KR101874607B1 - Heat treatment apparatus for coil - Google Patents

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Abstract

코일의 변형을 방지하는 코일의 열처리 장치가 개시된다. 본 발명의 실시예에 따른 코일 열처리 장치는 코일을 감싸도록 마련되는 커버와, 코일을 가열하는 가열장치와, 코일을 지지하는 코일 지지장치를 포함하고, 코일 지지장치는 프레임과, 프레임에 수용되고 코일을 지지하는 복수의 지지판들을 포함하고, 복수의 지지판들은 각각 코일의 중앙을 기준으로 방사 방향으로 이동 가능하게 마련된다.A heat treatment apparatus for a coil that prevents deformation of a coil is disclosed. A coil heating apparatus according to an embodiment of the present invention includes a cover provided to enclose a coil, a heating device for heating the coil, and a coil supporting device for supporting the coil, the coil supporting device including a frame, A plurality of support plates for supporting the coils, each of the plurality of support plates being provided movably in the radial direction with respect to the center of the coils.

Description

코일의 열처리 장치{HEAT TREATMENT APPARATUS FOR COIL}[0001] HEAT TREATMENT APPARATUS FOR COIL [0002]

본 발명은 코일의 열처리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 코일의 변형을 방지하는 코일의 열처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a heat treatment apparatus for a coil, and more particularly to a heat treatment apparatus for a coil that prevents deformation of the coil.

열간 압연된 코일, 예를 들어, 스테인레스 400계 강종은 열간 압연 후 열처리를 위해 소둔 공정을 거친다. 소둔 공정은 철강 내부의 응력 제거를 위해 철강을 적당한 온도로 가열 유지한 후 서냉하는 작업으로, 공정에 사용되는 노의 종류나 재료의 취급방법에 따라 가스소둔로, 전기소둔로, 배치식 소둔로, 또는 연속식 소둔로 등으로 구분된다.The hot-rolled coil, for example, a stainless steel-based steel, is subjected to an annealing process for heat treatment after hot rolling. The annealing process is a process of heating and holding steel at an appropriate temperature to remove stress inside the steel and then gradually cooling it. The annealing process is a gas annealing process, an electric annealing process, a batch annealing process , Or a continuous annealing furnace.

배치식 소둔로의 경우, 강판이 감겨진 코일을 소둔로 내부에 적치하여 가열하는 구조로 되어 있다. 소둔로 내부에는 코일이 놓여져 지지되는 스키드가 설치된다. 이에 스키드 상에 코일을 적치하여 안정적으로 고정된 상태에서 소둔을 실시하게 된다.In the case of a batch annealing furnace, a coil in which a steel sheet is wound is placed inside an annealing furnace and heated. The inside of the annealing furnace is provided with a skid on which a coil is placed and supported. The coil is placed on the skid so as to perform annealing in a state where it is stably fixed.

코일의 소둔 공정은 코일을 가열하여 일정기간 동안 1200℃ 정도의 고온으로 유지한 후 냉각시키는 공정을 거친다.The annealing process of the coil is performed by heating the coil, maintaining the coil at a high temperature of about 1200 DEG C for a predetermined period, and then cooling the coil.

그러나 종래의 소둔로는 내부에 적재된 코일에 대한 가열과 냉각이 반복될 경우 코일이 열팽창과 수축을 반복하는 동안 코일의 바닥부와 지지판 사이의 마찰에 의해 코일의 바닥부 표면 결함이 발생하는 문제가 있다. 이러한 코일의 에지 형상 결함에 의해 추가 가공이 필요하고, 실수율이 하락하며, 납기가 지연될 수 있다.However, in the conventional annealing furnace, when the heating and cooling for the coil mounted on the inside are repeated, thermal deformation and shrinkage of the coil repeatedly occur, and friction between the bottom of the coil and the support plate causes defects on the bottom surface of the coil . Such edge-shaped defects of the coil require additional machining, and the yield rate may decrease and the delivery time may be delayed.

공개특허공보 제10-2002-0001204호(2002년 1월 9일 공개)Published Patent Application No. 10-2002-0001204 (published on January 9, 2002)

본 발명의 실시예는 코일의 바닥부 표면 결함을 감소시키기 위해 고온소둔 공정에서 코일 바닥부와 지지판 사이의 마찰을 저감하는 코일 열처리 장치를 제공하고자 한다.An embodiment of the present invention is to provide a coil heat treatment apparatus for reducing friction between a coil bottom portion and a support plate in a high temperature annealing process in order to reduce surface bottom defect of the coil.

본 발명의 일 측면에 따르면, 코일을 감싸도록 마련되는 커버; 상기 코일을 가열하는 가열장치; 및 상기 코일을 지지하는 코일 지지장치를 포함하고, 상기 코일 지지장치는, 프레임과, 상기 프레임에 수용되고 상기 코일을 지지하는 복수의 지지판들을 포함하고, 상기 복수의 지지판들은 각각 상기 코일의 중앙을 기준으로 방사 방향으로 이동 가능하게 마련되는 코일 열처리 장치가 제공될 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a cover for covering a coil; A heating device for heating the coil; And a coil support device for supporting the coil, the coil support device comprising: a frame; and a plurality of support plates received in the frame and supporting the coils, A coil heat treatment apparatus provided so as to be movable in the radial direction can be provided.

