KR101910144B1 - Substrate laminate, electronic device having the substrate laminate and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

본 명세서는 기판 적층체, 이를 포함하는 전자 소자 및 이의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate laminate, an electronic device including the same, and a method of manufacturing the same.

Description

기판 적층체, 이를 포함하는 전자 소자 및 이의 제조방법{SUBSTRATE LAMINATE, ELECTRONIC DEVICE HAVING THE SUBSTRATE LAMINATE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a substrate laminate, an electronic device including the substrate laminate, and a method of manufacturing the substrate laminate.

본 명세서는 기판 적층체, 이를 포함하는 전자 소자 및 이의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate laminate, an electronic device including the same, and a method of manufacturing the same.

유기 발광 소자(OLED)는 통상 두 개의 전극 및 이들 전극 사이에 위치하는 한 층 이상의 유기물층으로 구성된다.The organic light emitting device OLED typically comprises two electrodes and one or more organic layers positioned between the electrodes.

이와 같은 구조의 유기 발광 소자에 있어서, 제1 전극 및 제2 전극 사이에 전압을 인가하면, 제1 전극으로부터는 정공이, 제2 전극으로부터는 전자가 각각 유기물층으로 유입되고, 이들이 재결합하여 여기자(exciton)를 형성하며, 이 여기자가 다시 기저 상태로 떨어지면서 에너지 차이에 해당하는 광자를 방출하게 된다.When a voltage is applied between the first electrode and the second electrode, holes from the first electrode and electrons from the second electrode flow into the organic material layer, respectively, in the organic light emitting device having such a structure, excitons, which emit photons corresponding to energy differences as they fall back to the ground state.

이와 같은 원리에 의하여 유기 발광 소자는 가시 광선을 발생하며, 이를 이용하여 정보 표시 소자 또는 조명 소자를 제조할 수 있다.According to such a principle, the organic light emitting element generates visible light, and an information display element or an illumination element can be manufactured using the same.

일반적으로, 유기 발광 소자는 기판 상에 제1 전극을 증착하고 1층 이상의 유기물층을 증착한 후, 제2 전극을 증착하는 방법에 의해서 제조될 수 있다. 따라서, 유기물층에서 발생된 빛을 방출하기 위해서 빛을 방출하고자 하는 방향의 전극은 투명해야 하며, 제1 전극 방향으로 빛을 방출하고자 할 때는 제1 전극뿐만 아니라 기판 또한 투명해야 한다.Generally, the organic light emitting device can be manufactured by depositing a first electrode on a substrate, depositing one or more organic layers, and then depositing a second electrode. Therefore, in order to emit light generated in the organic layer, the electrode in a direction to emit light must be transparent. In order to emit light toward the first electrode, not only the first electrode but also the substrate must be transparent.

일반적인 유기 발광 소자는 유기물층 내의 발광층에서 발생한 빛 중에서 일부(air mode)만이 공기 중으로 빠져 나오게 되는데, 이는 발광층의 굴절률이 약1.8 수준으로 공기의 굴절률인 1.0보다 크기 때문이다. 이러한 굴절률 차이로 인해 굴절률이 1.8 수준인 유기물층에 갇히게 되는 빛을 광도파로 모드(wave guide mode), 유기물보다 굴절률이 낮고 공기보다 높은 유리 기판(굴절률 약 1.5)에 갇힌 빛을 글래스 모드(glass mode)라고 말한다.In a general organic light emitting device, only a part of the light emitted from the light emitting layer in the organic layer comes out into the air because the refractive index of the light emitting layer is about 1.8, which is larger than 1.0, which is the refractive index of air. Due to the difference in refractive index, light trapped in the organic layer having a refractive index of 1.8 is called a wave guide mode, light confined in a glass substrate (refractive index: about 1.5) having a refractive index lower than that of an organic substance, "He says.

한국특허공개공보 제10-2010-0125135호Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2010-0125135

본 명세서는 기판 적층체, 이를 포함하는 전자 소자 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다.The present specification is intended to provide a substrate laminate, an electronic device including the same, and a method of manufacturing the same.

본 명세서는 1) 패턴을 갖는 몰드에 무기막을 형성하는 단계; 및 2) 상기 무기막 상에 경화성 수지 조성물을 코팅 후 경화하여 기판을 형성하는 단계를 포함하는 것인 기판 적층체의 제조방법을 제공한다. The present disclosure includes: 1) forming an inorganic film on a mold having a pattern; And 2) coating the curable resin composition on the inorganic film and curing the substrate to form a substrate.

또한, 본 명세서는 상기 기판 적층체의 제조방법에 따라 제조된 기판 적층체 상에 제1 전극, 1 이상의 유기물층 및 제2 전극이 순차적으로 적층된 유기 발광부를 형성하는 단계를 포함하는 전자 소자의 제조방법을 제공한다. The present invention also relates to a method of manufacturing an electronic device including forming an organic light emitting portion in which a first electrode, at least one organic material layer and a second electrode are sequentially laminated on a substrate laminate manufactured according to the method of manufacturing the substrate laminate, ≪ / RTI >

또한, 본 명세서는 상기 전자 소자의 제조방법에 따라 제조된 전자 소자를 제공한다. The present invention also provides an electronic device manufactured according to the method for manufacturing the electronic device.

한편, 본 명세서는 일면에 패턴이 일체형으로 구비된 기판; 및 상기 패턴이 구비된 기판의 일면에 구비된 무기막을 포함하는 기판 적층체를 제공한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device comprising: a substrate; And an inorganic film provided on one surface of the substrate provided with the pattern.

또한, 본 명세서는 일면에 패턴을 갖는 몰드; 상기 패턴을 갖는 몰드 상에 구비된 기판; 및 상기 몰드와 기판 사이에 구비된 무기막을 포함하는 것인 기판 적층체를 제공한다. The present disclosure also relates to a mold having a pattern on one side; A substrate provided on the mold having the pattern; And an inorganic film provided between the mold and the substrate.

또한, 본 명세서는 상기 기판 적층체; 및 상기 기판 적층체의 타면에 제1 전극, 1 이상의 유기물층 및 제2 전극이 순차적으로 적층된 유기 발광부를 포함하는 전자 소자를 제공한다. Further, the present specification relates to the substrate laminate; And an organic light emitting portion in which a first electrode, at least one organic material layer, and a second electrode are sequentially stacked on the other surface of the substrate stack.

또한, 본 명세서는 상기 전자 소자를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다. Further, the present specification provides a display device including the electronic device.

또한, 본 명세서는 상기 전자 소자를 포함하는 조명 장치를 제공한다.Further, the present specification provides a lighting apparatus including the electronic device.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 기판 적층체는 일면에 렌즈를 일체형으로 구비하여 간단한 공정으로 광추출할 수 있다.The substrate laminate according to one embodiment of the present invention may have a lens integrally formed on one surface thereof and can be light extracted by a simple process.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 기판 적층체는 기판과 공기와의 굴절률 차이에 의하여 발생하는 빛의 손실을 최소화할 수 있는 장점이 있다.The substrate laminate according to one embodiment of the present invention has an advantage of minimizing the loss of light caused by the refractive index difference between the substrate and air.

도 1은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 전자 소자의 제조방법의 순서도이다.
도 2는 본 명세서의 일 실시상태에 따른 기판 적층체의 광학 현미경 사진이다.
도 3은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 패턴을 갖는 몰드의 단면도이다.
1 is a flowchart of a method of manufacturing an electronic device according to an embodiment of the present invention.
2 is an optical microphotograph of a substrate stack according to one embodiment of the present disclosure;
3 is a cross-sectional view of a mold having a pattern according to one embodiment of the present disclosure;

이하에서 본 명세서에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 명세서는 1) 패턴을 갖는 몰드에 무기막을 형성하는 단계; 및 The present disclosure includes: 1) forming an inorganic film on a mold having a pattern; And

2) 상기 무기막 상에 경화성 수지 조성물을 코팅 후 경화하여 기판을 형성하는 단계를 포함하는 것인 기판 적층체의 제조방법을 제공한다.2) coating the curable resin composition on the inorganic film and curing the substrate to form a substrate.

본 명세서의 일 실시상태에서, 상기 1) 단계 이전에, 패턴을 갖는 몰드를 준비하는 단계를 포함할 수 있다. In one embodiment of the present disclosure, prior to step 1), preparing a mold having a pattern may be included.

상기 패턴을 갖는 몰드를 제조하는 방법은 당 기술분야에서 일반적인 방법으로 형성할 수 있다. 예를 들면, 상기 몰드는 금형에서 압출성형되거나, 포토리소그래피법으로 패턴을 식각하여 제조하거나, 잉크젯, 롤프린팅 등과 같은 인쇄법으로 형성할 수 있으며, 이에 한정되지 않는다. The method for producing the mold having the pattern can be formed by a general method in the art. For example, the mold may be formed by extrusion molding in a mold, by etching a pattern by photolithography, or by a printing method such as inkjet or roll printing, but is not limited thereto.

