KR101924540B1 - Alignment Method for Off-axis Reflective Optical System - Google Patents
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Abstract
본 발명은 비축반사광학계의 광학성능을 최대치로 달성하고 체계적으로 미러를 정렬하기 위한 비축 반사광학계 주경 및 부경 정렬 시스템 및 방법에 관한 것으로서, 직선으로 진행하는 광을 방출하는 평행광원(간섭계 광원; 무한거리물체 광원); 상기 평행광원의 광축과 정렬된 평면경; 상기 평행광원을 입사받아 반사시키는 주경; 상기 주경의 외곽 엣지(edge)측에 구성되며 z축에 직각으로 가공된 기준면; 상기 기준면에 의해 정렬된 주경으로부터 입사된 광을 받는 부경; 및 상기 부경으로부터 반사된 광을 받아 간섭무늬를 결상시키는 결상부(간섭계내에 포함)를 포함하여 구성되어 비축반사광학계의 광학성능을 최대치로 달성하고 체계적으로 미러를 정렬하기 위한 비축 반사광학계의 주경 및 부경을 정밀하게 정렬하도록 하여 광량저하 및 점퍼짐함수(point spread function, PSF)의 왜곡을 최소화시킬 수 있는 효과가 있다. The present invention relates to a primary and secondary alignment system and method for non-axis reflective optical systems for achieving maximum optical performance of a non-axis reflective optical system and systematically aligning a mirror, comprising a parallel light source (interferometer light source, Distance object light source); A plane mirror aligned with an optical axis of the parallel light source; A main mirror for receiving and reflecting the parallel light source; A reference surface formed on the edge side of the main mirror and machined perpendicular to the z axis; A sub-diameter receiving the light incident from the main mirror aligned by the reference plane; And an imaging element (included in an interferometer) for imaging the interference fringe by receiving the light reflected from the sub-mirror. The main mirror of the non-axial reflecting optical system for achieving the optical performance of the non- It is possible to minimize the amount of light and minimize the distortion of the point spread function (PSF).
Description
본 발명은 비축 반사광학계 주경 및 부경 정렬 시스템 및 방법에 관한 것으로서, 비축반사광학계의 광학성능을 극대화하기 위한 주경 및 부경의 정렬 시스템 및 방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a primary and secondary alignment system and method for a non-axis reflection optical system, and more particularly, to a primary and secondary alignment system and method for maximizing optical performance of a non-axis reflection optical system.
반사광학계의 전체 광학성능은 주경과 부경의 가공 정밀도 및 정밀한 광축 정렬(collimation)의 여부에 따라 결정된다. 이는 카세그레인 타입(Cassegrain Type)의 대칭형 광학계는 물론, 비축광학계(off-axis)에도 공통적으로 해당한다. 대칭형 광학계의 경우는 비교적 쉽게 광축 정렬이 가능하지만, 비축광학계의 경우는 비대칭형 구조로 인한 정렬 자유도 증가로 인하여, 가공은 물론 정밀한 정렬이 무척 어렵고 많은 시간이 소요된다. 이러한 이유로 비축 광학계를 실제 광학시스템으로 구현하는 것은 일반적으로 무척 어렵다. The overall optical performance of the reflective optical system is determined by the precision of the principal and minor diameters, and whether or not it is precisely collimated. This is common to not only the symmetric type optical system of the Cassegrain type but also the off-axis system. In the case of a symmetrical optical system, alignment of the optical axis is comparatively easy. However, in the case of the non-axis optical system, precise alignment as well as machining is very difficult and time-consuming due to an increase in alignment freedom due to the asymmetric structure. For this reason, it is generally very difficult to realize a non-axial optical system as an actual optical system.
