. Then, the area ratio of the portion higher than the threshold value (threshold value) was evaluated by a bearing analysis in which a value 0.5 mu m lower than the average height (flat portion) was set to a binarization threshold value (threshold value). Thus, the area ratio of the flat portion was evaluated. Subsequently, a value obtained by subtracting the area ratio from 100% was evaluated as the concave area ratio. This measurement and manipulation were repeated randomly 10 times with respect to the sample, and the area ratio occupied by the concave portion was averaged to obtain the concave portion occupancy rate of the sample. The results are shown in Table 1.

<메탈 베이스 배선판 재료><Material of metal base board>

PET 를 박리한 500 ㎜ × 600 ㎜ 의 수지 조성물 시트를 550 ㎜ × 650 ㎜ 의 구리박 (닛폰 전해사 제조, 35 ㎛ 두께) 의 조화면측과 500 ㎜ × 600 ㎜ 의 알루미늄 기판 (A5052, 1 ㎜t) 의 사이에 끼우고, 진공 가압 프레스를 사용하여 3 kPa 의 진공하에서 2 MPa 가압으로, 140 ℃ 에서 2 시간, 190 ℃ 에서 2 시간 가압 가열하여, 메탈 베이스 배선판 재료를 얻었다.The resin composition sheet of 500 mm x 600 mm from which the PET was peeled was placed on a roughened screen side of a 550 mm x 650 mm copper foil (35 mu m thick, manufactured by Nippon Electric Works Co., Ltd.) and an aluminum substrate (A5052, t and pressurized under a vacuum of 3 kPa under a pressure of 2 MPa at 140 ° C for 2 hours and 190 ° C for 2 hours using a vacuum press press to obtain a metal base board material.

<열전도성 절연층의 두께의 편차>&Lt; Difference in thickness of thermally conductive insulating layer &

열전도성 절연층의 두께 편차를, 구리박면의 요철의 유무에 의해 평가했다. 또한, 평가 샘플의 메탈 베이스 배선판 재료를 500 ㎜ × 600 ㎜ 로 크게 하면, 열전도성 절연층의 편차는 구리박면의 요철로서 나타난다.The thickness variation of the thermally conductive insulating layer was evaluated based on the presence or absence of irregularities on the copper foil surface. Further, when the metal base board material of the evaluation sample is enlarged to 500 mm x 600 mm, the deviation of the thermally conductive insulating layer appears as the irregularities of the copper foil surface.

<필 강도의 측정><Measurement of Peel Strength>

JIS-C6481 (1996 년도 판) 에 준거하여, 제조한 알루미늄 베이스 기판을 사용하여 90°필의 시험편을 제조했다. 금속 기판을 25 ㎜ × 100 ㎜ 로 잘라내어, 중심 10 ㎜ 폭으로 남긴 구리박 (35 ㎛) 을, 텐실론 인장 시험기 (오리엔테크사 제조 TM-100) 를 사용하여 상온에서 50 ㎜/min 의 속도로 90°의 방향으로 잡아당겨 벗기고 다시(多時)의 평균 하중으로부터 필 강도를 측정했다.According to JIS-C6481 (1996 edition), a 90 占 퐉 test piece was produced using the aluminum base substrate thus produced. The copper foil (35 占 퐉) having a width of 10 mm at the center was cut at a rate of 50 mm / min at room temperature using a tensile tensile tester (TM-100 manufactured by Orientec Co., Ltd.) by cutting the metal substrate to 25 mm x 100 mm. And the peel strength was measured from the average load again (multiple times).

<전기 절연성><Electrical Insulation>

얻어진 메탈 베이스 배선판 재료의 구리박을 20 ㎜φ 의 둥근형 패턴을 남기고, 과황산암모늄 수용액에 의해 에칭했다. 내전압 측정 장치 (Tokyo TOA Electronics Ltd. Japan 제조, Puncture Tester PT-1011) 에 의해, 50 개 이상의 둥근형 패턴의 절연 파괴 전압을 측정했다. 가장 낮은 절연 파괴 전압을 표 1 에 나타냈다.The obtained copper foil of the obtained metal base wiring board material was etched with an ammonium persulfate aqueous solution, leaving a round pattern of 20 mm phi. The breakdown voltage of 50 or more rounded patterns was measured by a withstand voltage measuring device (Puncture Tester PT-1011 manufactured by Tokyo TOA Electronics Ltd. Japan). The lowest dielectric breakdown voltage is shown in Table 1.

<열전도율><Thermal Conductivity>

얻어진 메탈 베이스 배선판 재료의 구리박과 알루미늄 기판을 에칭하여, 본 경화 후의 열전도성 절연층을 얻었다. 구리박의 에칭에는 과황산암모늄 수용액을 사용했다. 알루미늄 기판의 에칭에는 염산을 사용했다. 얻어진 열전도성 절연층의 열전도율을 다음과 같이 하여 구했다.The copper foil and the aluminum substrate of the obtained metal base wiring board material were etched to obtain a thermally conductive insulating layer after final curing. An aqueous ammonium persulfate solution was used for etching the copper foil. Hydrochloric acid was used for etching the aluminum substrate. The thermal conductivity of the resulting thermally conductive insulating layer was determined as follows.

먼저, 온도 파열 분석 장치 (아이페이즈사 제조, 아이페이즈·모바일 1u) 를 사용하여, 온도파의 위상차의 주파수 의존성을 측정했다. 이어서, 주파수의 평방근에 대한 위상차의 기울기를 주파수 200 ∼ 400 Hz 의 범위에서 구했다. 이 위상차의 기울기는 -d(π/α)0. 5 로 동일하고, 그러므로, 열전도성 절연층의 두께 (d) 와 위상차의 기울기로부터 열확산 계수 (α) 를 구했다.First, the frequency dependency of the phase difference of the temperature wave was measured using a temperature rupture analyzer (iphase mobile 1u, manufactured by Eye Phases Inc.). Subsequently, the slope of the phase difference with respect to the square root of the frequency was obtained in the range of frequency 200 to 400 Hz. The slope of the phase difference is -d (π / α) equal to 0.5 and, therefore, was determined the thermal diffusion coefficient (α) from the gradient of the thickness (d) and the phase difference between the heat-conductive insulating layer.

