KR101875458B1 - Fingerprint detection device and operation method thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 지문 현출 장치는 중공의 제2 챔버와; 상기 제2 챔버와 이격 구비되며 개폐 가능한 도어가 구비된 중공의 본체와, 상기 본체 내에 구비되며 가열되는 가열부와, 상기 본체 내에 구비되며 검체가 적치되는 적치부로 이루어진 제1 챔버와;
일측은 상기 제1 챔버에 연결되고 타측은 제2 챔버에 연결되어 상기 제1 챔버와 제2 챔버를 연통시키는 2개의 서로 이격된 순환관과;
상기 제2 챔버를 관통하여 상기 제2 챔버 내에 하나 이상의 분사 노즐이 구비되며 제3 밸브가 구비된 공급관과;
일측이 제2 챔버에 연결되어 외부와 연통되며 제4 밸브가 구비된 배수관으로 이루어지며;
상기 제1 챔버와 제2 챔버는 상기 순환관에 의해 순환 구조가 형성되며, 상기 순환관에는 순환수단이 구비되는 것을 특징으로 하는 지문 현출 장치에 관한 것이다.The fingerprint sensing device according to the present invention comprises: a hollow second chamber; A first chamber provided in the main body and configured to be heated; a first chamber provided in the main body and having a sample to which the sample is immobilized;
Two spaced-apart circulation tubes, one side of which is connected to the first chamber and the other side of which is connected to the second chamber and which communicates the first chamber and the second chamber;
A supply pipe passing through the second chamber and having at least one injection nozzle in the second chamber and having a third valve;
And a drain pipe having one side connected to the second chamber and communicating with the outside and having a fourth valve;
Wherein the first chamber and the second chamber are formed in a circulation structure by the circulation pipe, and circulation means is provided in the circulation pipe.

Description

지문 현출 장치와 그의 작동 방법{Fingerprint detection device and operation method thereof}[0001] Fingerprint detection device and operation method [

본 발명은 지문 현출 장치와 그의 작동 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 2개의 챔버가 순환 구조를 이루며 1개의 챔버에 스크러버를 설치하여 챔버 내 유해 가스를 처리하는 지문 현출 장치와 그의 작동 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a fingerprint detection device and a method of operating the fingerprint detection device, and more particularly, to a fingerprint detection device and a method of operating the fingerprint detection device, wherein two chambers form a circulation structure and a scrubber is provided in one chamber, will be.

일반적으로 잠재 지문 현출 작업에는 기체법, 분말법, 액체법이 주로 사용된다. 기체법으로 이루어지는 지문 현출 장치에서는 CA(CyanoAcrylate:시아노아크릴레이트,순간접착제)가 사용된다. 지문 현출 장치 내부에는 가열부가 설치되며, 상기 가열부에 CA현출제를 놓고 가열하여 훈증된 CA기체가 잠재 지문에 증착된다.Generally, the gas method, the powder method, and the liquid method are mainly used for the potential fingerprinting work. CA (CyanoAcrylate: Cyanoacrylate, instant adhesive) is used in the fingerprint development device made by the gas method. A heating unit is installed inside the fingerprint development device, and a fogged CA gas is deposited on the potential fingerprint by heating the CA sensor on the heating unit.

도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 지문 현출 장치는 본체(10)와 상기 본체(10)에 설치되는 컨트롤패널(50), 챔버(20), 그리고 캐비넷(30)을 포함하여 이루어진다.1, the conventional fingerprint detection device includes a main body 10, a control panel 50 installed in the main body 10, a chamber 20, and a cabinet 30.

상기 컨트롤패널(50)은 상기 지문 현출 장치의 시스템을 제어하는 것으로써 본체(10)의 상부에 설치된다. 상기 컨트롤패널(50)은 챔버(20)내부의 온도와 습도를 제어하는 터치 패널과 챔버의 전원, 상부회전프레임, 하부회전선반, 램프를 작동시키는 스위치를 포함하여 이루어진다.The control panel 50 is installed on the upper portion of the main body 10 by controlling the system of the fingerprint development device. The control panel 50 includes a touch panel for controlling temperature and humidity inside the chamber 20, a power source for the chamber, an upper rotating frame, a lower rotating lathe, and a switch for operating the lamp.

상기 챔버(20)는 지문현출작업이 이루어지는 작업공간으로써, 도어(21)에 의해 개폐 가능하게 이루어진다.The chamber 20 is a work space in which a fingerprint advance operation is performed, and is made openable and closable by a door 21.

상기 챔버(20) 내부에는 바닥면에 설치되어 전원 인가시 가열수단에 의해 가열되는 가열부(25)와, 챔버(20) 내부의 공기를 정화하기 위한 배기구, 그리고 작업공간 내부의 항온, 항습을 조절하기 위한 급배수라인이 설치된다. 상기 챔버(20)의 내측 벽면에는 지문감식을 위한 증거물(검체) 거치하는 선반(23)이 설치된다.A heating unit 25 installed on the bottom surface of the chamber 20 and heated by a heating means when power is applied, an exhaust port for purifying the air in the chamber 20, and a constant temperature and humidity inside the working space A water supply and drainage line is installed to control. On the inner wall surface of the chamber 20, there is provided a shelf 23 for storing evidence (specimen) for fingerprint identification.

