KR101869868B1 - Liquid crystal display device and Method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 서로 대향하는 제 1기판 및 제 2기판; 상기 제 1기판의 일면에 서로 수직하게 교차하여 화소영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선; 상기 게이트 배선 및 데이터 배선의 교차지점에 형성된 박막 트랜지스터; 상기 제 1기판의 상기 화소영역에 형성된 컬러필터; 및 상기 제 2기판 상에 형성되는 블랙 스트라이프를 포함하고, 상기 블랙 스트라이프는 눌림 갭을 일정하게 유지하는 대면적 스트라이프; 및 상기 대면적 스트라이프와 소정의 간격으로 이격되며, 상기 대면적 스트라이프 보다 높은 단차로 형성되어 셀갭을 일정하게 유지하는 컬럼 스페이서를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것으로서,
본 발명에 따르면, 눌림 갭을 일정하게 유지하여 표시 화면에 터치(touch) 불량을 방지하고, 표시 화면을 쓸어 내리는 경우 쓸어 내린 부위의 휘도를 균일하게 하여 화면에 얼룩을 방지하는 효과가 있다.The present invention provides a plasma display panel comprising: a first substrate and a second substrate facing each other; A gate line and a data line crossing the first substrate at right angles to define a pixel region; A thin film transistor formed at an intersection of the gate wiring and the data wiring; A color filter formed in the pixel region of the first substrate; And a black stripe formed on the second substrate, wherein the black stripe is a large area stripe which keeps the pressing gap constant; And a column spacer spaced apart from the large-area stripe by a predetermined distance, the column spacer being formed with a step higher than the large-area stripe to maintain a cell gap constant, and a method of manufacturing the same.
According to the present invention, there is an effect of preventing the touch failure on the display screen by keeping the pressing gap constant, and preventing the unevenness on the screen by making the brightness of the swept area uniform when the display screen is swept away.

Description

액정표시장치 및 그 제조방법{Liquid crystal display device and Method for manufacturing the same}[0001] The present invention relates to a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof,

본 발명은 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 균일한 눌림 갭을 유지하는 액정표시장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a liquid crystal display device that maintains a uniform pressing gap.

액정표시장치는 동작 전압이 낮아 소비 전력이 적고 휴대용으로 쓰일 수 있는 등의 이점으로 노트북 컴퓨터, 모니터, 우주선, 항공기 등에 이르기까지 응용분야가 넓고 다양하다.Liquid crystal display devices have a wide variety of applications ranging from notebook computers, monitors, spacecrafts and aircraft to the advantages of low power consumption and low power consumption and being portable.

액정표시장치는 상부 기판, 하부 기판, 및 상기 양 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성되며, 전계 인가 유무에 따라 액정층의 배열 상태가 조절되고 그에 따라 광의 투과도가 조절되어 화상이 표시되는 장치이다. A liquid crystal display device includes an upper substrate, a lower substrate, and a liquid crystal layer formed between the two substrates. The liquid crystal display device has an arrangement in which the alignment of the liquid crystal layer is adjusted depending on whether an electric field is applied, to be.

최근 영상표시장치는 3D 영상을 구현하는데 있어서, 양안시차방식(stereoscopic technique) 또는 복합시차지각방식(autostereoscopic technique)을 사용할 수 있다.Recently, image display apparatuses can use a stereoscopic technique or an autostereoscopic technique in realizing 3D images.

양안시차방식은 입체 효과가 큰 좌우 눈의 시차를 이용하며, 그 구현방식으로는 안경방식과 무안경방식이 있다. The binocular parallax method uses the parallax of the right and left eyes, which has a large stereoscopic effect.

안경방식은 직시형 표시소자나 프로젝터에 좌우 시차 영상의 편광 방향을 바꿔서 또는 시분할 방식으로 표시하고, 편광 안경 또는 액정셔터 안경을 사용하여 입체 영상을 구현한다.The spectacle method realizes a stereoscopic image by using polarizing glasses or liquid crystal shutter glasses to display the right and left parallax images in a direct view type display device or a projector by changing the polarization directions of the parallax images in a time division manner.

무안경 방식은 일반적으로 좌우 시차 영상의 광축을 분리하기 위한 패럴렉스 베리어 등의 광학판을 표시 화면의 앞에 또는 뒤에 설치하는 방식이다.In the non-eyeglass system, an optical plate such as a parallax barrier for separating the optical axis of left and right parallax images is installed in front of or behind the display screen.

도 1은 종래의 안경방식의 3D 액정표시장치의 개념도이다. Fig. 1 is a conceptual diagram of a conventional 3D liquid crystal display device of a spectacles type.

도 1에서 알 수 있듯이, 액정표시장치는 표시패널(3)에 빛을 조사하는 백라이트 유닛(1), 액정표시패널(3), 선편광을 선택하기 위해 액정표시패널(3)의 상하부면에 부착되는 편광판(2,4)을 포함한다.1, the liquid crystal display device includes a backlight unit 1, a liquid crystal display panel 3, and a liquid crystal display panel 3 for irradiating light to the display panel 3 and attached to the upper and lower surfaces of the liquid crystal display panel 3 to select linearly polarized light. And a polarizing plate (2,4).

또한, 안경방식은 도 1과 같이 편광 안경(6)에 입사되는 빛의 편광특성을 절환하기 위해 액정표시패널(3) 상에 패턴 리타더(Patterned Retarder)(5)를 포함할 수 있다.1, a pattern retarder 5 may be provided on the liquid crystal display panel 3 in order to switch polarization characteristics of light incident on the polarizing glasses 6. [

안경방식은 액정표시패널(3)에 좌안 이미지(L)와 우안 이미지(R)를 교대로 표시하고 패턴 리타더(5)를 통해 편광 안경(6)에 입사되는 편광특성을 절환한다. 이를 통해, 안경방식은 좌안 이미지(L)와 우안 이미지(R)를 공간적으로 분할하여 3D 영상을 구현할 수 있다. The eyeglass system alternately displays the left eye image L and the right eye image R on the liquid crystal display panel 3 and switches the polarization characteristics incident on the polarizing glasses 6 through the pattern retarder 5. Accordingly, a 3D image can be realized by dividing the left-eye image L and the right-eye image R spatially by the spectacle method.

그러나, 이러한 안경방식에서는 상/하 시야각 위치에서 발생되는 크로스토크(Crosstalk)로 인해 3D 영상의 시인성이 떨어지는 문제가 있다. However, in such a glasses system, there is a problem that visibility of a 3D image is deteriorated due to crosstalk generated at an upper / lower viewing angle position.

그 결과, 통상의 안경방식에서 양호한 화질의 3D 영상을 볼 수 있는 상/하 시야각은 매우 좁다. 크로스토크는 상/하 시야각 위치에서 좌안 이미지(L)가 좌안 패턴 리타더(5) 영역뿐만 아니라 우안 패턴 리타더(5) 영역도 통과하고 또한, 우안 이미지(R)가 우안 패턴 리타더(5) 영역뿐만 아니라 좌안 패턴 리타더(5) 영역도 통과하기 때문에 발생된다. As a result, the upper / lower viewing angles in which a 3D image of good image quality can be seen in an ordinary glasses system are very narrow. The crosstalk passes through the region of the left eye pattern retarder 5 as well as the region of the right eye pattern retarder 5 at the upper / lower viewing angle position and the right eye image R passes through the right eye pattern retarder 5 ) Region as well as the left pattern retarder 5 region.

이에, 도 2와 같이 표시패널의 블랙 매트릭스(BM)에 대응되는 패턴 리타더 영역에 블랙 스트라이프(BS)를 형성하여 상/하 시야각을 좀 더 넓게 확보함으로써 3D 영상의 시인성을 높이도록 한 방안이 일본 공개특허공보 제2002-185983호를 통해 제안된 바 있다. 2, a method of increasing the visibility of the 3D image by forming a black stripe (BS) in the pattern retarder area corresponding to the black matrix BM of the display panel to secure a wider upper / lower viewing angle Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2002-185983.

도 2에서, 일정 거리(D)에서 관찰시, 이론적으로 크로스토크가 발생하지 않는 시야각(α)은 표시패널의 블랙 매트릭스(BM) 사이즈, 패턴 리타더의 블랙 스트라이프(BS) 사이즈, 및 표시패널과 패턴 리타더 간 스페이서(S)에 의존하게 된다.2, when viewed at a certain distance D, the viewing angle alpha at which no the crosstalk occurs theoretically depends on the black matrix (BM) size of the display panel, the black stripe (BS) size of the pattern retarder, And the spacers S between the pattern retarders.

