KR101867013B1 - Organic light emitting diode display and method for manufacturing the same - Google Patents
Organic light emitting diode display and method for manufacturing the same Download PDFInfo
- Publication number
- KR101867013B1 KR101867013B1 KR1020170174381A KR20170174381A KR101867013B1 KR 101867013 B1 KR101867013 B1 KR 101867013B1 KR 1020170174381 A KR1020170174381 A KR 1020170174381A KR 20170174381 A KR20170174381 A KR 20170174381A KR 101867013 B1 KR101867013 B1 KR 101867013B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- adhesive layer
- light emitting
- organic light
- filling
- substrate
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 150
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 65
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims description 61
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 40
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 38
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 38
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 28
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 25
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 23
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 22
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 15
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 8
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 claims description 8
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 claims description 6
- 239000011324 bead Substances 0.000 claims description 6
- 239000000454 talc Substances 0.000 claims description 6
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims description 6
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 5
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 claims description 5
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 claims description 4
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 4
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 4
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 4
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical class OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 4
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 4
- FRWYFWZENXDZMU-UHFFFAOYSA-N 2-iodoquinoline Chemical compound C1=CC=CC2=NC(I)=CC=C21 FRWYFWZENXDZMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N beryllium oxide Inorganic materials O=[Be] LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 3
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000010445 mica Substances 0.000 claims description 3
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 24
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 23
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 23
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 22
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 21
- -1 Tertiary amine compounds Chemical class 0.000 description 19
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 18
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 17
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 11
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 9
- FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 5-(2,4-dioxooxolan-3-yl)-7-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C(OC2=O)=O)C2C(C)=CC1C1C(=O)COC1=O FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002585 base Substances 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 7
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 7
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 6
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 6
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 5
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 5
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M caesium fluoride Chemical compound [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 4
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 3
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 3
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 3
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 3
- LTVUCOSIZFEASK-MPXCPUAZSA-N (3ar,4s,7r,7as)-3a-methyl-3a,4,7,7a-tetrahydro-4,7-methano-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C([C@H]1C=C2)[C@H]2[C@H]2[C@]1(C)C(=O)OC2=O LTVUCOSIZFEASK-MPXCPUAZSA-N 0.000 description 2
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 2
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 2
- FBHPRUXJQNWTEW-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-2-methylimidazole Chemical compound CC1=NC=CN1CC1=CC=CC=C1 FBHPRUXJQNWTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XZKLXPPYISZJCV-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-2-phenylimidazole Chemical compound C1=CN=C(C=2C=CC=CC=2)N1CC1=CC=CC=C1 XZKLXPPYISZJCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 2
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QXSNXUCNBZLVFM-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole;1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical class CC1=NC=CN1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 QXSNXUCNBZLVFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SESYNEDUKZDRJL-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylimidazol-1-yl)propanenitrile Chemical compound CC1=NC=CN1CCC#N SESYNEDUKZDRJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001653 FEMA 3120 Substances 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001532059 Yucca Species 0.000 description 2
- 235000004552 Yucca aloifolia Nutrition 0.000 description 2
- 235000012044 Yucca brevifolia Nutrition 0.000 description 2
- 235000017049 Yucca glauca Nutrition 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 2
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 2
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004683 dihydrates Chemical class 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N methylhexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21C VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UICBCXONCUFSOI-UHFFFAOYSA-N n'-phenylacetohydrazide Chemical compound CC(=O)NNC1=CC=CC=C1 UICBCXONCUFSOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009972 noncorrosive effect Effects 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N phenylboronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=CC=C1 HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium group Chemical group [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001124 trientine Drugs 0.000 description 2
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C1=CC=CC=C1 QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IILGLPAJXQMKGQ-UHFFFAOYSA-N (3-fluoro-4-methoxyphenyl)boronic acid Chemical compound COC1=CC=C(B(O)O)C=C1F IILGLPAJXQMKGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNDQHSIWLOJIGP-UMRXKNAASA-N (3ar,4s,7r,7as)-rel-3a,4,7,7a-tetrahydro-4,7-methanoisobenzofuran-1,3-dione Chemical compound O=C1OC(=O)[C@@H]2[C@H]1[C@]1([H])C=C[C@@]2([H])C1 KNDQHSIWLOJIGP-UMRXKNAASA-N 0.000 description 1
- VOAAEKKFGLPLLU-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)boronic acid Chemical compound COC1=CC=C(B(O)O)C=C1 VOAAEKKFGLPLLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIWQNIMLAISTBV-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)boronic acid Chemical compound CC1=CC=C(B(O)O)C=C1 BIWQNIMLAISTBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUEBPOOTFCZRBC-UHFFFAOYSA-N (5-methyl-2-phenyl-1h-imidazol-4-yl)methanol Chemical compound OCC1=C(C)NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 RUEBPOOTFCZRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(tert-butylperoxy)cyclohexane Chemical compound CC(C)(C)OOC1(OOC(C)(C)C)CCCCC1 HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJPAJFFEXRMGDR-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,8,9,10,10a-octahydropyrimido[1,2-a]azepine;benzo[a]anthracen-7-yloxyboronic acid Chemical compound C1CCC=CN2CCCNC21.C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C(OB(O)O)=C(C=CC=C1)C1=C2 NJPAJFFEXRMGDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQERLIOIVXPZKH-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trioxane Chemical compound C1COOCO1 FQERLIOIVXPZKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIWQSPITLQVMSG-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylimidazole Chemical compound CC1=NC=CN1C GIWQSPITLQVMSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTQHTDIBYAAFEX-UHFFFAOYSA-N 1-decylsulfonylsulfonyldecane Chemical compound CCCCCCCCCCS(=O)(=O)S(=O)(=O)CCCCCCCCCC WTQHTDIBYAAFEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEULWJSKCVACTH-UHFFFAOYSA-N 1-phenylimidazole Chemical compound C1=NC=CN1C1=CC=CC=C1 SEULWJSKCVACTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIPOCPJRYUFXLL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-tris[(dimethylamino)methyl]phenol Chemical compound CN(C)CC1=CC=C(O)C(CN(C)C)=C1CN(C)C CIPOCPJRYUFXLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SPSPIUSUWPLVKD-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibutyl-6-methylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=C(C)C(O)=C1CCCC SPSPIUSUWPLVKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPGYCJUCJYUHTM-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylpentan-2-yloxy 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOOC(C)(C)CC(C)(C)C DPGYCJUCJYUHTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris[(dimethylamino)methyl]phenol Chemical compound CN(C)CC1=CC(CN(C)C)=C(O)C(CN(C)C)=C1 AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODBCKCWTWALFKM-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(tert-butylperoxy)-2,5-dimethylhex-3-yne Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C#CC(C)(C)OOC(C)(C)C ODBCKCWTWALFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIOGJAPOAUEYJO-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyphenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical compound COC1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 XIOGJAPOAUEYJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZRQJPJABAXNCV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylimidazol-1-yl)propanenitrile Chemical compound N#CC(C)N1C=CN=C1C1=CC=CC=C1 LZRQJPJABAXNCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAXVEVGFPVWPKA-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(4-methoxyphenyl)ethenyl]-1h-imidazole Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C=CC1=NC=CN1 YAXVEVGFPVWPKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEVBAGCIOOTPLF-UHFFFAOYSA-N 2-[[5-(oxiran-2-ylmethoxy)naphthalen-2-yl]oxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C=C1C=CC=2)=CC=C1C=2OCC1CO1 MEVBAGCIOOTPLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTFXWAOSQODIBI-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-1,3-dihydropyrrolo[3,4-c]pyridine Chemical compound C1C2=CC=NC=C2CN1CC1=CC=CC=C1 HTFXWAOSQODIBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOZJPUXMNANKIQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-3-nitro-4-(nitromethyl)benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(C[N+]([O-])=O)C([N+]([O-])=O)=C1CC1=CC=CC=C1 LOZJPUXMNANKIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUPKCFBHJFNUEW-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CCC1=NCCN1 QUPKCFBHJFNUEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHYARJUKNREDGB-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-5-methyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CCC1=NCC(C)N1 SHYARJUKNREDGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 2-heptadecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical class OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMNLUUOXGOOLSP-UHFFFAOYSA-N 2-mercaptopropanoic acid Chemical class CC(S)C(O)=O PMNLUUOXGOOLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWSLLSXLURJCDF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CC1=NCCN1 VWSLLSXLURJCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJIQELZAIWFNTQ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole;1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1NC(=O)NC(=O)N1.C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 RJIQELZAIWFNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKCCAYLNRIRKDJ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound N1CCN=C1C1=CC=CC=C1 BKCCAYLNRIRKDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylperoxypropan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 2-undecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZUPZARBRLCVCB-UHFFFAOYSA-N 3-(2-undecylimidazol-1-yl)propanenitrile Chemical compound CCCCCCCCCCCC1=NC=CN1CCC#N SZUPZARBRLCVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPJQFPBIFZYRLB-UHFFFAOYSA-N 3-(4,5-diphenyl-1h-imidazol-2-yl)phenol Chemical compound OC1=CC=CC(C=2NC(=C(N=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 UPJQFPBIFZYRLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTBDAFLSBDGPEA-UHFFFAOYSA-N 3-Methylquinoline Natural products C1=CC=CC2=CC(C)=CN=C21 DTBDAFLSBDGPEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 4-vinylcyclohexene dioxide Chemical compound C1OC1C1CC2OC2CC1 OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRVMGICBZVUKCA-UHFFFAOYSA-N 5-(4-methylpentan-2-ylideneamino)-3-triethoxysilylpentan-1-amine Chemical compound NCCC(CCN=C(CC(C)C)C)[Si](OCC)(OCC)OCC HRVMGICBZVUKCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound N1C(C)=CN=C1C1=CC=CC=C1 TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJZYCDYAVCQQEQ-UHFFFAOYSA-N 5-tert-butyl-2-(4,5-diphenyl-1H-imidazol-2-yl)phenol Chemical compound OC1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 MJZYCDYAVCQQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXLYUNPVVODNRE-UHFFFAOYSA-N 6-ethenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=C)=N1 ZXLYUNPVVODNRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZHQVVTTWPBVHQ-UHFFFAOYSA-N 6-ethenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine;1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1NC(=O)NC(=O)N1.NC1=NC(N)=NC(C=C)=N1 UZHQVVTTWPBVHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003319 Araldite® Polymers 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 1
- HJJORFVQVDALKX-UHFFFAOYSA-N C(#N)CCN1C(=NC(=C1)COCCC#N)COCCC#N Chemical compound C(#N)CCN1C(=NC(=C1)COCCC#N)COCCC#N HJJORFVQVDALKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGHKNNTXCYMGEJ-UHFFFAOYSA-N C(C)C=1NC=C(N1)C.C(#N)CCN1C(=NC(=C1)C)CC Chemical compound C(C)C=1NC=C(N1)C.C(#N)CCN1C(=NC(=C1)C)CC RGHKNNTXCYMGEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTTIOYQUYDWGQL-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)C=1NC(=C(N1)CO)CO.O.O Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C=1NC(=C(N1)CO)CO.O.O HTTIOYQUYDWGQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXMXECGCVFFLOH-UHFFFAOYSA-N C1=CC=CC2=C(C=C3C=C4C=CC=CC4=CC3=C12)OB(O)O.N12C=CCNC2CCC1 Chemical compound C1=CC=CC2=C(C=C3C=C4C=CC=CC4=CC3=C12)OB(O)O.N12C=CCNC2CCC1 CXMXECGCVFFLOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MPCRDALPQLDDFX-UHFFFAOYSA-L Magnesium perchlorate Chemical compound [Mg+2].[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O MPCRDALPQLDDFX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 101100496858 Mus musculus Colec12 gene Proteins 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPTUJWFFTWQGQX-UHFFFAOYSA-N NC1(NC(=NC(N1)(N)N)C=C)N Chemical compound NC1(NC(=NC(N1)(N)N)C=C)N CPTUJWFFTWQGQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019800 NbF 5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000080590 Niso Species 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910004529 TaF 5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical group [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUQQGGWZVKUCBD-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)-2-phenyl-1h-imidazol-5-yl]methanol Chemical compound N1C(CO)=C(CO)N=C1C1=CC=CC=C1 UUQQGGWZVKUCBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUOFUOCSQCYFPW-UHFFFAOYSA-N [4-(trifluoromethoxy)phenyl]boronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=C(OC(F)(F)F)C=C1 HUOFUOCSQCYFPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKHCKPPOCZWHRN-UHFFFAOYSA-N [4-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]phenyl]boronic acid Chemical compound CC(C)(C)OC1=CC=C(B(O)O)C=C1 OKHCKPPOCZWHRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- IBVAQQYNSHJXBV-UHFFFAOYSA-N adipic acid dihydrazide Chemical compound NNC(=O)CCCCC(=O)NN IBVAQQYNSHJXBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZVVJJIYJKGMFL-UHFFFAOYSA-N almasilate Chemical compound O.[Mg+2].[Al+3].[Al+3].O[Si](O)=O.O[Si](O)=O HZVVJJIYJKGMFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N aminoethylpiperazine Chemical compound NCCN1CCNCC1 IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOULUYZFLXDWDQ-UHFFFAOYSA-L barium perchlorate Chemical group [Ba+2].[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O OOULUYZFLXDWDQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RJYORWLUMUNTET-UHFFFAOYSA-N cyanic acid;triethoxy(propyl)silane Chemical compound OC#N.CCC[Si](OCC)(OCC)OCC RJYORWLUMUNTET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007973 cyanuric acids Chemical class 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZFYOUJTOSBFPQ-UHFFFAOYSA-M dipotassium;hydroxide Chemical compound [OH-].[K+].[K+] FZFYOUJTOSBFPQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N glutaric anhydride Chemical compound O=C1CCCC(=O)O1 VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- INHCSSUBVCNVSK-UHFFFAOYSA-L lithium sulfate Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-]S([O-])(=O)=O INHCSSUBVCNVSK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- BLQJIBCZHWBKSL-UHFFFAOYSA-L magnesium iodide Chemical compound [Mg+2].[I-].[I-] BLQJIBCZHWBKSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001641 magnesium iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000845 maltitol Substances 0.000 description 1
- VQHSOMBJVWLPSR-WUJBLJFYSA-N maltitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]([C@H](O)CO)O[C@H]1O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H]1O VQHSOMBJVWLPSR-WUJBLJFYSA-N 0.000 description 1
- 229940035436 maltitol Drugs 0.000 description 1
- 235000010449 maltitol Nutrition 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 1
- 239000004005 microsphere Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIJMMQUAJQEELS-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(ethenyl)ethenamine Chemical compound C=CN(C=C)C=C VIJMMQUAJQEELS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- WJSXSXUHWBSPEP-UHFFFAOYSA-N pyridine;triphenylborane Chemical compound C1=CC=NC=C1.C1=CC=CC=C1B(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WJSXSXUHWBSPEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001698 pyrogenic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007962 solid dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- YRGLXIVYESZPLQ-UHFFFAOYSA-I tantalum pentafluoride Chemical compound F[Ta](F)(F)(F)F YRGLXIVYESZPLQ-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- RBTVSNLYYIMMKS-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-aminoazetidine-1-carboxylate;hydrochloride Chemical compound Cl.CC(C)(C)OC(=O)N1CC(N)C1 RBTVSNLYYIMMKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)C DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- HDUMBHAAKGUHAR-UHFFFAOYSA-J titanium(4+);disulfate Chemical compound [Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O HDUMBHAAKGUHAR-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M triphenylsulfonium triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920003176 water-insoluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHJMFFKHPHCQIJ-UHFFFAOYSA-L zinc;octanoate Chemical group [Zn+2].CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O CHJMFFKHPHCQIJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/12—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by using adhesives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J11/00—Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
- C09J11/02—Non-macromolecular additives
- C09J11/04—Non-macromolecular additives inorganic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/16—Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations, e.g. centering rings
- H01L23/18—Fillings characterised by the material, its physical or chemical properties, or its arrangement within the complete device
- H01L23/26—Fillings characterised by the material, its physical or chemical properties, or its arrangement within the complete device including materials for absorbing or reacting with moisture or other undesired substances, e.g. getters
-
- H01L51/0024—
-
- H01L51/5246—
-
- H01L51/5253—
-
- H01L51/5259—
-
- H01L51/56—
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/842—Containers
- H10K50/8426—Peripheral sealing arrangements, e.g. adhesives, sealants
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/844—Encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/846—Passivation; Containers; Encapsulations comprising getter material or desiccants
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/50—Forming devices by joining two substrates together, e.g. lamination techniques
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
- B32B2457/206—Organic displays, e.g. OLED
-
- H01L2251/5369—
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
- H10K2102/301—Details of OLEDs
- H10K2102/331—Nanoparticles used in non-emissive layers, e.g. in packaging layer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
기판; 상기 기판 상에 형성된 유기 발광 소자; 상기 유기 발광 소자 상에 형성된 봉지기판; 및 상기 기판 상에 형성되어 상기 유기 발광 소자를 커버하고 상기 유기 발광 소자가 형성된 기판을 상기 봉지기판과 합착시키는 접착층을 포함하는 유기 발광 표시 장치가 제공된다.Board; An organic light emitting device formed on the substrate; An encapsulation substrate formed on the organic light emitting device; And an adhesive layer formed on the substrate and covering the organic light emitting device and bonding the substrate on which the organic light emitting device is formed to the sealing substrate.