상기 가열부(25)는 챔버(20) 바닥면에 설치되어 전원 인가시 가열수단에 의해 가열되어 내부를 적정 온도로 가열시킨다. 상기 가열부(25)에는 CA(CyanoAcrylate:시아노아크릴레이트,순간접착제)로 이루어지는 현출제가 적치된다.The heating unit 25 is installed on the bottom surface of the chamber 20, and is heated by the heating unit when the power is applied to heat the inside of the chamber 20 to an appropriate temperature. The heating part 25 is provided with a resist layer made of CA (cyanoacrylate, instant adhesive).

상기 챔버(20)의 하부에는 캐비넷(30)이 설치된다. 상기 캐비넷(30) 내부에는 호스로 이루어진 내부덕트(31), 급수탱크(33-1), 배수조(32-1)가 설치된다.A cabinet 30 is installed at a lower portion of the chamber 20. Inside the cabinet 30, an inner duct 31, a water supply tank 33-1, and a drain tank 32-1 are installed.

상기 내부덕트(31)는 상기 배기구와 연결되며, 상기 내부덕트(31)에는 상기 챔버(20)의 내부공기를 정화하는 공기정화기(31-1)가 설치된다.The inner duct 31 is connected to the exhaust port and the inner duct 31 is provided with an air purifier 31-1 for purifying the air inside the chamber 20. [

상기 급수탱크(33-1)와 배수조(32-1)는 상기 급수라인(32) 및 배수라인(33)과 연결되며, 상기 배수라인(32)에는 밸브(32-5)가 설치된다.The water supply tank 33-1 and the drain tank 32-1 are connected to the water supply line 32 and the drainage line 33 and the drainage line 32 is provided with a valve 32-5.

종래의 지문 현출 장치의 작동은 다음과 같이 이루어진다.The operation of the conventional fingerprint detection device is as follows.

지문 현출 작업시 증거물(검체)을 선반(23)에 올려놓고 현출 작업을 수행한다. 챔버(20)의 내부 온도는 가열부(25)에 설치된 온도센서를 통해 적정 온도로 유지된다.Put the evidence (specimen) on the shelf (23) during the fingerprinting work and carry out the preliminary work. The internal temperature of the chamber 20 is maintained at an appropriate temperature through a temperature sensor provided in the heating section 25. [

상기 챔버(20) 내부에서 유해 가스 등이 발생되면 내부덕트(31)를 통해 내부공기를 배기시킨다.When harmful gas or the like is generated in the chamber 20, the internal air is exhausted through the internal duct 31.

지문 현출 작업 중 급수라인(33)을 이용하여 챔버(20) 내부 습도를 유지할 수 있도록 급수를 제공한다. 또한, 상기 배수라인(32)을 통해 챔버(20) 내부의 제공된 급수 중 불필요한 것이 배출된다.The water supply line 33 is used to supply the water to maintain the internal humidity of the chamber 20 during the fingerprint advance operation. In addition, unnecessary ones of the supplied water in the chamber 20 are discharged through the drain line 32.

종래의 지문 현출 장치에서는 챔버의 내부 공기를 기체 상태로 외부로 배기시켜 챔버 내에 유해 가스가 잔류되어 증거물(검체) 수거 시 유해 가스가 함께 배출되는 문제점이 있었다.In the conventional fingerprint detection device, the air inside the chamber is exhausted to the outside in a gaseous state, so that noxious gas remains in the chamber, and harmful gas is simultaneously discharged when the sample (sample) is collected.

대한민국 공개특허공보 제10-2010-0092727(2010.08.23)Korean Patent Publication No. 10-2010-0092727 (Aug. 23, 2010)

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 2개의 챔버에 2개의 순환관을 연결하여 공기가 순환되는 순환 구조를 형성하고, 1개의 챔버 내에서 유해 가스가 스크러빙 되어 외부로 배출되는 지문 현출 장치와 그의 작동 방법을 제공한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been proposed in order to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a circulation structure in which two circulation tubes are connected to two chambers to form a circulation structure in which air is circulated, Device and a method of operation thereof.

본 발명에 따른 지문 현출 장치는 중공의 제2 챔버와; 상기 제2 챔버와 이격 구비되며 개폐 가능한 도어가 구비된 중공의 본체와, 상기 본체 내에 구비되며 가열되는 가열부와, 상기 본체 내에 구비되며 검체가 적치되는 적치부로 이루어진 제1 챔버와;The fingerprint sensing device according to the present invention comprises: a hollow second chamber; A first chamber provided in the main body and configured to be heated; a first chamber provided in the main body and having a sample to which the sample is immobilized;

일측은 상기 제1 챔버에 연결되고 타측은 제2 챔버에 연결되어 상기 제1 챔버와 제2 챔버를 연통시키는 2개의 서로 이격된 순환관과;Two spaced-apart circulation tubes, one side of which is connected to the first chamber and the other side of which is connected to the second chamber and which communicates the first chamber and the second chamber;

상기 제2 챔버를 관통하여 상기 제2 챔버 내에 하나 이상의 분사 노즐이 구비되며 제3 밸브가 구비된 공급관과;A supply pipe passing through the second chamber and having at least one injection nozzle in the second chamber and having a third valve;

일측이 제2 챔버에 연결되어 외부와 연통되며 제4 밸브가 구비된 배수관으로 이루어지며;And a drain pipe having one side connected to the second chamber and communicating with the outside and having a fourth valve;

상기 제1 챔버와 제2 챔버는 상기 순환관에 의해 순환 구조가 형성되며, 상기 순환관에는 순환수단이 구비되는 것을 특징으로 하는 지문 현출 장치를 제공한다.Wherein the first chamber and the second chamber are formed with a circulation structure by the circulation pipe, and circulation means is provided in the circulation pipe.

