KR101862200B1 - Electrochromic glass system, smart windows glass system using the electrochromic glass system and production method of smart windows glass system - Google Patents

Electrochromic glass system, smart windows glass system using the electrochromic glass system and production method of smart windows glass system Download PDF

Info

Publication number
KR101862200B1
KR101862200B1 KR1020160114571A KR20160114571A KR101862200B1 KR 101862200 B1 KR101862200 B1 KR 101862200B1 KR 1020160114571 A KR1020160114571 A KR 1020160114571A KR 20160114571 A KR20160114571 A KR 20160114571A KR 101862200 B1 KR101862200 B1 KR 101862200B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
transparent conductive
layer
conductive film
electrochromic
glass system
Prior art date
Application number
KR1020160114571A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20180027718A (en
Inventor
박승일
Original Assignee
주식회사 석원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 석원 filed Critical 주식회사 석원
Priority to KR1020160114571A priority Critical patent/KR101862200B1/en
Publication of KR20180027718A publication Critical patent/KR20180027718A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101862200B1 publication Critical patent/KR101862200B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/153—Constructional details
    • G02F1/155—Electrodes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/1514—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
    • G02F1/1523—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/1514—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
    • G02F1/1523—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
    • G02F1/1524—Transition metal compounds
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/153—Constructional details
    • G02F1/155—Electrodes
    • G02F2001/1552—Inner electrode, e.g. the electrochromic layer being sandwiched between the inner electrode and the support substrate---- this group, now to be changed, should already been created by implementation of a previous DOC14 ----

Abstract

본 발명은 특히 전류 인가에 따라 변색이 발생되는 변색층을 가지는 전기변색 기판 시스템에 관한 것으로서, 두 개의 대향되는 투명전도성 막과; 상기 두 개의 투명전도성 막의 서로 대향되는 면에 각각 형성되는 변색층과; 상기 변색층 사이에 충진되는 고체 전해질 층;으로 구성되는 전기변색 기판 시스템에 있어서, 상기 투명전도성 막은 Ag 성분을 포함하는 것을 특징으로 함으로써, 고온의 열로 열처리 하지 않더라도 투명전도성 막이 안정되고, 또한 고온의 열처리 없이도 투명전도성 막이 10옴 대의 낮은 저항 특성을 가질 수 있으면서, 전기변색 제어가 용이하여 가시광선 투과성을 높일 수 있는 효과가 있는 전기변색 기판 시스템을 제공하고자 한다.In particular, the present invention relates to an electrochromic substrate system having a discolored layer in which discoloration is caused by application of an electric current, comprising: two opposing transparent conductive films; A color shift layer respectively formed on mutually facing surfaces of the two transparent conductive films; And a solid electrolyte layer filled between the color-changing layers, wherein the transparent conductive film includes an Ag component, whereby the transparent conductive film is stable without heat treatment at a high temperature, and the transparent conductive film is stable at a high temperature An object of the present invention is to provide an electrochromic substrate system having a transparent conductive film having a low resistance property of 10 ohm band without heat treatment and having an effect of facilitating the control of electric discoloration and thereby increasing visible light transmittance.

Description

전기변색 기판 시스템, 전기변색 기판 시스템이 이용되는 스마트 윈도우 기판 시스템 및 스마트 윈도우 기판 시스템의 제작 방법{Electrochromic glass system, smart windows glass system using the electrochromic glass system and production method of smart windows glass system}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a smart window substrate system and an electrochromic glass substrate system using the electrochromic substrate system,

본 발명은 전기변색 기판 시스템, 전기변색 기판 시스템이 이용되는 스마트 윈도우 기판 시스템 및 스마트 윈도우 기판 시스템의 제작 방법에 관한 것으로, 특히 전류 인가에 따라 변색이 발생되는 변색층을 가지는 전기변색 기판 시스템, 전기변색 기판 시스템이 이용되는 스마트 윈도우 기판 시스템 및 스마트 윈도우 기판 시스템의 제작 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an electrochromic substrate system, a smart window substrate system using the electrochromic substrate system, and a method of manufacturing a smart window substrate system. More particularly, the present invention relates to an electrochromic substrate system having a discolored layer, A smart window substrate system in which a discoloration substrate system is used, and a method of manufacturing a smart window substrate system.

전기변색(electrochromism)이란 전압을 인가하였을 때 전계방향에 의해 가역적으로 색이 변화하는 현상을 말한다. 전기변색의 재료로는 이러한 전기 화학적 산화, 환원 반응에 의해 재료의 광 특성이 가역적으로 변화할 수 있는 물질이 이용된다.Electrochromism is a phenomenon in which the color reversibly changes in the direction of the electric field when a voltage is applied. As a material of the electrochromic material, a material capable of reversibly changing the optical characteristics of the material by the electrochemical oxidation and reduction reaction is used.

전기변색의 이러한 특성은 적외선의 선택적 차단을 어느 정도 가능하게 해 준다는 점에서 건물의 창호, 차량 또는 비행기를 비롯한 각종 이동수단의 창문에 이용되며, 안경이나 렌즈와 같은 기타 유리가 이용되는 거의 대부분의 분야에 적용될 수 있다. 그리고 용도에 맞게 때로는 적외선을 차단시킴으로써 동절기에는 건물 내부 보온 작용이 가능하거나 하절기에는 적외선 유입 차단 작용이 가능하고, 안경이나 차량 창문의 경우 눈부심 방지 작용도 발휘될 수 있다. 또한 터치 패널이나 태양전지에도 적용된다.This characteristic of electrochromatography is used in windows of various transportation means including window, vehicle or airplane of a building in that it allows some selective blocking of infrared rays, and almost all of glass Field. By interrupting the infrared rays sometimes according to the purpose, it is possible to perform a warming action in the building during the winter season, an infrared ray blocking action in the summer season, and an anti-glare function in glasses or vehicle windows. It also applies to touch panels and solar cells.

