KR101919067B1 - Low aberration lens manufacturing method - Google Patents

Low aberration lens manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
KR101919067B1
KR101919067B1 KR1020170054411A KR20170054411A KR101919067B1 KR 101919067 B1 KR101919067 B1 KR 101919067B1 KR 1020170054411 A KR1020170054411 A KR 1020170054411A KR 20170054411 A KR20170054411 A KR 20170054411A KR 101919067 B1 KR101919067 B1 KR 101919067B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
base material
lens base
gas
etching
lens
Prior art date
Application number
KR1020170054411A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20180120450A (en
Inventor
엄재현
장지상
서호철
Original Assignee
세종공업 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세종공업 주식회사 filed Critical 세종공업 주식회사
Priority to KR1020170054411A priority Critical patent/KR101919067B1/en
Publication of KR20180120450A publication Critical patent/KR20180120450A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101919067B1 publication Critical patent/KR101919067B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/0087—Simple or compound lenses with index gradient
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/18—Optical objectives specially designed for the purposes specified below with lenses having one or more non-spherical faces, e.g. for reducing geometrical aberration
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/0006—Arrays
    • G02B3/0012—Arrays characterised by the manufacturing method
    • G02B3/0025—Machining, e.g. grinding, polishing, diamond turning, manufacturing of mould parts

Abstract

본 발명에 의한 저수차렌즈는, 평판 형상으로 형성되며, 일면에 다수 개의 식각홈이 형성되는 렌즈모재; 상기 렌즈모재와 굴절률이 상이한 재료로 제작되어, 상기 식각홈에 채워지는 매질;을 포함하되, 상기 다수 개의 식각홈은 상기 렌즈모재의 중심부로 갈수록 깊이가 증가하도록 구성된다. 본 발명에 의한 저수차 렌즈 제조방법은, 평판 형상의 렌즈모재 일면에 다수 개의 식각홈을 형성하되, 상기 렌즈모재의 중심부로 갈수록 상기 식각홈을 깊게 형성하는 제1 단계; 상기 다수 개의 식각홈에 상기 렌즈모재와 굴절률이 상이한 매질을 채우는 제2 단계;를 포함한다.A low aberration lens according to the present invention includes: a lens base material formed in a flat plate shape and having a plurality of etched grooves formed on a surface thereof; And a medium made of a material having a refractive index different from that of the lens base material and filled in the etch groove, wherein the etch depths of the plurality of etch grooves are increased to the center of the lens base material. A method of manufacturing a low aberration lens according to the present invention includes the steps of: forming a plurality of etch grooves on one surface of a flat lens base material, the etch grooves being deeply formed toward the center of the lens base material; And filling the plurality of etching grooves with a medium having a refractive index different from that of the lens base material.

Description

저수차 렌즈 제조방법 {Low aberration lens manufacturing method}[0001] The present invention relates to a low aberration lens manufacturing method,

본 발명은 색이나 영상의 왜곡이 최소화되도록 수차가 없거나 매우 낮은 저수차 렌즈 제조방법에 관한 것으로, 더 상세하게는 렌즈모재의 일면에 나노돌기가 형성되되 나노돌기 사이가 매질로 채워진 저수차 렌즈 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a low aberration lens having no aberration and minimizing distortion of colors or images, and more particularly, to a method of manufacturing a low aberration lens in which nano-dots are formed on one surface of a lens base material, ≪ / RTI >

빛의 궤적은 통상적인 렌즈의 표면들의 입력과 출력에서만 변화되고, 렌즈 내부에서는 직선으로 이동하기 때문에, 원하는 이상적인 광학 장치를 형성하는 것은 어렵다. 구면(spherical) 또는 코마(coma)와 같은 단색 수차들(monochromatic aberrations)은 일반적으로 굴절광학을 피할 수 없고, 많은 렌즈 시스템의 사용을 통해 최소화될 수 있다. 렌즈들의 수차 분포들(averration profiles)로 인해 특정 고성능 이미지화(imaging) 장치들에 적용하는데 한계가 있다. 예를 들어, 광학 이미지 시스템들은 적층된 렌즈들을 사용하여 만들어지지만, 최적화 후에 종종 상당한 왜곡이 나타난다.It is difficult to form an ideal optical device as desired because the locus of light changes only at the input and output of ordinary lens surfaces and moves linearly within the lens. Monochromatic aberrations such as spherical or coma generally can not avoid refractive optics and can be minimized through the use of many lens systems. Due to the aberration profiles of the lenses, there are limitations in applying them to certain high performance imaging devices. For example, optical imaging systems are made using stacked lenses, but often after optimization there is significant distortion.

이러한 수차를 제거하기 위해 다수의 렌즈를 사용하는 방법이나 비구면 렌즈를 사용하는 방법, 굴절률 분포형 렌즈(gradient index lenses)를 사용하는 방법이 있다. 다수의 렌즈를 사용하는 경우에는 부피가 커지는 단점이 있고, 비구면 렌즈를 사용하는 경우에는 비구면 렌즈 제작에 어려움이 있는바, 근래 들어서는 굴절률 분포형 렌즈를 제작하는 기술이 다양하게 개발되고 있다.In order to remove such aberration, there are a method using a plurality of lenses, a method using an aspherical lens, and a method using a gradient index lens. When a large number of lenses are used, there is a disadvantage in that the volume becomes large. In the case of using an aspheric lens, it is difficult to manufacture an aspherical lens. Recently, various techniques for manufacturing a refractive index distribution type lens have been developed.

상기 굴절률 분포형 렌즈는 소재의 굴절율에 변화를 갖도록 구성되므로 차수를 줄이는데 효과적이지만, 제작하는데 많은 시간과 비용이 소요되고 대량생산이 어렵다는 단점이 있다. 이에 따라 최근 들어서는 대량생산이 가능하고 제조가 간단한 저수차 렌즈의 요구가 증가하고 있다.Since the refractive index distribution type lens is configured to have a change in the refractive index of the material, it is effective to reduce the order, but it takes a lot of time and cost to manufacture, and it is difficult to mass-produce. Accordingly, there is an increasing demand for a low-aberration lens that can be mass-produced and is simple to manufacture.

KR 10-2012-0099667 AKR 10-2012-0099667 A

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 평판 형상의 렌즈 모재에 굴절률이 상이한 매질을 메움으로써 수차를 줄일 수 있고, 제조기간 단축 및 제조비용 절감이 가능한 저수차렌즈 제조방법을 제공하는데 목적이 있다.Disclosure of the Invention The present invention has been proposed in order to solve the above problems, and provides a method of manufacturing a low aberration lens capable of reducing aberration by filling a lens material of a flat plate shape with a refractive index different medium, .