Description
유기 발광 표시 장치에 관한 것이다.To an organic light emitting display.
유기 발광 표시 장치(organic light emitting diode display)는 자발광 특성을 가지며, 액정 표시 장치와 달리 별도의 광원을 필요로 하지 않으므로 두께와 무게를 줄일 수 있다. 또한, 유기 발광 표시 장치는 낮은 소비 전력, 높은 휘도 및 높은 반응 속도 등의 고품위 특성을 나타내므로 휴대용 전자 기기의 차세대 표시 장치로 주목받고 있다.An organic light emitting diode (OLED) display has self-emission characteristics, and unlike a liquid crystal display, it does not require a separate light source, thereby reducing thickness and weight. In addition, organic light emitting display devices are attracting attention as next generation display devices for portable electronic devices because they exhibit high quality characteristics such as low power consumption, high luminance, and high response speed.
유기 발광 표시 장치는 정공 주입 전극과, 유기 발광층, 및 전자 주입 전극을 갖는 복수의 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diode)들을 포함한다. 유기 발광층 내부에서 전자와 정공이 결합하여 생성된 여기자(exciton)가 여기 상태로부터 기저 상태로 떨어질 때 발생하는 에너지에 의해 발광이 이루어지며, 이를 이용하여 유기 발광 표시 장치는 화상을 형성한다.The organic light emitting diode display includes a plurality of organic light emitting diodes having a hole injection electrode, an organic light emitting layer, and an electron injection electrode. Light is emitted by energy generated when an exciton generated by the combination of electrons and holes in the organic light emitting layer falls from the excited state to the ground state, and the organic light emitting display forms an image using the energy.
그러나, 유기 발광층은 수분 또는 산소와 같은 외부 환경에 민감하여, 유기 발광층이 수분 및 산소에 노출될 경우 유기 발광 표시 장치의 품질의 저하가 발생되는 문제점이 있다. 따라서 유기 발광 소자를 보호하고 유기 발광층에 수분 또는 산소가 침투하는 것을 방지하기 위해, 유기 발광 소자가 형성된 표시 기판 위에 봉지 기판을 추가적인 실링 공정을 통해 밀봉 합착시키거나, 유기 발광 소자 위에 두꺼운 두께의 보호층을 형성하였다.However, the organic light emitting layer is sensitive to an external environment such as moisture or oxygen, and when the organic light emitting layer is exposed to moisture and oxygen, the quality of the organic light emitting display deteriorates. Therefore, in order to protect the organic light emitting element and to prevent moisture or oxygen from penetrating into the organic light emitting element, the sealing substrate is sealed and attached to the display substrate on which the organic light emitting element is formed through an additional sealing process, Layer.
하지만, 봉지 기판을 사용하거나 보호층을 형성하는 경우 모두 유기 발광층에 수분 또는 산소가 침투하는 것을 완벽하게 방지하기 위해선 유기 발광 표시 장치의 제조 공정을 복잡해짐과 동시에 유기 발광 표시 장치의 전체적인 두께를 얇게 형성하는데 어려움이 있었다.However, in order to completely prevent water or oxygen from penetrating into the organic light emitting layer both in the case of using the sealing substrate or in the case of forming the protective layer, the manufacturing process of the organic light emitting display is complicated, There was a difficulty in forming.
본 발명의 일 구현에서, 수분 또는 산소의 침투를 효과적으로 억제하고, 그제작 공정이 간단하며, 수율이 향상된 유기 발광 표시 장치를 제공하고자 한다.In one embodiment of the present invention, an organic light emitting display device is provided which effectively inhibits penetration of moisture or oxygen, simplifies the manufacturing process, and has an improved yield.
본 발명의 다른 구현에서, 상기한 유기 발광 표시 장치를 제조하는 방법을 제공하고자 한다.In another embodiment of the present invention, a method of manufacturing the above-described organic light emitting display device is provided.
본 발명의 일 구현예에서, 기판; 상기 기판 상에 형성된 유기 발광 소자; 상기 유기 발광 소자 상에 형성된 봉지기판; 및 상기 기판 상에 형성되어 상기 유기 발광 소자를 커버하고 상기 유기 발광 소자가 형성된 기판을 상기 봉지기판과 합착시키는 접착층을 포함하는 유기 발광 표시 장치를 제공한다.In one embodiment of the present invention, a substrate comprises a substrate; An organic light emitting device formed on the substrate; An encapsulation substrate formed on the organic light emitting device; And an adhesive layer formed on the substrate and covering the organic light emitting device and bonding the substrate on which the organic light emitting device is formed to the sealing substrate.
상기 접착층은 적어도 하나의 충진접착층 및 적어도 하나의 흡습접착층이 적층되어 형성된 것으로 예를 들면, 제1 충진접착층, 흡습접착층 및 제2 충진접착층이 순차적으로 적층되어 형성된 것이다.The adhesive layer is formed by laminating at least one filler adhesive layer and at least one hygroscopic adhesive layer, for example, a first filler adhesive layer, a hygroscopic adhesive layer and a second filler adhesive layer sequentially laminated.
상기 흡습접착층은 실리카겔(silica gel: SiO2·H2O), 알루미노-실리케이트 비즈(alumino-silicate beads), 몬트모릴로나이트(montmorillonite), 분자체(molecular sieve)로서의 제올라이트(zeolite: Na12AlO3SiO2·12H2O), 활성 탄소(activated carbon), 알칼리 금속 산화물, 알칼리토류 금속 산화물, 금속 황산염, 금속 할로겐화물 및 금속 과염소산염으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 흡습 물질을 포함할 수 있다.The moisture-absorbing adhesive layer is a silica gel (silica gel: SiO 2 · H 2 O), alumino-silicate beads the zeolite (zeolite as the (alumino-silicate beads), montmorillonite (montmorillonite), molecular sieves (molecular sieve): Na 12 At least one moisture absorber selected from the group consisting of AlO 3 SiO 2 .12H 2 O), activated carbon, alkali metal oxides, alkaline earth metal oxides, metal sulfates, metal halides and metal perchlorates have.
상기 제1 충진접착층 및 제2 충진접착층은, 각각 독립적으로, 충진접착층은 활석(talc), 실리카, 산화마그네슘, 마이카(mica), 몬모릴로나이트, 알루미나, 그라파이트, 베릴리라(beryllium oxide), 질화알루미늄, 탄화규소, 멀라이트(mullite) 및 실리콘으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 충진 물질을 포함할 수 있다.The first and second filler adhesion layers may each independently be formed of a material selected from the group consisting of talc, silica, magnesium oxide, mica, montmorillonite, alumina, graphite, beryllium oxide, aluminum nitride, At least one filler selected from the group consisting of silicon carbide, mullite, and silicon.
상기 흡습 물질의 입경이 10nm 내지 20um일 수 있다.The particle size of the hygroscopic material may be 10 nm to 20 um.
상기 충진 물질의 입경이 10nm 내지 20um일 수 있다. The particle size of the filling material may be between 10 nm and 20 um.
상기 흡습 물질 또는 상기 충진 물질은 메조포러스형, 판상형, 구형, 로드(rod)형, 파이버(fiber)형 또는 코어쉘(core-shell) 타입형일 수 있다.The hygroscopic material or the fill material may be of a mesoporous type, a plate type, a spherical type, a rod type, a fiber type or a core-shell type type.
상기 접착층은 열경화형 수지 또는 광경화형 수지를 포함할 수 있다. The adhesive layer may include a thermosetting resin or a photocurable resin.
*상기 제1 충진접착층, 상기 흡습접착층 및 상기 제2 충진접착층은 모두 동종의 열경화형 수지 또는 광경화형 수지를 포함하여 접착층이 층간 계면을 형성하지 않는 하나의 시트로서 형성될 수 있다.The first filling adhesive layer, the hygroscopic adhesive layer and the second filling adhesive layer may all be formed as a single sheet including a thermosetting resin or a photo-curing resin of the same kind, so that the adhesive layer does not form an interlayer interface.
상기 제1 충진접착층 및 제2 충진접착층은, 각각 독립적으로, 열경화형 수지 또는 광경화형 수지 100 중량부; 및 충진 물질 5 내지 50 중량부를 포함할 수 있다.Wherein the first filler adhesive layer and the second filler adhesive layer each independently comprise 100 parts by weight of a thermosetting resin or a photocurable resin; And 5 to 50 parts by weight of a filler.
상기 흡습접착층은 열경화형 수지 또는 광경화형 수지 100 중량부; 및 흡습 물질 5 내지 50 중량부를 포함할 수 있다.Wherein the hygroscopic adhesive layer comprises 100 parts by weight of a thermosetting resin or a photocurable resin; And 5 to 50 parts by weight of a hygroscopic material.
*상기 접착층의 두께는 5um 내지 30um 일 수 있다.The thickness of the adhesive layer may be from 5 [mu] m to 30 [mu] m.
상기 접착층에서, 제1 충진접착층, 흡습접착층 및 제2 충진접착층의 두께비가 0.1 내지 1.2 : 0.1 내지 1.2 : 0.1 내지 1.2 일 수 있다.In the adhesive layer, the thickness ratio of the first filling adhesive layer, the moisture absorption bonding layer and the second filling adhesive layer may be 0.1 to 1.2: 0.1 to 1.2: 0.1 to 1.2.