이어서, 비열을 시차주사 열량계 (DSC, Perkin Elmer 사 제조, Ryris 1) 로 측정하고, 밀도를 전자 비중계 (알파 미라주사 제조, SD-200L) 로 측정했다. 그리고, 열전도율 [W/mK] 을 다음 식으로부터 구했다. 얻어진 열전도율을 표 1 에 나타냈다.Then, specific heat was measured with a differential scanning calorimeter (DSC, Ryerson 1, manufactured by Perkin Elmer), and the density was measured with an electronic specific gravity meter (AFMIRA Injection, SD-200L). Then, the thermal conductivity [W / mK] was obtained from the following equation. The obtained thermal conductivity is shown in Table 1.

열전도율 [W/mK] = 열확산률 (열확산 계수 (α)) [㎜2/s] × 비열 [J/kg·K] × 밀도 [g/㎤]Heat conductivity [W / mK] = Thermal Diffusion (Thermal Diffusion Coefficient (α)) [mm 2 / s] × Specific Heat [J / kg · K] × Density [g /

[실시예 2][Example 2]

<수지 조성물><Resin composition>

실시예 1 에 있어서, 알루미나 필러로서 입자직경 D50 이 20 ㎛ 인 알루미나 필러 (쇼와덴코 주식회사 제조, AS-20) 를 62.66 g (69.5 % (알루미나 필러 총 질량에 대해)) 과, 입자직경 D50 이 3 ㎛ 인 알루미나 필러 (스미토모 화학 제조, 스미코런덤 AA3) 를 16.77 g (18.6 % (알루미나 필러 총 질량에 대해)) 과, 입자직경 D50 이 0.4 ㎛ 인 알루미나 필러 (스미토모 화학 제조, 스미코런덤 AA04) 를 10.73 g (11.9 % (알루미나 필러 총 질량에 대해)) 과, 용제로서 2-부타논 (와코 쥰야쿠 주식회사 제조) 을 13.5 g 을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 바니시상의 수지 조성물 2 를 조제하여, 점도를 평가했다. 배합한 각각의 절연성 무기 필러의 입자직경 D50 과 절연성 무기 필러 총 질량에 대한 중량비를 표 1 에 나타낸다.62.66 g (69.5% (relative to the total mass of alumina filler)) of an alumina filler (AS-20, manufactured by Showa Denko K.K.) having a particle diameter D50 of 20 mu m as an alumina filler was obtained in the same manner as in Example 1, 16.77 g (18.6% (relative to the total mass of the alumina filler)) of an alumina filler having a particle diameter D50 of 0.4 mu m (Sumiko Random AA3 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) The varnish-phase resin composition 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 10.73 g (11.9% (relative to the total mass of the alumina filler)) and 13.5 g of 2-butanone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, And the viscosity was evaluated. Table 1 shows the particle diameter D50 of each insulating inorganic filler compounded and the weight ratio to the total mass of the insulating inorganic filler.

<금속박이 부착된 수지 조성물 시트>&Lt; Resin composition sheet with metal foil &

상기에서 얻어진 수지 조성물 2 를 바 코터를 사용하여, 구리박 (닛폰 전해사 제조, 35 ㎛) 의 조화면 상에 도포하고, 100 ℃ 에서 20 분간 건조를 실시했다. 건조 후의 막두께는 100 ㎛ 였다. 건조 후의 수지층 상에 PET 필름 (테이진 듀퐁 필름사 제조, A53) 을 재치하고, 이어서 진공 라미네이터 (메이키 제작소사 제조) 를 사용하여 3 kPa 이하의 진공하, 130 ℃, 1 MPa 가압에 있어서 15 초간 진공 프레스를 실시하고, 금속박이 부착된 수지 조성물 시트 (B 스테이지 시트) 를 얻었다. 금속박이 부착된 수지 조성물 시트에 있어서의 수지 조성물 시트의 평균 두께는 100 ㎛ 였다.The resin composition 2 obtained above was applied on a roughened surface of a copper foil (35 mu m, manufactured by Nippon Denshi Co., Ltd.) using a bar coater and dried at 100 DEG C for 20 minutes. The film thickness after drying was 100 占 퐉. A PET film (manufactured by Teijin Dupont Film Co., Ltd., A53) was placed on the dried resin layer, and then, using a vacuum laminator (manufactured by Meiji Kogyo Co., Ltd.), under vacuum of 3 kPa or less at 130 캜 and 1 MPa Followed by a vacuum press for 15 seconds to obtain a resin composition sheet (B stage sheet) having a metal foil. The average thickness of the resin composition sheet in the resin composition sheet with the metal foil was 100 mu m.

얻어진 금속박이 부착된 수지 조성물 시트는 실시예 1 과 동일한 방법으로 오목부 점유율의 평가를 실시했다.The resulting resin composition sheet with the metal foil was evaluated for the occupancy rate of the concave portion in the same manner as in Example 1. [

또, 실시예 1 과 동일하게 하고, 단, 수지 조성물 시트를 구리박과 알루미늄 기판의 사이에 끼운 것을, 상기 얻어진 금속박이 부착된 수지 조성물 시트에 있어서의 수지 조성물 시트측을 알루미늄 기판에 접촉시키도록 변경하여, 메탈 베이스 배선판 재료를 제조했다.In the same manner as in Example 1 except that the resin composition sheet was sandwiched between the copper foil and the aluminum substrate so that the resin composition sheet side in the resin composition sheet with the metal foil thus obtained was brought into contact with the aluminum substrate To prepare a metal base board material.