하지만, 비축 반사광학계는 대칭형 카세그레인 타입의 광학계와는 다르게 중심차폐(central obscuration)가 없기 때문에, 차폐로 인하여 발생하는 광량저하 및 점퍼짐함수(point spread function, PSF)의 왜곡 등을 최소화 할 수 있는 많은 장점을 가지고 있다. 또한, 최근에는 비축 반사광학면을 매우 정밀하게 초정밀 가공할 수 있게 되어 가공 정밀도도많이 향상되었다. However, unlike the symmetrical Cassegrain type optical system, the non-axial reflection optical system has no central obscuration, so that it is possible to minimize the amount of light caused by the shielding and distort the point spread function (PSF) It has many advantages. In addition, in recent years, it has become possible to extremely precisely and extremely precisely process the non-shrinking reflective optical surface, thereby improving the processing accuracy.
일반적으로, 비축 반사광학계를 정밀하게 정렬하기 위해 광학 부품이 설치될 스테이지(Stage)에 노브(Knob)가 달린 마이크로미터를 설치하고, 전동으로 광학부품의 위치를 정밀하게 정렬하기 위해 서보 모터와 같은 구동부에 의해 제어되는 마이크로미터가 설치된다. 그러나, 이와 같이 종래 마이크로미터를 이용하여 광학 부품의 위치를 정밀하게 정렬하도록 하는 것은 공간을 많이 필요로 하며, 특히, 적외선 광학계일 경우, 열잡음이 생길 수 있기 때문에 열잡음을 차단하기 위해 극저온 진공 용기 안에서 작동하도록 광학 장치를 구성하여야 하므로 비용이 증가함은 물론, 작업시 위험이 증가한다는 문제점이 있다. In general, a micrometer with a knob is provided on a stage on which optical components are to be installed in order to precisely align the non-reflecting optical system, and a micrometer such as a servo motor And a micrometer controlled by a driving unit is provided. However, in order to precisely align the position of the optical component using the conventional micrometer, a large space is required. Particularly, in the case of an infrared optical system, thermal noise may occur. Therefore, There is a problem that the cost increases and the risk increases during the operation.
이러한 단점을 극복하고자, 광학설계 단계에서 비축 주경과 부경을 정밀하게 정렬할 수 있도록 무초점계(afocal system)로 설계할 수있다. 이는 광학설계단계에서 이미 광학계의 조립 및 정렬까지 고려하는 일원화된 전략이다. 구체적으로, 무초점계 비축 전단 광학계를 간섭계를 이용하여 정밀하게 정렬할 수 있도록 비축 주경의 광학면 가공단계에서 기준면(reference surface)를 초정밀 가공하여, 이것을 간섭계와의 정렬시 기준면으로 사용한다. 이렇게 하여, 비축광학계에서 발생하는 정렬 자유도의 개수를 줄일 수 있으며, 부경의 보상으로 정밀하고 신속한 정렬이 가능하게 된다.To overcome this disadvantage, it is possible to design as afocal system to precisely align the stockpin and the minor diameter in the optical design stage. This is a unified strategy that takes into consideration the assembly and alignment of the optical system already in the optical design stage. Specifically, a reference surface is super-precisely processed in the optical surface machining step of the non-focus main mirror so that the non-focus system non-axial shear optical system can be precisely aligned using an interferometer, and this is used as a reference surface for alignment with the interferometer. In this way, the number of alignment degrees of freedom generated in the non-condensing optical system can be reduced, and precise and quick alignment can be achieved by compensation of the minor diameter.
따라서 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 비축반사광학계의 주경 및 부경을 정밀하게 정렬하여 광학성능을 극대화하고, 따라서, 비축광학계의 장점인 광량저하 및 점퍼짐함수의 왜곡을 최소화시킬 수 있는, 비축 반사광학계 주경 및 부경 정렬 시스템 및 방법을 제공하기 위한 것이다.Therefore, an object of the present invention to solve the problems of the prior art is to maximize optical performance by precisely aligning the principal and minor diameters of the non-axis reflection optical system, thereby minimizing the light amount degradation and the distortion of the jumping function, which are advantages of the non- To provide a non-axis reflective optical system main and sub-alignment system and method.