또한, 상기 코일 지지장치는 상기 프레임과 상기 지지판 사이에 배치되는 지지롤러를 더 포함할 수 있다.The coil supporting apparatus may further include a support roller disposed between the frame and the support plate.

또한, 상기 지지롤러는 상기 코일의 방사 방향에 수직하는 방향으로 배치되고, 상기 코일의 방사 방향으로 복수 개 배치되어 상기 지지판을 지지할 수 있다.The support rollers may be disposed in a direction perpendicular to the radial direction of the coils, and a plurality of support rollers may be disposed in the radial direction of the coils to support the support plates.

또한, 상기 코일 지지장치는 상기 지지롤러와 상기 프레임 사이에 배치되어 상기 지지판에 탄성력을 제공하는 탄성부재를 더 포함할 수 있다.The coil support apparatus may further include an elastic member disposed between the support roller and the frame to provide an elastic force to the support plate.

또한, 상기 프레임은 외벽과 상기 외벽의 내부에 위치하는 내벽을 포함하고, 상기 지지판은 상기 프레임의 외벽과 내벽 사이에 수용되며, 상기 탄성부재는 상기 프레임의 외벽과 상기 지지판 사이에 개재되어 상기 지지판에 상기 내벽 방향으로 탄성력을 제공할 수 있다.The frame includes an outer wall and an inner wall positioned inside the outer wall, and the support plate is received between the outer wall and the inner wall of the frame, and the elastic member is interposed between the outer wall of the frame and the support plate, In the direction of the inner wall.

또한, 상기 외벽에는 상기 상기 탄성부재의 일 측을 고정하는 고정부재가 마련될 수 있다.Further, a fixing member for fixing one side of the elastic member may be provided on the outer wall.

또한, 상기 프레임은 바닥면과, 상기 바닥면의 외측에서 상부로 연장되는 외벽과, 상기 바닥면의 내측에서 상부로 연장되는 내벽과, 상기 외벽과 내벽을 연결하는 칸막이를 포함할 수 있다.The frame may include a bottom surface, an outer wall extending upward from the outer side of the bottom surface, an inner wall extending upwardly from the inner side of the bottom surface, and a partition connecting the outer wall and the inner wall.

또한, 상기 칸막이는 상기 코일의 방사 방향으로 연장될 수 있다.Further, the partition may extend in the radial direction of the coil.

또한, 상기 외벽과 상기 내벽은 원통 형상으로 마련되고, 상기 칸막이는 상기 외벽과 상기 내벽 사이의 공간을 균등하게 분할하도록 복수 개로 마련될 수 있다.Further, the outer wall and the inner wall may be provided in a cylindrical shape, and the partition may be provided in plural to evenly divide the space between the outer wall and the inner wall.

또한, 상기 지지판은 부채 형상으로 마련될 수 있다.Further, the support plate may be provided in a fan shape.

또한, 상기 지지판의 방사 방향 길이는 상기 외벽과 상기 내벽 사이의 거리 보다 작게 마련될 수 있다.In addition, the length in the radial direction of the support plate may be smaller than the distance between the outer wall and the inner wall.

또한, 상기 지지판은 상기 코일의 중앙 방향으로 이동한 초기 위치에서 양 측면이 인접하는 칸막이들에 지지될 수 있다.In addition, the support plate may be supported on the adjacent side walls at the initial position where the support plate is moved in the center direction of the coil.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 코일을 감싸도록 마련되는 커버; 상기 코일을 가열하는 가열장치; 및 상기 코일을 지지하는 코일 지지장치를 포함하고, 상기 코일 지지장치는, 프레임과, 상기 프레임에 수용되고 상기 코일을 지지하는 지지판을 포함하고, 상기 지지판은 상기 코일의 원주 방향으로 분할되어 복수 개로 마련되며, 상기 복수의 지지판들은 각각 상기 코일의 중앙을 기준으로 방사 방향으로 이동 가능하게 마련되는 코일 열처리 장치가 제공될 수 있다.According to another embodiment of the present invention, a cover is provided to enclose a coil. A heating device for heating the coil; And a coil supporting device for supporting the coil, wherein the coil supporting device includes a frame and a support plate received in the frame and supporting the coil, wherein the support plate is divided into a plurality of parts in the circumferential direction of the coil And the plurality of support plates may be provided so as to be movable in the radial direction with respect to the center of the coil, respectively.

또한, 상기 복수의 지지판들은 각각 상기 코일의 팽창 및 수축과 함께 이동하도록 마련될 수 있다.Further, each of the plurality of support plates may be provided so as to move together with the expansion and contraction of the coil.

또한, 상기 코일 지지장치는 상기 코일의 하중이 제거된 상태에서 상기 지지판을 초기 위치로 복귀시키는 탄성력을 제공하는 탄성부재를 더 포함할 수 있다.The coil supporting apparatus may further include an elastic member for providing an elastic force to return the support plate to an initial position in a state where the load of the coil is removed.

