KR101835537B1 - Electrophoretic Display Apparatus and Method for Manufacturing The Same - Google Patents

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Abstract

전기영동 표시장치 전체 면적에 대하여 전기영동 표시 패널의 면적이 차지하는 비율이 극대화된 전기영동 표시장치 및 그 제조방법이 개시된다. 본 발명에 따른 전기영동 표시장치는, 후방 프레임(back frame); 상기 후방 프레임 상에 위치하며, 표시영역과 주변영역을 갖는 전기영동 표시 패널; 및 상기 전기영동 표시 패널의 표시영역의 적어도 일부가 노출되도록 상기 전기영동 표시 패널의 주변영역을 커버하는 전방 프레임(front frame)을 포함하되, 상기 전기영동 표시 패널은 상기 주변영역에 형성된 홀을 가지며, 상기 전방 프레임 및 상기 후방 프레임 중 적어도 하나는 상기 전기영동 표시 패널의 홀에 삽입되는 돌출부를 갖는다.An electrophoretic display device in which the area occupied by the electrophoretic display panel is maximized with respect to the entire area of the electrophoretic display device and a method of manufacturing the same are disclosed. An electrophoretic display device according to the present invention includes: a back frame; An electrophoretic display panel positioned on the rear frame and having a display area and a peripheral area; And a front frame covering a peripheral area of the electrophoretic display panel so that at least a part of a display area of the electrophoretic display panel is exposed, the electrophoretic display panel having a hole formed in the peripheral area And at least one of the front frame and the rear frame has a protrusion which is inserted into the hole of the electrophoretic display panel.

Description

전기영동 표시장치 및 그 제조방법{Electrophoretic Display Apparatus and Method for Manufacturing The Same}[0001] Electrophoretic Display Apparatus and Method for Manufacturing the Same [

본 발명은 전기영동 표시 장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to an electrophoretic display device and a method of manufacturing the same.

평판 표시장치 중 하나인 전기영동 표시장치는 서로 대향하는 2개의 전극들을 포함하고, 이들 사이에 전기영동 분산액이 위치한다. 마이크로캡슐 방식에서는, 전기영동 분산액을 내부에 저장하고 있는 복수 개의 마이크로캡슐들이 상기 2개의 전극 사이에서 층을 형성한다. 마이크로컵 방식에서는 전기영동 분산액이 격벽에 의해 셀 별로 구획된다. 두 전극에 인가되는 전압에 의해 전기영동 분산액에 포함되어 있는 착색된 대전 입자가 전기영동(electrophoresis)에 의해 반대 극성의 전극으로 이동함으로써 화상이 표시된다.The electrophoretic display device, which is one of the flat panel display devices, includes two electrodes facing each other, and an electrophoretic dispersion liquid is disposed therebetween. In the microcapsule system, a plurality of microcapsules storing an electrophoretic dispersion liquid form a layer between the two electrodes. In the microcup system, the electrophoretic dispersion is divided into cells by barrier ribs. The colored charged particles contained in the electrophoretic dispersion liquid are moved to the electrodes of the opposite polarity by electrophoresis by the voltage applied to the two electrodes, whereby an image is displayed.

전기영동 표시장치는 쌍안정성(bistability)을 갖고 있어 인가된 전압이 제거되어도 원래의 이미지를 장시간 보존할 수 있다. 즉, 전기영동 표시장치는 전압을 지속적으로 인가받지 않아도 일정 화면을 장기간 유지할 수 있다. 전기영동 표시장치는 이러한 특성으로 인해 화면의 신속한 교환이 요구되지 않는 응용 분야에 적합하다. 또한, 전기영동 표시 장치는 액정 표시 장치와는 달리 시야각(viewing angle)에 대한 의존성이 없을 뿐만 아니라 종이와 유사한 정도로 눈에 편안한 화상을 제공할 수 있다는 장점을 가지고 있다.The electrophoretic display device has bistability so that the original image can be preserved for a long time even when the applied voltage is removed. That is, the electrophoretic display device can maintain a certain screen for a long period of time without being continuously supplied with a voltage. The electrophoretic display device is suitable for applications where rapid change of the screen is not required due to such characteristics. Unlike a liquid crystal display device, an electrophoretic display device has no dependency on a viewing angle, and has an advantage that it can provide a comfortable image on the eye to a degree similar to a paper.

도 1은 일반적인 전기영동 표시장치의 사시도이고, 도 2는 도 1의 전기영동 표시장치의 I-I' 라인을 따른 단면도이다.FIG. 1 is a perspective view of a conventional electrophoretic display device, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line I-I 'of the electrophoretic display device of FIG.

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 전기영동 표시장치는 후방 프레임(back frame)(6), 상기 후방 프레임(6) 상에 위치하는 전기영동 표시 패널(P), 및 상기 전기영동 표시 패널(P)의 주변영역을 커버하는 전방 프레임(front frame)(7)을 포함한다. 1 and 2, the electrophoretic display device includes a back frame 6, an electrophoretic display panel P located on the rear frame 6, and an electrophoretic display panel P, which covers the peripheral area of the front frame.

전기영동 표시 패널(P)은 TFT 기판(1), 전기영동 분산액(3), 공통전극(2) 및 보호 시트(4)가 순차적으로 적층된 구조이고, 보호 시트(4)와 TFT 기판(1) 사이에 개재된 전기영동 분산액(3) 및 공통전극(2)을 외부와 차단시키기 위한 실링 패턴(5)을 더 포함한다.The electrophoretic display panel P has a structure in which a TFT substrate 1, an electrophoretic dispersion liquid 3, a common electrode 2 and a protective sheet 4 are sequentially laminated and a protective sheet 4 and a TFT substrate 1 And a sealing pattern 5 for shielding the electrophoretic dispersion liquid 3 and the common electrode 2 interposed between them.

도 2에 도시된 바와 같이, 전기영동 표시 패널(P)은 후방 프레임(6)에 의해 지지된다. 후방 프레임(6)은 전기영동 표시 패널(P)이 놓여지지 않는 여백 영역(MA)을 포함한다. 전방 프레임(7)은 후방 프레임(6)의 둘레부에 대응하는 여백 영역(MA) 내로 전기영동 표시 패널(P)이 이동하는 것, 즉 전기영동 표시 패널(P)이 후방 프레임(6) 상에서 움직이는 것을 방지하기 위한 범프(bump)(7a)를 갖는다. 범프(7a)는 전기영동 표시 패널(P)의 측면과 접촉하여 그것의 이동을 방지한다. As shown in Fig. 2, the electrophoretic display panel P is supported by the rear frame 6. The rear frame 6 includes a margin area MA in which the electrophoretic display panel P is not placed. The front frame 7 is configured such that the electrophoretic display panel P is moved into the margin area MA corresponding to the periphery of the rear frame 6, that is, the electrophoretic display panel P is moved on the rear frame 6 And has a bump 7a for preventing movement. The bump 7a contacts the side surface of the electrophoretic display panel P to prevent its movement.

따라서, 각종 배선들을 위한 공간(S) 외에도 전방 프레임(7)의 범프(7a)를 위한 공간까지도 확보할 수 있는 충분한 크기의 여백 영역(MA)을 후방 프레임(6)이 가져야 한다. 즉, 전기영동 표시 패널(P)과 전방 프레임(7)의 내측면 사이에는 배선 공간(S)을 위한 거리(d)에 범프(7a)의 폭(w)이 더해진 길이 만큼의 간격이 확보되어야 한다. 이것은 전기영동 표시장치의 콤팩트화(표시장치 전체 면적에 대한 표시 패널 면적 비율의 극대화)를 제한한다.Therefore, the rear frame 6 must have a margin area MA of sufficient size to secure space for the bumps 7a of the front frame 7 in addition to the space S for various wirings. That is, an interval of the length d added for the wiring space S plus the width w of the bumps 7a is secured between the electrophoretic display panel P and the inner surface of the front frame 7 do. This limits the miniaturization of the electrophoretic display device (maximization of the display panel area ratio with respect to the total area of the display device).