상술한 목적을 달성하기 위한 비축 반사광학계 주경 및 부경 정렬 시스템은, 직선으로 진행하는 광을 방출하며 상기 부경으로부터 반사된 광을 받아 간섭무늬를 결상시키는 평행광원;In order to accomplish the above object, there is provided a non-axis reflective optical system main and sub-alignment system, comprising: a parallel light source that emits light traveling in a straight line and receives light reflected from the sub-mirror to form an interference fringe;
상기 평행광원의 틸팅을 조절하기 위해 상기 평행광원을 직각으로 입사받아 직각으로 반사되도록 상기 평행광원을 조절하도록 하는 평면경; A plane mirror for receiving the parallel light source at a right angle to adjust the tilting of the parallel light source and controlling the parallel light source to reflect at a right angle;
상기 평행광원을 입사받아 반사시키는 주경; A main mirror for receiving and reflecting the parallel light source;
상기 주경의 외곽 엣지(edge)측에 구성되며 z축에 직각으로 초정밀 가공된 기준면; 및A reference surface formed on the edge side of the main mirror and super-precision machined perpendicularly to the z axis; And
상기 기준면에 의해 정렬된 주경으로부터 입사된 광을 받는 부경;A sub-diameter receiving the light incident from the main mirror aligned by the reference plane;
을 포함하여 구성된다. .
상기 기준면은, 상기 평행광원이 z축의 방향으로 입사하고 z축의 방향으로 반사되면 상기 주경이 정렬된 것으로 인지되도록 구성될 수 있다. The reference plane may be configured such that when the parallel light source is incident in the z-axis direction and is reflected in the z-axis direction, the main mirror is recognized as aligned.
상기 부경은, The sub-
틸트를 보상하면서 부경의 광축을 정렬시키고, 상기 부경을 통해 반사되어 평면경-부경-주경-간섭계로 다시 되돌아가서 상기 평행광원(간섭계에 포함)에 결상되는 간섭무늬를 줄여가면서 상기 부경의 틸팅을 조절하도록 구성될 수 있다. Aligning the optical axis of the sub-lens while compensating for the tilt, and returning to the plane-minor-main-scanning-interferometer after being reflected through the sub-mirror to reduce the interference pattern formed on the parallel light source (included in the interferometer) .
상기 평행광원은, 상기 부경 및 상기 주경을 통해 반사된 광을 결상시키며, 결상된 간섭무늬를 컴퓨터에 의해 분석하고 중심에 간섭무늬가 형성되는 경우에는 부경이 정렬된 것으로 인지되도록 구성될 수 있다. The parallel light source may be configured to image the light reflected through the sub-mirror and the main mirror, analyze the formed interference fringe by a computer, and recognize that the sub-mirror is aligned when the interference fringe is formed at the center.
상술한 목적을 달성하기 위한 비축 반사광학계 주경 및 부경 정렬 방법은, 직선으로 진행하는 광을 방출하는 평행광원(간섭계 광원; 무한거리물체 광원), 상기 평행광원의 광축과 정렬된 평면경; 상기 평행광원을 입사받아 반사시키는 주경, 상기 주경의 외곽 엣지(edge)측에 구성되며 z축에 직각으로 가공된 기준면을 포함하는 비축 반사광학계 주경 및 부경 정렬 방법에 있어서, 상기 평행광원에서 방출된 광을 평면경에 수직되게 입사시키도록 평행광원이 조절되는 단계; 상기 평행광원이 동시에 주경의 엣지에 형성된 상기 기준면에 의해 광축(z축)에 대하여 수평으로 되돌아오도록 상기 주경이 조절되는 단계; 평면경에 의해 광축과 평행으로 입사되도록 조절된 평행광원을 상기 주경으로 입사시키는 단계; 상기 주경부경으로 입사시키는 단계; 및 부경의 틸트를 보상하면서 주경과 부경의 광축을 정렬시키는 단계;를 포함하여 구성된다. According to an aspect of the present invention, there is provided a main reflecting mirror and a sub-mirror aligning method including a parallel light source (interferometer light source, infinite distance object light source) for emitting a linearly traveling light, a plane mirror aligned with an optical axis of the parallel light source, A main mirror for receiving and reflecting the parallel light source, and a reference surface formed on the edge side of the main mirror and machined at a right angle to the z axis, the method comprising the steps of: Adjusting a parallel light source such that light is incident perpendicularly to the plane of the plane; Adjusting the main mirror so that the parallel light sources simultaneously return horizontally with respect to the optical axis (z axis) by the reference surface formed at the edge of the main mirror; Entering a parallel light source adjusted to be incident on the main axis in parallel with the optical axis by a plane mirror; Entering at the main diameter; And aligning the optical axes of the main and sub-lenses while compensating the tilt of the sub-lens.