상기에서, 순환관은 제1 순환관과 제2 순환관으로 이루어지며;In the above, the circulation pipe comprises a first circulation pipe and a second circulation pipe;

상기 순환수단은 상기 제1 순환관 또는 제2 순환관 중 어느 하나 이상에 구비되는 것을 특징으로 한다.And the circulation means is provided in at least one of the first circulation pipe and the second circulation pipe.

상기에서, 순환관은 제1 순환관과 제2 순환관으로 이루어지며;In the above, the circulation pipe comprises a first circulation pipe and a second circulation pipe;

상기 제1 순환관과 제2 순환관에는 각각 밸브가 구비되는 것을 특징으로 한다.And valves are provided in the first circulation pipe and the second circulation pipe, respectively.

상기에 기재된 본 발명에 따른 지문 현출 장치의 작동 방법에 있어서;In the method of operating the fingerprint sensor according to the present invention described above,

검체와 현출제가 적치되는 단계(적치단계)와,A step in which the specimen and the developer are deposited (a deposition step)

가열부가 가열되며 현출제가 훈증되는 단계(훈증단계)와,A step in which the heating section is heated and the fogging is fumigated (fumigation stage)

상기 제3 밸브가 열리고 물이 분사되며 순환수단이 작동되어 상기 제1 챔버와 제2 챔버 내의 공기가 순환되는 단계(순환단계)와,(Circulation step) in which the third valve is opened and water is sprayed and the circulation means is operated to circulate the air in the first chamber and the second chamber,

상기 순환수단이 정지되며 상기 제4 밸브가 열리고 오염수가 배출되는 단계(배출단계)와,Wherein the circulation means is stopped, the fourth valve is opened and the polluted water is discharged (discharge step)

상기 도어를 열어 검체를 수거하는 단계(검체수거단계)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 지문 현출 장지의 작동 방법을 제공한다.And a step of opening the door to collect the specimen (sample collecting step).

상기에서, 순환관에는 제1 밸브와 제2 밸브가 더 구비되어 상기 제1 챔버와 제2 챔버가 분리되며;The circulation pipe may further include a first valve and a second valve to separate the first chamber and the second chamber from each other;

제1 밸브와 제2 밸브는 상기 적치단계와 훈증단계 사이에서 닫히고, 상기 훈증단계 후에 열리는 것을 특징으로 한다.Wherein the first valve and the second valve are closed between the stacking step and the fumigation step and are opened after the fumigation step.

본 발명에 따른 지문 현출 장치와 그의 작동 방법은 2개의 챔버가 순환 구조로 이루어지고, 1개의 챔버에서 유해 가스가 스크러빙 되어 외부로 배출되므로 작업 후 챔버 내부에 유해 가스가 잔류하지 않는 효과가 있다.The fingerprint detection device and its operation method according to the present invention have a two-chamber structure with a circulation structure, and harmful gas is scrubbed in one chamber and discharged to the outside, so that no harmful gas remains inside the chamber after the operation.

도 1은 종래의 지문 현출 장치의 내부를 도시한 내부 설치도이며,
도 2는 본 발명에 따른 지문 현출 장치를 도시한 정면도이고,
도 3은 본 발명에 따른 지문 현출 장치의 내부를 도시한 내부 설치도이며,
도 4는 본 발명에 따른 지문 현출 장치의 연결 상태를 개략적으로 도시한 개략도이고,
도 5는 본 발명에 따른 지문 현출 장치의 작동 순서를 도시한 순서도이다.1 is an internal view showing the inside of a conventional fingerprint development device,
FIG. 2 is a front view showing a fingerprint image developing apparatus according to the present invention,
FIG. 3 is an internal view of the inside of the fingerprint development device according to the present invention,
4 is a schematic view schematically showing a connection state of the fingerprint detection device according to the present invention,
FIG. 5 is a flowchart showing the operation sequence of the fingerprint detection device according to the present invention.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 지문 현출 장치와 그의 작동 방법을 상세하게 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to the preferred embodiments of the present invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 지문 현출 장치를 도시한 정면도이고, 도 3은 본 발명에 따른 지문 현출 장치의 내부를 도시한 내부 설치도이며, 도 4는 본 발명에 따른 지문 현출 장치의 연결 상태를 개략적으로 도시한 개략도이고, 도 5는 본 발명에 따른 지문 현출 장치의 작동 순서를 도시한 순서도이다.FIG. 2 is a front view showing a fingerprint sensor according to the present invention, FIG. 3 is an internal view of the fingerprint sensor according to the present invention, and FIG. And Fig. 5 is a flowchart showing the operation sequence of the fingerprint detection device according to the present invention.

도 2에서 세로 방향을 "상하 방향"으로 하여 기재한다.In Fig. 2, the vertical direction is described as "vertical direction ".

도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 지문 현출 장치(100)는 제1 챔버(110)와, 제2 챔버(120)와, 제1 순환관(130)과, 제2 순환관(150)과, 공급관(170)과, 배수관(190)으로 이루어진다.2 and 3, the fingerprint sensing device 100 according to the present invention includes a first chamber 110, a second chamber 120, a first circulation pipe 130, A pipe 150, a supply pipe 170, and a drain pipe 190.