이러한 전기변색이 이용되는 유리 기판 시스템은 전류 등을 인가하여야 변색이 발생되는 능동형과 전류와 같은 자극 없이도 변색이 발생되는 수동형이 있는데, 변색의 제어가 필요할 경우에 적절하게 이루어지기 위해서는 능동형이 주로 채택된다.In the glass substrate system using such an electrochromic coloration, there is an active type in which discoloration occurs when current is applied, and a passive type in which discoloration occurs without stimulation such as current. In order to appropriately perform the control when discoloration is required, do.

능동형 전기변색 기판 시스템은 일반적으로 도 1에 도시된 바와 같이 고체 전해질 층(1)을 중심으로 고체전해질 층(2)의 양 면에는 각각 산화 변색층(2)과 환원 변색층(3)이 배치되거나 또는 고체전해질 층의 한 면에는 양극으로 작용되는 환원 변색층이 배치되면 고체전해질의 타면에는 음극으로 작용되는 이온 저장층이 배치된다. 그리고 변색층 또는 이온 저장층의 외측에는 투명전도성 막(4)이 배치되고, 투명전도성 막(4)의 외측에는 유리 기판(5)이 배치된다. 이 경우 참고로 실제 제작 과정은 유리 기판을 제외하고는 도포 또는 증착 방식으로 형성되므로 위의 배치 설명 순서와 정반대 순서로 이루어질 수 있다.In the active type electrochromic substrate system, as shown in Fig. 1, the oxidative discoloration layer 2 and the reduced discoloration layer 3 are disposed on both sides of the solid electrolyte layer 2, centering on the solid electrolyte layer 1 Or when a reducing color changing layer serving as an anode is disposed on one side of the solid electrolyte layer, an ion storage layer serving as a cathode is disposed on the other side of the solid electrolyte. A transparent conductive film 4 is disposed on the outer side of the discoloration layer or the ion storage layer and a glass substrate 5 is disposed on the outer side of the transparent conductive film 4. In this case, since the actual fabrication process is formed by coating or vapor deposition except for the glass substrate, the fabrication process can be performed in the order opposite to the above description of the arrangement.

이때 변색으로 인한 빛의 차단은 도 2에 도시된 바와 같은 구조로 이루어진다. 도 2에서 양 쪽의 투명전도성 막(4)을 각각 두 개의 전극으로 하여 전류가 인가되면 음극과 인접되는 이온 저장층(6)에서 이온이 전해질층(1)을 향하여 배출되고 전해질 층(1)에 있는 리튬 또는 수소와 같은 이온과, 이온 저장층(6)에서 배출되는 전자가 환원 변색층(3)으로 이동되어 환원 변색층(3) 소재로 많이 이용되며 무색인 산화 텅스텐(WO3)을 환원시키게 되며, 환원되어 MxWO3로 변한 텅스텐은 푸른색을 띠게 된다. 이로써 투명전도성 막(4)을 통과하는 빛 중에서 적외선과 가시광선의 일부가 차단되어 가시광선의 나머지 일부만이 전체 전기변색 기판 시스템을 통과하게 되는 것이다. 이 과정은 전해질 층(1)으로 인하여 가역적인 과정이므로 전류를 반대로 인가시킴으로써 텅스텐은 다시 산화텅스텐으로 되면서 색상은 무색으로 복귀된다.At this time, blocking of light due to discoloration is made as shown in FIG. In FIG. 2, when the two transparent conductive films 4 are formed as two electrodes, ions are discharged toward the electrolyte layer 1 in the ion storage layer 6 adjacent to the cathode when the current is applied, Ions such as lithium or hydrogen in the ion storage layer 6 and electrons emitted from the ion storage layer 6 are transferred to the reducing color shift layer 3 to form colorless tungsten oxide (WO 3 ) And tungsten, which is reduced to MxWO 3 , becomes blue. As a result, a part of the infrared rays and the visible light are cut off from the light passing through the transparent conductive film 4, so that only the remaining part of the visible light ray passes through the entire electrochromic substrate system. Since this process is reversible due to the electrolyte layer 1, the current is reversely applied so that tungsten becomes tungsten oxide again and the color is returned to colorless.

그런데 종래의 투명전도성 막을 이루는 투명전도성 산화물 물질인 ITO(In2O3에 SnO2가 10중량% 첨가) 또는 FTO는 전극을 형성하는 막의 두께가 150nm이상이고, 투명전도성 특성을 나타내기 위해서는 높은 열에 의한 결정화 처리가 진행되어야 하였고, 이러한 열처리가 있어야 실제 적용이 가능한 광투과 특성 및 10 오옴 대의 저항 특성을 가질 수 있다.However, ITO (10% by weight of SnO 2 added to In 2 O 3 ) or FTO, which is a transparent conductive oxide material forming a conventional transparent conductive film, has a thickness of 150 nm or more for forming an electrode. In order to exhibit a transparent conductive property, And it is required to have the heat treatment to have the light transmission characteristic and the resistance characteristic of 10 ohm band which can be practically applied.

그리고 이러한 ITO 또는 FTO로 이루어지는 투명전도성 산화물질(TCO, Transparent conducting oxide)이 적용되어 TCO/전기변색층/전해질층/전기변색층/TCO의 다층막이 고팅될 경우에 섭씨 150도 이상의 온도의 열을 받으면 결정화 및 변색 특성이 저하되는 결과가 초래된다. 또한 희토류 물질인 indium의 자원 부존량 제한에 따른 가격 상승과 수급 불균형으로 대체 물질이 요구된다.When a multi-layered film of TCO / electrochromic layer / electrolyte layer / electrochromic layer / TCO is applied by applying a transparent conductive oxide (TCO) such as ITO or FTO, heat at a temperature of 150 degrees Celsius or more The crystallization and discoloration characteristics are deteriorated. In addition, substitution materials are required due to price increase due to limitation of resource availability of indium, which is a rare earth material, and imbalance of supply and demand.