평행광원이 조절되는 단계 이전에, 상기 평행광원이 상기 기준면에 입사하여 z축의 방향으로 입사하여 z축의 방향으로 반사되면 상기 주경이 정렬되도록 가공하는 단계;를 더 포함하여 구성될 수 있다. Processing the collimated light source such that the collimated light source enters the reference surface and enters the z-axis direction and is reflected in the z-axis direction prior to the step of adjusting the collimated light source.
상기 부경의 광축을 정렬시키는 단계는, 상기 부경을 통해 반사되어 평면경-부경-주경을 거쳐 다시 상기 평행광원에 결상되는 간섭무늬를 줄여가면서 상기 부경의 틸팅을 조절하도록 구성될 수 있다. The step of aligning the optical axis of the sub-diameter may be configured to adjust the tilting of the sub-diameter while reducing the interference fringes reflected on the sub-diameter through the planar mirror, the sub-mirror, and the main mirror.
상기 부경의 광축을 정렬시키는 단계는, 상기 부경를 통해 반사된 광이 결상된 상기 평행광원의 간섭무늬를 컴퓨터에 의해 분석하고 결상부의 중심에 간섭무늬가 잘 형성되도록 부경의 틸팅을 조절하도록 구성될 수 있다. The step of aligning the optical axis of the subpixel may be configured to analyze the interference pattern of the parallel light source in which the light reflected through the subpixel is imaged by a computer and adjust the tilting of the subpixel so that interference fringes are well formed in the center of the imaging unit have.
따라서, 본 발명의 비축 반사광학계 주경 및 부경 정렬 시스템 및 방법은, 비축반사광학계의 주경 및 부경을 정밀하게 정렬하고 광학성능을 극대화하여 광량저하 및 점퍼짐함수의 왜곡을 최소화시킬 수 있는 효과가 있다. Therefore, the system and method for aligning main and minor diameters of the non-shrinking optical system of the present invention has the effect of minimizing the distortion of the light quantity drop and the jumping function by maximizing the optical performance by aligning the principal and minor diameters of the non- .
또한, 본 발명의 비축 반사광학계 주경 및 부경 정렬 시스템 및 방법은, 소형위성과 같은 공간적 제약이 있을 경우 사용하는 비축광학계에 있어서, 주경 및 부경을 정밀하고 빠르며 편리하게 정렬이 가능하게 할 수 있다는 효과가 있다. In addition, the system and method for primary and minor alignment of the non-axis reflective optical system of the present invention can be used to precisely, quickly, and conveniently align main and minor diameters in a non-condensing optical system, .
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 비축 반사광학계 주경(기준면포함), 부경, 평면경, 간섭계를 이용한 정렬 장치의 구성을 나타낸 구성도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따라 부경을 틸팅하면서 결상부에 결상된 간섭무늬를 나타낸 도면.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 비축 반사광학계의 주경 및 부경을 정렬 하는 과정을 나타낸 순서도. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an alignment device using a main mirror (including reference plane), a minor diameter, a plane mirror, and an interferometer according to an embodiment of the present invention. FIG.