본 발명의 실시예에 따른 코일 열처리 장치는 고온소둔 공정에서 코일의 자중과 가열, 냉각에 따른 코일의 팽창, 수축으로 발생하는 코일과 지지판과 사이의 마찰을 저감시키고, 고르게 분산시킴으로서, 코일의 하부 에지의 형상 변형을 최소화할 수 있다.The coil heat treatment apparatus according to the embodiment of the present invention reduces the friction between the coil and the support plate caused by expansion and contraction of the coil due to the self weight of the coil and the heating and cooling in the high temperature annealing process and uniformly disperses the coil, Shape distortion of the edge can be minimized.

또한, 이로 인해 코일의 하부 에지의 형상 불량에 의한 추가가공, 실수율 하락, 납기 지연을 개선할 수 있다.This further improves the machining process due to the defective shape of the lower edge of the coil, the decrease in the error rate and the delay in the delivery time.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 코일 열처리 장치를 나타내는 내부 단면도이다.
도 2는 코일 지지유닛을 나타내는 평면도이다.
도 3은 코일 지지유닛에서 지지판을 제거한 모습을 나타내는 평면도이다.
도 4는 코일 가열 초기의 코일 열처리 장치의 모습을 나타내는 내부 단면도이다.
도 5는 코일 가열 후의 코일 열처리 장치의 모습을 나타내는 내부 단면도이다.
도 6은 코일 냉각 후의 코일 열처리 장치의 모습을 나타내는 내부 단면도이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 코일 열처리 장치에서 코일과 코일 지지유닛 사이의 마찰력을 나타내는 그래프이다.1 is an internal sectional view showing a coil heat treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a plan view showing the coil supporting unit.
3 is a plan view showing a state in which the support plate is removed from the coil supporting unit.
4 is an internal sectional view showing a state of the coil heat treatment apparatus in the initial stage of coil heating.
5 is an internal sectional view showing a state of the coil heat treatment apparatus after coil heating.
6 is an internal sectional view showing a state of a coil heat treatment apparatus after coil cooling.
7 is a graph showing the frictional force between the coil and the coil supporting unit in the coil heat treatment apparatus according to the embodiment of the present invention.

이하에서는 본 발명의 실시예들을 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

이하에 소개되는 실시예들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 본 발명은 이하 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 본 발명을 명확하게 설명하기 위하여 설명과 관계없는 부분은 도면에서 생략하였으며 도면들에 있어서, 구성요소의 폭, 길이, 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.The embodiments described below are provided by way of example so that those skilled in the art will be able to fully understand the spirit of the present invention. The present invention is not limited to the embodiments described below and may be embodied in other forms. In order to clearly explain the present invention, parts not related to the description are omitted from the drawings, and the width, length, thickness, etc. of the components may be exaggerated for convenience. Like reference numerals designate like elements throughout the specification.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 코일 열처리 장치(1)를 나타내는 내부 단면도이다.1 is an internal cross-sectional view showing a coil heat treatment apparatus 1 according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참고하면, 본 발명의 실시예에 따른 코일 열처리 장치(1)는 코일(10)을 지지하는 베이스(30)와, 코일(10)을 감싸도록 배치되어 내부와 외부 간의 열 및 가스의 이동을 차단하는 커버(20)와, 열원이 되는 버너(미도시)와 커버(20) 내부에 분위기 가스를 공급하는 가스 주입관(40)을 포함한다. 그 밖에도 코일(10)을 냉각하기 위한 냉각가스를 공급하는 냉각장치(미도시)를 더 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, a coil heat treatment apparatus 1 according to an embodiment of the present invention includes a base 30 for supporting a coil 10, (Not shown) as a heat source, and a gas injection pipe 40 for supplying an atmospheric gas to the interior of the cover 20. [ And may further include a cooling device (not shown) for supplying a cooling gas for cooling the coil 10.

베이스(30)는 코일(10)을 지지하는 베이스 플레이트(31)와 커버(20)를 지지하도록 원판 형상으로 마련된다. 그리고 베이스 플레이트(31)는 속이 빈 원통 형상의 코일(10)이 안착되도록 원판 형상으로 마련되고, 중심부에 분위기 가스를 유입하는 가스 주입관(40)을 수용하도록 홀(32)이 형성되어 있다. 그리고 코일(10)의 바닥면(112)과 접촉하는 베이스 플레이트(31)는 열전달 효율을 높이기 위하여 열전도율이 우수한 재질로 마련되는 것이 바람직하다.The base 30 is provided in a disc shape so as to support the base plate 31 supporting the coil 10 and the cover 20. The base plate 31 is provided in a disc shape so that the hollow cylindrical coil 10 is seated. A hole 32 is formed in the center of the base plate 31 to receive the gas injection pipe 40 for introducing the atmosphere gas. The base plate 31, which is in contact with the bottom surface 112 of the coil 10, is preferably made of a material having a high thermal conductivity to enhance heat transfer efficiency.