본 발명의 일 관점은, 전기영동 표시장치 전체 면적에 대하여 전기영동 표시 패널의 면적이 차지하는 비율이 극대화된 전기영동 표시장치를 제공하는 것이다.One aspect of the present invention is to provide an electrophoretic display device in which the area occupied by the electrophoretic display panel is maximized with respect to the total area of the electrophoretic display device.

본 발명의 다른 관점은, 전기영동 표시장치 전체 면적에 대하여 전기영동 표시 패널의 면적이 차지하는 비율이 극대화된 전기영동 표시장치의 제조 방법을 제공하는 것이다.Another aspect of the present invention is to provide a method of manufacturing an electrophoretic display device in which the area occupied by the electrophoretic display panel is maximized with respect to the total area of the electrophoretic display device.

위에서 언급된 본 발명의 관점들 외에도, 본 발명의 다른 특징 및 이점들이 이하에서 기술되거나, 그러한 기술 및 설명으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. Other features and advantages of the present invention, besides the above-mentioned aspects of the present invention, will be described hereinafter, or may be apparent to those skilled in the art from the description and the description.

위와 같은 본 발명의 일 관점에 따라, 후방 프레임(back frame); 상기 후방 프레임 상에 위치하며, 표시영역과 주변영역을 갖는 전기영동 표시 패널; 및 상기 전기영동 표시 패널의 표시영역의 적어도 일부가 노출되도록 상기 전기영동 표시 패널의 주변영역을 커버하는 전방 프레임(front frame)을 포함하되, 상기 전기영동 표시 패널은 상기 주변영역에 형성된 홀을 가지며, 상기 전방 프레임 및 상기 후방 프레임 중 적어도 하나는 상기 전기영동 표시 패널의 홀에 삽입되는 돌출부를 갖는 것을 특징으로 하는 전기영동 표시장치가 제공된다.According to one aspect of the present invention as described above, a back frame; An electrophoretic display panel positioned on the rear frame and having a display area and a peripheral area; And a front frame covering a peripheral area of the electrophoretic display panel so that at least a part of a display area of the electrophoretic display panel is exposed, the electrophoretic display panel having a hole formed in the peripheral area And at least one of the front frame and the rear frame has a protrusion inserted into a hole of the electrophoretic display panel.

본 발명의 다른 관점에 따라, 표시영역과 주변영역을 갖는 전기영동 표시 패널을 제조하는 단계; 상기 전기영동 표시 패널의 주변영역에 홀을 형성하는 단계; 상기 홀을 갖는 전기영동 표시 패널을 후방 프레임 상에 위치시키는 단계; 상기 전기영동 표시 패널의 표시영역의 적어도 일부가 노출되도록 상기 전기영동 표시 패널의 주변영역을 전방 프레임으로 커버하는 단계; 및 상기 전기영동 표시 패널을 후방 프레임 상에 고정시키는 단계를 포함하되, 상기 고정 단계는 상기 전방 프레임 및 상기 후방 프레임 중 적어도 하나의 돌출부가 상기 전기영동 표시 패널의 홀에 삽입됨으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 전기영동 표시장치의 제조방법이 제공된다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an electrophoretic display panel, comprising the steps of: preparing an electrophoretic display panel having a display area and a peripheral area; Forming a hole in a peripheral region of the electrophoretic display panel; Positioning the electrophoretic display panel having the hole on a rear frame; Covering a peripheral area of the electrophoretic display panel with a front frame so that at least a part of a display area of the electrophoretic display panel is exposed; And fixing the electrophoretic display panel on a rear frame, wherein the fixing step is performed by inserting protrusions of at least one of the front frame and the rear frame into the holes of the electrophoretic display panel A method of manufacturing an electrophoretic display device is provided.

위와 같은 본 발명에 대한 일반적 서술은 본 발명을 예시하거나 설명하기 위한 것일 뿐으로서, 본 발명의 권리범위를 제한하지 않는다.The foregoing general description of the present invention is intended to be illustrative of or explaining the present invention, but does not limit the scope of the present invention.

본 발명에 의하면, 전기영동 표시장치 전체 면적에 대하여 전기영동 표시 패널의 면적이 차지하는 비율이 극대화된 콤팩트한 전기영동 표시장치가 구현될 수 있다.According to the present invention, a compact electrophoretic display device in which the area occupied by the electrophoretic display panel is maximized with respect to the total area of the electrophoretic display device can be realized.

이 밖에도, 본 발명의 실시를 통해 본 발명의 또 다른 특징 및 이점들이 새롭게 파악되어질 수도 있을 것이다.In addition, other features and advantages of the present invention may be newly understood through the practice of the present invention.

첨부된 도면은 본 발명의 이해를 돕고 본 명세서의 일부를 구성하기 위한 것으로서, 본 발명의 실시예들을 예시하며, 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 원리들을 설명한다.
도 1은 일반적인 전기영동 표시장치의 사시도이고,
도 2는 도 1의 전기영동 표시장치의 I-I' 라인을 따른 단면도이고,
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 전기영동 표시장치를 간략하게 나타내는 블록도이고,
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 전기영동 표시장치의 단면도이고,
도 5a 내지 도 5i는 본 발명의 일 실시예에 따른 전기영동 표시장치의 제조 공정을 설명하기 위한 단면도들이고,
도 6 내지 도 8은 본 발명의 다른 실시예들에 따른 전기영동 표시장치들의 단면도들이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The accompanying drawings, which are included to provide a further understanding of the invention and are incorporated in and constitute a part of this specification, illustrate embodiments of the invention and, together with the description, serve to explain the principles of the invention.
1 is a perspective view of a general electrophoretic display device,
2 is a cross-sectional view taken along line II 'of the electrophoretic display device of FIG. 1,
3 is a block diagram briefly showing an electrophoretic display device according to an embodiment of the present invention,
4 is a cross-sectional view of an electrophoretic display device according to an embodiment of the present invention,
5A to 5I are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of an electrophoretic display device according to an embodiment of the present invention,
6 to 8 are cross-sectional views of electrophoretic display devices according to other embodiments of the present invention.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 전기영동 표시장치 및 그 제조방법의 실시예들을 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the electrophoretic display device and the manufacturing method thereof according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 기술적 사상은 컬러 구현 여부와 관계없이 모든 전기영동 표시장치에 적용될 수 있으나, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 흑백만을 구현하는 모노 타입의 전기영동 표시장치를 예로 들어 본 발명을 설명하기로 한다. 즉, 아래에서 개시되는 본 발명의 기술적 사상은, 컬러필터를 추가로 포함하는 전기영동 표시장치는 물론이고, 전기영동 분산액 내의 대전 입자가 적색, 청색, 녹색 또는 백색으로 착색된 전기영동 표시장치의 경우에도 동일하게 적용될 수 있다.The technical idea of the present invention can be applied to all electrophoretic display devices regardless of color implementation, but for the sake of convenience of description, the present invention will be described by taking a mono type electrophoretic display device implementing only black and white as an example . That is, the technical idea of the present invention disclosed below is applicable not only to an electrophoretic display device further including a color filter, but also to an electrophoretic display device in which charged particles in an electrophoretic dispersion liquid are colored in red, blue, green or white The same can be applied.

또한, 본 발명의 기술적 사상은 마이크로캡슐(microcapsule) 방식은 물론이고 마이크로컵(microcup) 방식의 전기영동 표시장치 모두에 동일하게 적용될 수 있으나, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 마이크로캡슐 방식의 전기영동 표시장치를 예로 들어 본 발명을 설명하기로 한다.In addition, the technical idea of the present invention can be applied equally to both microcapsule type and microcup type electrophoretic display devices, but for the sake of convenience, the microcapsule type electrophoretic display device The present invention will be described by taking an apparatus as an example.

