KR101912450B1 - Laser processing apparatus and optical system of the same - Google Patents

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Abstract

가공 장치가 개시된다. 개시된 가공 장치는 가공 대상물에 복수의 레이저 빔을 조사하는 레이저 가공 장치로서, 레이저 빔을 생성하는 레이저 광원; 상기 레이저 광원으로부터 입사된 레이저 빔을 복수의 레이저 빔으로 분할하는 빔 분할부; 및 상기 빔 분할부에 의해 분할된 복수의 레이저 빔의 간격을 조정하여 가공 대상물에 조사하는 빔 간격 조절부;를 포함하며, 상기 빔 간격 조절부는, 상기 복수의 레이저 빔의 경로에 배치되며, 제1 초점 거리를 가지는 복수의 초점 렌즈와, 상기 복수의 초점 렌즈를 통과한 복수의 레이저 빔을 수용하며, 상기 복수의 초점 렌즈로부터 상기 제1 초점 거리보다 멀게 배치되며, 제2 초점 거리를 가지는 제1 텔레센트릭 광학계와, 상기 제1 텔레센트릭 광학계를 통과한 복수의 레이저 빔을 평행광 형태로 바꾸며, 상기 제1 텔레센트릭 광학계로부터 상기 제2 초점 거리보다 멀게 배치되며, 상기 제2 초점 거리와 다른 제3 초점 거리를 가지는 제2 텔레센트릭 광학계를 포함할 수 있다.A machining apparatus is disclosed. The disclosed processing apparatus is a laser processing apparatus for irradiating a plurality of laser beams to an object, comprising: a laser light source for generating a laser beam; A beam splitter for dividing the laser beam incident from the laser beam source into a plurality of laser beams; And a beam interval adjusting unit adjusting the interval between the plurality of laser beams divided by the beam splitting unit to irradiate the object to be processed, wherein the beam interval adjusting unit is arranged in the path of the plurality of laser beams, A plurality of focal lenses each having one focal length and a plurality of laser beams passing through the plurality of focal lenses, the focal lenses being arranged farther from the plurality of focal lenses than the first focal distance, A second telecentric optical system for converting a plurality of laser beams passed through the first telecentric optical system into parallel light and being disposed at a position farther from the first telecentric optical system than the second focal distance, And a second telecentric optical system having a third focal length different from the distance.

Figure R1020160172899
Figure R1020160172899

Description

멀티빔을 이용한 레이저 가공 장치 및 이에 사용되는 광학계{Laser processing apparatus and optical system of the same}TECHNICAL FIELD The present invention relates to a laser processing apparatus and an optical system using the same,

본 발명은 멀티빔을 이용한 레이저 가공 장치 및 이에 사용되는 광학계에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser machining apparatus using a multi-beam and an optical system used therefor.

기존의 레이저 가공 공정에서 레이저 빔을 가우시안 형태의 레이저 빔으로 집속하여 가공 대상물의 가공면 상에 가우시안 형태를 가지는 레이저 빔을 조사할 수 있다. 이러한 레이저 빔은 단수 개일 수 있다.It is possible to focus a laser beam on a Gaussian laser beam and irradiate a laser beam having a Gaussian shape on the processing surface of the object in the conventional laser processing process. Such a laser beam may be a single number.

일반 반도체 칩이나 대면적 디스플레이에 대한 레이저 가공 과정에서는, 단수 개의 레이저 빔을 이용할 경우, 가공을 위해 복수 회의 가공이 필요하게 된다. 그에 따라, 가공 시간이 증가할 수 있다.In a laser processing process for a general semiconductor chip or a large-area display, when a single laser beam is used, a plurality of processes are required for processing. As a result, the machining time can be increased.

이러한 점을 고려하여, 레이저 가공 장치에서는 복수의 레이저 빔을 가공 대상물에 조사하기 위한 연구가 진행되고 있는 실정이다.In consideration of this point, researches for irradiating a plurality of laser beams to an object to be processed are under way in the laser processing apparatus.

기존에는 복수의 레이저 빔의 간격을 증가시키기 위해서는 복수의 레이저 빔을 반사하는 미러의 사이즈가 커지는 문제점이 있었으며, 반대로 복수의 레이저 빔의 간격을 좁게 하는 과정에서는 공간적인 제약이라는 문제점이 있었다.Conventionally, in order to increase the distance between a plurality of laser beams, there has been a problem that the size of a mirror for reflecting a plurality of laser beams is increased. On the contrary, there is a problem in space limitation in the process of narrowing the intervals of a plurality of laser beams.

본 발명은 가공 대상물에 멀티빔을 조사하는 것으로서, 빔 간격의 조정이 용이하면서도 공간적인 제약을 최소화할 수 있는 광학계 및 이를 포함하는 레이저 가공 장치를 제공한다.The present invention provides an optical system for irradiating an object to be processed with a multi-beam, which can easily adjust a beam interval and minimize a spatial limitation, and a laser processing apparatus including the same.

본 발명의 일 측면에 따른 레이저 가공 장치는, According to an aspect of the present invention,

가공 대상물에 복수의 레이저 빔을 조사하는 레이저 가공 장치로서,A laser processing apparatus for irradiating a plurality of laser beams onto an object to be processed,

레이저 빔을 생성하는 레이저 광원;A laser light source for generating a laser beam;

상기 레이저 광원으로부터 입사된 레이저 빔을 복수의 레이저 빔으로 분할하는 빔 분할부; 및A beam splitter for dividing the laser beam incident from the laser beam source into a plurality of laser beams; And

상기 빔 분할부에 의해 분할된 복수의 레이저 빔의 간격을 조정하여 가공 대상물에 조사하는 빔 간격 조절부;를 포함하며,And a beam interval adjusting unit adjusting the interval of the plurality of laser beams divided by the beam splitting unit to irradiate the object to be processed,

상기 빔 간격 조절부는,The beam-

상기 복수의 레이저 빔의 경로에 배치되며, 제1 초점 거리를 가지는 복수의 초점 렌즈와,A plurality of focus lenses disposed in a path of the plurality of laser beams and having a first focal length,

상기 복수의 초점 렌즈를 통과한 복수의 레이저 빔을 수용하며, 상기 복수의 초점 렌즈로부터 상기 제1 초점 거리보다 멀게 배치되며, 제2 초점 거리를 가지는 제1 텔레센트릭 광학계와,A first telecentric optical system that receives a plurality of laser beams passed through the plurality of focus lenses and is located further from the plurality of focus lenses than the first focus distance and has a second focal length;

상기 제1 텔레센트릭 광학계를 통과한 복수의 레이저 빔을 평행광 형태로 바꾸며, 상기 제1 텔레센트릭 광학계로부터 상기 제2 초점 거리보다 멀게 배치되며, 상기 제2 초점 거리와 다른 제3 초점 거리를 가지는 제2 텔레센트릭 광학계를 포함할 수 있다.A plurality of laser beams passing through the first telecentric optical system are converted into a parallel light beam and are arranged farther from the first telecentric optical system than the second focal distance, And a second telecentric optical system having a second telecentric optical system.