본 발명의 다른 구현예에서, 기판 상에 유기 발광 소자를 형성하는 단계; 제1 충진접착층, 흡습접착층 및 제2 충진접착층을 순차적으로 적층하여 접착층을 형성하는 단계: 및 상기 유기 발광 소자가 형성된 기판과 봉지기판 사이에 상기 접착층을 개재하여 합착시키는 단계를 포함하는 유기 발광 표시 장치 제조 방법을 제공한다.In another embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a light emitting device, comprising: forming an organic light emitting element on a substrate; Forming an adhesive layer by sequentially laminating a first filling adhesive layer, a moisture absorbing adhesive layer, and a second filling adhesive layer on the substrate; and bonding the organic EL panel to the sealing substrate through the adhesive layer, A device manufacturing method is provided.
상기 유기 발광 표시 장치 제조 방법은 롤투롤(roll to roll), 롤투글래스(roll to glass), 프레스(press) 합착 또는 다이어프램(diaphragm) 공정에 의해 제1 충진접착층, 흡습접착층 및 제2 충진접착층이 순차적으로 적층된 접착층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.The organic light emitting display device may be manufactured by a roll-to-roll process, a roll-to-glass process, a press-fit process, or a diaphragm process. The first filling adhesive layer, And sequentially forming a laminated adhesive layer.
상기 유기 발광 표시 장치 제조 방법에 있어서, 상기 봉지기판 상에 상기 접착층을 형성한 뒤, 라미네이션 공정, 프레스 공정 또는 다이아프램(diaphragm) 공정에 의해 상기 유기 발광 소자가 형성된 기판과 합착시키는 단계를 수행할 수 있다.In the method of manufacturing an organic light emitting diode display device, the step of forming the adhesive layer on the sealing substrate, followed by laminating the substrate with the substrate on which the organic light emitting diode is formed by a lamination process, a pressing process, or a diaphragm process is performed .
상기 유기 발광 표시 장치는 수명 특성이 우수하다.The organic light emitting display has excellent lifetime characteristics.
도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 유기 발광 표시 장치의 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 다른 구현예에 따른 유기 발광 표시 장치에 포함될 수 있는 접착층의 제조 방법을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 또 다른 구현예에 따른 유기 발광 표시 장치의 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다.1 is a schematic cross-sectional view of an OLED display according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic view illustrating a method of manufacturing an adhesive layer that can be included in an OLED display according to another embodiment of the present invention.
3 is a schematic cross-sectional view of an OLED display according to another embodiment of the present invention.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, which will be readily apparent to those skilled in the art to which the present invention pertains. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and the same or similar components are denoted by the same reference numerals throughout the specification.
또한, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.In addition, since the sizes and thicknesses of the respective components shown in the drawings are arbitrarily shown for convenience of explanation, the present invention is not necessarily limited to those shown in the drawings.
또한, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 과장되게 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.In addition, the size and thickness of each component shown in the drawings are arbitrarily exaggerated for convenience of explanation, and thus the present invention is not necessarily limited to those shown in the drawings.
도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 그리고 도면에서, 설명의 편의를 위해, 일부 층 및 영역의 두께를 과장되게 나타내었다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 또는 "상에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.In the drawings, the thickness is enlarged to clearly represent the layers and regions. In the drawings, for the convenience of explanation, the thicknesses of some layers and regions are exaggerated. Whenever a portion such as a layer, film, region, plate, or the like is referred to as being "on" or "on" another portion, it includes not only the case where it is "directly on" another portion but also the case where there is another portion in between. Conversely, when a part is "directly over" another part, it means that there is no other part in the middle.
이하, 도 1 내지 도 3을 참조하여 본 발명의 일 실시예를 설명한다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3. FIG.
도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 유기 발광 표시 장치(100)의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of an
도 1을 참고하면, 유기 발광 표시 장치(100)는 기판(10), 상기 기판(10) 상에 형성된 유기 발광 소자(20), 상기 유기 발광 소자(20) 상에 형성된 봉지기판(40) 및 상기 기판(10) 및 봉지기판(40) 사이에 개재된 접착층(30)을 포함한다.1, the
유기 발광 소자(20)는 빛을 방출하는 유기 발광층(미도시)을 가지고 화상을 표시하며, 구동 회로부(DC)(도 3에 도시)는 유기 발광 소자(20)를 구동한다. 유기 발광 소자(70) 및 구동 회로부(DC)는 도 3에 도시된 구조에 한정되지 않으며, 유기 발광 소자(70)가 빛을 방출하여 화상을 표시하는 방향에 따라 해당 기술 분야의 전문가가 용이하게 변형 실시할 수 있는 범위 내에서 다양한 구조로 형성될 수 있다.The organic
유기 발광층에 수분 또는 산소가 침투하는 것을 억제하기 위하여, 유기 발광 소자(20)의 상부는 접착층(30)을 매개로서 봉지기판(40)으로 밀봉된다. 즉, 유기 발광 소자(20)가 형성된 기판(10) 상에 유기 발광 소자(20)를 커버하도록 접착층(30)이 형성되고, 다시 그 위로 봉지기판(40)이 형성된다.The upper portion of the organic
봉지기판(40)은 절연체인 유리 기판 또는 투명한 플라스틱 기판 등을 사용하며, 봉지 기판이 투명한 재질로 이루어진 경우에는 전면발광형에 이용될 수 있다.The
접착층(30)은 제1 충진접착층(31), 흡습접착층(32) 및 제2 충진접착층(33)이 순차적으로 적층되어 형성된다. 제1 충진접착층(31) 및 제2 충진접착층(33)은 충진 물질을 포함하고, 흡습접착층(32)은 흡습 물질을 포함한다.The
접착층(30)은 유기 발광 소자(20)가 형성된 기판(10)과 봉지기판(40)을 합착하면서 동시에 흡습/흡착 특성을 가지는 흡습 물질과 외부 수분에 대하여 배리어 특성을 가져서 외부에서 혼입되는 수분을 차단할 수 있는 충진 물질을 포함하고 있어 유기 발광 소자(20)를 수분으로부터 보호하여 수명을 향상시킨다. The
제1 충진접착층(31), 흡습접착층(32) 또는 제2 충진접착층(33)은 열경화형 수지 또는 광경화형 수지에 충진 물질 또는 흡습 물질을 혼합한 조성물로부터 제조될 수 있다. 상기 조성물에 관하여는 후술한다.The first filling
제1 충진접착층(31), 흡습접착층(32) 및 제2 충진접착층(33)이 모두 동종의 열경화형 수지 또는 광경화형 수지를 포함하는 조성물로부터 제조되면 접착층(30)이 제1 충진접착층(31), 흡습접착층(32) 및 제2 충진접착층(33)의 층간 계면을 형성하지 않는 하나의 시트로서 형성될 수 있다.When the first filling
흡습접착층(32)에 포함될 수 있는 흡습 물질은 수분 및 산소와 같은 활성 가스와 용이하게 반응하여 활성 가스가 유기 발광 소자(20)에 해를 끼치지 않게 만드는 임의의 게터 물질일 수 있다. 예를 들면, 수분을 제거하는 게터 물질의 일종인 건조제를 사용할 수 있다. 이러한 흡습 물질은 수분 및 산소를 흡수 및 흡착할 수 있는 특성을 가지는 입자 또는 매개체라 할 수 있으며 수분 및 산소를 흡수 및 흡착할 수 있는 특성을 가지는 어떠한 종류의 물질도 사용될 수 있고, 그 종류가 제한되지 않는다.The hygroscopic material that may be contained in the hygroscopic
흡습 물질은 예를 들면, 실리카겔(silica gel: SiO2·H2O), 알루미노-실리케이트 비즈(alumino-silicate beads), 몬트모릴로나이트(montmorillonite)와 같은 클레이(clay), 분자체(molecular sieve)로서의 제올라이트(zeolite: Na12AlO3SiO2·12H2O), 활성 탄소(activated carbon), 알칼리 금속 산화물, 알칼리토류 금속 산화물, 금속 황산염, 금속 할로겐화물 및 금속 과염소산염, 또는 이들의 적어도 하나의 조합일 수 있다.The hygroscopic material may be, for example, Clay such as silica gel (SiO 2 .H 2 O), alumino-silicate beads, montmorillonite, zeolite as a molecular sieve, Na 12 AlO 3 SiO 2 .12H 2 O), activated carbon, alkali metal oxides, alkaline earth metal oxides, metal sulfates, metal halides and metal perchlorates, or a combination of at least one of these.
보다 구체적으로, 상기 알칼리 금속 산화물이 산화리튬(Li2O), 산화나트륨(Na2O) 또는 산화칼륨(K2O)일 수 있고, 상기 알칼리토류 금속 산화물이 산화바륨(BaO), 산화칼슘(CaO), 산화마그네슘(MgO) 등일 수 있고, 상기 금속 황산염이 황산리튬(Li2SO4), 황산나트륨(Na2SO4), 황산칼슘(CaSO4), 황산마그네슘(MgSO4), 황산코발트(CoSO4), 황산갈륨(Ga2(SO4)3), 황산티탄(Ti(SO4)2), 황산니켈(NiSO4) 등일 수 있고, 상기 금속 할로겐화물이 염화칼슘(CaCl2), 염화마그네슘(MgCl2), 염화스토론튬(SrCl2), 염화이트륨(YCl3), 염화구리(CuCl2), 불화세슘(CsF), 불화탄탈륨(TaF5), 불화니오븀(NbF5), 브롬화리튬(LiBr), 브롬화칼슘(CaBr2), 브롬화세륨(CeBr3), 브롬화셀레늄(SeBr4), 브롬화바나듐(VBr3), 브롬화마그네슘(MgBr2), 요오드화 바륨(BaI2), 요오드화 마그네슘(MgI2) 등일 수 있고, 상기 금속 과염소산염이 과염소산바륨(Ba(ClO4)2), 과염소산 마그네슘(Mg(ClO4)2) 등일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.More specifically, the alkali metal oxide may be lithium oxide (Li 2 O), sodium oxide (Na 2 O) or potassium oxide (K 2 O), and the alkaline earth metal oxide may be barium oxide (BaO), calcium oxide CaO and MgO and the metal sulfate may be selected from the group consisting of lithium sulfate (Li 2 SO 4 ), sodium sulfate (Na 2 SO 4 ), calcium sulfate (CaSO 4 ), magnesium sulfate (MgSO 4 ) (CoSO 4), sulfate, gallium (Ga 2 (SO 4) 3 ), titanium sulfate (Ti (SO 4) 2) , nickel sulfate (NiSO 4), and the like, the metal halide salt (CaCl 2), chloride magnesium (MgCl 2), chloride, strontium (SrCl 2), chloride, yttrium (YCl 3), copper chloride (CuCl 2), cesium fluoride (CsF), fluoride tantalum (TaF 5), fluoride, niobium (NbF 5), bromide (LiBr), CaBr 2 , CeBr 3 , SeBr 4 , VBr 3 , MgBr 2 , BaI 2 , and magnesium iodide MgI 2) etc. And the metal perchlorate is barium perchlorate (Ba (ClO 4) 2) , magnesium perchlorate (Mg (ClO 4) 2) Although the like, and the like.
실리카겔은 규산나트륨과 황산으로부터 제조된 무정형 실리카로서 물 중량 대비 약 40wt% 정도의 우수한 흡착량을 나타내며 약 25℃ 이하에서 흡착 용량이 크고 온도가 증가하면 클레이와 비슷한 정도로 흡착 용량이 낮아지며, 무독성이고 비부식성이며 조해성이 없고 비수용성이며, 취급이 용이하고, 저가이며, 오염 문제를 유발하지 않는다는 장점이 있으므로 가장 광범위하게 사용되고 있다.Silica gel is an amorphous silica prepared from sodium silicate and sulfuric acid and exhibits an excellent adsorption amount of about 40 wt% based on the weight of water. When the temperature is increased, the adsorption capacity is lowered to about the same as that of clay, Corrosive, non-corrosive, non-aqueous, easy to handle, inexpensive and does not cause contamination problems.
몬트모릴로나이트 또는 몬트모릴로나이트는 천연산으로 서벤토나이트(subbentonite) 형태의 마그네슘 알루미늄 실리케이트를 건조 공정을 거쳐 통상적으로 비즈(beads) 형태로 만든 흡착제이나 분체화되기 쉬워 오염의 우려가 있고 수분 흡착 능력도 실리카겔에 비하여 열등하다는 단점은 있으나 가장 저가라는 장점을 갖고 있다Montmorillonite or montmorillonite is a natural acid, which is a subbentonite magnesium aluminosilicate, which is usually dried in the form of beads through a drying process or is easily pulverized, It has the disadvantage of being inferior to silica gel but also has the advantage of being the cheapest
제올라이트는 수정 망상 구조의 마이크로 스피어(micro-sphere) 구조를 가지며 그램당 약 700 내지 약 800m2의 매우 넓은 비표면적을 갖고 있기 때문에, 실리카겔이나 점토와 같이 온도가 상승함에 의해 포장 내 제품으로 수분을 방출시키지 않는다는 장점이 있으나 상대적으로 고가라는 단점이 있다.Since the zeolite has a micro-sphere structure with a crystalline network structure and has a very large specific surface area of about 700 to about 800 m 2 per gram, the temperature of the silica gel or clay increases the moisture content However, it has a disadvantage of relatively high cost.
활성 탄소는 그램당 약 200 내지 약 1200 m2 정도의 매우 넓은 비표면적을 보유하여 흡착능이 탁월한 장점은 있으나 제품 오염성이 있어 통상적인 용도의 방습제로서는 거의 사용되지 않고 있다.The activated carbon has a very large specific surface area of about 200 to about 1200 m 2 per gram, which is excellent in adsorbability, but is contaminated with the product and is rarely used as a desiccant for ordinary use.