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 저수차렌즈는, 평판 형상으로 형성되며, 일면에 다수 개의 식각홈이 형성되는 렌즈모재; 상기 렌즈모재와 굴절률이 상이한 재료로 제작되어, 상기 식각홈에 채워지는 매질;을 포함하되, 상기 다수 개의 식각홈은 상기 렌즈모재의 중심부로 갈수록 깊이가 증가하도록 구성된다.According to an aspect of the present invention, there is provided a low aberration lens including: a lens base material having a flat plate shape and having a plurality of etched grooves formed on a surface thereof; And a medium made of a material having a refractive index different from that of the lens base material and filled in the etch groove, wherein the etch depths of the plurality of etch grooves are increased to the center of the lens base material.

상기 다수 개의 식각홈은 상기 렌즈모재의 중심부로 갈수록 깊이 증가율이 감소하도록 구성된다.The etch depths of the plurality of etch grooves are reduced as the depth of the etch depth increases toward the center of the lens base material.

본 발명에 의한 저수차 렌즈 제조방법은, 평판 형상의 렌즈모재 일면에 다수 개의 식각홈을 형성하되, 상기 렌즈모재의 중심부로 갈수록 상기 식각홈을 깊게 형성하는 제1 단계; 상기 다수 개의 식각홈에 상기 렌즈모재와 굴절률이 상이한 매질을 채우는 제2 단계;를 포함한다.A method of manufacturing a low aberration lens according to the present invention includes the steps of: forming a plurality of etch grooves on one surface of a flat lens base material, the etch grooves being deeply formed toward the center of the lens base material; And filling the plurality of etching grooves with a medium having a refractive index different from that of the lens base material.

상기 제1 단계는, 렌즈모재가 안착되는 안착블록와, 상기 렌즈모재의 상측에 위치되는 나노마스크와, 상기 나노마스크의 상면을 향해 식각가스를 분사하는 가스분사유닛과, 상기 나노마스크와 상기 가스분사유닛 사이를 가로지르도록 장착되되 상기 가스분사유닛에서 분사된 식각가스가 통과하는 개방부가 형성되도록 수평방향으로 슬라이딩되는 개폐날개를 구비하는 가스차단유닛으로 구성되는 식각장치를 이용하되,The first step includes a mounting block on which the lens base material is placed, a nano-mask located on the upper side of the lens base material, a gas injection unit that injects etch gas toward the upper surface of the nano-mask, And a gas shutoff unit which is installed across the units and slides in a horizontal direction so as to form an opening through which the etch gas injected from the gas injection unit passes,

상기 안착블록 상에 렌즈모재를 안착시킨 후 상기 나노마스크를 상기 렌즈모재의 상면에 위치시키는 1-1단계와, 상기 가스분사유닛을 통해 식각가스를 분사하면서 상기 개폐날개를 슬라이딩시킴으로써 상기 렌즈모재의 상면 중 상기 식각가스와 접촉되는 부위의 면적을 증감시키는 1-2단계와, 상기 식각가스에 의한 렌즈모재의 식각이 완료되면 상기 렌즈모재로부터 상기 나노마스크를 탈거시키는 1-3단계로 구성된다.A step (1-1) of placing the lens base material on the mount block and placing the nano mask on the upper surface of the lens base material, and sliding the opening and closing blades while spraying the etching gas through the gas injection unit, 1-2 steps of increasing or decreasing the area of a portion of the upper surface that is in contact with the etching gas; and Step 1-3 of removing the nanomask from the lens base material when the etching of the lens base material by the etching gas is completed.

상기 가스차단유닛은 상기 개방부가 중심부에 형성되도록 상기 개폐날개가 다수 개 구비된 조리개 구조로 구성되고, 상기 1-2단계는, 상기 개폐날개가 슬라이딩되는 동안 상기 개방부의 수직방향 중심축을 중심으로 상기 가스차단유닛을 회전시키는 과정을 더 포함한다.Wherein the gas blocking unit is constituted by a diaphragm structure having a plurality of the opening / closing blades so that the opening portion is formed at a central portion thereof, and wherein the first and second steps are performed while the opening / closing blade is slid, And rotating the gas blocking unit.

상기 가스차단유닛은 상기 개방부의 크기가 사전에 설정된 비율로 증감되도록 상기 개폐날개의 슬라이딩속도가 조절 가능한 구조로 구성되어, 상기 1-2단계는 각 식각홈의 깊이 조절이 가능하도록 구성된다.The gas shutoff unit is structured such that the sliding speed of the opening and closing blades can be adjusted so that the size of the opening portion is increased or decreased by a predetermined ratio. In the step 1-2, the depth of each etching groove can be adjusted.

상기 나노마스크는, 상기 렌즈모재의 상면에 인쇄되는 인쇄패턴으로 적용된다.The nano-mask is applied as a print pattern to be printed on the upper surface of the lens base material.

상기 나노마스크는, 다수 개의 나노홀이 형성된 시트 또는 플레이트 형상으로 형성되어 상기 렌즈모재의 상면에 착탈 가능한 구조로 장착된다.The nano mask is formed in a sheet or plate shape in which a plurality of nano holes are formed, and is mounted in a detachable structure on the upper surface of the lens base material.

본 발명에 의한 저수차 렌즈는 평판 형상의 렌즈 모재에 굴절률이 상이한 매질이 메워지는 구조로 구성되므로 수차가 감소되고, 본 발명에 의한 저수차 렌즈 제조방법을 이용하면 저수차 렌즈의 제조기간 단축 및 제조비용 절감이 가능하다는 장점이 있다.Since the low-aberration lens according to the present invention has a structure in which a medium having a refractive index different from that of the flat lens base material is filled, the aberration is reduced, and when the method for manufacturing a low- It is possible to reduce the manufacturing cost.