2 is a view of an interference fringe imaged on a collimator while tilting a sphere according to an embodiment of the present invention.
3 is a flowchart illustrating a process of aligning principal and minor diameters of a non-shrinkage reflection optical system according to an exemplary embodiment of the present invention.
이하, 본 발명의 실시예를 나타내는 첨부 도면을 참조하여 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings showing embodiments of the present invention.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 비축 반사광학계 주경(기준면포함), 부경, 평면경, 간섭계를 이용한 정렬 장치의 구성을 나타낸 구성도이다. FIG. 1 is a configuration diagram showing a configuration of an alignment device using a main mirror (including a reference plane), a minor diameter, a plane mirror, and an interferometer according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면 본 발명의 비축 반사광학계(100)는, 평행광원(110), 평면경(120), 주경(130) 및 부경(140)으로 구성된다. 주경(130)은 z축에 수직인 기준면(132)을 포함하여 구성된다. Referring to FIG. 1, the non-axial reflection
평행광원(110)은 직선으로 평행하게 진행하는 광을 방출하는 광원이다. 평행광원(110)으로부터 방출된 광은 평면파로 생각할 수 있다. The
평행광원(110)의 틸팅이 조절되어 평면경(120)에 직각으로 입사되도록 조절된다.The tilting of the
평면경(120)에 직각으로 입사되도록 조절된 평행광원(110)을 주경(130)으로 입사시킨다. The
이때, 주경(130)의 외곽 엣지(edge)측에는 z축에 직각으로 가공된 기준면(132)을 구성한다. 이때, 기준면(132)은 초정밀 가공(다이아몬드 가공)하여 평행광원(110)이 입사하여 z축의 방향으로 반사되도록 한다. 즉, 기준면(132)은 z축에 수직으로 가공하여 주경(130)의 틸팅을 조절하여 광축과 정렬하게 한다. 평행광원(110)으로부터 평행하게 발사된 광이 주경(130)의 엣지에 형성된 기준면(132)에 의해 평행하게 되돌아오는 경우에는 주경(130)의 틸팅이 적절하게 설정된 것으로 판단할 수 있다. 즉, z축과 일치하게 되돌아오는 경우에는 주경(130)의 틸팅이 적절하게 설정된 것으로 판단할 수 있다. At this time, a
정렬된 주경(130)은 평면경(120)으로부터 입사된 평행광을 부경(140)측으로 입사시킨다. The aligned
부경(140)은 틸트를 보상하면서 부경의 광축의 정렬시킨다. 즉, 부경(140)에 반사되어 평행광원-평면경-부경-주경-평행광원를 통해 결상되는 간섭무늬를 줄여가면서 부경(140)의 틸팅을 조절한다. 즉, 간섭무늬가 결상되는 평행광원(110)의 간섭무늬를 보면서 최적화된 무늬가 생성되는 경우에는 부경(140)의 틸팅이 절적하게 조절된 것으로 판단한다. The
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따라 부경을 틸팅하면서 평행광원에 결상된 간섭무늬를 나타낸 도면이다. 2 is a view showing an interference fringe formed on a parallel light source while tilting a sphere according to an embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면, 부경(140)으로부터 입사되어 다시 평면경(120)을 통해 반사되어 다시 부경(140) 및 주경(130)을 걸쳐 평행광원(110)에 결상되는 간섭무늬가 나타나 있다. 따라서, 부경(140)의 틸팅을 조절하여 최적의 위치와 최적의 간섭무늬를 찾아내어 부경(140)의 틸팅을 조절한다. Referring to FIG. 2, there is shown an interference fringe which is incident on the
즉, 평행광원(110)은 광원으로서의 역할도 하지만 부경(140)를 통해 반사된 광이 결상되는 영역이다. 평행광원(110)는 간섭계내부에 포함되어 있고, 컴퓨터에 의해 분석되어 중심에 간섭무늬가 최소화되는 지점이 부경이 정렬된 것으로 인지될 수 있다. That is, the