알칼리토류 금속 산화물 중 칼슘 산화물은 약 28.5wt% 이하의 수분 흡착능력을 가지고 있는 소둔 또는 재소둔(calcinated or recalcinated) 타입의 석회(lime)로서 매우 낮은 상대습도에서도 습기 흡착능력이 있으므로 냉장 또는 냉동 식품의 제습 식품포장에 주로 사용되고 있다.The calcium oxide in the alkaline earth metal oxide is a calcined or recalcinated type lime having a moisture adsorption capacity of about 28.5 wt% or less and has moisture adsorption ability even at a very low relative humidity, and therefore, Is mainly used for dehumidifying food packaging.
금속 황산염 중 칼슘 설페이트는 상업적으로 드라이어라이트(Drierite)로 알려져 있으며 석고를 탈수하여 제조되고, 화학적으로 안정하며, 비붕해성과 비독성, 그리고 비부식성이고, 온도 상승 시에도 일단 흡착한 수분을 방출하지 않는다는 장점은 있으나, 수분 흡착능이 약 10wt% 정도로 낮다는 단점이 있어 제한된 범위에서만 주로 사용되고 있다.Calcium sulfate in metal sulfates is known commercially as Drierite and is produced by dewatering gypsum, chemically stable, non-pyrogenic, non-toxic, and non-corrosive, and releases moisture that once adsorbed However, it has a disadvantage of low water absorption capacity of about 10 wt% and is mainly used in a limited range.
제1 충진접착층(31) 및 제2 충진접착층(33)에 사용될 수 있는 충진 물질은 수분에 대하여 배리어 특성을 구현하는 것이다. 충진 물질의 접착층(30) 내에서 배리어 특성을 가지는 필러로서 작용할 수 있는 것이라면 어떠한 종류라도 사용될 수 있고, 구체적인 예를 들면, 활석(talc), 실리카, 산화마그네슘, 마이카(mica), 몬모릴로나이트, 알루미나, 그라파이트, 베릴리라(beryllium oxide), 질화알루미늄, 탄화규소, 멀라이트(mullite), 실리콘 또는 이들의 조합일 수 있으며, 이에 제한되지는 않는다. 이러한 충진 물질은 합성에 의한 제조된 입자일 수 있고 원석을 가공한 입자일 수도 있다.The filling material which can be used for the first filling
제1 충진접착층(31) 및 제2 충진접착층(33)의 충진접착층용 수지 조성물 내에 포함된 충진 물질은 경화 후 조성물의 내부에 고르게 분산되어, 조성물에 작용하는 응력을 분산시켜 접착력을 강화시켜 줄 뿐만 아니라, 조성물 내부로 침투하여 확산되는 수분을 효과적으로 막아주어 수분이 제1 충진접착층(31) 또는 제2 충진접착층(33)을 통과하여 유기 발광 소자(20)쪽으로 확산되지 못하게 하는 효과가 있다.The filling material contained in the resin composition for the filling adhesive layer of the first filling
상기 흡습 물질의 입경이 약 10nm 내지 약 20um일 수 있다. 예를 들어, 흡습 물질의 평균 입경이 약 10nm 내지 100nm일 수 있다.The particle size of the hygroscopic material may be about 10 nm to about 20 um. For example, the average particle diameter of the hygroscopic material may be about 10 nm to 100 nm.
상기 충진 물질의 입경이 약 10nm 내지 약 20um일 수 있다. 예를 들어, 충진 물질의 평균 입경이 약 10nm 내지 100nm일 수 있다. 다른 예를 들어, 충진 물질의 평균 입경이 약 2um 내지 5um일 수 있다.The particle size of the fill material may be between about 10 nm and about 20 um. For example, the average particle size of the fill material may be between about 10 nm and 100 nm. In another example, the filler material may have an average particle size of from about 2 um to about 5 um.
상기 흡습 물질 또는 상기 충진 물질은 메조포러스형, 판상형, 구형, 로드(rod)형, 파이버(fiber)형, 코어쉘(core-shell) 타입형 등이 사용될 수 있고, 그 형태에 제한되지 않는다.The hygroscopic material or the filling material may be of a mesoporous type, a plate type, a spherical type, a rod type, a fiber type, a core-shell type type, and the like.
제1 충진접착층(31) 또는 제2 충진접착층(33)은 열경화성 수지 또는 광경화성 수지 100 중량부 대비 흡습 물질 5 내지 50 중량부를 포함할 수 있다. 충진 물질이 열경화성 수지 또는 광경화성 수지 100 중량부 대비 약 5 내지 약 50 중량부 범위의 함량으로 포함될 때 수분 투습에 대한 배리어(barrier) 특성을 향상될 수 있다는 점에서 바람직하다.The first
흡습접착층(32)은 열경화성 수지 또는 광경화성 수지 100 중량부 대비 흡습 물질 약 5 내지 약 50 중량부를 포함할 수 있다. The hygroscopic
접착층(30)의 두께는 약 5um 내지 약 50um일 수 있다. 예를 들면, 접착층(30)의 두께는 10um, 20um 또는 30 um 일 수 있다. 접착층(30)의 두께가 상기 범위일 때 표면단차의 영향을 받지 않고 접착 특성을 확보하기에 유리할 수 있다.The thickness of the
제1 충진접착층(31), 흡습접착층(32) 및 제2 충진접착층(33)은 두께비가 약 0.1 내지 약 1.2 : 약 0.1 내지 약 1.2 : 약 0.1 내지 약 1.2 일 수 있다. 예를 들면, 각 층은 1:1:1의 비율로 제작될 수 있다. 상기 두께비가 상기 범위일 때 표면 단차의 영향을 받지 않고 접착 특성을 확보하기에 유리할 수 있다.The first
유기 발광 표시 장치(100)는 접착층(30)을 포함함으로써 유기 발광 소자(20)의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 봉지 기판을 재질이 유리가 아닌 경우 핀홀(pin-hole) 및 입자에 의해 형성된 기공의 불량부를 통하여 수분 등이 혼입되게 되는데, 접착층(30) 내의 흡습접착층에서 이러한 수분을 흡습 또는 흡착하거나, 충진접착층에서 차단하여 유기 발광 소자(20)를 보호할 수 있다.The organic light emitting
일반적으로 외부로부터 혼입된 수분으로부터 유기 발광 소자(20)를 보호하기 위하여 외곽부에 게터(getter)를 도포할 수 있는데, 상기 유기 발광 표시 장치(100)는 이를 생략할 수 있게 되어 공정을 단축할 수 있다. 또한, 게터 형성 공정을 생략하게 되면, 외곽부에 게터 라인을 형성하지 않을 수 있어 마진을 확보하여 베젤을 작게 할 수 있는 장점도 있다.Generally, a getter may be applied to the outer frame to protect the organic
접착층(30)을 제1 충진접착층(31), 흡습접착층(32) 및 제2 충진접착층(33)의 샌드위치 구조로 형성하게 되면, 흡습접착층(32)이 봉지기판(40)으로부터 유기 발광 소자(20) 쪽으로 혼입되는 수분을 효과적으로 차단하면서, 충진접착층(31, 33)이 접착 강도를 유지하면서 기판(10), 유기 발광 소자(20), 봉지기판(40) 등과 접착을 할 수 있다. 즉, 상기 접착층(30)은 접착 특성을 감소시키지 않으면서 유기 발광 소자(20) 쪽으로 혼입되는 수분을 효과적으로 차단하여, 유기 발광 소자(20)의 신뢰성을 제고하여 수명을 향상시킨다.When the
제1 충진접착층(31), 흡습접착층(32) 및 제2 충진접착층(33)은 전술한 바와 같이 충진 물질을 포함하는 조성물 또는 흡습 물질을 포함하는 조성물로부터 제조될 수 있는데, 이러한 제1 충진접착층(31), 흡습접착층(32) 및 제2 충진접착층(33) 제조용 조성물은 열경화형 수지 또는 광경화형 수지를 포함할 수 있음은 전술한 바와 같다. 상기 조성물은 그 이외에도 필요에 따라 열경화제, 경화촉진제, 커플링제, 스페이서, 광산발생제, 라디칼 개시제 등 또는 이들의 조합의 첨가제를 포함할 수 있고, 또한 용매를 포함한다.The first
제1 충진접착층(31), 흡습접착층(32) 및 제2 충진접착층(33) 제조용 조성물을 열경화형 수지 조성물로 제조하는 경우, 열경화형 수지, 열경화제, 경화촉진제, 커플링제, 산화방지제 및 용매를 포함할 수 있고, 여기에 추가적으로 흡습 물질 또는 충진 물질을 더 포함한다.When the composition for the production of the first
상기 열경화형 수지로는 예를 들면 에폭시 수지를 들 수 있다. 에폭시 수지는 비스페놀계, 오르쏘 크레졸 노볼락(ortho-Cresol novolac)계, 다관능 에폭시, 아민계 에폭시, 복소환 함유 에폭시, 치환형 에폭시, 나프톨계 에폭시를 예시할 수 있으며, 구체적으로, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 수소화 비스페놀형 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 방향족 에폭시 수지, 노볼락형, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지 등을 들 수 있으며, 이들 에폭시기를 가지는 화합물은 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 에폭시 수지로는 현재 시판되고 있는 제품으로서는 비스페놀계로서는 대일본 잉크화학의 에피클론 830-S, 에피클론 EXA-830CRP, 에피클론 EXA 850-S, 에피클론 EXA-850CRP, 에피클론 EXA-835LV, 유카 쉘에폭시 주식회사의 에피코트 807, 에피코트 815, 에피코트 825, 에피코트827, 에피코트 828, 에피코트 834, 체피코트 1001, 에피코트 1004, 에피코트 1007, 에피코트 1009, 다우케미컬사의 DER-330, DER-301, DER-361, 국도화학의 YD-128, YDF-170등이 있고, 오르쏘 크레졸 노볼락계로서는 국도화학의 YDCN-500-1P, YDCN-500-4P, YDCN-500-5P, YDCN-500-7P, YDCN-500-80P, YDCN-500-90P, 일본화약주식회사의 EOCN-102S, EOCN-103S, EOCN-104S, EOCN-1012, EOCN-1025, EOCN-1027 등이 있고, 다관능 에폭시 수지로서는 유카쉘 에폭시 주식회사 Epon 1031S, 시바스페샬리티케미칼주식회사의 아랄디이토 0163, 나가섭씨온도화성 주식회사의 데타콜 EX-611, 데타콜 EX-614, 데타콜 EX-614B, 데타콜 EX-622, 데타콜 EX-512, 데타콜EX-521, 데타콜 EX-421, 데타콜 EX-411, 데타콜 EX-321 등이 있으며, 아민계 에폭시 수지로서는 유카쉘에폭시주식회사 에피코트 604, 독도화학주식회사의 YH-434, 미쓰비시가스화학 주식회사의 TETRAD-X, TETRAD-C, 스미토모화학주식회사의 ELM-120 등이 있고, 복소환 함유 에폭시수지로는 시바스페샬리티케미칼주식회사의 PT-810, 치환형 에폭시로는 UCC사의 ERL-4234, ERL-4299, ERL-4221, ERL-4206, 나프톨계 에폭시로는 대일본 잉크화학의 에피클론 HP-4032, 에피클론 HP-4032D, 에피클론 HP-4700, 에피클론 4701등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 또는 2종류 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 우수한 필름 도막특성을 얻기 위해서 페녹시 수지를 적용할 수 있으며 JER사의 에피코토 1256 및 인켐사의 PKHH, 도토카세이의 YP-70 등의 고분자량의 수지를 적용할 수 있다. As the thermosetting resin, for example, an epoxy resin can be mentioned. Examples of the epoxy resin include bisphenol type, ortho-Cresol novolac type, polyfunctional epoxy, amine type epoxy, heterocyclic ring containing epoxy, substituted epoxy and naphthol type epoxy. Specific examples thereof include bisphenol A Type epoxy resin, a hydrogenated bisphenol type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, an aromatic epoxy resin, a novolac type, and a dicyclopentadiene type epoxy resin. These epoxy group-containing compounds may be used alone or in combination of two or more. Can be mixed and used. Examples of bisphenol-based epoxy resins include Epiclon 830-S, Epiclon EXA-830CRP, Epiclon EXA 850-S, Epiclon EXA-850CRP, Epiclon EXA-835LV, Epicote 807, Epicote 815, Epicote 825, Epicote 827, Epicote 828, Epicote 834, Epicote 1001, Epicote 1004, Epicote 1007, Epicote 1009 from Shell Epoxy Co., YDCN-500-5P, YDCN-500-4P, YDCN-500-5P, and YDCN-500-5P of Orthocresol novolak are available as DER-301, DER-361, YD- EOCN-102S, EOCN-104S, EOCN-1012, EOCN-1025 and EOCN-1027 of YDCN-500-80P and YDCN- As the polyfunctional epoxy resin, Epon 1031S of Yucca Shell Epoxy Co., Araldite 0163 of Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Detakol EX Data Cole EX-411, Data Cole EX-621, Data Cole EX-521, Data Cole EX-421, Data Cole EX-411, Examples of the amine-based epoxy resin include Epikote 604 manufactured by Yucca Shell Epoxy Co., Ltd., YH-434 manufactured by Dokdo Chemical Co., Ltd., TETRAD-X and TETRAD-C manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., and ELM-120 manufactured by Sumitomo Chemical Co., ERL-4234, ERL-4221, and ERL-4206 of UCC Co., Ltd. were used as the recycled epoxy resin, PT-810 of Ciba Specialty Chemicals KK, Clon HP-4032, Epiclon HP-4032D, Epiclon HP-4700, Epiclon 4701, etc. These may be used singly or in combination of two or more. Phenoxy resins can be applied to obtain excellent film properties, and high molecular weight resins such as Epikoto 1256 from JER, PKHH from INCEM and YP-70 from TOKO KASEI can be applied.