시야각(α)은 블랙 매트릭스(BM) 사이즈와 블랙 스트라이프(BS) 사이즈가 커질수록 또한, 표시패널과 패턴 리타더 간 스페이서(S)가 작을수록 넓어진다.The viewing angle? Increases as the black matrix (BM) size and the black stripe (BS) size become larger and the spacer S between the display panel and the pattern retarder becomes smaller.

도 3은 종래의 블랙 매트릭스와 블랙 스트라이프를 도시한 평면도이다.3 is a plan view showing a conventional black matrix and a black stripe.

도 3의 (b)에서 알 수 있듯이, 블랙 스트라이프는 도 3의 (a)에 도시된 블랙 매트릭스에 비해서 대면적으로 형성되어 시야각을 넓게한다.As shown in FIG. 3 (b), the black stripe is formed in a larger area than the black matrix shown in FIG. 3 (a) to widen the viewing angle.

하지만, 상기 종래 기술은 다음과 같은 문제점이 있다.However, the above-mentioned prior art has the following problems.

우선, 대면적으로 형성된 블랙 스트라이프(BS)는 그 두께가 일정하지 않은 문제가 있다. 이와 같이, 블랙 스트라이프(BS)의 두께가 일정하게 확보되지 못하면, 눌림 갭의 편차로 인해 표시 화면에 터치(touch) 불량이 발생되고, 표시 화면을 쓸어 내리는 경우 쓸어 내린 부위의 휘도가 불균일하게 되어 화면에 얼룩이 발생되는 문제가 있다.First, there is a problem that the thickness of the black stripe (BS) formed in a large area is not constant. If the thickness of the black stripe (BS) is not uniformly maintained, a touch failure occurs on the display screen due to the deviation of the pressing gap, and when the display screen is swept down, the brightness of the swept area becomes uneven There is a problem that the screen is stained.

또한, 블랙 스트라이프(BS)와 블랙 매트릭스(BM)를 별도로 형성하게 되면 제조공정이 복잡해지고 재료비가 상승하는 문제가 있다.Further, if the black stripe (BS) and the black matrix (BM) are separately formed, the manufacturing process becomes complicated and the material cost rises.

본 발명은 전술한 종래의 문제를 해결하기 위해 고안된 것으로서, 본 발명은 보다 균일한 눌림 갭을 유지하는 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same that maintain a more uniform pressing gap.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해서, 서로 대향하는 제 1기판 및 제 2기판; 상기 제 1기판의 일면에 서로 수직하게 교차하여 화소영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선; 상기 게이트 배선 및 데이터 배선의 교차지점에 형성된 박막 트랜지스터; 상기 제 1기판의 상기 화소영역에 형성된 컬러필터; 및 상기 제 2기판 상에 형성되는 블랙 스트라이프를 포함하고, 상기 블랙 스트라이프는 눌림 갭을 일정하게 유지하는 대면적 스트라이프; 및 상기 대면적 스트라이프와 소정의 간격으로 이격되며, 상기 대면적 스트라이프 보다 높은 단차로 형성되어 셀갭을 일정하게 유지하는 컬럼 스페이서를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a plasma display panel comprising: a first substrate and a second substrate facing each other; A gate line and a data line crossing the first substrate at right angles to define a pixel region; A thin film transistor formed at an intersection of the gate wiring and the data wiring; A color filter formed in the pixel region of the first substrate; And a black stripe formed on the second substrate, wherein the black stripe is a large area stripe which keeps the pressing gap constant; And a column spacer spaced apart from the large area stripe by a predetermined distance, the column spacer being formed with a step higher than the large area stripe to maintain a cell gap constant.

본 발명은 또한, 제 1기판의 일면에 서로 수직하게 교차하여 화소영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선을 형성하는 단계; 상기 게이트 배선 및 데이터 배선의 교차지점에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계; 상기 제 1기판의 상기 화소영역에 컬러필터를 형성하는 단계; 제 2기판 상에 블랙 스트라이프를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 블랙 스트라이프를 형성하는 단계는 눌림 갭을 일정하게 유지하는 대면적 스트라이프를 형성하고, 상기 대면적 스트라이프와 소정의 간격으로 이격되며, 상기 대면적 스트라이프 보다 높은 단차로 형성되어 셀갭을 일정하게 유지하는 컬럼 스페이서를 형성하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법을 제공한다.The present invention also provides a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: forming a gate wiring and a data wiring which cross a first surface of a first substrate perpendicularly to each other to define a pixel region; Forming a thin film transistor at an intersection of the gate line and the data line; Forming a color filter in the pixel region of the first substrate; Forming a black stripe on the second substrate, wherein the forming of the black stripe forms a large area stripe that keeps the pressed gap constant, and is spaced apart from the large area stripe by a predetermined distance, Forming a column spacer which is formed at a step higher than the large-area stripe so as to maintain a constant cell gap.

이상과 같은 본 발명에 따르면 다음과 같은 효과가 있다.According to the present invention as described above, the following effects can be obtained.

본 발명에 따르면, 눌림 갭을 일정하게 유지하여 표시 화면에 터치(touch) 불량을 방지하고, 표시 화면을 쓸어 내리는 경우 쓸어 내린 부위의 휘도를 균일하게 하여 화면에 얼룩을 방지하는 효과가 있다.According to the present invention, there is an effect of preventing the touch failure on the display screen by keeping the pressing gap constant, and preventing the unevenness on the screen by making the brightness of the swept area uniform when the display screen is swept away.

본 발명에 따르면, 눌림 갭을 일정하게 유지하여 표시 화면을 일정한 압력으로 누르는 경우에 상부기판(10) 및 하부기판(30)의 변형을 방지하여 표시 품질을 일정하게 하는 효과가 있다.According to the present invention, it is possible to prevent the deformation of the upper substrate 10 and the lower substrate 30 when the display screen is pressed at a constant pressure by keeping the pressing gap constant, and the display quality can be made constant.

본 발명에 따르면, 하부기판 상에 박막 트랜지스터, 화소전극, 공통전극 및 컬러필터가 함께 형성되어 있기 때문에, 상기 하부기판과 마주하는 상부기판을 위한 공정 라인을 간소화할 수 있고, 또한, 종래와 비교할 때 블랙 매트릭스 또는 오버 코트층 등이 생략됨으로써 그만큼 공정이 단순화되고 재료비도 절감되는 효과가 있다.According to the present invention, since the thin film transistor, the pixel electrode, the common electrode and the color filter are formed on the lower substrate, the process line for the upper substrate facing the lower substrate can be simplified, The black matrix or the overcoat layer is omitted, thereby simplifying the process and reducing the material cost.

도 1은 종래의 3D 액정표시장치의 개념을 도시한 도면이다.
도 2는 종래의 3D 액정표시장치에서 블랙 스트라이프를 도시한 도면이다.
도 3은 종래의 블랙 매트릭스와 블랙 스트라이프를 도시한 평면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치의 개략적인 평면도이다.
도 5는 도 4에 도시된 액정표시장치의 A-A` 라인에 따른 단면도이다.
도 6a는 하프톤(Half Tone) 마스크를 사용하여 블랙 스트라이프를 제조하는 경우를 도시한 단면도이다.
도 6b는 오픈영역을 포함하는 하프톤(Half Tone) 마스크를 사용하여 블랙 스트라이프를 제조하는 경우를 도시한 단면도이다.
도 7은 본 발명에 따른 다른 실시예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.
도 8a 내지 도 8d는 도 5에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치의 제조공정을 도시한 공정 단면도이다.
도 9a 내지 도 9d는 도 7에 도시된 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치의 제조공정을 도시한 공정 단면도이다.1 is a view showing a concept of a conventional 3D liquid crystal display device.
2 is a view showing a black stripe in a conventional 3D liquid crystal display device.
3 is a plan view showing a conventional black matrix and a black stripe.
4 is a schematic plan view of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view along line AA 'of the liquid crystal display shown in FIG.
6A is a cross-sectional view showing a case where a black stripe is manufactured using a halftone mask.
6B is a cross-sectional view illustrating a case where a black stripe is manufactured using a halftone mask including an open region.
7 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to another embodiment of the present invention.
8A to 8D are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention shown in FIG.
9A to 9D are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention shown in FIG.