상기 제1 챔버(110)는 중공체로 구비된다. 상기 제1 챔버(110)는 본체(111)와, 컨트롤 패널(113)과, 가열부(117)와, 적치부(119)로 이루어진다.The first chamber 110 is provided with a hollow body. The first chamber 110 includes a main body 111, a control panel 113, a heating unit 117, and an offset unit 119.

상기 본체(111)는 중공체로 구비된다. 상기 본체(111)에는 도어(112)가 구비되어 개폐 가능하다. 상기 도어(112)는 상기 본체(111)에 힌지 결합되며, 일측에 손잡이가 구비된다.The body 111 is provided with a hollow body. The main body 111 is provided with a door 112 to be opened and closed. The door 112 is hinged to the main body 111 and has a handle on one side.

상기 컨트롤 패널(113)은 상기 본체(111)의 외측 하부에 구비된다. 상기 컨트롤 패널(113)은 상기 지문 현출 장치의 시스템을 제어하는 역할을 한다. 상기 컨트롤 패널(113)에는 타이머(115)가 더 포함될 수도 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 컨트롤 패널(113)은 입력부이며, 제어부에 연결되어 밸브와 타이머(115)를 제어한다.The control panel 113 is provided on the lower outer side of the main body 111. The control panel 113 serves to control the system of the fingerprint detection device. The control panel 113 may further include a timer 115. As shown in FIG. 4, the control panel 113 is an input unit, and is connected to a control unit to control a valve and a timer 115.

상기 가열부(117)는 상기 본체(111)의 내부에 구비된다. 상기 가열부(117)는 상기 본체(111)의 바닥면에 설치되어 전원 인가시 가열수단에 의해 가열된다. 상기 가열수단으로는 히터 등이 사용된다. 상기 가열부(117)는 공개특허공보 제10-2010-0092727호와 같은 형태로 구비될 수 있다. 상기 가열부(117)에서는 CA(Cyanoacrylate)와 같은 현출제가 적치되어 훈증된다.The heating unit 117 is provided inside the main body 111. The heating unit 117 is installed on the bottom surface of the main body 111 and is heated by a heating unit when power is applied. As the heating means, a heater or the like is used. The heating unit 117 may be provided in the same manner as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-2010-0092727. In the heating unit 117, a developing agent such as CA (cyanoacrylate) is deposited and fumigated.

상기 적치부(119)는 상기 본체(111)의 내부에 구비된다. 상기 적치부(119)에는 지문을 현출 할 검체가 적치된다.The mounting portion 119 is provided inside the main body 111. A sample to be developed with a fingerprint is placed on the red tooth portion 119.

상기 제2 챔버(120)는 중공체로 구비된다. 상기 제2 챔버(120)는 상기 제1 챔버(110)와 이격 구비된다. 상기 제2 챔버(120)는 제1 순환관(130)과 제2 순환관(150)에 의해 상기 제1 챔버(110)와 연통된다. 상기 제2 챔버(120)의 측면 또는 상부에는 외부 공기가 유입될 수 있는 홀(도시하지 않음)이 형성될 수도 있다. 상기 제2 챔버(120)의 내부 공간은 유해 가스가 정화되는 공간이 된다.The second chamber 120 is provided with a hollow body. The second chamber 120 is spaced apart from the first chamber 110. The second chamber 120 communicates with the first chamber 110 by a first circulation pipe 130 and a second circulation pipe 150. A hole (not shown) through which external air can flow may be formed on a side surface or an upper portion of the second chamber 120. The inner space of the second chamber 120 is a space in which harmful gas is purified.

상기 제1 순환관(130)은 관체로 구비된다. 상기 제1 순환관(130)은 상기 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120) 사이에 구비된다. 상기 제1 순환관(130)은 상기 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120)의 측면에 연결 구비된다. 상기 제1 순환관(130)의 일측 단부는 상기 제1 챔버(110)에 연결되고, 타측 단부는 제2 챔버(120)에 연결된다. 상기 제1 순환관(130)의 타측 단부는 상기 제2 챔버(120)의 하부로부터 상향 이격 된 위치에 구비된다.The first circulation pipe 130 is provided as a pipe. The first circulation pipe (130) is provided between the first chamber (110) and the second chamber (120). The first circulation pipe 130 is connected to the side surfaces of the first chamber 110 and the second chamber 120. One end of the first circulation pipe 130 is connected to the first chamber 110 and the other end is connected to the second chamber 120. The other end of the first circulation pipe 130 is disposed at a position spaced upward from the lower portion of the second chamber 120.

상기 제1 순환관(130)에는 순환수단(153)이 구비될 수 있다. 상기 순환수단(153)으로는 팬 등이 이용된다. 상기 순환수단(153)은 상기 제1 순환관(130)의 내부에 구비되거나, 단부에 구비될 수 있다. 상기 제1 순환관(130)에 상기 순환수단(153)이 구비됨에 따라 상기 제1 챔버(110) 내의 공기가 상기 제2 챔버(120) 내로 용이하게 이동된다.The first circulation pipe (130) may be provided with circulation means (153). As the circulation means 153, a fan or the like is used. The circulation means 153 may be provided inside the first circulation pipe 130 or at the end thereof. The air in the first chamber 110 is easily moved into the second chamber 120 by providing the circulation means 153 in the first circulation pipe 130.