도 1은 본 발명에 의한 저수차 렌즈의 제조과정을 도시하는 단면도이다.
도 2는 렌즈모재에 식각홈을 형성하기 위한 식각장치의 측단면도이다.
도 3 내지 도 6는 식각장치를 이용하여 식각홈을 형성하는 과정을 순차적으로 도시한다.
도 7은 가스차단유닛이 조리개 구조로 제작되었을 때 식각홈 형성영역의 형상을 도시하는 평면도이다.
도 8은 도 7에 도시된 가스차단유닛을 회전시켰을 때 식각홈 형성영역의 형상을 도시하는 평면도이다.
도 9는 본 발명에 의한 저수차 렌즈의 제2 실시예를 도시한다.
도 10은 본 발명에 의한 저수차 렌즈의 제3 실시예를 도시한다.1 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of a low-aberration lens according to the present invention.
2 is a side cross-sectional view of an etching apparatus for forming an etching groove in a lens base material.
FIGS. 3 to 6 sequentially show a process of forming an etch groove using an etch apparatus.
7 is a plan view showing the shape of the etching groove forming region when the gas barrier unit is made of a diaphragm structure.
8 is a plan view showing the shape of an etching groove forming region when the gas barrier unit shown in Fig. 7 is rotated.
Fig. 9 shows a second embodiment of the low-aberration lens according to the present invention.
10 shows a third embodiment of a low aberration lens according to the present invention.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 저수차 렌즈 및 그 제조방법의 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the low-aberration lens and the method of manufacturing the same according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 의한 저수차 렌즈의 제조과정을 도시하는 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of a low-aberration lens according to the present invention.

본 발명에 의한 저수차렌즈는 전체적인 형상이 평판 형상을 이루되 색이나 영상 왜곡이 없도록, 렌즈모재(10)의 일측에 굴절률이 상이한 매질(20)이 매립된다는 점에 특징이 있다.The low-aberration lens according to the present invention is characterized in that the medium 20 having a refractive index different from that of the base material 10 is embedded in the lens base material 10 so that the overall shape of the lens is flat, and there is no color or image distortion.

즉, 본 발명에 의한 저수차렌즈는, 평판 형상으로 형성되며 일면에 다수 개의 식각홈(14)이 형성되는 렌즈모재(10)와, 상기 렌즈모재(10)와 굴절률이 상이한 재료로 제작되어, 상기 식각홈(14)에 채워지는 매질(20)을 포함하여 구성되되, 상기 다수 개의 식각홈(14)은 상기 렌즈모재(10)의 중심부로 갈수록 깊이가 증가되는바 렌즈모재(10)의 중심부로 갈수록 매질(20)의 두께가 두꺼워진다는 점에 구성상의 가장 큰 특징이 있다.That is, the low-aberration lens according to the present invention includes a lens base material 10 formed in a flat plate shape and having a plurality of etched grooves 14 formed on a surface thereof, and a lens base material 10 made of a material having a refractive index different from that of the lens base material 10, And a plurality of etching grooves 14 are formed in the central portion of the lens base material 10 so that the depth of the etching groove 14 increases toward the central portion of the base lens material 10, The thickness of the medium 20 becomes thicker as the distance increases.

이때, 상기 매질(20)의 굴절률이 렌즈모재(10)의 굴절률보다 큰 경우 상기 저수차 렌즈는 볼록렌즈의 기능을 하게 되고, 상기 매질(20)의 굴절률이 렌즈모재(10)의 굴절률보다 작은 경우 상기 저수차 렌즈는 오목렌즈의 기능을 하게 된다.When the refractive index of the medium 20 is larger than the refractive index of the lens base material 10, the low aberration lens functions as a convex lens. When the refractive index of the medium 20 is smaller than the refractive index of the lens base material 10 The low aberration lens functions as a concave lens.

한편, 상기 언급한 바와 같이 식각홈(14)은 렌즈모재(10)의 중심부와 가까울수록 깊게 형성되는데, 상기 식각홈(14)의 깊이 증가율이 일정하면 각 식각홈(14)의 바닥면을 연결한 연장선이 렌즈모재(10)의 중심부에서 절곡된 형상 즉, 'V'자 형상을 이루므로, 상기 매질(20)의 두께가 렌즈모재(10)의 중심부에서 급격하게 변하게 되고, 해당 부위를 통과하는 빛이 비정상적으로 굴절되는 심각한 문제가 발생될 수 있다.As described above, the etching grooves 14 are formed deeper the closer to the center of the lens base material 10. When the depth increasing rate of the etching grooves 14 is constant, the bottom surfaces of the etching grooves 14 are connected The thickness of the medium 20 is rapidly changed from the central portion of the lens base material 10 to the center of the lens base material 10, A serious problem may occur in which the light is abnormally refracted.

따라서 상기 다수 개의 식각홈(14)은 상기 렌즈모재(10)의 중심부로 갈수록 깊이 증가율이 감소하도록 즉, 각 식각홈(14)의 바닥면을 연결한 연장선이 하나의 오목한 곡면을 이루도록 형성됨이 바람직하다. 이와 같이 각 식각홈(14)의 바닥면을 연결한 연장선이 하나의 오목한 곡면을 이루도록 하기 위해서는 별도의 식각장치가 요구되는데, 이하 식각장치에 대하여 상세히 설명한다.Therefore, it is preferable that the etch grooves 14 are formed so that the depth of the etch grooves 14 decreases toward the center of the lens base material 10, that is, the extension lines connecting the bottom surfaces of the etch grooves 14 form a concave curved surface Do. A separate etching apparatus is required in order to make the extended line connecting the bottom surfaces of the etching grooves 14 to one concave curved surface. Hereinafter, the etching apparatus will be described in detail.

도 2는 렌즈모재(10)에 식각홈(14)을 형성하기 위한 식각장치의 측단면도이다.2 is a side cross-sectional view of the etching apparatus for forming the etching groove 14 in the lens base material 10.

도 2에 도시된 식각장치는 식각가스를 이용하여 렌즈모재(10)의 표면을 식각함으로서 렌즈모재(10)의 표면에 다수 개의 나노돌기(12)를 한 번에 형성하는 장치로서, 렌즈모재(10)의 각 부위별로 식각홈(14)의 깊이를 상이하게 형성할 수 있다는 점에 특징이 있다.2 is an apparatus for forming a plurality of nano protrusions 12 at one time on the surface of a lens base material 10 by etching the surface of the lens base material 10 using an etching gas, The etching depths of the etching grooves 14 may be different from each other.