이와 관련된 종래기술을 살펴보면, 공개특허공보 제10-2014-0063741호(공개일자: 2014. 05. 27)에 개시된 나노구조화된 투명 도전성 옥사이드 전기변색 소자를 들 수 있다. A related art related to the related art is a nanostructured transparent conductive oxide electrochromic device disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-2014-0063741 (published on Apr. 201, 05. 27).

상기 종래기술은 기판, 및 기판에 의해 지지되는 막을 포함하며, 여기서 막은 투명 도전성 옥사이드(TCO) 나노구조물들로 이루어지고, 상기 전기변색 소자는 (a) 나노구조물들이 그 안에 엠베딩되어 기판 위에 정위된 전해질 나노구조물 혼합물을 생성시키는 전해질, 및 (b) 혼합물 위에 정위된 상대 전극을 추가로 포함하며, 또는 전기변색 소자가 기판과 혼합물 사이에서 기판 상에 침적된 도전성 코팅이거나 혼합물 위에 정위된 제 2 기판으로 이루어지는 전기변색 소자에 관한 것이다.The prior art comprises a substrate, and a film supported by the substrate, wherein the film comprises transparent conductive oxide (TCO) nanostructures, wherein the electrochromic device comprises (a) nanostructures embedded therein, (B) a counter electrode that is positioned on the mixture, or wherein the electrochromic device is a conductive coating deposited on the substrate between the substrate and the mixture, or a second electrode And an electrochromic device comprising the substrate.

상기 종래기술은 광 차단 조절 특성은 용이한 효과가 있으나, 투명전도성 막의 안정화를 위한 열처리 온도로 인한 구성 소재의 특성 저하 현상에 대해서는 해결 수단이 없는 한계가 있다.The above-mentioned prior art has an easy effect of controlling the light blocking property, but there is a limit to solve the characteristic of the constituent material due to the heat treatment temperature for stabilizing the transparent conductive film.

따라서 고온의 열로 열처리 하지 않더라도 투명전도성 막이 안정되고, 또한 고온의 열처리 없이도 10옴 대의 낮은 저항 특성을 가질 수 있으면서, 전기변색 제어가 용이하여 가시광선 투과성을 높일 수 있는 투명전도성 막을 가지는 전기변색 기판 시스템에 관한 기술이 요청되는 실정이다.Therefore, it is an object of the present invention to provide an electrochromic substrate system having a transparent conductive film which can stabilize a transparent conductive film without heat treatment at a high temperature and can have a low resistance property of 10 ohm band even without heat treatment at a high temperature, Is required.

공개특허공보 제10-2014-0063741호(공개일자: 2014. 05. 27)Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-2014-0063741 (Publication date: 2014. 05. 27)

이에 본 발명은 종래기술의 문제점을 개선하기 위한 것으로써, 고온의 열로 열처리 하지 않더라도 투명전도성 막이 안정되고, 또한 고온의 열처리 없이도 10옴 대의 낮은 저항 특성을 가질 수 있으면서, 전기변색 제어가 용이하여 가시광선 투과성을 높일 수 있는 투명전도성 막을 가지는 전기변색 기판 시스템과 이를 이용한 스마트 윈도우 기판 시스템 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다.Accordingly, the present invention has been made to solve the problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a transparent conductive film which is stable without heat treatment at a high temperature and has a low resistance property of 10 ohm band even without heat treatment at a high temperature, An electrochromic substrate system having a transparent conductive film capable of enhancing light transmittance, a smart window substrate system using the electrochromic substrate system, and a method of manufacturing the same.

이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 전기변색 기판 시스템은 두 개의 대향되는 투명전도성 막과; 상기 두 개의 투명전도성 막의 서로 대향되는 면에 각각 형성되는 변색층과; 상기 변색층 사이에 충진되는 고체 전해질 층;으로 구성되는 전기변색 기판 시스템에 있어서, 상기 투명전도성 막은 Ag 성분을 포함하는 것을 특징으로 한다.To achieve these and other advantages and in accordance with the purpose of the present invention, as embodied and broadly described herein, there is provided an electrochromic display substrate comprising: two opposed transparent conductive films; A color shift layer respectively formed on mutually facing surfaces of the two transparent conductive films; And a solid electrolyte layer filled between the color-changing layers, wherein the transparent conductive film comprises an Ag component.

여기서 바람직하게는 상기 투명전도성 막은 두 개의 투명전도층과, 두 개의 투명전도층 사이에 형성되는 Ag 박막으로 이루어진다.Preferably, the transparent conductive film is composed of two transparent conductive layers and an Ag thin film formed between the two transparent conductive layers.

또한 바람직하게는 상기 투명전도성 막의 두께는 100 nm 보다 작거나 같다.Preferably, the thickness of the transparent conductive film is less than or equal to 100 nm.

그리고 상기 투명전도층은 ITO(In2O3에 SnO2가 10중량% 첨가), 또는 GZO(Ga가 첨가된 ZnO), 또는 AZO(Al이 첨가된 ZnO) 중 어느 하나로 형성된다.The transparent conductive layer is formed of any one of ITO (10% by weight of SnO 2 added to In 2 O 3 ), GZO (ZnO doped with Ga), or AZO (ZnO doped with Al).

그리고 이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 스마트 윈도우 기판 시스템은 상기 특징으로 이루어지는 전기변색 기판 시스템을 포함하는 스마트 윈도우 기판 시스템에 있어서, 상기 투명전도성 막 중 적어도 어느 하나의 외측 면에 유리 창호가 부착되는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a smart window substrate system including an electrochromic substrate system having the features described above, wherein a glass window is attached to an outer surface of at least one of the transparent conductive films .

이때 바람직하게는 유리 창호와 투명전도성 막 사이에는 태양광을 투과시키거나 흡수시키는 반사 방지막이 배치된다.Preferably, an antireflection film for transmitting or absorbing sunlight is disposed between the glass window and the transparent conductive film.