상기 제1 순환관(130)에는 제1 밸브(131)가 구비된다. 상기 제1 밸브(131)는 제어부에 연결되어 개폐가 제어된다.The first circulation pipe (130) is provided with a first valve (131). The first valve 131 is connected to a control unit to control opening and closing.

상기 제2 순환관(150)은 관체로 구비된다. 상기 제2 순환관(150)은 상기 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120)의 상부에 연결된다. 상기 제2 순환관(150)의 일측 단부는 상기 제1 챔버(110)에 연결되고, 타측 단부는 제2 챔버(120)에 연결된다. 상기 제2 순환관(150)은 상기 제1 순환관(130)과 상하 방향으로 이격 구비된다.The second circulation pipe (150) is provided as a pipe. The second circulation pipe 150 is connected to the upper portion of the first chamber 110 and the upper portion of the second chamber 120. One end of the second circulation pipe 150 is connected to the first chamber 110 and the other end is connected to the second chamber 120. The second circulation pipe (150) is vertically spaced apart from the first circulation pipe (130).

상기 제2 순환관(150)에는 순환수단(153)이 구비된다. 상기 순환수단(153)으로는 팬 등이 이용된다. 상기 순환수단(153)은 상기 제2 순환관(150)의 내부에 구비되거나, 단부에 구비될 수 있다. 상기 제2 순환관(150)에 상기 순환수단(153)이 구비됨에 따라 상기 제2 챔버(120) 내의 공기가 상기 제1 챔버(110) 내로 용이하게 이동된다.The second circulation pipe (150) is provided with circulation means (153). As the circulation means 153, a fan or the like is used. The circulation means 153 may be provided inside the second circulation pipe 150 or at the end thereof. The air in the second chamber 120 is easily moved into the first chamber 110 as the circulation means 153 is provided in the second circulation pipe 150.

상기 제2 순환관(150)에는 제2 밸브(151)가 구비된다. 상기 제2 밸브(151)는 제어부에 연결되어 개폐가 제어된다.The second circulation pipe (150) is provided with a second valve (151). The second valve 151 is connected to a control unit to control opening and closing.

상기 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120) 사이에 제1 순환관(130)과 제2 순환관(150)이 구비됨에 따라 상기 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120)의 내부는 순환 구조가 형성된다. 상기 제2 순환관(150)과 제1 순환관(130)은 서로 멀리 이격 될수록 순환 사이클(제1 챔버(110)-제1 순환관(130)-제2 챔버(120)-제2 순환관(150))이 크게 형성되므로 상기 제2 순환관(150)은 상기 제1 순환관(130)과 멀리 이격 되어 위치되는 것이 바람직하다.The first circulation pipe 130 and the second circulation pipe 150 are provided between the first chamber 110 and the second chamber 120 so that the first chamber 110 and the second chamber 120 A circulation structure is formed inside. The distance between the second circulation pipe 150 and the first circulation pipe 130 increases as the distance between the first circulation pipe 150 and the first circulation pipe 130 increases. The second circulation pipe 150 may be spaced apart from the first circulation pipe 130. In addition,

상기 공급관(170)은 관체로 구비된다. 상기 공급관(170)은 상기 제2 챔버(120)의 측면 상부에서 관통 구비된다. 상기 공급관(170)은 상기 제2 순환관(150)의 타측 단부와 제1 순환관(130)의 타측 단부 사이에 위치된다. 상기 공급관(170)의 일측 단부는 상기 제2 챔버(120)의 내부에 위치되고, 타측 단부는 급수탱크(도시하지 않음)와 연결된다. 상기 공급관(170)의 일측 단부는 상기 제2 챔버(120)의 내측 벽에 고정될 수도 있다. 상기 공급관(170)은 상기 제2 챔버(120)의 상부로부터 하향 이격되어 구비된다. 상기 공급관(170)은 상기 제2 순환관(150)의 타측 단부로부터 하향 이격되어 구비된다.The supply pipe 170 is provided as a pipe. The supply pipe 170 is provided at the upper side of the second chamber 120. The supply pipe 170 is located between the other end of the second circulation pipe 150 and the other end of the first circulation pipe 130. One end of the supply pipe 170 is located inside the second chamber 120, and the other end is connected to a water supply tank (not shown). One end of the supply pipe 170 may be fixed to the inner wall of the second chamber 120. The supply pipe 170 is spaced downward from the upper portion of the second chamber 120. The supply pipe 170 is spaced downward from the other end of the second circulation pipe 150.

상기 공급관(170)에는 분사노즐(173)이 구비된다. 상기 분사노즐(173)은 상기 제2 챔버(120)의 내부에 위치되도록 구비된다. 상기 분사노즐(173)은 하나 이상 구비된다. 상기 분사노즐(173)은 상기 제2 순환관(150)의 타측 단부로부터 하향 이격된 위치에 구비된다.The supply pipe 170 is provided with an injection nozzle 173. The injection nozzle 173 is disposed inside the second chamber 120. At least one injection nozzle 173 is provided. The injection nozzle 173 is disposed at a position spaced downward from the other end of the second circulation pipe 150.