상기 열경화제는 통상적으로 에폭시 수지를 열경화하기 위해서 사용할 수 있는 것이면 사용가능하고 특별히 한정되지는 않는다. 구체적인 예로서는 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민, N-아미노에틸피페라진, 디아미노디페닐메탄, 아디핀산디히드라지드 등의 폴리아민계 경화제; 무수프탈산, 테트라히드로무수프탈산, 헥사히드로무수프탈산, 메틸테트라히드로무수프탈산, 메틸헥사히드로무수프탈산, 무수메틸나딕산 등의 산무수물 경화제; 페놀노볼락형 경화제; 트리옥산트리틸렌메르캅탄 등의 폴리메르캅탄 경화제; 벤질디메틸아민, 2,4,6-트리스(디메틸아미노메틸)페놀 등의 제3아민화합물; 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-벤질-2-메틸이미다졸 등의이미다졸 화합물 등을 사용할 수 있다. 또한, 그 외 고체 분산형의 잠재성 경화제나 마이크로 캡슐에 봉입한잠재성 경화제 등도 사용 가능하다.The thermosetting agent is not particularly limited as long as it can be used to thermoset an epoxy resin. Specific examples include polyamine-based curing agents such as diethylenetriamine, triethylenetetramine, N-aminoethylpiperazine, diaminodiphenylmethane and adipic acid dihydrazide; Acid anhydride curing agents such as phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride and methylnadic anhydride; Phenol novolak type curing agents; Polymercaptan curing agents such as trioxane tritylene mercaptan; Tertiary amine compounds such as benzyldimethylamine and 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol; Imidazole compounds such as 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole and 1-benzyl-2-methylimidazole can be used. It is also possible to use a latent curing agent of other solid dispersion type or a latent curing agent encapsulated in microcapsules.
아민계 경화제를 사용하는 경우, 바람직하게는 아민계 경화제는 지방족 아민, 변형된 지방족 아민, 방향족아민, 제2급 아민 또는 제3급 아민 등을 이용하며, 예를 들어, 벤질디메틸아민, 트리에탄올아민, 트리에틸렌 테트라민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌아민, 디메틸아미노에탄올, 트리(디메틸아미노메틸)페놀 등을 사용할 수 있고, 말단기에 -OH, -COOH, -SO3H, -CONH2, -CONHR(R은 알킬기를 나타낸다), -CN(CN)NH2, -SO3NH2, -SO3NHR(R은 알킬기를 나타낸다) 또는 -SH를 갖는 경화제를 이용할 수 있다. 상기 R은 C1-C10 알킬기로서, 탄소수 1-10의 직쇄 또는 분지쇄 포화 탄화수소기를 의미하며, 바람직하게는 C1-C4 직쇄 또는 분지쇄 알킬기이며, 구체적으로 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, 이소부틸, n-부틸 및 t-부틸 등일 수 있다.When an amine-based curing agent is used, the amine-based curing agent is preferably an aliphatic amine, a modified aliphatic amine, an aromatic amine, a secondary amine or a tertiary amine, and examples thereof include benzyldimethylamine, triethanolamine , triethylene tetramine, diethylene triamine, triethylene amine, dimethyl amino ethanol, tri (dimethylaminomethyl) phenol and the like may be used, the end group -OH, -COOH, -SO 3 H, -CONH 2, -CONHR (R is an alkyl group), -CN (CN) NH 2 , -SO 3 NH 2, -SO 3 NHR may be used a curing agent having the (R represents an alkyl group) or -SH. The R represents a C1-C10 alkyl group, a straight or branched chain saturated hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms, preferably a C1-C4 linear or branched alkyl group, specifically methyl, ethyl, n-propyl, Isobutyl, n-butyl, t-butyl, and the like.
이미다졸계 경화제를 이용하는 경우, 이미디졸, 이소이미디졸, 2-메틸 이미디졸, 2-에틸-4-메틸이미디졸, 2,4-디메틸이미디졸, 부틸이미디졸, 2-헵타데센일-4-메틸이미디졸, 2-메틸이미디졸, 2-운데센일이미디졸,1-비닐-2-메틸이미디졸,2-n-헵타데실이미디졸, 2-운데실이미디졸, 2-헵타데실이미디졸, 2-페닐이미디졸, 1-벤질-2-메틸이미디졸, 1-프로필-2-메틸이미디졸, 1-시아노에틸-2-메틸이미디졸, 1-시아노에틸-2-에틸-4-메틸이미디졸, 1-시아노에틸-2-운데실이미디졸, 1-시아노에틸 -2-페닐이미디졸, 1-구아나미노에틸-2-메틸이미디졸, 이미디졸과 메틸이미디졸의 부가생성물,이미디졸과 트리멜리트산의 부가생성물, 2-n-헵타데실-4-메틸이미디졸, 페닐이미디졸, 벤질이미디졸, 2-메틸-4,5-디페닐이미디졸, 2,3,5-트리페닐이미디졸, 2-스티릴이미디졸, 1-(도데실 벤질)-2-메틸이미디졸, 2-(2-히드록실-4-t-부틸페닐)-4,5-디페닐이미디졸, 2-(2-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미디졸,2-(3-히드록시페닐)-4,5-디페닐이미디졸, 2-(p-디메틸-아미노페닐)-4,5-디페닐이미디졸, 2-(2-히드록시페닐)-4,5-디페닐이미디졸, 디(4,5-디페닐-2-이미디졸)-벤젠-1,4, 2-나프틸-4,5-디페닐이미디졸, 1-벤질-2-메틸이미디졸 및 2-p-메톡시스티릴이미디졸 등을 이용할 수 있다.When an imidazole-based curing agent is used, it is possible to use imidazole, isoimidizole, 2-methyl imidazole, 2-ethyl-4-methyl imidizole, 2,4-dimethyl imidizole, butyl imidizole, 2-methyldimidazole, 2-undecylidimidizole, 1-vinyl-2-methylimidizole, 2-n-heptadecylimidizole, 2- 2-methylimidizole, 1-propyl-2-methylimidizole, 1-cyanoethyl-2-methyl 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidizole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidizole, 1-cyanoethyl- 2-methylimidizole, an adduct of imidazole and methylimidizole, an adduct of imidazole and trimellitic acid, 2-n-heptadecyl-4-methylimidizole, phenylimidazole , Benzylimidizole, 2-methyl-4,5-diphenylimidizole, 2,3,5-triphenylimidizole, 2-styrylimidizole, 1- (dodecylbenzyl) -2- Me (2-hydroxy-4-t-butylphenyl) -4,5-diphenylimidazole, 2- (2-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole , 2- (3-hydroxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole, 2- (p-dimethyl-aminophenyl) ) -4,5-diphenylimidazole, di (4,5-diphenyl-2-imidazole) -benzene-1,4,2-naphthyl- Benzyl-2-methylimidizole and 2-p-methoxystyrylimidazole.
산무수물 경화제는 에폭시 수지로서, 실록산을 포함하는 하이브리드 에폭시 수지가 이용되는 경우 적합하다.The acid anhydride curing agent is suitable as an epoxy resin when a hybrid epoxy resin containing a siloxane is used.
바람직하게는, 경화제로서의 산무수물은 프탈릭 무수물, 말레익 무수물, 트리멜리틱 무수물, 파이로멜리틱 무수물, 헥사하이드로프탈릭 무수물, 테트라하이드로프탈릭 무수물, 메틸나딕 무수물, 나딕 무수물, 글루타릭 무수물, 메틸헥사하이드로프탈릭 무수물, 메틸테트라하이드로프탈릭 무수물 또는 5-(2,5-디옥소테트라히드롤)-3-메틸-3-사이클로헥센-1,2-디카르복실산 무수물이다.Preferably, the acid anhydrides as the curing agent are selected from the group consisting of phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, nadic anhydride, glutaric anhydride, Methylhexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride or 5- (2,5-dioxotetrahydro) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride.
상기 경화촉진제로서는 4급 암모늄염, 4급 설포늄염, 각종 금속염, 이미다졸, 3급 아민 등을 사용할 수 있다. 구체적인 예로는 4급 암모늄염으로서는 테트라 메틸 암모늄 브로마이드, 테트라부틸암모늄브로마이드, 4급 설포늄염으로서는 테트라 페닐 포스포늄 브로마이드, 테트라부틸포스포늄브로마이드, 금속염으로서는 옥틸산아연, 옥틸산 주석 등이 있으며, 이미다졸로서는 1-벤질-2-메틸 이미다졸, 1-벤질-2-페닐 이미다졸, 2-에틸-4-메틸 이미다졸 등, 3급 아민으로서는 벤질 디메틸 아민 등을 들 수 있다.As the curing accelerator, quaternary ammonium salts, quaternary sulfonium salts, various metal salts, imidazoles, tertiary amines and the like can be used. Specific examples thereof include tetramethylammonium bromide and tetrabutylammonium bromide as quaternary ammonium salts, tetraphenylphosphonium bromide and tetrabutylphosphonium bromide as quaternary sulfonium salts, and zinc octylate and tin octylate as metal salts. 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole. Examples of tertiary amines include benzyldimethylamine.