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 비축 반사광학계의 주경 및 부경을 정렬 하는 과정을 나타낸 순서도이다. FIG. 3 is a flowchart illustrating a process of aligning principal and minor diameters of a non-shrinkage reflective optical system according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, S202단계에서 전술한 바와 같이, 주경(130)의 엣지측에는 z축에 수직하게 기준면(132)을 가공한다. 기준면(132)은 z축에 수직으로 초정밀 가공하여 주경(130)의 틸팅이 맞추도록 조절된다. 평행광원이 입사하여 z축의 방향으로 반사되면 주경(130)이 정렬된 것으로 볼 수 있다. 한편, 기준면(132)을 가공하는 단계는 정렬시키는 단계 이전이다. Referring to FIG. 3, the
S204단계에서 평행광원(110)에서 방출된 광을 평면경(120)에 수직되게 입사시키도록 평행광원(110)이 조절된다. In step S204, the parallel
S206단계에서 평면경(120)에 의해 직각으로 입사되도록 조절된 평행광원(110)을 주경(130)으로 입사시킨다. In step S206, the parallel
S208단계에서 평행광원(110)으로부터 평행하게 발사된 광이 주경(130)의 엣지에 형성된 기준면(132)에 의해 z축에 대하여 수평으로 되돌아오도록 주경(130)의 틸팅이 조절된다. 이때, 기준면(132)이 z축에 수직하게 입사되는 경우에는 주경(130)의 틸팅이 적절하게 설정된 것으로 판단할 수 있다. The tilting of the
S210단계에서 주경(130)은 평행광원(110)으로부터 입사된 평행광을 부경(140)으로 입사시킨다. In step S210, the
S212단계에서 부경(140)은 틸트를 보상하면서 주경과 부경의 광축의 정렬시킨다. 즉, 부경(140)은 평면경(120), 부경(140) 및 주경(130)을 걸쳐 평행광원(110)에 결상된 간섭무늬를 줄여가면서 부경(140)의 틸팅이 조절된다. 즉, 간섭무늬가 결상되는 평행광원(110)의 간섭무늬를 보면서 최적화된 무늬가 생성되는 경우에는 부경(140)의 틸팅이 절적하게 조절된 것으로 판단한다. In step S212, the
상기 본 발명의 내용은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. will be. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.
110 : 간섭계(평형광원, 결상부) 120 : 평면경
130 : 주경 132 : 기준면
140 : 부경 110: interferometer (balanced light source, imaging unit) 120:
130: main mirror 132: reference plane
140:
Claims (8)
상기 평행광원의 틸팅을 조절하기 위해 상기 평행광원을 직각으로 입사받아 직각으로 반사되도록 상기 평행광원을 조절하도록 하는 평면경;
상기 평행광원을 입사받아 반사시키는 주경;
상기 주경의 외곽 엣지(edge)측에 구성되며 z축에 직각으로 초정밀 가공된 기준면; 및
상기 기준면에 의해 정렬된 주경으로부터 입사된 광을 받는 부경;
을 포함하고,
상기 기준면은, 상기 평행광원이 입사하여 z축의 방향으로 입사하여 z축의 방향으로 반사되면 상기 주경이 정렬된 것으로 인지되는 것인 비축 반사광학계 주경 및 부경 정렬 시스템.A parallel light source that emits light traveling in a straight line and receives light reflected from a sub-mirror to form an interference fringe;
A plane mirror for receiving the parallel light source at a right angle to adjust the tilting of the parallel light source and controlling the parallel light source to reflect at a right angle;
A main mirror for receiving and reflecting the parallel light source;
A reference surface formed on the edge side of the main mirror and super-precision machined perpendicularly to the z axis; And
A sub-diameter receiving the light incident from the main mirror aligned by the reference plane;
/ RTI >
Wherein the reference plane is recognized as the main mirror is aligned when the parallel light source is incident and is incident in the z-axis direction and is reflected in the z-axis direction.