커버(20)는 일 측이 개방되도록 형성되고, 개방된 일 측이 베이스(30)에 지지되도록 배치된다. 그리고 커버(20)는 코일(10)의 주위를 감싸되, 버너 열원에서 방출되는 열이 복사 및 대류 열전달에 의해 코일(10)을 가열할 수 있도록 코일(10)과 일정 거리 떨어져 감싸도록 위치할 수 있다.The cover 20 is formed so that one side is opened and one side that is opened is arranged to be supported by the base 30. [ The cover 20 is wrapped around the coil 10 so that the heat radiated from the burner heat source is positioned to surround the coil 10 by a certain distance so as to heat the coil 10 by radiation and convection heat transfer .

또한, 커버(20)와 베이스(30)의 결합부에는 실링부재(미도시)가 마련되어 커버(20) 내부와 외부를 밀폐시킬 수 있다. 실링부재는 커버(20) 외부와 내부의 분위기 가스의 이동을 차단할 수 있다.In addition, a sealing member (not shown) is provided at an engagement portion between the cover 20 and the base 30 to seal the inside and the outside of the cover 20. The sealing member can block the movement of the atmospheric gas outside and inside the cover (20).

가스 주입관(40)은 가스 공급관(41)과 연결되어 외부로부터 분위기 가스를 공급받을 수 있다. 그리고 가스 주입관(40)은 베이스 플레이트(31)의 중앙에 형성되는 홀(32)에 수용되어 코일(10)의 중앙에 형성되는 홀(11)을 향해 배치될 수 있다. 가스 주입관(40)을 통해 배출되는 분위기 가스는 코일(10)의 중앙에 형성되는 홀(11)을 지나 커버(20) 내부에 채워지게 된다.The gas injection pipe 40 is connected to the gas supply pipe 41 and can receive ambient gas from the outside. The gas injection pipe 40 is accommodated in a hole 32 formed at the center of the base plate 31 and disposed toward the hole 11 formed at the center of the coil 10. The atmosphere gas discharged through the gas injection pipe 40 is filled in the cover 20 through the holes 11 formed at the center of the coil 10.

한편, 고온의 소둔 과정의 가열 및 냉각 과정에서 코일(10) 전체의 열팽창 수축은 피할 수 없으며, 이 과정에서 코일(10)과 이를 지지하는 코일(10) 지지유닛 사이에 마찰이 발생할 수 있다. 특히 고온에서 열화된 강성을 가지는 코일(10)에서는 마찰에 의해 코일(10) 바닥부의 형상 결함을 발생시킬 수 있고, 제품의 표면 품질이 저하되는 문제점이 발생할 수 있다.On the other hand, thermal expansion and shrinkage of the entire coil 10 can not be avoided during the heating and cooling process at a high temperature annealing process. In this process, friction may occur between the coil 10 and the supporting unit for supporting the coil 10. Especially, in the coil 10 having a stiffness deteriorated at a high temperature, defects in the shape of the bottom of the coil 10 can be caused by friction, and the surface quality of the product may be deteriorated.

본 발명의 실시예에 따른 코일 열처리 장치(1)는 이러한 문제점을 해결하기 위해 코일(10)이 열에 의해 전체적으로 팽창 및 수축하더라도 코일(10)이 지지하는 코일(10) 지지유닛이 코일(10)과 함께 움직여 코일(10)과 코일(10) 지지유닛 사이의 마찰을 최소화시킬 수 있다. 따라서 코일(10) 바닥부의 결함을 줄일 수 있다.In order to solve such a problem, the coil heating apparatus 1 according to the embodiment of the present invention includes a coil 10 supported by a coil 10 supported by a coil 10 even if the coil 10 is expanded and contracted by heat, Thereby minimizing the friction between the coil 10 and the coil 10 support unit. Therefore, defects at the bottom of the coil 10 can be reduced.

도 2는 코일(10) 지지유닛을 나타내는 평면도이고, 도 3은 코일(10) 지지유닛에서 지지판(130)을 제거한 모습을 나타내는 평면도이다.FIG. 2 is a plan view showing the coil 10 support unit, and FIG. 3 is a plan view showing a state in which the support plate 130 is removed from the coil 10 support unit.

도 2와 도 3을 참고하면, 코일(10) 지지유닛은 코일(10)을 지지하는 지지판(130)과, 지지판(130)을 수용하는 프레임(110)과, 지지판(130)에 탄성력을 지공하는 탄성부재(120)와, 지지판(130)과 프레임(110) 사이에 배치되어 지지판(130)을 지지하는 지지롤러(140)를 포함할 수 있다.2 and 3, the coil 10 supporting unit includes a supporting plate 130 for supporting the coil 10, a frame 110 for receiving the supporting plate 130, And a support roller 140 disposed between the support plate 130 and the frame 110 to support the support plate 130. [

프레임(110)은 코일(10)의 외경보다 큰 외경을 가지는 원통 형상의 외벽(111)과, 베이스(30) 프레이트 상에 놓여지는 바닥면(112)과, 코일(10)의 내경보다 작은 내경을 가지는 원통 형상의 내벽(114)을 포함한다. 그리고 내벽(114)의 내측에 마련되는 내부 공간(115)은 코일(10)의 중심에 형성되는 홀(11)과 연통된다.The frame 110 includes a cylindrical outer wall 111 having an outer diameter larger than the outer diameter of the coil 10, a bottom surface 112 placed on the base 30 plate, Shaped inner wall 114 having a cylindrical shape. The inner space 115 provided inside the inner wall 114 communicates with the hole 11 formed in the center of the coil 10.