즉, 상기 식각장치는, 렌즈모재(10)가 안착되는 안착블록(100)과, 상기 렌즈모재(10)의 상측에 위치되는 나노마스크(200)와, 상기 나노마스크(200)의 상면을 향해 식각가스를 분사하는 가스분사유닛(400)을 기본 구성요소로 구비하되, 상기 나노마스크(200)와 상기 가스분사유닛(400) 사이를 가로지르도록 장착되며 상기 가스분사유닛(400)에서 분사된 식각가스가 통과하는 개방부(320)가 형성되도록 수평방향으로 슬라이딩되는 개폐날개(310)를 구비하는 가스차단유닛(300)을 추가로 구비한다는 점에 구성상의 가장 큰 특징이 있다. 이때, 상기 안착블록(100)과 가스분사유닛(400)은 종래의 식각장치에서도 실질적으로 동일하게 적용되고 있는바, 상기 안착블록(100)과 가스분사유닛(400)의 내부구조 및 작동원리에 대한 상세한 설명은 생략한다.That is, the etching apparatus includes a mounting block 100 on which the lens base material 10 is placed, a nano mask 200 located on the upper side of the lens base material 10, The gas injection unit 400 includes a gas injection unit 400 for injecting an etching gas. The gas injection unit 400 is installed across the nano mask 200 and the gas injection unit 400, And a gas shutoff unit 300 having an opening / closing wing 310 sliding in a horizontal direction so as to form an opening 320 through which an etching gas passes. The mounting block 100 and the gas injection unit 400 are substantially the same in the conventional etching apparatus. The internal structure and operation principle of the mounting block 100 and the gas injection unit 400 A detailed description thereof will be omitted.

도 2에 도시된 바와 같이 가스차단유닛(300)의 개폐날개(310)가 완전히 닫혀져 있는 경우에는 상기 가스차단유닛(300)에 개방부(320)가 형성되지 아니하므로, 가스분사유닛(400)에서 식각가스가 분사되더라도 렌즈모재(10) 측으로는 식각가스가 전달되지 아니한다. 그러나 상기 개폐날개(310)가 일측으로 이동하여 가스차단유닛(300)에 개방부(320)가 형성되면(도 4 참조), 상기 가스분사유닛(400)에서 분사된 식각가스가 개방부(320)를 통해 렌즈모재(10) 측으로 전달되는바, 상기 렌즈모재(10)의 상면은 식각가스에 의해 식각된다. 이때, 상기 렌즈모재(10)의 상면 중 나노마스크(200)에 의해 가려진 부위는 식각가스와 접촉되지 아니하므로 식각되지 아니하고, 나노마스크(200)에 의해 가려지지 아니한 부위만이 식각되어 식각홈(14)을 이루게 되는바, 결과적으로는 나노마스크(200)에 의해 가려져 식각되지 아니한 부위만이 잔존하여 나노돌기(12) 형태를 이루게 된다.When the opening / closing blade 310 of the gas shutoff unit 300 is completely closed as shown in FIG. 2, since the opening 320 is not formed in the gas shutoff unit 300, The etching gas is not transferred to the lens base material 10 even if the etching gas is injected. 4, the etching gas injected from the gas injection unit 400 flows into the opening 320 (see FIG. 4), and the opening part 320 , And the upper surface of the lens base material 10 is etched by the etching gas. At this time, a portion of the upper surface of the lens base material 10 covered with the nano mask 200 is not etched because it is not in contact with the etching gas, and only a portion not covered by the nano mask 200 is etched, 14). As a result, only the portion that is not etched is covered by the nano mask 200 to form a nano protrusion 12.

종래의 식각장치를 이용하는 경우에는 렌즈모재(10)의 일면(본 실시예에서는 상면) 전체가 식각가스와 접촉되므로 렌즈모재(10)의 일면에 형성되는 다수의 나노돌기(12)들이 거의 동일한 길이를 갖게 되지만, 도 2에 도시된 식각장치를 이용하면 렌즈모재(10)의 일면 각 부위별로 식각가스와 접촉되는 시간에 차이가 발생되고, 이에 따라 렌즈모재(10)의 일면에 형성되는 식각홈(14)의 깊이를 각 부위별로 상이하게 조절할 수 있다는 장점이 있다.A plurality of nano protrusions 12 formed on one surface of the lens base material 10 are formed to have substantially the same length as the surface of the lens base material 10 because the entire surface of the lens base material 10 2, the etching time varies depending on the contact angle with respect to the etching gas on the one side of the lens base material 10, and therefore, It is possible to control the depths of the first and second electrodes 14 and 14 differently.

상기 렌즈모재(10)의 상면에 안착되는 나노마스크(200)는, 일정한 패턴을 이루도록 렌즈모재(10)의 상면에 인쇄되는 구조로 구성될 수도 있고, 상기 렌즈모재(10)와 별도로 제작된 후 렌즈모재(10)의 상면에 안착될 수도 있다.The nano mask 200 mounted on the upper surface of the lens base material 10 may be structured to be printed on the upper surface of the lens base material 10 so as to have a predetermined pattern. Or may be mounted on the upper surface of the lens base material 10.

이때, 상기 나노마스크(200)가 렌즈모재(10)의 상면에 인쇄되는 구조로 구성되면 식각이 완료된 이후 상기 나노마스크(200) 제거를 위한 별도의 가공공정이 요구되는바, 상기 나노마스크(200)는 본 실시예에 도시된 바와 같이 다수 개의 나노홀(210)이 형성된 시트 또는 플레이트 형상으로 형성되어 상기 렌즈모재(10)의 상면에 착탈 가능한 구조로 장착됨이 바람직하다. 한편, 상기 나노마스크(200)의 규격과 상기 나노마스크(200)에 형성되는 나노홀(210)의 직경 및 개수는, 렌즈모재(10)의 크기나 렌즈모재(10)에 형성하고자 하는 식각홈(14)의 규격에 따라 다양하게 변경될 수 있다.When the nano mask 200 is printed on the upper surface of the lens base material 10, a separate processing step is required to remove the nano mask 200 after the etching is completed. Is formed in a sheet or plate shape in which a plurality of nanoholes 210 are formed as shown in this embodiment and is detachably mounted on the upper surface of the lens base material 10. The dimensions of the nano-mask 200 and the diameter and number of the nano-holes 210 formed in the nano-mask 200 may vary depending on the size of the lens base material 10, (14).

또한, 상기 식각장치는 상기 개방부(320)의 수직방향 중심축을 중심으로 상기 가스차단유닛(300)을 회전시키는 회전유닛(500)을 더 포함하도록 구성될 수 있는데, 상기 회전유닛(500)의 기능 및 이에 따른 효과에 대해서는 이하 도 7 및 도 8을 참조하여 상세히 설명한다.The etching apparatus may further include a rotation unit 500 that rotates the gas shutoff unit 300 about the center axis of the opening 320 in the vertical direction. The function and the effect therefrom will be described in detail with reference to FIGS. 7 and 8. FIG.