얻어진 메탈 베이스 배선판 재료는, 실시예 1 과 동일한 방법으로, 열전도성 절연층의 두께의 편차, 필 강도, 전기 절연성, 및 열전도율의 평가를 실시했다. 평가 결과를 표 1 에 나타냈다.The obtained metal base board material was evaluated in terms of thickness variation, fill strength, electrical insulation, and thermal conductivity of the thermally conductive insulating layer in the same manner as in Example 1. [ The evaluation results are shown in Table 1.

또한, 상기 수지 조성물 2 를 실시예 1 과 동일하게 하여, PET 필름 상에 수지 조성물 시트 (B 스테이지 시트) 를 제조했다. 얻어진 수지 조성물 시트는 가요성이 우수하였다. 얻어진 수지 조성물 시트의 최저 용융 점도를 평가했다. 평가 결과를 표 1 에 나타냈다.Further, a resin composition sheet (B stage sheet) was produced on the PET film in the same manner as in Example 1, except that the above resin composition 2 was used. The resulting resin composition sheet was excellent in flexibility. The minimum melt viscosity of the obtained resin composition sheet was evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.

[실시예 3][Example 3]

실시예 1 에 있어서, 용제로서 2-부타논 (와코 쥰야쿠 주식회사 제조) 을 9.3 g, 상기 수지 합성예 1 에서 얻어진 페놀 수지를 5.32 g 첨가하여 교반했다. 또한 비페닐 골격을 갖는 2 관능 에폭시 수지 (미츠비시 화학 주식회사 제조, YL6121H) 를 6.35 g, 나프탈렌계 에폭시 수지 (DIC 주식회사 제조, HP4032D) 를 0.706 g 을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 바니시상의 수지 조성물 3 을 조제하고, 점도를 평가했다. 배합한 각각의 절연성 무기 필러의 입자직경 D50 과 절연성 무기 필러 총 질량에 대한 중량비를 표 1 에 나타낸다.In Example 1, 9.3 g of 2-butanone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a solvent and 5.32 g of the phenol resin obtained in Resin Synthesis Example 1 were added and stirred. Except for using 6.35 g of a bifunctional epoxy resin having a biphenyl skeleton (YL6121H manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and 0.706 g of a naphthalene-based epoxy resin (HP4032D, manufactured by DIC Co., Ltd.) Resin Composition 3 was prepared, and the viscosity was evaluated. Table 1 shows the particle diameter D50 of each insulating inorganic filler compounded and the weight ratio to the total mass of the insulating inorganic filler.

<수지 조성물 시트><Resin Composition Sheet>

상기에서 얻어진 수지 조성물 3 으로 대체한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 2 매 중첩하여 제조한 수지 조성물 시트 (B 스테이지 시트) 를 얻었다. 얻어진 수지 조성물 시트는 가요성이 우수하였다. 얻어진 수지 조성물 시트에 대해, 실시예 1 과 동일한 방법으로, 최저 용융 점도와 오목부 점유율의 평가를 실시했다.A resin composition sheet (B stage sheet) prepared by superposing two sheets was obtained in the same manner as in Example 1, except that the resin composition 3 obtained above was used. The resulting resin composition sheet was excellent in flexibility. The obtained resin composition sheet was evaluated in terms of the lowest melt viscosity and the concave portion occupancy rate in the same manner as in Example 1. [

<메탈 베이스 배선판 재료><Material of metal base board>

또, 실시예 1 과 동일하게 하고, 단, 수지 조성물 시트를 상기 얻어진 수지 조성물 시트로 변경하여, 메탈 베이스 배선판 재료를 제조했다. 얻어진 메탈 베이스 배선판 재료에 있어서, 열전도성 절연층의 두께의 편차, 필 강도, 전기 절연성, 및 열전도율의 평가를 실시예 1 과 동일한 방법으로 실시했다. 평가 결과를 표 1 에 나타냈다.In the same manner as in Example 1, except that the resin composition sheet was changed to the resin composition sheet described above to produce a metal base wiring board material. In the obtained metal base plate material, variations in thickness of the thermally conductive insulating layer, peel strength, electrical insulation, and thermal conductivity were evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

[실시예 4][Example 4]

실시예 1 에 있어서, 용제로서 2-부타논 (와코 쥰야쿠 주식회사 제조) 을 13.7 g 첨가한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 바니시상의 수지 조성물 4 를 조제하고, 점도를 평가했다. 배합한 각각의 절연성 무기 필러의 입자직경 D50 과 절연성 무기 필러 총 질량에 대한 중량비를 표 1 에 나타낸다.A varnish-like resin composition 4 was prepared in the same manner as in Example 1 except that 13.7 g of 2-butanone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added as a solvent in Example 1, and the viscosity was evaluated. Table 1 shows the particle diameter D50 of each insulating inorganic filler compounded and the weight ratio to the total mass of the insulating inorganic filler.

이어서, 실시예 1 과 동일하게 하고, 단 수지 조성물 1 을 수지 조성물 4 로 변경하여, 수지 조성물 시트를 제조했다. 얻어진 수지 조성물 시트는 가요성이 우수하였다. 얻어진 수지 조성물 시트에 대해 실시예 1 과 동일하게, 최저 용융 점도, 및 오목부 점유율의 평가를 실시했다.Subsequently, the resin composition sheet 1 was changed to the resin composition 4 in the same manner as in Example 1 to prepare a resin composition sheet. The resulting resin composition sheet was excellent in flexibility. The obtained resin composition sheet was evaluated in the same manner as in Example 1 for the lowest melt viscosity and concave portion occupancy rate.