상기 몰드의 재료는 패턴의 모양을 유지할 수 있다면, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 철, 알루미늄, 니켈, 구리 등과 같은 금속; 폴리우레탄, 실옥산계 수지, 폴리디메틸실록산(PDMS, Polydimethylsiloxane) 등과 같은 탄성소재; 또는 PET, PS, PP 등과 같은 플라스틱일 수 있다. The material of the mold is not particularly limited as long as it can maintain the shape of the pattern. For example, metals such as iron, aluminum, nickel, copper and the like; Elastic materials such as polyurethane, siloxane resin, polydimethylsiloxane (PDMS) and the like; Or plastics such as PET, PS, PP, and the like.

상기 패턴은 양각 패턴 또는 음각 패턴일 수 있으며, 상기 패턴은 규칙적인 패턴을 가질 수도 있고, 불규칙한 요철 형태를 가질 수도 있다. The pattern may be a relief pattern or a relief pattern, and the pattern may have a regular pattern or an irregular relief pattern.

상기 패턴의 형태는 광추출 기능을 할 수 있다면, 패턴의 형태는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 상기 패턴은 불규칙한 요철이거나, 볼록 렌즈 또는 오목 렌즈 형상의 패턴일 수 있다. The shape of the pattern is not particularly limited as long as the shape of the pattern is capable of extracting light. For example, the pattern may be irregular irregularities, or may be a convex lens or concave lens-shaped pattern.

이때, 상기 몰드의 패턴에 의해 형성된 패턴이 렌즈로서 빛을 모으거나 분산하는 기능을 할 수 있다면 세부적인 형태는 한정하지 않는다. 예를 들면, 상기 렌즈는 반원 단면 형상을 갖는 렌티큘라(lenticular) 렌즈 또는 삼각형 단면 형상을 갖는 프리즘 렌즈일 수 있다. 구체적으로 도 3에 도시된 1) 또는 2)와 같이 렌티큘라(lenticular) 렌즈 또는 삼각형 단면 형상을 갖는 프리즘 렌즈일 수 있다. At this time, the detailed form is not limited as long as the pattern formed by the pattern of the mold can function as a lens to collect or disperse light. For example, the lens may be a lenticular lens having a semi-circular cross-sectional shape or a prismatic lens having a triangular cross-sectional shape. Specifically, it may be a lenticular lens as shown in 1) or 2) shown in FIG. 3, or a prism lens having a triangular sectional shape.

상기 몰드의 패턴은 각각의 패턴 사이에 간격이 있거나 연속된 패턴일 수 있다. 구체적으로 연속된 패턴일 수 있으며, 더 구체적으로 연속된 볼록 렌즈 또는 오목 렌즈 형상의 패턴일 수 있다. The pattern of the mold may be a spaced or continuous pattern between each pattern. Specifically, a continuous pattern, more specifically, a continuous convex lens or a concave lens-shaped pattern.

상기 몰드의 패턴이 반원 단면 형상을 갖는 렌티큘라(lenticular) 렌즈의 형상일 경우, 상기 반원의 직경은 1 nm 이상 1 mm 이하일 수 있다. 필요에 따라, 1 nm 이상 100 μm 이하일 수 있다. When the pattern of the mold is a lenticular lens having a semi-circular cross-sectional shape, the diameter of the semicircle may be 1 nm or more and 1 mm or less. If necessary, it may be 1 nm or more and 100 μm or less.

본 명세서에서, 상기 패턴은 높이 차이가 있는 요철일 수 있다. 구체적으로 도 3에 도시된 4)와 같이 불규칙한 높이 차이를 갖는 요철일 수 있다. In this specification, the pattern may be a concavo-convex having a height difference. Concretely, irregularities having irregular height differences as shown by 4 in FIG. 3 may be used.

상기 패턴을 갖는 몰드 상에 후술할 경화성 수지 조성물을 직접 코팅하는 경우에는 몰드와 경화성 수지 조성물 사이의 표면 에너지의 차이에 의해 디웨팅(dewetting)이 일어나 코팅이 어려울 수 있다. When the curable resin composition to be described later is directly coated on the mold having the pattern, dewetting may occur due to a difference in surface energy between the mold and the curable resin composition, which may make coating difficult.

이때, 디웨팅(dewetting)은 코팅된 표면 등이 매끄럽게 되지 않고 울퉁불퉁하거나 불규칙한 형태의 덩어리로 응어리진 상태를 말한다. At this time, dewetting refers to a state in which the coated surface is not smooth, but is corroded into a lump of irregular or irregular shape.

또한, 상기 패턴을 갖는 몰드 상에 후술할 경화성 수지 조성물을 직접 코팅 후 경화하는 경우, 상기 몰드의 재질에 따라 경화성 수지 조성물이 경화된 기판을 몰드에서 분리하는 것이 어려울 수 있다. 예를 들면, 상기 몰드의 재료가 니켈인 경우, 기판을 몰드에서 분리하기 어렵다.Also, when the curable resin composition to be described later is directly coated on the mold having the pattern and cured, it may be difficult to separate the cured substrate from the mold depending on the material of the mold. For example, when the material of the mold is nickel, it is difficult to separate the substrate from the mold.

한편, 패턴을 갖는 몰드에 무기막을 형성하여 경화성 수지 조성물이 접속하는 표면의 표면 에너지를 증가시킬 수 있다. On the other hand, it is possible to increase the surface energy of the surface to which the curable resin composition is connected by forming an inorganic film on the mold having the pattern.

상기 무기막의 표면에너지는 50 erg/cm2 이상 80 erg/cm2 이하일 수 있다. The surface energy of the inorganic film was 50 erg / cm < 2 > More than 80 erg / cm 2 ≪ / RTI >

상기 무기막의 일면은 상기 몰드의 패턴에 접하고 상기 무기막의 타면은 상기 기판과 접하며, 상기 무기막이 상기 몰드의 패턴에 접하는 면 및 이의 반대면은 모두 상기 몰드의 패턴에 대응하는 패턴을 가질 수 있다. 즉, 상기 몰드 상에 무기막을 형성하여도 상기 무기막이 형성된 표면은 몰드의 패턴을 유지한다. One surface of the inorganic film is in contact with the pattern of the mold, the other surface of the inorganic film is in contact with the substrate, and the surface of the inorganic film in contact with the pattern of the mold and the opposite surface thereof all have a pattern corresponding to the pattern of the mold. That is, even if an inorganic film is formed on the mold, the surface on which the inorganic film is formed retains the pattern of the mold.

상기 무기막 상에 경화성 수지 조성물을 코팅하는 경우에는 디웨팅(dewetting)이 일어나지 않고 코팅이 균일하게 잘 되고, 경화성 수지 조성물이 경화된 기판을 몰드에서 쉽게 분리할 수 있는 장점이 있다. When the curable resin composition is coated on the inorganic film, dewetting does not occur, coating is uniformly performed, and the cured resin composition can be easily separated from the mold.

상기 1) 단계에서, 상기 무기막을 스퍼터링법, 웨트 코트법 또는 화학기상증착법의 방법으로 형성할 수 있다. In the step 1), the inorganic film may be formed by a method such as a sputtering method, a wet coating method, or a chemical vapor deposition method.

상기 1) 단계에서, 상기 무기막은 Si의 산화물 또는 질화물을 이용하여 제조될 수 있다. 구체적으로 SiO2, SiN, SiOxNy 등이 있으며, 바람직하게는 SiO2일 수 있다.In the step 1), the inorganic film may be produced using an oxide or nitride of Si. Specifically, SiO 2 , SiN, SiO x N y and the like can be used, and SiO 2 is preferable.

상기 무기막의 두께는 1 nm 이상 100 nm 이하일 수 있다. 이 경우 몰드의 패턴의 형상을 변형시키지 않으면서, 경화성 수지 조성물이 코팅되면서 디웨팅이 일어나지 않도록 표면에너지를 조절할 수 있다. The thickness of the inorganic film may be 1 nm or more and 100 nm or less. In this case, the surface energy can be controlled so that dewetting does not occur while the curable resin composition is coated, without deforming the shape of the pattern of the mold.

상기 경화성 수지 조성물의 조성은 패턴을 갖는 무기막 상에 코팅 후 경화하여 기판 적층체로서 사용하는 데 문제가 없다면, 특별히 한정하지 않는다.The composition of the curable resin composition is not particularly limited as long as it does not have a problem in using as a substrate laminate after curing after coating on an inorganic film having a pattern.