본 발명의 실시예를 설명함에 있어서 어떤 구조물이 다른 구조물의 "상에" 또는 "아래에" 형성된다고 기재된 경우, 이러한 기재는 이 구조물들이 서로 접촉되어 있는 경우는 물론이고 이들 구조물들 사이에 제3의 구조물이 개재되어 있는 경우까지 포함하는 것으로 해석되어야 한다. 다만, "바로 위에" 또는 "바로 아래에"라는 용어가 사용될 경우에는, 이 구조물들이 서로 접촉되어 있는 것으로 제한되어 해석되어야 한다.In describing an embodiment of the present invention, when it is stated that a structure is formed "on" or "under" another structure, such a substrate is not limited to the case where these structures are in contact with each other, The present invention is not limited thereto. However, if the terms "directly above" or "directly below" are used, these structures should be construed as limited to being in contact with each other.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 전기영동 표시장치를 간략하게 나타내는 블록도이다.3 is a block diagram briefly showing an electrophoretic display device according to an embodiment of the present invention.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 전기영동 표시장치는, 전기영동 표시 패널(10), 데이터 구동부(20), 게이트 구동부(30), 및 타이밍 컨트롤러(40)를 포함한다.3, the electrophoretic display device according to an embodiment of the present invention includes an electrophoretic display panel 10, a data driver 20, a gate driver 30, and a timing controller 40 do.

전기영동 표시 패널(10)은 데이터 라인들(D1 내지 Dm)과 게이트 라인들(G1 내지 Gn)을 포함한다. 데이터 라인들(D1 내지 Dm)과 게이트 라인들(G1 내지 Gn)은 서로 교차하고, 이러한 교차 구조로 인해 m×n개의 화소(11)들이 매트릭스 타입으로 배열된다. 데이터 라인들(D1 내지 Dm)과 게이트 라인들(G1 내지 Gn)이 교차하는 영역마다 스위칭 소자(SW)들이 형성되어 있다. 스위칭 소자(SW)는 박막트랜지스터일 수 있으며, 이하에서는 박막트랜지스터를 예로 들어 설명한다. 각각의 박막트랜지스터는 게이트 전극, 소스 전극, 및 드레인 전극을 갖는다. 게이트 전극은 게이트 라인들(G1 내지 Gn) 중 하나에 접속되고, 소스 전극은 데이터 라인들(D1 내지 Dm) 중 하나에 접속되며, 드레인 전극은 해당 화소(11)의 화소 전극에 접속된다. The electrophoretic display panel 10 includes data lines D1 to Dm and gate lines G1 to Gn. The data lines D1 to Dm and the gate lines G1 to Gn cross each other and the m × n pixels 11 are arranged in a matrix type due to the intersection structure. The switching elements SW are formed in the regions where the data lines D1 to Dm and the gate lines G1 to Gn cross each other. The switching element SW may be a thin film transistor, and a thin film transistor will be described below as an example. Each thin film transistor has a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode. The gate electrode is connected to one of the gate lines G1 to Gn, the source electrode is connected to one of the data lines D1 to Dm, and the drain electrode is connected to the pixel electrode of the corresponding pixel 11. [

스캔 펄스가 게이트 라인(G1 내지 Gn)을 통해 박막트랜지스터에 공급되면, 박막트랜지스터가 상기 스캔 펄스에 응답하여 턴-온(turn-on)됨으로써 데이터 라인(D1 내지 Dm)을 통해 공급되는 데이터 전압이 대응하는 화소 전극으로 인가된다. When the scan pulse is supplied to the thin film transistor through the gate lines G1 to Gn, the thin film transistor is turned on in response to the scan pulse so that the data voltage supplied through the data lines D1 to Dm And is applied to the corresponding pixel electrode.

화소 전극은 공통전극과 함께 전기영동 커패시터(Cep)를 형성함과 동시에 스토리지 전극과 함께 스토리지 커패시터(Cst)를 형성한다.The pixel electrode forms an electrophoretic capacitor (Cep) together with the common electrode and forms a storage capacitor (Cst) together with the storage electrode.

화소 전극과 공통전극 사이에는 착색된 대전 입자들을 포함하는 전기영동 분산액이 존재한다. 따라서, 이 두 전극들에 데이터 전압과 공통 전압(Vcom)이 각각 인가될 경우, 전기영동 분산액에 포함되어 있는 착색된 대전 입자들이 전기영동(electrophoresis)에 의해 반대 극성의 전극으로 각각 이동함으로써 해당 화소(11)에 화상이 표시된다. Between the pixel electrode and the common electrode, there is an electrophoretic dispersion liquid containing colored charged particles. Therefore, when the data voltage and the common voltage Vcom are respectively applied to the two electrodes, the colored charged particles contained in the electrophoretic dispersion liquid migrate to the electrodes of the opposite polarity by electrophoresis, An image is displayed on the display unit 11.

데이터 구동부(20)는 소스 구동부라고도 지칭되며, 타이밍 컨트롤러(40)의 제어 하에, 표시하고자 하는 계조에 대응하는 데이터 전압을 데이터 라인들(D1 내지 Dm)에 공급한다.The data driver 20 is also referred to as a source driver and supplies a data voltage corresponding to the gradation to be displayed to the data lines D1 to Dm under the control of the timing controller 40. [

게이트 구동부(30)는 스캔 구동부라고도 지칭되며, 타이밍 컨트롤러(40)의 제어 하에 박막트랜지스터(SW)들의 스위칭 동작을 제어하기 위한 스캔 펄스를 게이트 라인들(G1 내지 Gn)에 공급한다.The gate driver 30 is also called a scan driver and supplies a scan pulse to the gate lines G1 to Gn for controlling the switching operation of the thin film transistors SW under the control of the timing controller 40. [

타이밍 컨트롤러(40)는 외부의 그래픽 제어기(미도시)로부터 수직/수평 동기신호(Vsync/Hsync), 클럭신호(CLK) 등을 제공받아 데이터 구동부(20) 및 게이트 구동부(30)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 제어신호를 발생시킨다. 또한, 타이밍 컨트롤러(40)는 그래픽 제어기로부터 화상 데이터를 수신하고, 수신한 화상 데이터에 대응하는 데이터 전압의 구동 파형을 룩업 테이블(lookup table) 및 프레임 카운터 등을 이용하여 결정하며, 이렇게 결정된 데이터 전압의 구동 파형에 대응하는 디지털 데이터를 데이터 구동부(20)에 전송한다. The timing controller 40 receives the vertical / horizontal synchronizing signal Vsync / Hsync and the clock signal CLK from an external graphic controller (not shown) and outputs the operation timings of the data driver 20 and the gate driver 30 And generates a control signal for controlling. The timing controller 40 receives the image data from the graphic controller and determines the driving waveform of the data voltage corresponding to the received image data by using a lookup table and a frame counter. To the data driver 20, digital data corresponding to the drive waveform of the data driver 20.

이하에서는, 도 4를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 의한 전기영동 표시장치를 더욱 구체적으로 설명하도록 한다.Hereinafter, the electrophoretic display device according to one embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to FIG.

도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 전기영동 표시장치는 전기영동 표시 패널(10), 후방 프레임(600) 및 전방 프레임(700)을 포함한다.4, an electrophoretic display device according to an embodiment of the present invention includes an electrophoretic display panel 10, a rear frame 600, and a front frame 700.

전기영동 표시 패널(10)은 TFT 기판(100), 전기영동 필름(200) 및 보호 시트(310)가 순차적으로 적층된 구조이고, 보호 시트(310)와 TFT 기판(100) 사이에 개재된 전기영동 필름(200)을 외부와 차단시키기 위한 실링 패턴(320)을 더 포함한다. TFT 기판(100)의 하부에는 점착층(520)을 통해 후면 필름(510)이 부착되어 있다. The electrophoretic display panel 10 has a structure in which a TFT substrate 100, an electrophoretic film 200 and a protective sheet 310 are sequentially laminated and an electrophoretic display panel 10, And a sealing pattern 320 for blocking the migration film 200 from the outside. A rear film 510 is attached to a lower portion of the TFT substrate 100 through an adhesive layer 520.