일 실시예에 있어서, 상기 제2 텔레센트릭 광학계의 상기 제3 초점 거리는 상기 제1 텔레센트릭 광학계의 상기 제2 초점 거리보다 짧을 수 있다.In one embodiment, the third focal length of the second telecentric optical system may be shorter than the second focal length of the first telecentric optical system.

일 실시예에 있어서, 상기 제2 텔레센트릭 광학계의 상기 제3 초점 거리는 상기 제1 텔레센트릭 광학계의 상기 제2 초점 거리의 1/3 이하일 수 있다.In one embodiment, the third focal length of the second telecentric optical system may be less than or equal to one third of the second focal length of the first telecentric optical system.

일 실시예에 있어서, 상기 제2 텔레센트릭 렌즈를 통과한 복수의 레이저 빔 사이의 간격은, 상기 복수의 초점 렌즈 사이의 간격보다 작을 수 있다.In one embodiment, the distance between the plurality of laser beams passing through the second telecentric lens may be smaller than the distance between the plurality of focus lenses.

일 실시예에 있어서, 상기 복수의 초점 렌즈는 상기 복수의 레이저 빔의 입사 방향과 수직인 방향으로 이동 가능할 수 있다.In one embodiment, the plurality of focus lenses may be movable in a direction perpendicular to an incident direction of the plurality of laser beams.

일 실시예에 있어서, 상기 복수의 초점 렌즈 사이의 간격은 3 mm ~ 12 mm일 수 있다.In one embodiment, the spacing between the plurality of focus lenses may be between 3 mm and 12 mm.

일 실시예에 있어서, 상기 복수의 초점 렌즈 사이의 간격이 달라짐에 따라, 상기 제2 텔레센트릭 렌즈를 통과한 복수의 레이저 빔 사이의 간격이 달라질 수 있다.In one embodiment, as the distance between the plurality of focus lenses is changed, the interval between the plurality of laser beams passing through the second telecentric lens may be varied.

일 실시예에 있어서, 상기 복수의 초점 렌즈 사이의 간격 변화량은 상기 제2 텔레센트릭 렌즈를 통과한 복수의 레이저 빔 사이의 간격 변화량보다 클 수 있다.In one embodiment, the amount of change in the distance between the plurality of focus lenses may be larger than the amount of change in the distance between the plurality of laser beams passing through the second telecentric lens.

일 실시예에 있어서, 상기 빔 분할부는, 입사된 레이저 빔을 복수의 레이저 빔으로 분할하는 복수의 빔 스플리터와, 분할된 레이저 빔을 반사하는 복수의 반사 미러를 포함할 수 있다.In one embodiment, the beam splitting section may include a plurality of beam splitters for dividing the incident laser beam into a plurality of laser beams, and a plurality of reflection mirrors for reflecting the divided laser beams.

일 실시예에 있어서, 상기 복수의 빔 스플리터 각각에 입사되는 레이저 빔은 단수이며, 상기 복수의 빔 스플리터 각각의 크기는 상기 단수의 레이저 빔의 크기보다 크고 상기 단수의 레이저 빔의 크기의 2배 이하일 수 있다.In one embodiment, the number of the laser beams incident on each of the plurality of beam splitters is a single number, and the size of each of the plurality of beam splitters is larger than the size of the single laser beam and is not more than twice the size of the single laser beam. .

본 발명의 일 측면에 따른 레이저 가공 장치의 광학계는 An optical system of a laser processing apparatus according to an aspect of the present invention includes:

제1 간격을 가지는 복수의 레이저 빔의 간격을 조정하여, 상기 제1 간격과 다른 제2 간격을 가지는 복수의 레이저 빔을 출사하는 빔 간격 조절부를 포함하는 레이저 가공 장치의 광학계로서,And a beam interval adjusting section for adjusting the interval of the plurality of laser beams having the first interval to emit a plurality of laser beams having the second interval different from the first interval,

상기 빔 간격 조절부는,The beam-

상기 복수의 레이저 빔의 경로에 배치되며, 제1 초점 거리를 가지는 복수의 초점 렌즈와,A plurality of focus lenses disposed in a path of the plurality of laser beams and having a first focal length,

상기 복수의 초점 렌즈를 통과한 복수의 레이저 빔을 수용하며, 상기 복수의 초점 렌즈로부터 상기 제1 초점 거리보다 멀게 배치되며, 제2 초점 거리를 가지는 제1 텔레센트릭 광학계와,A first telecentric optical system that receives a plurality of laser beams passed through the plurality of focus lenses and is located further from the plurality of focus lenses than the first focus distance and has a second focal length;

상기 제1 텔레센트릭 광학계를 통과한 복수의 레이저 빔을 평행광 형태로 바꾸며, 상기 제1 텔레센트릭 광학계로부터 상기 제2 초점 거리보다 멀게 배치되며, 상기 제2 초점 거리와 다른 제3 초점 거리를 가지는 제2 텔레센트릭 광학계를 포함할 수 있다.A plurality of laser beams passing through the first telecentric optical system are converted into a parallel light beam and are arranged farther from the first telecentric optical system than the second focal distance, And a second telecentric optical system having a second telecentric optical system.

일 실시예에 있어서, 상기 제2 텔레센트릭 광학계의 상기 제3 초점 거리는 상기 제1 텔레센트릭 광학계의 상기 제2 초점 거리보다 짧을 수 있다.In one embodiment, the third focal length of the second telecentric optical system may be shorter than the second focal length of the first telecentric optical system.

일 실시예에 있어서, 상기 제2 텔레센트릭 광학계의 상기 제3 초점 거리는 상기 제1 텔레센트릭 광학계의 상기 제2 초점 거리의 1/3 이하일 수 있다.In one embodiment, the third focal length of the second telecentric optical system may be less than or equal to one third of the second focal length of the first telecentric optical system.

일 실시예에 있어서, 상기 제2 텔레센트릭 렌즈를 통과한 복수의 레이저 빔 사이의 간격은, 상기 복수의 초점 렌즈 사이의 간격보다 작을 수 있다.In one embodiment, the distance between the plurality of laser beams passing through the second telecentric lens may be smaller than the distance between the plurality of focus lenses.

일 실시예에 있어서, 상기 복수의 초점 렌즈는 상기 복수의 레이저 빔의 입사 방향과 수직인 방향으로 이동 가능할 수 있다.In one embodiment, the plurality of focus lenses may be movable in a direction perpendicular to an incident direction of the plurality of laser beams.