그리고 프레임(110)의 외벽(111)과 내벽(114)은 복수의 칸막이(113)에 의해 복수의 공간으로 분할될 수 있다. 칸막이(113)에 의해 분할되는 공간에는 복수의 지지판(130)이 배치될 수 있다. 칸막이(113)는 방사방향으로 연장될 수 있다. 예를 들어, 프레임(110)의 중심에서 방사방향으로 연장되는 8개의 칸막이(113)는 프레임(110)을 원주 방향으로 균일하게 8 등분 할 수 있다. 그러나 칸막이(113)의 개수와 형상은 다르게 마련될 수 있다.The outer wall 111 and the inner wall 114 of the frame 110 may be divided into a plurality of spaces by a plurality of partitions 113. A plurality of support plates 130 may be disposed in the space divided by the partition 113. The partition 113 can extend in the radial direction. For example, eight partitions 113 extending radially from the center of the frame 110 can equally divide the frame 110 equally in the circumferential direction. However, the number and shape of the partition 113 may be different.

지지판(130)은 칸막이(113) 내부에 수용되되, 방사 방향으로 이동 가능하게 마련될 수 있다. 예를 들어, 지지판(130)의 방사 방향 길이는 프레임(110)의 외벽(111)과 내벽(114) 사이의 거리 보다 작게 마련될 수 있다.The support plate 130 is accommodated in the partition 113, and may be provided to be movable in the radial direction. For example, the radial length of the support plate 130 may be less than the distance between the outer wall 111 and the inner wall 114 of the frame 110.

그리고 지지판(130)은 초기 상태, 즉 프레임(110)의 내벽(114)에 지지되는 상태에서 양 측면이 칸막이(113)에 지지되도록 마련될 수 있다. 따라서 지지판(130)의 초기 상태의 배치는 항상 일정할 수 있다.The support plate 130 may be provided on both sides of the partition 113 in a state where the support plate 130 is supported by the inner wall 114 of the frame 110 in an initial state. Therefore, the arrangement of the initial state of the support plate 130 can always be constant.

그리고 지지판(130)이 부채 형상으로 마련되어 프레임(110)의 외측으로 갈수록 너비 또는 호의 길이가 길어질 수 있다. 이러한 형상은 지지판(130)과 코일(10) 사이의 접촉 면적을 증가시킬 수 있다. 또는 도면에 도시된 바와 달리 지지판(130)이 프레임(110)의 외측으로 갈수록 너비가 일정하게 마련될 수도 있다. 이 경우에 지지판(130)이 프레임(110)의 외측으로 이동하면서 양 측부에 위치하는 칸막이(113)에 가이드될 수 있다.The support plate 130 may be provided in a fan shape, and the width or arc length may be increased toward the outer side of the frame 110. This shape can increase the contact area between the support plate 130 and the coil 10. [ The width of the support plate 130 may be set to be constantly increased toward the outside of the frame 110, as shown in FIG. In this case, the support plate 130 may be guided to the partition 113 located on both sides while moving outside the frame 110.

또한, 지지판(130)은 코일(10)이 수축 및 팽창하는 때에 코일(10)과 함께 이동하도록 마련되어 코일(10)의 바닥부와의 마찰력을 최소로 할 수 있다. 이를 위해 지지판(130)과 프레임(110)의 바닥면(112) 사이에는 지지롤러(140)가 배치될 수 있다.The support plate 130 is provided to move together with the coil 10 when the coil 10 shrinks and expands, so that the frictional force with the bottom of the coil 10 can be minimized. To this end, a support roller 140 may be disposed between the support plate 130 and the bottom surface 112 of the frame 110.

지지롤러(140)는 프레임(110)의 반경 방향으로 복수 개 배치될 수 있다. 그리고 지지롤러(140)의 축은 프레임(110)의 반경 방향에 수직하는 방향으로 배치될 수 있다. 따라서 지지롤러(140) 위에 놓여지는 지지판(130)은 프레임(110)의 반경 방향으로 이동이 자유로울 수 있다. 지지판(130)은 코일(10)이 팽창/수축되는 양만큼 움직여 코일(10)과의 사이에 마찰을 최소화할 수 있고, 코일(10)의 바닥부 내지 엣지부의 형상 찌그러짐을 최소화할 수 있다.A plurality of support rollers 140 may be disposed in the radial direction of the frame 110. And the axis of the support roller 140 may be disposed in a direction perpendicular to the radial direction of the frame 110. Therefore, the support plate 130 placed on the support roller 140 can be free to move in the radial direction of the frame 110. The support plate 130 can minimize friction between the support plate 130 and the coil 10 by moving the coil 10 by the amount of expansion / contraction of the coil 10, and can minimize the distortion of the shape of the bottom portion or the edge portion of the coil 10.