본 발명의 일 실시예 따른 TFT 기판(100)은 금속 기판, 상기 금속 기판 상에 형성된 박막 트랜지스터, 및 상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결된 화소 전극을 포함한다. 본 발명의 일 실시예 따른 전기영동 필름(200)은 전기영동 분산액과 공통전극을 포함한다. 전기영동 분산액은 TFT 기판(100)과 공통전극 사이에 위치하게 된다.The TFT substrate 100 according to an embodiment of the present invention includes a metal substrate, a thin film transistor formed on the metal substrate, and a pixel electrode electrically connected to the thin film transistor. The electrophoretic film 200 according to an embodiment of the present invention includes an electrophoretic dispersion liquid and a common electrode. The electrophoretic dispersion liquid is positioned between the TFT substrate 100 and the common electrode.

전기영동 표시 패널(10)은 표시영역(DA)과 주변영역(PA)을 포함한다. 표시영역(DA)은 전기영동 표시 패널(10) 중에서 전기영동 분산액이 존재하는 영역을 지칭하고, 주변영역(PA)은 전기영동 분산액이 존재하지 않는 영역을 지칭한다. 전기영동 표시 패널(10)의 주변영역(PA)에는 홀이 형성되어 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 전기영동 표시 패널(10)은 4개의 코너부 근처에 홀들이 형성되어 있다.The electrophoretic display panel 10 includes a display area DA and a peripheral area PA. The display area DA refers to a region where the electrophoretic dispersion liquid exists in the electrophoretic display panel 10 and the peripheral region PA refers to a region where the electrophoretic dispersion liquid does not exist. Holes are formed in the peripheral area PA of the electrophoretic display panel 10. In the electrophoretic display panel 10 according to an embodiment of the present invention, holes are formed near four corner portions.

한편, 전기영동 표시 패널(10)의 주변영역(PA)은 TFT 기판(100) 제조시 박막트랜지스터 형성을 위하여 사용되는 기판을 포함한다. 앞에서 언급된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 박막트랜지스터 형성을 위한 기판으로서 유리 기판 대신에 금속 기판이 이용된다. 즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 전기영동 표시 패널(10)의 주변영역(PA)은 유리 기판 대신에 금속 기판을 포함하기 때문에 주변영역(PA)을 관통하는 홀이 펀칭 등의 방법을 통해 용이하게 형성될 수 있다.Meanwhile, the peripheral area PA of the electrophoretic display panel 10 includes a substrate used for forming a thin film transistor in manufacturing the TFT substrate 100. As mentioned above, according to one embodiment of the present invention, a metal substrate is used as a substrate for forming a thin film transistor instead of a glass substrate. That is, since the peripheral area PA of the electrophoretic display panel 10 according to an embodiment of the present invention includes a metal substrate instead of the glass substrate, holes through the peripheral area PA are formed by a method such as punching Can be easily formed.

후방 프레임(600)은 전기영동 표시 패널(10)을 지지한다. 즉, 전기영동 표시 패널(10)은 후방 프레임(600) 상에 위치한다. 후방 프레임(600)은 그 둘레부에 여백 영역(MA)을 포함한다. 후방 프레임(600)의 여백 영역(MA) 바로 위에는 전기영동 표시 패널(10)이 위치하지 않는다. The rear frame 600 supports the electrophoretic display panel 10. That is, the electrophoretic display panel 10 is positioned on the rear frame 600. The rear frame 600 includes a marginal area MA at its periphery. The electrophoretic display panel 10 is not positioned just above the margin area MA of the rear frame 600. [

전방 프레임(700)은 후방 프레임(600)과 직접 또는 간접적으로 결합한다. 전방 프레임(700)은 전기영동 표시 패널(10)의 주변영역(PA)만 커버하거나 또는 전기영동 표시 패널(10)의 주변영역(PA)과 함께 표시영역(DA)의 둘레부를 커버함으로써 전기영동 표시 패널(10)의 표시영역(DA)의 적어도 일부가 노출되도록 한다. The front frame 700 engages directly or indirectly with the rear frame 600. The front frame 700 covers the peripheral area PA of the electrophoretic display panel 10 or covers the periphery of the display area DA together with the peripheral area PA of the electrophoretic display panel 10, So that at least a part of the display area DA of the display panel 10 is exposed.

본 발명의 일 실시예에 따른 전방 프레임(700)은, 도 4에 도시된 바와 같이, 전기영동 표시 패널(10)의 주변영역(PA)에 형성된 홀(들)에 삽입되는 돌출부(들)(710)를 갖는다. 후방 프레임(600)에 직접 또는 간접적으로 결합된 전방 프레임(700)의 돌출부(들)(710)가 전기영동 표시 패널(10)의 홀(들)에 삽입되기 때문에, 후방 프레임(600)과 전기영동 표시 패널(10)의 상대적 움직임이 방지될 수 있다. The front frame 700 according to the embodiment of the present invention is provided with protrusions (s) (not shown) inserted in the hole (s) formed in the peripheral area PA of the electrophoretic display panel 10 710). Since the protrusion (s) 710 of the front frame 700 directly or indirectly coupled to the rear frame 600 are inserted into the holes (s) of the electrophoretic display panel 10, The relative movement of the electrophoretic display panel 10 can be prevented.

후방 프레임(600)과 전기영동 표시 패널(10)의 상대적 움직임을 완벽히 방지할 수 있다는 점에서, 도 4에 도시된 바와 같이, 홀이 전기영동 표시 패널(10)의 주변영역(PA)을 관통하여 형성되는 것이 유리할 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니고, 후방 프레임(600)과 전기영동 표시 패널(10)의 상대적 움직임이 방지될 수 있는 한, 홀이 주변영역(PA)을 관통하지 않고 소정 깊이를 갖도록 형성될 수도 있다. 4, the holes may penetrate the peripheral area PA of the electrophoretic display panel 10 in order that the relative movement of the rear frame 600 and the electrophoretic display panel 10 can be completely prevented May be advantageously formed. However, the present invention is not limited to this. As long as the relative movement of the rear frame 600 and the electrophoretic display panel 10 can be prevented, the holes are formed so as to have a predetermined depth without passing through the peripheral area PA. .

또한, 전기영동 표시 패널(10)의 홀에 전방 프레임(700)의 돌출부(710)가 완전히 삽입되는 것이 후방 프레임(600)과 전기영동 표시 패널(10)의 상대적 움직임을 완벽히 방지할 수 있다는 점에서 유리할 수는 있으나, 도 6에 도시된 바와 같이, 후방 프레임(600)과 전기영동 표시 패널(10)의 상대적 움직임이 방지될 수 있는 한, 전기영동 표시 패널(10)의 홀에 전방 프레임(700)의 돌출부(720)가 부분적으로 삽입되어도 무방하다.The fact that the protrusion 710 of the front frame 700 is completely inserted into the hole of the electrophoretic display panel 10 can completely prevent the relative movement of the rear frame 600 and the electrophoretic display panel 10 As long as the relative movement between the rear frame 600 and the electrophoretic display panel 10 can be prevented as shown in Fig. 6, the front frame 600 is inserted into the hole of the electrophoretic display panel 10 700 may be partially inserted.

한편, 도 7에 예시된 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 전방 프레임(700) 대신에 후방 프레임(600)이 전기영동 표시 패널(10)의 홀(들)에 완전히 삽입되는 돌출부(들)(610)을 갖는다. 이 경우에 있어서도, 후방 프레임(600)과 전기영동 표시 패널(10)의 상대적 움직임이 방지될 수 있는 한, 도 8에 예시된 바와 같이 전기영동 표시 패널(10)의 홀에 후방 프레임(600)의 돌출부(620)가 부분적으로 삽입될 수 있다.7, the rear frame 600 may be replaced with a protrusion (s) (not shown) completely inserted into the hole (s) of the electrophoretic display panel 10, instead of the front frame 700 610). In this case as well, as long as the relative movement of the rear frame 600 and the electrophoretic display panel 10 can be prevented, the rear frame 600 is inserted into the hole of the electrophoretic display panel 10, The protrusion 620 of the protrusion 620 can be partially inserted.