일 실시예에 있어서, 상기 복수의 초점 렌즈 사이의 간격은 3 mm ~ 12 mm일 수 있다.In one embodiment, the spacing between the plurality of focus lenses may be between 3 mm and 12 mm.

일 실시예에 있어서, 상기 복수의 초점 렌즈 사이의 간격이 달라짐에 따라, 상기 제2 텔레센트릭 렌즈를 통과한 복수의 레이저 빔 사이의 간격이 달라질 수 있다.In one embodiment, as the distance between the plurality of focus lenses is changed, the interval between the plurality of laser beams passing through the second telecentric lens may be varied.

일 실시예에 있어서, 상기 복수의 초점 렌즈 사이의 간격 변화량은 상기 제2 텔레센트릭 렌즈를 통과한 복수의 레이저 빔 사이의 간격 변화량보다 클 수 있다.In one embodiment, the amount of change in the distance between the plurality of focus lenses may be larger than the amount of change in the distance between the plurality of laser beams passing through the second telecentric lens.

본 발명의 실시예에 따른 레이저 가공 장치 및 이에 사용되는 레이저 가공 장치의 광학계는, 가공 대상물에 멀티빔을 조사하면서도, 빔 간격의 조정이 용이하면서도 공간적인 제약을 최소화할 수 있다.The laser processing apparatus according to the embodiment of the present invention and the optical system of the laser processing apparatus used therein can easily adjust the beam interval while minimizing spatial constraints while irradiating the object with multi beams.

도 1은 일 실시예에 따른 레이저 가공 장치를 설명하기 위한 개념도이며,
도 2는 도 1의 빔 분할부의 일 예를 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 도 2의 빔 분할부의 작동을 설명하기 위한 도면이다.
도 4은 도 1의 빔 간격 조절부의 일 예를 개념적으로 도시한 도면이다.
도 5는 도 4의 빔 간격 조절부의 작동을 설명하기 위한 도면이다.
도 6a 내지 도 6c는 제1 텔레센트릭 광학계가 다른 제1 텔레센트릭 광학계로 교체됨에 따라, 제2 간격이 조정되는 예를 설명하기 위한 도면이다.1 is a conceptual diagram for explaining a laser machining apparatus according to an embodiment,
FIG. 2 is a view for explaining an example of the beam splitting section of FIG. 1;
FIG. 3 is a view for explaining the operation of the beam splitting section of FIG. 2. FIG.
FIG. 4 is a view conceptually showing an example of the beam interval adjusting unit of FIG. 1. FIG.
5 is a view for explaining the operation of the beam interval adjusting unit of FIG.
6A to 6C are views for explaining an example in which the second distance is adjusted as the first telecentric optical system is replaced with another first telecentric optical system.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 도면에서 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 지칭하며, 각 구성요소의 크기나 두께는 설명의 명료성을 위하여 과장되어 있을 수 있다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, like reference numerals refer to like elements, and the size and thickness of each element may be exaggerated for clarity of explanation.

“제1”, “제2” 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 구성 요소들은 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. “및/또는” 이라는 용어는 복수의 관련된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 항목들 중의 어느 하나의 항목을 포함한다. Terms including ordinals such as " first, " " second, " and the like can be used to describe various elements, but the elements are not limited by terms. Terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component. The term " and / or " includes any combination of a plurality of related items or any of a plurality of related items.

도 1은 일 실시예에 따른 레이저 가공 장치(1)를 설명하기 위한 개념도이며, 도 2는 도 1의 빔 분할부(20)의 일 예를 설명하기 위한 도면이다. 도 3은 도 2의 빔 분할부(20)의 작동을 설명하기 위한 도면이다.FIG. 1 is a conceptual diagram for explaining a laser machining apparatus 1 according to an embodiment. FIG. 2 is a view for explaining an example of the beam splitting section 20 of FIG. FIG. 3 is a view for explaining the operation of the beam splitter 20 of FIG.

도 1을 참조하면, 레이저 가공 장치(1)는 레이저 광원(10), 빔 분할부(20) 및 빔 간격 조절부(30)를 포함한다. 가공 대상물(T)은 작업 테이블(50) 상에 배치될 수 있다.Referring to FIG. 1, the laser processing apparatus 1 includes a laser light source 10, a beam splitter 20, and a beam gap controller 30. The workpiece T can be placed on the work table 50. [

레이저 광원(10)은 레이저 빔(L)을 생성하여 빔 분할부(20)로 전달한다. The laser light source 10 generates a laser beam L and transmits it to the beam splitter 20.

빔 분할부(20)는 입사된 레이저 빔(L)을 복수의 레이저 빔(L1, L2, L3, L4)으로 분할한다. 빔 분할부(20)에 의해 분할된 복수의 레이저 빔(L1, L2, L3, L4)은 레이저 빔의 조사 방향과 수직인 방향으로 제1 간격(G1)을 가질 수 있다. The beam splitter 20 splits the incident laser beam L into a plurality of laser beams L1, L2, L3 and L4. The plurality of laser beams L1, L2, L3, and L4 divided by the beam splitter 20 may have a first gap G1 in a direction perpendicular to the irradiation direction of the laser beam.

도 1 및 도 2를 참조하면, 빔 분할부(20)는 복수의 빔 스플리터(21, 22, 23)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 빔 분할부(20)는 입사된 하나의 레이저 빔(L)을 2개의 레이저 빔으로 분할하는 제1 빔 스필리터(21)와, 분할된 2개의 레이저 빔을 분할하는 복수의 제2 빔 스필리터(22, 23)를 포함한다. 제2 빔 스필리터(22, 23)의 하류에는 레이저 빔을 반사하는 복수의 반사 미러(M1, M2, M3)가 배치될 수 있다.Referring to FIGS. 1 and 2, the beam splitter 20 may include a plurality of beam splitters 21, 22, and 23. For example, the beam splitting section 20 includes a first beam spiller 21 for splitting one incident laser beam L into two laser beams, and a plurality of splitters 2 beam spilters 22 and 23, respectively. A plurality of reflection mirrors M1, M2, and M3 for reflecting the laser beam may be disposed downstream of the second beam spillers 22 and 23. [