이하, 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

본 발명의 실시 예를 설명함에 있어서 어떤 구조물이 다른 구조물 '상에 또는 상부에' 및 '아래에 또는 하부에' 형성된다고 기재된 경우, 이러한 기재는 이 구조물들이 서로 접촉되어 있는 경우는 물론이고 이들 구조물들 사이에 제3의 구조물이 게재되어 있는 경우까지 포함하는 것으로 해석되어야 한다.In describing an embodiment of the present invention, when it is described that a structure is formed on or above another structure, and below or below it, such a substrate may be formed of any of these structures, It is to be interpreted that the third structure is placed between the first and second structures.

본 발명의 액정표시장치는 상부기판과 하부기판 사이의 눌림 갭을 일정하게 유지시키기 위한 구성 및 제조방법을 중요 내용으로 한다. 따라서, 백라이트 유닛 및 구동 회로부에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.The liquid crystal display device of the present invention has a configuration and a manufacturing method for maintaining a constant gap between an upper substrate and a lower substrate. Therefore, the detailed description of the backlight unit and the driving circuit will be omitted.

또한, 액정표시장치는 액정층의 배열을 조절하는 방식에 따라 TN(Twisted Nematic) 모드, VA(Vertical Alignment) 모드, IPS(In Plane Switching) 모드, FFS(Fringe Field Switching) 모드 등 다양하게 개발되어 있으며, 본 발명의 액정 표시장치는 액정층을 구동시키는 모드에 제한 없이 모든 모드에 적용될 수 있다.The liquid crystal display device has been developed in various ways such as TN (Twisted Nematic) mode, VA (Vertical Alignment) mode, IPS (In Plane Switching) mode and FFS (Fringe Field Switching) mode according to a method of adjusting the arrangement of liquid crystal layers And the liquid crystal display of the present invention can be applied to all modes without limitation to a mode for driving the liquid crystal layer.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치의 개략적인 평면도이다.4 is a schematic plan view of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

도 4에서 알 수 있듯이 본 발명에 따른 액정표시장치는 데이터 배선(102), 게이트 배선(104), 박막 트랜지스터, 화소전극(190) 및 블랙 스트라이프(230)를 포함한다.4, the liquid crystal display according to the present invention includes a data line 102, a gate line 104, a thin film transistor, a pixel electrode 190, and a black stripe 230.

게이트 배선(104)은 하부기판 상에서 제1 방향, 예로서 가로 방향으로 배열되어 있고, 데이터 배선(102)은 상기 하부기판 상에서 제2 방향, 예로서 세로 방향으로 배열되어 있으며, 이와 같이 데이터 배선(102) 및 게이트 배선(104)이 서로 교차 배열되어 복수 개의 화소영역를 정의한다.The gate wirings 104 are arranged in a first direction, for example, in the horizontal direction on the lower substrate, and the data wirings 102 are arranged in the second direction, for example, in the longitudinal direction on the lower substrate. 102 and the gate wiring 104 are arranged so as to cross each other to define a plurality of pixel regions.

도 4에는, 상기 게이트 배선(104)과 데이터 배선(102)이 곧은 직선으로 배열된 모습을 도시하였지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니고, 굽은 직선으로 배열될 수도 있다. 4 shows a state in which the gate wiring 104 and the data wiring 102 are arranged in a straight line. However, the gate wiring 104 and the data wiring 102 are not necessarily limited to this, but may be arranged in a straight line.

박막 트랜지스터는 스위칭 소자로서 상기 데이터 배선(102)과 게이트 배선(104)이 교차하는 영역에 형성되며, 게이트전극(120), 액티브층(140), 소스전극(152), 드레인전극(154), 및 화소전극(190)을 포함하여 이루어진다. The thin film transistor is formed as a switching element in a region where the data line 102 and the gate line 104 cross each other and includes a gate electrode 120, an active layer 140, a source electrode 152, a drain electrode 154, And a pixel electrode 190.

상기 게이트전극(120)은 상기 게이트 배선(104)에서 분기되고, 상기 소스전극(152)은 상기 데이터 배선(102)에서 분기되고, 상기 드레인전극(154)은 상기 소스전극(152)과 마주하도록 형성된다. The gate electrode 120 is branched at the gate wiring 104 and the source electrode 152 is branched at the data line 102 and the drain electrode 154 is opposed to the source electrode 152 .

이와 같은 박막 트랜지스터의 구성은, 상기 게이트전극(120)이 액티브층(140) 아래에 위치하는 바텀 게이트(bottom gate) 구조 또는 상기 게이트전극(120)이 액티브층(140) 위에 위치하는 탑 게이트(top gate) 구조 등 다양하게 변경될 수 있고, 소스전극(152) 및 드레인전극(154)의 형태도 말발굽형 등 다양한 형태로 변경될 수 있다. The structure of such a thin film transistor may be a bottom gate structure in which the gate electrode 120 is positioned below the active layer 140 or a top gate structure in which the gate electrode 120 is located above the active layer 140 top gate structure, and the shape of the source electrode 152 and the drain electrode 154 may be changed into various shapes such as a horseshoe shape.

상기 화소전극(190)은 상기 화소영역 각각에 형성되어 있으며, 박막 트랜지스터의 드레인전극(154)과 전기적으로 연결되어 있다. The pixel electrode 190 is formed in each of the pixel regions, and is electrically connected to the drain electrode 154 of the thin film transistor.

다만, 도 4에서는 화소전극(190)을 판(plate) 형태로 묘사하였지만, 이에 한정되는 것은 아니고 다양한 형태로 변경될 수 있다.In FIG. 4, the pixel electrode 190 is depicted in the form of a plate, but the present invention is not limited thereto and can be changed into various forms.

공통전극(미도시)은 상기 화소전극(190)과 평행하게 배열되어 있으며, 이와 같이 서로 평행하게 배열된 화소전극(190) 및 공통전극 사이에 발생하는 수평 전계를 통해서 액정층의 배열방향이 조절될 수 있다. The common electrodes (not shown) are arranged in parallel with the pixel electrodes 190. The arrangement direction of the liquid crystal layers is adjusted through the horizontal electric field generated between the pixel electrodes 190 and the common electrodes arranged in parallel with each other, .

상기 공통전극은 상기 게이트 배선(104)과 평행하게 배열된 공통 배선(미도시)에 연결되어 있어, 상기 공통 배선을 통해 상기 공통전극에 공통 전압이 인가될 수 있다. The common electrode is connected to a common wiring (not shown) arranged in parallel with the gate wiring 104, so that a common voltage can be applied to the common electrode through the common wiring.

상술한 바와 같은 화소전극(190)과 공통전극의 구성은 도 4에 도시한 모습으로 한정되는 것은 아니고 다양한 형태로 변경될 수 있다. 그 일 예로서, 상기 화소전극(190)과 공통전극 중 어느 하나의 전극은 판(plate) 구조로 형성되고 나머지 하나의 전극은 핑거(finger) 구조로 형성됨으로써 양 전극 사이의 프린지 필드(fringe field)에 의해 액정층의 배향방향이 조절될 수도 있다.The structure of the pixel electrode 190 and the common electrode as described above is not limited to the shape shown in FIG. 4, and can be changed into various shapes. For example, one of the pixel electrode 190 and the common electrode is formed in a plate structure and the other electrode is formed in a finger structure to form a fringe field between the two electrodes. The alignment direction of the liquid crystal layer may be adjusted.

블랙 스트라이프(230)는 대면적 스트라이프(232) 및 컬럼 스페이서(234)를 포함한다.The black stripe 230 includes a large area stripe 232 and a column spacer 234.

블랙 스트라이프(230)는 게이트 배선(104) 상에서 소정의 폭으로 형성되며, 3D 영상의 시야각을 넓히는 기능 외에도, 종래의 광누설을 방지하기 위해 적용되는 블랙 매트릭스(Black Matrix: BM)의 기능을 수행한다.The black stripe 230 is formed with a predetermined width on the gate wiring 104 and performs a function of a black matrix (BM) applied to prevent a conventional light leakage in addition to the function of widening the viewing angle of the 3D image do.

이하 블랙 스트라이프(230)의 상세한 구조는 도 5를 통하여 설명하도록 한다.Hereinafter, the detailed structure of the black stripes 230 will be described with reference to FIG.