상기 공급관(170)에는 제3 밸브(171)가 구비된다. 상기 제3 밸브(171)는 제어부에 연결되어 개폐가 제어된다.The supply pipe 170 is provided with a third valve 171. The third valve 171 is connected to the control unit to control opening and closing.

상기 배수관(190)은 관체로 구비된다. 상기 배수관(190)은 상기 제2 챔버(20)의 측면 하부에 연결 구비된다. 상기 배수관(190)은 상기 제1 순환관(130)의 타측 단부로부터 하향 이격된 위치에 구비된다. 상기 배수관(190)의 일측 단부는 상기 제2 챔버(120)에 연결되고, 타측 단부는 외부에 위치(도시하지 않음)된다.The drain pipe 190 is provided as a pipe. The drain pipe (190) is connected to the lower side of the second chamber (20). The drain pipe 190 is disposed at a position spaced downward from the other end of the first circulation pipe 130. One end of the drain pipe 190 is connected to the second chamber 120, and the other end is located outside (not shown).

상기 배수관(190)에는 제4 밸브(191)가 구비된다. 상기 제4 밸브(191)는 제어부에 연결되어 개폐가 제어된다.The drain pipe 190 is provided with a fourth valve 191. The fourth valve 191 is connected to a control unit to control opening and closing.

상기 제2 챔버(120)에 연결된 상기 배수관(190)의 단부로부터 상향 이격된 위치에는 수위 센서가 구비될 수도 있다. 수위 센서가 구비되면 제2 챔버(120) 내의 수위가 설정 수위 이상 차오르면 제4 밸브(191)가 열려 제2 챔버(120)의 하부에 수집된 오염수가 배수관(190)을 통해 외부로 배출된다.A water level sensor may be provided at a position spaced upward from the end of the water pipe 190 connected to the second chamber 120. When the water level sensor is provided, if the water level in the second chamber 120 is higher than the predetermined water level, the fourth valve 191 is opened and the collected water is discharged to the outside through the water pipe 190 at the lower part of the second chamber 120 .

본 발명에 따른 지문 현출 장치(100)는 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120)의 내부가 순환되는 형태로 형성됨에 따라 작동시 제1 챔버(110) 내에서 발생되는 유해 가스가 제2 챔버(120) 내로 유동되어 제2 챔버(120)에서 스크러빙되며 정화되고, 정화된 공기는 다시 제1 챔버(110) 내로 유입된다.The fingerprint sensing device 100 according to the present invention is configured such that the inside of the first chamber 110 and the second chamber 120 are circulated so that the noxious gas generated in the first chamber 110 during operation 2 chamber 120, scrubbed and cleaned in the second chamber 120, and the purified air flows into the first chamber 110 again.

상기와 같이 순환이 반복적으로 이루어지며 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120) 내의 공기에는 유해 가스가 잔류하지 않는 효과가 발생한다.As described above, the circulation is repeatedly performed, and the harmful gas does not remain in the air in the first chamber 110 and the second chamber 120.

도 5에 도시된 바와 같이, 이하에서는 본 발명에 따른 지문 현출 장치(100)의 작동 방법을 살펴본다.As shown in FIG. 5, a method of operating the fingerprint sensor 100 according to the present invention will be described below.

본 발명에 따른 지문 현출 장치(100)의 작동 방법은 적치단계(ST-110), 훈증단계(ST-130), 순환단계(ST-150), 배출단계(ST-170), 검체수거단계(ST-190) 순으로 이루어진다.The method of operating the fingerprint detection device 100 according to the present invention may include the steps of ST-110, fumigation ST-130, circulation ST-150, ST-170, ST-190).

상기 적치단계(ST-110)에서는 제1 챔버(110)의 도어(112)를 열어 검체와 지문을 검출하기 위한 현출제를 각각 적치부(119)와 가열부(117)에 적치한다. 상기 현출제로는 CA(Cyanoacrylate;시아노아크릴레이트,순간접착제)가 사용된다. 상기 검체와 현출제를 적치한 후 도어(112)를 닫는다.The door 112 of the first chamber 110 is opened and the sensing agent for detecting the sample and the fingerprint is placed on the touched portion 119 and the heating portion 117 respectively in the step ST-110. CA (Cyanoacrylate, cyanoacrylate, instant adhesive) is used as the developing agent. After the specimen and the deodorant are stacked, the door 112 is closed.

상기 훈증단계(ST-130)에서는 제1 밸브(131)와 제2 밸브(151)를 닫아 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120)를 분리하며, 제1 챔버(110)의 내부를 밀폐시킨다. 상기 제1 밸브(131)와 제2 밸브(151)를 닫은 후, 가열부(117)를 가열하여 현출제(CA)를 훈증시킨다.In the fumigation step ST-130, the first valve 131 and the second valve 151 are closed to separate the first chamber 110 and the second chamber 120, and the inside of the first chamber 110 Seal it. After the first valve 131 and the second valve 151 are closed, the heating unit 117 is heated to fume the deodorant CA.

상기 순환단계(ST-150)는 상기 현출제(CA)의 훈증이 완료된 후에 이루어진다. 상기 순환단계(ST-150)는 순환준비단계(ST-151)와 정화단계(ST-153)로 이루어진다.The circulation step (ST-150) is performed after the fumigation of the deasphalting agent (CA) is completed. The circulation step (ST-150) comprises a circulation preparation step (ST-151) and a purification step (ST-153).