또한, 실시예와 동일하게 하여, 상기 얻어진 수지 조성물 시트로 변경하여 메탈 베이스 배선판 재료를 제조하고, 열전도성 절연층의 두께의 편차, 필 강도, 전기 절연성, 및 열전도율의 평가를 실시했다. 평가 결과를 표 1 에 나타냈다.In the same manner as in the examples, the metal base sheet material was produced by changing the resin composition sheet to the obtained resin composition sheet, and the variation in the thickness of the thermally conductive insulating layer, the peel strength, the electrical insulating property and the thermal conductivity were evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.

[실시예 5][Example 5]

실시예 1 에 있어서, 용제로서 2-부타논 (와코 쥰야쿠 주식회사 제조) 을 9.3 g, 상기 수지 합성예 1 에서 얻어진 페놀 수지를 5.32 g 첨가하여 교반했다. 또한 비페닐 골격을 갖는 2 관능 에폭시 수지 (미츠비시 화학 주식회사 제조, YL6121H) 를 6.35 g, 나프탈렌계 에폭시 수지 (DIC 주식회사 제조, HP4032D) 를 0.706 g 을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 바니시상의 수지 조성물 5 를 조제하고, 점도를 평가했다. 배합한 각각의 절연성 무기 필러의 입자직경 D50 과 절연성 무기 필러 총 질량에 대한 중량비를 표 1 에 나타낸다.In Example 1, 9.3 g of 2-butanone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a solvent and 5.32 g of the phenol resin obtained in Resin Synthesis Example 1 were added and stirred. Except for using 6.35 g of a bifunctional epoxy resin having a biphenyl skeleton (YL6121H manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and 0.706 g of a naphthalene-based epoxy resin (HP4032D, manufactured by DIC Co., Ltd.) Resin Composition 5 was prepared, and the viscosity was evaluated. Table 1 shows the particle diameter D50 of each insulating inorganic filler compounded and the weight ratio to the total mass of the insulating inorganic filler.

<수지 조성물 시트><Resin Composition Sheet>

상기에서 얻어진 수지 조성물 5 를 바 코터를 사용하여, PET 필름 (테이진 듀퐁 필름사 제조, A53) 상에 도포하고, 100 ℃ 에서 20 분간 건조를 실시했다. 건조 후의 막두께는 38 ㎛ 였다. 건조 후의 수지 조성물 시트를 서로 마주 보게 하여 2 매 재치하고, 롤 라미네이터를 사용하여 110 ℃, 0.3 MPa, 이송 속도 0.3 m/min 으로 적층하고, 평균 두께 75 ㎛ 의 수지 조성물 시트 (B 스테이지 시트) 를 얻었다. 얻어진 수지 조성물 시트는 가요성이 우수하였다.The resin composition 5 obtained above was applied to a PET film (A53 manufactured by Teijin Dupont Films Co., Ltd.) using a bar coater and dried at 100 占 폚 for 20 minutes. The film thickness after drying was 38 탆. Two sheets of the resin composition sheets after drying were placed facing each other and laminated at 110 DEG C, 0.3 MPa, and a conveying speed of 0.3 m / min using a roll laminator to obtain a resin composition sheet (B stage sheet) having an average thickness of 75 mu m . The resulting resin composition sheet was excellent in flexibility.

<메탈 베이스 배선판 재료><Material of metal base board>

또, 실시예 1 과 동일하게 하고, 단, 수지 조성물 시트를 상기 얻어진 수지 조성물 시트로 변경하여, 메탈 베이스 배선판 재료를 제조했다. 얻어진 메탈 베이스 배선판 재료에 있어서, 열전도성 절연층의 두께의 편차, 필 강도, 전기 절연성, 및 열전도율의 평가를 실시예 1 과 동일한 방법으로 실시했다. 평가 결과를 표 1 에 나타냈다.In the same manner as in Example 1, except that the resin composition sheet was changed to the resin composition sheet described above to produce a metal base wiring board material. In the obtained metal base plate material, variations in thickness of the thermally conductive insulating layer, peel strength, electrical insulation, and thermal conductivity were evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

[실시예 6][Example 6]

실시예 1 에 있어서, 용제로서 2-부타논 (와코 쥰야쿠 주식회사 제조) 을 9.3 g, 상기 수지 합성예 1 에서 얻어진 페놀 수지를 5.32 g 첨가하여 교반했다. 또한 비페닐 골격을 갖는 2 관능 에폭시 수지 (미츠비시 화학 주식회사 제조, YL6121H) 를 6.35 g, 나프탈렌계 에폭시 수지 (DIC 주식회사 제조, HP4032D) 를 0.706 g 을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 바니시상의 수지 조성물 6 을 조제하고, 점도를 평가했다. 배합한 각각의 절연성 무기 필러의 입자직경 D50 과 절연성 무기 필러 총 질량에 대한 중량비를 표 1 에 나타낸다.In Example 1, 9.3 g of 2-butanone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a solvent and 5.32 g of the phenol resin obtained in Resin Synthesis Example 1 were added and stirred. Except for using 6.35 g of a bifunctional epoxy resin having a biphenyl skeleton (YL6121H manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and 0.706 g of a naphthalene-based epoxy resin (HP4032D, manufactured by DIC Co., Ltd.) Resin Composition 6 was prepared and the viscosity was evaluated. Table 1 shows the particle diameter D50 of each insulating inorganic filler compounded and the weight ratio to the total mass of the insulating inorganic filler.