도 5는 도 4에 도시된 액정표시장치의 A-A` 라인에 따른 단면도이다.5 is a cross-sectional view taken along line A-A 'of the liquid crystal display shown in FIG.

도 5에서 알 수 있듯이, 본 발명에 따른 액정표시장치는 하부기판(100), 상부기판(200), 및 액정층(300)을 포함한다.5, the liquid crystal display according to the present invention includes a lower substrate 100, an upper substrate 200, and a liquid crystal layer 300.

하부기판(100)은 제 1기판(110), 게이트전극(120), 게이트 절연막(130), 액티브층(140), 소스전극(152), 드레인전극(154), 패시베이션층(160), 컬러필터(170a, 170b, 170c), 오버코트층(180), 및 화소전극(190)을 포함한다.The lower substrate 100 includes a first substrate 110, a gate electrode 120, a gate insulating layer 130, an active layer 140, a source electrode 152, a drain electrode 154, a passivation layer 160, Filters 170a, 170b, and 170c, an overcoat layer 180, and a pixel electrode 190. [

상기 제 1기판(110) 상에는 게이트전극(120)이 형성되어 있고, 상기 게이트전극(120)은 게이트 배선의 신호를 박막 트렌지스터로 전달한다.A gate electrode 120 is formed on the first substrate 110, and the gate electrode 120 transmits a signal of the gate wiring to the thin film transistor.

게이트 절연막(130)은 상기 게이트전극(120) 상에 형성되어 있고, 게이트 전극(120)을 소스 전극(152) 및 드레인 전극(154)과 절연하는 기능을 수행한다.A gate insulating layer 130 is formed on the gate electrode 120 and functions to insulate the gate electrode 120 from the source electrode 152 and the drain electrode 154.

액티브층(140)은 상기 게이트 절연막(130) 상에 형성되며, 게이트전극(120)에 신호가 인가되면 소스전극(152)으로부터 드레인전극(154)으로 전류가 흐르도록 채널을 형성하는 역할을 수행한다.The active layer 140 is formed on the gate insulating layer 130 and forms a channel so that current flows from the source electrode 152 to the drain electrode 154 when a signal is applied to the gate electrode 120 do.

소스전극(152)은 상기 액티브층(140) 상에 형성되며, 데이터 배선에서 연장되어 데이터 신호를 박막 트랜지스터에 전달한다.A source electrode 152 is formed on the active layer 140 and extends in the data line to transfer the data signal to the thin film transistor.

드레인전극(154)은 상기 액티브층(140) 상에서 상기 소스전극(152)과 마주보고 이격되어 형성되며, 상기 드레인전극(154)에는 화소전극(190)이 연결된다. 따라서, 드레인전극(154)은 소스전극(152)으로부터 전달받은 신호를 화소전극(190)으로 전달한다. The drain electrode 154 is formed on the active layer 140 to face the source electrode 152 and the pixel electrode 190 is connected to the drain electrode 154. Therefore, the drain electrode 154 transmits the signal received from the source electrode 152 to the pixel electrode 190.

패시베이션층(160)은 상기 소스전극(152) 및 드레인전극(154) 상에 형성되어 절연기능을 수행한다. 패시베이션층(160)은 무기 절연막, 유기 절연막, 또는 양자의 조합으로 이루어질 수 있다. The passivation layer 160 is formed on the source electrode 152 and the drain electrode 154 to perform an isolation function. The passivation layer 160 may be formed of an inorganic insulating film, an organic insulating film, or a combination of both.

컬러필터(170a 내지 170c : 170)는 상기 패시베이션층(160) 상에 형성되며, 제1 컬러필터(170a), 제2 컬러필터(170b) 및 제3 컬러 필터(170c)를 포함한다.Color filters 170a to 170c are formed on the passivation layer 160 and include a first color filter 170a, a second color filter 170b and a third color filter 170c.

종래의 액정표시장치에 따르면 박막 트랜지스터는 하부기판 상에 형성되고 컬러필터는 상부기판 상에 형성되는 반면에, 본 발명에 따르면 박막 트랜지스터와 컬러필터(170)가 하나의 기판 상에 함께 형성된다.According to the conventional liquid crystal display device, the thin film transistor is formed on the lower substrate and the color filter is formed on the upper substrate, whereas the thin film transistor and the color filter 170 are formed together on one substrate according to the present invention.

이렇게, 박막 트랜지스터 및 컬러필터가 동일한 기판에 형성되는 구조를 COT(Color filter on TFT) 구조라고 한다.The structure in which the thin film transistor and the color filter are formed on the same substrate is called a color filter on TFT (COT) structure.

이러한 COT 구조는 종래와 같이 블랙 매트릭스 설계시 합착마진을 고려할 필요가 없으므로 개구영역이 확대되고, 상부기판 형성시 공정이 간단해지는 효과가 있다.Such a COT structure does not need to consider the cohesion margin in the black matrix design as in the conventional case, so that the opening area is enlarged and the process of forming the upper substrate is simplified.

상기 제1 컬러필터(170a)는 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B) 중 어느 하나의 컬러 필터로 이루어지고, 상기 제2 컬러필터(142)는 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B) 중 다른 하나의 컬러필터로 이루어지고, 상기 제3 컬러필터(170c)는 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B) 중 나머지 하나의 컬러필터로 이루어질 수 있다. The first color filter 170a is formed of one of red (R), green (G), and blue (B), and the second color filter 142 is formed of red (R), green G) and blue (B), and the third color filter 170c is made up of the other color filter of red (R), green (G), and blue (B) .

본 발명에 따른 액정표시장치에 있어서, 화소영역 내에서 상기 제1 컬러필터(170a), 제2 컬러필터(170b), 및 제3 컬러필터(170c)의 배치는 다양한 형태로 변경될 수 있다. 또한, 상기 제1 컬러필터(170a), 제2 컬러필터(170b), 및 제3 컬러필터(170c) 이외에 화이트(white), 옐로우(yellow), 또는 시안(cyan)과 같은 제4 컬러필터가 추가로 형성될 수도 있다.In the liquid crystal display device according to the present invention, the arrangement of the first color filter 170a, the second color filter 170b, and the third color filter 170c in the pixel region can be changed into various forms. In addition to the first color filter 170a, the second color filter 170b and the third color filter 170c, a fourth color filter such as white, yellow, or cyan Or may be formed additionally.

오버코트층(180)은 상기 컬러필터(170) 상에 형성되며, 컬러필터(170)로 인한 단차를 균일하게 보상한다.The overcoat layer 180 is formed on the color filter 170 and uniformly compensates for the step caused by the color filter 170.

화소전극(190)은 상기 오버코트층(180) 상에 형성될 수 있으며, 소정의 콘택홀을 통하여 드레인전극(154)과 연결된다. 이를 위해서, 상기 패시베이션층(160), 컬러필터(170), 및 오버코트층(180)의 소정 영역에는 콘택홀이 형성될 수 있고, 상기 콘택홀을 통해서 상기 화소전극(190)과 드레인전극(154)이 연결된다. The pixel electrode 190 may be formed on the overcoat layer 180 and connected to the drain electrode 154 through a predetermined contact hole. A contact hole may be formed in a predetermined region of the passivation layer 160, the color filter 170, and the overcoat layer 180, and the pixel electrode 190 and the drain electrode 154 ).

한편, 도시되지는 않았지만, 상기 제 1기판(110) 상에는 공통전극이 형성되어 화소전극(190)과 함께 액정층(300)에 전계를 형성한다. 다만, 화소전극과 공통전극은 다양한 형태로 변형될 수 있으며, 경우에 따라서 공통전극은 제 2기판(210)에 형성될 수 있다.Although not shown, a common electrode is formed on the first substrate 110 to form an electric field in the liquid crystal layer 300 together with the pixel electrode 190. However, the pixel electrode and the common electrode may be modified in various forms, and in some cases, the common electrode may be formed on the second substrate 210.

또한, 도시하지는 않았지만, 상기 화소전극(190) 상에 액정 배향을 위한 배향막이 형성될 수 있다.In addition, although not shown, an alignment film for liquid crystal alignment may be formed on the pixel electrode 190.