예를 들면, 상기 경화성 수지 조성물은 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리프로필렌(PP, polypropylene), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET, polyethylene Terephthalate), 폴리에틸렌에테르프탈레이트(polyethylene ether phthalate), 폴리에틸렌프탈레이트(polyethylene phthalate), 폴리부틸렌프탈레이트(polybuthylene phthalate), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN; Polyethylene Naphthalate), 폴리카보네이트(PC; polycarbonate), 폴리스티렌(PS, polystyrene), 폴리에테르이미드(polyether imide), 폴리에테르술폰(polyether sulfone), 폴리디메틸실록산(PDMS; polydimethyl siloxane), 폴리에테르에테르케톤(PEEK; Polyetheretherketone), 폴리이미드(PI; polyimide) 및 폴리아믹산(PAA; Polyamic Acid) 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다. For example, the curable resin composition may be a polyacrylate, a polypropylene (PP), a polyethylene terephthalate (PET), a polyethylene ether phthalate, a polyethylene phthalate, Polybutylene phthalate, polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC), polystyrene (PS), polyether imide, polyether sulfone, And may include at least one of polydimethylsiloxane (PDMS), polyetheretherketone (PEEK), polyimide (PI), and polyamic acid (PAA)

몰드 중 패턴이 돌출된 돌출부를 기준으로 상기 경화성 수지 조성물은 10 nm 이상 10 cm 이하의 두께로 코팅될 수 있다. The curable resin composition may be coated to a thickness of 10 nm or more and 10 cm or less based on protrusions on which the pattern protrudes in the mold.

상기 경화성 수지 조성물을 경화하는 방법은 조성물이 경화될 수 있다면 특별히 한정하지 않으나, 구체적으로 상기 경화성 수지 조성물 중 용매를 증발시키는 프리베이크의 단계 및 경화성 수지 조성물을 경화시키는 포스트베이크의 단계를 포함할 수 있다. The method of curing the curable resin composition is not particularly limited as long as the composition can be cured, but it may include a step of pre-baking to evaporate the solvent in the curable resin composition and a step of post-baking to cure the curable resin composition have.

상기 프리베이크의 조건은 80℃ 이상 120℃ 이하의 온도에서 20분 이상 60분 이하 동안 처리할 수 있으며, 상기 포스트베이크의 조건은 200℃ 이상 350℃ 이하의 온도에서 20분 이상 60분 이하 동안 처리할 수 있다. The conditions of the prebaking may be 20 to 60 minutes or less at a temperature of 80 to 120 DEG C, and the postbake conditions may be 20 to 60 minutes at 200 to 350 DEG C can do.

상기 형성된 기판의 일면은 평탄하고, 타면은 몰드의 패턴에 대응하여 패턴이 형성된다. 상기 패턴은 광추출 기능을 할 수 있도록 형성되며, 그 모양은 한정되지 않으나, 예를 들면 상기 패턴은 볼록 렌즈 또는 오목 렌즈 형상일 수 있다. One surface of the formed substrate is flat and the other surface is formed with a pattern corresponding to the pattern of the mold. The pattern is formed to be capable of extracting light, and its shape is not limited. For example, the pattern may be a convex lens or a concave lens.

상기 렌즈는 반원 단면 형상을 갖는 렌티큘라(lenticular) 렌즈 또는 삼각형 단면 형상을 갖는 프리즘 렌즈일 수 있다. The lens may be a lenticular lens having a semi-circular cross-sectional shape or a prism lens having a triangular cross-sectional shape.

상기 기판은 패턴은 각각의 패턴 사이에 간격이 있거나 연속된 패턴일 수 있다. 구체적으로 연속된 패턴일 수 있으며, 더 구체적으로 연속된 볼록 렌즈 또는 오목 렌즈 형상의 패턴일 수 있다. The pattern of the substrate can be a pattern with a gap or a continuous pattern between each pattern. Specifically, a continuous pattern, more specifically, a continuous convex lens or a concave lens-shaped pattern.

상기 기판의 패턴이 반원 단면 형상을 갖는 렌티큘라(lenticular) 렌즈의 형상일 경우, 상기 반원의 직경은 1 nm 이상 1 mm 이하일 수 있다. 필요에 따라, 1 nm 이상 100μm 이하일 수 있다.When the pattern of the substrate is a lenticular lens having a semi-circular cross-sectional shape, the diameter of the semicircle may be 1 nm or more and 1 mm or less. If necessary, it may be 1 nm or more and 100 占 퐉 or less.

본 명세서의 제조방법에 따라서 제조된 기판 적층체의 일면은 평탄하고, 타면은 패턴이 형성되어 있으며, 기판 상에 패턴을 형성하는 별도의 공정없이 기판과 패턴이 일체형으로 제조된 것이다. 이 경우 기판에 패턴을 형성하는 별도의 공정없이 패턴을 갖는 기판을 제조할 수 있어 공정이 간편하고 비용이 절약되는 장점이 있다. One side of the substrate laminate manufactured according to the manufacturing method of the present invention is flat, the other side has a pattern, and the substrate and the pattern are integrally manufactured without a separate process for forming a pattern on the substrate. In this case, it is possible to manufacture a substrate having a pattern without a separate process for forming a pattern on the substrate, which is advantageous in that the process is simple and the cost is reduced.

상기 기판 상의 패턴은 광추출 기능을 할 수 있어, 전자 소자에서 발생되는 빛 중 기판에 갇힌 글래스 모드(glass mode)의 빛을 외부로 추출할 수 있다. The pattern on the substrate can perform a light extracting function, and light in a glass mode trapped in the substrate among light generated in the electronic device can be extracted to the outside.

상기 기판은 투명 또는 불투명할 수 있으나, 투명한 것이 바람직하다. The substrate may be transparent or opaque, but is preferably transparent.

상기 기판의 광투과율은 50 %이상일 수 있으며, 필요에 따라 80 %이상일 수 있다. The light transmittance of the substrate may be 50% or more and, if necessary, 80% or more.

상기 기판의 광추출능은 80 %이상일 수 있다.The light extractability of the substrate may be 80% or more.

본 명세서의 일 실시상태에 따라, 상기 2) 단계 이후에 기판 상에 배리어층(barrier layer)을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 구체적으로 기판 중 패턴이 형성되지 않는 면에 배리어층(barrier layer)을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.According to one embodiment of the present disclosure, the method may further include forming a barrier layer on the substrate after the step 2). Specifically, the method may further include forming a barrier layer on a surface of the substrate where no pattern is formed.

상기 배리어층은 산소, 수분 등으로부터 침투를 방지하는 층이며, 이를 수행할 수 있다면 배리어층의 형성방법 및 재료 등은 한정하지 않는다. 예를 들면, 상기 배리어층은 원자층 증착법(ALD, Atomic Layer Deposition)으로 금속 또는 금속산화물을 증착하여 형성할 수 있다. The barrier layer is a layer for preventing penetration from oxygen, moisture and the like. If the barrier layer is capable of doing so, the method of forming the barrier layer and the material are not limited. For example, the barrier layer may be formed by depositing a metal or a metal oxide by ALD (Atomic Layer Deposition).

상기 원자층 증착법은 금속막 또는 금속산화막의 전구체의 증기가 진공 챔버 중에서 무기막이 형성된 기판 상에 흡수된다. 이때, 상기 전구체는 기판 상에 형성된 무기막 중 반응성기와 화학적으로 반응한다. 이어서, 기판에 흡수된 전구체와의 반응을 촉진시키는 조건 하에서 반응물을 챔버 중으로 도입하여 목적하는 금속막 또는 금속산화막을 형성한다. In the atomic layer deposition method, vapor of a metal film or a precursor of a metal oxide film is absorbed on a substrate in which an inorganic film is formed in a vacuum chamber. At this time, the precursor chemically reacts with the reactive group in the inorganic film formed on the substrate. Subsequently, the reaction product is introduced into the chamber under the condition promoting the reaction with the precursor adsorbed on the substrate to form a desired metal film or metal oxide film.

상기 금속막 또는 금속산화막이 다층인 경우에는 기판을 전구체의 증기에 노출하는 단계와 기판에 흡수된 전구체와 반응물을 반응시키는 단계를 2회 이상 반복하여 형성할 수 있다. 이와 같이 반복하여 다층의 금속막 또는 금속산화막을 형성하는 경우에는 각 층을 같은 물질로 형성할 수도 있고, 서로 다른 물질로 형성할 수도 있다. When the metal film or the metal oxide film is multi-layered, the step of exposing the substrate to the vapor of the precursor and the step of reacting the precursor absorbed in the substrate with the reactant may be repeated at least twice. When a multilayer metal film or a metal oxide film is repeatedly formed as described above, the respective layers may be formed of the same material or different materials.