제1, 제2 빔 스필리터(22, 23) 및 복수의 반사 미러(M1, M2, M3)는 입사되는 레이저 빔이 단수 개일 수 있다. 그에 따라, 제1, 제2 빔 스필리터(22, 23) 및 복수의 반사 미러(M1, M2, M3) 각각의 크기를 작게 설계할 수 있다. 예를 들어, 제1, 제2 빔 스필리터(22, 23) 및 복수의 반사 미러(M1, M2, M3) 각각은 레이저 빔(L)의 빔 크기보다 크고 레이저 빔(L)의 빔 크기의 2 배 이하일 수 있다. 일 예로서, 레이저 빔(L)의 빔 크기가 5 mm일 때, 제1, 제2 빔 스필리터(22, 23) 및 복수의 반사 미러(M1, M2, M3) 각각의 크기는 5 mm보다 크고 10 mm 이하일 수 있다.The first and second beam spillers 22 and 23 and the plurality of reflection mirrors M1, M2, and M3 may be a single number of incident laser beams. Accordingly, the size of each of the first and second beam spilters 22 and 23 and the plurality of reflection mirrors M1, M2, and M3 can be designed to be small. For example, each of the first and second beam spillers 22 and 23 and the plurality of reflection mirrors M1, M2, and M3 is larger than the beam size of the laser beam L and is smaller than the beam size of the laser beam L. May be less than 2 times. As an example, when the beam size of the laser beam L is 5 mm, the size of each of the first and second beam spillers 22 and 23 and the plurality of reflection mirrors M1, M2, and M3 is 5 mm or more May be greater than or equal to 10 mm.

상기의 빔 분할부(20)의 구성에 의해, 하나의 레이저 빔(L)이 제1 간격(G1)을 가지는 4개의 레이저 빔(L1, L2, L3, L4)으로 분할될 수 있다. According to the configuration of the beam splitter 20 described above, one laser beam L can be divided into four laser beams L1, L2, L3, and L4 having a first gap G1.

도 2 및 도 3을 참조하면, 제1 간격(G1)은 제1, 제2 빔 스필리터(22, 23) 및 복수의 반사 미러(M1, M2, M3) 중 적어도 일부를 이동시켜 조절할 수 있다. 예를 들어, 제1 간격(G1)은 제2 빔 스필리터(23) 및 반사 미러(M1, M2, M3)를 이동시켜 조절할 수 있다.2 and 3, the first gap G1 can be adjusted by moving at least a part of the first and second beam spillters 22 and 23 and the plurality of reflection mirrors M1, M2 and M3 . For example, the first gap G1 can be adjusted by moving the second beam spiller 23 and the reflection mirrors M1, M2, and M3.

다만, 제1 간격(G1)의 조절 범위는 기구적인 구성 및 공간적인 제약으로 인해 제한될 수 있다. 예를 들어, 제2 빔 스필리터(23) 및 반사 미러(M1, M2, M3)를 위치 이동시키는 구성, 예를 들어, 지지 프레임 및 구동 모터 등으로 인해, 제1 간격(G1)의 조절 범위는 소정 크기 이상일 수 있다. 일 예로서, 제1 간격(G1)의 조절 범위는 3 mm 이상일 수 있다. 또한, 빔 분할부(20)의 전체 크기 등을 고려하여, 제1 간격(G1)의 조절 범위는 12 mm 이하일 수 있다. 한편, 제1 간격(G1)의 조절 단위는 1 mm 이상일 수 있다.However, the adjustment range of the first gap G1 may be limited due to mechanical configuration and spatial constraints. For example, due to the arrangement for moving the position of the second beam spiller 23 and the reflection mirrors M1, M2 and M3, for example the support frame and the drive motor, the adjustment range of the first gap G1 May be greater than or equal to a predetermined size. As an example, the adjustment range of the first gap G1 may be at least 3 mm. Also, in consideration of the overall size of the beam splitter 20, the adjustment range of the first gap G1 may be 12 mm or less. On the other hand, the adjustment unit of the first gap G1 may be 1 mm or more.

다시 도 1을 다시 참조하면, 실시예에 따른 레이저 가공 장치(1)에서는, 가공 대상물(T)에 조사되는 레이저 빔(L)의 간격을 조절할 수 있는 빔 간격 조절부(30)를 더 포함한다.Referring again to FIG. 1, the laser machining apparatus 1 according to the embodiment further includes a beam interval adjusting unit 30 capable of adjusting the interval of the laser beam L irradiated on the object T .

빔 간격 조절부(30)는 분할된 복수의 레이저 빔(L1, L2, L3, L4)의 간격을 조절할 수 있다. 빔 간격 조절부(30)는 제1 간격(G1)과 다른 제2 간격(G2)을 가지는 복수의 레이저 빔(L11, L21, L31, L41)을 가공 대상물(T)에 조사할 수 있다. 제2 간격(G2)은 제1 간격(G1)보다 작을 수 있다. 제2 간격(G2)은 10 mm 미만일 수 있다. 제2 간격(G2)은 3 mm 이하일 수 있다.The beam interval adjusting unit 30 can adjust the interval of the plurality of divided laser beams L1, L2, L3, and L4. The beam interval adjusting unit 30 may irradiate the object to be processed T with a plurality of laser beams L11, L21, L31 and L41 having a first gap G1 and a second gap G2 different from the first gap G1. The second gap G2 may be smaller than the first gap G1. The second gap G2 may be less than 10 mm. The second gap G2 may be 3 mm or less.

도 4은 도 1의 빔 간격 조절부(30)의 일 예를 개념적으로 도시한 도면이다. 도 5는 도 4의 빔 간격 조절부(30)의 작동을 설명하기 위한 도면이다.4 is a diagram conceptually showing an example of the beam interval adjusting unit 30 shown in FIG. FIG. 5 is a view for explaining the operation of the beam-interval adjusting unit 30 of FIG.

도 4를 참조하면, 실시예에 따른 빔 간격 조절부(30)는 복수의 초점 렌즈(110), 제1 텔레센트릭 광학계(120) 및 제2 텔레센트릭 광학계(130)를 포함한다.Referring to FIG. 4, the beam-interval adjusting unit 30 includes a plurality of focusing lenses 110, a first telecentric optical system 120, and a second telecentric optical system 130 according to an embodiment of the present invention.

복수의 초점 렌즈(110)는 빔 분할부(20)로부터 출사된 복수의 레이저 빔(L1, L2, L3, L4)의 이동 경로에 배치된다. 복수의 초점 렌즈(110) 각각은, 레이저 빔(L1, L2, L3, L4)의 이동 방향으로 전방에 제1 초점(F1)을 가진다. The plurality of focus lenses 110 are arranged in the movement path of the plurality of laser beams L1, L2, L3, and L4 emitted from the beam splitter 20. [ Each of the plurality of focus lenses 110 has a first focus F1 in front of the moving direction of the laser beams L1, L2, L3, and L4.

복수의 초점 렌즈(110)는 상기 복수의 레이저 빔의 제1 간격(G1)에 대응하는 간격으로 배치될 수 있다. 예를 들어, 복수의 초점 렌즈(110) 사이의 간격은 제1 간격(G1)과 동일할 수 있다.The plurality of focus lenses 110 may be disposed at intervals corresponding to the first gap G1 of the plurality of laser beams. For example, the interval between the plurality of focus lenses 110 may be equal to the first interval G1.