틸트를 보상하면서 상기 부경의 광축을 정렬시키고, 상기 부경을 통해 반사되어 상기 평행광원에 결상되는 간섭무늬를 줄여가면서 상기 부경의 틸팅을 조절하도록 구성되는 것인 비축 반사광학계 주경 및 부경 정렬 시스템.The method according to claim 1,
Wherein the optical system is configured to align the optical axis of the sub-scan while compensating for the tilt, and to adjust the tilting of the sub-scan while reducing interference fringes reflected through the sub-scan and imaged on the parallel light source.
상기 평행광원이 상기 기준면에 입사하여 z축의 방향으로 입사하여 z축의 방향으로 반사되면 상기 주경이 정렬되도록 가공하는 단계;
상기 평행광원에서 방출된 광을 평면경에 수직되게 입사시키도록 평행광원이 조절되는 단계;
상기 평면경에 의해 직각으로 입사되도록 조절된 평행광원을 상기 주경으로 입사시키는 단계;
상기 평행광원으로부터 발사된 광이 상기 주경의 엣지에 형성된 상기 기준면에 의해 z축에 대하여 수평으로 되돌아오도록 상기 주경이 조절되는 단계;
상기 주경은 평행광원으로부터 입사된 평행광을 부경으로 입사시키는 단계; 및
부경의 틸트를 보상하면서 주경과 부경의 광축을 정렬시키는 단계;를 포함하는 비축 반사광학계 주경 및 부경 정렬 방법. A parallel light source that emits light traveling in a straight line, a plane mirror that receives the parallel light source at a right angle to adjust the tilting of the parallel light source and controls the parallel light source to reflect at a right angle, And a reference surface machined at right angles to the z-axis, which is formed on the outer edge side of the main mirror,
Processing the collimated light source such that the collimated light is incident on the reference surface and incident in a z-axis direction and reflected in a z-axis direction so that the main mirror is aligned;
Adjusting a parallel light source to cause the light emitted from the parallel light source to be incident perpendicularly to a plane mirror;
Entering the parallel light source adjusted to be incident at a right angle by the plane mirror into the main mirror;
Adjusting the main mirror so that light emitted from the parallel light source is returned horizontally with respect to the z axis by the reference surface formed at the edge of the main mirror;
The principal plane of the parallel light entering from the parallel light source into the sub-mirror; And
And aligning the optical axis of the main mirror with the optical axis of the submirror while compensating the tilt of the submirror.
틸트를 보상하면서 부경의 광축을 정렬시키고, 상기 부경을 통해 반사되어 상기 상기 평행광원에 결상되는 간섭무늬를 줄여가면서 상기 부경의 틸팅을 조절하는 것인 비축 반사광학계 주경 및 부경 정렬 방법. 6. The method of claim 5, wherein aligning the optical axis of the sub-
Aligning the optical axis of the sub-lens while compensating for tilt, and adjusting the tilting of the sub-mirror while reducing interference fringes reflected through the sub-mirror to form an image on the parallel light source.
부경를 통해 반사된 광이 결상된 상기 평행광원의 간섭무늬를 컴퓨터에 의해 분석하고 결상부의 중심에 간섭무늬가 잘 형성되도록 부경의 틸팅을 조절하는 것인 비축 반사광학계 주경 및 부경 정렬 방법.6. The method of claim 5, wherein aligning the optical axis of the sub-
A computer analyzes the interference pattern of the parallel light source in which light reflected through the sub-image is formed, and adjusts the tilting of the sub-mirror so that the interference fringe is well formed at the center of the image forming portion.
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