<수지 조성물 시트><Resin Composition Sheet>

상기에서 얻어진 수지 조성물 6 을 바 코터를 사용하여, PET 필름 (테이진 듀퐁 필름사 제조, A53) 상에 도포하고, 100 ℃ 에서 20 분간 건조를 실시했다. 건조 후의 막두께는 63 ㎛ 였다. 건조 후의 수지 조성물 시트를 서로 마주 보게 하여 2 매 재치하고, 롤 라미네이터를 사용하여 110 ℃, 0.3 MPa, 이송 속도 0.3 m/min 으로 적층하여, 평균 두께 125 ㎛ 의 수지 조성물 시트 (B 스테이지 시트) 를 얻었다. 얻어진 수지 조성물 시트는 가요성이 우수하였다.The resin composition 6 obtained above was coated on a PET film (A53 manufactured by Teijin Dupont Film Co., Ltd.) using a bar coater and dried at 100 占 폚 for 20 minutes. The film thickness after drying was 63 탆. Two sheets of the resin composition sheets after drying were placed facing each other and laminated at 110 DEG C, 0.3 MPa, and a conveyance speed of 0.3 m / min using a roll laminator to obtain a resin composition sheet (B stage sheet) having an average thickness of 125 mu m . The resulting resin composition sheet was excellent in flexibility.

<메탈 베이스 배선판 재료><Material of metal base board>

또, 실시예 1 과 동일하게 하고, 단, 수지 조성물 시트를 상기 얻어진 수지 조성물 시트로 변경하여, 메탈 베이스 배선판 재료를 제조했다. 얻어진 메탈 베이스 배선판 재료에 있어서, 열전도성 절연층의 두께의 편차, 필 강도, 전기 절연성, 및 열전도율의 평가를 실시예 1 과 동일한 방법으로 실시했다. 평가 결과를 표 1 에 나타냈다.In the same manner as in Example 1, except that the resin composition sheet was changed to the resin composition sheet described above to produce a metal base wiring board material. In the obtained metal base plate material, variations in thickness of the thermally conductive insulating layer, peel strength, electrical insulation, and thermal conductivity were evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

[실시예 7][Example 7]

무기 충전재 혼합물을 입자직경 D50 이 31 ㎛ 인 알루미나 (AL35-63, 마이크론사 제조, 밀도 3.80 g/㎖) 63 부, 입자직경 D50 이 5 ㎛ 인 알루미나 (AX3-32, 마이크론사 제조, 밀도 3.77 g/㎖) 18 부, 입자직경 D50 이 0.5 ㎛ 인 알루미나 (LS-235, 닛폰 경금속 주식회사 제조, 밀도 3.94 g/㎖) 17 부를, 입자직경 D50 이 0.7 ㎛ 인 진구상 알루미나 (AO802, 주식회사 아드마텍스 제조, 밀도 3.7 g/㎖) 2 부를 혼합 하여 얻었다.63 parts of alumina (AL35-63, manufactured by Micron, density: 3.80 g / ml) having a particle diameter D50 of 31 탆, 63 parts of alumina (AX3-32, manufactured by Micron, density: 3.77 g 17 parts of alumina (LS-235, manufactured by Nippon Light Metal Co., Ltd., density: 3.94 g / ml) having a particle diameter D50 of 0.5 mu m was mixed with 18 parts of a spherical alumina (AO802, Manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., density 3.7 g / ml).

폴리프로필렌제의 100 ㎖ 뚜껑이 부착된 용기 중에, 상기의 무기 충전재 혼합물을 90.16 g 칭량하고, 실란 커플링제 (신에츠 화학공업 주식회사 제조, KBM403) 를 0.099 g, 용제로서 2-부타논 (와코 쥰야쿠 주식회사 제조) 을 14.33 g, 분산제 (쿠스모토 화성 주식회사 제조, ED-113) 를 0.36 g, 상기 수지 합성예 1 에서 얻어진 페놀 수지를 2.62 g (고형분) 첨가하여 교반했다. 또한 비페닐 골격을 갖는 2 관능 에폭시 수지 (미츠비시 화학 주식회사 제조, YL6121H) 를 6.24 g, 나프탈렌계 에폭시 수지 (DIC 주식회사 제조, HP4032D) 를 0.69 g, 이미다졸 화합물 (시코쿠 화성공업 주식회사 제조, 2PZ-CN) 을 0.100 g 첨가했다. 또한, 직경 5 ㎜ 의 알루미나제 볼을 120 g 투입하고, 볼밀 가대 상에서 100 rpm 으로 12 시간 교반한 후, 알루미나제 볼을 여과 분리하여, 바니시상의 수지 조성물 7 을 얻었다.90.16 g of the above inorganic filler mixture was weighed, 0.099 g of a silane coupling agent (KBM403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 2-butanone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a solvent were placed in a 100- (Manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd., ED-113) and 2.62 g (solid content) of the phenol resin obtained in Synthesis Example 1 of the resin were added and stirred. , 6.24 g of a bifunctional epoxy resin having a biphenyl skeleton (YL6121H manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), 0.69 g of a naphthalene-based epoxy resin (HP4032D, manufactured by DIC Corporation), 2 g of an imidazole compound (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., ) Was added thereto. Further, 120 g of alumina ball having a diameter of 5 mm was charged, and the mixture was stirred at 100 rpm for 12 hours on a ball mill base, and then the alumina balls were separated by filtration to obtain a varnish-type resin composition 7.

실시예 1 과 동일하게 하여 점도를 평가했다. 배합한 각각의 절연성 무기 필러의 입자직경 D50 과 절연성 무기 필러 총 질량에 대한 중량비를 표 1 에 나타낸다.The viscosity was evaluated in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the particle diameter D50 of each insulating inorganic filler compounded and the weight ratio to the total mass of the insulating inorganic filler.

이어서, 실시예 1 과 동일하게 하고, 단 수지 조성물 1 을 수지 조성물 7 로 변경하여, 수지 조성물 시트를 제조했다. 얻어진 수지 조성물 시트는 가요성이 우수하였다. 얻어진 수지 조성물 시트에 대해, 실시예 1 과 동일하게 최저 용융 점도, 및 오목부 점유율의 평가를 실시했다.Subsequently, the resin composition 1 was changed to the resin composition 7 in the same manner as in Example 1 to prepare a resin composition sheet. The resulting resin composition sheet was excellent in flexibility. The obtained resin composition sheet was evaluated in the same manner as in Example 1 for the lowest melt viscosity and the concave portion occupancy rate.