도 4 및 도 5를 참조하면, 복수의 레이저 빔(L1, L2, L3, L4)의 제1 간격(G1)이 변화될 경우, 복수의 초점 렌즈(110)는 제1 간격(G1)의 변화에 맞춰 위치 이동될 수 있다. 복수의 초점 렌즈(110)의 위치 이동 범위는 3 mm ~ 12 mm일 수 있으며, 위치 이동 단위는 1 mm 이상일 수 있다.4 and 5, when the first gap G1 of the plurality of laser beams L1, L2, L3, and L4 is changed, the plurality of focus lenses 110 change the first gap G1 As shown in FIG. The position shift range of the plurality of focus lenses 110 may be 3 mm to 12 mm, and the position shift unit may be 1 mm or more.

제1 텔레센트릭 광학계(120)는 복수의 초점 렌즈(110)를 통과한 레이저 빔을 수용한다. 제1 텔레센트릭 광학계(120)는 레이저 빔의 이동 방향으로 복수의 초점 렌즈(110)로부터 이격되도록 배치된다. 예를 들어, 제1 텔레센트릭 광학계(120)는 복수의 초점 렌즈(110)로부터 제1 초점(F1)까지의 거리인 제1 초점 거리보다 멀게 배치될 수 있다.The first telecentric optical system 120 receives a laser beam that has passed through the plurality of focus lenses 110. The first telecentric optical system 120 is disposed so as to be spaced apart from the plurality of focus lenses 110 in the moving direction of the laser beam. For example, the first telecentric optical system 120 may be disposed farther away from the first focal distance, which is the distance from the plurality of focus lenses 110 to the first focal point F1.

복수의 초점 렌즈(110)를 통과한 복수의 레이저 빔은 제1 텔레센트릭 광학계(120)를 통과하여 레이저 빔의 이동 방향으로 전방에 위치한 제2 초점(F2)에 모이게 된다.A plurality of laser beams having passed through the plurality of focus lenses 110 pass through the first telecentric optical system 120 and are collected at a second focus F2 located forward in the moving direction of the laser beam.

제2 텔레센트릭 광학계(130)는 레이저 빔의 이동 방향으로 제1 텔레센트릭 광학계(120)의 전방에 이격되도록 배치된다. 예를 들어, 제2 텔레센트릭 광학계(130)는 제1 텔레센트릭 광학계(120)로부터 제2 초점(F2)까지의 거리인 제2 초점 거리보다 멀게 배치된다.The second telecentric optical system 130 is disposed so as to be spaced in front of the first telecentric optical system 120 in the moving direction of the laser beam. For example, the second telecentric optical system 130 is disposed farther away from the first focal length, which is the distance from the first telecentric optical system 120 to the second focal point F2.

제2 텔레센트릭 광학계(130)는 레이저 빔의 이동 방향으로 후방에 제3 초점을 가진다. 제2 텔레센트릭 광학계(130)의 제3 초점(F3)이 제1 텔레센트릭 광학계(120)의 제2 초점(F2)과 동일 위치에 형성되도록, 제2 텔레센트릭 광학계(130)가 배치될 수 있다.The second telecentric optical system 130 has a third focal point rearward in the moving direction of the laser beam. The second telecentric optical system 130 is arranged such that the third focus F3 of the second telecentric optical system 130 is formed coincident with the second focus F2 of the first telecentric optical system 120 .

제2 텔레센트릭 광학계(130)는 제1 텔레센트릭 광학계(120)를 통과한 복수의 레이저 빔을 평행광 형태로 바꾼다. 그에 따라, 제2 텔레센트릭 광학계(130)로부터 출사된 복수의 레이저 빔(L11, L21, L31, L41)은 가공 대상물(T)에 제2 간격(G2)으로 평행하게 조사된다.The second telecentric optical system 130 converts a plurality of laser beams passed through the first telecentric optical system 120 into parallel light. The laser beams L11, L21, L31 and L41 emitted from the second telecentric optical system 130 are irradiated parallel to the object T at the second gap G2.

제1 텔레센트릭 광학계(120)의 제2 초점 거리와 제2 텔레센트릭 광학계(130)의 제3 초점(F3)까지의 거리인 제3 초점 거리는 서로 다르다. 제2 초점 거리가 제3 초점 거리보다 클 수 있다. 다시 말해, 제3 초점 거리가 제2 초점 거리보다 작을 수 있다. 제1 텔레센트릭 광학계(120)의 배율이 제2 텔레센트릭 광학계(130)의 배율보다 클 수 있다.The third focal length, which is the distance from the second focal distance of the first telecentric optical system 120 to the third focal point F3 of the second telecentric optical system 130, is different from each other. The second focal distance may be larger than the third focal distance. In other words, the third focal length may be smaller than the second focal length. The magnification of the first telecentric optical system 120 may be larger than that of the second telecentric optical system 130. [

이러한 제1, 제2 텔레센트릭 광학계(120, 130)에 의해, 제2 텔레센트릭 광학계(130)로부터 출사된 복수의 레이저 빔 사이(L11, L21, L31, L41)의 제2 간격(G2)은 제1 텔레센트릭 광학계(120)에 입사된 복수의 레이저 빔 사이의 제1 간격(G1)보다 작아질 수 있다. 제2 간격(G2)은 제1 간격(G1)의 1/10 ~ 1/3일 수 있다. 다시 말해서, 제1 간격(G1)은 제2 간격(G2)의 3 배 ~ 10 배일 수 있다. The first and second telecentric optical systems 120 and 130 generate a second gap G2 between the plurality of laser beams L11, L21, L31, and L41 emitted from the second telecentric optical system 130 May be smaller than the first gap G1 between the plurality of laser beams incident on the first telecentric optical system 120. [ The second gap G2 may be 1/10 to 1/3 of the first gap G1. In other words, the first gap G1 may be three to ten times the second gap G2.