상기 원자층 증착법에 의한 성장은 통상적인 화학기상증착법(CVD) 및 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온플래이팅법과 같은 물리적 기상 증착법(PVD, Physical Vapor Deposition)에 의한 성장과 대조를 이룬다. 구체적으로, 화학기상증착법 및 물리적 기상 증착법에 의한 성장은 기판 표면 상의 한정된 수의 핵형성 부위에서 개시 및 진행되므로, 컬럼 사이에 경계선을 갖는 원주형 미세구조체가 형성되며, 이를 따라 기체 투과가 용이하게 일어날 수 있다. 반면, 상기 원자층 증착법은 기판 표면 상에 틈이 없이 밀착된 매우 얇은 필름을 생성할 수 있으므로, 극히 낮은 가스 투과도를 가질 수 있다.The growth by the atomic layer deposition method is in contrast to the growth by a physical vapor deposition (PVD) method such as a general chemical vapor deposition (CVD) method, a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method. Specifically, the growth by the chemical vapor deposition method and the physical vapor deposition method starts and proceeds at a limited number of nucleation sites on the surface of the substrate, so that a columnar microstructure having a boundary line between the columns is formed, Can happen. On the other hand, the atomic layer deposition method can produce a very thin film adhering to the surface of the substrate without gaps, and thus can have extremely low gas permeability.

본 명세서는 1) 패턴을 갖는 몰드에 무기막을 형성하는 단계; The present disclosure includes: 1) forming an inorganic film on a mold having a pattern;

2) 상기 무기막 상에 경화성 수지 조성물을 코팅 후 경화하여 기판을 형성하는 단계; 및2) coating the curable resin composition on the inorganic film and curing to form a substrate; And

3) 상기 기판 상에 제1 전극, 1 이상의 유기물층 및 제2 전극이 순차적으로 적층된 유기 발광부를 형성하는 단계를 포함하는 전자 소자의 제조방법을 제공한다. 3) forming an organic light emitting portion in which a first electrode, at least one organic material layer, and a second electrode are sequentially stacked on the substrate.

여기서, 상기 기판 적층체의 제조방법과 중복되는 몰드, 무기막, 열경화성 수지 및 기판 등에 관한 설명은 동일하다.Here, the description of the mold, the inorganic film, the thermosetting resin and the substrate overlapping with the method of producing the substrate laminate is the same.

상기 제1 전극, 1 이상의 유기물층 및 제2 전극을 형성하는 방법은 특별히 한정하지 않으며, 당 기술분야에서 일반적으로 사용하는 기술로 제조될 수 있다. The method of forming the first electrode, the at least one organic material layer, and the second electrode is not particularly limited and may be manufactured by a technique commonly used in the art.

예컨대, 스퍼터링(sputtering)이나 전자빔 증발(e-beam evaporation)과 같은 PVD(physical vapor deposition) 방법을 이용하여, 기판 적층체 상에 금속 또는 전도성을 가지는 금속 산화물 또는 이들의 합금을 증착시켜 제1 전극을 형성하고, 그 위에 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층 및 전자 수송층을 포함하는 유기물층을 진공 증착법 또는 스핀 코팅, 딥 코팅, 잉크젯 프린팅, 스크린 프린팅, 스프레이법, 롤 코팅 등의 용액 도포법으로 형성한 후, 그 위에 제2 전극으로 사용할 수 있는 물질을 증착시킴으로써 제조될 수 있다. A metal oxide or a metal oxide having conductivity or an alloy thereof is deposited on the substrate stack by using a physical vapor deposition (PVD) method such as sputtering or e-beam evaporation, And an organic material layer including a hole injecting layer, a hole transporting layer, a light emitting layer and an electron transporting layer is formed thereon by a solution coating method such as a vacuum evaporation method, spin coating, dip coating, inkjet printing, screen printing, spraying or roll coating And thereafter depositing a material usable as a second electrode thereon.

상기 제1 전극, 1 이상의 유기물층 및 제2 전극의 재료는 특별히 한정하지 않으며, 당 기술분야에서 일반적으로 사용되는 물질을 사용할 수 있다. The material of the first electrode, the organic material layer, and the second electrode is not particularly limited, and materials commonly used in the art can be used.

상기 유기 발광부의 외측을 덮는 밀봉부를 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.And forming a sealing portion covering the outside of the organic light emitting portion.

상기 밀봉부가 유기 발광부의 외측을 덮으면서 유기 발광부를 밀봉할 수 있다면, 밀봉하는 방법 및 재료는 특별히 한정하지 않는다.If the sealing portion covers the outside of the organic light emitting portion and the organic light emitting portion can be sealed, the sealing method and material are not particularly limited.

예를 들면, 봉지 필름으로 압착하거나, 금속 또는 금속산화물을 증착하거나, 수지 조성물을 코팅 및 경화하여 밀봉할 수 있다. For example, it can be pressed by a sealing film, vapor-deposited with a metal or a metal oxide, or coated and cured by sealing the resin composition.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 1) 단계 이전에 캐리어 기판 상에 패턴을 갖는 몰드를 설치하는 단계를 더 포함할 수 있다. In one embodiment of the present specification, the method may further include the step of installing a mold having a pattern on the carrier substrate before the step (1).

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 3) 단계 이후에 상기 캐리어 기판을 분리하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이 때, 캐리어 기판의 분리방법은 나이프, 레이저 등 당 기술분야에 알려진 방법을 이용할 수 있고, 특히 나이프 만으로도 쉽게 분리할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the step of separating the carrier substrate after the step (3) may further comprise separating the carrier substrate. At this time, the method of separating the carrier substrate can use a method known in the art such as a knife, a laser, etc., and can be easily separated even with a knife.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 기판 적층체 상에 유기 발광부를 형성한 후 또는 상기 유기 발광부의 외측을 덮는 밀봉부를 형성한 후, 상기 패턴을 갖는 몰드를 기판으로부터 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the method further includes the step of removing the mold having the pattern after the formation of the sealing portion covering the outside of the organic light emitting portion after the organic light emitting portion is formed on the substrate laminate .

상기 패턴을 갖는 몰드를 기판으로부터 제거할 때, 기판과 몰드 사이의 친화도에 따라 기판과 몰드 사이에 위치하는 무기막은 몰드와 함께 기판으로부터 떨어지거나, 기판 상에 무기막이 남아 있을 수 있다. 이때, 상기 패턴을 갖는 몰드를 기판으로부터 제거한 뒤 기판 상에 무기막이 남아 있는 경우, 상기 무기막은 배리어층으로서 수분, 산소 등으로부터 차단하는 기능을 할 수 있다. When the mold having the pattern is removed from the substrate, the inorganic film located between the substrate and the mold may be separated from the substrate with the mold or an inorganic film may remain on the substrate depending on the affinity between the substrate and the mold. At this time, if the inorganic layer remains on the substrate after removing the mold having the pattern from the substrate, the inorganic layer may function as a barrier layer to block moisture, oxygen, and the like.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 기판 적층체 상에 유기 발광부를 형성한 후 또는 상기 유기 발광부의 외측을 덮는 밀봉부를 형성한 후, 캐리어 기판 상에 설치된 몰드를 캐리어 기판과 함께 기판으로부터 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, after forming the sealing portion covering the outside of the organic light emitting portion after forming the organic light emitting portion on the substrate stack, the mold provided on the carrier substrate is removed from the substrate together with the carrier substrate Step < / RTI >

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 캐리어 기판을 제거하기 전에 상기 유기 발광부의 외측을 덮는 밀봉부를 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the method may further include forming a sealing portion covering the outside of the organic light emitting portion before removing the carrier substrate.

상기 밀봉부가 유기 발광부의 외측을 덮으면서 유기 발광부를 밀봉할 수 있다면, 그 재료는 특별히 한정하지 않는다. 예를 들면, 봉지 필름으로 압착하거나, 금속 또는 금속산화물을 증착하거나, 수지 조성물을 코팅 및 경화하여 밀봉할 수 있다.The material is not particularly limited as long as the sealing portion covers the outside of the organic light emitting portion and can seal the organic light emitting portion. For example, it can be pressed by a sealing film, vapor-deposited with a metal or a metal oxide, or coated and cured by sealing the resin composition.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 밀봉부를 원자층 증착법으로 금속 또는 금속산화물을 증착하여 밀봉할 수 있다. In one embodiment of the present disclosure, the seal may be deposited by atomic layer deposition of a metal or metal oxide.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 밀봉부는 원자층 증착법으로 형성된 2층 이상의 금속층 또는 금속산화물층일 수 있다. In one embodiment of the present disclosure, the sealing portion may be a metal layer or a metal oxide layer of two or more layers formed by atomic layer deposition.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 밀봉부는 적어도 유기 발광부의 외측을 밀봉하며, 유기 발광부의 외측뿐만 아니라 노출된 기판 적층체의 외측도 밀봉할 수 있다.In one embodiment of the present disclosure, the sealing portion seals at least the outside of the organic light emitting portion, and may seal the outside of the organic light emitting portion as well as the exposed portion of the substrate stacked body.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 캐리어 기판을 분리한 후에 핀을 이용하여 지면으로부터 유기 발광부가 형성된 기판 적층체를 띄우는 단계; 및 유기 발광부의 외측과 기판 적층체의 외측을 원자층 증착법으로 금속층 또는 금속산화물층 형성하여 밀봉하는 단계를 더 포함할 수 있다. In one embodiment of the present disclosure, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: floating a substrate laminate on which an organic light emitting portion is formed from a ground using a fin after a carrier substrate is separated; And forming a metal layer or a metal oxide layer on the outer side of the organic light emitting portion and the outer side of the substrate stacked body by atomic layer deposition and sealing.