도 3 내지 도 6는 식각장치를 이용하여 나노돌기(12)를 형성하는 과정을 순차적으로 도시한다. 이때 도 3 내지 도 6의 (a)는 가스차단유닛(300)의 평면형상을 도시하고, 도 3 내지 도 6의 (b)는 식각장치의 측면형상을 도시한다.FIGS. 3 to 6 sequentially show the process of forming the nano protrusions 12 by using the etching apparatus. 3 to 6 (a) show the planar shape of the gas barrier unit 300, and Figs. 3 to 6 (b) show the side views of the etching apparatus.

식각장치를 이용하여 렌즈모재(10)의 상면에 다수 개의 나노돌기(12)를 형성하고자 하는 경우에는, 먼저 도 3에 도시된 바와 같이 안착블록(100) 상에 렌즈모재(10)를 안착시킨 후 상기 나노마스크(200)를 상기 렌즈모재(10)의 상면에 위치시킨다. 이때 상기 가스차단유닛(300)은 개방부(320)가 형성되지 아니하도록 개폐날개(310)가 완전히 닫힌 상태를 유지하므로, 가스분사유닛(400)으로부터 식각가스가 분사되더라도 렌즈모재(10)의 상면은 식각가스와 접촉되지 아니하므로 식각이 발생되지 아니한다.When a plurality of nano protrusions 12 are to be formed on the upper surface of the lens base material 10 by using the etching apparatus, as shown in FIG. 3, first, the lens base material 10 is placed on the seating block 100 The nano mask 200 is positioned on the upper surface of the lens base material 10. At this time, the gas shutoff unit 300 maintains the completely closed state of the opening / closing vane 310 so that the opening 320 is not formed, so that even if the etching gas is injected from the gas injection unit 400, Since the top surface is not in contact with the etching gas, etching is not generated.

도 3에 도시된 상태에서 개폐날개(310)가 수평방향으로 슬라이딩되어 중심부에 개방부(320)가 형성되면 가스분사유닛(400)으로부터 분사된 식각가스는 개방부(320)를 통해 나노마스크(200)로 전달되므로, 도 4에 도시된 바와 같이 렌즈모재(10)의 상면 중 나노마스크(200)의 나노홀(210)과 대응되는 부위에 식각홈(14)이 형성된다. 이때 상기 나노마스크(200)에 의해 가려진 부위는 식각가스와 접촉되지 아니하여 식각되지 아니하는바, 결과적으로 식각되지 아니하고 잔존하는 부위가 나노돌기(12) 형태를 이루게 된다.3, when the opening / closing blade 310 is slid in the horizontal direction and the opening 320 is formed in the central portion, the etching gas injected from the gas injection unit 400 is supplied to the nano-mask The etch groove 14 is formed in a portion of the upper surface of the lens base material 10 corresponding to the nanohole 210 of the nano mask 200 as shown in FIG. At this time, the portion covered by the nano mask 200 is not contacted with the etching gas and is not etched. As a result, the portion that is not etched and remains remains in the form of the nano protrusion 12.

한편, 도 4에 도시된 바와 같이 개방부(320)가 가스차단유닛(300)의 중심부에만 작게 형성되는 경우, 상기 렌즈모재(10)는 상면 전체가 식각되는 것이 아니라 상기 개방부(320)의 직하방에 위치하는 부위만이 식각된다.4, when the opening 320 is formed only in the center portion of the gas barrier unit 300, the entire surface of the lens base material 10 is not etched but the entire surface of the opening portion 320 is exposed. Only the portion located in the lower-right room is etched.

도 4에 도시된 상태에서 개폐날개(310)가 더 슬라이딩되어 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이 개방부(320)의 크기가 점진적으로 커지면, 렌즈모재(10)의 상면 중 식각가스와 접촉되는 면적이 증가하게되므로 식각홈(14)이 형성되는 영역도 점차적으로 넓어지게 된다. 이때, 렌즈모재(10)의 상면 중 가운데 부위는 도 4에 도시된 시점부터 식각이 지속되므로 렌즈모재(10)의 상면 가운데 위치하는 식각홈(14)은 매우 깊게 형성되고, 렌즈모재(10)의 상면 중 가장자리 부위는 도 6에 도시된 시점에 이르러서야 식각이 이루어지므로 렌즈모재(10)의 상면 가장자리에 위치하는 식각홈(14)의 깊이는 매우 얕게 형성된다. When the opening / closing blade 310 further slides in the state shown in FIG. 4 and the size of the opening 320 gradually increases as shown in FIGS. 5 and 6, contact with the etching gas in the upper surface of the lens base material 10 The area where the etching grooves 14 are formed is gradually widened. 4, the etch groove 14 positioned in the center of the upper surface of the lens base material 10 is deeply formed, and the lens base material 10 is formed in a very deep manner, The depth of the etching groove 14 located at the upper edge of the lens base material 10 is formed to be very shallow because the edge of the upper surface of the lens base material 10 is etched until the time shown in FIG.

또한 렌즈모재(10)의 가운데 위치하는 식각홈(14)의 깊이와 렌즈모재(10)의 가장자리에 위치하는 식각홈(14)의 깊이 차이는 해당 영역이 식각가스와 접촉되는 시간차에 의해 결정된다. 즉, 상기 개폐날개(310)가 빠르게 슬라이딩되어 렌즈모재(10)의 가운데 부위가 식각되는 시간과 렌즈모재(10)의 가장자리 부위가 식각되는 시간 차이가 적은 경우에는 렌즈모재(10)의 가운데 위치하는 식각홈(14)과 렌즈모재(10)의 가장자리에 위치하는 식각홈(14)은 비슷한 깊이를 갖게 되고, 상기 개폐날개(310)가 천천히 슬라이딩되어 렌즈모재(10)의 가운데 부위가 식각되는 시간과 렌즈모재(10)의 가장자리 부위가 식각되는 시간 차이가 큰 경우에는 렌즈모재(10)의 가운데 위치하는 식각홈(14)과 렌즈모재(10)의 가장자리에 위치하는 식각홈(14)의 깊이 차이가 크게 발생된다. 따라서 상기 식각장치는, 렌즈모재(10)의 가운데 위치하는 식각홈(14)과 렌즈모재(10)의 가장자리에 위치하는 식각홈(14)의 깊이 차이를 사용자가 임의로 조정할 수 있도록, 상기 개폐날개(310)의 슬라이딩속도가 조절 가능한 구조로 구성될 수 있다.The depth difference between the depth of the etch groove 14 located at the center of the lens base material 10 and the depth of the etch groove 14 located at the edge of the lens base material 10 is determined by the time difference in which the region is in contact with the etch gas . That is, when the opening / closing blade 310 slides quickly and the time for etching the center portion of the lens base material 10 and the time for etching the edge portion of the lens base material 10 are small, The etching groove 14 located at the edge of the lens base material 10 has a similar depth and the opening and closing blade 310 is slid slowly so that the center portion of the lens base material 10 is etched The time difference between the etch groove 14 located at the center of the lens base material 10 and the edge of the etch groove 14 located at the edge of the lens base material 10 A large difference in depth is generated. Therefore, in order to allow the user to arbitrarily adjust the depth difference between the etching groove 14 located at the center of the lens base material 10 and the etching groove 14 located at the edge of the lens base material 10, And the sliding speed of the sliding member 310 can be adjusted.