소둔 완료된 코일(10)의 상태가 소둔 전 보다 팽창된 상태라면, 지지판(130)은 초기 위치에서 이동된 위치로 마무리된다. 이 상태가 반복되면, 결국 지지판(130)의 위치가 프레임(110)의 최외곽에 배치되고, 그 후 코일(10)의 팽창에 코일 지지장치(100)가 대응하지 못하게 될 수 있다.If the state of the annealed coil 10 is in a state of being expanded as compared with that before annealing, the support plate 130 is finished to the position moved from the initial position. If this state is repeated, the position of the support plate 130 may be positioned at the outermost portion of the frame 110, and the coil supporting apparatus 100 may not be able to cope with the expansion of the coil 10 thereafter.

이를 방지하기 위하여 코일 지지장치(100)는 지지판(130)과 프레임(110) 사이에 배치되어 지지판(130)에 탄성력을 제공하는 탄성부재(120)를 포함할 수 있다. 지지판(130)은 탄성부재(120)의 탄성력에 의해 코일(10) 제거 시 제자리로 돌아올 수 있다. 즉, 코일 지지장치(100)는 탄성부재(120)에 의해 지지판(130)의 초기 위치를 설정할 수 있다.The coil support apparatus 100 may include an elastic member 120 disposed between the support plate 130 and the frame 110 to provide an elastic force to the support plate 130. [ The support plate 130 can be returned to its original position when the coil 10 is removed by the elastic force of the elastic member 120. That is, the coil supporting apparatus 100 can set the initial position of the support plate 130 by the elastic member 120.

또한, 탄성부재(120)는 코일(10)이 없을 시 지지판(130)을 초기 위치로 이동시킬 수 있는 최소한의 탄성력을 제공하도록 탄성계수가 정해질 수 있다. 탄성부재(120)의 탄성력이 지나치게 커지는 경우 코일(10)과 지지판(130) 사이에 오히려 마찰을 발생시킬 수 있기 때문이다.In addition, the elastic member 120 may have a modulus of elasticity so as to provide a minimum elastic force capable of moving the support plate 130 to an initial position in the absence of the coil 10. [ If the elastic force of the elastic member 120 is excessively large, friction may be generated between the coil 10 and the support plate 130.

그리고 탄성부재(120)는 고정부재(121)에 고정되어 이탈이 방지될 수 있다. 고정부재(121)는 프레임(110)의 외벽(111)의 내측에 돌출되는 돌기 형상일 수 있다. 예를 들어, 고정부재(121)는 원통 형상으로 마련되고, 코일(10) 형상의 탄성부재(120)의 일 측이 고정부재(121)의 외주면에 끼워질 수 있다.The elastic member 120 is fixed to the fixing member 121 and can be prevented from being separated. The fixing member 121 may be in the form of a protrusion protruding to the inside of the outer wall 111 of the frame 110. For example, the fixing member 121 is provided in a cylindrical shape, and one side of the elastic member 120 in the form of the coil 10 can be fitted to the outer peripheral surface of the fixing member 121. [

다음으로, 도 4 내지 도 6을 참고하여 코일(10)의 가열 또는 냉각에 따른 코일 지지장치(100)의 동작을 설명하기로 한다.Next, the operation of the coil supporting apparatus 100 according to the heating or cooling of the coil 10 will be described with reference to FIGS. 4 to 6. FIG.

도 4는 코일(10) 가열 초기의 코일 열처리 장치(1)의 모습을 나타내는 내부 단면도이고, 도 5는 코일(10) 가열 후의 코일 열처리 장치(1)의 모습을 나타내는 내부 단면도이며, 도 6은 코일(10) 냉각 후의 코일 열처리 장치(1)의 모습을 나타내는 내부 단면도이다.4 is an internal sectional view showing a state of the coil heating apparatus 1 at the initial stage of heating the coil 10, FIG. 5 is an internal sectional view showing a state of the coil heating apparatus 1 after the heating of the coil 10, Sectional view showing a state of the coil heat treatment apparatus 1 after the coil 10 is cooled.

도 4를 참고하면, 가열 초기에, 즉 아직 코일(10)이 팽창하지 않은 상태에서는 지지판(130)이 초기 위치에 위치한다. 도면에서는 가스 주입관(40)을 통해 열이 공급되는 것으로 도시하였지만, 이와 다른 루트를 통해 열원이 공급되는 것도 가능하다.Referring to FIG. 4, at the initial stage of heating, that is, in a state in which the coil 10 has not yet expanded, the support plate 130 is positioned at the initial position. Although heat is supplied through the gas injection pipe 40 in the drawing, it is also possible that the heat source is supplied through another route.

도 5를 참고하면, 가열이 진행되어 코일(10)이 팽창하면 코일(10)의 팽창과 함께 지지판(130)이 외측으로 이동하게 된다. 코일(10)은 중심부를 기준으로 방사 방향으로 팽창하게 된다. 앞에서 지지판(130)이 방사 방향으로 분할되어 마련되는 것을 설명한 바 있다. 따라서 분할된 각각의 지지판(130)은 서로 다른 방사 방향으로 이동할 수 있다. 이 때, 탄성부재(120)의 탄성계수는 작게 설정되어 지지판(130)의 이동을 방해하지 않을 수 있다.Referring to FIG. 5, when the coil 10 is expanded due to the heating, the support plate 130 moves outward together with the expansion of the coil 10. The coil 10 expands in the radial direction with respect to the center portion. It has been described that the support plate 130 is divided in the radial direction. Thus, each divided support plate 130 can move in different radial directions. At this time, the modulus of elasticity of the elastic member 120 may be set small so as not to hinder the movement of the support plate 130.