보론계 경화촉진제로는 페닐보로닉산(phenyl boronic acid), 4-메틸페닐보로닉산(4-methylphenylboronic acid), 4-메톡시페닐보로닉산(4-methoxyphenyl boronic acid), 4-트리플루오로메톡시페닐보로닉산(4-trifluoromethoxyphenyl boronic acid), 4-터트-부톡시페닐보로닉산(4-tert-butoxyphenyl boronic acid), 3-플루오로-4-메톡시페닐보로닉산(3-fluoro-4-methoxyphenyl boronic acid), 피리딘-트리페닐보란(pyridinetriphenylborane),2-에틸-4-메틸 이미다졸륨 테트라페닐보레이트 (2-ethyl-4-methyl imidazoliumtetraphenylborate), 1,8-디아자바이시클로[5.4.0]언데센-7-테트라페닐보레이트 (1,8-diazabicyclo[5.4.0]undecene-7-tetraphenylborate), 1,5-디아자바이시클로[4.3.0]노넨-5-테트라페닐보레이트(1,5-diazabicyclo[4.3.0]nonene-5-tetraphenylborate), 리튬트리페닐(n-부틸)보레이트(lithium triphenyl (n-butyl)borate) 등이 있으며, 이미다졸계 경화촉진제로는 2-메틸이미다졸(2-methylimidazole), 2-언데실이미다졸(2-undecylimidazole), 2-헵타데실이미다졸(2-heptadecylimidazole), 2-에틸-4-메틸이미다졸(2-ethyl-4-methylimidazole), 2-페닐이미다졸(2-phenylimidazole), 2-페닐-4-메틸이미다졸(2-phenyl-4-methylimidazole),1-벤질-2-페닐이미다졸(1-benzyl-2-phenylimidazole), 1,2-디메틸이미다졸(1,2-dimethylimidazole), 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸(1-cyanoethyl-2-methylimidazole), 1-시아노에틸-2-에틸-4-메틸이미다졸(1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimid azole), 1-시아노에틸-2-언데실이미다졸(1-cyanoethyl-2-undecylimidazole), 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸(1-cyanoethyl-2-phenylimidazole), 1-시아노에틸-2-언데실이미다졸륨트리멜리테이트(1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium-trimellitate), 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸륨트리멜리테이트(1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium-trimellitate), 2,4-디아미노-6[2'-메틸이미다조일-(1')-에틸-s-트리아진(2,4-diamino-6-[2'-methylimidazoly-(1')]-ethyl-s-triazine), 2,4-디아미노-6-[2'-언데실이미다조일-(1')]-에틸-s-트리아진(2,4-diamino-6-[2'-undecylimidazoly-(1')]-ethyl-s-triazine), 2,4-디아미노-6-[2'-에틸-4'-메틸이미다조일-(1')]-에틸-s-트리아진(2,4-diamino-6-[2'-ethyl-4'-methylimidazoly-(1')]-ethyl-striazine), 2,4-디아미노-6-[2'-메틸이미다졸리-(1')]-에틸-s-트리아진 이소시아누릭산 유도체 디하이드레이트(2,4-diamino-6-[2'-methylimidazoly-(1')]-ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct dihydrate), 2-페닐이미다졸이소시아누릭산 유도체(2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct), 2-메틸이미다졸 이소시아누릭산유도체 디하이드레이트(2-methylimidazole isocyanuric acid adduct dihydrate), 2-페닐-4,5-디히드록시메틸이미다졸(2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole), 2-페닐-4-메틸-5-히드록시메틸이미다졸(2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole), 2,3-디히드로-1H-피롤로[1,2-a]벤지미다졸(2,3-dihyro-1H-pyrrolo[1,2-a]benzimidazole), 4,4'-메틸렌 비스(2-에틸-5-메틸이미다졸(4,4'-methylene bis(2-ethyl-5-methylimidazole), 2-메틸이미다졸린(2-methylimidazoline), 2-페닐이미다졸린(2-phenylimidazoline), 2,4-디아미노-6-비닐-1,3,5-트리아진(2,4-diamino-6-vinyl-1,3,5-triazine), 2,4-디아미노-6-비닐-1,3,5-트리아진이소시아누릭 산유도체(2,4-diamino-6-vinyl-1,3,5-triazine isocyanuric acid adduct), 2,4-디아미노-6-메타아트릴로일록시에틸-1,3,5-트리아진이소시아누릭산 유도체 (2,4-diamino-6-methacryloyloxylethyl-1,3,5-triazineisocyanuric acid adduct), 1-(2-시아노에틸)-2-에틸-4-메틸이미다졸(1-(2-cyanoethyl)-2-ethyl-4-methylimidazole), 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸(1-cyanoethyl-2-methylimidazole), 1-(2-시아노에틸)2-페닐-4,5-디(시아노에톡시메틸)이미다졸(1-(2-cyanoethyl)2-phenyl-4,5-di-(cyanoethoxymethyl)imidazole), 1-아세틸-2-페닐히드라진(1-acetyl-2-phenylhydrazine), 2-에틸-4-메틸이미다졸린(2-ethyl-4-methyl imidazoline),2-벤질-4-메틸디이미다졸린(2-benzyl-4-methyl dimidazoline), 2-에틸이미자롤린(2-ethyl imidazoline), 2-페닐이미다졸(2-pheny imidazole), 2-페닐-4,5-디히드록시메틸이미다졸(2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole), 멜라민(melamine), 디시안디아마이드(dicyandiamide) 등을 들 수 있으며, 이것들은 단독으로 또는 2종류 이상을 병용하여 사용할 수 있다.Examples of the boron-based hardening accelerator include phenylboronic acid, 4-methylphenylboronic acid, 4-methoxyphenyl boronic acid, 4-trifluoromethylphenylboronic acid, 4-trifluoromethoxyphenyl boronic acid, 4-tert-butoxyphenyl boronic acid, 3-fluoro-4-methoxyphenyl boronic acid, -4-methoxyphenyl boronic acid, pyridinetriphenylborane, 2-ethyl-4-methylimidazoliumtetraphenylborate, 1,8-diazabicyclo [ 5.4.0] undecene-7-tetraphenylborate, 1,1-diazabicyclo [4.3.0] undecene-7-tetraphenylborate (1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5-tetraphenylborate) and lithium triphenyl (n-butyl) borate. Examples of the imidazole-based curing accelerator include 2- Methyl imide 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-ethyl- methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 2-phenylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl- 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimid azole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1- 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium-trimellitate, 1-cyanoethyl- 2-phenylimidazolium-trimellitate, 2,4-diamino-6 [2'-methylimidazoyl- (1 ') - ethyl- Triazine (2,4- diamino-6- [2'-methylimidazoly- (1 ')] - ethyl-s-triazine), 2,4- (2,4-diamino-6- [2'-undecylimidazoly- (1 ')] - ethyl-s-triazine), 2,4-diamino- Methylimidazoyl- (1 ')] - ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'- 4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')] -ethyl-s-triazine isocyanuric acid derivative dihydrate (2,4- (1 ')] - ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct dihydrate, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-methylimidazole isocyanuric acid derivative dihydrate 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethyl (2-methylimidazole isocyanuric acid adduct dihydrate) 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [ 2-a] benzimidazole, 4,4'-methylenebis (2-ethyl-5-methylimidazole (4,4 ' 2-ethyl-5-methylimidazole, 2-methylimidazoline, 2-phenylimidazoline, 2,4-diamino- 2,4-diamino-6-vinyl-1,3,5-triazine, 2,4-diamino-6-vinyl-1,3,5-triazine, isocyanuric acid derivatives 2,4-diamino-6-vinyl-1,3,5-triazine isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-1,3,5- 2,4-diamino-6-methacryloyloxylethyl-1,3,5-triazineisocyanuric acid adduct, 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole and 1- (2-cyanoethyl) Di (cyanoethoxymethyl) imidazole), 1-acetyl-2-phenylhydrazine (1-ace tyl-2-phenylhydrazine, 2-ethyl-4-methyl imidazoline, 2-benzyl-4-methyl dimidazoline, 2-ethyl imidazoline, 2-phenyl imidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, and the like. ), Melamine, dicyandiamide, etc. These may be used alone or in combination of two or more.
상기 커플링제로서는 실란 커플링제, 티타네이트계 커플링제, 알루미네이트계 커플링제, 실리콘 화합물 등이 있으며, 이들 커플링제는 단독 또는 혼합하여 사용 할 수 있다. 커플링제를 포함할 경우 수지 조성물의 접착성을 향상시키고, 점도를 감소시키는 효과가 있으며, 상기 열경화성 수지 조성물 중 열경화성 수지 100 중량부 대비 약 0.001 내지 약 5 중량부, 바람직하게는 약 0.01 내지 약 3 중량부로 포함되는 것이 좋다.Examples of the coupling agent include a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminate coupling agent, and a silicone compound. These coupling agents can be used alone or in combination. When a coupling agent is included, it has an effect of improving the adhesiveness of the resin composition and decreasing the viscosity. It is preferable that the thermosetting resin composition contains about 0.001 to about 5 parts by weight, preferably about 0.01 to about 3 parts by weight, It should be included as part of weight.
실란 커플링제는 조성물 내의 실리카와 같은 무기물질의 표면과 수지들간의 접착력을 증진시키기 위한 접착증진제의 기능을 한다. 상기 실란 커플링제로서는 통상적으로 에폭시 함유실란 또는 머캡토 함유 실란인 것을 사용할 수 있으며, 에폭시가 함유된 것으로 2-(3,4 에폭시 사이클로 헥실)-에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란이 있고, 아민기가 함유된 것으로 N-2(아미노에틸)3-아미토프로필메틸디메톡시실란, N-2(아미노에틸)3-아미노프로필트리메톡시실란, N-2(아미노에틸)3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-트리에톡시실리-N-(1,3-디메틸뷰틸리덴)프로필아민, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란이 있으며, 머켑토가 함유된 것으로 3-머켑토프로필메틸디메톡시실란, 3-머켑토프로필트리에톡시실란, 이소시아네이트가 함유된 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란을 예시할 수 있으며, 단독 또는 2종 이상을 병용하여 사용할 수 있다The silane coupling agent functions as an adhesion promoter for enhancing the adhesion between the surfaces of inorganic materials such as silica in the composition and the resins. The silane coupling agent may be an epoxy-containing silane or a mercaptan-containing silane. Examples of the epoxy-containing silane coupling agent include 2- (3,4-epoxycyclohexyl) -ethyltrimethoxysilane, 3- Glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, and N-2 (aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2 (aminoethyl) -Triethoxysilyl-N- (1, 3-dimethylbutylidene) propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, and those containing maltitol include 3-mercaptopropylmethyldimethoxy Silane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, isocyanate-containing 3-iso And cyanate propyltriethoxysilane, which may be used alone or in combination of two or more thereof
상기 산화방지제는 열경화성 수지 조성물의 열경화시의 산화 열화를 방지함으로써, 경화물의 내열 안정성을 한 층 향상시키기 위한 것이다. 상기 산화방지제로서는 페놀계, 유황계, 인계산화 방지제 등을 사용할 수 있다. 구체적인 예로서는, 디부틸 히드록시 톨루엔, 2,6-디-테트라-부틸-p-크레졸(이하 BHT라고 함) 등의 페놀계 산화 방지제, 메르캅토 프로피온산 유도체 등의 유황계 산화방지제, 트리페닐포스파이트, 9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난쓰렌-10-옥사이드(이하, HCA)등의 인계 산화 방지제 등을 들 수 있으며, 상기 산화방화방지제는 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있으며, 상기 열경화성 수지 조성물 중 열경화성 수지 100 중량부 대비 약 0.001 내지 약 5 중량부, 바람직하게는 약 0.01 내지 약 0.5 중량부로 포함되는 것이 좋다.The antioxidant is intended to improve the thermal stability of the cured product by preventing oxidation deterioration during thermal curing of the thermosetting resin composition. As the antioxidant, phenol-based, sulfur-based, phosphorus-based antioxidant and the like can be used. Specific examples include phenolic antioxidants such as dibutylhydroxytoluene and 2,6-di-tetra-butyl-p-cresol (hereinafter referred to as BHT), sulfur-based antioxidants such as mercaptopropionic acid derivatives, , Phosphorus-based antioxidants such as 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphapenanthrene-10-oxide (hereinafter referred to as HCA), and the like. And may be used in an amount of about 0.001 to about 5 parts by weight, preferably about 0.01 to about 0.5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the thermosetting resin in the thermosetting resin composition.
제1 충진접착층(31), 흡습접착층(32) 및 제2 충진접착층(33) 제조용 조성물을 광경화형 수지 조성물로 제조하는 경우, 광경화형 에폭시 수지, 광개시제, 커플링제, 스페이서, 광산발생제, 라디칼발생제 및 용매를 포함할 수 있고, 여기에 추가적으로 충진 물질 또는 흡습 물질을 더 포함한다.When the composition for the production of the first filling
상기 광경화형 수지 조성물에 적용 가능한 광경화형 에폭시 수지로는 범용적으로 사용되는 방향족 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 혹은 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 상기 방향족 에폭시 수지로는 비페닐형, 비스페놀 A형, 비스페놀 F형, 페놀 노볼락형, 다이사이클로펜타다이엔형, 에폭시 수지 등을 사용할 수 있으며, 이들의 혼합물로도 사용이 가능하다.As the photocurable epoxy resin applicable to the photocurable resin composition, an aromatic epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, or a mixture thereof can be used. As the aromatic epoxy resin, biphenyl type, bisphenol A type, bisphenol F type, phenol novolac type, dicyclopentadiene type, epoxy resin and the like can be used, and mixtures thereof can also be used.
상기 광개시제로는 상기 에폭시 수지를 광에 의해 경화시킬 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 상기 광개시제의 구체적인 예로는 방향족 디아조늄염, 방향족 설포늄염, 방향족 요오드 알루미늄염, 방향족 설포늄 알루미늄염, 메탈로센 화합물 및 철 어레인계 화합물을 들 수 있다. 바람직하게는 방향족 설포늄염을 사용할 수 있는데, 이의 구체적인 예로는 방향족 설포늄 헥사플루오로 포스페이트화합물, 방향족 설포늄 헥사플루오로 안티모네이트 화합물 등을 들 수 있다.The photoinitiator is not particularly limited as long as it can cure the epoxy resin by light. Specific examples of the photoinitiator include aromatic diazonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic iodo aluminum salts, aromatic sulfonium aluminum salts, metallocene compounds and iron arylene-based compounds. Preferably, an aromatic sulfonium salt can be used, and specific examples thereof include an aromatic sulfonium hexafluorophosphate compound and an aromatic sulfonium hexafluoroantimonate compound.
상기 커플링제는 실란계 또는 티탄계 커플링제, 실리콘 화합물을 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 바람직하게는, 한 분자 내에 알콕시실란과 디글리시딜에테르를 함유하고 있는 실란 커플링제가 좋다.As the coupling agent, a silane-based coupling agent or a titanium-based coupling agent or a silicone compound may be used alone or in combination. Preferably, a silane coupling agent containing alkoxysilane and diglycidyl ether in one molecule is preferable.
상기 스페이서로는 경화 후 패널의 두께를 일정하게 유지시켜줄 수 있는 것이라면 특별히 한정되지 않으며, 패널의 두께를 약 5 내지 50 um, 바람직하게는 약 5 내지 25 um로 유지할 수 있는 것이 좋다. 스페이서의 모양은 구형, 통나무형 등이 있으며, 스페이서의 모양 역시 패널의 두께를 일정하게 유지시킬 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않는다.The spacer is not particularly limited as long as it can keep the thickness of the panel after curing at a constant level, and it is preferable that the thickness of the panel can be maintained at about 5 to 50 μm, preferably about 5 to 25 μm. The shape of the spacer is spherical, log-shaped, etc., and the shape of the spacer is not particularly limited as long as the thickness of the panel can be kept constant.
상기 광산발생제로는 노광에 의해 루이스산 또는 브론스테드산을 생성시킬 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않으며, 유기술폰산 등의 황화염계 화합물, 오니움염 등의 오니움계 화합물을 사용할 수 있다. 바람직하게는, 프탈이미도트리플루오로메탄술포네이트, 디니트로벤질토실레이트, n-데실디술폰, 나프틸이미도트리플루오로메탄술포네이트, 디페닐요도염, 헥사플루오로포스페이트, 디페닐요도염, 헥사플루오로아르세네이트, 디페닐요도염, 헥사플루오로안티모네이트, 디페닐파라메톡시페닐설포늄 트리플레이트,디페닐파라톨루에닐설포늄 트리플레이트, 디페닐파라이소부틸페닐설포늄 트리플레이트, 트리페닐설포늄 헥사플루오로 아르세네이트, 트리페닐설포늄 헥사플루오로 안티모네이트, 트리페닐설포늄 트리플레이트, 디부틸나프틸설포늄 트리플레이트 및 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.The photoacid generator is not particularly limited as long as it can produce Lewis acid or Bronsted acid by exposure, and onium compounds such as an organic sulfonic acid and a sulfur flame compound and an onium salt can be used. Preferably, it is preferably at least one selected from phthalimidotrifluoromethane sulfonate, dinitrobenzyltosylate, n-decyldisulfone, naphthylimidotrifluoromethane sulfonate, diphenyl iodide salt, hexafluorophosphate, diphenyl iodide salt, But are not limited to, triphenylphosphine, triphenylphosphine, triphenylphosphine, triphenylphosphine, triphenylphosphine, triphenylphosphine, triphenylphosphine, triphenylphosphine, triphenylphosphine, Triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium triflate, dibutylnaphthylsulfonium triflate, and mixtures thereof can be used as the catalyst.