그리고 이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 스마트 윈도우 기판 시스템 제작방법은 유리 창호를 제작하는 단계; 상기 유리 창호 표면에 투명전도성 막을 형성하는 단계; 상기 투명전도성 막 표면에 변색층을 형성하는 단계; 상기 투명전도성 막과 변색층이 차례로 형성된 유리창호를 두 개 준비하여 변색층이 서로 대향되게 배치하고, 대향되는 변색층 사이에 고체전해질을 충진하여 고체전해질 층을 형성하는 단계로 이루어지되, 상기 투명전도성 막을 형성하는 단계는 ITO(In2O3에 SnO2가 10중량% 첨가), 또는 GZO(Ga가 첨가된 ZnO), 또는 AZO(Al이 첨가된 ZnO) 중 어느 하나로 이루어지는 투명전도층을 형성하는 단계와, Ag 박막을 형성하는 단계가 반복되어 이루어진다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a smart window substrate system, including: fabricating a glass window; Forming a transparent conductive film on the glass window surface; Forming a color change layer on a surface of the transparent conductive film; Preparing two glass window arcs in which the transparent conductive film and the discoloration layer are formed in order and arranging the discoloration layers so as to face each other and filling the solid electrolyte between the opposed discoloration layers to form the solid electrolyte layer, The step of forming the conductive film may include forming a transparent conductive layer made of any one of ITO (10% by weight of SnO 2 added to In 2 O 3 ), GZO (ZnO with Ga), or AZO (ZnO with Al) And a step of forming an Ag thin film are repeatedly performed.

여기서 바람직하게는 상기 투명전도성 막을 형성하는 단계에서 Ag 박막을 형성하는 단계의 분위기 온도는 섭씨 100도 이하로 한다.Preferably, the atmospheric temperature in the step of forming the Ag thin film in the step of forming the transparent conductive film is not more than 100 degrees centigrade.

특히 바람직하게는 상기 고체전해질 막을 충진하는 단계 이후에 섭씨 150도 이하의 온도에서 상기 Ag 박막에 대하여 2차 열처리를 수행한다.Particularly preferably, after the step of filling the solid electrolyte membrane, the Ag thin film is subjected to a secondary heat treatment at a temperature of 150 DEG C or less.

본 발명에 따른 전기변색 기판 시스템, 전기변색 기판 시스템이 이용되는 스마트 윈도우 기판 시스템 및 스마트 윈도우 기판 시스템의 제작 방법에 따르면, 고온의 열로 열처리 하지 않더라도 투명전도성 막이 안정되고, 또한 고온의 열처리 없이도 투명전도성 막이 10옴 대의 낮은 저항 특성을 가질 수 있으면서, 전기변색 제어가 용이하여 가시광선 투과성을 높일 수 있는 효과가 있다.According to the electrochromic substrate system, the smart window substrate system using the electrochromic substrate system, and the method of manufacturing a smart window substrate system according to the present invention, the transparent conductive film can be stabilized without heat treatment at high temperature, The film can have a low resistance property of a 10-ohm band, and it is easy to control the electrochromic coloration, so that the visible light transmittance can be enhanced.

도 1과 도 2는 종래기술을 나타내는 정단면도와 광 차단 개념도,
도 3은 본 발명에 따른 기판 시스템을 나타내는 정단면도와 확대도,
도 4는 본 발명에 따른 스마트 윈도우 기판 시스템의 제작 방법의 블록도,
도 5는 본 발명에서 2차 열처리 이후 광투과성 향상을 나타내는 그래프,FIG. 1 and FIG. 2 are a front sectional view showing the prior art and a light blocking conceptual view,
3 is a front sectional view and an enlarged view showing a substrate system according to the present invention,
4 is a block diagram of a method of manufacturing a smart window substrate system in accordance with the present invention;
5 is a graph showing improvement in light transmittance after the second heat treatment in the present invention,

본 발명의 실시예에서 제시되는 특정한 구조 내지 기능적 설명들은 단지 본 발명의 개념에 따른 실시예를 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로, 본 발명의 개념에 따른 실시예들은 다양한 형태로 실시될 수 있다. 또한 본 명세서에 설명된 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 아니 되며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경물, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
The specific structure or functional description presented in the embodiment of the present invention is merely illustrative for the purpose of illustrating an embodiment according to the concept of the present invention, and embodiments according to the concept of the present invention can be implemented in various forms. And should not be construed as limited to the embodiments described herein, but should be understood to include all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 전기변색 기판 시스템은 도 3에 도시된 바와 같이 Ag를 포함하는 투명전도성 막(4)과, 환원 변색층(20) 및 산화 변색층(40)과, 고체 전해질 층(30)으로 이루어진다.3, the electrochromic substrate system according to the present invention comprises a transparent conductive film 4 containing Ag, a reduced color shift layer 20, an oxidative discoloration layer 40, and a solid electrolyte layer 30 .

여기서 투명전도성 막(4)은 투명전도성 산화물(TCO, Transparent conducting oxide)과, Ag로 이루어진다. 이때 바람직하게는 도 3의 확대도에 도시된 바와 같이 두 개의 투명전도층(11)과, 두 개의 투명전도층(11) 사이에 Ag 박막(12)이 배치되는 형태로 구성된다.Here, the transparent conductive film 4 is made of transparent conductive oxide (TCO) and Ag. 3, the Ag thin film 12 is preferably disposed between the two transparent conductive layers 11 and the two transparent conductive layers 11, as shown in the enlarged view of FIG.

투명전도층(11)은 투명전도성 산화물로 이루어지는데 여기서의 투명전도성 산화물은 ITO(In2O3에 SnO2가 10중량% 첨가), 또는 GZO(Ga가 첨가된 ZnO), 또는 AZO(Al이 첨가된 ZnO) 중 어느 하나인 것을 특징으로 한다.The transparent conductive layer 11 is made of a transparent conductive oxide. The transparent conductive oxide may be ITO (10% by weight of SnO 2 added to In 2 O 3 ), GZO (ZnO with Ga), or AZO Added ZnO).