상부기판(200)은 제 2기판(210), 블랙 스트라이프(230)를 포함한다. 한편, 도시하지는 않았지만, 상기 블랙 스트라이프(230) 상에 상기 액정층(300)의 초기 배향을 위한 배향막이 형성될 수 있다. The upper substrate 200 includes a second substrate 210 and a black stripe 230. On the other hand, although not shown, an alignment film for initial alignment of the liquid crystal layer 300 may be formed on the black stripe 230.

제 2기판(210)은 상기 하부기판(100)과 대향하고 있으며, 종래의 블랙 매트릭스, 컬러필터, 및 오버코트층이 형성되어 있지 않다. 따라서, 상기 하부기판(100)과 마주하는 상부기판(200)을 위한 공정 라인을 간소화할 수 있고, 또한, 종래와 비교할 때 블랙 매트릭스 또는 오버코트층 등이 생략됨으로써 그만큼 공정이 단순화되고 재료비도 절감되는 효과가 있다.The second substrate 210 is opposed to the lower substrate 100, and a conventional black matrix, color filter, and overcoat layer are not formed. Accordingly, the process line for the upper substrate 200 facing the lower substrate 100 can be simplified, and the black matrix or the overcoat layer can be omitted, thereby simplifying the process and reducing the material cost It is effective.

블랙 스트라이프(230)는 상기 제 2기판(210) 상에 형성되며, 대면적 스트라이프(232) 및 컬럼 스페이서(234)를 포함한다.A black stripe 230 is formed on the second substrate 210 and includes a large area stripe 232 and a column spacer 234.

블랙 스트라이프(230)란 시야각 개선을 통해 3D 영상의 시인성을 높이기 위해 사용되는 패턴 리타터에 형성되는 것으로 빛샘 영역을 차폐하는 블랙 매트릭스와 구분된다. 다만, 본 발명에 따른 액정표시장치에서는 블랙 스트라이프 및 블랙 매트릭스를 별도로 형성하지 않고, 양자의 기능이 통합된 블랙 스트라이프(230)를 형성한다.The black stripe 230 is formed in a pattern retarder used to improve the visibility of the 3D image through the improvement of the viewing angle, and is distinguished from the black matrix that shields the light-shielding region. However, in the liquid crystal display device according to the present invention, the black stripes and the black matrix are not separately formed, but the black stripes 230 having the functions of both are formed.

따라서, 상기 블랙 스트라이프(230)는 종래의 액정표시장치에서 광누설을 방지하기 위해 적용되는 블랙 매트릭스(Black Matrix: BM)의 기능을 포함하는 것이며, 상기 블랙 스트라이프(230)는 광투과를 차단하는 재료로 이루어진다. Accordingly, the black stripe 230 includes a function of a black matrix (BM) applied to prevent light leakage in a conventional liquid crystal display device, and the black stripe 230 blocks light transmission Material.

결국, 종래의 액정표시장치에서는 블랙 매트릭스와 블랙 스트라이프가 각각 형성되는 반면에, 본 발명의 액정표시장치에서는 블랙 매트릭스를 별도로 적용하지 않게 되고 그에 따라서 제조공정이 단축되는 장점이 있다.As a result, in the conventional liquid crystal display device, a black matrix and a black stripe are formed, respectively. On the other hand, in the liquid crystal display device of the present invention, the black matrix is not separately applied and the manufacturing process is shortened accordingly.

대면적 스트라이프(232)는 소정의 두께로 형성되며(예로서 3.1um), 눌림 갭을 일정하게 유지한다.The large-area stripe 232 is formed to have a predetermined thickness (for example, 3.1 μm), and maintains the pressing gap constant.

컬럼 스페이서(234)는 블랙 스트라이프(230)의 소정의 영역에 형성되고, 그 상세한 영역은 게이트 배선 및 데이터 배선 영역에 형성될 수 있고, 박막 트랜지스터 영역에도 형성될 수 있으며, 화소영역 외곽의 더미 영역에도 형성될 수 있다The column spacer 234 is formed in a predetermined region of the black stripe 230. The detailed region can be formed in the gate wiring and the data wiring region and also in the thin film transistor region, ≪ / RTI >

컬럼 스페이서(234)는 상기 대면적 스트라이프(232)와 소정의 간격(236)으로 이격되고(예로서 10um), 상기 대면적 스트라이프(232) 보다 높은 단차로 형성(예로서 3.6um)된다.The column spacers 234 are spaced apart (e.g., 10 um) by a predetermined spacing 236 from the large area stripes 232 and formed (e.g., 3.6 um) higher than the large area stripes 232.

상기 컬럼 스페이서(234)는 액정표시장치의 셀갭을 유지하는 기능을 수행한다. 따라서, 상기 컬럼 스페이서(234)는 상기 하부기판(100)과 접촉하도록 형성된다.The column spacer 234 functions to maintain the cell gap of the liquid crystal display device. Accordingly, the column spacer 234 is formed to contact the lower substrate 100.

종래의 액정표시장치에서는 블랙 매트릭스와 컬럼 스페이서가 각각 형성되는 반면에, 본 발명의 액정표시장치에서는 블랙 매트릭스 및 컬럼 스페이서를 별도로 형성하지 않고, 동일한 마스크 공정에서 블랙 스트라이프(230) 및 컬럼 스페이서(234)를 함께 형성하므로 제조공정이 단축되는 장점이 있다. The black matrix and the column spacer are formed separately in the liquid crystal display device of the present invention while the black matrix and the column spacer are not separately formed in the liquid crystal display device of the present invention and the black stripe 230 and the column spacer 234 ) Are formed together so that the manufacturing process is shortened.

따라서, 상기 블랙 스트라이프(230) 및 컬럼 스페이서(234)는 빛을 차단하는 동일한 재료로 이루어지며, 동일한 공정에서 동시에 형성될 수 있다. 이로써, 블랙 스트라이프(230)와 컬럼 스페이서(234)를 별도로 형성할 때보다 제조공정이 단축되고 재료비가 감소되는 장점이 있다.Accordingly, the black stripes 230 and the column spacers 234 are made of the same material that blocks light, and can be formed simultaneously in the same process. This has the advantage that the manufacturing process is shortened and the material cost is reduced as compared with the case where the black stripe 230 and the column spacer 234 are separately formed.

액정층(300)은 상기 하부기판(100) 및 상부기판(200) 사이의 공간에 형성되며, 액정이 주입되어 화소전극과 공통전극에 따른 전계의 변화에 따라 빛의 투과율을 바꾸는 역할을 한다.The liquid crystal layer 300 is formed in a space between the lower substrate 100 and the upper substrate 200. The liquid crystal is injected to change the transmittance of light according to the change of the electric field along the pixel electrode and the common electrode.

도 6a 및 도 6b는 블랙 스트라이프(230)를 제조하는 마스크에 대한 단면도이다.6A and 6B are cross-sectional views of a mask for fabricating a black stripe 230. FIG.

도 6a는 하프톤(Half Tone) 마스크를 사용하여 블랙 스트라이프(230)를 제조하는 경우를 도시한 단면도이다.6A is a cross-sectional view showing a case where a black stripe 230 is manufactured using a halftone mask.

도 6a에서 알 수 있듯이, 블랙 스트라이프(230)를 제조하기 위한 마스크(500)는 풀톤(Full Tone : 이하 'FT'라고 한다)영역 및 하프톤(Half Tone : 이하 'HT'라고 한다)영역을 포함한다.6A, the mask 500 for fabricating the black stripe 230 includes a full tone (hereinafter, referred to as 'FT') region and a halftone (hereinafter referred to as 'HT' .

HT영역은 입사광의 일부만을 투과시키는 반투과막이 형성되어 있어, 빛의 전부를 차단하는 오픈영역 보다 빛의 투과량이 상대적으로 줄어든다.The HT region is formed with a semi-transmissive film which transmits only a part of the incident light, and the light transmission amount is relatively smaller than the open region that blocks all of the light.

따라서, 동일한 시간동안 노광공정을 수행할 때 FT영역 하부에 있는 컬럼 스페이스(234)는, HT영역 하부에 있는 대면적 스트라이프(232) 보다 높은 단차를 갖도록 형성된다.Therefore, when performing the exposure process for the same time, the column space 234 under the FT region is formed to have a step higher than the large-area stripe 232 under the HT region.

이때, 대면적 스트라이프(232)의 두께는 노광시간으로 조절할 수 있다.At this time, the thickness of the large area stripe 232 can be adjusted by the exposure time.