도 6을 참고하면, 가열이 완료되어 코일(10)이 수축하면 코일(10)의 수축과 함께 지지판(130)이 내측으로 이동하게 된다. 만일, 코일(10)의 수축 후 위치가 도 4의 초기 위치 보다 팽창된 상태의 경우에는 지지판(130)의 위치가 초기 위치가 달라질 수 있다. 그러나 코일(10)이 제거되면 탄성부재(120)의 탄성력에 의해 지지판(130)이 초기 위치로 복귀할 수 있어, 새로운 코일(10)을 지지하는 데 문제가 발생하지 않는다.Referring to FIG. 6, when the coil 10 is shrunk as the heating is completed, the support plate 130 moves inward with the contraction of the coil 10. 4, the initial position of the support plate 130 may be different from the initial position of the support plate 130 when the coil 10 is in a state of being expanded from the initial position of FIG. However, when the coil 10 is removed, the support plate 130 can be returned to the initial position by the elastic force of the elastic member 120, so that there is no problem in supporting the new coil 10.

도 7은 본 발명의 실시예에 따른 코일 열처리 장치(1)에서 코일(10)과 코일(10) 지지유닛 사이의 마찰력을 나타내는 그래프이다.7 is a graph showing the frictional force between the coil 10 and the coil 10 supporting unit in the coil heat treating apparatus 1 according to the embodiment of the present invention.

그래프에서 A는 코일(10)이 팽창 및 수축하여도 지지판(130)이 이와 함께 이동하지 않는 경우에 코일(10)의 바닥부와 지지판(130) 사이에 발생하는 마찰력을 나타낸다. 그리고 B는 본 발명의 실시예와 같이 코일(10)의 팽창 및 수축과 함께 지지판(130)이 함께 이동하는 경우에 코일(10)의 바닥부와 지지판(130) 사이에 발생하는 마찰력을 나타낸다.In the graph, A represents a frictional force generated between the bottom of the coil 10 and the support plate 130 when the support plate 130 does not move with the expansion and contraction of the coil 10. And B is a frictional force generated between the bottom of the coil 10 and the support plate 130 when the support plate 130 moves together with the expansion and contraction of the coil 10 as in the embodiment of the present invention.

이 그래프에서 알 수 있듯이, 본 발명의 실시예에 따른 코일 열처리 장치(1)는 코일(10)과 지지판(130) 사이의 마찰력을 최소화하여 코일(10)의 바닥부 및 에지부의 형상 변형을 최소로 할 수 있다.As can be seen from this graph, the coil heat treatment apparatus 1 according to the embodiment of the present invention minimizes the frictional force between the coil 10 and the support plate 130 to minimize the deformation of the bottom and the edge of the coil 10 .

본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken by way of limitation, You will understand. Accordingly, the true scope of the invention should be determined only by the appended claims.

1: 코일 열처리 장치 10: 코일
20: 커버 30: 베이스
31: 베이스 플레이트 40: 가스 주입관
41: 가스 공급관
100: 코일 지지장치 110: 프레임
111: 외벽 112: 바닥면
113: 칸막이 114: 내벽
115: 내부 공간 120: 탄성부재
121: 고정부재 130: 지지판
140: 지지롤러 1: coil heat treatment apparatus 10: coil
20: Cover 30: Base
31: base plate 40: gas injection tube
41: gas supply pipe
100: coil supporting device 110: frame
111: outer wall 112: bottom surface
113: partition 114: inner wall
115: inner space 120: elastic member
121: fixing member 130:
140: Support roller

Claims (15)