투명전도층(11)을 이루는 TCO는 종래에는 ITO나 FTO 등의 산화물이 단독으로 사용되었으나 앞서 배경기술에서 설명한 바와 같이 투명전도성 특성을 나타내기 위해서는 높은 열에 의한 결정화 처리가 진행되어야 하였고, 이러한 열처리가 있어야 실제 적용이 가능한 광투과 특성 및 10 오옴 대의 저항 특성을 가질 수 있는 문제가 있다. 그리고 ITO는 전기전도성 및 가시광 영역의 투과성은 우수하지만 광학적 투명도에서는 AZO가 더 우수하며, GZO는 저비용으로 제작 가능하면서도 ITO 만큼의 높은 투과율과 전기 전도성을 가지므로 본 발명에서는 투명전도층을 이루는 소재로 AZO와 GZO를 제안한다.As the TCO of the transparent conductive layer 11, oxides such as ITO and FTO are conventionally used. However, in order to exhibit the transparent conductive property as described in the background art, a high heat crystallization process must be performed. There is a problem that it can have a light transmission characteristic capable of being practically applied and a resistance characteristic of 10 ohms. In addition, since ITO has excellent transparency in electrical conductivity and visible light region, AZO is superior in optical transparency, GZO can be manufactured at low cost, and has a high transmittance and electrical conductivity as ITO. Therefore, AZO and GZO are proposed.

또한 ITO, AZO, GZO 각각은 고유의 장점이 있으므로 각각의 장점을 취합하는 형태도 가능하다. 이처럼 장점 취합을 위해서 AZO를 모재로 하여, ITO를 AZO층 위에 성장시킬 경우, 투과도는 AZO 정도로 향상되고, 전기적 성능은 ITO 정도로 향상될 수 있다. 또한 AZO 위에 성장되는 ITO 층은 유사에피성장 (hetero epitaxial growth)을 통해 결정성이 향상될 수 있어 특히 태양전지 소재로 사용될 경우 적합할 수 있다.In addition, each of ITO, AZO, and GZO has a unique advantage, so it is possible to combine advantages of each. When AZO is used as the base material and ITO is grown on the AZO layer, the transmittance can be improved to about AZO and the electrical performance can be improved to about ITO. In addition, the ITO layer grown on AZO can be improved in crystallinity through hetero epitaxial growth, which is particularly suitable when used as a solar cell material.

그런데, 종래의 ITO로 이루어지는 투명전도층(11)이 낮은 전기저항을 가지기 위해서는 때로는 섭씨 500도 이상의 고온 열처리가 필요하였으므로 이러한 경우 본 발명에 따른 전기변색 기판 시스템을 이루는 각 구성의 전기적 광학적 및 물리적 특성의 열화가 발생되는 문제가 있다.However, since the conventional transparent conductive layer 11 made of ITO requires a high-temperature heat treatment at a temperature of 500 ° C. or more in order to have low electrical resistance, the electrical, optical and physical properties of each constitution of the electrochromic substrate system according to the present invention There is a problem that deterioration occurs.

이러한 문제점을 해결하고자 본 발명에서는 투명전도층(11)을 둘 이상 형성시키되 그 사이에 비저항이 가장 낮은 Ag 박막(12)을 형성시킴으로써 낮은 저항 특성을 가지게 되어 투명전도성 막(10)이 고온 열처리 없이도 전기전도도가 비약적으로 향상될 수 있다. 또한 Ag는 가시광 흡수가 적으므로 가시광의 투과성을 저하시키지 않는 장점이 있다.In order to solve such a problem, in the present invention, two or more transparent conductive layers 11 are formed, and the Ag thin film 12 having the lowest specific resistance is formed therebetween, so that the transparent conductive film 10 has low resistance characteristics, The electrical conductivity can be dramatically improved. Also, since Ag absorbs visible light, there is an advantage that the transmittance of visible light is not lowered.

그리고 이 경우 투명전도성 막(10)이 이처럼 다층 구조로 이루어지는 경우 대부분의 전기전도는 전기저항이 가장 낮은 Ag 박막(12)을 통하여 이루어지므로 Ag 박막(12)은 완전히 연속된 평면 형태로 형성되어야 한다.In this case, when the transparent conductive film 10 has such a multi-layer structure, most of the electrical conduction is performed through the Ag thin film 12 having the lowest electric resistance, so that the Ag thin film 12 should be formed in a completely continuous planar form .

이 경우 빛이 유입되는 쪽의 투명전도층(11)은 Ag 박막(12)을 보호함과 아울러 광학적으로는 반사억제코팅막 작용을 하여 투광도를 증진시킨다. 나머지 Ag 박막(12)의 반대편 투명전도층(11)도 투광도를 증진시키고, 기판 물질의 확산을 막으며, Ag 증착 과정에서 Ag의 초기 핵생성에 영향을 주어 핵생성 조절층의 작용을 한다.In this case, the transparent conductive layer 11 on the side to which the light is introduced protects the Ag thin film 12 and optically acts as a reflection suppressing coating film to enhance the transparency. The transparent conductive layer 11 on the opposite side of the remaining Ag thin film 12 also enhances transparency, prevents diffusion of the substrate material, affects the initial nucleation of Ag during the Ag deposition process, and acts as a nucleation control layer.

이 경우 바람직하게는 투명전도성 막(10)의 두께는 100 nm 보다 작거나 같게 제작하며, 제작 방법은 상온 스퍼터링 진공 증착을 비롯한 여러 가지 증착 방식이 채택될 수 있다.In this case, the thickness of the transparent conductive film 10 is preferably made to be less than or equal to 100 nm, and various deposition methods including room temperature sputtering vacuum deposition may be adopted.

변색층은 산화될 때 변색이 발생되는 산화 변색층(40)과, 환원될 때 변색이 발생되는 환원 변색층(20)으로 구분될 수 있다.The discoloration layer may be divided into an oxidative discoloration layer 40 where discoloration occurs when oxidized and a discoloration layer 20 where discoloration occurs when reduced.