한편, 상기 개폐날개(310)는 개방부(320)의 면적을 점진적으로 증가시킬 수 있다면 어떠한 구조로도 구성될 수 있다. 예를 들어 상기 개방부(320)가 본 실시예에 도시된 바와 같이 가스차단유닛(300)의 가운데 부위에 형성될 수 있도록 상기 개폐날개(310)는 카메라의 조리개 구조로 이루어질 수 있다. 이때, 상기 개폐날개(310)가 조리개 구조로 이루어지는 경우에 대해서는 이하 도 7 및 도 8을 참조하여 상세히 설명한다.Meanwhile, the opening and closing vane 310 may have any structure as long as the area of the opening 320 can be gradually increased. For example, the opening / closing wings 310 may have a diaphragm structure so that the opening 320 may be formed at the center of the gas shutoff unit 300 as shown in the present embodiment. At this time, the case in which the opening and closing vane 310 has a diaphragm structure will be described in detail with reference to FIGS. 7 and 8. FIG.

상기 언급한 바와 같이 식각가스에 의한 렌즈모재(10)의 식각이 완료되면, 상기 렌즈모재(10)로부터 상기 나노마스크(200)를 탈거시킴으로써 다수 개의 식가홈이 형성된 렌즈모재(10)를 얻을 수 있게 된다. As described above, when the etching of the lens base material 10 is completed by the etching gas, the nano-mask 200 is removed from the lens base material 10 to obtain a lens base material 10 having a plurality of diaphragm grooves formed therein .

도 7은 가스차단유닛(300)이 조리개 구조로 제작되었을 때 식각홈 형성영역의 형상을 도시하는 평면도이고, 도 8은 도 7에 도시된 가스차단유닛(300)을 회전시켰을 때 식각홈 형성영역의 형상을 도시하는 평면도이다.FIG. 7 is a plan view showing the shape of the etching groove forming region when the gas blocking unit 300 is manufactured in the iris structure, FIG. 8 is a plan view showing the etching stop groove forming region 300 when the gas blocking unit 300 shown in FIG. Fig.

상기 가스차단유닛(300)이 중심부에 개방부(320)가 형성되도록 상기 개폐날개(310)가 다수 개 구비된 조리개 구조로 구성되는 경우, 상기 개방부(320)는 완전한 원형을 이루는 것이 아니라 다각형(도 7에서는 8각형)을 이루므로, 렌즈모재(10)의 식각홈 형성영역(S) 역시 팔각형을 이루게 된다. 이때, 본 실시예에 도시된 바와 같이 렌즈모재(10)가 원판 형상인 경우 식각홈 형성영역(S)이 다각형을 이루면 렌즈모재(10)의 상면 전체에 걸쳐 식각홈(14)을 균등하게 형성시킬 수 없다는 문제 즉, 식각홈 형성영역(S)을 원형으로 형성하지 못한다는 문제가 발생된다.In the case where the gas shutoff unit 300 is formed in a diaphragm structure having a plurality of the opening and closing blades 310 so that the opening 320 is formed at the central portion thereof, (Octagonal in FIG. 7), the etching groove forming region S of the lens base material 10 is also octagonal. In this case, if the lens base material 10 has a disc shape, the etch groove forming region S has a polygonal shape and the etch groove 14 is uniformly formed over the entire upper surface of the lens base material 10 That is, the problem that the etching groove forming region S can not be formed in a circular shape.

따라서 상기 식각장치는, 상기 가스차단유닛(300)이 조리개 구조로 구성되더라도 즉, 개방부(320)가 다각형 형상을 이루더라도 식각홈 형성영역(S)이 원형으로 형성될 수 있도록, 상기 개폐날개(310)가 슬라이딩되는 동안 상기 개방부(320)의 수직방향 중심축을 중심으로 상기 가스차단유닛(300)이 회전되도록 구성될 수 있다. 이때 가스차단유닛(300)의 회전은 도 2에 도시된 회전유닛(500)에 의해 구현되는데, 상기 회전유닛(500)은 개방부(320)의 수직방향 중심축을 중심으로 가스차단유닛(300) 전체를 회전시킬 수 있다면 어떠한 구조로도 구성될 수 있다.Accordingly, even if the gas shutoff unit 300 is configured to have a diaphragm structure, that is, even if the open portion 320 has a polygonal shape, the etch apparatus may be configured such that the opening / The gas shutoff unit 300 may be rotated about the vertical center axis of the opening 320 while the gas shutoff unit 310 is slid. The rotation of the gas shutoff unit 300 is realized by the rotation unit 500 shown in FIG. 2, which rotates the gas shutoff unit 300 around the vertical central axis of the open part 320, Any structure can be constructed as long as the whole can be rotated.

상기 언급한 바와 같이 가스차단유닛(300)이 회전되면, 개방부(320)가 다각형 형상으로 형성되더라도 도 8에 도시된 바와 같이 식각홈 형성영역(S)이 원형으로 형성될 수 있다는 장점이 있다. 이때, 상기 가스차단유닛(300)의 회전속도는 가스차단유닛(300)의 크기나 개방부(320)의 형상 및 규격 등 여러가지 조건에 따라 다양하게 변경될 수 있다.As described above, even if the opening portion 320 is formed in a polygonal shape, the etching stop groove forming region S can be formed in a circular shape as shown in FIG. 8 when the gas blocking unit 300 is rotated . At this time, the rotational speed of the gas shutoff unit 300 may be variously changed according to various conditions such as the size of the gas shutoff unit 300, the shape and specifications of the open part 320, and the like.

도 9는 본 발명에 의한 저수차 렌즈의 제2 실시예를 도시하고, 도 10은 본 발명에 의한 저수차 렌즈의 제3 실시예를 도시한다.Fig. 9 shows a second embodiment of a low-aberration lens according to the present invention, and Fig. 10 shows a third embodiment of a low-aberration lens according to the present invention.