또한, 실시예와 동일하게 하여, 상기 얻어진 수지 조성물 시트로 변경하여 메탈 베이스 배선판 재료를 제조하고, 열전도성 절연층의 두께의 편차, 필 강도, 전기 절연성, 및 열전도율의 평가를 실시했다. 평가 결과를 표 1 에 나타냈다.In the same manner as in the examples, the metal base sheet material was produced by changing the resin composition sheet to the obtained resin composition sheet, and the variation in the thickness of the thermally conductive insulating layer, the peel strength, the electrical insulating property and the thermal conductivity were evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.

[실시예 8][Example 8]

1-(3-메틸-4-옥시라닐메톡시페닐)-4-(4-옥시라닐메톡시페닐)-1-시클로헥센 100 질량부와, 상기 수지 합성예 1 에서 얻어진 페놀 수지 (히타치 화성공업 시작품) 32 질량부와, 트리페닐포스핀 1.3 질량부와, KBM-573 (신에츠 화학 공업사 제조) 1.3 질량부와, 알루미나 분말 1483 질량부 (스미토모 화학 주식회사 제조 α-알루미나 분말 ; 평균 입자직경이 18 ㎛ 인 알루미나 979 질량부와, 평균 입자직경이 3 ㎛ 인 알루미나 356 질량부와, 평균 입자직경이 0.4 ㎛ 인 알루미나 148 질량부의 혼합물) 와, 시클로헥사논 300 질량부를 혼합하고, 비닐실란에 의해 소수 처리된 실리카 나노 입자 (아드마텍스사 제조, 상품명 : 아드마나노, 평균 입자직경 : 15 nm, NV : 23 질량%) 슬러리를 고형분 환산으로 15.7 질량부 상당 첨가하고, 바니시상의 수지 조성물 8 을 조정하여, 점도를 평가했다. 배합한 각각의 절연성 무기 필러의 입자직경 D50 과 절연성 무기 필러 총 질량에 대한 중량비를 표 1 에 나타낸다.100 parts by mass of 1- (3-methyl-4-oxiranylmethoxyphenyl) -4- (4-oxiranylmethoxyphenyl) -1-cyclohexene and 100 parts by mass of the phenol resin 1.3 parts by mass of triphenylphosphine, 1.3 parts by mass of KBM-573 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and 1483 parts by mass of alumina powder (α-alumina powder manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., Mu] m of alumina having an average particle diameter of 3 [mu] m, and 148 parts by mass of alumina having an average particle diameter of 0.4 [mu] m, and 300 parts by mass of cyclohexanone were mixed, 15.7 parts by mass of the treated silica nanoparticles (product name: Admanano, average particle diameter: 15 nm, NV: 23 mass%) in terms of solid content was added to the resin composition 8 , And the viscosity He said. Table 1 shows the particle diameter D50 of each insulating inorganic filler compounded and the weight ratio to the total mass of the insulating inorganic filler.

<수지 조성물 시트><Resin Composition Sheet>

수지 조성물에 대해, 어플리케이터로 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 상에 건조 후 두께가 200 ㎛ 가 되도록 도포한 후, 30 분 실온에서 방치하여, 건조시켰다. 온도 100 ℃ 에서, 30 분간 추가로 건조시킨 후, 진공 프레스로 열간 가압 (프레스 온도 120 ℃, 진공도 1 kPa, 프레스압 1 MPa, 처리 시간 1 분) 을 실시하여, 평균 두께 200 ㎛ 인 수지 조성물 시트 (B 스테이지 시트) 를 얻었다. 얻어진 수지 조성물 시트에 대해, 실시예 1 과 동일한 방법으로 최저 용융 점도와 오목부 점유율의 평가를 실시했다.The resin composition was applied on a polyethylene terephthalate (PET) film as an applicator so as to have a thickness of 200 mu m after drying, and then allowed to stand at room temperature for 30 minutes and then dried. After further drying at a temperature of 100 占 폚 for 30 minutes, hot pressing (press temperature of 120 占 폚, vacuum degree of 1 kPa, press pressure of 1 MPa, treatment time of 1 minute) was carried out by a vacuum press to obtain a resin composition sheet (B stage sheet). The obtained resin composition sheet was evaluated for the lowest melt viscosity and the concave portion occupancy rate in the same manner as in Example 1.

<메탈 베이스 배선판 재료><Material of metal base board>

PET 를 박리한 500 ㎜ × 600 ㎜ 의 수지 조성물 시트를 550 ㎜ × 650 ㎜ 의 구리박 (닛폰 전해사 제조, 35 ㎛ 두께) 의 조화면측과 500 ㎜ × 600 ㎜ 의 알루미늄 기판 (A5052, 1 ㎜t) 의 사이에 끼우고, 진공 가압 프레스를 사용하여 3 kPa 의 진공하에서 4 MPa 가압으로 150 ℃ 에서 5 분간 가압 가열했다. 이어서, 대기압 조건하에서 140 ℃ 에서 2 시간, 190 ℃ 에서 2 시간 가열하여, 메탈 베이스 배선판 재료를 얻었다.The resin composition sheet of 500 mm x 600 mm from which the PET was peeled was placed on a roughened screen side of a 550 mm x 650 mm copper foil (35 mu m thick, manufactured by Nippon Electric Works Co., Ltd.) and an aluminum substrate (A5052, t) and heated under vacuum at 4 MPa under a vacuum of 3 kPa at 150 DEG C for 5 minutes using a vacuum press. Subsequently, the substrate was heated at 140 占 폚 for 2 hours and at 190 占 폚 for 2 hours under atmospheric pressure to obtain a metal base wiring board material.