산화 변색층(40)으로 사용될 수 있는 대표적인 소재는 이리듐이나 니켈이며, 환원 변색층(20)으로 사용될 수 있는 대표적인 소재는 텅스텐, 몰리브덴, 티타늄, 바나듐 등의 소재가 있다. 도 2에 도시된 것은 환원되면서 변색이 발생되는 환원 변색층을 예시적으로 도시한 것이며, 이 경우 두 개의 투명전도성 막(10)을 도선으로 연결하고 전류를 인가시키면, 도 2에 표기된 형태의 반응이 일어나서 산화텅스텐이 환원되면서 변색이 발생되고, 반대 전류를 인가시키면 가역적으로 반응이 발생되어 텅스텐은 다시 산화된다.Representative materials that can be used as the oxidative discoloration layer 40 are iridium or nickel, and representative materials that can be used as the reducing discoloration layer 20 include materials such as tungsten, molybdenum, titanium, and vanadium. 2 illustrates an example of a reduced color shift layer in which a color change is generated while being reduced. In this case, when two transparent conductive films 10 are connected by a lead and a current is applied, a reaction When tungsten oxide is reduced, discoloration occurs. When a reverse current is applied, a reaction occurs reversibly and tungsten is oxidized again.

이러한 변색층에 대한 기술은 종래기술인 바 더 이상의 자세한 설명은 생략하기로 한다.A detailed description of the technique for the color change layer is omitted here.

한편, 본 발명에 따른 스마트 윈도우 기판 시스템은 위에서 서술한 특성을 가지는 전기변색 기판 시스템을 포함하는 스마트 윈도우 기판 시스템에 있어서, 투명전도성 막(10) 중 적어도 어느 하나의 외측 면에 유리 창호(50)가 부착되어 이루어진다.Meanwhile, the smart window substrate system according to the present invention is a smart window substrate system including an electrochromic substrate system having the above-described characteristics, in which a glass window 50 is formed on the outer surface of at least one of the transparent conductive films 10, Respectively.

이때 유리 창호(50)와 투명전도성 막(10) 사이에는 태양광을 투과시키거나 흡수시키는 반사 방지막(미도시)이 형성될 수 있다.At this time, an antireflection film (not shown) for transmitting or absorbing sunlight may be formed between the glass window 50 and the transparent conductive film 10.

반사 방지막(Antireflective layer)은 태양광을 굴절률이 다른 두 매체 사이의 계면에서 반사하지 않고 투과시키거나 흡수한다. 렌즈나 프리즘 등의 표면반사를 작게 해서 투과되는 빛의 세기를 증가시키고 반사로 인한 산란광을 제거하기 위해 사용된다. 반사 방지막의 두께를 입사하는 빛의 파장의 1/4이 되도록 조절하면 공기와 반사 방지막 사이의 제1 계면과 반사 방지막과 제2 계면 사이에서 반사되는 빛이 정확히 180도 만큼의 위상차를 갖게 되므로 서로 소멸되어 반사율을 0에 가깝게 만들 수 있다.The antireflective layer transmits or absorbs sunlight without reflecting it at the interface between two different refractive index media. It is used to reduce the surface reflection of lenses and prisms and to increase the intensity of transmitted light and to remove scattered light due to reflection. When the thickness of the antireflection film is adjusted to be 1/4 of the wavelength of incident light, the light reflected between the first interface between the air and the antireflection film and the second interface has a phase difference of exactly 180 degrees, And the reflectance can be made close to zero.

한편, 스마트 윈도우 기판 시스템의 제작 방법은 유리 창호(50)를 제작하는 1단계와, 유리 창호(50) 표면에 투명전도성 막(10)을 형성하는 2단계와, 투명전도성 막(10) 표면에 산화 또는 환원 변색층(40,20)을 형성하는 3단계와, 투명전도성 막(10)과 산화 또는 환원 변색층(40,20)이 차례로 형성된 유리 창호(50)를 두 개 준비하여 산화 또는 환원 변색층(40,20)이 서로 대향되게 배치하고, 대향되는 산화 변색층(40)과 환원 변색층(20) 사이에 고체전해질을 충진하여 고체전해질 층(30)을 형성하는 4단계로 이루어지되, 투명전도성 막(10)을 형성하는 단계는 ITO(In2O3에 SnO2가 10중량% 첨가), 또는 GZO(Ga가 첨가된 ZnO), 또는 AZO(Al이 첨가된 ZnO) 중 어느 하나로 이루어지는 투명전도층(11)을 형성하는 단계와, Ag 박막(12)을 형성하는 단계가 반복되어 이루어지는 것을 특징으로 한다.The method for fabricating a smart window substrate system includes a first step of fabricating a glass window 50, a second step of forming a transparent conductive film 10 on the surface of the glass window 50, a second step of forming a transparent conductive film 10 on the surface of the transparent conductive film 10, Two glass windows 50 in which the transparent conductive film 10 and the oxidation or reduction discoloration layers 40 and 20 are sequentially formed are prepared and oxidized or reduced And the solid electrolyte layer 30 is formed by filling the solid oxide electrolyte between the opposed oxidative discoloration layer 40 and the reducing discoloration layer 20 in such a manner that the discoloration layers 40 and 20 are opposed to each other , The step of forming the transparent conductive film 10 may be performed by any one of ITO (10% by weight of SnO 2 added to In 2 O 3 ), GZO (ZnO with Ga), or AZO (ZnO with Al added) And a step of forming an Ag thin film (12) are repeatedly performed in the step of forming the transparent conductive layer (11) The.