이때, 기판 적층체의 외측은 유기 발광부가 형성된 면 중 유기 발광부가 형성되지 않는 부분, 유기 발광부가 형성된 면의 반대면 및 측면을 포함한다. 구체적으로, 유기 발광부의 외측과 기판 적층체의 외측은 전자 소자의 전면을 의미한다.At this time, the outer side of the substrate stack includes a portion where the organic light emitting portion is not formed, a surface opposite to the surface where the organic light emitting portion is formed, and a side face. Specifically, the outside of the organic light emitting portion and the outside of the substrate laminate mean the front surface of the electronic device.

도 1에 도시된 바와 같이, a) 패턴을 갖는 몰드를 준비하는 단계; b) 상기 몰드 상에 스퍼터링법으로 SiO2의 무기막을 형성하는 단계; c) 상기 무기막 상에 폴리아믹산을 코팅 후 경화하여 기판을 형성하는 단계; d) 상기 기판 상에 제1 전극, 1 이상의 유기물층 및 제2 전극을 순차적으로 유기 발광부를 적층하는 단계; e) 상기 유기 발광부의 외측을 덮는 밀봉부를 형성하는 단계; 및 f) 몰드를 기판으로부터 제거하는 단계를 수행하여 전자 소자를 제조할 수 있다. As shown in Fig. 1, the method includes the steps of: a) preparing a mold having a pattern; b) forming an inorganic film of SiO 2 by a sputtering method on the mold; c) coating a polyamic acid on the inorganic film and then curing to form a substrate; d) sequentially stacking an organic light emitting portion on the substrate, the organic light emitting portion, the first electrode, the organic material layer, and the second electrode; e) forming a sealing portion covering the outside of the organic light emitting portion; And f) removing the mold from the substrate.

본 명세서는 상기 기판 적층체의 제조방법에 따라 제조된 전자 소자를 제공한다. The present invention provides an electronic device manufactured according to the method of manufacturing the substrate laminate.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 일면에 패턴이 일체형으로 구비된 기판 적층체를 제공한다. According to an embodiment of the present invention, there is provided a substrate laminate in which a pattern is integrally provided on one surface.

이때, 일면에 패턴이 일체형으로 구비된다는 것은 기판의 제조 시 일면에 패턴이 함께 제조되어 기판과 패턴의 재료가 동일하고 기판과 패턴 사이의 계면이 존재하지 않는 것을 의미한다. In this case, the fact that the pattern is integrally formed on one surface means that the pattern is formed on one surface of the substrate at the time of manufacturing the substrate, so that the material of the substrate and the pattern are the same and there is no interface between the substrate and the pattern.

상기 패턴은 볼록 렌즈 또는 오목 렌즈 일 수 있다. The pattern may be a convex lens or a concave lens.

상기 기판의 패턴이 구비된 일면에 구비된 무기막을 더 포함할 수 있다. And an inorganic film provided on one surface of the substrate having the pattern thereon.

본 명세서의 다른 실시상태에 있어서, 일면에 패턴이 일체형으로 구비된 기판; 및 According to another embodiment of the present invention, there is provided a semiconductor device comprising: a substrate; And

상기 패턴이 구비된 기판의 일면에 구비된 무기막을 포함하는 기판 적층체를 제공한다. And an inorganic film provided on one surface of the substrate provided with the pattern.

상기 무기막은 상기 패턴이 구비된 기판의 일면 중 일부에 구비되거나 전체에 구비될 수 있다. The inorganic film may be provided on a part of one surface of the substrate provided with the pattern, or may be provided on the entire surface.

상기 패턴은 볼록 렌즈 또는 오목 렌즈 일 수 있다.The pattern may be a convex lens or a concave lens.

본 명세서의 또 다른 실시상태에 있어서, 일면에 패턴을 갖는 몰드;In yet another embodiment of the present disclosure, a mold having a pattern on one side;

상기 패턴을 갖는 몰드 상에 구비된 기판; 및 A substrate provided on the mold having the pattern; And

상기 몰드와 기판 사이에 구비된 무기막을 포함하는 것인 기판 적층체를 제공한다. And an inorganic film provided between the mold and the substrate.

상기 패턴은 양각 패턴 또는 음각 패턴일 수 있으며, 상기 패턴은 규칙적인 패턴을 가질 수도 있고, 불규칙한 요철 형태를 가질 수도 있다. The pattern may be a relief pattern or a relief pattern, and the pattern may have a regular pattern or an irregular relief pattern.

상기 패턴의 형태는 광추출 기능을 할 수 있다면, 패턴의 형태는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 상기 패턴은 불규칙한 요철이거나, 볼록 렌즈 또는 오목 렌즈 형상의 패턴일 수 있다.The shape of the pattern is not particularly limited as long as the shape of the pattern is capable of extracting light. For example, the pattern may be irregular irregularities, or may be a convex lens or concave lens-shaped pattern.

상기 렌즈는 빛을 모으거나 분산하는 기능을 할 수 있다면 세부적인 형태는 한정하지 않는다. 예를 들면, 상기 렌즈는 반원 단면 형상을 갖는 렌티큘라(lenticular) 렌즈 또는 삼각형 단면 형상을 갖는 프리즘 렌즈일 수 있다.The shape of the lens is not limited as long as it can function to collect or disperse light. For example, the lens may be a lenticular lens having a semi-circular cross-sectional shape or a prismatic lens having a triangular cross-sectional shape.

상기 렌즈는 각각의 렌즈 사이에 간격이 있거나 연속된 렌즈 형상일 수 있다. 구체적으로 연속된 렌즈 형상의 패턴일 수 있다.The lens may be spaced or continuous in the form of a lens between each lens. It may be a pattern of a continuous lens shape.

상기 렌즈가 반원 단면 형상을 갖는 렌티큘라(lenticular) 렌즈의 형상일 경우, 상기 반원의 직경은 1 nm 이상 1 mm 이하일 수 있다. 필요에 따라, 1 nm 이상 100 μm 이하일 수 있다.When the lens has a shape of a lenticular lens having a semicircular cross-sectional shape, the diameter of the semicircle may be 1 nm or more and 1 mm or less. If necessary, it may be 1 nm or more and 100 μm or less.

도 2에 도시된 바와 같이, 상기 렌즈가 반원 단면 형상을 갖는 렌티큘라(lenticular) 렌즈의 형상일 경우 광학 현미경의 사진과 같이 제조될 수 있다.As shown in FIG. 2, when the lens is in the form of a lenticular lens having a semi-circular cross-sectional shape, it can be manufactured as shown in the photograph of the optical microscope.

본 명세서에서, 상기 패턴은 높이 차이가 있는 요철일 수 있다.In this specification, the pattern may be a concavo-convex having a height difference.

상기 무기막의 일면은 상기 몰드의 패턴에 접하고 상기 무기막의 타면은 상기 기판과 접하며, 상기 무기막이 상기 몰드의 패턴에 접하는 면 및 이의 반대면은 모두 상기 몰드의 패턴에 대응하는 패턴을 가질 수 있다.One surface of the inorganic film is in contact with the pattern of the mold, the other surface of the inorganic film is in contact with the substrate, and the surface of the inorganic film in contact with the pattern of the mold and the opposite surface thereof all have a pattern corresponding to the pattern of the mold.

상기 무기막은 Si의 산화물 또는 질화물을 포함할 수 있다. 구체적으로 SiO2, SiN, SiOxNy 등이 있으며, 바람직하게는 SiO2일 수 있다.The inorganic film may include an oxide or nitride of Si. Specifically, SiO 2 , SiN, SiO x N y and the like can be used, and SiO 2 is preferable.

상기 무기막의 두께는 1 nm 이상 100 nm 이하일 수 있다. 이 경우 몰드의 패턴을 따라 증착되어 무기막을 증착한 후에도 패턴의 형태가 유지되는 장점이 있다.The thickness of the inorganic film may be 1 nm or more and 100 nm or less. In this case, the shape of the pattern is maintained even after the deposition of the inorganic film by the pattern of the mold.