한편, 도 6a에 도시된 마스크를 사용하는 경우, ΔH1과 ΔH2의 두께 차가 발생하는 것을 알 수 있다. 이는 블랙 스트라이프(230)를 형성하는 하드 베이크(hard bake) 과정에서의 변형 및 수축(shrinkage) 현상 등으로 인해 발생된다.On the other hand, in the case of using the mask shown in FIG. 6A, it can be seen that a difference in thickness between? H 1 and? H 2 occurs. This is caused by deformation and shrinkage in the hard bake process of forming the black stripes 230 and the like.

대면적 스트라이프(232)에 있어서 이러한 두께 차는 눌림 갭의 편차를 발생시키고, 이로 인해 표시 화면에 터치(touch) 불량이 발생되고, 표시 화면을 쓸어 내리는 경우 쓸어 내린 부위의 휘도가 불균일하게 되어 화면에 얼룩이 발생되는 문제가 있다.This thickness difference in the large area stripe 232 causes a deviation in the pressing gap, which causes a touch failure on the display screen. When the display screen is wiped off, the brightness of the sweeping area becomes uneven, There is a problem that stain occurs.

이러한 문제를 개선하기 위해서 마스크의 FT영역과 HT영역 사이에 오픈(Open : OP)영역을 둘 수 있는데, 이는 도 6b와 함께 설명한다.To overcome this problem, an open (OP) region may be provided between the FT region and the HT region of the mask, which will be described with reference to FIG. 6B.

도 6b는 오픈영역을 포함하는 하프톤(Half Tone) 마스크를 사용하여 블랙 스트라이프를 제조하는 경우를 도시한 단면도이다. 6B is a cross-sectional view illustrating a case where a black stripe is manufactured using a halftone mask including an open region.

도 6b에서 알 수 있듯이, 블랙 스트라이프(230)를 형성하기 위한 마스크의 FT영역과 HT영역 사이에 오픈(Open : OP)영역을 형성한다.As shown in FIG. 6B, an open (OP) region is formed between the FT region and the HT region of the mask for forming the black stripe 230.

이로서, 오픈영역 하부에 위치한 블랙 스트라이프(230)가 제거되고, 대면적 스트라이프(232)와 컬럼 스페이서(234)가 소정의 간격(236)을 사이에 두고 이격된다.This removes the black stripes 230 located under the open area and the large area stripes 232 and column spacers 234 are spaced apart by a predetermined distance 236.

이렇게, 소정의 간격(236)으로 대면적 스트라이프(232)와 컬럼 스페이서(234)를 이격시기게 되면, ΔH3 및 ΔH4의 높이가 일정하게 유지되는 효과가 있다.Thus, when the large-area stripe 232 and the column spacer 234 are separated from each other at the predetermined interval 236, the height of? H 3 and? H 4 are kept constant.

결국, 본 발명에 따르면, 눌림 갭을 일정하게 유지하여 표시 화면에 터치(touch) 불량을 방지하고, 표시 화면을 쓸어 내리는 경우 쓸어 내린 부위의 휘도를 균일하게 하여 화면에 얼룩을 방지하는 효과가 있다.As a result, according to the present invention, there is an effect of preventing the touch failure on the display screen by keeping the pressing gap constant, and preventing the unevenness on the screen by making the brightness of the swept area uniform when the display screen is swept .

또한, 본 발명에 따르면, 눌림 갭을 일정하게 유지하여 표시 화면을 일정한 압력으로 누르는 경우에 상부기판(200) 및 하부기판(100)의 변형을 방지하여 표시 품질을 일정하게 하는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, when the display gap is constantly maintained and the display screen is pressed at a constant pressure, the upper substrate 200 and the lower substrate 100 are prevented from being deformed, and the display quality is stabilized.

도 7은 본 발명에 따른 다른 실시예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.7 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to another embodiment of the present invention.

도 7에서 알 수 있듯이, 본 발명에 따른 액정표시장치는 하부기판(100), 상부기판(200), 및 액정층(300)을 포함한다. 이하, 도 7의 구성요소 중 도 5의 설명과 중복되는 부분은 생략하기로 한다.7, the liquid crystal display according to the present invention includes a lower substrate 100, an upper substrate 200, and a liquid crystal layer 300. Hereinafter, the components in FIG. 7 that are the same as those in FIG. 5 will be omitted.

하부기판(100)은 제 1기판(110), 게이트전극(120), 게이트 절연막(130), 액티브층(140), 소스전극(152), 드레인전극(154), 및 패시베이션층(160)을 포함한다.The lower substrate 100 includes a first substrate 110, a gate electrode 120, a gate insulating film 130, an active layer 140, a source electrode 152, a drain electrode 154, and a passivation layer 160 .

제 1기판(110) 상에는 게이트전극(120)이 형성되고, 상기 게이트 전극(120) 상에는 게이트 절연막(130)이 형성되고, 상기 게이트 절연막(130) 상에는 액티브층(140)이 형성되고, 상기 액티브층(140) 상에는 소스전극(152) 및 드레인전극(154)이 형성되고, 소스전극(152) 및 드레인전극(154) 상에는 패시베이션층(160)이 형성된다. 도시하지 않았지만, 화소전극 및 공통전극은 다양한 형태로 형성될 수 있다.A gate electrode 120 is formed on the first substrate 110 and a gate insulating layer 130 is formed on the gate electrode 120. An active layer 140 is formed on the gate insulating layer 130, A source electrode 152 and a drain electrode 154 are formed on the layer 140 and a passivation layer 160 is formed on the source electrode 152 and the drain electrode 154. Although not shown, the pixel electrode and the common electrode can be formed in various forms.

상부기판(200)은 제 2기판(210), 컬러필터(270a 내지 270c : 270), 오버코트층(280), 및 블랙 스트라이프(230)를 포함한다.The upper substrate 200 includes a second substrate 210, color filters 270a to 270c, an overcoat layer 280, and a black stripe 230. [

제 2기판(210) 상에는 컬러필터(270), 오버코트층(280), 및 블랙 스트라이프(230)가 차례로 형성된다.On the second substrate 210, a color filter 270, an overcoat layer 280, and a black stripe 230 are formed in order.

블랙 스트라이프(230)는 소정의 간격(236)을 사이에 두고 형성되는 대면적 스트라이프(232) 및 컬럼 스페이서(234)를 포함한다.The black stripes 230 include a large area stripe 232 and column spacers 234 formed with a predetermined spacing 236 therebetween.

컬럼 스페이서(234)는 소정의 간격(236)을 두고 대면적 스트라이프(232)와 이격되어 형성되어, 균일한 눌림 갭을 유지하는 효과가 있다.The column spacer 234 is spaced apart from the large-area stripe 232 with a predetermined gap 236, so that the column spacer 234 maintains a uniform pressing gap.

도 8a 내지 도 8d는 도 5에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치의 제조공정을 도시한 공정 단면도이다.8A to 8D are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention shown in FIG.

먼저, 도 8a에서 알 수 있듯이, 제 1기판(110) 상에 게이트전극(120), 게이트 절연막(130), 액티브층(140), 소스전극(152), 드레인전극(154), 및 패시베이션층(160)을 차례로 형성한다.8A, a gate electrode 120, a gate insulating film 130, an active layer 140, a source electrode 152, a drain electrode 154, and a passivation layer 160 are sequentially formed on a first substrate 110, (160) are sequentially formed.

다음, 도 8b에서 알 수 있듯이, 상기 패시베이션층(160) 상에 컬러필터(170a, 170b, 170c), 오버코트층(180), 및 화소전극(190)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 8B, color filters 170a, 170b, and 170c, an overcoat layer 180, and a pixel electrode 190 are formed on the passivation layer 160. Referring to FIG.

컬러필터(170)는 화소영역 내에서 제1 컬러필터(170a), 제2 컬러필터(170b), 및 제3 컬러필터(170c)의 순으로 형성될 수 있고, 그 배치 및 색상은 다양한 형태로 변경될 수 있다.The color filter 170 may be formed in the pixel region in the order of the first color filter 170a, the second color filter 170b, and the third color filter 170c, can be changed.