식각가스가 분사되는 동안 개폐날개(310)가 빠르게 슬라이딩되면 도 9의 (a)에 도시된 바와 같이 중앙부 식각홈(14)과 가장자리 식각홈(14) 깊이 차이가 적어지고, 이에 따라 중심부 매질(20)의 두께가 얇아지므로, 본 발명에 의한 저수차 렌즈의 초점거리가 길어지게 된다. 반대로 식각가스가 분사되는 동안 개폐날개(310)가 천천히 슬라이딩되면 도 9의 (b)에 도시된 바와 같이 중앙부 식각홈(14)과 가장자리 식각홈(14) 깊이 차이가 커지고, 이에 따라 중심부 매질(20)의 두께가 두꺼워지므로, 본 발명에 의한 저수차 렌즈의 초점거리가 짧아지게 된다. 따라서 제작자는 개폐날개(310)의 슬라이딩 속도를 조절함으로써 저수차 렌즈의 초점거리를 조절할 수 있게 된다.9 (a), when the opening / closing blade 310 slides fast during the ejection of the etching gas, the depth difference between the central etching groove 14 and the edge etching groove 14 is small, 20 becomes thinner, the focal length of the low-aberration lens according to the present invention becomes longer. Conversely, when the opening / closing blade 310 slides slowly while the etching gas is injected, the depth difference between the central etching groove 14 and the edge etching groove 14 becomes large as shown in FIG. 9 (b) 20 becomes thick, the focal length of the low aberration lens according to the present invention becomes short. Therefore, the manufacturer can adjust the focal length of the low aberration lens by adjusting the sliding speed of the opening / closing blade 310.

또한, 본 발명에 의한 저수차 렌즈는, 도 10에 도시된 바와 같이 볼록렌즈 형태의 렌즈모재(10)에 매질(20)이 매립되는 구조로 구성될 수 있다. 이와 같은 경우에 있어서도 렌즈모재(10)의 중심부에 위치하는 식각홈(14)은 깊게 형성되고 렌즈모재(10)의 가장자리에 위치하는 식가홈은 얕게 형성되므로, 식각홈(14)의 바닥면을 연장한 선이 하나의 평면을 이루도록 제작할 수도 있다. 즉, 본 발명에 의한 저수차 렌즈는, 렌즈모재(10) 및 매질(20)의 특성이나 용도 등 여러가지 조건에 따라 렌즈모재(10)의 형상 및 식각홈(14)의 깊이가 다양하게 변경 적용될 수 있다.In addition, the low aberration lens according to the present invention may have a structure in which the medium 20 is embedded in the lens base material 10 having a convex lens shape as shown in FIG. The etch groove 14 located at the center of the lens base material 10 is formed deep and the etched groove located at the edge of the lens base material 10 is shallow. It is also possible to make the extended lines form one plane. That is, the shape of the lens base material 10 and the depth of the etching groove 14 may be variously changed depending on various conditions such as characteristics and applications of the lens base material 10 and the medium 20, .

이상, 본 발명을 바람직한 실시예를 사용하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 범위는 특정 실시예에 한정되는 것은 아니며, 첨부된 특허청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the scope of the present invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. It will also be appreciated that many modifications and variations will be apparent to those skilled in the art without departing from the scope of the present invention.

10 : 렌즈모재 12 : 나노돌기
14 : 식각홈 20 : 매질
100 : 안착블록 200 : 나노마스크
210 : 나노홀 300 : 가스차단유닛
310 : 개폐날개 320 : 개방부
400 : 가스분사유닛 500 : 회전유닛10: lens base material 12: nano protrusion
14: etch groove 20: medium
100: Mounting block 200: Nano mask
210: Nano Hall 300: Gas cutoff unit
310: opening and closing blade 320:
400: gas injection unit 500: rotation unit

Claims (8)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 평판 형상의 렌즈모재 일면에 다수 개의 식각홈을 형성하되, 상기 렌즈모재의 중심부로 갈수록 상기 식각홈을 깊게 형성하는 제1 단계; 및
상기 다수 개의 식각홈에 상기 렌즈모재와 굴절률이 상이한 매질을 채우는 제2 단계;를 포함하고,
상기 제1 단계는,
렌즈모재가 안착되는 안착블록와, 상기 렌즈모재의 상측에 위치되는 나노마스크와, 상기 나노마스크의 상면을 향해 식각가스를 분사하는 가스분사유닛과, 상기 나노마스크와 상기 가스분사유닛 사이를 가로지르도록 장착되되 상기 가스분사유닛에서 분사된 식각가스가 통과하는 개방부가 형성되도록 수평방향으로 슬라이딩되는 개폐날개를 구비하는 가스차단유닛으로 구성되는 식각장치를 이용하되,
상기 안착블록 상에 렌즈모재를 안착시킨 후 상기 나노마스크를 상기 렌즈모재의 상면에 위치시키는 1-1단계와, 상기 가스분사유닛을 통해 식각가스를 분사하면서 상기 개폐날개를 슬라이딩시킴으로써 상기 렌즈모재의 상면 중 상기 식각가스와 접촉되는 부위의 면적을 증감시키는 1-2단계와, 상기 식각가스에 의한 렌즈모재의 식각이 완료되면 상기 렌즈모재로부터 상기 나노마스크를 탈거시키는 1-3단계로 구성되는 저수차 렌즈 제조방법.A first step of forming a plurality of etch grooves on one surface of a lens base material of a flat plate shape, and forming the etch grooves deeply toward the center of the lens base material; And
And a second step of filling the plurality of etching grooves with a medium having a refractive index different from that of the lens base material,
In the first step,
A nano-mask disposed above the lens base material; a gas injection unit for injecting etch gas toward the upper surface of the nano-mask; and a gas injection unit for passing the nano-mask and the gas injection unit And an opening / closing blade slidable in a horizontal direction so as to form an opening through which the etching gas injected from the gas injection unit passes,
A step (1-1) of placing the lens base material on the mount block and placing the nano mask on the upper surface of the lens base material, and sliding the opening and closing blades while spraying the etching gas through the gas injection unit, A step 1 or 2 of increasing or decreasing an area of a portion of the upper surface that is in contact with the etching gas and a step 1-3 of removing the nanomask from the lens base material after the etching of the lens base material by the etching gas is completed. A method for manufacturing an aberration lens. 청구항 4에 있어서,
상기 가스차단유닛은 상기 개방부가 중심부에 형성되도록 상기 개폐날개가 다수 개 구비된 조리개 구조로 구성되고,
상기 1-2단계는, 상기 개폐날개가 슬라이딩되는 동안 상기 개방부의 수직방향 중심축을 중심으로 상기 가스차단유닛을 회전시키는 과정을 더 포함하는 저수차 렌즈 제조방법.The method of claim 4,
Wherein the gas shutoff unit comprises a diaphragm structure having a plurality of the open / close blades so that the open portion is formed at the central portion,
The method according to any one of claims 1 to 5, further comprising the step of rotating the gas blocking unit about a vertical central axis of the opening portion while the opening / closing blade is slid. 청구항 4에 있어서,
상기 가스차단유닛은, 상기 개방부의 크기가 사전에 설정된 비율로 증감되도록 상기 개폐날개의 슬라이딩속도가 조절 가능한 구조로 구성되어,
상기 1-2단계는 각 식각홈의 깊이 조절이 가능하도록 구성되는 저수차 렌즈 제조방법.The method of claim 4,
Wherein the gas shutoff unit is structured so that the sliding speed of the opening and closing blades can be adjusted so that the size of the opening portion is increased or decreased in a predetermined ratio,
The method according to any one of claims 1 to 5, wherein depths of the etch grooves are adjustable. 청구항 4에 있어서,
상기 나노마스크는, 상기 렌즈모재의 상면에 인쇄되는 인쇄패턴인 것을 특징으로 하는 저수차 렌즈 제조방법.The method of claim 4,
Wherein the nano-mask is a print pattern printed on the upper surface of the lens base material. 청구항 4에 있어서,
상기 나노마스크는, 다수 개의 나노홀이 형성된 시트 또는 플레이트 형상으로 형성되어 상기 렌즈모재의 상면에 착탈 가능한 구조로 장착되는 것을 특징으로 하는 저수차 렌즈 제조방법.
The method of claim 4,
Wherein the nano-mask is formed in a sheet or plate shape in which a plurality of nano holes are formed, and is mounted in a detachable structure on an upper surface of the lens base material.
KR1020170054411A 2017-04-27 2017-04-27 Low aberration lens manufacturing method KR101919067B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170054411A KR101919067B1 (en) 2017-04-27 2017-04-27 Low aberration lens manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170054411A KR101919067B1 (en) 2017-04-27 2017-04-27 Low aberration lens manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180120450A KR20180120450A (en) 2018-11-06
KR101919067B1 true KR101919067B1 (en) 2018-11-19