위에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 의하면, 전방 프레임(700) 및 후방 프레임(600) 중 적어도 하나는 전기영동 표시 패널(10)의 홀(들)에 삽입되는 돌출부(710, 720, 610, 620)를 가지기 때문에 후방 프레임(600)의 둘레부에 대응하는 여백 영역(MA) 내로 전기영동 표시 패널(100)이 이동하는 것이 방지될 수 있다. 즉, 전기영동 표시 패널(10)이 후방 프레임(600) 상에서 움직이는 것이 방지될 수 있다.As described above, according to the present invention, at least one of the front frame 700 and the rear frame 600 includes protrusions 710, 720, 610, and 620 inserted in the hole (s) of the electrophoretic display panel 10, The movement of the electrophoretic display panel 100 into the margin area MA corresponding to the periphery of the rear frame 600 can be prevented. That is, the electrophoretic display panel 10 can be prevented from moving on the rear frame 600.

또한, 각종 배선들을 위한 공간(S)만 확보되면 되기 때문에 종래 기술에 비해 상대적으로 작은 면적의 여백 영역(MA)만 후방 프레임(600)이 가지면 된다. 즉, 전기영동 표시 패널(10)과 전방 프레임(700)의 내측면 사이에 배선 공간(S)을 위한 거리(d) 만큼의 간격만 확보되면 되기 때문에 전기영동 표시장치 전체 면적에 대한 전기영동 표시 패널(10)의 면적 비율을 극대화할 수 있다. 따라서, 본 발명에 의하면 더욱 콤팩트한 전기영동 표시장치가 구현될 수 있다.In addition, since only the space S for various wirings is ensured, only the margin area MA having a relatively small area as compared with the prior art may have the rear frame 600. That is, since only the distance d for the wiring space S is secured between the electrophoretic display panel 10 and the inner surface of the front frame 700, the electrophoretic display The area ratio of the panel 10 can be maximized. Therefore, according to the present invention, a more compact electrophoretic display device can be realized.

이하에서는, 도 5a 내지 5i를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 의한 전기영동 표시장치의 제조방법을 구체적으로 설명하도록 한다.Hereinafter, a method for manufacturing an electrophoretic display device according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 5A to 5I.

먼저, 도 5a에 도시된 바와 같이, 금속 기판(110) 상에 증착 공정을 통해 유기막(120) 및 장벽층(130)을 순차적으로 형성한다. 금속 기판(110)은 스테인리스 스틸(stainless steel)로 형성될 수 있다. 금속 기판(110)은 전도체이기 때문에 금속 기판(110) 바로 위에 박막트랜지스터를 형성할 수 없다. 따라서, 절연 및 평탄화를 위하여 금속 기판(110) 상에 유기막(120)이 형성된다. 무기막 대신에 유기막(120)이 형성되는 이유는, 무기막의 경우 일정 두께 이상의 막을 형성하기가 어려울 뿐만 아니라 막의 표면 조도(surface roughness)가 취약하기 때문이다. 유기막(120)과 금속(게이트 라인 및 게이트 전극)의 접착성이 취약하다는 점 및 유기막(120)으로부터 발생되는 아웃가스가 금속(게이트 라인 및 게이트 전극)을 손상시킬 수도 있다는 점 등을 고려하여, 유기막(120) 상에 장벽층(130)이 형성된다. 유기막(120)은 예를 들어 포토아크릴(photoacryl)로 형성될 수 있고, 장벽층(130)은 질화규소(SiNx)로 형성될 수 있다.First, as shown in FIG. 5A, an organic layer 120 and a barrier layer 130 are sequentially formed on a metal substrate 110 through a deposition process. The metal substrate 110 may be formed of stainless steel. Since the metal substrate 110 is a conductor, a thin film transistor can not be formed directly on the metal substrate 110. Accordingly, the organic film 120 is formed on the metal substrate 110 for insulation and planarization. The reason why the organic film 120 is formed instead of the inorganic film is that it is difficult to form a film having a certain thickness or more in the case of an inorganic film and the surface roughness of the film is weak. The adhesion between the organic film 120 and the metal (gate line and gate electrode) is weak, and the outgas generated from the organic film 120 may damage the metal (gate line and gate electrode). A barrier layer 130 is formed on the organic film 120. [ The organic layer 120 may be formed of, for example, photoacryl, and the barrier layer 130 may be formed of silicon nitride (SiNx).

도 5b에 도시된 바와 같이, 장벽층(130) 상에 게이트 전극(141)을 형성하고 이를 포함하는 장벽층(130)의 전면 상에 게이트 절연막(142)을 증착한다. 이어서, 상기 게이트 전극(141)에 대응하는 게이트 절연막(142)의 영역 상에 반도체층(143)을 형성한다. 이어서, 게이트 절연막(142) 상에 소스 전극(144) 및 드레인 전극(145)을 서로 이격되게, 그리고 상기 반도체층(143)과 부분적으로 중첩되게 형성한다. 상기 게이트 전극(141), 게이트 절연막(142), 반도체층(143), 소스 전극(144), 및 드레인 전극(145)은 박막트랜지스터(T)를 구성한다. 이어서, 상기 박막트랜지스터(T)를 포함하는 게이트 절연막(142)의 전면 상에 제1 보호막(150) 및 유전막(160)을 순차적으로 형성한 후, 콘택 홀에 해당하는 유전막(160) 부분 및 전기영동 표시 패널(10)의 주변 영역(PA)에 해당하는 유전막(160) 부분을 노광 및 현상 공정을 통해 선택적으로 제거한다. 이어서, 상기 유전막(160)을 포함하는 제1 보호막(150)의 전면 상에 제2 보호막(180)을 형성한다. 이어서, 콘택 홀에 해당하는 제1 및 제2 보호막들(150, 170)의 부분을 이방성 건식 식각 공정을 통해 선택적으로 제거함으로써 콘택 홀을 형성한다. 이어서, 상기 관통 홀을 통해 상기 박막트랜지스터(T)의 드레인 전극(145)과 접속되는 화소 전극(180)을 상기 제2 보호막(170) 상에 형성함으로써 TFT 기판(100)을 완성한다. 화소 전극(180)은 구리, 알루미늄, ITO 등으로 형성될 수 있다. A gate electrode 141 is formed on the barrier layer 130 and a gate insulating layer 142 is deposited on the entire surface of the barrier layer 130 including the barrier layer 130. Referring to FIG. Next, a semiconductor layer 143 is formed on the region of the gate insulating film 142 corresponding to the gate electrode 141. [ Then, the source electrode 144 and the drain electrode 145 are formed on the gate insulating film 142 so as to be spaced apart from each other and partially overlap with the semiconductor layer 143. The gate electrode 141, the gate insulating film 142, the semiconductor layer 143, the source electrode 144, and the drain electrode 145 constitute a thin film transistor T. A first protective layer 150 and a dielectric layer 160 are sequentially formed on the entire surface of the gate insulating layer 142 including the thin film transistor T and then a portion of the dielectric layer 160 corresponding to the contact hole, The dielectric layer 160 corresponding to the peripheral area PA of the electrophoretic display panel 10 is selectively removed through the exposure and development processes. A second passivation layer 180 is formed on the entire surface of the first passivation layer 150 including the dielectric layer 160. Subsequently, portions of the first and second protective films 150 and 170 corresponding to the contact holes are selectively removed through an anisotropic dry etching process to form contact holes. The TFT substrate 100 is completed by forming a pixel electrode 180 connected to the drain electrode 145 of the thin film transistor T through the through hole on the second protective film 170. The pixel electrode 180 may be formed of copper, aluminum, ITO, or the like.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 화소 전극(180)은 게이트 라인(미도시), 데이터 라인(미도시), 및 박막트랜지스터(T)를 모두 커버하도록 형성된다. 이와 같은 구조에 의해 화소 전극(180)의 면적이 극대화될 수 있고, 그 결과 전기영동 표시장치의 반사율을 향상시킬 수 있다. 반면에, 화소 전극(180)이 게이트 라인 및 데이터 라인과 중첩될 경우 매우 큰 기생 커패시턴스(Cgp, Cdp)가 발생한다는 문제점이 있다. 화소 전극(180)과 데이터 라인의 중첩에 의해 발생하는 기생 커패시턴스(Cdp)는 수직 크로스토크(crosstalk)를 유발하는데, 이는 화질 불량의 원인이 된다. 화소 전극(180)과 게이트 라인의 중첩에 의해 발생하는 기생 커패시턴스(Cgp)는 킥백 전압((kickback voltage: ΔVp)을 유발하는데, 이는 화소 전압 홀딩 특성을 나쁘게 하여 전기영동 표시 장치의 반사율 및 명암비 저하를 야기한다.According to an embodiment of the present invention, the pixel electrode 180 is formed to cover both the gate line (not shown), the data line (not shown), and the thin film transistor T. With this structure, the area of the pixel electrode 180 can be maximized, and as a result, the reflectance of the electrophoretic display device can be improved. On the other hand, when the pixel electrode 180 is overlapped with the gate line and the data line, very large parasitic capacitances Cgp and Cdp are generated. The parasitic capacitance Cdp generated by the overlap of the pixel electrode 180 and the data line causes vertical crosstalk, which causes image quality defects. The parasitic capacitance Cgp caused by the overlap of the pixel electrode 180 and the gate line causes a kickback voltage Vp to decrease the reflectance and the contrast ratio of the electrophoretic display device .