상기 라디칼 개시제는 광산발생제와 함께 사용될 수 있는 것으로서, 상기 경화형 수지 조성물에 사용되는 라디칼 중합 개시제는 UV 광선과 같은 전자기 에너지선에 의해 분해됨으로써 라디칼을 생성하는 라디칼 광중합 개시제이거나, 또는 열에 의해 분해되어 라디칼을 생성하는 열 분해성 라디칼 중합개시제일 수 있다. 라디칼 광중합 개시제로는, 2-하이드록시-2-메틸프로피오페논 및 1-하이드록시시클로헥실 페닐 케톤과 같은 아세토페논 유도체; 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀 옥사이드와 같은 아실포스핀 옥사이드 유도체; 및 벤조인 메틸 에테르 및 벤조인 에틸 에테르와 같은 벤조인 에테르 유도체 등의 타입 I 알파 절단 개시제(alpha cleavage initiator)가 포함된다. 상업적으로 입수가능한 라디칼 광개시제로서 대표적인 것은 Ciba Speciality Chemical 제품인 IRGACURE 651, IRGACURE 184, IRGACURE 907, DAROCUR 1173 및 IRGACURE 819를 예로 들 수 있다. 타입 II 광개시제를 사용할 수도 있으며, 벤조페논, 이소프로필티오크산톤, 및 안트로퀴논과같은 화합물을 예로 들 수 있다. 이러한 기본 화합물의 여러 가지 치환 유도체를 사용할 수도 있다. 열적으로 분해가능한 라디칼 중합 개시제로는, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸-헥사노에이트, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)시클로헥산, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)시클로-도데칸, 디-t-부틸퍼옥시이소프탈레이트, t-부틸퍼옥시벤조에이트, 디큐밀퍼옥사이드, t-부틸큐밀퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-디(t-부틸퍼옥시)헥산, 2,5-디메틸-2,5-디(t-부틸퍼옥시)-3-헥신 및 큐멘 하이드로퍼옥사이드와 같은 과산화물이 포함된다. 라디칼 중합 개시제의 양은 유효량이며, 예를 들면, 광경화성 수지 조성물 중 광경화성 수지 100 중량부 대비 약 0.01 내지 약 5 중량부 범위이다.The radical initiator may be used together with a photoacid generator. The radical polymerization initiator used in the curable resin composition may be a radical photopolymerization initiator that decomposes by electromagnetic energy rays such as UV light to generate radicals, And may be a thermally decomposing radical polymerization initiator that generates a radical. Examples of the radical photopolymerization initiator include acetophenone derivatives such as 2-hydroxy-2-methylpropiophenone and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone; Acylphosphine oxide derivatives such as bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide; And type I alpha cleavage initiators such as benzoin ether derivatives such as benzoin methyl ether and benzoin ethyl ether. Representative examples of commercially available radical photoinitiators are IRGACURE 651, IRGACURE 184, IRGACURE 907, DAROCUR 1173 and IRGACURE 819 from Ciba Specialty Chemical. Type II photoinitiators may also be used, such as benzophenone, isopropylthioxanthone, and anthroquinone. Various substituted derivatives of such basic compounds may also be used. Examples of thermally decomposable radical polymerization initiators include 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethyl-hexanoate, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 1,1 T-butylperoxy benzoate, dicumyl peroxide, t-butyl cumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2 (t-butylperoxy) , 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) -3-hexyne and cumene hydroperoxide. The amount of the radical polymerization initiator is an effective amount, for example, in the range of about 0.01 to about 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the photocurable resin in the photocurable resin composition.
제1 충진접착층(31), 흡습접착층(32) 및 제2 충진접착층(33) 제조용 조성물에 사용될 수 있는 용매는 메틸에틸케톤(MEK), 테트라히드로퓨란(THF), 톨루엔 등이며, 필름을 형성하기 위한 조액을 만들 수 있는 용매라면 특별히 제한하지 않고, 또한 우수한 도막 특성을 얻기 위하여 1종 또는 다종의 용매를 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the solvent that can be used in the composition for preparing the first and second filling and
상기 제1 충진접착층(31), 흡습접착층(32) 및 제2 충진접착층(33) 제조용 조성물을 각각을 기재 필름(111, 112)에 도포 후 건조하여 시트로 형성된 뒤 적층되어 접착층(30)으로 제조될 수 있고, 특별히 제조 방법이 한정되지 않으며 공지된 방법에 따라 다양하게 제조될 수 있다. 시트를 형성하여 특성을 구현할 수 있다면, 미경화된 상태의 겔, 고상으로 제조될 수 있고, 액상으로 제조되어 후처리될 수도 있다. 각각 제조된 흡습접착 시트 및 충진접착 시트를 적층하여 접착층을 형성하는 적층 방법은 공지된 방법에 따라 수행될 수 있고, 특정한 방법에 한정되지 않는다. 예를 들면, 롤투롤(roll to roll), 롤투글래스(roll to glass), 프레스(press) 합착 또는 다이어프램(diaphragm) 공정에 의해 흡습접착 시트, 충진접착 시트 및 흡습접착 시트를 차례로 적층하여 접착층(30)을 제조하여 각 시트가 흡습접착층 또는 충진접착층을 형성하도록 할 수 있다. The compositions for preparing the first and second
도 2는 또 다른 구현예에 따라 접착층(130)을 형성하는 방법을 나타낸 모식도이다. 먼저, 기재 필름(111)에 흡습 물질을 포함하는 흡습접착층 형성용 조성물을 도포하여 흡습접착 시트를 형성한다. 한편으로 다른 기재 필름(112)에 충진 물질을 포함하는 충진접착층 형성용 조성물을 도포하여 충진접착 시트를 형성한다. 상기와 같이 제조된 흡습접착 시트 및 충진접착 시트를 적층한다. 적층된 흡습접착 시트 및 충진접착 시트를 롤투롤(roll to roll), 롤투글래스(roll to glass), 프레스(press) 합착 또는 다이어프램(diaphragm) 공정에 의해 합지하여 접착층(130)을 제조한다.2 is a schematic view showing a method of forming the
이와 같이, 하나의 일체형 시트로서 접착층(130)을 사용함으로써 공정상의 이점과 구조적인 이점을 얻을 수 있다.Thus, by using the
도 3은 도 2에서와 같이 제조된 접착층(130)을 사용하여 유기 발광 표시 장치(200)를 제조한 단면도이다.3 is a cross-sectional view of the organic light emitting
도 3의 유기 발광 표시 장치(200)는 기판(110) 상에 구동 회로부(DC) 및 유기 발광 소자(120)가 형성된다. 구동 회로부(DC)는 유기 발광 소자(120)를 구동한다. 유기 발광 소자(120) 및 구동 회로부(DC)는 도 3에 도시된 구조에 한정되지 않으며, 유기 발광 소자(120)가 빛을 방출하여 화상을 표시하는 방향에 따라 해당 기술 분야의 전문가가 용이하게 변형 실시할 수 있는 범위 내에서 다양한 구조로 형성될 수 있다. 예를 들면, 접착층(130)을 TFT 기판에 형성하여 제작할 수 있다. 이와 같이 유기 발광 소자(120)가 형성된 기판(110)과 봉지기판(140)을 상기 도 2에서와 같이 제조된 접착층(130)을 이용하여 합착시킨다. 합착 방법은 공지된 방법에 따라 수행할 수 있고 특정 방법에 제한되지 않으며, 구체적인 예를 들면, 라미네이션 공정, 프레스 공정 또는 다이아프램(diaphragm) 공정 등을 이용할 수 있다.3, a driving circuit unit DC and an organic light emitting diode 120 are formed on a
본 발명의 또 다른 구현예에서 기판 상에 유기 발광 소자를 형성하는 단계; 제1 충진접착층, 충진접착층 및 제2 충진접착층을 순차적으로 적층하여 접착층을 형성하는 단계: 및 상기 유기 발광 소자가 형성된 기판과 봉지기판 사이에 상기 접착층을 개재하여 합착시키는 단계를 포함하는 유기 발광 표시 장치 제조 방법을 제공한다. According to another embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a light emitting device, comprising: forming an organic light emitting device on a substrate; Forming an adhesive layer by sequentially laminating a first filling adhesive layer, a filling adhesive layer, and a second filling adhesive layer on the substrate; and attaching the bonding layer between the substrate on which the organic light emitting device is formed and the sealing substrate through the adhesive layer A device manufacturing method is provided.
이하 실시예를 통해서 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 다만 하기의 실시예는 단지 설명의 목적을 위한 것이며 본 발명의 범위를 제한하는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The following examples are for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of the invention.
실시예Example
실시예Example 1 One
에폭시수지 EXA-835LV(대일본잉크사) 30중량부, 페녹시수지 에피코트-1256(제팬에폭시사) 45중량부, 열경화제 C11Z-CNS(시코쿠사) 5중량부, CaO(UBE사)(입경: 약 1 내지 2um) 20중량부, 유기용매 MEK 100중량부를 혼합하여 흡습접착층용 조성물 제조한 뒤 PET의 기재 필름 상에 20um로 도포하여 흡습접착 시트를 제조하였다.30 parts by weight of an epoxy resin EXA-835LV (Daikin ink), 45 parts by weight of a phenoxy resin Epikote-1256 (Japan Epoxy Co.), 5 parts by weight of a thermosetting agent C11Z-CNS (Shikoku),
다른 한편, 에폭시수지 EXA-835LV(대일본잉크사) 30중량부, 페녹시수지 에피코트-1256(제팬에폭시사) 45중량부, 열경화제 C11Z-CNS(시코쿠사) 5중량부, Talc D-1000(Nippon talc사)(입경: 약 1 내지 2um) 15중량부, 실란커플링제 KBM-403(신에츠사), 유기용매 MEK 100중량부를 혼합하여 충진접착층용 조성물 제조한 뒤 PET의 기재 필름 상에 20um로 도포하여 충진접착 시트를 제조하였다.On the other hand, 30 parts by weight of an epoxy resin EXA-835LV (Daikin ink), 45 parts by weight of phenoxy resin Epikote-1256 (Japan Epoxy Co.), 5 parts by weight of a thermosetting agent C11Z-CNS (Shikoku) 15 parts by weight of a polyvinyl alcohol (manufactured by Nippon talc) (particle diameter: about 1 to 2 μm), 15 parts by weight of silane coupling agent KBM-403 (Shin-Etsu) and 100 parts by weight of organic solvent MEK were mixed to prepare a composition for a filling adhesive layer, To prepare a filled adhesive sheet.
상기 각각 PET 기재 필름 상에 형성된 흡습접착 시트 및 충진접착 시트를 적층하여 라미네이팅 공정으로 합지하고 이후 충진접착 시트 쪽의 PET 기재 필름을 제거한다. PET 기재 필름이 제거되어 노출된 충진접착 시트면에 PET 기재 필름 상에 형성된 흡습접착 시트를 다시 적층하고 라미네이팅 공정으로 합지하여 흡습접착층-충진접착층-흡습접착층의 3층으로 적층된 접착층을 형성하고 PET 기재 필름을 제거한다.A hygroscopic adhesive sheet and a filled adhesive sheet formed on the respective PET base films are laminated and laminated by a laminating process, and then the PET base film on the side of the filled adhesive sheet is removed. The PET base film was removed and the moisture-absorbing adhesive sheet formed on the PET base film was laminated again on the exposed surface of the filled adhesive sheet and laminated by a laminating process to form an adhesive layer laminated in three layers of the moisture-absorbing adhesive layer-filled adhesive layer- The base film is removed.
다른 한편으로, 유기 발광 소자를 글래스 기판 위에 형성하고, 유기 발광 소자를 커버하도록 상기 제조된 접착층을 글래스의 봉지 기판 사이에 개재하여 다이어프램으로 60Kpa의 압력으로 합착하여 유기 발광 표시 장치를 제작하였다.On the other hand, the organic light emitting device was formed on a glass substrate, and the prepared adhesive layer was interposed between the sealing substrates of the glass so as to cover the organic light emitting device, and was adhered with a diaphragm at a pressure of 60 Kpa.
실시예Example 2 2
실시예 1에서 CaO 를 25중량부로 적용한 것과 Talc를 20중량부를 사용한 것 것을 제외하고 동일한 방법에 따라 유기 발광 표시 장치를 제작하였다.An organic light emitting display was manufactured in the same manner as in Example 1, except that 25 parts by weight of CaO and 20 parts by weight of Talc were used.
실시예Example 3 3
실시예 1에서 CaO 를 30중량부로 적용한 것과 Talc를 25중량부를 사용한 것 것을 제외하고 동일한 방법에 따라 유기 발광 표시 장치를 제작하였다An organic light emitting display was manufactured in the same manner as in Example 1 except that 30 parts by weight of CaO was used and 25 parts by weight of Talc was used
비교예Comparative Example 1 One
실시예 1에서 흡습접착층을 제외하고 충진접착층으로만 된 접착층을 동일한 두께로 제작하여 유기 발광 표시 장치를 제작하였다.In Example 1, except for the hygroscopic adhesive layer, an adhesive layer made of a filler adhesive layer was formed to have the same thickness to fabricate an organic light emitting display device.