또한, 제1, 제2 텔레센트릭 광학계(120, 130)에 의해, 복수의 초점 렌즈(110) 사이의 간격 변화량은 제2 텔레센트릭 광학계(130)를 통과한 복수의 레이저 빔(L11, L21, L31, L41) 사이의 간격 변화량보다 클 수 있다. 즉, 제2 텔레센트릭 광학계(130)를 통과한 복수의 레이저 빔(L11, L21, L31, L41) 사이의 간격 변화량은 복수의 초점 렌즈(110) 사이의 간격 변화량보다 작을 수 있다. 그에 따라, 제2 텔레센트릭 광학계(130)를 통과한 복수의 레이저 빔(L11, L21, L31, L41) 사이의 제2 간격(G2)을 미세하게 조정할 수 있다. 예를 들어, 복수의 초점 렌즈(110)를 1 mm 이상의 단위로 이동시킬 때, 제2 간격(G2)은 1 mm 미만의 단위로 조정될 수 있다. 일 예로서, 제1 텔레센트릭 광학계(120)의 배율이 제2 텔레센트릭 광학계(130)의 3배일 경우, 복수의 초점 렌즈(110)를 1 mm로 이동시킬 때, 제2 간격(G2)은 1/3 mm 단위로 조정될 수 있다. The amount of change in the spacing between the plurality of focus lenses 110 is controlled by the first and second telecentric optical systems 120 and 130 by a plurality of laser beams L11, L21, L31, L41). That is, the amount of change in the distance between the plurality of laser beams L11, L21, L31, and L41 passing through the second telecentric optical system 130 may be smaller than the amount of change in the distance between the plurality of focus lenses 110. [ Thus, the second gap G2 between the plurality of laser beams L11, L21, L31, and L41 passing through the second telecentric optical system 130 can be finely adjusted. For example, when moving the plurality of focus lenses 110 in units of 1 mm or more, the second gap G2 can be adjusted in units of less than 1 mm. For example, when the magnification of the first telecentric optical system 120 is three times that of the second telecentric optical system 130, when the plurality of focus lenses 110 are moved by 1 mm, the second gap G2 ) Can be adjusted in 1/3 mm increments.

이와 같이, 제1, 제2 텔레센트릭 광학계(120, 130)를 이용함으로써, 복수의 초점 렌즈(110)의 위치 이동을 위한 공간을 충분히 확보하면서도, 가공 대상물(T)에 조사되는 복수의 레이저 빔(L11, L21, L31, L41) 사이의 제2 간격(G2)을 작게 줄일 수 있다. 더불어, 제2 간격(G2)의 조정을 정교하게 할 수 있다. By using the first and second telecentric optical systems 120 and 130 as described above, it is possible to secure a sufficient space for the movement of the plurality of focus lenses 110, The second gap G2 between the beams L11, L21, L31, and L41 can be reduced to a small size. In addition, adjustment of the second gap G2 can be elaborated.

제1, 제2 텔레센트릭 광학계(120, 130) 중 적어도 하나를 다른 텔레센트릭 광학계로 교체할 수 있다. 예를 들어, 제1 텔레센트릭 광학계(120)을 제1 텔레센트릭 광학계(120)의 배율과 다른 배율을 가지는 텔레센트릭 광학계로 교체할 수 있다. 그에 따라, 제1, 제2 텔레센트릭 광학계(120, 130)의 배율이 달라질 수 있다.At least one of the first and second telecentric optical systems 120 and 130 can be replaced by another telecentric optical system. For example, the first telecentric optical system 120 can be replaced with a telecentric optical system having a magnification different from that of the first telecentric optical system 120. [ Accordingly, the magnification of the first and second telecentric optical systems 120 and 130 can be changed.

도 6a 내지 도 6c는 제1 텔레센트릭 광학계(120)가 다른 제1 텔레센트릭 광학계(120a, 120b)로 교체됨에 따라, 제2 간격(G2)이 조정되는 예를 설명하기 위한 도면이다.6A to 6C are views for explaining an example in which the second interval G2 is adjusted as the first telecentric optical system 120 is replaced with another first telecentric optical system 120a or 120b.

도 6a를 참조하면, 실시예에 따른 빔 간격 조절부(30)에서는 초점 렌즈(110) 사이의 간격은 12 mm이며, 제1 텔레센트릭 광학계(120)의 배율은 제2 텔레센트릭 광학계(130)의 배율의 4 배이다. 제1, 제2 텔레센트릭 광학계(120, 130)를 통과하여 가공 대상물(T)에 조사된 복수의 레이저 빔(L11, L21, L31, L41) 사이의 제2 간격(G2)은 3 mm 일 수 있다.6A, in the beam-interval adjusting unit 30 according to the embodiment, the distance between the focus lenses 110 is 12 mm, and the magnification of the first telecentric optical system 120 is larger than that of the second telecentric optical system 130). The second gap G2 between the plurality of laser beams L11, L21, L31 and L41 irradiated to the object T passing through the first and second telecentric optical systems 120 and 130 is 3 mm .

도 6b를 참조하면, 실시예에 따른 빔 간격 조절부(30a)에서는 초점 렌즈(110) 사이의 간격을 12 mm로 유지하고, 제1 텔레센트릭 광학계(120) 대신에 배율이 다른 제1 텔레센트릭 광학계(120a)를 사용하였다. 제1 텔레센트릭 광학계(120a)의 배율은 제2 텔레센트릭 광학계(130)의 배율의 6 배일 수 있다. 제2 초점 거리(F21)가 제2 초점 거리(F2)보다 길어질 수 있다. 이 경우, 제1, 제2 텔레센트릭 광학계(120a, 130)를 통과하여 가공 대상물(T)에 조사된 복수의 레이저 빔(L11, L21, L31, L41) 사이의 제2 간격(G2)은 2 mm 일 수 있다.6B, in the beam-interval adjusting unit 30a according to the embodiment, the interval between the focus lenses 110 is maintained at 12 mm, and the first telecentric optical system 120 is replaced by a first tele- And a critical optical system 120a was used. The magnification of the first telecentric optical system 120a may be six times the magnification of the second telecentric optical system 130. [ The second focal distance F21 may be longer than the second focal distance F2. In this case, the second gap G2 between the plurality of laser beams L11, L21, L31 and L41 irradiated on the object T passing through the first and second telecentric optical systems 120a and 130 is 2 mm.

도 6c를 참조하면, 실시예에 따른 빔 간격 조절부(30b)에서는 초점 렌즈(110) 사이의 간격을 12 mm로 유지하고, 제1 텔레센트릭 광학계(120) 대신에 배율이 다른 제1 텔레센트릭 광학계(120b)를 사용하였다. 제1 텔레센트릭 광학계(120b)의 배율은 제2 텔레센트릭 광학계(130)의 배율의 3 배일 수 있다. 제2 초점 거리(F22)가 제2 초점 거리(F2)보다 짧아질 수 있다. 이 경우, 제1, 제2 텔레센트릭 광학계(120b, 130)를 통과하여 가공 대상물(T)에 조사된 복수의 레이저 빔(L11, L21, L31, L41) 사이의 제2 간격(G2)은 4 mm 일 수 있다.Referring to FIG. 6C, in the beam interval adjusting unit 30b according to the embodiment, the interval between the focus lenses 110 is maintained at 12 mm, and a first telecentric optical system 120, And a centric optical system 120b were used. The magnification of the first telecentric optical system 120b may be three times the magnification of the second telecentric optical system 130. [ The second focal distance F22 may be shorter than the second focal distance F2. In this case, the second gap G2 between the plurality of laser beams L11, L21, L31, and L41 irradiated on the object T passing through the first and second telecentric optical systems 120b and 130 is 4 mm.