코일을 감싸도록 마련되는 커버;
상기 코일을 가열하는 가열장치; 및
상기 코일을 지지하는 코일 지지장치를 포함하고,
상기 코일 지지장치는,
프레임과, 상기 프레임에 수용되고 상기 코일을 지지하는 복수의 지지판들과, 상기 프레임과 상기 지지판 사이에 배치되는 지지롤러를 포함하며,
상기 복수의 지지판들은 각각 상기 코일의 중앙을 기준으로 방사 방향으로 이동 가능하게 마련되는 코일 열처리 장치.A cover provided to surround the coil;
A heating device for heating the coil; And
And a coil support device for supporting the coil,
The coil supporting device includes:
A frame, a plurality of support plates received in the frame and supporting the coils, and a support roller disposed between the frame and the support plate,
Wherein the plurality of support plates are provided movably in a radial direction with respect to a center of the coil. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 지지롤러는 상기 코일의 방사 방향에 수직하는 방향으로 배치되고, 상기 코일의 방사 방향으로 복수 개 배치되어 상기 지지판을 지지하는 코일 열처리 장치.The method according to claim 1,
Wherein the support rollers are disposed in a direction perpendicular to the radial direction of the coils and a plurality of support rollers are disposed in the radial direction of the coils to support the support plates. 제1항에 있어서,
상기 코일 지지장치는 상기 지지롤러와 상기 프레임 사이에 배치되어 상기 지지판에 탄성력을 제공하는 탄성부재를 더 포함하는 코일 열처리 장치.The method according to claim 1,
Wherein the coil supporting apparatus further comprises an elastic member disposed between the support roller and the frame to provide an elastic force to the support plate. 제4항에 있어서,
상기 프레임은 외벽과 상기 외벽의 내부에 위치하는 내벽을 포함하고,
상기 지지판은 상기 프레임의 외벽과 내벽 사이에 수용되며,
상기 탄성부재는 상기 프레임의 외벽과 상기 지지판 사이에 개재되어 상기 지지판에 상기 내벽 방향으로 탄성력을 제공하는 코일 열처리 장치.5. The method of claim 4,
Wherein the frame includes an outer wall and an inner wall positioned within the outer wall,
The support plate is received between an outer wall and an inner wall of the frame,
Wherein the elastic member is interposed between an outer wall of the frame and the support plate to provide an elastic force to the support plate in the direction of the inner wall. 제5항에 있어서,
상기 외벽에는 상기 상기 탄성부재의 일 측을 고정하는 고정부재가 마련되는 코일 열처리 장치.6. The method of claim 5,
And a fixing member for fixing one side of the elastic member is provided on the outer wall. 제1항에 있어서,
상기 프레임은 바닥면과, 상기 바닥면의 외측에서 상부로 연장되는 외벽과, 상기 바닥면의 내측에서 상부로 연장되는 내벽과, 상기 외벽과 내벽을 연결하는 칸막이를 포함하는 코일 열처리 장치.The method according to claim 1,
Wherein the frame includes a bottom surface, an outer wall extending upward from the outer side of the bottom surface, an inner wall extending upwardly from the inner side of the bottom surface, and a partition connecting the outer and inner walls. 제7항에 있어서,
상기 칸막이는 상기 코일의 방사 방향으로 연장되는 코일 열처리 장치.8. The method of claim 7,
Wherein the partition extends in the radial direction of the coil. 제8항에 있어서,
상기 외벽과 상기 내벽은 원통 형상으로 마련되고,
상기 칸막이는 상기 외벽과 상기 내벽 사이의 공간을 균등하게 분할하도록 복수 개로 마련되는 코일 열처리 장치.9. The method of claim 8,
Wherein the outer wall and the inner wall are provided in a cylindrical shape,
Wherein the partition is provided in plural so as to evenly divide the space between the outer wall and the inner wall. 제9항에 있어서,
상기 지지판은 부채 형상으로 마련되는 코일 열처리 장치.10. The method of claim 9,
Wherein the support plate is provided in a fan shape. 제7항에 있어서,
상기 지지판의 방사 방향 길이는 상기 외벽과 상기 내벽 사이의 거리 보다 작게 마련되는 코일 열처리 장치.8. The method of claim 7,
Wherein a radial length of the support plate is smaller than a distance between the outer wall and the inner wall. 제11항에 있어서,
상기 지지판은 상기 코일의 중앙 방향으로 이동한 초기 위치에서 양 측면이 인접하는 칸막이들에 지지되는 코일 열처리 장치.12. The method of claim 11,
Wherein the support plate is supported on the adjacent side walls at an initial position where the support plate is moved in the center direction of the coil. 코일을 감싸도록 마련되는 커버;
상기 코일을 가열하는 가열장치; 및
상기 코일을 지지하는 코일 지지장치를 포함하고,
상기 코일 지지장치는,
프레임과, 상기 프레임에 수용되고 상기 코일을 지지하는 지지판과, 상기 프레임과 상기 지지판 사이에 배치되는 지지롤러를 포함하고,
상기 지지판은 상기 코일의 원주 방향으로 분할되어 복수 개로 마련되며,
상기 복수의 지지판들은 각각 상기 코일의 중앙을 기준으로 방사 방향으로 이동 가능하게 마련되는 코일 열처리 장치.A cover provided to surround the coil;
A heating device for heating the coil; And
And a coil support device for supporting the coil,
The coil supporting device includes:
A support plate received in the frame and supporting the coil; and a support roller disposed between the frame and the support plate,
Wherein the support plate is divided into a plurality of segments in the circumferential direction of the coil,
Wherein the plurality of support plates are provided movably in a radial direction with respect to a center of the coil. 제13항에 있어서,
상기 복수의 지지판들은 각각 상기 코일의 팽창 및 수축과 함께 이동하도록 마련되는 코일 열처리 장치.14. The method of claim 13,
Wherein the plurality of support plates are each configured to move together with the expansion and contraction of the coil. 제14항에 있어서,
상기 코일 지지장치는 상기 코일의 하중이 제거된 상태에서 상기 지지판을 초기 위치로 복귀시키는 탄성력을 제공하는 탄성부재를 더 포함하는 코일 열처리 장치.15. The method of claim 14,
Wherein the coil supporting apparatus further comprises an elastic member for providing an elastic force to return the support plate to an initial position in a state in which the load of the coil is removed.
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