다음, 도 8c에서 알 수 있듯이, 제 2기판(210) 상에 소정의 간격(236)으로 이격된 대면적 스트라이프(232) 및 컬럼 스페이서(234)를 포함하는 블랙 매트릭스(230)를 형성한다.Next, as shown in FIG. 8C, a black matrix 230 including a large area stripe 232 and a column spacer 234 spaced apart by a predetermined gap 236 is formed on a second substrate 210.

상기 대면적 스트라이프(232)는 하프톤(HT) 마스크를 이용하고, 상기 컬럼 스페이서(234)는 풀톤(FT) 마스크를 이용하여 동일한 공정에서 함께 형성할 수 있다.The large area stripe 232 may use a halftone (HT) mask, and the column spacer 234 may be formed together in the same process using a full-tone (FT) mask.

다음, 도 8d에서 알 수 있듯이, 하부기판(100) 및 상부기판(200)을 합착하고 액정층(300)을 충진한다.Next, as shown in FIG. 8D, the lower substrate 100 and the upper substrate 200 are bonded together and the liquid crystal layer 300 is filled.

상기 액정층(300)을 사이에 두고 상기 상부기판(200) 및 하부기판(100)을 합착하는 공정은 진공주입법 또는 액정적하법을 이용하여 수행할 수 있다.The process of attaching the upper substrate 200 and the lower substrate 100 with the liquid crystal layer 300 therebetween may be performed using a vacuum injection method or a liquid drop method.

도 9a 내지 도 9d는 도 7에 도시된 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치의 제조공정을 도시한 공정 단면도이다.9A to 9D are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention shown in FIG.

먼저, 도 9a에서 알 수 있듯이, 제 1기판(110) 상에 게이트전극(120), 게이트 절연막(130), 액티브층(140), 소스전극(152), 드레인전극(154), 및 패시베이션층(160)을 차례로 형성한다.9A, a gate electrode 120, a gate insulating film 130, an active layer 140, a source electrode 152, a drain electrode 154, and a passivation layer (not shown) are formed on a first substrate 110, (160) are sequentially formed.

다음, 도 9b에서 알 수 있듯이, 제 2기판(210) 상에 컬러필터(270a, 270b, 270c), 및 오버코트층(280)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 9B, color filters 270a, 270b, and 270c and an overcoat layer 280 are formed on the second substrate 210. Next, as shown in FIG.

컬러필터(270)는 화소영역 내에서 제1 컬러필터(270a), 제2 컬러필터(270b), 및 제3 컬러필터(270c)의 순으로 형성될 수 있고, 그 배치 및 색상은 다양한 형태로 변경될 수 있다.The color filter 270 may be formed in the pixel region in the order of the first color filter 270a, the second color filter 270b, and the third color filter 270c, and the arrangement and color may be variously formed can be changed.

다음, 도 9c에서 알 수 있듯이, 상기 오버코트층(280) 상에 소정의 간격(236)으로 이격된 대면적 스트라이프(232) 및 컬럼 스페이서(234)를 포함하는 블랙 매트릭스(230)를 형성한다.Next, as shown in FIG. 9C, a black matrix 230 is formed that includes a large area stripe 232 and a column spacer 234 spaced apart by a predetermined gap 236 on the overcoat layer 280.

상기 대면적 스트라이프(232)는 하프톤(HT) 마스크를 이용하고, 상기 컬럼 스페이서(234)는 풀톤(FT) 마스크를 이용하여 동일한 공정에서 함께 형성할 수 있다.The large area stripe 232 may use a halftone (HT) mask, and the column spacer 234 may be formed together in the same process using a full-tone (FT) mask.

다음, 도 9d에서 알 수 있듯이, 하부기판(100) 및 상부기판(200)을 합착하고 액정층(300)을 충진한다.Next, as shown in FIG. 9D, the lower substrate 100 and the upper substrate 200 are bonded together and the liquid crystal layer 300 is filled.

상기 액정층(300)을 사이에 두고 상기 상부기판(200) 및 하부기판(100)을 합착하는 공정은 진공주입법 또는 액정적하법을 이용하여 수행할 수 있다.The process of attaching the upper substrate 200 and the lower substrate 100 with the liquid crystal layer 300 therebetween may be performed using a vacuum injection method or a liquid drop method.

본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 상술한 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 구성을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.It will be understood by those skilled in the art that the present invention can be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해하여야한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Therefore, it should be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the appended claims rather than the detailed description and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and from the equivalent concept are to be construed as being included in the scope of the present invention .

100 - 하부기판 200 - 상부기판 300 - 액정층
110 - 제 1기판 120 - 게이트전극 130 - 게이트 절연막
140 - 액티브층 152 - 소스전극 154 - 드레인전극
160 - 패시베이션층 170 - 컬러필터 180 - 오버코트층
190 - 화소전극
210 - 제 2기판 230 - 블랙 스트라이프 232 - 대면적 스트라이프
234 - 컬럼 스페이서 270 - 컬러필터 280 - 오버코트층100 - lower substrate 200 - upper substrate 300 - liquid crystal layer
110 - first substrate 120 - gate electrode 130 - gate insulating film
140 - active layer 152 - source electrode 154 - drain electrode
160 - passivation layer 170 - color filter 180 - overcoat layer
190 - pixel electrode
210 - second substrate 230 - black stripe 232 - large area stripe
234 - column spacer 270 - color filter 280 - overcoat layer

Claims (18)