Family

ID=64329372

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170054411A KR101919067B1 (en) 2017-04-27 2017-04-27 Low aberration lens manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101919067B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102273084B1 (en) 2018-06-29 2021-07-06 주식회사 엘지화학 Method for plasma etching process using faraday box

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6545808B1 (en) 1997-02-14 2003-04-08 Institut National D'optique Phase mask with spatially variable diffraction efficiency
JP2005266343A (en) * 2004-03-18 2005-09-29 Nippon Zeon Co Ltd Optical member
JP2007133153A (en) 2005-11-10 2007-05-31 Hitachi Ltd Method of manufacturing die for microlens
JP2011215271A (en) 2010-03-31 2011-10-27 Nagoya Univ Diffraction lens
US20130046381A1 (en) 2010-02-09 2013-02-21 Zeev Zalevsky Multi-focal lens
JP2015092234A (en) 2013-09-30 2015-05-14 株式会社豊田中央研究所 Lens and manufacturing method therefor
JP2015172730A (en) * 2014-01-27 2015-10-01 フォアルクス インコーポレイテッドＦｏｒｅｌｕｘ Ｉｎｃ． Photonic apparatus with periodic structures
US9529127B2 (en) 2011-10-18 2016-12-27 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives Method for producing a refractive or diffractive optical device

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6545808B1 (en) 1997-02-14 2003-04-08 Institut National D'optique Phase mask with spatially variable diffraction efficiency
JP2005266343A (en) * 2004-03-18 2005-09-29 Nippon Zeon Co Ltd Optical member
JP2007133153A (en) 2005-11-10 2007-05-31 Hitachi Ltd Method of manufacturing die for microlens
US20130046381A1 (en) 2010-02-09 2013-02-21 Zeev Zalevsky Multi-focal lens
JP2011215271A (en) 2010-03-31 2011-10-27 Nagoya Univ Diffraction lens
US9529127B2 (en) 2011-10-18 2016-12-27 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives Method for producing a refractive or diffractive optical device
JP2015092234A (en) 2013-09-30 2015-05-14 株式会社豊田中央研究所 Lens and manufacturing method therefor
JP2015172730A (en) * 2014-01-27 2015-10-01 フォアルクス インコーポレイテッドＦｏｒｅｌｕｘ Ｉｎｃ． Photonic apparatus with periodic structures

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180120450A (en) 2018-11-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7861999B2 (en) Lens molding apparatus
WO2005116695A1 (en) Light-absorbing member
US9151878B2 (en) Apparatus and method for molding optical lense during a puddle dispensing process
US20150244904A1 (en) Lens with combined barrel and holder
US11448849B2 (en) Optical element with stress distributing supporting structure
JP2006171753A (en) Microlens array sheet using micro machining and method for manufacturing same
US10350793B2 (en) Casting cup assembly for forming an ophthalmic device
KR101919067B1 (en) Low aberration lens manufacturing method
TWI404990B (en) Axis control in toric contact lens production
CN107884850A (en) Without stockyard lens subassembly and manufacture method
KR100964579B1 (en) Polarized lens manufacturing method
CN105182454B (en) Spill spacer wafer hole and wafer level optical module formed therein
US9279916B2 (en) Optical element, imaging apparatus including the element, and method of manufacturing the optical element
JP6732735B2 (en) Manufacturing of optical elements by replication and corresponding replication tools and optical devices
TW200528759A (en) Erecting resin lens array and method of manufacturing the same
JP2005067186A (en) Method for manufacturing polarizing lens, structure of gasket mold used therefor and polarizing lens manufactured by using these
US6866240B2 (en) 16-cavity mold clamp fixture
KR101563190B1 (en) Micro-prism mirror embedded microfluidic channel and manufacturing method for the microfluidic channel
JP4457589B2 (en) Optical apparatus having a transmissive optical element
CN110426761A (en) Cyclic olefine copolymer microlens array with metal diaphragm and preparation method thereof
CN105700049B (en) A kind of prismatic lens and preparation method thereof, backlight module and VR display device
KR101920794B1 (en) Apparatus and method for forming nanoscale protrusion
JP2004341048A (en) Optical reflection mirror
CN111060998A (en) Toric lens, optical element, and image forming apparatus
KR100820349B1 (en) Method for manufacturing microlens array device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right