위와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 의하면, 화소 전극(180)과 게이트 라인 사이 및 화소 전극(180)과 데이터 라인 사이에 낮은 유전 상수를 갖는 유전막(160)이 개재된다. 유전막(160)은 포토아크릴(photoacryl), 폴리이미드, 또는 폴리(4-비닐페놀) 등과 같은 낮은 유전상수를 갖는 유기물로 형성될 수 있다. According to an embodiment of the present invention, a dielectric layer 160 having a low dielectric constant is interposed between the pixel electrode 180 and the gate line, and between the pixel electrode 180 and the data line. The dielectric layer 160 may be formed of an organic material having a low dielectric constant such as photoacryl, polyimide, or poly (4-vinyl phenol).

제1 및 제2 보호막들(150, 170)은 질화막일 수 있다. 전극 물질은 유기물에 대해 취약한 점착성(adhesion)을 갖기 때문에, 유전막(160)과 소스/드레인 전극들(144, 145) 사이 및 유전막(160)과 화소 전극(180) 사이에 질화규소로 형성된 제1 및 제2 보호막들(150, 170)이 각각 개재될 필요가 있다. 또한, 제1 및 제2 보호막들(150, 170)은 유전막(160)으로부터 발생하는 아웃가스로부터 소스/드레인 전극들(144, 145) 및 화소 전극(180)을 보호하는 기능을 수행한다. The first and second protective films 150 and 170 may be a nitride film. Since the electrode material has a weak adhesion to the organic material, the first and second electrodes formed between the dielectric film 160 and the source / drain electrodes 144 and 145 and between the dielectric film 160 and the pixel electrode 180, The second protective films 150 and 170 need to be interposed, respectively. The first and second protective films 150 and 170 function to protect the source / drain electrodes 144 and 145 and the pixel electrode 180 from the outgas generated from the dielectric layer 160.

이어서, 도 5c에 도시된 바와 같이, 베이스 필름(210), 공통 전극(220), 마이크로캡슐들(230), 및 점착층(240)을 포함하는 전기영동 필름(200)을 전기영동 표시 패널(10)의 주변 영역(PA)이 아닌 표시 영역(DA)에 대응하는 TFT 기판(100)의 상면에만 부착시킨다. 베이스 필름(210)은 유리 또는 플라스틱으로 이루어지며, 공통 전극(220)은 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide)로 형성된다. 5C, the electrophoretic film 200 including the base film 210, the common electrode 220, the microcapsules 230, and the adhesive layer 240 is applied to an electrophoretic display panel (not shown) 10 to the upper surface of the TFT substrate 100 corresponding to the display area DA. The base film 210 is made of glass or plastic, and the common electrode 220 is formed of ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide).

도 5c에서는 마이크로캡슐 타입의 전기영동 필름(200)이 예시되어 있으나, 마이크로컵 타입의 전기영동 필름이 적용될 수도 있다. 또한, TFT 기판(100) 상에 격벽이 바로 형성되고, 격벽에 의해 구획된 공간이 전기영동 분산액으로 채워지고, 격벽 상에 베이스 필름 및 공통전극을 포함하는 상판이 합착될 수도 있다. 어떠한 방식이 적용되든지 간에, 베이스 필름(210) 및 공통 전극(220)은 화상 표시를 위해 투명하여야 한다.Although the microcapsule type electrophoretic film 200 is illustrated in FIG. 5C, a microcup type electrophoretic film may be applied. Further, the barrier ribs may be directly formed on the TFT substrate 100, the space partitioned by the barrier ribs may be filled with the electrophoretic dispersion liquid, and the upper plate including the base film and the common electrode may be bonded onto the barrier ribs. Whichever method is applied, the base film 210 and the common electrode 220 must be transparent for image display.

이어서, 도 5d에 도시된 바와 같이, 상기 전기영동 필름(200) 상에, 더욱 정확히는 베이스 필름(210) 상에 보호 시트(310)를 부착한다. 이어서, 상기 보호 시트(310)와 TFT 기판(100) 사이에 개재된 전기영동 필름(200)을 외부와 차단시키기 위하여 전기영동 필름(200) 외주면에 실런트를 도포함으로써 실링 패턴(320)을 형성한다.Then, as shown in FIG. 5D, a protective sheet 310 is attached on the electrophoretic film 200, more precisely on the base film 210. Next, as shown in FIG. A sealing pattern 320 is formed by applying a sealant to the outer circumferential surface of the electrophoretic film 200 to shield the electrophoretic film 200 interposed between the protective sheet 310 and the TFT substrate 100 from the outside .

이어서, 도 5e에 도시된 바와 같이, 상기 보호 시트(310)를 포함하는 TFT 기판(100)의 전면 상에 보호 커버 필름(400)을 부착한다. 보호 커버 필름(400)은 후속의 금속 기판(110) 식각 공정시 식각물질(etchant)로부터 나머지 부분을 보호하기 위한 것이다.5E, a protective cover film 400 is attached on the front surface of the TFT substrate 100 including the protective sheet 310. Then, as shown in FIG. The protective cover film 400 is intended to protect the remainder from etchant during the subsequent metal substrate 110 etch process.

이어서, 도 5f에 도시된 바와 같이, 식각 공정을 통해 금속 기판(110)의 일부를 제거함으로써 슬림(slim)한 금속 기판(110')을 만든다. Then, as shown in FIG. 5F, a slimmed metal substrate 110 'is formed by removing a part of the metal substrate 110 through an etching process.

이어서, 도 5g에 도시된 바와 같이, 식각 공정이 완료된 후에, 보호 커버 필름(400)을 제거한다. 다만, 상기 보호 커버 필름(400)의 제거 시기는 가변적일 수 있으며, 아래에서 설명하는 후면 필름(510) 부착 단계 이 후에, 또는 스크라이빙(scribing) 공정 이 후에 수행될 수도 있다. Then, as shown in FIG. 5G, after the etching process is completed, the protective cover film 400 is removed. However, the removal time of the protective cover film 400 may be variable, and may be performed after the step of attaching the backing film 510 described below, or after the scribing process.