이와 같이, 실시예에 따른 빔 간격 조절부(30, 30a, 30b)에서는, 복수의 초점 렌즈(110) 사이의 간격을 변화시키지 않고도, 단지 제1 텔레센트릭 광학계(120, 120a, 120b)를 교환함으로써, 제2 간격(G2)을 변화시킬 수 있다. 이를 통해, 복수의 초점 렌즈(110)를 이동시키지 않거나 적게 이동시키면서도, 제2 간격(G2)을 충분히 조절할 수 있게 된다. 그리하여, 복수의 초점 렌즈(110)의 구동을 위한 모터(미도시)의 부담을 줄일 수 있게 된다.As described above, in the beam-interval adjusting portions 30, 30a, and 30b according to the embodiment, only the first telecentric optical system 120, 120a, and 120b can be arranged without changing the interval between the plurality of focus lenses 110 The second gap G2 can be changed. As a result, the second gap G2 can be sufficiently adjusted while moving the plurality of focus lenses 110 with little or no movement. Thus, the burden of the motor (not shown) for driving the plurality of focus lenses 110 can be reduced.

이상에서 본 발명의 실시예가 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다.While the invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes and modifications may be made without departing from the scope of the invention as defined by the appended claims.

1 : 레이저 가공 장치 10 : 레이저 광원
20 : 빔 분할부 21, 22, 23 : 빔 스플리터
30 : 빔 간격 조절부 50 : 테이블
110 : 초점 렌즈 120 : 제1 텔레센트릭 광학계
130 : 제2 텔레센트릭 광학계 T : 가공 대상물1: laser processing apparatus 10: laser light source
20: beam splitter 21, 22, 23: beam splitter
30: beam interval adjusting unit 50: table
110: focal lens 120: first telecentric optical system
130: second telecentric optical system T: object to be processed

Claims (18)