서로 대향하는 제 1기판 및 제 2기판;
상기 제 1기판의 일면에 서로 수직하게 교차하여 화소영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선;
상기 게이트 배선 및 데이터 배선의 교차지점에 형성된 박막 트랜지스터;
상기 제 1기판의 상기 화소영역에 형성된 컬러필터; 및
상기 제 2기판 상에 형성되는 블랙 스트라이프를 포함하고,
상기 블랙 스트라이프는 눌림 갭을 일정하게 유지하는 대면적 스트라이프; 및
상기 대면적 스트라이프 보다 높은 단차로 형성되어 셀갭을 일정하게 유지하는 컬럼 스페이서를 포함하며,
상기 대면적 스트라이프와 상기 컬럼 스페이서는 오픈 영역을 구비한 마스크로 형성되어 소정의 간격이 이격되고, 상기 대면적 스트라이프와 상기 컬럼 스페이서는 동일한 층에 배치된, 액정표시장치.A first substrate and a second substrate facing each other;
A gate line and a data line crossing the first substrate at right angles to define a pixel region;
A thin film transistor formed at an intersection of the gate wiring and the data wiring;
A color filter formed in the pixel region of the first substrate; And
And a black stripe formed on the second substrate,
The black stripe is a large area stripe that keeps the pressure gap constant; And
And a column spacer formed at a step higher than the large-area stripe to maintain a constant cell gap,
Wherein the large area stripe and the column spacer are formed of a mask having an open area so that a predetermined distance is spaced apart, and the large area stripe and the column spacer are disposed in the same layer. 제 1항에 있어서,
상기 대면적 스트라이프 및 컬럼 스페이서는 동일한 재료로 동시에 형성되는, 액정표시장치.The method according to claim 1,
Wherein the large area stripe and the column spacer are simultaneously formed of the same material. 제 1항에 있어서,
상기 대면적 스트라이프는 상기 마스크의 하프톤 영역에 대응하여 형성되고, 상기 컬럼 스페이서는 상기 마스크의 풀톤 영역에 대응하여 형성되는, 액정표시장치.The method according to claim 1,
Wherein the large area stripe is formed corresponding to a halftone area of the mask, and the column spacer is formed corresponding to a full tone area of the mask. 제 1항에 있어서,
상기 오픈 영역은 상기 마스크의 풀톤 영역과 하프톤 영역의 사이에 마련된, 액정표시장치.The method according to claim 1,
And the open region is provided between the full-tone region and the halftone region of the mask. 제 1항에 있어서,
상기 블랙 스트라이프는 상기 마스크의 오픈 영역에 중첩되는 부분이 제거되어, 상기 대면적 스트라이프와 상기 컬럼 스페이서는 상기 블랙 스트라이프의 제거된 부분만큼 이격되는, 액정표시장치.The method according to claim 1,
The black stripe is removed such that the overlap of the open area of the mask with the large area stripe and the column spacer is separated by the removed part of the black stripe. 서로 대향하는 제 1기판 및 제 2기판;
상기 제 1기판의 일면에 서로 수직하게 교차하여 화소영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선;
상기 게이트 배선 및 데이터 배선의 교차지점에 형성된 박막 트랜지스터;
상기 제 2기판 상에 형성된 컬러필터;
상기 컬러필터 상에 형성된 오버코트층; 및
상기 오버코트층 상에 형성되는 블랙 스트라이프를 포함하고,
상기 블랙 스트라이프는 눌림 갭을 일정하게 유지하는 대면적 스트라이프; 및
상기 대면적 스트라이프 보다 높은 단차로 형성되어 셀갭을 일정하게 유지하는 컬럼 스페이서를 포함하며,
상기 대면적 스트라이프와 상기 컬럼 스페이서는 오픈 영역을 구비한 마스크로 형성되어 소정의 간격이 이격되고, 상기 대면적 스트라이프와 상기 컬럼 스페이서는 동일한 층에 배치된, 액정표시장치.A first substrate and a second substrate facing each other;
A gate line and a data line crossing the first substrate at right angles to define a pixel region;
A thin film transistor formed at an intersection of the gate wiring and the data wiring;
A color filter formed on the second substrate;
An overcoat layer formed on the color filter; And
And a black stripe formed on the overcoat layer,
The black stripe is a large area stripe that keeps the pressure gap constant; And
And a column spacer formed at a step higher than the large-area stripe to maintain a constant cell gap,
Wherein the large area stripe and the column spacer are formed of a mask having an open area so that a predetermined distance is spaced apart, and the large area stripe and the column spacer are disposed in the same layer. 제 6항에 있어서,
상기 대면적 스트라이프 및 컬럼 스페이서는 동일한 재료로 동시에 형성되는, 액정표시장치.The method according to claim 6,
Wherein the large area stripe and the column spacer are simultaneously formed of the same material. 제 6항에 있어서,
상기 대면적 스트라이프는 상기 마스크의 하프톤 영역에 대응하여 형성되고, 상기 컬럼 스페이서는 상기 마스크의 풀톤 영역에 대응하여 형성되는, 액정표시장치.The method according to claim 6,
Wherein the large area stripe is formed corresponding to a halftone area of the mask, and the column spacer is formed corresponding to a full tone area of the mask. 제 6항에 있어서,
상기 오픈 영역은 상기 마스크의 풀톤 영역과 하프톤 영역의 사이에 마련된, 액정표시장치.The method according to claim 6,
And the open region is provided between the full-tone region and the halftone region of the mask. 제 6항에 있어서,
상기 블랙 스트라이프는 상기 마스크의 오픈 영역에 중첩되는 부분이 제거되어, 상기 대면적 스트라이프와 상기 컬럼 스페이서는 상기 블랙 스트라이프의 제거된 부분만큼 이격되는, 액정표시장치.The method according to claim 6,
The black stripe is removed such that the overlap of the open area of the mask with the large area stripe and the column spacer is separated by the removed part of the black stripe. 제 1기판의 일면에 서로 수직하게 교차하여 화소영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선을 형성하는 단계;
상기 게이트 배선 및 데이터 배선의 교차지점에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계;
상기 제 1기판의 상기 화소영역에 컬러필터를 형성하는 단계;
제 2기판 상에 블랙 스트라이프를 형성하는 단계를 포함하고,
상기 블랙 스트라이프를 형성하는 단계는 눌림 갭을 일정하게 유지하는 대면적 스트라이프를 형성하고, 상기 대면적 스트라이프 보다 높은 단차로 형성되어 셀갭을 일정하게 유지하는 컬럼 스페이서를 형성하는 것을 포함하며,
상기 대면적 스트라이프와 상기 컬럼 스페이서는 오픈 영역을 구비한 마스크로 형성되어 소정의 간격이 이격되고, 상기 대면적 스트라이프와 상기 컬럼 스페이서는 동일한 층에 형성되는, 액정표시장치 제조방법.Forming gate wirings and data wirings on one surface of the first substrate perpendicularly intersecting each other to define pixel regions;
Forming a thin film transistor at an intersection of the gate line and the data line;
Forming a color filter in the pixel region of the first substrate;
Forming a black stripe on the second substrate,
Wherein forming the black stripe includes forming a column spacer that forms a large area stripe that keeps the pressure gap constant and a column spacing that is formed at a step higher than the large area stripe to keep the cell gap constant,
Wherein the large area stripe and the column spacer are formed of a mask having an open area so that a predetermined distance is spaced apart and the large area stripe and the column spacer are formed in the same layer. 제 11항에 있어서,
상기 대면적 스트라이프는 하프톤 마스크를 이용하고, 상기 컬럼 스페이서는 풀톤 마스크를 이용하여 동일한 공정에서 함께 형성하는, 액정표시장치 제조방법.12. The method of claim 11,
Wherein the large area stripe employs a halftone mask, and the column spacers are formed together in the same process using a Fulton mask. 제 11항에 있어서,
상기 오픈 영역은 상기 마스크의 풀톤 영역과 하프톤 영역의 사이에 마련된, 액정표시장치 제조방법.12. The method of claim 11,
Wherein the open region is provided between the full-tone region and the halftone region of the mask. 제 11항에 있어서,
상기 블랙 스트라이프를 형성하는 단계는 상기 마스크의 오픈 영역에 중첩되는 부분을 제거하여, 상기 대면적 스트라이프와 상기 컬럼 스페이서를 상기 블랙 스트라이프의 제거된 부분만큼 이격시키는 단계를 포함하는, 액정표시장치 제조방법.12. The method of claim 11,
Wherein forming the black stripe includes removing a portion of the mask overlapped with the open area to leave the large area stripe and the column spacer spaced apart by the removed portion of the black stripe. . 제 1기판의 일면에 서로 수직하게 교차하여 화소영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선을 형성하는 단계;
상기 게이트 배선 및 데이터 배선의 교차지점에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계;
제 2기판에 컬러필터를 형성하는 단계;
상기 컬러필터 상에 오버코트층을 형성하는 단계;
상기 오버코트층 상에 블랙 스트라이프를 형성하는 단계를 포함하고,
상기 블랙 스트라이프를 형성하는 단계는 눌림 갭을 일정하게 유지하는 대면적 스트라이프를 형성하고, 상기 대면적 스트라이프 보다 높은 단차로 형성되어 셀갭을 일정하게 유지하는 컬럼 스페이서를 형성하는 것을 포함하며,
상기 대면적 스트라이프와 상기 컬럼 스페이서는 오픈 영역을 구비한 마스크로 형성되어 소정의 간격이 이격되고, 상기 대면적 스트라이프와 상기 컬럼 스페이서는 동일한 층에 형성되는, 액정표시장치 제조방법.Forming gate wirings and data wirings on one surface of the first substrate perpendicularly intersecting each other to define pixel regions;
Forming a thin film transistor at an intersection of the gate line and the data line;
Forming a color filter on a second substrate;
Forming an overcoat layer on the color filter;
Forming a black stripe on the overcoat layer,
Wherein forming the black stripe includes forming a column spacer that forms a large area stripe that keeps the pressure gap constant and a column spacing that is formed at a step higher than the large area stripe to keep the cell gap constant,
Wherein the large area stripe and the column spacer are formed of a mask having an open area so that a predetermined distance is spaced apart and the large area stripe and the column spacer are formed in the same layer. 제 15항에 있어서,
상기 대면적 스트라이프는 하프톤 마스크를 이용하고, 상기 컬럼 스페이서는 풀톤 마스크를 이용하여 동일한 공정에서 함께 형성하는, 액정표시장치 제조방법.16. The method of claim 15,
Wherein the large area stripe employs a halftone mask, and the column spacers are formed together in the same process using a Fulton mask. 제 15항에 있어서,
상기 오픈 영역은 상기 마스크의 풀톤 영역과 하프톤 영역의 사이에 마련된, 액정표시장치 제조방법.16. The method of claim 15,
Wherein the open region is provided between the full-tone region and the halftone region of the mask. 제 15항에 있어서,
상기 블랙 스트라이프를 형성하는 단계는 상기 마스크의 오픈 영역에 중첩되는 부분을 제거하여, 상기 대면적 스트라이프와 상기 컬럼 스페이서를 상기 블랙 스트라이프의 제거된 부분만큼 이격시키는 단계를 포함하는, 액정표시장치 제조방법.16. The method of claim 15,
Wherein forming the black stripe includes removing a portion of the mask overlapped with the open area to leave the large area stripe and the column spacer spaced apart by the removed portion of the black stripe. .
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