상기 기판 적층체 또는 기판은 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리프로필렌(PP, polypropylene), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET, polyethylene Terephthalate), 폴리에틸렌에테르프탈레이트(polyethylene ether phthalate), 폴리에틸렌프탈레이트(polyethylene phthalate), 폴리부틸렌프탈레이트(polybuthylene phthalate), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN; Polyethylene Naphthalate), 폴리카보네이트(PC; polycarbonate), 폴리스티렌(PS, polystyrene), 폴리에테르이미드(polyether imide), 폴리에테르술폰(polyether sulfone), 폴리디메틸실록산(PDMS; polydimethyl siloxane), 폴리에테르에테르케톤(PEEK; Polyetheretherketone), 폴리이미드(PI; polyimide) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종의 재질을 포함할 수 있다.The substrate laminate or substrate may be formed of a material selected from the group consisting of polyacrylate, polypropylene (PP), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene ether phthalate, polyethylene phthalate, Polybutylene phthalate, polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC), polystyrene (PS), polyether imide, polyether sulfone, polydimethyl A material selected from the group consisting of polydimethyl siloxane (PDMS), polyether etherketone (PEEK), polyimide (PI), and combinations thereof.

본 명세서에서, 상기 기판은 일면에 패턴이 일체형으로 구비된 기판이 2 이상 적층된 것일 수 있다. In this specification, the substrate may be a stack of two or more substrates on one side of which a pattern is integrally formed.

본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 기판 적층체의 수증기 투과율은 10-1 g/m2Day 이하일 수 있으며, 구체적으로 10-3 g/m2Day 이하일 수 있고, 구체적으로 10-5 g/m2Day 이하일 수 있다. 이 경우 상기 기판 적층체 상에 구비된 후술할 유기 발광부가 수분으로부터 보호될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the substrate laminate may have a water vapor transmission rate of 10 -1 g / m 2 Day or less, specifically 10 -3 g / m 2 Day or less, specifically 10 -5 g / m 2 Day or less. In this case, the organic light emitting portion provided on the substrate stack body described later can be protected from moisture.

본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 기판 적층체의 광 투과율은 50 % 이상일 수 있으며, 구체적으로 80 % 이상일 수 있다. 이 경우 상기 기판 적층체가 빛이 투과해야 하는 전자 소자의 기판으로 적용되는 경우에도 빛을 투과시킬 수 있는 장점이 있다.According to one embodiment of the present disclosure, the light transmittance of the substrate laminate may be 50% or more, specifically 80% or more. In this case, even when the substrate laminate is applied to a substrate of an electronic device through which light should pass, there is an advantage that light can be transmitted.

본 명세서에 따른 기판 적층체; 및A substrate laminate according to the present invention; And

상기 기판 적층체의 타면에 제1 전극, 1 이상의 유기물층 및 제2 전극이 순차적으로 적층된 유기 발광부를 포함하는 전자 소자를 제공한다. And an organic light emitting portion in which a first electrode, at least one organic material layer, and a second electrode are sequentially stacked on the other surface of the substrate stacked body.

본 명세서에서, “기판 적층체”는 적어도 기판을 포함하고, 기판의 일측 및 타측 중 1 이상에 형성된 기능층을 더 포함할 수 있다. 상기 기능층으로는 내부 배리어층, 외부 배리어층, 광추출층, 평탄층, 점착층 등일 수 있다.As used herein, " substrate laminate " includes at least a substrate, and may further include a functional layer formed on at least one of the one side and the other side of the substrate. The functional layer may be an inner barrier layer, an outer barrier layer, a light extraction layer, a flat layer, an adhesive layer, or the like.

상기 제1 전극은 양극 또는 음극일 수 있으며, 제2 전극은 제1 전극과 반대로 양극 또는 음극일 수 있다. 즉, 제1 전극이 양극일 때에는 제2 전극은 음극이고, 제1 전극이 음극일 때에는 제2 전극은 양극일 수 있다.The first electrode may be an anode or a cathode, and the second electrode may be an anode or a cathode, as opposed to the first electrode. That is, when the first electrode is an anode, the second electrode is a cathode, and when the first electrode is a cathode, the second electrode may be an anode.

상기 유기물층은 유기물로 구성되어 전기에너지를 빛에너지로 전환하는 층이며, 두 전극 사이에 전압을 걸어주게 되면 양극에서는 정공이, 음극에서는 전자가 유기물층에 주입되게 되고, 주입된 정공과 전자가 만났을 때 엑시톤(exciton)이 형성되며, 이 엑시톤이 다시 바닥상태로 떨어질 때 빛이 나게 된다.When the voltage is applied between the two electrodes, holes are injected in the anode, electrons are injected into the organic layer in the anode, and electrons are injected into the organic layer when the injected holes and electrons meet each other An exciton is formed, and light is emitted when the exciton falls back to the ground state.

상기 유기물층은 유기 전자 소자의 효율과 안정성을 높이기 위하여 각기 다른 물질로 구성된 다층의 구조로 이루어질 수 있으며, 예컨대 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전자주입층 등으로 이루어 질 수 있다.The organic material layer may have a multi-layer structure composed of different materials in order to improve the efficiency and stability of the organic electronic device. For example, the organic material layer may include a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer.

상기 양극, 음극 및 유기물층의 재질은 각각 양극, 음극 및 유기물층의 기능을 할 수 있다면 특별히 한정하지 않으며, 당 기술분야에서 일반적으로 사용하는 재질을 사용할 수 있다.The materials of the anode, cathode, and organic layer are not particularly limited as long as they can function as an anode, a cathode, and an organic layer, respectively. Materials commonly used in the art can be used.

본 명세서에서, “순차적으로”라는 표현은 기판 상에 제1 전극, 유기물층 및 제2전극 중에서 상대적으로 형성되는 순서를 의미한다. In the present specification, the expression " sequentially " means a sequence in which the first electrode, the organic layer, and the second electrode are relatively formed on the substrate.

본 명세서에서, 제1 전극과 유기물층이 접하고 상기 유기물층에 제2 전극이 접하여 형성되거나, 기판과 제1 전극의 사이, 제1 전극과 유기물층의 사이 및 유기물층과 제2 전극의 사이 중 적어도 하나에 추가의 기능층, 중간전극 등이 1 이상 추가될 수 있다.In this specification, the first electrode and the organic layer are in contact with each other, the organic layer is in contact with the second electrode, or the organic layer is in contact with at least one of the substrate and the first electrode, between the first electrode and the organic layer, An intermediate electrode, or the like may be added.

상기 유기 발광부의 외측을 덮는 밀봉부를 더 포함할 수 있다.And a sealing part covering the outside of the organic light emitting part.

상기 밀봉부가 유기 발광부의 외측을 덮으면서 유기 발광부를 밀봉할 수 있다면, 그 재료는 특별히 한정하지 않는다.The material is not particularly limited as long as the sealing portion covers the outside of the organic light emitting portion and can seal the organic light emitting portion.

예를 들면, 봉지 필름으로 압착하거나, 금속 또는 금속산화물을 증착하거나, 수지 조성물을 코팅 및 경화하여 밀봉할 수 있다.For example, it can be pressed by a sealing film, vapor-deposited with a metal or a metal oxide, or coated and cured by sealing the resin composition.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 밀봉부는 원자층 증착법으로 금속 또는 금속산화물을 증착하여 형성될 수 있다. In one embodiment of the present disclosure, the seal may be formed by depositing a metal or a metal oxide by atomic layer deposition.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 밀봉부는 원자층 증착법으로 형성된 2층 이상의 금속층 또는 금속산화물층일 수 있다. In one embodiment of the present disclosure, the sealing portion may be a metal layer or a metal oxide layer of two or more layers formed by atomic layer deposition.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 밀봉부는 적어도 유기 발광부의 외측을 밀봉하며, 유기 발광부의 외측뿐만 아니라 노출된 기판 적층체의 외측도 밀봉할 수 있다.In one embodiment of the present disclosure, the sealing portion seals at least the outside of the organic light emitting portion, and may seal the outside of the organic light emitting portion as well as the exposed portion of the substrate stacked body.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 유기 발광부를 형성한 후 또는 캐리어 기판을 분리한 후에 핀을 이용하여 지면으로부터 유기 발광부가 형성된 기판 적층체를 띄우는 단계; 및 유기 발광부의 외측과 기판 적층체의 외측을 원자층 증착법으로 금속층 또는 금속산화물층 형성하여 밀봉하는 단계를 더 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a light emitting device, comprising: floating a substrate laminate formed with an organic light emitting portion from a ground using a fin after forming an organic light emitting portion or after separating a carrier substrate; And forming a metal layer or a metal oxide layer on the outer side of the organic light emitting portion and the outer side of the substrate stacked body by atomic layer deposition and sealing.