상기 순환준비단계(ST-151)에서는 상기 현출제(CA)의 훈증이 완료되면 가열부(117)의 가열이 중단되고, 제1 밸브(131), 제2 밸브(151), 제3 밸브(171)가 열린다. 상기 제1 밸브(131)와 제2 밸브(151)에 열림으로써 상기 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120)가 연통되며, 상기 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120) 사이에는 순환 구조가 형성된다.In the circulation preparation step ST-151, when the fumigation of the deasphalting agent CA is completed, the heating of the heating unit 117 is stopped and the first valve 131, the second valve 151, 171) is opened. The first chamber 110 and the second chamber 120 are opened by opening the first valve 131 and the second valve 151 so that the first chamber 110 and the second chamber 120 communicate with each other. A circulation structure is formed.

상기 정화단계(ST-153)에서는 상기 순환준비단계(ST-151)에서 제3 밸브(171)가 열리면서 분사노즐(173)을 통해 제2 챔버(120) 내로 물이 분사되며 순환수단(153)이 작동된다. 상기 순환수단(153)이 작동되며 상기 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120) 내의 공기가 제1 순환관(130)과 제2 순환관(150)을 통해 순환된다. 상기 정화단계(ST-153)는 챔버 내의 공기에 유해 가스가 사라질 때까지 유지된다.In the purge step ST-153, water is sprayed into the second chamber 120 through the injection nozzle 173 while the third valve 171 is opened in the circulation preparation step ST-151, Lt; / RTI > The circulation means 153 is operated and air in the first chamber 110 and the second chamber 120 is circulated through the first circulation pipe 130 and the second circulation pipe 150. The purge step (ST-153) is maintained until the noxious gas disappears in the air in the chamber.

상기 순환단계(ST-150)에서는 서로 분리되었던 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120)가 제1 밸브(131)와 제2 밸브(151)가 열리면서 서로 연결되며 순환 구조가 형성된다. 상기 순환 구조가 형성됨에 따라 유해 가스가 포함된 공기가 반복적으로 순환이 이루어지며 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120) 내의 공기에는 유해 가스가 잔류하지 않게 된다.In the circulation step ST-150, the first and second chambers 110 and 120, which are separated from each other, are connected to each other while the first valve 131 and the second valve 151 are opened to form a circulation structure. As the circulation structure is formed, the air containing the noxious gas is repeatedly circulated and the noxious gas does not remain in the air in the first chamber 110 and the second chamber 120.

상기 배출단계(ST-170)에서는 상기 타이머(115)의 설정 시간에 도달한 후, 상기 순환수단(153)이 작동되고 분사노즐(173)을 통해 물이 분사되면서 제4 밸브(191)가 열리며 오염수가 배출되고, 오염수의 배출이 완료된 후 순환수단(153)의 작동과 제3 밸브(171)가 닫히며 물 분사가 중단된다.After the set time of the timer 115 is reached in the discharging step ST-170, the circulation means 153 is operated and water is sprayed through the spray nozzle 173, so that the fourth valve 191 is opened After the discharge of the polluted water is completed, the operation of the circulation means 153 and the third valve 171 are closed and the water injection is stopped.

상기 배출단계(ST-170)에서는 상기 제3 밸브(171)가 닫혀 분사노즐(173)을 통한 물 분사와 상기 순환수단(153)이 중단되며 상기 제4 밸브(191)가 열리고 배출관(190)을 통해 오염수가 배출될 수도 있다.The third valve 171 is closed and the water injection through the injection nozzle 173 and the circulation means 153 are stopped and the fourth valve 191 is opened and the discharge pipe 190 is opened, The polluted water may be discharged through the pipe.

상기 검체수거단계(ST-190)에서는 상기 단계가 완료된 후, 제1 챔버(110)의 도어(112)를 열어 검체를 수거한다.In the sample collecting step (ST-190), after the step is completed, the door 112 of the first chamber 110 is opened to collect the specimen.

지금까지 본 발명에 따른 지문 현출 장치와 그의 작동 방법은 도면에 도시된 실시 예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당업자라면 누구든지 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. I will understand. Accordingly, the scope of the true technical protection should be determined by the technical idea of the appended claims.

100 : 지문 현출 장치
110 : 제1 챔버 111 : 본체
112 : 도어 113 : 컨트롤 패널
115 : 타이머 117 : 가열부
119 : 적치부 120 : 제2 챔버
130 : 제1 순환관 131 : 제1 밸브
150 : 제2 순환관 151 : 제2 밸브
153 : 순환수단 170 : 공급관
171 : 제3 밸브 173 : 분사노즐
190 : 배수관 191 : 제4 밸브100: fingerprint sensor
110: first chamber 111: main body
112: Door 113: Control panel
115: timer 117: heating unit
119: red tooth portion 120: second chamber
130: first circulation pipe 131: first valve
150: second circulation pipe 151: second valve
153: circulation means 170: supply pipe
171: third valve 173: injection nozzle
190: Water pipe 191: Fourth valve

Claims (5)