얻어진 메탈 베이스 배선판 재료에 있어서, 열전도성 절연층의 두께의 편차, 필 강도, 전기 절연성, 및 열전도율의 평가를 실시예 1 과 동일한 방법으로 실시했다. 평가 결과를 표 1 에 나타냈다.In the obtained metal base plate material, variations in thickness of the thermally conductive insulating layer, peel strength, electrical insulation, and thermal conductivity were evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

[비교예 1][Comparative Example 1]

실시예 1 에 있어서, 용제로서 2-부타논 (와코 쥰야쿠 주식회사 제조) 을 18.2 g 첨가한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 바니시상의 수지 조성물 9를 조제하고, 점도를 평가했다. 배합한 각각의 절연성 무기 필러의 입자직경 D50 과 절연성 무기 필러 총 질량에 대한 중량비를 표 1 에 나타낸다.A varnish-like resin composition 9 was prepared and the viscosity was evaluated in the same manner as in Example 1 except that 18.2 g of 2-butanone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a solvent was added. Table 1 shows the particle diameter D50 of each insulating inorganic filler compounded and the weight ratio to the total mass of the insulating inorganic filler.

이어서, 실시예 1 과 동일하게 하고, 단 수지 조성물 1 을 수지 조성물 9 로 변경하여, 수지 조성물 시트를 제조했다. 얻어진 수지 조성물 시트는 가요성이 우수하였다. 얻어진 수지 조성물 시트에 대해, 실시예 1 과 동일하게, 최저 용융 점도, 및 오목부 점유율의 평가를 실시했다.Subsequently, the resin composition 1 was changed to the resin composition 9 in the same manner as in Example 1 to prepare a resin composition sheet. The resulting resin composition sheet was excellent in flexibility. The obtained resin composition sheet was evaluated in the same manner as in Example 1 for the lowest melt viscosity and concave portion occupation rate.

또한, 실시예와 동일하게 하여, 상기 얻어진 수지 조성물 시트로 변경하여 메탈 베이스 배선판 재료를 제조하고, 열전도성 절연층의 두께의 편차, 필 강도, 전기 절연성, 및 열전도율의 평가를 실시했다. 평가 결과를 표 1 에 나타냈다.In the same manner as in the examples, the metal base sheet material was produced by changing the resin composition sheet to the obtained resin composition sheet, and the variation in the thickness of the thermally conductive insulating layer, the peel strength, the electrical insulating property and the thermal conductivity were evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.

[비교예 2][Comparative Example 2]

실시예 2 에 있어서, 용제로서 2-부타논 (와코 쥰야쿠 주식회사 제조) 을 19.3 g 첨가한 것 이외에는 실시예 2 와 동일하게 하여, 바니시상의 수지 조성물 10 을 조제하고, 점도를 평가했다. 배합한 각각의 절연성 무기 필러의 입자직경 D50 과 절연성 무기 필러 총 질량에 대한 중량비를 표 1 에 나타낸다.A varnish-type resin composition 10 was prepared in the same manner as in Example 2 except that 19.3 g of 2-butanone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added as a solvent in Example 2, and the viscosity was evaluated. Table 1 shows the particle diameter D50 of each insulating inorganic filler compounded and the weight ratio to the total mass of the insulating inorganic filler.

이어서, 실시예 1 와 동일하게 하고, 단 수지 조성물 1 을 수지 조성물 10 으로 변경하여, 수지 조성물 시트를 제조했다. 얻어진 수지 조성물 시트는 가요성이 우수하였다. 얻어진 수지 조성물 시트에 대해, 실시예 1 과 동일하게 최저 용융 점도, 및 오목부 점유율의 평가를 실시했다.Subsequently, the resin composition sheet 1 was changed to the resin composition 10 in the same manner as in Example 1 to prepare a resin composition sheet. The resulting resin composition sheet was excellent in flexibility. The obtained resin composition sheet was evaluated in the same manner as in Example 1 for the lowest melt viscosity and the concave portion occupancy rate.

또한, 실시예와 동일하게 하여, 상기 얻어진 수지 조성물 시트로 변경하여 메탈 베이스 배선판 재료를 제조하고, 열전도성 절연층의 두께의 편차, 필 강도, 전기 절연성, 및 열전도율의 평가를 실시했다. 평가 결과를 표 1 에 나타냈다.In the same manner as in the examples, the metal base sheet material was produced by changing the resin composition sheet to the obtained resin composition sheet, and the variation in the thickness of the thermally conductive insulating layer, the peel strength, the electrical insulating property and the thermal conductivity were evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.

Figure 112013065116029-pct00011
Figure 112013065116029-pct00011

표 1 로부터 실시예 1 ∼ 8 의 수지 조성물 시트의 경화물은, 비교예 1 ∼ 2 에 비해, 열전도율과 전기 절연성이 우수한 것을 알 수 있다.From Table 1, it can be seen that the cured products of the resin composition sheets of Examples 1 to 8 are superior in thermal conductivity and electrical insulating properties to those of Comparative Examples 1 and 2.

또한, 본 발명에 있어서의 수지 조성물 시트는, 열경화성 수지로서 상기 실시예에서 사용한 수지 이외의 것을 사용해도, 표면에 있어서 최대 깊이 0.5 ㎛ 이상인 오목부의 점유율이 면적률로 4 % 이하인 수지 조성물 시트이면 동일한 효과를 얻을 수 있다.The resin composition sheet according to the present invention can be used even if a resin composition sheet other than the resin used in the above-mentioned embodiment is used as the thermosetting resin, and if the resin composition sheet occupies a concave portion having a maximum depth of 0.5 탆 or more at a surface area of 4% Effect can be obtained.