이어서, 금속 기판(110')에 후면 필름(510)을 롤 라미네이터(roll laminator)를 이용하여 부착한다. 이에 대하여 더욱 상세히 설명하면, 먼저 후면 적층 필름(미도시)을 제조한다. 후면 적층 필름은 릴리즈 필름, 점착층(520) 및 후면 필름(510)이 순차적으로 적층된 구조를 갖는다. 상기 후면 적층 필름으로부터 릴리즈 필름을 제거한 후 점착층(520)이 금속 기판(110')과 접촉되는 방식으로 후면 적층 필름을 TFT 기판(100)에 부착한다. 후면 필름(510)은 물, 습기, NaCl 등에 의해 금속 기판(100')이 손상되는 것을 방지하기 위한 것으로서 약 10 내지 40㎛의 두께를 갖는 폴리이미드(PI) 필름일 수 있다. 후면 필름(510)의 두께는 수요자가 원하는 최종 제품의 두께에 맞추어 얼마든지 조절될 수 있다.Next, the rear film 510 is attached to the metal substrate 110 'using a roll laminator. To describe this in more detail, first, a back side laminated film (not shown) is manufactured. The rear laminated film has a structure in which a release film, an adhesive layer 520, and a rear film 510 are sequentially laminated. After the release film is removed from the rear laminated film, the rear laminated film is attached to the TFT substrate 100 in such a manner that the adhesive layer 520 contacts the metal substrate 110 '. The backing film 510 may be a polyimide (PI) film having a thickness of about 10 to 40 탆 for preventing the metal substrate 100 'from being damaged by water, moisture, NaCl or the like. The thickness of the backing film 510 can be adjusted to any desired thickness of the final product desired by the consumer.

앞에서 살펴본 도 5a 내지 도 5g의 공정들을 순차적으로 수행함으로써 표시영역(DA)과 주변영역(PA)을 갖는 전기영동 표시 패널(10)을 제조한 후, 도 5h에 예시된 바와 같이 전기영동 표시 패널(10)의 주변영역(PA)에 홀(H)을 형성한다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 4개의 홀들(H)이 전기영동 표시 패널(10)의 코너부에 해당하는 주변영역(PA)에 형성된다. 5A to 5G are sequentially performed to fabricate the electrophoretic display panel 10 having the display area DA and the peripheral area PA. Then, as illustrated in FIG. 5H, the electrophoretic display panel 10, (H) is formed in the peripheral area (PA) of the substrate (10). According to an embodiment of the present invention, four holes H are formed in the peripheral area PA corresponding to the corner of the electrophoretic display panel 10. [

도 5h에는 홀(H)이 전기영동 표시 패널(10)의 주변영역(PA)을 관통하도록 형성된 것이 예시되어 있으나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 앞에서 설명한 바와 같이, 경우에 따라서는 홀(H)이 주변영역(PA)을 관통하지 않고 소정 깊이를 갖도록 형성될 수도 있다. 5H, the hole H is formed to penetrate the peripheral area PA of the electrophoretic display panel 10, but the present invention is not limited thereto. As described above, in some cases, the holes H may be formed to have a predetermined depth without passing through the peripheral area PA.

홀(H)은 레이저 또는 드릴을 이용하여 형성될 수도 있지만 본 발명의 일 실시예에 따르면 펀칭(punching) 방식을 이용하여 홀(H)이 형성된다. 본 발명의 경우 전기영동 표시 패널(10)의 주변영역(PA)이 유리 기판이 아닌 금속 기판(100')을 포함하기 때문에 홀(H) 형성이 가능하다.The hole H may be formed using a laser or a drill, but according to an embodiment of the present invention, a hole H is formed using a punching method. In the present invention, since the peripheral area PA of the electrophoretic display panel 10 includes the metal substrate 100 'rather than the glass substrate, the hole H can be formed.

이어서, 도 5i에 도시된 바와 같이, 홀(H)을 갖는 전기영동 표시 패널(10)을 후방 프레임(600) 상에 위치시킨다. 이어서, 전기영동 표시 패널(10)의 적어도 일부가 노출되도록 전기영동 표시 패널(10)의 주변영역(PA)을 전방 프레임(700)으로 커버한다. 이때, 후방 프레임(600)과 전방 프레임(700)이 직접 또는 간접적으로 결합될 수 있다.Then, as shown in Fig. 5I, the electrophoretic display panel 10 having the holes H is placed on the rear frame 600. Then, as shown in Fig. Subsequently, the peripheral area PA of the electrophoretic display panel 10 is covered with the front frame 700 such that at least a part of the electrophoretic display panel 10 is exposed. At this time, the rear frame 600 and the front frame 700 can be directly or indirectly combined.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 전기영동 표시 패널(10)의 주변영역(PA)을 전방 프레임(700)으로 커버할 때 전방 프레임(700)의 돌출부(710)가 전기영동 표시 패널(10)의 홀(H)에 완전히 삽입됨으로써 전기영동 표시 패널(10)이 후방 프레임(600) 상에 고정된다. 즉, 전기영동 표시 패널(10)의 주변영역(PA)을 전방 프레임(700)으로 커버함과 동시에 전기영동 표시 패널(10)이 후방 프레임(600) 상에 고정된다. According to an embodiment of the present invention, when the peripheral area PA of the electrophoretic display panel 10 is covered with the front frame 700, the protrusion 710 of the front frame 700 is covered with the electrophoretic display panel 10, The electrophoretic display panel 10 is fixed on the rear frame 600 by being completely inserted into the holes H of the electrophoretic display panel 10. That is, the periphery area PA of the electrophoretic display panel 10 is covered with the front frame 700, and the electrophoretic display panel 10 is fixed on the rear frame 600.

도 6에 예시된 본 발명의 다른 실시예의 경우에는, 전방 프레임(700)의 돌출부(들)(720)가 전기영동 표시 패널(10)의 홀(들)(H)에 부분적으로 삽입됨으로써 전기영동 표시 패널(10)이 후방 프레임(600) 상에 고정된다. 6, the protrusion (s) 720 of the front frame 700 are partially inserted into the hole (s) H of the electrophoretic display panel 10, The display panel 10 is fixed on the rear frame 600.

도 7 및 도 8에 예시된 본 발명의 다른 실시예들 경우에는, 홀(H)을 갖는 전기영동 표시 패널(10)을 후방 프레임(600) 상에 위치시킬 때 후방 프레임(600)의 돌출부(610 또는 620)가 전기영동 표시 패널(10)의 홀(H)에 완전히 또는 부분적으로 삽입됨으로써 전기영동 표시 패널(10)이 후방 프레임(600) 상에 고정된다. 즉, 홀(H)을 갖는 전기영동 표시 패널(10)을 후방 프레임(600) 상에 위치시킴과 동시에 전기영동 표시 패널(10)이 후방 프레임(600) 상에 고정된다. 7 and 8, when the electrophoretic display panel 10 having the holes H is positioned on the rear frame 600, the projections (not shown) of the rear frame 600 610 or 620 is completely or partially inserted into the hole H of the electrophoretic display panel 10 to fix the electrophoretic display panel 10 on the rear frame 600. [ That is, the electrophoretic display panel 10 having the holes H is placed on the rear frame 600, and the electrophoretic display panel 10 is fixed on the rear frame 600.

위에서 살펴본 본 발명의 실시예들은 본 발명을 예시하거나 설명하기 위한 것일 뿐으로서, 특허청구범위의 발명에 대한 더욱 자세한 설명을 제공하기 위한 것으로 이해되어야 한다. 본 발명의 기술적 사상 및 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 상기 실시예들의 다양한 변경 및 변형이 가능하다는 점은 당업자에게 자명할 것이다. 따라서, 본 발명은 특허청구범위에 기재된 발명 및 그 균등물의 범위 내의 변경 및 변형을 모두 포함한다.It is to be understood that the above-described embodiments of the present invention are intended to illustrate or explain the present invention and to provide a more detailed description of the claimed invention. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications may be made without departing from the spirit and scope of the invention. Accordingly, the invention includes all modifications and variations within the scope of the invention as defined in the appended claims and equivalents thereof.