중공의 제2 챔버(120)와; 상기 제2 챔버(120)와 이격 구비되며 개폐 가능한 도어(112)가 구비된 중공의 본체(111)와, 상기 본체(111) 내에 구비되며 가열되는 가열부(117)와, 상기 본체(111) 내에 구비되며 검체가 적치되는 적치부(119)로 이루어진 제1 챔버(110)와; 일측은 상기 제1 챔버(110)에 연결되고 타측은 제2 챔버(120)에 연결되어 상기 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120)를 연통시키는 제1 순환관(130) 및 제2 순환관(150)과; 상기 제2 챔버(120) 내에 하나 이상의 분사 노즐(173)이 구비되며 제3 밸브(171)가 구비된 공급관(170)과; 일측이 제2 챔버(120)에 연결되어 외부와 연통되며 제4 밸브(191)가 구비된 배수관(190)으로 이루어지며;
상기 제1 순환관(130)은 제2 챔버(120)의 하부로부터 상향 이격되어 제2 챔버(120)에 연결되고, 상기 배수관(190)은 제1 순환관(130)으로부터 하향 이격되어 제2 챔버(120)에 연결되며;
상기 제2 순환관(150)은 양측이 각각 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120)의 상부에 연결되어 구비되고 상기 제1 순환관(130)은 양측이 각각 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120)의 측면에 연결되어 상기 제1 순환관(130)과 제2 순환관(150)은 상하 방향으로 서로 이격되어 구비되며, 상기 제1 순환관(130)과 제2 순환관(150)에는 각각 제1 밸브(131)와 제2 밸브(151)가 구비되고, 상기 제1 순환관(130)과 제2 순환관(150)의 어느 하나 이상에는 팬으로 이루어지는 순환수단이 구비되어;
상기 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120)는 상하 방향으로 서로 이격되며 양측이 각각 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120)에 연결된 제1 순환관(130)과 제2 순환관(150)에 의해 순환 구조가 형성되는 것을 특징으로 하는 지문 현출 장치.A hollow second chamber 120; A hollow main body 111 provided with a door 112 which is spaced apart from the second chamber 120 and can be opened and closed; a heating part 117 provided in the main body 111 and heated; A first chamber 110 which is provided within the first chamber 110 and has an immobilizing part 119 to which a sample is immobilized; A first circulation pipe 130 connected to the first chamber 110 and a second circulation pipe 130 connected to the second chamber 120 to communicate the first chamber 110 and the second chamber 120, A circulation pipe (150); A supply pipe 170 having at least one injection nozzle 173 in the second chamber 120 and having a third valve 171; And a drain pipe (190) having one side connected to the second chamber (120) and communicating with the outside and having a fourth valve (191);
The first circulation pipe 130 is spaced upward from the lower portion of the second chamber 120 and connected to the second chamber 120, And is connected to the second chamber 120 by being downwardly spaced from the first circulation pipe 130;
The second circulation pipe 150 is connected to the upper part of the first chamber 110 and the upper part of the second chamber 120 on both sides thereof and the first circulation pipe 130 is connected to the first chamber 110, The first circulation pipe 130 and the second circulation pipe 150 are spaced apart from each other in the vertical direction and the first circulation pipe 130 and the second circulation pipe 150 are connected to the side of the second chamber 120, The pipe 150 is provided with a first valve 131 and a second valve 151 and at least one of the first circulation pipe 130 and the second circulation pipe 150 is provided with a circulation means comprising a fan ;
The first chamber 110 and the second chamber 120 are separated from each other in the vertical direction and are connected to the first circulation pipe 130 connected to the first chamber 110 and the second chamber 120, And the circulation structure is formed by the pipe (150). 삭제delete 삭제delete 제1 항에 기재된 지문 현출 장치(100)의 작동 방법에 있어서;
검체와 현출제가 적치되는 단계(ST-110;적치단계)와,
가열부(117)가 가열되며 현출제가 훈증되는 단계(ST-130;훈증단계)와,
상기 제3 밸브(171)가 열리고 물이 분사되며 순환수단(153)이 작동되어 상기 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120) 내의 공기가 순환되는 단계(ST-150;순환단계)와,
상기 순환수단(153)이 정지되며 상기 제4 밸브(191)가 열리고 오염수가 배출되는 단계(ST-170;배출단계)와,
상기 도어(112)를 열어 검체를 수거하는 단계(ST-170;검체수거단계)로 이루어지며; 상기 순환관에는 제1 밸브(131)와 제2 밸브(151)가 더 구비되어 상기 제1 챔버(110)와 제2 챔버(120)가 분리되며;
상기 제1 밸브(131)와 제2 밸브(151)는 상기 적치단계(ST-110)와 훈증단계(ST-130) 사이에서 닫히고, 상기 훈증단계(ST-130) 후에 열리는 것을 특징으로 하는 지문 현출 장치의 작동 방법.A method of operating the fingerprint detection device (100) according to claim 1, wherein:
(ST-110; stacking step) in which the sample and the developing agent are stacked,
(ST-130: fumigation step) in which the heating part 117 is heated and the fumigant is fumigated,
(ST-150; circulation step) of circulating the air in the first chamber 110 and the second chamber 120 by operating the circulation unit 153 and opening the third valve 171, ,
(ST-170; discharging step) in which the circulation means 153 is stopped, the fourth valve 191 is opened and the polluted water is discharged,
(ST-170; sample collecting step) of opening the door 112 and collecting the specimen; The circulation pipe may further include a first valve 131 and a second valve 151 to separate the first chamber 110 and the second chamber 120 from each other;
Wherein the first valve 131 and the second valve 151 are closed between the stacking step ST-110 and the fumigation step ST-130 and are opened after the fumigation step ST-130. Method of operation of the advancing device. 삭제delete
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