가공 대상물에 복수의 레이저 빔을 조사하는 레이저 가공 장치로서,
레이저 빔을 생성하는 레이저 광원;
상기 레이저 광원으로부터 입사된 레이저 빔을 복수의 레이저 빔으로 분할하는 빔 분할부; 및
상기 빔 분할부에 의해 분할된 복수의 레이저 빔의 간격을 조정하여 가공 대상물에 조사하는 빔 간격 조절부;를 포함하며,
상기 빔 간격 조절부는,
상기 복수의 레이저 빔의 경로에 배치되며, 제1 초점 거리를 가지는 복수의 초점 렌즈와,
상기 복수의 초점 렌즈를 통과한 복수의 레이저 빔을 수용하며, 상기 복수의 초점 렌즈로부터 상기 제1 초점 거리보다 멀게 배치되며, 제2 초점 거리를 가지는 제1 텔레센트릭 광학계와,
상기 제1 텔레센트릭 광학계를 통과한 복수의 레이저 빔을 평행광 형태로 바꾸며, 상기 제1 텔레센트릭 광학계로부터 상기 제2 초점 거리보다 멀게 배치되며, 상기 제2 초점 거리와 다른 제3 초점 거리를 가지는 제2 텔레센트릭 광학계를 포함하며,
상기 제2 텔레센트릭 광학계의 초점이 상기 제1 텔레센트릭 광학계의 초점과 동일 위치에 형성되며,
상기 복수의 레이저 빔은 상기 제1 텔레센트릭 광학계를 통과하여 상기 제1 텔레센트릭 광학계의 제2초점에 모이게 되며, 상기 제2 초점에 모인 복수의 레이저 빔은 상기 제2 텔레센트릭 광학계를 통과하여 평행광 형태로 바뀌게 되는, 레이저 가공 장치.A laser processing apparatus for irradiating a plurality of laser beams onto an object to be processed,
A laser light source for generating a laser beam;
A beam splitter for dividing the laser beam incident from the laser beam source into a plurality of laser beams; And
And a beam interval adjusting unit adjusting the interval of the plurality of laser beams divided by the beam splitting unit to irradiate the object to be processed,
The beam-
A plurality of focus lenses disposed in a path of the plurality of laser beams and having a first focal length,
A first telecentric optical system that receives a plurality of laser beams passed through the plurality of focus lenses and is located further from the plurality of focus lenses than the first focus distance and has a second focal length;
A plurality of laser beams passing through the first telecentric optical system are converted into a parallel light beam and are arranged farther from the first telecentric optical system than the second focal distance, And a second telecentric optical system having a second telecentric optical system,
The focal point of the second telecentric optical system is formed at the same position as the focal point of the first telecentric optical system,
Wherein the plurality of laser beams are collected at a second focus of the first telecentric optical system through the first telecentric optical system and a plurality of laser beams gathered at the second focus are focused on the second telecentric optical system And is converted into a parallel light form. 제1항에 있어서,
상기 제2 텔레센트릭 광학계의 상기 제3 초점 거리는 상기 제1 텔레센트릭 광학계의 상기 제2 초점 거리보다 짧은, 레이저 가공 장치.The method according to claim 1,
And the third focal length of the second telecentric optical system is shorter than the second focal length of the first telecentric optical system. 제2항에 있어서,
상기 제2 텔레센트릭 광학계의 상기 제3 초점 거리는 상기 제1 텔레센트릭 광학계의 상기 제2 초점 거리의 1/3 이하인, 레이저 가공 장치.3. The method of claim 2,
And the third focal length of the second telecentric optical system is not more than 1/3 of the second focal length of the first telecentric optical system. 제2항에 있어서,
상기 제2 텔레센트릭 광학계를 통과한 복수의 레이저 빔 사이의 간격은, 상기 복수의 초점 렌즈 사이의 간격보다 작은, 레이저 가공 장치.3. The method of claim 2,
Wherein an interval between the plurality of laser beams passing through the second telecentric optical system is smaller than an interval between the plurality of focus lenses. 제1항에 있어서,
상기 복수의 초점 렌즈는 상기 복수의 레이저 빔의 입사 방향과 수직인 방향으로 이동 가능한, 레이저 가공 장치.The method according to claim 1,
Wherein the plurality of focus lenses are movable in a direction perpendicular to an incident direction of the plurality of laser beams. 제5항에 있어서,
상기 복수의 초점 렌즈 사이의 간격은 3 mm ~ 12 mm인, 레이저 가공 장치.6. The method of claim 5,
And the distance between the plurality of focus lenses is 3 mm to 12 mm. 제4항에 있어서,
상기 복수의 초점 렌즈 사이의 간격이 달라짐에 따라, 상기 제2 텔레센트릭 광학계를 통과한 복수의 레이저 빔 사이의 간격이 달라지는, 레이저 가공 장치. 5. The method of claim 4,
Wherein an interval between the plurality of laser beams passing through the second telecentric optical system changes as an interval between the plurality of focus lenses changes. 제7항에 있어서,
상기 복수의 초점 렌즈 사이의 간격 변화량은 상기 제2 텔레센트릭 광학계를 통과한 복수의 레이저 빔 사이의 간격 변화량보다 큰, 레이저 가공 장치.8. The method of claim 7,
Wherein the amount of change in the distance between the plurality of focus lenses is larger than the amount of change in the distance between the plurality of laser beams passing through the second telecentric optical system. 제1항에 있어서,
상기 빔 분할부는,
입사된 레이저 빔을 복수의 레이저 빔으로 분할하는 복수의 빔 스플리터와,
분할된 레이저 빔을 반사하는 복수의 반사 미러를 포함하는, 레이저 가공 장치.The method according to claim 1,
Wherein the beam splitting unit comprises:
A plurality of beam splitters for splitting an incident laser beam into a plurality of laser beams,
And a plurality of reflection mirrors for reflecting the divided laser beams. 제9항에 있어서,
상기 복수의 빔 스플리터 각각에 입사되는 레이저 빔은 단수이며,
상기 복수의 빔 스플리터 각각의 크기는 상기 단수의 레이저 빔의 크기보다 크고 상기 단수의 레이저 빔의 크기의 2배 이하인, 레이저 가공 장치.10. The method of claim 9,
The laser beam incident on each of the plurality of beam splitters is a single number,
Wherein the size of each of the plurality of beam splitters is larger than the size of the laser beam of the singular number and not larger than twice the size of the laser beam of the singular number. 제1 간격을 가지는 복수의 레이저 빔의 간격을 조정하여, 상기 제1 간격과 다른 제2 간격을 가지는 복수의 레이저 빔을 출사하는 빔 간격 조절부를 포함하는 레이저 가공 장치의 광학계로서,
상기 빔 간격 조절부는,
상기 복수의 레이저 빔의 경로에 배치되며, 제1 초점 거리를 가지는 복수의 초점 렌즈와,
상기 복수의 초점 렌즈를 통과한 복수의 레이저 빔을 수용하며, 상기 복수의 초점 렌즈로부터 상기 제1 초점 거리보다 멀게 배치되며, 제2 초점 거리를 가지는 제1 텔레센트릭 광학계와,
상기 제1 텔레센트릭 광학계를 통과한 복수의 레이저 빔을 평행광 형태로 바꾸며, 상기 제1 텔레센트릭 광학계로부터 상기 제2 초점 거리보다 멀게 배치되며, 상기 제2 초점 거리와 다른 제3 초점 거리를 가지는 제2 텔레센트릭 광학계를 포함하며,
상기 제2 텔레센트릭 광학계의 초점이 상기 제1 텔레센트릭 광학계의 초점과 동일 위치에 형성되며,
상기 복수의 레이저 빔은 상기 제1 텔레센트릭 광학계를 통과하여 상기 제1 텔레센트릭 광학계의 제2초점에 모이게 되며, 상기 제2 초점에 모인 복수의 레이저 빔은 상기 제2 텔레센트릭 광학계를 통과하여 평행광 형태로 바뀌게 되는, 레이저 가공 장치의 광학계.And a beam interval adjusting section for adjusting the interval of the plurality of laser beams having the first interval to emit a plurality of laser beams having the second interval different from the first interval,
The beam-
A plurality of focus lenses disposed in a path of the plurality of laser beams and having a first focal length,
A first telecentric optical system that receives a plurality of laser beams passed through the plurality of focus lenses and is located further from the plurality of focus lenses than the first focus distance and has a second focal length;
A plurality of laser beams passing through the first telecentric optical system are converted into a parallel light beam and are arranged farther from the first telecentric optical system than the second focal distance, And a second telecentric optical system having a second telecentric optical system,
The focal point of the second telecentric optical system is formed at the same position as the focal point of the first telecentric optical system,
Wherein the plurality of laser beams are collected at a second focus of the first telecentric optical system through the first telecentric optical system and a plurality of laser beams gathered at the second focus are focused on the second telecentric optical system And is changed into a parallel light form. 제11항에 있어서,
상기 제2 텔레센트릭 광학계의 상기 제3 초점 거리는 상기 제1 텔레센트릭 광학계의 상기 제2 초점 거리보다 짧은, 레이저 가공 장치의 광학계.12. The method of claim 11,
Wherein the third focal length of the second telecentric optical system is shorter than the second focal length of the first telecentric optical system. 제12항에 있어서,
상기 제2 텔레센트릭 광학계의 상기 제3 초점 거리는 상기 제1 텔레센트릭 광학계의 상기 제2 초점 거리의 1/3 이하인, 레이저 가공 장치의 광학계.13. The method of claim 12,
And the third focal length of the second telecentric optical system is equal to or less than 1/3 of the second focal length of the first telecentric optical system. 제12항에 있어서,
상기 제2 텔레센트릭 광학계를 통과한 복수의 레이저 빔 사이의 간격은, 상기 복수의 초점 렌즈 사이의 간격보다 작은, 레이저 가공 장치의 광학계.13. The method of claim 12,
And an interval between the plurality of laser beams passing through the second telecentric optical system is smaller than an interval between the plurality of focus lenses. 제11항에 있어서,
상기 복수의 초점 렌즈는 상기 복수의 레이저 빔의 입사 방향과 수직인 방향으로 이동 가능한, 레이저 가공 장치의 광학계.12. The method of claim 11,
Wherein the plurality of focus lenses are movable in a direction perpendicular to an incident direction of the plurality of laser beams. 제15항에 있어서,
상기 복수의 초점 렌즈 사이의 간격은 3 mm ~ 12 mm인, 레이저 가공 장치의 광학계.16. The method of claim 15,
And an interval between the plurality of focus lenses is 3 mm to 12 mm. 제14항에 있어서,
상기 복수의 초점 렌즈 사이의 간격이 달라짐에 따라, 상기 제2 텔레센트릭 광학계를 통과한 복수의 레이저 빔 사이의 간격이 달라지는, 레이저 가공 장치의 광학계. 15. The method of claim 14,
Wherein an interval between the plurality of laser beams passing through the second telecentric optical system changes as an interval between the plurality of focus lenses changes. 제17항에 있어서,
상기 복수의 초점 렌즈 사이의 간격 변화량은 상기 제2 텔레센트릭 광학계를 통과한 복수의 레이저 빔 사이의 간격 변화량보다 큰, 레이저 가공 장치의 광학계.18. The method of claim 17,
Wherein the amount of change in the distance between the plurality of focus lenses is larger than the amount of change in the distance between the plurality of laser beams passing through the second telecentric optical system.
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