이 경우 특히 투명전도성 막을 형성하는 단계에서 Ag 박막(12)을 형성하는 단계의 분위기 온도는 섭씨 100도 이하로 한다. 왜냐하면, Ag는 비저항이 가장 낮은 금속으로서, Ag 박막(12)을 통하여 대부분의 전류가 흐르기 때문에 과도하게 높은 온도에서 열처리를 하지 않더라도 투명전도성 막(10)의 전기저항이 낮게 유지될 수 있기 때문이다. 이로써 종래 문제가 되던 과도한 열처리로 인한 투명전도층(11)과 산화 또는 환원 변색층(40,20) 및 고체전해질 층(30)의 물성 저하가 방지될 수 있다.In this case, the atmospheric temperature in the step of forming the Ag thin film 12 in the step of forming the transparent conductive film is set to be not more than 100 deg. This is because most of the current flows through the Ag thin film 12 because Ag is the lowest resistivity metal, so that the electrical resistance of the transparent conductive film 10 can be kept low even if the heat treatment is not performed at an excessively high temperature . This can prevent deterioration of physical properties of the transparent conductive layer 11, the oxidation or reduction coloring layers 40, 20, and the solid electrolyte layer 30 due to the excessive heat treatment, which has been a conventional problem.

그리고 본 발명에 따른 스마트 윈도우 기판 시스템의 제작 방법은 투명전도성 막(10)을 형성시킨 이후 고체전해질 층(30)을 충진하는 단계 이후에 섭씨 150도 이하의 온도에서 Ag 박막(12)에 대하여 2차 열처리를 수행하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method of manufacturing a smart window substrate system according to the present invention is characterized in that after the step of filling the solid electrolyte layer 30 after forming the transparent conductive film 10, a step of filling the Ag thin film 12 with 2 And performing a car heat treatment.

2차 열처리 과정 역시 Ag 박막(12)이 있으므로 과도하게 높은 온도로 열처리를 하지 않더라도 낮은 전기저항이 유지될 수 있어 결국 투명전도층(11)과 산화 또는 환원 변색층(40,20) 및 고체전해질 층(30)의 물성 저하가 방지된다.Since the second heat treatment process also includes the Ag thin film 12, a low electric resistance can be maintained even if the heat treatment is not performed at an excessively high temperature. As a result, the transparent conductive layer 11, the oxidation or reduction discoloration layers 40 and 20, The lowering of the physical properties of the layer 30 is prevented.

이처럼 2차 열처리 과정이 수행되면, 앞서의 최초 열처리만 수행한 경우보다 광 투과성이 더 향상될 수 있다. 섭씨 150도에서 2차 열처리를 수행한 경우 그 전에 최초 열처리만 수행한 경우보다 광투과성이 향상된다.When the second heat treatment process is performed as described above, the light transmittance can be further improved as compared with the case where only the first heat treatment is performed. When the second heat treatment is performed at 150 degrees Celsius, the light transmittance is improved before the first heat treatment.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능함은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the inventions. It will be apparent to those of ordinary skill in the art.

1 : 전해질 2 : 산화 변색층
3 : 환원 변색층 4 : 투명 전도성 막
5 : 유리 기판 6 : 이온 저장층
10 : 투명전도성 막 11 : 투명전도층
12 : Ag 박막 20 : 환원 변색층
30 : 고체전해질 층 40 : 산화 변색층
50 : 유리 창호1: electrolyte 2: oxidative discoloration layer
3: Reduced color transfer layer 4: Transparent conductive film
5: glass substrate 6: ion storage layer
10: transparent conductive film 11: transparent conductive layer
12: Ag thin film 20: Reduced color transfer layer
30: solid electrolyte layer 40: oxidative discoloration layer
50: Glass window

Claims (9)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 유리 창호를 제작하는 단계;
상기 유리 창호 표면에 투명전도성 막을 형성하는 단계;
상기 투명전도성 막 표면에 변색층을 형성하는 단계;
상기 투명전도성 막과 변색층이 차례로 형성된 유리창호를 두 개 준비하여 변색층이 서로 대향되게 배치하고, 대향되는 변색층 사이에 고체전해질을 충진하여 고체전해질 층을 형성하는 단계로 이루어지되,
상기 투명전도성 막을 형성하는 단계는 In2O3에 SnO2가 10중량% 첨가되어 이루어지는 ITO, 또는 Ga가 첨가된 ZnO로 이루어지는 GZO, 또는 Al이 첨가된 ZnO로 이루어지는 AZO 중 어느 하나로 이루어지는 투명전도층을 형성하는 단계와, 섭씨 100도 이하의 온도에서 Ag 박막을 형성하는 단계가 반복되어 이루어지고,
상기 고체전해질 층을 형성하는 단계 이후에 섭씨 150도 이하의 온도에서 상기 Ag 박막을 포함하는 투명전도성 막에 대하여 2차 열처리를 수행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 스마트 윈도우 기판 시스템의 제작 방법.Making a glass window;
Forming a transparent conductive film on the glass window surface;
Forming a color change layer on a surface of the transparent conductive film;
Preparing two glass window arcs in which the transparent conductive film and the discoloration layer are sequentially formed so as to arrange the discoloration layers so as to face each other and fill the solid electrolyte between the discoloration layers facing each other to form a solid electrolyte layer,
The transparent conductive layer may be formed of ITO in which 10% by weight of SnO 2 is added to In 2 O 3 , or GZO of ZnO to which Ga is added or AZO of ZnO to which Al is added. Forming an Ag thin film at a temperature of 100 DEG C or less;
Further comprising performing a secondary heat treatment on the transparent conductive film including the Ag thin film at a temperature of 150 DEG C or less after forming the solid electrolyte layer. . 삭제delete 삭제delete
KR1020160114571A 2016-09-06 2016-09-06 Electrochromic glass system, smart windows glass system using the electrochromic glass system and production method of smart windows glass system KR101862200B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160114571A KR101862200B1 (en) 2016-09-06 2016-09-06 Electrochromic glass system, smart windows glass system using the electrochromic glass system and production method of smart windows glass system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160114571A KR101862200B1 (en) 2016-09-06 2016-09-06 Electrochromic glass system, smart windows glass system using the electrochromic glass system and production method of smart windows glass system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180027718A KR20180027718A (en) 2018-03-15
KR101862200B1 true KR101862200B1 (en) 2018-07-06

Family

ID=61659865

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160114571A KR101862200B1 (en) 2016-09-06 2016-09-06 Electrochromic glass system, smart windows glass system using the electrochromic glass system and production method of smart windows glass system