Claims (12)

에폭시 수지와, 페놀 수지와, 절연성 무기 필러를 함유하고,
표면에 있어서의, 최대 깊이 0.5 ㎛ 이상인 오목부의 점유율이 면적률로 4 % 이하이고,
상기 페놀 수지가 하기 일반식 (I) 로 나타내는 구조 단위를 갖고,
상기 페놀 수지를 구성하는 페놀성 화합물인 모노머를 5 질량% ∼ 80 질량% 로 함유하는 수지 조성물 시트.
Figure 112018062290350-pct00016

[일반식 (Ⅰ) 중, R1 은 알킬기, 아릴기, 또는 아르알킬기를 나타내며, R2 및 R3 은 각각 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 아릴기, 또는 아르알킬기를 나타내고, m 은 0 ∼ 2 의 정수를, n 은 1 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.]
An epoxy resin, a phenol resin, and an insulating inorganic filler,
The occupancy rate of the concave portion having the maximum depth of 0.5 占 퐉 or more on the surface is 4% or less in area ratio,
Wherein the phenolic resin has a structural unit represented by the following general formula (I)
And 5% by mass to 80% by mass of a monomer which is a phenolic compound constituting the phenol resin.
Figure 112018062290350-pct00016

Wherein R 1 represents an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, m represents an integer of 0 to 2, And n represents an integer of 1 to 10.]
제 1 항에 있어서,
20 ℃ ∼ 200 ℃ 에서의 최저 용융 점도가 10 ∼ 1000 ㎩·s 인 수지 조성물 시트.
The method according to claim 1,
And a minimum melt viscosity at 20 占 폚 to 200 占 폚 of 10 to 1000 Pa 占 퐏.
제 1 항에 있어서,
상기 절연성 무기 필러가 40 vol% 이상 82 vol% 이하로 함유되는 수지 조성물 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the insulating inorganic filler is contained in an amount of 40 vol% or more and 82 vol% or less.
제 1 항에 있어서,
상기 절연성 무기 필러가 산화알루미늄, 산화마그네슘, 질화붕소, 질화알루미늄, 질화규소, 탄화규소, 및 불화알루미늄의 필러로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 필러인 수지 조성물 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the insulating inorganic filler is at least one kind of filler selected from the group consisting of aluminum oxide, magnesium oxide, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, and aluminum fluoride filler.
제 1 항에 있어서,
상기 에폭시 수지와, 상기 페놀 수지와, 상기 절연성 무기 필러를 함유하는 수지 조성물로 형성되어 이루어지고,
상기 수지 조성물은 점도가 1000 m㎩·s 이상 10000 m㎩·s 이하이며,
상기 수지 조성물을 지지 기판 상에 도포하여 형성되어 이루어지는 수지 조성물 시트.
The method according to claim 1,
A resin composition containing the epoxy resin, the phenol resin, and the insulating inorganic filler,
Wherein the resin composition has a viscosity of 1000 mPa s to 10000 mPa 이하,
A resin composition sheet formed by applying the resin composition on a support substrate.
20 ℃ ∼ 200 ℃ 에서의 최저 용융 점도가 10 ㎩·s ∼ 1000 ㎩·s 이고,
표면에 있어서의, 최대 깊이 0.5 ㎛ 이상인 오목부의 점유율이 면적률로 4 % 이하이고,
하기 일반식 (I) 로 나타내는 구조 단위를 갖는 페놀 수지를 함유하고,
상기 페놀 수지를 구성하는 페놀성 화합물인 모노머를 5 질량% ∼ 80 질량% 로 함유하는 수지 조성물 시트.
Figure 112018062290350-pct00017

[일반식 (Ⅰ) 중, R1 은 알킬기, 아릴기, 또는 아르알킬기를 나타내며, R2 및 R3 은 각각 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 아릴기, 또는 아르알킬기를 나타내고, m 은 0 ∼ 2 의 정수를, n 은 1 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.]
A minimum melt viscosity at 20 ° C to 200 ° C of 10 Pa · s to 1000 Pa · s,
The occupancy rate of the concave portion having the maximum depth of 0.5 占 퐉 or more on the surface is 4% or less in area ratio,
A resin composition comprising a phenol resin having a structural unit represented by the following general formula (I)
And 5% by mass to 80% by mass of a monomer which is a phenolic compound constituting the phenol resin.
Figure 112018062290350-pct00017

Wherein R 1 represents an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, m represents an integer of 0 to 2, And n represents an integer of 1 to 10.]
제 1 항에 있어서,
평균 두께가 20 ㎛ 이상 500 ㎛ 이하인 수지 조성물 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the average thickness of the resin composition sheet is 20 占 퐉 or more and 500 占 퐉 or less.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물 시트와, 금속박을 갖는 금속박이 부착된 수지 조성물 시트.A resin composition sheet according to any one of claims 1 to 7, and a resin composition sheet to which a metal foil having a metal foil is attached. 금속박과,
금속 기판과,
상기 금속박과 상기 금속 기판 사이에, 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물 시트의 경화물인 열전도성 절연층을 갖는 메탈 베이스 배선판 재료.
Metal foil,
A metal substrate,
A metal base wiring board material having a thermally conductive insulating layer as a cured product of the resin composition sheet according to any one of claims 1 to 7 between the metal foil and the metal substrate.
배선층과,
금속 기판과,
상기 배선층과 상기 금속 기판 사이에, 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물 시트의 경화물인 열전도성 절연층을 갖는 메탈 베이스 배선판.
A wiring layer,
A metal substrate,
A metal base wiring board having a thermally conductive insulating layer as a cured product of the resin composition sheet according to any one of claims 1 to 7, between the wiring layer and the metal substrate.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물 시트를 사용하여 형성된 LED 광원 부재.An LED light source member formed using the resin composition sheet according to any one of claims 1 to 7. 삭제delete
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