이때, 기판 적층체의 외측은 유기 발광부가 형성된 면 중 유기 발광부가 형성되지 않는 부분, 유기 발광부가 형성된 면의 반대면 및 측면을 포함한다.At this time, the outer side of the substrate stack includes a portion where the organic light emitting portion is not formed, a surface opposite to the surface where the organic light emitting portion is formed, and a side face.

상기 기판 적층체와 상기 제1 전극 사이에 광추출층을 더 포함할 수 있다. And a light extracting layer between the substrate stack and the first electrode.

본 명세서에 있어서, 상기 광추출층은 광산란을 유도하여, 소자의 광추출 효율을 향상시킬 수 있는 구조라면 특별히 제한하지 않는다. 하나의 실시상태에 있어서, 상기 광추출층은 바인더 내에 산란입자가 분산된 구조일 수 있다. 또 다른 하나의 실시상태에 있어서, 상기 광추출층은 다수의 렌즈 등과 같은 돌기 구조에 의해서 광을 산란하는 구조일 수 있다. In this specification, the light extracting layer is not particularly limited as long as it can induce light scattering and improve light extraction efficiency of the device. In one embodiment, the light extracting layer may be a structure in which scattering particles are dispersed in the binder. In another embodiment, the light extracting layer may be a structure for scattering light by a projection structure such as a plurality of lenses or the like.

또한, 상기 광추출층은 스핀 코팅, 바 코팅, 슬릿 코팅 등의 방법에 의하여 직접 형성되거나, 필름 형태로 제작하여 부착하는 방식에 의하여 형성될 수 있다.The light extracting layer may be formed directly by a method such as spin coating, bar coating or slit coating, or may be formed in a film form.

본 명세서에 있어서, 상기 광추출층 상에 구비된 평탄층을 더 포함할 수 있다.In this specification, the light extracting layer may further include a flat layer provided on the light extracting layer.

상기 전자 소자의 예로는 유기 발광 소자, 유기 태양전지, 유기 감광체(OPC), 유기 트랜지스터 등이 있으나, 이에만 한정되지 않는다.Examples of the electronic device include, but are not limited to, an organic light emitting device, an organic solar cell, an organic photoconductor (OPC), and an organic transistor.

본 명세서에 있어서, 상기 패턴이 형성된 몰드 상에 무기막 및 기판을 형성하여 기판 적층제를 제조하는 공정; 및 기판 적층체 상에 배리어층, 광추출층 및 유기 발광부 중 적어도 하나를 순차적으로 형성하는 공정은 플레이트 투 플레이트(plate-to-plate) 공정 또는 롤 투 플레이트(roll-to-plate) 공정뿐만 아니라, 롤투롤(roll-to-roll) 공정을 이용할 수 있다. 특히, 본 출원에서는 롤투롤 공정을 이용하여 전자 소자를 제조할 수 있으므로, 공정비용을 절감할 수 있는 특징이 있다.In this specification, the steps of forming a substrate laminate by forming an inorganic film and a substrate on a mold having the pattern formed thereon; And a step of sequentially forming at least one of the barrier layer, the light extracting layer and the organic light emitting portion on the substrate laminate is a plate-to-plate process or a roll-to-plate process Alternatively, a roll-to-roll process may be used. Particularly, since the present invention can manufacture an electronic device by using a roll-to-roll process, there is a feature that the process cost can be reduced.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 전자 소자는 유기 발광 소자일 수 있다. In one embodiment of the present invention, the electronic device may be an organic light emitting device.

상기 전자 소자는 플렉서블 유기 발광 소자일 수 있다. 이 경우, 상기 기판 적층체가 플렉서블 재료를 포함한다. 예컨대, 휘어질 수 있는 박막 형태의 글래스, 플라스틱 또는 필름 형태의 기판을 사용할 수 있다.The electronic device may be a flexible organic light emitting device. In this case, the substrate stack includes a flexible material. For example, a substrate of glass, plastic or film type in the form of a thin film which can be bent can be used.

상기 플라스틱 기판의 재질은 특별히 한정하지는 않으나, 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리프로필렌(PP, polypropylene), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET, polyethylene Terephthalate), 폴리에틸렌에테르프탈레이트(polyethylene ether phthalate), 폴리에틸렌프탈레이트(polyethylene phthalate), 폴리부틸렌프탈레이트(polybuthylene phthalate), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN; Polyethylene Naphthalate), 폴리카보네이트(PC; polycarbonate), 폴리스티렌(PS, polystyrene), 폴리에테르이미드(polyether imide), 폴리에테르술폰(polyether sulfone), 폴리디메틸실록산(PDMS; polydimethyl siloxane), 폴리에테르에테르케톤(PEEK; Polyetheretherketone), 폴리이미드(PI; polyimide) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종의 재질을 포함할 수 있다. 상기 플라스틱 기판은 단층 또는 복층의 형태로 사용할 수 있다.The material of the plastic substrate is not particularly limited, but may be selected from the group consisting of polyacrylate, polypropylene (PP), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene ether phthalate, polyethylene phthalate ), Polybuthylene phthalate, polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC), polystyrene (PS), polyether imide, polyether sulfone ), Polydimethyl siloxane (PDMS), polyether etherketone (PEEK), polyimide (PI), and combinations thereof. The plastic substrate may be used in the form of a single layer or a multilayer.

또한, 본 명세서는 상기 전자 소자를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다. Further, the present specification provides a display device including the electronic device.

상기 디스플레이 장치는 백라이트 유닛과 화소부를 포함하며, 본 명세서의 전자 소자는 상기 백라이트 유닛과 화소부 중 적어도 하나에 포함될 수 있다. The display device includes a backlight unit and a pixel portion, and the electronic device may be included in at least one of the backlight unit and the pixel portion.

또한, 본 명세서는 상기 전자 소자를 포함하는 조명 장치를 제공한다.Further, the present specification provides a lighting apparatus including the electronic device.

상기 조명 장치는 백색의 조명 장치이거나 유색의 조명 장치일 수 있다. 이때, 요구되는 조명 색에 따라 본 명세서의 전자 소자의 발광색을 조절하여 조명 장치에 포함될 수 있다.The illumination device may be a white illumination device or a colored illumination device. At this time, according to the required illumination color, the emission color of the electronic device of the present specification can be adjusted and included in the illumination device.

Claims (32)