실험예Experimental Example 1: 수명테스트 1: Life test
실시예 1 내지 3 및 비교예 1에서 제작된 유기 발광 표시 장치를 85℃ 85%RH(상대 습도) 챔버(TH-TG_제이오텍) 에 넣고 시간에 따라 발광부를 관찰하여 암점 발생까지 시간을 측정하여 하기 표 1에 기재하였다.The organic light emitting display manufactured in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 was placed in a chamber (TH-TG_Jiotech) at 85 ° C and 85% RH (relative humidity) Are shown in Table 1 below.
실험예Experimental Example 2: 수분 투과도 2: Water permeability
실시예 1 내지 3 및 비교예 1에서 제작된 필름 형태의 접착층에 대하여 수분투과도(WVTR: Water vapot transmission rate)를 측정하였다(측정기기: mocon사 permatran3/33ma).The water vapor transmission rate (WVTR: Water vapot transmission rate) of the film-shaped adhesive layer prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 was measured (measuring instrument: permon 3/33 ma from mocon).
실험예Experimental Example 3: 접착 강도 3: Adhesive strength
실시예 1 내지 3 및 비교예 1에서 제작된 접착층에 대하여, 십자 형태로 2장의 시편을 적층하여 접착한 뒤 양 시편을 탈착시키기 위한 강도를 UTM(인스트론 사 model-5900)를 사용하여 측정함으로써 접착 강도를 측정하였다.Two sheets of the test pieces were laminated and bonded to each other in the cross-section of the adhesive layer prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1, and the strength for desorbing the two test pieces was measured using a UTM (Instron Model-5900) The adhesive strength was measured.
(g/m2)WVTR
(g / m 2 )
(kgf/cm2)Adhesive strength
(kgf / cm 2 )
(시간)Dark spot time
(time)
본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 바람직한 실시예를 통해 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.While the invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes and modifications may be made therein without departing from the spirit and scope of the following claims. Those who are engaged in the technology field will understand easily.
10: 기판 20: 유기 발광 소자
30: 접착층 31: 제1 충진접착층
32: 흡습접착층 33: 제2 충진접착층
40: 봉지기판 100: 유기 발광 표시 장치
110: 기판 111: 기재 필름
112: 기재 필름 120: 유기 발광 소자
131: 충진접착층 132: 흡습접착층
140: 봉지기판 200: 유기 발광 표시 장치10: substrate 20: organic light emitting element
30: adhesive layer 31: first filling adhesive layer
32: a hygroscopic adhesive layer 33: a second filled adhesive layer
40: sealing substrate 100: organic light emitting display
110: substrate 111: substrate film
112: base film 120: organic light emitting element
131: Filling adhesive layer 132:
140: sealing substrate 200: organic light emitting display
Claims (14)
상기 기판 상에 형성된 유기 발광 소자;
상기 유기 발광 소자 상에 형성된 봉지기판; 및
상기 기판 상에 형성되어 상기 유기 발광 소자를 커버하고 상기 유기 발광 소자가 형성된 기판을 상기 봉지기판과 합착시키는 접착층
을 포함하고,
상기 접착층은 적어도 하나의 충진접착층 및 적어도 하나의 흡습접착층을 포함하고,
상기 접착층은 열경화형 수지 또는 광경화형 수지를 포함하고,
상기 흡습접착층은
열경화형 수지 또는 광경화형 수지 100 중량부; 및
흡습 물질 5 내지 50 중량부를 포함하는
유기 발광 표시 장치.Board;
An organic light emitting device formed on the substrate;
An encapsulation substrate formed on the organic light emitting device; And
An adhesive layer formed on the substrate and covering the organic light emitting device and bonding the substrate on which the organic light emitting device is formed to the sealing substrate;
/ RTI >
Wherein the adhesive layer comprises at least one filler-adhesive layer and at least one hygroscopic adhesive layer,
Wherein the adhesive layer comprises a thermosetting resin or a photocurable resin,
The moisture-
100 parts by weight of a thermosetting resin or a photocurable resin; And
5 to 50 parts by weight of a hygroscopic material
Organic light emitting display.
상기 흡습 물질은 실리카겔(silica gel: SiO2·H2O), 알루미노-실리케이트 비즈(alumino-silicate beads), 몬트모릴로나이트(montmorillonite), 분자체(molecular sieve)로서의 제올라이트(zeolite: Na12AlO3SiO2·12H2O), 활성 탄소(activated carbon), 알칼리 금속 산화물, 알칼리토류 금속 산화물, 금속 황산염, 금속 할로겐화물 및 금속 과염소산염으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나인 유기 발광 표시 장치.The method according to claim 1,
The moisture-absorbing material is a silica gel (silica gel: SiO 2 · H 2 O), alumino-silicate beads the zeolite (zeolite as the (alumino-silicate beads), montmorillonite (montmorillonite), molecular sieves (molecular sieve): Na 12 At least one selected from the group consisting of AlO 3 SiO 2 .12H 2 O, activated carbon, alkali metal oxides, alkaline earth metal oxides, metal sulfates, metal halides and metal perchlorates.
상기 충진접착층은, 각각 독립적으로, 활석(talc), 실리카, 산화마그네슘, 마이카(mica), 몬모릴로나이트, 알루미나, 그라파이트, 베릴리라(beryllium oxide), 질화알루미늄, 탄화규소, 멀라이트(mullite) 및 실리콘으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 충진 물질을 포함하는 유기 발광 표시 장치.The method according to claim 1,
The filling adhesive layer may be formed of a material selected from the group consisting of talc, silica, magnesium oxide, mica, montmorillonite, alumina, graphite, beryllium oxide, aluminum nitride, silicon carbide, mullite, And at least one filling material selected from the group consisting of:
상기 흡습 물질의 입경이 10nm 내지 20um인 유기 발광 표시 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the moisture-absorbing material has a particle diameter of 10 nm to 20 mu m.
상기 흡습 물질은 메조포러스형, 판상형, 구형, 로드(rod)형, 파이버(fiber)형 또는 코어쉘(core-shell) 타입형인 유기 발광 표시 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the moisture absorbing material is a mesoporous, plate-like, spherical, rod, fiber, or core-shell type.
상기 충진 물질의 입경이 10nm 내지 20um인 유기 발광 표시 장치.The method of claim 3,
Wherein the filling material has a particle diameter of 10 nm to 20 mu m.
상기 충진 물질은 메조포러스형, 판상형, 구형, 로드(rod)형, 파이버(fiber)형 또는 코어쉘(core-shell) 타입형인 유기 발광 표시 장치.The method of claim 3,
Wherein the filling material is a mesoporous type, a plate type, a spherical type, a rod type, a fiber type, or a core-shell type.
상기 충진접착층 및 상기 흡습접착층은 모두 동종의 열경화형 수지 또는 광경화형 수지를 포함하여 접착층이 층간 계면을 형성하지 않는 하나의 시트로서 형성된 유기 발광 표시 장치.The method according to claim 1,
Wherein the filling adhesive layer and the hygroscopic adhesive layer all comprise the same type of thermosetting resin or photo-curable resin, and the adhesive layer is formed as a single sheet which does not form an interlayer interface.
상기 충진접착층은,
열경화형 수지 또는 광경화형 수지 100 중량부; 및
충진 물질 5 내지 50 중량부
를 포함하는 유기 발광 표시 장치.The method according to claim 1,
The filler-
100 parts by weight of a thermosetting resin or a photocurable resin; And
5 to 50 parts by weight of a filler
And an organic light emitting diode (OLED).
상기 접착층의 두께는 5um내지 30um인 유기 발광 표시 장치.The method according to claim 1,
Wherein the thickness of the adhesive layer is 5 mu m to 30 mu m.
상기 충진접착층은 제1 충진접착층 및 제2 충진접착층을 포함하고, 상기 흡습접착층은 상기 제1 충진접착층과 상기 제2 충진접착층 사이에 위치하며,
상기 접착층에서, 제1 충진접착층, 흡습접착층 및 제2 충진접착층의 두께비가 0.1 내지 1.2 : 0.1 내지 1.2 : 0.1 내지 1.2인 유기 발광 표시 장치.The method according to claim 1,
Wherein the filling adhesive layer comprises a first filling adhesive layer and a second filling adhesive layer, the hygroscopic adhesive layer being located between the first filling adhesive layer and the second filling adhesive layer,
Wherein the thickness ratio of the first filling adhesive layer, the moisture absorbing adhesive layer and the second filling adhesive layer in the adhesive layer is 0.1 to 1.2: 0.1 to 1.2: 0.1 to 1.2.
적어도 하나의 충진접착층 및 적어도 하나의 흡습접착층을 적층하여 접착층을 형성하는 단계: 및
상기 유기 발광 소자가 형성된 기판과 봉지기판 사이에 상기 접착층을 개재하여 합착시키는 단계
를 포함하고,
상기 접착층은 열경화형 수지 또는 광경화형 수지를 포함하고,
상기 흡습접착층은
열경화형 수지 또는 광경화형 수지 100 중량부; 및
흡습 물질 5 내지 50 중량부를 포함하는
유기 발광 표시 장치 제조 방법.Forming an organic light emitting element on a substrate;
Laminating at least one filler adhesion layer and at least one hygroscopic adhesive layer to form an adhesive layer; and
A step of bonding the substrate on which the organic light emitting diode is formed and the sealing substrate through the adhesive layer
Lt; / RTI >
Wherein the adhesive layer comprises a thermosetting resin or a photocurable resin,
The moisture-
100 parts by weight of a thermosetting resin or a photocurable resin; And
5 to 50 parts by weight of a hygroscopic material
A method of manufacturing an organic light emitting display device.
롤투롤(roll to roll), 롤투글래스(roll to glass), 프레스(press) 합착 또는 다이어프램(diaphragm) 공정에 의해 적어도 하나의 충진접착층 및 적어도 하나의 흡습접착층을 적층된 접착층을 형성하는 단계를 포함하는 유기 발광 표시 장치 제조 방법.13. The method of claim 12,
Forming at least one adhesive layer and at least one hygroscopic adhesive layer by a roll to roll, a roll to glass, a press bonding or a diaphragm process to form an adhesive layer Wherein the organic light emitting display device has a light emitting layer.
상기 봉지기판 상에 상기 접착층을 형성한 뒤, 라미네이션 공정, 프레스 공정 또는 다이아프램(diaphragm) 공정에 의해 상기 유기 발광 소자가 형성된 기판과 합착시키는 단계를 수행하는 유기 발광 표시 장치 제조 방법.13. The method of claim 12,
Wherein the adhesive layer is formed on the encapsulation substrate, and then the encapsulation process is performed by a lamination process, a pressing process, or a diaphragm process.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020170174381A KR101867013B1 (en) | 2017-12-18 | 2017-12-18 | Organic light emitting diode display and method for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020170174381A KR101867013B1 (en) | 2017-12-18 | 2017-12-18 | Organic light emitting diode display and method for manufacturing the same |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020110056284A Division KR101846434B1 (en) | 2011-06-10 | 2011-06-10 | Organic light emitting diode display |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020180064990A Division KR101947164B1 (en) | 2018-06-05 | 2018-06-05 | Organic light emitting diode display and method for manufacturing the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20170143480A KR20170143480A (en) | 2017-12-29 |
KR101867013B1 true KR101867013B1 (en) | 2018-06-14 |
Family
ID=60939356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020170174381A KR101867013B1 (en) | 2017-12-18 | 2017-12-18 | Organic light emitting diode display and method for manufacturing the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101867013B1 (en) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20040081163A (en) * | 2002-01-31 | 2004-09-20 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | Encapsulation of organic electronic devices using adsorbent loaded adhesives |
KR20060104377A (en) * | 2005-03-30 | 2006-10-09 | 삼성에스디아이 주식회사 | Organic light-emitting display and manufacturing method thereof |
KR100873704B1 (en) * | 2007-06-13 | 2008-12-12 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | Organic light emitting display device and fabrication method for the same |
-
2017
- 2017-12-18 KR KR1020170174381A patent/KR101867013B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20040081163A (en) * | 2002-01-31 | 2004-09-20 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | Encapsulation of organic electronic devices using adsorbent loaded adhesives |
KR20060104377A (en) * | 2005-03-30 | 2006-10-09 | 삼성에스디아이 주식회사 | Organic light-emitting display and manufacturing method thereof |
KR100873704B1 (en) * | 2007-06-13 | 2008-12-12 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | Organic light emitting display device and fabrication method for the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20170143480A (en) | 2017-12-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101846434B1 (en) | Organic light emitting diode display | |
KR101885821B1 (en) | Organic light emitting diode display and manufacturing method thereof | |
KR101883389B1 (en) | Organic light emitting diode display | |
KR102244289B1 (en) | Adhesive Film | |
JP5288150B2 (en) | Thermosetting composition for sealing organic EL elements | |
US9257673B2 (en) | Organic light emitting diode display | |
JP4816863B2 (en) | Thermosetting composition for sealing organic EL elements | |
KR102042241B1 (en) | Organic light emitting diode display and method for manufacturing the same | |
KR101947164B1 (en) | Organic light emitting diode display and method for manufacturing the same | |
KR102338360B1 (en) | Organic light emitting diode display | |
KR102189312B1 (en) | Organic light emitting diode display and method for manufacturing the same | |
KR101867013B1 (en) | Organic light emitting diode display and method for manufacturing the same | |
KR102495985B1 (en) | Organic light emitting diode display |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A107 | Divisional application of patent | ||
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
A107 | Divisional application of patent | ||
GRNT | Written decision to grant |