10: 전기영동 표시 패널 20: 데이터 구동부
30: 게이트 구동부 40: 타이밍 컨트롤러
100: TFT 기판 110, 110': 금속 기판
120: 유기막 130: 장벽층
141: 게이트 전극 142: 게이트 절연막
143: 반도체층 144: 소스 전극
145: 드레인 전극 150: 제1 보호막
160: 유전막 170: 제2 보호막
180: 화소 전극 200: 전기영동 필름
210: 베이스 필름 220: 공통전극
230: 마이크로캡슐 240: 점착층
310: 보호 시트 320: 실링 패턴
510: 후면 필름 520: 점착층
600: 후방 프레임 700: 전방 프레임
610, 620, 710, 720: 돌출부10: electrophoretic display panel 20: data driver
30: Gate driver 40: Timing controller
100: TFT substrate 110, 110 ': metal substrate
120: organic film 130: barrier layer
141: gate electrode 142: gate insulating film
143: semiconductor layer 144: source electrode
145: drain electrode 150: first protective film
160: Dielectric layer 170: Second protective layer
180: pixel electrode 200: electrophoretic film
210: base film 220: common electrode
230: Microcapsule 240: Adhesive layer
310: protective sheet 320: sealing pattern
510: Rear film 520: Adhesive layer
600: rear frame 700: front frame
610, 620, 710, 720:

Claims (10)

후방 프레임(back frame);
상기 후방 프레임 상에 적층된 TFT 기판, 전기영동 필름 및 보호 시트를 포함하고, 표시영역과 주변영역을 갖는 전기영동 표시 패널; 및
상기 전기영동 표시 패널의 표시영역의 적어도 일부가 노출되도록 상기 전기영동 표시 패널의 주변영역을 커버하는 전방 프레임(front frame)을 포함하되,
상기 전기영동 표시 패널은 상기 주변영역 중에서 상기 보호 시트가 마련된 영역과 중첩되지 않는 영역에 마련되며, 상기 TFT 기판을 관통하며 형성된 홀을 가지며,
상기 전방 프레임 및 상기 후방 프레임 중 적어도 하나는 상기 전기영동 표시 패널의 홀에 삽입되는 돌출부를 갖는, 전기영동 표시장치.A back frame;
An electrophoretic display panel including a TFT substrate, an electrophoretic film, and a protective sheet laminated on the rear frame, the display substrate having a display region and a peripheral region; And
And a front frame covering a peripheral area of the electrophoretic display panel so that at least a part of the display area of the electrophoretic display panel is exposed,
Wherein the electrophoretic display panel is provided in a region of the peripheral region that is not overlapped with an area where the protective sheet is provided and has a hole formed through the TFT substrate,
Wherein at least one of the front frame and the rear frame has a protrusion which is inserted into a hole of the electrophoretic display panel. 제 1 항에 있어서,
상기 전기영동 표시 패널은 상기 후방 프레임 상에 적층된 TFT 기판, 전기영동 필름 및 보호 시트를 포함하고,
상기 전기영동 필름은,
공통전극; 및
상기 TFT 기판과 상기 공통전극 사이의 전기영동 분산액을 포함하는, 전기영동 표시장치.The method according to claim 1,
Wherein the electrophoretic display panel includes a TFT substrate, an electrophoretic film, and a protective sheet laminated on the rear frame,
Wherein the electrophoretic film comprises:
A common electrode; And
And an electrophoretic dispersion liquid between the TFT substrate and the common electrode. 제 2 항에 있어서,
상기 TFT 기판은,
금속 기판;
상기 금속 기판 상에 형성된 박막 트랜지스터; 및
상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결된 화소 전극을 포함하는, 전기영동 표시장치.3. The method of claim 2,
In the TFT substrate,
A metal substrate;
A thin film transistor formed on the metal substrate; And
And a pixel electrode electrically connected to the thin film transistor. 제 3 항에 있어서,
상기 전기영동 표시 패널의 주변영역은 상기 금속 기판을 포함하고,
상기 홀은 상기 전기영동 표시 패널의 주변영역을 관통하여 형성되며,
상기 돌출부의 일부만 상기 홀에 삽입된, 전기영동 표시장치.The method of claim 3,
Wherein the peripheral region of the electrophoretic display panel includes the metal substrate,
Wherein the hole is formed to penetrate a peripheral region of the electrophoretic display panel,
And only a part of the projecting portion is inserted into the hole. 제 1 항에 있어서,
상기 후방 프레임은 그 둘레부에 여백 영역을 포함하고,
상기 후방 프레임의 여백 영역 바로 위에는 상기 전기영동 표시 패널이 위치하지 않는, 전기영동 표시장치.The method according to claim 1,
Wherein the rear frame includes a margin area at its periphery,
Wherein the electrophoretic display panel is not positioned directly above the margin area of the rear frame. TFT 기판, 전기영동 필름 및 보호 시트를 포함하고, 표시영역과 주변영역을 갖는 전기영동 표시 패널을 제조하는 단계;
상기 전기영동 표시 패널의 주변영역 중에서 상기 보호 시트가 마련된 영역과 중첩되지 않는 영역에 마련되며, 상기 TFT 기판을 관통하는 홀을 형성하는 단계;
상기 홀을 갖는 전기영동 표시 패널을 후방 프레임 상에 위치시키는 단계;
상기 전기영동 표시 패널의 표시영역의 적어도 일부가 노출되도록 상기 전기영동 표시 패널의 주변영역을 전방 프레임으로 커버하는 단계; 및
상기 전기영동 표시 패널을 후방 프레임 상에 고정시키는 단계를 포함하되,
상기 고정 단계는 상기 전방 프레임 및 상기 후방 프레임 중 적어도 하나의 돌출부가 상기 전기영동 표시 패널의 홀에 삽입됨으로써 수행되는, 전기영동 표시장치의 제조방법.Fabricating an electrophoretic display panel including a TFT substrate, an electrophoretic film, and a protective sheet, the electrophoretic display panel having a display area and a peripheral area;
Forming a hole in the peripheral region of the electrophoretic display panel, the hole being provided in an area not overlapping with an area where the protective sheet is provided, the hole penetrating the TFT substrate;
Positioning the electrophoretic display panel having the hole on a rear frame;
Covering a peripheral area of the electrophoretic display panel with a front frame so that at least a part of a display area of the electrophoretic display panel is exposed; And
And fixing the electrophoretic display panel on a rear frame,
Wherein the fixing step is performed by inserting protrusions of at least one of the front frame and the back frame into the holes of the electrophoretic display panel. 제 6 항에 있어서,
상기 전방 프레임의 돌출부가 상기 전기영동 표시 패널의 홀에 삽입됨으로써 상기 고정 단계가 수행되고,
상기 고정 단계는 상기 주변영역의 커버 단계와 동시에 수행되는, 전기영동 표시장치의 제조방법.The method according to claim 6,
The fixing step is performed by inserting the projection of the front frame into the hole of the electrophoretic display panel,
Wherein the fixing step is performed simultaneously with the covering step of the peripheral region. 제 6 항에 있어서,
상기 후방 프레임의 돌출부가 상기 전기영동 표시 패널의 홀에 삽입됨으로써 상기 고정 단계가 수행되고,
상기 고정 단계는 상기 전기영동 표시 패널을 상기 후방 프레임에 위치시키는 단계와 동시에 수행되는, 전기영동 표시장치의 제조방법.The method according to claim 6,
The fixing step is performed by inserting the projection of the rear frame into the hole of the electrophoretic display panel,
Wherein the fixing step is performed simultaneously with the step of positioning the electrophoretic display panel on the rear frame. 제 6 항에 있어서,
상기 전기영동 표시 패널을 제조하는 단계는,
금속 기판 상에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계; 및
상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결되는 화소전극을 형성하는 단계를 포함하는, 전기영동 표시 장치의 제조방법.The method according to claim 6,
Wherein the step of fabricating the electrophoretic display panel comprises:
Forming a thin film transistor on a metal substrate; And
And forming a pixel electrode electrically connected to the thin film transistor. 제 9 항에 있어서,
상기 전기영동 표시 패널의 주변영역은 상기 금속 기판을 포함하고,
상기 홀은 상기 전기영동 표시 패널의 주변영역을 관통하도록 형성되며,
상기 돌출부의 일부만 상기 홀에 삽입되는, 전기영동 표시 장치의 제조방법.10. The method of claim 9,
Wherein the peripheral region of the electrophoretic display panel includes the metal substrate,
Wherein the hole is formed to penetrate a peripheral region of the electrophoretic display panel,
And only a part of the projecting portion is inserted into the hole.
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