1) 패턴을 갖는 몰드에, 몰드의 패턴에 접하는 면 및 이의 반대면이 모두 상기 몰드의 패턴에 대응하는 패턴을 갖는 무기막을 형성하는 단계; 및
2) 상기 무기막 상에 경화성 수지 조성물을 코팅 후 경화하여 일면은 평탄하고, 타면은 몰드의 패턴에 대응하며, 패턴과 기판이 일체형으로 형성된 기판을 형성하는 단계를 포함하는 것인 기판 적층체의 제조방법.
1) forming an inorganic film on a mold having a pattern, the face contacting the pattern of the mold and the opposite face thereof having a pattern corresponding to the pattern of the mold; And
2) coating the curable resin composition on the inorganic film and then curing to form a substrate having a flat surface on one side and a pattern corresponding to the pattern on the other side and the pattern and the substrate being integrally formed; Gt;
청구항 1에 있어서, 상기 무기막의 일면은 상기 몰드의 패턴에 접하고 상기 무기막의 타면은 상기 기판과 접하는 것인 기판 적층체의 제조방법.The method according to claim 1, wherein one side of the inorganic film is in contact with the pattern of the mold, and the other side of the inorganic film is in contact with the substrate. 청구항 1에 있어서, 상기 2) 단계에서, 상기 경화성 수지 조성물은 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리프로필렌(PP, polypropylene), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET, polyethylene Terephthalate), 폴리에틸렌에테르프탈레이트(polyethylene ether phthalate), 폴리에틸렌프탈레이트(polyethylene phthalate), 폴리부틸렌프탈레이트(polybuthylene phthalate), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN; Polyethylene Naphthalate), 폴리카보네이트(PC; polycarbonate), 폴리스티렌(PS, polystyrene), 폴리에테르이미드(polyether imide), 폴리에테르술폰(polyether sulfone), 폴리디메틸실록산(PDMS; polydimethyl siloxane), 폴리에테르에테르케톤(PEEK; Polyetheretherketone), 폴리이미드(PI; polyimide) 및 이들의 조합 중 어느 하나 이상을 포함하는 것인 기판 적층체의 제조방법.The method according to claim 1, wherein the curable resin composition is selected from the group consisting of polyacrylate, polypropylene (PP), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene ether phthalate, But are not limited to, polyethylene phthalate, polybuthylene phthalate, polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC), polystyrene (PS), polyether imide, poly Wherein the substrate laminate comprises at least one of polyether sulfone, polydimethyl siloxane (PDMS), polyether etherketone (PEEK), polyimide (PI), and combinations thereof. ≪ / RTI > 청구항 1에 있어서, 상기 1) 단계 이전에, 폴리디메틸실록산(PDMS, Polydimethylsiloxane)을 이용하여 패턴을 갖는 몰드를 준비하는 단계를 포함하는 것인 기판 적층체의 제조방법.The method of claim 1, comprising preparing a mold having a pattern using polydimethylsiloxane (PDMS) prior to step 1). 청구항 1에 있어서, 상기 패턴은 볼록 렌즈 또는 오목 렌즈 형상의 패턴인 것인 기판 적층체의 제조방법.The method according to claim 1, wherein the pattern is a convex lens or a concave lens-like pattern. 청구항 5에 있어서, 상기 렌즈는 반원 단면 형상을 갖는 렌티큘라(lenticular) 렌즈 또는 삼각형 단면 형상을 갖는 프리즘 렌즈인 것인 기판 적층체의 제조방법.The method according to claim 5, wherein the lens is a lenticular lens having a semicircular cross-sectional shape or a prismatic lens having a triangular cross-sectional shape. 청구항 1에 있어서, 상기 1) 단계에서, 상기 무기막을 스퍼터링법, 웨트 코트법 또는 화학기상증착법의 방법으로 형성하는 것인 기판 적층체의 제조방법.The method according to claim 1, wherein in the step (1), the inorganic film is formed by a sputtering method, a wet coating method, or a chemical vapor deposition method. 청구항 1에 있어서, 상기 1) 단계에서, 상기 무기막은 Si의 산화물 또는 질화물을 이용하여 제조된 것인 기판 적층체의 제조방법.The method according to claim 1, wherein in the step (1), the inorganic film is made of an oxide or nitride of Si. 청구항 1에 있어서, 상기 무기막의 두께는 1 nm 이상 100 nm 이하인 것인 기판 적층체의 제조방법.The method according to claim 1, wherein the inorganic film has a thickness of 1 nm or more and 100 nm or less. 청구항 1에 있어서, 상기 2) 단계 이후에 기판 상에 배리어층(barrier layer)을 형성하는 단계를 더 포함하는 것인 기판 적층체의 제조방법.2. The method of claim 1, further comprising forming a barrier layer on the substrate after step (2). 청구항 1에 있어서, 상기 무기막의 표면에너지는 50 erg/cm2 이상 80 erg/cm2 이하인 것인 기판 적층체의 제조방법.The method according to claim 1, wherein the surface energy of the inorganic film is not less than 50 erg / cm 2 and not more than 80 erg / cm 2 . 청구항 1 내지 11 중 어느 한 항에 따라 제조된 기판 적층체 상에 제1 전극, 1 이상의 유기물층 및 제2 전극이 순차적으로 적층된 유기 발광부를 형성하는 단계를 포함하는 전자 소자의 제조방법.A method of manufacturing an electronic device, comprising: forming an organic light emitting portion in which a first electrode, at least one organic material layer, and a second electrode are sequentially laminated on a substrate laminate manufactured according to any one of claims 1 to 11. 청구항 12에 있어서, 상기 유기 발광부의 외측을 덮는 밀봉부를 형성하는 단계를 더 포함하는 전자 소자의 제조방법.The method of manufacturing an electronic device according to claim 12, further comprising the step of forming a sealing portion covering the outside of the organic light emitting portion. 청구항 12에 있어서, 상기 기판 적층체 상에 유기 발광부를 형성한 후, 상기 패턴을 갖는 몰드를 기판으로부터 제거하는 단계를 더 포함하는 전자 소자의 제조방법.13. The method of manufacturing an electronic device according to claim 12, further comprising the step of removing the mold having the pattern from the substrate after forming the organic light emitting portion on the substrate laminate. 청구항 12의 제조방법에 따라 제조된 전자 소자.An electronic device manufactured according to the manufacturing method of claim 12. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 일면에 패턴을 갖는 몰드;
상기 패턴을 갖는 몰드 상에 일면은 평탄하고, 타면은 몰드의 패턴에 대응하며, 패턴과 기판이 일체형으로 구비된 기판; 및
상기 몰드와 기판 사이에 구비된, 몰드의 패턴에 접하는 면 및 이의 반대면이 모두 상기 몰드의 패턴에 대응하는 패턴을 갖는 무기막을 포함하는 것인 기판 적층체.
A mold having a pattern on one side;
A substrate having a pattern on one side and a pattern on the other side corresponding to the pattern of the mold, the pattern being integrated with the substrate; And
And an inorganic film provided between the mold and the substrate, the face being in contact with the pattern of the mold, and the opposite face thereof all having a pattern corresponding to the pattern of the mold.
청구항 19에 있어서, 상기 패턴은 볼록 렌즈 또는 오목 렌즈인 것인 기판 적층체.21. The substrate stack of claim 19, wherein the pattern is a convex lens or a concave lens. 청구항 20에 있어서, 상기 렌즈는 반원 단면 형상을 갖는 렌티큘라(lenticular) 렌즈 또는 삼각형 단면 형상을 갖는 프리즘 렌즈인 것인 기판 적층체.21. The substrate stack of claim 20, wherein the lens is a lenticular lens having a semicircular cross-sectional shape or a prismatic lens having a triangular cross-sectional shape. 청구항 19에 있어서, 상기 무기막의 일면은 상기 몰드의 패턴에 접하고 상기 무기막의 타면은 상기 기판과 접하는 것인 기판 적층체.The substrate laminate according to claim 19, wherein one side of the inorganic film is in contact with the pattern of the mold and the other side of the inorganic film is in contact with the substrate. 청구항 19에 있어서, 상기 무기막은 Si의 산화물 또는 질화물을 포함하는 것인 기판 적층체.21. The substrate laminate according to claim 19, wherein the inorganic film comprises an oxide or nitride of Si. 청구항 19에 있어서, 상기 무기막의 두께는 1 nm 이상 100 nm 이하인 것인 기판 적층체.The substrate laminate according to claim 19, wherein the inorganic film has a thickness of 1 nm or more and 100 nm or less. 청구항 19에 있어서, 상기 기판은 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리프로필렌(PP, polypropylene), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET, polyethylene Terephthalate), 폴리에틸렌에테르프탈레이트(polyethylene ether phthalate), 폴리에틸렌프탈레이트(polyethylene phthalate), 폴리부틸렌프탈레이트(polybuthylene phthalate), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN; Polyethylene Naphthalate), 폴리카보네이트(PC; polycarbonate), 폴리스티렌(PS, polystyrene), 폴리에테르이미드(polyether imide), 폴리에테르술폰(polyether sulfone), 폴리디메틸실록산(PDMS; polydimethyl siloxane), 폴리에테르에테르케톤(PEEK; Polyetheretherketone), 폴리이미드(PI; polyimide) 및 이들의 조합 중 어느 하나 이상을 포함하는 것인 기판 적층체.21. The method of claim 19, wherein the substrate is selected from the group consisting of polyacrylate, polypropylene (PP), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene ether phthalate, polyethylene phthalate, poly Polybutylene phthalate, polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC), polystyrene (PS), polyether imide, polyether sulfone, poly Wherein the substrate laminate comprises at least one of a polydimethyl siloxane (PDMS), a polyetheretherketone (PEEK), a polyimide (PI), and a combination thereof. 청구항 19의 기판 적층체; 및
상기 기판 적층체의 타면에 제1 전극, 1 이상의 유기물층 및 제2 전극이 순차적으로 적층된 유기 발광부를 포함하는 전자 소자.
The substrate stack of claim 19; And
And an organic light emitting portion in which a first electrode, at least one organic material layer, and a second electrode are sequentially stacked on the other surface of the substrate stack.
청구항 26에 있어서, 상기 기판 적층체와 상기 제1 전극 사이에 광추출층을 더 포함하는 것인 전자 소자.27. The electronic device of claim 26, further comprising a light extraction layer between the substrate stack and the first electrode. 청구항 27에 있어서, 상기 광추출층 상에 구비된 평탄층을 더 포함하는 것인 전자 소자.29. The electronic device of claim 27, further comprising a planarizing layer disposed on the light extracting layer. 청구항 26에 있어서, 상기 전자 소자는 유기 발광 소자인 것인 전자 소자.27. The electronic device of claim 26, wherein the electronic device is an organic light emitting device. 청구항 26에 있어서, 상기 전자 소자는 플렉서블 유기 발광 소자인 것인 전자 소자.27. The electronic device of claim 26, wherein the electronic device is a flexible organic light emitting device. 청구항 26의 전자 소자를 포함하는 디스플레이 장치.A display device comprising an electronic device according to claim 26. 청구항 26의 전자 소자를 포함하는 조명 장치.A lighting device comprising the electronic device of claim 26.
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