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101862200B1 (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220135576A (en) 2021-03-30 2022-10-07 에스케이씨 주식회사 Electrochromic device, electrolyte used therein and preparation method thereof
US11747697B2 (en) 2020-06-10 2023-09-05 Skc Co., Ltd. Electrochromic device
KR20230133553A (en) 2022-03-11 2023-09-19 에스케이씨 주식회사 Electrochromic device and preparation method thereof
KR20230133554A (en) 2022-03-11 2023-09-19 에스케이씨 주식회사 Electrochromic device and preparation method thereof
US11835832B2 (en) 2020-06-10 2023-12-05 Skc Co., Ltd. Flexible electrochromic device
US11852908B2 (en) 2020-06-09 2023-12-26 Skc Co., Ltd. Flexible electrochromic device
US11934079B2 (en) 2020-09-01 2024-03-19 Skc Co., Ltd. Electrochromic device

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110133930B (en) * 2019-06-04 2024-03-19 爱卓智能科技(上海)有限公司 Electrochromic glass structure for automobile
CN111562705A (en) * 2020-05-25 2020-08-21 广东省雅众幕墙科技有限公司 Electrochromic glass light modulation window assembly
CN116724270A (en) * 2020-10-15 2023-09-08 Sage电致变色显示有限公司 Electrochromic device including a component for mechanical resistance and process of forming an electrochromic device
CN113791510A (en) * 2021-08-06 2021-12-14 河北光兴半导体技术有限公司 Preparation system for electrochromic glass
CN117420713B (en) * 2023-12-15 2024-03-29 江苏繁华应材科技股份有限公司 Electrochromic dimming energy-saving sound-insulating glass and electrochromic dimming energy-saving sound-insulating window system

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000047269A (en) * 1998-07-31 2000-02-18 Sony Corp Optical device
KR20070034431A (en) * 2005-09-23 2007-03-28 재단법인서울대학교산학협력재단 Electrochromic device using solid inorganic electrolyte protective film and manufacturing method thereof
KR20080040439A (en) * 2006-11-03 2008-05-08 주식회사 엘지화학 Energy saving smart window and process for producing the same
KR20130044947A (en) * 2011-10-25 2013-05-03 엘지이노텍 주식회사 Electrochromic smart window film
KR20140049790A (en) * 2012-10-18 2014-04-28 (주)듀링 Electrochromic device and window including the same
KR20140063741A (en) * 2011-08-26 2014-05-27 더 리젠츠 오브 더 유니버시티 오브 캘리포니아 Nanostructured transparent conducting oxide electrochromic device

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000047269A (en) * 1998-07-31 2000-02-18 Sony Corp Optical device
KR20070034431A (en) * 2005-09-23 2007-03-28 재단법인서울대학교산학협력재단 Electrochromic device using solid inorganic electrolyte protective film and manufacturing method thereof
KR20080040439A (en) * 2006-11-03 2008-05-08 주식회사 엘지화학 Energy saving smart window and process for producing the same
KR20140063741A (en) * 2011-08-26 2014-05-27 더 리젠츠 오브 더 유니버시티 오브 캘리포니아 Nanostructured transparent conducting oxide electrochromic device
KR20130044947A (en) * 2011-10-25 2013-05-03 엘지이노텍 주식회사 Electrochromic smart window film
KR20140049790A (en) * 2012-10-18 2014-04-28 (주)듀링 Electrochromic device and window including the same

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11852908B2 (en) 2020-06-09 2023-12-26 Skc Co., Ltd. Flexible electrochromic device
US11747697B2 (en) 2020-06-10 2023-09-05 Skc Co., Ltd. Electrochromic device
US11835832B2 (en) 2020-06-10 2023-12-05 Skc Co., Ltd. Flexible electrochromic device
US11934079B2 (en) 2020-09-01 2024-03-19 Skc Co., Ltd. Electrochromic device
KR20220135576A (en) 2021-03-30 2022-10-07 에스케이씨 주식회사 Electrochromic device, electrolyte used therein and preparation method thereof
KR20230133553A (en) 2022-03-11 2023-09-19 에스케이씨 주식회사 Electrochromic device and preparation method thereof
KR20230133554A (en) 2022-03-11 2023-09-19 에스케이씨 주식회사 Electrochromic device and preparation method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180027718A (en) 2018-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101862200B1 (en) Electrochromic glass system, smart windows glass system using the electrochromic glass system and production method of smart windows glass system
US10564506B2 (en) Electrochromic device and method for making electrochromic device
US20230176439A1 (en) Electrochromic devices and methods
JP5711122B2 (en) Electrochromic device with controlled infrared reflection
RU2531063C2 (en) Electrochromic devices, assembly units, including electrochromic devices, and/or methods of their manufacturing
KR101949297B1 (en) Substrate provided with a stack having thermal properties, in particular for manufacturing heated glass
KR101535100B1 (en) Electrochromic smart window and manufacturing method thereof
RU2117972C1 (en) Electrochromatic device ( variants ) and electrochromatic combination ( variants )
JP4782283B2 (en) Glazing with optically / optically controllable optical / energy properties
JP2009025785A (en) All-solid-state reflective dimming electrochromic device having buffer layer and dimmer member using the same
KR20170024830A (en) Thermal insulating smart window coating
KR101399899B1 (en) Thermochromic window
JP2022176332A (en) Electrochromic lighting control member, light-transmissive conductive glass film, and electrochromic lighting control element
CN108803183B (en) Double-layer all-inorganic electrochromic device and preparation method thereof
JP2022547180A (en) Electrochromic glass and manufacturing method thereof
JP2013545146A (en) Electrochemical device with electrically controllable light and / or energy transmission characteristics
US10996535B1 (en) Electrochromic device with buffer layer(s)
JP5902709B2 (en) Electrochemical device with electrically controllable light and / or energy transmission characteristics
CN107045242A (en) Electrochromic structure and forming method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant